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JP2019032963A - High frequency decompression device - Google Patents

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JP2019032963A JP2017152222A JP2017152222A JP2019032963A JP 2019032963 A JP2019032963 A JP 2019032963A JP 2017152222 A JP2017152222 A JP 2017152222A JP 2017152222 A JP2017152222 A JP 2017152222A JP 2019032963 A JP2019032963 A JP 2019032963A
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佳伸 友村
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Abstract

【課題】解凍を終了するタイミングを適切に判断することのできる高周波解凍装置を提供する。【解決手段】高周波解凍装置100は、電極板(上部電極1および下部電極2)と、電極板に高周波電力を供給する高周波電源5と、電極板と高周波電源5との間に配置されている整合回路6と、高周波電源6の動作を制御する制御部(制御回路10)とを備えている。整合回路6は、電極板に直列に接続されている第1の容量可変コンデンサ(第1のコンデンサ6a)と、電極板に並列に接続されている第2の容量可変コンデンサ(第2のコンデンサ6b)とを含む。制御部は、第1の容量可変コンデンサおよび第2の容量可変コンデンサの少なくとも何れかの容量変化に基づいて、高周波電源5の動作を停止する。【選択図】図2PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high frequency defrosting apparatus capable of appropriately determining the timing of ending defrosting. A high-frequency defrosting device 100 is arranged between an electrode plate (upper electrode 1 and lower electrode 2), a high-frequency power supply 5 that supplies high-frequency power to the electrode plate, and the electrode plate and the high-frequency power supply 5. It includes a matching circuit 6 and a control unit (control circuit 10) that controls the operation of the high-frequency power supply 6. The matching circuit 6 includes a first capacitance variable capacitor (first capacitor 6a) connected in series with the electrode plate and a second capacitance variable capacitor (second capacitor 6b) connected in parallel with the electrode plate. ) And. The control unit stops the operation of the high frequency power supply 5 based on the capacitance change of at least one of the first capacitance variable capacitor and the second capacitance variable capacitor. [Selection diagram] Fig. 2

Description

本発明は、食品などに高周波電界を印加して解凍処理を行う高周波解凍装置に関する。   The present invention relates to a high-frequency thawing apparatus that performs a thawing process by applying a high-frequency electric field to food or the like.

高周波解凍装置では、2つの電極間に高周波高電圧を印加し、その間に誘電体である被解凍物(被加熱物)を挟んで誘電加熱が行われる。このような高周波解凍装置には、被加熱物が所望とする状態となった時点で誘電加熱を終了するために、被加熱物の温度などを検出することのできる検出器を備えているものがある。   In the high-frequency thawing apparatus, a high-frequency high voltage is applied between two electrodes, and dielectric heating is performed with a material to be thawed (a material to be heated) interposed therebetween. Such a high-frequency thawing apparatus includes a detector that can detect the temperature of the object to be heated in order to end the dielectric heating when the object to be heated reaches a desired state. is there.

例えば、特許文献1には、被解凍物3の側面温度を検知するための輻射熱センサ6を備えている高周波解凍装置が開示されている。輻射熱センサ6は、加熱庫1の側面部に設置されている。   For example, Patent Literature 1 discloses a high-frequency thawing device including a radiant heat sensor 6 for detecting a side surface temperature of an object 3 to be thawed. The radiant heat sensor 6 is installed on the side surface of the heating chamber 1.

また、図10には、輻射熱センサを備えている高周波解凍装置の一例の構成を示す。高周波解凍装置200は、金属製の加熱室209を備える。加熱室209の内部には、上部電極201、下部電極202、天面プレート207、底面プレート208、輻射熱センサ211などが備えられている。上部電極201及び下部電極202は、互いに平行になるように配置されている。底面プレート208は、下部電極202の上部に配置され、下部電極202に密着している。天面プレート207は、上部電極201の下部に配置され、上部電極201に密着している。底面プレート208上には、被解凍物203が載置される。輻射熱センサ211は、加熱室209の側面部に配置されている。   Moreover, in FIG. 10, the structure of an example of the high frequency thawing apparatus provided with the radiant heat sensor is shown. The high-frequency thawing device 200 includes a metal heating chamber 209. Inside the heating chamber 209, an upper electrode 201, a lower electrode 202, a top plate 207, a bottom plate 208, a radiant heat sensor 211, and the like are provided. The upper electrode 201 and the lower electrode 202 are disposed so as to be parallel to each other. The bottom plate 208 is disposed on the lower electrode 202 and is in close contact with the lower electrode 202. The top plate 207 is disposed below the upper electrode 201 and is in close contact with the upper electrode 201. An object to be thawed 203 is placed on the bottom plate 208. The radiant heat sensor 211 is disposed on the side surface of the heating chamber 209.

加熱室209の外側には、高周波電源205、整合回路206、および制御回路210などが設けられている。高周波電源205および整合回路206は、配線によって上部電極201及び下部電極202と接続されている。上部電極201及び下部電極202には、高周波電源205から高周波の電圧が供給される。これにより、上部電極201と下部電極202との間に高周波電界が発生し、被解凍物203が誘電加熱され、被解凍物203の解凍処理が行われる。制御回路210は、高周波電源205と接続され、高周波電源205のオン/オフなどを制御する。また、制御回路210は、輻射熱センサ211とも接続されている。制御回路210には、輻射熱センサ211の検知結果が送信される。   A high-frequency power source 205, a matching circuit 206, a control circuit 210, and the like are provided outside the heating chamber 209. The high frequency power source 205 and the matching circuit 206 are connected to the upper electrode 201 and the lower electrode 202 by wiring. A high frequency voltage is supplied from the high frequency power source 205 to the upper electrode 201 and the lower electrode 202. As a result, a high-frequency electric field is generated between the upper electrode 201 and the lower electrode 202, the material 203 to be thawed is dielectrically heated, and the material to be thawed 203 is thawed. The control circuit 210 is connected to the high frequency power source 205 and controls on / off of the high frequency power source 205 and the like. The control circuit 210 is also connected to the radiant heat sensor 211. The detection result of the radiant heat sensor 211 is transmitted to the control circuit 210.

以上の構成により、輻射熱センサ211は、被解凍物203の表面温度を検出する。制御回路210は、輻射熱センサ211から送信された表面温度の検知結果をもとに、表面温度が所定温度に達したと判断したときに、高周波電源205を停止し、加熱解凍処理を終了する。   With the above configuration, the radiant heat sensor 211 detects the surface temperature of the object to be thawed 203. When the control circuit 210 determines that the surface temperature has reached a predetermined temperature based on the detection result of the surface temperature transmitted from the radiant heat sensor 211, the control circuit 210 stops the high-frequency power source 205 and ends the heating and thawing process.

特開平8−78150号公報JP-A-8-78150

しかしながら、被解凍物の温度を輻射熱センサなどの検出器で検出することで、被解凍物の解凍が終了したことを判断するためには、装置に検出器を取り付ける必要がある。これにより、装置が大型化するという問題がある。また、検出器は、加熱室内の電磁波環境下に置かれる。そのため、電磁波環境に耐えうる特別な検出器を設置することが望まれ、装置のコストが上昇するという問題がある。さらに、検出器で被解凍物全体の温度を検知することは難しく、適切なタイミングで解凍を終了できないなどの問題がある。   However, it is necessary to attach a detector to the apparatus in order to determine that thawing of the object to be thawed is completed by detecting the temperature of the object to be thawed with a detector such as a radiant heat sensor. Thereby, there exists a problem that an apparatus enlarges. The detector is placed in an electromagnetic wave environment in the heating chamber. Therefore, it is desired to install a special detector that can withstand the electromagnetic wave environment, and there is a problem that the cost of the apparatus increases. Furthermore, it is difficult to detect the temperature of the entire object to be thawed with a detector, and there is a problem that thawing cannot be completed at an appropriate timing.

そこで、本発明では、装置の大型化を抑えつつ、解凍を終了するタイミングを適切に判断することのできる高周波解凍装置を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a high-frequency thawing device that can appropriately determine the timing of ending thawing while suppressing an increase in size of the device.

本発明の一局面にかかる高周波解凍装置は、電極板と、前記電極板に高周波電力を供給する高周波電源と、前記電極板と前記高周波電源との間に配置されている整合回路と、前記高周波電源の動作を制御する制御部とを備える。前記整合回路は、前記電極板に直列に接続されている第1の容量可変コンデンサと、前記電極板に並列に接続されている第2の容量可変コンデンサとを含む。前記制御部は、前記第1の容量可変コンデンサおよび前記第2の容量可変コンデンサの少なくとも何れかの容量変化に基づいて、前記高周波電源の動作を停止する。   A high-frequency thawing device according to one aspect of the present invention includes an electrode plate, a high-frequency power source that supplies high-frequency power to the electrode plate, a matching circuit that is disposed between the electrode plate and the high-frequency power source, and the high-frequency power source. A control unit for controlling the operation of the power supply. The matching circuit includes a first capacitance variable capacitor connected in series to the electrode plate, and a second capacitance variable capacitor connected in parallel to the electrode plate. The control unit stops the operation of the high frequency power supply based on a change in capacitance of at least one of the first capacitance variable capacitor and the second capacitance variable capacitor.

