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JP2018188590A - Thermosetting resin composition and thermosetting resin cured product - Google Patents

Thermosetting resin composition and thermosetting resin cured product Download PDF

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JP2018188590A JP2017094405A JP2017094405A JP2018188590A JP 2018188590 A JP2018188590 A JP 2018188590A JP 2017094405 A JP2017094405 A JP 2017094405A JP 2017094405 A JP2017094405 A JP 2017094405A JP 2018188590 A JP2018188590 A JP 2018188590A
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Abstract

【課題】熱硬化物の比誘電率が低く、かつ、光線透過率が高い、熱硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂硬化物を提供する。【解決手段】クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種のエポキシ樹脂(A)と、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤(B)と、硬化触媒(C)とを含む熱硬化性樹脂組成物、ならびにこの熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化した熱硬化性樹脂硬化物。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition and a thermosetting resin cured product having a low relative permittivity and a high light transmittance. At least one selected from the group consisting of cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin and alicyclic epoxy resin. A thermocurable resin composition containing the epoxy resin (A), a curing agent (B) obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene, and a curing catalyst (C), and the thermocurable resin. A heat-curable resin cured product obtained by heat-curing the composition. [Selection diagram] None

Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂硬化物に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition and a thermosetting resin cured product.

プリント配線基板および半導体封止材では、耐熱性、易難燃化および成形加工性に優れることから、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂またはトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、フェノールノボラック樹脂またはクレゾールノボラック樹脂等の硬化剤とを配合した熱硬化性樹脂組成物およびこれを加熱硬化した熱硬化性樹脂硬化物が用いられている(特許文献1)。   Because printed wiring boards and semiconductor encapsulants are excellent in heat resistance, flame retardancy and molding processability, cresol novolac epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, biphenyl epoxy resin or trisphenolmethane epoxy resin, etc. And a thermosetting resin composition in which a curing agent such as a phenol novolac resin or a cresol novolac resin is blended and a thermosetting resin cured product obtained by heating and curing the composition are used (Patent Document 1).

例えば、特許文献2には、ジシクロペンタジエンとフェノールまたはクレゾールとの重縮合物をエピハロヒドリンによってエポキシ化して得られるエポキシ樹脂(a)と、50℃で100Pa・s以下の粘度を有する常温液状のビスフェノール型エポキシ樹脂(b)と、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂またはフェノールアラルキル樹脂から選ばれる硬化剤と、無機充填剤とを含有し、上記エポキシ樹脂(a)と上記エポキシ樹脂(b)の重量比が0.5≦a/(a+b)<0.98であり、上記無機充填剤を内割りで60〜95重量%含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物が記載されている。   For example, Patent Document 2 discloses an epoxy resin (a) obtained by epoxidizing a polycondensate of dicyclopentadiene and phenol or cresol with epihalohydrin, and a room temperature liquid bisphenol having a viscosity of 100 Pa · s or less at 50 ° C. Type epoxy resin (b), a curing agent selected from phenol novolac resin, cresol novolac resin or phenol aralkyl resin, and an inorganic filler, and the weight ratio of the epoxy resin (a) to the epoxy resin (b) Is 0.5 ≦ a / (a + b) <0.98, and an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing 60 to 95% by weight of the inorganic filler is described.

また、例えば、特許文献3には、(A)パラクレゾールとαナフトールの共縮合により得られるノボラック型エポキシ樹脂を総エポキシ樹脂量に対して30〜100重量%含むエポキシ樹脂、(B)ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂を総フェノール樹脂硬化剤量に対して30〜100重量%含むフェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填剤および(D)硬化促進剤を含む半導体封止用エポキシ樹脂組成物が記載されている。   Further, for example, in Patent Document 3, (A) an epoxy resin containing 30 to 100% by weight of a novolac type epoxy resin obtained by co-condensation of paracresol and α-naphthol, based on the total amount of epoxy resin, (B) dicyclo An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing a phenol resin curing agent containing 30 to 100% by weight of a pentadiene-modified phenol resin with respect to the total amount of phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a curing accelerator is described. Has been.

特開2014−129485号公報JP 2014-129485 A 特開2009−120815号公報JP 2009-120815 A 特開平5−166975号公報JP-A-5-166975

しかし、本発明者が検討したところ、これらのエポキシ樹脂組成物の熱硬化物は、比誘電率が高いことから、近年の電子機器で用いられる高周波信号の回路では、信号の遅延およびロスを生じやすい問題があった。また、これらのエポキシ樹脂の熱硬化物をLED(Light Emitting Diode,発光ダイオード)の封止材用途に用いるためには、透明性(光線透過率)をより高くする余地が残されていた。   However, as a result of studies by the present inventors, these epoxy resin composition thermosets have a high relative dielectric constant, and therefore, in high frequency signal circuits used in recent electronic devices, signal delay and loss occur. There was an easy problem. Moreover, in order to use these epoxy resin thermosets for LED (Light Emitting Diode, Light Emitting Diode) sealing materials, there is still room for higher transparency (light transmittance).

そこで、本発明は、熱硬化物の比誘電率が低く、かつ、光線透過率が高い、熱硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂硬化物を提供することを課題とする。   Then, this invention makes it a subject to provide the thermosetting resin composition and thermosetting resin hardened | cured material with the low dielectric constant of a thermosetting material and high light transmittance.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のエポキシ樹脂(A)と、特定の硬化剤(B)と、硬化触媒(C)とを含む熱硬化性樹脂組成物は、その熱硬化物の比誘電率が低く、かつ、光線透過率が高いことを知得し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の[1]〜[5]である。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has obtained a thermosetting resin composition containing a specific epoxy resin (A), a specific curing agent (B), and a curing catalyst (C). Knew that the thermoset had a low relative dielectric constant and a high light transmittance, and completed the present invention.
That is, the present invention includes the following [1] to [5].

[1] クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種のエポキシ樹脂(A)と、
p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤(B)と、
硬化触媒(C)と
を含む熱硬化性樹脂組成物。
[2] 上記エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量と上記硬化剤(B)の水酸基当量の割合が、上記エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量:上記硬化剤(B)の水酸基当量=0.8:1.2〜1.2:0.8である、上記[1]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[3] 上記硬化触媒(C)の含有量が、上記エポキシ樹脂(A)と上記硬化剤(B)の合計質量の0.01〜20質量%である、上記[1]または[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[4] 上記硬化触媒(C)がトリフェニルホスフィンである、上記[1]〜[3]のいずれか1つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[5] 上記[1]〜[4]のいずれか1つに記載の熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化した熱硬化性樹脂硬化物。
[1] At least one selected from the group consisting of a cresol novolac epoxy resin, a phenol novolac epoxy resin, a biphenyl epoxy resin, a trisphenolmethane epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin. Epoxy resin (A),
a curing agent (B) obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene;
A thermosetting resin composition comprising a curing catalyst (C).
[2] The ratio of the epoxy equivalent of the epoxy resin (A) to the hydroxyl equivalent of the curing agent (B) is the epoxy equivalent of the epoxy resin (A): the hydroxyl equivalent of the curing agent (B) = 0.8: The thermosetting resin composition according to the above [1], which is 1.2 to 1.2: 0.8.
[3] In the above [1] or [2], the content of the curing catalyst (C) is 0.01 to 20% by mass of the total mass of the epoxy resin (A) and the curing agent (B). The thermosetting resin composition as described.
[4] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the curing catalyst (C) is triphenylphosphine.
[5] A cured thermosetting resin obtained by heat-curing the thermosetting resin composition according to any one of [1] to [4].

本発明によれば、熱硬化物の比誘電率が低く、かつ、光線透過率が高い、熱硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂硬化物を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a thermosetting resin composition and a thermosetting resin cured product having a low relative dielectric constant and a high light transmittance of the thermosetting product.

本発明の熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化して得られる熱硬化性樹脂硬化物は、比誘電率が低く、かつ、透明性が高いため、プリント配線基板、半導体封止材およびLED封止材の用途に有用である。   The thermosetting resin cured product obtained by heating and curing the thermosetting resin composition of the present invention has a low relative dielectric constant and a high transparency, so that it is a printed wiring board, a semiconductor encapsulant, and an LED encapsulant. Useful for material applications.

以下では、本発明の熱硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂硬化物について、詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される範囲は、その範囲に「〜」の前後に記載された両端を含む範囲を意図する。
Below, the thermosetting resin composition and thermosetting resin hardened | cured material of this invention are demonstrated in detail.
In addition, the range represented using "to" in this specification intends the range including the both ends described before and after "to" in the range.

[熱硬化性樹脂組成物]
本発明の熱硬化性樹脂は、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種のエポキシ樹脂(A)と、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤(B)と、硬化触媒(C)とを含む熱硬化性樹脂組成物である。
[Thermosetting resin composition]
The thermosetting resin of the present invention is selected from the group consisting of a cresol novolac epoxy resin, a phenol novolac epoxy resin, a biphenyl epoxy resin, a trisphenolmethane epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin. Is a thermosetting resin composition comprising a curing agent (B) obtained by polymerizing at least one epoxy resin (A), p-cresol and dicyclopentadiene, and a curing catalyst (C). .

〈エポキシ樹脂(A)〉
上記エポキシ樹脂(A)は、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であれば特に限定されないが、比誘電率をさらに低くできることから、好ましくはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種である。
<Epoxy resin (A)>
The epoxy resin (A) is selected from the group consisting of a cresol novolac epoxy resin, a phenol novolac epoxy resin, a biphenyl epoxy resin, a trisphenolmethane epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin. However, since the relative dielectric constant can be further reduced, at least one selected from the group consisting of a cresol novolac epoxy resin, a phenol novolac epoxy resin, and a dicyclopentadiene epoxy resin is preferable. It is a seed.

