JP2559565B2 - アルコキシメチルエーテルおよびアルコキシメチルエステル誘導体 - Google Patents
アルコキシメチルエーテルおよびアルコキシメチルエステル誘導体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、グリセロールのアルコ
キシメチルエーテルおよびアルコキシメチルエステル並
びにその製法に関する。とりわけ、本発明は、９−(１,
３−ジヒドロキシ−２−プロポキシメチル)グアニンと
そのエステルおよびエーテルの製造のための中間体およ
び中間体の製法に関する。
キシメチルエーテルおよびアルコキシメチルエステル並
びにその製法に関する。とりわけ、本発明は、９−(１,
３−ジヒドロキシ−２−プロポキシメチル)グアニンと
そのエステルおよびエーテルの製造のための中間体およ
び中間体の製法に関する。
【０００２】
【従来技術】９−(１,３−ジヒドロキシ−２−プロポキ
シメチル)グアニン(以下ＤＨＰＧと略す)およびそのエ
ステルは、強力な抗ウイルス剤であり、米国特許第４,
３５５,０３２号および欧州特許出願第４９,０７２号、
第７２,０２７号ならびに第７４,３０６号に記載の製法
によって製造されている。同様の側鎖を有する同様の化
合物が、米国特許第４,３４７,３６０号および第４,１
９９,５７４号に記載されている。本発明は、新規中間
体、および現在使用されている他の製法よりも望ましく
ない副産物の生成が少なく工程数も少ない新規ＤＨＰＧ
エーテルまたはエステル側鎖中間体の改良製造法に関す
る。
シメチル)グアニン(以下ＤＨＰＧと略す)およびそのエ
ステルは、強力な抗ウイルス剤であり、米国特許第４,
３５５,０３２号および欧州特許出願第４９,０７２号、
第７２,０２７号ならびに第７４,３０６号に記載の製法
によって製造されている。同様の側鎖を有する同様の化
合物が、米国特許第４,３４７,３６０号および第４,１
９９,５７４号に記載されている。本発明は、新規中間
体、および現在使用されている他の製法よりも望ましく
ない副産物の生成が少なく工程数も少ない新規ＤＨＰＧ
エーテルまたはエステル側鎖中間体の改良製造法に関す
る。
【０００３】ＤＨＰＧとそのエーテルおよびエステルを
製造するための側鎖中間体は、これまで以下のような製
法によって製造されてきた: エピクロロヒドリンをベン
ジルアルコールと反応させて対称的に置換された１,３
−ジベンジルグリセロールを得、次いでそれをクロロメ
チル化する。そのクロロメチル化合物を酢酸エステルま
たはギ酸エステルに変え、次いでそれをグアニンの９位
に結合させる(米国特許第４,３５５,０３２号、特開昭
５７−２０３０８６号参照)。
製造するための側鎖中間体は、これまで以下のような製
法によって製造されてきた: エピクロロヒドリンをベン
ジルアルコールと反応させて対称的に置換された１,３
−ジベンジルグリセロールを得、次いでそれをクロロメ
チル化する。そのクロロメチル化合物を酢酸エステルま
たはギ酸エステルに変え、次いでそれをグアニンの９位
に結合させる(米国特許第４,３５５,０３２号、特開昭
５７−２０３０８６号参照)。
【０００４】別途合成法が米国特許第４,３４７,３６０
号に記載されており、それによると１,３−ジクロロ−
２−プロパノールをナトリウムベンジレートと反応させ
てクロロメトキシ誘導体を形成し、さらにそれをプリン
塩基と反応させる。第３の方法は、欧州特許出願第７
４,３０６号(１９８３年３月３日公告)に記載されてい
る。該特許出願によると、グリセロールホルマール(１,
３−ジオキサン−５−オールおよび１,３−ジオキソラ
ン−４−メタノール)を出発物質として側鎖を形成す
る。グリセロールホルマールをアシル化し、その混合物
を分離する。次いで、アシル化化合物をＺnＣｌ2存在下
に無水酢酸と反応させて、プリンと反応し得る化合物を
得る。
号に記載されており、それによると１,３−ジクロロ−
２−プロパノールをナトリウムベンジレートと反応させ
てクロロメトキシ誘導体を形成し、さらにそれをプリン
塩基と反応させる。第３の方法は、欧州特許出願第７
４,３０６号(１９８３年３月３日公告)に記載されてい
る。該特許出願によると、グリセロールホルマール(１,
３−ジオキサン−５−オールおよび１,３−ジオキソラ
ン−４−メタノール)を出発物質として側鎖を形成す
る。グリセロールホルマールをアシル化し、その混合物
を分離する。次いで、アシル化化合物をＺnＣｌ2存在下
に無水酢酸と反応させて、プリンと反応し得る化合物を
得る。
【０００５】これらの製法はすべて多工程製法であり、
複雑な分離および精製技術を要し、本発明の中間体が関
係しない。工程数が少なく、入手が容易な出発物質を使
用し、不要な異性体を生成せず、末端エステルの置換が
容易な製法が有利である。本発明は、これらの利点をす
べて提供する。とりわけ、本発明の中間体および製法を
使用して、ＤＨＰＧとその種々の１,３−ジ−エステル
および１,３−ジ−エーテルを容易に製造し得る。
複雑な分離および精製技術を要し、本発明の中間体が関
係しない。工程数が少なく、入手が容易な出発物質を使
用し、不要な異性体を生成せず、末端エステルの置換が
容易な製法が有利である。本発明は、これらの利点をす
べて提供する。とりわけ、本発明の中間体および製法を
使用して、ＤＨＰＧとその種々の１,３−ジ−エステル
および１,３−ジ−エーテルを容易に製造し得る。
【０００６】
【発明の構成】本発明は、一般式(Ｃ):
【化８】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は、水素、低級アルキル、アシ
ル、１−アダマントイル、フェニルまたはフェニル低級
アルキル（但し、ベンジルを除く）から成る群から選択
される基で、これらの基のうちアルキル基またはフェニ
ル基部分は、所望によりハロゲン原子、低級アルキル
基、またはフェニル基で置換されていてもよく、Ｒ
7は、Ｒ4Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ2−またはＲ6ＯＣＨ2−、ただし
Ｒ4およびＲ6は所望によりハロゲン原子、低級アルキル
基、またはフェニル基で置換された低級アルキルであ
る。但し、Ｒ4がメチルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方
ともアシルまたは低級アルキルであることはできず、ま
たＲ4がエチルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方とも低級
アルキルであることはできない。]で示される化合物の
製法であって、一般式(Ｄ):
ル、１−アダマントイル、フェニルまたはフェニル低級
アルキル（但し、ベンジルを除く）から成る群から選択
される基で、これらの基のうちアルキル基またはフェニ
ル基部分は、所望によりハロゲン原子、低級アルキル
基、またはフェニル基で置換されていてもよく、Ｒ
7は、Ｒ4Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ2−またはＲ6ＯＣＨ2−、ただし
Ｒ4およびＲ6は所望によりハロゲン原子、低級アルキル
基、またはフェニル基で置換された低級アルキルであ
る。但し、Ｒ4がメチルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方
ともアシルまたは低級アルキルであることはできず、ま
たＲ4がエチルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方とも低級
アルキルであることはできない。]で示される化合物の
製法であって、一般式(Ｄ):
【化９】 ［式中、Ｒ4およびＲ6は前記の通りである。]で示され
る化合物を、一般式(Ｅ):
る化合物を、一般式(Ｅ):
【化１０】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は前記の通りである。]で示され
る化合物と、プロトン性酸の存在下に反応させることを
含んで成る製法を提供する。
る化合物と、プロトン性酸の存在下に反応させることを
含んで成る製法を提供する。
【０００７】さらに本発明は、一般式(Ａ):
【化１１】 ［式中、Ｒ1、Ｒ3およびＲ4は前記の通りである。]で示
される化合物の製法であって、一般式(Ｂ):
される化合物の製法であって、一般式(Ｂ):
【化１２】 ［式中、Ｒ4は、互いに独立して前記群から選択される
基である。]で示される化合物を、一般式(Ｃ′):
基である。]で示される化合物を、一般式(Ｃ′):
【化１３】 [式中、Ｒ1、Ｒ3およびＲ6は前記の通りである。]で示
される化合物と、触媒量のルイス酸の存在下、一般式
(Ａ)で示される化合物を形成するのに十分な時間反応さ
せることを含んで成る製法をも提供する。
される化合物と、触媒量のルイス酸の存在下、一般式
(Ａ)で示される化合物を形成するのに十分な時間反応さ
せることを含んで成る製法をも提供する。
【０００８】本発明は、一般式(Ａ):
【化１４】 ［式中、Ｒ1、Ｒ3およびＲ4は前記の通りである。]で示
される、ＤＨＰＧとその種々の１,３−ジエステルおよ
び１,３−ジ−エーテル製法の中間体として有用な化合
物をも提供する。
される、ＤＨＰＧとその種々の１,３−ジエステルおよ
び１,３−ジ−エーテル製法の中間体として有用な化合
物をも提供する。
【０００９】さらに本発明は、一般式(Ｃ′):
【化１５】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は、前記の通りであり、Ｒ6は所
望によりハロゲン原子、低級アルキル基またはフェニル
基で置換された低級アルキルである。]で示される本発
明の製法の中間体として有用な化合物をも提供する。
望によりハロゲン原子、低級アルキル基またはフェニル
基で置換された低級アルキルである。]で示される本発
明の製法の中間体として有用な化合物をも提供する。
【００１０】本明細書中で使用する用語の意味は、特に
記載がない限り以下の通りである。「低級アルキル」は、
炭素原子数１〜４の直鎖または分枝状の炭化水素鎖、例
えばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチ
ル、t−ブチルなどを含む。「所望により置換されたグ
アニン」とは、所望により２位のアミノ基および９位の
窒素原子がアシル基および／または（アルキル）3Ｓi基
で置換されていてもよいグアニン分子をさす。「アシル」
は、アルキル鎖に炭素原子を４〜２０個有し所望により
置換されたアルキル−Ｃ(Ｏ)−、所望により置換された
フェニル−Ｃ(Ｏ)−または所望により置換されたアルキ
ルフェニル−Ｃ(Ｏ)−(この場合の置換はフェニル環上
における置換である)を含む。アシル基には、例えばn−
ヘキサノイル、n−ヘプタノイル、パルミトイル、ステ
ラカノイル(ステアロイル)、アラキドイル、ピバロイ
ル、１−メチル−１−シクロヘキサン−カルボキソイ
ル、２−オクチル−デカノイル、ベンゾイル、p−クロ
ロベンゾイル、トルオイル、フェニルアセチル、３−フ
ェニルプロパノイルおよび４−フェニルブタノイルが含
まれる。
記載がない限り以下の通りである。「低級アルキル」は、
炭素原子数１〜４の直鎖または分枝状の炭化水素鎖、例
えばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチ
ル、t−ブチルなどを含む。「所望により置換されたグ
アニン」とは、所望により２位のアミノ基および９位の
窒素原子がアシル基および／または（アルキル）3Ｓi基
で置換されていてもよいグアニン分子をさす。「アシル」
は、アルキル鎖に炭素原子を４〜２０個有し所望により
置換されたアルキル−Ｃ(Ｏ)−、所望により置換された
フェニル−Ｃ(Ｏ)−または所望により置換されたアルキ
ルフェニル−Ｃ(Ｏ)−(この場合の置換はフェニル環上
における置換である)を含む。アシル基には、例えばn−
ヘキサノイル、n−ヘプタノイル、パルミトイル、ステ
ラカノイル(ステアロイル)、アラキドイル、ピバロイ
ル、１−メチル−１−シクロヘキサン−カルボキソイ
ル、２−オクチル−デカノイル、ベンゾイル、p−クロ
ロベンゾイル、トルオイル、フェニルアセチル、３−フ
ェニルプロパノイルおよび４−フェニルブタノイルが含
まれる。
【００１１】「ピバリン酸」は、２,２−ジメチルプロピ
オン酸である。「１−アダマントイル」は、以下に示す構
造を有する基をさす。
オン酸である。「１−アダマントイル」は、以下に示す構
造を有する基をさす。
【化１６】 アルキルフェニルは、前記アルキル鎖で置換されたフェ
ニル基をさす。「水素供与体」とは、活性水素源として使
用し得る物質をさす。水素供与体の例としては、水素ガ
ス、シクロヘキセン、１,４−シクロヘキサジエンなど
がある。水素供与体と共に触媒を使用し得る場合があ
り、例えば、白金、パラジウムおよびロジウムのような
貴金属を微粉化金属として、もしくは、炭素、アルミナ
またはシリカのような通常の触媒担体に支持された金属
として使用し得る。 「酸」は、ピバリン(酸)のような特
定名称の酸で修飾されもしくはプロトン性(酸)またはル
イス(酸)のような名称で修飾されて使用される。
ニル基をさす。「水素供与体」とは、活性水素源として使
用し得る物質をさす。水素供与体の例としては、水素ガ
ス、シクロヘキセン、１,４−シクロヘキサジエンなど
がある。水素供与体と共に触媒を使用し得る場合があ
り、例えば、白金、パラジウムおよびロジウムのような
貴金属を微粉化金属として、もしくは、炭素、アルミナ
またはシリカのような通常の触媒担体に支持された金属
として使用し得る。 「酸」は、ピバリン(酸)のような特
定名称の酸で修飾されもしくはプロトン性(酸)またはル
イス(酸)のような名称で修飾されて使用される。
【００１２】「ルイス酸」とは、分離可能な(供与性)プロ
トンを有しない酸をさす。ルイス酸には、例えばＢe(Ｃ
Ｈ3)2、ＢＦ3、Ｂ(Ｏ−アルキル)3、Ａｌ(ＣＨ3)、Ａｌ
(Ｃｌ)3、Ｆe3+、Ｍg2+、Ｃa2+、Ｃu+、ＴiＣｌ4、Ｈg
2+、Ｃo2+、Ｆe2+、Ｚn2+などが含まれる。ルイス酸の
例は、ケミカル・レビューズ(Ｃhem．Ｒev．)、７５、
１、(１９７５)、２頁に広範に記載されている。「プロ
トン性酸」は、pＫaが２.０以下、好ましくは１.０以下
で、分離可能な(供与性)プロトンを有するブレンステッ
ド酸を含む。プロトン性酸には、例えば、硝酸、硫酸、
リン酸、ハロゲン化水素(例えば塩酸)のような無機酸;
トリフルオロ酢酸、有機スルホン酸(例えばフェニルス
ルホン酸、特に好ましくはp−トルエンスルホン酸)のよ
うな有機酸; およびアンバーリスト(Ａmberlyst)(ロー
ム・アンド・ハース(Ｒohm and Ｈaas)社製、商標)の
ような酸性樹脂が含まれる。
トンを有しない酸をさす。ルイス酸には、例えばＢe(Ｃ
Ｈ3)2、ＢＦ3、Ｂ(Ｏ−アルキル)3、Ａｌ(ＣＨ3)、Ａｌ
(Ｃｌ)3、Ｆe3+、Ｍg2+、Ｃa2+、Ｃu+、ＴiＣｌ4、Ｈg
2+、Ｃo2+、Ｆe2+、Ｚn2+などが含まれる。ルイス酸の
例は、ケミカル・レビューズ(Ｃhem．Ｒev．)、７５、
１、(１９７５)、２頁に広範に記載されている。「プロ
トン性酸」は、pＫaが２.０以下、好ましくは１.０以下
で、分離可能な(供与性)プロトンを有するブレンステッ
ド酸を含む。プロトン性酸には、例えば、硝酸、硫酸、
リン酸、ハロゲン化水素(例えば塩酸)のような無機酸;
トリフルオロ酢酸、有機スルホン酸(例えばフェニルス
ルホン酸、特に好ましくはp−トルエンスルホン酸)のよ
うな有機酸; およびアンバーリスト(Ａmberlyst)(ロー
ム・アンド・ハース(Ｒohm and Ｈaas)社製、商標)の
ような酸性樹脂が含まれる。
【００１３】「保護基」とは、化合物の官能性を保護し
得、加水分解または水素化等によって除き得る基をさ
す。本発明に有用な保護基の例としては、立体障害基
(立体障害基とは、かさ高いために、問題の化学反応を
障害または阻害する特定の原子団をさす)、ベンジルも
しくは所望により置換されたベンジルもしくはアルキル
基または一般式: Ｒ3Ｓi(Ｒ2)− で示される立体障害シリル基が挙げられる。「アルコキ
シメチルエーテル」は、一般式: Ａ−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−Ｂ [式中、ＡおよびＢは、所望により置換された低級アル
キル基である。]で示される化合物を含む。
得、加水分解または水素化等によって除き得る基をさ
す。本発明に有用な保護基の例としては、立体障害基
(立体障害基とは、かさ高いために、問題の化学反応を
障害または阻害する特定の原子団をさす)、ベンジルも
しくは所望により置換されたベンジルもしくはアルキル
基または一般式: Ｒ3Ｓi(Ｒ2)− で示される立体障害シリル基が挙げられる。「アルコキ
シメチルエーテル」は、一般式: Ａ−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−Ｂ [式中、ＡおよびＢは、所望により置換された低級アル
キル基である。]で示される化合物を含む。
【００１４】本発明の一製法を、反応式Iに示す。
【化１７】 ［式中、記号は前記と同一の意味を表す。］
【００１５】出発物質製造反応Ａにおいて、プロトン性
酸触媒の存在下、ジアルコキシメタン化合物(Ｆ)をカル
ボン酸無水物(Ｇ)と反応させる。触媒量のプロトン性酸
(例えばp−トルエンスルホン酸のような有機スルホン
酸)または触媒量の無機酸(例えば塩酸または硫酸)の存
在下、２種の反応物質を約１:１のモル比で使用する。
反応は、ベンゼンのような非プロトン性炭化水素溶媒中
でまたは溶媒無しに、通例溶液の還流温度で行い得る。
溶液を１〜１２時間、通例６時間反応させる。(ザ・ジ
ャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィ(Ｊ．Ａm．Ｃem．Ｓoc．)、７６、５１６１頁、(１９
５４)に記載の方法を参照。)
酸触媒の存在下、ジアルコキシメタン化合物(Ｆ)をカル
ボン酸無水物(Ｇ)と反応させる。触媒量のプロトン性酸
(例えばp−トルエンスルホン酸のような有機スルホン
酸)または触媒量の無機酸(例えば塩酸または硫酸)の存
在下、２種の反応物質を約１:１のモル比で使用する。
反応は、ベンゼンのような非プロトン性炭化水素溶媒中
でまたは溶媒無しに、通例溶液の還流温度で行い得る。
溶液を１〜１２時間、通例６時間反応させる。(ザ・ジ
ャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィ(Ｊ．Ａm．Ｃem．Ｓoc．)、７６、５１６１頁、(１９
５４)に記載の方法を参照。)
【００１６】対称性のある試薬を使用すると生成し得る
生成物の数が激減するので、カルボン酸無水物およびジ
アルコキシメタンは対称性であることが好ましい。もち
ろん、非対称カルボン酸無水物または非対称アルコキシ
メタンもこの製法において互いに反応し得る。非対称カ
ルボン酸無水物が、生成し得る生成物の１種に選択的で
ある場合もあり得る。１,３−ジアルカノイルグリセロ
ール化合物等(Ｅ)は、２方法のうちいずれかの方法で合
成し得る。非プロトン性溶媒中、有機塩基(例えばトリ
アルキルアミン)および求核性触媒(例えばピリジン)の
存在下に、グリセロールを、２当量よりわずかに過量の
酸クロリドまたは酸無水物で処理することによって１,
３−ジアルカノイルグリセロール化合物Ｅが得られる。
生成物の数が激減するので、カルボン酸無水物およびジ
アルコキシメタンは対称性であることが好ましい。もち
ろん、非対称カルボン酸無水物または非対称アルコキシ
メタンもこの製法において互いに反応し得る。非対称カ
ルボン酸無水物が、生成し得る生成物の１種に選択的で
ある場合もあり得る。１,３−ジアルカノイルグリセロ
ール化合物等(Ｅ)は、２方法のうちいずれかの方法で合
成し得る。非プロトン性溶媒中、有機塩基(例えばトリ
アルキルアミン)および求核性触媒(例えばピリジン)の
存在下に、グリセロールを、２当量よりわずかに過量の
酸クロリドまたは酸無水物で処理することによって１,
３−ジアルカノイルグリセロール化合物Ｅが得られる。
【００１７】また、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニッ
ク・ケミストリー(Ｊ．Ｏrg．Ｃhem．)、３５、２０８
２、(１９７０)に記載の方法によってジヒドロキシアセ
トンから化合物(Ｅ)を合成することもできる。ピリジン
中、ジヒドロキシアセトンを対応する脂肪酸クロリド当
量で処理し、次いで中心のケト基をテトラヒドロフラン
中、ボロハイドライドで還元することによって１,３−
ジアルカノイルグリセロール化合物(Ｅ)が得られる。
ク・ケミストリー(Ｊ．Ｏrg．Ｃhem．)、３５、２０８
２、(１９７０)に記載の方法によってジヒドロキシアセ
トンから化合物(Ｅ)を合成することもできる。ピリジン
中、ジヒドロキシアセトンを対応する脂肪酸クロリド当
量で処理し、次いで中心のケト基をテトラヒドロフラン
中、ボロハイドライドで還元することによって１,３−
ジアルカノイルグリセロール化合物(Ｅ)が得られる。
【００１８】目的物製造反応Ｂにおいて、プロトン性酸
触媒(例えば、p−トルエンスルホン酸のような有機スル
ホン酸)または触媒量の無機酸(例えば塩酸または硫酸)
の存在下、化合物(Ｄ)および化合物(Ｅ)を互いに反応さ
せて混合物(化合物(Ｃ))を得る。この混合物は、化合物
Ａおよび化合物(Ｃ')から成る。化合物(Ｄ)および化合
物(Ｅ)を、触媒量のプロトン性酸触媒の存在下、溶媒を
用いずに混合する。化合物(Ｄ)を過剰に使用すると、過
剰分が反応溶媒として有用であるので好ましい。反応物
質を加熱しなくても混合し得るが、加熱により反応速度
を高めることができる。反応Ｂは発熱反応であってよ
く、反応が終わると温度が室温に低下する。反応には１
〜６時間を要し、通例約２時間で反応が完了する。
触媒(例えば、p−トルエンスルホン酸のような有機スル
ホン酸)または触媒量の無機酸(例えば塩酸または硫酸)
の存在下、化合物(Ｄ)および化合物(Ｅ)を互いに反応さ
せて混合物(化合物(Ｃ))を得る。この混合物は、化合物
Ａおよび化合物(Ｃ')から成る。化合物(Ｄ)および化合
物(Ｅ)を、触媒量のプロトン性酸触媒の存在下、溶媒を
用いずに混合する。化合物(Ｄ)を過剰に使用すると、過
剰分が反応溶媒として有用であるので好ましい。反応物
質を加熱しなくても混合し得るが、加熱により反応速度
を高めることができる。反応Ｂは発熱反応であってよ
く、反応が終わると温度が室温に低下する。反応には１
〜６時間を要し、通例約２時間で反応が完了する。
【００１９】混合物(化合物(Ｃ))は、出発物質に大きく
依存して変る。例えば、Ｒ1およびＲ3がベンジルであれ
ば、反応Ｂによって化合物(Ａ)が主に生成するが、Ｒ1
およびＲ3がピバロイルであれば、反応Ｂによって化合
物(Ｃ')が主に生成する。反応Ｂの生成物が化合物(Ａ)
であれば、反応Ｃを省いてよい。そうでなければ、化合
物を反応Ｃに従って反応させる。次いで、反応Ｃにおい
て、アルキル酸無水物およびルイス酸触媒の存在下、化
合物(Ｃ)の混合物をさらに反応させる。生成し得る生成
物の数を減らすために、この反応に使用する酸無水物は
対称型酸無水物であることが好ましいが、このことはこ
の反応の必要条件ではない。
依存して変る。例えば、Ｒ1およびＲ3がベンジルであれ
ば、反応Ｂによって化合物(Ａ)が主に生成するが、Ｒ1
およびＲ3がピバロイルであれば、反応Ｂによって化合
物(Ｃ')が主に生成する。反応Ｂの生成物が化合物(Ａ)
であれば、反応Ｃを省いてよい。そうでなければ、化合
物を反応Ｃに従って反応させる。次いで、反応Ｃにおい
て、アルキル酸無水物およびルイス酸触媒の存在下、化
合物(Ｃ)の混合物をさらに反応させる。生成し得る生成
物の数を減らすために、この反応に使用する酸無水物は
対称型酸無水物であることが好ましいが、このことはこ
の反応の必要条件ではない。
【００２０】触媒酸は、好ましくは非プロトン性ルイス
酸触媒、例えば三フッ化ホウ素または塩化アルミニウム
である。反応温度が室温から約５０℃に上昇すると温度
調節を行う。通例、反応温度を約４５〜６０℃、好まし
くは約５０〜６０℃に保つ。反応が進行すると、通例薄
層クロマトグラフィー(ＴＬＣ)を行って反応量を調べ
る。通例、６０〜１８０分後に反応が完了する。反応混
合物を有機溶媒で抽出し、炭酸ナトリウムおよび水で洗
う。次いで有機層を乾燥し、溶媒を蒸発させて目的の化
合物（Ａ）を得る。
酸触媒、例えば三フッ化ホウ素または塩化アルミニウム
である。反応温度が室温から約５０℃に上昇すると温度
調節を行う。通例、反応温度を約４５〜６０℃、好まし
くは約５０〜６０℃に保つ。反応が進行すると、通例薄
層クロマトグラフィー(ＴＬＣ)を行って反応量を調べ
る。通例、６０〜１８０分後に反応が完了する。反応混
合物を有機溶媒で抽出し、炭酸ナトリウムおよび水で洗
う。次いで有機層を乾燥し、溶媒を蒸発させて目的の化
合物（Ａ）を得る。
【００２１】得られた化合物(Ａ)から、下記反応式IIお
よびIIIに従って、グアニン化合物と反応させることに
より、ＤＨＰＧのエステルもしくはエーテルまたはＤＨ
ＰＧ自体を容易に得ることができる。
よびIIIに従って、グアニン化合物と反応させることに
より、ＤＨＰＧのエステルもしくはエーテルまたはＤＨ
ＰＧ自体を容易に得ることができる。
【化１８】
【００２２】例えばチド(Ｔshido)ら、ブリティン・オ
ブ・ザ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Ｂul
l．Ｃhem．Ｓoc．Ｊapan)、３７、１３８９、(１９６
４)に記載の製法によって製造した、保護基を有するグ
アニン化合物(Ｈ)を、反応式Iで示される反応によって
得られた化合物(Ａ)と反応させる。Ｒ5はアシルまたは
水素であり、アシルの場合はＲ5が保護しているグアニ
ンの窒素原子と共に、好ましくは低級アルカン酸のモノ
アミド、例えばアセタミドまたはプロピオンアミドを形
成する。減圧下、高温で、酸性触媒(例えばp−トルエン
スルホン酸)の存在下に反応を行う。反応の結果、ＤＨ
ＰＧ誘導体化合物(Ｊ)(ただし、Ｒ1およびＲ3は前記の
通りである)が得られる。エステルまたはエーテル誘導
体、例えばジピバロイルＤＨＰＧまたはジアダマントイ
ルＤＨＰＧが直接有用である場合は、Ｒ 5が水素であれ
ばさらに反応を行う必要がない。Ｒ5がアシルの場合
は、化合物(Ｊ)を例えばメタノール性アンモニアと反応
させてＤＨＰＧのエステルまたはエーテルを製造し得
る。ＤＨＰＧが所望の場合は、化合物(Ｊ)を例えば水酸
化アンモニウムおよび水の混合物と反応させることによ
って保護基(Ｒ1、Ｒ3およびＲ5)を除き、ＤＨＰＧを得
ることができる。
ブ・ザ・ケミカル・ソサエティ・オブ・ジャパン(Ｂul
l．Ｃhem．Ｓoc．Ｊapan)、３７、１３８９、(１９６
４)に記載の製法によって製造した、保護基を有するグ
アニン化合物(Ｈ)を、反応式Iで示される反応によって
得られた化合物(Ａ)と反応させる。Ｒ5はアシルまたは
水素であり、アシルの場合はＲ5が保護しているグアニ
ンの窒素原子と共に、好ましくは低級アルカン酸のモノ
アミド、例えばアセタミドまたはプロピオンアミドを形
成する。減圧下、高温で、酸性触媒(例えばp−トルエン
スルホン酸)の存在下に反応を行う。反応の結果、ＤＨ
ＰＧ誘導体化合物(Ｊ)(ただし、Ｒ1およびＲ3は前記の
通りである)が得られる。エステルまたはエーテル誘導
体、例えばジピバロイルＤＨＰＧまたはジアダマントイ
ルＤＨＰＧが直接有用である場合は、Ｒ 5が水素であれ
ばさらに反応を行う必要がない。Ｒ5がアシルの場合
は、化合物(Ｊ)を例えばメタノール性アンモニアと反応
させてＤＨＰＧのエステルまたはエーテルを製造し得
る。ＤＨＰＧが所望の場合は、化合物(Ｊ)を例えば水酸
化アンモニウムおよび水の混合物と反応させることによ
って保護基(Ｒ1、Ｒ3およびＲ5)を除き、ＤＨＰＧを得
ることができる。
【００２３】
【化１９】
【００２４】また、化合物(Ａ)を、トリアルキルシリル
基で保護されたグアニン化合物と直接反応させてＤＨＰ
Ｇエステルまたエーテルを得ることもできる。この場
合、所望により置換されたグアニン化合物を、反応式II
Iに従ってヘキサ−低級アルキルジシラザン(例えばヘキ
サメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザンなど)３
モル当量以上および触媒と共に、非プロトン性炭化水素
溶媒(例えばトルエンまたはキシレンなど)中で加熱す
る。触媒は、トリアルキルシリルスルフェート、クロロ
シラン、硫酸アンモニウムおよびピリジンから成る群か
ら選択する。得られた溶液から、揮発物(この容積は炭
化水素溶媒の容積に当たる)を減圧蒸留によって除去す
る。次いで化合物Ａを加え、混合物を室温よりも高温に
加熱し、混合物のＴＬＣ分析によって化合物(Ａ)の消費
およびＤＨＰＧエステルまたはエーテル(化合物(Ｊ))の
生成が示されると加熱をやめる。次いで、すべてのトリ
メチルシリル基を除くために、例えば低級アルキルアル
コール(例えばメタノール、エタノールまたはi−プロパ
ノール)との加熱によって反応混合物を処理するとＤＨ
ＰＧエステルまたはエーテルが得られ、これを標準的な
方法で精製し得る。Ｒ5がアシルの場合、次いで例えば
メタノール性アンモニアを用いてＲ5を除去し、ＤＨＰ
Ｇエステルまたはエーテルを得ることができる。ＤＨＰ
Ｇが所望の場合は、化合物(Ｊ)を例えば水酸化アンモニ
ウムおよび水の混合物と反応させることによって保護基
(Ｒ1、Ｒ3およびＲ5)を除き、ＤＨＰＧを得ることがで
きる。
基で保護されたグアニン化合物と直接反応させてＤＨＰ
Ｇエステルまたエーテルを得ることもできる。この場
合、所望により置換されたグアニン化合物を、反応式II
Iに従ってヘキサ−低級アルキルジシラザン(例えばヘキ
サメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザンなど)３
モル当量以上および触媒と共に、非プロトン性炭化水素
溶媒(例えばトルエンまたはキシレンなど)中で加熱す
る。触媒は、トリアルキルシリルスルフェート、クロロ
シラン、硫酸アンモニウムおよびピリジンから成る群か
ら選択する。得られた溶液から、揮発物(この容積は炭
化水素溶媒の容積に当たる)を減圧蒸留によって除去す
る。次いで化合物Ａを加え、混合物を室温よりも高温に
加熱し、混合物のＴＬＣ分析によって化合物(Ａ)の消費
およびＤＨＰＧエステルまたはエーテル(化合物(Ｊ))の
生成が示されると加熱をやめる。次いで、すべてのトリ
メチルシリル基を除くために、例えば低級アルキルアル
コール(例えばメタノール、エタノールまたはi−プロパ
ノール)との加熱によって反応混合物を処理するとＤＨ
ＰＧエステルまたはエーテルが得られ、これを標準的な
方法で精製し得る。Ｒ5がアシルの場合、次いで例えば
メタノール性アンモニアを用いてＲ5を除去し、ＤＨＰ
Ｇエステルまたはエーテルを得ることができる。ＤＨＰ
Ｇが所望の場合は、化合物(Ｊ)を例えば水酸化アンモニ
ウムおよび水の混合物と反応させることによって保護基
(Ｒ1、Ｒ3およびＲ5)を除き、ＤＨＰＧを得ることがで
きる。
【００２５】
【実施例】以下の実施例で本発明をさらに詳しく説明す
るが、実施例は本発明を制限するものではない。参考例１ １,３−ジ(１−アダマントイル)グリセロール 窒素雰囲気中、フラスコ内でグリセロール１.０５３ｇ
をピリジン４ｍｌおよび塩化メチレン６ｍｌに溶解し、
約−１０℃に冷却する。次いで、(１−アダマントイル)
−クロリド(アルドリッヒ・ケミカル社(Ａldrich Ｃhe
mical Ｃo．)製)５.００ｇを一度に加え、約半時間冷
却しながら撹拌を続け、さらに室温で２時間撹拌する。
生成した固体を濾過し、塩化メチレンで洗う。有機層を
希塩酸で２回、次いで水で１回洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥させる。１,３−ジ(１−アダマンタノイル)グリ
セロールが、油状物として単離される。 収量 ６９％ プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.５−２.２(m、３０Ｈ);2.３−２.７(br．s、１Ｈ);
４.１−４.３(m、５Ｈ)。
るが、実施例は本発明を制限するものではない。参考例１ １,３−ジ(１−アダマントイル)グリセロール 窒素雰囲気中、フラスコ内でグリセロール１.０５３ｇ
をピリジン４ｍｌおよび塩化メチレン６ｍｌに溶解し、
約−１０℃に冷却する。次いで、(１−アダマントイル)
−クロリド(アルドリッヒ・ケミカル社(Ａldrich Ｃhe
mical Ｃo．)製)５.００ｇを一度に加え、約半時間冷
却しながら撹拌を続け、さらに室温で２時間撹拌する。
生成した固体を濾過し、塩化メチレンで洗う。有機層を
希塩酸で２回、次いで水で１回洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥させる。１,３−ジ(１−アダマンタノイル)グリ
セロールが、油状物として単離される。 収量 ６９％ プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.５−２.２(m、３０Ｈ);2.３−２.７(br．s、１Ｈ);
４.１−４.３(m、５Ｈ)。
【００２６】(１−アダマントイル)クロリドの代わりに
他の適当な化合物を用いて同様の方法を行った結果、以
下の化合物が得られた: １,３−ジ−ベンゾイルグリセロール; 収量 ５０％、ＮＭＲ、４.５ppm（complex，５Ｈ），
７.５（complex，６Ｈ）,８.０（multiplet，４Ｈ）、 １,３−ジ−ピバロイルグリセロール; 収量 ７０％、ＮＭＲ、１.７ppm（ｓ，１８Ｈ），３.