上記の本発明の一局面にかかる高周波解凍装置において、前記制御部は、前記第1の容量可変コンデンサの時間当たりの容量変化が所定値以下になったときに、前記高周波電源の動作を停止してもよい。   In the high-frequency decompression device according to one aspect of the present invention described above, the control unit stops the operation of the high-frequency power supply when a capacitance change per hour of the first variable capacitance capacitor becomes a predetermined value or less. May be.

上記の本発明の一局面にかかる高周波解凍装置において、前記制御部は、前記第1の容量可変コンデンサの極小を検知して前記高周波電源の動作を停止してもよい。   In the high-frequency thawing device according to one aspect of the present invention, the control unit may detect the minimum of the first variable capacitance capacitor and stop the operation of the high-frequency power source.

上記の本発明の一局面にかかる高周波解凍装置において、前記制御部は、前記第2の容量可変コンデンサの極大を検知して前記高周波電源の動作を停止してもよい。   In the high frequency thawing device according to one aspect of the present invention described above, the control unit may stop the operation of the high frequency power supply by detecting a maximum value of the second variable capacitance capacitor.

上記の本発明の一局面にかかる高周波解凍装置において、前記制御部は、前記第2の容量可変コンデンサの極大を検知した後、前記第2の容量可変コンデンサの時間当たりの容量変化が直前の容量変化よりも減少し、かつ、前記時間当たりの容量変化が所定値以下になったときに、前記高周波電源の動作を停止してもよい。   In the high-frequency thawing device according to one aspect of the present invention described above, the control unit detects the maximum of the second capacitance variable capacitor, and then the capacitance change per hour of the second capacitance variable capacitor is just before the capacitance. The operation of the high-frequency power supply may be stopped when the change in capacity per unit time is smaller than the change and the capacity change per time becomes a predetermined value or less.

上記の本発明の一局面にかかる高周波解凍装置において、前記制御部は、被解凍物の解凍状態を設定する状態設定部を有していてもよい。そして、前記制御部は、前記状態設定部で設定された解凍状態にしたがって、前記高周波電源の動作終了のタイミングを決定してもよい。   In the high-frequency thawing device according to one aspect of the present invention, the control unit may include a state setting unit that sets a thawing state of an object to be thawed. And the said control part may determine the timing of the operation | movement completion | finish of the said high frequency power supply according to the thawing | decompression state set in the said state setting part.

上記の本発明の一局面にかかる高周波解凍装置において、前記制御部は、前記状態設定部で設定された解凍状態にしたがって、前記第1の容量可変コンデンサの容量変化に基づいて前記高周波電源の動作を停止するか、前記第2の容量可変コンデンサの容量変化に基づいて前記高周波電源の動作を停止するかを決定してもよい。   In the high-frequency thawing device according to one aspect of the present invention, the control unit operates the high-frequency power source based on a change in the capacitance of the first capacitance variable capacitor according to the thawing state set by the state setting unit. It may be determined whether to stop the operation of the high-frequency power source based on a change in capacitance of the second capacitance variable capacitor.

以上のように、本発明の一局面にかかる高周波解凍装置によれば、被解凍物の解凍を終了するタイミングを適切に判断することができる。   As described above, according to the high-frequency thawing device according to one aspect of the present invention, it is possible to appropriately determine the timing for ending the thawing of the object to be thawed.

第1の実施形態にかかる高周波解凍装置の内部構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the internal structure of the high frequency thawing apparatus concerning 1st Embodiment. 図1に示す高周波解凍装置内の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure in the high frequency decompression apparatus shown in FIG. 第1の実施形態にかかる高周波解凍装置を用いて解凍処理を行った場合の被加熱物の温度変化と第1のコンデンサの容量変化を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature change of the to-be-heated material at the time of performing a thawing | decompression process using the high frequency thawing apparatus concerning 1st Embodiment, and the capacity | capacitance change of a 1st capacitor | condenser. 第1の実施形態にかかる高周波解凍装置において行われる解凍処理の流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of the thawing | decompression process performed in the high frequency thawing apparatus concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態の変形例にかかる高周波解凍装置を用いて解凍処理を行った場合の被加熱物の温度変化と第1のコンデンサの容量変化を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature change of the to-be-heated material at the time of performing a thawing | decompression process using the high frequency thawing apparatus concerning the modification of 1st Embodiment, and the capacity | capacitance change of a 1st capacitor | condenser. 第1の実施形態の変形例にかかる高周波解凍装置において行われる解凍処理の流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of the thawing | decompression process performed in the high frequency thawing apparatus concerning the modification of 1st Embodiment. 第2の実施形態にかかる高周波解凍装置を用いて解凍処理を行った場合の被加熱物の温度変化と第2のコンデンサの容量変化を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature change of the to-be-heated material at the time of performing a thawing | decompression process using the high frequency thawing apparatus concerning 2nd Embodiment, and the capacitance change of a 2nd capacitor | condenser. 第2の実施形態にかかる高周波解凍装置を用いて解凍処理を行った場合の被加熱物の温度変化と第2のコンデンサの容量変化を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature change of the to-be-heated material at the time of performing a thawing | decompression process using the high frequency thawing apparatus concerning 2nd Embodiment, and the capacitance change of a 2nd capacitor | condenser. 第2の実施形態にかかる高周波解凍装置において行われる解凍処理の流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of the thawing | decompression process performed in the high frequency thawing apparatus concerning 2nd Embodiment. 従来の高周波解凍装置の構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a structure of the conventional high frequency thawing apparatus.

以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same parts are denoted by the same reference numerals. Their names and functions are also the same. Therefore, detailed description thereof will not be repeated.

〔第1の実施形態〕
(高周波解凍装置の概略構成)
先ず、本実施の形態にかかる高周波解凍装置100の概略構成について、図1を用いて説明する。本実施形態の高周波解凍装置100は、食品などの被加熱物(被解凍物)3に高周波電界を印加して、被加熱物の解凍処理、加熱処理などを行う。特に、本実施形態の高周波解凍装置100は、凍結された状態の被加熱物3を加熱し、被加熱物3を解凍または加熱するために使用される。高周波解凍装置100は、加熱室(解凍室)9を備えている。加熱室9は、金属製の筐体で形成されている。
[First Embodiment]
(Schematic configuration of the high-frequency thawing device)
First, a schematic configuration of the high-frequency thawing device 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The high-frequency thawing apparatus 100 according to this embodiment applies a high-frequency electric field to an object to be heated (food to be thawed) 3 such as food to perform thawing processing, heat treatment, and the like of the object to be heated. In particular, the high-frequency thawing device 100 of the present embodiment is used to heat the object to be heated 3 in a frozen state and to defrost or heat the object to be heated 3. The high-frequency thawing apparatus 100 includes a heating chamber (thawing chamber) 9. The heating chamber 9 is formed of a metal casing.

図1に示すように、加熱室9の内部には、上部電極(電極板)1、下部電極(電極板)2、金属板(導電性の板状部材)4、天面プレート7、底面プレート8などが備えられている。上部電極1及び下部電極2は、高周波解凍装置100の電極板を構成する。上部電極1及び下部電極2は、互いに平行になるように配置されている。本実施形態では、2個の電極板(すなわち、上部電極1及び下部電極2)を備えているが、本発明の別の態様では、少なくとも一つ以上の電極板を備えていればよい。上部電極1、下部電極2、天面プレート7、および底面プレート8は、何れも平板状である。底面プレート8は、下部電極2の上部に配置され、下部電極2に密着している。天面プレート7は、上部電極1の下部に配置され、上部電極1に密着している。   As shown in FIG. 1, the heating chamber 9 includes an upper electrode (electrode plate) 1, a lower electrode (electrode plate) 2, a metal plate (conductive plate-like member) 4, a top plate 7, and a bottom plate. 8 etc. are provided. The upper electrode 1 and the lower electrode 2 constitute an electrode plate of the high-frequency thawing device 100. The upper electrode 1 and the lower electrode 2 are arranged in parallel to each other. In the present embodiment, two electrode plates (that is, the upper electrode 1 and the lower electrode 2) are provided. However, in another aspect of the present invention, at least one electrode plate may be provided. The upper electrode 1, the lower electrode 2, the top plate 7, and the bottom plate 8 are all flat. The bottom plate 8 is disposed on the lower electrode 2 and is in close contact with the lower electrode 2. The top plate 7 is disposed below the upper electrode 1 and is in close contact with the upper electrode 1.

