JP2019162866A - 透明部材および撮像装置および透明部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明にかかる透明部材の一実施形態であって、厚さ方向(基材表面に対する法線方向)の断面を示す模式図である。同図において、本発明の透明部材10は、基材16の上に、多孔質層14と親水性ポリマー層15とをこの順に有している。本発明において、「透明」とは、可視光に対する透過率が50%以上の特性を意味する。
以下、各層について詳細に説明する。
親水性ポリマー層15は、梱包環境下と屋外設置された時点における、透明部材表面の親水性を保証するための膜である。
多孔質層14は、バインダーによってシリカ粒子12が固定され、シリカ粒子12間に空隙を含む構造を有している。多孔質層14の空隙率は、40%以上55%以下であることが好ましい。多孔質層14の空隙率が40%以上であれば、屋外暴露環境時に屋外に漂う疎水性の有機系汚染物を多孔質内部に十分に取り込んで、表面の親水性を維持することができる。また多孔質層14の空隙率が55%以下であれば、親水膜のヘイズが小さく、高い透明性が得られる。さらに、長期にわたって親水性を維持するには、有機系汚染物を取り込む空隙の容量を確保するため、層厚dは200nm以上2000nm以下であることが好ましい。
シリカ粒子12の平均粒子径は、10nm以上60nm以下であることが好ましい。シリカ粒子12の平均粒子径が10nmより小さい場合は、粒子間にできる空隙が小さすぎて所望の空隙率を実現することが難しくなり、屋外に漂う疎水性の有機系汚染物を多孔質内部に十分に取り込むことができなくなる傾向がある。有機系汚染物の大部分が表面に付着すると疎水化してしまい、屋外環境下での親水性を維持することが困難となる。また、シリカ粒子12の平均粒子径が60nmを超えると、粒子間にできる空隙13のサイズが大きくなり、空隙13やシリカ粒子12による散乱が発生する傾向がある。
バインダー13は、膜の耐摩耗性、密着力、環境信頼性によって適宜選択することが可能であるが、シリカ粒子12との親和性が高く多孔質層の耐摩耗性を向上させることができる、シリカ(SiO2)バインダーが好ましい。シリカバインダーの中でも、シリケート加水分解縮合物が特に好ましい。
基材16の材質としては、透明なアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂、ガラス等を用いることができる。基材16の形状は限定されることはなく、板状であってもフィルム状であってもよく、また、平板状であっても、曲面、凹面または凸面を有する形状、例えば半球状のドーム形状等であってもよい。
次に、本発明に係る透明部材の製造方法についてその一例を説明する。
多孔質層14を形成する工程は、乾式法と湿式法のいずれを用いても良いが、簡便に多孔質層14を作成できる湿式法を用いることが好ましい。
多孔質層14の上に親水性ポリマー層15を形成する工程は、親水性ポリマーを含む溶液をスピンコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スリットコート法、印刷法やディップコート法などの方法で塗布し、硬化する工程である。
図2は、本発明の撮像装置の一実施形態を示す模式図であり、図2(a)は定点観察型の監視カメラ、図2(b)はパン・チルト・ズーム駆動が可能な旋回型の監視カメラである。図2に示す撮像装置は、装置本体30に、保護カバーとして機能するは本発明にかかる透明部材10を有し、装置本体30は、映像データを取得する光学系を備える。また、透明部材(保護カバー)10は、少なくとも装置本体30の光学系を覆い、外部からの防塵や衝撃から防御する。図2(a)の保護カバー2は平面形状の箱型、図2(b)の保護カバー2は半球形状のドーム型となっているが、保護カバーの形状はこれらに限定されない。
まず、本発明にかかる透明部材の製造に用いる塗工液について説明する。
鎖状シリカ粒子の2−プロパノール(IPA)分散液(日産化学工業株式会社製 IPA−ST−UP、平均粒子径12nm・固形分濃度15質量%、)50.00gに1−エトキシ−2−プロパノール142.50gを加えた。その後、ロータリーエバポレーターでIPAを濃縮除去し、シリカ粒子分散液A(固形分濃度5.0質量%)を調製した。
ケイ酸エチル12.48gにエタノール13.82gと硝酸水溶液(濃度3%)を加え、室温で10時間攪拌し、シリカバインダー溶液(固形分濃度11.5質量%)を調製した。
(1)で調整したシリカ粒子分散液50.00gを1−エトキシ−2−プロパノール65.67gで希釈した後に(2)で調整したシリカバインダー溶液3.26gを加えて室温で10分間攪拌した。その後、50℃で1時間攪拌してシリカ粒子塗工液Bを調製した。動的光散乱法による粒度分布測定(マルバーン社製 ゼータサイザーナノZS)により、シリカ粒子塗工液B中に、単径が15nm、長径が95nmの鎖状シリカ粒子が分散していることを確認した。調整したシリカ粒子塗工液のバインダーの含有量は13質量%である。
スルホベタイン基を有したアクリルポリマーの水溶液であるLAMBIC−771W(大阪有機化学工業社製)20gに純水80gを加えて希釈し、室温で10分間撹拌した。
12mlの2−プロパノールに、2.0g(19.4mmol)の無水ジメチルアミノ酢酸と4.2g(17.8mmol)のグリシドキシプロピルトリメトキシシランを混合し、60℃で4時間還流し、溶媒を除去して透明粘性液体を得た。
スルホ基を有したアクリル系UV硬化塗料であるKPP−05(公進ケミカル株式会社製)1gに1−メトキシ−2−プロパノールを100gを加えて希釈し、室温で10分間撹拌した。
