JP2019068015A - Glass-ceramic laminate, method of manufacturing the same, electronic component package, and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
【課題】気密性を高めることのできるガラスセラミックス積層板、その製造方法、電子部品パッケージ、及びその製造方法を提供する。【解決手段】ガラスセラミックス積層板11は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板12と、基板12の積層構造の層間を封止するように基板12の端面に設けられたガラス質層13とを備える。ガラスセラミックス積層板11の製造方法は、例えば、ガラスセラミックス積層板11の母材を準備する準備工程と、母材を切断する切断予定線に沿って母材を溶断するレーザー光を走査することでガラス質層13を形成するガラス質層形成工程とを備える。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass-ceramic laminated plate capable of enhancing airtightness, a manufacturing method thereof, an electronic component package, and a manufacturing method thereof. A glass-ceramic laminated plate (11) includes a substrate (12) having a laminated structure of glass-ceramics, and a vitreous layer (13) provided on an end surface of the substrate (12) so as to seal between layers of the laminated structure of the substrate (12). . The method for manufacturing the glass-ceramic laminate 11 includes, for example, a preparatory step of preparing a base material of the glass-ceramic laminate 11 and scanning a laser beam for fusing the base material along a planned cutting line for cutting the base material. And a glassy layer forming step of forming the glassy layer 13. [Selection diagram] Figure 1
Description
本発明は、ガラスセラミックス積層板、その製造方法、電子部品パッケージ、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a glass ceramic laminate, a method of manufacturing the same, an electronic component package, and a method of manufacturing the same.
従来、特許文献1,2に開示されるように、例えば回路を構成するための配線基板として、セラミックス積層板が知られている。特許文献2に開示されるように、セラミックス積層板として、ガラスセラミックス積層板が用いられる場合がある。 Conventionally, as disclosed in Patent Documents 1 and 2, for example, a ceramic laminated board is known as a wiring board for forming a circuit. As disclosed in Patent Document 2, a glass ceramic laminate may be used as the ceramic laminate.
近年、ガラスセラミックス積層板は、比較的低温の焼成により得られることから、その利用価値が高まっている。こうしたガラスセラミックス積層板の端面は、ダイサーで切断された切断面であるため、ガラスセラミックス層の層間部分が露出している。このため、ガラスセラミックス積層板の端面から層間に気体が侵入するおそれがある。このようなガラスセラミックス積層板の層間への気体の侵入は、ガラスセラミックス積層板やその積層板を用いた電子部品パッケージの気密性を低下させる一因となっている。 In recent years, since the glass ceramic laminate is obtained by firing at a relatively low temperature, its utility value is increased. Since the end face of such a glass ceramic laminate is a cut surface cut by a dicer, the interlayer portion of the glass ceramic layer is exposed. For this reason, there is a possibility that gas may intrude between layers from the end face of the glass ceramic laminate. Such gas intrusion into the layers of the glass ceramic laminates is one factor that reduces the airtightness of the glass ceramic laminates and the electronic component package using the laminates.
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、気密性の高いガラスセラミックス積層板、その製造方法、電子部品パッケージ、及びその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of these circumstances, and an object thereof is to provide a highly airtight glass ceramic laminate, a method of manufacturing the same, an electronic component package, and a method of manufacturing the same.
上記課題を解決するガラスセラミックス積層板は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板と、前記基板の積層構造の層間を封止するように前記基板の端面に設けられたガラス質層と、を備える。この構成によれば、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板の端面から基板の層間に気体が侵入することをガラス質層によって抑えることができる。 The glass-ceramics laminated board which solves the said subject is equipped with the board | substrate which has a laminated structure of glass ceramics, and the glassy layer provided in the end surface of the said board | substrate so that the interlayer of the laminated structure of the said board | substrate may be sealed. According to this configuration, the vitreous layer can suppress entry of gas from the end face of the substrate having the laminated structure of glass ceramic to the interlayer of the substrate.
上記ガラスセラミックス積層板において、前記基板は、当該基板の主面に開口する凹部を有していてもよい。この構成によれば、ガラスセラミックス積層板の層間を通じて凹部内に気体が侵入することを抑えることができるため、基板の凹部の気密性を高めることが可能となる。 In the above-mentioned glass ceramic laminate, the substrate may have a recess opened in the main surface of the substrate. According to this configuration, it is possible to suppress the entry of gas into the recess through the interlayer of the glass ceramic laminate, and it is possible to improve the airtightness of the recess of the substrate.
上記ガラスセラミックス積層板において、前記ガラス質層の厚さは、5μm以上、50μm以下の範囲であることが好ましい。この構成によれば、気密性をより高めることができるとともに、基板の端面からの剥離を抑制することができる。 In the glass ceramic laminate, the thickness of the vitreous layer is preferably in the range of 5 μm to 50 μm. According to this configuration, the airtightness can be further enhanced, and the peeling from the end face of the substrate can be suppressed.
上記ガラスセラミックス積層板に使用される前記基板の前記ガラスセラミックスは、ガラスマトリックス中に粒子状態のセラミックスフィラーが分散されてなり、前記ガラス質層は、前記粒子状態のセラミックスフィラーを実質的に含まないことが好ましい。この構成によれば、高い強度と高い気密性を両立することができる。 In the glass ceramic of the substrate used for the glass ceramic laminate, a ceramic filler in a particulate state is dispersed in a glass matrix, and the vitreous layer substantially does not contain the ceramic filler in the particulate state. Is preferred. According to this configuration, both high strength and high airtightness can be achieved.
ガラスセラミックス積層板の製造方法は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板と、前記基板の積層構造の層間を封止するように前記基板の端面に設けられたガラス質層と、を備えるガラスセラミックス積層板の製造方法であって、ガラスセラミックス積層板の母材を準備する準備工程と、前記母材を切断する切断予定線に沿って前記母材を溶断するレーザー光を走査することで前記ガラス質層を形成するガラス質層形成工程と、を備えることが好ましい。 A method of manufacturing a glass ceramic laminate comprises: a substrate having a laminated structure of glass ceramics; and a vitreous layer provided on an end face of the substrate so as to seal the layers of the laminated structure of the substrate. It is a manufacturing method of a board, Comprising: The preparatory process of preparing the base material of a glass-ceramics laminated plate, The said glassy by scanning the laser beam which melts and cuts the said base material along the cutting scheduled line which cuts the said base material And a vitreous layer forming step of forming a layer.
上記ガラスセラミックス積層板の製造方法は、前記母材の溶断時に形成されたドロスを前記ガラス質層形成工程の後に除去する除去工程をさらに備えていてもよい。この方法によれば、ドロスを要因とした不具合を抑えることができる。 The manufacturing method of the said glass-ceramics laminated board may further be equipped with the removal process of removing the dross formed at the time of the melt | fusion cutting of the said base material after the said vitreous layer formation process. According to this method, problems caused by dross can be suppressed.
