JP2018531145A6 - 硫化水素の選択的除去のための吸収剤 - Google Patents
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Abstract
【課題】硫化水素の選択的除去のための吸収剤を提供する。
【解決手段】
流体ストリームからの硫化水素の選択的除去のための吸収剤は、a)第三級アミン、b)明細書に記述する化合物から選択されるアミン系pH促進剤、c)120℃で測定した水溶液のpHが7.9〜8.8未満となるような量の、6未満のpKAを有する酸を含む水溶液であり、b)のa)に対するモル比が0.05〜1.0の範囲内である水溶液を含む。また、流体ストリームを吸収剤と接触させる、流体ストリームから酸性気体を除去する方法も記載する。吸収剤は、低い再生エネルギーにおいて注目に値する。
【解決手段】
流体ストリームからの硫化水素の選択的除去のための吸収剤は、a)第三級アミン、b)明細書に記述する化合物から選択されるアミン系pH促進剤、c)120℃で測定した水溶液のpHが7.9〜8.8未満となるような量の、6未満のpKAを有する酸を含む水溶液であり、b)のa)に対するモル比が0.05〜1.0の範囲内である水溶液を含む。また、流体ストリームを吸収剤と接触させる、流体ストリームから酸性気体を除去する方法も記載する。吸収剤は、低い再生エネルギーにおいて注目に値する。
Description
本発明は、流体ストリームから酸性気体を除去するための、特に硫化水素の選択的除去のための吸収剤、及び流体ストリームから酸性気体を除去するための、特に二酸化炭素に対してより優先される硫化水素の選択的除去のための方法に関する。
天然ガス、製油所ガス又は合成ガス等の流体ストリームからの酸性ガス、例えばCO2、H2S、SO2、CS2、HCN、COS又はメルカプタンの除去は、様々な理由により重要である。硫黄化合物が、天然ガス中に高頻度で同伴している水の中に腐食作用を有する酸を形成するため、天然ガス中の硫黄化合物の含量は、適切な処理手段を用いて天然ガス供給源において直接低減しなければならない。従って、パイプライン内での天然ガスの輸送又は天然ガス液化プラント内での天然ガスのさらなる処理(LNG=液化天然ガス)のためには、硫黄含有不純物に関する所与の限度を観測しなければならない。さらに、数多くの硫黄化合物は、低濃度においてさえ悪臭を放ち、有毒である。
二酸化炭素は、他の物質の中でもとりわけ天然ガスから除去しなければならない。それは、パイプラインガス又は販売ガス(sales gas)として使用する場合に高濃度のCO2が気体の発熱量を低減するからである。さらに、CO2は、流体ストリーム中に高頻度で同伴している水分と一緒になって、パイプ及び弁の中に腐食を起こし得る。その一方、低すぎる濃度のCO2も同様に、この結果として気体の発熱量が高くなり過ぎる可能性があるため、望ましくない。一般的に、パイプラインガス又は販売ガスのCO2濃度は、1.5体積%と3.5体積%の間である。
酸性ガスは、無機塩基又は有機塩基の水溶液によるスクラビング操作を用いて除去される。酸性ガスが吸収剤に溶解すると、塩基と一緒になってイオンを形成する。吸収媒体は、より低い圧力への減圧及び/又はストリッピングによって再生することができる、この場合、上記イオン種は、逆反応して、酸性ガスを形成し、及び/又は水蒸気によってストリッピングされる。再生工程後、吸収剤は、再使用することができる。
すべての酸性気体、特にCO2及びH2Sを真に実質的に除去する方法は、「全吸収」と呼ばれる。特定の場合においては対照的に、例えば下流側のクラウスプラント用として発熱量に関して最適化されたCO2/H2S比を得るために、CO2よりH2Sを優先的に吸収することが望ましいこともある。この場合は、「選択的スクラビング」について言及している。好ましくないCO2/H2S比は、COS/CS2が形成され、クラウス触媒がコーキングすること、又は発熱量が小さくなりすぎることにより、クラウスプラントの性能及び効率を損なう可能性がある。
2−(2−tert−ブチルアミノエトキシ)エタノール等の大きな立体障害のある第二級アミン及びメチルジエタノールアミン(MDEA)等の大きな立体障害のある第三級アミンは、CO2に対してより優先されるH2Sへの速度論的な選択性を示す。上記大きな立体障害のあるアミンは、CO2と直接反応せず、代わりにCO2が、ゆっくりした反応でアミン及び水と反応して、重炭酸塩を生成する。対照的に、H2Sは、アミン水溶液中で直ちに反応する。従って、このような大きな立体障害のあるアミンは、CO2及びH2Sを含む気体混合物からのH2Sの選択的除去に特に適している。
硫化水素の選択的除去は、低い酸性ガス分圧を有する流体ストリームの場合に、例えばテールガス中に利用されることが多く、又は酸性ガス富化(AGE)の場合に、例えばクラウス法前のH2Sの富化のために利用されることが多い。
例えば、US4,471,138は、2−(2−tert−ブチルアミノエトキシ)エタノール等の大きな立体障害のある第二級アミンが、メチルジエタノールアミン等のさらなるアミンと組み合わせたときでさえ、メチルジエタノールアミンよりはるかに高いH2S選択性を有することを示した。この効果は特に、LuらによるSeparation and Purification Technology、2006年、52、209〜217頁によって確認された。EP0084943は、気体ストリームからの二酸化炭素に対してより優先される硫化水素の選択的除去のための吸収溶液中に、立体障害の大きい第二級及び第三級アルカノールアミンを使用する方法を開示している。
EP134948は、アルカリ性材料及び6以下のpKAを有する酸を含む吸収剤を記述している。好ましい酸は、リン酸、ギ酸又は塩酸である。酸の添加は特に、H2Sを含む酸性気体のストリッピングをより効率的にすると言及されている。
US4,618,481は、立体障害の大きいアミン及びアミン塩を含む吸収溶液による、流体ストリームからの硫化水素の除去を開示している。US4,892,674は、アミン並びに立体障害の大きいアミノ塩及び/又は立体障害のあるアミノ酸を含む吸収溶液による、流体ストリームからの硫化水素の除去を開示している。図3を参照したときのこの文献の一教示は、2−(2−tert−ブチルアミノエトキシ)エタノールスルフェートの添加によってMDEAのH2S選択性を増大できるということである。
Mandalらは(Separation and Purification Technology、2004年、35、191〜202頁において)、2−アミノ−2−メチルプロパノール(2−AMP)又はMDEAを含む吸収剤を使用した窒素含有流体からの選択的H2S除去について記述している。MDEAは2−AMPよりも高いH2S選択性を有することが見出された。
パイプラインガス用の天然ガス処理の場合においてもまた、CO2に対してより優先されるH2Sの選択的除去が望ましいこともある。天然ガス処理における吸収工程は一般的に、約20bar(絶対圧力)から約130barまでの高圧において実施される。一般に、例えばテールガス処理又は石炭気化より明瞭に高い酸性ガス分圧が存在し、すなわち、例えばH2Sが少なくとも0.2barでCO2が少なくとも1barの酸性ガス分圧が存在する。
