JP2018119210A - 減圧容器、処理装置、処理システム及びフラットパネルディスプレイの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記四角形の角のそれぞれに対向して配置され、それぞれの角を挟む2辺に向かって延び、互いに離間した複数の第3のリブと、を有する、ことを特徴とする減圧容器である。
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係る処理システムを示す説明図である。処理システム100は、フラットパネルディスプレイを製造するシステムである。フラットパネルディスプレイには、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、電界放出ディスプレイ、電子ペーパなどがあり、第1実施形態ではフラットパネルディスプレイが有機ELディスプレイである場合について説明する。
一方、互いに隣接する2つの部材1551と部材1552の境界B1において、第3のリブである1631と第3のリブである1632は、互いに近接あるいは接触しているが、連結され一体化されてはいない。これらを連結して一体化すると、不必要に重量が増加するからである。
次に、第2実施形態に係る減圧容器について説明する。図5は、第2実施形態に係る減圧容器の斜視図である。第2実施形態では、図5に示すように、減圧容器104Aの一つの外壁の一部を構成する部材が、容器本体150Aに対して開閉される扉155Aとなっている。扉155Aは、複数の蝶番170Aで容器本体150Aに開閉可能に固定されている。
有機EL装置の製造に用いられる蒸着装置では、基板とマスクとをアライメントした後に成膜が行われる。基板とマスクとは数ミクロンの精度でアライメントする必要があるため、アライメントには長い時間を要する。特に、基板がいわゆる第4世代(680mm×880mm)を超えるサイズになると、基板に振動や歪みなどが生じ、アライメント時間が増えてしまう。そこで、成膜する基板サイズに必要となる容積の2倍程度の容積の減圧容器を用い、減圧容器内の半分の空間でアライメントを行っている間に、残り半分の空間で成膜を行って、装置の稼働率を向上させる方法が考えられる。しかし、このような蒸着装置の場合、減圧容器の大きさと重量がさらに増大してしまう。
そこで、このような大きなサイズの減圧容器の場合には、図5に示したように、1枚の大きな扉を設けるのではなく、図14に示すように、図5に示した扉と同様の構造を有する2枚の扉155A、155Bを設けるのが好ましい。扉の枚数は、2枚に限定されるものではなく、減圧容器の大きさに応じて3枚以上設ける構成であってもよい。また、大きさの異なる扉を複数設けてもよい。
このような構成によれば、減圧容器に設ける開口のサイズを小さくすることができるため、減圧容器の強度を保ちつつ、扉を軽量化することが可能となり、減圧容器全体を高強度に保ちつつ、減圧容器を軽量化することができる。
(実施例1)
上記第1実施形態で説明した減圧容器104についてシミュレーションを行った。基板Wは、縦925[mm]×横1500[mm]×厚み0.4[mm]とし、このサイズの基板Wに成膜できるよう、リブ部160を除く容器本体150を幅4000[mm]、奥行き4000[mm]、高さ2000[mm]の直方体とした。容器本体150の材質をSUS304とし、板材151の厚さを30[mm]とした。リブの高さについては、装置外形サイズの上限に従い決定し、高さ制限を300[mm]とした。減圧容器104の性能として、容器内部が真空状態であって容器外部が常圧状態、即ち減圧容器104の各面に0.1[MPa]の圧力がかかる状態において、各面の最大変位量を求める。
図8に示すように、比較例1の減圧容器では、容器の上面に配設されたリブ8621は、容器の側面に配設されたリブ8622と、点CN付近で近接あるいは接触しているが、連結されて一体化されているわけではない。また、容器外面の四角形の角部に対向して配設されたリブ8631は、当該四角形上に配設された他のリブ8631とは四角形の辺上において連結されて一体化している。
上記第2実施形態で説明した減圧容器104Aについてシミュレーションを行った。図9は、実施例2及び実施例3における扉155Aの寸法の説明図である。図9において、寸法は、リブの厚さ方向中心を基準としている。また、扉155Aのリブの厚さは全て30[mm]とした。実施例2,3では、窓の周囲の余白を50[mm]、ガラス端とリブ161Aの内面端とのクリアランスを10[mm]に設定し、リブ161Aの内面端と窓端との距離を60[mm]以上に設定した。実施例2では扉155Aの板材の厚さを30[mm]、実施例3では扉155Aの板材の厚さを25[mm]とした。
本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。
また、図3に示した実施形態では、減圧容器の全ての外面、即ち上面と下面と4つの側面の全てにリブ部を設けたが、必ずしも全ての外面にリブ部を設けなくてもよい。例えば、図1に示した処理システムの減圧容器104、減圧容器105、減圧容器106のように、他の減圧容器と接続される減圧容器の場合には、接続する面にはリブを設けない場合もあり得る。
また、減圧容器のある面には図4に示したリブを設け、他の面には図5あるいは図14に示したリブ付の扉を設けてもよい。
