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JP2019075323A - Radio frequency heating apparatus - Google Patents

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JP2019075323A
JP2019075323A JP2017201668A JP2017201668A JP2019075323A JP 2019075323 A JP2019075323 A JP 2019075323A JP 2017201668 A JP2017201668 A JP 2017201668A JP 2017201668 A JP2017201668 A JP 2017201668A JP 2019075323 A JP2019075323 A JP 2019075323A
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JP
Japan
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height
heated
high frequency
electrode plate
thawing
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Pending
Application number
JP2017201668A
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Japanese (ja)
Inventor
淳正 福森
Atsumasa Fukumori
淳正 福森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

【課題】加熱中の被加熱物の状態変化に合わせて被加熱物の放電を抑えることのできる高周波加熱装置を提供する。【解決手段】高周波加熱装置100は、電極板(上部電極1a、下部電極1b)と、電極板に高周波電力を供給する高周波電源(電圧印加部20)と、被加熱物8の高さ(例えば、下部電極1bからの高さ)を検知する高さ検知部13と、電極板の位置を変更する位置変更機構(可動部7)とを備えている。高さ検知部13は、被加熱物8の加熱中に被加熱物8の高さを検知する。位置変更機構は、高さ検知部13が検知した加熱中の被加熱物8の高さの変化に応じて電極板の位置を変更し、電極板と被加熱物8との間の空隙の大きさを変化させる。【選択図】図1An object of the present invention is to provide a high-frequency heating device capable of suppressing discharge of a heated object in accordance with a change in state of the heated object during heating. A high-frequency heating apparatus includes an electrode plate (upper electrode 1a, lower electrode 1b), a high-frequency power source (voltage applying unit 20) that supplies high-frequency power to the electrode plate, and a height of an object to be heated (for example, 8). , A height detector 13 for detecting the height from the lower electrode 1b) and a position changing mechanism (movable part 7) for changing the position of the electrode plate. The height detection unit 13 detects the height of the object to be heated 8 during the heating of the object to be heated 8. The position changing mechanism changes the position of the electrode plate in accordance with the change in the height of the heated object 8 detected by the height detector 13, and the size of the gap between the electrode plate and the heated object 8. Change the height. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、食品などの被加熱物に高周波電界を印加して、加熱処理、解凍処理などを行う高周波加熱装置に関する。   The present invention relates to a high frequency heating apparatus that applies a high frequency electric field to an object to be heated such as food to perform heat treatment, thawing processing, and the like.

高周波加熱装置は、2つの電極間に高周波高電圧を印加し、その間に誘電体である被解凍物(被加熱物)を挟んで誘電加熱を行う。このような高周波加熱装置では、短時間で効率良く被解凍物を加熱できるように、電極と被解凍物との空隙をできるだけ小さくすることが望まれる。   The high frequency heating device applies a high frequency high voltage between two electrodes, and performs dielectric heating with a material to be defrosted (a material to be heated) being a dielectric interposed therebetween. In such a high frequency heating apparatus, it is desirable to make the gap between the electrode and the material to be thawed as small as possible so that the material to be thawed can be efficiently heated in a short time.

しかし、電極と被解凍物との空隙を小さくし過ぎると、電極と被解凍物との間に高電圧がかかり、放電を引き起こすことがある。放電された箇所には焼けが発生し、食材として使用することが困難となる。   However, if the gap between the electrode and the extract is too small, a high voltage may be applied between the electrode and the extract to cause discharge. Burns occur in the discharged parts, making it difficult to use as a food.

このような課題を解決するために、例えば、特許文献1には、電極を被解凍物に押し付けることにより、電極と被解凍物との間に実質的に空隙を形成することのない状態で高周波電圧を印加する加熱方法が開示されている。   In order to solve such problems, for example, Patent Document 1 discloses that high frequency is not generated substantially by forming an air gap between the electrode and the thawing material by pressing the electrode against the thawing material. A heating method for applying a voltage is disclosed.

また、特許文献2には、被解凍物の最大高さに基づいて電極板を被解凍物から一定間隔離れた位置に移動させることにより、上部電極板を被解凍物に接触させない高周波解凍装置が開示されている。   Further, in Patent Document 2, a high-frequency thawing device which does not bring the upper electrode plate into contact with the to-be-extracted material by moving the electrode plate to a position separated by a fixed distance from the to-be-extracted material It is disclosed.

特開2004−275141号公報JP 2004-275141 A 特開平8−167472号公報JP-A-8-167472

遠洋で漁獲されているマグロなどの魚は、新鮮な状態を保つために漁獲後すぐに冷凍保存される。このように冷凍されたマグロは、縮みと呼ばれる死後硬直の過程を経ることなく冷凍されるため、解凍とともに縮みが発生することがある。   Fish such as tuna caught in the ocean are frozen and stored immediately after catching to keep fresh. Since the frozen tuna is frozen without undergoing a post-mortem process called shrinkage, shrinkage may occur with thawing.

この縮みが発生する際にはマグロが変形するため、高周波加熱装置で解凍を行うと、変形により電極と食材の間隔が狭くなる箇所が発生し、放電を引き起こしてしまうことがある。放電された箇所には焼けが発生し、刺身として使用することができなくなる。   When this contraction occurs, the tuna is deformed. When thawing is performed with a high frequency heating device, a portion where the distance between the electrode and the food becomes narrow may be generated due to the deformation, which may cause discharge. Burns will occur at the discharged points, making them unusable as sashimi.

このようなマグロなどの被解凍物の解凍時に、上述の特許文献1および特許文献2に開示された技術を利用すると、被解凍物の放電をある程度抑えることができる。しかし、特許文献1に記載の加熱方法のように、電極を被解凍物に押し付けることで、刺身などの柔らかい食材の場合は食感を損ねてしまうおそれがあるとともに、食材を押し付けることで刺身からのドリップ(肉汁)流出が促進されてしまう可能性がある。   At the time of thawing of such a to-be-thawed material such as tuna, the discharge of the to-be-thawed material can be suppressed to a certain extent by using the techniques disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 described above. However, as in the heating method described in Patent Document 1, pressing the electrode against the material to be thawed may damage the food texture in the case of a soft food such as sashimi, and pressing the food causes the sashimi to be pressed. Drips may be promoted.

また、特許文献2に開示された高周波解凍装置は、解凍中の食材(被解凍物)の変形や高さの変化は考慮していない。そのため、解凍中に食材の高さが高くなった場合は電極と食材との隙間が小さくなり、放電を引き起こす可能性がある。また、逆に解凍中に食材の高さが低くなった場合は反射電力が大きくなり、食材を効率的に解凍できなくなる。   Further, the high frequency thawing device disclosed in Patent Document 2 does not take into consideration the deformation of the food (the material to be thawed) and the change in height during thawing. Therefore, if the height of the food increases during thawing, the gap between the electrode and the food decreases, which may cause discharge. In addition, conversely, if the height of the food becomes low during thawing, the reflected power becomes large and the food can not be thawed efficiently.

そこで、本発明は、加熱中の被加熱物の状態変化に合わせて被加熱物の放電を適切に抑えることのできる高周波加熱装置を提供する。   Therefore, the present invention provides a high frequency heating apparatus capable of appropriately suppressing the discharge of the object to be heated according to the change in the state of the object to be heated during heating.

本発明の一局面にかかる高周波加熱装置は、電極板と、前記電極板に高周波電力を供給する高周波電源と、被加熱物の高さを検知する高さ検知部と、前記電極板の位置を変更する位置変更機構とを備えている。この高周波加熱装置において、前記高さ検知部は、前記被加熱物の加熱中に前記被加熱物の高さを検知する。また、前記位置変更機構は、前記高さ検知部が検知した加熱中の前記被加熱物の高さの変化に応じて前記電極板の位置を変更し、前記電極板と前記被加熱物との間の空隙の大きさを変化させる。   A high frequency heating apparatus according to one aspect of the present invention includes an electrode plate, a high frequency power supply for supplying high frequency power to the electrode plate, a height detection unit for detecting a height of an object to be heated, and positions of the electrode plate. And a position change mechanism for changing. In this high-frequency heating device, the height detection unit detects the height of the object while the object is being heated. Further, the position changing mechanism changes the position of the electrode plate in accordance with a change in the height of the object to be heated during heating detected by the height detector, and the electrode plate and the object to be heated are Vary the size of the gap between them.

上記の本発明の一局面にかかる高周波加熱装置において、前記被加熱物は、冷凍物であり、前記被加熱物の解凍状態を識別する状態識別部と、前記被加熱物を加熱するときの前記電極板の位置に関する情報を、前記被加熱物の解凍状態と対応付けて記憶する記憶部とをさらに備えていてもよい。そして、前記位置変更機構は、前記状態識別部が識別した前記被加熱物の解凍状態に応じて、前記電極板の位置を変更し、前記電極板と前記被加熱物との間の空隙の大きさを変化させてもよい。   In the high-frequency heating device according to one aspect of the present invention, the object to be heated is a frozen object, and a state identification unit for identifying a thawing state of the object to be heated; The information processing apparatus may further include a storage unit that stores information on the position of the electrode plate in association with the thawed state of the object to be heated. Then, the position changing mechanism changes the position of the electrode plate according to the thawing state of the object to be heated identified by the state identification unit, and the size of the gap between the electrode plate and the object to be heated May vary.