この圧力範囲内での使用例は、気体混合物から二酸化炭素を除去するための方法が記載された、US4,101,633に開示されている。少なくとも50%の立体障害のあるアルカノールアミン及び少なくとも10%の第三級アミノアルコールを含む吸収剤が、使用される。US4,094,957は、この圧力範囲内での使用例を開示しており、気体混合物から二酸化炭素を除去するための方法が記載されている。塩基性のアルカリ金属の塩又は水酸化物、少なくとも1つの立体障害のあるアミン及びC4〜8アミノ酸を含む吸収剤が使用される。
大抵の場合、天然ガス処理の目的は、H2SとCO2とを同時に除去することであり、このとき、所与のH2S限度を観測しなければならないが、CO2の完全な除去は不要である。パイプラインガスに一般的な仕様は、約1.5体積%から約3.5体積%のCO2及び4ppmv未満のH2Sとなるような酸性ガス除去を要求する。この場合、最大のH2S選択性は、望ましくない。
US2013/0243676は、大きな立体障害のあるターシャリーエーテルアミントリエチレングリコールアルコール又はこの誘導体及び液体状アミンを含む吸収剤による、気体混合物からのH2S及びCO2の吸収のための方法を記載している。
Separation and Purification Technology、2006年、52、209〜217頁
Separation and Purification Technology、2004年、35、191〜202頁
本発明の一目的は、硫化水素及び二酸化炭素の除去のための吸収剤及び方法を明示することであり、その方法においてその吸収剤の再生エネルギーは最小限である。
本目的は、流体ストリームからの硫化水素の選択的除去のための吸収剤であって、
a)一般式(I)の第三級アミン
(式中、R1はC2〜4ヒドロキシアルキルであり、R2及びR3はそれぞれ独立してC1〜3アルキル及びC2〜4ヒドロキシアルキルから選択される。);
b)アミン系(aminic)pH促進剤であって、一般式(II)の化合物
(式中、R4は水素、OR7(式中、R7は水素及びC1〜4−アルキルから選択される)、及びNR8R9(式中、R8及びR9はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択されるか、又はR8は水素でありR9はC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択される)から選択され、R5及びR6はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択されるか、又はR5は水素でありR6はC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択される。);
一般式(III)の化合物
(式中、R10、R11、R12及びR13はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル、C1〜5−アミノアルキル、C2〜5−ヒドロキシアルキル及び(ジ−C1〜4アルキルアミノ)−C1〜5−アルキルから選択され、xは2〜4の整数である。);
一般式(IV)の化合物
(式中、R14及びR15はそれぞれ独立して、水素、C1〜4アルキル及びC1〜4ヒドロキシアルキルから選択されるが、ただし、窒素原子に直接結合した炭素原子上のR14及びR15ラジカルは、C1〜4アルキル又はC1〜4ヒドロキシアルキルであり、xは2から4までの整数である。);
及び一般式(V)の化合物
(式中、R16、R17及びR18はそれぞれ独立してC1〜5アルキル、C1〜5アミノアルキル、C2〜5ヒドロキシアルキル及び(ジ−C1〜4−アルキルアミノ)−C1〜5−アルキルから選択される。);
から選択される前記アミン系pH促進剤、
c)120℃で測定した前記水溶液のpHが7.9〜8.8未満となるような量の、6未満のpKAを有する酸、
を含む水溶液を含む、吸収剤によって達成される。
a)一般式(I)の第三級アミン
b)アミン系(aminic)pH促進剤であって、一般式(II)の化合物
一般式(III)の化合物
一般式(IV)の化合物
及び一般式(V)の化合物
から選択される前記アミン系pH促進剤、
c)120℃で測定した前記水溶液のpHが7.9〜8.8未満となるような量の、6未満のpKAを有する酸、
を含む水溶液を含む、吸収剤によって達成される。
プロトン化の平衡は、酸とa)及び/又はb)によるアミンとの間に形成する。平衡の位置は、温度依存性であり、平衡は、より高い温度では、プロトン化のエンタルピーがより低い遊離オキソニウムイオン及び/又はアミン塩の方に向かって移動する。b)によるアミンは、特に顕著なプロトン化平衡の温度依存性を示す。この結果、吸収工程において存在する比較的より低い温度では、pHが高くなるほど、効率的な酸性ガス吸収が促進されるが、脱着工程において存在する比較的より高い温度では、pHが低くなるほど、吸収された酸性ガスの放出が支援される。
プロトン化平衡の温度依存性のために使用することができる測定値は、120℃で測定したpH促進剤のpKAと、50℃で測定したpH促進剤のpKAとの差ΔpKA(120−50℃)である。吸収温度と脱着温度におけるpH促進剤b)のΔpKA値の大きな差は、c)によるpH調整と共に、再生エネルギーをより低くすることが予想される。
一般に、水溶液中のa)及びb)の総濃度は、10質量%から60質量%までであり、好ましくは20質量%から50質量%までであり、より好ましくは30質量%から50質量%までである。
b)のa)に対するモル比は、0.05から1.0までの範囲、好ましくは0.1から0.9までの範囲である。
水溶液は、120℃で測定した水溶液のpHが7.9〜8.8未満、好ましくは8.0〜8.8未満、より好ましくは8.0〜8.5未満、最も好ましくは8.0〜8.2未満となるような量の、6未満のpKAを有する酸c)を含む。
吸収剤は、上記に規定の組成物の限度内で、安定性の限度に支配されることが判明した。指定した酸の量より酸の量を多くし、又はb)のa)に対するモル比をより大きくすると、安定性が悪化し、高温における吸収剤の崩壊が加速する。
本発明の吸収剤は、少なくとも1個の式(I)の第三級アミンを成分a)として含む
(式中、R1はC2〜4−ヒドロキシアルキルであり、R2及びR3はそれぞれ独立してC1〜3−アルキル及びC2〜4−ヒドロキシアルキルから選択される)。「第三級アミン」は、少なくとも1個の第三級アミノ基を有する化合物を意味すると理解されている。第三級アミンは好ましくは、第三級アミノ基のみを含むが、このことは、第三級アミンが、少なくとも1個の第三級アミノ基のそばに第一級アミノ基又は第二級アミノ基を全く含まないことを意味する。第三級アミンは好ましくは、モノアミンである。第三級アミンは好ましくは、特にホスホン酸基、スルホン酸基及び/又はカルボン酸基等の酸性基を全く含まない。
適切なアミンa)には、
ビス(2−ヒドロキシエチル)メチルアミン(メチルジエタノールアミン、MDEA)、トリス(2−ヒドロキシエチル)アミン(トリエタノールアミン、TEA)、トリブタノールアミン、2−ジエチルアミノエタノール(ジエチルエタノールアミン、DEEA)、2−ジメチルアミノエタノール(ジメチルエタノールアミン、DMEA)、3−ジメチルアミノ−1−プロパノール(N,N−ジメチルプロパノールアミン)、3−ジエチルアミノ−1−プロパノール、2−ジイソプロピルアミノエタノール(DIEA)、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)メチルアミン(メチルジイソプロパノールアミン、MDIPA)等の第三級アルカノールアミン;
及びこれらの混合物が特に含まれる。
ビス(2−ヒドロキシエチル)メチルアミン(メチルジエタノールアミン、MDEA)、トリス(2−ヒドロキシエチル)アミン(トリエタノールアミン、TEA)、トリブタノールアミン、2−ジエチルアミノエタノール(ジエチルエタノールアミン、DEEA)、2−ジメチルアミノエタノール(ジメチルエタノールアミン、DMEA)、3−ジメチルアミノ−1−プロパノール(N,N−ジメチルプロパノールアミン)、3−ジエチルアミノ−1−プロパノール、2−ジイソプロピルアミノエタノール(DIEA)、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)メチルアミン(メチルジイソプロパノールアミン、MDIPA)等の第三級アルカノールアミン;
及びこれらの混合物が特に含まれる。
メチルジエタノールアミン(MDEA)が特に好ましい。
アミン系pH促進剤b)は、次の化合物から選択される;
一般式(II)の化合物
(式中、R4は水素、OR7(式中、R7は水素及びC1〜4−アルキルから選択される)、及びNR8R9(式中、R8及びR9はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択されるか、又はR8は水素でありR9はC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択される)から選択され、R5及びR6はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択されるか、又はR5は水素でありR6はC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択される)。
一般式(II)の化合物
一般式(II)の化合物は例えば、シクロヘキシル−N,N−ジメチルアミン及び1,4−ビス(ジメチルアミノ)シクロヘキサンである。
一般式(III)の化合物
(式中、R10、R11、R12及びR13はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル、C1〜5−アミノアルキル、C2〜5−ヒドロキシアルキル及び(ジ−C1〜4アルキルアミノ)−C1〜5−アルキルから選択され、xは2〜4の整数である)。
一般式(III)の化合物は例えば、ヒドロキシエチルビス(ジメチルアミノプロピル)アミンである。
一般式(IV)の化合物
(式中、R14及びR15はそれぞれ独立して、水素、C1〜4アルキル及びC1〜4ヒドロキシアルキルから選択されるが、ただし、窒素原子に直接結合した炭素原子上のR14及びR15ラジカルは、C1〜4アルキル又はC1〜4ヒドロキシアルキルであり、xは2から4までの整数である)。
一般式(IV)の化合物は、例えば2−アミノ−2−メチルプロパノール(2−AMP)である。
一般式(V)の化合物
(式中、R16、R17及びR18はそれぞれ独立して、C1〜5アルキル、C1〜5アミノアルキル、C2〜5ヒドロキシアルキル及び(ジ−C1〜4−アルキルアミノ)−C1〜5−アルキルから選択される)。
一般式(V)の化合物は、例えばN,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサメチル−1,3,5−トリアジン−1,3,5(2H,4H,6H)−トリプロパンアミンである。
好ましくは、pH促進剤b)は、一般式(II)の化合物、一般式(III)の化合物及び一般式(V)の化合物から選択され、より好ましくは一般式(II)の化合物及び一般式(III)の化合物から選択される。最も好ましくは、pH促進剤b)は一般式(II)の化合物から、特に第三級アミノ基のみを有する化合物、例えばシクロヘキシル−N,N−ジメチルアミン及び1,4−ビス(ジメチルアミノ)シクロヘキサンから選択される。シクロヘキシル−N,N−ジメチルアミンが最も好ましい。
120℃で測定したpH促進剤のpKAと、50℃で測定したpH促進剤のpKAとの差ΔpKA(120−50℃)は、好ましくは少なくとも1.50である。1つより多い解離段階を有するアミンの場合、この条件は、少なくとも1つの解離段階がこの値をΔpKA(120−50℃)として有する場合に満たされると考えられる。
pKA値は、所定の温度でアミン濃度が0.01mol/kgの水溶液中で、検討中の解離段階の半当量点のpHを塩酸(第1解離段階0.005mol/kg;第2解離段階:0.015mol/kg;第3解離段階:0.025mol/kg)を添加して測定することによって、適切に測定される。測定は、恒温のジャケット付き密封容器を使用して実施し、容器中で液体窒素で覆った。Hamilton Polylite Plus 120 pH電極を使用し、これはpH7及びpH12緩衝溶液で較正した。
ΔpKA(120−50℃)の値は、アミン系pH促進剤の構造に依存する。少なくとも1個のアミノ基の立体障害及び/又はpH促進剤の1分子あたり2つ以上の窒素原子の存在は、高いΔpKA値(120−50℃)に有利に働く。
立体障害のある第一級アミノ基は、アミノ基の窒素原子の直接隣の少なくとも1個の第三級炭素原子の存在を意味すると理解される。立体障害のある第二級アミノ基は、アミノ基の窒素原子の直接隣の少なくとも1個の第二級又は第三級炭素原子の存在を意味すると理解される。b)のアミン系pH促進剤はまた、先行技術において大きな立体障害のある第二級アミンと呼ばれる1.75を超える立体パラメータ(タフト定数)ESを有する化合物を含む。
第二級炭素原子は、立体障害のある位置への結合とは別に、2つの炭素−炭素結合を有する炭素原子を意味すると理解される。第三級炭素原子は、立体障害のある位置への結合とは別に、3つの炭素−炭素結合を有する炭素原子を意味すると理解される。
以下の表は、50℃及び120℃での例となるアミンのpKA値及びそれぞれの差ΔpKA(120−50℃)を示す。
本発明の吸収剤は、20℃で6未満、特に5未満のpKAを有する少なくとも1個の酸を含む。1つより多い解離段階を有し、したがって、1つより多いpKAを有する酸の場合、この要件は、pKA値のうちの1つが、指定した範囲内である場合に満たされる。酸は、プロトン酸(ブレンステッド酸)から適切に選択される。
酸は、有機酸及び無機酸から選択される。適切な有機酸は例えば、ホスホン酸、スルホン酸、カルボン酸及びアミノ酸を含む。特定の実施形態において、酸は、多塩基酸である。