《重量平均分子量》
上記エポキシ樹脂(A)の重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは100〜10000であり、より好ましくは300〜5000の範囲内である。重量平均分子量が100以上であると熱硬化性樹脂硬化物の耐熱性がより向上する。また、重量平均分子量が10000以下であると熱硬化性樹脂組成物の加熱した時の粘度がより低くなり、成形性がより向上する。
《Weight average molecular weight》
Although the weight average molecular weight of the said epoxy resin (A) is not specifically limited, Preferably it is 100-10000, More preferably, it exists in the range of 300-5000. When the weight average molecular weight is 100 or more, the heat resistance of the thermosetting resin cured product is further improved. Moreover, when the weight average molecular weight is 10,000 or less, the viscosity of the thermosetting resin composition when heated becomes lower and the moldability is further improved.

なお、上記エポキシ樹脂(A)の重量平均分子量は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)により測定する。このときのGPC測定条件および解析条件は次のとおりとする。   In addition, the weight average molecular weight of the said epoxy resin (A) is measured by GPC (gel permeation chromatography). The GPC measurement conditions and analysis conditions at this time are as follows.

(GPC測定条件)
・カラム:Shodex GPC KF−803(昭和電工社製)
Shodex GPC KF−802.5(昭和電工社製)
Shodex GPC KF−802(昭和電工社製)
Shodex GPC KF−801(昭和電工社製)
・溶離溶媒:THF(テトラヒドロフラン)
・標準物質:PS(ポリスチレン)
・検出:UV(紫外線)検出器(SPD20A,島津製作所社製)
RI(示差屈折率)検出器(RID10A,島津製作所社製)
・流速:0.7mL/分(ポンプ(LC20A,島津製作所社製)使用)
・カラム温度:45℃(カラムオーブン(CTO20A,島津製作所社製)使用)
(GPC measurement conditions)
Column: Shodex GPC KF-803 (Showa Denko)
Shodex GPC KF-802.5 (Showa Denko)
Shodex GPC KF-802 (Showa Denko)
Shodex GPC KF-801 (Showa Denko)
-Elution solvent: THF (tetrahydrofuran)
・ Standard material: PS (polystyrene)
・ Detection: UV (ultraviolet) detector (SPD20A, manufactured by Shimadzu Corporation)
RI (differential refractive index) detector (RID10A, manufactured by Shimadzu Corporation)
・ Flow rate: 0.7 mL / min (use of pump (LC20A, manufactured by Shimadzu Corporation))
Column temperature: 45 ° C. (use of column oven (CTO20A, manufactured by Shimadzu Corporation))

(解析条件)
解析ソフトウェア(LCsolution GPC,島津製作所社製)を用いてエポキシ樹脂(A)の重量平均分子量を解析する。波形処理条件は、width=30sec、slope=40μV/min、Drift=0μV/min、TDBL 1000min、最小面積=1000カウントとする。また、低分子量成分は、55分以降のピークについてカットする。
(Analysis conditions)
The weight average molecular weight of the epoxy resin (A) is analyzed using analysis software (LCsolution GPC, manufactured by Shimadzu Corporation). The waveform processing conditions are as follows: width = 30 sec, slope = 40 μV / min, Drift = 0 μV / min, TDBL 1000 min, and minimum area = 1000 counts. Moreover, a low molecular weight component cuts about the peak after 55 minutes.

《エポキシ樹脂(A)の製造方法》
上記エポキシ樹脂(A)の製造方法は、特に限定されず、従来公知の製造方法を用いることができる。
例えば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂は、クレゾール類(o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾールおよびこれらのから選択される少なくとも1つの化合物をいう。以下同じ。)とホルムアルデヒド類(ホルムアルデヒドおよびホルマリンから選択される少なくとも1つの化合物をいう。以下同じ。)を酸触媒の存在下で縮合重合させてフェノール樹脂を合成し、さらに、合成したフェノール樹脂を、エピクロロヒドリン等のエポキシ化剤を用いてエポキシ化することにより製造することができる。
また、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、フェノールとホルムアルデヒド類を酸触媒の存在下で縮合重合させてフェノール樹脂を合成し、さらに、合成したフェノール樹脂を、エピクロロヒドリン等のエポキシ化剤を用いてエポキシ化することにより製造することができる。
<< Method for Producing Epoxy Resin (A) >>
The manufacturing method of the said epoxy resin (A) is not specifically limited, A conventionally well-known manufacturing method can be used.
For example, the cresol novolac type epoxy resin is selected from cresols (refers to at least one compound selected from o-cresol, m-cresol, p-cresol, and the same hereinafter) and formaldehyde (formaldehyde and formalin). At least one compound, the same shall apply hereinafter) is synthesized by condensation polymerization in the presence of an acid catalyst to synthesize a phenol resin, and the synthesized phenol resin is further synthesized using an epoxidizing agent such as epichlorohydrin. It can be produced by epoxidation.
In addition, for example, a phenol novolac type epoxy resin is synthesized by subjecting phenol and formaldehyde to condensation polymerization in the presence of an acid catalyst to synthesize a phenol resin, and further, the synthesized phenol resin is added with an epoxidizing agent such as epichlorohydrin. And can be produced by epoxidation.

クレゾール類またはフェノールとホルムアルデヒド類とを反応させてフェノール樹脂を合成する際の温度(反応温度)は、特に限定されないが、好ましくは30℃〜250℃の範囲内であり、より好ましくは50℃〜200℃の範囲内であり、さらに好ましくは70℃〜170℃の範囲内である。反応温度が30℃以上であると、反応の進行速度がより速くなる。また、反応温度が250℃以下であると、クレゾール類またはフェノールの酸価が十分に抑制され、エポキシ樹脂(A)の色調が悪化しない。   The temperature (reaction temperature) at the time of synthesizing a phenol resin by reacting cresols or phenol with formaldehyde is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 ° C to 250 ° C, more preferably 50 ° C to It is in the range of 200 ° C, more preferably in the range of 70 ° C to 170 ° C. When the reaction temperature is 30 ° C. or higher, the progress of the reaction becomes faster. Further, when the reaction temperature is 250 ° C. or lower, the acid value of cresols or phenol is sufficiently suppressed, and the color tone of the epoxy resin (A) does not deteriorate.

クレゾール類またはフェノールとホルムアルデヒド類とを反応させてフェノール樹脂を合成する際の時間(反応時間)は、特に限定されないが、好ましくは30分間〜20時間の範囲内であり、より好ましくは2時間〜12時間の範囲内である。反応時間が30分間以上であると、原料のホルムアルデヒド類が残存しにくい。また、反応温度が20時間以下であると、合成されたフェノール樹脂の熱分解が起こりにくい。   The time (reaction time) for synthesizing the phenol resin by reacting cresols or phenol with formaldehyde is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 minutes to 20 hours, more preferably 2 hours to Within 12 hours. When the reaction time is 30 minutes or more, the raw material formaldehydes hardly remain. In addition, when the reaction temperature is 20 hours or less, the synthesized phenol resin hardly undergoes thermal decomposition.

上記フェノール樹脂を合成する際のクレゾール類またはフェノールとホルムアルデヒド類のモル比〔クレゾール類またはフェノールのモル数/ホルムアルデヒド類のモル数〕は、特に限定されないが、好ましくは1.0以上(クレゾール類またはフェノールがホルムアルデヒド類に対して過剰量)であり、より好ましくは1.2〜100の範囲内であり、さらに好ましくは1.5〜30の範囲内である。
上記モル比が1.2以上であると、合成されるフェノール樹脂がより低分子量となるため、熱硬化性樹脂硬化物の生産性および成形加工性がより優れたものとなる。また、上記モル比が100以下であると、余剰のクレゾール類またはフェノールが減少するため、合成されるフェノール樹脂の生産性がより向上する。
The molar ratio of cresols or phenols to formaldehydes in the synthesis of the phenol resin [cresols or moles of phenol / moles of formaldehydes] is not particularly limited, but is preferably 1.0 or more (cresols or Phenol is an excess amount with respect to formaldehydes, more preferably in the range of 1.2 to 100, and still more preferably in the range of 1.5 to 30.
When the molar ratio is 1.2 or more, the synthesized phenol resin has a lower molecular weight, so that the productivity and moldability of the thermosetting resin cured product are further improved. Moreover, since the excess cresol or phenol will reduce that the said molar ratio is 100 or less, productivity of the phenol resin synthesize | combined improves more.

上記フェノール樹脂を合成する際の酸触媒は、特に限定されないが、例えば、硫酸、塩酸、シュウ酸もしくはp−トルエンスルホン酸等のプロトン酸、または三フッ化ホウ素エーテル錯体もしくは三フッ化ホウ素フェノール錯体等のルイス酸を用いることができる。   The acid catalyst for synthesizing the phenol resin is not particularly limited. For example, proton acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid or p-toluenesulfonic acid, or boron trifluoride ether complex or boron trifluoride phenol complex. Lewis acids such as can be used.

フェノール樹脂の合成後に酸触媒を除去してもよいが、合成したフェノール樹脂をエポキシ化する際にアルカリ金属水酸化物等を添加することにより酸触媒を中和することができるため、必須ではない。フェノール樹脂の合成後、エポキシ化の前に酸触媒を除去する場合は、後述する硬化剤(B)について酸触媒を除去する方法を適用することができる。   Although the acid catalyst may be removed after the synthesis of the phenol resin, it is not essential because the acid catalyst can be neutralized by adding an alkali metal hydroxide or the like when epoxidizing the synthesized phenol resin. . When the acid catalyst is removed after the synthesis of the phenol resin and before the epoxidation, a method of removing the acid catalyst for the curing agent (B) described later can be applied.