アミノ系シランである3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製 A0774)0.1gを1−メトキシ−2−プロパノール(関東化学製 特級)100gを加えて室温で10分間撹拌した。
次に、上記塗工液を用いて作製される透明部材の評価方法について説明する。
分光エリプソメータ(VASE、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製)を用いて波長380nmから800nmの範囲で測定し多孔質層の膜厚を求めた。
分光エリプソメータ(VASE、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製)を用い、波長380nmから800nmまで測定し、解析から多孔質層の屈折率を求めた。測定で得られた多孔質層の屈折率と、シリカの屈折率1.46と、空気の屈折率1.00から、式1を用いて多孔質層の空隙率を算出した。
(式1) 空隙率=100×(1.46−多孔質の屈折率)/(1.00−1.46)
全自動接触角計(共和界面科学株式会社製 DM−701)を用い、23℃50%RHで純水2μlの液滴を接触した時の接触角を測定した。作製した直後の透明部材の接触角を測定し、初期値とした。
作製した透明部材を、内側がアルミでラミネートされたアルミラミネート袋内に、シロキサン系の汚染物源としてシリコーンゴム(信越化学工業 KE−931−U)10gと共に密閉した。試料を密閉したアルミラミネート袋を、恒温恒湿試験機(エスペック株式会社 PL−2KP)にて、温度60℃の環境に300時間保持した。試験後の透明部材の水に対する接触角を(9)と同様に測定した。
長期保管していない透明部材をキセノンウェザーメーター(スガ試験機株式会社製 スーパーキセノンウェザーメーター CX75)に投入した。光照射強度を180W/m2に設定し、光照射と放水を18分、光照射のみを1時間42分を1サイクルとして、合計150サイクルの計300時間試験して一旦評価した。さらにその後、150サイクル追加して合計300サイクルの計600時間試験して再度評価した。試験後の透明部材の接触角を(9)と同様にして測定した。この屋外暴露試験は、100時間が実際の屋外暴露1年に相当すると考えられる。
X線光電子分光装置(アルバック・ファイ株式会社製 QuanteraII)を用い、ビーム条件100μm、25W、15kVの時の検出強度から多孔質層表面の親水性ポリマー由来の元素濃度を測定した。親水性ポリマー由来の元素は、例えば親水性ポリマーの親水基がスルホベタイン基やスルホ基の場合は硫黄を、ホスホルコリン基の場合はリンを、カルボベタイン基の場合は窒素を用いて測定する。その後、加速電圧100VのArイオンビームで2mm×2mm角の領域を15秒間エッチングしながら同様の分析を40回繰り返し、親水性ポリマー由来の元素の検出強度を測定した。40回エッチング後の表面からの溝の深さを測定したところ約40nmの深さであることが確認され、1回のエッチング工程で1nmの深さにエッチングされることが分かった。そこで、親水性ポリマー層の表面から複数回エッチングを行い、親水性ポリマー由来の元素の検出強度が消失した時点のエッチング回数に1nmを乗じた値を親水性ポリマー層の層厚とした。
接触角が30°未満であれば、透明部材の表面に水滴ができるのを十分に抑制することができる。従って、初期値、長期保管試験、300時間および600時間の屋外暴露試験のいずれにおいても、水に対する接触角が30°未満であればA評価、600時間の屋外暴露試験後の水に対する接触角だけが30°以上であればB評価とした。初期値、長期保管試験、300時間の屋外暴露試験のいずれかの水に対する接触角が30°以上であればC評価とした。
実施例1は、直径(φ)50mm厚さ4mmのポリカーボネート基材(nd=1.58、νd=30.2)に、プライマー塗工液を適量滴下し、1500rpmで30秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブン中で90℃10分間加熱し、乾燥させた。多孔質層の形成前に基材にプライマー塗工液からなる層を形成しておくことにより、基材と多孔質層との密着力を高めることができる。
親水性ポリマー塗工液Aの調整の際に、純水の量を20gとして調整した親水性ポリマー塗工液を用いた以外は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作成した。
親水性ポリマー塗工液Aの調整の際に、純水の量を300gとして調整した親水性ポリマー塗工液を用いた以外は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
シリカ粒子塗工液の調製の際に、シリカ粒子分散液の希釈溶媒として1−ペンタノールを用いた。またシリカ塗工液をスピンコートを行った後に加熱する工程を繰り返す回数を18回とした。その他の工程は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例5は、シリカ粒子塗工液の調製の際に、シリカ粒子分散液の希釈溶媒として乳酸メチルを用いた。鎖状シリカ塗工液を、スピンコートにて塗布した後に加熱する工程の繰り返し回数を5回とした以外は、実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例6は、親水性ポリマー塗工液Bを用いた以外は実施例1と同様にして作成し、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
シリカ塗工液をスピンコート法によって塗布した後に加熱する工程の繰り返し回数を2回とした点を除き、実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例1の親水性ポリマー塗工液をスピンコート法にて塗布する工程以降の工程を行わず、多孔質層のみからなる親水性被膜付きの透明部材を作製した。
シリカ粒子塗工液の調製の際、シリカ粒子分散液の希釈溶媒に2−メトキシエタノールを用いた。また親水性ポリマー塗工液Aの調整の際に純水で希釈せず、LAMBIC−771Wをそのまま親水性ポリマー塗工液として用いた。それ以外は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例1と同様にして多孔質層を形成したのち、多孔質層上に、親水性ポリマー塗工液Cを適量滴下し、3000rpmで30秒の条件でスピンコートを行なった。その後、熱風循環オーブン中で80℃10分間加熱した(乾燥工程)。その後UV照射装置スポットキュア(ウシオ電機株式会社製)を用いて、UV強度100mW/cm2で10s照射して(硬化工程)、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
11 シリカ粒子
12 バインダー
13 空隙
14 多孔質層
15 親水性ポリマー層
16 基材
Claims (19)
- 基材と、多孔質層と、親水性ポリマー層と、をこの順に備える透明部材であって、
前記多孔質層は、シリカ粒子とバインダーとを含み、前記親水性ポリマー層は、両性イオン親水基を有するポリマーを含み、1nm以上20nm以下の層厚を有することを特徴とする透明部材。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の透明部材。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の透明部材。
- 前記シリカ粒子の平均粒子径が10nm以上60nm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の透明部材。
- 前記バインダーが、シリカバインダーであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の透明部材。
- 前記基材の材質は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の透明部材。
- 筐体と透明部材とで囲まれた空間内に、光学系と、前記光学系を介して映像を取得するイメージセンサと、を備える撮像装置であって、
前記透明部材は、外部側の面に、多孔質層と、親水性ポリマー層と、をこの順に備え、前記多孔質層は、シリカ粒子とバインダーとを含み、
前記親水性ポリマー層は、両性イオン親水基を有するポリマーを含み、1nm以上20nm以下の層厚を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基のいずれかであることを特徴とする請求項7に記載の撮像装置。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下であることを特徴とする請求項7または8に記載の撮像装置。
- 前記シリカ粒子の平均粒子径が10nm以上60nm以下であることを特徴とする請求項7から9のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記バインダーが、シリカバインダーであることを特徴とする請求項7から10のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記透明部材が、平板状またはドーム形状であることを特徴とする請求項7から11のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 基材と、多孔質層と、親水性ポリマー層と、をこの順に備える透明部材の製造方法であって、
基材の上にシリカ粒子とバインダー成分とを含む分散液を塗布して硬化し、多孔質層を形成する工程と、
前記多孔質層の上に両性イオン親水基を有する親水性ポリマーを含む溶液を塗布して硬化し、1nm以上20nm以下の層厚の親水性ポリマー層を形成する工程と、
を有することを特徴とする透明部材の製造方法。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基のいずれかであることを特徴とする請求項13に記載の透明部材の製造方法。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下となるように多孔質層を形成することを特徴とする請求項13または14に記載の透明部材の製造方法。
- 前記シリカ粒子が、平均粒子径が10nm以上60nm以下の鎖状シリカであることを特徴とする請求項13から15いずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 前記バインダー成分が、シリケート加水分解縮合物であることを特徴とする請求項13から16のいずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 前記分散液に含まれるバインダー量は、シリカ粒子100質量部に対して、5質量部以上35質量部以下であることを特徴とする請求項13から17のいずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 前記多孔質層を形成する工程の前に、前記基板の上に、アミノ系シランを含むプライマー塗工液を塗布して乾燥させる工程を有することを特徴とする請求項13から18のいずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
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