JP2019008294A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】波長４０５ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を示すことにより、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の紫外線による劣化について良好な抑制機能を有する後学フィルムを提供する。【解決手段】少なくとも１層の光選択吸収層と少なくとも１層の酸素遮蔽層とを含み、かつ下記式（１）及び式（２）を満たす光学フィルム。Ａ（４０５）≧０．５ （１）酸素透過率≦５００ （２）［式（１）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表す。］【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルムに関する。

有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）には、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子や偏光板等の光学フィルムなど様々な部材が用いられている。これらの部材に用いられる有機ＥＬ化合物及び液晶化合物等は有機物であるため、紫外線（ＵＶ）による劣化が問題となりやすい。このような問題を解決するため、例えば、特許文献１には３７０ｎｍ以下の波長域の紫外線吸収能が優れる紫外線吸収剤を偏光板の保護フィルムに添加した偏光板が記載されている。

特開２００６−３０８９３６号公報

また、近年の表示装置の薄型化が進む中、重合性液晶化合物を配向・光硬化させてなる液晶系位相差フィルムの開発が進められている。これらの液晶系位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子は紫外線による劣化のみではなく、短波長の可視光においても劣化する傾向があることが明らかになってきた。しかしながら、特許文献１に記載の偏光板は、３７０ｎｍ以下の波長域の紫外線吸収能が優れていても、４００ｎｍ付近の可視光の吸収性能が低く、液晶系位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の劣化抑制が十分ではない場合があった。さらに、近年の表示装置において、より良好な表示特性が求められていた。

本発明の目的は、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の短波長の可視光による劣化について良好な抑制機能を有する光学フィルムを提供することである。

本発明は、以下の発明を含む。
［１］少なくとも１層の光選択吸収層と少なくとも１層の酸素遮蔽層とを含む光学フィルムであって、かつ下記式（１）及び式（２）を満たす光学フィルム。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
酸素透過度≦５００ （２）
［式（１）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表す。］
［２］下記式（３）を満たす［１］に記載の光学フィルム。
Ａ（４４０）≦０．１ （３）
［式（１）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［３］さらに、式（３）を満たす［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （３）
［式（３）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［４］光選択吸収層が、光選択吸収機能を有する粘着剤層である［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］光選択吸収層が、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）、架橋剤（Ｂ）及び光選択吸収化合物（Ｃ）を含む粘着剤組成物から形成される粘着剤層である［４］に記載の光学フィルム。
［６］架橋剤（Ｂ）の含有量が、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１５質量部である［５］に記載の光学フィルム。
［７］光選択吸収化合物（Ｃ）の含有量が、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部である［５］又は［６］に記載の光学フィルム。
［８］光選択吸収化合物（Ｃ）が、下記式（５）を満たす化合物である［５］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルム。
ε（４０５）≧２０ （５）
〔式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。〕
［９］光選択吸収化合物（Ｃ）が、下記式（６）を満たす化合物である［８］に記載の光学フィルム。
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （６）
［式（６）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
［１０］光選択吸収化合物（Ｃ）が、分子内にメロシアニン構造を有する化合物である［５］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１１］酸素遮蔽層は、ポリエステル系樹脂（Ｅ）ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）、ポリアミド系樹脂（Ｇ）、ポリイミド系樹脂（Ｈ）及びセルロース系樹脂（Ｉ）から選ばれる少なくとも１種の樹脂から形成される樹脂層である［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１２］酸素遮蔽層が、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光フィルムである［１］〜［１１］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１３］［１］〜［１２］の光学フィルムを含む表示装置。

本発明の光学フィルムは、４０５ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を示すことにより、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の短波長の可視光による劣化について良好な抑制機能を有する。また、本発明の光学フィルムは、耐候性試験後であっても波長４０５ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を示し、短波長の可視光による劣化の抑制を保つことができる。本発明の光学フィルムを表示装置に用いた場合には良好な表示特性と耐久性とを付与することができる。

本発明に係る光学フィルムの一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学フィルムを含む光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学フィルムを含む光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学フィルムを含む光学積層体の一例を示す概略断面図である。

本発明の光学フィルムは、少なくとも１層の光選択吸収層と少なくとも１層の酸素遮蔽層とを含み、かつ下記式（１）及び式（２）を満たす光学フィルムである。
Ａ（４０５）≧０．５ （１）
酸素透過度≦５００ （２）
［式（１）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表す。］

Ａ（４０５）の値が大きいほど波長４０５ｎｍにおける吸収が高いことを表し、Ａ（４０５）の値が０．５未満であると、波長４０５ｎｍにおける吸収が低く、紫外線や短波長の可視光における位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の劣化を抑制する効果が小さい。Ａ（４０５）の値は、耐候劣化抑制の観点から、好ましくは０．６以上であり、より好ましくは０．８以上であり、特に好ましくは１．０以上である。上限は特にないが、通常は１０以下である。

酸素透過度の値が小さいほど光学フィルムの酸素透過が少ないことを表し、酸素透過度の値が５００以下であると、酸素を透過させにくく、光選択吸収層自身の紫外線や短波長の可視光による劣化を抑制することができる。酸素透過度の値は、好ましくは１００以下であり、より好ましくは５０以下である。酸素透過度の単位は、「ｃｍ３/(m２・２４ｈ・ａｔｍ)」である。なお、酸素透過度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１に記載の方法に従って測定できる。

本発明の光学フィルムは、さらに下記式（３）を満たすことが好ましい。
Ａ（４４０）≦０．１ （３）
［式（１）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
Ａ（４４０）の値が小さいほど波長４４０ｎｍにおける吸収が低いことを表し、Ａ（４４０）の値が０．１を超えると、表示装置における良好な色彩表現を損なう傾向にある。また表示装置の発光を阻害する傾向にあるため、表示装置の輝度も低下する可能性がある。Ａ（４４０）の値は、表示装置の発光阻害を抑制する観点から、好ましくは０．０５以下であり、より好ましくは０．０４以下であり、特に好ましくは０．０３である。下限は特に制限ないが、通常は０．００００１以上である。

本発明の光学フィルムは、さらに下記式（４）を満たすことが好ましい。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （４）
［式（４）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は、波長４４０ｎｍにおける吸収の大きさに対する波長４０５ｎｍの吸収の大きさを表し、この値が大きいほど４０５ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを表す。Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は１０以上であることが好ましく、３０以上であることがより好ましく、特に好ましくは６０以上である。

本発明のフィルムは、通常０．２μｍ〜６００μｍである。

＜光選択吸収層＞
光選択吸収層は、波長４０５ｎｍの光に対して高い吸収性能を有する層であり、上記式（１）を満たす。光選択吸収層は、光学フィルムを形成するどの層であってもよいが、光選択吸収機能を有する粘着剤層であることが好ましい。光選択吸収機能を有する粘着剤層は、光選択吸収機能を有する粘着剤組成物から形成される。
光選択吸収層（好ましくは光選択吸収機能を有する粘着剤層）の厚みは、通常０．１μｍ〜５０μｍであり、好ましくは１μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは４μｍ〜２０μｍである。

光選択吸収機能を有する粘着剤組成物は、光吸収性化合物（Ｃ）、樹脂（Ａ）及び架橋剤（Ｂ）を含む粘着剤組成物であることが好ましく、さらにシラン化合物（Ｄ）を含む粘着剤組成物であることがより好ましい。

光吸収性化合物（Ｃ）は、波長４０５ｎｍの光を選択的に吸収する化合物であり、式（５）を満たす化合物であることが好ましく、さらに式（６）を満たす化合物であることがより好ましい。
ε（４０５）≧２０ （５）
〔式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （６）
［式（６）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
なお、グラム吸光度係数は、実施例に記載の方法で測定できる。

ε（４０５）の値が大きい化合物ほど波長４０５ｎｍの光を吸収しやすく、紫外線又短波長の可視光における位相差フィルムの劣化を抑制する。ε（４０５）の値が２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）未満であると、光選択吸収層中における光選択吸収化合物（Ｃ）の含有量を増大させないと、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の紫外線や短波長の可視光による劣化抑制機能を発現しにくい傾向にある。光選択吸収化合物（Ｃ）の含有量が増大すると、光選択吸収層中における光選択吸収化合物（Ｃ）がブリードアウト又は不均一に分散してしまい、光吸収機能が不十分となることがある。ε（４０５）の値は２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることが好ましく、３０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがより好ましく、４０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがさらにより好ましく、通常５００Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下である。