フェノール樹脂とエピクロロヒドリン等のエポキシ化剤とを反応させてエポキシ樹脂を合成する方法は、特に限定されないが、例えば、以下のように行うことができる。
フェノール樹脂を過剰量のエピクロロヒドリンに溶解し、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を添加して、好ましくは50℃〜170℃の範囲内、より好ましくは60℃〜140℃の範囲内の温度で、1時間〜10時間反応させる。
A method for synthesizing an epoxy resin by reacting a phenol resin with an epoxidizing agent such as epichlorohydrin is not particularly limited, and can be performed, for example, as follows.
A phenol resin is dissolved in an excess amount of epichlorohydrin, and an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added, preferably in the range of 50 ° C to 170 ° C, more preferably 60 ° C to The reaction is carried out at a temperature in the range of 140 ° C. for 1 to 10 hours.

上記エピクロロヒドリンの使用量は、フェノール樹脂の水酸基量に対して過剰量であれば特に限定されないが、フェノール樹脂の水酸基量1モルに対して、好ましくは1.5〜15.0モルであり、より好ましくは2.0〜7.0モルである。   The amount of the epichlorohydrin used is not particularly limited as long as it is excessive with respect to the amount of hydroxyl group of the phenol resin, but preferably 1.5 to 15.0 mol with respect to 1 mol of hydroxyl group of the phenol resin. Yes, more preferably from 2.0 to 7.0 moles.

上記アルカリ金属酸化物の添加量は、特に限定されないが、フェノール樹脂の水酸基量1モルに対して、好ましくは0.8〜1.2モルであり、より好ましくは0.9〜1.1モルである。   The addition amount of the alkali metal oxide is not particularly limited, but is preferably 0.8 to 1.2 mol, more preferably 0.9 to 1.1 mol, with respect to 1 mol of the hydroxyl group of the phenol resin. It is.

エポキシ化の終了後、未反応のエピクロロヒドリンを蒸留により回収した後、有機溶媒を加え、生成したエポキシ樹脂を溶解し、ろ過によって不溶分を除去した後、ろ液を数回にわたって水洗して残存する無機塩を除去し、またはろ過せずに溶液を水洗して残存する無機塩を除去し、さらに有機溶媒を蒸留除去することにより、エポキシ樹脂(A)を得ることができる。   After the epoxidation is completed, unreacted epichlorohydrin is recovered by distillation, and then an organic solvent is added to dissolve the generated epoxy resin. After removing insolubles by filtration, the filtrate is washed with water several times. The remaining inorganic salt is removed, or the solution is washed with water without filtration to remove the remaining inorganic salt, and the organic solvent is distilled off to obtain the epoxy resin (A).

上記有機溶媒は、エポキシ樹脂を溶解することができる有機溶媒であれば特に限定されないが、好ましくはベンゼン、トルエンもしくはキシレン等の芳香族系化合物またはメチルエチルケトンもしくはメチルイソブチルケトン等のケトン系有機溶媒であり、抽出効率が高く、水に溶けにくいことから、より好ましくはメチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトンである。   The organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the epoxy resin, but is preferably an aromatic compound such as benzene, toluene or xylene, or a ketone organic solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone. Methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone is more preferred because of its high extraction efficiency and low solubility in water.

フェノール樹脂の原料として添加したクレゾール類またはフェノールの余剰分は、フェノール樹脂の合成後に回収して、フェノール樹脂の原料として再利用することが望ましい。
クレゾール類またはフェノールの余剰分を回収する方法は、特に限定されないが、例えば、常圧蒸留、減圧蒸留および水蒸気蒸留から選択される1種類の方法または2種類以上の方法の組合せを挙げることができる。
It is desirable that the cresols or the excess phenol added as the phenol resin raw material is recovered after the synthesis of the phenol resin and reused as the phenol resin raw material.
The method for recovering the excess of cresols or phenol is not particularly limited, and examples thereof include one method selected from atmospheric distillation, vacuum distillation and steam distillation, or a combination of two or more methods. .

クレゾール類またはフェノールを蒸留により回収する際の温度(蒸留温度)は、特に限定されないが、好ましくは100℃〜250℃の範囲内であり、より好ましくは140℃〜230℃の範囲内である。蒸留温度が100℃以上であると、クレゾール類またはフェノールが残存しにくい。また、蒸留温度が250℃以下であると、合成されたフェノール樹脂の熱分解が起こりにくい。   Although the temperature (distillation temperature) at the time of collect | recovering cresols or phenol by distillation is not specifically limited, Preferably it exists in the range of 100 to 250 degreeC, More preferably, it exists in the range of 140 to 230 degreeC. When the distillation temperature is 100 ° C. or higher, cresols or phenols hardly remain. Further, when the distillation temperature is 250 ° C. or lower, the synthesized phenol resin is hardly thermally decomposed.

クレゾール類またはフェノールを回収する方法としては、まず、140℃〜200℃の範囲内の温度で常圧蒸留を行い、さらに、200℃〜230℃の範囲内の温度で減圧下に水蒸気蒸留を行う方法が特に好ましい。このように蒸留を行うことにより、クレゾール類またはフェノールの残存が少ないエポキシ樹脂(A)を得ることができる。   As a method for recovering cresols or phenols, first, atmospheric distillation is performed at a temperature in the range of 140 ° C. to 200 ° C., and further, steam distillation is performed at a temperature in the range of 200 ° C. to 230 ° C. under reduced pressure. The method is particularly preferred. By performing distillation in this way, an epoxy resin (A) with little residual cresols or phenol can be obtained.

〈硬化剤(B)〉
硬化剤(B)は、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなるものである。
<Curing agent (B)>
The curing agent (B) is obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene.

なお、本発明において、ジシクロペンタジエン類とは、ジシクロペンタジエンまたはジシクロペンタジエンの水素原子をアルキル基で置換した化合物(「アルキル置換ジシクロペンタジエン」という場合がある。)をいう。
上記アルキル置換ジシクロペンタジエンにおいて、水素原子をアルキル基は、特に限定されないが、好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくはメチル基またはエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
また、上記アルキル置換ジシクロペンタジエンにおいて、水素原子を置換するアルキル基の数は、12以下であれば特に限定されないが、好ましくは2以下であり、より好ましくは1である。
さらに、上記アルキル置換ジシクロペンタジエンにおいて、水素原子を置換するアルキル基が複数である場合は、アルキル基は互いに異なる種類のアルキル基であってもよいし、互いに同じ種類のアルキル基であってもよい。
In the present invention, dicyclopentadiene means dicyclopentadiene or a compound in which a hydrogen atom of dicyclopentadiene is substituted with an alkyl group (sometimes referred to as “alkyl-substituted dicyclopentadiene”).
In the above alkyl-substituted dicyclopentadiene, the alkyl group for the hydrogen atom is not particularly limited, but is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, still more preferably a methyl group. is there.
In the alkyl-substituted dicyclopentadiene, the number of alkyl groups substituting for hydrogen atoms is not particularly limited as long as it is 12 or less, but is preferably 2 or less, more preferably 1.
Furthermore, in the above alkyl-substituted dicyclopentadiene, when there are a plurality of alkyl groups replacing hydrogen atoms, the alkyl groups may be different types of alkyl groups, or may be the same type of alkyl groups. Good.

p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させることにより硬化剤(B)が得られる。
また、上記式(2)および上記式(3)において、mは、0〜12の整数であれば特に限定されないが、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0である。
A curing agent (B) is obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene.
Moreover, in the said Formula (2) and said Formula (3), m will not be specifically limited if it is an integer of 0-12, Preferably it is an integer of 0-3, More preferably, it is 0.

上記硬化剤(B)は、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類との重合体の他に不可避的混入物を含んでもよい。ここで、不可避的混入物は、例えば、未反応の原料(p−クレゾールおよびジシクロペンタジエン類)、反応中間体、残留した酸触媒、精製の際に用いた有機溶媒および水等である。   The said hardening | curing agent (B) may contain an unavoidable mixture other than the polymer of p-cresol and dicyclopentadiene. Here, inevitable contaminants are, for example, unreacted raw materials (p-cresol and dicyclopentadiene), reaction intermediates, residual acid catalyst, organic solvent used in purification, water, and the like.

《硬化剤(B)の製造方法》
硬化剤(B)は、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類(ジシクロペンタジエンおよびそのアルキル置換体をいう。以下同じ。)とを酸触媒の存在下で重合させることにより製造することができる。
<< Method for Producing Curing Agent (B) >>
The curing agent (B) can be produced by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene (dicyclopentadiene and its alkyl-substituted product, the same shall apply hereinafter) in the presence of an acid catalyst.

p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させる際のp−クレゾールとジシクロペンタジエン類との混合方法は、特に限定されないが、好ましくは加熱溶解したp−クレゾールにジシクロペンタジエンを滴下することにより行う。この際のp−クレゾールを加熱する温度は、特に限定されないが、好ましくは後述する反応温度以下である。   The mixing method of p-cresol and dicyclopentadiene when polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene is not particularly limited, but preferably by dropping dicyclopentadiene into p-cresol dissolved by heating. Do. Although the temperature which heats p-cresol in this case is not specifically limited, Preferably it is below the reaction temperature mentioned later.

p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させる際の温度(反応温度)は、特に限定されないが、好ましくは50℃〜200℃の範囲内であり、より好ましくは60℃〜170℃の範囲内であり、さらに好ましくは70℃〜150℃の範囲内である。
上記反応温度が50℃以上であると、重合反応の進行速度がより速くなり、反応時間を短縮することができる。また、上記反応温度が200℃以下であると、p−クレゾールの酸化が十分に抑制され、硬化剤(B)の色調が悪化しない。
The temperature (reaction temperature) for polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 ° C to 200 ° C, more preferably in the range of 60 ° C to 170 ° C. More preferably, it is in the range of 70 ° C to 150 ° C.
When the reaction temperature is 50 ° C. or higher, the progress rate of the polymerization reaction becomes faster and the reaction time can be shortened. Further, when the reaction temperature is 200 ° C. or lower, the oxidation of p-cresol is sufficiently suppressed, and the color tone of the curing agent (B) does not deteriorate.

