JP2968182B2 - フェノールの精製方法 - Google Patents
フェノールの精製方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフェノールの精製方法に
関し、特にクメン法によるフェノール及びアセトンの同
時生産において生産されるフェノールの精製方法に関す
る。
関し、特にクメン法によるフェノール及びアセトンの同
時生産において生産されるフェノールの精製方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】この同時生産の重質生成物および軽質生
成物の蒸留後にフェノールはなお、例えば蒸留のような
慣用の方法では除去困難なメシチルオキサイド、アルフ
ァ−メチルスチレン、２−メチルベンゾフランおよびそ
の他のカルボニル化合物のような有機化合物の不純物を
含有している。そのようなフェノールは色安定性が低い
ので、これらの不純物は市販のフェノールの品質を低下
させている。
成物の蒸留後にフェノールはなお、例えば蒸留のような
慣用の方法では除去困難なメシチルオキサイド、アルフ
ァ−メチルスチレン、２−メチルベンゾフランおよびそ
の他のカルボニル化合物のような有機化合物の不純物を
含有している。そのようなフェノールは色安定性が低い
ので、これらの不純物は市販のフェノールの品質を低下
させている。
【０００３】有機の微量不純物を除くフェノール精製の
公知の方法は「技術」報告書、「合成アルコールのＵｆ
ａプラント用のイオン交換樹脂ＫＹ−２、ＫＹ−２−８
γｃによるフェノール精製方法の開発」ギプロカウチュ
ク( Giprokauchuk )ノボクイビシェフスク( Novokuibys
hevsk ) 、１９８６年、８６頁が示すフェノールをイオ
ン交換樹脂とに接触させることに基づいている。この方
法の欠点は樹脂利用温度範囲が狭いこと（５０−１３０
℃）、触媒粒の回収不可能な破壊による短い使用寿命並
びに使用済み樹脂の利用問題である。
公知の方法は「技術」報告書、「合成アルコールのＵｆ
ａプラント用のイオン交換樹脂ＫＹ−２、ＫＹ−２−８
γｃによるフェノール精製方法の開発」ギプロカウチュ
ク( Giprokauchuk )ノボクイビシェフスク( Novokuibys
hevsk ) 、１９８６年、８６頁が示すフェノールをイオ
ン交換樹脂とに接触させることに基づいている。この方
法の欠点は樹脂利用温度範囲が狭いこと（５０−１３０
℃）、触媒粒の回収不可能な破壊による短い使用寿命並
びに使用済み樹脂の利用問題である。
【０００４】米国特許３，４５４，６５３および米国特
許３，０２９，２９４はアルミノシリカ触媒を使用する
フェノールの不純物精製法を記載している。これらの方
法の欠点は触媒活性の低さであり、従って、長い接触時
間（４−８時間）並びに１種ごとの不純物成分の選択的
精製である（２−メチルベンゾフランの除去については
３，４５４，６５３、またヒドロキシアセトンの除去に
ついては３，０２９，２９４）。
許３，０２９，２９４はアルミノシリカ触媒を使用する
フェノールの不純物精製法を記載している。これらの方
法の欠点は触媒活性の低さであり、従って、長い接触時
間（４−８時間）並びに１種ごとの不純物成分の選択的
精製である（２−メチルベンゾフランの除去については
３，４５４，６５３、またヒドロキシアセトンの除去に
ついては３，０２９，２９４）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は効率的
な再生が可能であって、高い機械的強度および長い触媒
寿命を示し、かつ安定性を有するフェノールの不純物精
製用の高活性触媒を開発することである。
な再生が可能であって、高い機械的強度および長い触媒
寿命を示し、かつ安定性を有するフェノールの不純物精
製用の高活性触媒を開発することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的は例えばＨ．ラ
ストリ（Ｒａｓｔｌｌｉ）著、カナディアン ジャーナ
ル オブ ケミカル エンジニアリング（Ｃａｎ．Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍ．Ｅｎｇ．）１９８２年、
６０巻、４４ー４９頁に記載されているようなブタンの
クラッキング法によって測定されたあるレベルの酸度に
特徴を有する不均一ゼオライト触媒を使用してフェノー
ルを精製することによって達成された。ＫA ＞１０（Ｋ
A はブタンの一次反応速度定数ｃｍ3 ／ｍｉｎ* ｇであ
る）の全てのゼオライトを液相中での接触的フェノール