ε（４０５）／ε（４４０）の値が大きい化合物ほど、表示装置の色彩表現を阻害することなく、４０５ｎｍ付近の光を吸収し位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の光劣化を抑制することができる。ε（４０５）／ε（４４０）の値は２０以上が好ましく、４０以上がより好ましく、７０以上がさらにより好ましく、８０以上が特により好ましい。

また、光選択吸収化合物（Ｃ）は、分子内にメロシアニン構造を含む化合物であることが好ましい。メロシアニン構造を含む化合物としては、−（Ｎ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ）−で示される部分構造を分子内に含有している化合物であって、例えば、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物等が挙げられ、好ましくはメロシアニン系化合物、シアニン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物である。
光選択吸収化合物（ｃ）は、式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）という場合がある。）であることが好ましい。

［式中、Ｒ^１及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ａ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていてもよい。
Ｒ^１Ａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ｂ−、−ＣＯ−、−ＮＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよい。
Ｒ^１Ｂは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基又は電子吸引性基を表すか、Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成してもよい。
Ｒ^１及びＲ^２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^６は、互いに連結して環構造を形成してもよい。］

Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、２−シアノプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル、２−へキシル−オクチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Ａに記載の基が挙げられる。
群Ａ：ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルシリル基、炭素数２〜８のアルキルカルボニル基、＊−Ｒ^ａ１−（Ｏ−Ｒ^ａ２）_ｔ１−Ｒ^ａ３（Ｒ^ａ１及びＲ^ａ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表し、Ｒ^ａ３は炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｓ１は１〜３の整数を表す。）で表される基等が挙げられる。

炭素数１〜１２のアルキルシリル基としては、メチルシリル基、エチルシリル、プロピルシリル基等のモノアルキルシリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルエチルシリル基等のジアルキルシリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。
炭素数２〜８のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数７〜１５のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。アラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−が、−ＳＯ_２−又は−ＣＯＯ−に置き換わった基としては２-フェニル酢酸エチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数７〜１５のアラルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５のアリール基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５の複素環基としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３〜９の芳香族複素環基が挙げられる。

Ｒ^１Ａ及びＲ^１Ｂで表される炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^１Ｂで表される炭素数１〜６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数１〜６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等炭素数６〜１５のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族複素環としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３〜９の芳香族複素環基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数１〜２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７で表される電子吸引性基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、式（Ｉ−１）で表される基が挙げられる。

［式中、Ｒ^１１は、水素原子又は炭素数１〜２５のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていてもよい。
Ｘ^１は、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＳ−、−ＣＳＳ−、−ＣＯＳ−、−ＮＲ^１２ＣＯ−又はＣＯＮＲ^１３−を表す。
Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ−ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基の炭素数としては、通常１〜２５である。

Ｒ^１１で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^１２及びＲ^１３で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^１Ａで表される炭素数１〜６で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ^６及びＲ^７より形成される環構造としては、例えば、メルドラム酸構造、バルビツール酸構造、ジメドン構造等が挙げられる。

Ｒ^２及びＲ^３が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ^２と結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４〜１４員環の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドール環、イソインドール環等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ^１及びＲ^２が結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４〜１４員環（好ましくは４〜８員環）の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ^１及びＲ^２が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して形成される環構造と同じものが挙げられる。

Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造としては、４〜１４員環の含窒素環構造が挙げられ、５員環〜９員環の含窒素環構造が好ましい。Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。これらの環は置換基を有していてもよく、このような環構造としては、前記Ｒ^２とＲ^３により形成される環構造として例示したものと同じものが挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６が互いに連結して形成される環構造としては、Ｒ^３−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｒ^６が環の骨格を形成する環構造である。例えば、フェニル基等が挙げられる。

Ｒ^２とＲ^３が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては式（Ｉ−Ａ）で表される化合物が挙げられ、Ｒ^２及びＲ^４が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ａ）、式（Ｉ−Ｂ）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、それぞれ独立して、含窒素環を表す。］

環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、環の構成単位として窒素原子を含有する含窒素環を表す。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、単環であってもよいし、多環であってもよく、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、それぞれ独立して、５員環〜９員環の環であることが好ましい。

式（Ｉ−Ａ）で表される化合物は、式（Ｉ−Ａ−１）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ａ^１は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^１Ｄ−を表す。
Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
Ｒ^１Ｄは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］

式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物は、式（Ｉ−Ｂ−１）で表される化合物及び式（Ｉ−Ｂ−２）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ｂ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基を表す。］

［式（Ｉ−Ｂ−２）中、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^３０は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基、炭素数２〜１３のアシル基、炭素数２〜１３のアシルオキシ基又は炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基を表す。
Ｒ^３１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアミノ基又は複素環基を表す。］

Ｒ^３０で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ^３０で表されるＲ^３０で表される炭素数２〜１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１４で表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。
Ｒ^３０は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、アミノ基又はメルカプト基であることが好ましい。

Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１４で表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルコキシ基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
Ｒ^３１で表される置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基等の１つの炭素数１〜８のアルキル基で置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ基等の２つの炭素数１〜８のアルキル基で置換されたアミノ基；等が挙げられる。
Ｒ^３１で表される複素環としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基等の炭素数４〜９の含窒素複素環基等が挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ^２及びＲ^４が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｃ）中、Ｒ^１、Ｒ^６及びＲ^７は上記と同じ意味を表す。
Ｒ^２１、Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。
Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立して、−ＣＨ_２−又は−Ｎ（Ｒ^２５）＝を表す。
Ｒ^２５は、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。］

Ｒ^２５で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^２５で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基：ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基：ビフェニル基等が挙げられ、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基であることが好ましい。Ｒ^２５で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基等が挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６は、それぞれ独立して、電子吸引性基であることが好ましい。

Ｒ^１及びＲ^２が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ^３及びＲ^６が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−D）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−D）中、Ｒ^４、Ｒ⁵、Ｒ⁷は上記と同じ意味を表す。
Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、ヒドロキシ基、アラルキル基を表す。］

Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１Ａ及びＲ^１Ｂで表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8で表される炭素数１〜１２のアルキル基が有していてもよい置換基としてはヒドロキシ基が挙げられる。
Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７が互いに連結して環構造を形成している化合物（Ｉ）としては、式（Ｉ−Ｅ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｅ）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ^３は、環状化合物を表す
環Ｗ^３は、５員環〜９員環の環であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。

式（Ｉ−Ｅ）で表される化合物は、式（ＩＥ−１）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ｃ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^ｑは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−基は−ＮＲ１Ｄ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｓ−に置換されていてもよく、Ｒ^１７及びＲ^１８は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^１８及びＲ^１９は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^１９及びＲ^ｑは、互いに連結して環構造を形成してもよい。ｍ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して０〜３の整数を表す。］

式（Ｉ）で表される化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

光選択吸収化合物（Ｃ）の含有量は、後述する樹脂（Ａ）（好ましくは（メタ）アクリル系樹脂（Ａ））１００質量部に対して、通常０．０１〜２０質量部であり、好ましくは０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜５質量部である。

樹脂（Ａ）は、（メタ）アクリル酸樹脂（Ａ）であることが好ましい。
（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、（メタ）アクリル酸エステル由来の構成単位を主成分（好ましくは５０質量％以上含む）重合体であることが好ましい。（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、一種以上の（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位（例えば、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位）を含んでもよい。なお本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のいずれでもよいことを意味し、他に、（メタ）アクリレートなどというときの「（メタ）」も同様の趣旨である。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、下記式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる

［式（Ｉ）中、Ｒ₁ は水素原子又はメチル基で表し、Ｒ₂ は炭素数１〜１４のアルキル基または炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、該アルキル基または該アラルキル基の水素原子は、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。］

式（Ｉ）において、Ｒ₂は、好ましくは、炭素数１〜１４のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数１〜８のアルキル基である。

式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルとしては、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ノニル、（メタ）アクリル酸ｎ−デシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、等の（メタ）アクリル酸の直鎖状アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｉ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ノニル、（メタ）アクリル酸ｉ−ステアリル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、等の（メタ）アクリル酸の分枝状アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸シクロへキシル、（メタ）アクリル酸イソボロニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸シクロドデシル、（メタ）アクリル酸メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、α−エトキシアクリル酸シクロヘキシル、等の（メタ）アクリル酸の脂環骨格含有アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸の芳香環骨格含有エステル；
等が挙げられる。
また、（メタ）アクリル酸アルキルエステルにおけるアルキル基に置換基が導入された置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを挙げることもできる。置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルの置換基は、アルキル基の水素原子を置換する基であり、その具体例はフェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基を含む。置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして、具体的には、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシメチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−フェノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸フェノキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸フェノキシポリ（エチレングリコール）等が挙げられる。

これらの（メタ）アクリル酸エステルは、それぞれ単独で用いることができるほか、異なる複数のものを用いてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、ホモポリマーのガラス転移温度Ｔｇが０℃未満である（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）由来の構成単位、及びホモポリマーのＴｇが０℃以上である（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）由来の構成単位を含有することが好ましい。アクリル酸アルキルエステル（ａ１）由来の構成単位及びアクリル酸アルキルエステル（ａ２）由来の構成単位を含有することは、粘着剤層の高温耐久性を高めるうえで有利である。（メタ）アクリル酸アルキルエステルのホモポリマーのＴｇは、例えばＰＯＬＹＭＥＲ ＨＡＮＤＢＯＯＫ（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）などの文献値を採用することができる。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）の具体例としては、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−及びｉ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−へキシル、アクリル酸ｎ−ヘプチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−オクチル、アクリル酸２−エチルへキシル、アクリル酸ｎ−及びｉ−ノニル、アクリル酸ｎ−及びｉ−デシル、アクリル酸ｎ−ドデシル等のアルキル基の炭素数が２〜１２程度の（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）は、１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。なかでも、光選択吸収層を他の層に積層した際の追従性やリワーク性の観点から、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸２−エチルへキシルなどが好ましい。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）以外の（メタ）アクリル酸アルキルエステルである。（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）の具体例は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ｔ−ブチル等を含む。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。中でも、高温耐久性の観点から、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル等を含むことが好ましく、アクリル酸メチルを含むことがより好ましい。

式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）に含まれる全構造単位中、５０質量％以上であることが好ましく、６０〜９５質量％であることが好ましく、６５〜９５質量％以上であることがより好ましい。

（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位が好ましく、極性官能基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位がより好ましい。極性官能基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、置換もしくは無置換アミノ基、エポキシ基等の複素環基などが挙げられる。
極性官能基を有する単量体としては、
（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸２−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシドデシル、アクリル酸１０−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１４−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１４−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１５−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１５−ヒドロキシヘプタデシル等のヒドロキシ基を有する単量体；
（メタ）アクリル酸、カルボキシアルキル（メタ）アクリレート（例えば、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート）、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基を有する単量体；
アクリロイルモルホリン、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，５−ジヒドロフラン等の複素環基を有する単量体；
アミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の置換もしくは無置換アミノ基を有する単量体が挙げられる。
なかでも、（メタ）アクリル酸エステル重合体と架橋剤との反応性の点で、ヒドロキシ基を有する単量体またはおよびカルボキシル基を有する単量体が好ましく、ヒドロキシ基を有する単量体およびカルボキシル基を有する単量体のいずれもを含むことがより好ましい。

ヒドロキシ基を有する単量体としては、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、アクリル酸６−ヒドロキシヘキシルが好ましい。特に、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルおよびアクリル酸５−ヒドロキシペンチルを用いることで良好な耐久性を得ることができる。
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸を用いることが好ましい。

粘着剤層の外面に積層することができるセパレートフィルムの剥離力亢進を防ぐ観点から、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、アミノ基を有する単量体に由来の構造単位を実質的に含まないことが好ましい。ここで実質的に含まないとは、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）を構成する全構成単位１００質量部中、０．１質量部以下であることをいう。

極性官能基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは、０．５質量部以上１５質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下、特に好ましくは１質量部以上７質量部以下である。

芳香族基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは４質量部以上２０質量部以下、さらに好ましくは４質量部以上１６質量部以下である。

（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、スチレン系単量体に由来する構造単位、ビニル系単量体に由来する構造単位、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位、（メタ）アクリルアミド系単量体に由来する構造単位なども挙げられる。

スチレン系単量体としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン等のアルキルスチレン；フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン等のハロゲン化スチレン；ニトロスチレン；アセチルスチレン；メトキシスチレン；および、ジビニルベンゼンが挙げられる。

ビニル系単量体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル等の脂肪酸ビニルエステル；塩化ビニル、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル；塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン；ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等の含窒素複素芳香族ビニル；ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン；および、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリルが挙げられる。

分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等の分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の分子内に３個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体が挙げられる。

（メタ）アクリルアミド系単量体としては、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（５−ヒドロキシペンチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（６−ヒドロキシヘキシル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−オキソ−１−イミダゾリジニル）エチル〕（メタ）アクリルアミド、２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１−メチルエトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１−メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチルエトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−エトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−プロポキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１−メチルエトキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１−メチルプロポキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−メチルプロポキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ブトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１，１−ジメチルエトキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。なかでも、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）アクリルアミドおよびＮ−（２−メチルプロポキシメチル）アクリルアミドが好ましい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍw）は、好ましくは、５０万〜２５０万である。重量平均分子量が５０万以上であると、高温環境における粘着剤層の耐久性が向上し、被着体と粘着剤層との間の浮き剥れや、粘着剤層の凝集破壊などの不具合を抑制しやすい。重量平均分子量が２５０万以下であると、粘着剤組成物を例えばシート状に加工（基材に塗工する）際の塗工性の観点で有利である。粘着剤層の耐久性及び粘着剤組成物の塗工性の両立の観点から、重量平均分子量は好ましくは６０万〜１８０万であり、よく好ましくは７０万〜１７０万であり、特に好ましくは１００万〜１６０万である。また、重量平均分子量（Ｍw）と数平均分子量（Ｍn）との比で表される分子量分布（Ｍw／Ｍn）は、通常２〜１０、好ましくは３〜８、さらに好ましくは３〜６である。 重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより分析でき、標準ポリスチレン換算の値である。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、酢酸エチルに溶解させ、濃度２０質量％の溶液としたとき、２５℃における粘度が、２０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．１〜１５Ｐａ・ｓであることがより好ましい。該範囲の粘度であると、粘着剤組成物を基材に塗工する際の塗工性の観点から有利である。なお、粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定できる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば−６０〜２０℃、好ましくは−５０〜１５℃、さらに好ましくは−４５〜１０℃、特に−４０〜０℃であってもよい。Ｔｇが上限値以下であると粘着剤層の被着体基材に対するするぬれ性の向上に有利であり、下限値以上であると粘着剤層の耐久性の向上に有利である。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定できる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、例えば、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法などの公知の方法によって製造することができ、特に溶液重合法が好ましい。溶液重合法としては、例えば、単量体及び有機溶媒を混合し、窒素雰囲気下、熱重合開始剤を添加し、４０〜９０℃、好ましくは５０〜８０℃程度の温度条件下、３〜１５時間程度攪拌する方法が挙げられる。反応制御のため、重合中、連続的又は間歇的に単量体や熱重合開始剤を添加してもよい。該単量体や熱開始剤は有機溶媒に添加した状態であってもよい。

重合開始剤としては、熱重合開始剤や光重合開始剤等が用いられる。光重合開始剤としては、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンなどが挙げられる。熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）などのアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイドなどの有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素などの無機過酸化物などが挙げられる。また、過酸化物と還元剤とを併用したレドックス系開始剤なども使用できる。

重合開始剤の割合は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する単量体の総量１００質量部に対して、０．００１〜５質量部程度である。（メタ）アクリル系樹脂の重合は、活性エネルギー線（例えば紫外線など）による重合法を使用してもよい。

有機溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の含有量は、粘着剤組成物１００質量％中、通常６０質量％〜９９．９質量％であり、好ましくは７０質量％〜９９．５質量％であり、より好ましくは８０質量％〜９９質量％である。

粘着剤組成物は、架橋剤（Ｂ）を含むことができる。該架橋剤（Ｂ）は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）中の極性官能基（例えばヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、複素環基等）と反応する。架橋剤（Ｂ）は（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）等と架橋構造を形成し、耐久性やリワーク性に有利な架橋構造を形成する。

架橋剤（Ｂ）としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ及び粘着剤層の耐久性、架橋速度などの観点から、イソシアネート系架橋剤であることが好ましい。