また、本発明のもう一つの局面にかかる高周波加熱装置は、電極板と、前記電極板に高周波電力を供給する高周波電源と、被加熱物の高さを検知する高さ検知部と、装置の運転の開始および停止を制御する制御部とを備えている。この高周波加熱装置において、前記制御部は、前記被加熱物の加熱中における前記高さ検知部の高さの検知結果に基づいて、運転を停止すべきか否かを判定する。   A high frequency heating apparatus according to another aspect of the present invention includes an electrode plate, a high frequency power supply for supplying high frequency power to the electrode plate, a height detection unit for detecting the height of an object to be heated, and And a control unit that controls start and stop of operation. In this high frequency heating apparatus, the control unit determines whether to stop the operation based on the detection result of the height of the height detection unit during heating of the object to be heated.

上記の本発明のもう一つの局面にかかる高周波加熱装置は、前記制御部が装置の運転を停止すべきと判定したときに、装置の運転を停止するか否かを問い合わせる表示部をさらに備えていてもよい。   The high-frequency heating apparatus according to the other aspect of the present invention further includes a display unit inquiring whether or not to stop the operation of the apparatus when the control unit determines that the operation of the apparatus should be stopped. May be

上記の本発明のもう一つの局面にかかる高周波加熱装置は、前記電極板の位置を変更する位置変更機構をさらに備えていてもよい。そして、前記位置変更機構は、前記高さ検知部が検知した加熱中の前記被加熱物の高さの変化に応じて前記電極板の位置を変更し、前記電極板と前記被加熱物との間の空隙の大きさを変化させてもよい。   The above-mentioned high frequency heating apparatus according to another aspect of the present invention may further include a position changing mechanism for changing the position of the electrode plate. And the said position change mechanism changes the position of the said electrode plate according to the change of the said to-be-heated material under heating which the said height detection part detected, and the said electrode plate and the to-be-heated material The size of the gap between them may be changed.

以上のように、本発明の一局面にかかる高周波加熱装置によれば、加熱中の被加熱物の状態変化に合わせて被加熱物の放電を適切に抑えることができる。また、本発明の一局面にかかる高周波加熱装置によれば、加熱中の被加熱物の状態変化に合わせて加熱の制御を適切に行うことができる。   As described above, according to the high-frequency heating device according to one aspect of the present invention, the discharge of the object to be heated can be appropriately suppressed according to the change in the state of the object to be heated during heating. Moreover, according to the high frequency heating apparatus concerning 1 aspect of this invention, control of heating can be performed appropriately according to the state change of the to-be-heated material in heating.

また、本発明のもう一つの局面にかかる高周波加熱装置によれば、加熱中の被加熱物の状態変化を検知して被加熱物の放電を適切に抑えることができる。   Moreover, according to the high-frequency heating device according to another aspect of the present invention, it is possible to appropriately suppress the discharge of the object to be heated by detecting a change in the state of the object to be heated during heating.

第1の実施形態にかかる高周波加熱装置の内部構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the internal structure of the high frequency heating apparatus concerning 1st Embodiment. 図1に示す高周波加熱装置内の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure in the high frequency heating apparatus shown in FIG. 第1の実施形態にかかる高周波加熱装置のメモリ内に保存されているテーブルの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the table preserve | saved in the memory of the high frequency heating apparatus concerning 1st Embodiment. 第2の実施形態にかかる高周波加熱装置の内部構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the internal structure of the high frequency heating apparatus concerning 2nd Embodiment. 第3の実施形態にかかる高周波加熱装置の内部構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the internal structure of the high frequency heating apparatus concerning 3rd Embodiment.

以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same components are denoted by the same reference numerals. Their names and functions are also the same. Therefore, detailed description about them will not be repeated.

〔第1の実施形態〕
(高周波加熱装置の概略構成)
本実施形態では、本発明の一例である高周波加熱装置100を例に挙げて説明する。先ず、本実施の形態にかかる高周波加熱装置100の概略構成について、図1を用いて説明する。図1には、高周波加熱装置100の内部構成を示す。
First Embodiment
(Schematic configuration of high frequency heating device)
In the present embodiment, a high frequency heating apparatus 100 which is an example of the present invention will be described as an example. First, a schematic configuration of the high-frequency heating device 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows an internal configuration of the high frequency heating device 100. As shown in FIG.

本実施形態の高周波加熱装置100は、食品などの被解凍物(被加熱物)8に高周波電界を印加して、被解凍物の解凍処理などを主に行う。特に、本実施形態の高周波加熱装置100は、凍結された状態の被解凍物8を加熱し、被解凍物8を解凍または加熱するために使用される。高周波加熱装置100は、加熱室(解凍室)9を備えている。加熱室9は、金属製の筐体で形成されている。   The high frequency heating apparatus 100 of the present embodiment applies a high frequency electric field to a to-be-defrosted material (a to-be-heated material) 8 such as food to mainly perform a thawing process and the like of the to-be-thawed material. In particular, the high-frequency heating device 100 of the present embodiment is used to heat the to-be-thawed product 8 in a frozen state, and to thaw or heat the to-be-thawed product 8. The high frequency heating apparatus 100 includes a heating chamber (thawing chamber) 9. The heating chamber 9 is formed of a metal case.

図1に示すように、加熱室9の内部には、上部電極1a、下部電極1b、可動部7、天面プレート10、底面プレート11、輻射熱センサ21、検知部(高さ検知部)13などが備えられている。上部電極1aと下部電極1bは、互いに平行になるように配置されている。上部電極1a、下部電極1b、天面プレート10、および底面プレート11は、何れも平板状である。底面プレート11は、下部電極1bの上部に配置され、下部電極1bに密着している。天面プレート10は、上部電極1aの下部に配置され、上部電極1aに密着している。上部電極1aおよび天面プレート10、並びに、下部電極1bおよび底面プレート11は、高周波加熱装置100の電極板を構成する。   As shown in FIG. 1, the upper electrode 1a, the lower electrode 1b, the movable portion 7, the top plate 10, the bottom plate 11, the radiant heat sensor 21, the detecting portion (height detecting portion) 13, etc. inside the heating chamber 9. Is equipped. The upper electrode 1a and the lower electrode 1b are arranged to be parallel to each other. The upper electrode 1a, the lower electrode 1b, the top plate 10, and the bottom plate 11 are all flat. The bottom plate 11 is disposed above the lower electrode 1 b and in close contact with the lower electrode 1 b. The top plate 10 is disposed below the upper electrode 1a and is in close contact with the upper electrode 1a. The upper electrode 1 a and the top plate 10, and the lower electrode 1 b and the bottom plate 11 constitute an electrode plate of the high frequency heating device 100.

上部電極1aは天面プレート10の上面に接着されて固定されており、これにより、上部電極1aは、可動部7と連結されている。   The upper electrode 1 a is bonded and fixed to the upper surface of the top plate 10, whereby the upper electrode 1 a is connected to the movable portion 7.

底面プレート11は、加熱室9の側壁に固定されている。そして、底面プレート11の下面に下部電極1bが接着されて固定されている。このように、本実施形態では、底面プレート11および下部電極1bの位置は、加熱室9内で固定されている。   The bottom plate 11 is fixed to the side wall of the heating chamber 9. The lower electrode 1 b is adhered and fixed to the lower surface of the bottom plate 11. Thus, in the present embodiment, the positions of the bottom plate 11 and the lower electrode 1 b are fixed in the heating chamber 9.

上部電極1aおよび下部電極1bは、配線を介して電圧印加部20(具体的には、整合回路3)に接続されている。これにより、上部電極1aと下部電極1bとの間に高周波電界が与えられる。   The upper electrode 1a and the lower electrode 1b are connected to the voltage application unit 20 (specifically, the matching circuit 3) through a wire. Thus, a high frequency electric field is applied between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b.

高周波加熱装置100を用いて被解凍物8の加熱又は解凍を行う場合には、底面プレート11上に被解凍物8を載せる。そして、上部電極1aと下部電極1bとの間に高周波電界を与え、被解凍物8の誘電損失による誘電加熱解凍を行う。   When heating or thawing the to-be-thawed object 8 using the high-frequency heating device 100, the to-be-extracted material 8 is placed on the bottom plate 11. Then, a high frequency electric field is applied between the upper electrode 1 a and the lower electrode 1 b to perform the dielectric heating and thawing due to the dielectric loss of the material to be defrosted 8.

可動部7は、配線によって制御回路6と接続されており、上部電極1aと天面プレート10を上下方向に移動させることができる。これにより、加熱処理時に、被解凍物8の大きさに合せて上部電極1aの位置を変えることができる。すなわち、上部電極1aと下部電極1bとの間隔を変更することができる。このように、可動部7は、電極板(本実施形態では、上部電極1a)の位置(高さ)を変更する位置変更機構(高さ変更機構ともいう)として機能する。   The movable portion 7 is connected to the control circuit 6 by a wire, and can move the upper electrode 1 a and the top plate 10 in the vertical direction. Thereby, the position of the upper electrode 1a can be changed according to the size of the to-be-extracted material 8 at the time of heat treatment. That is, the distance between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b can be changed. As described above, the movable portion 7 functions as a position change mechanism (also referred to as a height change mechanism) that changes the position (height) of the electrode plate (in the present embodiment, the upper electrode 1a).