精製のための触媒として使用することができる。
ストリ（Ｒａｓｔｌｌｉ）著、カナディアン ジャーナ
ル オブ ケミカル エンジニアリング（Ｃａｎ．Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍ．Ｅｎｇ．）１９８２年、
６０巻、４４ー４９頁に記載されているようなブタンの
クラッキング法によって測定されたあるレベルの酸度に
特徴を有する不均一ゼオライト触媒を使用してフェノー
ルを精製することによって達成された。ＫA ＞１０（Ｋ
A はブタンの一次反応速度定数ｃｍ3 ／ｍｉｎ* ｇであ
る）の全てのゼオライトを液相中での接触的フェノール
精製のための触媒として使用することができる。
【０００７】国際ゼオライト協会（International Zeol
ite Association ）の分類により、ＦＡＵ（ゼオライト
Ｘ、Ｙ）、ＭＦＩ（例えば、ＺＭＳ−５）、ＭＯＲ（モ
ルデナイト）、ＭＡＺ（オメガ）、ＢＥＡ（ベータ）、
ＦＥＲ（フェリエライト）などという記号付きのゼオラ
イトの使用が好ましい。これらゼオライトは結合剤（酸
化アルミニウム、シリカゲル、アルミノけい酸塩あるい
はアルミノ燐酸塩）と一緒にあるいは結合剤無しで使用
することができる。ＫA ＝５０−８０ｃｍ3 ／ｍｉｎ*
ｇの値、かつ３より大きなＳｉ／Ａｌ比を持つアルミノ
けい酸塩結合剤を有するＹ−タイプのゼオライトを使用
することが好ましい。好ましくは、ナトリウム、カリウ
ムおよび他のアルカリ剤のそれらの酸化物に基づく濃度
は２重量％以上ではなく、更に好ましくは０．３重量％
より多くない。中程度のあるいは大きな細孔を有するゼ
オライトを使用することが好ましい。ゼオライトの細孔
は直径０．４ｎｍより大きな範囲になくてはならない。
最も好ましいゼオライトはＹおよびモルデナイトのよう
な大きな細孔（＞０．６ｎｍ）を有するゼオライトであ
る。
ite Association ）の分類により、ＦＡＵ（ゼオライト
Ｘ、Ｙ）、ＭＦＩ（例えば、ＺＭＳ−５）、ＭＯＲ（モ
ルデナイト）、ＭＡＺ（オメガ）、ＢＥＡ（ベータ）、
ＦＥＲ（フェリエライト）などという記号付きのゼオラ
イトの使用が好ましい。これらゼオライトは結合剤（酸
化アルミニウム、シリカゲル、アルミノけい酸塩あるい
はアルミノ燐酸塩）と一緒にあるいは結合剤無しで使用
することができる。ＫA ＝５０−８０ｃｍ3 ／ｍｉｎ*
ｇの値、かつ３より大きなＳｉ／Ａｌ比を持つアルミノ
けい酸塩結合剤を有するＹ−タイプのゼオライトを使用
することが好ましい。好ましくは、ナトリウム、カリウ
ムおよび他のアルカリ剤のそれらの酸化物に基づく濃度
は２重量％以上ではなく、更に好ましくは０．３重量％
より多くない。中程度のあるいは大きな細孔を有するゼ
オライトを使用することが好ましい。ゼオライトの細孔
は直径０．４ｎｍより大きな範囲になくてはならない。
最も好ましいゼオライトはＹおよびモルデナイトのよう
な大きな細孔（＞０．６ｎｍ）を有するゼオライトであ
る。
【０００８】重質成分および軽質成分の蒸留から得ら
れ、かつ不純物ヒドロキシアセトン、メシチルオキサイ
ド、アルファメチルスチレン、２−メチルベンゾフラン
およびその他のカルボニル化合物を含有し、ただし水を
含有していない（水含有量が１重量％、より好ましくは
０．１％より少ない）フェノールを約１２０と２５０℃
との間の温度（好ましくは１８０−２００℃）および空
間速度０．１−３．５ｈｒ-1（好ましくは０．８−１．
２ｈｒ-1）でゼオライトと接触させる。
れ、かつ不純物ヒドロキシアセトン、メシチルオキサイ
ド、アルファメチルスチレン、２−メチルベンゾフラン
およびその他のカルボニル化合物を含有し、ただし水を
含有していない（水含有量が１重量％、より好ましくは
０．１％より少ない）フェノールを約１２０と２５０℃
との間の温度（好ましくは１８０−２００℃）および空
間速度０．１−３．５ｈｒ-1（好ましくは０．８−１．
２ｈｒ-1）でゼオライトと接触させる。
【０００９】前記の精製法はメシチルオキサイド、ヒド
ロキシアセトン、アルファメチルスチレンおよびその他
のカルボニル化合物のような不純物を９０％以上転化す
ることが見出された。前記の不純物は触媒および精製条
件の効果で縮合物に転化され、その結果これら不純物は
その後の精留によってフェノールから分離され、かつそ
の他の重質成分、いわゆる「フェノールタール」と一緒
にこのプロセスから除去することができる。高い空間速
度（０．８ｈｒ-1超）では、フェノールから蒸留によっ
て容易に除去できる量への２−メチルベンゾフランの濃