イソシアネート系化合物としては、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物が好ましく、例えば、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネートなど）、脂環族イソシアネート系化合物（例えばイソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート）、芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等）などが挙げられる。また架橋剤（Ｂ）は、前記イソシアネート化合物の多価アルコール化合物による付加体（アダクト体）［例えば、グリセロール、トリメチロールプロパンなどによる付加体］、イソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール等と付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート化合物などの誘導体であってもよい。架橋剤（Ｂ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、代表的には芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート）、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネート）又はこれらの多価アルコール化合物（例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン）による付加体、又はイソシアヌレート体が挙げられる。架橋剤（Ｂ）が、芳香族イソシアネート系化合物及び／又はこれらの多価アルコール化合物、又はイソシアヌレート体による付加体であると、最適な架橋密度（又は架橋構造）の形成に有利なためか、粘着剤層の耐久性を向上できる。特に、トリレンジイソシアネート系化合物及び／又はこれらの多価アルコール化合物による付加体であると、例えば粘着剤層を偏光板に適用した場合等であっても耐久性を向上することができる。

架橋剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）（好ましくは（メタ）アクリル系樹脂（Ａ））１００質量部に対して、通常０．０１〜１５質量部であり、好ましくは０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．１〜５質量部である。

シラン化合物（Ｄ）としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シラン化合物（Ｄ）は、シリコーンオリゴマーであってもよい。シリコーンオリゴマーの具体例を、モノマー同士の組み合わせの形で表記すると次のとおりである。

３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトプロピル基含有オリゴマー；メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトメチル基含有オリゴマー；３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー等の３−グリジドキシプロピル基含有のコポリマー；３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメタクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー；３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のアクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー；ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のビニル基含有オリゴマー；３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー等のアミノ基含有のコポリマーなど。

シラン化合物（Ｄ）は、下記式（ｄ１）で表されるシラン化合物であってもよい。粘着剤組成物が下記式（ｄ１）で表されるシラン化合物を含むと、密着性（又は接着性）をさらに向上できるため、耐剥がれ性に良好な粘着剤層を形成できる。特に、高温環境下で、粘着剤層を透明電極やガラスに適用（又は積層）した場合においても、密着性（又は接着性）を維持でき、高い耐久性を示すことができる。

（式中、Ｂは、炭素数１〜２０のアルカンジイル基又は炭素数３〜２０の二価の脂環式炭化水素基を示し、前記アルカンジイル基及びＲ前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されてもよく、Ｒ^７は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、Ｒ^ｄ10、Ｒ^ｄ11及びＲ^ｄ12はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を示す）

式（ｄ１）において、Ｂは、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基などの炭素数１〜２０のアルカンジイル基；シクロブチレン基（例えば１，２−シクロブチレン基）、シクロペンチレン基（例えば１，２−シクロペンチレン基）、シクロヘキシレン基（例えば１，２−シクロへキシレン基）、シクロオクチレン基（例えば１，２−シクロオクチレン基）などの炭素数３〜２０の二価の脂環式炭化水素基、又はこれらのアルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ２−が、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換された基を示す。好ましいＢは、炭素数１〜１０のアルカンジイル基である。Ｒ^ｄ７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、Ｒ^ｄ10、Ｒ^ｄ11及びＲ^ｄ12はそれぞれ独立して、前記Ｒ^ｄ７に例示の炭素数１〜５のアルキル基、又はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基を示す。好ましいＲ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、Ｒ^ｄ10、Ｒ^ｄ11及びＲ^ｄ12はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルコキシ基である。これらのシラン化合物（Ｄ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

具体的な前記式（ｄ１）で表されるシラン化合物としては、例えば、（トリメトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）プロパン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ブタン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ブタン、１，５−ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリエトキシシリル）ペンタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，６−ビス（トリエトキシシリル）ヘキサン、１，６−ビス（トリプロポキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタン、１，８−ビス（トリエトキシシリル）オクタン、１，８−ビス（トリプロポキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−５アルコキシシリル）Ｃ１−１０アルカン；ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジメトキシエチルシリル）エタン、１，４−ビス（ジメトキシメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジメトキシエチルシリル）ブタン、１，６−ビス（ジメトキシメチルシリル）ヘキサン、１，６−ビス（ジメトキシエチルシリル）ヘキサン、１，８−ビス（ジメトキシメチルシリル）オクタン、１，８−ビス（ジメトキシエチルシリル）オクタンなどのビス（ジＣ１−５アルコキシＣ１−５アルキルシリル）Ｃ１−１０アルカン；１，６−ビス（メトキシジメチルシリル）ヘキサン、１，８−ビス（メトキシジメチルシリル）オクタンなどのビス（モノＣ１−５アルコキシ−ジＣ１−５アルキルシリル）Ｃ１−１０アルカンなどが挙げられる。これらのうち、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ブタン、１，５−ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−３アルコキシシリル）Ｃ１−１０アルカンが好ましく、特に、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタンが好ましい。

シラン化合物（Ｄ）の含有量は、樹脂（Ａ）（好ましくは（メタ）アクリル系樹脂（Ａ））１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０３〜５質量部であり、より好ましくは０．０５〜２質量部であり、さらに好ましくは０．１〜１質量部である。上記上限値以下であると、粘着剤層からのシラン化合物（Ｄ）のブリードアウトの抑制に有利であり、上記下限値以上であると、粘着剤層と、金属層やガラス基板等との密着性（又は接着性）を向上しやすくなり、耐剥がれ性などの向上に有利である。

粘着剤組成物は、さらに帯電防止剤を含有していてもよい。
帯電防止剤としては、界面活性剤、シロキサン化合物、導電性高分子、イオン性化合物等が挙げられ、イオン性化合物であることが好ましい。イオン性化合物としては、慣用のものが挙げられる。イオン性化合物を構成するカチオン成分としては、有機カチオン、無機カチオンなどが挙げられる。有機カチオンとしては、例えばピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。無機カチオンとしては、例えばリチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、セシウムカチオンなどのアルカリ金属カチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオンなどのアルカリ土類金属カチオンなどが挙げられる。特に（メタ）アクリル系樹脂との相溶性の観点からピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、リチウムカチオン、カリウムカチオンが好ましい。イオン性化合物を構成するアニオン成分としては、無機アニオン及び有機アニオンのいずれでもよいが、帯電防止性能の点で、フッ素原子を含むアニオン成分が好ましい。フッ素原子を含むアニオン成分としては、例えばヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ_６−）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ−］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ_２）_２Ｎ−］、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ−]などが挙げられる。これらのイオン性化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。特に、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ−］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ_２）_２Ｎ−］、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ−]が好ましい。
粘着剤組成物から形成される粘着剤層の帯電防止性能の経時安定性の点で、室温で固体であるイオン性化合物が好ましい。

帯電防止剤の含有量は、樹脂（Ａ）（好ましくは（メタ）アクリル系樹脂（Ａ））１００質量部に対して、例えば、０．０１〜２０質量部、好ましくは０．１〜１０質量部、さらに好ましくは１〜７質量である。

粘着剤組成物は、溶剤、架橋触媒、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、顔料、防錆剤、無機フィラー、光散乱性微粒子等の添加剤を１種又は２種以上含有することができる。

本発明の光学フィルムは、２種以上の光選択吸収層を有していてもよい。２種以上の光選択吸収層を有する場合、少なくとも１つは光選択吸収機能を有する粘着剤層であることが好ましい。

＜酸素遮蔽層＞
酸素遮蔽層は、上記式（２）を満たす。
酸素遮蔽層の厚みは、通常０．１μｍ〜５００μｍであり、好ましくは１μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは５μｍ〜１００μｍであり、特に好ましくは５μｍ〜５０μｍである。
本発明の光学フィルムは、２種以上の酸素遮蔽層を有していてもよい。２種以上の酸素遮蔽層を有する場合、その合計の厚みは、通常０．２μｍ〜５００μｍであり、好ましくは１μｍ〜２００μｍである。また、２種以上の酸素遮蔽層を有する場合、２種以上の酸素遮蔽層の合計が上記式（２）を満たせばよく、それぞれの酸素遮蔽層が上記式（２）を満たす層であることが好ましい。

酸素遮蔽層は、ポリエステル系樹脂（Ｅ）、ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）、ポリアミド系樹脂（Ｇ）、ポリイミド系樹脂（Ｈ）及びセルロース系樹脂（Ｉ）から選ばれる少なくとも１種の樹脂から形成される樹脂層であることが好ましい。

ポリエステル系樹脂（Ｅ）は、主鎖にエステル結合の繰り返し単位を持つ重合体樹脂であり、一般的には多価カルボン酸またはその誘導体と多価アルコールまたはその誘導体との縮合重合によって得られる。
ポリエステルを与える多価カルボン酸またはその誘導体としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、５−ナトリウムスルホンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸などの脂肪族ジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、パラオキシ安息香酸などのオキシカルボン酸、並びに、それらの誘導体を挙げることができる。ジカルボン酸の誘導体としてはたとえばテレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸２−ヒドロキシエチルメチルエステル、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、ダイマー酸ジメチルなどのエステル化物を挙げることができる。中でも、成型性、取り扱い性の点で、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、および、それらのエステル化物が好ましく用いられる。
ポリエステルを与える多価アルコールまたはその誘導体としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジヒドロキシ化合物、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環族ジヒドロキシ化合物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳなどの芳香族ジヒドロキシ化合物、並びに、それらの誘導体が挙げられる。中でも、成型性、取り扱い性の点で、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールが好ましく用いられる。
ポリエステル系樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチルナフタレートなどが挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートなどが好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができ、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、酢酸ビニルと共重合可能な単量体（例えば不飽和カルボン酸、オレフィン、ビニルエーテル、不飽和スルホン酸、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミドなど）と酢酸ビニルとの共重合体などが挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）のケン化度は、８５〜１００モル％であることが好ましく、９８モル％以上であることがより好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタールなどであってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１５００〜５０００である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６に準拠して求めることができる。

ポリアミド系樹脂（Ｇ）は、主鎖として繰り返し単位にアミド結合を含む重合体樹脂であり、例えば芳香環骨格がアミド結合により結合された芳香族ポリアミド（アラミド）や脂肪族骨格がアミド結合により結合された脂肪族ポリアミド等がある。一般的には多価カルボン酸またはその誘導体と多価アミンとの重合反応等により得ることができる。
ポリアミドを与える多価カルボン酸またはその誘導体としては、テレフタル酸クロライド、２−クロロ−テレフタル酸クロライド、イソフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライドなどが挙げられる。
ポリアミドを与える多価アミンとしては、例えば４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられるが、好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、１，４−シクロヘキサンジアミン、１，４−ノルボルネンジアミンが挙げられる。

ポリイミド系樹脂（Ｈ）としては、繰り返し単位にイミド結合を含む樹脂であり、ジアミン類とテトラカルボン酸二無水物とを出発原料として、重縮合によって得られる縮合型ポリイミドが一般的である。ジアミン類としては、芳香族ジアミン類、脂環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類等を用いることができる。テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を用いることができる。ジアミン類及びテトラカルボン酸二無水物はそれぞれ、単独で用いてもよいし、２種以上を併用して用いてもよい。テトラカルボン酸二無水物に代えて、酸クロライド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体から選ばれるテトラカルボン酸化合物を出発原料として用いてもよい。

セルロース系樹脂（Ｉ）としては、好ましくはセルロースエステル系樹脂、すなわち、セルロースにおける水酸基の少なくとも一部が酢酸エステル化されている樹脂であり、一部が酢酸エステル化され、一部が他の酸でエステル化されている混合エステルであってもよい。セルロースエステル系樹脂は、好ましくはアセチルセルロース系樹脂である。アセチルセルロース系樹脂の具体例として、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等を挙げることができる。
アセチルセルロースの原料綿は発明協会公開技法２００１−１７４５等で公知の木材パルプや綿リンターなどのセルロース原料を用いることができる。また、アセチルセルロースは、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、右田他、１９６８年）等に記載の方法で合成することができる。

これらの樹脂には、さらに、溶剤、可塑剤、有機酸、色素、帯電防止剤、界面活性剤、滑剤、難燃剤、フィラー、ゴム粒子、位相差調整剤を含んでいてもよい。
酸素遮蔽層は、これらの樹脂から公知の成形加工法を用いて形成できるフィルムであることが好ましい。成形加工法としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。

酸素遮蔽層は、ポリエステル系樹脂（Ｅ）、ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）及びポリイミド系樹脂（Ｈ）から選ばれる少なくとも１種の樹脂から形成される層であることが好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光フィルムであることがより好ましい。
偏光フィルムは、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するフィルムであり、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムを用いることができる。二色性色素としては、例えば、ヨウ素や二色性有機染料などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、酢酸ビニルと共重合可能な単量体（例えば不飽和カルボン酸、オレフィン、ビニルエーテル、不飽和スルホン酸、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミドなど）と酢酸ビニルとの共重合体などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタールなどであってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常、１０００〜１００００、好ましくは１５００〜５０００である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６に準拠して求めることができる。

通常、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものを偏光フィルムの原反フィルムとして用いる。ポリビニルアルコール系樹脂は、公知の方法で製膜することができる。原反フィルムの厚みは、通常１〜１５０μｍであり、延伸のしやすさなどを考慮すれば、好ましくは１０μｍ以上である。

偏光フィルムは、例えば、原反フィルムに対して、一軸延伸する工程、二色性色素でフィルムを染色してその二色性色素を吸着させる工程、ホウ酸水溶液でフィルムを処理する工程、及び、フィルムを水洗する工程が施され、最後に乾燥して製造される。偏光子２の厚みは、通常１〜３０μｍであり、粘着剤層付光学フィルム１の薄膜化の観点から、好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１５μｍ以下、特に１０μｍ以下である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させてなる偏光子２は、原反フィルムとしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムの単独フィルムを用い、このフィルムに対して一軸延伸処理及び二色性色素の染色処理を施す方法（方法（１）とする）のほか、基材フィルムにポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液（水溶液等）を塗工、乾燥させてポリビニルアルコール系樹脂層を有する基材フィルムを得た後、これを基材フィルムごとに一軸延伸し、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂層に対して二色性色素の染色処理を施し、次いで基材フィルムを剥離除去する方法（方法（２）とする）によっても得ることができる。基材フィルムとしては、熱可塑性樹脂からなるフィルムを用いることができ、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂などの環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などからなるフィルムである。上記方法（２）を利用すると、薄膜の偏光フィルムの作製が容易となり、例えば厚み７μｍ以下の偏光フィルムの作製であっても容易に行うことができる。

偏光フィルムの少なくとも一方の面は、接着剤を介して保護フィルムが設けられていることが好ましい。
接着剤としては、公知の接着剤が用いられ、水系接着剤であってもよいし、活性エネルギー線硬化型接着剤であってもよい。

水系接着剤としては、慣用の水系接着剤（例えば、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤、アルデヒド化合物、エポキシ化合物、メラミン系化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、アミン化合物、多価金属塩等の架橋剤など）が挙げられる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤を好適に用いることができる。なお、水系接着剤を使用する場合は、偏光フィルムと保護フィルムとを貼合した後、水系接着剤中に含まれる水を除去するために乾燥させる工程を実施することが好ましい。乾燥工程後、例えば２０〜４５℃程度の温度で養生する養生工程を設けてもよい。水系接着剤から形成される接着剤層は、通常０．００１〜５μｍである。

上記活性エネルギー線硬化性接着剤とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射することで硬化する接着剤をいい、例えば、重合性化合物及び光重合開始剤を含む硬化性組成物、光反応性樹脂を含む硬化性組成物、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含む硬化性組成物等が挙げられ、好ましくは紫外線硬化性接着剤である。

活性エネルギー線硬化性接着剤を用いる場合は、偏光フィルムと保護フィルムとを貼合した後、必要に応じて乾燥工程を行い、次いで活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性接着剤を硬化させる硬化工程を行う。活性エネルギー線の光源は特に限定されないが、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する紫外線が好ましい。活性エネルギー線硬化性接着剤から形成される接着剤層は、通常０．１〜１０μｍである。

偏光フィルムと保護フィルムとを貼合する方法としては、これらの少なくともいずれか一方の貼合面にケン化処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面活性化処理を施す方法などが挙げられる。偏光フィルムの両面に保護フィルムが貼合される場合、これらの樹脂フィルムを貼合するための接着剤は、同種の接着剤あってもよいし異種の接着剤であってもよい。

保護フィルムとしては、透光性を有する熱可塑性樹脂から形成されるフィルムであることが好ましい。具体的には、ポリオレフィン系樹脂；セルロース系樹脂；ポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；又はこれらの混合物、共重合物等からなるフィルムが揚げられる。偏光フィルムの両面に保護フィルムが設けられる場合、用いられる保護フィルムは、異なる熱可塑性樹脂からなるフィルムであってもよいし、同じ熱可塑性樹脂からなるフィルムであってもよい。
保護フィルムが偏光フィルムの少なくとも一方の面に積層される場合、保護フィルムはポリオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂からなる保護フィルムであることが好ましい。これらのフィルムを用いることで、偏光フィルムの光学特性を損なうことなく高温環境における偏光フィルムの収縮を有効に抑制することができる。なお、保護フィルムも酸素遮蔽層であってもよい。