被解凍物8の大きさが比較的小さい場合には、被解凍物8と上部電極1aとが近接するように、上部電極1aを下方に位置させることができ、被解凍物8を効率的に加熱することができる。一方、被解凍物8の大きさが比較的大きい場合には、被解凍物8と上部電極1aとが接触しないように、上部電極1aを上方に位置させることができる。これにより、比較的大きな被解凍物8も効率的に加熱することができる。   When the size of the to-be-extracted material 8 is relatively small, the upper electrode 1a can be positioned below so that the to-be-extracted material 8 and the upper electrode 1a are close, and the to-be-extracted material 8 can be efficiently It can be heated. On the other hand, in the case where the size of the material to be defrosted 8 is relatively large, the upper electrode 1a can be positioned above so that the material to be defrosted 8 and the upper electrode 1a do not contact. Thereby, a comparatively large to-be-thawed thing 8 can also be heated efficiently.

輻射熱センサ21は、加熱室9内に配置されている。具体的には、輻射熱センサ21は、底面プレート11上の被解凍物8が載置される場所の近傍であって、上部電極1aおよび下部電極1bの設置領域の外側に配置されている。輻射熱センサ21は、被解凍物8の表面温度を検出する。輻射熱センサ21は、電圧印加部20内の制御回路6と接続されている。制御回路6には、輻射熱センサ21の検知結果が送信される。本実施形態では、輻射熱センサ21によって、被解凍物8の解凍状態(加熱状態)を識別することができる。すなわち、輻射熱センサ21は、被加熱物の加熱状態を識別する状態識別部として機能する。   The radiation heat sensor 21 is disposed in the heating chamber 9. Specifically, the radiation heat sensor 21 is disposed in the vicinity of the place on the bottom plate 11 where the object to be defrosted 8 is placed, and outside the installation area of the upper electrode 1a and the lower electrode 1b. The radiant heat sensor 21 detects the surface temperature of the material to be defrosted 8. The radiation heat sensor 21 is connected to the control circuit 6 in the voltage application unit 20. The detection result of the radiation heat sensor 21 is transmitted to the control circuit 6. In the present embodiment, the radiation heat sensor 21 can identify the thawed state (heated state) of the material to be thawed 8. That is, the radiation heat sensor 21 functions as a state identification unit that identifies the heating state of the object to be heated.

検知部13は、加熱室9内に配置されている。具体的には、検知部13は、上部電極1aおよび天面プレート10の近傍に配置されている。検知部13は、例えば、赤外線センサ、イメージセンサ、超音波センサ、変位センサ、画像読み取り装置などで構成される。検知部13は、被解凍物8の高さ(すなわち、被解凍物8の上表面の位置)を検出する。また、検知部13は、上部電極1aおよび天面プレート10の高さも検出することができる。検知部13は、配線を介して制御回路6に接続されている。   The detection unit 13 is disposed in the heating chamber 9. Specifically, the detection unit 13 is disposed in the vicinity of the upper electrode 1 a and the top plate 10. The detection unit 13 includes, for example, an infrared sensor, an image sensor, an ultrasonic sensor, a displacement sensor, an image reading device, and the like. The detection unit 13 detects the height of the object to be thawed 8 (that is, the position of the upper surface of the object to be thawed 8). The detection unit 13 can also detect the heights of the upper electrode 1 a and the top plate 10. The detection unit 13 is connected to the control circuit 6 through a wire.

この構成により、検知部13が検知した被解凍物8の高さ情報(例えば、下部電極1bからの高さ)、並びに、上部電極1aおよび天面プレート10の位置情報は、制御回路6に送信される。制御回路6は、送信されたこれらの情報から、電極板(本実施形態では、上部電極1aおよび天面プレート10)と被解凍物8との空隙の大きさを算出する。   With this configuration, the control circuit 6 transmits height information (for example, height from the lower electrode 1b) of the object to be defrosted 8 detected by the detection unit 13 and positional information of the upper electrode 1a and the top plate 10 Be done. The control circuit 6 calculates the size of the gap between the electrode plate (in the present embodiment, the upper electrode 1 a and the top plate 10) and the object 8 from the transmitted information.

また、図1に示すように、加熱室9の外部には、制御回路6、メモリ5、電圧印加部20などが備えられている。   Further, as shown in FIG. 1, a control circuit 6, a memory 5, a voltage application unit 20 and the like are provided outside the heating chamber 9.

制御回路6は、可動部7、検知部13、輻射熱センサ21、メモリ5、および電圧印加部20(すなわち、高周波電源2および整合回路3)などと配線を介して接続されている。制御回路6は、高周波電源2の出力および整合回路3のインピーダンスを制御することで、被解凍物8を効率的に加熱することができる。   The control circuit 6 is connected to the movable unit 7, the detection unit 13, the radiation heat sensor 21, the memory 5, the voltage application unit 20 (that is, the high frequency power supply 2 and the matching circuit 3) and the like via wiring. The control circuit 6 can efficiently heat the object to be defrosted 8 by controlling the output of the high frequency power supply 2 and the impedance of the matching circuit 3.

メモリ(記憶部)5は、ROM(read only memory)及びRAM(Random Access Memory)を含む。メモリ5は、高周波加熱装置100の動作プログラムや設定データを記憶する。また、メモリ5は、制御回路6に接続されており、制御回路6による演算結果を一時記憶する。また、本実施形態では、メモリ5は、被解凍物8を加熱するとき電極板の位置に関する情報を、被解凍物8の解凍状態と対応付けて記憶している。   The memory (storage unit) 5 includes a read only memory (ROM) and a random access memory (RAM). The memory 5 stores an operation program and setting data of the high frequency heating device 100. The memory 5 is connected to the control circuit 6 and temporarily stores the calculation result by the control circuit 6. Further, in the present embodiment, the memory 5 stores information on the position of the electrode plate when heating the object 8 in association with the state of extraction of the object 8 to be extracted.

(電圧印加部の構成)
続いて、加熱室9内の各電極に対して電圧を印加する電圧印加部20の構成について、図1および図2を参照しながら説明する。図2は、各電極1aおよび1bと高周波電源2との間の回路構成を示す回路図である。
(Configuration of voltage application unit)
Subsequently, the configuration of the voltage application unit 20 for applying a voltage to each electrode in the heating chamber 9 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 2 is a circuit diagram showing a circuit configuration between each of the electrodes 1 a and 1 b and the high frequency power supply 2.

電圧印加部20は、上部電極1aと下部電極1bとの間に高周波電圧を印加する。電圧印加部20は、主な構成部材として、高周波電源2、整合回路3などを有している。   The voltage application unit 20 applies a high frequency voltage between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b. The voltage application unit 20 includes a high frequency power supply 2 and a matching circuit 3 as main components.

高周波電源2は、HFからVHFまでの帯域の周波数の電圧信号を発信する。高周波電源2から発信された電圧信号は、増幅器(図示せず)で所望の電力まで増幅される。増幅された電圧信号は、整合回路3へ送信される。   The high frequency power supply 2 transmits a voltage signal in a frequency band from HF to VHF. The voltage signal emitted from the high frequency power source 2 is amplified to a desired power by an amplifier (not shown). The amplified voltage signal is sent to the matching circuit 3.

図2に示すように、整合回路3は、可変コンデンサ(可変リアクタンス素子)3aおよび3b、並びにコイル3cなどを備えている。これにより、整合回路3は、上部電極1aと下部電極1bとで構成されるコンデンサのリアクタンスを相殺する。また、整合回路3は、可変コンデンサ3a・3bの値を調整することにより、整合回路3への入力インピーダンスと増幅器への出力インピーダンスとを一致させることができる。これにより、被解凍物8に効率良く高周波電界を印加することができる。   As shown in FIG. 2, the matching circuit 3 includes variable capacitors (variable reactance elements) 3a and 3b, a coil 3c, and the like. Thereby, the matching circuit 3 cancels out the reactance of the capacitor formed by the upper electrode 1a and the lower electrode 1b. Further, the matching circuit 3 can match the input impedance to the matching circuit 3 with the output impedance to the amplifier by adjusting the values of the variable capacitors 3a and 3b. Thereby, a high frequency electric field can be efficiently applied to the article 8 to be defrosted.

整合回路3の可変コンデンサ3bと上部電極1aとの間には、コイル12が配置されている。コイル12は、整合回路3とともに、高周波加熱装置100の回路内のインピーダンス整合を取るためのインダクタとして機能する。   A coil 12 is disposed between the variable capacitor 3 b of the matching circuit 3 and the upper electrode 1 a. The coil 12 functions as an inductor for impedance matching in the circuit of the high-frequency heating device 100 together with the matching circuit 3.

整合回路3においてインピーダンスマッチングが施された電圧信号は、上部電極1aと下部電極1bとで形成されるコンデンサへ供給される。これにより、上部電極1aと下部電極1bとの間には高周波電界が生じる。そして、上部電極1aと下部電極1bとの間に載置された被解凍物8は、誘電加熱される。   The voltage signal subjected to impedance matching in the matching circuit 3 is supplied to a capacitor formed by the upper electrode 1a and the lower electrode 1b. Thereby, a high frequency electric field is generated between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b. And the to-be-extracted thing 8 mounted between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b is dielectrically heated.