度の増加が見られた。低い空間速度（０．８ｈｒ-1未
満）および高温（２００℃超）では、２−メチルベンゾ
フランの濃度の減少（転化率は５０％より小さい）が見
られた。ゼオライトの活性中心の酸性度は希土類元素
（例えばランタンなど）によって安定化されている。こ
のことにより触媒は精製するフェノール中の小さい分子
の不純物の含有率が高くても長時間にわたって安定に用
いられる。前記の触媒の使用寿命は３年より短くはな
い。
ロキシアセトン、アルファメチルスチレンおよびその他
のカルボニル化合物のような不純物を９０％以上転化す
ることが見出された。前記の不純物は触媒および精製条
件の効果で縮合物に転化され、その結果これら不純物は
その後の精留によってフェノールから分離され、かつそ
の他の重質成分、いわゆる「フェノールタール」と一緒
にこのプロセスから除去することができる。高い空間速
度（０．８ｈｒ-1超）では、フェノールから蒸留によっ
て容易に除去できる量への２−メチルベンゾフランの濃
度の増加が見られた。低い空間速度（０．８ｈｒ-1未
満）および高温（２００℃超）では、２−メチルベンゾ
フランの濃度の減少（転化率は５０％より小さい）が見
られた。ゼオライトの活性中心の酸性度は希土類元素
（例えばランタンなど）によって安定化されている。こ
のことにより触媒は精製するフェノール中の小さい分子
の不純物の含有率が高くても長時間にわたって安定に用
いられる。前記の触媒の使用寿命は３年より短くはな
い。
【００１０】
【実施例】本発明を以下の実施例によって説明するが、
これらの実施例は本発明および特許請求の範囲を限定す
るものではなく、フェノール精製のために適した多数の
タイプのゼオライト触媒の使用を説明するものである。 実施例１ アセトン２１ｐｐｍ、ヒドロキシアセトン（ＨＡ）６６
ｐｐｍ、メシチルオキサイド（ＭＯ）２１７ｐｐｍ、ア
ルファメチルスチレン（ＡＭＳ）１３０４ｐｐｍ、２−
メチルベンゾフラン（２−ＭＢＦ）２３６ｐｐｍおよび
その他のカルボニル化合物（ＣＣ）３５ｐｐｍを含有す
るフェノールを１５００ｍｍの長さ、３０ｍｍの内径を
有する反応器パイプを通じて汲み上げた。その反応器は
アルミノけい酸塩の結合剤を有する触媒（Ｙ−タイプの
ゼオライト）９５０ｍｌで充填されていた。Ｙタイプの
ゼオライトはゼオライト含有量１６％、アルミニウム酸
化物含有量９．７％、けい素酸化物含有量８６．１％、
ナトリウム酸化物０．３％、稀土類元素酸化物含有量
２．９％、細孔の比容０．５１ｃｍ3 ／ｇ、ＫA 値で求
めた酸性度は７０ｃｍ3 ／ｍｉｎ* ｇであった。反応は
１４０℃、常圧、空間速度０．３ｈｒ-1で行なわれた。
触媒使用の後の、フェノールの純度をガスクロマトグラ
フィー（ＧＣ）で求めた。分析用の試料は毎時採取し
た。実験時間は５時間である。精製後のフェノールの組
成は以下のとおり（平均値）。
これらの実施例は本発明および特許請求の範囲を限定す
るものではなく、フェノール精製のために適した多数の
タイプのゼオライト触媒の使用を説明するものである。 実施例１ アセトン２１ｐｐｍ、ヒドロキシアセトン（ＨＡ）６６
ｐｐｍ、メシチルオキサイド（ＭＯ）２１７ｐｐｍ、ア
ルファメチルスチレン（ＡＭＳ）１３０４ｐｐｍ、２−
メチルベンゾフラン（２−ＭＢＦ）２３６ｐｐｍおよび
その他のカルボニル化合物（ＣＣ）３５ｐｐｍを含有す
るフェノールを１５００ｍｍの長さ、３０ｍｍの内径を
有する反応器パイプを通じて汲み上げた。その反応器は
アルミノけい酸塩の結合剤を有する触媒（Ｙ−タイプの
ゼオライト）９５０ｍｌで充填されていた。Ｙタイプの
ゼオライトはゼオライト含有量１６％、アルミニウム酸
化物含有量９．７％、けい素酸化物含有量８６．１％、
ナトリウム酸化物０．３％、稀土類元素酸化物含有量
２．９％、細孔の比容０．５１ｃｍ3 ／ｇ、ＫA 値で求
めた酸性度は７０ｃｍ3 ／ｍｉｎ* ｇであった。反応は
１４０℃、常圧、空間速度０．３ｈｒ-1で行なわれた。
触媒使用の後の、フェノールの純度をガスクロマトグラ
フィー（ＧＣ）で求めた。分析用の試料は毎時採取し
た。実験時間は５時間である。精製後のフェノールの組
成は以下のとおり（平均値）。
【００１１】５ｐｐｍ ＭＯ （転化率 ９８％） ２５ｐｐｍ ＡＭＳ（転化率 ９８％） ４ｐｐｍ ＣＣ １０ｐｐｍ アセトン １ｐｐｍ ＨＡ ２６９ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加）（１３％） 実施例２ 実施例１と同様に実験を行なった．ただし空間速度は
３．５ｈｒ-1であった。精製前のフェノールの組成は以
