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JP2019000984A - Self-repairing film - Google Patents

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JP2019000984A
JP2019000984A JP2015216253A JP2015216253A JP2019000984A JP 2019000984 A JP2019000984 A JP 2019000984A JP 2015216253 A JP2015216253 A JP 2015216253A JP 2015216253 A JP2015216253 A JP 2015216253A JP 2019000984 A JP2019000984 A JP 2019000984A
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JP
Japan
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layer
film
self
group
healing
Prior art date
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Pending
Application number
JP2015216253A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
陽明 森田
Takaaki Morita
陽明 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29Laminated material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

To provide a self-repairing film in which occurrence of delamination is suppressed even after molding and which is excellent in optical performance and weather resistance.SOLUTION: A self-repairing film RF includes: a functional film 1; a self-repairing layer 5 provided on the functional film 1; and a molded adhesion layer 4 provided between the functional film 1 and the self-repairing layer 5, in which the molded adhesion layer 4 contains a polymer resulting from polymerization of a monomer composition including at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers, and has surface free energy of 50 mN/m or more and hydrogen bond components of the surface free energy of 3 mN/m or more.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、自己修復性フィルムに関する。特に、成形された場合であっても層間剥離の発生が抑制され、光学性能及び耐候性に優れた自己修復性フィルムに関する。   The present invention relates to a self-healing film. In particular, the present invention relates to a self-repairing film that suppresses the occurrence of delamination even when molded and is excellent in optical performance and weather resistance.

近年、自動車の窓ガラス、自動車用部材、建築用部材及びトラフ型太陽熱発電装置等の曲面形状体に沿って貼合させる積層フィルムにおいて、耐候性、熱成形容易性及び層間密着性等の向上が求められている。   In recent years, in laminated films to be bonded along curved surface bodies such as automobile window glass, automobile members, building members, and trough solar power generators, improvement in weather resistance, thermoformability, interlayer adhesion, etc. has been improved. It has been demanded.

これに対し、例えば、基材上に、電離放射線硬化性樹脂、光安定剤及び紫外線吸収剤等を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化してなる自己修復可能な表面保護層を設けることで、耐候性及び加工適性を向上させる技術が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。   On the other hand, for example, a self-healing surface protective layer formed by crosslinking and curing an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin, a light stabilizer, an ultraviolet absorber and the like is provided on a substrate. Thus, techniques for improving weather resistance and processability have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、上記従来の技術のように自己修復層を最表面に配置する場合、防汚性の観点から当該自己修復層を低活性にする必要がある。したがって、フィルム製造時点においては自己修復層とその下層との密着性が良好であっても、加熱延伸等により成形された際に、低活性な自己修復層と下層との密着性が低減し、層間剥離が発生してしまうという問題がある。層間剥離が発生すると、成形後のフィルムの光学性能及び耐候性が低下してしまう。   However, when the self-healing layer is disposed on the outermost surface as in the conventional technique, the self-healing layer needs to have a low activity from the viewpoint of antifouling properties. Therefore, even when the adhesiveness between the self-healing layer and the lower layer is good at the time of film production, the adhesiveness between the low-activity self-healing layer and the lower layer is reduced when molded by heat stretching, There is a problem that delamination occurs. If delamination occurs, the optical performance and weather resistance of the film after molding will decrease.

特開2012−206375号公報JP 2012-206375 A 特開2012−206376号公報JP 2012-206376 A

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、成形された場合であっても層間剥離の発生が抑制され、光学性能及び耐候性に優れた自己修復性フィルムを提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems and situations, and the problem to be solved is a self-healing film that is excellent in optical performance and weather resistance because generation of delamination is suppressed even when molded. Is to provide.

本発明に係る上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、機能性フィルムと、当該機能性フィルム上に設けられた自己修復層と、機能性フィルムと自己修復層との間に設けられた成形密着層とを備える自己修復性フィルムにおいて、成形密着層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合したポリマーを含有し、表面自由エネルギー及びその水素結合成分が所定の数値範囲を満たすので、成形された場合であっても層間剥離の発生が抑制され、光学性能及び耐候性に優れた自己修復性フィルムとすることができることを見いだした。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
As a result of investigating the cause of the above-mentioned problems in order to solve the above-mentioned problems according to the present invention, a functional film, a self-healing layer provided on the functional film, and between the functional film and the self-healing layer In the self-healing film provided with a molded adhesion layer provided in the above, a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers is polymerized. Since the surface free energy and its hydrogen bond component satisfy the specified numerical range, the occurrence of delamination is suppressed even when molded, and self-healing properties with excellent optical performance and weather resistance are included. I found out that it could be a film.
That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.機能性フィルムと、
前記機能性フィルム上に設けられた自己修復層と、
前記機能性フィルムと前記自己修復層との間に設けられた成形密着層と、を備え、
前記成形密着層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合したポリマーを含有し、表面自由エネルギーが50mN/m以上、表面自由エネルギーの水素結合成分が3mN/m以上であることを特徴とする自己修復性フィルム。
1. A functional film;
A self-healing layer provided on the functional film;
A molding adhesion layer provided between the functional film and the self-healing layer,
The molded adhesion layer contains a polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers, and has a surface free energy of 50 mN / m or more, A self-repairing film, wherein the hydrogen bond component of the surface free energy is 3 mN / m or more.

2.前記成形密着層と前記機能性フィルムとの表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であり、
前記成形密着層と前記自己修復層との表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であることを特徴とする第1項に記載の自己修復性フィルム。
2. The difference in hydrogen bond component of the surface free energy between the molded adhesion layer and the functional film is 2 mN / m or more,
2. The self-healing film according to claim 1, wherein a difference in hydrogen bonding components of surface free energy between the molded adhesion layer and the self-healing layer is 2 mN / m or more.

本発明によれば、成形された場合であっても層間剥離の発生が抑制され、光学性能及び耐候性に優れた自己修復性フィルムを提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
成形密着層の表面自由エネルギーが50mN/m以上であることで、成形密着層の活性が高く、隣接する樹脂との結合力が高くなるため、成形された場合であっても、機能性フィルム及び自己修復層との密着性を高い状態に維持することができる。
また、水素結合力は、ファンデルワールス力や双極子間力と比較して強い結合力であり、成形密着層の表面自由エネルギーの水素結合成分が3mN/m以上であることで、延伸等の成形が施された際に、樹脂同士の結合が切断されることなく自己修復性フィルムが伸びることができるため、成形された場合であっても光学性能の低下を抑制することができる。
According to this invention, even if it is a case where it shape | molds, generation | occurrence | production of delamination is suppressed and the self-repairable film excellent in optical performance and a weather resistance can be provided.
The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
Since the surface free energy of the molded adhesion layer is 50 mN / m or more, the activity of the molded adhesion layer is high and the bonding force with the adjacent resin is increased. Adhesion with the self-healing layer can be maintained in a high state.
In addition, the hydrogen bond force is stronger than the van der Waals force or the force between dipoles, and the hydrogen bond component of the surface free energy of the formed adhesion layer is 3 mN / m or more, so When the molding is performed, the self-repairing film can be stretched without breaking the bond between the resins, so that even when the molding is performed, a decrease in optical performance can be suppressed.

本発明の自己修復性フィルムの構成を示す概略断面図Schematic sectional view showing the structure of the self-repairing film of the present invention (a)hを算出するための、除荷保持時間0秒での負荷試験力−押し込み深さ曲線、(b)hを算出するための、除荷保持時間60秒での負荷試験力−押し込み深さ曲線(A) Load test force at unloading holding time 0 seconds to calculate h 1- indentation depth curve, (b) Load test force at 60 seconds unloading holding time to calculate h 2 -Indentation depth curve 機能性フィルムとして赤外線反射フィルムを具備する自己修復性フィルムの構成の一例を示した概略断面図Schematic sectional view showing an example of the structure of a self-restoring film comprising an infrared reflective film as a functional film 機能性フィルムとして赤外線反射フィルムを具備する自己修復性フィルムの構成の別の一例を示した概略断面図Schematic sectional view showing another example of the structure of a self-restoring film comprising an infrared reflective film as a functional film 機能性フィルムとしてフィルムミラーを具備する自己修復性フィルムの構成を示す概略断面図Schematic sectional view showing the structure of a self-repairing film comprising a film mirror as a functional film

本発明の自己修復性フィルムは、機能性フィルムと、前記機能性フィルム上に設けられた自己修復層と、前記機能性フィルムと前記自己修復層との間に設けられた成形密着層と、を備え、前記成形密着層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合したポリマーを含有し、表面自由エネルギーが50mN/m以上、表面自由エネルギーの水素結合成分が3mN/m以上であることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項2までの請求項に共通する又は対応する技術的特徴である。
また、本発明においては、前記成形密着層と前記機能性フィルムとの表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であり、前記成形密着層と前記自己修復層との表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であることが好ましい。これにより、成形された場合であっても歪みや微小なボイドが発生することがなく、残留歪みによる耐候性劣化とボイドによる光学性能劣化を防ぐことができ、結果として自己修復性フィルムの光学性能及び耐候性を更に向上させることができる。
The self-healing film of the present invention comprises a functional film, a self-healing layer provided on the functional film, and a molded adhesion layer provided between the functional film and the self-healing layer. The molded adhesive layer contains a polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers, and has a surface free energy of 50 mN / m As described above, the hydrogen bond component of the surface free energy is 3 mN / m or more. This feature is a technical feature common to or corresponding to the claims 1 to 2.
In the present invention, the difference in the hydrogen bond component of the surface free energy between the molded adhesive layer and the functional film is 2 mN / m or more, and the surface free energy of the molded adhesive layer and the self-healing layer is The difference in hydrogen bonding components is preferably 2 mN / m or more. As a result, even when molded, distortion and minute voids do not occur, and weather resistance deterioration due to residual distortion and optical performance deterioration due to voids can be prevented. As a result, the optical performance of the self-repairing film In addition, the weather resistance can be further improved.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

《本発明の自己修復性フィルムの概要》
本発明の自己修復性フィルムは、機能性フィルムと、当該機能性フィルム上に設けられた自己修復層と、機能性フィルムと自己修復層との間に設けられた成形密着層と、を備え、成形密着層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合したポリマーを含有し、表面自由エネルギーが50mN/m以上、表面自由エネルギーの水素結合成分が3mN/m以上であることを特徴とする。
<< Outline of Self-Repairing Film of the Present Invention >>
The self-healing film of the present invention comprises a functional film, a self-healing layer provided on the functional film, and a molded adhesion layer provided between the functional film and the self-healing layer, The molded adhesion layer contains a polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers, and has a surface free energy of 50 mN / m or more, The hydrogen bond component of free energy is 3 mN / m or more.

《本発明の自己修復性フィルムの具体的な構成》
図1に本発明の自己修復性フィルムRFの最小構成を示す。
<< Specific Configuration of Self-Repairing Film of the Present Invention >>
FIG. 1 shows the minimum configuration of the self-repairing film RF of the present invention.

本発明の自己修復性フィルムRFは、基材フィルム2の少なくとも一方の面に光反射層3を有する機能性フィルム1の、光反射層3のある面に自己修復層5、及び機能性フィルム1と自己修復層5との間に成形密着層4を配置する構成である。   The self-healing film RF of the present invention includes a functional film 1 having a light reflecting layer 3 on at least one surface of a base film 2, a self-healing layer 5 on the surface having the light reflecting layer 3, and the functional film 1. And the self-healing layer 5 are arranged to form the adhesion layer 4.

それぞれの各層間及び自己修復層5上には、図示はしないが必要に応じて機能性層が設けられていても良く、また、基材フィルム2の自己修復層5とは反対側の面に粘着層又は接着層が設けられて、自己修復性フィルムが他の基板に貼合されていても良い。   Although not shown, a functional layer may be provided on each of the interlayers and the self-healing layer 5 as necessary, and on the surface opposite to the self-healing layer 5 of the base film 2. An adhesive layer or an adhesive layer may be provided, and the self-restoring film may be bonded to another substrate.

以下、各構成層について詳細に説明する。   Hereinafter, each constituent layer will be described in detail.

〔1〕自己修復層
本発明に係る自己修復層は、修復度(A)が、0.02以上であることが好ましい。前記修復度(A)は、0.02〜0.90の範囲内であることが好ましく、0.20〜0.70の範囲内であることが好ましい。0.02以上であれば、自己修復層が本発明の自己修復性を発現することができ、0.90以下であれば、ハードコート性等の機械的膜強度に優れる。
[1] Self-healing layer The self-healing layer according to the present invention preferably has a repairing degree (A) of 0.02 or more. The degree of repair (A) is preferably in the range of 0.02 to 0.90, and preferably in the range of 0.20 to 0.70. If it is 0.02 or more, the self-healing layer can exhibit the self-repairing property of the present invention, and if it is 0.90 or less, the mechanical film strength such as hard coat property is excellent.

ここで、修復度(A)は、押し込み深さ設定負荷−除荷試験によって定義される式によって求められる値であり、一例として、以下の方法によって求められる。   Here, the degree of repair (A) is a value obtained by an expression defined by the indentation depth setting load-unloading test, and is obtained by the following method as an example.

図2は、本実施形態に係る自己修復性フィルムを測定することによって得られる、押し込み深さで圧子を押し込んだときの負荷試験力−押し込み深さ曲線(押し込み深さ設定負荷−除荷試験により得られた曲線)の一例を示すグラフであり、h及びhを算出する。 FIG. 2 shows a load test force-indentation depth curve (indentation depth setting load-unloading test when the indenter is indented at the indentation depth, which is obtained by measuring the self-restoring film according to the present embodiment. is a graph showing an example of the resulting curve) to calculate the h 1 and h 2.

図2(a)は、除荷保持時間0秒での負荷試験力−押し込み深さ曲線を表し、hを算出する。図2(b)は、除荷保持時間60秒での負荷試験力−押し込み深さ曲線を表し、hを算出する。 2 (a) is a load test force in unloading retention time 0 seconds - represents the indentation depth curve, calculates the h 1. 2 (b) is a load test force in unloading retention time of 60 seconds - represents the indentation depth curve, calculates the h 2.

(押し込み深さ設定負荷−除荷試験)
ビッカース圧子及び稜線同士の角度が115度の三角錐圧子を用いた微小硬度計を用いて、自己修復性フィルム表面について、設定された押し込み深さhmax(μm)で圧子を押し込んだときの負荷試験力−押し込み深さ曲線を作成する。そして、自己修復性フィルムについて除荷保持時間0秒又は60秒で測定した際に求められる残留深さ(h、h)より、A=(h−h)/hmaxを算出する。以上の測定を試料の異なる箇所で5回行い、その平均値を求め、修復度(A)とする。
(Indentation depth setting load-unloading test)
Using a microhardness meter using a Vickers indenter and a triangular pyramid indenter with an angle between ridges of 115 degrees, the load when the indenter is pushed in at a set indentation depth h max (μm) on the self-recoverable film surface Create a test force-indentation depth curve. Then, A = (h 1 −h 2 ) / h max is calculated from the residual depth (h 1 , h 2 ) obtained when the self-recoverable film is measured at an unloading holding time of 0 seconds or 60 seconds. . The above measurement is performed five times at different parts of the sample, and the average value is obtained as the degree of repair (A).

具体的な測定条件の一例としては、ダイナミック超微小硬度計DUH−211S(島津製作所社製)を用い、下記の測定条件で測定することができる。   As an example of specific measurement conditions, a dynamic ultra-small hardness meter DUH-211S (manufactured by Shimadzu Corporation) can be used and measured under the following measurement conditions.

圧子形状:三角錐圧子(稜間角115°)
測定環境:温度23℃、相対湿度50%
最大試験荷重:196.13mN
荷重速度:6.662mN/10秒
除荷速度:6.662mN/10秒
前記式で得られた修復度(A)の大きさは、自己修復性を示しており、0.02以上であれば、本発明でいう自己修復性を有するといえる。すなわち、残留深さhに対して残留深さhの値が小さく、その差が大きいほど、自己修復層の弾性が高いといえ、自己修復度が大きいことを表す。
Indenter shape: Triangular pyramid indenter (edge angle 115 °)
Measurement environment: temperature 23 ° C, relative humidity 50%
Maximum test load: 196.13mN
Loading speed: 6.662 mN / 10 seconds Unloading speed: 6.662 mN / 10 seconds The magnitude of the degree of repair (A) obtained by the above formula indicates self-healing properties, and is 0.02 or more. It can be said that it has the self-repairing property referred to in the present invention. That is, the value of the residual depth h 2 with respect to the residual depth h 1 is smaller, the more the difference is large, it said elastic self-healing layer is high, indicating that the self-repairing large degree.

前記押し込み深さ設定負荷−除荷試験の修復度(A)は、0.02〜0.90の範囲内であることが好ましく、0.20〜0.70の範囲内であることが好ましい。0.90を超えない範囲であるとハードコート性と自己修復度の両立を図ることができる。   The degree of repair (A) in the indentation depth setting load-unloading test is preferably in the range of 0.02 to 0.90, and preferably in the range of 0.20 to 0.70. If it is in a range not exceeding 0.90, it is possible to achieve both hard coat properties and a degree of self-repair.

このような修復度(A)は、自己修復層の材料及び層厚、並びに、自己修復層の下層(機能性フィルム又は成形密着層等)の材料及び厚さを適宜変更することによって、制御することができる。   Such a degree of repair (A) is controlled by appropriately changing the material and thickness of the self-healing layer and the material and thickness of the lower layer of the self-healing layer (such as a functional film or a molded adhesion layer). be able to.

(自己修復層の主な構成材料)
本発明に係る自己修復層は、紫外線や電子線のような活性線(活性エネルギー線ともいう。)照射により、架橋反応を経て硬化する活性線硬化性樹脂を主たる成分とする層であることが好ましい。
(Main components of self-healing layer)
The self-healing layer according to the present invention is a layer mainly composed of an actinic radiation curable resin that is cured through a crosslinking reaction upon irradiation with actinic rays (also referred to as actinic energy rays) such as ultraviolet rays and electron beams. preferable.

本発明に係る自己修復層に用いることのできる活性線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化性樹脂層が形成される。中でも自己修復性を発現できる観点から、エポキシ骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂、又はアルキル鎖骨格又はアルキレンオキサイド骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましい。   As the actinic radiation curable resin that can be used in the self-healing layer according to the present invention, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams is irradiated. This is cured to form an actinic radiation curable resin layer. Among these, from the viewpoint of exhibiting self-healing properties, an active energy ray curable resin having an epoxy skeleton, or an active energy ray curable resin having an alkyl chain skeleton or an alkylene oxide skeleton is preferable.

エポキシ骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂としては例えばエポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the active energy ray-curable resin having an epoxy skeleton include epoxy (meth) acrylate.

エポキシ(メタ)アクリレートとしては、下記(i)又は(ii)で示されるトリカルボン酸と、下記(iii)又は(iv)で示されるモノオキシラン環を有する(メタ)アクリレートとを反応させてなるものである。   The epoxy (meth) acrylate is obtained by reacting the tricarboxylic acid represented by the following (i) or (ii) with the (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by the following (iii) or (iv): It is.

(i)で示されるトリカルボン酸と(ii)で示されるトリカルボン酸とは、それぞれ単独で用いることができ、また併用することもできる。(iii)で示されるモノオキシラン環を有する(メタ)アクリレートと(iv)で示されるモノオキシラン環を有する(メタ)アクリレートとは、それぞれ単独で用いることができ、また併用することもできる。   The tricarboxylic acid represented by (i) and the tricarboxylic acid represented by (ii) can be used alone or in combination. The (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by (iii) and the (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by (iv) can be used alone or in combination.

(i):下記一般式(a)で表される脂肪族トリカルボン酸   (I): Aliphatic tricarboxylic acid represented by the following general formula (a)

Figure 2019000984
Figure 2019000984

(一般式(a)中、Rは水素又はヒドロキシ基を表す。a、b及びdはそれぞれ独立に0〜8の整数、cは0〜9の整数を表し、0≦a+b+c+d≦9かつ〔a<d又は(a=dかつb≦c)〕である。) (In the general formula (a), R represents hydrogen or a hydroxy group. A, b and d each independently represents an integer of 0 to 8, c represents an integer of 0 to 9, and 0 ≦ a + b + c + d ≦ 9 and [a <D or (a = d and b ≦ c)].)

(ii):トリメリット酸
(iii):下記一般式(b)で表されるモノオキシラン環を有する脂肪族(メタ)アクリレート
(Ii): trimellitic acid (iii): aliphatic (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by the following general formula (b)

Figure 2019000984
Figure 2019000984

(一般式(b)中、Rは水素又はメチル基を表し、nは1〜5の整数、mは1〜3の整数を表す。) (In general formula (b), R represents hydrogen or a methyl group, n represents an integer of 1 to 5, and m represents an integer of 1 to 3.)

(iv):下記一般式(c)で表されるモノオキシラン環を有する脂環族(メタ)アクリレート   (Iv): An alicyclic (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by the following general formula (c)

Figure 2019000984
Figure 2019000984

(一般式(c)中、Rは水素又はメチル基を表し、sは1〜10の整数を表す。)
エポキシ(メタ)アクリレートはソフトセグメントとハードセグメントとのバランスが良く、外部応力を緩和しやすい特性が得られやすい。
(In general formula (c), R represents hydrogen or a methyl group, and s represents an integer of 1 to 10.)
Epoxy (meth) acrylate has a good balance between the soft segment and the hard segment, and it is easy to obtain characteristics that easily relieve external stress.

(i)のトリカルボン酸としては、1,2,4−ブタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=1及びd=0)、1,3,5−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=2及びd=0)、1,2,4−ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=1及びd=1)、1,2,5−ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=2及びd=0)、1,3,4−ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=0及びd=1)、1,2,5−ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=1及びd=0)、1,2,6−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=3及びd=0)、1,2,4−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=1及びd=2)、1,4,5−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=2、c=0及びd=1)、1,3,4−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=0及びd=2)、1,3,6−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=2及びd=0)、2,3,5−ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=1、b=0、c=1及びd=1)、1,4,8−オクタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=2、c=3及びd=0)、1,5,10−ノナントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=3、c=3及びd=0)、1,6,12−ドデカントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=4、c=5及びd=0)、クエン酸(Rはヒドロキシ基、a=b=c=d=0)等が挙げられる。   As the tricarboxylic acid of (i), 1,2,4-butanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 0, c = 1 and d = 0), 1,3,5-hexanetricarboxylic acid ( R is hydrogen, a = 0, b = 1, c = 2 and d = 0), 1,2,4-pentanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 0, c = 1 and d = 1) ), 1,2,5-pentanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 0, c = 2 and d = 0), 1,3,4-pentanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0 B = 1, c = 0 and d = 1), 1,2,5-pentanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 1, c = 1 and d = 0), 1,2,6 -Hexanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 0, c = 3 and d = 0), 1,2,4-hexanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 0, = 1 and d = 2), 1,4,5-hexanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 2, c = 0 and d = 1), 1,3,4-hexanetricarboxylic acid (R Is hydrogen, a = 0, b = 1, c = 0 and d = 2), 1,3,6-hexanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 1, c = 2 and d = 0) 2,3,5-hexanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 1, b = 0, c = 1 and d = 1), 1,4,8-octanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 2, c = 3 and d = 0), 1,5,10-nonanetricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 3, c = 3 and d = 0), 1,6,12- Dodecane tricarboxylic acid (R is hydrogen, a = 0, b = 4, c = 5 and d = 0), citric acid (R is a hydroxy group, a = b = c = d = 0) and the like.

(ii)のトリメリット酸としては、1,2,4−トリメリット酸のほか、1,3,5−トリメリット酸及び1,2,3−トリメリット酸が挙げられる。   Examples of (2) trimellitic acid include 1,3,5-trimellitic acid and 1,2,3-trimellitic acid in addition to 1,2,4-trimellitic acid.

(iii)のモノオキシラン環を有する脂肪族(メタ)アクリレートとしては、4−ヒドロキシブチルアクリレートモノグリシジルエーテル〔4−HBAGE、一般式(b)においてn=4、m=1の化合物〕、2−ヒドロキシエチルアクリレートモノグリシジルエーテル〔2−HEAGE、一般式(b)においてn=2、m=1の化合物〕等が挙げられる。   As the aliphatic (meth) acrylate having a monooxirane ring of (iii), 4-hydroxybutyl acrylate monoglycidyl ether [4-HBAGE, a compound in which n = 4 and m = 1 in the general formula (b)], 2- And hydroxyethyl acrylate monoglycidyl ether [2-HEAGE, a compound where n = 2 and m = 1 in the general formula (b)] and the like.

(iv)の一般式(c)で表されるモノオキシラン環を有する脂環族(メタ)アクリレートとしては、脂環式エポキシ基含有アクリレート(s=6)等が挙げられる。   Examples of the alicyclic (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by the general formula (c) in (iv) include alicyclic epoxy group-containing acrylate (s = 6).

以下に、脂環式エポキシ基含有アクリレートの合成例を挙げる。
撹拌機、温度計及びコンデンサーを備えた四ツ口フラスコにトルエン415.8質量部、1,2,4−ブタントリカルボン酸(酸価:886)100質量部、4−ヒドロキシブチルアクリレートモノグリシジルエーテル〔日本化成(株)製、4−HBAGE〕315.8質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.1質量部を仕込み100℃まで昇温した。その後、1,2,4−トリカルボン酸が完全に溶解したことを確認し、TPP(トリフェニルホスフィン)2質量部を仕込み、同温度で24時間保持して反応を終了した。その結果、固形分50質量%、酸価4.2mgKOH/g(固形分換算)のエポキシアクリレートが得られた。収率は96.1%であった。
Below, the synthesis example of an alicyclic epoxy group containing acrylate is given.
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 415.8 parts by mass of toluene, 100 parts by mass of 1,2,4-butanetricarboxylic acid (acid value: 886), 4-hydroxybutyl acrylate monoglycidyl ether [ Nippon Kasei Co., Ltd., 4-HBAGE] 315.8 parts by mass and hydroquinone monomethyl ether 0.1 parts by mass were charged and heated to 100 ° C. Thereafter, it was confirmed that 1,2,4-tricarboxylic acid was completely dissolved, 2 parts by mass of TPP (triphenylphosphine) was charged, and kept at the same temperature for 24 hours to complete the reaction. As a result, an epoxy acrylate having a solid content of 50% by mass and an acid value of 4.2 mgKOH / g (in terms of solid content) was obtained. The yield was 96.1%.

アルキル鎖骨格又はアルキレンオキサイド骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば、分子内に1個のヒドロキシ基及び3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートに炭素数2〜4のアルキレンオキサイドを1〜20モル付加して得られるアルキレンオキサイド骨格を有する(メタ)アクリレート(下記(P1))と、ポリイソシアネート(下記(P2))とを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートを挙げることができる。   Examples of the active energy ray-curable resin having an alkyl chain skeleton or an alkylene oxide skeleton include, for example, 2 to 4 carbon atoms in (meth) acrylate having one hydroxy group and three or more (meth) acryloyl groups in the molecule. (Meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylate having the alkylene oxide skeleton (below (P1)) obtained by adding 1 to 20 moles of the above alkylene oxide with polyisocyanate (below (P2)) Can be mentioned.

