JP2019163455A - 高分子化合物及びそれを用いた発光素子 - Google Patents
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- 0 **CCC(*)=C1c2c(*)c(/C=C/C=C/C=C3)c3c(*)c2C2=CC=CC=CC12 Chemical compound **CCC(*)=C1c2c(*)c(/C=C/C=C/C=C3)c3c(*)c2C2=CC=CC=CC12 0.000 description 7
- FOQJHZPURACERJ-UHFFFAOYSA-N CB1OC(C)(C)C(C)(C)O1 Chemical compound CB1OC(C)(C)C(C)(C)O1 FOQJHZPURACERJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USMRYMUZKSMTRL-UHFFFAOYSA-N CB1OCCO1 Chemical compound CB1OCCO1 USMRYMUZKSMTRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULFPBVSCYAHJJN-UHFFFAOYSA-N CB1Oc(cccc2)c2O1 Chemical compound CB1Oc(cccc2)c2O1 ULFPBVSCYAHJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACYBRMPSZPZDF-JAMMHHFISA-N CC1CC=C[C@H](C)C1 Chemical compound CC1CC=C[C@H](C)C1 YACYBRMPSZPZDF-JAMMHHFISA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
[1]
式(1a)又は式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位を有する高分子化合物。
環A及び環Bは、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環又は複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。前記置換基が複数存在する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。2つあるR2は、同一でも異なっていてもよい。
Lは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
R'は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Qは、単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
波線は、二重結合に結合するR1及び環Bが、二重結合に対して同じ側であっても、反対側であってもよいことを表す。]
[2]
前記式(1a)又は前記式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基が、前記R'から2個の水素原子を取り除いた基である、[1]に記載の高分子化合物。
[3]
前記式(1a)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位を有する、[1]又は[2]に記載の高分子化合物。
[4]
環A及び環Bがベンゼン環である、[1]〜[3]のいずれかに記載の高分子化合物。
[5]
R1が水素原子であり、L及びQが単結合である、[1]〜[4]のいずれかに記載の高分子化合物。
[6]
R'がアリール基である、[1]〜[5]のいずれかに記載の高分子化合物。
[7]
更に、式(X)で表される構成単位を含む、[1]〜[6]のいずれかに記載の高分子化合物。
a1及びa2は、それぞれ独立に、0以上2以下の整数を表す。
ArX1及びArX3は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArX2及びArX4は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基、又は、アリーレン基と2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArX2又はArX4が複数存在する場合、それらは各々同一でも異なっていてもよい。
RX1、RX2及びRX3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RX2又はRX3が複数存在する場合、それらは各々同一でも異なっていてもよい。]
[8]
更に、前記式(1a)又は前記式(1b)で表される化合物から水素原子を1個取り除いた基からなる構成単位とは異なる、式(Y)で表される構成単位を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の高分子化合物。
[9]
前記式(Y)で表される構成単位が、式(Y−1)又は式(Y−2)で表される構成単位である、[8]に記載の高分子化合物。
XY1は、−C(RY2)2−、−C(RY2)=C(RY2)−又は−C(RY2)2−C(RY2)2−で表される基を表す。複数存在するRY2は、同一でも異なっていてもよい。
RY1、RY2及びRY4は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY11及びRY2は、各々、同一でも異なっていてもよく、隣接する炭素原子に結合するRY1同士、隣接する炭素原子に結合するRY2同士、又は、同一の炭素原子に結合するRY2同士は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
[10]
前記式(1a)又は式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位の含有量が、高分子化合物に含まれる全構成単位の含有量に対して、0.01〜30モル%である、[1]〜[9]のいずれかに記載の高分子化合物。
[11]
前記式(1a)又は前記式(1b)で表される化合物における1個以上の水素原子が、ハロゲン原子、−B(OH)2で表される基又はホウ酸エステル残基で置換された化合物。
[12]
[1]〜[10]のいずれかに記載の高分子化合物と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料とを含有する組成物。
[13]
[1]〜[10]のいずれかに記載の高分子化合物を含有する発光素子。
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
芳香族炭化水素環は、置換基を有していてもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、インデン環、フェナントレン環、ピレン環、テトラセン環及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
アルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、2-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、2-エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、3-プロピルヘプチル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-エチルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、ドデシル基、及び、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基(例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、3-フェニルプロピル基、3-(4-メチルフェニル)プロピル基、3-(3,5-ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、6-エチルオキシヘキシル基)が挙げられる。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。
シクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、1-ピレニル基、2-ピレニル基、4-ピレニル基、2-フルオレニル基、3-フルオレニル基、4-フルオレニル基、2-フェニルフェニル基、3-フェニルフェニル基、4-フェニルフェニル基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、及び、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。
シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、1-アントラセニルオキシ基、9-アントラセニルオキシ基、1-ピレニルオキシ基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
1価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、及び、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス(4-メチルフェニル)アミノ基、ビス(4-tert-ブチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)アミノ基が挙げられる。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。
アルケニル基及びシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、1-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、7-オクテニル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。
アルキニル基及びシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基、1-ヘキシニル基、5-ヘキシニル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、及び、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式(A-1)〜式(A-20)で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
2価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち2個の水素原子を除いた2価の基が挙げられ、好ましくは、式(AA-1)〜式(AA-34)で表される基である。2価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
(架橋基A群)
本発明の高分子化合物は、前記式(1a)又は前記式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位を有する。
本発明の高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは5×103〜2.5×105であり、より好ましくは1.5×104〜1×105である。
本発明の高分子化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは1×104〜5×105であり、より好ましくは3×104〜2×105であり、更に好ましくは3×104〜1×105である。
式(1a)又は式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位(以下、各々、単に「構成単位(1a)」、「構成単位(1b)」と言うことがある。)は、本発明の発光素子の輝度寿命がより優れるので、好ましくは式(1a)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位であり、より好ましくは式(1a)で表される化合物から水素原子を1〜2個取り除いた基からなる構成単位であり、更に好ましくは式(1a)で表される化合物から水素原子を2個取り除いた基からなる構成単位である。
本発明の高分子化合物は、正孔輸送性が優れるので、更に、式(X)で表される構成単位を含むことが好ましい。
RY1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY1は、同一でも異なっていてもよく、隣接する炭素原子に結合するRY1同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。
RY4は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
RY1は前記と同じ意味を表す。
XY1は、−C(RY2)2−、−C(RY2)=C(RY2)−又は−C(RY2)2−C(RY2)2−で表される基を表す。RY2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY2は、同一でも異なっていてもよく、RY2同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
RY1は前記と同じ意味を表す。
RY3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
次に、本発明の高分子化合物の製造方法について説明する。
ここで、式(M-1)〜式(M-4)で表される化合物は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
環A、環B、R1、R2、L、Q、波線、a1、a2、ArX1〜ArX4、RX1〜RX3及びArY1は、前記と同じ意味を表す。
R''は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基として、ZC1とZC2、又は、ZC3とZC4を有する。
ZC1〜ZC8は、それぞれ独立に、置換基A群及び置換基B群からなる群から選ばれる基を表す。]
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、−O−S(=O)2RC1(式中、RC1は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。)で表される基。
ホウ酸エステル残基(即ち、−B(ORC2)2(式中、RC2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRC2は同一でも異なっていてもよく、互いに連結して、それぞれが結合する酸素原子とともに環構造を形成していてもよい。)で表される基);
−BF3Q'(式中、Q'は、Li、Na、K、Rb又はCsを表す。)で表される基;
−MgY'(式中、Y'は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。)で表される基;
−ZnY''(式中、Y''は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。)で表される基;及び、
−Sn(RC3)3(式中、RC3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRC3は同一でも異なっていてもよく、互いに連結して、それぞれが結合するスズ原子とともに環構造を形成していてもよい。)で表される基。
本発明の組成物は、本発明の高分子化合物と、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料とを含有する。ここで、これらの材料は、本発明の高分子化合物とは異なる。
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、高分子化合物が好ましく、架橋基を有する高分子化合物がより好ましい。
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
正孔注入材料及び電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料及び電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。
正孔注入材料又は電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、1×10-5S/cm〜1×103S/cmである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。
発光材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。発光材料は、架橋基を有していてもよい。
RD1〜RD8、RD11〜RD20、RD21〜RD26及びRD31〜RD37は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD1〜RD8、RD11〜RD20、RD21〜RD26及びRD31〜RD37が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
