JP2018174984A - 光処理装置、光処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】従来よりも殺菌・消臭能力に優れた光処理装置を実現する。
【解決手段】 光処理装置は、筐体と、酸素を含む被処理ガスを前記筐体内に導入する吸気口と、筐体内に配置され、Ｘｅを含む放電用ガスが封入された石英ガラスからなる管体を含み、主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光と、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す第二光と、を射出するエキシマランプと、筐体内に導入された被処理ガスに対して、エキシマランプから射出された第一光が照射されることで生成された、オゾンを含む処理済ガスを放出する排気口と、エキシマランプから射出された第二光が入射可能な位置に配置されており、第二光によって励起可能な材料を含む光触媒体と、を備える。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光処理装置に関し、特にエキシマランプを含む装置に関する。また、本発明は、エキシマランプを含む装置を用いた光処理方法に関する。

光を用いて脱臭・殺菌する技術が近年開発されている。例えば、下記特許文献１には、波長１８５ｎｍ、及び３６５ｎｍの光を発生する水銀ランプを用いた処理が開示されている。この文献によれば、波長１８５ｎｍの光を用いて発生させたオゾンによる分解処理と、波長３６５ｎｍの光を用いた光触媒作用を用いた分解処理とを利用することで、臭気の脱臭を行う旨の記載がされている。

特開２００１−００９２４１号公報 特開平７−７８５９１号公報

上記特許文献１の技術は、水銀ランプを利用したものである。水銀ランプは、水銀を放電媒体とするため、環境への負荷が大きく好ましくない。本出願人は、水銀を用いずに紫外光を生成できるランプとして、エキシマランプをすでに開発している（上記特許文献２参照）。

本発明者らは、特許文献１に開示されている１８５ｎｍの光ではオゾンを生成する能力が低いため、オゾンをより効率的に生成すべく、１８５ｎｍよりも短波長の光（例えば１７２ｎｍ）を用いて殺菌・脱臭を行うことを検討した。例えば、上記特許文献２のように、キセノン（Ｘｅ）ガスを用いたエキシマランプによれば、主たる発光波長が１７２ｎｍの光を生成することができる。そこで、本発明者らは、このエキシマランプから射出される光を酸素を含む被処理ガス（例えば空気）に照射することで、オゾンを効率的に生成することができると考えた。

しかし、本発明者らの鋭意研究によれば、このようなエキシマランプを発光させ続けると、時間の経過と共に１７２ｎｍの波長の光の照度が低下するという現象が確認された。このことは、時間と共にオゾンの生成能力が低下することを意味し、殺菌・脱臭処理能力が低下することを意味する。

本発明は上記の課題に鑑み、従来よりも殺菌・消臭能力に優れた光処理装置、及び光処理方法を実現することを目的とする。

本発明に係る光処理装置は、
筐体と、
酸素を含む被処理ガスを前記筐体内に導入する吸気口と、
前記筐体内に配置され、Ｘｅを含む放電用ガスが封入された石英ガラスからなる管体を含み、主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光と、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す第二光と、を射出するエキシマランプと、
前記筐体内に導入された前記被処理ガスに対して、前記エキシマランプから射出された前記第一光が照射されることで生成された、オゾンを含む処理済ガスを放出する排気口と、
前記エキシマランプから射出された前記第二光が入射可能な位置に配置されており、前記第二光によって励起可能な材料を含む光触媒体と、を備えたことを特徴とする。

上述したように、エキシマランプを発光させ続けると、時間の経過と共に波長１７２ｎｍの光の照度が低下するという現象が確認された。本発明者らは、この原因につき以下のように考察している。波長１７２ｎｍの光が、エキシマランプの管体を構成する石英ガラスに照射されたことで、石英ガラスを構成する一部の結合が切られ、当該箇所に欠陥が形成される。そして、波長１７２ｎｍの光の一部が、この欠陥に吸収されたことで、エキシマランプから照射される波長１７２ｎｍの光の照度が低下する。