下のとおりである。 ５ｐｐｍ アセトン ９６ｐｐｍ ＨＡ ５３ｐｐｍ ＯＭ １１０６ｐｐｍ ＡＭＳ ２１４ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 精製後のフェノールの組成は以下のとおりである。
３．５ｈｒ-1であった。精製前のフェノールの組成は以
下のとおりである。 ５ｐｐｍ アセトン ９６ｐｐｍ ＨＡ ５３ｐｐｍ ＯＭ １１０６ｐｐｍ ＡＭＳ ２１４ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 精製後のフェノールの組成は以下のとおりである。
【００１２】４ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９２％） ２１ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９８％） ６ｐｐｍ ＣＣ １２ｐｐｍ アセトン ２３７ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加率 １１％） ０ｐｐｍ ヒドロキシアセトン 実施例３ 実施例１と同様に実験を行なった．ただし温度は２５０
℃、空間速度は０．１ｈｒ-1であった。精製前のフェノ
ールの組成は以下のとおりである。
℃、空間速度は０．１ｈｒ-1であった。精製前のフェノ
ールの組成は以下のとおりである。
【００１３】２１ｐｐｍ アセトン ９８ｐｐｍ ＨＡ １０７ｐｐｍ ＯＭ ２３０ｐｐｍ ＡＭＳ １５２ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 精製後のフェノールの組成は以下のとおりである。
【００１４】８ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９３％） ３ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９９％） ９ｐｐｍ ＣＣ ４５ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（転化率 ７０％） １０ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ヒドロキシアセトン 実施例４ 実施例１と同様に実験を行なった．ただし空間速度は
３．５ｈｒ-1であった。精製前のフェノールの組成は以
下のとおりである。
３．５ｈｒ-1であった。精製前のフェノールの組成は以
下のとおりである。
【００１５】２３ｐｐｍ アセトン ６３ｐｐｍ ＯＭ ５ｐｐｍ ＡＭＳ １７８ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 精製後のフェノールの組成は以下のとおりである。
【００１６】６ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９０％） ２ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９６％） ５ｐｐｍ ＣＣ １２ｐｐｍ アセトン ２０１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加率 １３％） ８ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ヒドロキシアセトン 実施例５ 本実施例は触媒に対する未精製フェノール中の水の効果
およびメシチルオキサイド、アルファメチルスチレンお
よび２−メチルベンゾフランの転化率の変化を説明す
る。
およびメシチルオキサイド、アルファメチルスチレンお
よび２−メチルベンゾフランの転化率の変化を説明す
る。
【００１７】実施例１と同様に実験を行なった．触媒を
先ず２５０℃の窒素気流中で焼成した。焼成時の重量減
少は２重量％であった。実験結果を以下の表に示す（表
１参照）
先ず２５０℃の窒素気流中で焼成した。焼成時の重量減
少は２重量％であった。実験結果を以下の表に示す（表
１参照）
【００１８】
【表１】 実施例６ 本実施例は活性を消失しない触媒使用継続時間を説明す
る。
る。
【００１９】実施例１と同様の実験を行なった．装置を
１０４３時間連続して稼動させた。温度は１１５℃から
１９０℃の範囲で変化させ、空間速度は０．４ないし
３．７５ｈｒ-1で変化させた。大気圧あるいは液体フェ
ノールの状態に適した圧を使用した。その結果を表２に
示す。
１０４３時間連続して稼動させた。温度は１１５℃から
１９０℃の範囲で変化させ、空間速度は０．４ないし