p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させる際の時間(反応時間)は、特に限定されないが、好ましくは30分間〜20時間の範囲内であり、より好ましくは1時間〜20時間の範囲内であり、さらに好ましくは2時間〜12時間の範囲内である。
上記反応時間が30分間以上であると、原料のジシクロペンタジエン類が残存しにくい。また、上記反応温度が20時間以下であると、合成された重合体の熱分解が起こりにくい。
The time (reaction time) for polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 minutes to 20 hours, more preferably in the range of 1 hour to 20 hours. More preferably, it is in the range of 2 hours to 12 hours.
When the reaction time is 30 minutes or longer, the raw material dicyclopentadiene hardly remains. Further, when the reaction temperature is 20 hours or less, the synthesized polymer is hardly thermally decomposed.

p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させる際のp−クレゾールとジシクロペンタジエン類のモル比〔p−クレゾールのモル数/ジシクロペンタジエン類のモル数〕は、特に限定されないが、好ましくは1.0以上(ジシクロペンタジエン類に対してp−クレゾールが過剰量)であり、より好ましくは1.2〜100の範囲内であり、さらに好ましくは1.5〜30の範囲内である。
上記モル比が1.2以上であると、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類との重合体の分子量がより低くなるため、熱硬化性樹脂硬化物の生産性および成形加工性がより優れたものとなる。また、上記モル比が100以下であると、余剰のp−クレゾールが減少するため、合成される重合体の生産性がより向上する。
The molar ratio of p-cresol and dicyclopentadiene in the polymerization of p-cresol and dicyclopentadiene [number of moles of p-cresol / number of moles of dicyclopentadiene] is not particularly limited, but preferably 1.0 or more (p-cresol is excessive with respect to dicyclopentadiene), more preferably in the range of 1.2 to 100, and still more preferably in the range of 1.5 to 30.
When the above molar ratio is 1.2 or more, the molecular weight of the polymer of p-cresol and dicyclopentadiene becomes lower, so that the productivity and moldability of the cured thermosetting resin are more excellent It becomes. Moreover, since the excess p-cresol reduces that the said molar ratio is 100 or less, the productivity of the polymer synthesize | combined improves more.

p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させる際の酸触媒は、特に限定されないが、例えば、硫酸、塩酸、シュウ酸もしくはp−トルエンスルホン酸等のプロトン酸、または三フッ化ホウ素エーテル錯体もしくは三フッ化ホウ素フェノール錯体等のルイス酸を用いることができる。
酸触媒は、所定の反応時間の後、触媒を中和し、ろ過または抽出によって除去することが好ましい。酸触媒が残存すると、本発明の熱硬化性樹脂硬化物をプリント配線基板、半導体封止材またはLED封止材の材料として用いた場合に、絶縁性が悪くなり、回路を腐食させる原因となる。
酸触媒を除去する方法としては、所定の反応時間が経過した後、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類との重合体の合成終了後に、反応混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは炭酸水素ナトリウム等のアルカリ性物質を添加して酸触媒を中和する方法、反応混合物にハイドロタルサイト等の吸着剤を添加して酸触媒を吸着させた後に、ろ過を行い、吸着剤ごと除去する方法、反応混合物を有機溶媒に溶かして水洗する方法、またはこれらを併用する方法が挙げられる。
The acid catalyst for polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene is not particularly limited. For example, proton acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid or p-toluenesulfonic acid, or boron trifluoride ether complex or Lewis acids such as boron trifluoride phenol complex can be used.
The acid catalyst is preferably removed by neutralizing the catalyst after a predetermined reaction time and filtering or extracting. If the acid catalyst remains, when the thermosetting resin cured product of the present invention is used as a material for a printed wiring board, a semiconductor encapsulant, or an LED encapsulant, the insulation becomes worse and the circuit is corroded. .
As a method for removing the acid catalyst, after a predetermined reaction time has elapsed, after completion of the synthesis of the polymer of p-cresol and dicyclopentadiene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate or the like is added to the reaction mixture. To neutralize the acid catalyst by adding an alkaline substance, to adsorb the acid catalyst by adding an adsorbent such as hydrotalcite to the reaction mixture, and then filter and remove the adsorbent together, the reaction mixture Or a method of using these in combination.

硬化剤(B)の原料として添加したp−クレゾールの余剰分は、合成後に回収して、硬化剤(B)の原料として再利用することが望ましい。
p−クレゾールの余剰分を回収する方法は、特に限定されないが、例えば、常圧蒸留、減圧蒸留および水蒸気蒸留から選択される1種類の方法または2種類以上の方法の組合せを挙げることができる。
It is desirable that the excess p-cresol added as a raw material for the curing agent (B) is recovered after synthesis and reused as a raw material for the curing agent (B).
Although the method of collect | recovering the excess of p-cresol is not specifically limited, For example, the method of 1 type selected from atmospheric distillation, vacuum distillation, and steam distillation, or the combination of 2 or more types can be mentioned.

p−クレゾールを蒸留により回収する際の温度(蒸留温度)は、特に限定されないが、好ましくは100℃〜250℃の範囲内であり、より好ましくは140℃〜230℃の範囲内である。蒸留温度が100℃以上であると、p−クレゾールが残存しにくい。また、蒸留温度が260℃以下であると、合成された重合体の熱分解が起こりにくい。   Although the temperature (distillation temperature) at the time of collect | recovering p-cresol by distillation is not specifically limited, Preferably it exists in the range of 100 to 250 degreeC, More preferably, it exists in the range of 140 to 230 degreeC. When the distillation temperature is 100 ° C. or higher, p-cresol hardly remains. Further, when the distillation temperature is 260 ° C. or lower, the synthesized polymer is unlikely to be thermally decomposed.

p−クレゾールを回収する方法としては、まず、140℃〜200℃の範囲内の温度で常圧蒸留を行い、さらに、200℃〜230℃の範囲内の温度で減圧下に水蒸気蒸留を行うことが特に好ましい。このように蒸留を行うことにより、p−クレゾールの残存が少ない硬化剤(B)を得ることができる。   As a method for recovering p-cresol, first, atmospheric distillation is performed at a temperature within a range of 140 ° C. to 200 ° C., and further, steam distillation is performed at a temperature within a range of 200 ° C. to 230 ° C. under reduced pressure. Is particularly preferred. By performing distillation in this way, a curing agent (B) with little remaining p-cresol can be obtained.

〈エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の混合割合〉
本発明の熱硬化性樹脂組成物を製造する際の上記エポキシ樹脂(A)と上記硬化剤(B)の混合割合は、特に限定されないが、上記エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量と上記硬化剤(B)の水酸基当量の割合[エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量:硬化剤(B)の水酸基当量]が、好ましくは0.8:1.2〜1.2:0.8であり、より好ましくは0.9:1.1〜1.1:0.9であり、さらに好ましくは0.95:1.05〜1.05:0.95である。
<Mixing ratio of epoxy resin (A) and curing agent (B)>
The mixing ratio of the epoxy resin (A) and the curing agent (B) when producing the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited, but the epoxy equivalent of the epoxy resin (A) and the curing agent are not limited. The ratio of the hydroxyl equivalent of (B) [epoxy equivalent of epoxy resin (A): hydroxyl equivalent of curing agent (B)] is preferably 0.8: 1.2 to 1.2: 0.8, and more Preferably it is 0.9: 1.1-1.1: 0.9, More preferably, it is 0.95: 1.05-1.05: 0.95.

〈硬化触媒(C)〉
上記硬化触媒(C)は、特に限定されず、従来公知のエポキシ樹脂用硬化触媒を用いることができるが、好ましくはトリフェニルホスフィン;ベンジルジメチルアミンおよびジメチルアミノメチルフェノール等の第三級アミン類;2−エチル−4−メチルイミダゾールおよび1−シアノエチルー2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;これらイミダゾール類のアクリロニトリル、トリメリット酸またはジシアンジアミド等による変性物;第四級アンモニウム塩:第四級ホスホニウム化合物であり、より好ましくはトリフェニルホスフィンである。
上記硬化触媒のうち、第三級アミン類、イミダゾール類およびイミダゾール類の変性物は硬化触媒(硬化促進剤)としてだけではなく、それ自体が硬化剤として働き、エポキシ樹脂と架橋構造を形成するため、得られる熱硬化性樹脂硬化物のガラス転移温度(Tg)が低下したり、比誘電率が高くなったりする問題がある。
また、上記硬化触媒のうち、第四級アンモニウム塩および第四級ホスホニウム化合物は、ハロゲン等を対イオンとして含むため、得られる熱硬化性樹脂硬化物を電子基板用途で用いた場合は、比誘電率が高くなったり、回路が腐食しやすくなったりする等の問題がある。
そのため、第三級アミン類、イミダゾール類、イミダゾール類の変性物、第四級アンモニウム塩または第四級ホスホニウムを硬化触媒として用いる場合は、上記問題を許容できる用途にのみ使用することが望ましい。
<Curing catalyst (C)>
The curing catalyst (C) is not particularly limited, and conventionally known curing catalysts for epoxy resins can be used, but preferably triphenylphosphine; tertiary amines such as benzyldimethylamine and dimethylaminomethylphenol; Imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; modified products of these imidazoles with acrylonitrile, trimellitic acid or dicyandiamide; quaternary ammonium salts: quaternary A phosphonium compound, more preferably triphenylphosphine.
Among the above curing catalysts, modified products of tertiary amines, imidazoles and imidazoles not only act as curing catalysts (curing accelerators) but also act as curing agents themselves and form a crosslinked structure with the epoxy resin. There is a problem that the glass transition temperature (Tg) of the obtained thermosetting resin cured product is lowered or the relative dielectric constant is increased.
Of the above curing catalysts, quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium compounds contain halogen or the like as a counter ion. Therefore, when the obtained thermosetting resin cured product is used for an electronic substrate, the dielectric constant is There is a problem that the rate is high and the circuit is easily corroded.
Therefore, when tertiary amines, imidazoles, modified products of imidazoles, quaternary ammonium salts or quaternary phosphoniums are used as curing catalysts, it is desirable to use them only for applications that allow the above problems.

