JP2865347B2 - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents
リソグラフィー用ペリクルInfo
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- JP2865347B2 JP2865347B2 JP586190A JP586190A JP2865347B2 JP 2865347 B2 JP2865347 B2 JP 2865347B2 JP 586190 A JP586190 A JP 586190A JP 586190 A JP586190 A JP 586190A JP 2865347 B2 JP2865347 B2 JP 2865347B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- compound
- film
- pullulan
- polyhydric alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はリソグラフイー用ペリクル、特にはLSI,超LS
Iなどの半導体装置あるいは液晶表示板などを製造する
ときに使用される、実質的に500nm以下の光を用いる露
光方式におけるリソグラフイー用ゴミよけペリクルに関
するものである。
Iなどの半導体装置あるいは液晶表示板などを製造する
ときに使用される、実質的に500nm以下の光を用いる露
光方式におけるリソグラフイー用ゴミよけペリクルに関
するものである。
（従来の技術） LSI,超LSI半導体装置あるいは液晶表示板などの製造
においては半導体ウエーハあるいは液晶用原板に光を照
射してパターニングを作成するのであるが、この場合に
用いられる露光原版にゴミが付着しているとこのゴミが
光を吸収したり、あるいは光を曲げてしまうために転写
したパターニングが変形したり、エッジががさついたも
のとなり、さらには白地が黒く汚れたりして、寸法、品
質ならびに外観が損なわれるという不利が生じる。
においては半導体ウエーハあるいは液晶用原板に光を照
射してパターニングを作成するのであるが、この場合に
用いられる露光原版にゴミが付着しているとこのゴミが
光を吸収したり、あるいは光を曲げてしまうために転写
したパターニングが変形したり、エッジががさついたも
のとなり、さらには白地が黒く汚れたりして、寸法、品
質ならびに外観が損なわれるという不利が生じる。
そのため、この種の作業は通常クリーンルームで行な
われるのであるが、このクリールーム内でも露光原版を
常に清浄に保つことが難しいので、これには露光原版の
表面にゴミよけのために露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方法が採られており、このペリクルと
してはニトロセルロース、酢酸セルロースなどの薄膜が
使用されている。
われるのであるが、このクリールーム内でも露光原版を
常に清浄に保つことが難しいので、これには露光原版の
表面にゴミよけのために露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方法が採られており、このペリクルと
してはニトロセルロース、酢酸セルロースなどの薄膜が
使用されている。
（発明が解決しようとする課題） しかし、このニトロセルロース、酢酸セルロースなど
で作られたペリクルは210〜400nmのような短波長域では
大きな吸収端ができるし、安定性が乏しく使用中に黄変
するために、デバイスの製造時に半導体装置にエキシマ
レーザーやｉ線の紫外線のように波長域が210〜400nmで
ある露光を行なう超LSI用あるいは高密度の微細液晶表
示板などのリソグラフイー用としては使用できないとい
う不利があり、このような短波長域にも使用することの
できるリソグラフイー用のペリクルの出現が求められて
いる。
で作られたペリクルは210〜400nmのような短波長域では
大きな吸収端ができるし、安定性が乏しく使用中に黄変
するために、デバイスの製造時に半導体装置にエキシマ
レーザーやｉ線の紫外線のように波長域が210〜400nmで
ある露光を行なう超LSI用あるいは高密度の微細液晶表
示板などのリソグラフイー用としては使用できないとい
う不利があり、このような短波長域にも使用することの
できるリソグラフイー用のペリクルの出現が求められて
いる。
（課題を解決するための手段） 本発明はこのような不利な解決したりリソグラフイー
用ペリクルに関するものであり、これは実質的に500nm
以下の光を用いる露光方式において、プルラン化合物膜
またはプルラン化合物と多価アルコール化合物との混合
膜をゴミよけ用ペリクルとして用いてなることを特徴と
するものである。
用ペリクルに関するものであり、これは実質的に500nm
以下の光を用いる露光方式において、プルラン化合物膜
またはプルラン化合物と多価アルコール化合物との混合
膜をゴミよけ用ペリクルとして用いてなることを特徴と
するものである。
すなわち、本発明者らは短波長域での使用に適したリ