分子内に1個のヒドロキシ基及び3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジグリセリントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、キシリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate having one hydroxy group and three or more (meth) acryloyl groups in the molecule include pentaerythritol tri (meth) acrylate, diglycerin tri (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tri (meth). Examples include acrylate, xylitol tetra (meth) acrylate, triglycerin tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and sorbitol penta (meth) acrylate.

これらのうち、分子内に1個のヒドロキシ基及び3〜5個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、キシリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが挙げられる。更に好ましくはペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートである。   Of these, (meth) acrylates having one hydroxy group and 3-5 (meth) acryloyl groups in the molecule are preferred, such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, xylitol tetra (meth) acrylate, and triglycerin tetra. (Meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are mentioned. More preferred are pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.

付加重合に用いるアルキレンオキサイドの種類としては、炭素数2〜4のアルキレンオキサイドを使用することができる。具体例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらアルキレンオキサイドは、単独で用いても2種以上を併用しても良く、2種以上を併用する場合にはランダム状又はブロック状に付加重合しても良い。これらのうち、テトラヒドロフランが好ましく、アルキレンオキサイドの平均付加モル数は1〜20であり、2〜12であることが好ましい。   As a kind of alkylene oxide used for addition polymerization, a C2-C4 alkylene oxide can be used. Specific examples include ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran and the like. These alkylene oxides may be used alone or in combination of two or more. When two or more of these alkylene oxides are used in combination, they may be subjected to addition polymerization in a random or block form. Of these, tetrahydrofuran is preferable, and the average added mole number of alkylene oxide is 1 to 20, and preferably 2 to 12.

アルキレンオキサイド骨格を有する(メタ)アクリレート(P1)成分の製造方法としては、通常の開環重合と同様の方法で行うことができる。例えば、反応容器に分子内に1個のヒドロキシ基及び3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート及び触媒、必要に応じて重合禁止剤及び有機溶剤を仕込んだ後、反応容器内を窒素ガスなどの不活性ガスで置換し、アルキレンオキサイドを圧入して付加重合させる。反応温度としては通常−30〜120℃であり、好ましくは0〜80℃、より好ましくは20〜60℃である。−30℃より低い場合には反応速度が遅くなり、120℃より高い場合には副反応又は重合が進行し過ぎたり、生成物が着色したりするおそれがある。反応時間としては通常0.3〜20時間であり、より好ましくは1〜10時間である。   The method for producing the (meth) acrylate (P1) component having an alkylene oxide skeleton can be carried out in the same manner as in ordinary ring-opening polymerization. For example, after charging a reaction vessel with (meth) acrylate and catalyst having one hydroxy group and three or more (meth) acryloyl groups in the molecule, a polymerization inhibitor and an organic solvent as necessary, Is substituted with an inert gas such as nitrogen gas, and alkylene oxide is injected to carry out addition polymerization. As reaction temperature, it is -30-120 degreeC normally, Preferably it is 0-80 degreeC, More preferably, it is 20-60 degreeC. When it is lower than −30 ° C., the reaction rate is slow, and when it is higher than 120 ° C., side reaction or polymerization may proceed excessively or the product may be colored. The reaction time is usually 0.3 to 20 hours, more preferably 1 to 10 hours.

ポリイソシアネート(P2)は、分子内に少なくとも2個以上のイソシアネート基を含有する脂肪族、脂環式及び芳香族イソシアネートである。2官能イソシアネートの具体例としては、1,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどの脂肪族及び脂環式ジイソシアネートが挙げられる。3官能イソシアネートの具体例としては、1,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどのジイソシアネートを重縮合してイソシアヌレート変性させたイソシアヌレート体、前記ジイソシアネートをアダクト変性させたアダクト体、前記ジイソシアネートとグリセリンやトリメチロールプロパンなどの三価アルコールをビウレット変性させたビウレット体が挙げられる。多官能イソシアネートの具体例としては、前記ジイソシアネートとポリオール又はポリアミンとの反応により得られるイソシアネート化合物が挙げられる。   Polyisocyanate (P2) is an aliphatic, alicyclic and aromatic isocyanate containing at least two or more isocyanate groups in the molecule. Specific examples of the bifunctional isocyanate include 1,4-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 4, Aliphatic and alicyclic diisocyanates such as aromatic diisocyanates such as 4'-diphenylmethane diisocyanate, trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate. Specific examples of the trifunctional isocyanate include 1,4-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone. Isocyanurate modified by isocyanurate modification by polycondensation of diisocyanates such as diisocyanate and norbornane diisocyanate, adduct modified by adduct modification of the diisocyanate, biuret modified by diuret and trihydric alcohols such as glycerin and trimethylolpropane The body is mentioned. Specific examples of the polyfunctional isocyanate include isocyanate compounds obtained by reacting the diisocyanate with a polyol or polyamine.

これらのうち、脂肪族ジイソシアネート及び脂環式ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート及び脂環式ジイソシアネートモノマーを重縮合して変性した3官能イソシアネートが好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどの脂肪族及び脂環式ジイソシアネート及びこれらジイソシアネートのイソシアヌレート変性させた3官能イソシアネートがより好ましい。これらポリイソシアネートは、単独で用いても2種以上を併用しても良い。   Among these, aliphatic diisocyanates and alicyclic diisocyanates, trifunctional isocyanates modified by polycondensation of aliphatic diisocyanates and alicyclic diisocyanate monomers are preferred, such as hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, etc. Aliphatic and alicyclic diisocyanates and trifunctional isocyanates obtained by modifying these diisocyanates with isocyanurates are more preferred. These polyisocyanates may be used alone or in combination of two or more.

以下に、合成例を挙げる。
撹拌装置、温度計、圧力ゲージを備えたステンレス製オートクレーブに、ペンタエリスリトールトリアクリレート(以下、「PE3A」という。)/ペンタエリスリトールテトラアクリレート(以下、「PE4A」という。)混合物(質量比で70/30の混合物、ヒドロキシ基価:137mgKOH/g)307質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.1質量部、四塩化スズ3.2質量部を投入し、反応系内を窒素ガスで置換した。次に、エチレンオキサイド(以下、「EO」という。)100質量部を45℃にてゲージ圧が0.1〜0.3MPaとなるよう維持しながら3時間かけて導入し、同温度で2時間反応を継続した。更に、45℃にて減圧して30分間保持した後、常圧に戻して冷却することにより粘調性液体402質量部を得た。その後、吸着剤(キョーワード1000:協和化学工業(株)製)を投入し、空気を吹き込みながら70℃にて撹拌した後、吸着剤を濾別することにより粘調性液体370部を得た。得られた粘調性液体のヒドロキシ基価は106mgKOH/gであり、ヒドロキシ基価から算出すると、PE3AにEOが3モル付加した数平均分子量430の(メタ)アクリレートが得られ、PE3AのEO3モル付加物/PE4A混合物の質量比は77/23であった。
A synthesis example is given below.
In a stainless steel autoclave equipped with a stirrer, a thermometer, and a pressure gauge, a pentaerythritol triacrylate (hereinafter referred to as “PE3A”) / pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter referred to as “PE4A”) mixture (mass ratio of 70 / 30 mixture, hydroxy group value: 137 mg KOH / g) 307 parts by mass, hydroquinone monomethyl ether 0.1 part by mass, tin tetrachloride 3.2 parts by mass were charged, and the inside of the reaction system was replaced with nitrogen gas. Next, 100 parts by mass of ethylene oxide (hereinafter referred to as “EO”) was introduced over 3 hours while maintaining the gauge pressure at 0.1 to 0.3 MPa at 45 ° C., and 2 hours at the same temperature. The reaction was continued. Furthermore, after reducing the pressure at 45 ° C. and holding for 30 minutes, 402 parts by mass of viscous liquid were obtained by returning to normal pressure and cooling. Thereafter, an adsorbent (KYOWARD 1000: manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, stirred at 70 ° C. while blowing air, and then the adsorbent was filtered to obtain 370 parts of a viscous liquid. . The resulting viscous liquid has a hydroxy group value of 106 mgKOH / g, and when calculated from the hydroxy group value, a methacrylic acid having a number average molecular weight of 430 obtained by adding 3 mol of EO to PE3A is obtained, and EO3 mol of PE3A The mass ratio of the adduct / PE4A mixture was 77/23.

また、活性線硬化性樹脂としては、上記した樹脂以外に、紫外線硬化性アクリレート系樹脂、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、及び紫外線硬化性エポキシ樹脂等を挙げることができる。   In addition to the above-mentioned resins, actinic radiation curable resins include UV curable acrylate resins, UV curable urethane acrylate resins, UV curable polyester acrylate resins, UV curable epoxy acrylate resins, and UV curable resins. Examples include polyol acrylate resins and ultraviolet curable epoxy resins.

中でも、本発明に係る自己修復層には、他の活性線硬化性樹脂としてポリロタキサンを用いることができる。当該ポリロタキサンの市販品として、例えばSM3405P、SM1315P、SA3405P、SA2405P、SA1315P、SM3400C、SA3400C、SA2400C(以上、アドバンスト・ソフトマテリアルズ(株)製)等を好ましく用いることができる。   Among these, polyrotaxane can be used as the other actinic radiation curable resin in the self-healing layer according to the present invention. As commercially available products of the polyrotaxane, for example, SM3405P, SM1315P, SA3405P, SA2405P, SA1315P, SM3400C, SA3400C, SA2400C (above, manufactured by Advanced Soft Materials Co., Ltd.) can be preferably used.

更に、熱硬化性樹脂ではあるが同様にポリロタキサンの市販品として、例えばSH3400P、SH2400P、SH1310P、熱硬化性エラストマーとして、例えばSH3400S、SH3400M(以上、アドバンスト・ソフトマテリアルズ(株)製)等を好ましく用いることもできる。   Further, although it is a thermosetting resin, similarly, as a commercially available product of polyrotaxane, for example, SH3400P, SH2400P, SH1310P, and thermosetting elastomer, for example, SH3400S, SH3400M (above, manufactured by Advanced Soft Materials Co., Ltd.) are preferable. It can also be used.

(光重合開始剤)
また、自己修復層には、活性線硬化性樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤:活性線硬化性樹脂=20:100〜0.01:100で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
(Photopolymerization initiator)
The self-healing layer preferably contains a photopolymerization initiator to accelerate the curing of the actinic radiation curable resin. The amount of the photopolymerization initiator is preferably contained in a mass ratio of photopolymerization initiator: active ray curable resin = 20: 100 to 0.01: 100. Specific examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone series, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone and the like, and derivatives thereof. In particular, it is not limited to these.

このような光重合開始剤は市販品を用いても良く、例えば、BASFジャパン(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア651等が好ましい例示として挙げられる。   A commercial item may be used for such a photoinitiator, for example, Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 651, etc. by BASF Japan Ltd. are mentioned as a preferable example.

(添加剤)
自己修復層には、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、フッ素−シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、アクリル共重合物等の添加剤を含有させても良い。
(Additive)
The self-healing layer may contain additives such as silicone surfactants, fluorine surfactants, anionic surfactants, fluorine-siloxane graft compounds, fluorine compounds, and acrylic copolymers.

(微粒子)
自己修復層表面の滑り性を高めるため、必要に応じて微粒子(マット剤)を更に含有しても良い。
(Fine particles)
In order to enhance the slipperiness of the surface of the self-healing layer, fine particles (matting agent) may be further contained as necessary.

微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であっても良い。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素(シリカ)、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムなどが含まれる。中でも、二酸化ケイ素や酸化ジルコニウムが好ましく、得られるフィルムのヘイズの増大を少なくするためには、より好ましくは二酸化ケイ素である。   The fine particles may be inorganic fine particles or organic fine particles. Examples of inorganic fine particles include silicon dioxide (silica), titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Examples include magnesium silicate and calcium phosphate. Among these, silicon dioxide and zirconium oxide are preferable, and silicon dioxide is more preferable in order to reduce the increase in haze of the obtained film.

二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600、NAX50(以上日本アエロジル(株)製)、シーホスターKE−P10、KE−P30、KE−P50、KE−P100(以上、日本触媒(株)製)などが含まれる。中でも、アエロジルR972V、NAX50、シーホスターKE−P30などが、得られる自己修復層の濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させるため特に好ましい。   Examples of silicon dioxide fine particles include Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600, NAX50 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, KE-P30, KE-P50, KE-P100 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and the like are included. Among them, Aerosil R972V, NAX50, Seahoster KE-P30 and the like are particularly preferable because the friction coefficient is reduced while keeping the turbidity of the obtained self-repairing layer low.

微粒子の一次粒子径は、5〜50nmの範囲であることが好ましく、7〜20nmの範囲であることがより好ましい。一次粒子径が大きい方が、滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径0.05〜0.3μmの範囲の二次凝集体として含有されていても良い。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率50〜200万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体100個の粒子径の平均値として求めることができる。   The primary particle diameter of the fine particles is preferably in the range of 5 to 50 nm, and more preferably in the range of 7 to 20 nm. A larger primary particle size has a greater effect of improving the slipperiness, but the transparency tends to decrease. Therefore, the fine particles may be contained as secondary aggregates having a particle diameter in the range of 0.05 to 0.3 μm. The size of the primary particles or the secondary aggregates of the fine particles is as follows. The primary particles or secondary aggregates are observed with a transmission electron microscope at a magnification of 50 to 2 million times, and 100 primary particles or secondary aggregates are observed. It can obtain | require as an average value of a diameter.

微粒子の含有量は、自己修復層を形成する樹脂に対して0.05〜1.0質量%の範囲であることが好ましく、0.1〜0.8質量%の範囲であることがより好ましい。   The content of the fine particles is preferably in the range of 0.05 to 1.0% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 0.8% by mass with respect to the resin forming the self-healing layer. .

(溶剤)
自己修復層は、上記した成分を、溶剤で希釈して自己修復層組成物として、以下の方法で後述する成形密着層を介して機能性フィルム上に塗布、乾燥、硬化して形成されることが好ましい。
(solvent)
The self-healing layer is formed by diluting the above-described components with a solvent to form a self-healing layer composition, which is applied, dried and cured on a functional film through a molding adhesion layer described later by the following method. Is preferred.

溶剤としては、ケトン(メチルエチルケトン、アセトンなど)及び/又は酢酸エステル(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、アルコール(エタノール、メタノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどが好ましい。自己修復層のドライ層厚は、平均層厚5〜30μmの範囲が好ましく、より好ましくは10〜20μmの範囲である。この範囲内であれば、自己修復性を発現することができ、耐傷性も向上する。   As the solvent, ketone (methyl ethyl ketone, acetone, etc.) and / or acetate ester (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohol (ethanol, methanol), propylene glycol monomethyl ether, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, etc. are preferable. The dry layer thickness of the self-healing layer is preferably in the range of 5 to 30 μm, more preferably in the range of 10 to 20 μm. Within this range, self-repairing properties can be exhibited and scratch resistance is also improved.

自己修復層の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。   As a method for applying the self-healing layer, known methods such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and an ink jet method can be used.

(自己修復層の形成方法)
自己修復層組成物を塗布後、乾燥し、硬化(活性線を照射(UV硬化処理ともいう。))し、更に必要に応じて、UV硬化後に加熱処理しても良い。UV硬化後の加熱処理温度としては80℃以上が好ましく、更に好ましくは100℃以上であり、特に好ましくは120℃以上である。このような高温でUV硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れた自己修復層を得ることができる。
(Method for forming self-healing layer)
After applying the self-healing layer composition, it may be dried and cured (irradiated with actinic radiation (also referred to as UV curing treatment)), and if necessary, may be heat treated after UV curing. The heat treatment temperature after UV curing is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. By performing the heat treatment after UV curing at such a high temperature, a self-healing layer having excellent film strength can be obtained.

乾燥は、前記塗布工程後15秒未満の間の乾燥温度が15〜70℃の範囲であり、15秒以上36秒未満の乾燥温度が60〜120℃の範囲であり、36秒以上40秒未満の乾燥温度が30〜80℃の範囲であることが望ましい。   In the drying, the drying temperature for 15 seconds after the coating step is in the range of 15 to 70 ° C, the drying temperature in the range of 15 to 36 seconds is in the range of 60 to 120 ° C, and the drying temperature is 36 to 40 seconds. The drying temperature is desirably in the range of 30 to 80 ° C.

照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常30〜1000mJ/cmの範囲、好ましくは70〜300mJ/cmの範囲である。また、UV硬化処理では酸素による反応阻害を防止するため、酸素除去(例えば、窒素パージ等の不活性ガスによる置換。)を行うこともできる。酸素濃度の除去量を調整することで、表面の硬化状態を制御できる。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually in the range of 30 to 1000 mJ / cm 2 , preferably in the range of 70 to 300 mJ / cm 2 . Further, in the UV curing treatment, oxygen removal (for example, replacement with an inert gas such as nitrogen purge) can be performed in order to prevent reaction inhibition by oxygen. The cured state of the surface can be controlled by adjusting the removal amount of the oxygen concentration.

活性線を照射する際には、自己修復層の下地の層に張力を付与しながら行うと、平面性が向上し好ましい。   When irradiating actinic radiation, it is preferable to apply the tension while applying tension to the underlying layer of the self-healing layer because the planarity is improved.

〔2〕成形密着層
本発明に係る成形密着層は、耐光性を向上する観点から、好ましくは紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合したポリマーを含有する。
[2] Molded Adhesion Layer The molded adhesion layer according to the present invention is preferably a monomer containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers from the viewpoint of improving light resistance. The composition contains a polymerized polymer.

また、本発明に係る成形密着層は、表面自由エネルギーが50mN/m以上、表面自由エネルギーの水素結合成分が3mN/m以上である。   Further, the molded adhesion layer according to the present invention has a surface free energy of 50 mN / m or more and a hydrogen bond component of the surface free energy of 3 mN / m or more.

また、成形密着層と後述する機能性フィルムとの表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であり、成形密着層と上記自己修復層との表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であることが好ましい。これにより、自己修復性フィルムが成形された場合であっても歪みや微小なボイドが発生することがなく、残留歪みによる耐候性劣化とボイドによる光学性能劣化を防ぐことができ、結果として自己修復性フィルムの光学性能及び耐候性を更に向上させることができる。   Further, the difference in hydrogen bonding component of surface free energy between the molded adhesion layer and the functional film described later is 2 mN / m or more, and the difference in hydrogen bonding component of surface free energy between the molding adhesion layer and the self-healing layer is It is preferably 2 mN / m or more. As a result, even when a self-healing film is formed, distortion and minute voids do not occur, and it is possible to prevent deterioration of weather resistance due to residual distortion and optical performance deterioration due to voids. The optical performance and weather resistance of the conductive film can be further improved.

本発明においては、自己修復性フィルムの機能性フィルム、成形密着層及び自己修復層の表面自由エネルギー及びその水素結合成分を次のように測定することができる。   In the present invention, the functional free film of the self-healing film, the surface free energy of the molded adhesion layer and the self-healing layer, and the hydrogen bonding component thereof can be measured as follows.

測定装置:固液界面解析装置(DropMaster500、協和界面科学株式会社製)
測定方法:液滴法
環境 :温度23℃、55%RH
3種の標準液体:純水、ニトロメタン、ヨウ化メチレンと、被測定固体(機能性フィルム、成形密着層又は自己修復層)との接触角を、JIS R3257で規定される方法に準拠して前記標準液体を被測定固体上に約3μL滴下して、固液界面解析装置(DropMaster500、協和界面科学株式会社製)により5回測定し、測定値の平均から平均接触角を得る。接触角測定までの時間は試薬を滴下してから60秒後に測定する。
Measuring device: Solid-liquid interface analyzer (DropMaster 500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
Measuring method: Droplet method Environment: Temperature 23 ° C, 55% RH
Three standard liquids: pure water, nitromethane, methylene iodide and the contact angle between the solid to be measured (functional film, molded adhesion layer or self-healing layer) according to the method defined in JIS R3257 About 3 μL of the standard liquid is dropped on the solid to be measured, and measured five times with a solid-liquid interface analyzer (DropMaster 500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), and the average contact angle is obtained from the average of the measured values. The time to contact angle measurement is measured 60 seconds after the reagent is dropped.

次に、Young−Dupreの式及び拡張Fowkesの式に基づき、固体の表面自由エネルギーの3成分を算出する。   Next, three components of the surface free energy of the solid are calculated based on the Young-Dupre equation and the extended Fowkes equation.

この場合、表面自由エネルギー解析ソフトEG−11(協和界面科学株式会社製)を用いて計算することができる。
Young−Dupreの式:WSL=γL(1+cosθ)
SL:液体/固体間の付着エネルギー
γL:液体の表面自由エネルギー
θ:液体/固体の接触角
拡張Fowkesの式:
SL=2{(γsdγL1/2+(γspγL1/2+(γshγL1/2
γL=γL+γL+γL:液体の表面自由エネルギー
γ=γsd+γsp+γsh:固体の表面自由エネルギー
γsd、γsp、γsh:表面自由エネルギーの分散、双極子、水素結合の各成分
In this case, calculation can be performed using surface free energy analysis software EG-11 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
Young-Dupre equation: W SL = γL (1 + cos θ)
W SL : Adhesion energy between liquid / solid γL: Surface free energy of liquid θ: Contact angle of liquid / solid Extended Fowkes' formula:
W SL = 2 {(γ sd γL d ) 1/2 + (γ sp γL p ) 1/2 + (γ sh γL h ) 1/2 }
γL = γL d + γL p + γL h : surface free energy of liquid γ s = γ sd + γ sp + γ sh : surface free energy of solid γ sd , γ sp , γ sh : dispersion of surface free energy, dipole, hydrogen bond Each ingredient

標準液体の表面自由エネルギー各成分値(mN/m)は、表1のように既知であるので、接触角の値から3元連立方程式を解くことにより、被測定固体表面の表面自由エネルギー各成分値(γsd、γsp、γsh)を求めることができる。 Since the surface free energy component values (mN / m) of the standard liquid are known as shown in Table 1, the surface free energy components of the solid surface to be measured are solved by solving the ternary simultaneous equations from the contact angle values. Values (γ sd , γ sp , γ sh ) can be determined.

Figure 2019000984
Figure 2019000984

また、自己修復層の弾性領域を拡大するために、後述する加飾成型加工を行う前の成形密着層における未硬化モノマーの割合が、5質量%以上であることが好ましい。加飾成型加工する前の成形密着層における未硬化モノマーの割合は5〜80質量%の範囲内であることが好ましく、5〜60質量%の範囲内であることがより好ましい。5質量%以上にすることで緩衝性が高くなるため、曲面体に貼合する時の応力緩和が良好で、80質量%以下であれば自己修復層の塑性化を防ぐ上で、より効果的である。   Moreover, in order to expand the elastic region of the self-healing layer, it is preferable that the ratio of the uncured monomer in the molded adhesion layer before performing the decorative molding process described later is 5% by mass or more. The ratio of the uncured monomer in the molded adhesion layer before the decorative molding process is preferably in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably in the range of 5 to 60% by mass. Since the buffering property is increased by setting it to 5% by mass or more, the stress relaxation at the time of bonding to the curved body is good, and if it is 80% by mass or less, it is more effective in preventing plasticization of the self-healing layer. It is.

また、加飾成型加工した後の前記成形密着層における前記未硬化モノマーの割合は、3質量%以下であることが好ましい。3質量%以下にすることで成形密着層が硬化し、外部応力がかかった時に成形密着層の変形を抑制することができ、光学反射率が劣化することを防ぐことができる。   Moreover, it is preferable that the ratio of the said non-hardened monomer in the said shaping | molding contact | adherence layer after decorating shaping | molding processing is 3 mass% or less. By setting the content to 3% by mass or less, the molded adhesive layer is cured, and when an external stress is applied, deformation of the molded adhesive layer can be suppressed, and deterioration of the optical reflectance can be prevented.

成形密着層に用いることのできるポリマーは、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合した重合性アクリルポリマーであることが好ましく、成形密着層に当該化合物を用いることで、自己修復層に紫外線吸収剤や光安定剤を添加して用いることよりも、自己修復層の自己修復性及び耐傷性を高めながら、自己修復性フィルム全体の耐光性を向上することができる。   The polymer that can be used for the molded adhesion layer is preferably a polymerizable acrylic polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers. Self-healing film while improving the self-healing property and scratch resistance of the self-healing layer by using the compound in the molded adhesion layer, rather than adding an ultraviolet absorber or a light stabilizer to the self-healing layer The overall light resistance can be improved.

本発明でいう紫外線安定性モノマーは、一般にHALS(ヒンダードアミン系光安定剤)と呼称される化合物をいい、下記一般式(1)及び(2)で表される紫外線安定性モノマーであることが好ましく、当該モノマーから選ばれる少なくとも1種を含むモノマー組成物をラジカル重合してなるポリマーの側鎖に重合性二重結合を有することが好ましい。   The UV-stable monomer as used in the present invention refers to a compound generally referred to as HALS (hindered amine light stabilizer), and is preferably an UV-stable monomer represented by the following general formulas (1) and (2). The polymer preferably has a polymerizable double bond in the side chain of a polymer obtained by radical polymerization of a monomer composition containing at least one selected from the monomers.

Figure 2019000984
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(一般式(1)中、Rは水素原子又はシアノ基を表す。R、Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。Rは水素原子又は炭素数1〜18の炭化水素基を表し、Xは酸素原子又はイミノ基を表す。) (In General Formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a cyano group. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. R 4 represents a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 18 carbon atoms. Represents a hydrogen group, and X represents an oxygen atom or an imino group.)

Figure 2019000984
Figure 2019000984

(一般式(2)中、Rは水素原子又はシアノ基を表す。R、Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。Xは酸素原子又はイミノ基を表す。) (In General Formula (2), R 1 represents a hydrogen atom or a cyano group. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom or an imino group.)

また、本発明に係るポリマーは、モノマー組成物が下記一般式(3)、(4)で表される紫外線吸収性モノマー、及び(5)で表されるモノマーから選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。   Moreover, the polymer which concerns on this invention contains at least 1 sort (s) chosen from the monomer which a monomer composition is represented by the following general formula (3) and the ultraviolet-absorbing monomer represented by (4), and (5). It is preferable.

Figure 2019000984
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(一般式(3)中、Rは水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表す。Rは低級アルキレン基を表す。Rは水素原子又はメチル基を表す。Yは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8の炭化水素基、低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。) (In General Formula (3), R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. R 6 represents a lower alkylene group. R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group. Y represents a hydrogen atom. Represents a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a lower alkoxy group, a cyano group or a nitro group.)

Figure 2019000984
Figure 2019000984

(一般式(4)中、Rは炭素数2又は3のアルキレン基を表す。Rは水素原子又はメチル基を表す。) (In General Formula (4), R 8 represents an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group.)

Figure 2019000984
Figure 2019000984

(一般式(5)中、R10は水素原子又はメチル基を表す。Zは置換基を有しても良いシクロアルキル基を表す。) (In general formula (5), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group. Z represents a cycloalkyl group which may have a substituent.)