上部電極1は、金属板4と連結されている。上部電極1は、金属板4によって加熱室9内の上方に支持されている。また、金属板4は、電圧印加部20(より具体的には、整合回路6)と連結されている。   The upper electrode 1 is connected to the metal plate 4. The upper electrode 1 is supported above the heating chamber 9 by the metal plate 4. Further, the metal plate 4 is connected to the voltage application unit 20 (more specifically, the matching circuit 6).

底面プレート8は、加熱室9の側壁に固定されている。そして、底面プレート8の下面に下部電極2が接着されて固定されている。このように、本実施形態では、底面プレート8および下部電極2の位置は、加熱室9内で固定されている。下部電極2は、配線を介して電圧印加部20(より具体的には、整合回路6)に接続されている。   The bottom plate 8 is fixed to the side wall of the heating chamber 9. The lower electrode 2 is bonded and fixed to the lower surface of the bottom plate 8. Thus, in this embodiment, the positions of the bottom plate 8 and the lower electrode 2 are fixed in the heating chamber 9. The lower electrode 2 is connected to the voltage application unit 20 (more specifically, the matching circuit 6) via a wiring.

高周波解凍装置100を用いて被加熱物3の解凍又は加熱を行う場合には、底面プレート8上に被加熱物3を載せる。そして、上部電極1と下部電極2との間に高周波電界を与え、被加熱物3の誘電損失による誘電加熱解凍を行う。   When the object 3 to be heated is thawed or heated using the high frequency thawing apparatus 100, the object to be heated 3 is placed on the bottom plate 8. Then, a high-frequency electric field is applied between the upper electrode 1 and the lower electrode 2 to perform dielectric heating thawing due to dielectric loss of the object 3 to be heated.

なお、本実施形態では、上部電極1と接続されている金属板4が上下方向に伸縮することによって、上部電極1の高さを変更することができる。そのため、底面プレート8上に載置される被加熱物3の大きさに応じて、上部電極1と下部電極2との間隔を変更することができる。   In the present embodiment, the height of the upper electrode 1 can be changed by expanding and contracting the metal plate 4 connected to the upper electrode 1 in the vertical direction. Therefore, the distance between the upper electrode 1 and the lower electrode 2 can be changed according to the size of the object to be heated 3 placed on the bottom plate 8.

(電圧印加部の構成)
続いて、加熱室9内の各電極に対して電圧を印加する電圧印加部20の構成について、図2を参照しながら説明する。図2は、電極対(上部電極1および下部電極2)と電圧印加部20との間の回路構成を示す回路図である。
(Configuration of voltage application unit)
Next, the configuration of the voltage application unit 20 that applies a voltage to each electrode in the heating chamber 9 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit configuration between the electrode pair (upper electrode 1 and lower electrode 2) and the voltage application unit 20. As shown in FIG.

電圧印加部20は、上部電極1と下部電極2との間に高周波電圧を印加する。図1に示すように、電圧印加部20は、加熱室9の外側に配置されている。電圧印加部20は、主な構成部材として、高周波電源5、整合回路6、および制御回路(制御部)10などを有している。   The voltage application unit 20 applies a high frequency voltage between the upper electrode 1 and the lower electrode 2. As shown in FIG. 1, the voltage application unit 20 is disposed outside the heating chamber 9. The voltage application unit 20 includes a high-frequency power source 5, a matching circuit 6, a control circuit (control unit) 10, and the like as main components.

高周波電源5は、上部電極1および下部電極2に供給する高周波電力を生成する。すなわち、高周波電源5内では、HFからVHFまでの帯域の周波数の電圧信号を発信し、発信された電圧信号は、増幅器(図示せず)で所望の電力まで増幅される。増幅された電圧は、整合回路6へ送信される。   The high frequency power supply 5 generates high frequency power to be supplied to the upper electrode 1 and the lower electrode 2. That is, in the high frequency power supply 5, a voltage signal having a frequency in a band from HF to VHF is transmitted, and the transmitted voltage signal is amplified to a desired power by an amplifier (not shown). The amplified voltage is transmitted to the matching circuit 6.

図2に示すように、整合回路6は、第1のコンデンサ(第1の容量可変コンデンサ)6a、第2のコンデンサ(第2の容量可変コンデンサ)6b、およびコイル6cなどを備えている。第1のコンデンサ6aおよび第2のコンデンサ6bは、静電容量を調整することができる。   As shown in FIG. 2, the matching circuit 6 includes a first capacitor (first capacitance variable capacitor) 6a, a second capacitor (second capacitance variable capacitor) 6b, a coil 6c, and the like. The first capacitor 6a and the second capacitor 6b can adjust the capacitance.

図2に示すように、第1のコンデンサ6aおよびコイル6cは、上部電極1および下部電極2(すなわち、各電極1および2で構成されるコンデンサ)と直列に接続されている。また、金属板4は、第1のコンデンサ6aと上部電極1および下部電極2との間に、直列に接続されている。   As shown in FIG. 2, the first capacitor 6 a and the coil 6 c are connected in series with the upper electrode 1 and the lower electrode 2 (that is, a capacitor composed of the electrodes 1 and 2). Further, the metal plate 4 is connected in series between the first capacitor 6 a and the upper electrode 1 and the lower electrode 2.

一方、第2のコンデンサ6bは、高周波電源5の出力と並列に接続されている。   On the other hand, the second capacitor 6 b is connected in parallel with the output of the high frequency power supply 5.

上記の構成により、整合回路6は、上部電極1と下部電極2とで構成されるコンデンサのリアクタンスを相殺する。また、整合回路6は、第1のコンデンサ6aおよび第2のコンデンサ6bの値を調整することにより、整合回路6への入力インピーダンスと増幅器への出力インピーダンスとを一致させることができる。これにより、被加熱物3に効率良く高周波電界を印加することができる。   With the above configuration, the matching circuit 6 cancels the reactance of the capacitor formed by the upper electrode 1 and the lower electrode 2. The matching circuit 6 can match the input impedance to the matching circuit 6 and the output impedance to the amplifier by adjusting the values of the first capacitor 6a and the second capacitor 6b. Thereby, a high frequency electric field can be efficiently applied to the article 3 to be heated.

なお、金属板4は、整合回路6とともに、高周波解凍装置100の回路内のインピーダンス整合を取るためのインダクタとして機能する。金属板4が設けられていることで、整合回路6内のインダクタ部品の数を削減することができる。   In addition, the metal plate 4 functions as an inductor for matching impedance in the circuit of the high-frequency decompression device 100 together with the matching circuit 6. Since the metal plate 4 is provided, the number of inductor components in the matching circuit 6 can be reduced.

整合回路6においてインピーダンスマッチングが施された電圧は、上部電極1と下部電極2とで形成されるコンデンサへ供給される。これにより、上部電極1と下部電極2との間には高周波電界が生じる。そして、上部電極1と下部電極2との間に載置された被加熱物3は、誘電加熱される。   The voltage subjected to impedance matching in the matching circuit 6 is supplied to a capacitor formed by the upper electrode 1 and the lower electrode 2. As a result, a high-frequency electric field is generated between the upper electrode 1 and the lower electrode 2. The heated object 3 placed between the upper electrode 1 and the lower electrode 2 is dielectrically heated.

また、制御回路10は、高周波電源5の動作を制御する。すなわち、高周波電源5は、制御回路10からの指令に応じて高周波電力の供給を開始したり停止したりする。例えば、制御回路10は、第1のコンデンサ6aおよび第2のコンデンサ6bの少なくとも何れかの容量変化を検知し、その検知結果に基づいて、高周波電源5の動作を停止する。また、制御回路10は、高周波電源5から発信される電圧信号の周波数を変更することもできる。   The control circuit 10 controls the operation of the high frequency power supply 5. That is, the high frequency power supply 5 starts or stops the supply of high frequency power in accordance with a command from the control circuit 10. For example, the control circuit 10 detects the capacitance change of at least one of the first capacitor 6a and the second capacitor 6b, and stops the operation of the high-frequency power source 5 based on the detection result. The control circuit 10 can also change the frequency of the voltage signal transmitted from the high frequency power supply 5.

図2に示すように、制御回路10は、状態設定部11を有している。状態設定部11は、例えば、使用者からの指示にしたがって、被加熱物3の解凍状態を設定する。ここで設定される解凍状態は、高周波電源5からの高周波電力の供給を停止するタイミングを決定するために用いられる。   As shown in FIG. 2, the control circuit 10 has a state setting unit 11. For example, the state setting unit 11 sets the thawing state of the object to be heated 3 in accordance with an instruction from the user. The thawing state set here is used to determine the timing at which the supply of high-frequency power from the high-frequency power supply 5 is stopped.

例えば、使用者が被加熱物3を実質的に全て解凍することを所望する場合には、使用者は、操作パネル(図示せず)などを用いて「解凍モード」を選択する。また、使用者が、被加熱物3を解凍が始まる直前の状態にまで加熱することを所望する場合には、「プレ解凍モード」を選択する。   For example, when the user desires to defrost substantially all of the article 3 to be heated, the user selects the “thaw mode” using an operation panel (not shown) or the like. When the user desires to heat the article to be heated 3 to a state immediately before thawing starts, the “pre-thawing mode” is selected.

これらの選択指令は、状態設定部11に送信される。状態設定部11は、操作パネルで選択されたモードに対応した解凍状態を、被加熱物3の解凍状態として設定する。例えば、使用者が「解凍モード」を選択した場合には、被加熱物3が実質的に全て解凍された状態を、解凍状態として設定する。   These selection commands are transmitted to the state setting unit 11. The state setting unit 11 sets the thawing state corresponding to the mode selected on the operation panel as the thawing state of the article 3 to be heated. For example, when the user selects the “thawing mode”, a state where substantially all the heated object 3 has been thawed is set as the thawed state.

そして、制御回路10は、被加熱物3が状態設定部11で設定された解凍状態に到達したと判定したときに、高周波電源5の動作を停止する。本実施形態では、解凍状態の判定は、第1のコンデンサ6aの容量変化に基づいて行われる。   When the control circuit 10 determines that the object to be heated 3 has reached the thawing state set by the state setting unit 11, the control circuit 10 stops the operation of the high frequency power supply 5. In the present embodiment, the determination of the thaw state is performed based on the change in capacitance of the first capacitor 6a.

(制御回路による高周波電源の制御について)
続いて、制御回路10を用いて高周波電源5の動作の停止を制御する方法について、図3および図4を参照しながら説明する。ここでは、使用者が「解凍モード」を選択した場合の処理の流れについて説明する。図3は、被加熱物3に高周波電圧を印加し始めてからの被加熱物3の温度(℃)の変化と、第1のコンデンサ6aの可変容量の経時的な変化を示すグラフである。図4は、被加熱物3の解凍処理時に制御回路10において行われる処理の流れを示すフローチャートである。
(Control of high frequency power supply by control circuit)
Next, a method for controlling the stop of the operation of the high frequency power supply 5 using the control circuit 10 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Here, the flow of processing when the user selects the “decompression mode” will be described. FIG. 3 is a graph showing a change in the temperature (° C.) of the heated object 3 after the start of applying a high frequency voltage to the heated object 3 and a change over time in the variable capacitance of the first capacitor 6a. FIG. 4 is a flowchart showing the flow of processing performed in the control circuit 10 during the thawing processing of the article 3 to be heated.

図3に示すように、被加熱物3の解凍処理を開始すると、冷凍状態の被加熱物3の温度は徐々に上昇する。そして、被加熱物3の温度が約0℃に到達すると、被加熱物3の解凍が開始される。被加熱物3の解凍が進行している状態では、被加熱物3の温度は約0℃に維持される。   As shown in FIG. 3, when the thawing process of the object to be heated 3 is started, the temperature of the object to be heated 3 in the frozen state gradually increases. Then, when the temperature of the object to be heated 3 reaches about 0 ° C., thawing of the object to be heated 3 is started. In a state where the object to be heated 3 is being thawed, the temperature of the object to be heated 3 is maintained at about 0 ° C.

一方、第1のコンデンサ6aの可変容量は、被加熱物3の解凍処理を開始すると急激に減少する。その後、被加熱物3の温度が約0℃付近に到達すると、第1のコンデンサ6aの容量低下の速度は減少する。   On the other hand, the variable capacity of the first capacitor 6a decreases rapidly when the thawing process of the object to be heated 3 is started. Thereafter, when the temperature of the object to be heated 3 reaches about 0 ° C., the rate of capacity reduction of the first capacitor 6a decreases.

そして、被加熱物3の解凍が進行している間(被加熱物3の温度が約0℃で維持されている間)に、第1のコンデンサ6aの容量変化は、減少から増加に転じる。すなわち、被加熱物3の解凍が進行している間に、第1のコンデンサ6aの容量変化の極小が検知される。図3に示すように、第1のコンデンサ6aの容量変化の極小は、被加熱物3の解凍が半分以上進行した時点(図3のAの時点)で検知される。これは、被加熱物3が実質的に全て解凍されたときに、第1のコンデンサ6aが極小を示すことを意味する。   And while defrosting of the to-be-heated material 3 is progressing (while the temperature of the to-be-heated material 3 is maintained at about 0 degreeC), the capacity | capacitance change of the 1st capacitor | condenser 6a turns from increase to decrease. That is, while the thawing of the object to be heated 3 is proceeding, the minimum of the capacitance change of the first capacitor 6a is detected. As shown in FIG. 3, the minimum of the capacitance change of the first capacitor 6a is detected when the defrosting of the article 3 to be heated proceeds more than half (time A in FIG. 3). This means that the first capacitor 6a exhibits a minimum value when substantially all of the object to be heated 3 has been thawed.

そこで、制御回路10は、このAの時点を検知したときに、高周波電源5の動作を停止し、解凍処理を終了させる。以下、具体的な処理の流れを、図4を参照しながら説明する。   Therefore, when detecting the time point A, the control circuit 10 stops the operation of the high frequency power supply 5 and ends the decompression process. Hereinafter, a specific processing flow will be described with reference to FIG.

例えば、被加熱物3が底面プレート8上に載置され、使用者が、操作パネルの解凍開始のボタンを押すと、解凍処理が開始される。先ず、制御回路10は、高周波電源5をON状態にし、高周波電力の供給を開始する(ステップS11)。   For example, when the object to be heated 3 is placed on the bottom plate 8 and the user presses the thawing start button on the operation panel, the thawing process is started. First, the control circuit 10 turns on the high frequency power supply 5 and starts supplying high frequency power (step S11).

高周波電力の供給が開始されると、制御回路10は、第1のコンデンサ6aの静電容量X1を取得し(ステップS12)、その後、所定時間(例えば、1秒以上5秒以下の時間)待機する(ステップS13)。   When the supply of the high frequency power is started, the control circuit 10 acquires the capacitance X1 of the first capacitor 6a (step S12), and then waits for a predetermined time (for example, a time of 1 second to 5 seconds). (Step S13).

その後、制御回路10は、所定時間経過後の第1のコンデンサ6aの静電容量X2を取得する(ステップS14)。そして、制御回路10は、静電容量X1と静電容量X2との大小関係を比較する(ステップS15)。ここで、静電容量X2が静電容量X1以下である場合(ステップS15でNO)には、ステップS12に戻り、静電容量X1と静電容量X2との比較(すなわち、ステップS12からステップS15までの処理)が繰り返される。   Thereafter, the control circuit 10 acquires the capacitance X2 of the first capacitor 6a after a predetermined time has elapsed (step S14). Then, the control circuit 10 compares the magnitude relationship between the capacitance X1 and the capacitance X2 (step S15). If the electrostatic capacity X2 is equal to or lower than the electrostatic capacity X1 (NO in step S15), the process returns to step S12, and the electrostatic capacity X1 is compared with the electrostatic capacity X2 (ie, from step S12 to step S15). The process up to is repeated.

静電容量X1と静電容量X2との比較を繰り返した後、静電容量X2が静電容量X1を上回ったと判定された場合(ステップS15でYES)には、第1のコンデンサ6aの極小が存在したことを意味する。そこで、制御回路10は、図3に示すAの時点に到達した(あるいは、Aの時点を過ぎた)と判断し、高周波電源5をOFF状態にし、高周波電力の供給を停止する(ステップS16)。これにより、被加熱物3の解凍処理は終了する。   After the comparison between the capacitance X1 and the capacitance X2 is repeated, if it is determined that the capacitance X2 exceeds the capacitance X1 (YES in step S15), the minimum value of the first capacitor 6a is determined. Means it existed. Therefore, the control circuit 10 determines that the time point A shown in FIG. 3 has been reached (or has passed the time point A), turns off the high-frequency power supply 5 and stops the supply of high-frequency power (step S16). . Thereby, the thawing | decompression process of the to-be-heated material 3 is complete | finished.

以上のような処理を行うことで、被加熱物3が所望とする解凍状態(例えば、被加熱物3が実質的に全て解凍された状態)になったタイミングで適切に解凍処理を終了することができる。   By performing the process as described above, the thawing process is appropriately terminated at the timing when the article to be heated 3 is in a desired thawing state (for example, a state where substantially all the article to be heated 3 has been thawed). Can do.

なお、「解凍モード」以外のモードが選択された場合には、図3に示すグラフを参考にして、制御回路10は、高周波電源5をOFFするタイミングを決定することができる。例えば、「プレ解凍モード」が選択された場合には、第1のコンデンサ6aの容量低下の速度が所定値以下に減少したときに、高周波電源5をOFFすることができる。   When a mode other than the “thawing mode” is selected, the control circuit 10 can determine the timing for turning off the high-frequency power supply 5 with reference to the graph shown in FIG. For example, when the “pre-thawing mode” is selected, the high frequency power supply 5 can be turned off when the rate of capacity reduction of the first capacitor 6a decreases to a predetermined value or less.

(変形例)
以下には、使用者が「解凍モード」を選択した場合の別の処理の流れについて、図5および図6を参照しながら説明する。ここで説明する処理は、被加熱物3の物性などに起因して、第1のコンデンサ6aの極小が検知されにくい場合に好適に利用することができる。
(Modification)
In the following, another processing flow when the user selects the “decompression mode” will be described with reference to FIGS. 5 and 6. The processing described here can be suitably used when it is difficult to detect the minimum of the first capacitor 6a due to the physical properties of the article 3 to be heated.

図5は、被加熱物3に高周波電圧を印加し始めてからの被加熱物3の温度(℃)の変化と、第1のコンデンサ6aの可変容量の経時的な変化を示すグラフである。図6は、被加熱物3の解凍処理時に制御回路10において行われる処理の流れを示すフローチャートである。   FIG. 5 is a graph showing a change in the temperature (° C.) of the article 3 to be heated since the application of the high-frequency voltage to the article 3 to be heated and a change with time in the variable capacitance of the first capacitor 6a. FIG. 6 is a flowchart showing the flow of processing performed in the control circuit 10 during the thawing processing of the article 3 to be heated.

図3に示す場合と異なり、被加熱物3の物性によっては、図5に示すように、第1のコンデンサ6aは極小を示すことなく、完全に解凍された後にも、静電容量がわずかに減少し続けることがある。このような場合には、制御回路10は、第1のコンデンサ6aの静電容量の単位時間当たりの低下量が所定値以下となったときに、高周波電源5の動作を停止させる。   Unlike the case shown in FIG. 3, depending on the physical properties of the object 3 to be heated, as shown in FIG. 5, the first capacitor 6a does not show a minimum, and the capacitance is slightly increased even after being completely thawed. May continue to decrease. In such a case, the control circuit 10 stops the operation of the high-frequency power source 5 when the amount of decrease in the capacitance of the first capacitor 6a per unit time becomes equal to or less than a predetermined value.

具体的な処理の流れを、図6を参照しながら以下に説明する。先ず、制御回路10は、高周波電源5をON状態にし、高周波電力の供給を開始する(ステップS21)。   A specific processing flow will be described below with reference to FIG. First, the control circuit 10 turns on the high frequency power supply 5 and starts supplying high frequency power (step S21).

高周波電力の供給が開始されると、制御回路10は、第1のコンデンサ6aの静電容量X1を取得し(ステップS22)、その後、所定時間(例えば、1秒以上5秒以下の時間)待機する(ステップS23)。   When the supply of the high frequency power is started, the control circuit 10 acquires the capacitance X1 of the first capacitor 6a (step S22), and then waits for a predetermined time (for example, a time of 1 second to 5 seconds). (Step S23).

その後、制御回路10は、所定時間経過後の第1のコンデンサ6aの静電容量X2を取得する(ステップS24)。そして、制御回路10は、静電容量X1と静電容量X2との差を算出する(ステップS25)。ここで、静電容量X1と静電容量X2との差が所定値Zよりも大きい場合(ステップS25でNO)には、ステップS22に戻り、静電容量X1と静電容量X2との差を算出する処理(すなわち、ステップS22からステップS25までの処理)が繰り返される。   Thereafter, the control circuit 10 acquires the capacitance X2 of the first capacitor 6a after a predetermined time has elapsed (step S24). Then, the control circuit 10 calculates the difference between the electrostatic capacitance X1 and the electrostatic capacitance X2 (step S25). If the difference between the capacitance X1 and the capacitance X2 is larger than the predetermined value Z (NO in step S25), the process returns to step S22, and the difference between the capacitance X1 and the capacitance X2 is calculated. The calculation process (that is, the process from step S22 to step S25) is repeated.

ステップS22からステップS25までの処理を繰り返した後、静電容量X1と静電容量X2との差が所定値Z以下となった場合(ステップS25でYES)には、第1のコンデンサ6aの静電容量の単位時間当たりの低下量が所定値以下となったことを意味する。そこで、制御回路10は、図5に示すBの時点に到達したと判断し、高周波電源5をOFF状態にし、高周波電力の供給を停止する(ステップS26)。これにより、被加熱物3の解凍処理は終了する。   After the process from step S22 to step S25 is repeated, if the difference between the capacitance X1 and the capacitance X2 is equal to or smaller than the predetermined value Z (YES in step S25), the static of the first capacitor 6a is It means that the amount of decrease in the electric capacity per unit time has become a predetermined value or less. Therefore, the control circuit 10 determines that the time point B shown in FIG. 5 has been reached, turns off the high-frequency power supply 5 and stops the supply of high-frequency power (step S26). Thereby, the thawing | decompression process of the to-be-heated material 3 is complete | finished.

以上のような処理を行うことで、第1のコンデンサ6aの極小の検知が困難な場合にも、被加熱物3が所望とする解凍状態(例えば、被加熱物3が実質的に全て解凍された状態)になったタイミングで適切に解凍処理を終了することができる。   By performing the above processing, even when it is difficult to detect the minimum of the first capacitor 6a, the object 3 to be heated is in a desired defrost state (for example, substantially all the object 3 to be heated is defrosted). The thawing process can be properly terminated at the timing when the state is reached.

(まとめ)
以上のように、本実施形態にかかる高周波解凍装置100は、電圧印加部20を備えている。電圧印加部20には、高周波電源5、整合回路6、および制御回路10が備えられている。整合回路6には、上部電極1および下部電極2に直列に接続されている第1のコンデンサ6aと、高周波電源5の出力と並列に接続されている第2のコンデンサ6bとが含まれている。また、制御回路10には、状態設定部11が含まれている。
(Summary)
As described above, the high-frequency thawing device 100 according to this embodiment includes the voltage application unit 20. The voltage application unit 20 includes a high frequency power supply 5, a matching circuit 6, and a control circuit 10. The matching circuit 6 includes a first capacitor 6a connected in series to the upper electrode 1 and the lower electrode 2, and a second capacitor 6b connected in parallel with the output of the high-frequency power source 5. . Further, the control circuit 10 includes a state setting unit 11.

そして、制御回路10は、状態設定部11で設定された解凍状態にしたがって、高周波電源5の動作終了のタイミングを決定する。これにより、被加熱物3が所望とする状態にまで解凍されたタイミングで解凍処理を終わらせることができる。つまり、被加熱物3の温度を熱センサなどで検知しなくとも、適切なタイミングで解凍処理を終了させることができる。   Then, the control circuit 10 determines the end timing of the operation of the high frequency power supply 5 according to the decompression state set by the state setting unit 11. Thereby, the thawing | decompression process can be ended at the timing when the to-be-heated material 3 was defrosted to the desired state. That is, the thawing process can be terminated at an appropriate timing without detecting the temperature of the article to be heated 3 with a thermal sensor or the like.

また、本実施形態にかかる高周波解凍装置100では、制御回路10が第1のコンデンサ6aの極小を検知するなどして高周波電源5の動作を停止させる。この構成よれば、熱センサなどの検出器を用いることなく、解凍を終了すべき状態を電気的に適切に検知して解凍処理を自動で停止することができる。これにより、被加熱物が過加熱の状態になることを抑え、仕上がり状態のよい被加熱物を得ることができる。また、本実施形態にかかる高周波解凍装置100によれば、電力の無駄な消費を抑えることができる。このように、本実施形態によれば、利便性の高い高周波加熱装置が提供される。   Further, in the high frequency thawing device 100 according to the present embodiment, the control circuit 10 stops the operation of the high frequency power source 5 by detecting the minimum of the first capacitor 6a, for example. According to this configuration, without using a detector such as a heat sensor, the state where thawing should be terminated can be detected electrically and the thawing process can be automatically stopped. Thereby, it can suppress that a to-be-heated material will be in the state of an overheating, and can obtain the to-be-heated material with a good finishing state. In addition, according to the high-frequency thawing device 100 according to the present embodiment, wasteful consumption of power can be suppressed. Thus, according to this embodiment, a high-frequency high-frequency heating device is provided.

〔第2の実施形態〕
続いて、本発明の第2の実施形態について説明する。上述した第1の実施形態では、上部電極1および下部電極2と直列に配置された第1のコンデンサ6aの容量変化に基づいて被加熱物3の解凍状態の判定が行われる。これに対して、第2の実施形態では、上部電極1および下部電極2と並列に配置された第2のコンデンサ6bの容量変化に基づいて被加熱物3の解凍状態の判定が行われる。なお、第2の実施形態にかかる高周波解凍装置101の基本的な構成については、第1の実施形態と同じである。そこで、以下では、第2のコンデンサ6bの容量変化に基づく被加熱物3の解凍状態の判定の仕方を中心に説明する。
[Second Embodiment]
Subsequently, a second embodiment of the present invention will be described. In the first embodiment described above, the thawing state of the article to be heated 3 is determined based on the capacitance change of the first capacitor 6a arranged in series with the upper electrode 1 and the lower electrode 2. On the other hand, in the second embodiment, the defrosted state of the article to be heated 3 is determined based on the capacitance change of the second capacitor 6b disposed in parallel with the upper electrode 1 and the lower electrode 2. The basic configuration of the high-frequency thawing device 101 according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment. Therefore, the following description will focus on how to determine the thawing state of the article to be heated 3 based on the change in the capacity of the second capacitor 6b.

以下では、第2の実施形態にかかる高周波解凍装置101が、制御回路10を用いて高周波電源5の動作の停止を制御する方法について、図7から図9を参照しながら説明する。図7および図8は、被加熱物3に高周波電圧を印加し始めてからの被加熱物3の温度(℃)の変化と、第2のコンデンサ6bの可変容量の経時的な変化を示すグラフである。図9は、被加熱物3の解凍処理時に制御回路10において行われる処理の流れを示すフローチャートである。なお、図9に示す処理は、使用者が「プレ解凍モード」を選択した場合の処理である。   Hereinafter, a method in which the high-frequency decompression apparatus 101 according to the second embodiment controls the stop of the operation of the high-frequency power supply 5 using the control circuit 10 will be described with reference to FIGS. 7 to 9. 7 and 8 are graphs showing changes in the temperature (° C.) of the object to be heated 3 since the start of applying a high-frequency voltage to the object to be heated 3, and changes over time in the variable capacitance of the second capacitor 6b. is there. FIG. 9 is a flowchart showing the flow of processing performed in the control circuit 10 during the thawing processing of the article 3 to be heated. The process shown in FIG. 9 is a process when the user selects the “pre-decompression mode”.

先ず、使用者が「プレ解凍モード」を選択した場合の処理の流れについて、図7を参照しながら説明する。   First, the flow of processing when the user selects the “pre-thawing mode” will be described with reference to FIG.

図7に示すように、被加熱物3の解凍処理を開始すると、冷凍状態の被加熱物3の温度は徐々に上昇する。そして、被加熱物3の温度が約0℃に到達すると、被加熱物3の解凍が開始される。被加熱物3の解凍が進行している状態では、被加熱物3の温度は約0℃に維持される。   As shown in FIG. 7, when the thawing process of the object to be heated 3 is started, the temperature of the object to be heated 3 in the frozen state gradually increases. Then, when the temperature of the object to be heated 3 reaches about 0 ° C., thawing of the object to be heated 3 is started. In a state where the object to be heated 3 is being thawed, the temperature of the object to be heated 3 is maintained at about 0 ° C.

一方、第2のコンデンサ6bの可変容量は、被加熱物3の解凍処理を開始すると徐々に増加する。その後、被加熱物3の温度が約0℃付近に到達する直前(図7のCの時点)で、第2のコンデンサ6bの容量変化は、増加から減少に転じる。すなわち、被加熱物3の解凍が始まる前のタイミングで、第2のコンデンサ6bの容量変化の極大が検知される。そして、被加熱物3の解凍が進行している間(被加熱物3の温度が約0℃で維持されている間)は、第2のコンデンサ6bの容量は、徐々に低下する。   On the other hand, the variable capacitance of the second capacitor 6b gradually increases when the thawing process of the article to be heated 3 is started. Thereafter, immediately before the temperature of the article 3 to be heated reaches about 0 ° C. (time C in FIG. 7), the capacitance change of the second capacitor 6b turns from increasing to decreasing. That is, the maximum change in the capacitance of the second capacitor 6b is detected at a timing before the object to be heated 3 begins to thaw. And while defrosting of the to-be-heated material 3 is progressing (while the temperature of the to-be-heated material 3 is maintained at about 0 degreeC), the capacity | capacitance of the 2nd capacitor | condenser 6b falls gradually.

以上より、被加熱物3の解凍が始まる直前のタイミングで、第2のコンデンサ6bが極大を示すことがわかる。そこで、制御回路10は、第2のコンデンサ6bが極大を示したことを検知した時点(図7のCの時点)で、高周波電源5の動作を停止し、解凍処理を終了させる。以下、具体的な処理の流れを、図9を参照しながら説明する。   From the above, it can be seen that the second capacitor 6b exhibits a maximum immediately before the thawing of the article 3 to be heated starts. Therefore, the control circuit 10 stops the operation of the high-frequency power source 5 at the time when it is detected that the second capacitor 6b shows the maximum (time C in FIG. 7), and ends the thawing process. Hereinafter, a specific processing flow will be described with reference to FIG.

例えば、被加熱物3が底面プレート8上に載置され、使用者が、操作パネルの解凍開始のボタンを押すと、解凍処理が開始される。先ず、制御回路10は、高周波電源5をON状態にし、高周波電力の供給を開始する(ステップS31)。   For example, when the object to be heated 3 is placed on the bottom plate 8 and the user presses the thawing start button on the operation panel, the thawing process is started. First, the control circuit 10 turns on the high frequency power supply 5 and starts supplying high frequency power (step S31).

高周波電力の供給が開始されると、制御回路10は、第2のコンデンサ6bの静電容量Y1を取得し(ステップS32)、その後、所定時間(例えば、1秒以上5秒以下の時間)待機する(ステップS33)。   When the supply of the high frequency power is started, the control circuit 10 acquires the electrostatic capacitance Y1 of the second capacitor 6b (step S32), and then waits for a predetermined time (for example, a time of 1 second to 5 seconds). (Step S33).

その後、制御回路10は、所定時間経過後の第2のコンデンサ6bの静電容量Y2を取得する(ステップS34)。そして、制御回路10は、静電容量Y1と静電容量Y2との大小関係を比較する(ステップS35)。ここで、静電容量Y2が静電容量Y1以上である場合(ステップS35でNO)には、ステップS32に戻り、静電容量Y1と静電容量Y2との比較(すなわち、ステップS32からステップS35までの処理)が繰り返される。   Thereafter, the control circuit 10 acquires the capacitance Y2 of the second capacitor 6b after a predetermined time has elapsed (step S34). Then, the control circuit 10 compares the magnitude relationship between the capacitance Y1 and the capacitance Y2 (step S35). If the electrostatic capacity Y2 is greater than or equal to the electrostatic capacity Y1 (NO in step S35), the process returns to step S32, and the electrostatic capacity Y1 and the electrostatic capacity Y2 are compared (that is, from step S32 to step S35). The process up to is repeated.

静電容量Y1と静電容量Y2との比較を繰り返した後、静電容量Y2が静電容量Y1を下回ったと判定された場合(ステップS35でYES)には、第2のコンデンサ6bの極小が存在したことを意味する。そこで、制御回路10は、図7に示すCの時点に到達した(あるいは、Cの時点を過ぎた)と判断し、高周波電源5をOFF状態にし、高周波電力の供給を停止する(ステップS36)。これにより、被加熱物3の解凍処理は終了する。   If it is determined that the electrostatic capacity Y2 is lower than the electrostatic capacity Y1 after repeating the comparison between the electrostatic capacity Y1 and the electrostatic capacity Y2 (YES in step S35), the minimum of the second capacitor 6b is determined. Means it existed. Therefore, the control circuit 10 determines that the time point C shown in FIG. 7 has been reached (or has passed the time point C), turns off the high-frequency power supply 5 and stops the supply of high-frequency power (step S36). . Thereby, the thawing | decompression process of the to-be-heated material 3 is complete | finished.

以上のような処理を行うことで、被加熱物3が所望とする状態(例えば、被加熱物3が解凍直前にまで加熱された状態)になったタイミングで適切に加熱処理を終了することができる。   By performing the above-described process, the heat treatment can be appropriately terminated at a timing when the object to be heated 3 is in a desired state (for example, the state in which the object to be heated 3 is heated to just before thawing). it can.

次に、使用者が「解凍モード」を選択した場合の処理の流れについて、図8を参照しながら説明する。   Next, the flow of processing when the user selects the “decompression mode” will be described with reference to FIG.

図8に示すように、被加熱物3の解凍処理を開始すると、冷凍状態の被加熱物3の温度は徐々に上昇する。そして、被加熱物3の温度が約0℃に到達すると、被加熱物3の解凍が開始される。被加熱物3の解凍が進行している状態では、被加熱物3の温度は約0℃に維持される。その後、被加熱物3がほぼ完全に解凍されると、被加熱物3の温度は0℃から徐々に上昇し始める。   As shown in FIG. 8, when the thawing process of the object to be heated 3 is started, the temperature of the object to be heated 3 in the frozen state gradually increases. Then, when the temperature of the object to be heated 3 reaches about 0 ° C., thawing of the object to be heated 3 is started. In a state where the object to be heated 3 is being thawed, the temperature of the object to be heated 3 is maintained at about 0 ° C. Thereafter, when the object to be heated 3 is almost completely thawed, the temperature of the object to be heated 3 starts to gradually increase from 0 ° C.

一方、第2のコンデンサ6bの可変容量は、被加熱物3の解凍処理を開始すると徐々に増加する。その後、被加熱物3の温度が約0℃付近に到達する直前で、第2のコンデンサ6bの容量変化は、増加から減少に転じる。そして、被加熱物3の解凍が進行している間(被加熱物3の温度が約0℃で維持されている間)は、第2のコンデンサ6bの容量は、徐々に低下する。   On the other hand, the variable capacitance of the second capacitor 6b gradually increases when the thawing process of the article to be heated 3 is started. Thereafter, immediately before the temperature of the article to be heated 3 reaches about 0 ° C., the capacitance change of the second capacitor 6b turns from increasing to decreasing. And while defrosting of the to-be-heated material 3 is progressing (while the temperature of the to-be-heated material 3 is maintained at about 0 degreeC), the capacity | capacitance of the 2nd capacitor | condenser 6b falls gradually.

その後、第2のコンデンサ6bの容量の単位時間当たりの減少量は徐々に低下し、第2のコンデンサ6bの容量が略一定となる。この第2のコンデンサ6bの容量が略一定となった時点(図8のDの時点)は、被加熱物3がほぼ完全に解凍された時点に相当する。   Thereafter, the amount of decrease in the capacity of the second capacitor 6b per unit time gradually decreases, and the capacity of the second capacitor 6b becomes substantially constant. The time when the capacity of the second capacitor 6b becomes substantially constant (time D in FIG. 8) corresponds to the time when the article to be heated 3 is almost completely thawed.

そこで、制御回路10は、このDの時点を検知したときに、高周波電源5の動作を停止し、解凍処理を終了させる。これにより、被加熱物3がほぼ完全に解凍されたタイミングで適切に加熱処理を終了することができる。   Therefore, when the time point D is detected, the control circuit 10 stops the operation of the high frequency power supply 5 and ends the decompression process. Thereby, a heat processing can be appropriately complete | finished at the timing when the to-be-heated material 3 was thawed | decompressed almost completely.

なお、被加熱物3の物性によっては、第2のコンデンサ6bの静電容量が一定となることなく、完全に解凍された後にも、静電容量がわずかに減少し続けることがある。このような場合には、制御回路10は、第2のコンデンサ6bの静電容量の単位時間当たりの低下量が所定値以下となったときに、高周波電源5の動作を停止させることが好ましい。このような制御は、図6のフローチャートに示す処理を応用して行うことができる。   Depending on the physical properties of the object 3 to be heated, the capacitance of the second capacitor 6b may not be constant, and the capacitance may continue to decrease slightly even after being completely thawed. In such a case, it is preferable that the control circuit 10 stops the operation of the high-frequency power supply 5 when the amount of decrease in the capacitance of the second capacitor 6b per unit time becomes a predetermined value or less. Such control can be performed by applying the process shown in the flowchart of FIG.

以上のように、本実施形態にかかる高周波解凍装置101では、制御回路10が第2のコンデンサ6bの容量変化に基づいて高周波電源5の動作を停止させる。例えば、状態設定部11において「プレ解凍モード」が選択された場合(すなわち、使用者が被加熱物3を解凍開始直前の状態にまで加熱することを希望した場合)には、制御回路10は、第2のコンデンサ6bの極大を検知して高周波電源5の動作を停止する。一方、状態設定部11において「解凍モード」が選択された場合(すなわち、使用者が被加熱物3を実質的に全て解凍することを希望した場合)には、制御回路10は、第2のコンデンサ6bの極大を検知した後、第2のコンデンサ6bの時間当たりの容量変化(の絶対値)が直前の容量変化(の絶対値)よりも減少し、かつ、第2のコンデンサ6bの時間当たりの容量変化(の絶対値)が所定値以下になったときに、高周波電源5の動作を停止する。   As described above, in the high frequency thawing device 101 according to the present embodiment, the control circuit 10 stops the operation of the high frequency power supply 5 based on the change in the capacitance of the second capacitor 6b. For example, when the “pre-thawing mode” is selected in the state setting unit 11 (that is, when the user desires to heat the article to be heated 3 to a state just before the start of thawing), the control circuit 10 Then, the maximum of the second capacitor 6b is detected and the operation of the high frequency power supply 5 is stopped. On the other hand, when “thawing mode” is selected in the state setting unit 11 (that is, when the user desires to defrost substantially all of the article to be heated 3), the control circuit 10 performs the second operation. After detecting the maximum of the capacitor 6b, the capacitance change (absolute value) per second of the second capacitor 6b is smaller than the previous capacitance change (absolute value thereof), and the second capacitor 6b per hour When the capacitance change (the absolute value thereof) becomes a predetermined value or less, the operation of the high-frequency power supply 5 is stopped.

この構成よれば、熱センサなどの検出器を用いることなく、解凍を終了すべき状態を電気的に適切に検知して解凍処理を自動で停止することができる。第2の実施形態で説明した解凍処理の方法は、「プレ解凍モード」または「解凍モード」が選択された場合に選択されることが好ましい。   According to this configuration, without using a detector such as a heat sensor, the state where thawing should be terminated can be detected electrically and the thawing process can be automatically stopped. The method of the thawing process described in the second embodiment is preferably selected when “pre-thawing mode” or “thawing mode” is selected.

〔第3の実施形態〕
続いて、本発明の第3の実施形態について説明する。上述の第1及び第2の実施形態では、第1のコンデンサ6aおよび第2のコンデンサ6bの何れか一方の容量変化に基づいて、被加熱物3の解凍状態の判定が行われる。しかし、本発明の一態様では、第1のコンデンサ6aおよび第2のコンデンサ6bの両方の容量変化に基づいて被加熱物3の解凍状態を判定することもできる。そこで、以下では、第1のコンデンサ6aおよび第2のコンデンサ6bの各容量変化に基づいて被加熱物3の解凍状態を判定する方法について説明する。
[Third Embodiment]
Subsequently, a third embodiment of the present invention will be described. In the first and second embodiments described above, the thawing state of the article to be heated 3 is determined based on the capacitance change of one of the first capacitor 6a and the second capacitor 6b. However, in one embodiment of the present invention, the defrosted state of the object to be heated 3 can also be determined based on the capacitance changes of both the first capacitor 6a and the second capacitor 6b. Therefore, in the following, a method for determining the defrosted state of the article to be heated 3 based on the capacitance changes of the first capacitor 6a and the second capacitor 6b will be described.

本実施形態にかかる高周波解凍装置の基本的な構成は、上述した高周波解凍装置100または101の構成を適用することができる。そのため、具体的な説明は省略する。   As the basic configuration of the high-frequency thawing device according to the present embodiment, the configuration of the high-frequency thawing device 100 or 101 described above can be applied. Therefore, a specific description is omitted.

第1の実施形態と同様に、高周波解凍装置101に備えられた電圧印加部20は、高周波電源5、整合回路6、および制御回路(制御部)10などを有している(図1および図2参照)。そして、制御回路10は、状態設定部11を有している。   Similar to the first embodiment, the voltage application unit 20 provided in the high-frequency decompression apparatus 101 includes a high-frequency power source 5, a matching circuit 6, a control circuit (control unit) 10, and the like (FIGS. 1 and 1). 2). The control circuit 10 has a state setting unit 11.