偏光板の好ましい構成としては、偏光フィルムの少なくとも一方の面に接着剤層を介して保護フィルムが積層された偏光板である。保護フィルムが偏光フィルムの一方の面にしか積層されない場合、視認側に積層されることがより好ましい。視認側に積層された保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂又はシクロオレフィン系樹脂からなる保護フィルムであることが好ましい。保護フィルムは未延伸フィルムであってもよいし、任意の方向に延伸され位相差を有していてもよい。視認側に積層された保護フィルムの表面にはハードコート層やアンチグレア層などの表面処理層が設けられていてもよい。
保護フィルムが偏光フィルムの両面に積層される場合、パネル側（視認側と反対側）の保護フィルムは、トリアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂からなる保護フィルム又は位相差フィルムであることが好ましい。位相差フィルムは後述するゼロレタデーションフィルムであってもよい。

また、酸素遮蔽層は、樹脂層に形成される表面処理層であってもよい。表面処理層としては、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上の硬度を有するハードコート層であることが好ましく、３Ｈ以上の硬度を有するハードコート層であることがより好ましい。表面処理層は、一般的に光学フィルムの最表面に積層される。
ハードコート層は、例えば、熱硬化性組成物組成物から形成される層、活性エネルギー線（好ましくは紫外線）硬化性樹脂組成物から形成される層が挙げられ、紫外線硬化性樹脂組成物から形成される層であることが好ましい。
紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線の照射によりラジカル重合反応で硬化する化合物又は紫外線の照射によりカチオン重合反応で硬化する化合物を含む組成物等が挙げられ、ラジカル重合性（メタ）アクリル系化合物を含む組成物であることが好ましい。具体的には、特開２００２−２６５６５０公報に記載の組成物が挙げられる。

＜光学積層体＞
本発明の光学フィルム及び本発明の光学フィルムを含む光学積層体の層構成の一例の断面模式図を図１〜図４に示した。
本発明の光学フィルムは、少なくとも１層の光選択吸収層と少なくとも１層の酸素遮蔽層とを含む。本発明の光学フィルムは、例えば、図１に示されるように光選択吸収層１０と酸素遮蔽層２０とは直接積層されていてもよいし、光選択吸収層１０と酸素遮蔽層２０との間にその他の層を含んでいてもよい。
図２に記載の光学積層体１Ａは、保護フィルム９０、接着剤層３０ａ、酸素遮蔽層２０、接着剤層３０ａ、保護フィルム９０、光選択吸収層１０が積層された光学積層体である。酸素遮蔽層２０がポリビニルアルコール系樹脂フィルムから形成される偏光フィルムである場合は、図２に記載の光学積層体１Ａにおける「保護フィルム９０、接着剤層３０ａ、酸素遮蔽層２０、保護フィルム９０」の順に積層された積層体は、光学フィルム４０の一つである偏光板１００を兼ねる。なお、保護フィルム９０は位相差を有する位相差フィルムであってもよいし、酸素遮蔽層であってもよい。
図３に記載の光学積層体１Ｂは、保護フィルム９０、接着剤層３０ａ、酸素遮蔽層２０、接着剤層３０ａ、保護フィルム９０、光選択吸収層１０、光学フィルム４０、粘着剤層３０が積層された光学積層体であって、光学フィルム４０が多層構造である光学積層体である。粘着剤層３０は、例えば、その他の層や液晶セルと貼合することができる。
図４に記載の光学積層体１Ｃは、保護フィルム９０、接着剤層３０ａ、酸素遮蔽層２０、接着剤層３０ａ、保護フィルム９０、光選択吸収層１０、光学フィルム４０、粘着剤層３０、発光素子１１０（液晶セル、ＯＬＥＤセル）が積層された光学積層体である。
酸素遮蔽層は、光選択吸収層よりも視認側（発光素子とは反対側）に位置することが好ましい。

光学フィルム４０は、光線を透過、反射、吸収する等の光学機能を有するフィルムであり、単層のフィルムであってもよいし、多層のフィルムであってもよい。光学フィルム４０は、例えば、偏光フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルム、ウィンドウフィルム等が挙げられ、偏光フィルム、位相差フィルム、ウィンドウフィルムまたはこれらの積層フィルムであることが好ましい。

位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであって、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを１．０１〜６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。中でも、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムであることが好ましい。なお、本明細書において、位相差フィルムは、ゼロレタデーションフィルムを含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムや、無機層状化合物の塗布によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、温度補償型位相差フィルムと称されるフィルム、ＪＸ液晶フィルム株式会社から販売されている「ＮＨフィルム」（商品名；棒状液晶が傾斜配向したフィルム）、富士フイルム株式会社から販売されている「ＷＶフィルム」（商品名；円盤状液晶が傾斜配向したフィルム）、住友化学株式会社から販売されている「ＶＡＣフィルム」（商品名；完全二軸配向型のフィルム）、「new VACフィルム」（商品名；二軸配向型のフィルム）などが挙げられる。

ゼロレタデーションフィルムとは、正面レタデーションＲ_eと厚み方向のレタデーションＲ_thとが、ともに−１５〜１５ｎｍであり、光学的に等方なフィルムをいう。ゼロレタデーションフィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（鎖状ポリオレフィン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂など）またはポリエチレンテレフタレート系樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられ、レタデーション値の制御が容易で、入手も容易であるという点で、セルロース系樹脂またはポリオレフィン系樹脂が好ましい。ゼロレタデーションフィルムは、保護フィルムとしても用いることができる。ゼロレタデーションフィルムとしては、富士フイルム株式会社から販売されている“Ｚ−ＴＡＣ”（商品名）、コニカミノルタ株式会社から販売されている“ゼロタック（登録商標）”、日本ゼオン株式会社から販売されている“ＺＦ−１４”（商品名）などが挙げられる。

本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムは、重合性液晶化合物を硬化させてなる位相差フィルムが好ましい。

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、
第一の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム、
第二の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム、
第三の形態：棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム、
第四の形態：円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム、
第五の形態：円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルムがあげられる。

たとえば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられる光学フィルムとしては、第一の形態、第二の形態、第五の形態が好適に用いられる。またはこれらを積層させて用いてもよい。

位相差フィルムが、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層（以下、「光学異方性層」と称する場合がある）である場合、位相差フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式（７）および式（８）を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （７）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （８）
本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムが第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式（７）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。さらに１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１５０が好ましい。

位相差フィルムが、光学異方性層を有するフィルムである場合の重合性液晶化合物としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報、特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１１−１６２６７８号、特開２０１６−８１０３５号公報、国際公開第２０１７／０４３４３８号公報及び特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差フィルムを製造する方法は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法が挙げられる。

第２の形態の場合、正面位相差値Ｒｅ（５５０）は０〜１０ｎｍの範囲に、好ましくは０〜５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Ｒ_thは、−１０〜−３００ｎｍの範囲に、好ましくは−２０〜−２００ｎｍの範囲に調整すればよい。厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Ｒ_thは、面内の進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ₅₀と面内の位相差値Ｒ₀ とから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒ_thは、面内の位相差値Ｒ₀、進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ_５0、位相差フィルムの厚みｄ、及び位相差フィルムの平均屈折率ｎ₀から、以下の式 (１０)〜（１２）によりｎ_x、ｎ_y及びｎ_z を求め、これらを式（９）に代入して、算出することができる。

Ｒ_ｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］×ｄ （９）
Ｒ_０ ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ （１０）
Ｒ_5０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１１）
(ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ)／３＝ｎ_０ （１２）
ここで、
φ＝sin^−１〔sin（４０°）／ｎ_０〕
ｎ_ｙ'＝ｎ_ｙ×ｎ_ｚ／〔ｎ_ｙ ^２×sin^２（φ）＋ｎ_ｚ ^２×cos^２（φ）〕^１／２

位相差フィルムは、二以上の層を有する多層フィルムであってもよい。例えば、位相差フィルムの片面又は両面に保護フィルムが積層されたものや、二以上の位相差フィルムが粘着剤又は接着剤を介して積層されたものが挙げられる。

光学フィルム４０が二以上の位相差フィルムが積層された多層フィルムである場合、本発明の光学フィルムを含む光学積層体の構成としては、図３に示したように、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差層５０と透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差層７０とを、接着剤又は粘着剤６０を介して積層した光学フィルム４０を含む構成が挙げられる。また、図４に示したように、１／４波長位相差層５０ａとポジティブＣ層８０とを、接着剤層又は粘着剤層を介して積層した光学フィルム４０を含む構成も挙げられる。