上記ガラスセラミックス積層板の製造方法において、前記ガラスセラミックス積層板の母材は、当該母材の両主面のうち一方の主面に開口する凹部を有し、前記ガラス質層形成工程において、前記母材の両主面のうち他方の主面側から前記レーザー光を照射することが好ましい。 In the method of manufacturing a glass ceramic laminate, the base material of the glass ceramic laminate has a recess opened to one of the two main surfaces of the base, and in the vitreous layer forming step, It is preferable to irradiate the said laser beam from the other main surface side among both main surfaces of a base material.
この方法によれば、例えば、ガラスセラミックス積層板の母材において、上記他方の主面にめっき層等の機能層を設けたとしても、その機能層がドロスによって汚染されたり、ドロスの除去により損傷を受けたりすることを回避することが可能となる。 According to this method, for example, even if a functional layer such as a plating layer is provided on the other main surface in the base material of a glass ceramic laminate, the functional layer is contaminated by dross or damaged by removal of dross Can be avoided.
上記課題を解決する電子部品パッケージは、ガラスセラミックス積層板と電子部品と蓋材とを備える電子部品パッケージであって、前記ガラスセラミックス積層板は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板と、前記基板の積層構造の層間を封止するように前記基板の端面に設けられたガラス質層と、を備え、前記基板は、当該基板の主面に開口する凹部を有し、前記凹部に前記電子部品が収容されるとともに、前記凹部の開口は、前記蓋材により封止されている。 An electronic component package for solving the above problems is an electronic component package comprising a glass ceramic laminate, an electronic component, and a lid material, wherein the glass ceramic laminate is a substrate having a laminated structure of glass ceramics, and the substrate And a vitreous layer provided on the end face of the substrate so as to seal the layers of the laminated structure, the substrate having a recess opening in the main surface of the substrate, and the electronic component being in the recess While being accommodated, the opening of the said recessed part is sealed by the said cover material.
この構成によれば、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板の端面から基板の層間に気体が侵入することをガラス質層によって抑えることができる。これにより、ガラスセラミックス積層板の層間を通じて凹部内に気体が侵入することを抑えることができるため、基板の凹部の気密性を高めることができる。 According to this configuration, the vitreous layer can suppress entry of gas from the end face of the substrate having the laminated structure of glass ceramic to the interlayer of the substrate. Thereby, the gas can be prevented from invading the recess through the interlayer of the glass ceramic laminate, so that the airtightness of the recess of the substrate can be enhanced.
電子部品パッケージの製造方法は、ガラスセラミックス積層板と電子部品と蓋材とを備える電子部品パッケージの製造方法であって、前記ガラスセラミックス積層板は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板と、前記基板の積層構造の層間を封止するように前記基板の端面に設けられたガラス質層と、を備え、前記基板は、当該基板の主面に開口する凹部を有し、前記製造方法は、前記ガラスセラミックス積層板の母材を準備する準備工程と、パッケージ工程とを備え、前記パッケージ工程は、前記凹部に前記電子部品を収容する収容工程と、前記電子部品が収容された前記凹部の開口を封止するための蓋材を装着する装着工程と、前記母材を切断する切断予定線に沿って前記母材を溶断するレーザー光を走査することで前記ガラス質層を形成するガラス質層形成工程と、を備えることが好ましい。 The method of manufacturing an electronic component package is a method of manufacturing an electronic component package including a glass ceramic laminate, an electronic component, and a lid material, wherein the glass ceramic laminate is a substrate having a laminated structure of glass ceramics, and the substrate And a vitreous layer provided on the end face of the substrate so as to seal the layers of the laminated structure, wherein the substrate has a recess opening in the main surface of the substrate, and the manufacturing method The method includes a preparation step of preparing a base material of a glass ceramic laminate, and a packaging step, and the packaging step includes an accommodating step of accommodating the electronic component in the concave portion, and an opening of the concave portion in which the electronic component is accommodated. Attaching the lid material for sealing, and the glassy material by scanning a laser beam for melting and cutting the base material along a planned cutting line for cutting the base material It is preferable to provide a vitreous layer forming step of forming a.
本発明によれば、ガラスセラミックス積層板の気密性を高めることができる。 According to the present invention, the airtightness of the glass ceramic laminate can be enhanced.
以下、ガラスセラミックス積層板、その製造方法、電子部品パッケージ、及びその製造方法の実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張又は簡略化して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。 Hereinafter, embodiments of a glass ceramic laminate, a method of manufacturing the same, an electronic component package, and a method of manufacturing the same will be described with reference to the drawings. In the drawings, for convenience of explanation, part of the configuration may be shown exaggerated or simplified. Also, the dimensional ratio of each part may be different from the actual one.
<ガラスセラミックス積層板>
図1は、図2(b)に示すガラスセラミックス積層板の1−1線に沿った断面図を示している。図1及び図2(b)示すように、ガラスセラミックス積層板11は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板12と、基板12の積層構造の層間を封止するように基板12の端面に設けられたガラス質層13とを備えている。本実施形態の基板12は、基板12の両主面のうち一方の主面に開口する凹部14を有している。
<Glass ceramic laminates>
FIG. 1 shows a cross-sectional view of the glass ceramic laminate shown in FIG. 2 (b) along line 1-1. As shown in FIG. 1 and FIG. 2 (b), the glass-ceramics laminated plate 11 is provided on the end face of the substrate 12 so as to seal the interlayer of the laminated structure of the substrate 12 and the substrate 12 having the laminated structure of glass ceramics. And a vitreous layer 13. The substrate 12 of the present embodiment has a recess 14 that opens to one of the two main surfaces of the substrate 12.
基板12は、平板部上に凹部14の周壁を構成する周壁部が積層された構造を有している。基板12は、ガラスセラミックス層と図示を省略した回路部とを備えている。基板12(回路基板)の回路部は、例えば、内層配線、外層配線等の配線を備えている。なお、回路部は、抵抗、インダクタ、コンデンサ等を備えていてもよい。基板12は、電子部品から発生する熱を放熱するサーマルビアを備えていてもよい。基板12の厚さは、例えば、0.5mm以上、5mm以下の範囲である。 The substrate 12 has a structure in which a peripheral wall portion constituting a peripheral wall of the recess 14 is stacked on a flat plate portion. The substrate 12 is provided with a glass ceramic layer and a circuit part whose illustration is omitted. The circuit portion of the substrate 12 (circuit substrate) includes, for example, wiring such as inner layer wiring and outer layer wiring. The circuit unit may include a resistor, an inductor, a capacitor, and the like. The substrate 12 may be provided with a thermal via for radiating heat generated from the electronic component. The thickness of the substrate 12 is, for example, in the range of 0.5 mm or more and 5 mm or less.
