JP2019035698A - Probe structure and method for manufacturing probe structure - Google Patents
Probe structure and method for manufacturing probe structure Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019035698A JP2019035698A JP2017158132A JP2017158132A JP2019035698A JP 2019035698 A JP2019035698 A JP 2019035698A JP 2017158132 A JP2017158132 A JP 2017158132A JP 2017158132 A JP2017158132 A JP 2017158132A JP 2019035698 A JP2019035698 A JP 2019035698A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon nanotube
- electrode
- nanotube structure
- probe
- cnt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
Abstract
【課題】プローブ構造体が変形するおそれを低減することが容易なプローブ構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】第一面31と第二面32とを有する電極3と、当該電極3の第一面31上に立設された第一カーボンナノチューブ構造体4と、電極3の第二面32上に立設された第二カーボンナノチューブ構造体5とを備えているプローブ構造体、及びプローブ構造体の製造方法。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe structure and a method for manufacturing the probe structure in which the possibility of deformation of the probe structure can be easily reduced. SOLUTION: An electrode 3 having a first surface 31 and a second surface 32, a first carbon nanotube structure 4 erected on the first surface 31 of the electrode 3, and a second surface 32 of the electrode 3. A probe structure including the second carbon nanotube structure 5 erected on the probe structure, and a method for manufacturing the probe structure. [Selection diagram] Fig. 1
Description
本発明は、基板検査用治具等に使用されるプローブ構造体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a probe structure used for a substrate inspection jig or the like and a method for manufacturing the same.
従来、電子デバイス材料や、光学材料、導電性材料、又は生体関連材料等としての使用が期待されるカーボンナノチューブ(CNT)において、多数本のカーボンナノチューブを集合させてバルク集合体を形成することが知られている。また、このバルク集合体のサイズをラージスケール化させるとともに、純度、比表面積、導電性、密度、硬度等の特性を向上させるように、触媒を成長基板上に配置してこの成長基板上に複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長(CVD)させる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, in a carbon nanotube (CNT) expected to be used as an electronic device material, an optical material, a conductive material, or a biological material, a bulk aggregate is formed by aggregating a large number of carbon nanotubes. Are known. In addition, the size of the bulk aggregate is increased to a large scale, and a catalyst is arranged on the growth substrate so as to improve the properties such as purity, specific surface area, conductivity, density, hardness, and the like. A method of chemical vapor deposition (CVD) of carbon nanotubes is known (for example, see Patent Document 1).
ところで、特許文献1に開示されたカーボンナノチューブバルク・構造体は、成長基板上に配置された触媒の存在下で所定長さに成長させた複数本のカーボンナノチューブの集合体として製造された後に、その基端部が物理的、化学的あるいは機械的に成長基板から剥離された状態で、電子デバイス材料や導電性材料等として使用されるように構成されている。 By the way, after the carbon nanotube bulk structure disclosed in Patent Document 1 is manufactured as an aggregate of a plurality of carbon nanotubes grown to a predetermined length in the presence of a catalyst arranged on a growth substrate, The base end portion is configured to be used as an electronic device material, a conductive material, or the like in a state where the base end portion is physically, chemically, or mechanically separated from the growth substrate.
前記カーボンナノチューブバルク・構造体の基端部を、検査装置の制御部等に信号を伝送するための電極部等に接続することにより、例えば基板検査用治具等の、電気信号を検出するためのプローブ構造体として使用することが考えられる。しかしながら、この場合には、カーボンナノチューブバルク・構造体の全長が大きくなると、このカーボンナノチューブバルク・構造体に歪みや変形が生じやすくなる。そのため、プローブ構造体の先端部の位置が、接触させようとする目標位置に対してずれてしまう位置ずれが生じるという不都合があった。 In order to detect an electrical signal such as a substrate inspection jig by connecting the base end portion of the carbon nanotube bulk / structure to an electrode portion for transmitting a signal to a control unit or the like of an inspection apparatus. It can be considered to be used as a probe structure. However, in this case, when the total length of the carbon nanotube bulk / structure is increased, the carbon nanotube bulk / structure is likely to be distorted or deformed. For this reason, there is a disadvantage that the position of the tip portion of the probe structure is displaced with respect to the target position to be contacted.
本発明の目的は、プローブ構造体が変形するおそれを低減することが容易なプローブ構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a probe structure that can easily reduce the risk of deformation of the probe structure and a method for manufacturing the probe structure.
本発明に係るプローブ構造体は、第一面と第二面とを有する電極と、当該電極の第一面に立設された第一カーボンナノチューブ構造体と、前記電極の第二面に立設された第二カーボンナノチューブ構造体とを備えているものである。 A probe structure according to the present invention includes an electrode having a first surface and a second surface, a first carbon nanotube structure erected on the first surface of the electrode, and an erection on the second surface of the electrode. The second carbon nanotube structure is provided.
この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させてプローブ構造体とすることができるので、成長用の基板からカーボンナノチューブ構造体を剥離することなく、所定長さのプローブ構造体を形成することができる。そして、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体との間に電極が配設されているため、実質的に第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さのカーボンナノチューブ構造体の略中央部分が電極で保持された状態となる。その結果、背景技術に記載されているような、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さと略等しい連続したカーボンナノチューブ構造体と比べて、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させたプローブ構造体は、変形するおそれが低減される。 According to this configuration, since the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be grown from both ends of the electrode to form a probe structure, the carbon nanotube structure can be peeled from the growth substrate. And a probe structure having a predetermined length can be formed. In addition, since the electrode is disposed between the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, the length substantially combining the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. The substantially central portion of the carbon nanotube structure is held by the electrode. As a result, the first carbon nanotube structure is compared with the continuous carbon nanotube structure that is substantially equal to the combined length of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, as described in the background art. In addition, the probe structure in which the second carbon nanotube structure is grown from both ends of the electrode is less likely to be deformed.