適切な酸は例えば、
鉱酸、例えば塩酸、硫酸、アミド硫酸、リン酸、リン酸の部分エステル、例えばモノ−及びジアルキルホスフェート並びにモノ−及びジアリールホスフェート、例えばトリデシルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジフェニルホスフェート及びビス(2−エチルヘキシル)ホスフェート;ホウ酸;
カルボン酸、例えば飽和脂肪族モノカルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、n−ヘプタン酸、カプリル酸、2−エチルヘキサン酸、ペラルゴン酸、ネオデカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸;飽和脂肪族ポリカルボン酸、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸;脂環式モノ−及びポリカルボン酸、例えばシクロヘキサンカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、樹脂酸、ナフテン酸;脂肪族ヒドロキシカルボン酸、例えばグリコール酸、乳酸、マンデル酸、ヒドロキシ酪酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸;ハロゲン化脂肪族カルボン酸、例えばトリクロロ酢酸又は2−クロロプロピオン酸;芳香族モノ−及びポリカルボン酸、例えば安息香酸、サリチル酸、没食子酸、位置異性体型トルイル酸、メトキシ安息香酸、クロロ安息香酸、ニトロ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸;工業用のカルボン酸混合物、例えばバーサチック酸;
スルホン酸、例えばメチルスルホン酸、ブチルスルホン酸、3−ヒドロキシプロピルスルホン酸、スルホ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−キシレンスルホン酸、4−ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸及びジノニルナフタレンジスルホン酸、トリフルオロメチル−又はノナフルオロ−n−ブチルスルホン酸、ショウノウスルホン酸、2−(4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)エタンスルホン酸(HEPES);
有機ホスホン酸、例えば式(VI)
R19−PO3H (VI)
(式中、R19は、カルボキシル、カルボキサミド、ヒドロキシル及びアミノから独立して選択される最大4個の置換基によって任意に置換されているC1〜18アルキルである。)のホスホン酸である。
鉱酸、例えば塩酸、硫酸、アミド硫酸、リン酸、リン酸の部分エステル、例えばモノ−及びジアルキルホスフェート並びにモノ−及びジアリールホスフェート、例えばトリデシルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジフェニルホスフェート及びビス(2−エチルヘキシル)ホスフェート;ホウ酸;
カルボン酸、例えば飽和脂肪族モノカルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、n−ヘプタン酸、カプリル酸、2−エチルヘキサン酸、ペラルゴン酸、ネオデカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸;飽和脂肪族ポリカルボン酸、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸;脂環式モノ−及びポリカルボン酸、例えばシクロヘキサンカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、樹脂酸、ナフテン酸;脂肪族ヒドロキシカルボン酸、例えばグリコール酸、乳酸、マンデル酸、ヒドロキシ酪酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸;ハロゲン化脂肪族カルボン酸、例えばトリクロロ酢酸又は2−クロロプロピオン酸;芳香族モノ−及びポリカルボン酸、例えば安息香酸、サリチル酸、没食子酸、位置異性体型トルイル酸、メトキシ安息香酸、クロロ安息香酸、ニトロ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸;工業用のカルボン酸混合物、例えばバーサチック酸;
スルホン酸、例えばメチルスルホン酸、ブチルスルホン酸、3−ヒドロキシプロピルスルホン酸、スルホ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−キシレンスルホン酸、4−ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸及びジノニルナフタレンジスルホン酸、トリフルオロメチル−又はノナフルオロ−n−ブチルスルホン酸、ショウノウスルホン酸、2−(4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)エタンスルホン酸(HEPES);
有機ホスホン酸、例えば式(VI)
R19−PO3H (VI)
(式中、R19は、カルボキシル、カルボキサミド、ヒドロキシル及びアミノから独立して選択される最大4個の置換基によって任意に置換されているC1〜18アルキルである。)のホスホン酸である。
上記有機ホスホン酸には、アルキルホスホン酸、例えばメチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、2−メチルプロピルホスホン酸、t−ブチルホスホン酸、n−ブチルホスホン酸、2,3−ジメチルブチルホスホン酸、オクチルホスホン酸;ヒドロキシアルキルホスホン酸、例えばヒドロキシメチルホスホン酸、1−ヒドロキシエチルホスホン酸、2−ヒドロキシエチルホスホン酸;アリールホスホン酸、例えばフェニルホスホン酸、トリルホスホン酸、キシリルホスホン酸、アミノアルキルホスホン酸、例えばアミノメチルホスホン酸、1−アミノエチルホスホン酸、1−ジメチルアミノエチルホスホン酸、2−アミノエチルホスホン酸、2−(N−メチルアミノ)エチルホスホン酸、3−アミノプロピルホスホン酸、2−アミノプロピルホスホン酸、1−アミノプロピルホスホン酸、1−アミノプロピル−2−クロロプロピルホスホン酸、2−アミノブチルホスホン酸、3−アミノブチルホスホン酸、1−アミノブチルホスホン酸、4−アミノブチルホスホン酸、2−アミノペンチルホスホン酸、5−アミノペンチルホスホン酸、2−アミノヘキシルホスホン酸、5−アミノヘキシルホスホン酸、2−アミノオクチルホスホン酸、1−アミノオクチルホスホン酸、1−アミノブチルホスホン酸;アミドアルキルホスホン酸、例えば3−ヒドロキシメチルアミノ−3−オキソプロピルホスホン酸;及びホスホノカルボン酸、例えば2−ヒドロキシホスホノ酢酸及び2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸;
