JP2018177860A - 膜形成組成物 - Google Patents
膜形成組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018177860A JP2018177860A JP2017074755A JP2017074755A JP2018177860A JP 2018177860 A JP2018177860 A JP 2018177860A JP 2017074755 A JP2017074755 A JP 2017074755A JP 2017074755 A JP2017074755 A JP 2017074755A JP 2018177860 A JP2018177860 A JP 2018177860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition according
- group
- hydrocarbon group
- additive
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- NFPDMQSJCHCCKU-CLFYSBASSA-N C/C(/C1CCCCC1)=N/O Chemical compound C/C(/C1CCCCC1)=N/O NFPDMQSJCHCCKU-CLFYSBASSA-N 0.000 description 1
- JHNRZXQVBKRYKN-CLFYSBASSA-N C/C(/c1ccccc1)=N/O Chemical compound C/C(/c1ccccc1)=N/O JHNRZXQVBKRYKN-CLFYSBASSA-N 0.000 description 1
- OVFDEGGJFJECAT-DHZHZOJOSA-N CC(C)(C(CC1)C2)C1(C)/C2=N/O Chemical compound CC(C)(C(CC1)C2)C1(C)/C2=N/O OVFDEGGJFJECAT-DHZHZOJOSA-N 0.000 description 1
- 0 CC(CC1C[C@@]2C*C1)C2=NO Chemical compound CC(CC1C[C@@]2C*C1)C2=NO 0.000 description 1
- SFDRVCQSVTYHLU-POHAHGRESA-N COc1ccc(/C=N\O)c(OC)c1 Chemical compound COc1ccc(/C=N\O)c(OC)c1 SFDRVCQSVTYHLU-POHAHGRESA-N 0.000 description 1
- ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N Oc1c(/C=N\O)cccc1 Chemical compound Oc1c(/C=N\O)cccc1 ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/01—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/29—Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
- C08K5/31—Guanidine; Derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/32—Compounds containing nitrogen bound to oxygen
- C08K5/33—Oximes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3445—Five-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/35—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
- C08K5/175—Amines; Quaternary ammonium compounds containing COOH-groups; Esters or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/29—Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3445—Five-membered rings
- C08K5/3447—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3462—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/35—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring
- C08K5/357—Six-membered rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Description
ポリシラザンと、
有機溶剤と、
(A)炭化水素基置換されたグアニジン類、
(B)構成員として酸素および窒素を含むクラウンエーテルアミン類、
(C)アミノ置換された多環構造を有するシクロアルカン類、
(D)炭化水素基置換されたオキシム類、および
(E)イミダゾリン類
からなる群から選択される添加剤少なくとも1種類と
を含んでなることを特徴とするものである。
本発明による膜形成組成物(以下、「組成物」ということがある)は、ポリシラザンと、有機溶剤と、特定の添加剤を必須成分として含んでなり、必要に応じてその他の追加成分を含むこともできる。これらの各成分について説明すると以下のとおりである。
本発明による組成物に用いられるポリシラザンは特に限定されないが、典型的には、下記一般式(1)であらわされる構造単位を有する。
本発明による組成物は、前記ポリシラザンおよび後述する特定の添加剤を溶解し得る溶媒を含んでなる。このような溶媒としては、用いられる成分を溶解し得るものであれば特に限定されるものではないが、好ましい溶媒の具体例としては、次のものが挙げられる:
(a)芳香族炭化水素化合物、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、テトラヒドロナフタレン等、
(b)飽和炭化水素化合物、例えばn−ペンタン、i−ペンタン、n−ヘキサン、i−ヘキサン、n−ヘプタン、i−ヘプタン、n−オクタン、i−オクタン、n−ノナン、i−ノナン、n−デカン、i−デカン等、