３．７５ｈｒ-1で変化させた。大気圧あるいは液体フェ
ノールの状態に適した圧を使用した。その結果を表２に
示す。
【００２０】
【表２】 注 平均空間速度および平均温度の欄では対応する変数
の最高および最低値を括弧内に示した。 実施例７ 実施例１−４と同様の方法で実験を行なった。ただし以
下の特性値を有する触媒を使用した。アルミノけい酸塩
結合剤を有するＹ−タイプのゼオライトであって、ゼオ
ライト含有量７％、アルミニウム酸化物含有量８．９
％、けい素酸化物含有量８５％、ナトリウム酸化物含有
量０．３％、稀土類元素酸化物含有量１．５％、細孔の
比容０．５ｃｍ3 ／ｇ。ＫA 値＝５０ｃｍ3 ／ｍｉｎ*
ｇのものである。その結果を表３に示す。
の最高および最低値を括弧内に示した。 実施例７ 実施例１−４と同様の方法で実験を行なった。ただし以
下の特性値を有する触媒を使用した。アルミノけい酸塩
結合剤を有するＹ−タイプのゼオライトであって、ゼオ
ライト含有量７％、アルミニウム酸化物含有量８．９
％、けい素酸化物含有量８５％、ナトリウム酸化物含有
量０．３％、稀土類元素酸化物含有量１．５％、細孔の
比容０．５ｃｍ3 ／ｇ。ＫA 値＝５０ｃｍ3 ／ｍｉｎ*
ｇのものである。その結果を表３に示す。
【００２１】
【表３】 実験条件 転化率（％） 増加率（％） ＯＭ ＡＭＳ ＨＡ ＣＣ ２−ＭＢＦ ──────────────────────────────── 実施例１ ９５ ９８ １００ ９３ １６ 実施例２ ９０ ９９ １００ ９５ ５ 実施例３ ９１ ９８ １００ ９８ −９ 実施例４ ９２ ９８ １００ ９７ １３ ──────────────────────────────── 実施例８ 実施例１と同様の方法で実験を行なった。ただしゼオラ
イトＸおよびモルデナイト、Ｈ型のＭＦＩおよびフェリ
エライトを使用した。使用したゼオライトのＫ A 値で示
す酸性度は３０−９０ｃｍ3 ／ｍｉｎ* ｇの範囲内であ
る。ゼオライト−モルデナイトにはアルミニウもマンガ
ンも添加しない。
イトＸおよびモルデナイト、Ｈ型のＭＦＩおよびフェリ
エライトを使用した。使用したゼオライトのＫ A 値で示
す酸性度は３０−９０ｃｍ3 ／ｍｉｎ* ｇの範囲内であ
る。ゼオライト−モルデナイトにはアルミニウもマンガ
ンも添加しない。
【００２２】
【表４】 実験条件 ＫA 転化率（％） 増加率(%) (cm3/min* ｇ） ＯＭ ＡＭＳ ＨＡ ＣＣ ２−ＭＢＦ ─────────────────────────────────── モルデナイト ８０−９０ １００ ９９ １００ ９３ １ ＨＹ ５０−７０ ９５ ９０ ５４ ８９ ０ ＨＸ ３０−５０ ８０ ６５ ４５ ９８ −１０ ＭＦＩ ８０−９０ ９８ ９０ ９１ ８７ −１５ フェリエライト ４０−５０ ８２ ６７ ５０ ９５ −１８ ─────────────────────────────────── 実施例９ 実施例６−８と同様の方法で実験を行なった。ただし結
合剤付きのゼオライトを使用した。アルミノけい酸塩を
結合剤として（けい素酸化物７０重量％、酸化アルミニ
ウム含有量３０重量％）を使用した。ゼオライト含有量
は１０重量％である。その結果を表５に示す。
合剤付きのゼオライトを使用した。アルミノけい酸塩を
結合剤として（けい素酸化物７０重量％、酸化アルミニ
ウム含有量３０重量％）を使用した。ゼオライト含有量
は１０重量％である。その結果を表５に示す。
【００２３】
【表５】 実験条件 ＫA 転化率（％） 増加率(%) (cm3/min* ｇ） ＯＭ ＡＭＳ ＨＡ ＣＣ ２−ＭＢＦ ─────────────────────────────────── モルデナイト ７５ １００ ９９ ９８ ９３ ５ ＨＹ ５５ ９６ ８５ ５４ ８９ ３ ＨＸ ３５ ７８ ６１ ４５ ９８ −３ ＭＦＩ ７０ ９６ ９５ ９１ ８７ −５ フェリエライト ４０ ８２ ６７ ５０ ９５ −２０ ─────────────────────────────────── 実施例１０ （比較例、空間速度の上限を超えている） 実施例２および４と同様の方法で実験を行なった．ただ
し空間速度は８ｈｒ-1であった。精製前のフェノールの
