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JP2020021558A - Organic EL device and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2020021558A
JP2020021558A JP2018142572A JP2018142572A JP2020021558A JP 2020021558 A JP2020021558 A JP 2020021558A JP 2018142572 A JP2018142572 A JP 2018142572A JP 2018142572 A JP2018142572 A JP 2018142572A JP 2020021558 A JP2020021558 A JP 2020021558A
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Japan
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desiccant layer
main surface
organic
substrate
sealing substrate
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JP2018142572A
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Japanese (ja)
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禎久 米沢
Sadahisa Yonezawa
禎久 米沢
稗田 茂
Shigeru Hieda
茂 稗田
一道 小川
Kazumichi Ogawa
一道 小川
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Futaba Corp
Original Assignee
Futaba Corp
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Publication date
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Drying Of Gases (AREA)

Abstract

【課題】大気雰囲気下で乾燥剤層を形成する工程を含む方法で製造されたときであっても、十分な初期の発光面積率を維持できる有機EL素子を提供すること。【解決手段】素子基板1に対向する主面3Sを有する封止基板3と、主面3S上に設けられた乾燥剤層10とを備える有機EL素子20が開示される。乾燥剤層10が、主面3Sの外周から離れた領域に設けられている。主面3Sに垂直な方向から見たときに、乾燥剤層10の面積比率が主面3Sの面積に対して50%以上である。【選択図】図3PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element capable of maintaining a sufficient initial emission area ratio even when manufactured by a method including a step of forming a desiccant layer in an air atmosphere. An organic EL device (20) including a sealing substrate (3) having a main surface (3S) facing the element substrate (1) and a desiccant layer (10) provided on the main surface (3S) is disclosed. The desiccant layer 10 is provided in a region away from the outer periphery of the main surface 3S. When viewed from the direction perpendicular to the main surface 3S, the area ratio of the desiccant layer 10 is 50% or more with respect to the area of the main surface 3S. [Selection diagram] Fig. 3

Description

本発明は、有機EL素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL device and a method for manufacturing the same.

有機EL素子の発光部の水分による発光寿命の低下を防止するために、基板上に設けられた発光部が封止基板によって封止され、更に封止基板上に捕水材が設けられることがある(例えば、特許文献1)。   In order to prevent the light emitting life of the light emitting portion of the organic EL element from being shortened by moisture, the light emitting portion provided on the substrate is sealed by the sealing substrate, and a water catching material is further provided on the sealing substrate. (For example, Patent Document 1).

特開2006−331766号公報JP 2006-331766 A

封止基板上に設けられた乾燥剤層を有する有機EL素子の製造において、水分の混入を避けるために、乾燥剤層を不活性ガス等の乾燥雰囲気下で封止基板上に形成する必要があった。しかし、工程及び設備の簡略化の点からも、乾燥剤層を、乾燥雰囲気を必要とせずに大気雰囲気下で形成できることが望ましい。捕水容量の大きい乾燥剤を用いることにより、大気雰囲気下で乾燥剤層を形成したとしても、乾燥剤層が十分な捕水能力を維持できることが期待される。ところが、捕水容量の大きい乾燥剤を用いても、大気雰囲気下で乾燥剤層を封止基板上に形成すると、有機EL素子の発光面積率が製造直後の初期から不足し易いことが明らかとなった。   In manufacturing an organic EL device having a desiccant layer provided on a sealing substrate, it is necessary to form the desiccant layer on the sealing substrate under a dry atmosphere such as an inert gas in order to avoid mixing of moisture. there were. However, from the viewpoint of simplification of the process and equipment, it is desirable that the desiccant layer can be formed under an air atmosphere without requiring a dry atmosphere. By using a desiccant having a large water capturing capacity, it is expected that the desiccant layer can maintain a sufficient water capturing ability even if the desiccant layer is formed in an air atmosphere. However, even if a desiccant having a large water-capturing capacity is used, it is clear that if the desiccant layer is formed on the sealing substrate in the air atmosphere, the luminous area ratio of the organic EL element tends to be insufficient from the initial stage immediately after the production. became.

そこで、本発明の一側面の目的は、大気雰囲気下で乾燥剤層を形成する工程を含む方法で製造されたときであっても、十分な初期の発光面積率を維持できる有機EL素子を提供することにある。   Therefore, an object of one aspect of the present invention is to provide an organic EL element capable of maintaining a sufficient initial light emitting area ratio even when manufactured by a method including a step of forming a desiccant layer in an air atmosphere. Is to do.

本発明の一側面は、素子基板と、素子基板上に設けられた発光部と、素子基板に対向する主面を有する封止基板と、前記主面上に設けられた乾燥剤層と、を備える有機EL素子に関する。   One aspect of the present invention includes an element substrate, a light emitting portion provided on the element substrate, a sealing substrate having a main surface facing the element substrate, and a desiccant layer provided on the main surface. The present invention relates to an organic EL element provided.

本発明の別の一側面は、上記有機EL素子を製造する方法に関する。当該方法は、封止基板の主面上に乾燥剤層を形成する工程と、素子基板上に発光部を形成する工程と、封止基板を、前記主面が前記素子基板に対向する向きで素子基板に接着する工程とを備える。封止基板は、素子基板と封止基板との間に介在するシール剤によって素子基板に接着される。素子基板、封止基板及びシール剤によって囲まれた気密空間が形成され、該気密空間内に発光部及び乾燥剤層が配置される。   Another aspect of the present invention relates to a method for manufacturing the organic EL device. The method includes a step of forming a desiccant layer on a main surface of a sealing substrate, a step of forming a light emitting portion on an element substrate, and a step of forming the sealing substrate in a direction in which the main surface faces the element substrate. Bonding to the element substrate. The sealing substrate is bonded to the element substrate by a sealant interposed between the element substrate and the sealing substrate. An airtight space surrounded by the element substrate, the sealing substrate, and the sealant is formed, and the light emitting unit and the desiccant layer are arranged in the airtight space.

発光部は、対向配置された一対の電極及びそれらの間に設けられた有機層を有する。乾燥剤層は、前記主面の外周から離れた領域に設けられており、前記主面に垂直な方向から見たときに、乾燥剤層の面積比率が前記主面の面積に対して50%以上である。   The light emitting section has a pair of electrodes arranged to face each other and an organic layer provided between them. The desiccant layer is provided in a region away from the outer periphery of the main surface, and when viewed from a direction perpendicular to the main surface, the area ratio of the desiccant layer is 50% of the area of the main surface. That is all.

乾燥剤層の面積比率が50%以上であると、大気雰囲気下で乾燥剤層を形成したときであっても、有機EL素子が十分な初期の発光面積率を維持し易い。また、乾燥剤層が封止基板の主面の外周から離れた領域に設けられていることから、封止基板が素子基板に対して固定され易い。   When the area ratio of the desiccant layer is 50% or more, the organic EL element can easily maintain a sufficient initial light emitting area ratio even when the desiccant layer is formed in an air atmosphere. Further, since the desiccant layer is provided in a region away from the outer periphery of the main surface of the sealing substrate, the sealing substrate is easily fixed to the element substrate.

本発明の一側面によれば、大気雰囲気下で乾燥剤層を形成する工程を含む方法で製造されたときであっても、十分な初期の発光面積率を維持できる有機EL素子が提供される。   According to one aspect of the present invention, there is provided an organic EL element capable of maintaining a sufficient initial light emitting area ratio even when manufactured by a method including a step of forming a desiccant layer in an air atmosphere. .

有機EL素子の一実施形態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of an organic EL element. 封止基板及び乾燥剤層の一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of a sealing substrate and a desiccant layer. 封止基板及び乾燥剤層の一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of a sealing substrate and a desiccant layer. 封止基板及び乾燥剤層の一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of a sealing substrate and a desiccant layer. 有機EL素子の発光面積率と放置時間との関係を示すグラフである。5 is a graph showing a relationship between a light emitting area ratio of an organic EL element and a standing time.

以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

図1は、有機EL素子の一実施形態を示す断面図である。図1に示す有機EL素子20は、素子基板1と、素子基板1上に設けられた発光部7と、封止基板3と、乾燥剤層10と、シール剤5とを備える。   FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the organic EL device. The organic EL element 20 shown in FIG. 1 includes an element substrate 1, a light emitting unit 7 provided on the element substrate 1, a sealing substrate 3, a desiccant layer 10, and a sealant 5.

封止基板3は、素子基板1に対向する矩形又は正方形の平坦な主面3Sを有する天板部3Aと、天板部3Aの外周端部から主面3Sに垂直な方向に延出する側壁部3Bとを有する。天板部3A及び側壁部3Bは、主面3Sを底面として有する凹部を形成している。乾燥剤層10は、封止基板3の主面3S上に形成されている。   The sealing substrate 3 has a top plate 3A having a flat rectangular or square main surface 3S facing the element substrate 1, and a side wall extending from the outer peripheral end of the top plate 3A in a direction perpendicular to the main surface 3S. 3B. The top plate 3A and the side wall 3B form a recess having the main surface 3S as a bottom surface. The desiccant layer 10 is formed on the main surface 3S of the sealing substrate 3.

シール剤5は、封止基板3の側壁部3Bと素子基板1との間に介在しながら、封止基板3と素子基板1とを接着している。これにより素子基板1、封止基板3及びシール剤5に囲まれた気密空間30が形成されている。この気密空間30内に発光部7及び乾燥剤層10が配置される。封止基板3は、側壁部3Bを有していない平坦な板状体であってもよく、その場合、通常、封止基板3の天板部3Aと素子基板1との間にシール剤5が介在する。いずれにしても、「素子基板に対向する主面」は、発光部が配置された気密空間内で素子基板に対向する面を意味する。   The sealing agent 5 adheres the sealing substrate 3 and the element substrate 1 while interposing between the side wall 3B of the sealing substrate 3 and the element substrate 1. As a result, an airtight space 30 surrounded by the element substrate 1, the sealing substrate 3, and the sealant 5 is formed. The light emitting unit 7 and the desiccant layer 10 are arranged in the airtight space 30. The sealing substrate 3 may be a flat plate-like body having no side wall portion 3B. In this case, the sealing agent 5 is usually provided between the top plate portion 3A of the sealing substrate 3 and the element substrate 1. Intervenes. In any case, the “main surface facing the element substrate” means a surface facing the element substrate in an airtight space in which the light emitting unit is arranged.

