[go: up one dir, main page]

JP2019035698A - Probe structure and method for manufacturing probe structure - Google Patents

Probe structure and method for manufacturing probe structure Download PDF

Info

Publication number
JP2019035698A
JP2019035698A JP2017158132A JP2017158132A JP2019035698A JP 2019035698 A JP2019035698 A JP 2019035698A JP 2017158132 A JP2017158132 A JP 2017158132A JP 2017158132 A JP2017158132 A JP 2017158132A JP 2019035698 A JP2019035698 A JP 2019035698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon nanotube
electrode
nanotube structure
probe
cnt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017158132A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
真寿 前田
Masatoshi Maeda
真寿 前田
清 沼田
Kiyoshi Numata
清 沼田
秀和 山崎
Hidekazu Yamazaki
秀和 山崎
藤野 真
Makoto Fujino
真 藤野
滋樹 坂井
Shigeki Sakai
滋樹 坂井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidec Advance Technology Corp
Original Assignee
Nidec Read Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nidec Read Corp filed Critical Nidec Read Corp
Priority to JP2017158132A priority Critical patent/JP2019035698A/en
Publication of JP2019035698A publication Critical patent/JP2019035698A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Abstract

【課題】プローブ構造体が変形するおそれを低減することが容易なプローブ構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】第一面31と第二面32とを有する電極3と、当該電極3の第一面31上に立設された第一カーボンナノチューブ構造体4と、電極3の第二面32上に立設された第二カーボンナノチューブ構造体5とを備えているプローブ構造体、及びプローブ構造体の製造方法。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe structure and a method for manufacturing the probe structure in which the possibility of deformation of the probe structure can be easily reduced. SOLUTION: An electrode 3 having a first surface 31 and a second surface 32, a first carbon nanotube structure 4 erected on the first surface 31 of the electrode 3, and a second surface 32 of the electrode 3. A probe structure including the second carbon nanotube structure 5 erected on the probe structure, and a method for manufacturing the probe structure. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、基板検査用治具等に使用されるプローブ構造体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a probe structure used for a substrate inspection jig or the like and a method for manufacturing the same.

従来、電子デバイス材料や、光学材料、導電性材料、又は生体関連材料等としての使用が期待されるカーボンナノチューブ(CNT)において、多数本のカーボンナノチューブを集合させてバルク集合体を形成することが知られている。また、このバルク集合体のサイズをラージスケール化させるとともに、純度、比表面積、導電性、密度、硬度等の特性を向上させるように、触媒を成長基板上に配置してこの成長基板上に複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長(CVD)させる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, in a carbon nanotube (CNT) expected to be used as an electronic device material, an optical material, a conductive material, or a biological material, a bulk aggregate is formed by aggregating a large number of carbon nanotubes. Are known. In addition, the size of the bulk aggregate is increased to a large scale, and a catalyst is arranged on the growth substrate so as to improve the properties such as purity, specific surface area, conductivity, density, hardness, and the like. A method of chemical vapor deposition (CVD) of carbon nanotubes is known (for example, see Patent Document 1).

特開2007−181899号公報JP 2007-181899 A

ところで、特許文献1に開示されたカーボンナノチューブバルク・構造体は、成長基板上に配置された触媒の存在下で所定長さに成長させた複数本のカーボンナノチューブの集合体として製造された後に、その基端部が物理的、化学的あるいは機械的に成長基板から剥離された状態で、電子デバイス材料や導電性材料等として使用されるように構成されている。   By the way, after the carbon nanotube bulk structure disclosed in Patent Document 1 is manufactured as an aggregate of a plurality of carbon nanotubes grown to a predetermined length in the presence of a catalyst arranged on a growth substrate, The base end portion is configured to be used as an electronic device material, a conductive material, or the like in a state where the base end portion is physically, chemically, or mechanically separated from the growth substrate.

前記カーボンナノチューブバルク・構造体の基端部を、検査装置の制御部等に信号を伝送するための電極部等に接続することにより、例えば基板検査用治具等の、電気信号を検出するためのプローブ構造体として使用することが考えられる。しかしながら、この場合には、カーボンナノチューブバルク・構造体の全長が大きくなると、このカーボンナノチューブバルク・構造体に歪みや変形が生じやすくなる。そのため、プローブ構造体の先端部の位置が、接触させようとする目標位置に対してずれてしまう位置ずれが生じるという不都合があった。   In order to detect an electrical signal such as a substrate inspection jig by connecting the base end portion of the carbon nanotube bulk / structure to an electrode portion for transmitting a signal to a control unit or the like of an inspection apparatus. It can be considered to be used as a probe structure. However, in this case, when the total length of the carbon nanotube bulk / structure is increased, the carbon nanotube bulk / structure is likely to be distorted or deformed. For this reason, there is a disadvantage that the position of the tip portion of the probe structure is displaced with respect to the target position to be contacted.

本発明の目的は、プローブ構造体が変形するおそれを低減することが容易なプローブ構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a probe structure that can easily reduce the risk of deformation of the probe structure and a method for manufacturing the probe structure.

本発明に係るプローブ構造体は、第一面と第二面とを有する電極と、当該電極の第一面に立設された第一カーボンナノチューブ構造体と、前記電極の第二面に立設された第二カーボンナノチューブ構造体とを備えているものである。   A probe structure according to the present invention includes an electrode having a first surface and a second surface, a first carbon nanotube structure erected on the first surface of the electrode, and an erection on the second surface of the electrode. The second carbon nanotube structure is provided.

この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させてプローブ構造体とすることができるので、成長用の基板からカーボンナノチューブ構造体を剥離することなく、所定長さのプローブ構造体を形成することができる。そして、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体との間に電極が配設されているため、実質的に第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さのカーボンナノチューブ構造体の略中央部分が電極で保持された状態となる。その結果、背景技術に記載されているような、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さと略等しい連続したカーボンナノチューブ構造体と比べて、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させたプローブ構造体は、変形するおそれが低減される。   According to this configuration, since the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be grown from both ends of the electrode to form a probe structure, the carbon nanotube structure can be peeled from the growth substrate. And a probe structure having a predetermined length can be formed. In addition, since the electrode is disposed between the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, the length substantially combining the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. The substantially central portion of the carbon nanotube structure is held by the electrode. As a result, the first carbon nanotube structure is compared with the continuous carbon nanotube structure that is substantially equal to the combined length of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, as described in the background art. In addition, the probe structure in which the second carbon nanotube structure is grown from both ends of the electrode is less likely to be deformed.

また、前記電極を保持する保持板をさらに備え、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体がそれぞれ前記保持板の板厚方向に延びるように立設されていることが好ましい。   Further, it is preferable that a holding plate for holding the electrode is further provided, and the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are each erected so as to extend in a plate thickness direction of the holding plate.

この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とが電極を介して連設されてなるプローブ構造体を安定して支持することが可能であり、その取り扱いを容易化することができる。   According to this configuration, it is possible to stably support the probe structure in which the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are connected via the electrode, and the handling is facilitated. can do.

前記保持板に、複数個の前記電極が互いに絶縁された状態で配設された構成としてもよい。   A plurality of the electrodes may be arranged on the holding plate in a state of being insulated from each other.

この構成によれば、多数のプローブを備えた基板検査装置の検査治具等として、プローブ構造体を、より好適に使用することができる。   According to this configuration, the probe structure can be more suitably used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus having a large number of probes.

また、前記電極から立ち上がる前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の立ち上り部分よりも前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の中間部分が高密度に収束されていることが好ましい。   Further, an intermediate portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is converged at a higher density than a rising portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure rising from the electrode. It is preferable.

この構成によれば、複数本のカーボンナノチューブの集合体からなる第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体において、各カーボンナノチューブ相互間で接触する箇所が増加して電流経路が増加する。この電流経路の増加により、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の電気抵抗を低減することが容易となる。   According to this configuration, in the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure formed of an aggregate of a plurality of carbon nanotubes, the number of contact points between the carbon nanotubes increases, and the current path increases. By increasing the current path, it becomes easy to reduce the electrical resistance of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure.