ガラスセラミックス積層板11の基板12を構成するガラスセラミックスは、ガラスマトリックス中に粒子状態のセラミックスフィラー(セラミックス材料の粉末)が分散されたものである。ガラスセラミックス積層板11のガラス質層13は、粒子状態のセラミックスフィラーを実質的に含まないことが好ましい。ここで、粒子状態のセラミックスフィラーを実質的に含まないガラス質層13とは、薄膜X線回折測定(入射角度:0.2°)において、ガラスセラミックス部分における特定のセラミックフィラー粒子のピーク積分強度を100とした場合、同様にして測定したガラス質層13における上記セラミックフィラー粒子に基づくピーク積分強度が30未満であることを意味する。 The glass ceramic which comprises the board | substrate 12 of the glass ceramic laminated plate 11 is a thing in which the ceramic filler (powder of ceramic material) of the particulate state is disperse | distributed in the glass matrix. It is preferable that the vitreous layer 13 of the glass-ceramics laminated plate 11 does not substantially contain the ceramic filler in a particulate state. Here, the vitreous layer 13 substantially free of the particulate ceramic filler is the peak integrated intensity of a specific ceramic filler particle in the glass ceramic portion in thin film X-ray diffraction measurement (incident angle: 0.2 °). Is 100, it means that the peak integrated intensity based on the above-mentioned ceramic filler particles in the vitreous layer 13 measured similarly is less than 30.
ガラスセラミックスにおける上記ピーク積分強度は、例えばダイサーによって機械的に切断した切断面において薄膜X線回折測定により測定し得る。ガラス質層13において、上記セラミックフィラー粒子がガラスマトリックスのネットワークの一部に取り込まれ非晶質となっている場合、上記のようにピーク積分強度が、ガラスセラミックス部分よりも小さくなると考えられる。 The above-mentioned peak integrated intensity in glass ceramics can be measured by thin film X-ray diffraction measurement, for example on a cut surface mechanically cut by a dicer. In the vitreous layer 13, when the ceramic filler particles are incorporated into a part of the network of the glass matrix and become amorphous, it is considered that the peak integrated intensity is smaller than that of the glass ceramic portion as described above.
ガラスセラミックス積層板11のガラス質層13は、母材をレーザー光で溶断したり、母材の切断面をレーザー光で改質したりすることによって形成することができる。ガラス質層13は、基板12の端面の全体に設けられていてもよいし、部分的に設けられていてもよい。ガラス質層13は、例えば、平面視四角形状の基板12の一辺を構成する端面のみに設けられていてもよい。ガラス質層13の厚さは、5μm以上、50μm以下の範囲であることが好ましい。ガラス質層13の厚さが5μm以上の場合、気密性をより高めることができる。ガラス質層13の厚さが50μm以下の場合、例えば、基板12の端面からの剥離を抑えることができる。なお、ガラス質層13の厚さは、走査型電子顕微鏡でガラス質層13を観察したときの最小の厚さである。 The vitreous layer 13 of the glass ceramic laminate 11 can be formed by melting and cutting the base material with laser light, or modifying the cut surface of the base material with laser light. The vitreous layer 13 may be provided on the entire end face of the substrate 12 or may be provided partially. The vitreous layer 13 may be provided, for example, only on the end face constituting one side of the substrate 12 having a rectangular shape in plan view. The thickness of the glassy layer 13 is preferably in the range of 5 μm to 50 μm. When the thickness of the vitreous layer 13 is 5 μm or more, the airtightness can be further enhanced. In the case where the thickness of the vitreous layer 13 is 50 μm or less, for example, peeling from the end face of the substrate 12 can be suppressed. The thickness of the vitreous layer 13 is the minimum thickness when the vitreous layer 13 is observed with a scanning electron microscope.
<ガラスセラミックス積層板の製造方法>
図2(a)及び図2(b)に示すように、ガラスセラミックス積層板11の製造方法は、ガラスセラミックス積層板11の母材15を準備する準備工程と、母材15を切断する切断予定線CLに沿って母材15を溶断するレーザー光を走査することでガラス質層13を形成するガラス質層形成工程とを備えている。
<Method of manufacturing glass ceramic laminate>
As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the method of manufacturing the glass-ceramics laminate 11 includes a preparation step of preparing the base 15 of the glass-ceramics laminate 11 and a cutting schedule for cutting the base 15 And a vitreous layer forming step of forming the vitreous layer 13 by scanning a laser beam for melting and cutting the base material 15 along the line CL.
ガラスセラミックス積層板11の母材15は、切断予定線CLにより画定される第1積層部15aと第2積層部15bとを有している。第1積層部15aは、第1積層部15aの両主面のうち一方の主面(上面)に開口する凹部14を有している。第2積層部15bは、第2積層部15bの両主面のうち一方の主面(上面)に開口する凹部14を有している。また、第1積層部15a及び第2積層部15bは、それぞれ図示を省略した回路部を有している。なお、母材15の切断予定線CLに沿った部分は、回路部を有していない。 The base material 15 of the glass-ceramics laminated plate 11 has the 1st lamination | stacking part 15a and the 2nd lamination | stacking part 15b which are demarcated by the cutting proposed line CL. The first stacked portion 15 a has a recess 14 that opens to one of the two main surfaces of the first stacked portion 15 a (upper surface). The second stacked unit 15 b has a recess 14 that opens to one of the two main surfaces of the second stacked unit 15 b (upper surface). Further, the first stacked unit 15a and the second stacked unit 15b each have a circuit unit whose illustration is omitted. In addition, the part along the cutting planned line CL of the base material 15 does not have a circuit part.