(c)脂環式炭化水素化合物、例えばエチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、p−メンタン、デカヒドロナフタレン、ジペンテン、リモネン等、
(d)アルキルエーテル類、例えばジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル(以下、MTBEという)、アニソール等、および
(e)ケトン類、例えばメチルイソブチルケトン(以下、MIBKという)等。
なお、溶媒の混合物を用いる場合、人体への有害性を低減するという観点から、芳香族炭化水素化合物の含有率は溶媒混合物の総質量に対して30質量%以下であることが好ましい。
本発明による組成物は、特定の添加剤を含んでなる。この添加剤は、構造中に窒素を含み、さらに特定の構造を有することが必要である。すなわち、本発明において用いられる添加剤は、
(A)炭化水素基置換されたグアニジン類、
(B)構成員として酸素および窒素を含むクラウンエーテルアミン類、
(C)アミノ基置換された多環構造を有するシクロアルカン類、
(D)炭化水素基置換されたオキシム類、および
(E)イミダゾリン類
からなる群から選択されるものである。
添加剤(A)は、炭化水素基置換されたグアニジン類である。未置換グアニジンは本発明には用いられない。このようなグアニジン類のうち好ましいものは、下記一般式(A)で表される。
RAは、それぞれ独立に、水素または1価のC1〜C20炭化水素基であるか、いずれか2つのRAが、2価のC1〜C20炭化水素基により結合されて環構造を形成しているか、いずれか4つのRAのうち、2つずつが、2価のC1〜C20炭化水素基により結合されて2つの環構造を形成しており、
RAのうち少なくとも1つが水素では無い。
添加剤(B)は、構成員として酸素および窒素を含むクラウンエーテルアミン類である。このようなクラウンエーテルアミン類のうち、好ましいものは以下の一般式(B)で表されるものである。
LB1およびLB2は、それぞれ独立に、C1〜C6アルキレンであり、LB1およびLB2は、他リンカー単位の酸素または窒素と結合し、
RBは、水素、C1〜C3アルキル、C1〜C3ヘテロアルキル、C6〜C10アリール、またはC6〜C10ヘテロアリールであり、
Lは少なくとも1つのリンカー単位(B1)および少なくとも1つのリンカー単位(B2)を含み、Lに含まれるリンカー単位の総数は2〜10である)
RBは、水素、またはC6〜C10アリールであることが好ましい。
Lに含まれるリンカー単位の総数は4〜10の数であることが好ましい。
添加剤(C)はアミノ置換された多環構造を有するシクロアルカン類である。ここで、アミノとは、1級、2級、または3級アミノのいずれであってもよい。また、多環構造を有するシクロアルカンとしては、複数の環状構造を有するものであり、架橋していたり、スピロ構造を有していてもよい。具体的な多環構造としては、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、アダマンタン、ノルボルナンなどが挙げられる。このような化合物のうち好ましいものは、アダマンタン類であり、例えば下記一般式(C)で表される。
nCは1〜16の数であり、
RCは、それぞれ独立にアミノ、ヒドロキシまたはC1〜C10炭化水素基であり、
少なくともひとつのRCがアミノを含む。
RDは、それぞれ独立に、水素または1価のC1〜C20炭化水素基であるか、2つのRDが、2価のC1〜C20炭化水素基により結合されて環構造を形成している)。
本発明による組成物は、必要に応じて追加成分を含有することもできる。そのような成分として、例えば粘度調整剤、架橋促進剤等、無機触媒、シロキサン化合物、シランカップリング剤などの架橋剤、金属微粒子や無機酸化物などのフィラーが挙げられる。金属微粒子は、組成物の硬化温度を低減させる効果を有すると考えられ、架橋促進の効果を有する。具体的には金属微粒子として、Ag、Au、Pd、およびNiなどが挙げられ、Agが好ましい。金属微粒子の平均粒子径は0.5μm以下であることが好ましい。また、無機酸化物としては、遷移金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物等が挙げられ、より具体的には、MgO、CaO、BaO、ZnO、V2O5、Fe2O3、Mo2O3、SnO、CdOなどが挙げられる。また、追加成分としてアミン化合物または金属錯体化合物をあげることができる。これらの化合物は基板上に塗布された組成物が硬化反応する際の触媒として機能するものである。
本発明による組成物は、前記ポリシラザン、特定の添加剤および必要に応じて追加成分を前記有機溶媒に溶解または分散させて組成物とする。ここで、有機溶媒に対して各成分を溶解させる順番は特に限定されない。また、配合成分を反応させた上で、溶媒を置換することもできる。
また、本発明による膜形成方法は、前記の膜形成組成物を基材上に塗布し、硬化させることを特徴としている。
本発明によるシリカ質膜およびシリカ質膜付き基材は、前記した組成物を用いて製造される。本発明による組成物を利用する限り、その製造条件などは特に限定されないが、例えば前記した方法により製造することができる。これらのシリカ質膜またはシリカ質膜付き基材は、電子材料の分野において電子機器の層間絶縁膜、上面保護膜、光学特性調整膜、保護膜用プライマー等として用いられ、また電子材料以外の分野においても、金属、ガラス、またはプラスチック等の基材表面の保護膜、接着膜等としても有用である。さらには、この膜は、医療用具、包装容器または包装紙に適用することもできる。
ペルヒドロポリシラザン(数平均分子量800)および添加剤をキシレンに溶解させ、孔径0.2μmのPTFE製メンブレンフィルターによってろ過して、組成物を得た。組成物中のペルヒドロポリシラザンの含有率は、組成物を基準として8質量%とした。添加剤の種類および濃度は、表1に示したとおりであった。
その後、室温、80℃。または130℃の条件下で硬化させた。硬化の進行は、FT−IRによって観測した。そして、それぞれの条件でペルヒドロポリシラザンがシリカに完全に転化するまでの時間(日数)を測定した。得られた結果は表1に示すとおりであった。
Claims (20)
- ポリシラザンと、
有機溶剤と、
(A)炭化水素基置換されたグアニジン類、
(B)構成員として酸素および窒素を含むクラウンエーテルアミン類、
(C)アミノ基置換された多環構造を有するシクロアルキル類、
(D)炭化水素基置換されたオキシム類、および
(E)イミダゾリン類
からなる群から選択される添加剤少なくとも1種類と