ソグラフイー用ペリクルを開発すべく種々検討した結
果、従来公知のニトロセルロース、酢酸セルロースに代
えてプルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アル
コール化合物との混合膜を使用したところ、このものは
500nm以下の光もよく通過させるし、210〜400nmの短波
長域でも吸収端を生じることがないので、500nm以下の
短波長域でのリソグラフイー用ペリクルとして有用であ
るということを見出し、このペリクルとしてのプルラン
化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコール化合物
との混合膜の形状、構造、その製造方法、このプルラン
化合物、多価アルコール化合物の種類などについての研
究を進めて本発明を完成させた。
ソグラフイー用ペリクルを開発すべく種々検討した結
果、従来公知のニトロセルロース、酢酸セルロースに代
えてプルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アル
コール化合物との混合膜を使用したところ、このものは
500nm以下の光もよく通過させるし、210〜400nmの短波
長域でも吸収端を生じることがないので、500nm以下の
短波長域でのリソグラフイー用ペリクルとして有用であ
るということを見出し、このペリクルとしてのプルラン
化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコール化合物
との混合膜の形状、構造、その製造方法、このプルラン
化合物、多価アルコール化合物の種類などについての研
究を進めて本発明を完成させた。
（作用） 本発明のリソグラフイー用ペリクルは前記したように
プルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合膜を使用するものであるが、この膜は
プルラン化合物またはプルラン化合物と多価アルコール
化合物との混合物をシクロヘキサン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、アセトンなどのような溶剤に適宜に溶解し
たのち、この溶液をスピンコーターやナイフコーターな
どを用いる溶液キヤスター法で成形するか、あるいはこ
のプルラン化合物またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合物をＴダイ法、インフレーシヨン法な
どで溶融押出しする方法などのような公知の方法で膜状
物に成形加工することによって製造することができる。
プルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合膜を使用するものであるが、この膜は
プルラン化合物またはプルラン化合物と多価アルコール
化合物との混合物をシクロヘキサン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、アセトンなどのような溶剤に適宜に溶解し
たのち、この溶液をスピンコーターやナイフコーターな
どを用いる溶液キヤスター法で成形するか、あるいはこ
のプルラン化合物またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合物をＴダイ法、インフレーシヨン法な
どで溶融押出しする方法などのような公知の方法で膜状
物に成形加工することによって製造することができる。
ここに使用するプルラン化合物は天然多糖類の１種で
あるが、これはメチル基、エチル基などのアルキル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ジヒドロ
キシプロピル基などのヒドロキシアルキル基、アセチル
基、プロピオニル基などのアシル基などで置換された誘
導体、さらにはその水酸基の一部または全部が化学的に
変性置換されたものであってもよく、ここに使用される
多価アルコール化合物は通常の多価アルコール、例えば
ポリビニルアルコール、ビニルエーテル・ビニルアルコ
ール共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、
酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、あるいはこれ
らの水酸基の一部または全部を化学的に変性置換したも
ので膜成形能を有するものとすればよいが、これらは特
には210〜400nmのような短波長域での光透過率が良好
で、耐湿性と充分な膜温度をもつものを与えるというこ
とからプルランまたは多価アルコールをアクリロニトリ
ルと反応させてその水酸基の一部または全部をシアノエ
チル化したものとすることがよい。なお、このプルラン
化合物と多価アルコール化合物とを混合する場合の混合
比は任意の範囲とすればよい。
あるが、これはメチル基、エチル基などのアルキル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ジヒドロ