また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体は、絶縁性と弾力性とを有する素材からなる保形層により囲繞され、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部が前記保形層の表面から露出した構成とすることが好ましい。   The first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are surrounded by a shape-retaining layer made of a material having insulation and elasticity, and the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure It is preferable to have a configuration in which the front end portion is exposed from the surface of the shape retaining layer.

この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の導電性を維持しつつ、その変形及び損傷を効果的に防止することができる。さらに電極を保持する前記保持板を備えた場合には、保持板が、前記保形層の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能することになる。このため、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部に位置ずれが生じることを効果的に抑制でき、プローブ先端の機械的位置精度を、より向上できるという利点がある。   According to this configuration, it is possible to effectively prevent deformation and damage while maintaining the conductivity of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. Further, when the holding plate for holding the electrode is provided, the holding plate functions as a core material that suppresses distortion of the shape-retaining layer due to mechanical contraction stress, thermal stress, or the like. For this reason, it can suppress effectively that position shift arises in the tip part of the 1st carbon nanotube structure and the 2nd carbon nanotube structure, and there is an advantage that the mechanical position accuracy of a probe tip can be improved more.

本発明に係るプローブ構造体の製造方法は、第一面と第二面とを有する電極を形成する電極形成工程と、前記電極の第一面及び第二面上に触媒をそれぞれ配設する触媒配設工程と、前記電極の第一面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第一カーボンナノチューブ構造体を生成し、前記電極の第二面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第二カーボンナノチューブ構造体を生成するカーボンナノチューブ構造体生成工程とを備えている。   The probe structure manufacturing method according to the present invention includes an electrode forming step of forming an electrode having a first surface and a second surface, and a catalyst in which a catalyst is disposed on each of the first surface and the second surface of the electrode. A first carbon nanotube structure is formed on the first surface of the electrode by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes in the presence of the catalyst on the first surface of the electrode; And a carbon nanotube structure generation step of generating a second carbon nanotube structure by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes in the presence of the catalyst.

この構成によれば、この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させてプローブ構造体とすることができるので、成長用の基板からカーボンナノチューブ構造体を剥離することなく、所定長さのプローブ構造体を形成することができる。そして、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体との間に電極が配設されているため、実質的に第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さのカーボンナノチューブ構造体の略中央部分が電極で保持された状態となる。その結果、背景技術に記載されているような、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さの連続したカーボンナノチューブ構造体と比べて、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させたプローブ構造体は、変形するおそれが低減される。   According to this configuration, according to this configuration, the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be grown from both ends of the electrode to form a probe structure. A probe structure having a predetermined length can be formed without peeling off the structure. In addition, since the electrode is disposed between the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, the length substantially combining the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. The substantially central portion of the carbon nanotube structure is held by the electrode. As a result, the first carbon nanotube structure and the continuous carbon nanotube structure having the combined length of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, as described in the background art, The probe structure in which the second carbon nanotube structure is grown from both ends of the electrode is less likely to be deformed.

また、前記電極形成工程において、保持板に前記電極の保持孔となる貫通孔を形成した後、当該貫通孔に導電性を有する材料を充填して、前記電極の第一面及び第二面を露出させた状態で前記電極を形成することが好ましい。   Further, in the electrode forming step, after forming a through hole to be a holding hole of the electrode in the holding plate, the through hole is filled with a conductive material, and the first surface and the second surface of the electrode are formed. It is preferable to form the electrode in an exposed state.

この構成によれば、プローブ構造体が安定して支持されることにより、取り扱いが容易なプローブ構造体を製造することができる。   According to this configuration, a probe structure that is easy to handle can be manufactured by stably supporting the probe structure.

さらに、前記電極形成工程において、前記保持板に複数個の前記貫通孔を形成した後、当該各保持孔に導電性を有する材料をそれぞれ充填して、複数個の前記電極を互いに絶縁した状態で形成するようにしてもよい。   Further, in the electrode forming step, after the plurality of through holes are formed in the holding plate, each of the holding holes is filled with a conductive material, and the plurality of electrodes are insulated from each other. You may make it form.

この構成によれば、多数のプローブを備えた基板検査装置の検査治具等として、より好適に使用できるプローブ構造体を、容易に製造することができる。   According to this configuration, it is possible to easily manufacture a probe structure that can be more suitably used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus including a large number of probes.

また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を、液体にさらした後、乾燥させることにより、電極から立ち上がる第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の立ち上り部分よりも第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の中間部分を高密度に収束させる収束工程をさらに備えていることが好ましい。   Further, the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are exposed to a liquid, and then dried, so that the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure rising from the electrode are more than the rising portions. It is preferable to further include a converging step for converging the intermediate portions of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure with high density.

この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の電気抵抗を容易に低減することができる。   According to this configuration, the electrical resistance of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be easily reduced.

また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を囲繞するように流動性を有する充填材料を充填した後、当該充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層を形成する保形層形成工程をさらに備えていることが好ましい。   In addition, after filling with a filling material having fluidity so as to surround the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, the shape retention layer is cured by hardening the filling material. It is preferable to further include a shape-retaining layer forming step of forming

この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の導電性を維持しつつ、優れた強度及び耐久性を有するプローブ構造体を製造することができる。さらに前記保持板を用いた場合には、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体との間に位置する保持板を、前記保形層の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能させることができる。このため、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部の位置ずれが生じることを効果的に抑制でき、プローブ先端の機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。   According to this configuration, a probe structure having excellent strength and durability can be manufactured while maintaining the conductivity of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. Further, when the holding plate is used, the holding plate positioned between the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is not deformed due to mechanical shrinkage stress or thermal stress of the shape holding layer. It can function as a core material to be suppressed. For this reason, it can suppress effectively that position shift of the tip part of the 1st carbon nanotube structure and the 2nd carbon nanotube structure occurs, and there is an advantage that the mechanical position accuracy of a probe tip can be improved effectively.

また、前記保形層形成工程において、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を構成する複数本のカーボンナノチューブの間に前記流動性を有する充填材料を充填して硬化させるようにしてもよい。   Further, in the shape retention layer forming step, a filling material having fluidity is filled between a plurality of carbon nanotubes constituting the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure and cured. May be.

この構成によれば、プローブ構造体の強度及び耐久性を、より効果的に向上させることができる。   According to this configuration, the strength and durability of the probe structure can be improved more effectively.

また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部を除去する除去工程をさらに備えていることが好ましい。   Moreover, it is preferable to further include a removing step of removing the tip portions of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure.

この構成によれば、カーボンナノチューブ1本1本の先端部はドーム形状になっているので、平面状の導電面に接触した時はドームの天辺部のみの接触となるのに対し、先端部をカットする事により竹輪の輪切り形状となるため、接触面積が拡大して接触抵抗は、その分小さくなると想定される。さらに、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を構成する各カーボンナノチューブの先端部がばらばらになっている場合や、カーボンナノチューブ構造体の先端部がクレータ形状となっている場合等に、この先端部を切除して第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部を平坦に揃えることができるため平面状の導電面との接触面積が拡大し、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の接触抵抗を低減させることで導電性を効果的に向上させることができる。   According to this configuration, since the tip of each carbon nanotube has a dome shape, when contacting the planar conductive surface, only the top side of the dome comes into contact, whereas the tip is By cutting, a bamboo ring is formed into a ring shape, so that the contact area is expanded and the contact resistance is assumed to be reduced accordingly. Furthermore, when the tip part of each carbon nanotube constituting the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is separated, or when the tip part of the carbon nanotube structure is a crater shape, etc. Since the tip of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be flattened by cutting away the tip, the contact area with the planar conductive surface is increased, and the first carbon nanotube structure The conductivity can be effectively improved by reducing the contact resistance between the body and the second carbon nanotube structure.

また、前記保形層の表面を除去する工程をさらに備えていることが好ましい。   Moreover, it is preferable to further include a step of removing the surface of the shape retaining layer.

この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部に保形層を構成する充填材料が付着している場合に、これを除去することが可能となる。   According to this structure, when the filling material which comprises a shape retention layer has adhered to the front-end | tip part of a 1st carbon nanotube structure and a 2nd carbon nanotube structure, it becomes possible to remove this.

このような構成のプローブ構造体によれば、プローブ構造体が変形するおそれを低減することが容易になる。また、このような構成の製造方法によれば、変形するおそれを低減することが容易なプローブ構造体を容易に製造することができる。   According to the probe structure having such a configuration, it is easy to reduce the possibility that the probe structure is deformed. Moreover, according to the manufacturing method having such a configuration, it is possible to easily manufacture a probe structure that can easily reduce the risk of deformation.

本発明に係るプローブ構造体の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows embodiment of the probe structure which concerns on this invention. 本発明に係るプローブ構造体の製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the probe structure which concerns on this invention. 本発明に係るプローブ構造体の製造工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of the probe structure which concerns on this invention. カーボンナノチューブ構造体の成形過程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the formation process of a carbon nanotube structure. カーボンナノチューブ構造体の成形過程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the formation process of a carbon nanotube structure. 本発明に係るプローブ構造体を基板検査装置の検査治具として使用した例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example which used the probe structure which concerns on this invention as an inspection jig | tool of a board | substrate inspection apparatus.

以下、本発明に係る実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、その説明を省略する。   Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the structure which attached | subjected the same code | symbol in each figure shows that it is the same structure, The description is abbreviate | omitted.

図1は、本発明に係るプローブ構造体の実施形態を示す断面図、図2は、プローブ構造体1の製造方法を示す工程図、図3は、プローブ構造体1の製造工程を示す説明図、図4及び図5は、プローブ構造体1を構成する第一カーボンナノチューブ構造体4(以下、第一CNT構造体4という)及び第二カーボンナノチューブ構造体5(以下、第二CNT構造体5という)の成形過程を示す斜視図、図6は、前記プローブ構造体1を基板検査装置の検査治具として使用した例を示す説明図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a probe structure according to the present invention, FIG. 2 is a process diagram showing a method for manufacturing the probe structure 1, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing a process for manufacturing the probe structure 1. 4 and 5 show a first carbon nanotube structure 4 (hereinafter referred to as a first CNT structure 4) and a second carbon nanotube structure 5 (hereinafter referred to as a second CNT structure 5) constituting the probe structure 1. FIG. 6 is an explanatory view showing an example in which the probe structure 1 is used as an inspection jig of a substrate inspection apparatus.

プローブ構造体1は、第一面(図1の上方側に位置する面)21及び第二面(図1の下方側に位置する面)22を有する保持板2と、この保持板2に保持された複数個の電極3と、各電極3の第一面31上にそれぞれ立設された第一CNT構造体4と、各電極3の第二面32上にそれぞれ立設された第二CNT構造体5とを備えている。   The probe structure 1 includes a holding plate 2 having a first surface (surface located on the upper side in FIG. 1) 21 and a second surface (surface located on the lower side in FIG. 1) 22, and is held by the holding plate 2. The plurality of electrodes 3, the first CNT structure 4 erected on the first surface 31 of each electrode 3, and the second CNT erected on the second surface 32 of each electrode 3, respectively. The structure 5 is provided.

保持板2は、電極3の保持孔となる複数の貫通孔23が形成された絶縁された結晶シリコン基板等からなっている。保持板2の第一面21、第二面22、及び貫通孔23の周面は、二酸化ケイ素(SiO)からなる絶縁膜24で覆われている。 The holding plate 2 is made of an insulated crystalline silicon substrate or the like in which a plurality of through holes 23 that serve as holding holes for the electrodes 3 are formed. The peripheral surfaces of the first surface 21, the second surface 22, and the through hole 23 of the holding plate 2 are covered with an insulating film 24 made of silicon dioxide (SiO 2 ).

電極3は、貫通孔23内に埋め込まれるように設置された金、銀、銅又はアルミニウム合金等の導電性材料からなり、電極3の第一面31及び第二面32は、0.01mm〜0.2mm程度の幅寸法と、0.1μm〜9μm程度の厚みとを有する島状に形成されている。
また、保持板2に保持された複数個の電極3は、絶縁膜24により互いに絶縁された状態で配設されている。
The electrode 3 is made of a conductive material such as gold, silver, copper, or an aluminum alloy installed so as to be embedded in the through hole 23, and the first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3 are 0.01 mm to It is formed in an island shape having a width dimension of about 0.2 mm and a thickness of about 0.1 μm to 9 μm.
The plurality of electrodes 3 held by the holding plate 2 are disposed in a state of being insulated from each other by the insulating film 24.

なお、当実施形態では、保持板2の貫通孔23内に配設された電極3の本体部に比べ、その軸方向の両端部に設けられた第一面31及び第二面32を大径に形成している。この構成によれば、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の設置面となる第一面31及び第二面32の面積を十分に確保しつつ、貫通孔23内に配設される電極本体部の容量を低減して材料費を節約することが可能となる。なお、電極3の本体部と第一面31及び第二面32とを同一径に形成することも可能である。   In the present embodiment, the first surface 31 and the second surface 32 provided at both end portions in the axial direction are larger in diameter than the main body portion of the electrode 3 disposed in the through hole 23 of the holding plate 2. Is formed. According to this configuration, the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are disposed in the through hole 23 while sufficiently securing the areas of the first surface 31 and the second surface 32 that are the installation surfaces of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5. Therefore, it is possible to save the material cost by reducing the capacity of the electrode main body. In addition, it is also possible to form the main-body part of the electrode 3, the 1st surface 31, and the 2nd surface 32 in the same diameter.

電極3の第一面31及び第二面32には、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を生成するための鉄、ニッケル又はコバルトからなる触媒33それぞれが蒸着される等により配設されている。この触媒33の厚みは1nm以上で100nm以下であることが好ましく、1nm以上で5nm以下であることがさらに好ましい。   The first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3 are arranged by depositing, for example, a catalyst 33 made of iron, nickel, or cobalt for forming the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5. It is installed. The thickness of the catalyst 33 is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 1 nm or more and 5 nm or less.

なお、絶縁性を有するセラミックス材、またはガラス材等で保持板2を形成することにより、保持板2の全体を絶縁構造としてもよい。この場合には、絶縁膜24を設けることなく、複数個の電極3を互いに絶縁した状態で保持板2に保持させることができる。   In addition, it is good also considering the whole holding | maintenance board 2 as an insulation structure by forming the holding | maintenance board 2 with the ceramic material which has insulation, or glass material. In this case, without providing the insulating film 24, the plurality of electrodes 3 can be held on the holding plate 2 while being insulated from each other.

第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5は、従来周知のCVD装置(図示せず)を使用して、触媒33の存在下で単層または複層のカーボンナノチューブ10を複数本まとめて化学気相成長させることにより構成されたカーボンナノチューブ10の集合体からなっている。   The first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are formed by combining a plurality of single-walled or multi-walled carbon nanotubes 10 in the presence of the catalyst 33 using a conventionally known CVD apparatus (not shown). It consists of an aggregate of carbon nanotubes 10 formed by chemical vapor deposition.

カーボンナノチューブ10は、1nm〜20nmの外径と200μm〜2mmの立設長さを有している。このカーボンナノチューブ10の外径の好ましい範囲は10nm〜15nmである。また、カーボンナノチューブ10の立設長さの、より好ましい範囲は200μm〜500μmである。   The carbon nanotube 10 has an outer diameter of 1 nm to 20 nm and a standing length of 200 μm to 2 mm. A preferable range of the outer diameter of the carbon nanotube 10 is 10 nm to 15 nm. A more preferable range of the standing length of the carbon nanotube 10 is 200 μm to 500 μm.

第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5は、電極3の第一面31及び第二面32からの立ち上り部分に比べて、中間部分及びその先端側部分が高密度に収束されている。すなわち、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の外径は、電極3からの立ち上り部分よりも中間部分及びその先端側部分の方が細くなるように形成されている。   In the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5, compared to the rising portions from the first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3, the intermediate portion and the tip side portion thereof are converged with high density. . That is, the outer diameters of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are formed so that the intermediate portion and the tip side portion thereof are thinner than the rising portion from the electrode 3.

本第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分における密度は、1010本/cm〜1011本/cmであり、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分及び先端側部分は、前記立ち上り部分における密度の5倍〜20倍程度の密度を有していることが好ましい。なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも中間部分(長さ方向の略中央)が高密度であればよく、必ずしも前記範囲の密度倍率でなくてもよい。 The density at the rising portion of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 is 10 10 / cm 2 to 10 11 / cm 2 , and the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 It is preferable that the intermediate part and the tip side part have a density of about 5 to 20 times the density of the rising part. The intermediate portion (substantially the center in the length direction) may be higher in density than the rising portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5, and the density magnification in the above range is not necessarily required.

また、保持板2の第一面21及び第二面22上には、絶縁性と弾力性とを有するシリコーンゴム等からなる保形層6が、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するように設けられている。また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部は、保形層6の表面から露出した状態で設置されている。   Further, on the first surface 21 and the second surface 22 of the holding plate 2, a shape retaining layer 6 made of silicone rubber or the like having insulating properties and elasticity is provided on the first CNT structure 4 and the second CNT structure. 5 is provided so as to surround 5. Moreover, the front-end | tip part of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5 is installed in the state exposed from the surface of the shape-retaining layer 6.

プローブ構造体1の製造方法は、図2に示すように、電極3を形成する電極形成工程K1と、電極3の第一面31及び第二面32上に触媒33をそれぞれ配設する触媒配設工程K2と、電極3の第一面31上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第一CNT構造体4を生成し、電極3の第二面32上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第二CNT構造体5を生成するCNT構造体生成工程K3と、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の少なくとも中間部分を高密度に収束させる収束工程K4と、絶縁性と弾力性とを有する保形層6を形成する保形層形成工程K5と、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部と保形層6の表面とを切除する等して除去する除去工程K6とを備えている。   As shown in FIG. 2, the manufacturing method of the probe structure 1 includes an electrode forming step K1 for forming the electrode 3, and a catalyst arrangement in which a catalyst 33 is disposed on the first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3, respectively. The first CNT structure 4 is generated by chemical vapor deposition of the plurality of carbon nanotubes 10 in the presence of the catalyst 33 on the first surface 31 of the electrode 3 and the first surface 31 of the electrode 3. CNT structure generation step K3 for generating a second CNT structure 5 by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes 10 in the presence of the catalyst 33 on the 32, and the first CNT structure 4 and the second CNT A convergence step K4 for converging at least an intermediate portion of the structure 5 with high density, a shape retention layer forming step K5 for forming the shape retention layer 6 having insulation and elasticity, the first CNT structure 4 and the second CNT structure 4 The tip of the CNT structure 5 and the surface of the shape-retaining layer 6 And a removal step K6 of removing equal dividing.

なお、除去工程K6は、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部のみを除去する工程であってもよく、保形層6の表面のみを除去する工程であってもよい。   The removal step K6 may be a step of removing only the tip portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5, or may be a step of removing only the surface of the shape retaining layer 6. .

電極形成工程K1では、図3(a)に示すように、第一面21及び第二面22及び貫通孔23の周面が絶縁膜24で覆われた保持板2の貫通孔23に、金、銀、銅又はアルミニウム金属材を充填する等により、貫通孔23に対応した位置に電極3を形成する。   In the electrode forming step K1, as shown in FIG. 3A, the first surface 21, the second surface 22, and the peripheral surface of the through hole 23 are formed in the through hole 23 of the holding plate 2 covered with the insulating film 24. The electrode 3 is formed at a position corresponding to the through hole 23 by filling with silver, copper, or aluminum metal material.

その後、触媒配設工程K2において、各電極3の第一面31及び第二面32上に、塩化鉄薄膜、スパッタで作製された鉄薄膜、鉄−モリブデン薄膜、アルミナ−鉄薄膜、アルミナ−コバルト薄膜、アルミナ−鉄−モリブデン薄膜等からなる触媒33を、スパッタ蒸着する等によりそれぞれ配設する。   Thereafter, in the catalyst disposing step K2, on the first surface 31 and the second surface 32 of each electrode 3, an iron chloride thin film, an iron thin film prepared by sputtering, an iron-molybdenum thin film, an alumina-iron thin film, alumina-cobalt. A catalyst 33 made of a thin film, an alumina-iron-molybdenum thin film, or the like is disposed by sputtering deposition or the like.

次いで、CNT構造体生成工程K3において、図外のCVD装置を使用してカーボンが含まれる炭化水素、なかでも低級炭化水素、例えばメタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、アセチレン等を注入して500℃以上の温度に加熱する。これにより、図3(b)及び図4に示すように、触媒33の存在下で、単層または複層のカーボンナノチューブ10を複数本まとめて化学気相成長させ、カーボンナノチューブ10の集合体からなる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を電極3の第一面31及び第二面32上にそれぞれ生成する。   Next, in a CNT structure generation step K3, a hydrocarbon containing carbon, especially lower hydrocarbons such as methane, ethane, propane, ethylene, propylene, acetylene, etc. are injected by using a CVD apparatus (not shown) to 500 Heat to a temperature above ℃. As a result, as shown in FIG. 3B and FIG. 4, in the presence of the catalyst 33, a plurality of single-walled or multi-walled carbon nanotubes 10 are collectively grown by chemical vapor deposition. The first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are formed on the first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3, respectively.

カーボンナノチューブ10を化学気相成長させる際には、例えばヘリウム、アルゴン、水素、窒素、ネオン、クリプトン、二酸化炭素、塩素等のカーボンナノチューブ10と反応しない雰囲気ガスを使用することが好ましい。また、反応の雰囲気圧力は、10Pa以上で10Pa以下であることが好ましく、10Pa以上で3×10Pa以下であることがさらに好ましく、5×10Pa以上で9×10Pa以下であることが特に好ましい。 When chemical vapor deposition of the carbon nanotubes 10 is performed, it is preferable to use an atmospheric gas that does not react with the carbon nanotubes 10 such as helium, argon, hydrogen, nitrogen, neon, krypton, carbon dioxide, and chlorine. Further, the atmospheric pressure of the reaction is preferably 10 2 Pa or more and 10 7 Pa or less, more preferably 10 4 Pa or more and 3 × 10 5 Pa or less, and further preferably 5 × 10 4 Pa or more and 9 × It is particularly preferable that the pressure be 10 4 Pa or less.

次に、収束工程K4において、複数本のカーボンナノチューブ10の間に、例えば水、アルコール類(イソプロパノール、エタノール、メタノール)、アセトン類(アセトン)、ヘキサン、トルエン、シクロヘキサン、DMF(ジメチルホルムアミド)等からなる液滴Eを垂らすことにより液体にさらした後、これを室温下で自然乾燥、真空に引き乾燥、又はホットプレートなどで加熱する等により乾燥させる。   Next, in the convergence step K4, between the plurality of carbon nanotubes 10, for example, water, alcohols (isopropanol, ethanol, methanol), acetones (acetone), hexane, toluene, cyclohexane, DMF (dimethylformamide), etc. After the droplet E is exposed to the liquid by dropping, it is naturally dried at room temperature, dried under vacuum, or heated by a hot plate or the like.

この結果、液滴Eを垂らすことにより生じる表面張力と、カーボンナノチューブ10間に生じるファンデルワールス力とによりジッパー効果が発現され、各カーボンナノチューブ10同士が引き寄せられて収束される。このとき、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の基端部は電極3の第一面31及び第二面32にそれぞれ固着されているため、図3(c)及び図5に示すように、第一面31及び第二面32からそれぞれ立ち上がる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分及びその上方側部分が顕著に収束されて高密度化される。   As a result, the zipper effect is expressed by the surface tension generated by dropping the droplet E and the van der Waals force generated between the carbon nanotubes 10, and the carbon nanotubes 10 are attracted and converged. At this time, since the base end portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are respectively fixed to the first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3, FIG. 3 (c) and FIG. As shown, the middle of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 is higher than the rising portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 rising from the first surface 31 and the second surface 32, respectively. The portion and the upper portion thereof are remarkably converged and densified.

なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部は自由端とされているので拡がり易い。そのため、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5は、その全体として収束されており、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の少なくとも中間部分が細くなっていればよく、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部が部分的に拡がることにより太くなっていてもよい。   In addition, since the front-end | tip part of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5 is made into the free end, it is easy to expand. Therefore, the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are converged as a whole, and the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are more than the rising portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5. It suffices that at least the middle part of the second CNT structure 5 is thin, and the first CNT structure 4 and the tip part of the second CNT structure 5 may be thickened by partially expanding.

その後、保形層形成工程K5で、図3(d)に示すように、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するように、流動性を有する充填材料、例えばシリコーンベースのエラストマを充填した後、当該充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層6を形成する。   Thereafter, in the shape retention layer forming step K5, as shown in FIG. 3 (d), a fluid-filling material, for example, a silicone-based material is used so as to surround the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5. After filling the elastomer, the filling material is cured to form the shape retaining layer 6 having insulation and elasticity.

前記流動性を有する充填材料としては、ゴム材料、フレキシブルプラスチック材料、及び硬化可能な液状ゴム等を含む各種の材料を使用可能である。液状ゴムとしては、例えばRTV(Room Temperature Vulcanizing)シリコーンゴム、加熱硬化型シリコーンゴム、紫外線硬化型シリコーンゴム等種々の液状ゴムを用いることができ、例えば、信越化学工業株式会社製RTVシリコーンゴム「KE−1285」等を用いることができる。   As the filling material having fluidity, various materials including a rubber material, a flexible plastic material, and a curable liquid rubber can be used. As the liquid rubber, various liquid rubbers such as RTV (Room Temperature Vulcanizing) silicone rubber, heat curable silicone rubber, ultraviolet curable silicone rubber and the like can be used. For example, RTV silicone rubber “KE” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -1285 "or the like can be used.

保形層6を形成する際に、複数本のカーボンナノチューブ10間に充填材料を充填するようにしてもよい。これにより、例えばプローブ等として使用される第一CNT構造体4が倒れるのを防止すことが可能となり、かつ相隣接するCNT構造体4同士及び隣接するCNT構造体5が互いに接触しないように支えることが可能になる。また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成する複数本のカーボンナノチューブ10の間に充填材料を充填して硬化させてもよい。この場合、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の強度又は耐久性を向上させることが可能となる。   When forming the shape retaining layer 6, a filling material may be filled between the plurality of carbon nanotubes 10. Thereby, for example, it is possible to prevent the first CNT structure 4 used as a probe or the like from falling down, and support the adjacent CNT structures 4 and the adjacent CNT structures 5 so as not to contact each other. It becomes possible. Further, a filling material may be filled between a plurality of carbon nanotubes 10 constituting the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 and cured. In this case, the strength or durability of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 can be improved.

次いで、除去工程K6において、図3(e)に示すように、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部と保形層6の表面とを、レーザー加工機を使用したレーザー加工又はカッターブレードを使用した機械加工等の手段で切除する。あるいは、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部近傍の保形層6が選択的に除去されるがカーボンナノチューブは除去されないエッチング法を用いることもできる。これにより、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部が保形層6を構成する前記充填材料が付着している場合に、これを確実に除去することができる。   Next, in the removing step K6, as shown in FIG. 3 (e), the tip of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 and the surface of the shape-retaining layer 6 are lasered using a laser processing machine. Cut off by means such as machining or machining using a cutter blade. Alternatively, an etching method in which the shape retaining layer 6 in the vicinity of the tip portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 is selectively removed but the carbon nanotubes are not removed can be used. Thereby, when the said filling material which comprises the shape-retaining layer 6 has adhered to the front-end | tip part of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5, this can be removed reliably.

また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成する各カーボンナノチューブ10の先端部がばらばらになっている場合や拡がっている場合等に、この先端部を切除して第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部を平坦に揃えたり、高密度の部分を先端に露出させたりすることができる。このようにして図1に示すプローブ構造体1が製造される。   In addition, when the tip portions of the carbon nanotubes 10 constituting the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are separated or spread, the tip portions are excised to obtain the first CNT structure. The tips of the structure 4 and the second CNT structure 5 can be made flat, or a high-density portion can be exposed at the tip. In this way, the probe structure 1 shown in FIG. 1 is manufactured.

上述の構成を有するプローブ構造体1は、図6に示すように、例えばガラスエポキシ基板、フレキシブル基板、セラミック多層配線基板、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ用の電極板、タッチパネル用等の透明導電板、及び半導体パッケージ用のパッケージ基板やフィルムキャリア等からなる検査対象の基板8の検査治具等として使用することができる。   As shown in FIG. 6, the probe structure 1 having the above-described configuration includes, for example, a glass epoxy substrate, a flexible substrate, a ceramic multilayer wiring substrate, an electrode plate for a liquid crystal display or a plasma display, a transparent conductive plate for a touch panel, and the like. It can be used as an inspection jig or the like for a substrate 8 to be inspected comprising a package substrate for a semiconductor package, a film carrier, or the like.

具体的には、図外の治具保持部材にプローブ構造体1を保持させた状態で、電流計、電圧計、電流源等を含む図略の検査装置に信号を伝送する電極板9が、プローブ構造体1の、基板8とは反対側の面に接続される。この電極板9には、先端に平坦な電極部91を有する電線90が電極板9を貫通するように設置されている。この電極板9がプローブ構造体1に接続されると、電線90の電極部91と第二CNT構造体5の先端面とが電気的に接続される。これにより、電線90、第二CNT構造体5、及び電極3を介して検査装置と電気的に接続されたプローブとして第一CNT構造体4を用いることが可能となる。   Specifically, an electrode plate 9 that transmits a signal to an unillustrated inspection device including an ammeter, a voltmeter, a current source, etc. in a state where the probe structure 1 is held by a jig holding member (not shown), The probe structure 1 is connected to the surface opposite to the substrate 8. In the electrode plate 9, an electric wire 90 having a flat electrode portion 91 at the tip is installed so as to penetrate the electrode plate 9. When this electrode plate 9 is connected to the probe structure 1, the electrode portion 91 of the electric wire 90 and the tip surface of the second CNT structure 5 are electrically connected. Accordingly, the first CNT structure 4 can be used as a probe electrically connected to the inspection apparatus via the electric wire 90, the second CNT structure 5, and the electrode 3.

そして、基板8に設けられた配線パターンや半田バンプ等の検査点81,82に、第一CNT構造体4の先端部をそれぞれ当接させた状態で、一方の検査点81に接触された第一CNT構造体4と、他方の検査点82に接触された第一CNT構造体4との間に予め設定された検査用電流を流して、その間の電圧を検出し、その値を予め設定された基準値と比較する等により、基板8の良否判定が行われる。   Then, the first CNT structure 4 is brought into contact with the first inspection point 81 in a state in which the tip portion of the first CNT structure 4 is brought into contact with the inspection points 81 and 82 such as wiring patterns and solder bumps provided on the substrate 8. A preset inspection current is passed between one CNT structure 4 and the first CNT structure 4 in contact with the other inspection point 82 to detect the voltage between them, and the value is preset. Whether the substrate 8 is good or bad is determined by comparing it with a reference value.