組成は以下のとおりである。 ３ｐｐｍ アセトン ３０ｐｐｍ ＯＭ １３９６ｐｐｍ ＡＭＳ ８２ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 精製後にはフェノールは以下の化合物を含有していた。 ａ）１４０℃ １６ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ４７％） １７ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９９％） ６０ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（転化率 ２７％） ｂ）２５０℃ １３ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ５３％） ２１ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９８％） ４９ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（転化率 ４０％） 実施例１１ （比較例、触媒はけい素酸化物５０％、アルミニウム酸
化物４２％、ナトリウム酸化物２％を含有する。残りの
成分の含有量は実施例１に合致している） 実施例１、２、３、４の条件 フェノール組成 ９６ｐｐｍ ＯＭ ８０ｐｐｍ ＡＭＳ ２４１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ １００ｐｐｍ ＨＡ ５３ｐｐｍ ＣＰ 精製の結果を表６に示す。
し空間速度は８ｈｒ-1であった。精製前のフェノールの
組成は以下のとおりである。 ３ｐｐｍ アセトン ３０ｐｐｍ ＯＭ １３９６ｐｐｍ ＡＭＳ ８２ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 精製後にはフェノールは以下の化合物を含有していた。 ａ）１４０℃ １６ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ４７％） １７ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９９％） ６０ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（転化率 ２７％） ｂ）２５０℃ １３ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ５３％） ２１ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９８％） ４９ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（転化率 ４０％） 実施例１１ （比較例、触媒はけい素酸化物５０％、アルミニウム酸
化物４２％、ナトリウム酸化物２％を含有する。残りの
成分の含有量は実施例１に合致している） 実施例１、２、３、４の条件 フェノール組成 ９６ｐｐｍ ＯＭ ８０ｐｐｍ ＡＭＳ ２４１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ １００ｐｐｍ ＨＡ ５３ｐｐｍ ＣＰ 精製の結果を表６に示す。
【００２４】
【表６】 実験条件 転化率（％） 増加率（％） ＯＭ ＡＭＳ ＨＡ ＣＣ ２−ＭＢＦ ──────────────────────────────── 実施例１ ４３ ９６ ９０ ９０ ９６ 実施例２ ３９ ９７ ８５ ８９ ８７ 実施例３ ４４ ９８ ８０ ８９ １０１ 実施例４ ３６ ９６ ８５ ８７ ８５ ──────────────────────────────── 実施例１２ （比較例、温度の上限を超えている） 実施例１および２と同様の方法で実験を行なった．ただ
し温度は３００℃であった。精製前のフェノール組成 ２１ｐｐｍ アセトン ４６ｐｐｍ ＯＭ １４２ｐｐｍ ＡＭＳ ２１８ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 以下の不純物が精製後のネフォール中に検出された。 ａ）空間速度０．３ｈｒ-1 ３ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９４％） ４ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９７％） ３９１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加率 ５７％） ｂ）空間速度３．５ｈｒ-1 ４ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９１％） ５ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９６％） ３９１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加率 ７９％） 高温でこの操作を行なうことに特に長所は無く、エネル