ガラスセラミックス積層板11の母材15は、ガラスセラミックス用のグリーンシートを用いて回路パターンを形成する周知の方法によって得ることができる。ガラスセラミックスは、低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics)とも呼ばれる。ガラスセラミックスを構成するセラミックス材料(セラミックスフィラーの材料)としては、例えば、アルミナ、チタン、酸化ニオブ、ジルコニア、及びウイレマイトが挙げられる。ガラスセラミックスには、顔料が含まれていてもよい。グリーンシートは、例えば、ガラス粉末、セラミックス粉末、顔料、及び有機溶剤を含有するスラリーをドクターブレード法によりシート化することで得られる。ガラスセラミックス積層板11の母材15は、例えば、回路パターンに応じて加工された複数のグリーンシートを積層した後にプレスし、ガラスの軟化温度以上の温度で焼成することで得られる。 The base material 15 of the glass ceramic laminate 11 can be obtained by a known method of forming a circuit pattern using a green sheet for glass ceramic. Glass ceramics are also called low temperature co-fired ceramics (LTCC: Low Temperature Co-fired Ceramics). As a ceramic material (material of a ceramic filler) which comprises glass ceramics, an alumina, titanium, a niobium oxide, a zirconia, and a willemite are mentioned, for example. The glass ceramic may contain a pigment. The green sheet is obtained, for example, by forming a slurry containing a glass powder, a ceramic powder, a pigment, and an organic solvent by a doctor blade method. The base material 15 of the glass-ceramics laminated plate 11 is obtained, for example, by laminating a plurality of green sheets processed according to a circuit pattern, pressing it, and firing it at a temperature higher than the softening temperature of the glass.
図3に示すように、ガラス質層形成工程は、周知のレーザーユニット16を備えた製造装置を用いて行うことができる。製造装置のレーザーユニット16は、光源16aと、光源16aから発射されたレーザー光LAを集光する光学系16bとを備えている。製造装置は、ガラスセラミックス積層板11の母材15を支持する支持台17をさらに備えている。 As shown in FIG. 3, the vitreous layer forming step can be performed using a manufacturing apparatus provided with a known laser unit 16. The laser unit 16 of the manufacturing apparatus includes a light source 16a and an optical system 16b for condensing the laser light LA emitted from the light source 16a. The manufacturing apparatus further includes a support 17 for supporting the base material 15 of the glass ceramic laminate 11.
レーザー光LAとしては、高出力のパルス型ファイバーレーザー光を好適に用いることができる。ここで、レーザー光LAの条件の一例について説明する。レーザー光LAの発振波長は、ガラスセラミックスに吸収帯があれば、その波長域に制限なく用いることができる。また、ガラスセラミックス自体に顔料を混合し黒色化することで、発振波長の選択域を広げることができる。レーザー光LAの平均出力は、50〜150Wの範囲であることが好ましい。レーザー光LAのパルス幅は、10〜500μsの範囲であることが好ましい。レーザー光LAのパルスエネルギーは、10〜1000mJの範囲であることが好ましい。レーザー光LAの繰り返し周波数は、100〜15000Hzであることが好ましい。レーザー光LAの集光位置は、例えば、ガラスセラミックス積層板11の母材15の主面に合わせてもよいし、主面から所定の深さ(例えば、主面からの深さが0.5〜3mmの範囲)となる位置に合わせてもよい。レーザー光LAの集光径は、例えば、20μm程度である。レーザー光LAの走査速度は、1〜10mm/sの範囲であることが好ましい。レーザー光LAの照射時に用いるアシストガスとしては、例えば、窒素等の不活性ガス、エア等が挙げられる。アシストガスの圧力は、10〜20気圧程度であることが好ましい。 As the laser beam LA, a high-power pulsed fiber laser beam can be suitably used. Here, an example of the conditions of the laser light LA will be described. The oscillation wavelength of the laser light LA can be used without limitation in the wavelength range if the glass ceramic has an absorption band. In addition, by mixing the pigment in the glass ceramic itself and making it black, it is possible to expand the selected range of the oscillation wavelength. The average output of the laser beam LA is preferably in the range of 50 to 150 W. The pulse width of the laser light LA is preferably in the range of 10 to 500 μs. The pulse energy of the laser light LA is preferably in the range of 10 to 1000 mJ. The repetition frequency of the laser light LA is preferably 100 to 15000 Hz. The condensing position of the laser light LA may be, for example, aligned with the main surface of the base material 15 of the glass ceramic laminate 11 or a predetermined depth from the main surface (for example, the depth from the main surface is 0.5 You may match with the position used as -3 mm). The condensing diameter of the laser light LA is, for example, about 20 μm. The scanning speed of the laser light LA is preferably in the range of 1 to 10 mm / s. As an assist gas used at the time of irradiation of laser beam LA, inert gas, such as nitrogen, air, etc. are mentioned, for example. The pressure of the assist gas is preferably about 10 to 20 atm.
なお、製造装置は、レーザーユニット16と支持台17とをXYZ軸に沿った方向に相対移動可能とする移動機構を備えている。製造装置は、予め定めた切断予定線CLに沿ってレーザー光LAを照射するように、移動機構を走査制御する制御部を備えている。 The manufacturing apparatus is provided with a moving mechanism that enables relative movement of the laser unit 16 and the support 17 in the direction along the XYZ axes. The manufacturing apparatus includes a control unit that scans and controls the moving mechanism so as to irradiate the laser light LA along a predetermined planned cutting line CL.
本実施形態のガラス質形成工程では、ガラスセラミックス積層板11の母材15において、凹部14とは反対側の主面側からレーザー光LAを照射する。
ここで、ガラス質形成工程では、ガラスセラミックス積層板11の母材15の溶断時にドロス(溶断によって生成した不要物)が形成される。ドロスは、レーザー光LAの照射側とは反対となる主面側に形成される。すなわち、本実施形態では、ガラスセラミックス積層板11の両主面のうち、凹部14を有する主面側にドロスが形成される。
In the vitreous formation step of the present embodiment, the laser light LA is irradiated from the main surface side opposite to the concave portion 14 in the base material 15 of the glass ceramic laminate 11.
Here, in the vitreous formation step, dross (unwanted matter generated by melting) is formed when the base material 15 of the glass ceramic laminate 11 is melted and cut. The dross is formed on the main surface side opposite to the irradiation side of the laser light LA. That is, in the present embodiment, a dross is formed on the main surface side having the recess 14 among both main surfaces of the glass ceramic laminate 11.
本実施形態のガラスセラミックス積層板11の製造方法は、ガラス質層形成工程の後にドロスを除去する除去工程をさらに備えている。この除去工程では、例えば、研削によってドロスを除去する。 The manufacturing method of the glass-ceramics laminated board 11 of this embodiment is further equipped with the removal process of removing a dross after a vitreous layer formation process. In this removal step, for example, dross is removed by grinding.
<電子部品パッケージ>
図1に示すように、電子部品パッケージ18は、ガラスセラミックス積層板11と電子部品19と蓋材20とを備えている。ガラスセラミックス積層板11は、上述したように積層された基板12とガラス質層13とを備えている。基板12の主面に開口する凹部14には、電子部品19が収容される。電子部品19としては、例えば、ICチップ、撮像素子、発光素子等が挙げられる。電子部品19は、例えば、ワイヤーボンディング等で基板12に実装することができる。
<Electronic component package>
As shown in FIG. 1, the electronic component package 18 includes a glass ceramic laminate 11, an electronic component 19 and a lid 20. The glass ceramic laminate 11 includes the substrate 12 and the vitreous layer 13 stacked as described above. The electronic component 19 is accommodated in the recess 14 opened in the main surface of the substrate 12. Examples of the electronic component 19 include an IC chip, an imaging device, and a light emitting device. The electronic component 19 can be mounted on the substrate 12 by, for example, wire bonding.