上述のように電極3の両端から成長させた第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5によりプローブ構造体1を構成した場合には、成長用の基板からCNT構造体を剥離することなく、所定長さのプローブ構造体1を形成することができる。そして、第一CNT構造体4と第二CNT構造体5との間に電極3が配設されているため、実質的に第一CNT構造体4と第二CNT構造体5とを合わせた長さのカーボンナノチューブ構造体の略中央部分が電極で保持された状態となる。その結果、背景技術に記載されているような、第一CNT構造体4と第二CNT構造体5とを合わせた長さに略等しい連続したカーボンナノチューブ構造体と比べて、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を電極3の両端から成長させたプローブ構造体は、変形するおそれが低減される。   When the probe structure 1 is constituted by the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 grown from both ends of the electrode 3 as described above, the CNT structure is not peeled off from the growth substrate. The probe structure 1 having a predetermined length can be formed. And since the electrode 3 is arrange | positioned between the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5, the length which match | combined the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5 substantially. The substantially central portion of the carbon nanotube structure is held by the electrode. As a result, the first CNT structure as compared with the continuous carbon nanotube structure substantially equal to the combined length of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 as described in the background art. The probe structure in which the 4 and second CNT structures 5 are grown from both ends of the electrode 3 is less likely to be deformed.

その結果、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5のうち一方の先端をプロービング対象に当接させ、他方の先端を装置側に接続させたプローブとしてプローブ構造体1を用いる際に、その先端部に位置ずれが生じるのを抑制することが容易となる。   As a result, when using the probe structure 1 as a probe in which one tip of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 is brought into contact with the probing target and the other tip is connected to the apparatus side, It becomes easy to suppress the occurrence of displacement in the tip portion.

すなわち、保持板2の貫通孔23内に埋め込まれるように設置された金、銀、銅又はアルミニウム合金等の導電性材料からなる適度の剛性を備えた電極3や保持板2を、プローブ構造体1の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能させることできる。このため、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部の位置ずれが生じることを効果的に抑制でき、プローブ先端の機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。   That is, an electrode 3 and a holding plate 2 made of a conductive material such as gold, silver, copper, or an aluminum alloy installed so as to be embedded in the through-hole 23 of the holding plate 2 are provided with a probe structure. 1 can function as a core material that suppresses distortion caused by mechanical contraction stress, thermal stress, and the like. For this reason, it can suppress effectively that position shift of the tip part of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5 arises, and there is an advantage that the mechanical position accuracy of a probe tip can be improved effectively.

また、カーボンナノチューブを成長させた基板上から剥離した剥離部分を検査点に接触させた場合の接触抵抗よりも、カーボンナノチューブの基板とは逆側の、成長により生じた先端部を検査点に接触させた場合の接触抵抗の方が、小さくなる可能性がある。従って、以上のように、第一面31と第二面32とを有する電極3と、当該電極3の第一面31及び第二面32上にそれぞれ立設された第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5とを備えたプローブ構造体1によれば、従来技術のようにカーボンナノチューブの集合体を基板上から剥離した後にその基端部を信号伝送用の電極部等に接続した場合に発生していた接触抵抗が生じることがなく、本発明に係るプローブ構造体1を、基板検査装置の検査治具等として好適に使用できるという利点がある。   In addition, the tip of the carbon nanotube substrate contacted to the inspection point is in contact with the inspection point when the peeled part peeled off from the substrate on which the carbon nanotube is grown is in contact with the inspection point. There is a possibility that the contact resistance in the case of making it smaller becomes smaller. Therefore, as described above, the electrode 3 having the first surface 31 and the second surface 32, the first CNT structure 4 erected on the first surface 31 and the second surface 32 of the electrode 3, and According to the probe structure 1 provided with the second CNT structure 5, after the carbon nanotube aggregate is peeled off from the substrate as in the prior art, the base end portion is connected to an electrode portion for signal transmission or the like. There is an advantage that the contact resistance generated in the case does not occur and the probe structure 1 according to the present invention can be suitably used as an inspection jig or the like of the substrate inspection apparatus.

なお、電極3を保持する保持板2を省略することも可能であるが、上述の実施形態に示すように、電極3を保持板2に保持させるとともに、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5をそれぞれ保持板2の板厚方向に延びるように立設した構成によれば、第一CNT構造体4と第二CNT構造体5とが電極3を介して連設されてなるプローブ構造体1を安定して支持することが可能であり、その取り扱いを容易化することができる。   Although the holding plate 2 for holding the electrode 3 can be omitted, as shown in the above-described embodiment, the electrode 3 is held by the holding plate 2, and the first CNT structure 4 and the second CNT According to the structure in which the structures 5 are erected so as to extend in the thickness direction of the holding plate 2, the probe in which the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are connected via the electrode 3. The structure 1 can be stably supported, and handling thereof can be facilitated.

また、保持板2に、複数個の電極3を互いに絶縁した状態で配設した場合には、多数のプローブを備えた基板検査装置の検査治具等として本発明に係るプローブ構造体1を、より好適に使用することができる。   Further, when the plurality of electrodes 3 are disposed on the holding plate 2 in a state of being insulated from each other, the probe structure 1 according to the present invention is used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus having a large number of probes. It can be used more suitably.

上述のように電極3から立ち上がる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分を高密度に収束させた構成によれば、複数本のカーボンナノチューブ10の集合体からなる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5において、各カーボンナノチューブ10相互間の接触部分を増大して電流経路を増加させることができる。これにより、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の電気抵抗を低減することが容易となる。   A configuration in which the intermediate portion of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 is converged at a higher density than the rising portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 rising from the electrode 3 as described above. According to the above, in the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 formed of an aggregate of a plurality of carbon nanotubes 10, the contact portion between the carbon nanotubes 10 can be increased to increase the current path. it can. Thereby, it becomes easy to reduce the electrical resistance of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5.

なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の強度及び導電性が十分に得られる場合には、収束工程K4を省略し、保持板2の板厚方向に略真っ直ぐに立設させた複数本のカーボンナノチューブ10により第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成してもよい。   Note that when the strength and conductivity of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are sufficiently obtained, the convergence step K4 is omitted, and the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are erected substantially straight in the thickness direction of the holding plate 2. Alternatively, the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 may be constituted by a plurality of carbon nanotubes 10.

さらに、保持板2上に絶縁性と弾力性とを有する素材からなる保形層6を形成し、この保形層6により第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するとともに、その先端部を保形層6の表面から露出させた状態で設置した場合には、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の導電性を維持しつつ、その変形及び損傷を効果的に防止することができる。   Furthermore, the shape retaining layer 6 made of a material having insulating properties and elasticity is formed on the retaining plate 2, and the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are surrounded by the shape retaining layer 6, When the tip portion is installed in a state of being exposed from the surface of the shape-retaining layer 6, the deformation and damage are effective while maintaining the conductivity of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5. Can be prevented.

しかも、保持板2によって電極3を保持した状態で保形層6により第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞することにより、保持板2が、各保形層6の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能する。その結果、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部の位置ずれが低減されるため、プローブ構造体1の先端部における機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の保形性を維持して、その変形及び損傷を十分に防止し得る場合には、保形層6を省略した構造としてもよい。   In addition, the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 are surrounded by the shape retaining layer 6 while the electrode 3 is held by the retaining plate 2, so that the retaining plate 2 is mechanically attached to each shape retaining layer 6. It functions as a core material that suppresses distortions caused by shrinkage stress and thermal stress. As a result, since the positional deviation of the tip portions of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 is reduced, there is an advantage that the mechanical position accuracy at the tip portion of the probe structure 1 can be effectively improved. . In addition, when the shape retention property of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5 is maintained and the deformation | transformation and damage can fully be prevented, it is good also as a structure which abbreviate | omitted the shape retention layer 6. FIG.