式(VII)
(式中、R20はH又はC1〜6アルキルであり、QはH、OH又はNY2であり、YはH又はCH2PO3H2である。)のホスホン酸、例えば1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸;
式(VIII)
(式中、Zはシクロアルカンジイル又はフェニレンによって割り込まれているC2〜6アルキレン、シクロアルカンジイル、フェニレン、又はC2〜6アルキレンであり、YはCH2PO3H2であり、mは0から4までである。)のホスホン酸、例えばエチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)及びビス(ヘキサメチレン)トリアミンペンタ(メチレンホスホン酸);
式(IX)
R21−NY2 (IX)
(式中、R21はC1〜6アルキル、C2〜6ヒドロキシアルキル又はYであり、YはCH2PO3H2であり、例えばニトリロトリス(メチレンホスホン酸)及び2−ヒドロキシエチルイミノビス(メチレンホスホン酸)である。)のホスホン酸;
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するアミノカルボン酸、例えば
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するα−アミノ酸、例えばN,N−ジメチルグリシン(ジメチルアミノ酢酸)、N,N−ジエチルグリシン、アラニン(2−アミノプロピオン酸)、N−メチルアラニン(2−(メチルアミノ)プロピオン酸)、N,N−ジメチルアラニン、N−エチルアラニン、2−メチルアラニン(2−アミノイソ酪酸)、ロイシン(2−アミノ−4−メチルペンタ−1−酸)、N−メチルロイシン、N,N−ジメチルロイシン、イソロイシン(1−アミノ−2−メチルペンタン酸)、N−メチルイソロイシン、N,N−ジメチルイソロイシン、バリン(2−アミノイソ吉草酸)、α−メチルバリン(2−アミノ−2−メチルイソ吉草酸)、N−メチルバリン(2−メチルアミノイソ吉草酸)、N,N−ジメチルバリン、プロリン(ピロリジン−2−カルボン酸)、N−メチルプロリン、N−メチルセリン、N,N−ジメチルセリン、2−(メチルアミノ)イソ酪酸、ピペリジン−2−カルボン酸、N−メチルピペリジン−2−カルボン酸、
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するβ−アミノ酸、例えば3−ジメチルアミノプロピオン酸、N−メチルイミノジプロピオン酸、N−メチルピペリジン−3−カルボン酸、
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するγ−アミノ酸、例えば4−ジメチルアミノ酪酸、
又は、第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するアミノカルボン酸、例えばN−メチルピペリジン−4−カルボン酸が挙げられる。
式(VII)
式(VIII)
式(IX)
R21−NY2 (IX)
(式中、R21はC1〜6アルキル、C2〜6ヒドロキシアルキル又はYであり、YはCH2PO3H2であり、例えばニトリロトリス(メチレンホスホン酸)及び2−ヒドロキシエチルイミノビス(メチレンホスホン酸)である。)のホスホン酸;
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するアミノカルボン酸、例えば
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するα−アミノ酸、例えばN,N−ジメチルグリシン(ジメチルアミノ酢酸)、N,N−ジエチルグリシン、アラニン(2−アミノプロピオン酸)、N−メチルアラニン(2−(メチルアミノ)プロピオン酸)、N,N−ジメチルアラニン、N−エチルアラニン、2−メチルアラニン(2−アミノイソ酪酸)、ロイシン(2−アミノ−4−メチルペンタ−1−酸)、N−メチルロイシン、N,N−ジメチルロイシン、イソロイシン(1−アミノ−2−メチルペンタン酸)、N−メチルイソロイシン、N,N−ジメチルイソロイシン、バリン(2−アミノイソ吉草酸)、α−メチルバリン(2−アミノ−2−メチルイソ吉草酸)、N−メチルバリン(2−メチルアミノイソ吉草酸)、N,N−ジメチルバリン、プロリン(ピロリジン−2−カルボン酸)、N−メチルプロリン、N−メチルセリン、N,N−ジメチルセリン、2−(メチルアミノ)イソ酪酸、ピペリジン−2−カルボン酸、N−メチルピペリジン−2−カルボン酸、
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するβ−アミノ酸、例えば3−ジメチルアミノプロピオン酸、N−メチルイミノジプロピオン酸、N−メチルピペリジン−3−カルボン酸、
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するγ−アミノ酸、例えば4−ジメチルアミノ酪酸、
又は、第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するアミノカルボン酸、例えばN−メチルピペリジン−4−カルボン酸が挙げられる。
無機酸の中でも特に、リン酸及び硫酸が好ましい。
カルボン酸の中でも特に、ギ酸、酢酸、安息香酸、コハク酸及びアジピン酸が好ましい。
スルホン酸の中でも特に、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸及び2−(4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピペラジニル)エタンスルホン酸(HEPES)が好ましい。
ホスホン酸の中でも特に、2−ヒドロキシホスホノ酢酸、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、ビス(ヘキサメチレン)トリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)(HDTMP)及びニトリロトリス(メチレンホスホン酸)が好ましく、これらの中でもとりわけ、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸が特に好ましい。
第三級アミノ基又はアミノ基のすぐ隣に少なくとも1個の第二級若しくは第三級炭素原子を有するアミノ基を有するアミノカルボン酸の中でも特に、N,N−ジメチルグリシン及びN−メチルアラニンが好ましい。
より好ましくは、酸は、無機酸である。
吸収剤は、防食剤、酵素等の添加剤をさらに含んでいてもよい。一般に、このような添加剤の量は、吸収剤に対して約0.01質量%から約3質量%までの範囲である。
好ましくは、吸収剤は、立体障害のない第一級アミン又は立体障害のない第二級アミンを全く含まない。この種類の化合物は、CO2吸収の強力な活性剤として作用する。結果として、吸収剤のH2S選択性が失われる可能性がある。