本発明に係る成形密着層に用いられる重合性アクリルポリマーは、一般式(1)及び(2)で表される紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と、官能基を有するモノマーとを含むモノマー組成物をラジカル重合して得られたポリマーに、該官能基と反応する官能基及び重合性二重結合を有する化合物を反応させて製造することが好ましい。   The polymerizable acrylic polymer used for the molded adhesion layer according to the present invention is a monomer containing at least one selected from ultraviolet-stable monomers represented by the general formulas (1) and (2) and a monomer having a functional group It is preferable to produce the polymer obtained by radical polymerization of the composition by reacting a compound having a functional group that reacts with the functional group and a polymerizable double bond.

成形密着層に用いられる重合性アクリルポリマーは、上記特定構造の紫外線安定性モノマーを含有していることによって、優れた耐光性を示す。かかる作用については未だ十分には解明されていないが、おそらく、ピペリジン骨格のN−置換基が酸化されて生成するN−オキシラジカルによって、ポリマーの光開始反応で生じるアルキルラジカルが捕捉されることが当該作用の主ではないかと推測される。   The polymerizable acrylic polymer used for the molded adhesion layer exhibits excellent light resistance by containing the ultraviolet stable monomer having the specific structure. Although such an action has not yet been fully elucidated, it is likely that the alkyl radical generated in the photoinitiation reaction of the polymer is captured by the N-oxy radical generated by oxidation of the N-substituent of the piperidine skeleton. It is presumed that this is the main effect.

また、従来と同様に重合可能な紫外線安定剤を使用することによって、紫外線安定剤の重合組成物からのブリードアウトといった問題を解消することもできる。更に、当該ポリマーは側鎖に重合性二重結合を有するので、自己架橋性ポリマーとなり、耐傷性に優れる。また、アクリルポリマーであることから、共重合されるモノマーの側鎖アルキル基の長さや芳香環の有無により物性バランスをとりやすい。   Further, by using a polymerizable UV stabilizer as in the conventional case, the problem of bleeding out of the UV stabilizer from the polymerization composition can be solved. Furthermore, since the polymer has a polymerizable double bond in the side chain, it becomes a self-crosslinkable polymer and has excellent scratch resistance. Moreover, since it is an acrylic polymer, it is easy to balance physical properties depending on the length of the side chain alkyl group of the monomer to be copolymerized and the presence or absence of an aromatic ring.

また、上記重合性アクリルポリマーは、一般式(3)、(4)で表される特定構造を有する紫外線吸収性モノマーを併用することにより耐光性の点において著しい相乗効果を奏する。また、特定構造の不飽和モノマーを更に含有しても良い。当該不飽和モノマーは、立体的に嵩高い置換基を持つために、電子線又は紫外線による硬化のような塗膜に内部ひずみを生じやすい硬化方法において、塗膜の内部ひずみを緩和させる効果があり、塗膜にクラックを生じさせることなく、長期耐光性が更に向上する。   Moreover, the said polymerizable acrylic polymer has a remarkable synergistic effect in terms of light resistance by using together the ultraviolet-absorbing monomer which has the specific structure represented by General formula (3), (4). Moreover, you may further contain the unsaturated monomer of a specific structure. Since the unsaturated monomer has a sterically bulky substituent, it has the effect of reducing the internal strain of the coating film in a curing method that tends to cause internal strain in the coating film, such as curing with an electron beam or ultraviolet light. Further, long-term light resistance is further improved without causing cracks in the coating film.

本発明で用いられる一般式(1)、(2)の紫外線安定性モノマーにおいて、式中、Rで示される置換基は水素原子又はシアノ基で構成され、R、Rで示される置換基はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基で構成され、Rで示される置換基が水素原子又は炭素数1〜18の炭化水素基で構成され、Xで示される置換基が酸素原子又はイミノ基で構成されるピペリジン類である。 In the UV-stable monomer of the general formulas (1) and (2) used in the present invention, in the formula, the substituent represented by R 1 is constituted by a hydrogen atom or a cyano group, and the substituent represented by R 2 or R 3 Each group is independently composed of a hydrogen atom or a methyl group, the substituent represented by R 4 is composed of a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the substituent represented by X is an oxygen atom or imino It is a piperidine composed of a group.

上記一般式(1)において、Rで示される置換基とは、具体的には水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基など鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基などである。 In the above general formula (1), the substituent represented by R 4 is specifically a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group. A chain hydrocarbon group such as hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group; cyclopropyl group, An alicyclic hydrocarbon group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a benzyl group, and a phenethyl group.

前記一般式(1)で表される紫外線安定性モノマーとしては、具体的には4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどが挙げられ、これらの1種のみを用いても良く、また2種以上を適宜混合して用いても良い。もちろん一般式(1)の紫外線安定性モノマーはこれら化合物に限定されるものではない。   Specific examples of the UV-stable monomer represented by the general formula (1) include 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-2. , 2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-1,2,2,6,6 -Pentamethylpiperidine, 4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-croto Noylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like may be mentioned, and only one of these may be used, or two or more may be used in appropriate mixture. Of course, the ultraviolet-stable monomer of General formula (1) is not limited to these compounds.

前記一般式(2)で表される紫外線安定性モノマーとして、具体的には、1−(メタ)アクリロイル−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−クロトノイル−4−クロトイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどが挙げられ、これら1種のみを用いても良く、また2種以上を適宜混合して用いても良い。なお、一般式(2)の紫外線安定性モノマーはこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the UV-stable monomer represented by the general formula (2) include 1- (meth) acryloyl-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, (Meth) acryloyl-4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-crotonoyl-4-crotoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine These may be used, and only one of these may be used, or two or more may be appropriately mixed and used. In addition, the ultraviolet-stable monomer of General formula (2) is not limited to these.

本発明における前記一般式(3)で表される紫外線吸収性モノマーは、式中、Rは水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基で構成され、Rは低級アルキレン基で構成され、Rは水素原子又はメチル基で構成され、Yは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8の炭化水素基、低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で構成されるベンゾトリアゾール類である。 In the formula, the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (3) in the present invention is such that R 5 is composed of a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 is composed of a lower alkylene group. , R 7 is composed of a hydrogen atom or a methyl group, and Y is a benzotriazole composed of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a lower alkoxy group, a cyano group or a nitro group.

上記一般式(3)において、Rで表される置換基は、具体的には水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基である。Rで表される置換基は、具体的には炭素数1〜6のアルキレン基であって、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基などの直鎖状アルキレン基及びイソプロピレン基、イソブチレン基、s−ブチレン、t−ブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基などの分枝鎖状アルキレン基である。Yで表される置換基は、水素原子;フッ素原子、塩素原子、シュウ素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの鎖式炭化水素基:シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基:フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプトキシ基など炭素数1〜6の低級アルコキシ基;シアノ基;ニトロ基である。 In the general formula (3), the substituent represented by R 5 is specifically a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group. Chain hydrocarbon groups such as hexyl group, heptyl group, octyl group; alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl An aromatic hydrocarbon group such as a group, a benzyl group, and a phenethyl group. The substituent represented by R 6 is specifically an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and a linear alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, or a hexylene group. And branched chain alkylene groups such as isopropylene group, isobutylene group, s-butylene, t-butylene group, isopentylene group and neopentylene group. The substituent represented by Y is a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, an oxygen atom, or an iodine atom; a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, or t-butyl. Group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group and other chain hydrocarbon groups: cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and other alicyclic hydrocarbon groups: phenyl group, Aromatic hydrocarbon group such as tolyl group, xylyl group, benzyl group, phenethyl group; lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, heptoxy group; cyano group; Nitro group.

前記一般式(3)で表される紫外線吸収性モノマーとしては、具体的には2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル−3′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾールなどが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。一般式(3)で表されるこれら紫外線吸収性モノマーは1種類のみを用いても良く、また2種類以上を適宜混合して用いても良い。   Specific examples of the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (3) include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2-[[2 '-Hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl]]-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-t-butyl-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzo Triazole, 2- [2'-hydroxy-5'-t-butyl-3 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl ] -5-Chloro-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) Phenyl] -5-methoxy-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-cyano-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5' -(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -t-butyl-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-nitro-2H-benzotriazole, and the like. However, it is not particularly limited to these. These ultraviolet absorbing monomers represented by the general formula (3) may be used alone or in a suitable mixture of two or more.

また、前記一般式(4)で表される紫外線吸収性モノマーは、式中、Rで表される置換基は炭素数2又は3のアルキレン基で構成され、Rで表される水素原子又はメチル基で構成されるベンゾトリアゾール類である。 In the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (4), the substituent represented by R 8 is composed of an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms, and a hydrogen atom represented by R 9. Or it is benzotriazoles comprised by a methyl group.

上記一般式(4)において、Rで表される置換基は、具体的にはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基などである。 In the general formula (4), the substituent represented by R 8 is specifically an ethylene group, trimethylene group, propylene group, or the like.

前記一般式(4)で表される紫外線吸収性モノマーとしては、例えば、2−〔2′ヒドロキシ−5′−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)−3′−t−ブチルフェニル〕−4−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾールが挙げられるが、特にこれに限定されるものではない。一般式(4)で表されるこれら紫外線吸収性モノマーは1種類のみを用いても良く、また2種類以上を適宜混合しても良い。   Examples of the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (4) include 2- [2′hydroxy-5 ′-(β-methacryloyloxyethoxy) -3′-t-butylphenyl] -4-t- Although butyl-2H-benzotriazole is mentioned, it is not particularly limited to this. Only one kind of these ultraviolet absorbing monomers represented by the general formula (4) may be used, or two or more kinds may be appropriately mixed.

本発明に用いられる一般式(5)で表される不飽和モノマーは、式中、R10で示される置換基が水素原子又はメチル基で構成され、Zで示される置換基が置換基を有しても良いシクロアルキル基で構成される不飽和モノマーである。 In the unsaturated monomer represented by the general formula (5) used in the present invention, the substituent represented by R 10 is composed of a hydrogen atom or a methyl group, and the substituent represented by Z has a substituent. It is an unsaturated monomer composed of a cycloalkyl group.

上記一般式(5)において、Zで表される置換基は、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、t−ブチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基などである。   In the above general formula (5), the substituent represented by Z is a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a t-butylcyclohexyl group, a cyclododecyl group, or the like.

本発明に用いられる一般式(5)で表される不飽和モノマーとしては、具体的には、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、これらの1種又は2種以上が使用できる。   Specific examples of the unsaturated monomer represented by the general formula (5) used in the present invention include cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, and cyclododecyl ( (Meth) acrylate etc. are mentioned, These 1 type (s) or 2 or more types can be used.

本発明に用いられる重合性アクリルポリマーは、アクリル系モノマーを主たるモノマーとし、その他の共重合可能な不飽和モノマーとの共重合ポリマーであっても良い。   The polymerizable acrylic polymer used in the present invention may be a copolymer having an acrylic monomer as a main monomer and another copolymerizable unsaturated monomer.

本発明で使用するアクリル系モノマーとしては、(メタ)アクリル酸などのアクリル系カルボン酸;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリルトリデシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート(例えば、(株)ダイセル製「プラクセルFM」)、フタル酸とプロピレングリコールから得られるエステルジオールの(メタ)アクリル酸モノエステルなどのヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、2−スルホン酸エチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート及びその塩などのその他アクリル系モノマーなどを挙げることができ、これらの1種又は2種以上が使用される。これらの中でも、機能性フィルムとの密着性の点からイミド(メタ)アクリレートを好適に使用することができる。   Examples of acrylic monomers used in the present invention include acrylic carboxylic acids such as (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n -(Meth) acrylic acid esters such as butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryltridecyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate (for example, “Placcel FM” manufactured by Daicel Corporation), (meth) acrylic acid monoester of ester diol obtained from phthalic acid and propylene glycol, etc. Droxy group-containing (meth) acrylic acid ester; (meth) acrylonitrile, (meth) acrylamide, N-methylolacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, diacetone acrylamide, 2-sulfonic acid ethyl (meth) acrylate, imide (meth) acrylate And other acrylic monomers such as salts thereof, and one or more of these may be used. Among these, imide (meth) acrylate can be preferably used from the viewpoint of adhesion with the functional film.

その他の共重合可能な不飽和モノマーとしては、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンなどのハロゲン含有不飽和モノマー;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族不飽和モノマー;酢酸ビニルなどのビニルエステル;ビニルエーテルなどが挙げられ、必要に応じてこれらの1種又は2種以上が使用できる。   Other copolymerizable unsaturated monomers include, for example, halogen-containing unsaturated monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; aromatic unsaturated monomers such as styrene, α-methylstyrene and vinyltoluene; vinyl esters such as vinyl acetate; A vinyl ether etc. are mentioned, These 1 type (s) or 2 or more types can be used as needed.

各種モノマーの使用量は、特に限定されるものではないが、一般式(1)、(2)で表される紫外線安定性モノマーの合計使用量は、ポリマー組成物全量に対して0.1〜30質量%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述べると、下限側として好ましくは0.5質量%、更に好ましくは1質量%である。他方上限側として好ましくは20質量%、更に好ましくは15質量%である。紫外線安定性モノマーの合計使用量がこの範囲内であれば、重合性アクリルポリマーの耐光性が十分となる。   Although the usage-amount of various monomers is not specifically limited, The total usage-amount of the ultraviolet-stable monomer represented by General formula (1), (2) is 0.1-0.1 with respect to a polymer composition whole quantity. It is desired to be 30% by mass. A more preferable range is described below. The lower limit is preferably 0.5% by mass, and more preferably 1% by mass. The other upper limit is preferably 20% by mass, and more preferably 15% by mass. When the total amount of the UV-stable monomer is within this range, the light resistance of the polymerizable acrylic polymer is sufficient.

一般式(3)、(4)で表される紫外線吸収性モノマーの合計使用量は、ポリマー組成物全量に対して0.1〜30質量%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述べると、下限側として好ましくは0.5質量%、更に好ましくは1質量%である。他方上限側として好ましくは20質量%、更に好ましくは15質量%である。この範囲内であれば、紫外線安定性モノマーとの相乗効果が十分となり、耐光性も十分となる。また、着色の原因となるおそれもない。   The total use amount of the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formulas (3) and (4) is desirably 0.1 to 30% by mass with respect to the total amount of the polymer composition. A more preferable range is described below. The lower limit is preferably 0.5% by mass, and more preferably 1% by mass. The other upper limit is preferably 20% by mass, and more preferably 15% by mass. Within this range, the synergistic effect with the UV-stable monomer is sufficient, and the light resistance is also sufficient. Moreover, there is no possibility of causing coloring.

一般式(5)で表される不飽和モノマーの使用量は、ポリマー組成物全量に対して5〜80質量%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述べると、下限側として好ましくは10質量%、更に好ましくは15質量%である。他方上限側として好ましくは70質量%、更に好ましくは50質量%である。この範囲内であれば、硬化の際にクラックが生じにくく、耐光性が十分となり、硬化塗膜が脆くなるおそれもない。   The amount of the unsaturated monomer represented by the general formula (5) is desirably 5 to 80% by mass with respect to the total amount of the polymer composition. The more preferable range is described. The lower limit is preferably 10% by mass, and more preferably 15% by mass. The other upper limit is preferably 70% by mass, and more preferably 50% by mass. Within this range, cracks are hardly generated during curing, light resistance is sufficient, and there is no possibility that the cured coating film becomes brittle.

本発明の重合性アクリルポリマーは、一般式(1)及び(2)で表される紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と、官能基を有するモノマーとを含むモノマー組成物をラジカル重合して得られたポリマーに、該官能基と反応する官能基及び重合性二重結合を有する化合物を反応させて製造することができる。   The polymerizable acrylic polymer of the present invention is obtained by radical polymerization of a monomer composition containing at least one selected from ultraviolet-stable monomers represented by the general formulas (1) and (2) and a monomer having a functional group. The obtained polymer can be produced by reacting a functional group that reacts with the functional group and a compound having a polymerizable double bond.

重合性二重結合を導入するために用いる官能基の具体例としては、エポキシ基、オキサゾリン基、イソシアネート基、酸アミド基(アミノカルボニル基)、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基等が挙げられる。これらの官能基を有する共重合可能なモノマーの具体例は、グリシジル(メタ)アクリレート、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、エチルイソシアネート(メタ)アクリレート、N−アクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド、イタコン酸ジアミド、フマル酸アミド、フタル酸アミド、(メタ)アクリレート、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the functional group used for introducing a polymerizable double bond include an epoxy group, an oxazoline group, an isocyanate group, an acid amide group (aminocarbonyl group), a carboxy group, a hydroxy group, and an amino group. Specific examples of the copolymerizable monomer having these functional groups include glycidyl (meth) acrylate, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, ethyl isocyanate (meth) acrylate, N- Acrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, itaconic acid diamide, fumaric acid amide, phthalic acid amide, (meth) acrylate, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, etc. are mentioned.

重合性官能基を導入するために用いられる化合物の具体例としては、官能基がエポキシ基、オキサゾリン基の場合には、(メタ)アクリル酸、イタコン酸等のカルボキシ基を有する化合物;官能基がイソシアネート基の場合には、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー;官能基がカルボキシ基の場合には、グリシジル(メタ)アクリレート、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有モノマー、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー;官能基がヒドロキシ基の場合には、エチルイソシアネート(メタ)アクリレート等のイソシアネート基含有モノマー、(メタ)アクリレート、イタコン酸等のカルボキシ基含有モノマー;官能基が酸アミド基の場合には、グリシジル(メタ)アクリレート、4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のエポキシ基又はヒドロキシ基含有モノマー;官能基がアミノ基の場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシ基含有モノマー等が挙げられる。   Specific examples of compounds used for introducing a polymerizable functional group include compounds having a carboxy group such as (meth) acrylic acid and itaconic acid when the functional group is an epoxy group or an oxazoline group; In the case of an isocyanate group, a hydroxy group-containing monomer such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; when the functional group is a carboxy group, Epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth) acrylate, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4 -Hydroxybutyl (meth) acrylate Hydroxyl group-containing monomers such as G; when the functional group is a hydroxy group, isocyanate group-containing monomers such as ethyl isocyanate (meth) acrylate, carboxy group-containing monomers such as (meth) acrylate and itaconic acid; In the case of a group, an epoxy group or a hydroxy group-containing monomer such as glycidyl (meth) acrylate, 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; when the functional group is an amino group, Examples include carboxy group-containing monomers such as (meth) acrylic acid.

本発明のアクリルポリマーの二重結合当量は、200〜3000が好ましく、より好ましくは300〜1500、更に好ましくは350〜1000が良い。二重結合当量が3000以下であれば、硬度及び耐傷性が十分となる。200以上であると、経時的に硬化塗膜にクラックが生じにくく、耐光性が向上する。   The double bond equivalent of the acrylic polymer of the present invention is preferably 200 to 3000, more preferably 300 to 1500, and still more preferably 350 to 1000. If the double bond equivalent is 3000 or less, the hardness and scratch resistance will be sufficient. When it is 200 or more, cracks hardly occur in the cured coating film over time, and light resistance is improved.

また、モノマー成分を共重合させる際の重合方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の重合方法が採用され得る。例えば、溶液重合、分散重合、懸濁重合、乳化重合などの重合方法が使用できる。溶液重合法を用いてモノマー成分を重合させる場合に用いることができる溶媒としては、トルエン、キシレン、その他高沸点の芳香族系溶媒;酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル系溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒などが挙げられる。もちろん使用し得る溶媒がこれら溶媒に限定されるものではない。これら溶媒は1種のみを使用しても良いし、2種以上を混合して使用しても良い。なお、溶媒の使用量は生成物の濃度などを考慮し適宜定めれば良い。   Moreover, the polymerization method at the time of copolymerizing a monomer component is not specifically limited, A conventionally well-known polymerization method can be employ | adopted. For example, polymerization methods such as solution polymerization, dispersion polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization can be used. Solvents that can be used when polymerizing monomer components using the solution polymerization method include toluene, xylene, and other high-boiling aromatic solvents; ester solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, and cellosolve acetate; methyl ethyl ketone, Examples thereof include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. Of course, the solvent which can be used is not limited to these solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more. It should be noted that the amount of solvent used may be appropriately determined in consideration of the concentration of the product.

また、モノマー組成物を共重合させる際には重合開始剤を用いる。重合開始剤としては、例えば2,2′−アゾビス−(2−メチルブチロニトリル)、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイドなどの通常のラジカル重合開始剤が挙げられる。重合開始剤の使用量は、要求されるポリマーの特性値などから適宜決定されるべきものであり、特に限定はないが、モノマー成分全量に対して0.01〜50質量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.05〜20質量%の範囲である。   A polymerization initiator is used when the monomer composition is copolymerized. Examples of the polymerization initiator include 2,2′-azobis- (2-methylbutyronitrile), t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,2′-azobisisobutyronitrile, benzoylper Usual radical polymerization initiators such as oxide and di-t-butyl peroxide are exemplified. The amount of the polymerization initiator to be used is appropriately determined from the required characteristic values of the polymer and is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 50% by mass with respect to the total amount of the monomer components, More preferably, it is the range of 0.05-20 mass%.

反応温度は、特に限定されるものではないが、室温〜200℃の範囲が好ましく、40〜140℃がより好ましい。なお、反応時間は、用いるモノマー組成物の組成や重合開始剤の種類などに応じて、重合反応が完結するように適宜設定すれば良い。   Although reaction temperature is not specifically limited, The range of room temperature-200 degreeC is preferable, and 40-140 degreeC is more preferable. In addition, what is necessary is just to set reaction time suitably according to the composition of the monomer composition to be used, the kind of polymerization initiator, etc. so that a polymerization reaction may be completed.

(成形密着層のその他の成分)
成形密着層を形成するその他の成分として、硬化剤、硬化促進剤、その他添加剤等を用いることができ、それらの詳細については、例えば、特開2009−269984号公報に記載されているような材料を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
(Other components of the molding adhesion layer)
As other components for forming the molded adhesion layer, a curing agent, a curing accelerator, other additives, and the like can be used. Details thereof are described, for example, in JP-A-2009-269984. Examples of the material include, but are not limited to, materials.

(成形密着層の形成方法)
成形密着層の形成方法としては、上記ポリマー及び必要に応じて各種添加剤を有機溶剤等に溶解して成形密着層塗布液とし、当該塗布液を機能性フィルム上に塗布する方法が好ましい。塗布は、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコーター、ロールコート、スピンコート、バーコートなどの方法により行うことができる。
(Forming adhesion layer forming method)
As a method for forming the molded adhesion layer, a method in which the polymer and, if necessary, various additives are dissolved in an organic solvent or the like to form a molded adhesion layer coating solution, and the coating solution is applied onto a functional film is preferable. Coating can be performed by methods such as dipping, spraying, brushing, curtain flow coater, roll coating, spin coating, bar coating, and the like.

成形密着層の層厚は特に制限されるものではないが、1〜10μmの範囲内であることが好ましく、3〜7μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であれば、自己修復層の外部からの応力を成形密着層で緩和することができ、自己修復層の弾性変形領域を広げることで、より強い外部応力に対しても、自己修復性を保ちながら、耐傷性を向上させることができる。   The layer thickness of the formed adhesion layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 10 μm, and preferably in the range of 3 to 7 μm. Within the above range, the stress from the outside of the self-healing layer can be relaxed by the molded adhesion layer, and the elastic deformation region of the self-healing layer is widened, so that the self-healing property can be improved even for stronger external stress Scratch resistance can be improved while maintaining the above.

前記重合性アクリルポリマーの硬化は、加熱することによって行うことが好ましく、前記成形密着層塗布液を機能性フィルム上に塗布し、次いで熱硬化する。ポリマーの種類、硬化剤、硬化促進剤等の割合を適宜調整することにより、80〜200℃の温度範囲で硬化することが好ましい。80〜150℃の温度範囲であることがより好ましく、80〜120℃の温度範囲であることが更に好ましい。熱硬化の時間は適宜調整されるものであるが、0.5〜10分間の範囲内であることが、未硬化モノマーの割合の調整と成形密着層の機械的強度を維持する上で好ましい。   The polymerizable acrylic polymer is preferably cured by heating, and the molding adhesion layer coating solution is applied onto the functional film and then thermally cured. It is preferable to cure in a temperature range of 80 to 200 ° C. by appropriately adjusting the ratio of the kind of polymer, curing agent, curing accelerator and the like. A temperature range of 80 to 150 ° C is more preferable, and a temperature range of 80 to 120 ° C is more preferable. The time for thermosetting is appropriately adjusted, but it is preferably within the range of 0.5 to 10 minutes in order to adjust the ratio of the uncured monomer and maintain the mechanical strength of the formed adhesion layer.

本発明に係る成形密着層は、加飾成型加工前の当該成形密着層に未硬化モノマーの割合が、5質量%以上であることが、自己修復層の弾性変形領域を広げることに効果がある。特に、加飾成型加工前及び本発明の自己修復性フィルムが曲面形状に延伸され、貼合されるような加飾成型時のハンドリングにおける耐傷性を向上する観点からは、モノマー成分を意図的に残留させることが好ましく、前記熱硬化の温度及び時間を上記の範囲内で制御することが好ましい。また、熱硬化した後にエージング等の後加熱工程を施すことなく、当該成形密着層上に自己修復層を形成することが好ましい。   In the molded adhesion layer according to the present invention, the ratio of the uncured monomer to the molded adhesion layer before the decorative molding process is 5% by mass or more, which is effective for expanding the elastic deformation region of the self-healing layer. . In particular, from the viewpoint of improving scratch resistance in handling during decorative molding such that the self-restoring film of the present invention is stretched into a curved surface shape and bonded before the decorative molding process, the monomer component is intentionally It is preferable to make it remain, and it is preferable to control the temperature and time of the thermosetting within the above range. In addition, it is preferable to form a self-repairing layer on the molded adhesion layer without performing a post-heating step such as aging after thermosetting.

すなわち、本発明の自己修復性フィルムの製造方法は、前記成形密着層を形成するための成形密着層塗布液を前記機能性フィルム上に塗布し、次いで熱硬化した後にエージング処理を施すことなく、当該成形密着層上に自己修復層を形成することが好ましい。ここでいう、エージング処理とは、成形密着層を形成した後に比較的低温で長時間加熱することをいい、加熱温度や加熱時間の組み合わせによって行われるため、一概にはいえないが、例えば35〜50℃の範囲の温度で、0.5〜7日の範囲内で行われる加熱処理をいう。   That is, the method for producing a self-healing film of the present invention is applied without applying an aging treatment after applying a molding adhesion layer coating solution for forming the molding adhesion layer on the functional film and then thermosetting, It is preferable to form a self-healing layer on the molded adhesion layer. As used herein, the aging treatment refers to heating at a relatively low temperature for a long time after forming the molded adhesion layer, and since it is performed by a combination of heating temperature and heating time, it cannot be said unconditionally. It refers to a heat treatment performed at a temperature in the range of 50 ° C. within a range of 0.5 to 7 days.