また、図2及び図3に示すように、第一面21と第二面22とを有する電極3を形成する電極形成工程K1と、各電極3上に触媒33をそれぞれ配設する触媒配設工程K2と、電極3の第一面31上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第一CNT構造体4を生成し、電極3の第二面32上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第二CNT構造体5を生成するCNT構造体生成工程K3とを備えた本発明に係るプローブ構造体1の製造方法によれば、優れた導電性を有し、基板検査装置の検査治具等として好適に使用できるプローブ構造体1を容易に製造できるという利点がある。   2 and 3, an electrode forming step K1 for forming the electrode 3 having the first surface 21 and the second surface 22, and a catalyst arrangement for disposing the catalyst 33 on each electrode 3, respectively. Step K2 and chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes 10 in the presence of the catalyst 33 on the first surface 31 of the electrode 3 to produce the first CNT structure 4, and the second surface 32 of the electrode 3 The probe structure 1 according to the present invention is provided with a CNT structure generation step K3 for generating a second CNT structure 5 by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes 10 in the presence of the catalyst 33. According to the manufacturing method, there is an advantage that the probe structure 1 that has excellent conductivity and can be suitably used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus can be easily manufactured.

また、CNT構造体生成工程K3において生成された第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を、液体にさらした後、乾燥させることにより、電極3から立ち上がる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分を高密度に収束させる収束工程K4を備えている場合には、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の導電性を、さらに効果的に向上させることにより、基板検査装置の検査治具等として好適に使用できるプローブ構造体1を容易に製造できるという利点がある。   Further, the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 generated in the CNT structure generation step K3 are exposed to a liquid and then dried, thereby drying the first CNT structure 4 and the second CNT structure 4 rising from the electrode 3. When the convergence step K4 for converging the intermediate part of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 at a higher density than the rising part of the two CNT structures 5 is provided, the first CNT structure 4 and By improving the conductivity of the second CNT structure 5 more effectively, there is an advantage that the probe structure 1 that can be suitably used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus can be easily manufactured.

さらに、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するように流動性を有する充填材料を保持板2上に充填した後、この充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層6を形成する保形層形成工程K5を備えたプローブ構造体1の製造方法によれば、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の導電性を維持しつつ、優れた強度及び耐久性を有するプローブ構造体1を製造できるという利点がある。   Further, after filling the holding plate 2 with a filling material having fluidity so as to surround the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5, the filling material is cured to provide insulation and elasticity. According to the manufacturing method of the probe structure 1 provided with the shape retention layer forming step K5 for forming the shape retention layer 6 having, while maintaining the conductivity of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5, it is excellent. There is an advantage that the probe structure 1 having high strength and durability can be manufactured.

しかも、保持板2を、各保形層6の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能させることにより、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部の位置ずれを低減できるため、プローブ構造体1の先端部における機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。   In addition, by causing the holding plate 2 to function as a core material that suppresses distortion due to mechanical shrinkage stress, thermal stress, or the like of each shape-holding layer 6, the distal ends of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 Therefore, there is an advantage that the mechanical position accuracy at the tip of the probe structure 1 can be effectively improved.

保形層形成工程K5において流動性が極めて高い充填材料を使用する等により、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成する複数本のカーボンナノチューブ10の間に充填材料を充填して硬化させるようにした場合には、プローブ構造体1の強度及び耐久性を、より効果的に向上させることができる。   The filler material is filled between the plurality of carbon nanotubes 10 constituting the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 by using a filler material having extremely high fluidity in the shape retention layer forming step K5. When it is made to harden | cure, the intensity | strength and durability of the probe structure 1 can be improved more effectively.

また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部において、保形層6の表面の少なくとも一部を除去する除去工程K6をさらに備えたプローブ構造体1の製造方法によれば、第一CNT構造体4の先端部及び第二CNT構造体5の先端部に保形層6を構成する充填材料が付着している場合に、これを確実に除去することができる。また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部を除去する除去工程を備えたプローブ構造体1の製造方法によれば、各カーボンナノチューブ10の先端部がばらばらになっている場合や、カーボンナノチューブ構造体の先端部がクレータ形状となっている場合に、この先端部を切除して第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部を平坦に揃えることができるため導電面との接触面積が拡大し、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の接触抵抗を低減させることで導電性をさらに効果的に向上できるという利点がある。   Moreover, according to the manufacturing method of the probe structure 1 further provided with the removal process K6 which removes at least one part of the surface of the shape retention layer 6 in the front-end | tip part of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5. When the filling material constituting the shape-retaining layer 6 is attached to the tip of the first CNT structure 4 and the tip of the second CNT structure 5, this can be reliably removed. Moreover, according to the manufacturing method of the probe structure 1 provided with the removal process which removes the front-end | tip part of the 1st CNT structure 4 and the 2nd CNT structure 5, the front-end | tip part of each carbon nanotube 10 is scattered. In some cases, or when the tip of the carbon nanotube structure has a crater shape, the tip of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5 can be made flat by cutting the tip. Therefore, there is an advantage that the contact area with the conductive surface is expanded, and the conductivity can be further effectively improved by reducing the contact resistance of the first CNT structure 4 and the second CNT structure 5.

1 プローブ構造体
2 保持板
3 電極
4 第一カーボンナノチューブ構造体
5 第二カーボンナノチューブ構造体
6 保形層
21 保持板の第一面
22 保持板の第二面
23 貫通孔
24 絶縁層
31 電極の第一面
32 電極の第二面
33 触媒
41 カーボンナノチューブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Probe structure 2 Holding plate 3 Electrode 4 1st carbon nanotube structure 5 2nd carbon nanotube structure 6 Shape retention layer 21 1st surface of a retention plate 22 2nd surface of a retention plate 23 Through-hole 24 Insulating layer 31 Electrode of electrode First surface 32 Second surface of electrode 33 Catalyst 41 Carbon nanotube

Claims (13)

第一面と第二面とを有する電極と、
当該電極の第一面に立設された第一カーボンナノチューブ構造体と、
前記電極の第二面に立設された第二カーボンナノチューブ構造体とを備えているプローブ構造体。
An electrode having a first surface and a second surface;
A first carbon nanotube structure erected on the first surface of the electrode;
A probe structure comprising a second carbon nanotube structure erected on the second surface of the electrode.
前記電極を保持する保持板をさらに備え、
前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体がそれぞれ前記保持板の板厚方向に延びるように立設されている請求項1記載のプローブ構造体。
A holding plate for holding the electrode;
The probe structure according to claim 1, wherein the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are erected so as to extend in a thickness direction of the holding plate.
前記保持板に、複数個の前記電極が互いに絶縁された状態で配設されている請求項2記載のプローブ構造体。   The probe structure according to claim 2, wherein the holding plate is provided with a plurality of the electrodes insulated from each other. 前記電極の第一面及び第二面から立ち上がる前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の立ち上り部分よりも前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の中間部分が高密度に収束されている請求項1〜3のいずれか1項に記載のプローブ構造体。   An intermediate portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is higher than a rising portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure rising from the first surface and the second surface of the electrode. The probe structure according to claim 1, wherein the probe structure is converged to a density. 前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体は、絶縁性と弾力性とを有する素材からなる保形層により囲繞され、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部が前記保形層の表面から露出している請求項1〜4のいずれか1項に記載のプローブ構造体。   The first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are surrounded by a shape-retaining layer made of a material having insulation and elasticity, and tips of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure The probe structure according to any one of claims 1 to 4, wherein a portion is exposed from the surface of the shape retaining layer. 第一面と第二面とを有する電極を形成する電極形成工程と、
前記電極の第一面及び第二面上に触媒をそれぞれ配設する触媒配設工程と、
前記電極の第一面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第一カーボンナノチューブ構造体を生成し、前記電極の第二面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第二カーボンナノチューブ構造体を生成するカーボンナノチューブ構造体生成工程とを備えているプローブ構造体の製造方法。
An electrode forming step of forming an electrode having a first surface and a second surface;
A catalyst disposing step of disposing a catalyst on each of the first surface and the second surface of the electrode;
A first carbon nanotube structure is formed on the first surface of the electrode by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes in the presence of the catalyst, and the presence of the catalyst on the second surface of the electrode. A method of manufacturing a probe structure comprising: a carbon nanotube structure generation step of generating a second carbon nanotube structure by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes below.
前記電極形成工程において、保持板に前記電極の保持孔となる貫通孔を形成した後、当該貫通孔に導電性を有する材料を充填して、前記電極の第一面及び第二面を露出させた状態で前記電極を形成する請求項6記載のプローブ構造体の製造方法。   In the electrode forming step, after forming a through hole to be a holding hole of the electrode in the holding plate, the through hole is filled with a conductive material to expose the first surface and the second surface of the electrode. The method for manufacturing a probe structure according to claim 6, wherein the electrode is formed in a state where the electrode is formed. 前記電極形成工程において、前記保持板に複数個の前記貫通孔を形成した後、当該各保持孔に導電性を有する材料をそれぞれ充填して、複数個の前記電極を互いに絶縁した状態で形成する請求項7記載のプローブ構造体の製造方法。   In the electrode forming step, after forming the plurality of through holes in the holding plate, the holding holes are filled with a conductive material, and the plurality of electrodes are formed in an insulated state. The method for manufacturing a probe structure according to claim 7. 前記カーボンナノチューブ構造体生成工程において生成された前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を、液体にさらした後、乾燥させることにより、前記電極から立ち上がる前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の立ち上り部分よりも前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の中間部分を高密度に収束させる収束工程をさらに備えている請求項6〜8のいずれか1項に記載のプローブ構造体の製造方法。   The first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure generated in the carbon nanotube structure generation step are exposed to a liquid and then dried, thereby drying the first carbon nanotube structure and the first carbon nanotube structure 9. The method according to claim 6, further comprising a converging step for converging the intermediate portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure at a higher density than the rising portion of the second carbon nanotube structure. A method for producing the probe structure according to the item. 前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を囲繞するように流動性を有する充填材料を充填した後、当該充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層を形成する保形層形成工程をさらに備えている請求項6〜9のいずれか1項に記載のプローブ構造体の製造方法。   A filling material having fluidity is filled so as to surround the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, and then the filling material is cured to form a shape-retaining layer having insulation and elasticity. The method for manufacturing a probe structure according to any one of claims 6 to 9, further comprising a shape-retaining layer forming step. 前記保形層形成工程において、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を構成する複数本のカーボンナノチューブの間に前記流動性を有する充填材料を充填して硬化させる請求項10記載のプローブ構造体の製造方法。   The said shape retention layer formation process WHEREIN: The filling material which has the said fluidity | liquidity is filled between several carbon nanotubes which comprise said 1st carbon nanotube structure and 2nd carbon nanotube structure, and is hardened. Of manufacturing the probe structure. 前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部を除去する除去工程をさらに備えている請求項6〜11のいずれか1項に記載のプローブ構造体の製造方法。   The method for manufacturing a probe structure according to any one of claims 6 to 11, further comprising a removing step of removing the tip portions of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. 前記保形層の表面を除去する工程をさらに備えている請求項10又は11に記載のプローブ構造体の製造方法。   The method for manufacturing a probe structure according to claim 10 or 11, further comprising a step of removing a surface of the shape retaining layer.
JP2017158132A 2017-08-18 2017-08-18 Probe structure and method for manufacturing probe structure Pending JP2019035698A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017158132A JP2019035698A (en) 2017-08-18 2017-08-18 Probe structure and method for manufacturing probe structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017158132A JP2019035698A (en) 2017-08-18 2017-08-18 Probe structure and method for manufacturing probe structure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019035698A true JP2019035698A (en) 2019-03-07

Family

ID=65637499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017158132A Pending JP2019035698A (en) 2017-08-18 2017-08-18 Probe structure and method for manufacturing probe structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2019035698A (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008016849A (en) * 2006-07-04 2008-01-24 Samsung Sdi Co Ltd Interlayer wiring of semiconductor device using carbon nanotube and method for manufacturing the same
JP2008201594A (en) * 2007-02-16 2008-09-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Fine fiber structure and method for producing the same
JP2010507098A (en) * 2006-10-16 2010-03-04 フォームファクター, インコーポレイテッド Production and use of carbon nanotubes
JP2012504244A (en) * 2008-09-29 2012-02-16 ウェントワース ラボラトリーズ、インク. Probe card including nanotube probe and manufacturing method thereof
US20120086004A1 (en) * 2010-10-06 2012-04-12 Formfactor, Inc. Elastic encapsulated carbon nanotube based electrical contacts
JP2012142442A (en) * 2010-12-28 2012-07-26 Fujitsu Semiconductor Ltd Semiconductor structure and manufacturing method of the same
JP2013504509A (en) * 2009-09-14 2013-02-07 フォームファクター, インコーポレイテッド Carbon nanotube column and method of making and using carbon nanotube column as a probe

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008016849A (en) * 2006-07-04 2008-01-24 Samsung Sdi Co Ltd Interlayer wiring of semiconductor device using carbon nanotube and method for manufacturing the same
JP2010507098A (en) * 2006-10-16 2010-03-04 フォームファクター, インコーポレイテッド Production and use of carbon nanotubes
JP2008201594A (en) * 2007-02-16 2008-09-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Fine fiber structure and method for producing the same
JP2012504244A (en) * 2008-09-29 2012-02-16 ウェントワース ラボラトリーズ、インク. Probe card including nanotube probe and manufacturing method thereof
JP2013504509A (en) * 2009-09-14 2013-02-07 フォームファクター, インコーポレイテッド Carbon nanotube column and method of making and using carbon nanotube column as a probe
US20120086004A1 (en) * 2010-10-06 2012-04-12 Formfactor, Inc. Elastic encapsulated carbon nanotube based electrical contacts
JP2012142442A (en) * 2010-12-28 2012-07-26 Fujitsu Semiconductor Ltd Semiconductor structure and manufacturing method of the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4933576B2 (en) Manufacturing method of field emission electron source
CN101471213B (en) Thermal emission electronic component and method for producing the same
US10234480B2 (en) Methods of fabricating probe cards including nanotubes
US7785669B2 (en) Method for making high-density carbon nanotube array
TWI220162B (en) Integrated compound nano probe card and method of making same
JP4976368B2 (en) Thermionic emission device
JP4912600B2 (en) Carbon nanotube horizontal growth method and device including carbon nanotube
JP5015969B2 (en) Method for manufacturing thermionic emission device
US20130089694A1 (en) Device for making carbon nanotube film
JP4960398B2 (en) Field emission electron source
US7342403B2 (en) Test apparatuses for integrated circuits and method for manufacturing the same
WO2018173884A1 (en) Probe structure and method for producing probe structure
KR20020003782A (en) fabrication method of carbon nanotubes
US20110147177A1 (en) Structure, electronic device, and method for fabricating a structure
JP2019035698A (en) Probe structure and method for manufacturing probe structure
JP5465516B2 (en) Probe and probe manufacturing method
US6825428B1 (en) Protected switch and techniques to manufacture the same
US8604459B1 (en) Electrical devices containing a carbon nanotube switching layer with a passivation layer disposed thereon and methods for production thereof
WO2019181420A1 (en) Contact terminal, inspection jig provided with contact terminal, and method for manufacturing contact terminal
Tas et al. Carbon nanotube micro-contactors on ohmic substrates for on-chip microelectromechanical probing applications at wafer level
JP2005238388A (en) Carbon nanostructure, manufacturing method thereof, cutting method thereof, probe having the same, and field electron emission source
JP2019066245A (en) Contact terminal, inspection jig equipped with contact terminal, and contact terminal manufacturing method
JP2009033021A (en) Structure, electronic device, and method of forming structure
HK1163337B (en) Probe cards including nanotube probes and methods of fabricating

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200804

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20200804

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210622

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20220111