立体障害のない第一級アミンは、水素原子又は第一級若しくは第二級炭素原子のみが結合している第一級アミノ基を有する化合物を意味すると理解される。立体障害のない第二級アミンは、水素原子又は第一級炭素原子のみが結合している第二級アミノ基を有する化合物を意味すると理解される。
本発明は、流体ストリームを上記に規定の吸収剤と接触させる、流体ストリームから酸性気体を除去するための方法にも関する。
一般に、取り込み済みの吸収剤は、
a)加熱、
b)減圧、
c)不活性流体によるストリッピング
又はこれらの手段のうちの2つ若しくはすべての組合せ
によって再生される。
a)加熱、
b)減圧、
c)不活性流体によるストリッピング
又はこれらの手段のうちの2つ若しくはすべての組合せ
によって再生される。
本発明による方法は、すべての種類の流体の処理に適している。流体は、第一には、天然ガス、合成ガス、コークス炉ガス、クラッキングガス、石炭ガス化ガス、サイクルガス、ランドフィルガス及び燃焼ガス等の気体であり、第二には、LPG(液化石油ガス)又はNGL(天然ガス液体)等の吸収剤と本質的に混和しない液体である。本発明による方法は、炭化水素含有流体ストリームの処理に特に適している。存在する炭化水素は例えば、メタン等のC1〜4炭化水素等の脂肪族炭化水素、エチレン若しくはプロピレン等の不飽和炭化水素、又はベンゼン、トルエン若しくはキシレン等の芳香族炭化水素である。
本発明による吸収剤又は方法は、CO2及びH2Sの除去に適している。二酸化炭素及び硫化水素に加えて、COS及びメルカプタン等の他の酸性気体も流体ストリーム中に存在することができる。さらに、SO3、SO2、CS2及びHCNを除去することもできる。
本発明による方法は、CO2に対してより優先される硫化水素の選択的除去に適している。本文脈で、「硫化水素への選択性」は、次の商
(式中、y(H2S)feedは、最初期の流体中のH2Sのモル比率(mol/mol)であり、y(H2S)treatは、処理済み流体中のモル比率であり、y(CO2)feedは、最初期の流体中のCO2のモル比率であり、y(CO2)treatは、処理済み流体中のCO2のモル比率である。)の値を意味すると理解されている。硫化水素への選択性は、1〜8であることが好ましい。
好ましい複数の実施形態において、流体ストリームは、炭化水素を含む流体ストリーム、特に天然ガスストリームである。より好ましくは、流体ストリームは、1.0体積%を超える炭化水素、さらにより好ましくは5.0体積%を超える炭化水素、最も好ましくは15体積%を超える炭化水素を含む。
流体ストリーム中での硫化水素分圧は一般的に、少なくとも2.5mbarである。好ましい複数の実施形態において、少なくとも0.1bar、特に少なくとも1barの硫化水素分圧と、少なくとも0.2bar、特に少なくとも1barの二酸化炭素分圧が、流体ストリーム中に存在する。記載した分圧は、吸収工程において吸収剤と最初に接触するときの流体ストリームに基づいている。
好ましい複数の実施形態において、少なくとも3.0bar、より好ましくは少なくとも5.0bar、さらにより好ましくは少なくとも20barの全圧が、流体ストリーム中に存在する。好ましい複数の実施形態において、最大180barの全圧が、流体ストリーム中に存在する。全圧は、吸収工程において吸収剤と最初に接触するときの流体ストリームに基づいている。
本発明による方法において、流体ストリームが、吸収工程において吸収器内で吸収剤と接触し、この結果、二酸化炭素及び硫化水素が、少なくとも部分的にスクラビングされる。これにより、CO2及びH2Sが激減した流体ストリーム並びにCO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤が得られる。
使用される吸収器は、慣例的なガススクラビング工程において使用されるスクラビング装置である。適切なスクラビング装置は例えば、不規則充填物を有する塔、規則充填物を有する塔並びにトレー、メンブレンコンタクター、半径流スクラバー、ジェットスクラバー、ベンチュリスクラバー及び回転噴霧式スクラバーを有する塔であり、好ましくは、規則充填物を有する塔、不規則充填物を有する塔及びトレーを有する塔であり、より好ましくは、トレーを有する塔及び不規則充填物を有する塔である。流体ストリームは好ましくは、塔内で向流の状態の吸収剤によって処理される。一般に、流体は、塔の下部領域に供給され、吸収剤は、塔の上部領域に供給される。トレー塔内には、液体が流れ伝うことになるシーブトレー、バブルキャップトレー又はバルブトレーが据え付けられている。不規則充填物を有する塔には、相異なる成形品を充填することができる。熱及び物質移動は、通常約25mmから約80mmまでのサイズの成形品に起因する、表面積の増大によって改良される。公知の例は、ラシヒリング(中空シリンダー)、ポールリング、Hiflowリング及びIntaloxサドル等である。不規則充填物は、塔内に(層として)整然とした態様で導入することもできるし、又は不規則的に導入することもできる。可能な材料には、ガラス、セラミック、金属及びプラスチックが挙げられる。規則充填物は、整然とした不規則充填物のさらなる発展形である。規則充填物は、一定の構造を有する。この結果、規則充填物の場合、気体流中の圧力損失を低減することができる。規則充填物、例えば織物型充填物又はシート金属充填物には、様々な設計が存在する。使用される材料は、金属、プラスチック、ガラス及びセラミックであってよい。
吸収工程における吸収剤の温度は一般に、約30℃から100℃までであり、塔が使用される場合は、例えば、塔の頂部において30℃から70℃までであり、塔の底部において50℃から100℃までである。
本発明による方法は、1つ又は複数の吸収工程、特に連続する2つの吸収工程を含んでもよい。吸収は、連続する複数の構成要素工程において実施してもよく、この場合、酸性気体成分を含む粗製ガスが、構成要素工程のそれぞれにおいて吸収剤の部分ストリームと接触する。粗製ガスが接触する吸収剤は、酸性気体をあらかじめ部分的に取り込んでいてもよく、このことは、粗製ガスが接触する吸収剤が例えば、下流側の吸収工程から第1の吸収工程にリサイクルされた吸収剤であってもよいし、又は部分的に再生済みの吸収剤であってもよいことを意味する。2段階吸収の性能に関しては、公報EP0159495、EP0190434、EP0359991及びWO00100271を参照する。
当業者は、吸収工程における条件、例えば、特に詳細には吸収剤/流体ストリーム比、吸収器の塔の高さ、不規則充填物やトレー若しくは規則充填物のような吸収器内の接触促進用内部部材の種類、及び/又は再生した吸収剤の取り込み残分等の、条件を変化させることにより、定義した選択性で高レベルの硫化水素除去を達成することができる。
吸収剤/流体ストリーム比が小さいと、選択性が高まる。吸収剤/流体ストリーム比がより大きいと、選択的吸収が低下する。CO2はH2Sよりも緩慢にしか吸収されないため、滞留時間が短いときよりも長いときに、より多くのCO2が吸収される。従って、塔が高いほど、選択的吸収の低下がもたらされる。液ホールドアップが比較的高いトレー又は規則充填物も同様に、選択的吸収を低下させる。再生時に導入した加熱エネルギーを、再生した吸収剤の取り込み残留分を調整するのに使用することができる。再生した吸収剤の取り込み残留分量が低いほど、吸収が改善される。