硬化触媒(C)の使用量は、特に限定されないが、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の合計質量の、好ましくは0.01〜20質量%であり、より好ましくは0.1〜10質量%であり、さらに好ましくは0.2〜5.0質量%である。   Although the usage-amount of a curing catalyst (C) is not specifically limited, Preferably it is 0.01-20 mass% of the total mass of an epoxy resin (A) and a hardening | curing agent (B), More preferably, it is 0.1-0.1%. It is 10 mass%, More preferably, it is 0.2-5.0 mass%.

〈その他の成分(D)〉
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記エポキシ樹脂(A)、上記硬化剤(B)および上記硬化触媒(C)に加えて、本発明の課題を達成できる範囲内で、他の成分を含んでもよい。
上記他の成分としては、例えば、ガラス繊維または炭素繊維等の繊維類;シリカ、アルミナ、ジルコニアまたは窒化ホウ素等の無機物;および、カーボンブラックまたはステアリン酸亜鉛等の滑材などの添加物が挙げられる。
<Other components (D)>
In addition to the epoxy resin (A), the curing agent (B) and the curing catalyst (C), the thermosetting resin composition of the present invention contains other components within a range where the object of the present invention can be achieved. May be included.
Examples of the other components include fibers such as glass fibers or carbon fibers; inorganic materials such as silica, alumina, zirconia, or boron nitride; and additives such as a lubricant such as carbon black or zinc stearate. .

[熱硬化性樹脂硬化物]
本発明の熱硬化性樹脂硬化物は、本発明の熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化したものである。
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、比誘電率が低く、かつ、光線透過率が高い。
上記比誘電率は、通常2.80以下であり、好ましくは2.70以下であり、より好ましくは2.60以下である。比誘電率が低いほど高周波数でのロスが少なくなり、優れた高周波特性を示す。
上記光線透過率は、波長450nmの光源を用いて、厚み3.0mmで測定した結果として、通常50%以上であり、好ましくは55%以上であり、より好ましくは60%以上である。
[Thermosetting resin cured product]
The thermosetting resin cured product of the present invention is obtained by heat-curing the thermosetting resin composition of the present invention.
The thermosetting resin composition of the present invention has a low relative dielectric constant and a high light transmittance.
The relative dielectric constant is usually 2.80 or less, preferably 2.70 or less, and more preferably 2.60 or less. The lower the dielectric constant, the lower the loss at high frequencies and the better high frequency characteristics.
The light transmittance is usually 50% or more, preferably 55% or more, and more preferably 60% or more as a result of measurement using a light source having a wavelength of 450 nm and a thickness of 3.0 mm.

また、本発明の熱硬化性樹脂硬化物は、誘電正接が小さく、高周波特性が優れる。本発明の熱硬化性樹脂硬化物の誘電正接は、特に限定されないが、好ましくは0.020以下であり、より好ましくは0.018以下であり、さらに好ましくは0.015以下である。   Further, the cured thermosetting resin of the present invention has a small dielectric loss tangent and excellent high frequency characteristics. The dielectric loss tangent of the cured thermosetting resin of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.020 or less, more preferably 0.018 or less, and further preferably 0.015 or less.

さらに、本発明の熱硬化性樹脂硬化物は、ガラス転移温度が高く、耐熱性が優れる。本発明の熱硬化性樹脂硬化物のガラス転移温度は、特に限定されないが、好ましくは140℃以上であり、より好ましくは150℃以上であり、さらに好ましくは155℃以上である。   Furthermore, the thermosetting resin cured product of the present invention has a high glass transition temperature and excellent heat resistance. Although the glass transition temperature of the thermosetting resin cured product of the present invention is not particularly limited, it is preferably 140 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and further preferably 155 ° C. or higher.

本発明において、比誘電率、誘電正接、光線透過率およびガラス転移温度は、以下の方法により測定するものである。
(比誘電率・誘電正接)
誘電率測定装置(エーイーティー社製)を用いて、同軸共振器法により、1GHzの共振周波数の条件で誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)を測定する。比誘電率(ε)は、誘電率(ε)を真空の誘電率(ε)の値で除して求める。
(光線透過率)
UVスペクトル測定装置(UV−1650PC,島津製作所社製)を用いて、波長50nmにおける測定用試料の光線透過率(%)を測定する。
(ガラス転移温度)
線膨張率測定装置(TMA−50,島津製作所社製)を用いて、10℃/分で昇温し、針入法による膨張率測定を行って、その変曲点の温度をガラス転移温度(Tg)とする。
In the present invention, the relative permittivity, dielectric loss tangent, light transmittance and glass transition temperature are measured by the following methods.
(Relative permittivity / dielectric loss tangent)
A dielectric constant (ε) and a dielectric loss tangent (tan δ) are measured by a coaxial resonator method using a dielectric constant measuring apparatus (manufactured by AET Co., Ltd.) under a resonance frequency condition of 1 GHz. The relative permittivity (ε r ) is obtained by dividing the permittivity (ε) by the value of the vacuum permittivity (ε 0 ).
(Light transmittance)
The light transmittance (%) of the measurement sample at a wavelength of 50 nm is measured using a UV spectrum measurement device (UV-1650PC, manufactured by Shimadzu Corporation).
(Glass-transition temperature)
Using a linear expansion coefficient measuring device (TMA-50, manufactured by Shimadzu Corporation), the temperature was increased at 10 ° C./min, the expansion coefficient was measured by a penetration method, and the temperature at the inflection point was determined as the glass transition temperature ( Tg).

《熱硬化性樹脂硬化物の製造方法》
本発明の熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化する方法は特に限定されず、従来公知のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化する方法を適用することができる。
加熱硬化の温度(加熱温度)は、特に限定されないが、好ましくは50℃〜300℃の範囲内であり、より好ましくは100℃〜250℃の範囲内であり、さらに好ましくは120℃〜220℃の範囲内である。
加熱硬化の時間(加熱時間)は、特に限定されないが、好ましくは30分間〜20時間の範囲内であり、より好ましくは3時間〜10時間の範囲内である。
また、本発明の熱硬化性樹脂硬化物を成形する際は、加圧条件で行ってもよい。
<< Method for producing thermosetting resin cured product >>
The method for heat-curing the thermosetting resin composition of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method for heat-curing an epoxy resin composition can be applied.
The temperature of heating and curing (heating temperature) is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 ° C to 300 ° C, more preferably in the range of 100 ° C to 250 ° C, and further preferably 120 ° C to 220 ° C. Is within the range.
The time for heating and curing (heating time) is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 minutes to 20 hours, more preferably in the range of 3 hours to 10 hours.
Moreover, you may carry out on pressurization conditions, when shape | molding the thermosetting resin cured | curing material of this invention.

以下では、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[エポキシ樹脂の製造]
1.エポキシ樹脂A1
(1)クレゾールノボラック樹脂の合成
攪拌装置、温度計、還流装置、不活性ガス導入管およびオイルバスを備えた1L容量の反応容器(セパラブルフラスコ)に、o−クレゾール250gと、パラホルムアルデヒド50gと、ホルマリン57.5gとを加え、オイルバスを105℃に昇温して、反応混合物を得た。次いで、得られた混合物に、p−トルエンスルホン酸(酸触媒)0.5gを5.0gのイオン交換水に溶解して調製した触媒水溶液を、10分間かけて滴下した。滴下後、オイルバスの温度を105℃に保持したまま6.0時間反応させた後、水酸化カリウム10%水溶液を添加して酸触媒を中和した。酸触媒の中和後、オイルバスを220℃まで昇温し、減圧蒸留により未反応のo−クレゾールを除去した。o−クレゾールの留出が止まった後、さらに30分間減圧下でo−クレゾールの除去を行った。その後、室温まで冷却して、クレゾールノボラック樹脂260gを得た。
得られたクレゾールノボラック樹脂のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量は4250であった。
[Manufacture of epoxy resin]
1. Epoxy resin A1
(1) Synthesis of cresol novolac resin In a 1 L reaction vessel (separable flask) equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux device, an inert gas introduction tube and an oil bath, 250 g of o-cresol and 50 g of paraformaldehyde Formalin 57.5 g was added, and the oil bath was heated to 105 ° C. to obtain a reaction mixture. Next, an aqueous catalyst solution prepared by dissolving 0.5 g of p-toluenesulfonic acid (acid catalyst) in 5.0 g of ion-exchanged water was dropped into the obtained mixture over 10 minutes. After the dropwise addition, the reaction was carried out for 6.0 hours while maintaining the temperature of the oil bath at 105 ° C., and then a 10% aqueous solution of potassium hydroxide was added to neutralize the acid catalyst. After neutralization of the acid catalyst, the oil bath was heated to 220 ° C., and unreacted o-cresol was removed by distillation under reduced pressure. After the distillation of o-cresol stopped, o-cresol was removed under reduced pressure for another 30 minutes. Then, it cooled to room temperature and obtained 260 g of cresol novolak resins.
The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) of the obtained cresol novolac resin was 4250.

なお、GPCの測定条件および解析条件は以下のとおりとした。   The GPC measurement conditions and analysis conditions were as follows.

(測定条件)
・カラム:Shodex GPC KF−803(対象分子量範囲1000〜50000;排除限界分子量70000;昭和電工社製)
Shodex GPC KF−802.5(昭和電工社製)
Shodex GPC KF−802(昭和電工社製)
Shodex GPC KF−801(昭和電工社製)
・溶離溶媒:THF(テトラヒドロフラン)
・標準物質:PS(ポリスチレン)
・検出:UV(紫外線)検出器(SPD20A,島津製作所社製)
RI(示差屈折率)検出器(RID10A,島津製作所社製)
・流速:0.7mL/分(ポンプ(LC20A,島津製作所社製)使用)
・カラム温度:45℃(カラムオーブン(CTO20A,島津製作所社製)使用)
測定試料のサンプリングにはオートサンプラー(SIL20A,島津製作所社製)を使用した。
(Measurement condition)
Column: Shodex GPC KF-803 (target molecular weight range 1000 to 50000; exclusion limit molecular weight 70000; manufactured by Showa Denko KK)
Shodex GPC KF-802.5 (Showa Denko)
Shodex GPC KF-802 (Showa Denko)
Shodex GPC KF-801 (Showa Denko)
-Elution solvent: THF (tetrahydrofuran)
・ Standard material: PS (polystyrene)
・ Detection: UV (ultraviolet) detector (SPD20A, manufactured by Shimadzu Corporation)
RI (differential refractive index) detector (RID10A, manufactured by Shimadzu Corporation)
・ Flow rate: 0.7 mL / min (use of pump (LC20A, manufactured by Shimadzu Corporation))
Column temperature: 45 ° C. (use of column oven (CTO20A, manufactured by Shimadzu Corporation))
An auto sampler (SIL20A, manufactured by Shimadzu Corporation) was used for sampling the measurement sample.

(解析条件)
解析ソフトウェア(LCsolution GPC,島津製作所社製)を用いてエポキシ樹脂(A)の重量平均分子量を解析した。波形処理条件は、width=30sec、slope=40μV/min、Drift=0μV/min、TDBL 1000min、最小面積=1000カウントとした。また、低分子量成分は、55分以降のピークについてカットした。
(Analysis conditions)
The weight average molecular weight of the epoxy resin (A) was analyzed using analysis software (LCsolution GPC, manufactured by Shimadzu Corporation). The waveform processing conditions were as follows: width = 30 sec, slope = 40 μV / min, Drift = 0 μV / min, TDBL 1000 min, and minimum area = 1000 counts. Further, the low molecular weight component was cut for peaks after 55 minutes.

(2)クレゾールノボラック樹脂のエポキシ化
次に、攪拌装置、温度計、還流装置、不活性ガス導入管およびオイルバスを備えた500mLの四つ口フラスコに、得られたクレゾールノボラック樹脂50gと、エピクロロヒドリン(クロロメチルオキシラン)102.8gとを入れ、さらに、溶媒としてジメチルスルホキシド30.6gを加え、内温を40℃にした。この混合物に水酸化ナトリウム(フレーク)11.2gを10回に分けて、6分ごとに分割して添加した。添加終了後、50℃で1時間および70℃で1時間の反応を行った後、130℃に昇温して減圧蒸留を行い、余剰のエピクロロヒドリンを除去した。減圧蒸留の終了後に、メチルエチルケトン230gを入れて、分液ロートに写し、イオン交換水200mLを加えて洗浄した。この洗浄操作を、水相が中性になるまで繰り返した。その後、有機相を500mLのナスフラスコに入れて、エバポレータでメチルエチルケトンを除去し、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂84gを得た。
得られたクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を「エポキシ樹脂A1」とする。
エポキシ樹脂A1のGPCにより測定および解析して得られた重量平均分子量は870であった。なお、GPCの測定条件および解析条件は上述したとおりである。
(2) Epoxidation of cresol novolac resin Next, 50 g of the obtained cresol novolak resin was added to a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux device, an inert gas introduction tube and an oil bath, 102.8 g of chlorohydrin (chloromethyloxirane) was added, and 30.6 g of dimethyl sulfoxide was further added as a solvent, and the internal temperature was adjusted to 40 ° C. To this mixture, 11.2 g of sodium hydroxide (flake) was added in 10 portions and divided every 6 minutes. After completion of the addition, the reaction was carried out at 50 ° C. for 1 hour and at 70 ° C. for 1 hour, and then the temperature was raised to 130 ° C. and vacuum distillation was carried out to remove excess epichlorohydrin. After the distillation under reduced pressure, 230 g of methyl ethyl ketone was added, copied to a separatory funnel, and washed with 200 mL of ion exchange water. This washing operation was repeated until the aqueous phase became neutral. Thereafter, the organic phase was put into a 500 mL eggplant flask and methyl ethyl ketone was removed with an evaporator to obtain 84 g of a cresol novolac type epoxy resin.
The obtained cresol novolac type epoxy resin is referred to as “epoxy resin A1”.
The weight average molecular weight obtained by measurement and analysis by GPC of the epoxy resin A1 was 870. The GPC measurement conditions and analysis conditions are as described above.

エポキシ樹脂A1のエポキシ当量をJIS K 7263:2001「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」の方法で測定したところ、エポキシ当量は205g/当量であった。   When the epoxy equivalent of the epoxy resin A1 was measured by the method of JIS K 7263: 2001 “How to determine the epoxy equivalent of an epoxy resin”, the epoxy equivalent was 205 g / equivalent.

2.エポキシ樹脂A2
(1)トリスフェノールメタン型フェノール樹脂の合成
リチルアルデヒドとフェノールとを反応させて、トリスフェノールメタン型フェノール樹脂を合成した。
(2)トリスフェノールメタン型フェノール樹脂のエポキシ化
上記クレゾールノボラック樹脂のエポキシ化と同様にして、得られたトリスフェノールメタン型フェノール樹脂をエポキシ化して、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂(エポキシ当量=165g/当量)を得た。
得られたトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を「エポキシ樹脂A2」とする。
エポキシ樹脂A2のGPCにより測定および解析して得られた重量平均分子量は730であった。なお、GPCの測定条件および解析条件は上述したとおりである。
2. Epoxy resin A2
(1) Synthesis of trisphenol methane type phenol resin Trisphenol methane type phenol resin was synthesized by reacting lithylaldehyde with phenol.
(2) Epoxidation of trisphenol methane type phenol resin In the same manner as the epoxidation of the cresol novolac resin, the obtained trisphenol methane type phenol resin was epoxidized to obtain a trisphenol methane type epoxy resin (epoxy equivalent = 165 g / Equivalent).
Let the obtained trisphenol methane type epoxy resin be "epoxy resin A2."
The weight average molecular weight obtained by GPC measurement and analysis of the epoxy resin A2 was 730. The GPC measurement conditions and analysis conditions are as described above.

3.エポキシ樹脂A3
(1)フェノール・ジシクロペンタジエン縮合物の合成
フェノールとジシクロペンタジエンとを反応させて、フェノール・ジシクロペンタジエン縮合物を合成した。
(2)フェノール・ジシクロペンタジエン縮合物のエポキシ化
上記クレゾールノボラック樹脂のエポキシ化と同様にして、得られたフェノール・ジシクロペンタジエン縮合物をエポキシ化して、フェノール・ジシクロペンタジエン縮合物のエポキシ化物(エポキシ当量=260g/当量)を得た。
得られたフェノール・ジシクロペンタジエン縮合物のエポキシ化物を「エポキシ樹脂A3」とする。
エポキシ樹脂A3のGPCにより測定および解析して得られた重量平均分子量は1050であった。なお、GPCの測定条件および解析条件は上述したとおりである。
3. Epoxy resin A3
(1) Synthesis of Phenol / Dicyclopentadiene Condensate Phenol and dicyclopentadiene were reacted to synthesize a phenol / dicyclopentadiene condensate.
(2) Epoxidation of phenol / dicyclopentadiene condensate In the same manner as the epoxidation of the cresol novolac resin, the obtained phenol / dicyclopentadiene condensate is epoxidized to epoxidize the phenol / dicyclopentadiene condensate. (Epoxy equivalent = 260 g / equivalent) was obtained.
The epoxidized product of the obtained phenol-dicyclopentadiene condensate is referred to as “epoxy resin A3”.
The weight average molecular weight obtained by measurement and analysis by GPC of the epoxy resin A3 was 1050. The GPC measurement conditions and analysis conditions are as described above.

4.エポキシ樹脂A4
(1)フェノールノボラック樹脂の合成
上記クレゾールノボラック樹脂合成と同様にして、フェノールとp−ホルムアルデヒドおよびホルマリンとを反応させて、フェノールノボラック樹脂を得た。
(2)フェノールノボラック樹脂のエポキシ化
上記クレゾールノボラック樹脂のエポキシ化と同様にして、得られたフェノールノボラック樹脂をエポキシ化して、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量=195g/当量)を得た。
得られたフェノールノボラック型エポキシ樹脂を「エポキシ樹脂A4」とする。
エポキシ樹脂A4のGPCにより測定および解析して得られた重量平均分子量は950であった。なお、GPCの測定条件および解析条件は上述したとおりである。
4). Epoxy resin A4
(1) Synthesis of phenol novolac resin Phenol was reacted with p-formaldehyde and formalin in the same manner as in the above cresol novolac resin synthesis to obtain a phenol novolac resin.
(2) Epoxidation of phenol novolak resin In the same manner as the epoxidation of the cresol novolak resin, the obtained phenol novolak resin was epoxidized to obtain a phenol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent = 195 g / equivalent).
The obtained phenol novolac type epoxy resin is referred to as “epoxy resin A4”.
The weight average molecular weight obtained by measuring and analyzing by GPC of the epoxy resin A4 was 950. The GPC measurement conditions and analysis conditions are as described above.