図2は、封止基板及び乾燥剤層の一実施形態を示す平面図である。図2の平面図は、封止基板3及び乾燥剤層10を、封止基板3の主面3Sに垂直な方向から見た形態を示す。図2に示されるように、乾燥剤層10は、封止基板3の主面3Sの外周からその内側に離れた領域に設けられている。図2の平面図において、乾燥剤層10の面積比率が、主面3Sの面積に対して50%以上である。この面積比率は、60%以上、70%以上、又は75%以上であってもよい。乾燥剤層10の面積比率が大きくなると、大気雰囲気下で封止基板3の主面3Sに付着した水分が発光部7に影響し難くなると考えられる。面積比率が50%以上であると、乾燥剤層を形成した後、封止基板を大気雰囲気下で例えば3時間以上放置したときであっても、98%以上の十分に大きい発光面積比率を有する有機EL素子が得られ易い。また、封止基板と素子基板との安定した接着の確保の観点から、乾燥剤層10の面積比率が、90%未満であってもよい。   FIG. 2 is a plan view showing one embodiment of the sealing substrate and the desiccant layer. The plan view of FIG. 2 shows a form in which the sealing substrate 3 and the desiccant layer 10 are viewed from a direction perpendicular to the main surface 3S of the sealing substrate 3. As shown in FIG. 2, the desiccant layer 10 is provided in a region separated from the outer periphery of the main surface 3 </ b> S of the sealing substrate 3 to the inside thereof. In the plan view of FIG. 2, the area ratio of the desiccant layer 10 is 50% or more with respect to the area of the main surface 3S. This area ratio may be 60% or more, 70% or more, or 75% or more. It is considered that when the area ratio of the desiccant layer 10 increases, the moisture attached to the main surface 3S of the sealing substrate 3 in the air atmosphere hardly affects the light emitting unit 7. When the area ratio is 50% or more, even after the desiccant layer is formed, the sealing substrate is left in the air atmosphere, for example, for 3 hours or more, and has a sufficiently large light emitting area ratio of 98% or more. An organic EL element is easily obtained. From the viewpoint of ensuring stable adhesion between the sealing substrate and the element substrate, the area ratio of the desiccant layer 10 may be less than 90%.

乾燥剤層10は、図2に示されるように単一の膜であってもよいし、図3に示されるように、線状部を含んでいてもよい。図3の実施形態の場合、乾燥剤層10は、一定の方向に沿って延在する複数の線状部からなる。線状部は、矩形又は正方形の主面3Sのいずれかの辺に沿って延在していてもよい。隣り合う線状部が、図3のように離れていてもよいし、部分的に又は全体的に接していてもよい。通常、各線状部は主面3Sに対してなだらかに傾斜した表面を有するため、隣り合う線状部が接していても、各線状部を区別することができる。各線状部の幅は、例えば、0.5mm以上50mm以下、又は1mm以上10mm以下であってもよい。ここでの「線状部の幅」は、線状部の長手方向に垂直な方向における幅である。線状部の厚さは、50μm以上200μm以下であってもよい。乾燥剤層10の線状部は、必ずしも直線的に延在している必要はなく、曲線的な部分を含んでいてもよい。線状部は、交差することなく直線的又は曲線状に延在していてもよい。例えば、線状部が蛇行していてもよいし、螺旋状に延在していてもよい。図4は、螺旋状に延在する線状部を有する乾燥剤層の一例を示す平面図である。図4に示される乾燥剤層10の螺旋状の線状部は、主面3Sの各辺に沿う複数の直線部分から構成される。   The desiccant layer 10 may be a single film as shown in FIG. 2 or may include a linear portion as shown in FIG. In the case of the embodiment of FIG. 3, the desiccant layer 10 includes a plurality of linear portions extending along a certain direction. The linear portion may extend along any side of the rectangular or square main surface 3S. Adjacent linear portions may be separated as shown in FIG. 3, or may be partially or wholly in contact. Normally, each linear portion has a surface that is gently inclined with respect to the main surface 3S. Therefore, even when adjacent linear portions are in contact with each other, each linear portion can be distinguished. The width of each linear portion may be, for example, 0.5 mm or more and 50 mm or less, or 1 mm or more and 10 mm or less. The “width of the linear portion” here is a width in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the linear portion. The thickness of the linear portion may be 50 μm or more and 200 μm or less. The linear portion of the desiccant layer 10 does not necessarily need to extend linearly, and may include a curved portion. The linear portions may extend linearly or curvedly without intersecting. For example, the linear portion may meander, or may extend spirally. FIG. 4 is a plan view showing an example of a desiccant layer having a spirally extending linear portion. The spiral linear portion of the desiccant layer 10 shown in FIG. 4 is composed of a plurality of linear portions along each side of the main surface 3S.

線状部を有する乾燥剤層10は、表面積が大きいため、単一の膜よりも大きな捕水能力を発揮し得る。また、線状部を有する乾燥剤層10は、特に主面3Sの面積が大きい場合に、単一の膜よりも容易に形成可能な点でも有利である。   Since the desiccant layer 10 having a linear portion has a large surface area, the desiccant layer 10 can exhibit a greater water-trapping ability than a single membrane. The desiccant layer 10 having a linear portion is also advantageous in that it can be formed more easily than a single film, particularly when the area of the main surface 3S is large.

乾燥剤層10は、例えば、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含有する。乾燥剤層10は、例えば、これらを含有する乾燥剤組成物を封止基板の主面3Sに塗布することを含む方法により、形成することができる。   The desiccant layer 10 contains, for example, oxide particles containing an oxide of an alkaline earth metal and a binder resin. The desiccant layer 10 can be formed by, for example, a method including applying a desiccant composition containing these to the main surface 3S of the sealing substrate.