キシプロピル基などのヒドロキシアルキル基、アセチル
基、プロピオニル基などのアシル基などで置換された誘
導体、さらにはその水酸基の一部または全部が化学的に
変性置換されたものであってもよく、ここに使用される
多価アルコール化合物は通常の多価アルコール、例えば
ポリビニルアルコール、ビニルエーテル・ビニルアルコ
ール共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、
酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、あるいはこれ
らの水酸基の一部または全部を化学的に変性置換したも
ので膜成形能を有するものとすればよいが、これらは特
には210〜400nmのような短波長域での光透過率が良好
で、耐湿性と充分な膜温度をもつものを与えるというこ
とからプルランまたは多価アルコールをアクリロニトリ
ルと反応させてその水酸基の一部または全部をシアノエ
チル化したものとすることがよい。なお、このプルラン
化合物と多価アルコール化合物とを混合する場合の混合
比は任意の範囲とすればよい。
また、このプルラン化合物膜またはプルラン化合物と
多価アルコール化合物との混合膜の厚さは機械的強度を
もたせるために0.5μｍ以上のものとすることがよい
が、210nm以上の波長域での紫外線をよく通過させるた
めに表面反射防止膜を処理した場合でも厚さが300μｍ
以下のものとすることが望ましい。
多価アルコール化合物との混合膜の厚さは機械的強度を
もたせるために0.5μｍ以上のものとすることがよい
が、210nm以上の波長域での紫外線をよく通過させるた
めに表面反射防止膜を処理した場合でも厚さが300μｍ
以下のものとすることが望ましい。
本発明によるプルラン化合物膜またはプルラン化合物
と多価アルコール化合物との混合膜は紫外線透過率が高
く、波長が210〜400nmの短波長域の光もよく透過させる
ので、短波長域でのリソグラフイー用ペリクルとして特
に有用とされるが、この使用に当ってはアルミニウムな
どの枠体に接着固定して使用することがよい。
と多価アルコール化合物との混合膜は紫外線透過率が高
く、波長が210〜400nmの短波長域の光もよく透過させる
ので、短波長域でのリソグラフイー用ペリクルとして特
に有用とされるが、この使用に当ってはアルミニウムな
どの枠体に接着固定して使用することがよい。
（実施例） つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例1,比較例 20％ジメチルホルムアミド溶液の20℃における粘度が
300cpであるシアノエチルプルランの５％アセトン溶液
をクリアランス50μｍのナイフコーターを用いて平滑な
ガラス板上にキヤストし、室温で24時間乾燥後、60℃で
２時間、100℃で１時間乾燥した。
300cpであるシアノエチルプルランの５％アセトン溶液
をクリアランス50μｍのナイフコーターを用いて平滑な
ガラス板上にキヤストし、室温で24時間乾燥後、60℃で
２時間、100℃で１時間乾燥した。
ついで内径130mmのアルミニウムフレームの端面にエ
ポキシ系接着剤・アラルダイトラピッド〔昭和高分子
（株）製商品名〕を塗布したものにこのシアノエチルプ
ルラン薄膜を接着して１時間硬化させたのち、ガラス板
ごと水中に浸漬し、５分後ガラス板から自然に剥離した
ものを取り出し、風乾後、アルミニウムフレームの外側
にはみ出している部分のフイルムを切りとったところ、
均一な張りのある厚さ1.3μｍのリソグラフイー用ペリ
クルとしての薄膜が得られた。
ポキシ系接着剤・アラルダイトラピッド〔昭和高分子
（株）製商品名〕を塗布したものにこのシアノエチルプ
ルラン薄膜を接着して１時間硬化させたのち、ガラス板
ごと水中に浸漬し、５分後ガラス板から自然に剥離した
ものを取り出し、風乾後、アルミニウムフレームの外側
にはみ出している部分のフイルムを切りとったところ、
均一な張りのある厚さ1.3μｍのリソグラフイー用ペリ
クルとしての薄膜が得られた。
つぎにこの薄膜の光線透過率をしらべたところ、この
ものは240〜500nmの波長域で90％以上の透過率を示し、
膜面両面に反射防止処理をしたものについては436nmの
ｇ線で98.8％、365nmのｉ線で98.6％、249nmのエキシマ
レーザーで98.2％の透過率を示し、さらに210nmの透過
率が88％であり、これはまた使用中に黄変することもな
かったのでペリクルとしてすぐれたものであることが確
認された。
ものは240〜500nmの波長域で90％以上の透過率を示し、
膜面両面に反射防止処理をしたものについては436nmの
ｇ線で98.8％、365nmのｉ線で98.6％、249nmのエキシマ
レーザーで98.2％の透過率を示し、さらに210nmの透過
率が88％であり、これはまた使用中に黄変することもな
かったのでペリクルとしてすぐれたものであることが確
認された。
しかし、比較のためにニトロセルロース・HIG−20
〔旭化成工業（株）製商品名〕の酢酸エチル溶液を用い