これに対し、本発明の光処理装置によれば、主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光と共に、この第一光よりも長波長側の、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す第二光が射出される。この第二光は、第一光よりも長波長側に位置しており、石英ガラスに形成された欠陥には吸収されにくい。このため、エキシマランプから射出される第二光の強度は、第一光に比べて、時間の経過と共に低下することがないか、又は、低下する速度は極めて遅い。

そして、光処理装置は、エキシマランプから射出された第二光によって励起可能な材料からなる光触媒体を備えている。このため、仮に時間の経過と共に第一光の強度が低下することで、処理済ガス中に含まれるオゾン濃度が低下したとしても、光触媒体に第二光が照射されることで光触媒作用が発揮される。つまり、オゾン処理の能力の低下を、光触媒作用で補完することができる。従って、従来の装置と比較して、殺菌・消臭能力に優れた光処理装置が実現される。

前記管体内には、前記放電用ガスと共に酸素ガスが封入されており、
前記第二光は、５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示すものとしても構わない。

石英ガラスは、原料や製造方法に由来して、種々の不純物が含まれるのが一般的である。具体的な一例として、石英ガラス内にはＯＨ基が含まれる場合がある。この場合、石英ガラスに対して波長１７２ｎｍの光が照射され、石英ガラス内の結合が切られると、ＯＨ基が管体内に放出される。そして、このＯＨ基が、石英ガラスからなる管体内に封入されていたＸｅガスと反応し、ＸｅＯが生成される。ＸｅＯが放電すると、５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示す光が生成される。

このとき、光触媒体を、５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示す光によって励起可能な材料を含む構成とすることで、ＸｅＯ由来の第二光による光触媒作用が実現される。この場合、時間の経過と共に、第一光の照度が低下したとしても、第二光の照度が上昇するため、第二光が光触媒体に照射されることにより発揮される光触媒作用による殺菌・消臭能力が上昇する。なお、生成されたＸｅＯは、放電終了後には酸素ガスに変化して管体内に留まる。

このような第二光によって励起可能な光触媒体の材料としては、例えば塩化鉄（ＦｅＣｌ₃）などの金属塩からなる増感剤を担持させた二酸化チタン（ＴｉＯ₂）や、パラジウムや銅化合物と混練された酸化タングステン（ＷＯ₃）などを利用することができる。

前記管体は、一部に酸素欠乏欠陥を含み、
前記第二光は、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示すものとしても構わない。

石英ガラスを構成する材料に対して主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光が照射されると、結合が切られ、一部に酸素欠乏欠陥（ＯＤＣ：Oxygen deficient center）が形成される場合がある。この酸素欠乏欠陥は、第一光を吸収すると励起され、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示す光（ルミネセンス）を発する。

よって、光触媒体を、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示す光によって励起可能な材料を含む構成とすることで、酸素欠乏欠陥から発せられるルミネセンス由来の第二光による光触媒作用が実現される。この場合、時間の経過と共に、第一光の照度が低下したとしても、第二光の照度が上昇するため、第二光が光触媒体に照射されることにより発揮される光触媒作用による殺菌・消臭能力が上昇する。

このような第二光によって励起可能な光触媒体の材料としては、例えば塩化鉄（ＦｅＣｌ₃）などの金属塩からなる増感剤を担持させた二酸化チタン（ＴｉＯ₂）や、パラジウムや銅化合物と混練された酸化タングステン（ＷＯ₃）などを利用することができる。

前記第二光の強度は、前記第一光の強度に対して０．５％以上であるものとすることができる。

本発明は、オゾン発生装置を用いた光処理方法であって、
前記オゾン発生装置は、
筐体と、
酸素を含む被処理ガスを前記筐体内に導入する吸気口と、
前記筐体内に配置された、Ｘｅを含む放電用ガスが封入された管体を含み、主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光と、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す第二光と、を射出するエキシマランプと、
前記筐体内に導入された前記被処理ガスに対して、前記エキシマランプから射出された前記第一光が照射されることで生成された、オゾンを含む処理済ガスを放出する排気口と、を備え、
前記オゾン発生装置からオゾンを含む処理済ガスを対象空間内に放出して、オゾン処理を行うと共に、前記対象空間内に配置された光触媒体に対して前記エキシマランプから射出された前記第二光を入射させて光触媒処理を行うことを特徴とする。