乾燥剤層10中の酸化物粒子は、酸化物粒子に捕水性能を付与し得るアルカリ土類金属の酸化物を含む。酸化物粒子は、通常、酸化物粒子の質量を基準として80質量%以上、又は90質量%以上のアルカリ土類金属の酸化物を含む。酸化物粒子は、1種、又は成分の異なる2種以上のアルカリ土類金属の酸化物を含むことができる。   The oxide particles in the desiccant layer 10 include an oxide of an alkaline earth metal that can impart water-capturing performance to the oxide particles. The oxide particles usually contain at least 80% by mass or 90% by mass or more of an alkaline earth metal oxide based on the mass of the oxide particles. The oxide particles may include one or two or more alkaline earth metal oxides having different components.

アルカリ土類金属の酸化物としては、例えば、酸化マグネシウム(MgO)、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)、及び酸化バリウム(BaO)が挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム又はこれらの組み合わせであってもよい。   Examples of the alkaline earth metal oxide include magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO). The alkaline earth metal oxide may be magnesium oxide, calcium oxide or a combination thereof.

乾燥剤層10における酸化物粒子の含有量は、乾燥剤層の質量を基準として40〜80質量%であってもよい。酸化物粒子の含有量が大きいと、捕水容量が大きくなるため、大気雰囲気下で乾燥剤層10を形成したときであっても、十分な捕水能力が維持され易い。同様の観点から、酸化物粒子の含有量は、50質量%以上、55質量%以上、又は60質量%以上であってもよい。   The content of the oxide particles in the desiccant layer 10 may be 40 to 80% by mass based on the mass of the desiccant layer. When the content of the oxide particles is large, the water capturing capacity increases, so that even when the desiccant layer 10 is formed in the air atmosphere, a sufficient water capturing capacity is easily maintained. From the same viewpoint, the content of the oxide particles may be 50% by mass or more, 55% by mass or more, or 60% by mass or more.

酸化物粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、0.01〜30μmであってもよい。酸化物粒子の平均粒径がこの範囲であると、より高い捕水性能が得られる傾向にある。同様の観点から、酸化物粒子の平均粒径は、0.1μm以上、0.5μm以上、又は1μm以上であってもよく、20μm以下、10μm以下、又は5μm以下であってもよい。本明細書において、酸化物粒子の平均粒径は、動的光散乱式粒度分布計で測定した体積分布の中央値を意味する。この平均粒径は、酸化物粒子を所定の分散媒中に分散させて調整した分散液を用いて測定される値である。   The average particle size of the oxide particles is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 to 30 μm. When the average particle size of the oxide particles is in this range, higher water-trapping performance tends to be obtained. From the same viewpoint, the average particle diameter of the oxide particles may be 0.1 μm or more, 0.5 μm or more, or 1 μm or more, and may be 20 μm or less, 10 μm or less, or 5 μm or less. In the present specification, the average particle size of the oxide particles means a median value of a volume distribution measured by a dynamic light scattering type particle size distribution meter. The average particle size is a value measured using a dispersion prepared by dispersing oxide particles in a predetermined dispersion medium.

バインダー樹脂は、例えば、シリコーン樹脂を含んでいてもよい。乾燥剤層中のバインダー樹脂が、重合性化合物から形成された架橋重合体を含んでいてもよい。重合性化合物は、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する変性シリコーンであってもよい。この変性シリコーンが重合すると、乾燥剤組成物が硬化し、その結果、シリコーン樹脂である架橋重合体を含む乾燥剤層が形成される。   The binder resin may include, for example, a silicone resin. The binder resin in the desiccant layer may include a crosslinked polymer formed from a polymerizable compound. The polymerizable compound may be, for example, a modified silicone having a (meth) acryloyloxy group. When the modified silicone is polymerized, the desiccant composition is cured, and as a result, a desiccant layer containing a crosslinked polymer which is a silicone resin is formed.

(メタ)アクリロイルオキシ基を有する変性シリコーンは、例えば下記式(I)で表される。式(I)中、R及びRはそれぞれ独立に2価の有機基を示し、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、xは1以上の整数を示す。R及びRは、アルキレン基であってもよい。

Figure 2020021558
The modified silicone having a (meth) acryloyloxy group is represented, for example, by the following formula (I). In Formula (I), R 3 and R 4 each independently represent a divalent organic group, R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and x represents an integer of 1 or more. R 3 and R 4 may be an alkylene group.
Figure 2020021558

乾燥剤組成物は、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する変性シリコーンと共重合し得るその他の重合性化合物を更に含有してもよい。その他の重合性化合物は、1個又は2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル化合物であってもよい。粘度の安定性向上の効果の観点から、変性シリコーンの含有量は、変性シリコーン及びその他の重合性化合物の合計量に対して、80〜100質量%、又は90〜100質量%であってもよい。   The desiccant composition may further contain another polymerizable compound copolymerizable with the modified silicone having a (meth) acryloyloxy group. The other polymerizable compound may be a (meth) acryl compound having one or two or more (meth) acryloyl groups. From the viewpoint of the effect of improving the stability of viscosity, the content of the modified silicone may be 80 to 100% by mass, or 90 to 100% by mass based on the total amount of the modified silicone and other polymerizable compounds. .