基板12の凹部14の開口は、蓋材20により封止されている。蓋材20としては、ガラス薄板やセラミック薄板等の薄板材料が好適に用いられる。蓋材20は、例えば、ガラスフリット、樹脂材料等の封止材(接合材)を用いてガラスセラミックス積層板11の主面に接合されている。 The opening of the recess 14 of the substrate 12 is sealed by a lid 20. As the lid member 20, a thin plate material such as a thin glass plate or a thin ceramic plate is suitably used. The lid member 20 is bonded to the main surface of the glass ceramic laminate 11 using, for example, a sealing material (bonding material) such as glass frit and a resin material.
<電子部品パッケージの製造方法>
図4に示すように、電子部品パッケージ18の製造方法は、ガラスセラミックス積層板11の母材15を準備する準備工程S1と、パッケージ工程S2とを備えている。
<Method of Manufacturing Electronic Component Package>
As shown in FIG. 4, the method of manufacturing the electronic component package 18 includes a preparation step S1 of preparing the base material 15 of the glass ceramic laminate 11 and a package step S2.
本実施形態のパッケージ工程S2は、上記ガラスセラミックス積層板11の製造方法で説明したガラス質層形成工程S21及びドロス除去工程S22を備えている。パッケージ工程S2は、さらにガラスセラミックス積層板11における基板12の凹部14に電子部品19を収容する収容工程S23と、電子部品19が収容された凹部14の開口を封止するための蓋材20を装着する装着工程S24とを備えている。 The packaging process S2 of the present embodiment includes the vitreous layer forming process S21 and the dross removing process S22 described in the method of manufacturing the glass ceramic laminate 11. The packaging step S2 further includes an accommodation step S23 for accommodating the electronic component 19 in the recess 14 of the substrate 12 in the glass ceramic laminate 11, and a lid 20 for sealing the opening of the recess 14 in which the electronic component 19 is accommodated. And mounting step S24 of mounting.
収容工程S23は、ガラスセラミックス積層板11における基板12の凹部14に電子部品19を収容(実装)する周知の方法により行うことができる。装着工程S24は、蓋材20を封止材によってガラスセラミックス積層板11の主面(上面)に接合することでガラスセラミックス積層板11に蓋材20を装着する。 The housing step S23 can be performed by a known method of housing (mounting) the electronic component 19 in the recess 14 of the substrate 12 in the glass ceramic laminate 11. In the mounting step S24, the lid material 20 is mounted on the glass ceramic laminate 11 by bonding the lid 20 to the main surface (upper surface) of the glass ceramic laminate 11 with a sealing material.
なお、電子部品パッケージ18の製造方法におけるドロス除去工程S22は、装着工程S24の前工程として行えばよい。すなわち、ドロス除去工程S22は、収容工程S23の前工程に限定されず、収容工程S23の後工程として行うこともできる。 The dross removing step S22 in the method of manufacturing the electronic component package 18 may be performed as a pre-step of the mounting step S24. That is, the dross removing step S22 is not limited to the previous step of the storing step S23, and can be performed as a step subsequent to the storing step S23.
次に、試験例について説明する。
(試験例1)
ガラスセラミックス積層板の母材を準備し、この母材に対してレーザー光を走査することでガラス質層形成工程を行った。まず、複数のグリーンシートを積層した後にプレスし、ガラスの軟化温度以上の温度で焼成することで、ガラスセラミックス積層板の母材(厚さ:3.7mm)を作製した。
Next, test examples will be described.
(Test Example 1)
The base material of the glass-ceramics laminated plate was prepared, and the glassy layer formation process was performed by scanning a laser beam with respect to this base material. First, after laminating a plurality of green sheets, they were pressed and fired at a temperature equal to or higher than the softening temperature of glass to produce a base material (thickness: 3.7 mm) of a glass ceramic laminate.
このガラスセラミックス積層板の母材の組成は、質量%でガラス50%、アルミナ粉末49%、顔料(Fe−Cr−O系顔料)1%である。ガラスの組成は、質量%でSiO2:66%、B2O3:15%、CaO+BaO+MgO:12%、Na2O+K2O+Li2O:4%、その他の酸化物(ZrO2を含む):3%である。 The composition of the base material of this glass ceramic laminate is 50% of glass, 49% of alumina powder, and 1% of pigment (Fe-Cr-O based pigment) in mass%. The composition of the glass is, in mass%, SiO 2 : 66%, B 2 O 3 : 15%, CaO + BaO + MgO: 12%, Na 2 O + K 2 O + Li 2 O: 4%, other oxides (including ZrO 2 ): 3 %.
次に、このガラスセラミックス積層板の母材からガラスセラミックス積層板を得るガラス質層形成工程を行った。ガラス質層形成工程では、レーザー光として高出力のパルス型ファイバーレーザー光を用いた。レーザー光の条件は、以下の通りである。 Next, a vitreous layer forming step of obtaining a glass ceramic laminate from the base material of the glass ceramic laminate was performed. In the glassy layer forming step, high-power pulsed fiber laser light was used as the laser light. The conditions of the laser light are as follows.
発振波長:1.07μm
平均出力:120W
パルス幅:400μs
パルスエネルギー:600mJ
繰り返し周波数は、200Hz
集光位置:ガラスセラミックス積層板の母材の主面から1mmの深さ
レーザー光の集光径:20μm
走査速度:5mm/s
アシストガス:窒素ガス(18気圧)
(試験例2)
試験例2では、ガラス質層形成工程においてレーザー光の条件のうち、パルス幅、パルスエネルギー、及び繰り返し周波数を以下のように変更した以外は、試験例1と同様にガラスセラミックス積層板を作製した。
Oscillation wavelength: 1.07 μm
Average power: 120W
Pulse width: 400 μs
Pulse energy: 600mJ
The repetition frequency is 200 Hz
Focusing position: 1 mm deep from the main surface of the base material of the glass ceramic laminate plate Focusing diameter of laser light: 20 μm
Scanning speed: 5 mm / s
Assist gas: Nitrogen gas (18 atm)
(Test Example 2)
In Test Example 2, a glass ceramic laminate was produced in the same manner as in Test Example 1 except that the pulse width, pulse energy and repetition frequency were changed as follows among the conditions of the laser light in the vitreous layer forming step. .
パルス幅:50μs
パルスエネルギー:50mJ
繰り返し周波数は、2400Hz
(試験例3)
試験例3では、ガラス質層形成工程を市販のダイサーを用いた切断工程に変更した以外は、試験例1と同様にガラスセラミックス積層板を作製した。なお、試験例3の切断工程では、切断速度を1mm/sに設定した。この切断速度よりも速いと、上記ガラスセラミックス積層板の母材を切断することは困難である。
Pulse width: 50 μs
Pulse energy: 50mJ
The repetition frequency is 2400 Hz
(Test Example 3)
In Test Example 3, a glass-ceramic laminate was produced in the same manner as in Test Example 1 except that the vitreous layer forming step was changed to a cutting step using a commercially available dicer. In the cutting step of Test Example 3, the cutting speed was set to 1 mm / s. If it is faster than this cutting speed, it is difficult to cut the base material of the glass ceramic laminate.
(結果)
図5に示すように、試験例1で得られたガラスセラミックス積層板11の端部WをZ軸方向から走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した。その写真を図6に示す。
(result)
As shown in FIG. 5, the end W of the glass-ceramics laminate 11 obtained in Test Example 1 was observed from the Z-axis direction by a scanning electron microscope (SEM). The photograph is shown in FIG.
図6に示すように、試験例1のガラスセラミックス積層板11の端部Wには、基板12を構成するガラスセラミックスよりも緻密なガラス質層13が形成されていた。
試験例2で得られたガラスセラミックス積層板11の端部Wについても同様に走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した結果、ガラスセラミックス積層板11の端部Wには、基板12を構成するガラスセラミックスよりも緻密なガラス質層13が形成されていた。
As shown in FIG. 6, a vitreous layer 13 more compact than the glass ceramic constituting the substrate 12 was formed at the end portion W of the glass ceramic laminate 11 of Test Example 1.
The end W of the glass ceramic laminate 11 obtained in Test Example 2 is similarly observed by a scanning electron microscope (SEM). As a result, the glass constituting the substrate 12 is formed at the end W of the glass ceramic laminate 11 A vitreous layer 13 denser than the ceramic was formed.
図7に示すように、試験例3で得られたガラスセラミックス積層板の端部は、ポーラスな構造であり、試験例1,2のガラスセラミックス積層板のような新たな層の形成は確認できなかった。 As shown in FIG. 7, the end of the glass ceramic laminate obtained in Test Example 3 has a porous structure, and formation of a new layer like the glass ceramic laminate of Test Examples 1 and 2 can be confirmed. It was not.
図8は、XRD(X線回折)チャートであり、図8(a)は試験例1で得られたガラスセラミックス積層板11の端部W、図8(b)は試験例2で得られたガラスセラミックス積層板11の端部W、図8(c)は試験例3で得られたガラスセラミックス積層板の端部の各XRDチャートを示している。また、図8(d)はアルミナ、図8(e)は顔料の各XRDチャートを示している。 FIG. 8 is an XRD (X-ray diffraction) chart, and FIG. 8A is an end portion W of the glass ceramic laminate 11 obtained in Test Example 1, and FIG. 8B is obtained in Test Example 2 The edge part W of the glass-ceramics laminated board 11, and FIG.8 (c) have shown each XRD chart of the edge part of the glass-ceramics laminated board obtained by Experiment 3. FIG. Further, FIG. 8 (d) shows an XRD chart of alumina, and FIG. 8 (e) shows an XRD chart of a pigment.
図8の結果から、試験例1,2のアルミナに基づくピーク強度は、試験例3のアルミナに基づくピーク強度よりも低い。このことから、試験例1,2のガラスセラミックス積層板11の端面は、ガラスセラミックスとは異なるガラス質層13が形成されていることが分かる。このガラス質層13は、ガラスのネットワークの一部としてアルミナが取り込まれた構造を有していると考えられる。 From the results of FIG. 8, the peak intensity based on alumina of Test Examples 1 and 2 is lower than the peak intensity based on alumina of Test Example 3. From this, it is understood that the vitreous layer 13 different from the glass ceramic is formed on the end face of the glass ceramic laminate 11 of the test examples 1 and 2. The vitreous layer 13 is considered to have a structure in which alumina is incorporated as a part of the glass network.
また、薄膜X線回折測定(入射角度:0.2°)により、セラミックスフィラー粒子のピーク積分強度を測定した結果、試験例3のピーク積分強度を100とした場合の試験例1のピーク積分強度は9%であり、試験例2のピーク積分強度は17%であった。 In addition, as a result of measuring the peak integrated intensity of the ceramic filler particles by thin film X-ray diffraction measurement (incident angle: 0.2 °), the peak integrated intensity of Test Example 1 when the peak integrated intensity of Test Example 3 is 100. Was 9%, and the peak integrated intensity of Test Example 2 was 17%.
以上詳述した実施形態によれば、次のような作用効果が発揮される。
(1)ガラスセラミックス積層板11は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板12と、基板12の積層構造の層間を封止するように基板12の端面に設けられたガラス質層13とを備えている。この構成によれば、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板12の端面から基板12の層間に気体等が侵入することをガラス質層13によって抑えることができる。従って、ガラスセラミックス積層板11の気密性を高めることができる。
According to the embodiment described above in detail, the following effects are exhibited.
(1) The glass-ceramics laminated plate 11 comprises a substrate 12 having a laminated structure of glass ceramics, and a vitreous layer 13 provided on the end face of the substrate 12 so as to seal the layers of the laminated structure of the substrate 12 There is. According to this configuration, the vitreous layer 13 can suppress intrusion of gas or the like from the end face of the substrate 12 having the laminated structure of glass ceramics to the interlayer of the substrate 12. Therefore, the airtightness of the glass-ceramics laminated board 11 can be improved.
また、基板12を構成するガラスセラミックスに含まれるガラスと、ガラス質層13との密着性は良好であるため、ガラス質層13の剥離が生じ難い。
また、ガラスセラミックス積層板11の端面の平滑性が高まることで、ピッキング等の搬送時のエラーが発生し難くなる。
Further, since the adhesion between the glass contained in the glass ceramic forming the substrate 12 and the vitreous layer 13 is good, peeling of the vitreous layer 13 hardly occurs.
Further, as the smoothness of the end face of the glass-ceramics laminated plate 11 is enhanced, an error at the time of conveyance such as picking is less likely to occur.
(2)ガラスセラミックス積層板11の基板12は、この基板12の主面に開口する凹部14を有している。この構成によれば、ガラスセラミックス積層板11の層間を通じて凹部14内に気体が侵入することを抑えることができるため、基板12の凹部14の気密性を高めることが可能となる。 (2) The substrate 12 of the glass-ceramics laminated plate 11 has a recess 14 that opens in the main surface of the substrate 12. According to this configuration, the gas can be prevented from entering the recess 14 through the layers of the glass ceramic laminate 11, and therefore, the airtightness of the recess 14 of the substrate 12 can be improved.
(3)ガラスセラミックス積層板11のガラス質層13の厚さは、5μm以上、50μm以下の範囲であることが好ましい。この場合、気密性をより高めることができるとともに、基板12の端面からの剥離を抑制することができる。 (3) The thickness of the vitreous layer 13 of the glass ceramic laminate 11 is preferably in the range of 5 μm to 50 μm. In this case, the airtightness can be further enhanced, and the peeling from the end face of the substrate 12 can be suppressed.
(4)ガラスセラミックス積層板11の基板12におけるガラスセラミックスは、ガラスマトリックス中に粒子状態のセラミックスフィラーが分散されたものである。これに対して、ガラスセラミックス積層板11のガラス質層13は、粒子状態のセラミックスフィラーを実質的に含まないことが好ましい。この場合、高い強度と高い気密性を両立することができる。 (4) The glass ceramic in the substrate 12 of the glass ceramic laminate 11 is a ceramic matrix in which particles of ceramic filler are dispersed in a glass matrix. On the other hand, it is preferable that the vitreous layer 13 of the glass-ceramics laminated board 11 does not contain the ceramic filler of a particulate state substantially. In this case, both high strength and high airtightness can be achieved.
(5)ガラスセラミックス積層板11の製造方法は、ガラスセラミックス積層板11の母材15を準備する準備工程と、ガラス質層13を形成するガラス質層形成工程とを備えている。ガラス質層形成工程では、ガラスセラミックス積層板11の母材15を切断する切断予定線CLに沿って母材15を溶断するレーザー光LAを走査している。 (5) The method of manufacturing the glass ceramic laminate 11 includes a preparation step of preparing the base material 15 of the glass ceramic laminate 11 and a vitreous layer forming step of forming the vitreous layer 13. In the glassy layer forming step, the laser light LA for melting and cutting the base material 15 is scanned along the planned cutting line CL for cutting the base material 15 of the glass ceramic laminate 11.
この方法によれば、ガラスセラミックス積層板11の母材15の切断と同時に、基板12の端面にガラス質層13を形成することができる。
(6)ガラスセラミックス積層板11の製造方法は、ガラスセラミックス積層板11の母材15の溶断時に形成されたドロスをガラス質層形成工程の後に除去する除去工程をさらに備えることが好ましい。この場合、ドロスを要因とした不具合を抑えることができる。
According to this method, the vitreous layer 13 can be formed on the end face of the substrate 12 simultaneously with the cutting of the base material 15 of the glass ceramic laminate 11.
(6) The method of manufacturing the glass ceramic laminate 11 preferably further includes a removal step of removing the dross formed at the time of melting and cutting the base material 15 of the glass ceramic laminate 11 after the vitreous layer forming step. In this case, problems caused by dross can be suppressed.
(7)ガラスセラミックス積層板11の製造方法において、ガラスセラミックス積層板11の母材15は、この母材15の両主面のうち一方の主面に開口する凹部14を有している。また、ガラス質層形成工程において、母材15の両主面のうち他方の主面側からレーザー光LAを照射している。この場合、例えば、ガラスセラミックス積層板11の母材15において、上記他方の主面にめっき層等の機能層を設けたとしても、その機能層がドロスによって汚染されたり、ドロスの除去により損傷を受けたりすることを回避することが可能となる。 (7) In the method of manufacturing the glass-ceramics laminate 11, the base material 15 of the glass-ceramics laminate 11 has a recess 14 that opens to one of the two main surfaces of the base 15. Further, in the vitreous layer forming step, the laser light LA is emitted from the other main surface side of the both main surfaces of the base material 15. In this case, even if a functional layer such as a plating layer is provided on the other main surface of the base material 15 of the glass ceramic laminate 11, for example, the functional layer is contaminated by dross or damaged by removal of the dross. It becomes possible to avoid receiving.
(8)電子部品パッケージ18は、ガラスセラミックス積層板11と電子部品19と蓋材20とを備えている。基板12は、この基板12の主面に開口する凹部14を有し、この凹部14に電子部品19が収容されている。基板12の凹部14の開口は、蓋材20により封止されている。 (8) The electronic component package 18 includes the glass ceramic laminate 11, the electronic component 19 and the lid 20. The substrate 12 has a recess 14 opened in the main surface of the substrate 12, and the electronic component 19 is accommodated in the recess 14. The opening of the recess 14 of the substrate 12 is sealed by a lid 20.
この構成によれば、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板12の端面から基板12の層間に気体が侵入することをガラス質層13によって抑えることができる。これにより、ガラスセラミックス積層板11の層間を通じて凹部14内に気体が侵入することを抑えることができるため、基板12の凹部14の気密性を高めることができる。 According to this configuration, the vitreous layer 13 can suppress entry of gas from the end face of the substrate 12 having the laminated structure of glass ceramics to the interlayer of the substrate 12. As a result, it is possible to suppress the entry of gas into the recess 14 through the interlayer of the glass-ceramics laminated plate 11, and therefore the airtightness of the recess 14 of the substrate 12 can be enhanced.
(9)電子部品パッケージ18の製造方法は、上記ガラス質層形成工程と、ガラスセラミックス積層板11における基板12の凹部14に電子部品19を収容する収容工程と、電子部品19が収容された凹部14の開口を封止するための蓋材20を装着する装着工程とを備えている。 (9) The method of manufacturing the electronic component package 18 includes the above-described vitreous layer forming step, the accommodation step of accommodating the electronic component 19 in the recess 14 of the substrate 12 in the glass ceramic laminate 11, and the recess in which the electronic component 19 is accommodated. And a mounting step of mounting a lid 20 for sealing the opening 14.
この方法によれば、ガラスセラミックス積層板11の母材15の切断と同時に、基板12の端面にガラス質層13を形成することができる。
(変更例)
上記実施形態を次のように変更してもよい。
According to this method, the vitreous layer 13 can be formed on the end face of the substrate 12 simultaneously with the cutting of the base material 15 of the glass ceramic laminate 11.
(Modification example)
The above embodiment may be modified as follows.
・ガラスセラミックス積層板11の基板12における凹部14を省略してもよい。
・ガラス質形成工程で用いるレーザー光LAは、ガラスセラミックス積層板11の母材15の両主面のうち、いずれか一方の主面側から照射することができる。
The recess 14 in the substrate 12 of the glass ceramic laminate 11 may be omitted.