本方法は、好ましくはCO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤を再生する再生工程を含む。再生工程において、CO2及びH2S及び任意にさらなる酸性気体成分を、CO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤から放出して、再生済み吸収剤を得る。再生済み吸収剤は続いて、吸収工程に循環処理されるのが好ましい。一般に、再生工程は、加熱する手段、減圧する手段及び不活性流体によってストリッピングする手段のうちの少なくとも1つを含む。
再生工程は好ましくは、例えばボイラー、自然循環蒸発装置、強制循環蒸発装置又は強制循環フラッシュ蒸発装置による、酸性気体成分を取り込んだ吸収剤の加熱を含む。吸収された酸性ガスは、溶液の加熱によって得られた水蒸気によってストリッピングされる。水蒸気ではなく、窒素等の不活性流体を使用することもできる。脱着装置内の絶対圧力は、通常0.1barから3.5barまでであり、好ましくは1.0barから2.5barまでである。温度は、通常50℃から170℃までであり、好ましくは80℃から130℃までであるが、温度は当然ながら、圧力に依存する。
再生工程は、減圧を代替的に又はさらに含み得る。この減圧は、吸収工程の実施のときに存在する高い圧力から低い方の圧力となるように、取り込み済み吸収剤を少なくとも1回減圧することを含む。減圧は例えば、スロットルバルブ及び/又は減圧タービンによって達成することができる。減圧段階を伴う再生は、例えば公報US4,537,753及びUS4,553,984に記載されている。
酸性気体成分は再生工程において例えば、減圧塔、例えば垂直に若しくは水平に据え付けられたフラッシュ容器の中で放出され得、又はインターナル入りの向流塔の中で放出され得る。
再生塔も同様に、不規則充填物を有する塔、規則充填物を有する塔又はトレーを有する塔であってよい。再生塔は、加熱装置、例えば循環ポンプ付きの強制循環蒸発装置を底部に有する。再生塔は、放出された酸性ガス用の出口を頂部に有する。同伴している吸収媒体蒸気は、凝縮器内で凝縮し、塔に再循環される。
再生が相異なる圧力で実施される複数の減圧塔を、直列に接続することができる。例えば、再生は、吸収工程における酸性気体成分の分圧より約1.5bar高いのが一般的な高圧の予備減圧塔、及び低圧、例えば絶対圧力として1barから2barまでの主減圧塔の中で実施することができる。2つ以上の減圧段階を伴う再生は、公報US4,537,753、US4,553,984、EP0159495、EP0202600、EP0190434及びEP0121109に記載されている。
アミン成分の含量と酸の含量とが最適に調和しているため、本発明の吸収剤は、大きな酸性気体の取り込み容量を有するが、容易に再度脱着することもできる。このようにして、本発明による方法におけるエネルギー消費及び溶媒循環を著しく抑制することができる。
吸収剤の再生における最低のエネルギー要件に関しては、吸収温度におけるpHと脱着温度におけるpHとの差異が最大である場合が、この結果として吸収剤からの酸性ガスの分離が促進されるため、有利である。
本発明を、添付の図面及び下記の例によって詳細に説明する。
図1によれば、入口Zを経由して、硫化水素及び二酸化炭素を含む適切に前処理された気体が、吸収剤用管路1.01を経由して供給された再生済み吸収剤と吸収器A1内で向流の状態で接触する。吸収剤が、気体から硫化水素及び二酸化炭素を吸収によって除去し、これにより、硫化水素及び二酸化炭素が激減した清浄な気体が、オフガス管路1.02を経由して送り出される。
吸収剤用管路1.03と、CO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤が、吸収剤用管路1.05の中を通って誘導された再生済み吸収剤からの熱によって加熱されることになる熱交換器1.04と、吸収剤用管路1.06とを経由して、CO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤が、脱着塔Dに供給され、再生される。
吸収器A1と熱交換器1.04との間には、フラッシュ容器が設けられていてもよく(図1には図示せず)、フラッシュ容器において、CO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤は、例えば3barから15barまでとなるように減圧される。
脱着塔Dの下側部分からは、吸収剤が、ボイラー1.07内に誘導され、加熱される。水を主に含有する蒸気は、脱着塔Dにリサイクルされるが、再生済み吸収剤は、吸収剤用管路1.05と、再生済み吸収剤がCO2及びH2Sを取り込んだ吸収剤を加熱し、同時に、再生済み吸収剤自体は冷えることになる熱交換器1.04と、吸収剤用管路1.08、冷却装置1.09と、吸収剤用管路1.01とを経由して、吸収器A1に送り戻される。示したボイラーの代わりに、自然循環蒸発装置、強制循環蒸発装置又は強制循環フラッシュ蒸発装置等、ストリッピング蒸気を生成するための他の熱交換器方式を使用することもできる。これらの蒸発装置方式の場合、再生済み吸収剤とストリッピング蒸気との混相ストリームを、脱着塔Dの底部に帰還させて、蒸気と吸収剤との相分離を実施する。熱交換器1.04に向かう再生済み吸収剤は、脱着塔Dの底部から蒸発装置への循環ストリームから抜き出され、又は、脱着塔Dの底部から別個の管路を経由して熱交換器1.04に直接至るように誘導される。
脱着塔Dにおいて放出されたCO2及びH2Sを含有する気体は、オフガス管路1.10を経由して脱着塔Dを退出する。CO2及びH2Sを含有する気体は、相分離を統合した凝縮器1.11内に誘導され、同伴している吸収剤蒸気から分離される。このプラント及び本発明による方法の実施に適した他のすべてプラントにおいて、凝縮及び相分離は、互いに対して離れたところに存在してもよい。続いて、水から主になる液体が、吸収剤用管路1.12の中を通って脱着塔Dの上部領域に誘導され、CO2及びH2Sを含有する気体が、気体用管路1.13を経由して排出される。
これらの例において、次の略が使用されている。
MDEA: メチルジエタノールアミン
HMTATPA: N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサメチル−1,3,5−トリアジン−1,3,5(2H,4H,6H)トリプロパンアミン
TBAEE: 2−(2−(tert−ブチルアミノ)エトキシ)エタノール
HMTATPA: N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサメチル−1,3,5−トリアジン−1,3,5(2H,4H,6H)トリプロパンアミン
TBAEE: 2−(2−(tert−ブチルアミノ)エトキシ)エタノール
参照例