(被解凍物の高さに基づく電極板の位置制御について)
続いて、上部電極1aと下部電極1bとの間隔(すなわち、上部電極1aの高さ)を制御する方法について説明する。
(About position control of the electrode plate based on the height of the material to be thawed)
Subsequently, a method of controlling the distance between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b (that is, the height of the upper electrode 1a) will be described.

解凍開始時に、制御回路6は、検知部13の検知情報から食品(被解凍物8)の高さを把握して、上部電極1aを上下に動かした後、解凍を開始する。このとき、制御回路6は、上部電極1aと被解凍物8との隙間(空隙の大きさ)を放電の起こらない程度に確保するように、上部電極1aの位置を決定する。   At the start of thawing, the control circuit 6 grasps the height of the food (the to-be-thawed object 8) from the detection information of the detection unit 13, moves the upper electrode 1a up and down, and starts thawing. At this time, the control circuit 6 determines the position of the upper electrode 1a so as to secure the gap (size of the air gap) between the upper electrode 1a and the object 8 to a degree that discharge does not occur.

解凍中、制御回路6は解凍効率が最適となるように、高周波電源2と整合回路3の制御を行うとともに、検知部13からの検知情報に基づいて被解凍物8の高さの変化を監視する。検知部13による監視は、常時行ってもよいし、所定の時間間隔で行ってもよい。   During thawing, the control circuit 6 controls the high frequency power supply 2 and the matching circuit 3 so as to optimize the thawing efficiency, and monitors the change in the height of the object to be thawed 8 based on the detection information from the detection unit 13 Do. The monitoring by the detection unit 13 may be always performed or may be performed at predetermined time intervals.

解凍中に被解凍物8の高さの変化を検知した場合、制御回路6は、上部電極1aと被解凍物8との空隙の大きさを、放電の起こらない程度に確保するように上部電極1aを上下に動かすことで、上部電極1aと被解凍物8との間で起こる放電を抑えることができる。   When a change in the height of the material to be defrosted 8 is detected during thawing, the control circuit 6 ensures that the size of the gap between the upper electrode 1a and the material to be thawed 8 is such that discharge does not occur. By moving 1 a up and down, it is possible to suppress the discharge occurring between the upper electrode 1 a and the material to be thawed 8.

制御回路6がこのような制御を行うために、例えば、メモリ5には、電極板(上部電極1aおよび天面プレート10)と被解凍物8との距離L(空隙の大きさ)の閾値(下限値Lmin)が記憶されていてもよい。下限値Lminは、被解凍物8の放電の発生可能性を考慮して、適宜設定することができる。   In order for the control circuit 6 to perform such control, for example, the memory 5 has a threshold L (size of the air gap) of the distance L (the size of the air gap) between the electrode plate (the upper electrode 1a and the top plate 10) and the object 8 A lower limit Lmin) may be stored. The lower limit value Lmin can be appropriately set in consideration of the possibility of the discharge of the material to be defrosted 8.

制御回路6は、検知部13から送信される被解凍物8の高さ情報および電極板の位置情報から距離Lを算出する。そして、制御回路6は、算出した距離Lと、メモリ5内に記憶されている距離の閾値Lminとを比較する。そして、算出される距離Lが閾値Lminを下回った場合には、可動部7を制御して、電極板を上方へ移動させる。   The control circuit 6 calculates the distance L from the height information of the object to be decompressed 8 transmitted from the detection unit 13 and the position information of the electrode plate. Then, the control circuit 6 compares the calculated distance L with the distance threshold Lmin stored in the memory 5. Then, when the calculated distance L is less than the threshold Lmin, the movable portion 7 is controlled to move the electrode plate upward.

なお、被解凍物8の高さが一定ではない場合には、検知部13は、被解凍物8の最も高い位置の高さを検出することが好ましい。そして、制御回路6は、検知部13から送信された被解凍物8の最も高い位置を基準にして、上部電極1aと被解凍物8の隙間を放電の起こらない程度に確保しながら、可動部7を制御して上部電極1aを上下に移動させる。これにより、被解凍物8の放電をより適切に抑えることができる。   In addition, when the height of the to-be-extracted thing 8 is not constant, it is preferable that the detection part 13 detects the height of the highest position of the to-be-extracted thing 8. Then, the control circuit 6 secures the gap between the upper electrode 1a and the to-be-extracted material 8 on the basis of the highest position of the to-be-extracted material 8 transmitted from the detection unit 13 to such an extent that discharge does not occur. 7 is controlled to move the upper electrode 1a up and down. Thereby, discharge of the thing 8 to be defrosted can be suppressed more appropriately.

さらに、本実施形態の高周波加熱装置100では、解凍処理中に、輻射熱センサ21などの被解凍物8の状態を検知可能な検知手段によって被解凍物8の温度を監視し、被解凍物8の解凍状態を随時あるいは経時的に判定する。   Furthermore, in the high-frequency heating device 100 according to the present embodiment, the temperature of the to-be-extracted material 8 is monitored by detecting means capable of detecting the state of the to-be-extracted material 8 such as the radiant heat sensor 21 during the thawing process. Determine the thawing state at any time or over time.

解凍状態とは、高周波加熱装置100において被解凍物8の加熱が開始されてから加熱が終了するまでの間の被解凍物8の解凍の程度を表すものである。この解凍の程度は、解凍処理中に輻射熱センサ21によって被解凍物8の表面温度を測定することによって判別される。すなわち、被解凍物8の解凍処理中に、輻射熱センサ21は被解凍物8の表面温度を随時あるいは経時的に測定する。輻射熱センサ21によって得られた被解凍物8の測定温度の情報は、リアルタイムに制御回路6に送信される。制御回路6は、送信された測定温度の情報に基づいて、被解凍物8の解凍の程度を判定する。   The thawing state represents the degree of thawing of the thawing material 8 from the start of the heating of the thawing material 8 in the high-frequency heating device 100 to the end of the heating. The degree of thawing is determined by measuring the surface temperature of the material to be thawed 8 by the radiation heat sensor 21 during the thawing process. That is, the radiation heat sensor 21 measures the surface temperature of the thawing material 8 as needed or with time during the thawing process of the thawing material 8. Information on the measured temperature of the object to be defrosted 8 obtained by the radiation heat sensor 21 is transmitted to the control circuit 6 in real time. The control circuit 6 determines the degree of thawing of the object to be thawed 8 based on the transmitted information on the measured temperature.

例えば、解凍処理中の被解凍物8の解凍状態は、解凍状態1(第1の状態)、解凍状態2(第2の状態)、および解凍状態3(第3の状態)という3つの解凍状態に分類される。   For example, the thawed state of the thawed material 8 during the thawing process is three thawed states: thawed state 1 (first state), thawed state 2 (second state), and thawed state 3 (third state) are categorized.

解凍状態1とは、被解凍物8が解凍途中であり、かつ温度上昇中の状態のことを示している。また、解凍状態2とは、被解凍物8が潜熱帯でその温度上昇が略止まった状態のことを示している。また、解凍状態3とは、被解凍物8が解凍後であり、かつ温度上昇中の状態(すなわち、被解凍物8の略全体が解凍された状態)のことを示している。   The thawing state 1 indicates that the material to be thawed 8 is in the process of thawing and the temperature is rising. The thawing state 2 indicates that the material to be thawed 8 is in the subtropics and the temperature rise almost stops. The thawed state 3 indicates that the thawed product 8 is after thawing, and the temperature is rising (that is, almost all the thawed material 8 is thawed).

被解凍物8の解凍状態は、例えば、輻射熱センサ21によってリアルタイムに識別することができる。   The thawing state of the material to be thawed 8 can be identified in real time, for example, by the radiation heat sensor 21.

また、上述したように、高周波加熱装置100の制御回路6は、メモリ5に接続されている。メモリ5内には、被解凍物8の各解凍状態と、電極板(上部電極1aおよび天面プレート10)と被解凍物8との距離L(空隙の大きさ)とが対応付けられているテーブル51が格納されている(図3参照)。   Also, as described above, the control circuit 6 of the high frequency heating device 100 is connected to the memory 5. In the memory 5, each thawing state of the to-be-extracted object 8 is associated with the distance L (size of the air gap) between the electrode plate (the upper electrode 1a and the top plate 10) and the to-be-extracted object 8 A table 51 is stored (see FIG. 3).

制御回路6は、このテーブル51を参照して、被解凍物8の解凍状態をリアルタイムに検出しながら、検出された解凍状態に対応する距離Lを選択する。そして、可動部7を制御して、電極板(上部電極1aおよび天面プレート10)と被解凍物8とが該当する距離Lとなるように、上部電極1aの位置を変更する。   The control circuit 6 refers to the table 51 to select the distance L corresponding to the detected thawing state while detecting the thawing state of the object 8 in real time. Then, the movable portion 7 is controlled to change the position of the upper electrode 1a such that the distance L between the electrode plate (the upper electrode 1a and the top plate 10) and the object to be defrosted 8 is obtained.