−AD1---AD2−は、アニオン性の2座配位子を表し、AD1及びAD2は、それぞれ独立に、イリジウム原子と結合する炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。−AD1---AD2−が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
nD1は、1、2又は3を表し、nD2は、1又は2を表す。]
式Ir-2で表される金属錯体において、好ましくはRD11〜RD20の少なくとも1つは式(D-A)で表される基である。
式Ir-3で表される金属錯体において、好ましくはRD1〜RD8及びRD11〜RD20の少なくとも1つは式(D-A)で表される基である。
式Ir-4で表される金属錯体において、好ましくはR21〜RD26の少なくとも1つは式(D-A)で表される基である。
式Ir-5で表される金属錯体において、好ましくはRD31〜RD37の少なくとも1つは式(D-A)で表される基である。
mDA1〜mDA3は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
GDAは、窒素原子、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArDA1〜ArDA3は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArDA1〜ArDA3が複数ある場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
TDAは、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数あるTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
*、**及び***は、各々、ArDA1、ArDA2及びArDA3との結合を表す。
RDAは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。RDAが複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
RDAは前記と同じ意味を表す。
RDBは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDBが複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Rp1〜Rp3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。Rp1及びRp2が複数ある場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
np1は、0〜5の整数を表し、np2は0〜3の整数を表し、np3は0又は1を表す。複数あるnp1は、同一でも異なっていてもよい。]
nD2は、1又は2を表す。
Dは、式(D-A)で表される基を表す。複数存在するDは、同一でも異なっていてもよい。
RDCは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDCは、同一でも異なっていてもよい。
RDDは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDDは、同一でも異なっていてもよい。]
酸化防止剤は、本発明の高分子化合物と同じ溶媒に可溶であり、発光及び電荷輸送を阻害しない化合物であればよく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。
本発明の発光素子は、本発明の高分子化合物を含有する発光素子である。
本発明の発光素子の構成としては、例えば、陽極及び陰極からなる電極と、該電極間に設けられた本発明の高分子化合物を含有する層とを有する。
本発明の高分子化合物を含有する層は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の1種以上の層であり、好ましくは発光層である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含有する。
正孔輸送層、電子輸送層、発光層、正孔注入層、及び、電子注入層の材料としては、本発明の高分子化合物の他、各々、上述した正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料、正孔注入材料、及び、電子注入材料が挙げられる。
発光素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明又は半透明であることが好ましい。
陽極及び陰極は、各々、2層以上の積層構造としてもよい。
本発明の発光素子を用いて、例えば、面状、パターン状の発光を得ることができる。パターン状の発光を用いた表示装置としては、例えば、セグメントタイプ、ドットマトリックスタイプの表示装置が挙げられる。本発明の発光素子は、例えば、表示装置として、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができるほか、照明等にも用いることができる。
測定試料を約2mg/mLの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させ、LC−MS(Agilent製、商品名:1100LCMSD)に約1μL注入した。LC−MSの移動相には、アセトニトリル及びテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、0.2mL/分の流量で流した。カラムは、L−column 2 ODS(3μm)(化学物質評価研究機構製、内径:2.1mm、長さ:100mm、粒径3μm)を用いた。
測定試料をトルエン、テトラヒドロフラン又はクロロホルムのいずれかの溶媒に任意の濃度で溶解させ、DART用TLCプレート(テクノアプリケーションズ社製、商品名:YSK5−100)上に塗布し、TLC−MS(日本電子社製、商品名:JMS−T100TD(The AccuTOF TLC))を用いて測定した。測定時のヘリウムガス温度は、200〜400℃の範囲で調節した。
5〜10mgの測定試料を約0.5mLの重クロロホルム(CDCl3)、重テトラヒドロフラン、重ジメチルスルホキシド、重アセトン、重N,N-ジメチルホルムアミド、重トルエン、重メタノール、重エタノール、重2−プロパノール又は重塩化メチレンに溶解させ、NMR装置(Agilent製、商品名:INOVA300又はMERCURY 400VX)を用いて測定した。
撹拌子を備えた30mLの二口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M1a(1.0g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、10mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L、3.1mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下し、0〜5℃で1時間撹拌し、スラリーAを得た。その後、スラリーAを室温まで昇温した。
別途、撹拌子を備えた50mLの三つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、クロロトリメチルシラン(0.70mL)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、5.0mL)を加え、撹拌しながら5〜10℃に冷却し、反応混合物を得た。
その後、そこへ、スラリーAを反応混合物の温度を5〜10℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下した後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に2時間撹拌した。その後、そこへ、イオン交換水(5.0mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物を得た。得られた油状物を、n−ヘプタンを用いた晶析を行うことにより、化合物M1b(0.46g)を白色固体として得た。化合物M1bのHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
1H−NMR(CD2Cl2-d2,400MHz):δ(ppm)=8.01−7.97(m,2H),7.91−7.88(m,2H),7.81(d,1H),7.58(d,1H),7.49(dt,1H),7.43(dt,1H),7.36(dt,1H),7.29(dt,1H),4.50(s,1H),−0.22(s,9H).