ギーの要求が増加していることをこの実施例は示してい
る。ＧＣ分析は約２０００ｐｐｍ量の高い縮合生成物の
存在を示した。１４０−２００℃においては、この生成
物は生じない。このことは僅かの量のフェノールの損失
に繋るであろう。
し温度は３００℃であった。精製前のフェノール組成 ２１ｐｐｍ アセトン ４６ｐｐｍ ＯＭ １４２ｐｐｍ ＡＭＳ ２１８ｐｐｍ ２−ＭＢＦ 以下の不純物が精製後のネフォール中に検出された。 ａ）空間速度０．３ｈｒ-1 ３ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９４％） ４ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９７％） ３９１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加率 ５７％） ｂ）空間速度３．５ｈｒ-1 ４ｐｐｍ ＯＭ （転化率 ９１％） ５ｐｐｍ ＡＭＳ （転化率 ９６％） ３９１ｐｐｍ ２−ＭＢＦ（増加率 ７９％） 高温でこの操作を行なうことに特に長所は無く、エネル
ギーの要求が増加していることをこの実施例は示してい
る。ＧＣ分析は約２０００ｐｐｍ量の高い縮合生成物の
存在を示した。１４０−２００℃においては、この生成
物は生じない。このことは僅かの量のフェノールの損失
に繋るであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 29/18 Ｂ０１Ｊ 29/18 Ｘ 29/65 29/65 Ｘ 35/10 ３０１ 35/10 ３０１Ｚ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 ウラジミール・ミハイロヴィッチ・ザコ シャンスキー アメリカ合衆国 47620 インディアナ 州、マウント・ヴァーノン、フィールデ ィング・コート 410 (72)発明者 イリーナ・イヴァノフナ・ヴァシリェー ヴァ ロシア国 1934356 サンクト・ペテル スブルグ、コラブレストライテレイ・ウ ーリッツァ 29−５−136 (72)発明者 アンドレイ・コンスタンチノヴィッチ・ グリアズノフ ロシア国 1934356 サンクト・ペテル スブルグ、フルシャドスカヤ・ウーリッ ツァ 40−６ (56)参考文献 特開 平５−286879（ＪＰ，Ａ) 特公 昭37−1164（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭39−10328（ＪＰ，Ｂ１) 米国特許3029294（ＵＳ，Ａ) 米国特許3454653（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 37/68 - 37/88 C07C 39/04 C07C 37/08 C07C 27/00 C07C 27/12
Claims (12)
- 【請求項１】 クメン方法によるフェノールとアセトン
との併産において得られたフェノールを精製するに当
り、このフェノールを、常圧または液体フェノールの圧
力に匹敵する圧力下で、１２０〜２５０℃の温度におい
て、ブタンクラッキング反応において測定した酸性度が
１０より大きい（ＫA cm3/min* g>１０）ゼオライト触
媒と接触させることを特徴とするフェノールの精製方
法。 - 【請求項２】 ゼオライト触媒がゼオライトＸ、Ｙ、モ
ルデナイト、ＢＥＴＡ、ＭＦＩ、およびフェリエライト
のタイプから成る群から選択される請求項１に記載の方
法。 - 【請求項３】 触媒中のナトリウム、カリウムおよびそ
の他のアルカリ金属剤の含有量がそれらの酸化物に基い
て２重量％を超えない請求項１〜２のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項４】 稀土類元素が０ないし５重量％の量存在
する請求項１〜３のいずれかに記載の方法。 - 【請求項５】 触媒中のゼオライト濃度が５ないし１０
０重量％である請求項１〜４に記載の方法。 - 【請求項６】 ゼオライト触媒の細孔の直径が４x１０ー
10ｍ（４Å）よりも大きい請求項１〜５に記載の方法。 - 【請求項７】 精製されるべきフェノールに含有される
不飽和化合物の精製の程度が９０％以上である請求項１
〜６のいずれかに記載の方法。 - 【請求項８】 ２−メチルベンゾフランを除くための精
製は、０．８ｈｒ-1より大きな空間速度では蒸留によっ
てフェノールから容易に除去可能なレベルにまで２−メ