本実施形態では、各解凍状態1・2・3における設定距離1L・2L・3Lの大小関係は、1L<2L<3L(あるいは、1L≦2L<3L)となっている。各解凍状態における電極板(上部電極1aおよび天面プレート10)と被解凍物8との距離Lをこのような大小関係とすることで、解凍が進んでいない状態のとき(例えば、解凍状態1のとき)は、距離Lを狭くして、効率的な解凍処理を行うことができる。一方、解凍がかなり進んだ状態のとき(例えば、解凍状態3のとき)は、距離Lを大きくして、被解凍物8内部の温度ムラを低減させることができる。これにより、解凍品質が向上する。   In the present embodiment, the magnitude relationship between the set distances 1L, 2L, and 3L in the respective decompression states 1 · 2 · 3 is 1L <2L <3L (or 1L ≦ 2L <3L). By setting the distance L between the electrode plate (upper electrode 1a and the top plate 10) in each thawing state and the to-be-thawed object 8 in such a magnitude relationship, when thawing does not proceed (for example, the thawing state 1) ), The distance L can be narrowed, and efficient thawing processing can be performed. On the other hand, when the thawing has advanced significantly (for example, in the thawing state 3), the distance L can be increased to reduce the temperature unevenness inside the material to be thawed 8. This improves the thawing quality.

このとき、制御回路6が、テーブル51を参照した選択された距離では、電極板と被解凍物8との間隔が狭く放電が発生する可能性があると判断すると、電極板と被解凍物8との間隔を、選択された設定距離よりも大きな間隔とするように、可動部7を制御する。   At this time, if the control circuit 6 determines that the distance between the electrode plate and the to-be-extracted object 8 is narrow at a selected distance with reference to the table 51, the electrode plate and the to-be-extracted object 8 The movable portion 7 is controlled so as to make the distance between them and the distance larger than the selected set distance.

例えば、解凍開始時に、被解凍物8の解凍状態が解凍状態1である場合には、先ず、制御回路6は、設定距離1Lとなるように可動部7を制御して上部電極1aの位置を決定する。その後の解凍処理の進行過程において、検知部13は、被解凍物8の高さの変化を検知する。そして、解凍が進行する過程で、被解凍物8に変形が生じ、被解凍物8の高さが部分的に高くなった場合には、その部分に放電が発生する可能性がある。   For example, when the thawing state of the object 8 is the thawing state 1 at the start of thawing, first, the control circuit 6 controls the movable portion 7 so as to be the set distance 1L to position the upper electrode 1a. decide. In the course of the subsequent thawing process, the detection unit 13 detects a change in the height of the object to be thawed 8. Then, in the process of thawing, the material to be thawed 8 is deformed, and when the height of the material to be thawed 8 is partially increased, there is a possibility that discharge occurs in that portion.

そこで、例えば、制御回路6は、検知部13から定期的に送信される被解凍物8の高さ情報および電極板の位置情報から距離Lを算出し、算出された距離Lが閾値Lminを下回った場合には、可動部7を制御して、電極板を上方へ移動させるように制御することができる。   Therefore, for example, the control circuit 6 calculates the distance L from the height information of the object to be defrosted 8 periodically transmitted from the detection unit 13 and the position information of the electrode plate, and the calculated distance L falls below the threshold Lmin. In this case, the movable portion 7 can be controlled to move the electrode plate upward.

(第1の実施形態のまとめ)
以上のように、本実施形態にかかる高周波加熱装置100は、主として、電極板(上部電極1a、下部電極1b)と、電極板に高周波電力を供給する高周波電源2(電圧印加部20)と、被解凍物8の高さを検知する高さ検知部(検知部13)と、電極板の位置を変更する位置変更機構(可動部7)とを備えている。検知部13は、例えば、下部電極1bからの被解凍物8の高さを検知する。また、可動部7が備えられていることで、上部電極1aと下部電極1bとの間隔が変更可能になっている。
(Summary of the first embodiment)
As described above, the high frequency heating device 100 according to the present embodiment mainly includes the electrode plate (upper electrode 1 a, lower electrode 1 b), and the high frequency power supply 2 (voltage application unit 20) that supplies high frequency power to the electrode plate. A height detection unit (detection unit 13) for detecting the height of the object 8 to be thawed and a position change mechanism (movable unit 7) for changing the position of the electrode plate are provided. The detection unit 13 detects, for example, the height of the object to be defrosted 8 from the lower electrode 1 b. In addition, by providing the movable portion 7, the distance between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b can be changed.

本実施形態にかかる高周波加熱装置100では、検知部13が、被解凍物8の解凍処理中に被解凍物8の高さの検知を行う。そして、制御回路6は、検知部13が検知した解凍処理中の被解凍物8の高さの変化に応じて、電極板(上部電極1a)の位置を変更し、電極板と被解凍物8との間の空隙の大きさを変化させる。   In the high-frequency heating device 100 according to the present embodiment, the detection unit 13 detects the height of the to-be-extracted material 8 during the thawing process of the to-be-extracted material 8. Then, the control circuit 6 changes the position of the electrode plate (upper electrode 1 a) in accordance with the change in the height of the to-be-extracted material 8 during the thawing process detected by the detection unit 13. Vary the size of the gap between

上記の構成によれば、解凍処理中に、被解凍物8の状態変化に合わせて電極板の位置を変更することで、被解凍物8の放電を抑えつつ、解凍中の被解凍物8の状態変化に合わせて加熱の制御を行うことができる。   According to the above configuration, by changing the position of the electrode plate in accordance with the change in the state of the to-be-extracted material 8 during the thawing process, the discharge of the to-be-extracted material 8 is suppressed, and Control of heating can be performed according to the state change.

また、高周波加熱装置100は、被解凍物8の解凍状態を識別する状態識別部(輻射熱センサ21および制御回路6)をさらに備えていることが好ましい。また、高周波加熱装置100は、被解凍物8を加熱するときの電極板(上部電極1a)の位置に関する情報を、被解凍物8の解凍状態と対応付けて記憶する記憶部(メモリ5)をさらに備えていることが好ましい。これは、例えば、テーブル51などのような形態で実現される(図3参照)。   Moreover, it is preferable that the high-frequency heating device 100 further include a state identification unit (the radiant heat sensor 21 and the control circuit 6) that identifies the thawing state of the to-be-extracted object 8. In addition, the high-frequency heating device 100 stores a memory (memory 5) that stores information related to the position of the electrode plate (upper electrode 1a) when heating the to-be-extracted object 8 in association with the to-be-extracted state of the to-be-extracted object 8. It is preferable to have further. This is realized, for example, in a form such as a table 51 (see FIG. 3).

そして、位置変更機構(可動部7)は、状態識別部(輻射熱センサ21および制御回路6)が識別した被解凍物8の解凍状態に応じて、電極板(上部電極1a)の位置を変更し、電極板と被解凍物との間の空隙の大きさを変化させることが好ましい。   Then, the position change mechanism (movable part 7) changes the position of the electrode plate (upper electrode 1a) in accordance with the thawing state of the object 8 to be defrosted identified by the state identification part (radiation heat sensor 21 and control circuit 6). It is preferable to change the size of the gap between the electrode plate and the material to be defrosted.

上記の構成によれば、解凍処理中の被解凍物8の状態変化に合わせて加熱の制御を適切に行うことができる。したがって、高周波加熱装置100を用いて被解凍物8の解凍処理を行えば、処理後の被解凍物の品質をより良好なものにすることができる。   According to the above configuration, it is possible to appropriately control the heating in accordance with the change in the state of the material to be thawed 8 during the thawing process. Therefore, if thawing processing of the thing 8 to be defrosted using high frequency heating device 100, quality of a thing to be defrosted after processing can be made better.

なお、本実施形態では、上部電極1aが可動部7に接続されており、上部電極1aの高さを変更可能な構成となっている。しかし、本発明の別の態様では、下部電極1bが可動部7に接続されており、下部電極1bの高さを変更可能な構成とすることもできる。   In the present embodiment, the upper electrode 1a is connected to the movable portion 7, and the height of the upper electrode 1a can be changed. However, in another aspect of the present invention, the lower electrode 1b is connected to the movable portion 7, and the height of the lower electrode 1b can be changed.

〔第2の実施形態〕
続いて、本発明の第2の実施形態について、図4を参照しながら説明する。第2の実施形態では、可動部7および表示部214の有無、上部電極板および天面プレートの取り付け方法が第1の実施形態とは異なっている。その他の構成については、基本的に第1の実施形態と同様の構成を適用することができる。そこで、以下では、第1の実施形態とは異なる点を中心に説明する。
Second Embodiment
Subsequently, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The second embodiment differs from the first embodiment in the presence or absence of the movable portion 7 and the display portion 214, and in the method of attaching the upper electrode plate and the top plate. The other configuration is basically the same as that of the first embodiment. So, below, it demonstrates focusing on a different point from 1st Embodiment.

本実施形態の高周波加熱装置200は、食品などの被解凍物8に高周波電界を印加して、被解凍物の解凍処理などを主に行う。高周波加熱装置200は、加熱室(解凍室)9を備えている。   The high frequency heating apparatus 200 of the present embodiment applies a high frequency electric field to the to-be-defrosted material 8 such as food to mainly perform the thawing process and the like of the to-be-thawed material. The high frequency heating device 200 includes a heating chamber (thawing chamber) 9.