[硬化剤の製造]
1.硬化剤B1
攪拌装置、温度計、還流装置、滴下ロート、不活性ガス導入管およびオイルバスを備えた1Lの反応容器(セパラブルフラスコ)にp−クレゾール662gを入れ、オイルバス温度を105℃に昇温した後、触媒の三フッ化ホウ素フェノール錯体4.0gを加えた。さらに、ジシクロペンタジエン88gを、1時間かけて加えた後、120℃に昇温して5時間反応した。反応後、中和剤としてハイドロタルサイトを加え、20分間撹拌した後、ハイドロタルサイトをろ過して除去した。ろ液は、再び、1Lの反応容器に入れて、常圧蒸留および減圧蒸留を行って、過剰のp−クレゾールを除去し、p−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物を得た。
得られたp−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物を「硬化剤B1」とする。
[Manufacture of curing agent]
1. Curing agent B1
66 g of p-cresol was placed in a 1 L reaction vessel (separable flask) equipped with a stirrer, thermometer, reflux device, dropping funnel, inert gas introduction tube and oil bath, and the oil bath temperature was raised to 105 ° C. Thereafter, 4.0 g of boron trifluoride phenol complex as a catalyst was added. Furthermore, 88 g of dicyclopentadiene was added over 1 hour, and then the temperature was raised to 120 ° C. and reacted for 5 hours. After the reaction, hydrotalcite was added as a neutralizing agent and stirred for 20 minutes, and then the hydrotalcite was removed by filtration. The filtrate was again put in a 1 L reaction vessel, and subjected to atmospheric distillation and vacuum distillation to remove excess p-cresol, to obtain a p-cresol dicyclopentadiene condensate.
The obtained p-cresol / dicyclopentadiene condensate is referred to as “curing agent B1”.

硬化剤B1の水酸基当量をJIS K 0070:1992「化学製品の酸価,けん化価,エステル価,よう素価,水酸基価及び不けん化物の試験方法」に準じて測定したところ、水酸基当量は184g/当量であった。   When the hydroxyl equivalent of the curing agent B1 was measured according to JIS K 0070: 1992 “Testing method for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”, the hydroxyl equivalent was 184 g. / Equivalent.

2.硬化剤b2
p−クレゾールに代えてm−クレゾールを使用した点を除いて、硬化剤B1と同様にして、m−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物(水酸基当量=184g/当量)を合成した。
このm−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物を「硬化剤b2」とする。
2. Curing agent b2
An m-cresol dicyclopentadiene condensate (hydroxyl equivalent = 184 g / equivalent) was synthesized in the same manner as the curing agent B1, except that m-cresol was used instead of p-cresol.
This m-cresol dicyclopentadiene condensate is referred to as “curing agent b2.”

3.硬化剤b3
p−クレゾールに代えてo−クレゾールを使用した点を除いて、硬化剤B1と同様にして、o−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物(水酸基当量=184g/当量)を合成した。
このo−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物を「硬化剤b3」とする。
3. Curing agent b3
An o-cresol dicyclopentadiene condensate (hydroxyl equivalent = 184 g / equivalent) was synthesized in the same manner as the curing agent B1, except that o-cresol was used instead of p-cresol.
This o-cresol dicyclopentadiene condensate is referred to as “curing agent b3”.

4.硬化剤b4
p−クレゾールに代えてフェノールを使用した点を除いて、硬化剤B1と同様にして、フェノール・ジシクロペンタジエン縮合物(水酸基当量=170g/当量)を合成した。
このフェノール・ジシクロペンタジエン縮合物を「硬化剤b4」とする。
4). Curing agent b4
A phenol-dicyclopentadiene condensate (hydroxyl equivalent = 170 g / equivalent) was synthesized in the same manner as the curing agent B1, except that phenol was used instead of p-cresol.
This phenol-dicyclopentadiene condensate is referred to as “curing agent b4”.

5.硬化剤b5
フェノールとホルムアルデヒドからフェノール・ホルムアルデヒド縮合物(水酸基当量=105g/当量)を合成した。
このフェノール・ホルムアルデヒド縮合物を「硬化剤b5」とする。
5. Curing agent b5
A phenol-formaldehyde condensate (hydroxyl equivalent = 105 g / equivalent) was synthesized from phenol and formaldehyde.
This phenol-formaldehyde condensate is referred to as “curing agent b5”.

[試験・評価方法]
1.誘電特性(比誘電率および誘電正接)
(1)測定用試料の準備
熱硬化性樹脂硬化物(厚み約3.0mm)を40mm×40mmの正方形に切り出し、表面を紙やすりで研磨して平滑にして、測定用試料とした。
(2)比誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)の測定
測定用試料を開放型同軸共振器(エーイーティー社製)の上に、研磨して平滑にした面を下に向けて置き、誘電率測定装置(エーイーティー社製)を用いて、同軸共振器法により、1GHzの共振周波数の条件で誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)を測定した。比誘電率(ε)は、誘電率(ε)を真空の誘電率(ε)の値で除して求めた。
比誘電率(ε)が2.80以下であれば、高周波での信号伝搬遅延時間が少なく高周波特性が優れると評価できる。
誘電正接(tanδ)が0.020以下であれば、高周波での損失が少なく高周波特性が優れると評価できる。
[Test / Evaluation Method]
1. Dielectric properties (dielectric constant and dielectric loss tangent)
(1) Preparation of measurement sample A thermosetting resin cured product (thickness: about 3.0 mm) was cut into a 40 mm x 40 mm square, and the surface was polished and smoothed with sandpaper to obtain a measurement sample.
(2) Measurement of relative permittivity (ε r ) and dielectric loss tangent (tan δ) The sample for measurement was polished on an open coaxial resonator (manufactured by AET), and the smoothed surface faced down. Then, the dielectric constant (ε) and the dielectric loss tangent (tan δ) were measured by a coaxial resonator method using a dielectric constant measuring apparatus (manufactured by AET Co., Ltd.) under the condition of a resonance frequency of 1 GHz. The relative permittivity (ε r ) was obtained by dividing the permittivity (ε) by the value of the vacuum permittivity (ε 0 ).
If the relative dielectric constant (ε r ) is 2.80 or less, it can be evaluated that the signal propagation delay time at high frequencies is small and the high frequency characteristics are excellent.
If the dielectric loss tangent (tan δ) is 0.020 or less, it can be evaluated that the loss at high frequency is small and the high frequency characteristics are excellent.

2.光線透過率
熱硬化性樹脂硬化物(厚み3.0mm)を測定用試料として、UVスペクトル測定装置(UV−1650PC,島津製作所社製)を用いて、波長450nmにおける測定用試料の光線透過率(%)を測定した。
光線透過率が50%以上であれば、透明性が優れると評価できる。
2. Light Transmittance Using a thermosetting resin cured product (thickness: 3.0 mm) as a measurement sample, using a UV spectrum measuring device (UV-1650PC, manufactured by Shimadzu Corporation), the light transmittance of the measurement sample at a wavelength of 450 nm ( %).
If the light transmittance is 50% or more, it can be evaluated that the transparency is excellent.

3.ガラス転移温度(Tg)
(1)測定用試料の準備
熱硬化性樹脂硬化物(厚み約5.0mm)を5mm角の立方体に切り出して、測定用試料とした。
(2)ガラス転移温度(Tg)の測定
線膨張率測定装置(TMA−50,島津製作所社製)を用いて、測定用試料を10℃/分で昇温し、針入法による膨張率測定を行って、その変曲点の温度を測定試料のガラス転移温度(Tg)とした。
ガラス転移温度(Tg)が150℃以上であれば、耐熱性が優れると評価できる。
3. Glass transition temperature (Tg)
(1) Preparation of measurement sample A thermosetting resin cured product (thickness: about 5.0 mm) was cut into a 5 mm square cube to obtain a measurement sample.
(2) Measurement of glass transition temperature (Tg) Using a linear expansion coefficient measuring device (TMA-50, manufactured by Shimadzu Corporation), the measurement sample was heated at 10 ° C./min, and the expansion coefficient was measured by the penetration method. The temperature at the inflection point was taken as the glass transition temperature (Tg) of the measurement sample.
If the glass transition temperature (Tg) is 150 ° C. or higher, it can be evaluated that the heat resistance is excellent.

[実施例1]
1.エポキシ樹脂組成物の製造
アルミ製カップに、エポキシ樹脂A1 3gと、硬化剤B1 2.7gとを加え、ホットプレート上で160℃に加熱してスパチュラで撹拌して均一に混合した。混合後、温度を140℃に下げ、混合物が入ったアルミ製カップにトリフェニルホスフィン(硬化触媒)0.1gを入れ、再びスパチュラで撹拌して均一に混合して、エポキシ樹脂組成物を得た。
このエポキシ樹脂組成物を「エポキシ樹脂組成物X1」とする。
[Example 1]
1. Production of Epoxy Resin Composition To an aluminum cup, 3 g of epoxy resin A1 and 2.7 g of curing agent B1 were added, heated to 160 ° C. on a hot plate, stirred with a spatula and mixed uniformly. After mixing, the temperature was lowered to 140 ° C., 0.1 g of triphenylphosphine (curing catalyst) was put into an aluminum cup containing the mixture, and stirred again with a spatula and mixed uniformly to obtain an epoxy resin composition. .
This epoxy resin composition is referred to as “epoxy resin composition X1”.