たほかは上記と同様に処理して得た厚さ1.4μｍのリソ
グラフイー用ペリクルは436μｍのｇ線の透過率は97.9
％、365nmのｉ線の透過率は97.5％であったが、249nmの
エキシマレーザーの透過率は41.1％とわるく、これはま
たｉ線を使用中に黄変するためにペリクルとして使用す
ることができないものであった。
〔旭化成工業（株）製商品名〕の酢酸エチル溶液を用い
たほかは上記と同様に処理して得た厚さ1.4μｍのリソ
グラフイー用ペリクルは436μｍのｇ線の透過率は97.9
％、365nmのｉ線の透過率は97.5％であったが、249nmの
エキシマレーザーの透過率は41.1％とわるく、これはま
たｉ線を使用中に黄変するためにペリクルとして使用す
ることができないものであった。
実施例２ プルラン50重量％とポリビニルアルコール50重量％の
混合物をアクリロニトリルを用いて完全にシアノエチル
化したもののメチルエチルケトン５％溶液を作り、これ
をクリアランス1mmのナイフコーターを用いて平滑ガラ
ス板上にキヤストし、40℃で24時間乾燥したのち70℃で
４時間、100℃で２時間乾燥し、ついで水中に浸漬して
膜を自然剥離させて膜厚が240μｍの膜体を作った。
混合物をアクリロニトリルを用いて完全にシアノエチル
化したもののメチルエチルケトン５％溶液を作り、これ
をクリアランス1mmのナイフコーターを用いて平滑ガラ
ス板上にキヤストし、40℃で24時間乾燥したのち70℃で
４時間、100℃で２時間乾燥し、ついで水中に浸漬して
膜を自然剥離させて膜厚が240μｍの膜体を作った。
つぎにこの膜体をアルミニウムの端面にエポキシ系接
着材（前出）を用いて平滑となるように接着し、アルミ
ニウムフレームの外側にはみ出した部分を切りとってリ
ソグラフイー用ペリクルを作り、このものの光線透過率
をしらべたところ、240〜500nmの波長域で90％以上の透
過率を示し、膜両面に反射防止処理したものについては
436nmのｇ線が95.0％、365nmのｉ線が94.3％、249nmの
エキシマレーザーが90.8％の光線透過率を示し、このも
のはまた機械的強度も充分であり、使用中にペリクルが
黄変することもなかった。
着材（前出）を用いて平滑となるように接着し、アルミ
ニウムフレームの外側にはみ出した部分を切りとってリ
ソグラフイー用ペリクルを作り、このものの光線透過率
をしらべたところ、240〜500nmの波長域で90％以上の透
過率を示し、膜両面に反射防止処理したものについては
436nmのｇ線が95.0％、365nmのｉ線が94.3％、249nmの
エキシマレーザーが90.8％の光線透過率を示し、このも
のはまた機械的強度も充分であり、使用中にペリクルが
黄変することもなかった。
実施例３ プルラン40重量％と部分けん化ポリビニルアルコール
（けん化度80％）60重量％との混合物を実施例２と同様
の方法でシアノエチル化したものの５％ジメチルホルム
アミド溶液を作り、これを用いて実施例１と同様の方法
で厚さ1.5μｍのリソグラフイー用ペリクルを作り、こ
のものの光線透過率をしらべたところ、260〜500nmの波
長域で90％以上の透過率を示し、膜両面に反射防止処理
をしたものについては436nmのｇ線で98.0％、365nmのｉ
線で97.3％、249nmのエキシマレーザーで90.6％であ
り、これはまた使用中にペリクルが黄変することもない
ので、リソグラフイー用ペリクルとしてすぐれたもので
あることが確認された。
（けん化度80％）60重量％との混合物を実施例２と同様
の方法でシアノエチル化したものの５％ジメチルホルム
アミド溶液を作り、これを用いて実施例１と同様の方法
で厚さ1.5μｍのリソグラフイー用ペリクルを作り、こ
のものの光線透過率をしらべたところ、260〜500nmの波
長域で90％以上の透過率を示し、膜両面に反射防止処理
をしたものについては436nmのｇ線で98.0％、365nmのｉ
線で97.3％、249nmのエキシマレーザーで90.6％であ
り、これはまた使用中にペリクルが黄変することもない
ので、リソグラフイー用ペリクルとしてすぐれたもので
あることが確認された。
（発明の効果） 本発明のリソグラフイー用ペリクルは上記したように
プルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合膜をゴミよけ用ペリクルとして用いた
ものであるが、このものは210〜500nmの短波長域をもつ
紫外線の光線透過率が高く、使用中に黄変することもな
いので、LSI,超LSIなどの大規模集積回路あるいは超微
細な液晶表示板回路などの露光用ペリクルとして有用と
されるし、さらには光透過性がすぐれていることから露
光時間の短縮、厚膜化によるペリクル膜強度の向上も期
待できるという有利性を与えるものである。
プルラン化合物膜またはプルラン化合物と多価アルコー
ル化合物との混合膜をゴミよけ用ペリクルとして用いた
ものであるが、このものは210〜500nmの短波長域をもつ
紫外線の光線透過率が高く、使用中に黄変することもな