図4に示すように、加熱室9の内部には、上部電極201a、下部電極1b、天面プレート210、底面プレート11、検知部13などが備えられている。下部電極1b、底面プレート11、および検知部13については、第1の実施形態と同様の構成を適用することができる。なお、高周波加熱装置200には、可動部7、および輻射熱センサ21は設けられていない。   As shown in FIG. 4, inside the heating chamber 9, an upper electrode 201a, a lower electrode 1b, a top plate 210, a bottom plate 11, a detection unit 13 and the like are provided. The same configuration as that of the first embodiment can be applied to the lower electrode 1 b, the bottom plate 11, and the detection unit 13. In the high frequency heating device 200, the movable portion 7 and the radiation heat sensor 21 are not provided.

第1の実施形態では、上部電極1aおよび天面プレート10は、可動部7と接続されており、上下方向に移動可能な構成となっている。これに対して、第2の実施形態では、上部電極201aおよび天面プレート210は、加熱室9内に固定されている。具体的には、天面プレート210は、加熱室9の側壁に固定されている。そして、天面プレート210の上面に上部電極1aが接着されて固定されている。   In the first embodiment, the upper electrode 1a and the top plate 10 are connected to the movable portion 7, and are configured to be movable in the vertical direction. On the other hand, in the second embodiment, the upper electrode 201 a and the top plate 210 are fixed in the heating chamber 9. Specifically, the top plate 210 is fixed to the side wall of the heating chamber 9. Then, the upper electrode 1 a is adhered and fixed to the upper surface of the top surface plate 210.

また、図4に示すように、加熱室9の外部には、制御回路(制御部)6、メモリ5、電圧印加部20、および表示部214などが備えられている。制御回路6、メモリ5、および電圧印加部20については、第1の実施形態と同様の構成を適用できる。但し、制御回路6における電圧印加部20の制御方法については、第1の実施形態とは異なっている。   Further, as shown in FIG. 4, a control circuit (control unit) 6, a memory 5, a voltage application unit 20, a display unit 214, and the like are provided outside the heating chamber 9. The configuration similar to that of the first embodiment can be applied to the control circuit 6, the memory 5, and the voltage application unit 20. However, the control method of the voltage application unit 20 in the control circuit 6 is different from that of the first embodiment.

表示部214は、制御回路6に接続されている。表示部214は、制御回路6からの指令にしたがって、高周波加熱装置200の動作状態、ユーザへの問い合わせ情報などの各種情報を表示することができる。表示部214は、例えば、液晶パネル、有機ELパネル、LEDなどで構成される。   The display unit 214 is connected to the control circuit 6. The display unit 214 can display various information such as the operation state of the high-frequency heating device 200 and the inquiry information to the user according to the command from the control circuit 6. The display unit 214 is configured of, for example, a liquid crystal panel, an organic EL panel, an LED, or the like.

本実施形態にかかる高周波加熱装置200における解凍処理の制御方法について、以下に説明する。   The control method of the thawing process in the high frequency heating apparatus 200 according to the present embodiment will be described below.

解凍開始時に、制御回路6は検知部13の検知情報から食品(被解凍物8)の高さを把握して、上部電極1aと被解凍物8との隙間が放電の起こらない程度に確保されているかを判断する。そして、隙間が確保されていると判断された場合に、制御回路6は、解凍を開始する。   At the start of thawing, the control circuit 6 grasps the height of the food (the to-be-thawed object 8) from the detection information of the detection unit 13, and the gap between the upper electrode 1a and the to-be-thawed object 8 is secured to such an extent that no discharge occurs. Determine if it is. Then, when it is determined that the gap is secured, the control circuit 6 starts thawing.

解凍中、制御回路6は解凍効率が最適となるように、高周波電源2と整合回路3の制御を行うとともに、検知部13からの検知情報に基づいて被解凍物8の高さの変化を監視する。検知部13による監視は、常時行ってもよいし、所定の時間間隔で行ってもよい。   During thawing, the control circuit 6 controls the high frequency power supply 2 and the matching circuit 3 so as to optimize the thawing efficiency, and monitors the change in the height of the object to be thawed 8 based on the detection information from the detection unit 13 Do. The monitoring by the detection unit 13 may be always performed or may be performed at predetermined time intervals.

ここで、被解凍物8の高さが上昇する方向、すなわち、上部電極201aおよび天面プレート210と被解凍物8との間隔が狭まる方向に変化した場合には、制御回路6は、高周波電源2を停止させて解凍動作を終了する。これにより、上部電極201aと被解凍物8との間の放電の発生を抑えることができる。   Here, in the case where the height of the object 8 to be defrosted changes, that is, in the direction in which the distance between the object 8 and the upper electrode 201a and the top plate 210 narrows, the control circuit 6 operates as a high frequency power supply. 2 is stopped to end the thawing operation. Thereby, generation | occurrence | production of the discharge between the upper electrode 201a and the to-be-extracted thing 8 can be suppressed.

なお、被解凍物8の高さが一定ではない場合には、検知部13は、被解凍物8の最も高い位置の高さを検出することが好ましい。そして、制御回路6は、検知部13から送信された被解凍物8の最も高い位置を基準にして、上部電極201aおよび天面プレート210と被解凍物8との間隔を算出する。これにより、被解凍物8の放電をより適切に抑えることができる。   In addition, when the height of the to-be-extracted thing 8 is not constant, it is preferable that the detection part 13 detects the height of the highest position of the to-be-extracted thing 8. Then, the control circuit 6 calculates the distance between the upper electrode 201 a and the top plate 210 and the object 8 based on the highest position of the object 8 sent from the detection unit 13. Thereby, discharge of the thing 8 to be defrosted can be suppressed more appropriately.

以上の処理について、制御回路6における具体的な処理の流れは以下のとおりである。   The flow of specific processing in the control circuit 6 is as follows.

被解凍物8の解凍処理中、検知部13は、被解凍物8の高さの検知を行い、検知情報を制御回路6へ送信する。制御回路6は、送信された検知情報から、電極板(上部電極1aおよび天面プレート10)と被解凍物8との距離Lを算出する。そして、制御回路6は、算出した距離Lと、メモリ5内に記憶されている距離の閾値Lminとを比較する。閾値Lminは、第1の実施形態と同様に、被解凍物8の放電の発生可能性を考慮して、適宜設定することができる。   During the thawing process of the to-be-extracted object 8, the detection unit 13 detects the height of the to-be-extracted object 8 and transmits detection information to the control circuit 6. The control circuit 6 calculates the distance L between the electrode plate (the upper electrode 1 a and the top plate 10) and the object to be defrosted 8 from the transmitted detection information. Then, the control circuit 6 compares the calculated distance L with the distance threshold Lmin stored in the memory 5. The threshold Lmin can be set as appropriate in consideration of the possibility of the discharge of the material to be defrosted 8 as in the first embodiment.

そして、算出される距離Lが閾値Lminを下回った場合には、制御回路6は、装置の運転を停止すべきと判定する。このように判定された場合には、制御回路6は、例えば、高周波電源2の動作を停止させることができる。   Then, when the calculated distance L is less than the threshold Lmin, the control circuit 6 determines that the operation of the device should be stopped. When the determination is made in this manner, the control circuit 6 can stop the operation of the high frequency power supply 2, for example.

このとき、解凍処理を終了した理由をユーザに知らせるために、制御回路6は、表示部214に解凍を終了した旨、解凍終了時点までの解凍所要時間、および解凍終了した理由などを表示させてもよい。   At this time, in order to notify the user of the reason for completing the thawing process, the control circuit 6 causes the display unit 214 to display the fact that the thawing has been completed, the required time for thawing until the thawing end time, and the reason for the thawing completion. It is also good.

なお、算出される距離Lが閾値Lmin以上である場合には、制御回路6は、装置の運転を停止すべきではないと判定する。このように判定された場合には、制御回路6は、例えば、高周波電源2の動作を継続させる。   When the calculated distance L is equal to or larger than the threshold Lmin, the control circuit 6 determines that the operation of the device should not be stopped. When determined in this manner, the control circuit 6 continues the operation of the high frequency power supply 2, for example.

(第2の実施形態のまとめ)
以上のように、本実施形態にかかる高周波加熱装置200は、主として、電極板(上部電極1a、下部電極1b)と、電極板に高周波電力を供給する高周波電源2(電圧印加部20)と、被解凍物8の高さを検知する高さ検知部(検知部13)と、高周波加熱装置の運転の開始および停止を制御する制御部(制御回路6)とを備えている。検知部13は、例えば、下部電極1bからの被解凍物8の高さを検知する。制御回路6は、例えば、高周波電源2のオン/オフを制御する。
(Summary of the second embodiment)
As described above, the high frequency heating device 200 according to the present embodiment mainly includes the electrode plate (upper electrode 1 a, lower electrode 1 b), and the high frequency power supply 2 (voltage application unit 20) that supplies high frequency power to the electrode plate. A height detection unit (detection unit 13) for detecting the height of the object 8 to be defrosted and a control unit (control circuit 6) for controlling the start and stop of the operation of the high frequency heating device are provided. The detection unit 13 detects, for example, the height of the object to be defrosted 8 from the lower electrode 1 b. The control circuit 6 controls, for example, on / off of the high frequency power supply 2.

本実施形態にかかる高周波加熱装置200では、制御回路6が、被解凍物8の解凍処理中における検知部13による被解凍物8の高さの検知結果に基づいて、運転を停止すべきか否か(すなわち、解凍処理を継続するか、あるいは終了するか)を判定する。   In the high-frequency heating device 200 according to the present embodiment, whether the control circuit 6 should stop the operation based on the detection result of the height of the to-be-extracted object 8 by the detection unit 13 during the thawing processing of the to-be-extracted object 8 (Ie, whether to continue or end the decompression process) is determined.