また、自己修復層を形成した後に当該自己修復層の硬化を促進する意図で、自己修復性フィルムにエージング処理を行っても良いが、その場合において、加飾成型加工前の当該成形密着層の未硬化モノマーの割合が5質量%以上となるような、比較的マイルドなエージング処理条件で行うことが好ましい。   In addition, the self-healing film may be subjected to an aging treatment with the intention of promoting the curing of the self-healing layer after the self-healing layer is formed. It is preferable to carry out under relatively mild aging treatment conditions such that the ratio of the uncured monomer is 5% by mass or more.

加飾成型加工前の未硬化モノマーの割合は、5〜80質量%の範囲内であることが好ましく、5〜60質量%の範囲内であることがより好ましい。5質量%以上にすることで緩衝性が高くなるため、曲面形状体に貼合する時の応力緩和が良好で、80質量%以下であれば自己修復層の塑性化を防ぐ上で、より効果的である。   The proportion of the uncured monomer before the decorative molding process is preferably in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably in the range of 5 to 60% by mass. Since the buffering property is increased by setting it to 5% by mass or more, the stress relaxation when bonding to a curved shape body is good, and if it is 80% by mass or less, it is more effective in preventing plasticization of the self-healing layer. Is.

更に、加飾成型後の当該未硬化モノマーの割合は、3質量%以下であることが好ましく、当該範囲に制御するのに、加飾成型時の温度は80℃以上で行うことが好ましく、80〜200℃の温度範囲で行うことが好ましい。80〜150℃の温度範囲であることがより好ましく、80〜120℃の温度範囲であることが更に好ましい。加飾成型の時間は上記未硬化モノマーの割合になるように適宜調整されることが好ましい。   Further, the proportion of the uncured monomer after the decorative molding is preferably 3% by mass or less, and the temperature during the decorative molding is preferably 80 ° C. or higher, in order to control within the range, 80 It is preferable to carry out in a temperature range of ˜200 ° C. A temperature range of 80 to 150 ° C is more preferable, and a temperature range of 80 to 120 ° C is more preferable. It is preferable that the time for the decorative molding is appropriately adjusted so as to be the proportion of the uncured monomer.

上記の温度及び時間の範囲内で加飾成型を行うことによって、加飾成型後の当該未硬化モノマーの割合は、0.1〜3質量%以下に制御することが好ましく、0.1〜1.0質量%の範囲内であることが、より好ましい。加飾成型後の当該未硬化モノマーの割合が0.1質量%以上であれば成型後の耐傷性が高く、3質量%以下であれば成型後の耐光性が向上する。   The proportion of the uncured monomer after the decorative molding is preferably controlled to 0.1 to 3% by mass or less by performing decorative molding within the above temperature and time range, and 0.1 to 1 More preferably, it is in the range of 0.0 mass%. If the proportion of the uncured monomer after decorative molding is 0.1% by mass or more, scratch resistance after molding is high, and if it is 3% by mass or less, light resistance after molding is improved.

加飾成型工程前後の成形密着層中の未硬化モノマーの割合を、以上のような特定の範囲に調整することによって、自己修復層の弾性変形領域を更に広げることができ、例えば本発明の自己修復性フィルムが曲面形状に延伸され、貼合されるような加飾成型加工時においても、成型時、及び成型後の基材からの変形応力を吸収し、自己修復層の延伸部の耐傷性の劣化を抑制することができるものと推察される。   By adjusting the ratio of the uncured monomer in the molded adhesion layer before and after the decorative molding process to the specific range as described above, the elastic deformation region of the self-healing layer can be further expanded. Even during the decorative molding process where the restorative film is stretched into a curved surface and bonded, it absorbs deformation stress from the base material after molding and after molding, and the scratch resistance of the stretched part of the self-healing layer It is presumed that the deterioration of the resin can be suppressed.

<成形密着層中の未硬化モノマーの定量方法>
成形密着層中の未硬化モノマーの含有量は、以下の方法で測定できる。
<Method for quantifying uncured monomer in molded adhesion layer>
The content of the uncured monomer in the molded adhesion layer can be measured by the following method.

自己修復性フィルム試料を切削し、成形密着層のATR(Attenuated Total Reflection:全反射測定法)を測定する。ATR装置としては、一例として、FT/IR−4100(日本分光(株)製)を用いることができる。   A self-healing film sample is cut, and the ATR (Attenuated Total Reflection) of the formed adhesion layer is measured. As an example of the ATR apparatus, FT / IR-4100 (manufactured by JASCO Corporation) can be used.

(方法とデータ処理)
自己修復性フィルム試料を切削し、出てきた成形密着層の固形分をATRとして400〜6000cm−1の波数の範囲で測定する。それぞれ以下の波数の反射光強度R1及びR2が得られる。
(Method and data processing)
The self-healing film sample is cut, and the solid content of the formed adhesion layer that has come out is measured in the wave number range of 400 to 6000 cm −1 as ATR. Reflected light intensities R1 and R2 having the following wave numbers are obtained.

R1:2270cm−1の反射光強度:これはイソシアネート結合のピークであり、未硬化成分のピークである。
R2:2950cm−1の反射光強度:これは、C−H結合のピークであり、材料そのもの(硬化/未硬化で変化しない)のピークである。
R1: Reflected light intensity of 2270 cm −1 : This is a peak of an isocyanate bond and a peak of an uncured component.
R2: Reflected light intensity of 2950 cm −1 : This is the peak of the C—H bond, and the peak of the material itself (which does not change with curing / uncuring).

R1/R2を算出することで、未硬化成分を定量することができる。   By calculating R1 / R2, uncured components can be quantified.

ここで、
A:成形密着層塗布後のR1/R2;熱硬化性樹脂は塗布後溶媒が揮発した段階では未硬化モノマー100%である。
B:成形密着層塗布後、150℃、30minの硬化処理後のR1/R2;熱硬化性樹脂が完全に硬化して未硬化モノマー0%である。
here,
A: R1 / R2 after application of the molded adhesion layer; the thermosetting resin is 100% of uncured monomer at the stage where the solvent is volatilized after application.
B: R1 / R2 after curing treatment at 150 ° C. for 30 minutes after application of the molding adhesion layer; the thermosetting resin is completely cured and the uncured monomer is 0%.

以上のデータから、未硬化モノマーの割合MMは次式で求めることができる。
(未硬化モノマーの割合MM(質量%))=(R1/R2−B)/(A−B)×100
上式で、(R1/R2−B)とは、測定時のR1/R2からベース強度を引いた値を表す。
また、(A−B)とは、全モノマー量(ポリマー及びモノマーの合算量)を示す。
したがって、(R1/R2−B)/(A−B)は、測定時における(未硬化モノマー量)/(全モノマー量)である。
From the above data, the ratio MM of the uncured monomer can be obtained by the following equation.
(Ratio MM (mass%) of uncured monomer) = (R1 / R2-B) / (AB) × 100
In the above equation, (R1 / R2-B) represents a value obtained by subtracting the base strength from R1 / R2 at the time of measurement.
Moreover, (AB) shows the total monomer amount (total amount of polymer and monomer).
Therefore, (R1 / R2-B) / (AB) is (uncured monomer amount) / (total monomer amount) at the time of measurement.

〔3〕機能性フィルム
本発明に係る機能性フィルムには、その上層として本発明に係る成形密着層及び自己修復層が積層され、これら各層によって自己修復性フィルムが構成される。当該機能性フィルムとしては、光波長1000〜1500nmの範囲の光反射率が、50%以上であることが好ましい。また、別の形態の機能性フィルムとしてとしては、光波長450〜650nmの範囲の光反射率が、50%以上であることが好ましい。
[3] Functional film The functional film according to the present invention is laminated with the molded adhesion layer and the self-healing layer according to the present invention as an upper layer, and these layers constitute a self-healing film. The functional film preferably has a light reflectance of 50% or more in the light wavelength range of 1000 to 1500 nm. Moreover, as a functional film of another form, it is preferable that the light reflectivity in the range of light wavelength 450-650 nm is 50% or more.

前者は一般に赤外光を選択的に反射する赤外線反射フィルムと総称されるフィルムであり、後者は可視光を選択的に反射する反射フィルム(フィルムミラーともいう。)又は光沢フィルム(金属光沢調フィルムともいう。)と総称されるフィルムであり、それぞれに様々な種類がある。   The former is a film generally referred to as an infrared reflective film that selectively reflects infrared light, and the latter is a reflective film (also called a film mirror) that selectively reflects visible light or a glossy film (a metallic glossy film). Also referred to as)), and there are various types of films.

以下、本発明に係る機能性フィルムとして好ましい実施態様である、窓貼り用の赤外線反射フィルム、太陽熱反射フィルム用の反射フィルム(フィルムミラー)及び金属光沢調フィルムについて詳細に説明する。   Hereinafter, the infrared reflective film for window pasting, the reflective film (film mirror) for solar heat reflective films, and the metallic glossy film, which are preferred embodiments as the functional film according to the present invention, will be described in detail.

〔3.1〕赤外線反射フィルム
本発明に係る機能性フィルムである赤外線反射フィルムの光学特性としては、JIS R3106(1998)で測定される可視光透過率として、好ましくは60%以上であり、より好ましくは70%以上であり、更に好ましくは80%以上である。また、波長1000〜1500nmの近赤外から赤外領域の反射率が、50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが更に好ましく、90%以上であることが特に好ましい。反射率は、分光光度計(積分球使用、(株)日立ハイテクノロジーズ製、U−4000型)を用い、23℃、55%RHの環境下、赤外反射フィルムの1000〜1500nmの領域における反射率を測定し、その平均反射率を求め、これを赤外反射率とする。
[3.1] Infrared Reflective Film As the optical characteristics of the infrared reflective film which is a functional film according to the present invention, the visible light transmittance measured by JIS R3106 (1998) is preferably 60% or more, and more Preferably it is 70% or more, More preferably, it is 80% or more. Further, the reflectivity from the near infrared region to the infrared region having a wavelength of 1000 to 1500 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and 90%. The above is particularly preferable. The reflectance is a reflection in a 1000-1500 nm region of an infrared reflective film in an environment of 23 ° C. and 55% RH using a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, U-4000 type). The rate is measured, the average reflectance is obtained, and this is taken as the infrared reflectance.

また、赤外線反射フィルムの総厚としては、特に制限はないが、100〜1500μmの範囲内であり、好ましくは100〜1000μmの範囲内であり、更に好ましくは100〜700μmの範囲内であり、特に好ましくは100〜500μmの範囲内である。   The total thickness of the infrared reflective film is not particularly limited, but is in the range of 100 to 1500 μm, preferably in the range of 100 to 1000 μm, more preferably in the range of 100 to 700 μm, particularly Preferably it exists in the range of 100-500 micrometers.

赤外線反射フィルムの代表的な構成例について、図を交えて説明する。   A typical configuration example of the infrared reflective film will be described with reference to the drawings.

赤外線反射フィルムは、機能性層として1000〜1500nmの光波長範囲内の光を80%以上、更に好ましくは90%以上反射する機能を有する赤外線反射層を有することが好ましい。また、好ましくは、当該赤外線反射層が、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率反射層と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率反射層とを交互に積層し、特定の波長の光を選択的に反射する反射層積層体である構成である。   The infrared reflective film preferably has an infrared reflective layer having a function of reflecting 80% or more, more preferably 90% or more of light within the light wavelength range of 1000 to 1500 nm as the functional layer. Preferably, the infrared reflective layer includes a high refractive index reflective layer containing a first water-soluble binder resin and first metal oxide particles, a second water-soluble binder resin, and a second metal oxide. In this configuration, the low-refractive-index reflective layers containing particles are alternately laminated to selectively reflect light having a specific wavelength.

本発明におけるこれらの層構成は、少なくとも透明基材フィルムと赤外線反射層を有していれば、特に限定されるものではなく、それぞれの目的に応じて適正な層構成を選択することができる。   These layer configurations in the present invention are not particularly limited as long as they have at least a transparent substrate film and an infrared reflective layer, and an appropriate layer configuration can be selected according to each purpose.

図3及び図4は赤外線反射層を具備する、本発明の自己修復性フィルムの構成の例を示した断面図である。   3 and 4 are cross-sectional views showing examples of the structure of the self-healing film of the present invention having an infrared reflective layer.

前記赤外線反射層は、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率反射層と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率反射層とが交互に積層され、特定の波長の光を選択的に反射する反射層積層体であることが好ましく、例えば図3で示す構成であることが好ましい態様である。   The infrared reflective layer includes a high refractive index reflective layer containing a first water-soluble binder resin and first metal oxide particles, and a low refractive index containing a second water-soluble binder resin and second metal oxide particles. A reflective layer laminated body in which refractive index reflective layers are alternately laminated and selectively reflect light of a specific wavelength is preferable. For example, the configuration shown in FIG. 3 is a preferred embodiment.

図3に示す自己修復性フィルムWFでは、基材フィルム2上に、赤外線反射層として、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率の反射層と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率の反射層とを交互に積層した反射層積層体ML1を有している。反射層積層体ML1は、基材フィルム2側から反射層T〜Tのn層で構成される。例えば、T、T、T、(中略)、Tn−2、Tを屈折率が1.10〜1.60の範囲内にある低屈折率層とし、T、T、T、(中略)、Tn−1を屈折率が1.80〜2.50の範囲内にある高屈折率層とする構成が一例として挙げられる。本発明でいう屈折率とは、25℃の環境下で測定した値である。 In the self-healing film WF shown in FIG. 3, a high refractive index reflective layer containing a first water-soluble binder resin and first metal oxide particles as an infrared reflective layer on the base film 2; And a reflective layer laminate ML1 in which two water-soluble binder resins and a low refractive index reflective layer containing second metal oxide particles are alternately laminated. The reflective layer laminate ML1 is composed of n layers of reflective layers T 1 to T n from the base film 2 side. For example, T 1 , T 3 , T 5 , (omitted), T n−2 , and T n are low refractive index layers having a refractive index in the range of 1.10 to 1.60, and T 2 , T 4 , An example is a configuration in which T 6 , (omitted), and T n−1 are high refractive index layers having a refractive index in the range of 1.80 to 2.50. The refractive index as used in the field of this invention is the value measured in the environment of 25 degreeC.

図4は、自己修復性フィルムで、ポリマー層積層体により構成される赤外線反射層を有する構成の一例を示す概略断面図である。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a configuration having an infrared reflective layer composed of a polymer layer laminate, which is a self-healing film.

図4に示す自己修復性フィルムWFでは、基材フィルム2上に、赤外線反射層としてポリマー層積層体ML2が、それぞれ素材の異なる2種のポリマーフィルムを積層して構成されている。構成の一例としては、基材フィルム2側から、ポリエチレンナフタレートフィルムで形成されているPEN、ポリメチルメタアクリレートフィルムで形成されているPMMA、PEN、PMMA、PEN、PMMA、(中略)、PENn−1、PMMAn−1、PENと積層してポリマー層積層体ML2が形成されている。積層されるフィルム総数は150〜1000層の範囲内であることが好ましい。これらポリマー層積層体の詳細については、例えば、米国特許第6049419号明細書に記載の内容を参考とすることができる。 In the self-healing film WF shown in FIG. 4, a polymer layer laminate ML <b> 2 as an infrared reflecting layer is formed on a base film 2 by laminating two kinds of polymer films having different materials. As an example of the configuration, from the base film 2 side, PEN 1 formed of a polyethylene naphthalate film, PMMA 1 , PEN 2 , PMMA 2 , PEN 3 , PMMA 3 formed of a polymethyl methacrylate film, (Omitted), PEN n-1 , PMMA n-1 , and PEN n are laminated to form a polymer layer laminate ML2. The total number of laminated films is preferably in the range of 150 to 1000 layers. For details of these polymer layer laminates, for example, the contents described in US Pat. No. 6,049,419 can be referred to.

本発明に係る赤外線反射フィルムとしては、上記の構成層のほかに、必要に応じて、各種機能層を設けても良い。   As an infrared reflective film according to the present invention, various functional layers may be provided as necessary in addition to the above-described constituent layers.

また、本発明の自己修復性フィルムは、上記反射層積層体ML1又はポリマー層積層体ML2の最上層である、反射層T若しくはポリエチレンナフタレートフィルムPEN上に直接又は他の機能層を介して、本発明に係る成形密着層4及び自己修復層5がこの順に形成されるものである。 Moreover, self-healing films of the present invention is the uppermost layer of the reflecting layer stack ML1 or polymer layer laminate ML2, directly or via another functional layer on the reflective layer T n or a polyethylene naphthalate film PEN n Thus, the molded adhesion layer 4 and the self-repairing layer 5 according to the present invention are formed in this order.

<基材フィルム>
本発明に係る機能性フィルムに適用可能な基材フィルムとしては、透明樹脂フィルム等を挙げることができる。本発明でいう「透明」とは、可視光領域における平均光線透過率が50%以上であることをいい、好ましくは60%以上、より好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。
<Base film>
Examples of the base film applicable to the functional film according to the present invention include a transparent resin film. “Transparent” in the present invention means that the average light transmittance in the visible light region is 50% or more, preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more.

基材フィルムの厚さは、30〜200μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは30〜100μmの範囲内であり、更に好ましくは35〜70μmの範囲内である。基材フィルムの厚さが30μm以上であれば、取り扱い中にシワ等が発生しにくくなり、200μm以下であれば、例えば合わせガラス作製時、ガラス基材と貼り合わせる際のガラス曲面への追従性が良くなる。   The thickness of the base film is preferably in the range of 30 to 200 μm, more preferably in the range of 30 to 100 μm, and still more preferably in the range of 35 to 70 μm. If the thickness of the substrate film is 30 μm or more, wrinkles and the like are less likely to occur during handling, and if it is 200 μm or less, for example, when making laminated glass, the ability to follow a curved glass surface when bonded to a glass substrate. Will be better.

透明樹脂フィルムは、二軸配向ポリエステルフィルムであることが好ましいが、未延伸又は少なくとも一方に延伸されたポリエステルフィルムを用いることもできる。強度向上及び熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。特に、本発明の自己修復性フィルムを具備した合わせガラスが、自動車のフロントガラスとして用いられる際には、延伸フィルムがより好ましい。   The transparent resin film is preferably a biaxially oriented polyester film, but an unstretched or at least one stretched polyester film can also be used. A stretched film is preferable from the viewpoint of strength improvement and thermal expansion suppression. In particular, when the laminated glass provided with the self-healing film of the present invention is used as a windshield of an automobile, a stretched film is more preferable.

透明樹脂フィルムは、自己修復性フィルムのシワの生成や赤外線反射層の割れを防止する観点から、温度150℃において、熱収縮率が0.1〜3.0%の範囲内であることが好ましく、1.5〜3.0%の範囲内であることがより好ましく、1.9〜2.7%であることが更に好ましい。   The transparent resin film preferably has a thermal shrinkage within a range of 0.1 to 3.0% at a temperature of 150 ° C. from the viewpoint of preventing generation of wrinkles of the self-repairing film and cracking of the infrared reflective layer. The content is more preferably in the range of 1.5 to 3.0%, and still more preferably 1.9 to 2.7%.

本発明に適用可能な透明樹脂フィルムとしては、上述のように、透明であれば特に制限されることはないが、例えば、ポリオレフィンフィルム(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースフィルム等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルム、トリアセチルセルロースフィルムである。   As described above, the transparent resin film applicable to the present invention is not particularly limited as long as it is transparent. For example, a polyolefin film (for example, polyethylene, polypropylene, etc.), a polyester film (for example, polyethylene terephthalate). , Polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, triacetyl cellulose film and the like can be used, and polyester film and triacetyl cellulose film are preferable.

ポリエステルフィルム(以降、単にポリエステルと称す。)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの2種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth only polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components. The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main constituent components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Among these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

本発明に透明樹脂フィルムを用いる場合、取り扱いを容易にするために、透明性を損なわない範囲内で粒子を含有させても良い。当該透明樹脂フィルムに採用可能な粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子や、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。また、粒子を添加する方法としては、原料とするポリエステル中に粒子を含有させて添加する方法、押出機に直接添加する方法等を挙げることができ、このうちいずれか一方の方法を採用しても良く、二つの方法を併用しても良い。本発明では必要に応じて上記粒子のほかにも添加剤を加えても良い。このような添加剤としては、例えば、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、染料、顔料、紫外線吸収剤などが挙げられる。   When using a transparent resin film for this invention, in order to handle easily, you may contain particle | grains in the range which does not impair transparency. Examples of particles that can be used for the transparent resin film include inorganic particles such as calcium carbonate, calcium phosphate, silica, kaolin, talc, titanium dioxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, and molybdenum sulfide. And organic particles such as crosslinked polymer particles and calcium oxalate. Examples of the method of adding particles include a method of adding particles in the raw polyester, a method of adding directly to an extruder, etc., and adopting one of these methods. The two methods may be used in combination. In the present invention, additives may be added in addition to the above particles as necessary. Examples of such additives include stabilizers, lubricants, cross-linking agents, anti-blocking agents, antioxidants, dyes, pigments, and ultraviolet absorbers.

透明樹脂フィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の透明樹脂フィルムを製造することができる。また、未延伸の透明樹脂フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、透明樹脂フィルムの流れ(縦軸)方向、又は透明樹脂フィルムの流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸透明樹脂フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、透明樹脂フィルムの原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。   The transparent resin film can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched transparent resin film that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and rapidly cooling it. The unstretched transparent resin film is uniaxially stretched, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, and other known methods such as transparent resin film flow (vertical axis) direction. Alternatively, a stretched transparent resin film can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the transparent resin film (horizontal axis). Although the draw ratio in this case can be suitably selected according to the resin used as the raw material of the transparent resin film, it is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction.

透明樹脂フィルムは、製膜過程で片面又は両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。本発明に有用な下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂及びゼラチン等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。上記の下引層の塗布量としては、0.01〜2g/m(乾燥状態)程度が好ましい。 The transparent resin film is preferably coated with the undercoat layer coating solution in-line on one or both sides during the film forming process. Examples of resins used in the undercoat layer coating solution useful in the present invention include polyester resins, acrylic-modified polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, vinyl resins, vinylidene chloride resins, polyethyleneimine vinylidene resins, polyethyleneimine resins, and polyvinyl alcohol resins. , Modified polyvinyl alcohol resin, gelatin and the like, and any of them can be preferably used. The undercoat layer can be coated by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating or spray coating. The coating amount of the undercoat layer is preferably about 0.01 to 2 g / m 2 (dry state).

<赤外線反射層>
赤外線反射層の代表的な構成としては、前記図3を用いて説明した水溶性バインダー樹脂と金属酸化物粒子を含有する反射層が多層積層された反射層積層体ML1、又は図4を用いて説明したポリマー層が多層積層されたポリマー層積層体ML2が挙げられる。特に、水溶性バインダー樹脂と金属酸化物粒子を含有する屈折率の異なる反射層が複数積層された反射層積層体が好ましい。
<Infrared reflective layer>
As a typical configuration of the infrared reflective layer, the reflective layer laminate ML1 in which the water-soluble binder resin and the reflective layer containing metal oxide particles described with reference to FIG. A polymer layer laminate ML2 in which the described polymer layers are laminated in multiple layers is exemplified. Particularly preferred is a reflective layer laminate in which a plurality of reflective layers having different refractive indexes and containing a water-soluble binder resin and metal oxide particles are laminated.

<反射層積層体:ML1>
反射層積層体は、少なくとも1層の反射層を有していれば良いが、日射に対する優れた断熱効果及び電磁波透過性を発現させる観点からは、図3で例示したような反射層積層体であることが、特に好ましい態様である。
<Reflective layer laminate: ML1>
The reflective layer laminate may have at least one reflective layer, but from the viewpoint of developing an excellent heat insulation effect against electromagnetic radiation and electromagnetic wave transparency, the reflective layer laminate is a reflective layer laminate as illustrated in FIG. It is a particularly preferable aspect.

すなわち、基材フィルム上の少なくとも一つの面側に、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率の反射層(以下、高屈折率層ともいう。)と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率の反射層(以下、低屈折率層ともいう。)を、交互に積層した反射層積層体を有する構成である。   That is, a high refractive index reflective layer (hereinafter also referred to as a high refractive index layer) containing the first water-soluble binder resin and the first metal oxide particles on at least one surface side of the base film. A structure having a reflective layer laminate in which low refractive index reflective layers (hereinafter also referred to as low refractive index layers) containing the second water-soluble binder resin and the second metal oxide particles are alternately laminated. is there.

反射層積層体において、高屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmの範囲内であることが好ましく、50〜350nmの範囲内であることがより好ましい。また、低屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmの範囲内であることが好ましく、50〜350nmの範囲内であることがより好ましい。   In the reflective layer laminate, the thickness per layer of the high refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 350 nm. The thickness per layer of the low refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 350 nm.

ここで、1層当たりの各層の厚さを測定する場合、高屈折率層と低屈折率層は、これらの間に明確な界面をもっていても、徐々に変化していても良い。界面が徐々に変化している場合には、それぞれの層が混合し屈折率が連続的に変化する領域中で、最大屈折率−最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなす。   Here, when measuring the thickness of each layer per layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer may have a clear interface between them or may be gradually changed. When the interface is gradually changing, the maximum refractive index-minimum refractive index = Δn in the region where the layers are mixed and the refractive index continuously changes, the minimum refractive index between two layers + Δn The point of / 2 is regarded as the layer interface.

高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層して形成された反射層積層体の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで得ることができる。また、反射層積層体を切断して、切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することにより求めることも可能である。混合領域において、金属酸化物の濃度が不連続に変化している場合には、電子顕微鏡(TEM)で撮影した断層写真により、その境界を確認することができる。   The metal oxide concentration profile of the reflection layer laminate formed by alternately laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer is etched from the surface to the depth direction by using a sputtering method, and an XPS surface analyzer , The outermost surface is set to 0 nm, sputtering is performed at a rate of 0.5 nm / min, and the atomic composition ratio is measured. Moreover, it is also possible to obtain | require by cut | disconnecting a reflecting layer laminated body and measuring an atomic composition ratio with a XPS surface analyzer for a cut surface. In the mixed region, when the concentration of the metal oxide changes discontinuously, the boundary can be confirmed by a tomographic photograph taken with an electron microscope (TEM).

XPS表面分析装置としては、特に制限はなく、いかなる機種も使用することができるが、例えば、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いることができる。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。   The XPS surface analyzer is not particularly limited and any model can be used. For example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific, Inc. can be used. Mg is used for the X-ray anode, and measurement is performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA).

反射層積層体は、生産性の観点から、好ましい高屈折率層及び低屈折率層の総層数の範囲としては、6〜100層の範囲内であり、より好ましくは8〜40層の範囲内であり、更に好ましくは9〜30層の範囲内である。   From the viewpoint of productivity, the reflective layer laminate is preferably in the range of 6 to 100 layers, more preferably in the range of 8 to 40 layers, as the range of the total number of high refractive index layers and low refractive index layers. And more preferably in the range of 9-30 layers.