２（ｓ，６１）,４.１（complex，５Ｈ）、 １,３−ジ−ブタノイルグリセロール;１,３−ジ−s−ブ
タノイルグリセロール;１,３−ジ−t−ブタノイルグリ
セロール;１,３−ジ−プロパノイルグリセロール;１,３
−ジ−ヘキサノイルグリセロール;１,３−ジ−ヘプタノ
イルグリセロール;１,３−ジ−オクタノイルグリセロー
ル;１,３−ジ−ノナノイルグリセロール;１,３−ジ−デ
カノイルグリセロール;１,３−ジ−ウンデカノイルグリ
セロール;１,３−ジ−ドデカノイルグリセロール;１,３
−ジ−トリデカノイルグリセロール;１,３−ジ−テトラ
デカノイルグリセロール;１,３−ジ−ペンタデカノイル
グリセロール;１,３−ジ−ヘキサデカノイルグリセロー
ル;１,３−ジ−ヘプタデカノイルグリセロール;１,３−
ジ−オクタデカノイルグリセロール;１,３−ジ−ノナデ
カノイルグリセロール;1,３−ジ−エイコサノイルグリ
セロール;１,３−ジ−p-クロロベンゾイルグリセロー
ル;１,３−ジ−o-クロロベンゾイルグリセロール;１,３
−ジ−m-クロロベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−p-
ブロモベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−o-ブロモベ
ンゾイルグリセロール;１,３−ジ−m-ブロモベンゾイル
グリセロール;１,３−ジ−p-フルオロベンゾイルグリセ
ロール;１,３−ジ−o-フルオロベンゾイルグリセロー
ル;１,３−ジ−m-フルオロベンゾイルグリセロール;１,
３−ジ−p-ヨードベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−
o-ヨードベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−m-ヨード
ベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−トルオイルグリセ
ロール;１,３−ジ−フェニルアセチルグリセロール;１,
３−ジ−３−フェニルプロパノイルグリセロール;１,３
−ジ−４−フェニルブタノイルグリセロール。１,３−
ジ−アルキルグリセロールは、米国特許第４,３５５,０
３２号に記載の方法に従って合成し得る。
他の適当な化合物を用いて同様の方法を行った結果、以
下の化合物が得られた: １,３−ジ−ベンゾイルグリセロール; 収量 ５０％、ＮＭＲ、４.５ppm（complex，５Ｈ），
７.５（complex，６Ｈ）,８.０（multiplet，４Ｈ）、 １,３−ジ−ピバロイルグリセロール; 収量 ７０％、ＮＭＲ、１.７ppm（ｓ，１８Ｈ），３.
２（ｓ，６１）,４.１（complex，５Ｈ）、 １,３−ジ−ブタノイルグリセロール;１,３−ジ−s−ブ
タノイルグリセロール;１,３−ジ−t−ブタノイルグリ
セロール;１,３−ジ−プロパノイルグリセロール;１,３
−ジ−ヘキサノイルグリセロール;１,３−ジ−ヘプタノ
イルグリセロール;１,３−ジ−オクタノイルグリセロー
ル;１,３−ジ−ノナノイルグリセロール;１,３−ジ−デ
カノイルグリセロール;１,３−ジ−ウンデカノイルグリ
セロール;１,３−ジ−ドデカノイルグリセロール;１,３
−ジ−トリデカノイルグリセロール;１,３−ジ−テトラ
デカノイルグリセロール;１,３−ジ−ペンタデカノイル
グリセロール;１,３−ジ−ヘキサデカノイルグリセロー
ル;１,３−ジ−ヘプタデカノイルグリセロール;１,３−
ジ−オクタデカノイルグリセロール;１,３−ジ−ノナデ
カノイルグリセロール;1,３−ジ−エイコサノイルグリ
セロール;１,３−ジ−p-クロロベンゾイルグリセロー
ル;１,３−ジ−o-クロロベンゾイルグリセロール;１,３
−ジ−m-クロロベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−p-
ブロモベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−o-ブロモベ
ンゾイルグリセロール;１,３−ジ−m-ブロモベンゾイル
グリセロール;１,３−ジ−p-フルオロベンゾイルグリセ
ロール;１,３−ジ−o-フルオロベンゾイルグリセロー
ル;１,３−ジ−m-フルオロベンゾイルグリセロール;１,
３−ジ−p-ヨードベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−
o-ヨードベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−m-ヨード
ベンゾイルグリセロール;１,３−ジ−トルオイルグリセ
ロール;１,３−ジ−フェニルアセチルグリセロール;１,
３−ジ−３−フェニルプロパノイルグリセロール;１,３
−ジ−４−フェニルブタノイルグリセロール。１,３−
ジ−アルキルグリセロールは、米国特許第４,３５５,０
３２号に記載の方法に従って合成し得る。
【００２７】実施例１ １,３−ジ−イソプロピル−２−プロパノイルオキシメ
チルグリセロール 磁気撹拌機および温度計を付設した２ｌ丸底フラスコ内
で、１,３−ジ−イソプロピルグリセロール１５４ｇお
よびメトキシメチルプロピオネート６１６ｍｌ＋p−ト
ルエンスルホン酸９.９８ｇを混合した。１０分間で温
度が６℃上昇した。次いで、温度を室温に戻して一定に
した。４５分後の反応物質のＴＬＣ分析(酢酸エチル２
５％／ヘキサン７５％、rf＝０.６９、シリカ)による
と、アルコール出発物質はほぼ完全に消費されていた。
有機層としてヘキサン５００ｍｌの入った分液漏斗に
反応混合物を加え、次いで、有機層を水５００ｍｌで洗
い、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回洗い、最後に水
５００ｍｌで洗った。次いで、有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、回転蒸発器内でストリッピングし、
１,３−ジ−イソプロピル−２−プロパノイルオキシメ
チルグリセロールを単離した。
チルグリセロール 磁気撹拌機および温度計を付設した２ｌ丸底フラスコ内
で、１,３−ジ−イソプロピルグリセロール１５４ｇお
よびメトキシメチルプロピオネート６１６ｍｌ＋p−ト
ルエンスルホン酸９.９８ｇを混合した。１０分間で温
度が６℃上昇した。次いで、温度を室温に戻して一定に
した。４５分後の反応物質のＴＬＣ分析(酢酸エチル２
５％／ヘキサン７５％、rf＝０.６９、シリカ)による
と、アルコール出発物質はほぼ完全に消費されていた。
有機層としてヘキサン５００ｍｌの入った分液漏斗に
反応混合物を加え、次いで、有機層を水５００ｍｌで洗
い、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回洗い、最後に水
５００ｍｌで洗った。次いで、有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させ、回転蒸発器内でストリッピングし、
１,３−ジ−イソプロピル−２−プロパノイルオキシメ
チルグリセロールを単離した。
【００２８】プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.１(複合、９Ｈ);２.３(q、２Ｈ);３.４−４.０(複
合、７Ｈ);５.２(s、２Ｈ)。
合、７Ｈ);５.２(s、２Ｈ)。
【００２９】参考例１の適当な化合物を用いて、同様に
して以下の化合物を合成した: １,３−ジ−メチル−２−プロパノイルオキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−エチル−２−プロパノイルオキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−プロピル−２−プロ
パノイルオキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ブチル
−２−プロパノイルオキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−s−ブチル−２−プロパノイルオキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−t−ブチル−２−プロパノイルオキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−フェニル−２−プロ
パノイルオキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ベンジ
ル−２−プロパノイルオキシメチルグリセロール 収量７４％、ＮＭＲ、１.１ppm（ｔ，３Ｈ），２.２（q
uartet，２Ｈ），３.６（ｄ，４Ｈ），４.５（ｓ，４
Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），７.７(ｓ，１０Ｈ）。
して以下の化合物を合成した: １,３−ジ−メチル−２−プロパノイルオキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−エチル−２−プロパノイルオキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−プロピル−２−プロ
パノイルオキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ブチル
−２−プロパノイルオキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−s−ブチル−２−プロパノイルオキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−t−ブチル−２−プロパノイルオキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−フェニル−２−プロ
パノイルオキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ベンジ
ル−２−プロパノイルオキシメチルグリセロール 収量７４％、ＮＭＲ、１.１ppm（ｔ，３Ｈ），２.２（q
uartet，２Ｈ），３.６（ｄ，４Ｈ），４.５（ｓ，４
Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），７.７(ｓ，１０Ｈ）。
【００３０】同様にして、メトキシメチルブタノエート
またはメトキシメチルペンタノエートを使用して適当な
１,３−ジ−アルキル−２−アルカノイルオキシメチル
グリセロールを合成し得る。