そして、制御回路6が、運転を停止すべきと判定した場合には、高周波電源2の動作を停止させて解凍処理を終了させることができる。   When the control circuit 6 determines that the operation should be stopped, the operation of the high frequency power supply 2 can be stopped to end the thawing process.

上記の構成によれば、被解凍物8の高さの変化に応じて、上部電極1aと被解凍物8との間に放電が起こらないように高周波電源2の動作を制御することができる。そのため、解凍処理中の被解凍物の状態変化を検知して被解凍物8の放電を適切に抑えることができる。   According to the above configuration, it is possible to control the operation of the high frequency power supply 2 so that the discharge does not occur between the upper electrode 1 a and the to-be-extracted material 8 according to the change of the height of the to-be-extracted material 8. Therefore, it is possible to detect the change in the state of the material to be thawed during the thawing process and to appropriately suppress the discharge of the material to be thawed 8.

また、本実施形態にかかる高周波加熱装置200は、表示部214を備えている。これにより、例えば、解凍を終了した際には、解凍を終了した旨と、解凍を終了した理由などを表示部214に表示することで、解凍を終了した理由をユーザに知らせることができる。   Further, the high frequency heating device 200 according to the present embodiment includes the display unit 214. Thus, for example, when the decompression is completed, the user can be notified of the reason for the completion of the decompression by displaying on the display unit 214 the completion of the decompression, the reason for the completion of the decompression, and the like.

〔第3の実施形態〕
続いて、本発明の第3の実施形態について、図5を参照しながら説明する。第3の実施形態では、表示部214および操作部315の有無が第1の実施形態とは異なっている。その他の構成については、基本的に第1の実施形態と同様の構成を適用することができる。そこで、以下では、第1の実施形態とは異なる点を中心に説明する。
Third Embodiment
Subsequently, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the third embodiment, the presence or absence of the display unit 214 and the operation unit 315 is different from that of the first embodiment. The other configuration is basically the same as that of the first embodiment. So, below, it demonstrates focusing on a different point from 1st Embodiment.

本実施形態の高周波加熱装置300は、食品などの被解凍物8に高周波電界を印加して、被解凍物の解凍処理などを主に行う。高周波加熱装置200は、加熱室(解凍室)9を備えている。   The high frequency heating apparatus 300 of the present embodiment applies a high frequency electric field to the to-be-defrosted material 8 such as food to mainly perform the thawing process and the like of the to-be-thawed material. The high frequency heating device 200 includes a heating chamber (thawing chamber) 9.

図5に示すように、加熱室9の内部には、上部電極1a、下部電極1b、可動部7、天面プレート10、底面プレート11、輻射熱センサ21、検知部13などが備えられている。これらの構成については、第1の実施形態と同様の構成を適用することができる。   As shown in FIG. 5, inside the heating chamber 9, an upper electrode 1a, a lower electrode 1b, a movable portion 7, a top plate 10, a bottom plate 11, a radiant heat sensor 21, a detection unit 13 and the like are provided. The same configuration as that of the first embodiment can be applied to these configurations.

また、図5に示すように、加熱室9の外部には、制御回路(制御部)6、メモリ5、電圧印加部20、表示部214、および操作部315などが備えられている。制御回路6、メモリ5、および電圧印加部20については、第1の実施形態と同様の構成を適用できる。但し、制御回路6における電圧印加部20の制御方法については、第1の実施形態とは異なっている。また、表示部214については、第2の実施形態と同様の構成を適用できる。   Further, as shown in FIG. 5, a control circuit (control unit) 6, a memory 5, a voltage application unit 20, a display unit 214, an operation unit 315 and the like are provided outside the heating chamber 9. The configuration similar to that of the first embodiment can be applied to the control circuit 6, the memory 5, and the voltage application unit 20. However, the control method of the voltage application unit 20 in the control circuit 6 is different from that of the first embodiment. In addition, the same configuration as that of the second embodiment can be applied to the display unit 214.

操作部315は、制御回路6に接続されている。操作部315は、例えば、表示部214内に搭載されたタッチセンサなどで実現される。操作部315からは、ユーザが高周波加熱装置300に対して入力操作を行うことができる。操作部315をタッチセンサ方式とすることにより、ユーザは、表示部214の表示内容に沿った入力操作を行うことができる。   The operation unit 315 is connected to the control circuit 6. The operation unit 315 is realized by, for example, a touch sensor or the like mounted in the display unit 214. The user can perform an input operation on the high-frequency heating device 300 from the operation unit 315. By using the operation unit 315 as a touch sensor system, the user can perform an input operation along the display content of the display unit 214.

本実施形態にかかる高周波加熱装置300における解凍処理の制御方法について、以下に説明する。   A control method of the thawing process in the high-frequency heating device 300 according to the present embodiment will be described below.

解凍開始時に、制御回路6は、検知部13の検知情報から食品(被解凍物8)の高さを把握して、上部電極1aを上下に動かした後、解凍を開始する。このとき、制御回路6は、上部電極1aと被解凍物8との隙間を放電の起こらない程度に確保するように、上部電極1aの位置を決定する。   At the start of thawing, the control circuit 6 grasps the height of the food (the to-be-thawed object 8) from the detection information of the detection unit 13, moves the upper electrode 1a up and down, and starts thawing. At this time, the control circuit 6 determines the position of the upper electrode 1 a so as to secure the gap between the upper electrode 1 a and the object 8 to the extent that discharge does not occur.

解凍中は、制御回路6は解凍効率が最適となるように、高周波電源2と整合回路3の制御を行うとともに、検知部13からの検知情報に基づいて被解凍物8の高さの変化を監視する。検知部13による監視は、常時行ってもよいし、所定の時間間隔で行ってもよい。   During thawing, the control circuit 6 controls the high frequency power supply 2 and the matching circuit 3 so as to optimize the thawing efficiency, and changes in the height of the object to be thawed 8 based on the detection information from the detection unit 13 Monitor. The monitoring by the detection unit 13 may be always performed or may be performed at predetermined time intervals.

ここで、被解凍物8の高さが上昇する方向、すなわち、上部電極1aおよび天面プレート10と被解凍物8との間隔が狭まる方向に変化した場合には、制御回路6は、装置の運転を停止すべきと判定する。   Here, in the case where the height of the object to be defrosted 8 changes in the direction of increasing, ie, the direction in which the distance between the upper electrode 1a and the top plate 10 and the object to be defrosted narrows, Determine that driving should be stopped.

このように判定された場合には、制御回路6は、表示部214に対して、解凍動作を終了するか否かをユーザに問い合わせる内容を表示させる。ユーザは、表示部214に表示された内容にしたがって、解凍動作を終了するか否かを選択することができる。   When the determination is made in this manner, the control circuit 6 causes the display unit 214 to display the content for inquiring of the user whether or not to end the decompression operation. The user can select whether to end the thawing operation according to the content displayed on the display unit 214.

解凍動作を終了するか否かの選択は、操作部315から行うことができる。ユーザは、解凍を終了するか継続するかを操作部315にて操作する。操作部315での操作結果は、制御回路6へ送信される。制御回路6は、送信された操作結果に基づいて高周波電源2を停止させて解凍動作を終了するか、あるいは解凍動作を継続するかを決定する。   The selection as to whether to end the thawing operation can be made from the operation unit 315. The user operates the operation unit 315 to end or continue the decompression. The operation result of the operation unit 315 is transmitted to the control circuit 6. The control circuit 6 determines whether to end the thawing operation or to continue the thawing operation based on the transmitted operation result to stop the high frequency power supply 2.

ここで、解凍動作を継続する場合は、上部電極1aと被解凍物8との空隙の大きさを、放電の起こらない程度に確保するように可動部7を制御して上部電極1aを上下に動かす。これにより、上部電極1aと被解凍物8との間で起こる放電を抑えることができる。   Here, when the thawing operation is continued, the movable portion 7 is controlled to secure the size of the gap between the upper electrode 1a and the to-be-thawed object 8 to such an extent that the discharge does not occur, move. Thereby, the discharge which generate | occur | produces between the upper electrode 1a and the thing 8 to be defrosted can be suppressed.

可動部7の制御方法については、第1の実施形態と同様の方法を用いることができる。なお、本実施形態にかかる高周波加熱装置300には、輻射熱センサ21が備えられている。そのため、第1の実施形態と同様に、解凍処理中に、輻射熱センサ21などの検知手段によって被解凍物8の温度を監視し、被解凍物8の解凍状態を随時あるいは経時的に判定してもよい。そして、輻射熱センサ21によって検知された被解凍物8の解凍状態に応じて、電極板の位置を変更し、電極板と被解凍物8との間の空隙の大きさを変化させてもよい。   As a control method of the movable portion 7, the same method as that of the first embodiment can be used. In addition, the radiant heat sensor 21 is provided in the high frequency heating apparatus 300 concerning this embodiment. Therefore, as in the first embodiment, during the thawing process, the temperature of the to-be-thawed object 8 is monitored by the detecting means such as the radiant heat sensor 21 and the thawing state of the to-be-thawed object 8 is determined as needed It is also good. Then, the position of the electrode plate may be changed according to the thawing state of the object to be defrosted 8 detected by the radiation heat sensor 21 to change the size of the gap between the electrode plate and the object to be thawed 8.