撹拌子を備えた50mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M1b(0.46g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、9.2mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L、0.94mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下し、0〜5℃で30分間撹拌した。その後、そこへ、化合物M1c(0.43g)のシクロペンチルメチルエーテル(2.3mL)溶液を、反応混合物の温度を0〜10℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下した後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に3時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(10mL)及びイオン交換水(5.0mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、固体を得た。得られた固体にトルエンを加え、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物を、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた晶析を行うことにより、化合物M1(0.53g)を橙色固体として得た。化合物M1のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。1H−NMRにより、化合物M1はE/Z異性体混合物であることが判明した。
1H−NMR(CD2Cl2-d2,400MHz):δ(ppm)=8.53(d,1H),8.17(s,1H),7.93−7.67(m,6H),7.60−7.55(m,1H),7.47−7.43(m,1H),7.37−7.29(m,2H),7.23−7.15(m,1H),7.08−7.01(m,1H).
撹拌子を備えた30mLの二口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M2a(1.2g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、12mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L、3.7mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下し、0〜5℃で1時間撹拌し、スラリーBを得た。その後、スラリーBを室温まで昇温した。
別途、撹拌子を備えた50mLの三つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、クロロトリメチルシラン(0.84mL)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、6.0mL)を加え、撹拌しながら5〜10℃に冷却し、反応混合物を得た。
その後、そこへ、スラリーBを反応混合物の温度を5〜10℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下した後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に3時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(6.0mL)及びイオン交換水(6.0mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、固体を得た。得られた固体を、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた晶析を行うことにより、化合物M2b(1.2g)をごく薄い桃白色固体として得た。化合物M2bのHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
撹拌子を備えた100mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M2b(1.0g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、25mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L、2.1mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下し、0〜5℃で30分間撹拌した。その後、そこへ、化合物M1c(0.93g)のシクロペンチルメチルエーテル(5.0mL)溶液を、反応混合物の温度を0〜10℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下した後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に3時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(15mL)及びイオン交換水(10mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた固体にトルエンを加え、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物を、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた晶析を行い、次いで、メタノール及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた逆相クロマトグラフィー(充填剤:ワコーゲル 15C18)により精製した後、溶媒を減圧留去することにより、化合物M2(0.30g)を黄色固体として得た。化合物M2のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。1H−NMRにより、化合物M2はE/Z異性体混合物であることが判明した。
1H−NMR(CD2Cl2-d2,400MHz):δ(ppm)=8.18−8.10(m,1H),8.09−7.98(m,1H),7.91−7.84(m,3H),7.79−7.70(m,3H),7.64−7.60(m,1H),7.50−7.13(m,5H).
撹拌機を備えた500mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M3a(24g)、化合物B0(32g)、[1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物(6.5g)、酢酸カリウム(25g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、165mL)を加え、106℃で22時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、トルエン(165mL)を加え、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、濾塊をトルエン(170mL)で洗浄し、得られた溶液を減圧濃縮した。得られた濃縮物に、n−ヘプタン、トルエン及び活性炭を加え、室温で1時間攪拌した。得られた混合物を、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物を得た。得られた油状物を、ヘキサン及びトルエンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、溶媒を減圧留去することにより、化合物M3b(15g)を緑白色固体として得た。化合物M3bのGC面積百分率値は98.0%であった。
撹拌機を備えた300mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M3b(6.0g)、1−ブロモ−2−クロロベンゼン(4.5g)、トルエン(60mL)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2',6'−ジメトキシビフェニル(0.38g)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 0.75・ジベンジリデンアセトン付加物(0.24g)及び20質量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(49g)を加え、83℃で14時間撹拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、イオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物に、n−ヘプタン、トルエン及び活性炭を加え、室温で30分間攪拌した。得られた混合物を、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、化合物M3c(5.7g)を琥珀色油状物として得た。化合物M3cのGC面積百分率値は96.0%であった。
撹拌子を備えた200mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M3c(4.9g)、1−メチル−2−ピロリドン(超脱水品、58mL)、無水炭酸カリウム(微細粉末、2.9g)、酢酸パラジウム(II)(0.11g)及び1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾリウムクロリド(0.42g)を加え、143℃で15時間撹拌した。得られた反応混合物にトルエン(58mL)を加え、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、濾塊をトルエン(120mL)で洗浄した。得られた溶液を、イオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物に、トルエン及び活性炭を加え、室温で1時間攪拌した。得られた混合物を、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をトルエン及びエタノールの混合溶媒を用いた晶析を行うことにより、化合物M3d(1.2g)を灰白色固体として得た。化合物M3dのHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