反射層積層体は、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で近赤外線反射率を高くすることができるという観点から好ましい。したがって、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は0.1以上が好ましく、より好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.35以上であり、特に好ましくは0.4以上である。ただし、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であっても良い。   In the reflective layer laminate, it is preferable that the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer is designed to be large from the viewpoint that the near infrared reflectance can be increased with a small number of layers. Therefore, the refractive index difference between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, still more preferably 0.35 or more, and particularly preferably 0. .4 or more. However, regarding the outermost layer and the lowermost layer, a configuration outside the above preferred range may be used.

赤外線反射層においては、透明樹脂フィルムに対する密着性の観点から、透明樹脂フィルムに隣接する最下層が低屈折率層である層構成が好ましい。また、機能性層、例えば本発明に係る成形密着層に隣接する最上層も、金属酸化物粒子として二酸化ケイ素を10〜60質量%の範囲内で含有する低屈折率層であることが好ましい。   In the infrared reflective layer, a layer configuration in which the lowermost layer adjacent to the transparent resin film is a low refractive index layer is preferable from the viewpoint of adhesion to the transparent resin film. Further, the functional layer, for example, the uppermost layer adjacent to the molded adhesion layer according to the present invention is also preferably a low refractive index layer containing silicon dioxide in the range of 10 to 60% by mass as metal oxide particles.

また、高屈折率層又は低屈折率層に含まれる第1及び第2の水溶性バインダー樹脂は、ポリビニルアルコールであることが好ましい。また、高屈折率層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度と、低屈折率層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度とは異なることが好ましい。更に、高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子は、酸化チタン粒子であることが好ましく、更には、含ケイ素の水和酸化物で表面処理された酸化チタン粒子であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the 1st and 2nd water-soluble binder resin contained in a high refractive index layer or a low refractive index layer is polyvinyl alcohol. Moreover, it is preferable that the saponification degree of the polyvinyl alcohol contained in the high refractive index layer is different from the saponification degree of the polyvinyl alcohol contained in the low refractive index layer. Furthermore, the first metal oxide particles contained in the high refractive index layer are preferably titanium oxide particles, and more preferably titanium oxide particles surface-treated with a silicon-containing hydrated oxide. .

[高屈折率層]
高屈折率層は、第1の水溶性バインダー樹脂及び第1の金属酸化物粒子を含有し、必要に応じて、硬化剤、その他のバインダー樹脂、界面活性剤、及び各種添加剤等を含んでも良い。
[High refractive index layer]
The high refractive index layer contains the first water-soluble binder resin and the first metal oxide particles, and may contain a curing agent, other binder resin, a surfactant, and various additives as necessary. good.

高屈折率層の屈折率は、好ましくは1.80〜2.50であり、より好ましくは1.90〜2.20である。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.80 to 2.50, more preferably 1.90 to 2.20.

〈第1の水溶性バインダー樹脂〉
第1の水溶性バインダー樹脂とは、該水溶性バインダー樹脂が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度に水に溶解させた際、G2グラスフィルター(最大細孔40〜50μm)で濾過した場合に濾別される不溶物の質量が、加えた該水溶性バインダー樹脂の50質量%以内であるものをいう。
<First water-soluble binder resin>
The first water-soluble binder resin is the temperature at which the water-soluble binder resin is most dissolved, and is filtered through a G2 glass filter (maximum pores 40 to 50 μm) when dissolved in water at a concentration of 0.5% by mass. In this case, the mass of the insoluble matter filtered out is within 50% by mass of the added water-soluble binder resin.

第1の水溶性バインダー樹脂の重量平均分子量は、1000〜200000の範囲内であることが好ましい。更には、3000〜40000の範囲内がより好ましい。   It is preferable that the weight average molecular weight of 1st water-soluble binder resin exists in the range of 1000-200000. Furthermore, the inside of the range of 3000-40000 is more preferable.

本発明でいう重量平均分子量は、公知の方法によって測定することができ、例えば、静的光散乱、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法(GPC)、飛行時間型質量分析法(TOF−MASS)などによって測定することができ、本発明では一般的な公知の方法であるゲルパーミエーションクロマトグラフィ法によって測定している。   The weight average molecular weight referred to in the present invention can be measured by a known method, for example, static light scattering, gel permeation chromatography (GPC), time-of-flight mass spectrometry (TOF-MASS), or the like. In the present invention, it is measured by a gel permeation chromatography method which is a generally known method.

高屈折率層における第1の水溶性バインダー樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5〜50質量%の範囲内であることが好ましく、10〜40質量%の範囲内であることがより好ましい。   The content of the first water-soluble binder resin in the high refractive index layer is preferably in the range of 5 to 50% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer, and is 10 to 40% by mass. It is more preferable to be within the range

高屈折率層に適用される第1の水溶性バインダー樹脂としては、特に制限はないが、上述の親水性高分子化合物を好適に採用でき、その中でも、ポリビニルアルコールであることが特に好ましい。また、後述する低屈折率層に適用される水溶性バインダー樹脂も、ポリビニルアルコールであることが好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as 1st water-soluble binder resin applied to a high refractive index layer, The above-mentioned hydrophilic high molecular compound can be employ | adopted suitably, Among these, it is especially preferable that it is polyvinyl alcohol. The water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer described later is also preferably polyvinyl alcohol.

高屈折率層と低屈折率層においては、それぞれケン化度の異なる2種以上のポリビニルアルコールを含むことが好ましい。ここで、区別するために、高屈折率層で用いる水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(A)とし、低屈折率層で用いる水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(B)という。なお、各屈折率層が、ケン化度や重合度が異なる複数のポリビニルアルコールを含む場合には、各屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールをそれぞれ高屈折率層におけるポリビニルアルコール(A)、及び低屈折率層におけるポリビニルアルコール(B)と称する。   The high refractive index layer and the low refractive index layer preferably contain two or more kinds of polyvinyl alcohols having different saponification degrees. Here, in order to distinguish, polyvinyl alcohol as a water-soluble binder resin used in the high refractive index layer is polyvinyl alcohol (A), and polyvinyl alcohol as a water-soluble binder resin used in the low refractive index layer is polyvinyl alcohol (B). That's it. In addition, when each refractive index layer contains a plurality of polyvinyl alcohols having different saponification degrees and polymerization degrees, the polyvinyl alcohol having the highest content in each refractive index layer is changed to polyvinyl alcohol (A ) And polyvinyl alcohol (B) in the low refractive index layer.

ここでいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合のことである。   The “degree of saponification” as used herein refers to the ratio of hydroxy groups to the total number of acetyloxy groups (derived from the starting vinyl acetate) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.

ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)とのケン化度の絶対値の差は、3mol%以上であることが好ましく、5mol%以上であることがより好ましい。このような範囲であれば、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態が好ましいレベルになるため好ましい。また、ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)とのケン化度の差は、離れていれば離れているほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の観点から、20mol%以下であることが好ましい。   The difference in the absolute value of the degree of saponification between the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) is preferably 3 mol% or more, and more preferably 5 mol% or more. If it is such a range, since the interlayer mixing state of a high refractive index layer and a low refractive index layer will become a preferable level, it is preferable. Moreover, although the difference of the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is so preferable that it is separated, it is 20 mol% or less from the viewpoint of the solubility to water of polyvinyl alcohol. It is preferable.

また、ポリビニルアルコール(A)及びポリビニルアルコール(B)のケン化度は、水への溶解性の観点で、75mol%以上であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is 75 mol% or more from a soluble viewpoint to water.

また、ケン化度の異なる2種のポリビニルアルコールの重合度は、1000以上のものが好ましく用いられ、特に、重合度が1500〜5000の範囲内のものがより好ましく、2000〜5000の範囲内のものが更に好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が、1000以上であると塗布膜のひび割れがなく、5000以下であると塗布液が安定するからである。   In addition, the polymerization degree of two kinds of polyvinyl alcohols having different saponification degrees is preferably 1000 or more, particularly preferably those having a polymerization degree in the range of 1500 to 5000, and in the range of 2000 to 5000. Those are more preferably used. This is because when the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 1000 or more, there is no cracking of the coating film, and when it is 5000 or less, the coating solution is stabilized.

本願でいう「重合度(P)」とは、粘度平均重合度を指し、JIS K6726(1994)に準じて測定され、PVA(ポリビニルアルコール)を完全に再ケン化し、精製した後、30℃の水中で測定した極限粘度[η](cm/g)から、下式により求められるものである。 “Degree of polymerization (P)” as used in the present application refers to the degree of viscosity average degree of polymerization, measured according to JIS K6726 (1994), completely re-saponified and purified PVA (polyvinyl alcohol), and then heated to 30 ° C. From the intrinsic viscosity [η] (cm 3 / g) measured in water, it is obtained by the following formula.

P=(〔η〕×10/8.29)(1/0.62)
本発明では、屈折率の異なる層間ではケン化度の異なる2種のポリビニルアルコールがそれぞれ用いられることが好ましい。
P = ([η] × 10 3 /8.29) (1 / 0.62)
In the present invention, it is preferable that two types of polyvinyl alcohol having different saponification degrees are used between layers having different refractive indexes.

例えば、高屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコール(A)を用い、低屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコール(B)を用いる場合には、高屈折率層中のポリビニルアルコール(A)が層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40〜100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60〜95質量%の範囲内がより好ましく、低屈折率層中のポリビニルアルコール(B)が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40〜100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60〜95質量%の範囲内がより好ましい。また、高屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコール(A)を用い、低屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコール(B)を用いる場合には、高屈折率層中のポリビニルアルコール(A)が層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40〜100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60〜95質量%の範囲内がより好ましく、低屈折率層中のポリビニルアルコール(B)が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40〜100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60〜95質量%の範囲内がより好ましい。含有量が40質量%以上であると、層間混合が抑制され、界面の乱れが小さくなるという効果が顕著に現れる。   For example, when polyvinyl alcohol (A) having a low saponification degree is used for the high refractive index layer and polyvinyl alcohol (B) having a high saponification degree is used for the low refractive index layer, the polyvinyl alcohol ( A) is preferably contained within a range of 40 to 100% by mass, more preferably within a range of 60 to 95% by mass, based on the total mass of all polyvinyl alcohols in the layer. The polyvinyl alcohol (B) is preferably contained within a range of 40 to 100% by mass, and more preferably within a range of 60 to 95% by mass with respect to the total mass of all polyvinyl alcohols in the low refractive index layer. When polyvinyl alcohol (A) having a high saponification degree is used for the high refractive index layer and polyvinyl alcohol (B) having a low saponification degree is used for the low refractive index layer, the polyvinyl alcohol ( A) is preferably contained within a range of 40 to 100% by mass, more preferably within a range of 60 to 95% by mass, based on the total mass of all polyvinyl alcohols in the layer. The polyvinyl alcohol (B) is preferably contained within a range of 40 to 100% by mass, and more preferably within a range of 60 to 95% by mass with respect to the total mass of all polyvinyl alcohols in the low refractive index layer. When the content is 40% by mass or more, interlayer mixing is suppressed, and the effect of less disturbance of the interface appears remarkably.

本発明で用いられるポリビニルアルコール(A)及び(B)は、合成品を用いても良いし市販品を用いても良い。ポリビニルアルコール(A)及び(B)として用いられる市販品の例としては、例えば、PVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−203、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235(以上、株式会社クラレ製)、JC−25、JC−33、JF−03、JF−04、JF−05、JP−03、JP−04、JP−05、JP−45(以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)等が挙げられる。   As the polyvinyl alcohol (A) and (B) used in the present invention, a synthetic product or a commercially available product may be used. As an example of the commercial item used as polyvinyl alcohol (A) and (B), for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA -203, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JC-25, JC-33, JF-03, JF-04 , JF-05, JP-03, JP-04, JP-05, JP-45 (above, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.) and the like.

〈第1の金属酸化物粒子〉
高屈折率層に適用可能な第1の金属酸化物粒子としては、屈折率が2.0〜3.0である金属酸化物粒子が好ましい。更に具体的には、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。また、複数の金属で構成された複合酸化物粒子やコア・シェル状に金属構成が変化するコア・シェル粒子等を用いることもできる。
<First metal oxide particles>
As the first metal oxide particles applicable to the high refractive index layer, metal oxide particles having a refractive index of 2.0 to 3.0 are preferable. More specifically, for example, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, second oxide Examples include iron, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide. In addition, composite oxide particles composed of a plurality of metals, core / shell particles whose metal structure changes into a core / shell shape, and the like can also be used.

透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層には、チタン、ジルコニウム等の高屈折率を有する金属の酸化物微粒子、すなわち、酸化チタン微粒子及び/又は酸化ジルコニア微粒子を含有させることが好ましい。これらの中でも、高屈折率層を形成するための塗布液の安定性の観点から、酸化チタンがより好ましい。また、酸化チタンの中でも、特にアナターゼ型よりルチル型(正方晶形)の方が、触媒活性が低いために、高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、更に屈折率が高くなることから好ましい。   In order to form a transparent and high refractive index layer having a higher refractive index, the high refractive index layer includes metal oxide fine particles having a high refractive index such as titanium and zirconium, that is, titanium oxide fine particles and / or zirconia oxide. It is preferable to contain fine particles. Among these, titanium oxide is more preferable from the viewpoint of the stability of the coating liquid for forming the high refractive index layer. Among titanium oxides, the rutile type (tetragonal type) has a lower catalytic activity than the anatase type, and the weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent layer is higher, and the refractive index is higher. To preferred.

また、高屈折率層に、第1の金属酸化物粒子としてコア・シェル粒子を用いた場合では、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と第1の水溶性バインダー樹脂との相互作用により、高屈折率層と隣接層の層間混合が抑制される効果から、酸化チタン粒子が含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子が更に好ましい。
第1の金属酸化物粒子の含有量が高屈折率層の固形分100質量%に対して、15〜80質量%の範囲内であると、低屈折率層との屈折率差を付与するという観点で好ましい。更に、20〜77質量%の範囲内であることがより好ましく、30〜75質量%の範囲内であることが更に好ましい。なお、当該コア・シェル粒子以外の金属酸化物粒子が、高屈折率層に含有される場合の含有量は、本発明の効果を奏することができる範囲であれば特に限定されるものではない。
In the case where the core / shell particles are used as the first metal oxide particles in the high refractive index layer, due to the interaction between the silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and the first water-soluble binder resin, From the effect of suppressing interlayer mixing between the high refractive index layer and the adjacent layer, core-shell particles in which titanium oxide particles are coated with a silicon-containing hydrated oxide are more preferable.
When the content of the first metal oxide particles is in the range of 15 to 80% by mass with respect to the solid content of 100% by mass of the high refractive index layer, a difference in refractive index from the low refractive index layer is imparted. It is preferable from the viewpoint. Further, it is more preferably in the range of 20 to 77% by mass, and further preferably in the range of 30 to 75% by mass. In addition, content in case metal oxide particles other than the said core-shell particle are contained in a high refractive index layer will not be specifically limited if it is a range which can have the effect of this invention.

高屈折率層に適用される第1の金属酸化物粒子の体積平均粒径は、30nm以下であることが好ましく、1〜30nmの範囲内であることがより好ましく、5〜15nmの範囲内であるのが更に好ましい。体積平均粒径が1〜30nmの範囲内であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The volume average particle diameter of the first metal oxide particles applied to the high refractive index layer is preferably 30 nm or less, more preferably in the range of 1 to 30 nm, and in the range of 5 to 15 nm. More preferably. A volume average particle size in the range of 1 to 30 nm is preferable from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance.

第1の金属酸化物粒子の体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、又は電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子1個当たりの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径である。   The volume average particle size of the first metal oxide particles is a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or appears on the cross section or surface of the refractive index layer. The particle diameter of 1000 arbitrary particles is measured by a method of observing the particle image with an electron microscope, and particles having particle diameters of d1, d2,. ni: In a group of nk number of particulate metal oxides, the volume average particle diameter mv = {Σ (vi · di)} / {Σ (vi )} Is the average particle size weighted by the volume.

〈硬化剤〉
高屈折率層に適用される第1の水溶性バインダー樹脂を硬化させるため、硬化剤を使用することもできる。
<Curing agent>
In order to cure the first water-soluble binder resin applied to the high refractive index layer, a curing agent can also be used.

第1の水溶性バインダー樹脂とともに用いることができる硬化剤としては、当該水溶性バインダー樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はない。例えば、第1の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールを用いる場合では、硬化剤として、ホウ酸及びその塩が好ましい。   The curing agent that can be used together with the first water-soluble binder resin is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the water-soluble binder resin. For example, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble binder resin, boric acid and its salt are preferable as the curing agent.

高屈折率層における硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましい。   The content of the curing agent in the high refractive index layer is preferably 1 to 10% by mass and more preferably 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.

特に、第1の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜600mgの範囲が好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100〜600mgの範囲がより好ましい。   In particular, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble binder resin, the total amount of the curing agent is preferably in the range of 1 to 600 mg per gram of polyvinyl alcohol, and more preferably in the range of 100 to 600 mg per gram of polyvinyl alcohol. .

[低屈折率層]
低屈折率層は、第2の水溶性バインダー樹脂及び第2の金属酸化物粒子を含有し、必要に応じて、硬化剤、表面被覆成分、粒子表面保護剤、バインダー樹脂、界面活性剤、各種添加剤等を含んでも良い。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer contains the second water-soluble binder resin and the second metal oxide particles, and if necessary, a curing agent, a surface coating component, a particle surface protective agent, a binder resin, a surfactant, various types An additive or the like may be included.

低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.10〜1.60の範囲内であり、より好ましくは1.30〜1.50の範囲内である。   The refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.10 to 1.60, more preferably in the range of 1.30 to 1.50.

〈第2の水溶性バインダー樹脂〉
低屈折率層に適用される第2の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。更に、前記高屈折率層に用いられるポリビニルアルコール(A)のケン化度とは異なるポリビニルアルコール(B)が、低屈折率層に用いられることがより好ましい。なお、ここでの第2の水溶性バインダー樹脂の好ましい重量平均分子量等、ポリビニルアルコール(A)及びポリビニルアルコール(B)についての説明は、上記高屈折率層の水溶性バインダー樹脂にて説明されており、ここでは説明を省略する。
<Second water-soluble binder resin>
Polyvinyl alcohol is preferably used as the second water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer. Furthermore, it is more preferable that polyvinyl alcohol (B) different from the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) used for the high refractive index layer is used for the low refractive index layer. In addition, description about polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B), such as a preferable weight average molecular weight of 2nd water-soluble binder resin here, is demonstrated by the water-soluble binder resin of the said high refractive index layer. The description is omitted here.

低屈折率層における第2の水溶性バインダー樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、20〜99.9質量%の範囲内であることが好ましく、25〜80質量%の範囲内であることがより好ましい。   The content of the second water-soluble binder resin in the low refractive index layer is preferably within the range of 20 to 99.9% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is in the range of mass%.

〈第2の金属酸化物粒子〉
低屈折率層に適用される第2の金属酸化物粒子としては、シリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることが更に好ましい。また、屈折率をより低減させるためには、低屈折率層に適用される第2の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子が好ましい。
<Second metal oxide particles>
As the second metal oxide particles applied to the low refractive index layer, silica (silicon dioxide) is preferably used, and specific examples thereof include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Among these, it is more preferable to use acidic colloidal silica sol, and it is more preferable to use colloidal silica sol dispersed in an organic solvent. In order to further reduce the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second metal oxide particles applied to the low refractive index layer, particularly silica (silicon dioxide). ) Hollow fine particles are preferred.

低屈折率層に適用される第2の金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)は、その平均粒径が3〜100nmの範囲内であることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗布前の分散液状態での粒径)は、3〜50nmの範囲内であることがより好ましく、3〜40nmの範囲内であることが更に好ましく、3〜20nmであることが特に好ましく、4〜10nmの範囲内であることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) applied to the low refractive index layer preferably have an average particle size in the range of 3 to 100 nm. The average particle diameter of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle diameter in a dispersion state before coating) is more preferably in the range of 3 to 50 nm, and in the range of 3 to 40 nm. Is more preferably 3 to 20 nm, and most preferably within a range of 4 to 10 nm. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less.

〈硬化剤〉
本発明に係る低屈折率層において、前記高屈折率層と同様に、硬化剤を更に含むことができる。特に、低屈折率層に適用される第2の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを用いた場合の硬化剤としては、ホウ酸及びその塩及び/又はホウ砂が好ましい。また、ホウ酸及びその塩以外にも公知のものが使用できる。
<Curing agent>
Similarly to the high refractive index layer, the low refractive index layer according to the present invention may further include a curing agent. In particular, boric acid and its salts and / or borax are preferred as the curing agent when polyvinyl alcohol is used as the second water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer. In addition to boric acid and its salts, known ones can be used.

低屈折率層における硬化剤の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%の範囲内であることが好ましく、2〜6質量%の範囲内であることがより好ましい。   The content of the curing agent in the low refractive index layer is preferably in the range of 1 to 10% by mass and in the range of 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. It is more preferable.

[反射層積層体の形成方法]
反射層積層体の形成方法は、湿式塗布方式を適用して形成することが好ましく、更には、基材フィルム上に、第1の水溶性バインダー樹脂及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層用塗布液と、第2の水溶性バインダー樹脂及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層用塗布液と、を湿式塗布する工程を含む製造方法が好ましい。
[Method for forming reflective layer laminate]
The method for forming the reflective layer laminate is preferably formed by applying a wet coating method, and further, a high refractive index containing the first water-soluble binder resin and the first metal oxide particles on the base film. A production method including a step of wet-coating the coating solution for the refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer containing the second water-soluble binder resin and the second metal oxide particles is preferable.

湿式塗布方法は、特に制限されず、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、又は米国特許第2761419号明細書、米国特許第2761791号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布方式でも良いし、同時重層塗布方式でも良い。   The wet coating method is not particularly limited. For example, roll coating method, rod bar coating method, air knife coating method, spray coating method, slide curtain coating method, US Pat. No. 2,761,419, US Pat. No. 2,761791 And a slide hopper coating method, an extrusion coating method and the like described in a book. In addition, as a method of applying a plurality of layers in multiple layers, a sequential multilayer application method or a simultaneous multilayer application method may be used.

<ポリマー層積層体:ML2>
本発明に係るポリマー層積層体は、第1屈折率を有する第1ポリマー層と、第2屈折率を有する第2ポリマー層とを多数積層して、赤外線反射層を形成する。
<Polymer layer laminate: ML2>
The polymer layer laminate according to the present invention forms an infrared reflective layer by laminating a number of first polymer layers having a first refractive index and second polymer layers having a second refractive index.

第1ポリマー層及び第2ポリマー層は、互いの上部に積層され、ポリマー層積層体を形成する。第1及び第2ポリマー層を構成するポリマー材料としては、ポリエステル、アクリル、ポリエステルアクリルのブレンド又はコポリマー等が挙げられ、例えば、ポリエチレン−2,6−ナフタレート(PEN)、ナフタレンジカルボンコポリエステル(coPEN)、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリブチレン−2,6−ナフタレート(PBN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナフタレンジカルボン酸誘導体、ジオールコポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、シンジオタックポリスチレン樹脂(SPS)等が挙げられ、具体的な第1ポリマー層と第2ポリマー層との組み合わせとしては、PEN/PMMA、PET/PMMA、PEN/coPEN、PEN/SPS、PET/SPS等の組み合わせを挙げることができる。   The first polymer layer and the second polymer layer are laminated on top of each other to form a polymer layer laminate. Examples of the polymer material constituting the first and second polymer layers include polyester, acrylic, a blend or copolymer of polyester acrylic, and examples thereof include polyethylene-2,6-naphthalate (PEN), naphthalene dicarboxylic copolyester (coPEN). , Polymethyl methacrylate (PMMA), polybutylene-2,6-naphthalate (PBN), polyethylene terephthalate (PET), naphthalene dicarboxylic acid derivative, diol copolymer, polyetheretherketone, syndiotac polystyrene resin (SPS) and the like. Specific combinations of the first polymer layer and the second polymer layer include combinations of PEN / PMMA, PET / PMMA, PEN / coPEN, PEN / SPS, PET / SPS, and the like. Door can be.

ポリマー層積層体の具体的な構成例としては、図4で示される、それぞれ素材の異なる2種のポリマーフィルムが積層された構成が挙げられる。具体的には、図4に示すように、下面側から、ポリエチレンナフタレートフィルムで形成されているPEN、ポリメチルメタアクリレートフィルムで形成されているPMM、PEN、PMMM、PEN、PMMA、(中略)、PENn−1、PMMAn−1、PENと積層してポリマー層積層体ML2が形成されている。 As a specific configuration example of the polymer layer laminate, there may be mentioned a configuration in which two kinds of polymer films having different materials shown in FIG. 4 are laminated. Specifically, as shown in FIG. 4, from the lower surface side, PEN 1 formed of a polyethylene naphthalate film, PMM 1 , PEN 2 , PMMM 2 , PEN 3 formed of a polymethyl methacrylate film, A polymer layer laminate ML2 is formed by laminating with PMMA 3 (omitted), PEN n−1 , PMMA n−1 , and PEN n .

積層されるフィルム総数は、特に制限はないが、おおむね150〜1000層の範囲内であることが好ましい。   The total number of films to be laminated is not particularly limited, but is preferably in the range of about 150 to 1000 layers.

これらポリマー層積層体の詳細については、米国特許第6049419号明細書に記載の内容を参考とすることができる。   For details of these polymer layer laminates, the contents described in US Pat. No. 6,049,419 can be referred to.

〔3.2〕フィルムミラー
本発明に係る機能性フィルムとして、可視光領域の光を反射するフィルムミラーの概要を説明する。
[3.2] Film Mirror An outline of a film mirror that reflects light in the visible light region will be described as the functional film according to the present invention.

本発明に係る機能性フィルムであるフィルムミラーは、可視光領域である光波長450〜650nmの範囲の反射率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが更に好ましく、90%以上であることが特に好ましい。反射率は、分光光度計(積分球使用、(株)日立ハイテクノロジーズ製、U−4000型)を用い、23℃、55%RHの環境下、フィルムミラーの450〜650nmの領域における反射率を測定し、その平均反射率を求め、これを可視光反射率とする。   The film mirror, which is a functional film according to the present invention, preferably has a reflectance in the visible light range of a wavelength of 450 to 650 nm of 50% or more, more preferably 70% or more, and 80%. More preferably, it is more preferably 90% or more. The reflectance is a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, U-4000 type), and the reflectance in the region of 450 to 650 nm of the film mirror in an environment of 23 ° C. and 55% RH. The average reflectance is measured to obtain the visible light reflectance.

自己修復性フィルムMFの機能上の最小構成は、図5(a)に示すように、基材フィルム2上に金属反射層(例えば、銀反射層)7を設けてフィルムミラーとしての機能性フィルム1を形成し、その上に、本発明に係る成形密着層4及び自己修復層5を設ける構成である。   As shown in FIG. 5A, the minimum functional structure of the self-repairing film MF is a functional film as a film mirror provided with a metal reflective layer (for example, a silver reflective layer) 7 on the base film 2. 1 is formed, and the adhesive layer 4 and the self-healing layer 5 according to the present invention are provided thereon.

フィルムミラーとしての機能性フィルム1には、実際上様々な機能層を設けることが好ましく、例えば図5(b)で示すように、基材フィルム2と金属反射層7の間にアンカー層6を設けても良い。また、金属反射層7の光入射側に腐食防止剤や酸化防止剤を含有する樹脂コート層8を設けることも好ましく、樹脂コート層8上に接着層9を設けることも好ましく、更にその上層にアクリル樹脂層10を設けることもより好ましい態様である。   The functional film 1 as a film mirror is preferably provided with various functional layers in practice. For example, as shown in FIG. 5B, an anchor layer 6 is provided between the base film 2 and the metal reflective layer 7. It may be provided. Further, it is also preferable to provide a resin coat layer 8 containing a corrosion inhibitor or an antioxidant on the light incident side of the metal reflective layer 7, and it is also preferable to provide an adhesive layer 9 on the resin coat layer 8, and further to the upper layer. It is also a more preferable aspect to provide the acrylic resin layer 10.

また、基材フィルム2の金属反射層7を設ける側と反対の面に、粘着層11及び剥離シート12を設けることが好ましく、これにより基板と貼合することができる。   Moreover, it is preferable to provide the adhesion layer 11 and the peeling sheet 12 in the surface on the opposite side to the side which provides the metal reflective layer 7 of the base film 2, and it can bond with a board | substrate by this.

フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取扱い性等の観点から75〜250μmの範囲内が好ましく、より好ましくは90〜230μmの範囲内、更に好ましくは100〜220μmの範囲内である。   The total thickness of the film mirror is preferably in the range of 75 to 250 μm, more preferably in the range of 90 to 230 μm, still more preferably in the range of 100 to 220 μm, from the viewpoints of mirror deflection prevention, regular reflectance, handling properties, and the like. Is within.

以下、フィルムミラーを構成する各構成層について順次説明する。   Hereafter, each structural layer which comprises a film mirror is demonstrated sequentially.

[基材フィルム]
前述の赤外線反射フィルムで用いられる透明樹脂フィルムを用いることが好ましく、詳細は前述のとおりである。
[Base film]
It is preferable to use the transparent resin film used in the above-described infrared reflecting film, and details are as described above.

中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。   Among these, polycarbonate films, polyester films such as polyethylene terephthalate, norbornene resin films, cellulose ester films, and acrylic films are preferable. It is particularly preferable to use a polyester film such as polyethylene terephthalate or an acrylic film.

透明樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10〜300μmの範囲である。好ましくは20〜200μmの範囲であり、より好ましくは30〜100μmの範囲である。   The thickness of the transparent resin film is preferably an appropriate thickness depending on the type and purpose of the resin. For example, generally, it is the range of 10-300 micrometers. Preferably it is the range of 20-200 micrometers, More preferably, it is the range of 30-100 micrometers.

[アンカー層]
アンカー層は、樹脂からなり、基材フィルムと金属反射層とを密着させるものである。アンカー層に使用する樹脂材料は、上記の密着性、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共ポリマー系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
[Anchor layer]
An anchor layer consists of resin and makes a base film and a metal reflective layer contact | adhere. The resin material used for the anchor layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness. Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, polyamide Resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent.

アンカー層の形成方法としては、所定の樹脂材料を塗布、塗工するグラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As a method for forming the anchor layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method in which a predetermined resin material is applied and applied, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

アンカー層の厚さは、0.01〜3μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜1μmの範囲である。   The thickness of the anchor layer is preferably in the range of 0.01 to 3 μm, more preferably in the range of 0.1 to 1 μm.

[金属反射層]
金属反射層は、可視光(450〜650nmの範囲)を50%以上反射する機能を有する金属等からなる層である。
[Metal reflective layer]
The metal reflective layer is a layer made of a metal or the like having a function of reflecting 50% or more of visible light (range of 450 to 650 nm).

金属反射層の表面反射率は好ましくは80%以上、更に好ましくは90%以上である。この反射層は、Al、Ag、Cr、Cu、Ni、Ti、Mg、Rh、Pt及びAuからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率の観点からアルミニウム(Al)又は銀(Ag)を主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしても良い。   The surface reflectance of the metal reflective layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. This reflective layer is preferably formed of a material containing any element selected from the element group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au. Among these, aluminum (Al) or silver (Ag) is preferably the main component from the viewpoint of reflectivity, and two or more such metal thin films may be formed.

本発明においては金属反射層として、銀を主成分とする銀反射層を用いることが特に好ましい(以下、金属反射層を銀反射層という場合がある。)。   In the present invention, it is particularly preferable to use a silver reflective layer mainly composed of silver as the metal reflective layer (hereinafter, the metal reflective layer may be referred to as a silver reflective layer).

銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、30〜300nmの範囲が好ましく、より好ましくは80〜200nmの範囲である。   The thickness of the silver reflective layer is preferably in the range of 30 to 300 nm, more preferably in the range of 80 to 200 nm, from the viewpoint of reflectance and the like.

この反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法の代表例としては、めっき法があり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法の代表例としては、真空製膜法があり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールtoロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する手法が好ましく用いられる。   As a method for forming this reflective layer, either a wet method or a dry method can be used. A typical example of the wet method is a plating method, in which a film is formed by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction. On the other hand, as a typical example of the dry method, there is a vacuum film forming method, and concrete examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition. Method and sputtering method. In particular, a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. For example, in a film mirror manufacturing method, a method of forming a silver reflective layer by silver vapor deposition is preferably used.

なお、上記したように銀反射層の厚さを、例えば30〜300nmの範囲とすれば、その銀反射層を有する機能性フィルムをフィルムミラーとして使用することが可能になる。より好ましくは耐久性の観点から、80〜200nmの範囲である。銀反射層の層厚を上記範囲とすることにより、光の透過や、表面に凹凸が生じることによる光の散乱等を原因とする可視光領域での反射率の低下を抑えることが可能となる。   In addition, if the thickness of a silver reflection layer shall be 30-300 nm as mentioned above, it will become possible to use the functional film which has the silver reflection layer as a film mirror. More preferably, it is in the range of 80 to 200 nm from the viewpoint of durability. By making the layer thickness of the silver reflective layer in the above range, it is possible to suppress a decrease in reflectance in the visible light region due to light transmission or light scattering due to unevenness on the surface. .

[樹脂コート層]
樹脂コート層は、銀反射層の光入射側に設けられており、銀反射層に隣接していることが好ましい。
[Resin coat layer]
The resin coat layer is provided on the light incident side of the silver reflective layer, and is preferably adjacent to the silver reflective layer.

樹脂コート層は、銀の腐食防止剤又は酸化防止剤を含有することで、銀反射層の腐食又は劣化を防止する機能を有していることも好ましい。   It is also preferable that the resin coating layer has a function of preventing corrosion or deterioration of the silver reflective layer by containing a silver corrosion inhibitor or antioxidant.

樹脂コート層は、1層のみで構成されていても良いし、複数層から構成されていても良い。樹脂コート層の厚さは、1〜10μmの範囲が好ましく、より好ましくは2〜8μmの範囲である。   The resin coat layer may be composed of only one layer, or may be composed of a plurality of layers. The thickness of the resin coat layer is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably in the range of 2 to 8 μm.

樹脂コート層のバインダーとしては、以下の樹脂を好ましく用いることができる。例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、耐光性の観点から紫外線に耐性の高いアクリル樹脂が好ましい。   As the binder of the resin coat layer, the following resins can be preferably used. For example, cellulose ester, polyester, polycarbonate, polyarylate, polysulfone (including polyethersulfone), polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate , Cellulose acetate butyrate, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene, polymethylpentene, polyetherketone, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethyl A methacrylate, an acrylic resin, etc. can be mentioned. Among them, an acrylic resin having high resistance to ultraviolet rays is preferable from the viewpoint of light resistance.

腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属(銀)がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう(JIS Z0103−2004参照)。   The corrosion inhibitor preferably has an adsorptive group for silver. Here, “corrosion” refers to a phenomenon in which a metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by an environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).

なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1〜1.0g/mの範囲内であることが好ましい。 The optimum content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but is generally preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .

銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等のトリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオール基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも1種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。   Corrosion inhibitors having an adsorptive group for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, and imidazole rings. It is desirable that the compound be selected from at least one of a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a compound having a thiol group, a thiourea, a naphthalene, or a mixture thereof.

ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂としては特に限定されない。   In compounds such as benzotriazole, the ultraviolet absorber may also serve as a corrosion inhibitor. It is also possible to use a silicone-modified resin. The silicone-modified resin is not particularly limited.

これらの化合物については、特開2012−232538号公報の段落0061〜0073に記載の化合物を好ましく用いることができる。   For these compounds, the compounds described in paragraphs 0061 to 0073 of JP2012-232538A can be preferably used.

市販品の例としては、株式会社ADEKAのLA31、BASFジャパン株式会社のチヌビン234などが挙げられる。   Examples of commercially available products include LA31 from ADEKA Corporation, Tinuvin 234 from BASF Japan Corporation, and the like.

また、酸化防止能を有する腐食防止剤である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。また、光安定剤としてヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤を好ましく使用することができる。   Moreover, it is preferable to use a phenolic antioxidant, a thiol antioxidant, and a phosphite antioxidant as an antioxidant that is a corrosion inhibitor having antioxidant ability. Moreover, a hindered amine light stabilizer and a nickel ultraviolet stabilizer can be preferably used as the light stabilizer.

これらの化合物については、特開2012−232538号公報の段落0046〜0053に記載の化合物を好ましく用いることができる。   As these compounds, compounds described in paragraphs 0046 to 0053 of JP2012-232538A can be preferably used.

酸化防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1〜1.0g/mの範囲内であることが好ましい。 The optimum content of the antioxidant varies depending on the compound used, but generally it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .

[接着層]
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01〜10μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜10μmの範囲である。
[Adhesive layer]
The adhesive layer is not particularly limited as long as it has a function of improving the adhesion between the layers. The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.1 to 10 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflective material, and the like.

接着層が樹脂である場合、当該樹脂としては、上記の密着性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共ポリマー系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   When the adhesive layer is a resin, the resin is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion and smoothness, such as a polyester resin, a urethane resin, an acrylic resin, a melamine resin, An epoxy resin, a polyamide resin, a vinyl chloride resin, a vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, etc. can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable. It is more preferable to use a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed. As a method for forming the adhesive layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空製膜法によって製膜することで接着層を形成できる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによる製膜が可能である。   In the case where the adhesive layer is a metal oxide, the adhesive layer can be formed by depositing, for example, silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, lanthanum oxide, lanthanum nitride, or the like by various vacuum film forming methods. For example, a film can be formed by resistance heating vacuum deposition, electron beam heating vacuum deposition, ion plating, ion beam assisted vacuum deposition, sputtering, or the like.

[アクリル樹脂層]
アクリル樹脂層は、例えば、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層であることが好ましい。アクリル樹脂層は、基材フィルムよりも光入射側に設けることが好ましく、金属反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。
[Acrylic resin layer]
For example, the acrylic resin layer is preferably a layer containing an ultraviolet absorber for the purpose of preventing deterioration of the film mirror caused by sunlight or ultraviolet rays. The acrylic resin layer is preferably provided on the light incident side of the base film, and is preferably provided on the light incident side of the metal reflective layer.

本発明に係る成形密着層は紫外線吸収能を有することから、アクリル樹脂層と兼ねても良く、また成形密着層とは異なる紫外線吸収剤をアクリル樹脂層に含有させることも好ましい。   Since the molded adhesion layer according to the present invention has ultraviolet absorbing ability, it may also serve as an acrylic resin layer, and it is also preferable to contain an ultraviolet absorbent different from the molded adhesion layer in the acrylic resin layer.

アクリル樹脂層はバインダーとしてアクリル樹脂を用いる層であり、アクリル樹脂層の厚さは、1〜200μmの範囲であることが好ましい。   The acrylic resin layer is a layer using an acrylic resin as a binder, and the thickness of the acrylic resin layer is preferably in the range of 1 to 200 μm.

アクリル樹脂層としては、市販の紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルムである、スミペックス テクノロイ S001G 75μm(住友化学株式会社製)等を好ましく用いることができる。   As the acrylic resin layer, Sumipex Technoloy S001G 75 μm (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), which is an acrylic film containing a commercially available ultraviolet absorber, can be preferably used.

〔3.3〕金属光沢調フィルム
本発明に係る機能性フィルムとして、金属光沢調フィルムを用いることも好ましい。
[3.3] Metallic glossy film It is also preferable to use a metallic glossy film as the functional film according to the present invention.

本発明に係る機能性フィルムである金属光沢調フィルムは、可視光領域である光波長450〜650nmの範囲の反射率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが更に好ましく、90%以上であることが特に好ましい。   The metallic glossy film, which is a functional film according to the present invention, preferably has a reflectance in the visible light region of a light wavelength range of 450 to 650 nm of 50% or more, more preferably 70% or more, More preferably, it is 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

金属光沢調フィルムとしては、特に制限されるものではないが、その好ましい一例としては、2枚のポリエステルフィルムが接着層を介して貼り合わされて構成される。当該2枚のポリエステルフィルムは、それぞれ、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートからなるポリエステルAを主成分とする層と、シクロヘキサンジメタノール成分を酸成分に対して25〜35mol%含むポリエステルBを主成分とする層とが厚さ方向に規則的に積層されたポリエステルフィルムである。合計の層数が少なくとも500〜600層であるポリエステルフィルムを備えて構成される金属光沢調フィルムであることが好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as a metallic glossy film, As the preferable example, two polyester films are bonded together through an contact bonding layer, and are comprised. Each of the two polyester films is mainly composed of a layer mainly composed of polyester A composed of polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate and polyester B containing 25 to 35 mol% of a cyclohexanedimethanol component with respect to the acid component. A polyester film in which layers are regularly laminated in the thickness direction. It is preferably a metallic glossy film comprising a polyester film having a total number of layers of at least 500 to 600 layers.

前記ポリエステルAを主成分とする層と、前記ポリエステルBを主成分とする層とは、面内平均屈折率差が、0.03以上であることが好ましい。より好ましくは、0.05以上であり、更に好ましくは0.1以上である。屈折率差が0.03より小さい場合には、十分な反射率が得られないことがある。   The in-plane average refractive index difference between the layer mainly composed of polyester A and the layer mainly composed of polyester B is preferably 0.03 or more. More preferably, it is 0.05 or more, More preferably, it is 0.1 or more. When the refractive index difference is smaller than 0.03, sufficient reflectance may not be obtained.

金属光沢調フィルムを構成するポリエステルフィルムが、ポリエステルAからなる層(A層)と、ポリエステルBからなる層(B層)とが交互に500層以上積層されていることが重要である。500層以上であると、目標とする反射帯域において70%以上の反射率を有することが可能となり、2枚それぞれのポリエステルフィルムを貼り合わせ、目標とする反射波長を、350〜750nmの領域に設定することで金属調の外観を有する積層フィルムを得ることができる。   It is important that the polyester film constituting the metallic glossy film is formed by alternately laminating 500 layers or more of layers made of polyester A (layer A) and layers made of polyester B (layer B). When it is 500 layers or more, it is possible to have a reflectance of 70% or more in the target reflection band, and two polyester films are bonded together, and the target reflection wavelength is set in the region of 350 to 750 nm. By doing so, a laminated film having a metallic appearance can be obtained.

また、装置の大型化や層数が多くなりすぎることによる積層精度の低下に伴う波長選択性の低下を考慮すると、層数が600層以下であることが好ましい。500〜600層に層数を制御する方法は、フィードブロックを変更することによって可能であり、500〜600層の範囲に層数が含まれる場合、本発明の目的の範囲で赤外線の透過率と可視光の反射率とのバランスを取ることができる。   Further, in consideration of a decrease in wavelength selectivity accompanying a decrease in stacking accuracy due to an increase in the size of the device or an increase in the number of layers, the number of layers is preferably 600 layers or less. The method of controlling the number of layers in 500 to 600 layers is possible by changing the feed block. When the number of layers is included in the range of 500 to 600 layers, the transmittance of infrared rays is within the object range of the present invention. Balance with visible light reflectance.

金属光沢調フィルムは、更に光波長350〜750nmの平均反射率が70〜100%の範囲内であることがより好ましく、光波長900〜1000nmの範囲の平均透過率が85〜100%の範囲内であることが好ましい。このような金属光沢調フィルムは、後述する二つのポリエステルフィルムを貼り合わせて構成される。   The metallic glossy film further preferably has an average reflectance at a light wavelength of 350 to 750 nm within a range of 70 to 100%, and an average transmittance at a light wavelength of 900 to 1000 nm in a range of 85 to 100%. It is preferable that Such a metallic glossy film is formed by laminating two polyester films described later.

貼り合わせるポリエステルフィルムの一つは、光波長350〜570nmの平均反射率が70〜100%の範囲内、光波長620〜1000nmの平均透過率が85〜100%の範囲内であるものであり、他の一つは、光波長570〜750nmの平均反射率が70〜100%の範囲内、光波長350〜550nmと900〜1000nmの平均透過率が85〜100%の範囲内であることが好ましい。これら二つのポリエステルフィルムを貼り合わせることで光波長350〜750nmの平均反射率が70〜100%の範囲内、光波長900〜1000nmの平均透過率が85〜100%の範囲内であることを同時に達成することができる。   One of the polyester films to be bonded is one in which the average reflectance at a light wavelength of 350 to 570 nm is in the range of 70 to 100%, and the average transmittance at the light wavelength of 620 to 1000 nm is in the range of 85 to 100%. The other one is that the average reflectance of light wavelengths 570 to 750 nm is preferably in the range of 70 to 100%, and the average transmittances of light wavelengths 350 to 550 nm and 900 to 1000 nm are preferably in the range of 85 to 100%. . By laminating these two polyester films, the average reflectance at a light wavelength of 350 to 750 nm is in the range of 70 to 100%, and the average transmittance at a light wavelength of 900 to 1000 nm is in the range of 85 to 100%. Can be achieved.

また、金属光沢調フィルムの厚さは100〜300μmの範囲内であることが、取り扱い性の観点から好ましい。成型時のシワ防止及びハンドリング性の向上のため100μm以上あることが望ましい。厚さが300μm以下であると、巻き癖が強くなく、成型装置枠へのシートセットの際に手間がかからなく生産性が高い。   Moreover, it is preferable from a viewpoint of handleability that the thickness of a metallic glossy film is in the range of 100 to 300 μm. It is desirable that the thickness is 100 μm or more in order to prevent wrinkling during molding and improve handling properties. When the thickness is 300 μm or less, curling wrinkles are not strong, and it takes less time and effort to set the sheet on the molding apparatus frame, and the productivity is high.

金属光沢調フィルムは、前記構成のポリエステルフィルムの表面上に本発明に係る成形密着層及び自己修復層を形成し、表面硬度と折り曲げなどの応力による硬化膜へのクラックを防止することができる。   The metallic glossy film can form a molded adhesion layer and a self-healing layer according to the present invention on the surface of the polyester film having the above-described configuration, and can prevent cracks in the cured film due to surface hardness and stress such as bending.

また、金属光沢調フィルムは、本発明に係る成形密着層及び自己修復層以外に、ハードコート層、帯電防止層、耐摩耗性層、反射防止層、色補正層、紫外線吸収層、印刷層、透明導電層、ガスバリアー層、ホログラム層、剥離層、粘着層、エンボス層、接着層、離形層などの機能性層を適宜形成しても良い。   In addition to the molded adhesion layer and self-healing layer according to the present invention, the metallic glossy tone film includes a hard coat layer, an antistatic layer, an abrasion resistant layer, an antireflection layer, a color correction layer, an ultraviolet absorption layer, a printing layer, Functional layers such as a transparent conductive layer, a gas barrier layer, a hologram layer, a release layer, an adhesive layer, an emboss layer, an adhesive layer, and a release layer may be appropriately formed.

金属光沢調フィルムを製造する好ましい製造方法を以下に説明する。   A preferred production method for producing a metallic glossy film will be described below.

まず、金属光沢調フィルムに用いられる前記ポリエステルAを主成分とする層と前記ポリエステルBを主成分とする層とを少なくとも500層以上積層したポリエステルフィルム(以下、積層フィルムと記す。)の製造方法を以下に説明する。   First, the manufacturing method of the polyester film (henceforth a laminated film) which laminated | stacked the layer which has the said polyester A as a main component used for a metallic glossy tone film, and the layer which has the said polyester B as a main component at least 500 layers or more. Is described below.

2種類のポリエステルA及びポリエステルBをペレットなどの形態で用意する。ペレットは、必要に応じて、事前乾燥を熱風中又は真空下で行い、押出機に供給される。押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギヤポンプ等で樹脂の押出量が均一化され、フィルター等を介して異物や変性した樹脂などが取り除かれる。   Two types of polyester A and polyester B are prepared in the form of pellets. If necessary, the pellets are pre-dried in hot air or under vacuum and supplied to an extruder. In the extruder, the resin that has been heated and melted to a temperature higher than the melting point is made uniform in the amount of resin extruded by a gear pump or the like, and foreign matter or denatured resin is removed through a filter or the like.

これらの2台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出されたポリエステルA及びポリエステルBは次に多層積層装置に送り込まれる。多層積層装置としては、マルチマニホールドダイやフィールドブロックやスタティックミキサー等を用いることができる。また、これらを任意に組み合わせても良い。中でも、各層ごとの層厚を個別に制御できるマルチマニホールドダイ又はフィードブロックが好ましい。更に、各層の厚さを精度良く制御するためには、加工精度0.1mm以下の放電加工、ワイヤー放電加工にて、各層の流量を調整する微細スリットを設けたフィードブロックが好ましい。また、この際、樹脂温度の不均一性を低減するため、熱媒循環方式による加熱が好ましい。また、フィードブロック内の壁面抵抗を抑制するため、壁面の粗さを0.4S以下にするか、室温下における水との接触角が30°以上であると良い。   Polyester A and polyester B fed out from different flow paths using these two or more extruders are then fed into the multilayer laminating apparatus. As the multi-layer laminating apparatus, a multi-manifold die, a field block, a static mixer, or the like can be used. Moreover, you may combine these arbitrarily. Among these, a multi-manifold die or a feed block that can individually control the layer thickness of each layer is preferable. Furthermore, in order to control the thickness of each layer with high accuracy, a feed block provided with fine slits for adjusting the flow rate of each layer in electric discharge machining and wire electric discharge machining with machining accuracy of 0.1 mm or less is preferable. At this time, in order to reduce nonuniformity of the resin temperature, heating by a heat medium circulation method is preferable. Moreover, in order to suppress the wall resistance in the feed block, the roughness of the wall surface is preferably 0.4 S or less, or the contact angle with water at room temperature is 30 ° or more.

本発明の金属光沢調フィルムに用いるポリエステルフィルムを得るためには、設計する金属光沢調フィルムの分光特性に応じて、最適な積層構成とすることが重要であるが、各波長帯域に対応した微細スリットを有するフィードブロックにて製膜を行うことが特に好ましい。   In order to obtain a polyester film for use in the metallic glossy film of the present invention, it is important to have an optimum laminated structure according to the spectral characteristics of the metallic glossy film to be designed. It is particularly preferable to perform film formation with a feed block having a slit.

このようにして所望の層構成に形成した溶融積層体は、ダイにて目的の形状に成形された後、吐出される。そして、ダイから吐出された多層に積層されたシートが、キャスティングドラム等の冷却体上に押し出され、冷却固化されることによって、キャスティングフィルムが得られる。この際、ワイヤー状、テープ状、針状又はナイフ状等の電極を用いて、静電気力により上記シートをキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法や、スリット状、スポット状、面状の装置からエアーを吹き出して上記シートをキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法、ニップロールにて上記シートを冷却体に密着させ急冷固化させる方法が好ましい。   The molten laminate formed in a desired layer configuration in this way is formed into a desired shape with a die and then discharged. And the sheet | seat laminated | stacked in the multilayer discharged | emitted from die | dye is extruded on cooling bodies, such as a casting drum, and a casting film is obtained by cooling and solidifying. At this time, using a wire-like, tape-like, needle-like or knife-like electrode, the sheet is brought into close contact with a cooling body such as a casting drum by electrostatic force, and rapidly cooled and solidified. A method in which air is blown out from the apparatus and the sheet is brought into close contact with a cooling body such as a casting drum and rapidly cooled and solidified, and a method in which the sheet is brought into close contact with the cooling body with a nip roll and rapidly solidified.

このようにして得られたキャスティングフィルムは、必要に応じて二軸延伸することが好ましい。二軸延伸とは、長手方向及び幅方向に延伸することをいう。延伸は、逐次二軸延伸しても良いし、同時に二方向に延伸しても良い。   The casting film thus obtained is preferably biaxially stretched as necessary. Biaxial stretching refers to stretching in the longitudinal direction and the width direction. Stretching may be performed sequentially biaxially or simultaneously in two directions.

次に、接着剤を介して2枚のポリエステルフィルムを貼り合わせるが、接着剤を介して貼り合わせることで、熱融着等の接着方法に比べて、加熱によるポリエステルBの結晶化が進むのを防ぐことができ、反射波長領域を設計のとおりに発現させることができる。   Next, the two polyester films are bonded together via an adhesive, but the bonding of the two polyester films via an adhesive promotes the crystallization of polyester B by heating compared to an adhesive method such as heat fusion. The reflection wavelength region can be expressed as designed.

金属光沢調フィルムを製造する製造方法において前記ポリエステルフィルムの片面に形成する接着剤層の単位面積当たりの質量は約1〜30g/mであることが好ましい。かかる単位面積当たりの質量とすることで、1〜30μmの厚さの接着層が得られる。1g/m未満であると接着力が弱く、剥離しやすくなり、30g/mより多い場合、乾燥性が低下し、外観不良となりやすい。また、異物の押し痕が残りやすく、意匠性の低下につながるため好ましくない。 In the production method for producing a metallic glossy film, the mass per unit area of the adhesive layer formed on one side of the polyester film is preferably about 1 to 30 g / m 2 . By setting the mass per unit area, an adhesive layer having a thickness of 1 to 30 μm can be obtained. When it is less than 1 g / m 2 , the adhesive strength is weak and it is easy to peel off, and when it is more than 30 g / m 2 , the drying property is lowered and the appearance is liable to be poor. Moreover, it is not preferable because the imprint of foreign matter is likely to remain, resulting in a decrease in design properties.

硬化型接着剤層を形成する際の塗工方式は、グラビアコーター、グラビアリバースコーター、リップコーター、フレキソコーター、ブランケットコーター、ロールコーター、ナイフコーター、エアナイフコーター、キスタッチコーター、キスタッチリバースコーター、コンマコーター、コンマリバースコーター、マイクロリバースコーターなどの塗工方式を用いることができる。   The coating method for forming the curable adhesive layer is gravure coater, gravure reverse coater, lip coater, flexo coater, blanket coater, roll coater, knife coater, air knife coater, kiss touch coater, kiss touch reverse coater, comma Coating methods such as a coater, comma reverse coater, and micro reverse coater can be used.

貼り合わせ工程は、一方のポリエステルフィルムの片面に接着剤を塗布した後、他方のポリエステルフィルムをラミネートニップローラーで貼り合わせる。このとき、一方のポリエステルフィルムの片面に接着剤を塗布した後、40〜120℃で熱処理することが好ましく、40〜120℃に加熱したラミネートニップローラー上で0.2〜1.0MPaのニップ圧力で他方のポリエステルフィルムをラミネートすることが好ましい。   In the bonding step, an adhesive is applied to one side of one polyester film, and then the other polyester film is bonded with a laminate nip roller. At this time, after applying an adhesive to one side of one polyester film, it is preferable to heat-treat at 40 to 120 ° C., and a nip pressure of 0.2 to 1.0 MPa on a laminate nip roller heated to 40 to 120 ° C. It is preferable to laminate the other polyester film.

貼り合わせた後、巻取りまでの搬送ゾーンでは、欠点を検出する機構及び/又は、張力の調整や巻取りローラーの切り替えの際のシートのたるみを吸収するための機構等のために、通常複数の搬送ローラーが用いられ、シートの幅方向のずれを抑制するために各搬送ローラーにおいては、適当な接触角度をもってシートが搬送される。   In the transport zone from pasting to winding, usually there are multiple mechanisms for detecting defects and / or for absorbing tension of the sheet when adjusting tension and switching the winding roller. In order to suppress the shift in the width direction of the sheet, the sheet is conveyed at an appropriate contact angle in each conveyance roller.

複数の搬送ローラーを通過させた後にシート巻取りコア上に巻取り、接着剤の硬化を目的に、得られた積層フィルムをロールに巻き取った状態で、20〜60℃、24〜168時間熱処理を行う。かかる熱処理の温度が、20℃以上であり熱処理の時間が24時間以上であれば接着剤の硬化が十分であり、十分な接着強度が得られ、後の工程で貼り合わせたフィルムにズレ等が生じない。また、60℃以下で熱処理の時間が168時間以下であれば、ロールとなったシートの巻き締まり痕が余り付かず、加飾用途としては適する。   After passing through a plurality of conveying rollers, it is wound on a sheet winding core, and heat treatment is performed at 20 to 60 ° C. for 24 to 168 hours with the obtained laminated film wound on a roll for the purpose of curing the adhesive. I do. If the temperature of the heat treatment is 20 ° C. or more and the heat treatment time is 24 hours or more, the adhesive is sufficiently cured, sufficient adhesive strength can be obtained, and the film bonded in the subsequent process may be misaligned. Does not occur. Further, if the heat treatment time is 168 hours or less at 60 ° C. or less, there is not much squeezing trace of the rolled sheet, which is suitable as a decoration application.

〔4〕自己修復性フィルムの加飾成型加工方法及び用途
〔4.1〕加飾成型加工方法
本発明の自己修復性フィルムは、当該自己修復性フィルムに対して自己修復層とは反対側の面に粘着層又は接着層を形成し、当該自己修復性フィルムを前記粘着層又は接着層を介して基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合する加飾成型加工が行われることが好ましい。
[4] Decorative Molding Method and Use of Self-Repairing Film [4.1] Decorative Molding Method The self-healing film of the present invention is opposite to the self-healing layer with respect to the self-healing film. A decorative molding process is performed in which an adhesive layer or an adhesive layer is formed on the surface, and the self-restoring film is bonded to the substrate through the adhesive layer or the adhesive layer while being thermoformed at a temperature of 80 ° C. or higher. Is preferred.

ここでいう基板とは、好ましくは曲面形状体を得ることができるプラスチック材料(筐体)である。   The substrate here is preferably a plastic material (housing) from which a curved body can be obtained.

本発明の自己修復性フィルムを、基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合する加飾成型加工によって、成形密着層の未硬化モノマーが架橋して重合し、当該未硬化モノマーの含有量が3質量%以下となることにより、成形密着層自体の強度が向上し、自己修復層の耐傷性をより向上することができる。   By the decorative molding process in which the self-restoring film of the present invention is bonded to a substrate while being thermoformed at a temperature of 80 ° C. or more, the uncured monomer of the molded adhesion layer is crosslinked and polymerized, and the uncured monomer When the content is 3% by mass or less, the strength of the molded adhesion layer itself can be improved, and the scratch resistance of the self-healing layer can be further improved.

好ましい温度は、80〜200℃の範囲内であり、80〜150℃の範囲内であることがより好ましく、80〜120℃の範囲内であることが特に好ましい。   A preferable temperature is in the range of 80 to 200 ° C, more preferably in the range of 80 to 150 ° C, and particularly preferably in the range of 80 to 120 ° C.

[粘着層]
粘着層は、本発明の自己修復性フィルムを基板に接着し、固定するための構成層である。
[Adhesive layer]
The adhesive layer is a constituent layer for adhering and fixing the self-restoring film of the present invention to the substrate.

この粘着層としては、自己修復性フィルムを基板に接着することができるものであれば特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いても良い。   The adhesive layer is not particularly limited as long as it can adhere a self-repairing film to a substrate. For example, a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat sealing agent, a hot melt agent, or the like is used. Can do. Further, polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber, or the like may be used.

自己修復性フィルムの裏面に粘着層を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。   The laminating method for providing the adhesive layer on the back surface of the self-healing film is not particularly limited, and for example, a roll-type continuous method is preferable from the viewpoint of economy and productivity.

粘着層の厚さは、粘着効果及び乾燥速度等の観点から、通常1〜50μm程度の範囲であることが好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 μm from the viewpoints of the pressure-sensitive adhesive effect and the drying speed.

粘着層に用いられる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「SKダインシリーズ」、東洋インキ社製Oribain BPWシリーズ、BPSシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。   Specific materials used for the adhesive layer include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., “Oribain BPW Series”, “BPS Series” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., “Arcon” “Superester” “High Pale” manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. The pressure-sensitive adhesive can be suitably used.

なお、自己修復性フィルムを基板に接着するまで、粘着層は剥離シートで覆われており、粘着層の粘着力を保つようにすることが好ましい。   The adhesive layer is preferably covered with a release sheet until the self-restoring film is adhered to the substrate, and it is preferable to maintain the adhesive strength of the adhesive layer.

粘着層には腐食防止剤である、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等のトリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、メルカプト基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも1種又はこれらの混合物を含有させることも好ましい。   The adhesive layer is a corrosion inhibitor, amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, It is also preferable to contain at least one of a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a compound having a mercapto group, a thiourea or a naphthalene group, or a mixture thereof.

[接着層]
接着剤としては、特に制限されるものではないが、ウレタン系樹脂からなる接着剤が好ましい。ウレタン系樹脂からなる接着剤とは、末端にヒドロキシ基を持つポリオールとポリイソシアネート、又は末端にイソシアネート基を持つウレタンプレポリマーとポリオールを組み合わせ反応させることで硬化し、接着剤として機能するものである。
[Adhesive layer]
Although it does not restrict | limit especially as an adhesive agent, The adhesive agent which consists of urethane type resin is preferable. An adhesive made of a urethane resin is cured by combining and reacting a polyol having a hydroxyl group at the terminal and a polyisocyanate, or a urethane prepolymer having an isocyanate group at the terminal and a polyol, and functions as an adhesive. .

ポリオールとしては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、その他のポリオールが使用できる。例えば、ポリエーテルポリオールとしては、ポリオキシエチレンポリオール、ポリオキシプロピレンポリオール、ポリオキシエチレン−プロピレン共重合ポリオール、ポリテトラメチレンポリオールなどの単独又はそれらの混合物が挙げられる。ポリエステルポリオールとしては、ジカルボン酸(アジピン酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸など)とグリコール(エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコールなど)とを重縮合させ得られたポリオール、例えば、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリエチレン−プロピレンアジペート等のポリオールがあり、また、ポリラクトンポリオール、例えば、ポリカプロラクトンポリオールの単独又はそれらの混合物、ポリカーボネートポリオールなどが挙げられる。   As the polyol, polyether polyol, polyester polyol, and other polyols can be used. For example, examples of the polyether polyol include polyoxyethylene polyol, polyoxypropylene polyol, polyoxyethylene-propylene copolymer polyol, polytetramethylene polyol and the like alone or a mixture thereof. Polyester polyols include dicarboxylic acids (such as adipic acid, succinic acid, maleic acid, and phthalic acid) and glycols (such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexane glycol, and neopentyl glycol). Polyols such as polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polypropylene adipate, polyethylene-propylene adipate and the like, and polylactone polyols such as polycaprolactone polyol alone or A mixture thereof, polycarbonate polyol and the like can be mentioned.

ポリイソシアネートとしては、2,4−トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート、カルボジイミド変性MDI、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香族系ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び脂環式系ポリイソシアネートが挙げられる。上記ポリイソシアネートは単独又はそれらの混合物として使用できる。   Polyisocyanates include aromatic polyisocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, carbodiimide-modified MDI, and naphthalene diisocyanate. , Hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate and alicyclic polyisocyanate. The above polyisocyanates can be used alone or as a mixture thereof.

また、接着層には、各種の添加剤、例えば粘度調整剤、レベリング剤、ゲル化防止剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、易滑剤、顔料、染料、有機又は無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、核剤などが含有されていても良い。   In addition, the adhesive layer has various additives such as viscosity modifiers, leveling agents, anti-gelling agents, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, lubricants, pigments, dyes, organic or Inorganic fine particles, fillers, antistatic agents, nucleating agents and the like may be contained.

〔4.2〕合わせガラス
本発明の自己修復性フィルムの用途として、合わせガラスに適用することが好ましい。当該合わせガラスは、機能性フィルムとして上記赤外線反射フィルムを備える本発明の自己修復性フィルムが、2枚のガラス基材で挟持されて構成されることが好ましい。
[4.2] Laminated glass As a use of the self-restoring film of the present invention, it is preferably applied to laminated glass. The laminated glass is preferably constituted by sandwiching the self-repairing film of the present invention having the infrared reflective film as a functional film between two glass substrates.

すなわち、本発明の合わせガラスは、入射光側から、一方のガラス基材、機能性フィルムとして上記赤外線反射フィルムを備える自己修復性フィルム、他方のガラス基材の順で配置される。なお、2枚のガラス基材は、同一の種類のガラス基材であっても良く、異なる種類のガラス基材であっても良い。
ガラス基材は、平板状のガラス基材であっても、また車のフロントガラスに使用されるような曲面形状のガラス基材であっても良い。特に、本発明に係る成形密着層及び自己修復層を有する自己修復性フィルムは、曲面形状のガラス基材への適用性に優れる。
That is, the laminated glass of this invention is arrange | positioned from the incident light side in order of one glass base material, the self-repairing film provided with the said infrared reflective film as a functional film, and the other glass base material. The two glass substrates may be the same type of glass substrate or different types of glass substrates.
The glass substrate may be a flat glass substrate or a curved glass substrate used for a windshield of a car. In particular, the self-healing film having the molded adhesion layer and the self-healing layer according to the present invention is excellent in applicability to a curved glass substrate.

本発明に係る合わせガラスは、特に、車の窓ガラスとして用いられる場合において、可視光透過率が70%以上であることが好ましい。なお、可視光透過率は、例えば、分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ製、U−4000型)を用いて、JIS R3106(1998)「板ガラス類の透過率・反射率・日射熱取得率の試験方法」に準拠して、測定することができる。   The laminated glass according to the present invention preferably has a visible light transmittance of 70% or more, particularly when used as a car window glass. The visible light transmittance can be measured by using, for example, a spectrophotometer (U-4000 type, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) using JIS R3106 (1998) “Transmissivity / Reflectance / Solar Heat Acquisition Rate of Sheet Glasses”. It can be measured in accordance with the “Test method”.

[ガラス基材]
合わせガラスに用いられるガラス基材としては、無機ガラス(以下、単にガラスともいう。)及び有機ガラス(樹脂グレージング)が挙げられる。無機ガラスとしては、フロート板ガラス、熱線吸収板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入り板ガラス、線入り板ガラス、及び、グリーンガラス等の着色ガラス等が挙げられる。上記有機ガラスとしては、無機ガラスに代用される合成樹脂ガラスである。上記有機ガラスとしては、ポリカーボネート板及びポリ(メタ)アクリル樹脂板等が挙げられる。上記ポリ(メタ)アクリル樹脂板としては、ポリメチル(メタ)アクリレート板等が挙げられる。本発明においては、外部から衝撃が加わって破損した際の安全性の観点からは、無機ガラスであることが好ましい。
[Glass substrate]
Examples of the glass substrate used for the laminated glass include inorganic glass (hereinafter also simply referred to as glass) and organic glass (resin glazing). Examples of the inorganic glass include float plate glass, heat ray absorbing plate glass, polished plate glass, mold plate glass, netted plate glass, lined plate glass, and colored glass such as green glass. As said organic glass, it is a synthetic resin glass substituted for inorganic glass. Examples of the organic glass include polycarbonate plates and poly (meth) acrylic resin plates. Examples of the poly (meth) acrylic resin plate include a polymethyl (meth) acrylate plate. In the present invention, inorganic glass is preferred from the viewpoint of safety when it is damaged by an external impact.

無機ガラスの種類は、特に限定されないが、通常、ソーダライムシリカガラスが好適に用いられる。この場合、無色透明ガラスであって良く、有色透明ガラスであっても良い。   The kind of inorganic glass is not particularly limited, but usually soda lime silica glass is preferably used. In this case, it may be a colorless transparent glass or a colored transparent glass.

また、2枚のガラス基材のうち、入射光に近い室外側のガラス基材は、無色透明ガラスであることが好ましい。また、入射光側から遠い室内側のガラス基材は、グリーン系有色透明ガラス又は濃色透明ガラスであることが好ましい。グリーン系有色透明ガラスは、紫外線吸収性能及び赤外線吸収性能を有することが好ましい。これらを用いることにより、室外側でできるだけ日射エネルギーを反射することができ、更に合わせガラスの日射透過率を小さくすることができるからである。   Moreover, it is preferable that the glass substrate of the outdoor side close | similar to incident light among two glass base materials is a colorless transparent glass. Moreover, it is preferable that the glass substrate of the indoor side far from the incident light side is a green-colored colored transparent glass or dark colored transparent glass. The green colored transparent glass preferably has ultraviolet absorption performance and infrared absorption performance. By using these, the solar radiation energy can be reflected as much as possible on the outdoor side, and the solar radiation transmittance of the laminated glass can be further reduced.

グリーン系有色透明ガラスは特に限定されないが、例えば、鉄を含有するソーダライムシリカガラスが好適に挙げられる。例えば、ソーダライムシリカ系の母ガラスに、Fe換算で、全鉄0.3〜1質量%を含有するソーダライムシリカガラスである。更に、近赤外領域の波長の光の吸収は全鉄のうちの2価の鉄による吸収が支配的であるため、FeO(2価の鉄)の質量が、Fe換算で、全鉄の20〜40質量%であることが好ましい。 Although the green colored transparent glass is not particularly limited, for example, soda lime silica glass containing iron is preferable. For example, it is soda-lime silica glass containing 0.3 to 1% by mass of total iron in terms of Fe 2 O 3 in a soda-lime silica-based mother glass. Furthermore, since absorption of light having a wavelength in the near-infrared region is dominated by divalent iron out of total iron, the mass of FeO (divalent iron) is calculated in terms of Fe 2 O 3 , It is preferable that it is 20-40 mass% of iron.

紫外線吸収性能を付与するためには、ソーダライムシリカ系の母ガラスにセリウム等を加える方法が挙げられる。具体的には、実質的に以下の組成のソーダライムシリカガラスを用いるのが好ましい。SiO:65〜75質量%、Al:0.1〜5質量%、NaO+KO:10〜18質量%、CaO:5〜15質量%、MgO:1〜6質量%、Fe換算した全鉄:0.3〜1質量%、CeO換算した全セリウム及び/又はTiO:0.5〜2質量%。 In order to impart ultraviolet absorption performance, a method of adding cerium or the like to a soda lime silica base glass can be mentioned. Specifically, it is preferable to use soda lime silica glass having the following composition substantially. SiO 2: 65 to 75 wt%, Al 2 O 3: 0.1~5 wt%, Na 2 O + K 2 O: 10~18 wt%, CaO: 5 to 15 wt%, MgO: 1 to 6 wt%, terms of Fe 2 O 3 were total iron: 0.3 wt%, the total cerium CeO 2 in terms and / or TiO 2: 0.5 to 2 mass%.

また、濃色透明ガラスは、特に限定されないが、例えば、鉄を高濃度で含有するソーダライムシリカガラスが好適に挙げられる。   Moreover, although dark transparent glass is not specifically limited, For example, the soda-lime silica glass which contains iron in high concentration is mentioned suitably.

本発明の合わせガラスを車両等の窓に用いるにあたって、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材の厚さは、ともに1.5〜3.0mmであることが好ましい。この場合、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材を等しい厚さにすることも、異なる厚さにすることもできる。合わせガラスを自動車窓に用いるにあたっては、例えば、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材を、ともに2.0mmの厚さにしたり、2.1mmの厚さにしたりすることが挙げられる。また、合わせガラスを自動車窓に用いるにあたっては、例えば、室内側ガラス基材の厚さを2mm未満、室外側ガラス基材の厚さを2mm以上とすることで、合わせガラスの総厚さを小さくし、かつ車外側からの外力に抗することができる。室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材は、平板状でも湾曲状でも良い。車両、特に自動車窓は湾曲していることが多いため、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材の形状は湾曲形状であることが多い。この場合、自己修復性フィルムは室外側ガラス基材の凹面側に設けられる。更に、必要に応じて3枚以上のガラス基材を用いることもできる。   When using the laminated glass of this invention for windows, such as a vehicle, it is preferable that both the thickness of an indoor side glass base material and an outdoor side glass base material is 1.5-3.0 mm. In this case, the indoor side glass base material and the outdoor side glass base material can have the same thickness or different thicknesses. In using laminated glass for an automobile window, for example, both the indoor side glass base material and the outdoor side glass base material may have a thickness of 2.0 mm or a thickness of 2.1 mm. Moreover, when using laminated glass for an automobile window, for example, the total thickness of the laminated glass is reduced by setting the thickness of the indoor glass substrate to less than 2 mm and the thickness of the outdoor glass substrate to 2 mm or more. In addition, it can resist external forces from the outside of the vehicle. The indoor side glass substrate and the outdoor side glass substrate may be flat or curved. Since vehicles, particularly automobile windows, are often curved, the shape of the indoor side glass substrate and the outdoor side glass substrate is often curved. In this case, the self-restoring film is provided on the concave side of the outdoor glass substrate. Furthermore, if necessary, three or more glass substrates can be used.

本発明の合わせガラスの製造方法は特に限定されない。例えば、二つのガラス基材の間に、本発明の自己修復性フィルムを挟持した後、押圧ロール(ニップロールともいう。)に通したり、又はゴムバックに入れて減圧吸引したりして、ガラス基材と、本発明に係る自己修復性フィルムとの間に残留する空気を脱気する。その後、約70〜110℃で予備接着して積層体を得る。次に、積層体をオートクレーブに入れたり、又はプレスしたりして、約120〜150℃及び1〜1.5MPaの圧力で圧着する。このようにして、合わせガラスを得ることができる。   The manufacturing method of the laminated glass of this invention is not specifically limited. For example, after sandwiching the self-restoring film of the present invention between two glass substrates, the glass substrate is passed through a pressure roll (also referred to as a nip roll) or sucked under reduced pressure in a rubber bag. The air remaining between the material and the self-healing film according to the present invention is degassed. Then, it pre-adheres at about 70-110 degreeC, and a laminated body is obtained. Next, the laminated body is put in an autoclave or pressed, and pressed at about 120 to 150 ° C. and a pressure of 1 to 1.5 MPa. In this way, a laminated glass can be obtained.

上記合わせガラスは、自動車、鉄道車両、航空機、船舶及び建築物等に使用できる。合わせガラスは、これらの用途以外にも使用できる。上記合わせガラスは、建築用又は車両用の合わせガラスであることが好ましい。上記合わせガラスは、自動車のフロントガラス、サイドガラス、リアガラス又はルーフガラス等に使用できる。   The laminated glass can be used for automobiles, railway vehicles, aircraft, ships, buildings, and the like. Laminated glass can be used for other purposes. The laminated glass is preferably laminated glass for buildings or vehicles. The laminated glass can be used for an automobile windshield, side glass, rear glass, roof glass, or the like.

〔4.3〕曲面形状体
本発明の自己修復性フィルムは、家電、OA機器、携帯電話及び自動車の内装などに使用されているプラスチックの筐体の表面加飾用途に好適に用いることができる。
[4.3] Curved shape body The self-restoring film of the present invention can be suitably used for surface decoration of plastic casings used in home appliances, OA equipment, mobile phones, automobile interiors, and the like. .

特に、形状が曲面形状である部材に対して、下記の成形方法により、金属光沢の付加や複雑な模様等の意匠性の高い曲面形状体を成型することができる。   In particular, a curved shape body having a high design property such as addition of metallic luster or a complicated pattern can be formed on a member having a curved shape by the following forming method.

本発明の自己修復性フィルムは、成形密着層及び自己修復層を具備しているため、曲面形状体の表面に傷が付きにくく、また耐光性も高いという優れた特徴を有する。   Since the self-healing film of the present invention includes a molded adhesion layer and a self-healing layer, the surface of the curved body is not easily scratched and has excellent characteristics such as high light resistance.

成形方法としては、基板に用いる樹脂と本発明の自己修復性フィルムとを、射出成形によるインモールド成形する方法が主であるが、成形品に後から貼合、転写させる真空・圧着法(オーバーレイ法)等も利用することができる。また、インモールド成形は更にインモールドラミネーションとインモールド転写に分類され、適宜選択される。   The molding method is mainly in-mold molding of the resin used for the substrate and the self-restoring film of the present invention by injection molding. Law) etc. can also be used. In-mold molding is further classified into in-mold lamination and in-mold transfer, and is appropriately selected.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass part" or "mass%" is represented.

《赤外線反射フィルムの作製》
透明基材フィルムとして厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡株式会社製、コスモシャインA4300、両面昜接着処理、略称:PET)を用いた。
<Production of infrared reflective film>
A polyethylene terephthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine A4300, double-sided adhesive bonding, abbreviated as PET) was used as the transparent substrate film.

以下のようにして、第1の水溶性バインダー樹脂及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層と、第2の水溶性バインダー樹脂及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層とを交互に積層して赤外線反射層を形成し、機能性フィルムとしての赤外線反射フィルムを作製した(図3に対応)。   A high refractive index layer containing the first water-soluble binder resin and the first metal oxide particles, and a low refractive index layer containing the second water-soluble binder resin and the second metal oxide particles as follows. Were alternately laminated to form an infrared reflective layer, and an infrared reflective film as a functional film was produced (corresponding to FIG. 3).

(1)下引き層の形成
透明基材フィルムに下記下引き層塗布液をエクストルージョンコーターで15mL/mとなるように塗布し、塗布後50℃の無風ゾーン(1秒間)を経た後、120℃で30秒間乾燥し、下引き層付き支持体を得た。
(1) Formation of undercoat layer The following undercoat layer coating solution was applied to a transparent base film so as to be 15 mL / m 2 with an extrusion coater, and after passing through a 50 ° C. no-air zone (1 second), The substrate was dried at 120 ° C. for 30 seconds to obtain a support with an undercoat layer.

〈下引き層塗布液の調製〉
脱イオン化ゼラチン 10g
純水 30mL
酢酸 20g
下記架橋剤 0.2モル/gゼラチン
下記ノニオン系フッ素含有界面活性剤 0.2g
メタノール:アセトン=2:8の有機溶媒で1000mlにし、下引き層塗布液とした。なお、上記脱イオン化ゼラチンとしては、下記方法で調製したものを用いた。
<Preparation of undercoat layer coating solution>
10g deionized gelatin
30 mL of pure water
Acetic acid 20g
The following crosslinking agent 0.2 mol / g gelatin The following nonionic fluorine-containing surfactant 0.2 g
1000 ml of an organic solvent of methanol: acetone = 2: 8 was used as an undercoat layer coating solution. As the deionized gelatin, one prepared by the following method was used.

Figure 2019000984
Figure 2019000984

〈脱イオン化ゼラチンの調製〉
石灰処理、水洗、中和処理を行い、石灰を除去したオセインに対し55〜60℃の熱水中で抽出処理を行い、オセインゼラチンを得た。得られたオセインゼラチン水溶液を、アニオン交換樹脂(ダイヤイオンPA−31G)とカチオン交換樹脂(ダイヤイオンPK−218)の混合ベッドで両イオン交換を行い、上記脱イオン化ゼラチンを調製した。
<Preparation of deionized gelatin>
Ocein gelatin was obtained by performing lime treatment, water washing, and neutralization treatment, and performing extraction treatment in hot water at 55 to 60 ° C. on ossein from which lime was removed. The obtained ossein gelatin aqueous solution was subjected to both ion exchanges in a mixed bed of anion exchange resin (Diaion PA-31G) and cation exchange resin (Diaion PK-218) to prepare the deionized gelatin.

(2)赤外線反射層の形成
重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置(スライドコーター)を用い、下記低屈折率層用塗布液L1及び高屈折率層用塗布液H1を45℃に保温しながら、45℃に加温した上記下引き層付き支持体に、低屈折率層及び高屈折率層のそれぞれの乾燥時の層厚が130nmになるように、また最下層及び最上層が低屈折率層になるようにして、低屈折率層10層、高屈折率層8層を交互に計18層の同時重層塗布を行った。
(2) Formation of Infrared Reflective Layer Using a slide hopper coating apparatus (slide coater) capable of multi-layer coating, the following low refractive index layer coating liquid L1 and high refractive index layer coating liquid H1 are kept at 45 ° C. In the support with the undercoat layer heated to 0 ° C., the dry thickness of each of the low refractive index layer and the high refractive index layer is 130 nm, and the lowermost layer and the uppermost layer are low refractive index layers. In this manner, a total of 18 simultaneous multilayer coatings were alternately carried out on 10 low refractive index layers and 8 high refractive index layers.

塗布直後、5℃の冷風を5分間吹き付けてセットさせた。その後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、18層からなる赤外線反射層を形成した。
なお、上記低屈折率層用塗布液L1及び高屈折率層用塗布液H1としては、下記方法で調製したものを用いた。
Immediately after application, 5 ° C. cold air was blown for 5 minutes to set. Thereafter, warm air of 80 ° C. was blown and dried to form an 18-layer infrared reflection layer.
In addition, what was prepared with the following method was used as the said coating liquid L1 for low refractive index layers, and the coating liquid H1 for high refractive index layers.