乾燥剤組成物における、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する変性シリコーン及びその他の重合性化合物の合計量は、乾燥剤組成物の全体質量に対して、20〜90質量%であってもよい。重合性化合物の含有量がこの範囲であると、より優れた塗布性及び捕水性能を確保し易い傾向がある。同様の観点から、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する変性シリコーン及びその他の重合性化合物の合計量は、20質量%以上又は50質量%以上であってもよく、90質量%以下又は70質量%以下であってもよい。   The total amount of the modified silicone having a (meth) acryloyloxy group and other polymerizable compounds in the desiccant composition may be 20 to 90% by mass based on the total mass of the desiccant composition. When the content of the polymerizable compound is in this range, there is a tendency that more excellent coating properties and water-capturing performance are easily ensured. From the same viewpoint, the total amount of the modified silicone having a (meth) acryloyloxy group and the other polymerizable compound may be 20% by mass or more or 50% by mass or more, and 90% by mass or less or 70% by mass or less. It may be.

乾燥剤組成物は、光硬化のために光ラジカル重合開始剤を更に含有していてもよい。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンが挙げられる。乾燥剤組成物が光ラジカル重合開始剤を含む場合、その含有量は、乾燥剤組成物中の重合性化合物の質量に対して、例えば0.01〜10質量%であってもよい。   The desiccant composition may further contain a photoradical polymerization initiator for photocuring. Examples of the photoradical polymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, and 2,2-dimethoxy-1 , 2-Diphenylethan-1-one, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl]- 2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one is exemplified. When the desiccant composition contains a photoradical polymerization initiator, the content may be, for example, 0.01 to 10% by mass based on the mass of the polymerizable compound in the desiccant composition.

乾燥剤層及びこれを形成するための乾燥剤組成物は、必要によりその他の成分を更に含有していてもよい。例えば、乾燥剤層及び乾燥剤組成物が、粘度調整、又は、酸化物粒子の分散性向上等の目的で、重合性基を有しないシリコーン化合物を含有していてもよい。   The desiccant layer and the desiccant composition for forming the desiccant layer may further contain other components as necessary. For example, the desiccant layer and the desiccant composition may contain a silicone compound having no polymerizable group for the purpose of adjusting viscosity or improving dispersibility of oxide particles.

乾燥剤組成物は、25℃でペースト状であることができる。乾燥剤組成物の25℃における粘度は、5〜500Pa・sであってもよい。乾燥剤組成物の25℃における粘度がこの範囲であると、塗布によって乾燥剤層をより容易に形成することができる。ここでの粘度は、B型粘度計、レオメーター等の回転粘度計によって測定される値である。   The desiccant composition can be in the form of a paste at 25 ° C. The viscosity at 25 ° C. of the desiccant composition may be 5 to 500 Pa · s. When the viscosity at 25 ° C. of the desiccant composition is in this range, the desiccant layer can be more easily formed by coating. The viscosity here is a value measured by a rotational viscometer such as a B-type viscometer or a rheometer.

有機EL素子20を構成する素子基板1は、特に限定されないが、典型的には、絶縁性及び透光性を有する、矩形の主面を有するガラス基板である。素子基板1上には、透明導電材(例えば、ITO(Indium Tin Oxide))によって電極51が形成されている。電極51は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法等のPVD(Physical Vapor Deposition)法により素子基板1上にITO膜を形成することと、ITO膜をフォトレジスト法によるエッチングで所定のパターン形状にパターニングすることとを含む方法により形成される。電極51は、気密空間30の外側まで引き出されていてもよく、それにより電極51が駆動回路に接続されていてもよい。   The element substrate 1 constituting the organic EL element 20 is not particularly limited, but is typically a glass substrate having an insulating property and a light-transmitting property and having a rectangular main surface. An electrode 51 is formed on the element substrate 1 by a transparent conductive material (for example, ITO (Indium Tin Oxide)). The electrode 51 is formed by, for example, forming an ITO film on the element substrate 1 by a PVD (Physical Vapor Deposition) method such as a vacuum evaporation method and a sputtering method, and patterning the ITO film into a predetermined pattern shape by etching using a photoresist method. And forming the same. The electrode 51 may be extended to the outside of the airtight space 30, and the electrode 51 may be connected to a driving circuit.

発光部7は、対向配置された一対の電極51,52と、電極51及び電極52の間に設けられた有機層40とを有する。電極51が陽極で、電極52が陰極であってもよい。有機層40は、ホール注入層41、ホール輸送層42、発光層43及び電子輸送層44を有しており、これらが電極51側からこの順に積層されている。   The light emitting section 7 includes a pair of electrodes 51 and 52 disposed to face each other, and an organic layer 40 provided between the electrodes 51 and 52. The electrode 51 may be an anode and the electrode 52 may be a cathode. The organic layer 40 has a hole injection layer 41, a hole transport layer 42, a light emitting layer 43, and an electron transport layer 44, which are stacked in this order from the electrode 51 side.

ホール注入層41は、例えば数10nmの膜厚の銅フタロシアニン(CuPc)から形成される。ホール輸送層42は、例えば数10nmの膜厚のbis[N−(1−naphthyl)−N−phenyl]benzidine(α−NPD)から形成される。発光層43は、例えば数10nmの膜厚のトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)から形成される。電子輸送層44は、例えば数nmの膜厚のフッ化リチウム(LiF)から形成される。 The hole injection layer 41 is formed of, for example, copper phthalocyanine (CuPc) having a thickness of several tens nm. The hole transport layer 42 is formed of, for example, bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl] benzidine (α-NPD) having a thickness of several tens nm. The light emitting layer 43 is formed of, for example, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) having a thickness of several tens nm. The electron transport layer 44 is formed of, for example, lithium fluoride (LiF) having a thickness of several nm.