また、前記電極を保持する保持板をさらに備え、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体がそれぞれ前記保持板の板厚方向に延びるように立設されていることが好ましい。 Further, it is preferable that a holding plate for holding the electrode is further provided, and the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are each erected so as to extend in a plate thickness direction of the holding plate.
この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とが電極を介して連設されてなるプローブ構造体を安定して支持することが可能であり、その取り扱いを容易化することができる。 According to this configuration, it is possible to stably support the probe structure in which the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are connected via the electrode, and the handling is facilitated. can do.
前記保持板に、複数個の前記電極が互いに絶縁された状態で配設された構成としてもよい。 A plurality of the electrodes may be arranged on the holding plate in a state of being insulated from each other.
この構成によれば、多数のプローブを備えた基板検査装置の検査治具等として、プローブ構造体を、より好適に使用することができる。 According to this configuration, the probe structure can be more suitably used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus having a large number of probes.
また、前記電極から立ち上がる前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の立ち上り部分よりも前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の中間部分が高密度に収束されていることが好ましい。 Further, an intermediate portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is converged at a higher density than a rising portion of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure rising from the electrode. It is preferable.
この構成によれば、複数本のカーボンナノチューブの集合体からなる第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体において、各カーボンナノチューブ相互間で接触する箇所が増加して電流経路が増加する。この電流経路の増加により、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の電気抵抗を低減することが容易となる。 According to this configuration, in the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure formed of an aggregate of a plurality of carbon nanotubes, the number of contact points between the carbon nanotubes increases, and the current path increases. By increasing the current path, it becomes easy to reduce the electrical resistance of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure.
また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体は、絶縁性と弾力性とを有する素材からなる保形層により囲繞され、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部が前記保形層の表面から露出した構成とすることが好ましい。 The first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are surrounded by a shape-retaining layer made of a material having insulation and elasticity, and the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure It is preferable to have a configuration in which the front end portion is exposed from the surface of the shape retaining layer.
この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の導電性を維持しつつ、その変形及び損傷を効果的に防止することができる。さらに電極を保持する前記保持板を備えた場合には、保持板が、前記保形層の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能することになる。このため、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部に位置ずれが生じることを効果的に抑制でき、プローブ先端の機械的位置精度を、より向上できるという利点がある。 According to this configuration, it is possible to effectively prevent deformation and damage while maintaining the conductivity of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. Further, when the holding plate for holding the electrode is provided, the holding plate functions as a core material that suppresses distortion of the shape-retaining layer due to mechanical contraction stress, thermal stress, or the like. For this reason, it can suppress effectively that position shift arises in the tip part of the 1st carbon nanotube structure and the 2nd carbon nanotube structure, and there is an advantage that the mechanical position accuracy of a probe tip can be improved more.
本発明に係るプローブ構造体の製造方法は、第一面と第二面とを有する電極を形成する電極形成工程と、前記電極の第一面及び第二面上に触媒をそれぞれ配設する触媒配設工程と、前記電極の第一面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第一カーボンナノチューブ構造体を生成し、前記電極の第二面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第二カーボンナノチューブ構造体を生成するカーボンナノチューブ構造体生成工程とを備えている。 The probe structure manufacturing method according to the present invention includes an electrode forming step of forming an electrode having a first surface and a second surface, and a catalyst in which a catalyst is disposed on each of the first surface and the second surface of the electrode. A first carbon nanotube structure is formed on the first surface of the electrode by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes in the presence of the catalyst on the first surface of the electrode; And a carbon nanotube structure generation step of generating a second carbon nanotube structure by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes in the presence of the catalyst.
この構成によれば、この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させてプローブ構造体とすることができるので、成長用の基板からカーボンナノチューブ構造体を剥離することなく、所定長さのプローブ構造体を形成することができる。そして、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体との間に電極が配設されているため、実質的に第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さのカーボンナノチューブ構造体の略中央部分が電極で保持された状態となる。その結果、背景技術に記載されているような、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体とを合わせた長さの連続したカーボンナノチューブ構造体と比べて、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を電極の両端から成長させたプローブ構造体は、変形するおそれが低減される。 According to this configuration, according to this configuration, the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be grown from both ends of the electrode to form a probe structure. A probe structure having a predetermined length can be formed without peeling off the structure. In addition, since the electrode is disposed between the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, the length substantially combining the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. The substantially central portion of the carbon nanotube structure is held by the electrode. As a result, the first carbon nanotube structure and the continuous carbon nanotube structure having the combined length of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, as described in the background art, The probe structure in which the second carbon nanotube structure is grown from both ends of the electrode is less likely to be deformed.
また、前記電極形成工程において、保持板に前記電極の保持孔となる貫通孔を形成した後、当該貫通孔に導電性を有する材料を充填して、前記電極の第一面及び第二面を露出させた状態で前記電極を形成することが好ましい。 Further, in the electrode forming step, after forming a through hole to be a holding hole of the electrode in the holding plate, the through hole is filled with a conductive material, and the first surface and the second surface of the electrode are formed. It is preferable to form the electrode in an exposed state.
この構成によれば、プローブ構造体が安定して支持されることにより、取り扱いが容易なプローブ構造体を製造することができる。 According to this configuration, a probe structure that is easy to handle can be manufactured by stably supporting the probe structure.
さらに、前記電極形成工程において、前記保持板に複数個の前記貫通孔を形成した後、当該各保持孔に導電性を有する材料をそれぞれ充填して、複数個の前記電極を互いに絶縁した状態で形成するようにしてもよい。 Further, in the electrode forming step, after the plurality of through holes are formed in the holding plate, each of the holding holes is filled with a conductive material, and the plurality of electrodes are insulated from each other. You may make it form.
この構成によれば、多数のプローブを備えた基板検査装置の検査治具等として、より好適に使用できるプローブ構造体を、容易に製造することができる。 According to this configuration, it is possible to easily manufacture a probe structure that can be more suitably used as an inspection jig or the like of a substrate inspection apparatus including a large number of probes.
また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を、液体にさらした後、乾燥させることにより、電極から立ち上がる第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の立ち上り部分よりも第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の中間部分を高密度に収束させる収束工程をさらに備えていることが好ましい。 Further, the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are exposed to a liquid, and then dried, so that the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure rising from the electrode are more than the rising portions. It is preferable to further include a converging step for converging the intermediate portions of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure with high density.
この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の電気抵抗を容易に低減することができる。 According to this configuration, the electrical resistance of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be easily reduced.
また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を囲繞するように流動性を有する充填材料を充填した後、当該充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層を形成する保形層形成工程をさらに備えていることが好ましい。 In addition, after filling with a filling material having fluidity so as to surround the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure, the shape retention layer is cured by hardening the filling material. It is preferable to further include a shape-retaining layer forming step of forming
この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の導電性を維持しつつ、優れた強度及び耐久性を有するプローブ構造体を製造することができる。さらに前記保持板を用いた場合には、第一カーボンナノチューブ構造体と第二カーボンナノチューブ構造体との間に位置する保持板を、前記保形層の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能させることができる。このため、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部の位置ずれが生じることを効果的に抑制でき、プローブ先端の機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。 According to this configuration, a probe structure having excellent strength and durability can be manufactured while maintaining the conductivity of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure. Further, when the holding plate is used, the holding plate positioned between the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is not deformed due to mechanical shrinkage stress or thermal stress of the shape holding layer. It can function as a core material to be suppressed. For this reason, it can suppress effectively that position shift of the tip part of the 1st carbon nanotube structure and the 2nd carbon nanotube structure occurs, and there is an advantage that the mechanical position accuracy of a probe tip can be improved effectively.
また、前記保形層形成工程において、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を構成する複数本のカーボンナノチューブの間に前記流動性を有する充填材料を充填して硬化させるようにしてもよい。 Further, in the shape retention layer forming step, a filling material having fluidity is filled between a plurality of carbon nanotubes constituting the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure and cured. May be.
この構成によれば、プローブ構造体の強度及び耐久性を、より効果的に向上させることができる。 According to this configuration, the strength and durability of the probe structure can be improved more effectively.
また、前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部を除去する除去工程をさらに備えていることが好ましい。 Moreover, it is preferable to further include a removing step of removing the tip portions of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure.
この構成によれば、カーボンナノチューブ1本1本の先端部はドーム形状になっているので、平面状の導電面に接触した時はドームの天辺部のみの接触となるのに対し、先端部をカットする事により竹輪の輪切り形状となるため、接触面積が拡大して接触抵抗は、その分小さくなると想定される。さらに、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体を構成する各カーボンナノチューブの先端部がばらばらになっている場合や、カーボンナノチューブ構造体の先端部がクレータ形状となっている場合等に、この先端部を切除して第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部を平坦に揃えることができるため平面状の導電面との接触面積が拡大し、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の接触抵抗を低減させることで導電性を効果的に向上させることができる。 According to this configuration, since the tip of each carbon nanotube has a dome shape, when contacting the planar conductive surface, only the top side of the dome comes into contact, whereas the tip is By cutting, a bamboo ring is formed into a ring shape, so that the contact area is expanded and the contact resistance is assumed to be reduced accordingly. Furthermore, when the tip part of each carbon nanotube constituting the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure is separated, or when the tip part of the carbon nanotube structure is a crater shape, etc. Since the tip of the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure can be flattened by cutting away the tip, the contact area with the planar conductive surface is increased, and the first carbon nanotube structure The conductivity can be effectively improved by reducing the contact resistance between the body and the second carbon nanotube structure.
また、前記保形層の表面を除去する工程をさらに備えていることが好ましい。 Moreover, it is preferable to further include a step of removing the surface of the shape retaining layer.
この構成によれば、第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体の先端部に保形層を構成する充填材料が付着している場合に、これを除去することが可能となる。 According to this structure, when the filling material which comprises a shape retention layer has adhered to the front-end | tip part of a 1st carbon nanotube structure and a 2nd carbon nanotube structure, it becomes possible to remove this.
このような構成のプローブ構造体によれば、プローブ構造体が変形するおそれを低減することが容易になる。また、このような構成の製造方法によれば、変形するおそれを低減することが容易なプローブ構造体を容易に製造することができる。 According to the probe structure having such a configuration, it is easy to reduce the possibility that the probe structure is deformed. Moreover, according to the manufacturing method having such a configuration, it is possible to easily manufacture a probe structure that can easily reduce the risk of deformation.
以下、本発明に係る実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、その説明を省略する。 Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the structure which attached | subjected the same code | symbol in each figure shows that it is the same structure, The description is abbreviate | omitted.
図1は、本発明に係るプローブ構造体の実施形態を示す断面図、図2は、プローブ構造体1の製造方法を示す工程図、図3は、プローブ構造体1の製造工程を示す説明図、図4及び図5は、プローブ構造体1を構成する第一カーボンナノチューブ構造体4(以下、第一CNT構造体4という)及び第二カーボンナノチューブ構造体5(以下、第二CNT構造体5という)の成形過程を示す斜視図、図6は、前記プローブ構造体1を基板検査装置の検査治具として使用した例を示す説明図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a probe structure according to the present invention, FIG. 2 is a process diagram showing a method for manufacturing the probe structure 1, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing a process for manufacturing the probe structure 1. 4 and 5 show a first carbon nanotube structure 4 (hereinafter referred to as a first CNT structure 4) and a second carbon nanotube structure 5 (hereinafter referred to as a second CNT structure 5) constituting the probe structure 1. FIG. 6 is an explanatory view showing an example in which the probe structure 1 is used as an inspection jig of a substrate inspection apparatus.
プローブ構造体1は、第一面(図1の上方側に位置する面)21及び第二面(図1の下方側に位置する面)22を有する保持板2と、この保持板2に保持された複数個の電極3と、各電極3の第一面31上にそれぞれ立設された第一CNT構造体4と、各電極3の第二面32上にそれぞれ立設された第二CNT構造体5とを備えている。
The probe structure 1 includes a holding
保持板2は、電極3の保持孔となる複数の貫通孔23が形成された絶縁された結晶シリコン基板等からなっている。保持板2の第一面21、第二面22、及び貫通孔23の周面は、二酸化ケイ素(SiO2)からなる絶縁膜24で覆われている。
The holding
電極3は、貫通孔23内に埋め込まれるように設置された金、銀、銅又はアルミニウム合金等の導電性材料からなり、電極3の第一面31及び第二面32は、0.01mm〜0.2mm程度の幅寸法と、0.1μm〜9μm程度の厚みとを有する島状に形成されている。
また、保持板2に保持された複数個の電極3は、絶縁膜24により互いに絶縁された状態で配設されている。
The
The plurality of
なお、当実施形態では、保持板2の貫通孔23内に配設された電極3の本体部に比べ、その軸方向の両端部に設けられた第一面31及び第二面32を大径に形成している。この構成によれば、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の設置面となる第一面31及び第二面32の面積を十分に確保しつつ、貫通孔23内に配設される電極本体部の容量を低減して材料費を節約することが可能となる。なお、電極3の本体部と第一面31及び第二面32とを同一径に形成することも可能である。
In the present embodiment, the
電極3の第一面31及び第二面32には、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を生成するための鉄、ニッケル又はコバルトからなる触媒33それぞれが蒸着される等により配設されている。この触媒33の厚みは1nm以上で100nm以下であることが好ましく、1nm以上で5nm以下であることがさらに好ましい。
The
なお、絶縁性を有するセラミックス材、またはガラス材等で保持板2を形成することにより、保持板2の全体を絶縁構造としてもよい。この場合には、絶縁膜24を設けることなく、複数個の電極3を互いに絶縁した状態で保持板2に保持させることができる。
In addition, it is good also considering the whole holding |
第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5は、従来周知のCVD装置(図示せず)を使用して、触媒33の存在下で単層または複層のカーボンナノチューブ10を複数本まとめて化学気相成長させることにより構成されたカーボンナノチューブ10の集合体からなっている。
The
カーボンナノチューブ10は、1nm〜20nmの外径と200μm〜2mmの立設長さを有している。このカーボンナノチューブ10の外径の好ましい範囲は10nm〜15nmである。また、カーボンナノチューブ10の立設長さの、より好ましい範囲は200μm〜500μmである。
The
第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5は、電極3の第一面31及び第二面32からの立ち上り部分に比べて、中間部分及びその先端側部分が高密度に収束されている。すなわち、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の外径は、電極3からの立ち上り部分よりも中間部分及びその先端側部分の方が細くなるように形成されている。
In the
本第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分における密度は、1010本/cm2〜1011本/cm2であり、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分及び先端側部分は、前記立ち上り部分における密度の5倍〜20倍程度の密度を有していることが好ましい。なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも中間部分(長さ方向の略中央)が高密度であればよく、必ずしも前記範囲の密度倍率でなくてもよい。
The density at the rising portion of the
また、保持板2の第一面21及び第二面22上には、絶縁性と弾力性とを有するシリコーンゴム等からなる保形層6が、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するように設けられている。また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部は、保形層6の表面から露出した状態で設置されている。
Further, on the
プローブ構造体1の製造方法は、図2に示すように、電極3を形成する電極形成工程K1と、電極3の第一面31及び第二面32上に触媒33をそれぞれ配設する触媒配設工程K2と、電極3の第一面31上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第一CNT構造体4を生成し、電極3の第二面32上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第二CNT構造体5を生成するCNT構造体生成工程K3と、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の少なくとも中間部分を高密度に収束させる収束工程K4と、絶縁性と弾力性とを有する保形層6を形成する保形層形成工程K5と、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部と保形層6の表面とを切除する等して除去する除去工程K6とを備えている。
As shown in FIG. 2, the manufacturing method of the probe structure 1 includes an electrode forming step K1 for forming the
なお、除去工程K6は、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部のみを除去する工程であってもよく、保形層6の表面のみを除去する工程であってもよい。
The removal step K6 may be a step of removing only the tip portions of the
電極形成工程K1では、図3(a)に示すように、第一面21及び第二面22及び貫通孔23の周面が絶縁膜24で覆われた保持板2の貫通孔23に、金、銀、銅又はアルミニウム金属材を充填する等により、貫通孔23に対応した位置に電極3を形成する。
In the electrode forming step K1, as shown in FIG. 3A, the
その後、触媒配設工程K2において、各電極3の第一面31及び第二面32上に、塩化鉄薄膜、スパッタで作製された鉄薄膜、鉄−モリブデン薄膜、アルミナ−鉄薄膜、アルミナ−コバルト薄膜、アルミナ−鉄−モリブデン薄膜等からなる触媒33を、スパッタ蒸着する等によりそれぞれ配設する。
Thereafter, in the catalyst disposing step K2, on the
次いで、CNT構造体生成工程K3において、図外のCVD装置を使用してカーボンが含まれる炭化水素、なかでも低級炭化水素、例えばメタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、アセチレン等を注入して500℃以上の温度に加熱する。これにより、図3(b)及び図4に示すように、触媒33の存在下で、単層または複層のカーボンナノチューブ10を複数本まとめて化学気相成長させ、カーボンナノチューブ10の集合体からなる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を電極3の第一面31及び第二面32上にそれぞれ生成する。
Next, in a CNT structure generation step K3, a hydrocarbon containing carbon, especially lower hydrocarbons such as methane, ethane, propane, ethylene, propylene, acetylene, etc. are injected by using a CVD apparatus (not shown) to 500 Heat to a temperature above ℃. As a result, as shown in FIG. 3B and FIG. 4, in the presence of the
カーボンナノチューブ10を化学気相成長させる際には、例えばヘリウム、アルゴン、水素、窒素、ネオン、クリプトン、二酸化炭素、塩素等のカーボンナノチューブ10と反応しない雰囲気ガスを使用することが好ましい。また、反応の雰囲気圧力は、102Pa以上で107Pa以下であることが好ましく、104Pa以上で3×105Pa以下であることがさらに好ましく、5×104Pa以上で9×104Pa以下であることが特に好ましい。
When chemical vapor deposition of the
次に、収束工程K4において、複数本のカーボンナノチューブ10の間に、例えば水、アルコール類(イソプロパノール、エタノール、メタノール)、アセトン類(アセトン)、ヘキサン、トルエン、シクロヘキサン、DMF(ジメチルホルムアミド)等からなる液滴Eを垂らすことにより液体にさらした後、これを室温下で自然乾燥、真空に引き乾燥、又はホットプレートなどで加熱する等により乾燥させる。
Next, in the convergence step K4, between the plurality of
この結果、液滴Eを垂らすことにより生じる表面張力と、カーボンナノチューブ10間に生じるファンデルワールス力とによりジッパー効果が発現され、各カーボンナノチューブ10同士が引き寄せられて収束される。このとき、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の基端部は電極3の第一面31及び第二面32にそれぞれ固着されているため、図3(c)及び図5に示すように、第一面31及び第二面32からそれぞれ立ち上がる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分及びその上方側部分が顕著に収束されて高密度化される。
As a result, the zipper effect is expressed by the surface tension generated by dropping the droplet E and the van der Waals force generated between the
なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部は自由端とされているので拡がり易い。そのため、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5は、その全体として収束されており、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の少なくとも中間部分が細くなっていればよく、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部が部分的に拡がることにより太くなっていてもよい。
In addition, since the front-end | tip part of the
その後、保形層形成工程K5で、図3(d)に示すように、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するように、流動性を有する充填材料、例えばシリコーンベースのエラストマを充填した後、当該充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層6を形成する。
Thereafter, in the shape retention layer forming step K5, as shown in FIG. 3 (d), a fluid-filling material, for example, a silicone-based material is used so as to surround the
前記流動性を有する充填材料としては、ゴム材料、フレキシブルプラスチック材料、及び硬化可能な液状ゴム等を含む各種の材料を使用可能である。液状ゴムとしては、例えばRTV(Room Temperature Vulcanizing)シリコーンゴム、加熱硬化型シリコーンゴム、紫外線硬化型シリコーンゴム等種々の液状ゴムを用いることができ、例えば、信越化学工業株式会社製RTVシリコーンゴム「KE−1285」等を用いることができる。 As the filling material having fluidity, various materials including a rubber material, a flexible plastic material, and a curable liquid rubber can be used. As the liquid rubber, various liquid rubbers such as RTV (Room Temperature Vulcanizing) silicone rubber, heat curable silicone rubber, ultraviolet curable silicone rubber and the like can be used. For example, RTV silicone rubber “KE” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -1285 "or the like can be used.
保形層6を形成する際に、複数本のカーボンナノチューブ10間に充填材料を充填するようにしてもよい。これにより、例えばプローブ等として使用される第一CNT構造体4が倒れるのを防止すことが可能となり、かつ相隣接するCNT構造体4同士及び隣接するCNT構造体5が互いに接触しないように支えることが可能になる。また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成する複数本のカーボンナノチューブ10の間に充填材料を充填して硬化させてもよい。この場合、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の強度又は耐久性を向上させることが可能となる。
When forming the
次いで、除去工程K6において、図3(e)に示すように、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部と保形層6の表面とを、レーザー加工機を使用したレーザー加工又はカッターブレードを使用した機械加工等の手段で切除する。あるいは、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部近傍の保形層6が選択的に除去されるがカーボンナノチューブは除去されないエッチング法を用いることもできる。これにより、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部が保形層6を構成する前記充填材料が付着している場合に、これを確実に除去することができる。
Next, in the removing step K6, as shown in FIG. 3 (e), the tip of the
また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成する各カーボンナノチューブ10の先端部がばらばらになっている場合や拡がっている場合等に、この先端部を切除して第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部を平坦に揃えたり、高密度の部分を先端に露出させたりすることができる。このようにして図1に示すプローブ構造体1が製造される。
In addition, when the tip portions of the
上述の構成を有するプローブ構造体1は、図6に示すように、例えばガラスエポキシ基板、フレキシブル基板、セラミック多層配線基板、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ用の電極板、タッチパネル用等の透明導電板、及び半導体パッケージ用のパッケージ基板やフィルムキャリア等からなる検査対象の基板8の検査治具等として使用することができる。
As shown in FIG. 6, the probe structure 1 having the above-described configuration includes, for example, a glass epoxy substrate, a flexible substrate, a ceramic multilayer wiring substrate, an electrode plate for a liquid crystal display or a plasma display, a transparent conductive plate for a touch panel, and the like. It can be used as an inspection jig or the like for a
具体的には、図外の治具保持部材にプローブ構造体1を保持させた状態で、電流計、電圧計、電流源等を含む図略の検査装置に信号を伝送する電極板9が、プローブ構造体1の、基板8とは反対側の面に接続される。この電極板9には、先端に平坦な電極部91を有する電線90が電極板9を貫通するように設置されている。この電極板9がプローブ構造体1に接続されると、電線90の電極部91と第二CNT構造体5の先端面とが電気的に接続される。これにより、電線90、第二CNT構造体5、及び電極3を介して検査装置と電気的に接続されたプローブとして第一CNT構造体4を用いることが可能となる。
Specifically, an
そして、基板8に設けられた配線パターンや半田バンプ等の検査点81,82に、第一CNT構造体4の先端部をそれぞれ当接させた状態で、一方の検査点81に接触された第一CNT構造体4と、他方の検査点82に接触された第一CNT構造体4との間に予め設定された検査用電流を流して、その間の電圧を検出し、その値を予め設定された基準値と比較する等により、基板8の良否判定が行われる。
Then, the
上述のように電極3の両端から成長させた第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5によりプローブ構造体1を構成した場合には、成長用の基板からCNT構造体を剥離することなく、所定長さのプローブ構造体1を形成することができる。そして、第一CNT構造体4と第二CNT構造体5との間に電極3が配設されているため、実質的に第一CNT構造体4と第二CNT構造体5とを合わせた長さのカーボンナノチューブ構造体の略中央部分が電極で保持された状態となる。その結果、背景技術に記載されているような、第一CNT構造体4と第二CNT構造体5とを合わせた長さに略等しい連続したカーボンナノチューブ構造体と比べて、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を電極3の両端から成長させたプローブ構造体は、変形するおそれが低減される。
When the probe structure 1 is constituted by the
その結果、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5のうち一方の先端をプロービング対象に当接させ、他方の先端を装置側に接続させたプローブとしてプローブ構造体1を用いる際に、その先端部に位置ずれが生じるのを抑制することが容易となる。
As a result, when using the probe structure 1 as a probe in which one tip of the
すなわち、保持板2の貫通孔23内に埋め込まれるように設置された金、銀、銅又はアルミニウム合金等の導電性材料からなる適度の剛性を備えた電極3や保持板2を、プローブ構造体1の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能させることできる。このため、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部の位置ずれが生じることを効果的に抑制でき、プローブ先端の機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。
That is, an
また、カーボンナノチューブを成長させた基板上から剥離した剥離部分を検査点に接触させた場合の接触抵抗よりも、カーボンナノチューブの基板とは逆側の、成長により生じた先端部を検査点に接触させた場合の接触抵抗の方が、小さくなる可能性がある。従って、以上のように、第一面31と第二面32とを有する電極3と、当該電極3の第一面31及び第二面32上にそれぞれ立設された第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5とを備えたプローブ構造体1によれば、従来技術のようにカーボンナノチューブの集合体を基板上から剥離した後にその基端部を信号伝送用の電極部等に接続した場合に発生していた接触抵抗が生じることがなく、本発明に係るプローブ構造体1を、基板検査装置の検査治具等として好適に使用できるという利点がある。
In addition, the tip of the carbon nanotube substrate contacted to the inspection point is in contact with the inspection point when the peeled part peeled off from the substrate on which the carbon nanotube is grown is in contact with the inspection point. There is a possibility that the contact resistance in the case of making it smaller becomes smaller. Therefore, as described above, the
なお、電極3を保持する保持板2を省略することも可能であるが、上述の実施形態に示すように、電極3を保持板2に保持させるとともに、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5をそれぞれ保持板2の板厚方向に延びるように立設した構成によれば、第一CNT構造体4と第二CNT構造体5とが電極3を介して連設されてなるプローブ構造体1を安定して支持することが可能であり、その取り扱いを容易化することができる。
Although the holding
また、保持板2に、複数個の電極3を互いに絶縁した状態で配設した場合には、多数のプローブを備えた基板検査装置の検査治具等として本発明に係るプローブ構造体1を、より好適に使用することができる。
Further, when the plurality of
上述のように電極3から立ち上がる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分を高密度に収束させた構成によれば、複数本のカーボンナノチューブ10の集合体からなる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5において、各カーボンナノチューブ10相互間の接触部分を増大して電流経路を増加させることができる。これにより、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の電気抵抗を低減することが容易となる。
A configuration in which the intermediate portion of the
なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の強度及び導電性が十分に得られる場合には、収束工程K4を省略し、保持板2の板厚方向に略真っ直ぐに立設させた複数本のカーボンナノチューブ10により第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成してもよい。
Note that when the strength and conductivity of the
さらに、保持板2上に絶縁性と弾力性とを有する素材からなる保形層6を形成し、この保形層6により第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するとともに、その先端部を保形層6の表面から露出させた状態で設置した場合には、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の導電性を維持しつつ、その変形及び損傷を効果的に防止することができる。
Furthermore, the
しかも、保持板2によって電極3を保持した状態で保形層6により第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞することにより、保持板2が、各保形層6の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能する。その結果、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部の位置ずれが低減されるため、プローブ構造体1の先端部における機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。なお、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の保形性を維持して、その変形及び損傷を十分に防止し得る場合には、保形層6を省略した構造としてもよい。
In addition, the
また、図2及び図3に示すように、第一面21と第二面22とを有する電極3を形成する電極形成工程K1と、各電極3上に触媒33をそれぞれ配設する触媒配設工程K2と、電極3の第一面31上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第一CNT構造体4を生成し、電極3の第二面32上に、触媒33の存在下で複数本のカーボンナノチューブ10を化学気相成長させて第二CNT構造体5を生成するCNT構造体生成工程K3とを備えた本発明に係るプローブ構造体1の製造方法によれば、優れた導電性を有し、基板検査装置の検査治具等として好適に使用できるプローブ構造体1を容易に製造できるという利点がある。
2 and 3, an electrode forming step K1 for forming the
また、CNT構造体生成工程K3において生成された第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を、液体にさらした後、乾燥させることにより、電極3から立ち上がる第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の立ち上り部分よりも第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の中間部分を高密度に収束させる収束工程K4を備えている場合には、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の導電性を、さらに効果的に向上させることにより、基板検査装置の検査治具等として好適に使用できるプローブ構造体1を容易に製造できるという利点がある。
Further, the
さらに、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を囲繞するように流動性を有する充填材料を保持板2上に充填した後、この充填材料を硬化させて絶縁性と弾力性とを有する保形層6を形成する保形層形成工程K5を備えたプローブ構造体1の製造方法によれば、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の導電性を維持しつつ、優れた強度及び耐久性を有するプローブ構造体1を製造できるという利点がある。
Further, after filling the holding
しかも、保持板2を、各保形層6の機械的収縮ストレスや熱ストレス等による歪みを抑制するコア材として機能させることにより、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部の位置ずれを低減できるため、プローブ構造体1の先端部における機械的位置精度を効果的に向上できるという利点がある。
In addition, by causing the holding
保形層形成工程K5において流動性が極めて高い充填材料を使用する等により、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5を構成する複数本のカーボンナノチューブ10の間に充填材料を充填して硬化させるようにした場合には、プローブ構造体1の強度及び耐久性を、より効果的に向上させることができる。
The filler material is filled between the plurality of
また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部において、保形層6の表面の少なくとも一部を除去する除去工程K6をさらに備えたプローブ構造体1の製造方法によれば、第一CNT構造体4の先端部及び第二CNT構造体5の先端部に保形層6を構成する充填材料が付着している場合に、これを確実に除去することができる。また、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部を除去する除去工程を備えたプローブ構造体1の製造方法によれば、各カーボンナノチューブ10の先端部がばらばらになっている場合や、カーボンナノチューブ構造体の先端部がクレータ形状となっている場合に、この先端部を切除して第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の先端部を平坦に揃えることができるため導電面との接触面積が拡大し、第一CNT構造体4及び第二CNT構造体5の接触抵抗を低減させることで導電性をさらに効果的に向上できるという利点がある。
Moreover, according to the manufacturing method of the probe structure 1 further provided with the removal process K6 which removes at least one part of the surface of the
1 プローブ構造体
2 保持板
3 電極
4 第一カーボンナノチューブ構造体
5 第二カーボンナノチューブ構造体
6 保形層
21 保持板の第一面
22 保持板の第二面
23 貫通孔
24 絶縁層
31 電極の第一面
32 電極の第二面
33 触媒
41 カーボンナノチューブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (13)
当該電極の第一面に立設された第一カーボンナノチューブ構造体と、
前記電極の第二面に立設された第二カーボンナノチューブ構造体とを備えているプローブ構造体。 An electrode having a first surface and a second surface;
A first carbon nanotube structure erected on the first surface of the electrode;
A probe structure comprising a second carbon nanotube structure erected on the second surface of the electrode.
前記第一カーボンナノチューブ構造体及び第二カーボンナノチューブ構造体がそれぞれ前記保持板の板厚方向に延びるように立設されている請求項1記載のプローブ構造体。 A holding plate for holding the electrode;
The probe structure according to claim 1, wherein the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are erected so as to extend in a thickness direction of the holding plate.
前記電極の第一面及び第二面上に触媒をそれぞれ配設する触媒配設工程と、
前記電極の第一面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第一カーボンナノチューブ構造体を生成し、前記電極の第二面上に、前記触媒の存在下で複数本のカーボンナノチューブを化学気相成長させて第二カーボンナノチューブ構造体を生成するカーボンナノチューブ構造体生成工程とを備えているプローブ構造体の製造方法。 An electrode forming step of forming an electrode having a first surface and a second surface;
A catalyst disposing step of disposing a catalyst on each of the first surface and the second surface of the electrode;
A first carbon nanotube structure is formed on the first surface of the electrode by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes in the presence of the catalyst, and the presence of the catalyst on the second surface of the electrode. A method of manufacturing a probe structure comprising: a carbon nanotube structure generation step of generating a second carbon nanotube structure by chemical vapor deposition of a plurality of carbon nanotubes below.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017158132A JP2019035698A (en) | 2017-08-18 | 2017-08-18 | Probe structure and method for manufacturing probe structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017158132A JP2019035698A (en) | 2017-08-18 | 2017-08-18 | Probe structure and method for manufacturing probe structure |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019035698A true JP2019035698A (en) | 2019-03-07 |
Family
ID=65637499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017158132A Pending JP2019035698A (en) | 2017-08-18 | 2017-08-18 | Probe structure and method for manufacturing probe structure |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2019035698A (en) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008016849A (en) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Samsung Sdi Co Ltd | Interlayer wiring of semiconductor device using carbon nanotube and method for manufacturing the same |
| JP2008201594A (en) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Fine fiber structure and method for producing the same |
| JP2010507098A (en) * | 2006-10-16 | 2010-03-04 | フォームファクター, インコーポレイテッド | Production and use of carbon nanotubes |
| JP2012504244A (en) * | 2008-09-29 | 2012-02-16 | ウェントワース ラボラトリーズ、インク. | Probe card including nanotube probe and manufacturing method thereof |
| US20120086004A1 (en) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | Formfactor, Inc. | Elastic encapsulated carbon nanotube based electrical contacts |
| JP2012142442A (en) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Semiconductor structure and manufacturing method of the same |
| JP2013504509A (en) * | 2009-09-14 | 2013-02-07 | フォームファクター, インコーポレイテッド | Carbon nanotube column and method of making and using carbon nanotube column as a probe |
-
2017
- 2017-08-18 JP JP2017158132A patent/JP2019035698A/en active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008016849A (en) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Samsung Sdi Co Ltd | Interlayer wiring of semiconductor device using carbon nanotube and method for manufacturing the same |
| JP2010507098A (en) * | 2006-10-16 | 2010-03-04 | フォームファクター, インコーポレイテッド | Production and use of carbon nanotubes |
| JP2008201594A (en) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Fine fiber structure and method for producing the same |
| JP2012504244A (en) * | 2008-09-29 | 2012-02-16 | ウェントワース ラボラトリーズ、インク. | Probe card including nanotube probe and manufacturing method thereof |
| JP2013504509A (en) * | 2009-09-14 | 2013-02-07 | フォームファクター, インコーポレイテッド | Carbon nanotube column and method of making and using carbon nanotube column as a probe |
| US20120086004A1 (en) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | Formfactor, Inc. | Elastic encapsulated carbon nanotube based electrical contacts |
| JP2012142442A (en) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Semiconductor structure and manufacturing method of the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4933576B2 (en) | Manufacturing method of field emission electron source | |
| CN101471213B (en) | Thermal emission electronic component and method for producing the same | |
| US10234480B2 (en) | Methods of fabricating probe cards including nanotubes | |
| US7785669B2 (en) | Method for making high-density carbon nanotube array | |
| TWI220162B (en) | Integrated compound nano probe card and method of making same | |
| JP4976368B2 (en) | Thermionic emission device | |
| JP4912600B2 (en) | Carbon nanotube horizontal growth method and device including carbon nanotube | |
| JP5015969B2 (en) | Method for manufacturing thermionic emission device | |
| US20130089694A1 (en) | Device for making carbon nanotube film | |
| JP4960398B2 (en) | Field emission electron source | |
| US7342403B2 (en) | Test apparatuses for integrated circuits and method for manufacturing the same | |
| WO2018173884A1 (en) | Probe structure and method for producing probe structure | |
| KR20020003782A (en) | fabrication method of carbon nanotubes | |
| US20110147177A1 (en) | Structure, electronic device, and method for fabricating a structure | |
| JP2019035698A (en) | Probe structure and method for manufacturing probe structure | |
| JP5465516B2 (en) | Probe and probe manufacturing method | |
| US6825428B1 (en) | Protected switch and techniques to manufacture the same | |
| US8604459B1 (en) | Electrical devices containing a carbon nanotube switching layer with a passivation layer disposed thereon and methods for production thereof | |
| WO2019181420A1 (en) | Contact terminal, inspection jig provided with contact terminal, and method for manufacturing contact terminal | |
| Tas et al. | Carbon nanotube micro-contactors on ohmic substrates for on-chip microelectromechanical probing applications at wafer level | |
| JP2005238388A (en) | Carbon nanostructure, manufacturing method thereof, cutting method thereof, probe having the same, and field electron emission source | |
| JP2019066245A (en) | Contact terminal, inspection jig equipped with contact terminal, and contact terminal manufacturing method | |
| JP2009033021A (en) | Structure, electronic device, and method of forming structure | |
| HK1163337B (en) | Probe cards including nanotube probes and methods of fabricating |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200804 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20200804 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210609 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210622 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220111 |