いので、LSI,超LSIなどの大規模集積回路あるいは超微
細な液晶表示板回路などの露光用ペリクルとして有用と
されるし、さらには光透過性がすぐれていることから露
光時間の短縮、厚膜化によるペリクル膜強度の向上も期
待できるという有利性を与えるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 和政 新潟県中頚城郡頚城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (72)発明者 桜田 豊久 新潟県中頚城郡頚城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (72)発明者 畑農 悦夫 東京都千代田区大手町２丁目６番１号 信越化学工業株式会社精密材料部内 (56)参考文献 特開 昭61−130346（ＪＰ，Ａ) 今堀和友「生化学辞典」（昭59−４− 10）東京化学同人 Ｐ．1097 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 1/14
Claims (3)
- 【請求項１】プルラン化合物膜またはプルラン化合物と
多価アルコール化合物との混合膜をゴミよけ用ペリクル
として用いてなることを特徴とするリソグラフイー用ペ
リクル。 - 【請求項２】プルラン化合物がシアノエチルプルランで
ある請求項１に記載のリソグラフイー用ペリクル。 - 【請求項３】多価アルコールがシアノエチルポリビニル
アルコールである請求項１に記載のリソグラフイー用ペ
リクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP586190A JP2865347B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | リソグラフィー用ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP586190A JP2865347B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | リソグラフィー用ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03210561A JPH03210561A (ja) | 1991-09-13 |
| JP2865347B2 true JP2865347B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=11622745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP586190A Expired - Lifetime JP2865347B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | リソグラフィー用ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2865347B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017187774A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
| JP2018049256A (ja) * | 2016-04-05 | 2018-03-29 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
-
1990
- 1990-01-12 JP JP586190A patent/JP2865347B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 今堀和友「生化学辞典」（昭５９−４−１０）東京化学同人 Ｐ．１０９７ |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017187774A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
| JP2018049256A (ja) * | 2016-04-05 | 2018-03-29 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
| JP2022010209A (ja) * | 2016-04-05 | 2022-01-14 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
| JP7125835B2 (ja) | 2016-04-05 | 2022-08-25 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03210561A (ja) | 1991-09-13 |
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