状態設定部11は、例えば、使用者からの指示にしたがって、被加熱物3の解凍状態を設定する。第1の実施形態で説明したように、被加熱物3の解凍状態としては、例えば、「解凍モード」、および「プレ解凍モード」という2つの解凍状態が挙げられる。但し、解凍状態を表すモードは、必ずしもこれに限定はされない。   For example, the state setting unit 11 sets the thawing state of the object to be heated 3 in accordance with an instruction from the user. As described in the first embodiment, the thawing state of the article 3 to be heated includes, for example, two thawing states of “defrosting mode” and “pre-thawing mode”. However, the mode representing the decompressed state is not necessarily limited to this.

また、上記3つの解凍状態のうち、「解凍モード」が選択された場合には、第1のコンデンサ6aまたは第2のコンデンサ6bの容量変化に基づいて、高周波電源5の動作を停止するタイミングが決定される。より具体的には、制御回路10は、図5に示すBの時点または図8に示すDの時点を判定し、これらの時点で高周波電源5の動作を停止する。   In addition, when “decompression mode” is selected from the above three decompression states, the timing of stopping the operation of the high-frequency power supply 5 based on the capacitance change of the first capacitor 6a or the second capacitor 6b. It is determined. More specifically, the control circuit 10 determines the time point B shown in FIG. 5 or the time point D shown in FIG. 8, and stops the operation of the high-frequency power source 5 at these time points.

また、上記3つの解凍状態のうち、「プレ解凍モード」が選択された場合には、第2のコンデンサ6bの容量変化に基づいて、高周波電源5の動作を停止するタイミングが決定される。より具体的には、制御回路10は、図7に示すCの時点を判定し、このCの時点で高周波電源5の動作を停止する。   Further, when the “pre-thawing mode” is selected from the above three thawing states, the timing for stopping the operation of the high-frequency power source 5 is determined based on the change in the capacitance of the second capacitor 6b. More specifically, the control circuit 10 determines the time point C shown in FIG. 7 and stops the operation of the high-frequency power source 5 at the time point C.

以上のように、第3の実施形態にかかる高周波解凍装置では、状態設定部11において設定された解凍状態に応じて、制御回路10が、第1のコンデンサ6aの容量変化を検知するか、第2のコンデンサの6bの容量変化を検知するかを決定することができる。   As described above, in the high-frequency decompression device according to the third embodiment, the control circuit 10 detects the capacitance change of the first capacitor 6a according to the decompression state set in the state setting unit 11, or the first It is possible to determine whether to detect the capacitance change of 6b of the second capacitor.

そして、被加熱物3がほぼ完全に解凍された状態で解凍処理を終了することが望まれる場合には、第1のコンデンサ6aまたは第2のコンデンサ6bの容量変化の検知結果に基づいて解凍処理を終了することができる。また、被加熱物3が解凍を開始する直前の状態で加熱処理を終了することが望まれる場合には、第2のコンデンサ6bの容量変化の検知結果に基づいて解凍処理を終了することができる。   When it is desired to end the thawing process in a state where the heated object 3 is almost completely thawed, the thawing process is performed based on the detection result of the capacitance change of the first capacitor 6a or the second capacitor 6b. Can be terminated. In addition, when it is desired to end the heating process immediately before the object to be heated 3 starts thawing, the thawing process can be ended based on the detection result of the capacitance change of the second capacitor 6b. .

したがって、第3の実施形態にかかる高周波解凍装置によれば、選択された各解凍状態に応じて、より適切なタイミングで解凍処理を終了することができる。そのため、第3の実施形態にかかる高周波解凍装置を用いて被加熱物の解凍を行えば、使用者が所望とする解凍状態により近付けることができる。   Therefore, according to the high frequency thawing apparatus according to the third embodiment, the thawing process can be terminated at a more appropriate timing according to each selected thawing state. Therefore, if the to-be-heated material is thawed using the high-frequency thawing device according to the third embodiment, it can be brought closer to the thawing state desired by the user.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。また、本明細書で説明した異なる実施形態の構成を互いに組み合わせて得られる構成についても、本発明の範疇に含まれる。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims. Further, configurations obtained by combining the configurations of the different embodiments described in this specification with each other are also included in the scope of the present invention.

1 :上部電極
2 :下部電極
3 :被加熱物
4 :金属板
5 :高周波電源
6 :整合回路
6a :第1のコンデンサ(第1の容量可変コンデンサ)
6b :第2のコンデンサ(第2の容量可変コンデンサ)
9 :加熱室(解凍室)
10 :制御回路(制御部)
11 :状態設定部
20 :電圧印加部
100 :高周波解凍装置
101 :高周波解凍装置
1: Upper electrode 2: Lower electrode 3: Heated object 4: Metal plate 5: High frequency power supply 6: Matching circuit 6a: First capacitor (first capacitance variable capacitor)
6b: second capacitor (second variable capacitance capacitor)
9: Heating room (thawing room)
10: Control circuit (control unit)
11: State setting unit 20: Voltage application unit 100: High-frequency thawing device 101: High-frequency thawing device

Claims (7)

電極板と、
前記電極板に高周波電力を供給する高周波電源と、
前記電極板と前記高周波電源との間に配置されている整合回路と、
前記高周波電源の動作を制御する制御部と
を備え、
前記整合回路は、前記電極板に直列に接続されている第1の容量可変コンデンサと、前記高周波電源と並列に接続されている第2の容量可変コンデンサとを含み、
前記制御部は、前記第1の容量可変コンデンサおよび前記第2の容量可変コンデンサの少なくとも何れかの容量変化に基づいて、前記高周波電源の動作を停止する、
高周波解凍装置。
An electrode plate;
A high frequency power source for supplying high frequency power to the electrode plate;
A matching circuit disposed between the electrode plate and the high-frequency power source;
A control unit for controlling the operation of the high-frequency power source,
The matching circuit includes a first capacitance variable capacitor connected in series to the electrode plate, and a second capacitance variable capacitor connected in parallel with the high-frequency power source,
The controller stops the operation of the high-frequency power source based on a change in capacitance of at least one of the first capacitance variable capacitor and the second capacitance variable capacitor;
High-frequency thawing device.
前記制御部は、前記第1の容量可変コンデンサの時間当たりの容量変化が所定値以下になったときに、前記高周波電源の動作を停止する、請求項1に記載の高周波解凍装置。   The high frequency thawing device according to claim 1, wherein the control unit stops the operation of the high frequency power supply when a capacitance change per hour of the first variable capacitance capacitor becomes a predetermined value or less. 前記制御部は、前記第1の容量可変コンデンサの極小を検知して前記高周波電源の動作を停止する、請求項1に記載の高周波解凍装置。   The high frequency thawing device according to claim 1, wherein the control unit detects the minimum of the first capacitance variable capacitor and stops the operation of the high frequency power supply. 前記制御部は、前記第2の容量可変コンデンサの極大を検知して前記高周波電源の動作を停止する、請求項1から3の何れか1項に記載の高周波解凍装置。   4. The high frequency thawing device according to claim 1, wherein the control unit detects the maximum of the second variable capacitance capacitor and stops the operation of the high frequency power supply. 5. 前記制御部は、前記第2の容量可変コンデンサの極大を検知した後、前記第2の容量可変コンデンサの時間当たりの容量変化が直前の容量変化よりも減少し、かつ、前記時間当たりの容量変化が所定値以下になったときに、前記高周波電源の動作を停止する、請求項1から4の何れか1項に記載の高周波解凍装置。   The control unit detects a maximum of the second variable capacitance capacitor, and then the capacitance change per hour of the second variable capacitance capacitor is smaller than the previous capacitance change, and the capacitance change per time 5. The high frequency thawing device according to claim 1, wherein when the frequency becomes equal to or less than a predetermined value, the operation of the high frequency power supply is stopped. 前記制御部は、
被解凍物の解凍状態を設定する状態設定部を有し、
前記状態設定部で設定された解凍状態にしたがって、前記高周波電源の動作終了のタイミングを決定する、請求項1から5の何れか1項に記載の高周波解凍装置。
The controller is
It has a state setting part that sets the thawing state of the object to be thawed,
6. The high frequency thawing device according to claim 1, wherein an operation end timing of the high frequency power supply is determined according to a thawing state set by the state setting unit.
前記制御部は、
前記状態設定部で設定された解凍状態にしたがって、
前記第1の容量可変コンデンサの容量変化に基づいて前記高周波電源の動作を停止するか、前記第2の容量可変コンデンサの容量変化に基づいて前記高周波電源の動作を停止するかを決定する、請求項6に記載の高周波解凍装置。
The controller is
According to the decompression state set in the state setting unit,
And determining whether to stop the operation of the high-frequency power source based on a change in capacitance of the first variable capacitance capacitor or to stop the operation of the high-frequency power source based on a change in capacitance of the second variable capacitance capacitor. Item 7. The high-frequency thawing device according to item 6.
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