上記方法によれば、処理済ガス中に含まれるオゾン濃度が低下したとしても、光触媒体に第二光が照射されることで光触媒作用が発揮される。つまり、対象空間に対するオゾン処理の能力の低下を、光触媒作用で補完することができる。従って、従来よりも、殺菌・消臭能力に優れた光処理方法が実現される。

上記方法において、
前記対象空間のうちの第一空間内に前記オゾン発生装置を設置し、
前記対象空間のうちの、前記第一空間に隣接した第二空間内に前記光触媒体を設置し、
前記第一空間と前記第二空間との境界部は遮蔽されており、当該境界部には前記第二光を透過する窓が設置されているものとすることができる。

オゾンは人体に有毒な材料であるため、オゾンを含む被処理ガスが放出される空間（第一空間）は、処理中は無人であることが好ましい。一方、第二空間は、第一空間と遮蔽されているため、オゾンを含む被処理ガスが流入されることがないため、有人であっても構わない。そして、第一空間と第二空間の境界部には、第二光が透過可能な窓が形成されているため、第二空間内には、この窓を介して第二光が入射される。この結果、第二空間内に設置された光触媒体に第二光が入射されることで、第二空間内の殺菌・消臭作用を実現することができる。

本発明によれば、従来と比較して、殺菌・消臭能力に優れた光処理装置／光処理方法が実現される。

本発明の光処理装置の一実施形態の構成を模式的に示す図面である。 Ｘｅエキシマ光のスペクトルを模式的に示す図面である。 管体から発せられる光のスペクトルを、点灯初期と、点灯開始後所定時間経過後とで比較した図面である。 本発明の光処理方法の一実施例を説明するための模式的な図面である。 管体から発せられる光のスペクトルを、ＸｅＯが存在しない場合と、ＸｅＯが存在する場合とで比較した図面である。 本発明の光処理装置の別実施形態の構成を模式的に示す図面である。

本発明の光処理装置及び光処理方法の一実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、各図において、図面の寸法比と実際の寸法比とは必ずしも一致していない。

［構成］
図１は、一実施形態に係る光処理装置の構成を模式的に示す図面である。図１に示すように、本実施形態に係る光処理装置１は、オゾン発生装置１０と、光触媒体２０とを備える。

（オゾン発生装置１０）
オゾン発生装置１０は、発光管２を備えている。発光管２は、石英ガラスからなる管体２１を備える。オゾン発生装置１０は、管体２１の外部に配置される外部電極３と、管体２１の内部に配置される内部電極４とを備える。

オゾン発生装置１０は、管体２１及び各電極（３，４）を収容する筐体５を備える。オゾン発生装置１０は、吸気口６と排気口８とを備える。吸気口６は、少なくとも酸素を含む被処理ガスＧ１を筐体５の内部に導入する。被処理ガスＧ１に対して発光管２から放射される光が照射されることで、オゾンを含む処理済ガスＧ２が生成される。排気口８は、この処理済ガスＧ２を筐体５の外部に放出する。本実施形態では、吸気口６にはファン６１が設けられている。例えば、ファン６１の回転数が制御されることで、吸気口６から吸気される被処理ガスＧ１の流量が調整可能に構成されている。本実施形態において、被処理ガスＧ１は、例えば空気である。

オゾン発生装置１０は、外部電極３と内部電極４との間に電圧（例えば、交流の高電圧）を印加するための電源７を備える。

発光管２は、両端に、管体２１の内部を気密にする第一封止部２２及び第二封止部２３を備える。管体２１には、放電用ガスが封入されている。この放電用ガスは、キセノン（Ｘｅ）を含んで構成されている。放電用ガスのより詳細な一例としては、ＸｅとＮｅを所定の比率（例えば３：７）で混在させたガスで構成される。

発光管２は、第一封止部２２に埋設される金属箔２４と、第一封止部２２に一部が埋設される外部リード２５とを備える。金属箔２４は、内部電極４及び外部リード２５に連結されている。これによって、内部電極４、金属箔２４、及び外部リード２５は、相互に電気的に接続されている。