〈低屈折率層用塗布液L1の調製〉
まず、10質量%の第2の金属酸化物粒子としてのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、スノーテックス(登録商標)OXS)水溶液680部と、4.0質量%のポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA−103:重合度300、ケン化度98.5mol%)水溶液30部と、3.0質量%のホウ酸水溶液150部とを混合し、分散した。純水を加え、全体として1000部のコロイダルシリカ分散液L1を調製した。
<Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer>
First, 680 parts of a colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Snowtex (registered trademark) OXS) aqueous solution as 10% by mass of second metal oxide particles, and 4.0% by mass of polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd.). (Manufactured by PVA-103: polymerization degree 300, saponification degree 98.5 mol%) 30 parts of an aqueous solution and 150 parts of a 3.0% by mass boric acid aqueous solution were mixed and dispersed. Pure water was added to prepare 1000 parts of colloidal silica dispersion L1 as a whole.

次いで、得られたコロイダルシリカ分散液L1を45℃に加熱し、その中に4.0質量%のポリビニルアルコール(B)としてのポリビニルアルコール(日本酢ビ・ポバール株式会社製、JP−45:重合度4500、ケン化度86.5〜89.5mol%)水溶液760部を撹拌しながら添加した。その後、1質量%のベタイン系界面活性剤(川研ファインケミカル株式会社製、ソフダゾリン(登録商標)LSB−R)水溶液40部を添加し、低屈折率層用塗布液L1を調製した。   Subsequently, the obtained colloidal silica dispersion L1 was heated to 45 ° C., and 4.0% by mass of polyvinyl alcohol (B-Polyal, JP-45: Polymerization) as polyvinyl alcohol (B) therein. Degree 4500, saponification degree 86.5-89.5 mol%) 760 parts of aqueous solution was added with stirring. Thereafter, 40 parts of a 1% by weight betaine surfactant (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., Sofazoline (registered trademark) LSB-R) aqueous solution was added to prepare a coating solution L1 for a low refractive index layer.

〈高屈折率層用塗布液H1の調製〉
(コア・シェル粒子のコアとするルチル型酸化チタンの調製)
水中に、酸化チタン水和物を懸濁させ、TiOに換算したときの濃度が100g/Lになるように、酸化チタンの水性懸濁液を調製した。10Lの当該懸濁液に、30Lの水酸化ナトリウム水溶液(濃度10モル/L)を撹拌しながら加えた後、90℃に加熱し、5時間熟成させた。次いで、塩酸を用いて中和し、濾過後水を用いて洗浄した。なお、上記反応(処理)において、原料である酸化チタン水和物は、公知の手法に従い、硫酸チタン水溶液の熱加水分解処理によって得られたものである。
<Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer>
(Preparation of rutile titanium oxide as core of core / shell particles)
An aqueous suspension of titanium oxide was prepared such that the titanium oxide hydrate was suspended in water and the concentration when converted to TiO 2 was 100 g / L. To 10 L of the suspension, 30 L of an aqueous sodium hydroxide solution (concentration: 10 mol / L) was added with stirring, then heated to 90 ° C. and aged for 5 hours. Next, the mixture was neutralized with hydrochloric acid, washed with water after filtration. In addition, in the said reaction (process), the titanium oxide hydrate which is a raw material is obtained by the thermal hydrolysis process of the titanium sulfate aqueous solution according to a well-known method.

純水中に、上記塩基処理したチタン化合物をTiOに換算したときの濃度が20g/Lになるように、懸濁させた。その中に、TiO量に対し0.4モル%のクエン酸を撹拌しながら加えた。その後、加熱し、混合ゾル液の温度が95℃になったところで、塩酸濃度が30g/Lになるように濃塩酸を加えた。液温を95℃に維持しながら、3時間撹拌させ、酸化チタンゾル液を調製した。 The base-treated titanium compound was suspended in pure water so that the concentration when converted to TiO 2 was 20 g / L. Therein, it was added with TiO 2 amount to stirring 0.4 mole% citric acid. Then, when the temperature of the mixed sol solution reached 95 ° C., concentrated hydrochloric acid was added so that the hydrochloric acid concentration was 30 g / L. While maintaining the liquid temperature at 95 ° C., the mixture was stirred for 3 hours to prepare a titanium oxide sol liquid.

上記のように、得られた酸化チタンゾル液のpH及びゼータ電位を測定したところ、pHは1.4であり、ゼータ電位は+40mVであった。また、マルバーン社製ゼータサイザーナノにより粒径測定を行ったところ、単分散度は16%であった。   As described above, when the pH and zeta potential of the obtained titanium oxide sol solution were measured, the pH was 1.4 and the zeta potential was +40 mV. Moreover, when the particle size was measured with a Zetasizer Nano manufactured by Malvern, the monodispersity was 16%.

更に、酸化チタンゾル液を105℃で3時間乾燥させ、酸化チタンの粉体微粒子を得た。日本電子データム株式会社製、JDX−3530型を用いて、当該粉体微粒子をX線回折測定し、ルチル型の酸化チタン微粒子であることを確認した。また、当該微粒子の体積平均粒径は10nmであった。   Further, the titanium oxide sol solution was dried at 105 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide powder fine particles. The powder fine particles were subjected to X-ray diffraction measurement using JDX-3530 type manufactured by JEOL Datum Co., Ltd., and confirmed to be rutile titanium oxide fine particles. The volume average particle size of the fine particles was 10 nm.

そして、純水4kgに、得られた体積平均粒径10nmのルチル型の酸化チタン微粒子を添加し、10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液を得た。   Then, rutile type titanium oxide fine particles having a volume average particle diameter of 10 nm were added to 4 kg of pure water to obtain 10.0% by mass of a titanium oxide sol aqueous dispersion.

(シェル被覆によるコア・シェル粒子の調製)
2kgの純水に、10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液0.5kgを加え、90℃に加熱した。次いで、SiOに換算したときの濃度が2.0質量%であるように調製したケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加し、オートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、更に濃縮した。これにより、コア粒子がルチル型構造を有する酸化チタン、被覆層がSiOであるコア・シェル粒子(平均粒径:10nm)のゾル液(固形分濃度20質量%)を得た。
(Preparation of core / shell particles by shell coating)
To 2 kg of pure water, 0.5 kg of 10.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion was added and heated to 90 ° C. Next, 1.3 kg of an aqueous silicic acid solution prepared so that the concentration when converted to SiO 2 was 2.0% by mass was gradually added, followed by heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, and further concentrated. . As a result, a sol solution (solid content concentration 20% by mass) of core-shell particles (average particle size: 10 nm) in which the core particles are titanium oxide having a rutile structure and the coating layer is SiO 2 is obtained.

(塗布液の調製)
上記で得られた固形分濃度20.0質量%の第1の金属酸化物粒子としてのコア・シェル粒子を含むゾル液28.9部と、1.92質量%のクエン酸水溶液10.5部と、10質量%のポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA−103:重合度300、ケン化度98.5mol%)水溶液2.0部と、3質量%のホウ酸水溶液9.0部とを混合して、コア・シェル粒子分散液H1を調製した。
(Preparation of coating solution)
28.9 parts of a sol solution containing core / shell particles as the first metal oxide particles having a solid content concentration of 20.0% by mass obtained above, and 10.5 parts of a 1.92% by mass citric acid aqueous solution. 10 parts by mass of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-103: polymerization degree 300, saponification degree 98.5 mol%) aqueous solution 2.0 parts, and 3% by mass boric acid aqueous solution 9.0 parts. By mixing, a core-shell particle dispersion H1 was prepared.

次いで、コア・シェル粒子分散液H1を撹拌しながら、純水16.3部及び5.0質量%のポリビニルアルコール(A)としてのポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA−124:重合度2400、ケン化度98〜99mol%)水溶液33.5部を加えた。更に、1質量%のベタイン系界面活性剤(川研ファインケミカル株式会社製、ソフダゾリン(登録商標)LSB−R)水溶液0.5部を添加し、純水を用いて全体として1000部の高屈折率層用塗布液H1を調製した。   Next, while stirring the core-shell particle dispersion H1, 16.3 parts of pure water and 5.0% by mass of polyvinyl alcohol (A) as polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-124: degree of polymerization 2400, (Saponification degree 98-99 mol%) 33.5 parts of aqueous solution was added. Furthermore, 0.5 part of a 1% by weight betaine surfactant (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., sofazoline (registered trademark) LSB-R) aqueous solution was added, and a high refractive index of 1000 parts as a whole using pure water. A layer coating solution H1 was prepared.

《自己修復性フィルム101の作製》
上記作製した赤外線反射フィルムの光反射層上に、下記工程にしたがって成形密着層及び自己修復層を形成して、自己修復性フィルム101を作製した。
<< Preparation of self-healing film 101 >>
A self-healing film 101 was produced by forming a molded adhesion layer and a self-healing layer on the light reflecting layer of the infrared reflecting film produced above according to the following steps.

(1)成形密着層の形成
〈紫外線安定性モノマー及び紫外線吸収性モノマーを含むモノマー組成物から重合されたアクリルポリマー〉
撹拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた1Lのフラスコに酢酸ブチル200部を仕込み、窒素ガスを導入し、撹拌しながら90℃に加熱した。当該フラスコに、紫外線安定性モノマー及び紫外線吸収性モノマーとしての、4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン45質量部、グリシジルメタクリレート90質量部、ブチルメタクリレート165質量部、及び開始剤としての2,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)1.5質量部の混合物を4時間かけて滴下し、滴下後更に2時間加熱した。次に、窒素と酸素の混合ガスを吹き込みながら110℃に昇温し、成形密着層の主成分としてのペンタエリスリトールトリアクリレート50質量部を30分間かけて滴下した。滴下後更に6時間反応させて側鎖にアクリロイル基を有するアクリルポリマーの65質量%溶液を得た。この得られた溶液の酸価は15mgKOHで、数平均分子量は14300であった。
(1) Formation of molded adhesion layer <Acrylic polymer polymerized from monomer composition containing UV-stable monomer and UV-absorbing monomer>
200 parts of butyl acetate was charged into a 1 L flask equipped with a stirrer, a dripping port, a thermometer, a cooling pipe and a nitrogen gas inlet, and nitrogen gas was introduced and heated to 90 ° C. while stirring. Into the flask, 45 parts by weight of 4-methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 90 parts by weight of glycidyl methacrylate, 165 parts by weight of butyl methacrylate as UV-stable monomer and UV-absorbing monomer, and start A mixture of 1.5 parts by mass of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) as an agent was added dropwise over 4 hours, followed by heating for 2 hours. Next, the temperature was raised to 110 ° C. while blowing a mixed gas of nitrogen and oxygen, and 50 parts by mass of pentaerythritol triacrylate as a main component of the molded adhesion layer was dropped over 30 minutes. After dropping, the reaction was further continued for 6 hours to obtain a 65% by mass solution of an acrylic polymer having an acryloyl group in the side chain. The acid value of this obtained solution was 15 mg KOH, and the number average molecular weight was 14,300.

〈層の形成〉
上記アクリルポリマー溶液を、上記赤外線反射フィルム1の赤外線反射層上に、乾燥層厚が5μmになるように塗布して、80℃、0.25分間の乾燥を行い、成形密着層を形成した。
<Formation of layer>
The said acrylic polymer solution was apply | coated so that the dry layer thickness might be set to 5 micrometers on the infrared reflective layer of the said infrared reflective film 1, and it dried at 80 degreeC for 0.25 minute, and formed the adhesion layer.

(2)自己修復層の形成
次いで、形成した成形密着層上に、エージング処理をせずに、連続して下記の自己修復層組成物を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、マイクログラビアコーターを用いて成形密着層の表面に塗布した。次いで、恒率乾燥区間温度80℃、減率乾燥区間温度80℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cmで、照射量を0.3J/cmとして塗布層を硬化させ、ドライ層厚20μmの自己修復層を形成した。これを巻き取り、ロール状の自己修復性フィルム101を作製した。
(2) Formation of self-healing layer Next, the following self-healing layer composition was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm without performing an aging treatment on the formed adhesion layer. It apply | coated to the surface of a shaping | molding contact | adherence layer using the micro gravure coater. Next, after drying at a constant-rate drying zone temperature of 80 ° C. and a reduced-rate drying zone temperature of 80 ° C., the irradiance of the irradiated part is irradiated using an ultraviolet lamp while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0% by volume or less. Was 100 mW / cm 2 , the irradiation amount was 0.3 J / cm 2 , and the coating layer was cured to form a self-repairing layer having a dry layer thickness of 20 μm. This was wound up to produce a roll-shaped self-repairing film 101.

[自己修復層組成物]
AUP−787(株式会社トクシキ製) 100質量部
メチルエチルケトン 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 30質量部
BYK−381(界面活性剤:ビックケミー・ジャパン社製) 1質量部
なお、AUP−787は、ウレタンアクリレート、光重合開始剤及びメチルエチルケトンを含有した樹脂組成物である。
[Self-healing layer composition]
AUP-787 (manufactured by Tokushi Co., Ltd.) 100 parts by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 30 parts by mass BYK-381 (surfactant: manufactured by Big Chemie Japan) 1 part by mass AUP-787 is urethane acrylate, It is a resin composition containing a photopolymerization initiator and methyl ethyl ketone.

《自己修復性フィルム102の作製》
上記自己修復性フィルム101の作製において、成形密着層の主成分として用いられるペンタエリスリトールトリアクリレートをペンタエリスリトールテトラアクリレートに変更した以外は同様にして、自己修復性フィルム102を作製した。
<< Preparation of self-healing film 102 >>
A self-healing film 102 was produced in the same manner as in the production of the self-healing film 101 except that pentaerythritol triacrylate used as the main component of the molded adhesion layer was changed to pentaerythritol tetraacrylate.

《自己修復性フィルム103の作製》
上記自己修復性フィルム101の作製において、成形密着層の主成分として用いられるペンタエリスリトールトリアクリレートをシアヌル酸トリアクリレートに変更した以外は同様にして、自己修復性フィルム103を作製した。
<< Preparation of self-healing film 103 >>
A self-healing film 103 was produced in the same manner as in the production of the self-healing film 101 except that pentaerythritol triacrylate used as the main component of the molded adhesion layer was changed to cyanuric acid triacrylate.

《自己修復性フィルム104の作製》
上記自己修復性フィルム101の作製において、成形密着層の主成分として用いられるペンタエリスリトールトリアクリレートをG13(日本触媒製)に変更した以外は同様にして、自己修復性フィルム104を作製した。
<< Preparation of self-healing film 104 >>
A self-healing film 104 was produced in the same manner as in the production of the self-healing film 101 except that pentaerythritol triacrylate used as the main component of the molded adhesion layer was changed to G13 (manufactured by Nippon Shokubai).

《自己修復性フィルム105の作製》
上記自己修復性フィルム101の作製において、成形密着層の主成分として用いられるペンタエリスリトールトリアクリレートをG137(日本触媒製)に変更した以外は同様にして、自己修復性フィルム105を作製した。
<< Preparation of self-healing film 105 >>
A self-healing film 105 was produced in the same manner as in the production of the self-healing film 101 except that pentaerythritol triacrylate used as a main component of the molded adhesion layer was changed to G137 (manufactured by Nippon Shokubai).

《自己修復性フィルムの評価》
上記のようにして作製した自己修復性フィルム101〜105について、以下の評価を行った。各評価結果を表2に示す。
<Evaluation of self-healing film>
The following evaluations were performed on the self-restoring films 101 to 105 produced as described above. Each evaluation result is shown in Table 2.

(1)自己修復層の修復度(A)の測定
上記作製した各自己修復性フィルムについて、ビッカース圧子及び稜線同士の角度が115度の三角錐圧子を用いた微小硬度計を用いて、フィルム表面に、設定した押し込み深さhmax(μm)で圧子を押し込んだときの負荷試験力−押し込み深さ曲線を作成した。そして、各自己修復性フィルムについて除荷保持時間0秒又は60秒で測定した際に求められる残留深さ(h、h)(図2参照。)より、A=(h−h)/hmax)により算出した。以上の測定をフィルム表面の異なる箇所で5回行い、その平均値を求め、修復度(A)とした。
(1) Measurement of degree of repair (A) of self-healing layer For each of the prepared self-healing films, the surface of the film was measured using a Vickers indenter and a microhardness meter using a triangular pyramid indenter with an angle between ridges of 115 degrees. A load test force-indentation depth curve when the indenter was indented at the set indentation depth h max (μm) was prepared. Then, from the residual depths (h 1 , h 2 ) (see FIG. 2) obtained when each self-healing film was measured at an unloading holding time of 0 seconds or 60 seconds, A = (h 1 -h 2 ). ) / H max ). The above measurement was performed five times at different locations on the film surface, and the average value thereof was obtained as the degree of repair (A).

具体的な測定条件は、ダイナミック超微小硬度計DUH−211S(島津製作所社製)を用い、下記の測定条件で測定した。   The specific measurement conditions were measured under the following measurement conditions using a dynamic ultra-micro hardness meter DUH-211S (manufactured by Shimadzu Corporation).

圧子形状:三角錐圧子(稜間角115°)
測定環境:温度23℃、相対湿度50%
最大試験荷重:196.13mN
荷重速度:6.662mN/10秒
除荷速度:6.662mN/10秒
Indenter shape: Triangular pyramid indenter (edge angle 115 °)
Measurement environment: temperature 23 ° C, relative humidity 50%
Maximum test load: 196.13mN
Loading speed: 6.662 mN / 10 seconds Unloading speed: 6.662 mN / 10 seconds

(2)機能性フィルム、成形密着層及び自己修復層の表面自由エネルギー及びその水素結合成分の測定
上記作製した自己修復性フィルムについて、次のようにして表面自由エネルギー及びその水素結合成分を測定した。なお、機能性フィルム及び成形密着層に対する測定は、表面処理液(テトラヒドロフラン)をフィルム表層に100mm×100mm当たり2ml滴下し、所定時間かけて自己修復性フィルムの自己修復層や成形密着層を除いた後、表面処理液を除去した上で行う。
(2) Measurement of surface free energy of functional film, molded adhesion layer and self-healing layer and its hydrogen bonding component The surface free energy and its hydrogen bonding component were measured as follows for the prepared self-healing film. . In addition, the measurement with respect to a functional film and a shaping | molding contact | adherence layer dropped 2 ml of surface treatment liquid (tetrahydrofuran) on the film surface layer per 100 mm x 100 mm, and remove | excluded the self-healing layer and shaping | molding contact | adherence layer of the self-healing film over predetermined time Thereafter, the surface treatment liquid is removed.

測定装置:固液界面解析装置(DropMaster500、協和界面科学株式会社製)
測定方法:液滴法
環境 :温度23℃、55%RH
3種の標準液体:純水、ニトロメタン、ヨウ化メチレンと、各自己修復性フィルムにおける機能性フィルム表面、成形密着層表面及び自己修復層表面との接触角を、JIS R3257で規定される方法に準拠して前記標準液体を被測定固体上に約3μL滴下して、固液界面解析装置(DropMaster500、協和界面科学株式会社製)により5回測定し、測定値の平均から平均接触角を得た。接触角測定までの時間は試薬を滴下してから60秒後とした。
Measuring device: Solid-liquid interface analyzer (DropMaster 500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
Measuring method: Droplet method Environment: Temperature 23 ° C, 55% RH
Three standard liquids: pure water, nitromethane, methylene iodide and the contact angle between the functional film surface, the molded adhesion layer surface, and the self-healing layer surface in each self-healing film are in a method defined in JIS R3257. In conformity, about 3 μL of the standard liquid was dropped on the solid to be measured, and measured five times with a solid-liquid interface analyzer (DropMaster 500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), and the average contact angle was obtained from the average of the measured values. . The time to contact angle measurement was 60 seconds after the reagent was dropped.

次に、Young−Dupreの式及び拡張Fowkesの式に基づき、固体の表面自由エネルギーの3成分を算出した。なお、表面自由エネルギー解析ソフトEG−11(協和界面科学株式会社製)を用いて計算した。
Young−Dupreの式:WSL=γL(1+cosθ)
SL:液体/固体間の付着エネルギー
γL:液体の表面自由エネルギー
θ:液体/固体の接触角
拡張Fowkesの式:
SL=2{(γsdγL1/2+(γspγL1/2+(γshγL1/2
γL=γL+γL+γL:液体の表面自由エネルギー
γ=γsd+γsp+γsh:固体の表面自由エネルギー
γsd、γsp、γsh:表面自由エネルギーの分散、双極子、水素結合の各成分
Next, three components of the surface free energy of the solid were calculated based on the Young-Dupre equation and the extended Fowkes equation. In addition, it calculated using surface free energy analysis software EG-11 (made by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
Young-Dupre equation: W SL = γL (1 + cos θ)
W SL : Adhesion energy between liquid / solid γL: Surface free energy of liquid θ: Contact angle of liquid / solid Extended Fowkes' formula:
W SL = 2 {(γ sd γL d ) 1/2 + (γ sp γL p ) 1/2 + (γ sh γL h ) 1/2 }
γL = γL d + γL p + γL h : surface free energy of liquid γ s = γ sd + γ sp + γ sh : surface free energy of solid γ sd , γ sp , γ sh : dispersion of surface free energy, dipole, hydrogen bond Each ingredient

接触角の値から3元連立方程式を解くことにより、各自己修復性フィルムにおける機能性フィルム表面、成形密着層表面及び自己修復層表面の表面自由エネルギー各成分値(γsd、γsp、γsh)を求めた。 By solving the ternary simultaneous equations from the contact angle values, the surface free energy component values (γ sd , γ sp , γ sh on the surface of the functional film, the surface of the molded adhesion layer and the surface of the self-healing layer in each self-healing film are obtained. )

(3)光学性能の評価
作製した自己修復性フィルムを曲面レンズ(φ200mm、R300)形状に150℃/3minで熱成形し、その成形前後で正反射率を測定した。正反射率の測定には、分光光度計としてU−4000型((株)日立ハイテクノロジーズ製)を用い、各自己修復性フィルムの光波長400〜1000nmの領域における反射率を23℃・55%RHの環境下、反射面の法線に対して、入射光の入射角5°の反射率をフィルムの幅手方向に等間隔で10点の測定を行った。そしてその平均値を求め、これを正反射率(%)とした。成形前後の正反射率の変化率を算出し、その変化率を以下の評価基準で評価した。
(3) Evaluation of optical performance The produced self-restoring film was thermoformed into a curved lens (φ200 mm, R300) shape at 150 ° C./3 min, and the regular reflectance was measured before and after the molding. For the measurement of regular reflectance, U-4000 type (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) is used as a spectrophotometer, and the reflectance in the region of light wavelength of 400 to 1000 nm of each self-healing film is 23 ° C./55%. Under the RH environment, the reflectance at an incident angle of 5 ° with respect to the normal line of the reflecting surface was measured at 10 points at equal intervals in the width direction of the film. And the average value was calculated | required and this was made into the regular reflectance (%). The change rate of the regular reflectance before and after molding was calculated, and the change rate was evaluated according to the following evaluation criteria.

◎:1%以下
○:1%より大きく、3%以下
△:3%より大きく、5%以下
×:5%より大きい
◎: 1% or less ○: Greater than 1%, 3% or less △: Greater than 3%, 5% or less ×: Greater than 5%

(4)耐候性の評価
作製した自己修復性フィルムを曲面レンズ(φ200mm、R300)形状に150℃/3minで熱成形し、成形後の自己修復性フィルムに対して、耐候性試験を行った。耐候性試験には、Xe耐候性試験装置(スガ試験機株式会社、キセノンウェザーメーターNX25)を用い、300〜400nm波長、60Wの照射強度で2000時間露光照射を行った。上記光学性能の評価と同様にして、耐候性試験前後で自己修復性フィルムの正反射率を測定し、その変化率を算出した。算出した変化率を以下の評価基準で評価した。
(4) Evaluation of weather resistance The prepared self-restoring film was thermoformed into a curved lens (φ200 mm, R300) shape at 150 ° C./3 min, and a weather resistance test was performed on the molded self-restoring film. In the weather resistance test, an Xe weather resistance test apparatus (Suga Test Instruments Co., Ltd., xenon weather meter NX25) was used, and exposure was performed for 2000 hours at a wavelength of 300 to 400 nm and an irradiation intensity of 60 W. Similarly to the evaluation of the optical performance, the regular reflectance of the self-restoring film was measured before and after the weather resistance test, and the rate of change was calculated. The calculated rate of change was evaluated according to the following evaluation criteria.

◎:3%以下
○:3%より大きく、5%以下
△:5%より大きく、10%以下
×:10%より大きい
◎: 3% or less ○: Greater than 3%, 5% or less △: Greater than 5%, 10% or less ×: Greater than 10%

Figure 2019000984
Figure 2019000984

表2に示すように、本発明の自己修復性フィルムは、比較例の自己修復性フィルムに対して、成形後の光学性能及び耐候性に優れていることが分かる。比較例の自己修復性フィルムにおいては、成形された際に層間剥離が発生したことにより、光学性能及び耐候性が低下したものと考えられる。
また、成形密着層と機能性フィルムとの表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であって、成形密着層と自己修復層との表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上である自己修復性フィルム103、105は、当該条件を満たさない自己修復性フィルム104と比較して、歪みや微小なボイドが発生することがなく成形することが可能であるため、残留歪みによる耐候性劣化とボイドによる光学性能劣化を防ぐことができる。
As shown in Table 2, it can be seen that the self-healing film of the present invention is superior in optical performance and weather resistance after molding to the self-healing film of the comparative example. In the self-healing film of the comparative example, it is considered that the optical performance and the weather resistance are lowered due to the occurrence of delamination when being formed.
Further, the difference in hydrogen bonding component of the surface free energy between the molded adhesion layer and the functional film is 2 mN / m or more, and the difference in hydrogen bonding component of the surface free energy between the molding adhesion layer and the self-healing layer is 2 mN / m. The self-healing films 103 and 105 that are equal to or greater than m can be formed without generating distortion or minute voids as compared with the self-healing film 104 that does not satisfy the conditions. It is possible to prevent the deterioration of the weather resistance due to the deterioration of the optical performance due to the void.

1 機能性フィルム
4 成形密着層
5 自己修復層
MF、RF、WF 自己修復性フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Functional film 4 Molding adhesion layer 5 Self-healing layer MF, RF, WF Self-healing film

Claims (2)

機能性フィルムと、
前記機能性フィルム上に設けられた自己修復層と、
前記機能性フィルムと前記自己修復層との間に設けられた成形密着層と、を備え、
前記成形密着層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物が重合したポリマーを含有し、表面自由エネルギーが50mN/m以上、表面自由エネルギーの水素結合成分が3mN/m以上であることを特徴とする自己修復性フィルム。
A functional film;
A self-healing layer provided on the functional film;
A molding adhesion layer provided between the functional film and the self-healing layer,
The molded adhesion layer contains a polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers, and has a surface free energy of 50 mN / m or more, A self-repairing film, wherein the hydrogen bond component of the surface free energy is 3 mN / m or more.
前記成形密着層と前記機能性フィルムとの表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であり、
前記成形密着層と前記自己修復層との表面自由エネルギーの水素結合成分の差が2mN/m以上であることを特徴とする請求項1に記載の自己修復性フィルム。
The difference in hydrogen bond component of the surface free energy between the molded adhesion layer and the functional film is 2 mN / m or more,
2. The self-healing film according to claim 1, wherein a difference in hydrogen bonding components of surface free energy between the molded adhesion layer and the self-healing layer is 2 mN / m or more.
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