また、図5あるいは図14に示したリブ付の扉は、ワークに処理をする処理システムにおいて、減圧容器内にワークを搬入したり、減圧容器内からワークを搬出するための扉とすることができる。例えば、フラットパネルディスプレイの製造システムにおいて、原料となる基板を、成膜装置等の減圧容器に搬入したり減圧容器から搬出する扉とすることができる。
また、図5あるいは図14に示したリブ付の扉は、ワークに処理をする処理システムにおいて、減圧容器内の処理部を保守点検するための扉とすることができる。例えば、フラットパネルディスプレイの製造システムにおいては、減圧容器内に人間や保守器具が出入りできるようにするため扉のサイズは50cm×50cm以上であるのが望ましく、重量増加を抑制するために200cm×200cm以下であるのが望ましい。
Claims (15)
- 四角形の面を有する基材部と前記面に配置されたリブ部とを有する第1の部材を含む外壁を備えた減圧容器において、
前記リブ部は、
前記面の中心を囲む第1のリブと、
前記第1のリブに連結され、前記四角形の辺に向かって延びる複数の第2のリブと、
前記四角形の角のそれぞれに対向して配置され、それぞれの角を挟む2辺に向かって延び、互いに離間した複数の第3のリブと、を有する、
ことを特徴とする減圧容器。 - 前記複数の第2のリブは、前記四角形の互いに対向する2辺の各辺に向かって延びる一対のリブを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の減圧容器。 - 前記第1のリブは、前記面に垂直な方向から見て、多角形状であり、
前記第2のリブの各々は、前記第1のリブの角から前記四角形の辺に向かって延びる、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の減圧容器。 - 前記第2のリブの各々は、前記四角形の辺に対して垂直な直線状のリブである、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 前記第3のリブの各々は、対向する角を挟む2辺のいずれに対しても傾斜した直線状のリブである、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 前記第1のリブの内側の領域は、リブがない領域である、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 前記第1のリブの内側の領域には、窓が設けられている、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 前記第1のリブと前記窓との間の距離が100[mm]以下である、
ことを特徴とする請求項7に記載の減圧容器。 - 前記減圧容器は、前記第1の部材に隣接し、四角形の面を有する基材部と前記面に配置されたリブ部とを有する第2の部材とを備えており、
前記第2の部材の前記リブ部は、前記面の中心を囲む第4のリブと、前記第4のリブに連結され、前記四角形の辺に向かって延びる複数の第5のリブと、前記四角形の角のそれぞれに対向して配置され、それぞれの角を挟む2辺に向かって延び、互いに離間した複数の第6のリブと、を有し、
前記第1の部材の複数の第2のリブのうち、前記第1の部材の面と前記第2の部材の面との境界に向かって延びるリブと、前記第2の部材の複数の第5のリブのうち、前記境界に向かって延びるリブとが、前記境界で連結されている、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 前記第1の部材は、前記減圧容器の外壁の一部として設けられた開閉可能な扉である、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 前記第1の部材は、前記減圧容器の前記外壁の一部として設けられた開閉可能な扉であり、
前記外壁には、複数の前記第1の部材が設けられている、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の減圧容器。 - 請求項1乃至11のいずれか1項に記載の減圧容器と、
前記減圧容器の内部に設置され、前記減圧容器の内部に搬入されたワークに対して処理を施す処理部と、を備えた処理装置。 - 請求項12に記載の処理装置を複数備え、
各々の前記処理装置が備える前記減圧容器を連結して前記ワークの搬送路となる減圧容器を更に備えた処理システム。 - 前記処理装置が備える処理部は、フラットパネルディスプレイの材料を成膜する成膜装置を含む
ことを特徴とする請求項13に記載の処理システム。 - 四角形の面を有する基材部と前記面に配置されたリブ部とを有する部材を含む外壁を備え、前記リブ部は、前記面の中心を囲む第1のリブと、前記第1のリブに連結され、前記四角形の辺に向かって延びる複数の第2のリブと、前記四角形の角のそれぞれに対向して配置され、それぞれの角を挟む2辺に向かって延び、互いに離間した複数の第3のリブと、を有する減圧容器の内部に、
基板を配置し、
前記減圧容器の内部で前記基板にフラットパネルディスプレイの材料を成膜した後、前記基板を前記減圧容器から取り出す、
ことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017009001 | 2017-01-20 | ||
| JP2017009001 | 2017-01-20 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018119210A true JP2018119210A (ja) | 2018-08-02 |