本実施形態において、外部電極３は筒状に形成されており、管体２１は外部電極３の内部に挿入されている。外部電極３は、管体２１の内部から放射された光を、通過又は透過させる光路部３１を備えている。本実施形態においては、光路部３１は貫通孔で構成されている。

例えば、外部電極３は、板状の部材に複数の貫通孔を有するように形成されていてもよく、複数の棒状の部材を格子状や網目状に配置して形成されていてもよく、棒状の部材を螺旋状に配置して形成されていてもよい。光路部３１は、透光性を有する部材で構成されていてもよい。

本実施形態において、内部電極４は、棒状に形成され、管体２１の内部に配置されている。内部電極４の端部が、それぞれ発光管２の封止部（２２，２３）に埋設されているため、内部電極４は発光管２に固定されている。

本実施形態において、筐体５は、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す光Ｌ２を通過又は透過可能に構成されている。例えば、筐体５は、光Ｌ２に対して透過性を有する材料で構成されていても構わないし、光Ｌ２を透過する窓部を有していても構わない。この光Ｌ２は、後述する第二光に対応する。

（光触媒体２０）
本実施形態において、光触媒体２０は、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す光が入射されると、励起して電離し、光触媒作用を示す材料で構成される。光触媒体２０は、例えば、塩化鉄（ＦｅＣｌ₃）などの金属塩からなる増感剤を担持させた二酸化チタン（ＴｉＯ₂）を含む材料で構成される。

［作用］
以下、光処理装置１の作用を説明する。

電源７によって、外部電極３と内部電極４との間に電圧が印加される。上述したように、管体２１は石英ガラスで構成されており、これは誘電体である。誘電体からなる管体２１内には放電プラズマが発生し、このプラズマにより、管体２１内に封入された放電用ガスが励起される。具体的には、Ｘｅ原子が励起され、エキシマ励起分子Ｘｅ₂ ^*が生成される。この励起分子Ｘｅ₂ ^*が基底状態に戻るときにエキシマ発光Ｌ１ を発生する。図２に、Ｘｅエキシマ光のスペクトルを模式的に示す。図２に示すように、Ｘｅエキシマ光は、１７２ｎｍにピークを有するスペクトルを示す。本実施形態では、Ｘｅエキシマ光Ｌ１が「第一光」に対応する。

吸気口６から被処理ガスＧ１が筐体５の内部に導入されると、この被処理ガスＧ１に対し、管体２１の内部から放射され且つ光路部３１を通過した第一光Ｌ１が照射される。主たる発光波長が１７２ｎｍである第一光Ｌ１は、被処理ガスＧ１に含まれる酸素分子の結合を切り、オゾンを生成する。すなわち、被処理ガスＧ１は、オゾンを含む処理済ガスＧ２に変換される。この処理済ガスＧ２は、排気口８から排気される。これにより、オゾンを含む処理済ガスＧ２が排出された空間内が、オゾンによって殺菌・消臭される。

ところで、主たる発光波長が１７２ｎｍである第一光Ｌ１の一部は、管体２１に照射される。このとき、管体２１を構成する石英ガラスに含まれる結合を切り、石英ガラス内に欠陥が生成される。具体的には、管体２１に酸素欠乏欠陥（ＯＤＣ）が形成される。そして、この酸素欠乏欠陥は、第一光Ｌ１を吸収すると励起され、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示す第二光（ルミネセンス）を発する。

エキシマ発光状態が継続すると、この酸素欠乏欠陥の量が増大する。これに伴い、第一光Ｌ１の吸収量が増加するため、第一光の強度が低下する。これに対し、第一光によって酸素欠乏欠陥が励起されることで生成される第二光の強度は、時間の経過と共に増加する。

図３は、管体２１から発せられる光のスペクトルを、点灯初期と、点灯開始後所定時間経過後とで比較した図面である。図３によれば、時間が経過すると、波長１７２ｎｍ近傍の光強度が低下している一方で、波長２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内の光強度が上昇していることが確認される。波長２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内の光が、酸素欠乏欠陥由来のルミネセンス（第二光Ｌ２）に対応する。