またはメトキシメチルペンタノエートを使用して適当な
１,３−ジ−アルキル−２−アルカノイルオキシメチル
グリセロールを合成し得る。
【００３１】実施例２ １,３−ジプロパノイル−２−プロパノイルオキシメチ
ルグリセロール プロピオン酸無水物３３９ｇ、および実施例１の１,３
−ジ−イソプロピル−２−プロパノイルオキシメチルグ
リセロールの反応によって合成した粗油状物１８５ｇ
を、磁気撹拌機、還流冷却器、温度計および窒素ガス導
入口を付設し、急速に加熱または冷却し得るようにした
２ｌ３つ口丸底フラスコに入れた。次いで、三フッ化ホ
ウ素エーテレート１７.９ｇを一度に加えた。反応温度
は直ちに約２０℃(室温)から約５０℃に上昇し、約５０
℃に達すると冷却を行った。必要に応じて加熱および冷
却し、反応温度を確実に５０〜６０℃に保った。反応混
合物のＴＬＣ分析(酢酸エチル２５％／ヘキサン７５
％、rf＝０.３１、シリカ)によって反応の進度を調べ
た。
ルグリセロール プロピオン酸無水物３３９ｇ、および実施例１の１,３
−ジ−イソプロピル−２−プロパノイルオキシメチルグ
リセロールの反応によって合成した粗油状物１８５ｇ
を、磁気撹拌機、還流冷却器、温度計および窒素ガス導
入口を付設し、急速に加熱または冷却し得るようにした
２ｌ３つ口丸底フラスコに入れた。次いで、三フッ化ホ
ウ素エーテレート１７.９ｇを一度に加えた。反応温度
は直ちに約２０℃(室温)から約５０℃に上昇し、約５０
℃に達すると冷却を行った。必要に応じて加熱および冷
却し、反応温度を確実に５０〜６０℃に保った。反応混
合物のＴＬＣ分析(酢酸エチル２５％／ヘキサン７５
％、rf＝０.３１、シリカ)によって反応の進度を調べ
た。
【００３２】１００分後に、反応混合物を、トルエン５
００ｍｌの入った分液漏斗に入れた。有機層を飽和炭酸
ナトリウム水溶液５００ｍｌで洗い、さらに水５００ｍ
ｌで２回洗った。次いで、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、２６インチＨg減圧下、回転蒸発器
内でストリッピングした。黒色の粗油状物が得られ、ワ
イプ・フィルム蒸留装置に２回通して精製した。精製し
た油状物は、１,３−ジプロパノイル−２−プロパノイ
ルオキシメチルグリセロールであった。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.１(t、９Ｈ);２.３(q、６Ｈ);４.１(複合、５Ｈ);
５.２(s、２Ｈ)。
００ｍｌの入った分液漏斗に入れた。有機層を飽和炭酸
ナトリウム水溶液５００ｍｌで洗い、さらに水５００ｍ
ｌで２回洗った。次いで、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、２６インチＨg減圧下、回転蒸発器
内でストリッピングした。黒色の粗油状物が得られ、ワ
イプ・フィルム蒸留装置に２回通して精製した。精製し
た油状物は、１,３−ジプロパノイル−２−プロパノイ
ルオキシメチルグリセロールであった。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.１(t、９Ｈ);２.３(q、６Ｈ);４.１(複合、５Ｈ);
５.２(s、２Ｈ)。
【００３３】同様にして、適当な実施例２の１,３−ジ
−アルキル−２−プロパノイルオキシメチルグリセロー
ルを反応させて１,３−ジ−プロパノイル−２−プロパ
ノイルオキシメチルグリセロールを合成し得る。同様に
して、適当な１,３−ジ−アルキル−２−アセチルオキ
シメチルグリセロール、１,３−ジ−アルキル−２−ブ
タノイルオキシメチルグリセロールまたは１,３−ジ−
アルキル−２−ペンタノイルオキシメチルグリセロール
を反応させて、対応する１,３−ジ−アシル化合物を合
成し得る。
−アルキル−２−プロパノイルオキシメチルグリセロー
ルを反応させて１,３−ジ−プロパノイル−２−プロパ
ノイルオキシメチルグリセロールを合成し得る。同様に
して、適当な１,３−ジ−アルキル−２−アセチルオキ
シメチルグリセロール、１,３−ジ−アルキル−２−ブ
タノイルオキシメチルグリセロールまたは１,３−ジ−
アルキル−２−ペンタノイルオキシメチルグリセロール
を反応させて、対応する１,３−ジ−アシル化合物を合
成し得る。
【００３４】実施例３ １,３−ジベンジル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル 磁気撹拌機、温度計および乾燥管を付設した２ｌ丸底フ
ラスコに、ジベンジルグリセロール７５ｇ、p−トルエ
ンスルホン酸５.２５ｇ、ヘキサン３００ｍｌおよびメ
トキシメチルアセテート３００ｍｌを入れた。反応混合
物の温度は９０分間で６０〜６５℃となり、次いでＴＬ
Ｃ分析(酢酸エチル２０％／ヘキサン８０％、rf＝０.３
１、シリカ)を行った後冷却し、分液漏斗に移し、水７
００ｍｌで１回および飽和炭酸ナトリウム水溶液７００
ｍｌで１回洗った。次いでＣＨ2Ｃｌ2１５０ｍｌを加
え、水７００ｍｌで洗った。有機層を硫酸ナトリウムで
乾燥させ、濾過し、高度真空でストリッピングを行った
結果、１,３−ジベンジル−２−アセトキシメチルグリ
セロールが透明な油状物として得られた。
ル 磁気撹拌機、温度計および乾燥管を付設した２ｌ丸底フ
ラスコに、ジベンジルグリセロール７５ｇ、p−トルエ
ンスルホン酸５.２５ｇ、ヘキサン３００ｍｌおよびメ
トキシメチルアセテート３００ｍｌを入れた。反応混合
物の温度は９０分間で６０〜６５℃となり、次いでＴＬ
Ｃ分析(酢酸エチル２０％／ヘキサン８０％、rf＝０.３
１、シリカ)を行った後冷却し、分液漏斗に移し、水７
００ｍｌで１回および飽和炭酸ナトリウム水溶液７００
ｍｌで１回洗った。次いでＣＨ2Ｃｌ2１５０ｍｌを加
え、水７００ｍｌで洗った。有機層を硫酸ナトリウムで
乾燥させ、濾過し、高度真空でストリッピングを行った
結果、１,３−ジベンジル−２−アセトキシメチルグリ
セロールが透明な油状物として得られた。
【００３５】プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.９(s、３Ｈ);３.６(複合、４Ｈ);４.０(m、１Ｈ);
４.５(s、４Ｈ);５.２(s、２Ｈ);７.２(複合、１０
Ｈ)。
４.５(s、４Ｈ);５.２(s、２Ｈ);７.２(複合、１０
Ｈ)。
【００３６】同様にして、参考例１の適当な１,３−ジ
−置換グリセロールを用いて、以下の化合物を合成し
た: １,３−ジ−メチル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−エチル−２−アセトキシメチルグリセロ
ール;１,３−ジ−プロピル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−イソプロピル−２−アセトキシメ
チルグリセロール; 収量 定量的、ＮＭＲ；１.１ppm（ｄ，１２Ｈ），２.
０５（ｓ，３Ｈ），３.４−４.０（complex，７Ｈ），
４.８（ｓ，２Ｈ），５.３（ｓ，２Ｈ） １,３−ジ−ブチル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−s−ブチル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−t−ブチル−２−アセトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−フェニル−２−アセトキシ
メチルグリセロール；１,３−ジ−アダマントイル−２
−アセトキシメチル−グリセロール。 収量 ６２％、ＮＭＲ、１.７−２.１（mult.，３０
Ｈ），２.１（ｓ，３Ｈ），４.１（complex，５Ｈ），
５.３（ｓ，２Ｈ）
−置換グリセロールを用いて、以下の化合物を合成し
た: １,３−ジ−メチル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−エチル−２−アセトキシメチルグリセロ
ール;１,３−ジ−プロピル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−イソプロピル−２−アセトキシメ
チルグリセロール; 収量 定量的、ＮＭＲ；１.１ppm（ｄ，１２Ｈ），２.
０５（ｓ，３Ｈ），３.４−４.０（complex，７Ｈ），
４.８（ｓ，２Ｈ），５.３（ｓ，２Ｈ） １,３−ジ−ブチル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−s−ブチル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−t−ブチル−２−アセトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−フェニル−２−アセトキシ
メチルグリセロール；１,３−ジ−アダマントイル−２
−アセトキシメチル−グリセロール。 収量 ６２％、ＮＭＲ、１.７−２.１（mult.，３０
Ｈ），２.１（ｓ，３Ｈ），４.１（complex，５Ｈ），
５.３（ｓ，２Ｈ）
【００３７】実施例４ １,３−ジピバロイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル １,３−ジピバロイルグリセロール５０.４５ｇを、メト
キシメチルアセテート２００ｍｌに溶解した。p−トル
エンスルホン酸一水和物２.５ｇ添加後、混合物を１時
間撹拌し、ヘキサン２００ｍｌで希釈し、飽和炭酸ナト
リウム水溶液２００ｍｌで２回、ＮaＣｌ水溶液で１回
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に濃縮
して１,３−ジピバロイル−２−メトキシメチルグリセ
ロールを無色の油状物として得た。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.２(s、１８Ｈ);３.４(s、３Ｈ);４.１(m、１Ｈ);４.
２(m、４Ｈ);４.７(s、２Ｈ)。
ル １,３−ジピバロイルグリセロール５０.４５ｇを、メト
キシメチルアセテート２００ｍｌに溶解した。p−トル
エンスルホン酸一水和物２.５ｇ添加後、混合物を１時
間撹拌し、ヘキサン２００ｍｌで希釈し、飽和炭酸ナト
リウム水溶液２００ｍｌで２回、ＮaＣｌ水溶液で１回
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に濃縮
して１,３−ジピバロイル−２−メトキシメチルグリセ
ロールを無色の油状物として得た。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.２(s、１８Ｈ);３.４(s、３Ｈ);４.１(m、１Ｈ);４.