図３の１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差層５０、および透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差層７０は上記第一の形態の光学フィルムであっても第五の形態の光学フィルムであってもよい。図３の構成の場合、少なくとも片方が第五の形態であることがより好ましい。

図４の構成の場合、１／４波長位相差層５０ａは上記第一の形態の光学フィルムであることが好ましく、さらに式（７）、式（８）を満たすことがより好ましい。

ウィンドフィルムとは、フレキシブルディスプレイ等のフレキシブル液晶表示装置における前面板を意味し、一般的には表示装置の最表面に配置される。ウィンドウフィルムは、例えばポリイミド樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられる。ウィンドウフィルムは、例えばポリイミド及びシリカを含む樹脂フィルムのような、有機材料と無機材料のハイブリッドフィルムであってもよい。また、ウィンドウフィルムはその表面に、表面硬度や防汚性、耐指紋性を機能付与するためのハードコート層が配置されていてもよい。ウィンドフィルムとしては、たとえば、特開２０１７―９４４８８号記載のフィルム等が挙げられる。

位相差フィルムの厚みは、通常０．１〜１００μｍである。
位相差フィルムが多層である場合は、合計の厚みが、０．２〜２００μｍであればよい。

偏光フィルムは、上述の酸素遮蔽層で記載した偏光フィルムと同様のものが挙げられる。
偏光板とパネルとの間には、図３又は図４に示すように、さらにその他の層又はフィルムが積層されていてもよい。有機ＥＬディスプレイ用の円偏光板として用いる場合は、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層とを有する位相差層、逆波長分散性の１／４波長層が積層されていることが好ましい。位相差層は薄膜化の観点から液晶系位相差フィルムであることが好ましい。

光選択吸収層１０が光選択吸収機能を有する粘着剤層である場合、光選択吸収層１０の外面に積層されるセパレートフィルム（剥離フィルム）を含んでいてもよい。このセパレートフィルムは通常、光選択吸収層１０の使用時（例えば光学フィルム４０上への積層時）に剥離除去される。セパレートフィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアレート等の各種樹脂からなるフィルムの光選択吸収層１０が形成される面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものであることができる。

光選択吸収層１０が光選択吸収機能を有する粘着剤層である場合、上記光粘着剤組成物を構成する各成分を溶剤に溶解又は分散して溶剤含有の粘着剤組成物とし、次いで、これを酸素遮蔽層２０の表面に塗布・乾燥して光選択吸収層１０を形成することによって、本発明の光学フィルムを得ることができる。また本発明の光学フィルムは、セパレートフィルムの離型処理面に上と同様にして光選択吸収層１０を形成し、この光選択吸収層１０を酸素遮蔽層２０の表面に積層（転写）することによっても得ることができる。酸素遮蔽層および光選択吸収層の間には、その他のフィルム又は層を介して積層されていてもよい。直接積層されていない場合であっても、本発明の光学フィルムは優れた光学特性および耐久性を発現することができる。

本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置に好適に用いることができる。本発明の光学フィルムの好ましい形態としては、偏光板である。本発明の光学フィルムである偏光板を有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置に配置すると表示性能に優れ、かつ耐久性良好な表示装置を提供できる。

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す％及び部は、特に断りのない限り質量基準である。

＜偏光フィルムの作成＞
[製造例１]
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％、厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム〔（株）クラレ製の商品名「クラレビニロン ＶＦ−ＰＥ♯３０００」〕を、３７℃の純水に浸漬した後、ヨウ素とヨウ化カリウムとを含む水溶液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／水（質量比）＝０．０４／１．５／１００）に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウムとホウ酸とを含む水溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／水（質量比）＝１２／３．６／１００）に５６．５℃で浸漬した。フィルムを１０℃の純水で洗浄した後、８５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向された厚み約１２μｍの偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色及びホウ酸処理の工程で行い、トータルの延伸倍率は５．３倍であった。

[製造例２]
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％、厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルム〔（株）クラレ製の商品名「クラレビニロン ＶＦ−ＰS♯７５００」〕を、３７℃の純水に浸漬した後、ヨウ素とヨウ化カリウムとを含む水溶液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／水（重量比）＝０．０４／１．５／１００）に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウムとホウ酸とを含む水溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／水（重量比）＝１２／３．６／１００）に５６．５℃で浸漬した。フィルムを１０℃の純水で洗浄した後、８５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向された厚み約２８μｍの偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色及びホウ酸処理の工程で行い、トータルの延伸倍率は５．３倍であった。

＜酸素遮蔽層＞
ＰＥＴ：厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）から入手した商品名“Ｒ６４Ｓ”）
ＰＶＡ：厚み２８μｍの偏光フィルム（製造例２で作製）
ＣＯＰ：厚み５０μｍのシクロオレフィンフィルム（日本ゼオン（株）から入手した商品名“ＺＢ―１２”）

＜酸素透過度の評価＞
ＧＴＲ テック（株）社製差圧式ガス透過率測定装置（ＧＴＲ-３０ＡＳ型）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１（差圧法）に準拠して、「ＰＥＴ」、「ＰＶＡ」及び「ＣＯＰ」の酸素透過度をそれぞれ評価した。測定条件は以下のとおりである。結果を表１に示す。なお、表１中における酸素透過度の単位はｃｍ３/(ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ)である。

測定温度：３０℃
透過面積：１５．２ｃｍ２(φ４４ｍｍ)
透過ガス：酸素(超高純度)
供給ガス圧：２ｋｇｆ/ｃｍ２(差圧：２２３ｃｍＨｇ)

＜光選択吸収性化合物の合成＞
（合成例１）光選択吸収性化合物（１）の合成

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成した式（ａａ）で表される化合物１０部、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６部、シアノ酢酸２−エチルヘキシル（ＤＩＰＥＡと称する場合がある；東京化成工業株式会社製）６．９部、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０部を仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５部を滴下漏斗から１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、式（ａａ１）で表される光選択吸収性化合物（１）を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末として光選択吸収性化合物（１）を４．６部得た。収率は５０％であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、光選択吸収性化合物１が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８７−０．９４（ｍ、６Ｈ）、１．３２−１．６７（ｍ、８Ｈ）、１．５９−１．６６（ｍ、２Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．００（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、２Ｈ）、７．８７（ｄ、２Ｈ）

＜グラム吸光係数ε測定＞
得られた光選択吸収性化合物（１）のグラム吸光係数を測定するために、光選択吸収性化合物（１）を２−ブタノンに溶解させた。得られた溶液（濃度；0.006g・Ｌ^-1）を１ｃｍの石英セルに入れ、石英セルを分光光度計ＵＶ−２４５０（株式会社島津製作所製）にセットし、ダブルビーム法により１ｎｍステップ３００〜８００ｎｍの波長範囲で吸光度を測定した。得られた吸光度の値と、溶液中の光吸収性化合物濃度、石英セルの光路長から、波長ごとのグラム吸光係数を下記式を用いて算出した。
ε（λ）＝Ａ（λ）／ＣＬ
〔式中、ε（λ）は波長λｎｍにおける化合物のグラム吸光係数Ｌ／（ｇ・ｃｍ）を表し、Ａ（λ）は波長λｎｍにおける吸光度を表し、Ｃは濃度ｇ／Ｌを表し、Ｌは石英セルの光路長ｃｍを表す。〕
光選択吸収性化合物（１）の吸収極大波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４０５）の値は４７Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４４０）の値は０．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下であり、ε（４０５）／ε（４４０）の値は８０以上であった。

（合成例２）（メタ）アクリル系樹脂の調製
以下の方法により（メタ）アクリル系樹脂を調製した。重量平均分子量および数平均分子量の測定は、ＧＰＣ装置にカラムとして「ＴＳＫ ｇｅｌ ＸＬ（東ソー（株）製）」を４本、および「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２（昭和電工（株）製）」を１本、計５本を直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて、試料濃度５ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で行い、標準ポリスチレン換算により算出した。

冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、アクリル酸ブチル７０．４部、アクリル酸メチル２０．０部、アクリル酸２−フェノキシエチル８．０部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル１．０部およびアクリル酸０．６部と混合して得られた溶液を仕込んだ。反応容器内の空気を窒素ガスで置換した後、内温を６０℃にした。その後、アゾビスイソブチロニトリル０．１２部を酢酸エチル１０部に溶解させた溶液を添加した。１時間同温度で保持した後、内温を５４〜５６℃に保ちながら、添加速度１７．３部／Ｈｒで酢酸エチルを、重合体の濃度がほぼ３５％となるように反応容器内へ連続的に加えた。酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまで内温を５４〜５６℃に保持した後、酢酸エチルを加えて重合体の濃度が２０％となるように調整して、（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液を得た。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量Ｍｗは１３９万、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比Ｍｗ／Ｍｎは５．３２であった。

（合成例３）粘着剤組成物の調製
上記で得られた（メタ）アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、該溶液の固形分１００部に対して、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％）０．４部、シラン化合物（ＫＢＭ−４０３）０．４部、及び合成例１で得られた光選択吸収性化合物（１）２部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物を得た。上記架橋剤の配合量は、有効成分としての重量部数である。

合成例３で使用した架橋剤及びシラン化合物の詳細は以下のとおりである。
架橋剤：トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチ
ル溶液（固形分濃度７５％）、東ソー株式会社から入手した商品名「コロネートL」。
シラン化合物：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社から入手した商品名「ＫＢＭ４０３」。

＜光選択吸収層（粘着剤層）の作製＞
上記で調製した各粘着剤組成物を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した商品名「ＰＬＲ−３８２１９０」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）の光選択吸収層（１）を作製した。

（実施例１）
酸素遮蔽層の「ＰＥＴ」の片面にコロナ放電処理を施した後、上記で作製した光選択吸収層（１）のセパレートフィルムとは反対側の面（粘着剤層面）をラミネーターにより貼り合わせた後、温度２３℃、相対湿度６５％の条件で７日間養生し、酸素遮蔽層と光選択吸収層とを含む光学フィルム（粘着剤付き光学フィルム）（１）を得た。次いで、粘着剤付き光学フィルムを３０mm×３０mmの大きさに裁断し、無アルカリガラス〔コーニング社製の商品名“ＥＡＧＬＥ ＸＧ”〕に貼合しこれをサンプルとした。作製したサンプルの酸素遮蔽層を上記に記載の方法で測定した。また、作製したサンプルの波長３００〜８００ｎｍ範囲の吸光度を、分光光度計（ＵＶ−２４５０：株式会社島津製作所製）を用いて測定した。結果を表１に示す。なお、無アルカリガラス単体の波長４５０ｎｍにおける吸光度は０であった。

＜吸光度保持率の評価＞
吸光度測定後のサンプルを、６３℃５０％相対湿度条件でサンシャインウェザーメーター（スガ試験機株式会社製）に２４時間投入し、２４時間の耐候性試験を実施した。取り出したサンプルの吸光度を上記と同様の方法で測定した。測定した吸光度から、下記式に基づき、４０５ｎｍにおけるサンプルの吸光度保持率を求めた。結果を表１に示す。吸光度保持率が高いほど、光選択吸収機能の劣化がなく良好な耐候性を示す。
吸光度保持率＝耐久試験後のＡ（４０５） / 耐久試験前のＡ（４０５）×１００

（実施例２）
酸素遮蔽層を「ＰＥＴ」の代わりに、「ＰＶＡ」を用いた以外は実施例１と同様に操作を行い、光学フィルム（２）を得た。得られた光学フィルム（２）を上記と同様の方法を用いて、酸素透過度の測定、吸光度の測定、吸光度保持率の評価を行った。結果を表１に示す。

（比較例１）
酸素遮蔽層を「ＰＥＴ」の代わりに、「ＣＯＰ」を用いた以外は実施例１と同様に操作を行い、光学フィルム（３）を得た。得られた光学フィルム（３）を上記と同様の方法を用いて、酸素透過度の測定、吸光度の測定、吸光度保持率の評価を行った。結果を表１に示す。

（実施例３）
合成例１で得られた偏光フィルム（酸素透過度は１０以下であった）の片面に、厚み２５μｍのトリアセチルセルロースフィルムからなる透明保護フィルム（コニカミノルタ株式会社製：商品名「ＫＣ２ＵＡ」）を、ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液からなる接着剤を介して貼合した。次に、偏光フィルムにおけるトリアセチルセルロースフィルムとは反対側の面に、厚み２３μｍの環状ポリオレフィンからなるゼロ位相差フィルム（日本ゼオン株式会社製：商品名「ＺＥＯＮＯＲ」）を、ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液からなる接着剤を介して貼合し、偏光板を作製した。
作成した偏光板を酸素遮蔽層とした以外は、実施例１と同様に操作を行い、光学フィルム（４）を得た。得られた光学フィルム（４）を上記と同様の方法を用いて、酸素透過度の測定、吸光度の測定、吸光度保持率の評価を行った。結果を表１に示す。

本発明の光学フィルムは、波長４０５ｎｍ付近の光に対して良好な吸収性能を有する。そのため、本発明の光学フィルムを位相差フィルムや有機ＥＬ素子に積層すると、本発明の光学フィルムが波長４０５ｎｍ付近の光を吸収し、位相差フィルムや有機ＥＬ素子への波長４０５ｎｍ付近の光を遮ることができ、短波長の可視光から位相差フィルムや有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができる。
本発明の光学フィルムは、酸素透過度が小さいため、耐候性試験後であっても波長４０５ｎｍ付近の光吸収機能が良好（吸光度保持率が良好）であり、良好な耐候性（耐久性）を有する。そのため、短波長の可視光による位相差フィルム等の劣化の抑制を維持することができる。本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いた場合に、より劣化を抑制することができる。

本発明の光学フィルムは、液晶パネル及び液晶表示装置に好適に用いられる。

１ 光学フィルム
１Ａ、１Ｂ、１Ｃ 光学積層体
１０ 光選択吸収層
２０ 酸素遮蔽層
３０ 粘着剤層
３０ａ 接着剤層
４０ 光学フィルム
５０、５０ａ １／４波長位相差層
６０ 接着剤層
７０ １／２波長位相差層
８０ ポジティブＣ層
９０ 保護フィルム
１００ 偏光板
１１０ 発光素子

Claims (13)

1. 少なくとも１層の光選択吸収層と少なくとも１層の酸素遮蔽層とを含む光学フィルムであって、かつ下記式（１）及び式（２）を満たす光学フィルム。
   Ａ（４０５）≧０．５ （１）
   酸素透過度≦５００ （２）
   ［式（１）中、Ａ（４０５）は、波長４０５ｎｍにおける吸光度を表す。酸素透過度の単位は、ｃｍ３/(ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ)である。］
2. 下記式（３）を満たす請求項１に記載の光学フィルム。
   Ａ（４４０）≦０．１ （３）
   ［式（１）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
3. さらに、式（４）を満たす請求項１又は２に記載の光学フィルム。
   Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （４）
   ［式（４）中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける吸光度を表し、Ａ（４４０）は波長４４０ｎｍにおける吸光度を表す。］
4. 光選択吸収層が、光選択吸収機能を有する粘着剤層である請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. 光選択吸収層が、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）、架橋剤（Ｂ）及び光選択吸収化合物（Ｃ）を含む粘着剤組成物から形成される粘着剤層である請求項４に記載の光学フィルム。
6. 架橋剤（Ｂ）の含有量が、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１５質量部である請求項５に記載の光学フィルム。
7. 光選択吸収化合物（Ｃ）の含有量が、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部である請求項５又は６に記載の光学フィルム。
8. 光選択吸収化合物（Ｃ）が、下記式（５）を満たす化合物である請求項５〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
   ε（４０５）≧２０ （５）
   〔式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。〕
9. 光選択吸収化合物（Ｃ）が、下記式（６）を満たす化合物である請求項８に記載の光学フィルム。
   ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （６）
   ［式（６）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光係数を表す。］
10. 光選択吸収化合物（Ｃ）が、分子内にメロシアニン構造を有する化合物である請求項５〜９のいずれかに記載の光学フィルム。
11. 酸素遮蔽層は、ポリエステル系樹脂（Ｅ）ポリビニルアルコール系樹脂（Ｆ）、ポリアミド系樹脂（Ｇ）、ポリイミド系樹脂（Ｈ）及びセルロース系樹脂（Ｉ）から選ばれる少なくとも１種の樹脂から形成される樹脂層である請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルム。
12. 酸素遮蔽層が、ポリビニルアルコール系樹脂から形成される偏光フィルムである請求項１〜１１のいずれかに記載の光学フィルム。
13. 請求項１〜１２の光学フィルムを含む表示装置。

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