この波長帯の光（第二光Ｌ２）は、被処理ガスＧ１内の酸素を結合するエネルギーを有しない。このため、この第二光Ｌ２は、被処理ガスＧ１に吸収されずに、筐体５を透過して外部に放出される。この第二光Ｌ２は、筐体５の外側に配置された光触媒体２０に照射される。光触媒体２０は、第二光Ｌ２が入射されると、構成材料が励起することで光触媒作用を実現する。すなわち、光触媒体２０による光触媒作用によって、周囲に対して殺菌・消臭処理が実現される。

つまり、本実施形態の光処理装置１によれば、処理済ガスＧ２に含まれるオゾン量が低下したとしても、光触媒体２０による光触媒作用が上昇するため、この光触媒作用によって、殺菌・消臭能力を補完することができる。

図４は、本発明の光処理方法の一実施例を説明するための模式的な図面である。図４において、オゾン発生装置１０は、第一空間７１内に設置されており、光触媒体２０は第二空間７２内に設置されている。第一空間７１と第二空間７２とは隣接しており、境界部７３によって相互に遮蔽されている。ただし、境界部７３の少なくとも一部には、光透過窓７４が設けられている。光透過窓７４は、第二光Ｌ２を透過可能な材料で構成されている。

このような構成によれば、対象空間のうち、第一空間７１に対しては、オゾン発生装置１０から放出されるオゾンを含む処理済ガスＧ２によって、殺菌・消臭処理が実現される。また、対象空間のうち、第二空間７２に対しては、オゾン発生装置１０に含まれる発光管２から放射される第二光Ｌ２が光触媒体２０に照射されることで、光触媒体２０による光触媒作用によって、殺菌・消臭処理が実現される。

［別実施形態］
以下、別実施形態について説明する。

〈１〉 管体２１を構成する石英ガラスには、ＯＨ基が含まれる場合がある。この場合、管体２１に対して波長１７２ｎｍの第一光Ｌ１が照射されると、石英ガラス内の結合が切られ、ＯＨ基が放電空間内に放出される。そして、管体２１内に封入されていたＸｅガスと反応し、ＸｅＯが生成される。ＸｅＯが放電すると、５００ｎｍ以上５６０ｎｍ 以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示す光（緑色帯の光）が生成される。

図５は、管体２１から発せられる光のスペクトルを、管体２１内にＸｅＯが存在する場合と存在しない場合とで、比較した図面である。図５によれば、管体２１内にＸｅＯが存在する場合には、５００ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の光の強度が上昇していることが確認される。なお、図５によれば、５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長範囲の光の強度が特に上昇していることが確認される。

このため、光触媒体２０として、５００ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の光が入射されると励起して光触媒作用を示す材料を含む構成とすることで、このＸｅＯ由来の第二光による光触媒機能が実現される。

なお、光触媒体２０は、酸素欠乏欠陥由来の第二光（波長２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下）と、ＸｅＯ由来の第二光（５００ｎｍ以上５６０ｎｍ以下）の双方に対して、光触媒作用を実現し得る材料を含んで構成されるものとしても構わない。

〈２〉 管体２１内に微量の酸素ガスを予め導入しておくものとしても構わない。これにより、上記別実施形態〈１〉に示したように、管体２１内にＸｅＯが含まれる結果となるため、５００ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長帯の第二光が生成される。

〈３〉 上述した実施形態では、オゾン発生装置１０において、発光管２が一重構造の管体２１を備えた構成であるものとして説明したが、これはあくまで一例である。例えば、図６に示すように、発光管２は、誘電体である外管２６ａ及び誘電体である内管２６ｂを有する二重構造である二重管体２６を備えた構成であっても構わない。図６は、別実施形態におけるオゾン発生装置１０の構造を模式的に示す図面である。

図６に示されるオゾン発生装置１０においては、発光管２は、誘電体である外管２６ａ及び誘電体である内管２６ｂを有する二重管体２６と、外管２６ａ及び内管２６ｂ間を気密にするための環状の封止端部２７とを備えている。そして、外管２６ａ及び内管２６ｂ間には、上述した放電用ガスが封入されている。