２(m、４Ｈ);４.７(s、２Ｈ)。
【００３８】同様にして、参考例１の適当な１,３−ジ-
置換グリセロールを用いて以下の化合物を合成した: １,３−ジ(１−アダマントイル)−２−メトキシメチル
グリセロール プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.６−２.１(複合、３０Ｈ);３.４(s、３Ｈ);4.１(複
合、１Ｈ);４.２(複合、４Ｈ);４.８(s、２Ｈ)。 １,３−ジ−ベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロ
ール; 収量 ５１％、ＮＭＲ、３.４ppm（ｓ，３Ｈ），４.２
−４.９（complex，７Ｈ），７.５（mult.，６Ｈ），
８.０（mult.，４Ｈ） １,３−ジ−ピバロイル−２−メトキシメチルグリセロ
ール;１,３−ジ−ブタノイル−２−メトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−s−ブタノイル−２−メトキシメ
チルグリセロール;
置換グリセロールを用いて以下の化合物を合成した: １,３−ジ(１−アダマントイル)−２−メトキシメチル
グリセロール プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.６−２.１(複合、３０Ｈ);３.４(s、３Ｈ);4.１(複
合、１Ｈ);４.２(複合、４Ｈ);４.８(s、２Ｈ)。 １,３−ジ−ベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロ
ール; 収量 ５１％、ＮＭＲ、３.４ppm（ｓ，３Ｈ），４.２
−４.９（complex，７Ｈ），７.５（mult.，６Ｈ），
８.０（mult.，４Ｈ） １,３−ジ−ピバロイル−２−メトキシメチルグリセロ
ール;１,３−ジ−ブタノイル−２−メトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−s−ブタノイル−２−メトキシメ
チルグリセロール;
【００３９】１,３−ジ−t−ブタノイル−２−メトキシ
メチルグリセロール;１,３−ジ−プロパノイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ヘキサノイル−
２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ペプタノ
イル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−オ
クタノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−ノナノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,
３−ジ−デカノイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−ウンデカノイル−２−メトキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−ドデカノイル−２−メトキシメ
チルグリセロール;１,３−ジ−トリデカノイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−テトラデカノイ
ル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ペン
タデカノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−ヘキサデカノイル−２−メトキシメチルグリセロ
ール;１,３−ジ−ヘプタデカノイル−２−メトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−オクタデカノイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;
メチルグリセロール;１,３−ジ−プロパノイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ヘキサノイル−
２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ペプタノ
イル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−オ
クタノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−ノナノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,
３−ジ−デカノイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−ウンデカノイル−２−メトキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−ドデカノイル−２−メトキシメ
チルグリセロール;１,３−ジ−トリデカノイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−テトラデカノイ
ル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ペン
タデカノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−ヘキサデカノイル−２−メトキシメチルグリセロ
ール;１,３−ジ−ヘプタデカノイル−２−メトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−オクタデカノイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;
【００４０】１,３−ジ−ノナデカノイル−２−メトキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−エイコサノイル−２
−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−p−クロロ
ベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;1,３−
ジ−o−クロロベンゾイル−２−メトキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−m−クロロベンゾイル−２−メトキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−p−ブロモベンゾイ
ル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−
ブロモベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;
１,３−ジ−m−ブロモベンゾイル−２−メトキシメチル
グリセロール;１,３−ジ−p−フルオロベンゾイル−２
−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−フルオ
ロベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−m−フルオロベンゾイル−２−メトキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−p−ヨードベンゾイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−ヨードベン
ゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−
m−ヨードベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−トルオイル−２−メトキシメチルグリセ
ロール;
シメチルグリセロール;１,３−ジ−エイコサノイル−２
−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−p−クロロ
ベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;1,３−
ジ−o−クロロベンゾイル−２−メトキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−m−クロロベンゾイル−２−メトキ
シメチルグリセロール;１,３−ジ−p−ブロモベンゾイ
ル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−
ブロモベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;
１,３−ジ−m−ブロモベンゾイル−２−メトキシメチル
グリセロール;１,３−ジ−p−フルオロベンゾイル−２
−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−フルオ
ロベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−m−フルオロベンゾイル−２−メトキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−p−ヨードベンゾイル−２−メ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−ヨードベン
ゾイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−
m−ヨードベンゾイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−トルオイル−２−メトキシメチルグリセ
ロール;
【００４１】１,３−ジ−フェニルアセチル−２−メト
キシメチルグリセロール;１,３−ジ−３−フェニルプロ
パノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ
−４−フェニルブタノイル−２−メトキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−アダマントイル−２−メトキシメチ
ル−グリセロール； 収量 定量的、ＮＭＲ、１.７−２.１ppm（mult.，３０
Ｈ），３.５（ｓ，３Ｈ），３.８−４.４（complex，５
Ｈ），４.８（ｓ，２Ｈ） 同様にして、エトキシメチルアセテート、プロポキシメ
チルアセテートまたはブトキシメチルアセテートを用い
て、対応する１,３−ジ−アシル−２−アルコキシメチ
ルグリセロールを合成することもできる。
キシメチルグリセロール;１,３−ジ−３−フェニルプロ
パノイル−２−メトキシメチルグリセロール;１,３−ジ
−４−フェニルブタノイル−２−メトキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−アダマントイル−２−メトキシメチ
ル−グリセロール； 収量 定量的、ＮＭＲ、１.７−２.１ppm（mult.，３０
Ｈ），３.５（ｓ，３Ｈ），３.８−４.４（complex，５
Ｈ），４.８（ｓ，２Ｈ） 同様にして、エトキシメチルアセテート、プロポキシメ
チルアセテートまたはブトキシメチルアセテートを用い
て、対応する１,３−ジ−アシル−２−アルコキシメチ
ルグリセロールを合成することもできる。
【００４２】実施例５ １,３−ジピバロイル−２−アセトキシメチルグリセロ
ール １,３−ジピバロイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル５０ｇ、塩化メチレン１５０ｍｌおよび無水酢酸１７
ｍｌを約−５℃に冷却した。次いで三フッ化ホウ素エー
テレート０.３ｍｌを加え、混合物をさらに１時間約０
℃で撹拌した後、２５℃で１時間放置した。Ｎa2ＣＯ3
飽和水溶液１００ｍｌ、次いでＣＨ2Ｃｌ 2１００ｍｌを
混合物に加えた。５分間激しく撹拌した後、有機層を分
離し、水１００ｍｌで１回、ＮaＣｌ水溶液で１回洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で濃縮す
ることによって、１,３−ジピバロイル−２−アセトキ
シメチルグリセロールがわずかに着色した油状物として
得られた。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.２(s、１８Ｈ);２.１(s、３Ｈ);４.１−４.３(m、５
Ｈ);５.３(s、２Ｈ);４.７(s、２Ｈ)。
ール １,３−ジピバロイル−２−メトキシメチルグリセロー
ル５０ｇ、塩化メチレン１５０ｍｌおよび無水酢酸１７
ｍｌを約−５℃に冷却した。次いで三フッ化ホウ素エー
テレート０.３ｍｌを加え、混合物をさらに１時間約０
℃で撹拌した後、２５℃で１時間放置した。Ｎa2ＣＯ3
飽和水溶液１００ｍｌ、次いでＣＨ2Ｃｌ 2１００ｍｌを
混合物に加えた。５分間激しく撹拌した後、有機層を分
離し、水１００ｍｌで１回、ＮaＣｌ水溶液で１回洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で濃縮す
ることによって、１,３−ジピバロイル−２−アセトキ
シメチルグリセロールがわずかに着色した油状物として
得られた。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.２(s、１８Ｈ);２.１(s、３Ｈ);４.１−４.３(m、５
Ｈ);５.３(s、２Ｈ);４.７(s、２Ｈ)。
【００４３】同様にして、１,３−ジ(１−アダマントイ
ル)−２−アセトキシメチルグリセロールを合成した。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.６−２.１(複合、３０Ｈ);２.１(s、３Ｈ);４.１(複
合、５Ｈ);５.３(s、２Ｈ)。 １,３−ジ−ベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセ
ロール; 収量 ６５％、ＮＭＲ、２.０ppm（ｓ，３Ｈ），４.５
（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），７.５（mul
t.，６Ｈ），８.０（mult.，４Ｈ） １,３−ジ−ピバロイル−２−アセトキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−ブタノイル−２−アセトキシメチル
グリセロール;１,３−ジ−s−ブタノイル−２−アセト
キシメチルグリセロール;１,３−ジ−t−ブタノイル−
２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−プロパ
ノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ
−ヘキサノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;
１,３−ジ−ヘプタノイル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−オクタノイル−２−アセトキシメ
チルグリセロール；
ル)−２−アセトキシメチルグリセロールを合成した。 プロトン ＮＭＲ、ＣＤＣｌ3 １.６−２.１(複合、３０Ｈ);２.１(s、３Ｈ);４.１(複
合、５Ｈ);５.３(s、２Ｈ)。 １,３−ジ−ベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセ
ロール; 収量 ６５％、ＮＭＲ、２.０ppm（ｓ，３Ｈ），４.５
（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），７.５（mul
t.，６Ｈ），８.０（mult.，４Ｈ） １,３−ジ−ピバロイル−２−アセトキシメチルグリセ
ロール;１,３−ジ−ブタノイル−２−アセトキシメチル
グリセロール;１,３−ジ−s−ブタノイル−２−アセト
キシメチルグリセロール;１,３−ジ−t−ブタノイル−
２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−プロパ
ノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ
−ヘキサノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;
１,３−ジ−ヘプタノイル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−オクタノイル−２−アセトキシメ
チルグリセロール；
【００４４】１，３−ジ−ノナノイル−２−アセトキシ
メチルグリセロール;１,３−ジ−デカノイル−２−アセ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ウンデカノイル
−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ドデ
カノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−トリデカノイル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−テトラデカノイル−２−アセトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−ペンタデカノイル−２−ア
セトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ヘキサデカノ
イル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−
ヘプタデカノイル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−オクタデカノイル−２−アセトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−ノナデカノイル−２−アセ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−エイコサノイル
−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−p−
クロロベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−o−クロロベンゾイル−２−アセトキシ
メチルグリセロール;１,３−ジ−m−クロロベンゾイル
−２−アセトキシメチルグリセロール;
メチルグリセロール;１,３−ジ−デカノイル−２−アセ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ウンデカノイル
−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ドデ
カノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−トリデカノイル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−テトラデカノイル−２−アセトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−ペンタデカノイル−２−ア
セトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−ヘキサデカノ
イル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−
ヘプタデカノイル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−オクタデカノイル−２−アセトキシメチ
ルグリセロール;１,３−ジ−ノナデカノイル−２−アセ
トキシメチルグリセロール;１,３−ジ−エイコサノイル
−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−p−
クロロベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロー
ル;１,３−ジ−o−クロロベンゾイル−２−アセトキシ
メチルグリセロール;１,３−ジ−m−クロロベンゾイル
−２−アセトキシメチルグリセロール;
【００４５】１,３−ジ−p−ブロモベンゾイル−２−ア
セトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−ブロモベ
ンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−m−ブロモベンゾイル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−p−フルオロベンゾイル−２−ア
セトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−フルオロ
ベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−m−フルオロベンゾイル−２−アセトキシメチル
グリセロール;１,３−ジ−p−ヨードベンゾイル−２−
アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−ヨード
ベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−m−ヨードベンゾイル−２−アセトキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−トルオイル−２−アセトキシメ
チルグリセロール;１,３−ジ−フェニルアセチル−２−
アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−３−フェニ
ルプロパノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;
1,３−ジ−４−フェニルブタノイル−２−アセトキシメ
チルグリセロール。同様にして、エトキシメチルアセテ
ート、プロポキシメチルアセテートまたはブトキシメチ
ルアセテートを用いて、対応する１,３−ジ−アシル−
２−アシルオキシメチルグリセロールを合成することも
できる。
セトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−ブロモベ
ンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３−
ジ−m−ブロモベンゾイル−２−アセトキシメチルグリ
セロール;１,３−ジ−p−フルオロベンゾイル−２−ア
セトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−フルオロ
ベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−m−フルオロベンゾイル−２−アセトキシメチル
グリセロール;１,３−ジ−p−ヨードベンゾイル−２−
アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−o−ヨード
ベンゾイル−２−アセトキシメチルグリセロール;１,３
−ジ−m−ヨードベンゾイル−２−アセトキシメチルグ
リセロール;１,３−ジ−トルオイル−２−アセトキシメ
チルグリセロール;１,３−ジ−フェニルアセチル−２−
アセトキシメチルグリセロール;１,３−ジ−３−フェニ
ルプロパノイル−２−アセトキシメチルグリセロール;
1,３−ジ−４−フェニルブタノイル−２−アセトキシメ
チルグリセロール。同様にして、エトキシメチルアセテ
ート、プロポキシメチルアセテートまたはブトキシメチ
ルアセテートを用いて、対応する１,３−ジ−アシル−
２−アシルオキシメチルグリセロールを合成することも
できる。
【００４６】参考例２ ＤＨＰＧのエーテルおよびエステル ジピバロイルＤＨＰＧ グアニン８.００ｇ、ヘキサメチルジシラザン４０ｍ
ｌ、キシレン８０ｍｌおよび硫酸アンモニウム０.６４
ｇを約２０時間還流させた。次いで揮発物８０ｍｌを蒸
留して除き、透明な溶液を得た。次いでその溶液に１,
３−ジピバロイル−２−アセトキシメチルグリセロール
２３.１ｇを加え、混合物を約２０時間還流させた。冷
却後、減圧して揮発物を除去した。残渣をイソプロパノ
ール４０ｍｌと還流させ、減圧して揮発物のストリッピ
ングを行い、シリカゲルクロマトグラフィーを行ってジ
ピバロイルＤＨＰＧを得た。 プロトン ＮＭＲ、ＤＭＳＯ−d6 １.１(s、１８Ｈ);３.９−４.３(m、５Ｈ);５.４(s、２
Ｈ);６.４(s、２Ｈ);７.８(s、１Ｈ);１０.６８(s、１
Ｈ)。
ｌ、キシレン８０ｍｌおよび硫酸アンモニウム０.６４
ｇを約２０時間還流させた。次いで揮発物８０ｍｌを蒸
留して除き、透明な溶液を得た。次いでその溶液に１,
３−ジピバロイル−２−アセトキシメチルグリセロール
２３.１ｇを加え、混合物を約２０時間還流させた。冷
却後、減圧して揮発物を除去した。残渣をイソプロパノ
ール４０ｍｌと還流させ、減圧して揮発物のストリッピ
ングを行い、シリカゲルクロマトグラフィーを行ってジ
ピバロイルＤＨＰＧを得た。 プロトン ＮＭＲ、ＤＭＳＯ−d6 １.１(s、１８Ｈ);３.９−４.３(m、５Ｈ);５.４(s、２
Ｈ);６.４(s、２Ｈ);７.８(s、１Ｈ);１０.６８(s、１
Ｈ)。
【００４７】同様にして、出発物質として１,３−ジベ
ンジル−２−アセトキシメチルグリセロールを使用して
１,３−ジベンジルＤＨＰＧを得た。 プロトン ＮＭＲ、ＤＭＳＯ−d6 ３.５(m、４Ｈ);４.１(m、１Ｈ);４.４(s、４Ｈ);5.５
(s、２Ｈ);６.７(s、２Ｈ);７.３(複合、１０Ｈ);７.９
(s、１Ｈ);１０.９(s、１Ｈ)。
ンジル−２−アセトキシメチルグリセロールを使用して
１,３−ジベンジルＤＨＰＧを得た。 プロトン ＮＭＲ、ＤＭＳＯ−d6 ３.５(m、４Ｈ);４.１(m、１Ｈ);４.４(s、４Ｈ);5.５
(s、２Ｈ);６.７(s、２Ｈ);７.３(複合、１０Ｈ);７.９
(s、１Ｈ);１０.９(s、１Ｈ)。
【００４８】同様にして、適当な１,３−ジアルキル−
または１,３−ジアシル−２−アルカノイルオキシメチ
ルグリセロールを使用して、以下のＤＨＰＧエーテルお
よびエステルを合成し得る。 ９−(１,３−ジメチルオキシ−２−プロポキシメチル)
−グアニン;９−(１,３−ジエチルオキシ−２−プロポ
キシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジプロピルオキシ
−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジイ
ソプロピルオキシ−２−プロポキシメチル)−グアニン;
９−(１,３−ジブチルオキシ−２−プロポキシメチル)
−グアニン;９−(１,３−ジ−s−ブチルオキシ−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−t−ブチ
ルオキシ−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,
３−ジフェニルオキシ−２−プロポキシメチル)−グア
ニン;９−(１,３−ジベンゾイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジブタノイル−２−プロポ
キシメチル)−グアニン; 収量 ５３％、融点２０５−２０７℃、ＮＭＲ、０.８
−０.４ppm（ｔ，６Ｈ），１.５（mult.，４Ｈ），２.
２（ｔ，４Ｈ），４.０−４.２（complex，５Ｈ），５.
４（ｓ，２Ｈ），６.４（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），
または１,３−ジアシル−２−アルカノイルオキシメチ
ルグリセロールを使用して、以下のＤＨＰＧエーテルお
よびエステルを合成し得る。 ９−(１,３−ジメチルオキシ−２−プロポキシメチル)
−グアニン;９−(１,３−ジエチルオキシ−２−プロポ
キシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジプロピルオキシ
−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジイ
ソプロピルオキシ−２−プロポキシメチル)−グアニン;
９−(１,３−ジブチルオキシ−２−プロポキシメチル)
−グアニン;９−(１,３−ジ−s−ブチルオキシ−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−t−ブチ
ルオキシ−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,
３−ジフェニルオキシ−２−プロポキシメチル)−グア
ニン;９−(１,３−ジベンゾイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジブタノイル−２−プロポ
キシメチル)−グアニン; 収量 ５３％、融点２０５−２０７℃、ＮＭＲ、０.８
−０.４ppm（ｔ，６Ｈ），１.５（mult.，４Ｈ），２.
２（ｔ，４Ｈ），４.０−４.２（complex，５Ｈ），５.
４（ｓ，２Ｈ），６.４（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），
【００４９】９−(１,３−ジ−s−ブタノイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−t−ブタ
ノイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３
−ジ−プロパノイル−２−プロポキシメチル)−グアニ
ン; 収量 ２５％、融点１９０−１９２℃、ＮＭＲ、０.９
−１.０（ｔ，６Ｈ），２.１５−２.２５（quartet，４
Ｈ），３.４−４.２（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２
Ｈ），６.５（ｓ，１Ｈ），７.８（ｓ，１Ｈ），９−
(１,３−ジ−ヘキサノイル−２−プロポキシメチル)−
グアニン; 収量 ３０％、融点１８４−１８６℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.１５−１.３５（mult.，８
Ｈ），１.４−１.５（mult.，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.９−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，１Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ヘプタノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−オクタノイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン; 収量 ６１％、融点１６５−１６６℃、ＮＭＲ、１.１
５−１.３（complex，１６Ｈ），１.４−１.５（comple
x，４Ｈ），２.１−２.２（ｔ，４Ｈ），３.９−４.２
（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，
２Ｈ），７.８（ｓ，１Ｈ），１０.７（ｓ，２Ｈ），
ロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−t−ブタ
ノイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３
−ジ−プロパノイル−２−プロポキシメチル)−グアニ
ン; 収量 ２５％、融点１９０−１９２℃、ＮＭＲ、０.９
−１.０（ｔ，６Ｈ），２.１５−２.２５（quartet，４
Ｈ），３.４−４.２（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２
Ｈ），６.５（ｓ，１Ｈ），７.８（ｓ，１Ｈ），９−
(１,３−ジ−ヘキサノイル−２−プロポキシメチル)−
グアニン; 収量 ３０％、融点１８４−１８６℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.１５−１.３５（mult.，８
Ｈ），１.４−１.５（mult.，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.９−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，１Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ヘプタノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−オクタノイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン; 収量 ６１％、融点１６５−１６６℃、ＮＭＲ、１.１
５−１.３（complex，１６Ｈ），１.４−１.５（comple
x，４Ｈ），２.１−２.２（ｔ，４Ｈ），３.９−４.２
（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，
２Ｈ），７.８（ｓ，１Ｈ），１０.７（ｓ，２Ｈ），
【００５０】９−(１,３−ジ−ノナノイル−２−プロポ
キシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−デカノイル−
２−プロポキシメチル)−グアニン; 収量 ５８％、融点１５８−１６０℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.１−１.３（complex，２８
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.４−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ウンデカノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−ドデカノイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン; 収量 ５１％、ＮＭＲ、０.８−０.９（ｔ，６Ｈ），
１.２−１.４（complex，３２Ｈ），１.４−１.５（com
plex，４Ｈ），２.１−２.２（ｔ，４Ｈ），３.９−４.
１（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），６.５
（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１Ｈ），１０.６（ｓ，１
Ｈ）， ９−(１,３−ジ−トリデカノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−テトラデカノイル−２
−プロポキシメチル)−グアニン; 収量 ６６％、融点１３７−１４０℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.２−１.４（complex，４０
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.４−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，２Ｈ），
キシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−デカノイル−
２−プロポキシメチル)−グアニン; 収量 ５８％、融点１５８−１６０℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.１−１.３（complex，２８
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.４−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ウンデカノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−ドデカノイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン; 収量 ５１％、ＮＭＲ、０.８−０.９（ｔ，６Ｈ），
１.２−１.４（complex，３２Ｈ），１.４−１.５（com
plex，４Ｈ），２.１−２.２（ｔ，４Ｈ），３.９−４.