(第3の実施形態のまとめ)
以上のように、本実施形態にかかる高周波加熱装置300は、主として、電極板(上部電極1a、下部電極1b)と、電極板に高周波電力を供給する電圧印加部20と、高さ検知部(検知部13)と、位置変更機構(可動部7)と、装置の運転の開始および停止を制御する制御部(制御回路6)とを備えている。検知部13は、例えば、下部電極1bからの被解凍物8の高さを検知する。また、可動部7が備えられていることで、上部電極1aと下部電極1bとの間隔が変更可能になっている。制御回路6は、例えば、高周波電源2のオン/オフを制御する。
(Summary of the third embodiment)
As described above, the high-frequency heating device 300 according to the present embodiment mainly includes the electrode plate (upper electrode 1a and lower electrode 1b), the voltage application unit 20 that supplies high-frequency power to the electrode plate, and the height detection unit ( A detection unit 13), a position change mechanism (movable unit 7), and a control unit (control circuit 6) that controls start and stop of operation of the apparatus. The detection unit 13 detects, for example, the height of the object to be defrosted 8 from the lower electrode 1 b. In addition, by providing the movable portion 7, the distance between the upper electrode 1a and the lower electrode 1b can be changed. The control circuit 6 controls, for example, on / off of the high frequency power supply 2.

上記の構成によれば、被解凍物8の高さの変化に応じて、上部電極1aと被解凍物8との間に放電が起こらないように、高周波電源2を停止させて解凍動作を終了することができる。これに加え、可動部7によって上部電極1aと下部電極1bとの間隔が変更可能になっている。そのため、解凍動作を継続する場合には、上部電極1aと被解凍物8との間に放電が起こらないように、上部電極1aの位置を適切に制御することができる。   According to the above configuration, the high frequency power supply 2 is stopped to terminate the thawing operation so that the discharge does not occur between the upper electrode 1a and the thawing object 8 according to the change in the height of the thawing object 8 can do. In addition to this, the distance between the upper electrode 1 a and the lower electrode 1 b can be changed by the movable portion 7. Therefore, when the thawing operation is continued, the position of the upper electrode 1a can be appropriately controlled so that the discharge does not occur between the upper electrode 1a and the to-be-extracted material 8.

したがって、本実施形態にかかる高周波加熱装置300によれば、上部電極1aと被解凍物8との間での放電の発生を適切に抑えつつ、解凍品質をより向上させることができる。   Therefore, according to the high frequency heating apparatus 300 concerning this embodiment, thawing | decompression quality can be improved more, suppressing generation | occurrence | production of the discharge between the upper electrode 1a and the thing 8 to be defrosted appropriately.

また、本実施形態にかかる高周波加熱装置300は、制御回路6が装置の運転を停止すべきと判定したときに、装置の運転を停止するか否かを問い合わせる表示部214をさらに備えていることが好ましい。これにより、解凍を終了するか継続するかをユーザに選択させることが可能となる。   In addition, the high-frequency heating device 300 according to the present embodiment further includes a display unit 214 inquiring whether or not to stop the operation of the device when the control circuit 6 determines that the operation of the device should be stopped. Is preferred. This allows the user to select whether to end or continue the extraction.

また、装置の運転を停止するか否かをユーザに問い合わせたときに、ユーザが運転の継続を選択した場合には、制御回路6は、高周波電源2の動作を継続させる。このとき、位置変更機構(可動部7)は、検知部13が検知した解凍処理中の被解凍物8の高さの変化に応じて電極板(上部電極1a)の位置を変更し、電極板と被加熱物との間の空隙の大きさを変化させてもよい。これにより、上部電極1aと被解凍物8との間で起こる放電を抑えつつ、解凍処理をさらに継続することができる。   In addition, when the user inquires the user whether to stop the operation of the apparatus, if the user selects the continuation of the operation, the control circuit 6 causes the operation of the high frequency power supply 2 to be continued. At this time, the position changing mechanism (movable portion 7) changes the position of the electrode plate (upper electrode 1a) according to the change in the height of the object 8 to be thawed during the thawing process detected by the detecting portion 13 It is also possible to change the size of the air gap between and the object to be heated. Thereby, the thawing process can be further continued while suppressing the discharge that occurs between the upper electrode 1a and the to-be-thawed product 8.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。また、本明細書で説明した異なる実施形態の構成を互いに組み合わせて得られる構成についても、本発明の範疇に含まれる。   It should be understood that the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is indicated not by the above description but by the claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the claims. Further, configurations obtained by combining the configurations of the different embodiments described in the present specification with one another are also included in the scope of the present invention.

1a :上部電極(電極板)
1b :下部電極(電極板)
2 :高周波電源
3 :整合回路
5 :メモリ
6 :制御回路(制御部、状態識別部)
7 :可動部(位置変更機構)
8 :被解凍物(被加熱物)
13 :検知部(高さ検知部)
20 :電圧印加部
21 :輻射熱センサ(状態識別部)
100 :高周波加熱装置
200 :高周波加熱装置
201a:上部電極(電極板)
214 :表示部
300 :高周波加熱装置
315 :操作部
1a: Upper electrode (electrode plate)
1b: Lower electrode (electrode plate)
2: High frequency power supply 3: Matching circuit 5: Memory 6: Control circuit (control unit, status identification unit)
7: Movable part (position change mechanism)
8: Defrosted material (heated material)
13: Detection unit (height detection unit)
20: voltage application unit 21: radiation heat sensor (state identification unit)
100: high frequency heating device 200: high frequency heating device 201a: upper electrode (electrode plate)
214: Display unit 300: High frequency heating device 315: Operation unit

Claims (5)

電極板と、
前記電極板に高周波電力を供給する高周波電源と、
被加熱物の高さを検知する高さ検知部と、
前記電極板の位置を変更する位置変更機構と
を備え、
前記高さ検知部は、前記被加熱物の加熱中に前記被加熱物の高さを検知し、
前記位置変更機構は、前記高さ検知部が検知した加熱中の前記被加熱物の高さの変化に応じて前記電極板の位置を変更し、前記電極板と前記被加熱物との間の空隙の大きさを変化させる、
高周波加熱装置。
Electrode plate,
A high frequency power supply for supplying high frequency power to the electrode plate;
A height detection unit that detects the height of the object to be heated;
And a position changing mechanism for changing the position of the electrode plate,
The height detection unit detects the height of the heating target during heating of the heating target;
The position changing mechanism changes the position of the electrode plate in accordance with a change in the height of the object to be heated during heating detected by the height detector, and the position changing mechanism is disposed between the electrode plate and the object to be heated. Vary the size of the air gap,
High frequency heating device.
前記被加熱物は、冷凍物であり、
前記被加熱物の解凍状態を識別する状態識別部と、
前記被加熱物を加熱するときの前記電極板の位置に関する情報を、前記被加熱物の解凍状態と対応付けて記憶する記憶部と
をさらに備え、
前記位置変更機構は、前記状態識別部が識別した前記被加熱物の解凍状態に応じて、前記電極板の位置を変更し、前記電極板と前記被加熱物との間の空隙の大きさを変化させる、
請求項1に記載の高周波加熱装置。
The article to be heated is a frozen article,
A state identification unit for identifying a thawing state of the object to be heated;
The information processing apparatus further comprises a storage unit that stores information related to the position of the electrode plate when heating the object to be heated, in association with the thawed state of the object to be heated.
The position changing mechanism changes the position of the electrode plate according to the thawing state of the object to be heated identified by the state identification unit, and determines the size of the gap between the electrode plate and the object to be heated. Change,
The high frequency heating device according to claim 1.
電極板と、
前記電極板に高周波電力を供給する高周波電源と、
被加熱物の高さを検知する高さ検知部と、
装置の運転の開始および停止を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、前記被加熱物の加熱中における前記高さ検知部の高さの検知結果に基づいて、運転を停止すべきか否かを判定する、
高周波加熱装置。
Electrode plate,
A high frequency power supply for supplying high frequency power to the electrode plate;
A height detection unit that detects the height of the object to be heated;
A control unit that controls start and stop of operation of the device;
The control unit determines whether to stop the operation based on the detection result of the height of the height detection unit during heating of the object to be heated.
High frequency heating device.
前記制御部が装置の運転を停止すべきと判定したときに、装置の運転を停止するか否かを問い合わせる表示部をさらに備える、請求項3に記載の高周波加熱装置。   The high frequency heating device according to claim 3, further comprising a display unit inquiring whether or not to stop the operation of the device when the control unit determines that the operation of the device should be stopped. 前記電極板の位置を変更する位置変更機構をさらに備え、
前記位置変更機構は、前記高さ検知部が検知した加熱中の前記被加熱物の高さの変化に応じて前記電極板の位置を変更し、前記電極板と前記被加熱物との間の空隙の大きさを変化させる、
請求項3または4に記載の高周波加熱装置。
It further comprises a position change mechanism for changing the position of the electrode plate,
The position changing mechanism changes the position of the electrode plate in accordance with a change in the height of the object to be heated during heating detected by the height detector, and the position changing mechanism is disposed between the electrode plate and the object to be heated. Vary the size of the air gap,
The high frequency heating device according to claim 3 or 4.
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