チルベンゾフランの量を増加させ、０．８ｈｒ-1より小
さい空間速度および２００℃より高い温度では２−メチ
ルベンゾフラン量を５０％より多くない量に減少させる
請求項１〜７のいずれかに記載の方法。 - 【請求項９】 工程を空間速度０．１ないし３．５ｈｒ
-1で行なう請求項１に記載の方法。 - 【請求項１０】 工程をフェノール中の水含有量１重量
％未満で行なう請求項１に記載の方法。 - 【請求項１１】 フェノールとフェノール中に含まれて
いる不純物が液相にある１x１０5〜１０x１０5 Pa（１
ないし１０気圧）の圧力において触媒と接触する請求項
１に記載の方法。 - 【請求項１２】 クメン法によるフェノールとアセトン
との併産において得られ、メシチルオキサイド、ヒドロ
キシアセトン、アルファメチルスチレン、2-メチルベン
ゾフェノンおよびその他のカルボニル化合物を含有する
フェノールを精製するに当り、このフェノールを、常圧
または液体フェノールの圧力に匹敵する圧力下で、１２
０〜２５０℃の温度において、ブタンクラッキング反応
において測定した酸性度が１０よりも大きい（ＫA cm3/
min* g>１０）ゼオライト触媒と接触させることを特徴
とするフェノールの精製方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU5396604 | 1993-12-01 | ||
| RU93-053966/04 | 1993-12-01 | ||
| RU93053966/04A RU2111203C1 (ru) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | Способ очистки фенола от органических примесей |
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|---|---|
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Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6297304A Expired - Fee Related JP2968182B2 (ja) | 1993-12-01 | 1994-11-30 | フェノールの精製方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0656342B1 (ja) |
| JP (1) | JP2968182B2 (ja) |
| CN (1) | CN1066703C (ja) |
| DE (1) | DE69412434T2 (ja) |
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| US5892132A (en) * | 1996-08-08 | 1999-04-06 | Solutia Inc. | Transport hydroxylation reactor |
| US5808167A (en) * | 1996-08-20 | 1998-09-15 | Solutia Inc. | Selective introduction of active sites for hydroxylation of benzene |
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| RU2217409C2 (ru) * | 2002-02-08 | 2003-11-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Петрофенол" | Способ и катализатор получения паракумилфенола |
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| US7019180B2 (en) * | 2003-02-06 | 2006-03-28 | Shell Oil Company | Method of purifying phenol |
| US20050137429A1 (en) * | 2003-12-18 | 2005-06-23 | Tatake Prashant A. | Methods for purification of phenol |
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