を含んでなる膜形成組成物。 - RAが、C1〜C3アルキル、C5〜C8シクロアルキル、C6〜C10アリール、C1〜C6アルキレン、およびC1〜C6ヘテロアルキレンからなる群から選択される、請求項2に記載の組成物。
- 前記添加剤が(B)構成員として酸素および窒素を含むクラウンエーテルアミン類であり、下記一般式(B):
{式中、Lは下記のリンカー単位(B1)およびリンカー単位(B2)からなるリンカーであり、
(式中、
LB1およびLB2は、それぞれ独立に、C1〜C6アルキレンであり、LB1およびLB2は、他リンカー単位の酸素または窒素と結合し、
RBは、水素、C1〜C3アルキル、C1〜C3ヘテロアルキル、C6〜C10アリール、またはC6〜C10ヘテロアリールであり、
Lは少なくとも1つのリンカー単位(B1)および少なくとも1つのリンカー単位(B2)を含み、Lに含まれるリンカー単位の総数は2〜10である)}、
で表される、請求項1に記載の組成物。 - LB1およびLB2は、それぞれ独立に、C2〜C4アルキレンであり、
RBは、水素、またはC6〜C10アリールであり、
Lに含まれるリンカー単位の総数は4〜10の数である、請求項4に記載の組成物。 - 前記RCが、C1〜C6アルキル、アミノ、C1〜C6アミノアルキル、C1〜C6アルキルアミノアルキル、C1〜C6アミノアルキルアミノ、ヒドロキシ、またはカルボキシである、請求項6に記載の組成物。
- 前記RDが、C1〜C10アリール、またはC1〜C10ヘテロアリールである、請求項8に記載の組成物。
- 2つのRDが、2価のアルキレンまたは2価のシクロアルキレンによって結合され、一般式(D)で表されるオキシム類が環構造を有している、請求項8に記載の組成物。
- 前記REが、C1〜C15アルキル、C6〜C20アリールである、請求項10に記載の組成物。
- 前記R1が、それぞれ独立に、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アルキルシリルおよびアルコキシシリルアルキルからなる群から選択される基である、請求項13に記載の組成物。
- 前記ポリシラザンがペルヒドロポリシラザンである、請求項1〜14のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記ポリシラザン1gに対して、前記添加剤を0.01〜5mmol含んでなる、請求項1〜15のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物の総質量を基準として、前記ポリシラザンの含有率が1〜60質量%である、請求項1〜16のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記有機溶剤が、芳香族炭化水素、飽和炭化水素化合物、脂環式炭化水素化合物もしくはアルキルエーテルである溶剤を1種類以上含んでなる、請求項1〜17のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1〜18のいずれか一項に記載の組成物を基材上に塗布し、硬化させることを含んでなる膜の製造方法。
- 請求項19に記載の膜を含んでなる電子機器、医療用具、包装容器または包装紙。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017074755A JP6668288B2 (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | 膜形成組成物 |
| KR1020197030577A KR102276502B1 (ko) | 2017-04-04 | 2018-04-03 | 필름 형성 조성물 |
| TW107111773A TWI744514B (zh) | 2017-04-04 | 2018-04-03 | 膜形成組成物 |
| EP18715648.4A EP3607015B1 (en) | 2017-04-04 | 2018-04-03 | Film forming composition |
| CN201880021994.1A CN110461969B (zh) | 2017-04-04 | 2018-04-03 | 膜形成组合物 |
| PCT/EP2018/058383 WO2018185044A2 (en) | 2017-04-04 | 2018-04-03 | Film forming composition |
| US16/500,253 US11059995B2 (en) | 2017-04-04 | 2018-04-03 | Film forming composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017074755A JP6668288B2 (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | 膜形成組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018177860A true JP2018177860A (ja) | 2018-11-15 |
| JP2018177860A5 JP2018177860A5 (ja) | 2019-12-05 |
| JP6668288B2 JP6668288B2 (ja) | 2020-03-18 |
Family
ID=61899268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017074755A Expired - Fee Related JP6668288B2 (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | 膜形成組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11059995B2 (ja) |
| EP (1) | EP3607015B1 (ja) |
| JP (1) | JP6668288B2 (ja) |
| KR (1) | KR102276502B1 (ja) |
| CN (1) | CN110461969B (ja) |
| TW (1) | TWI744514B (ja) |
| WO (1) | WO2018185044A2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6668287B2 (ja) * | 2017-04-04 | 2020-03-18 | メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH | 膜形成組成物およびそれを用いた膜形成方法 |