The laser light LA used in the vitreous formation step can be irradiated from either one of the two main surfaces of the base material 15 of the glass ceramic laminate 11.
・ガラス質形成工程で形成されたドロスを除去する除去工程を省略してもよい。
・電子部品パッケージ18の製造方法において、パッケージ工程では、上記収容工程と装着工程とを行った後にガラス質層形成工程を行うこともできる。
-The removal process of removing the dross formed in the vitreous formation process may be omitted.
In the method of manufacturing the electronic component package 18, in the packaging process, the vitreous layer forming process may be performed after the accommodation process and the mounting process are performed.
・ガラスセラミックス積層板は、回路部を有する電子材料以外の用途に用いることもできる。 The glass ceramic laminate can also be used for applications other than electronic materials having a circuit portion.
11…ガラスセラミックス積層板、12…基板、13…ガラス質層、14…凹部、15…母材、18…電子部品パッケージ、19…電子部品、20…蓋材、CL…切断予定線、LA…レーザー光。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Glass-ceramics laminated board, 12 ... Board | substrate, 13 ... Glassy layer, 14 ... Recess, 15 ... Base material, 18 ... Electronic component package, 19 ... Electronic component, 20 ... Lid material, CL ... Planned cutting line, LA ... Laser light.
Claims (9)
前記ガラス質層は、前記粒子状態のセラミックスフィラーを実質的に含まないことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のガラスセラミックス積層板。 In the glass ceramic, a ceramic filler in a particulate state is dispersed in a glass matrix,
The glass-ceramic laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the vitreous layer substantially does not contain the ceramic filler in the particulate state.
ガラスセラミックス積層板の母材を準備する準備工程と、
前記母材を切断する切断予定線に沿って前記母材を溶断するレーザー光を走査することで前記ガラス質層を形成するガラス質層形成工程と、を備えることを特徴とするガラスセラミックス積層板の製造方法。 A method of manufacturing a glass ceramic laminate, comprising: a substrate having a laminated structure of glass ceramics; and a vitreous layer provided on an end face of the substrate so as to seal the layers of the laminated structure of the substrate;
A preparation step of preparing a base material of the glass ceramic laminate plate,
And a vitreous layer forming step of forming the vitreous layer by scanning a laser beam for melting and cutting the base material along a predetermined cutting line for cutting the base material. Manufacturing method.
前記ガラス質層形成工程において、前記母材の両主面のうち他方の主面側から前記レーザー光を照射することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載のガラスセラミックス積層板の製造方法。 The base material of the glass ceramic laminate has a recess opened to one of the main surfaces of the base material,
The said glassy layer formation process WHEREIN: The said laser beam is irradiated from the main surface side of the other among the main surfaces of the said base material, The manufacturing of the glass-ceramics laminated board of Claim 5 or Claim 6 characterized by the above-mentioned. Method.
前記ガラスセラミックス積層板は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板と、前記基板の積層構造の層間を封止するように前記基板の端面に設けられたガラス質層と、を備え、
前記基板は、当該基板の主面に開口する凹部を有し、前記凹部に前記電子部品が収容されるとともに、前記凹部の開口は、前記蓋材により封止されていることを特徴とする電子部品パッケージ。 An electronic component package comprising a glass ceramic laminate, an electronic component, and a lid,
The glass ceramic laminate includes a substrate having a laminated structure of glass ceramics, and a vitreous layer provided on an end face of the substrate so as to seal the layers of the laminated structure of the substrate.
The substrate has a recess opening in the main surface of the substrate, the electronic component is accommodated in the recess, and the opening of the recess is sealed by the lid member. Parts package.
前記ガラスセラミックス積層板は、ガラスセラミックスの積層構造を有する基板と、前記基板の積層構造の層間を封止するように前記基板の端面に設けられたガラス質層と、を備え、前記基板は、当該基板の主面に開口する凹部を有し、
前記製造方法は、前記ガラスセラミックス積層板の母材を準備する準備工程と、パッケージ工程とを備え、
前記パッケージ工程は、前記凹部に前記電子部品を収容する収容工程と、前記電子部品が収容された前記凹部の開口を封止するための蓋材を装着する装着工程と、前記母材を切断する切断予定線に沿って前記母材を溶断するレーザー光を走査することで前記ガラス質層を形成するガラス質層形成工程と、を備えることを特徴とする電子部品パッケージの製造方法。
A method of manufacturing an electronic component package comprising a glass ceramic laminate, an electronic component, and a lid,
The glass ceramic laminate includes a substrate having a laminated structure of glass ceramics, and a vitreous layer provided on an end face of the substrate so as to seal the layers of the laminated structure of the substrate, and the substrate is Having a recess opening on the main surface of the substrate,
The manufacturing method includes a preparation step of preparing a base material of the glass ceramic laminate, and a package step.
The packaging step includes a storage step of housing the electronic component in the concave portion, a mounting step of mounting a lid material for sealing the opening of the concave portion in which the electronic component is housed, and cutting the base material A vitreous layer forming step of forming the vitreous layer by scanning laser light for melting and cutting the base material along a planned cutting line, and a method of manufacturing an electronic component package.
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012009767A (en) * | 2009-11-27 | 2012-01-12 | Kyocera Corp | Multi-piece wiring board, method of manufacturing same, wiring board, and method of manufacturing same |
| JP2015177104A (en) * | 2014-03-17 | 2015-10-05 | 京セラ株式会社 | Multi-piece wiring board, wiring board and method of manufacturing multi-piece wiring board |
| WO2017154422A1 (en) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | 日本碍子株式会社 | Connection substrate |
-
2017
- 2017-10-05 JP JP2017195091A patent/JP6955207B2/en active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012009767A (en) * | 2009-11-27 | 2012-01-12 | Kyocera Corp | Multi-piece wiring board, method of manufacturing same, wiring board, and method of manufacturing same |
| CN102687599A (en) * | 2010-05-28 | 2012-09-19 | 京瓷株式会社 | Multi-chip wiring board and process for producing same,and wiring board and process for producing same |
| US20130078408A1 (en) * | 2010-05-28 | 2013-03-28 | Kyocera Corporation | Segmentable wiring board and method for producing the same, and wiring substrate and method for producing the same |
| JP2015177104A (en) * | 2014-03-17 | 2015-10-05 | 京セラ株式会社 | Multi-piece wiring board, wiring board and method of manufacturing multi-piece wiring board |
| WO2017154422A1 (en) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | 日本碍子株式会社 | Connection substrate |
| KR20180121507A (en) * | 2016-03-11 | 2018-11-07 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | Connecting board |
| US20180359866A1 (en) * | 2016-03-11 | 2018-12-13 | Ngk Insulators, Ltd. | Connection substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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