有機層40の上面上に電極52が積層されている。電極52は、真空蒸着法等のPVD法により形成された金属薄膜であってもよい。金属薄膜の材料としては、例えばAl、Li、Mg、In等の仕事関数の小さい金属単体やAl−Li、Mg−Ag等の仕事関数の小さい合金などが挙げられる。電極52は、例えば数10nm〜数100nm、又は50nm〜200nmの膜厚で形成される。電極52は、素子基板2の端部まで引き出されていてもよく、それにより電極52が駆動回路に接続されていてもよい。   The electrode 52 is laminated on the upper surface of the organic layer 40. The electrode 52 may be a metal thin film formed by a PVD method such as a vacuum evaporation method. As the material of the metal thin film, for example, a simple metal having a small work function such as Al, Li, Mg, and In, and an alloy having a small work function such as Al-Li and Mg-Ag are exemplified. The electrode 52 is formed to have a thickness of, for example, several tens nm to several hundreds nm, or 50 nm to 200 nm. The electrode 52 may be extended to the end of the element substrate 2, and the electrode 52 may be connected to a drive circuit.

封止基板3は、ガラス基板であってもよい。ガラス基板の表面には、大気中の水分が比較的付着し易い。そのため、大気雰囲気下で乾燥剤層10を封止基板3としてのガラス基板上に形成する場合、本実施形態のように乾燥剤層10の面積比率を制御する方法を適応することの利益が大きい。   The sealing substrate 3 may be a glass substrate. Atmospheric moisture is relatively easy to adhere to the surface of the glass substrate. Therefore, when the desiccant layer 10 is formed on a glass substrate as the sealing substrate 3 in an air atmosphere, there is a great advantage in applying the method of controlling the area ratio of the desiccant layer 10 as in the present embodiment. .

シール剤5は、有機EL素子の封止のために通常用いられている材料を用いて形成することができる。例えば、紫外線硬化性樹脂によってシール剤5を形成することができる。   The sealant 5 can be formed using a material generally used for sealing an organic EL element. For example, the sealant 5 can be formed of an ultraviolet curable resin.

有機EL素子20は、例えば、封止基板3の主面3S上に乾燥剤層10を形成する工程と、素子基板1上に発光部7を形成する工程と、封止基板3を主面3Sが素子基板1に対向する向きで配置し、それにより素子基板1、発光部7、乾燥剤層10及び封止基板3を備える有機EL素子20を形成する工程とを含む方法により、製造することができる。   The organic EL element 20 includes, for example, a step of forming a desiccant layer 10 on the main surface 3S of the sealing substrate 3, a step of forming the light emitting unit 7 on the element substrate 1, and Is disposed in a direction facing the element substrate 1, thereby forming an organic EL element 20 including the element substrate 1, the light-emitting portion 7, the desiccant layer 10, and the sealing substrate 3. Can be.

乾燥剤層10が大気雰囲気下で主面3S上に形成されてもよい。本明細書で言及される「大気雰囲気」は、通常の空調設備によって温度及び湿度が制御された環境であってもよい。例えば、大気雰囲気が15〜30℃、相対湿度40〜80%の雰囲気であってもよい。この場合、大気雰囲気下で乾燥剤組成物が封止基板3の主面3Sに塗布される。その後、乾燥剤組成物の塗膜を、必要により大気雰囲気下で硬化させる。乾燥剤組成物は、例えばディスペンサーを用いて塗布することができる。   The desiccant layer 10 may be formed on the main surface 3S under an air atmosphere. The “atmosphere” referred to in this specification may be an environment in which the temperature and humidity are controlled by ordinary air conditioning equipment. For example, the atmosphere may be an atmosphere of 15 to 30 ° C. and a relative humidity of 40 to 80%. In this case, the desiccant composition is applied to the main surface 3S of the sealing substrate 3 in an air atmosphere. Thereafter, the coating of the desiccant composition is cured, if necessary, in an air atmosphere. The desiccant composition can be applied using, for example, a dispenser.

その他の工程は、有機EL素子の製造において通常採用されている方法に従って、行うことができる。封止基板を素子基板に接着する工程は、通常、除湿された乾燥雰囲気下で行われる。   Other steps can be performed according to a method usually employed in the manufacture of an organic EL device. The step of bonding the sealing substrate to the element substrate is usually performed in a dehumidified dry atmosphere.

以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

1.乾燥剤組成物
酸化カルシウム粒子、式(I)で表される液状変性シリコーン、粘度調整用シリコーン(ジメチルシリコーン)、分散剤、及び光ラジカル重合開始剤を混合し、混合物を1000回転/分で5分間遠心撹拌して、白色ペースト状の乾燥剤組成物を得た。乾燥剤組成物における酸化カルシウム粒子の含有量は、乾燥剤組成物の質量を基準として60質量%である。
1. Desiccant Composition The calcium oxide particles, the liquid modified silicone represented by the formula (I), the viscosity adjusting silicone (dimethyl silicone), the dispersant, and the photo-radical polymerization initiator are mixed, and the mixture is mixed at a rate of 1,000 rpm for 5 minutes. The mixture was centrifuged for minutes to obtain a desiccant composition in the form of a white paste. The content of the calcium oxide particles in the desiccant composition is 60% by mass based on the mass of the desiccant composition.

2.有機ELデバイスの作製とその評価
(実施例)
素子基板上に、ITO膜(膜厚140nm)をスパッタ法により形成し、これをフォトレジスト法によるエッチングで所定パターン形状にパターニングし、陽極を形成した。陽極の上面に、抵抗加熱法により、ホール注入層としての銅フタロシアニン(CuPc)膜(膜厚70μm)、ホール輸送層としてのBis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine(α−NPD)の膜(膜厚30nm)、発光層としてのトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)の膜(膜厚50nm)を順に形成した。さらに、発光層の上面に7nmの膜厚で電子輸送層としてのフッ化リチウム(LiF)膜(膜厚7nm)、及び陰極としてのアルミニウム膜(膜厚150nm)を物理蒸着により形成した。
2. Fabrication of organic EL device and its evaluation (Example)
An ITO film (140 nm thick) was formed on the element substrate by a sputtering method, and this was patterned into a predetermined pattern by etching by a photoresist method, thereby forming an anode. A copper phthalocyanine (CuPc) film (thickness: 70 μm) as a hole injection layer and Bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl] benzidine (α-) as a hole transport layer are formed on the upper surface of the anode by resistance heating. A film (thickness: 30 nm) of NPD) and a film (thickness: 50 nm) of tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) as a light emitting layer were sequentially formed. Further, a lithium fluoride (LiF) film (thickness: 7 nm) as an electron transport layer and an aluminum film (thickness: 150 nm) as a cathode were formed on the upper surface of the light emitting layer by physical vapor deposition with a thickness of 7 nm.

封止基板として、凹部を有するガラス基板を準備した。ガラス基板の凹部は、ガラス基板の主面及びこれを囲む側壁部によって形成されている。凹部内の主面は、18mm×18mmの正方形である。凹部内の主面に、25℃、相対湿度45%の雰囲気下で、乾燥剤組成物をディスペンスによって線状に塗布した。これにより幅1.4mm、長さ15mmの直線状の塗膜を12本形成した。塗膜を紫外線照射によって硬化させることにより、乾燥剤層を形成した。凹部内の主面の面積に対する乾燥剤層の面積比率は78%であった。
同様の方法で乾燥剤層が形成された封止基板を合計4枚準備し、乾燥剤層を形成した直後の封止基板、又は、乾燥剤層を形成した後、25℃、相対密度45%の環境下で1時間、2時間、若しくは3時間放置した後の封止基板を、下記の手順で素子基板と貼り合わせた。
A glass substrate having a concave portion was prepared as a sealing substrate. The concave portion of the glass substrate is formed by the main surface of the glass substrate and the side wall surrounding the main surface. The main surface in the recess is a square of 18 mm × 18 mm. The desiccant composition was linearly applied to the main surface in the concave portion by dispensing under an atmosphere of 25 ° C. and a relative humidity of 45%. As a result, 12 linear coating films having a width of 1.4 mm and a length of 15 mm were formed. The desiccant layer was formed by curing the coating by ultraviolet irradiation. The area ratio of the desiccant layer to the area of the main surface in the recess was 78%.
A total of four sealing substrates on which a desiccant layer is formed are prepared in the same manner, and the sealing substrate immediately after the desiccant layer is formed, or the desiccant layer is formed, and then at 25 ° C. and a relative density of 45% The sealing substrate left for 1 hour, 2 hours, or 3 hours in the above environment was bonded to the element substrate by the following procedure.

封止基板と、陽極、有機層及び陰極を積層した素子基板とを、乾燥窒素で置換されたグローブボックス内でシール剤を介して貼り合わせた。紫外線照射及び85℃で1時間の加熱によりシール剤を硬化させた。これにより、発光部が気密空間内に封止された有機EL素子を得た。   The sealing substrate and the element substrate on which the anode, the organic layer, and the cathode were stacked were bonded via a sealant in a glove box replaced with dry nitrogen. The sealant was cured by ultraviolet irradiation and heating at 85 ° C. for 1 hour. As a result, an organic EL device in which the light emitting portion was sealed in the airtight space was obtained.

(比較例)
幅1.4mm、長さ10mmの直線状の塗膜を6本形成したこと以外は実施例と同様にして、評価用の有機EL素子を作製した。凹部内の主面の面積に対する乾燥剤層の面積比率は36%であった。
(Comparative example)
An organic EL device for evaluation was produced in the same manner as in Example except that six linear coating films having a width of 1.4 mm and a length of 10 mm were formed. The area ratio of the desiccant layer to the area of the main surface in the recess was 36%.

(発光面積率)
各有機EL素子の発光面積率(発光部の面積に対する発光が観測された部分の面積比率)を測定した。図5は、有機EL素子の発光面積率と、封止基板の放置時間との関係を示すグラフである。乾燥剤層の面積比率が50%以上90%未満であると、乾燥剤層を大気雰囲気下で形成し、その後ある程度大気雰囲気下で放置した場合であっても、製造直後の有機EL素子の高い発光面積率が維持されることが確認された。
(Emission area ratio)
The light emission area ratio (area ratio of the portion where light emission was observed to the area of the light emitting portion) of each organic EL element was measured. FIG. 5 is a graph showing a relationship between a light emitting area ratio of the organic EL element and a leaving time of the sealing substrate. When the area ratio of the desiccant layer is 50% or more and less than 90%, even if the desiccant layer is formed in an air atmosphere and then left to some extent in an air atmosphere, the organic EL element immediately after manufacturing has a high level. It was confirmed that the emission area ratio was maintained.

1…素子基板、3…封止基板、3A…封止基板の天板部、3B…封止基板の側壁部、3S…封止基板の主面、5…シール剤、7…発光部、10…乾燥剤層、20…有機EL素子、30…気密空間、40…有機層、51,52…電極。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Element substrate, 3 ... Sealing substrate, 3A ... Top plate part of sealing substrate, 3B ... Side wall part of sealing substrate, 3S ... Main surface of sealing substrate, 5 ... Sealing agent, 7 ... Light emitting part, 10 ... desiccant layer, 20 ... organic EL element, 30 ... airtight space, 40 ... organic layer, 51, 52 ... electrode.

Claims (7)

素子基板と、
前記素子基板上に設けられ、対向配置された一対の電極及びそれらの間に設けられた有機層を有する、発光部と、
前記素子基板に対向する主面を有する封止基板と、
前記主面上に設けられた乾燥剤層と、
前記素子基板と前記封止基板との間に介在し、それにより前記素子基板と前記封止基板とを接着しているシール剤と、
を備え、
前記素子基板、前記封止基板及び前記シール剤によって囲まれた気密空間が形成され、該気密空間内に前記発光部及び前記乾燥剤層が配置されており、
前記乾燥剤層が、前記主面の外周から離れた領域に設けられており、前記主面に垂直な方向から見たときに、前記乾燥剤層の面積比率が前記気密空間内の前記主面の面積に対して50%以上である、有機EL素子。
An element substrate,
A light-emitting portion, which is provided on the element substrate and has a pair of electrodes arranged opposite to each other and an organic layer provided therebetween.
A sealing substrate having a main surface facing the element substrate,
A desiccant layer provided on the main surface,
A sealant interposed between the element substrate and the sealing substrate, thereby bonding the element substrate and the sealing substrate,
With
An airtight space surrounded by the element substrate, the sealing substrate, and the sealant is formed, and the light emitting unit and the desiccant layer are arranged in the airtight space,
The desiccant layer is provided in a region separated from the outer periphery of the main surface, and when viewed from a direction perpendicular to the main surface, the area ratio of the desiccant layer is the main surface in the hermetic space. 50% or more of the area of the organic EL device.
前記乾燥剤層が線状部を含む、請求項1に記載の有機EL素子。   The organic EL device according to claim 1, wherein the desiccant layer includes a linear portion. 前記乾燥剤層が、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、バインダー樹脂と、を含有し、
前記酸化物粒子の含有量が、前記乾燥剤層の質量を基準として40〜80質量%である、請求項1又は2に記載の有機EL素子。
The desiccant layer contains oxide particles containing an oxide of an alkaline earth metal, and a binder resin,
3. The organic EL device according to claim 1, wherein the content of the oxide particles is 40 to 80% by mass based on the mass of the desiccant layer. 4.
封止基板の主面上に乾燥剤層を形成する工程と、
素子基板上に、対向配置された一対の電極及びそれらの間に設けられた有機層を有する発光部を形成する工程と、
前記封止基板を、前記主面が前記素子基板に対向する向きで、前記素子基板と前記封止基板との間に介在するシール剤によって前記素子基板に接着する工程であって、前記素子基板、前記封止基板及び前記シール剤によって囲まれた気密空間が形成され、該気密空間内に前記発光部及び前記乾燥剤層が配置される、工程と、
を備え、
前記乾燥剤層が、前記主面の外周から離れた領域に形成され、前記主面に垂直な方向から見たときに、前記乾燥剤層の面積比率が前記気密空間内の前記主面の面積に対して50%以上である、
有機EL素子を製造する方法。
Forming a desiccant layer on the main surface of the sealing substrate,
Forming a light-emitting portion having a pair of electrodes disposed opposite to each other and an organic layer provided therebetween, on the element substrate;
A step of bonding the sealing substrate to the element substrate with a sealing agent interposed between the element substrate and the sealing substrate in a direction in which the main surface faces the element substrate; Forming an airtight space surrounded by the sealing substrate and the sealant, wherein the light emitting unit and the desiccant layer are disposed in the airtight space,
With
The desiccant layer is formed in a region away from the outer periphery of the main surface, and when viewed from a direction perpendicular to the main surface, the area ratio of the desiccant layer is the area of the main surface in the hermetic space. 50% or more,
A method for manufacturing an organic EL device.
前記乾燥剤層が線状部を含む、請求項4に記載の方法。   5. The method according to claim 4, wherein the desiccant layer comprises a linear portion. 前記乾燥剤層が、大気雰囲気下で前記封止基板の主面上に形成される、請求項4又は5に記載の方法。   The method according to claim 4, wherein the desiccant layer is formed on a main surface of the sealing substrate under an air atmosphere. 前記乾燥剤層が、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、バインダー樹脂と、を含有し、
前記酸化物粒子の含有量が、前記乾燥剤層の質量を基準として40〜80質量%である、
請求項4〜6のいずれか一項に記載の方法。
The desiccant layer contains oxide particles containing an oxide of an alkaline earth metal, and a binder resin,
The content of the oxide particles is 40 to 80% by mass based on the mass of the desiccant layer,
A method according to any one of claims 4 to 6.
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