１（complex，５Ｈ），５.４（ｓ，２Ｈ），６.５
（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１Ｈ），１０.６（ｓ，１
Ｈ）， ９−(１,３−ジ−トリデカノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−テトラデカノイル−２
−プロポキシメチル)−グアニン; 収量 ６６％、融点１３７−１４０℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.２−１.４（complex，４０
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.４−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，２Ｈ），
【００５１】９−(１,３−ジ−ペンタデカノイル−２−
プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−ヘキサ
デカノイル−２−プロポキシメチル)−グアニン; 収量 ８５％、融点１５４−１５８℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.１−１.３（complex，４８
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.９−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ヘプタデカノイル−２−プロポキシメ
チル)−グアニン;９−(１,３−ジ−オクタデカノイル−
２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−ノ
ナデカノイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−
(１,３−ジ−エイコサノイル−２−プロポキシメチル)
−グアニン;９−(１,３−ジ−p−クロロベンゾイル−２
−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−o−
クロロベンゾイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;
９−(１,３−ジ−m−クロロベンゾイル−２−プロポキ
シメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−p−ブロモベン
ゾイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３
−ジ−o−ブロモベンゾイル−２−プロポキシメチル)−
グアニン;９−(１,３−ジ−m−ブロモベンゾイル−２−
プロポキシメチル)−グアニン;
プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−ヘキサ
デカノイル−２−プロポキシメチル)−グアニン; 収量 ８５％、融点１５４−１５８℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.１−１.３（complex，４８
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.９−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ヘプタデカノイル−２−プロポキシメ
チル)−グアニン;９−(１,３−ジ−オクタデカノイル−
２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−ノ
ナデカノイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−
(１,３−ジ−エイコサノイル−２−プロポキシメチル)
−グアニン;９−(１,３−ジ−p−クロロベンゾイル−２
−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−o−
クロロベンゾイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;
９−(１,３−ジ−m−クロロベンゾイル−２−プロポキ
シメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−p−ブロモベン
ゾイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３
−ジ−o−ブロモベンゾイル−２−プロポキシメチル)−
グアニン;９−(１,３−ジ−m−ブロモベンゾイル−２−
プロポキシメチル)−グアニン;
【００５２】９−(１,３−ジ−p−フルオロベンゾイル
−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−
o−フルオロベンゾイル−２−プロポキシメチル)−グア
ニン;９−(１,３−ジ−m−フルオロベンゾイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−p−ヨー
ドベンゾイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−
(１,３−ジ−o−ヨードベンゾイル−２−プロポキシメ
チル)−グアニン;９−(１,３−ジ−m−ヨードベンゾイ
ル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ
−トルオイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;9-
(１,３−ジ−フェニルアセチル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−フェニルプロパノイル
−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−
フェニルブタノイル−２−プロポキシメチル)−グアニ
ン。９−(１,３−ジアセチルオキシ−２−プロポキシメ
チル)−グアニン。 収量 ６５％，融点２８３−２８５℃， ９−(１,３−ジアセチルオキシ−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン。 収量 ６６％，融点２３４−２３７℃、ＮＭＲ、１.９
（ｓ，６Ｈ），３.９−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ペンタノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン。 収量 ７０％，融点１９８−２０３℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.２−１.３（complex，４
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.９−４.２（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）
−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−
o−フルオロベンゾイル−２−プロポキシメチル)−グア
ニン;９−(１,３−ジ−m−フルオロベンゾイル−２−プ
ロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−p−ヨー
ドベンゾイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−
(１,３−ジ−o−ヨードベンゾイル−２−プロポキシメ
チル)−グアニン;９−(１,３−ジ−m−ヨードベンゾイ
ル−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ
−トルオイル−２−プロポキシメチル)−グアニン;9-
(１,３−ジ−フェニルアセチル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン;９−(１,３−ジ−フェニルプロパノイル
−２−プロポキシメチル)−グアニン;９−(１,３−ジ−
フェニルブタノイル−２−プロポキシメチル)−グアニ
ン。９−(１,３−ジアセチルオキシ−２−プロポキシメ
チル)−グアニン。 収量 ６５％，融点２８３−２８５℃， ９−(１,３−ジアセチルオキシ−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン。 収量 ６６％，融点２３４−２３７℃、ＮＭＲ、１.９
（ｓ，６Ｈ），３.９−４.１（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）， ９−(１,３−ジ−ペンタノイル−２−プロポキシメチ
ル)−グアニン。 収量 ７０％，融点１９８−２０３℃、ＮＭＲ、０.８
−０.９（ｔ，６Ｈ），１.２−１.３（complex，４
Ｈ），１.４−１.５（complex，４Ｈ），２.１−２.２
（ｔ，４Ｈ），３.９−４.２（complex，５Ｈ），５.４
（ｓ，２Ｈ），６.５（ｓ，２Ｈ），７.８（ｓ，１
Ｈ），１０.６（ｓ，１Ｈ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/753 9546−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 69/753 Ｚ 69/78 69/78 Ｃ０７Ｄ 473/18 Ｃ０７Ｄ 473/18 (72)発明者 ハーラン・ハンフォード・チャップマン アメリカ合衆国カリフォルニア94303、 パーロ・アルト、コロラド・アベニュー 805番 (56)参考文献 特開 昭60−92286（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−77881（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−56171（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−40289（ＪＰ，Ａ)
Claims (18)
- 【請求項１】 一般式(Ｃ): 【化１】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は、水素、低級アルキル、アシ
ル、１−アダマントイル、フェニルまたはフェニル低級
アルキル（但し、ベンジルを除く）から成る群から選択
される基で、これらの基のうちアルキル基またはフェニ
ル基部分は、所望によりハロゲン原子、低級アルキル基
またはフェニル基で置換されていてもよく、Ｒ7は、Ｒ4
Ｃ(Ｏ)ＯＣＨ2−またはＲ6ＯＣＨ2−、ただしＲ4および
Ｒ6は所望によりハロゲン原子、低級アルキル基または
フェニル基で置換された低級アルキルである。但し、Ｒ
4がメチルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方ともアシルま
たは低級アルキルであることはできず、またＲ4がエチ
ルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方とも低級アルキルであ
ることはできない。]で示される化合物の製法であっ
て、一般式(Ｄ): 【化２】 ［式中、Ｒ4およびＲ6は前記の通りである。]で示され
る化合物を、一般式(Ｅ): 【化３】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は前記の通りである。]で示され
る化合物と、プロトン性酸の存在下に反応させることを
特徴とする製法。 - 【請求項２】 プロトン性酸が、p−トルエンスルホン
酸である、特許請求の範囲第１項記載の製法。 - 【請求項３】 外部から加熱することなく反応混合物の
温度を上昇させる、特許請求の範囲第１項記載の製法。 - 【請求項４】 一般式(Ａ): 【化４】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は、水素、低級アルキル、アシ
ル、１−アダマントイル、フェニルまたはフェニル低級
アルキル（但し、ベンジルを除く）から成る群から選択
される基で、これらの基のうちアルキル基またはフェニ
ル基部分は、所望によりハロゲン原子、低級アルキル基
またはフェニル基で置換されていてもよく、Ｒ4は所望
によりハロゲン原子、低級アルキル基またはフェニル基
で置換された低級アルキルである。但し、Ｒ4がメチル
のとき、Ｒ1およびＲ3が、両方ともアシルまたは低級ア
ルキルであることはできず、またＲ4がエチルのとき、
Ｒ1およびＲ3が、両方とも低級アルキルであることはで
きない。]で示される化合物。 - 【請求項５】 Ｒ1およびＲ3が同じ基である、特許請求
の範囲第４項記載の化合物。 - 【請求項６】 Ｒ4がメチルである、特許請求の範囲第
５項記載の化合物。 - 【請求項７】 化合物名が１,３−ジピバロイル−２−
アセトキシメトキシグリセロールである、特許請求の範
囲第６項記載の化合物。 - 【請求項８】 化合物名が１,３−ジ−(１−アダマント
イル)−２−アセトキシメトキシグリセロールである、
特許請求の範囲第６項記載の化合物。 - 【請求項９】 Ｒ4がエチルである、特許請求の範囲第
５項記載の化合物。 - 【請求項１０】 化合物名が１,３−ジピバロイル−２
−プロパノイルオキシメチルグリセロールである、特許
請求の範囲第９項記載の化合物。 - 【請求項１１】 化合物名が１,３−ジ(１−アダマント
イル)−２−プロパノイルオキシメチルグリセロールで
ある、特許請求の範囲第９項記載の化合物。 - 【請求項１２】 特に、９−(１,３−ジヒドロキシ−２
−プロポキシメチル)グアニン類またはそれらの医薬的
に許容され得る塩類の製造に使用される、特許請求の範
囲第４項〜第１１項記載の化合物。 - 【請求項１３】 一般式(Ａ): 【化５】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は、水素、低級アルキル、アシ
ル、１−アダマントイル、フェニルまたはフェニル低級
アルキル（但し、ベンジルを除く）から成る群から選択
される基で、これらの基のうちアルキル基またはフェニ
ル基部分は、所望によりハロゲン原子、低級アルキル
基、またはフェニル基で置換されていてもよく、Ｒ4は
所望によりハロゲン原子、低級アルキル基またはフェニ
ル基で置換された低級アルキルである。但し、Ｒ4がメ
チルのとき、Ｒ1およびＲ3が、両方ともアシルまたは低
級アルキルであることはできず、またＲ4がエチルのと
き、Ｒ1およびＲ3が、両方とも低級アルキルであること
はできない。]で示される化合物の製法であって、一般
式(Ｂ): 【化６】 ［式中、Ｒ4は、独立して前記群から選択される基であ
る。]で示される化合物を、一般式(Ｃ′): 【化７】 ［式中、Ｒ1およびＲ3は前記の通り、およびＲ6は所望
によりハロゲン原子、低級アルキル基またはフェニル基
で置換された低級アルキルである。]で示される化合物
と、触媒量のルイス酸の存在下、一般式(Ａ)で示される
化合物を形成するのに十分な時間反応させることを特徴
とする製法。 - 【請求項１４】 一般式(Ｂ)で示される化合物のＲ4が
メチルである、特許請求の範囲第１３項記載の製法。 - 【請求項１５】 ルイス酸が三フッ化ホウ素である、特
許請求の範囲第１３項記載の製法。 - 【請求項１６】 一般式(Ｂ)および(Ｃ′)で示される化
合物を、４５〜６５℃の温度で６０〜１８０分間反応さ
せる、特許請求の範囲第１３項記載の製法。 - 【請求項１７】 一般式(Ｃ′)で示される化合物のＲ1
およびＲ3がいずれも１−アダマントイルであり、一般
式(Ｂ)で示される化合物が無水酢酸である、特許請求の
範囲第１３項記載の製法。 - 【請求項１８】 一般式(Ｃ′)で示される化合物のＲ1
およびＲ3がいずれもピバロイルであり、一般式(Ｂ)で
示される化合物が無水酢酸である、特許請求の範囲第１
３項記載の製法。
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