| JP7084812B2 (ja) * | 2018-07-17 | 2022-06-15 | 東京応化工業株式会社 | シリカ系被膜形成用の組成物、シリカ系被膜を備える基板の製造方法、及びシリカ系被膜形成用の組成物に添加される添加剤 |
| MX2022002835A (es) | 2019-12-12 | 2022-04-06 | Sekisui Chemical Co Ltd | Interlaminar de vidrio laminado, y vidrio laminado. |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08176512A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造方法、シリカ系被膜及び半導体装置 |
| JPH08176511A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜および半導体装置 |
| JPH0931333A (ja) * | 1995-07-13 | 1997-02-04 | Tonen Corp | シリカ質セラミックス形成用組成物、同セラミックスの形成方法及び同セラミックス膜 |
| JPH1160736A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-03-05 | Tonen Corp | アミン残基含有ポリシラザン及びその製造方法 |
| JPH11116815A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-27 | Tonen Corp | ポリシラザン含有組成物及びシリカ質膜の形成方法 |
| JP2004536196A (ja) * | 2001-07-18 | 2004-12-02 | キーオン・コーポレーション | エポキシ樹脂用ポリシラザン修飾ポリアミン硬化剤 |
| JP2011528722A (ja) * | 2008-03-28 | 2011-11-24 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | グアニジン構造を有する化合物及びそのオルガノポリシロキサン重縮合触媒としての使用 |
| JP2016204487A (ja) * | 2015-04-20 | 2016-12-08 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2581386B1 (fr) * | 1985-05-06 | 1987-11-20 | Rhone Poulenc Rech | Procede de traitement de polyorganosilazanes et/ou de polyorgano(disilyl)silazanes par un traitement de polyorganosilazanes par un systeme catalytique comprenant un sel mineral ionique et un compose complexant |
| US5344467A (en) | 1991-05-13 | 1994-09-06 | The Lubrizol Corporation | Organometallic complex-antioxidant combinations, and concentrates and diesel fuels containing same |
| JP3487161B2 (ja) | 1997-04-23 | 2004-01-13 | 株式会社デンソー | ガス濃度センサ用制御装置 |
| JP3348638B2 (ja) | 1997-10-16 | 2002-11-20 | 日産自動車株式会社 | フォークリフトトラックのマスト装置 |
| JP2004209344A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 光触媒組成物、およびそれから形成される光触媒体 |
| JP2007273494A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Fujitsu Ltd | 絶縁膜形成用組成物及び半導体装置の製造方法 |
| JP5818890B2 (ja) | 2010-06-30 | 2015-11-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 二重反応性シラン官能基を含む硬化性組成物 |
| EP2588537A1 (en) * | 2010-06-30 | 2013-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Curable-on-demand composition comprising dual reactive silane functionality |
| BR112016000471B1 (pt) | 2013-07-16 | 2022-06-28 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Composição de revestimento intumescente líquida curável à temperatura ambiente, substrato, e, método de proteção de estruturas contra incêndio |
| JP6257975B2 (ja) * | 2013-09-17 | 2018-01-10 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 被膜形成方法 |
-
2017
- 2017-04-04 JP JP2017074755A patent/JP6668288B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-04-03 US US16/500,253 patent/US11059995B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2018-04-03 KR KR1020197030577A patent/KR102276502B1/ko active Active