撹拌子を備えた50mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M3d(1.1g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、11mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L、3.6mL)を、反応混合物の温度を5〜10℃に維持した状態で撹拌しながら滴下した後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に1時間撹拌した。その後、そこへ、クロロトリメチルシラン(0.78mL)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、5.6mL)を、撹拌しながら室温で滴下し、得られた反応混合物を、室温で更に1時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(11mL)及びイオン交換水(11mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物に、n−ヘプタン、トルエン及び活性炭を加え、室温で30分間攪拌した。得られた混合物を、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた固体を、エタノールを用いた晶析を行うことにより、化合物M3e(0.94g)をごく薄い桃白色固体として得た。化合物M3eのHPLC面積百分率値は97.8%であった。
撹拌子を備えた100mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M3e(0.72g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、22mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6mol/L、1.7mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下し、0〜5℃で30分間撹拌した。その後、そこへ、化合物M1c(0.69g)のシクロペンチルメチルエーテル(3.6mL)溶液を、反応混合物の温度を0〜10℃に維持した状態で撹拌しながら、滴下した後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に2時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(22mL)及びイオン交換水(10mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物を、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)(日本分析工業株式会社製、JAIGEL−2HH−40とJAIGEL−2.5HH−40)による精製、並びに、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた晶析を順次行うことにより、化合物M3(0.3g)を橙色固体として得た。化合物M3のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。1H−NMRにより、化合物M3はE/Z異性体混合物であることが判明した。
1H−NMR(CD2Cl2-d2,400MHz):δ(ppm)=8.69(t,1H),8.30−8.27(m,1H),7.94(d,1H),7.90−7.81(m,2H),7.74−7.69(m,3H),7.66−7.59(m,2H),7.57−7.11(m,4H).
撹拌機を備えた1Lの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M4a(26g)及びジクロロメタン(230mL)を加え、撹拌しながら0〜5℃に冷却した。その後、そこへ、内温を0〜10℃に保ちながらトリエチルアミン(30mL)を加えた後、次いで、内温を0〜10℃に保ちながら無水トリフルオロメタンスルホン酸(32mL)を滴下し、室温に昇温して更に3時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(230mL)を加え、シリカゲルを用いてろ過し、濾塊をトルエン(260mL)で洗浄し、得られた溶液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をトルエンに溶解させた後、イオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物を得た。得られた油状物を、ヘキサン及びトルエンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、溶媒を減圧留去することにより、化合物M4b(34g)を淡黄色油状物として得た。化合物M4bのHPLC面積百分率値は98.7%であった。
撹拌機を備えた500mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M4b(11.2g)、(3,5,5,8,8−ペンタメチル−5,6,7,8−テトラヒドロナフタレン−2−イル)ボロン酸(9.5g)、臭化リチウム(3.1g)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(0.63g)、1,2−ジメトキシエタン(90mL)、及び15質量%炭酸ナトリウム水溶液(66g)を加え、80℃で4時間撹拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、そこへトルエン(134mL)、およびイオン交換水を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、シリカゲルを用いてろ過し、濾塊をトルエンで洗浄し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物に、トルエン及びシリカゲルを加え、室温で30分間攪拌した。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、化合物M4c(13.6g)を淡黄色飴状物として得た。化合物M4cのHPLC面積百分率値は96.3%であった。
撹拌子を備えた300mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M4c(13.0g)、1−メチル−2−ピロリドン(超脱水品、104mL)、無水炭酸カリウム(微細粉末、14.9g)、酢酸パラジウム(II)(0.40g)及び1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾリウムクロリド(1.53g)を加え、153℃で4時間撹拌した。得られた反応混合物にトルエン(156mL)を加え、セライトとシリカゲルを用いてろ過し、濾塊をトルエン(78mL)で洗浄した。得られた溶液を、イオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物に、トルエン及びシリカゲルを加え、室温で30分間攪拌した。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をヘキサン及びトルエンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、トルエン、アセトニトリル、及びエタノールの混合溶媒を用いた晶析を行うことにより、化合物M4d(6.1g)を白色固体として得た。化合物M4dのHPLC面積百分率値は99.0%であった。
撹拌子を備えた300mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M4d(4.00g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、48mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.55mol/L、8.1mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら滴下し、得られた反応混合物を0〜5℃で30分間撹拌した。その後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に2時間撹拌した。その後、そこへ、クロロトリメチルシラン(3.9mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら滴下し、得られた反応混合物を0〜5℃で2時間撹拌した。その後、そこへ、イオン交換水(40mL)を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。洗浄した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物を、アセトニトリルを用いて晶析することにより、化合物M4e(4.57g)をごく薄い桃白色固体として得た。化合物M4eのHPLC面積百分率値は98.4%であった。上記の操作を繰り返し行うことにより、合計5.7gのM4eを得た。
7.49(s,1H),7.46(dt,1H),7.40(dt,1H),4.38(s,1H),1.74(s,4H),1.38−1.37(m,9H),1.32(s,3H),−0.22(s,9H).
撹拌子を備えた500mLの四つ口フラスコ内の気体をアルゴンガスで置換した後、化合物M4e(5.50g)及びシクロペンチルメチルエーテル(超脱水品、165mL)を加え、撹拌しながら0℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.55mol/L、9.1mL)を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら滴下し、0〜5℃で30分間撹拌した。その後、得られた反応混合物を室温まで昇温し、更に2時間撹拌した。その後、そこへ、化合物M1c(3.75g)のシクロペンチルメチルエーテル(24mL)溶液を、反応混合物の温度を0〜5℃に維持した状態で撹拌しながら滴下し、0〜5℃で1時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(110mL)及びイオン交換水を加えた後、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物にトルエン及びn−ヘプタンを加え、シリカゲルを用いてろ過し、濾塊をトルエン及びn−ヘプタンの混合溶媒で洗浄し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をトルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた晶析により繰り返し精製することで、化合物M4(6.4g)を橙色固体として得た。化合物M4のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。1H−NMRにより、化合物M4はE/Z異性体混合物であることが判明した。
1H−NMR(CD2Cl2-d2,400MHz):δ(ppm)=8.53−8.08(m,1H),7.91−7.41(m,9H),7.31−7.02(m,2H),1.73−1.61(m,4H),1.36(s,6H),1.32(s,3H),1.07(s,3H).
化合物M11は、特開2011−174062号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物M12は、国際公開第2002/045184号に記載の方法に従って合成した。
化合物M13は、特開2012−144722号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物M14は、特開2004−143419号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物M15は、特開2010−031259号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物M16は、特表2013−538438号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物M17は、国際公開第2015/163241号に記載の方法に従って合成した。
化合物M18は、特開2011−174062号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物M19は、国際公開第2005/049546号に記載の方法に従って合成した。
化合物M20は、特開2008−106241号公報に記載の方法に従って合成した。
高分子化合物P−1は、化合物M11〜化合物M15を用いて、特開2012−144722号公報に記載の方法に従って合成した。高分子化合物P−1のMnは8.5×104であり、Mwは2.3×105であった。
(工程1)反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M11(2.105g)、化合物M13(1.204g)、化合物M12(0.329g)、化合物M14(0.133g)、化合物M15(0.351g)、化合物M1(0.028g)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)及びトルエン(60mL)を加え、80℃に加熱した。
(工程2)その後、そこへ、10質量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(42mL)を滴下し、3.5時間還流させた。
(工程3)その後、そこへ、フェニルボロン酸(295mg)及びジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)を加え、6時間還流させた。
(工程4)得られた反応混合物を冷却した後、イオン交換水で1回、10質量%塩酸水溶液で1回、3質量%アンモニア水で1回、イオン交換水で1回、順次洗浄した。得られた有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて攪拌し、得られた混合物をアルミナカラム、シリカゲルカラムの順番に通液することにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌したところ、沈殿が生じた。得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物P−2を1.85g得た。高分子化合物P−2のMnは3.2×104であり、Mwは7.1×104であった。
実施例3における(工程1)を、「反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M11(2.139g)、化合物M13(1.204g)、化合物M12(0.329g)、化合物M14(0.133g)、化合物M15(0.351g)、化合物M16(0.029g)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)及びトルエン(60mL)を加え、80℃に加熱した。」とする以外は、実施例3と同様にして、高分子化合物P−3を2.25g得た。高分子化合物P−3のMnは2.9×104であり、Mwは6.7×104であった。
実施例3における(工程1)を、「反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M11(2.167g)、化合物M13(1.216g)、化合物M12(0.332g)、化合物M14(0.135g)、化合物M15(0.355g)、化合物M17(0.025g)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)及びトルエン(60mL)を加え、80℃に加熱した。」とする以外は、実施例3と同様にして、高分子化合物P−4を0.38g得た。高分子化合物P−4のMnは3.2×104であり、Mwは7.4×104であった。
実施例3における(工程1)を、「反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M11(2.185g)、化合物M13(1.266g)、化合物M12(0.335g)、化合物M14(0.136g)、化合物M15(0.358g)、化合物M3(0.028g)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)及びトルエン(60mL)を加え、80℃に加熱した。」とする以外は、実施例3と同様にして、高分子化合物P−5を0.93g得た。高分子化合物P−5のMnは3.4×104であり、Mwは7.4×104であった。