| JP2018119210A5 JP2018119210A5 (ja) | 2021-03-04 |
| JP7133928B2 JP7133928B2 (ja) | 2022-09-09 |
Family
ID=62907398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018005991A Active JP7133928B2 (ja) | 2017-01-20 | 2018-01-17 | 減圧容器、処理装置、処理システム及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20180213656A1 (ja) |
| JP (1) | JP7133928B2 (ja) |
| KR (1) | KR102082039B1 (ja) |
| CN (2) | CN208055449U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023112484A1 (ja) * | 2021-12-15 | 2023-06-22 | カシオ計算機株式会社 | 電子機器 |
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| US6486444B1 (en) * | 1999-06-03 | 2002-11-26 | Applied Materials, Inc. | Load-lock with external staging area |
| JP4796946B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2011-10-19 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収納容器 |
| CN101896634B (zh) * | 2007-12-14 | 2012-08-29 | 株式会社爱发科 | 腔以及成膜装置 |
| KR101274130B1 (ko) * | 2011-08-22 | 2013-06-13 | 주식회사 테라세미콘 | Cigs층 형성장치 |
| KR101396603B1 (ko) * | 2013-02-26 | 2014-05-20 | 주식회사 테라세미콘 | 기판 처리 장치 |
| US20180213656A1 (en) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Decompression container, processing apparatus, processing system, and method of producing flat panel display |
-
2018
- 2018-01-16 US US15/872,269 patent/US20180213656A1/en not_active Abandoned
- 2018-01-17 JP JP2018005991A patent/JP7133928B2/ja active Active
- 2018-01-18 KR KR1020180006337A patent/KR102082039B1/ko active Active
- 2018-01-19 CN CN201820090183.4U patent/CN208055449U/zh active Active
- 2018-01-19 CN CN201810051045.XA patent/CN108330448B/zh active Active
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| JP7567850B2 (ja) | 2021-12-15 | 2024-10-16 | カシオ計算機株式会社 | 電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7133928B2 (ja) | 2022-09-09 |
| US20180213656A1 (en) | 2018-07-26 |
| KR102082039B1 (ko) | 2020-02-26 |
| CN108330448A (zh) | 2018-07-27 |
| CN208055449U (zh) | 2018-11-06 |
| KR20180086142A (ko) | 2018-07-30 |
| CN108330448B (zh) | 2020-08-11 |
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| AA64 | Notification of invalidation of claim of internal priority (with term) |
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| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220802 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220830 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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