内部電極４は、筒状に形成されている。そして、内部電極４は、二重管体２６（内管２６ｂ）の内部に配置されているため、外部電極３との間に二重管体２６（外管２６ａ及び内管２６ｂ）を配置している。なお、内部電極４は、二重管体２６（内管２６ｂ）と接するようにして、発光管２に固定されている。この構成の場合、内管２６ｂの内側にも被処理ガスＧ１が流通し、発光管２から放射される第一光Ｌ１が照射されて、オゾンを含む処理済ガスＧ２が生成されるものとしても構わない。

〈４〉 上記実施形態に係るオゾン発生装置１０においては、吸気口６はファン６１を備える構成とした。しかし、例えば、ファン６１は、排気口８側に設けられていても構わないし、吸気口６及び排気口８の両者に設けられていても構わない。

〈５〉 オゾン発生装置１０内において、筐体５の内側面側にも光触媒体２０が設置されるものとしても構わない。これにより、被処理ガスＧ１に対して光触媒作用が施されるため、純度の高いオゾンを含む処理済ガスＧ２が生成される。

１ ： 光処理装置
３ ： 外部電極
４ ： 内部電極
５ ： 筐体
６ ： 吸気口
７ ： 電源
８ ： 排気口
１０ ： オゾン発生装置
２０ ： 光触媒体
２１ ： 管体
２２ ： 第一封止部
２３ ： 第二封止部
２４ ： 金属箔
２５ ： 外部リード
２６ ： 二重管体
２６ａ ： 外管
２６ｂ ： 内管
２７ ： 封止端部
３１ ： 光路部
６１ ： ファン
７１ ： 第一空間
７２ ： 第二空間
７３ ： 境界部
７４ ： 光透過窓
Ｇ１ ： 被処理ガス
Ｇ２ ： 処理済ガス

Claims (6)

1. 筐体と、
   酸素を含む被処理ガスを前記筐体内に導入する吸気口と、
   前記筐体内に配置され、Ｘｅを含む放電用ガスが 封入された石英ガラスからなる管体を含み、主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光と、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す第二光と、を射出するエキシマランプと、
   前記筐体内に導入された前記被処理ガスに対して、前記エキシマランプから射出された前記第一光が照射されることで生成された、オゾンを含む処理済ガスを放出する排気口と、
   前記エキシマランプから射出された前記第二光が入射可能な位置に配置されており、前記第二光によって励起可能な材料を含む光触媒体と、を備えたことを特徴とする光処理装置。
2. 前記管体内には、前記放電用ガスと共に酸素ガスが封入されており、
   前記第二光は、５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示すことを特徴とする請求項１に記載の光処理装置。
3. 前記管体は、一部に酸素欠乏欠陥を含み、
   前記第二光は、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度を示すことを特徴とする請求項１又は２に記載の光処理装置。
4. 前記第二光の強度は、前記第一光の強度に対して０．５％以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光処理装置。
5. オゾン発生装置を用いた光処理方法であって、
   前記オゾン発生装置は、
   筐体と、
   酸素を含む被処理ガスを前記筐体内に導入する吸気口と、
   前記筐体内に配置された、Ｘｅを含む放電用ガスが封入された管体を含み、主たる発光波長が１７２ｎｍの第一光と、波長が２５０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部分に強度を示す第二光と、を射出するエキシマランプと、
   前記筐体内に導入された前記被処理ガスに対して、前記エキシマランプから射出された前記第一光が照射されることで生成された、オゾンを含む処理済ガスを放出する排気口と、を備え、
   前記オゾン発生装置からオゾンを含む処理済ガスを対象空間内に放出して、オゾン処理を行うと共に、前記対象空間内に配置された光触媒体に対して前記エキシマランプから射出された前記第二光を入射させて光触媒処理を行うことを特徴とする光処理方法。
6. 前記対象空間のうちの第一空間内に前記オゾン発生装置を設置し、
   前記対象空間のうちの、前記第一空間に隣接した第二空間内に前記光触媒体を設置し、
   前記第一空間と前記第二空間との境界部は遮蔽されており、当該境界部には前記第二光を透過する窓が設置されていることを特徴とする請求項５に記載の光処理方法。

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