2.エポキシ樹脂硬化物の製造
エポキシ樹脂組成物X1を、160℃で2時間、180℃で2時間および190℃で1時間の加熱により硬化させて、厚み約3.0mmまたは厚み約5.0mmの平板状のエポキシ樹脂硬化物を得た。
このエポキシ樹脂硬化物を「エポキシ樹脂硬化物Y1」とする。
3.誘電特性(比誘電率、誘電正接)、光線透過率およびガラス転移温度の試験および評価
上記した「試験・評価方法」に従って、エポキシ樹脂硬化物Y1の誘電特性(比誘電率、誘電正接)、光線透過率およびガラス転移温度の測定を行い、評価した。
測定結果を表1の該当欄に示す。
2. Production of cured epoxy resin The epoxy resin composition X1 is cured by heating at 160 ° C. for 2 hours, 180 ° C. for 2 hours, and 190 ° C. for 1 hour to obtain a flat plate having a thickness of about 3.0 mm or a thickness of about 5.0 mm. A cured epoxy resin was obtained.
This cured epoxy resin is referred to as “cured epoxy resin Y1”.
3. Test and evaluation of dielectric properties (dielectric constant, dielectric loss tangent), light transmittance and glass transition temperature In accordance with the above “test / evaluation method”, dielectric properties (dielectric constant, dielectric loss tangent) of cured epoxy resin Y1 The transmittance and glass transition temperature were measured and evaluated.
The measurement results are shown in the corresponding column of Table 1.

[実施例2〜4]
エポキシ樹脂として、エポキシ樹脂A1に代えて、エポキシ樹脂A2(実施例2)、エポキシ樹脂A3(実施例3)またはエポキシ樹脂A4(実施例4)を使用した点を除いて、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物およびエポキシ樹脂硬化物を製造した。
上記した「試験・評価方法」に従って、製造したエポキシ樹脂硬化物の誘電特性(比誘電率、誘電正接)、光線透過率およびガラス転移温度の測定を行い、評価した。
測定結果を表1の該当欄に示す。
[Examples 2 to 4]
As in the case of Example 1, except that the epoxy resin A2 (Example 2), the epoxy resin A3 (Example 3) or the epoxy resin A4 (Example 4) is used as the epoxy resin instead of the epoxy resin A1. Thus, an epoxy resin composition and a cured epoxy resin were produced.
According to the above-mentioned “test / evaluation method”, dielectric properties (dielectric constant, dielectric loss tangent), light transmittance and glass transition temperature of the produced cured epoxy resin were measured and evaluated.
The measurement results are shown in the corresponding column of Table 1.

[比較例1〜6]
エポキシ樹脂および硬化剤の組合せを表1に示すとおりに変更した点を除いて、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物およびエポキシ樹脂硬化物を製造した。
上記した「試験・評価方法」に従って、製造したエポキシ樹脂硬化物の誘電特性(比誘電率、誘電正接)、光線透過率およびガラス転移温度の測定を行い、評価した。
測定結果を表1の該当欄に示す。
[Comparative Examples 1-6]
An epoxy resin composition and a cured epoxy resin were produced in the same manner as in Example 1 except that the combination of the epoxy resin and the curing agent was changed as shown in Table 1.
According to the above-mentioned “test / evaluation method”, dielectric properties (dielectric constant, dielectric loss tangent), light transmittance and glass transition temperature of the produced cured epoxy resin were measured and evaluated.
The measurement results are shown in the corresponding column of Table 1.

Figure 2018188590
Figure 2018188590

[結果の説明]
実施例1〜4のエポキシ樹脂硬化物は、いずれも、比誘電率が低く、かつ、光線透過率が高かった。
[Explanation of results]
The cured epoxy resins of Examples 1 to 4 each had a low relative dielectric constant and a high light transmittance.

〈実施例1、比較例1および比較例2〉
比較例1および比較例2は、それぞれ、硬化剤として、フェノール・ジシクロペンタジエン縮合物(硬化剤b4)またはフェノール・ホルムアルデヒド縮合物(硬化剤b5)を用いた例である。
比較例1および比較例2は、いずれも、比誘電率は高く、光線透過率は低かった。
これらの結果から、硬化剤としてp−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤を用いると、得られる熱硬化性樹脂硬化物の比誘電率を低く、かつ、光線透過率を高くすることができることがわかる。
さらに、p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤の代わりにフェノール・ジシクロペンタジエン縮合物またはフェノール・ホルムアルデヒド縮合物を硬化剤として用いると、比誘電率および光線透過率が所望の水準(比誘電率≦2.80、光線透過率≧50%)を満たさないことがわかる。
<Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2>
Comparative Example 1 and Comparative Example 2 are examples in which a phenol / dicyclopentadiene condensate (curing agent b4) or a phenol / formaldehyde condensate (curing agent b5) was used as the curing agent, respectively.
In both Comparative Example 1 and Comparative Example 2, the relative dielectric constant was high and the light transmittance was low.
From these results, when a curing agent obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene is used as the curing agent, the resulting thermosetting resin cured product has a low relative dielectric constant and a high light transmittance. You can see that you can.
Further, when a phenol / dicyclopentadiene condensate or a phenol / formaldehyde condensate is used as a curing agent instead of a curing agent obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene, a relative dielectric constant and light transmittance are desired. It can be seen that the above-mentioned levels (relative permittivity ≦ 2.80, light transmittance ≧ 50%) are not satisfied.

〈実施例1、比較例5および比較例6〉
実施例1は、硬化剤として、p−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物(硬化剤B1)を用いた例である。また、比較例5および比較例6は、それぞれ、硬化剤として、m−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物(硬化剤b2)またはo−クレゾール・ジシクロペンタジエン縮合物(硬化剤b3)を用いた例である。
比誘電率(ε)は、比較例6は低かった(ε=2.50)が、比較例5は高かった(ε=2.85)。また、光線透過率は、比較例5および比較例6のいずれも低かった(<50%)。
これに対して、実施例1は、比誘電率(ε)が低く(ε=2.41)、光線透過率は高かった(≧50%)。
これらの結果から、硬化剤としてp−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤を用いると、得られる熱硬化性樹脂硬化物の比誘電率を低く、かつ、光線透過率を高くすることができることがわかる。
さらに、p−クレゾールの代わりにm−クレゾールまたはo−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤を用いると、光線透過率が所望の水準(≧50%)を満たさないことがわかる。
<Example 1, Comparative Example 5 and Comparative Example 6>
Example 1 is an example using p-cresol dicyclopentadiene condensate (curing agent B1) as a curing agent. In Comparative Examples 5 and 6, m-cresol / dicyclopentadiene condensate (curing agent b2) or o-cresol / dicyclopentadiene condensate (curing agent b3) was used as the curing agent, respectively. It is.
The relative dielectric constant (epsilon r) is the comparative example 6 was low (ε r = 2.50) is, in Comparative Example 5 was high (ε r = 2.85). The light transmittance was low in both Comparative Example 5 and Comparative Example 6 (<50%).
In contrast, in Example 1, the relative dielectric constant (ε r ) was low (ε r = 2.41), and the light transmittance was high (≧ 50%).
From these results, when a curing agent obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene is used as the curing agent, the resulting thermosetting resin cured product has a low relative dielectric constant and a high light transmittance. You can see that you can.
Furthermore, when a curing agent obtained by polymerizing m-cresol or o-cresol and dicyclopentadiene instead of p-cresol is used, it can be seen that the light transmittance does not satisfy a desired level (≧ 50%). .

〈実施例1〜4〉
実施例1〜4は、それぞれ、エポキシ樹脂としてエポキシ樹脂A1〜A4を用いた例である。
エポキシ樹脂として、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂A1)、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂A2)、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂A3)およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂A4)のいずれを用いても、比誘電率を低く、かつ、光線透過率を高くすることができることがわかる。
<Examples 1-4>
Examples 1 to 4 are examples using epoxy resins A1 to A4 as epoxy resins, respectively.
Examples of the epoxy resin include cresol novolac type epoxy resin (epoxy resin A1), trisphenolmethane type epoxy resin (epoxy resin A2), dicyclopentadiene type epoxy resin (epoxy resin A3), and phenol novolac type epoxy resin (epoxy resin A4). It can be seen that any of these can reduce the relative dielectric constant and increase the light transmittance.

Claims (5)

クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも1種のエポキシ樹脂(A)と、
p−クレゾールとジシクロペンタジエン類とを重合させてなる硬化剤(B)と、
硬化触媒(C)と
を含む熱硬化性樹脂組成物。
At least one epoxy resin selected from the group consisting of a cresol novolac epoxy resin, a phenol novolac epoxy resin, a biphenyl epoxy resin, a trisphenolmethane epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin ( A) and
a curing agent (B) obtained by polymerizing p-cresol and dicyclopentadiene;
A thermosetting resin composition comprising a curing catalyst (C).
前記エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量と前記硬化剤(B)の水酸基当量の割合が、前記エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量:前記硬化剤(B)の水酸基当量=0.8:1.2〜1.2:0.8である、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The ratio of the epoxy equivalent of the epoxy resin (A) to the hydroxyl equivalent of the curing agent (B) is the epoxy equivalent of the epoxy resin (A): the hydroxyl equivalent of the curing agent (B) = 0.8: 1.2. The thermosetting resin composition of Claim 1 which is -1.2: 0.8. 前記硬化触媒(C)の含有量が、前記エポキシ樹脂(A)と前記硬化剤(B)の合計質量の0.01〜20質量%である、請求項1または2に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin according to claim 1 or 2, wherein a content of the curing catalyst (C) is 0.01 to 20% by mass of a total mass of the epoxy resin (A) and the curing agent (B). Composition. 前記硬化触媒(C)がトリフェニルホスフィンである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the curing catalyst (C) is triphenylphosphine. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物を加熱硬化した熱硬化性樹脂硬化物。   The thermosetting resin hardened | cured material which heat-hardened the thermosetting resin composition of any one of Claims 1-4.
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