実施例3における(工程1)を、「反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M11(2.105g)、化合物M13(1.204g)、化合物M12(0.329g)、化合物M14(0.133g)、化合物M15(0.351g)、化合物M2(0.028g)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)及びトルエン(60mL)を加え、80℃に加熱した。」とする以外は、実施例3と同様にして、高分子化合物P−6を1.75g得た。高分子化合物P−6のMnは2.9×104であり、Mwは6.6×104であった。
実施例3における(工程1)を、「反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物M11(2.105g)、化合物M12(0.329g)、化合物M13(1.204g)、化合物M14(0.133g)、化合物M15(0.351g)、化合物M4(0.034g)、ジクロロビス(トリス-o-メトキシフェニルホスフィン)パラジウム(2.7mg)及びトルエン(60mL)を加え、80℃に加熱した。」とする以外は、実施例3と同様にして、高分子化合物P−7を1.91g得た。高分子化合物P−7のMnは3.0×104であり、Mwは7.0×104であった。
高分子化合物HTL−1は、化合物M18、化合物M12、化合物M19及び化合物M20を用いて、特開2012−144722号公報に記載の方法に従って合成した。高分子化合物HTL−1のMnは7.8×104であり、Mwは2.6×105であった。
高分子化合物HTL−1は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物M18から誘導される構成単位と、化合物M12から誘導される構成単位と、化合物M19から誘導される構成単位と、化合物M20から誘導される構成単位とが、50:12.5:30:7.5のモル比で構成されるランダム共重合体であり、末端基としてフェニル基を有する。
(陽極及び正孔注入層の形成)
ガラス基板にスパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けることにより陽極を形成した。該陽極上に、ポリチオフェン・スルホン酸系の正孔注入剤であるAQ-1200(Plectronics社製)をスピンコート法により50nmの厚さで成膜し、大気雰囲気下において、ホットプレート上で170℃、15分間加熱することにより正孔注入層を形成した。
キシレンに、高分子化合物HTL−1を0.6質量%の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上に、スピンコート法により20nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で180℃、60分間加熱することにより正孔輸送層を形成した。
キシレンに、高分子化合物P−1及び高分子化合物P−2(高分子化合物P−1/高分子化合物P−2=50質量%/50質量%)を1.2質量%の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔輸送層の上に、スピンコート法により60nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で150℃、10分加熱することにより発光層を形成した。
発光層を形成した基板を蒸着機内において、1×10-4Pa以下にまで減圧した後、陰極として、発光層の上に、フッ化ナトリウムを約4nm、次いで、フッ化ナトリウム層の上に、アルミニウムを約80nm蒸着した。蒸着後、ガラス基板を用いて封止することにより、発光素子D1を作製した。
発光素子D1に電圧を印加することによりEL発光が観測された。初期輝度3000cd/m2で定電流駆動させ、輝度が初期輝度の75%となるまでの時間(以下、「LT75」という。)を測定した。結果を表6に示す。
実施例D1の(発光層の形成)において、発光層の材料及び組成比を表6に記載のとおりにした以外は、実施例D1と同様にして、発光素子CD1〜CD4を作製した。発光素子CD1〜CD4の各々に電圧を印加したところ、EL発光が観測された。発光素子CD1〜CD4を初期輝度3000cd/m2で定電流駆動させ、LT75を測定した。結果を表6に示す。
実施例D1の(発光層の形成)において、発光層の材料及び組成比を表7に記載のとおりにした以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D2、CD5〜CD6を作製した。発光素子D2、CD5〜CD6の各々に電圧を印加したところ、EL発光が観測された。発光素子D2、CD5〜CD6を初期輝度6000cd/m2で定電流駆動させ、輝度が初期輝度の50%となるまでの時間(以下、「LT50」という。)を測定した。結果を表7に示す。
実施例D1の(発光層の形成)において、発光層の材料及び組成比を表8に記載のとおりにした以外は、実施例D1と同様にして、発光素子D3、CD7〜CD9を作製した。発光素子D3、CD7〜CD9の各々に電圧を印加したところ、EL発光が観測された。発光素子D3、CD7〜CD9を初期輝度2000cd/m2で定電流駆動させ、輝度が初期輝度の80%となるまでの時間(以下、「LT80」という。)を測定した。結果を表8に示す。
Claims (13)
- 式(1a)又は式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位を有する高分子化合物。
[式中、
環A及び環Bは、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環又は複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。前記置換基が複数存在する場合、それらが結合して環を形成していてもよい。
R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。2つあるR2は、同一でも異なっていてもよい。
Lは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
R'は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Qは、単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
波線は、二重結合に結合するR1及び環Bが、二重結合に対して同じ側であっても、反対側であってもよいことを表す。] - 前記式(1a)又は前記式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基が、前記R'から2個の水素原子を取り除いた基である、請求項1に記載の高分子化合物。
- 前記式(1a)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位を有する、請求項1又は2に記載の高分子化合物。
- 環A及び環Bがベンゼン環である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- R1が水素原子であり、L及びQが単結合である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- R'がアリール基である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- 更に、式(X)で表される構成単位を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の高分子化合物。
[式中、
a1及びa2は、それぞれ独立に、0以上2以下の整数を表す。
ArX1及びArX3は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArX2及びArX4は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基、又は、アリーレン基と2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArX2又はArX4が複数存在する場合、それらは各々同一でも異なっていてもよい。
RX1、RX2及びRX3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RX2又はRX3が複数存在する場合、それらは各々同一でも異なっていてもよい。] - 前記式(Y)で表される構成単位が、式(Y−1)又は式(Y−2)で表される構成単位である、請求項8に記載の高分子化合物。
[式中、
XY1は、−C(RY2)2−、−C(RY2)=C(RY2)−又は−C(RY2)2−C(RY2)2−で表される基を表す。複数存在するRY2は、同一でも異なっていてもよい。
RY1、RY2及びRY4は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY1及びRY2は、各々、同一でも異なっていてもよく、隣接する炭素原子に結合するRY1同士、隣接する炭素原子に結合するRY2同士、又は、同一の炭素原子に結合するRY2同士は、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。] - 前記式(1a)又は式(1b)で表される化合物から水素原子を1個以上取り除いた基からなる構成単位の含有量が、高分子化合物に含まれる全構成単位の含有量に対して、0.01〜30モル%である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- 式(1a)又は式(1b)で表される化合物における1個以上の水素原子が、ハロゲン原子、−B(OH)2で表される基又はホウ酸エステル残基で置換された化合物。
[式中、
環A及び環Bは、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環又は複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。
R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。2つあるR2は、同一でも異なっていてもよい。
Lは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
R'は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Qは、単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
波線は、二重結合に結合するR1及び環Bが、二重結合に対して同じ側であっても、反対側であってもよいことを表す。] - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の高分子化合物と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料とを含有する組成物。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の高分子化合物を含有する発光素子。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018047639 | 2018-03-15 | ||
| JP2018047639 | 2018-03-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019163455A true JP2019163455A (ja) | 2019-09-26 |
| JP7354557B2 JP7354557B2 (ja) | 2023-10-03 |
Family
ID=68065795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019044475A Active JP7354557B2 (ja) | 2018-03-15 | 2019-03-12 | 高分子化合物及びそれを用いた発光素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7354557B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020132134A1 (en) * | 2001-01-26 | 2002-09-19 | Xerox Corporation | Electroluminescent (EL) devices |
| WO2007142252A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 高分子化合物および高分子発光素子 |
| JP2014003247A (ja) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2014001349A (ja) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 組成物、高分子化合物およびそれらを用いた発光素子 |
| WO2015163241A1 (ja) * | 2014-04-23 | 2015-10-29 | 住友化学株式会社 | 組成物およびそれを用いた発光素子 |
-
2019
- 2019-03-12 JP JP2019044475A patent/JP7354557B2/ja active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2015163241A1 (ja) * | 2014-04-23 | 2015-10-29 | 住友化学株式会社 | 組成物およびそれを用いた発光素子 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7354557B2 (ja) | 2023-10-03 |
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