この例においては、50℃におけるpHと120℃におけるpHとの差の値と様々な吸収剤に要求される再生エネルギーとの間の相関性を調査した。
この例においては、50℃におけるpHと120℃におけるpHとの差の値と様々な吸収剤に要求される再生エネルギーとの間の相関性を調査した。
アミン水溶液又は部分的に中和されたアミン溶液のpHの温度依存性を、50℃から120℃までの温度範囲内で測定した。Hamilton Polylite Plus 120 pH電極を使用し、これをpH7及びpH12の緩衝液で較正した。最大120℃までpHを測定することができる窒素ブランケティングを有する加圧装置を使用した。
下記の表に、例示する水性組成物の50℃におけるpH、120℃におけるpH、及び50℃におけるpHと120℃におけるpHとの差を報告する。
水性組成物がMDEA及び酸に加え更なるアミンを含む複数の実施例において、50℃のpH値と120℃のpH値との差がより大きいことが明白である。
パイロットプラントにおいて、清浄化された気体に関して規定のH2S濃度における、再生の途中で導入された加熱エネルギーを、水性吸収剤の場合で検査した。
パイロットプラントは、図1に対応する。吸収器内には、規則充填物を使用した。圧力は、60barだった。吸収器内の充填物高さは3.2mであり、塔直径は0.0531mだった。脱着装置内には、規則充填物を使用した。圧力は、1.8barだった。脱着装置内の充填物高さは、6.0mであり、0.085mの直径だった。
93体積%のN2、5体積%のCO2及び2体積%のH2Sの気体混合物を、47kg/hの質量流量および40℃の温度で吸収器内に誘導した。吸収器において、吸収剤循環速度は、60kg/hだった。吸収剤の温度は、50℃だった。再生エネルギーを、5ppmのH2S濃度が、清浄化された気体中に達成されるように調節した。
次の表は、これらの実験の結果を示す。
120℃において同等のpH値を有する組成物の場合、50℃におけるpHと120℃におけるpHとのより大きい差は、より低い再生エネルギーをもたらすことが明白である。
実施例1
アミン水溶液又は部分的に中和されたアミン溶液のpHの温度依存性を、50℃から120℃までの温度範囲内で、参照例のように測定した。
アミン水溶液又は部分的に中和されたアミン溶液のpHの温度依存性を、50℃から120℃までの温度範囲内で、参照例のように測定した。
下記の表に、50℃におけるpH、120℃におけるpH、及び50℃におけるpHと120℃におけるpHとの差を報告する。
本発明の吸収剤は、50℃におけるpHと120℃におけるpHとの差が比較的高いことが明白である。参照例の結果について、この結果は低い再生エネルギーが要求されることの指標となる。
Claims (13)
- 流体ストリームからの硫化水素の選択的除去のための吸収剤であって、
a)一般式(I)の第三級アミン
(式中、R1はC2〜4ヒドロキシアルキルであり、R2及びR3はそれぞれ独立してC1〜3アルキル及びC2〜4ヒドロキシアルキルから選択される。);
b)アミン系pH促進剤であって、一般式(II)の化合物
(式中、R4は水素、OR7(式中、R7は水素及びC1〜4−アルキルから選択される)、及びNR8R9(式中、R8及びR9はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択されるか、又はR8は水素でありR9はC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択される)から選択され、R5及びR6はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択されるか、又はR5は水素でありR6はC1〜5−アルキル及びC2〜5−ヒドロキシアルキルから選択される。);
一般式(III)の化合物
(式中、R10、R11、R12及びR13はそれぞれ独立してC1〜5−アルキル、C1〜5−アミノアルキル、C2〜5−ヒドロキシアルキル及び(ジ−C1〜4アルキルアミノ)−C1〜5−アルキルから選択され、xは2〜4の整数である。);
一般式(IV)の化合物
(式中、R14及びR15はそれぞれ独立して、水素、C1〜4アルキル及びC1〜4ヒドロキシアルキルから選択されるが、ただし、窒素原子に直接結合した炭素原子上のR14及びR15ラジカルは、C1〜4アルキル又はC1〜4ヒドロキシアルキルであり、xは2から4までの整数である。);
及び一般式(V)の化合物
(式中、R16、R17及びR18はそれぞれ独立してC1〜5アルキル、C1〜5アミノアルキル、C2〜5ヒドロキシアルキル及び(ジ−C1〜4−アルキルアミノ)−C1〜5−アルキルから選択される。);
から選択される前記アミン系pH促進剤、
並びに
c)120℃で測定した前記水溶液のpHが7.9〜8.8未満となるような量の、6未満のpKAを有する酸、
を含む水溶液であって、b)のa)に対するモル比が0.05〜1.0の範囲にある水溶液を含む、吸収剤。 - 前記アミン系pH促進剤が、一般式(II)の化合物、一般式(III)の化合物及び一般式(V)の化合物から選択される、請求項1に記載の吸収剤。
- 前記アミン系pH促進剤が、一般式(II)の化合物及び一般式(III)の化合物から選択される、請求項1又は2に記載の吸収剤。
- 前記水溶液中のa)及びb)の総濃度が10質量%〜60質量%である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の吸収剤。
- 前記第三級アミンa)がメチルジエタノールアミンである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の吸収剤。
- 前記b)のa)に対するモル比が、0.1〜0.9の範囲にある、請求項1〜5のいずれか一項に記載の吸収剤。
- 前記酸が、5未満のpKAを有する酸から選択される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の吸収剤。
- 前記酸が無機酸である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の吸収剤。
- 前記流体ストリームを請求項1〜8のいずれか一項に記載の吸収剤と接触させる、流体ストリームから酸性気体を除去するための方法。
- 前記流体ストリームが炭化水素を含む、請求項9に記載の方法。
- 前記流体ストリーム中に少なくとも0.1barの硫化水素分圧及び少なくとも0.2barの二酸化炭素分圧が存在する、請求項9又は10に記載の方法。
- 前記流体ストリームが、少なくとも3.0barの全圧を有する、請求項9〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 取り込み済みの前記吸収剤は、
a)加熱、
b)減圧、
c)不活性流体によるストリッピング
又はこれらの手段のうちの2つもしくはすべての組合せ
によって再生される、請求項9〜12のいずれか一項に記載の方法。
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