- 2018-04-03 CN CN201880021994.1A patent/CN110461969B/zh active Active
- 2018-04-03 TW TW107111773A patent/TWI744514B/zh active
- 2018-04-03 EP EP18715648.4A patent/EP3607015B1/en not_active Not-in-force
- 2018-04-03 WO PCT/EP2018/058383 patent/WO2018185044A2/en not_active Ceased
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08176512A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造方法、シリカ系被膜及び半導体装置 |
| JPH08176511A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜および半導体装置 |
| JPH0931333A (ja) * | 1995-07-13 | 1997-02-04 | Tonen Corp | シリカ質セラミックス形成用組成物、同セラミックスの形成方法及び同セラミックス膜 |
| JPH1160736A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-03-05 | Tonen Corp | アミン残基含有ポリシラザン及びその製造方法 |
| JPH11116815A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-27 | Tonen Corp | ポリシラザン含有組成物及びシリカ質膜の形成方法 |
| JP2004536196A (ja) * | 2001-07-18 | 2004-12-02 | キーオン・コーポレーション | エポキシ樹脂用ポリシラザン修飾ポリアミン硬化剤 |
| JP2011528722A (ja) * | 2008-03-28 | 2011-11-24 | ブルースター・シリコーンズ・フランス | グアニジン構造を有する化合物及びそのオルガノポリシロキサン重縮合触媒としての使用 |
| JP2016204487A (ja) * | 2015-04-20 | 2016-12-08 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6668288B2 (ja) | 2020-03-18 |
| CN110461969A (zh) | 2019-11-15 |
| WO2018185044A2 (en) | 2018-10-11 |
| KR20190131520A (ko) | 2019-11-26 |
| TW201843241A (zh) | 2018-12-16 |
| CN110461969B (zh) | 2021-12-10 |
| EP3607015B1 (en) | 2021-01-20 |
| KR102276502B1 (ko) | 2021-07-12 |
| US20200377761A1 (en) | 2020-12-03 |
| EP3607015A2 (en) | 2020-02-12 |
| US11059995B2 (en) | 2021-07-13 |
| WO2018185044A3 (en) | 2019-02-28 |
| TWI744514B (zh) | 2021-11-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5160189B2 (ja) | 緻密なシリカ質膜を得ることができるポリシラザン化合物含有組成物 | |
| JP6257975B2 (ja) | 被膜形成方法 | |
| JP6772170B2 (ja) | 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 | |
| TW200306998A (en) | A silicon-containing copolymer composition, a solvent-soluble crosslinked silicon-containing copolymer, and hardened products thereof | |
| JP6668288B2 (ja) | 膜形成組成物 | |
| JP6571296B2 (ja) | 緻密なシリカ質膜形成用組成物 | |
| JP6668287B2 (ja) | 膜形成組成物およびそれを用いた膜形成方法 | |
| JP6363257B2 (ja) | 被膜形成用組成物 | |
| KR101840715B1 (ko) | 코팅 조성물, 코팅 조성물의 제조방법 및 코팅막 | |
| JP2024111849A (ja) | カーボンナノチューブ不織布及び電磁波遮蔽シート | |
| JP2004230283A (ja) | 真空用チャンバー | |
| JP2004230285A (ja) | デシケーター |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191025 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191025 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20191025 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20191106 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191220 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200122 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200131 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200226 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6668288 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |