JP2561901B2 - 活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置 - Google Patents
活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、強力な殺菌作用や酸化作用などを有する活
性酸素および活性酸素水の製造装置に関するものであ
る。
性酸素および活性酸素水の製造装置に関するものであ
る。
オゾンの分解による生成する気体の活性酸素やこの活
性酸素が水に溶解した活性酸素水は強力な殺菌作用や酸
化作用などを有するので、近年、例えば食品の鮮度を維
持したり保存期間を延長するためや、食品などの洗浄お
よび漂白、冷蔵庫内などの脱臭、更には上下水道水の脱
色や殺菌処理などに幅広く利用されるようになった。と
ころで、従来はオゾンおよびオゾンの一部を分解して活
性酸素を製造するために、無声放電を用いる方法と紫外
線を用いる方法が利用されて来た。無声放電は、酸素を
含む空間内の電極間のグロー放電によってオゾンを生成
させるものであり、オゾンの生成効率は高いが、使用す
る空気などを予め乾燥して除湿する必要があり、また、
オゾン発生量のコントロールが不可能であり、更にはNO
xも発生する問題点がある。
性酸素が水に溶解した活性酸素水は強力な殺菌作用や酸
化作用などを有するので、近年、例えば食品の鮮度を維
持したり保存期間を延長するためや、食品などの洗浄お
よび漂白、冷蔵庫内などの脱臭、更には上下水道水の脱
色や殺菌処理などに幅広く利用されるようになった。と
ころで、従来はオゾンおよびオゾンの一部を分解して活
性酸素を製造するために、無声放電を用いる方法と紫外
線を用いる方法が利用されて来た。無声放電は、酸素を
含む空間内の電極間のグロー放電によってオゾンを生成
させるものであり、オゾンの生成効率は高いが、使用す
る空気などを予め乾燥して除湿する必要があり、また、
オゾン発生量のコントロールが不可能であり、更にはNO
xも発生する問題点がある。
一方、紫外線によるオゾンおよび活性酸素の生成機構
は次のように考えられている。
は次のように考えられている。
O2（空気）＋ｈν１→Ｏ＊ ２→20 （１） （ｈν１＝波長200nm以下の光） Ｏ＋O2（空気）＋Ｍ→O3＋Ｍ （２） （Ｍ＝N2,O2） O3＋ｈν２→Ｏ（活性酸素）＋O2 （３） （ｈν２＝波長300nm以下を含む広範囲の光） また、水中では、次式で生成するOHが酸化力などを発
揮する。
揮する。
Ｏ（活性酸素）＋H2O→2OH （４） ここで、水銀を封入した低圧水銀ランプは波長が185n
mおよび254nmの光を放射するので、紫外線源として低圧
水銀ランプが用いられてきた。しかしながら、低圧水銀
ランプから放射する紫外線は、波長が254nmの光が主で
あり、185nmの光は従であって、線スペクトルであるの
で、その放射量は僅かであり、投入電力に対する発光効
率は２〜３％程度しかなく、著しく低い。すなわち、活
性酸素を得るために不可欠なオゾンの生成効率およびオ
ゾンの分解効率が極めて低く、従って活性酸素の生成効
率が極めて低い。また、第３図は、実線曲線が、式
（３）において、ｈν２がO3に吸収されるときの吸収係
数とｈν２の波長の関係を、点線曲線は、式（１）にお
いて、ｈν１がO2に吸収されるときの吸収係数とｈν１
の波長の関係を示すが、これから分かるように、波長が
185nmおよび254nmの光の酸素およびオゾンに対する吸収
効率は低い。このため、185nmおよび254nmの光を十分に
空気中の酸素およびオゾンに吸収させて有効に利用する
ためには、低圧水銀ランプよりの放射を受ける空気層を
例えば20cm以上の厚さにする必要があり、装置が大型化
する不具合がある。更には、低圧水銀ランプは、封入さ
れた水銀蒸気圧の環境温度依存性が強く、10〜60℃近辺
の温度では効率よく発光するが、これ以下の温度では、
185nmおよび254nmの光の放射量は極端に少くなり、更に
は、点灯してから定常状態になるまでに数十分のオーダ
ーの時間を要する問題点もある。
mおよび254nmの光を放射するので、紫外線源として低圧
水銀ランプが用いられてきた。しかしながら、低圧水銀
ランプから放射する紫外線は、波長が254nmの光が主で
あり、185nmの光は従であって、線スペクトルであるの
で、その放射量は僅かであり、投入電力に対する発光効
率は２〜３％程度しかなく、著しく低い。すなわち、活
性酸素を得るために不可欠なオゾンの生成効率およびオ
ゾンの分解効率が極めて低く、従って活性酸素の生成効
率が極めて低い。また、第３図は、実線曲線が、式
（３）において、ｈν２がO3に吸収されるときの吸収係
数とｈν２の波長の関係を、点線曲線は、式（１）にお
いて、ｈν１がO2に吸収されるときの吸収係数とｈν１
の波長の関係を示すが、これから分かるように、波長が
185nmおよび254nmの光の酸素およびオゾンに対する吸収
効率は低い。このため、185nmおよび254nmの光を十分に
空気中の酸素およびオゾンに吸収させて有効に利用する
ためには、低圧水銀ランプよりの放射を受ける空気層を
例えば20cm以上の厚さにする必要があり、装置が大型化
する不具合がある。更には、低圧水銀ランプは、封入さ
れた水銀蒸気圧の環境温度依存性が強く、10〜60℃近辺
の温度では効率よく発光するが、これ以下の温度では、
185nmおよび254nmの光の放射量は極端に少くなり、更に
は、点灯してから定常状態になるまでに数十分のオーダ
ーの時間を要する問題点もある。
そこで本発明は、コンパクトで活性酸素や活性酸素水
の生成効率が高く、環境温度依存性が低くて、かつ除湿
の必要性やNOxの発生もない活性酸素製造装置および活
性酸素水製造装置を提供することを目的とするものであ
る。
の生成効率が高く、環境温度依存性が低くて、かつ除湿
の必要性やNOxの発生もない活性酸素製造装置および活
性酸素水製造装置を提供することを目的とするものであ
る。
本発明の活性酸素製造装置は、少なくとも150nm乃至1
80nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域を有する多
結晶質セラミック製チューブにキセノンガスを主成分と
する希ガスとハロゲンガスが封入され、酸素もしくは酸
素を含む気体中で発光される紫外線ランプと、この紫外
線ランプを励起発光せしめる電源装置とを具備すること
を特徴とする。
80nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域を有する多
結晶質セラミック製チューブにキセノンガスを主成分と
する希ガスとハロゲンガスが封入され、酸素もしくは酸
素を含む気体中で発光される紫外線ランプと、この紫外
線ランプを励起発光せしめる電源装置とを具備すること
を特徴とする。
また、活性酸素水製造装置は、少なくとも150nm乃至1
80nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域を有する多
結晶質セラミック製チューブにキセノンガスを主成分と
する希ガスとハロゲンガスが封入された紫外線ランプが
酸素もしくは酸素を含む気体が存在するケーシング内に
配置された活性酸素生成室と、該紫外線ランプを励起発
光せしめる電源装置と、該活性酸素生成室内で生成した
活性酸素を水に溶解する手段とを具備することを特徴と
する。
80nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域を有する多
結晶質セラミック製チューブにキセノンガスを主成分と
する希ガスとハロゲンガスが封入された紫外線ランプが
酸素もしくは酸素を含む気体が存在するケーシング内に
配置された活性酸素生成室と、該紫外線ランプを励起発
光せしめる電源装置と、該活性酸素生成室内で生成した
活性酸素を水に溶解する手段とを具備することを特徴と
する。
すなわち、本発明は、請求項１および請求項２とも、
紫外線を利用して活性酸素を生成するので、無声放電の
ように、除湿を必要としたり、NOxが発生しない。そし
て、紫外線源として使用するランプは、少なくとも150n
m乃至180nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域を有
する多結晶質セラミック製チューブにキセノンガスを主
成分とする希ガスとハロゲンガスが封入されたものであ
るので、光の透過率が極めて高く、その発光波長は、そ
の一例を第２図に示すように、波長207nmおよび185〜18
8nmの光をピークとした連続スペクトルであり、オゾン
およびオゾンの分解による活性酸素の生成に寄与する光
のトータル量は極めて多い。従って、投入電力に対して
オゾンと活性酸素の生成に必要とする波長の光を酸素も
しくは酸素を含む気体に多く放射することができ、活性
酸素生成効率が極めて高くなる。また、本紫外線ランプ
は、波長が207nm以下の光の量が多いが、第３図から理
解できるように、酸素およびオゾンに対する吸収係数が
大きく、良く酸素およびオゾンに吸収されるので、酸素
もしくは酸素を含む気体が存在するケーシング内で本紫
外線ランプを発光させるときは、ケーシングは小さなも
のでよく、コンパクトな構造にすることができる。そし
て、低圧水銀ランプと異なり、本紫外線ランプは、環境
温度依存性がほとんどなく、環境温度が10℃以下の低温
であっても効率良く紫外線を放射し、かつ始動時の立ち
上りも速い利点を有する。
紫外線を利用して活性酸素を生成するので、無声放電の
ように、除湿を必要としたり、NOxが発生しない。そし
て、紫外線源として使用するランプは、少なくとも150n
m乃至180nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域を有
する多結晶質セラミック製チューブにキセノンガスを主
成分とする希ガスとハロゲンガスが封入されたものであ
るので、光の透過率が極めて高く、その発光波長は、そ
の一例を第２図に示すように、波長207nmおよび185〜18
8nmの光をピークとした連続スペクトルであり、オゾン
およびオゾンの分解による活性酸素の生成に寄与する光
のトータル量は極めて多い。従って、投入電力に対して
オゾンと活性酸素の生成に必要とする波長の光を酸素も
しくは酸素を含む気体に多く放射することができ、活性
酸素生成効率が極めて高くなる。また、本紫外線ランプ
は、波長が207nm以下の光の量が多いが、第３図から理
解できるように、酸素およびオゾンに対する吸収係数が
大きく、良く酸素およびオゾンに吸収されるので、酸素
もしくは酸素を含む気体が存在するケーシング内で本紫
外線ランプを発光させるときは、ケーシングは小さなも
のでよく、コンパクトな構造にすることができる。そし
て、低圧水銀ランプと異なり、本紫外線ランプは、環境
温度依存性がほとんどなく、環境温度が10℃以下の低温
であっても効率良く紫外線を放射し、かつ始動時の立ち
上りも速い利点を有する。
以下に図面に示す実施例に基いて本発明を具体的に説
明する。
明する。
第１図は、請求項１および請求項２の製造装置に使用
される紫外線ランプ１の断面図を示す。チューブ11は、
少なくとも150nm乃至180nmと200nm乃至300nmの波長域に
光の透過域を有する多結晶質セラミック製であるが、本
実施例では、内径が6mmであり、真空紫外域を良く透過
する多結晶アルミナ管からなる。チューブ11の両端に
は、例えばニオブからなるキャップ12が嵌着して封止し
ている。キャップ12には電極13が取付けられており、そ
の間隔（放電長）は8cmである。電極13はステンレス筒1
4とその内部に配置されたタングステンコイル15からな
り、コイル15には、エミッターとして、SrO,BaOおよびC
aOの三元アルカリ土類酸化物が塗布されている。チュー
ブ11内には、キセノンガスまたはキセノンガスに数％の
他の希ガスおよびハロゲンガスが混入したガスが封入さ
れる。封入ガス圧は、50〜500Torr程度が好ましい。封
入ガス圧50Torrより低いと、総発光量が減少し、しかも
前記チューブ11の透過率の低い波長域の発光が増え、投
入電力に対するオゾンを生成できる波長である200nm以
下の波長の光の放射量の比やオゾンを分解する波長域で
ある200〜300nmの波長の光の比、すなわち活性酸素生成
効率が低下する。一方、封入ガス圧が500Torrより高い
と、放電開始電圧や放電維持電圧が高くなるので、電源
装置が大きくなって、コストも高くなり、経済性が劣
る。
される紫外線ランプ１の断面図を示す。チューブ11は、
少なくとも150nm乃至180nmと200nm乃至300nmの波長域に
光の透過域を有する多結晶質セラミック製であるが、本
実施例では、内径が6mmであり、真空紫外域を良く透過
する多結晶アルミナ管からなる。チューブ11の両端に
は、例えばニオブからなるキャップ12が嵌着して封止し
ている。キャップ12には電極13が取付けられており、そ
の間隔（放電長）は8cmである。電極13はステンレス筒1
4とその内部に配置されたタングステンコイル15からな
り、コイル15には、エミッターとして、SrO,BaOおよびC
aOの三元アルカリ土類酸化物が塗布されている。チュー
ブ11内には、キセノンガスまたはキセノンガスに数％の
他の希ガスおよびハロゲンガスが混入したガスが封入さ
れる。封入ガス圧は、50〜500Torr程度が好ましい。封
入ガス圧50Torrより低いと、総発光量が減少し、しかも
前記チューブ11の透過率の低い波長域の発光が増え、投
入電力に対するオゾンを生成できる波長である200nm以
下の波長の光の放射量の比やオゾンを分解する波長域で
ある200〜300nmの波長の光の比、すなわち活性酸素生成
効率が低下する。一方、封入ガス圧が500Torrより高い
と、放電開始電圧や放電維持電圧が高くなるので、電源
装置が大きくなって、コストも高くなり、経済性が劣
る。
かかる紫外線ランプ１をマイクロ波、ラジオ波や、商
用交流或いは直流などの電力で励起発光させると、第２
図に示すような連続スペクトルが得られる。第２図は、
キセノンガスが200Torr、ハロゲンガスとして沃素ガス
が2Torrの圧力で封入され、投入電力が約50K Hzの高周
波電力で3W/cmの条件で発光させた場合のスペクトルで
あるが、オゾンの生成に寄与する波長200nm以下の光、
およびオゾンを効率良く分解する波長域である200〜300
nmの光が多く放射する。すなわち、前記の式（１）や式
（３）が良く進行し、活性酸素を効率よく生成すること
ができる。そして、低圧水銀ランプと異なり、本紫外線
ランプ１は、キセノンガスを主成分とするガスを使用す
るので、環境温度依存性がほとんどなく、10℃以下の低
温であっても効率良く発光し、低温時の始動性も優れて
いる。なお、沃素ガスに限らず、塩素、臭素などの他の
ハロゲンガスを単独あるいは混合して用いても同等の放
射波長スペントルが得られるので、効率良くオゾンを生
成し、かつ効率良く活性酸素を生成することができる。
用交流或いは直流などの電力で励起発光させると、第２
図に示すような連続スペクトルが得られる。第２図は、
キセノンガスが200Torr、ハロゲンガスとして沃素ガス
が2Torrの圧力で封入され、投入電力が約50K Hzの高周
波電力で3W/cmの条件で発光させた場合のスペクトルで
あるが、オゾンの生成に寄与する波長200nm以下の光、
およびオゾンを効率良く分解する波長域である200〜300
nmの光が多く放射する。すなわち、前記の式（１）や式
（３）が良く進行し、活性酸素を効率よく生成すること
ができる。そして、低圧水銀ランプと異なり、本紫外線
ランプ１は、キセノンガスを主成分とするガスを使用す
るので、環境温度依存性がほとんどなく、10℃以下の低
温であっても効率良く発光し、低温時の始動性も優れて
いる。なお、沃素ガスに限らず、塩素、臭素などの他の
ハロゲンガスを単独あるいは混合して用いても同等の放
射波長スペントルが得られるので、効率良くオゾンを生
成し、かつ効率良く活性酸素を生成することができる。
次に、第４図は、請求項１の活性酸素製造装置の第１
実施例を示す。矩形状のケーシング３内に紫外線ランプ
１が配置され、ケーシング３に取付けられた電源装置２
によって発光励起される。ここで、ケーシング３の大き
さは、前述した通り、紫外線ランプ１から空気およびオ
ゾンに吸収されやすい波長の光が放射するので、従来の
低圧水銀ランプを使用したものよりも、ずっと小さくな
っている。ケーシング３の一端側の開口にはフィルター
４が取付けられ、その内側に空気吸入用のブロアー５が
配置されている。そして、ブロアー５が作動するとフィ
ルター４を通って吸入された大気中の酸素に、紫外線ラ
ンプ１の光が放射されてオゾンが生成し、このオゾンが
分解されて活性酸素が生成する。そして、この活性酸素
は、ケーシング３の他端側の開口から未分解のオゾンと
ともに排出して被処理物の方向に活性酸素を導くように
した空気強制流入流出型の装置である。この実施例にお
いて、15Wの投入電力で前記紫外線ランプ１を発光さ
せ、空気を10／分の流量で流した時のオゾン濃度は約
2.5ppmであった。なお、この紫外線ランプ１のチューブ
11に200nm以上の波長の光を吸収するようにすると、オ
ゾン濃度は約2.9ppmであったので、約0.4ppmのオゾンが
分解して活性酸素になったと推定される。すなわち、低
圧水銀ランプを使用した従来例に比べて極めて高い活性
酸素の生成効率を得ることができた。
実施例を示す。矩形状のケーシング３内に紫外線ランプ
１が配置され、ケーシング３に取付けられた電源装置２
によって発光励起される。ここで、ケーシング３の大き
さは、前述した通り、紫外線ランプ１から空気およびオ
ゾンに吸収されやすい波長の光が放射するので、従来の
低圧水銀ランプを使用したものよりも、ずっと小さくな
っている。ケーシング３の一端側の開口にはフィルター
４が取付けられ、その内側に空気吸入用のブロアー５が
配置されている。そして、ブロアー５が作動するとフィ
ルター４を通って吸入された大気中の酸素に、紫外線ラ
ンプ１の光が放射されてオゾンが生成し、このオゾンが
分解されて活性酸素が生成する。そして、この活性酸素
は、ケーシング３の他端側の開口から未分解のオゾンと
ともに排出して被処理物の方向に活性酸素を導くように
した空気強制流入流出型の装置である。この実施例にお
いて、15Wの投入電力で前記紫外線ランプ１を発光さ
せ、空気を10／分の流量で流した時のオゾン濃度は約
2.5ppmであった。なお、この紫外線ランプ１のチューブ
11に200nm以上の波長の光を吸収するようにすると、オ
ゾン濃度は約2.9ppmであったので、約0.4ppmのオゾンが
分解して活性酸素になったと推定される。すなわち、低
圧水銀ランプを使用した従来例に比べて極めて高い活性
酸素の生成効率を得ることができた。
第５図は、例えば冷蔵庫内の空気に浮遊する菌を殺菌
したり、冷蔵庫内の空気を脱臭するために使用されるも
のであり、第４図に示す装置の活性酸素排出口にオゾン
分解触媒６を取り付け、オゾン臭が外部に出ないように
したものである。すなわち、本装置を冷蔵庫内に配置
し、冷蔵庫内の空気がケーシング３に吸入されたとき
に、活性酸素を生成すると同時に、この活性酸素で空気
中の菌などを処理し、オゾンを含まない無臭の空気をケ
ーシング３から排出する。
したり、冷蔵庫内の空気を脱臭するために使用されるも
のであり、第４図に示す装置の活性酸素排出口にオゾン
分解触媒６を取り付け、オゾン臭が外部に出ないように
したものである。すなわち、本装置を冷蔵庫内に配置
し、冷蔵庫内の空気がケーシング３に吸入されたとき
に、活性酸素を生成すると同時に、この活性酸素で空気
中の菌などを処理し、オゾンを含まない無臭の空気をケ
ーシング３から排出する。
第６図は、紫外線ランプ１を取り囲むように、例えば
アルマイト処理した樋状のミラー７を配置し、このミラ
ー７に電源装置２を取付けたものであり、光が下方に放
射して大気中の酸素から活性酸素を製造する。そして、
紫外線ランプ１の下方に配置された被処理物や微小な被
処理物が浮遊した空気などに活性酸素を照射して酸化処
理や殺菌処理を行う。
アルマイト処理した樋状のミラー７を配置し、このミラ
ー７に電源装置２を取付けたものであり、光が下方に放
射して大気中の酸素から活性酸素を製造する。そして、
紫外線ランプ１の下方に配置された被処理物や微小な被
処理物が浮遊した空気などに活性酸素を照射して酸化処
理や殺菌処理を行う。
次に、第７図は、請求項２の活性酸素水製造装置の第
１実施例を示す。第７図において、ケーシング３内が活
性酸素生成室８であり、その構造は第４図に示す装置と
同等であるが、活性酸素生成室８で生成した活性酸素
は、パイプ21で水槽20に導かれる。水槽20の底面には、
活性酸素を水に溶解する手段であるところの、微小な噴
出孔が多数形成されたノズル22が配置されており、パイ
プ21で導かれた活性酸素はこのノズル22から水中に噴出
して溶解し、活性酸素水が製造される。このときも、活
性酸素生成室８で活性酸素が効率良く生成するので、少
ない投入電力で活性酸素水を効率良く製造することがで
きる。
１実施例を示す。第７図において、ケーシング３内が活
性酸素生成室８であり、その構造は第４図に示す装置と
同等であるが、活性酸素生成室８で生成した活性酸素
は、パイプ21で水槽20に導かれる。水槽20の底面には、
活性酸素を水に溶解する手段であるところの、微小な噴
出孔が多数形成されたノズル22が配置されており、パイ
プ21で導かれた活性酸素はこのノズル22から水中に噴出
して溶解し、活性酸素水が製造される。このときも、活
性酸素生成室８で活性酸素が効率良く生成するので、少
ない投入電力で活性酸素水を効率良く製造することがで
きる。
第８図は、請求項２の装置の他の実施例を示すが、パ
イプ21の先端に、活性酸素を水に溶解する手段であると
ころの、噴霧器23が取付けられており、水槽20内の水が
パイプ21から送られてきた活性酸素を含んだ空気と共に
霧状に噴出し、活性酸素水滴を作る。この活性酸素水滴
を、例えば野菜などに振りかけ、鮮度維持などに利用す
る。このときも、活性酸素水滴を効率良く製造すること
ができる。
イプ21の先端に、活性酸素を水に溶解する手段であると
ころの、噴霧器23が取付けられており、水槽20内の水が
パイプ21から送られてきた活性酸素を含んだ空気と共に
霧状に噴出し、活性酸素水滴を作る。この活性酸素水滴
を、例えば野菜などに振りかけ、鮮度維持などに利用す
る。このときも、活性酸素水滴を効率良く製造すること
ができる。
以上説明したように、本発明の活性酸素製造装置およ
び活性酸素水製造装置は、紫外線源として、少なくとも
150nm乃至180nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域
を有する多結晶質セラミック製チューブにキセノンガス
を主成分とする希ガスとハロゲンガスが封入された紫外
線ランプを使用するので、オゾンの生成に寄与する波長
が200nm以下およびオゾンの分解に寄与する波長が200〜
300nmの光の放射量が多く、かつ酸素およびオゾンに対
する吸収性が良い波長の光が多い。従って、装置を小型
化してもこれらの光を十分に活用でき、かつ少ない投入
電力で効率良く活性酸素や活性酸素水を製造することが
できる。そして、この紫外線ランプは、環境温度依存性
がほとんどなく、低温であっても効率良く発光し、低温
時の始動性も優れているが、更には、除湿の必要性がな
く、NOxも発生しない。
び活性酸素水製造装置は、紫外線源として、少なくとも
150nm乃至180nmと200nm乃至300nmの波長域に光の透過域
を有する多結晶質セラミック製チューブにキセノンガス
を主成分とする希ガスとハロゲンガスが封入された紫外
線ランプを使用するので、オゾンの生成に寄与する波長
が200nm以下およびオゾンの分解に寄与する波長が200〜
300nmの光の放射量が多く、かつ酸素およびオゾンに対
する吸収性が良い波長の光が多い。従って、装置を小型
化してもこれらの光を十分に活用でき、かつ少ない投入
電力で効率良く活性酸素や活性酸素水を製造することが
できる。そして、この紫外線ランプは、環境温度依存性
がほとんどなく、低温であっても効率良く発光し、低温
時の始動性も優れているが、更には、除湿の必要性がな
く、NOxも発生しない。
第１図は紫外線ランプの断面図、第２図は発光スペクト
ルの説明図、第３図は吸収係数説明図、第４図は請求項
１の第１実施例の説明図、第５図と第６図は同じく他の
実施例の説明図、第７図は請求項２の第１実施例の説明
図、第８図は同じく他の実施例の説明図である。 １……紫外線ランプ、11……チューブ 13……電極、２……電源装置 ３……ケーシング、４……フィルター ５……ブロアー、６……オゾン分解触媒 ７……ミラー、８……活性酸素生成室 20……水槽、21……パイプ 22……ノズル、23……噴霧器
ルの説明図、第３図は吸収係数説明図、第４図は請求項
１の第１実施例の説明図、第５図と第６図は同じく他の
実施例の説明図、第７図は請求項２の第１実施例の説明
図、第８図は同じく他の実施例の説明図である。 １……紫外線ランプ、11……チューブ 13……電極、２……電源装置 ３……ケーシング、４……フィルター ５……ブロアー、６……オゾン分解触媒 ７……ミラー、８……活性酸素生成室 20……水槽、21……パイプ 22……ノズル、23……噴霧器
Claims (2)
- 【請求項１】少なくとも150nm乃至180nmと200nm乃至300
nmの波長域に光の透過域を有する多結晶質セラミック製
チューブにキセノンガスを主成分とする希ガスとハロゲ
ンガスが封入され、酸素もしくは酸素を含む気体中で発
光される紫外線ランプと、該紫外線ランプを励起発光せ
しめる電源装置とを具備する活性酸素製造装置。 - 【請求項２】少なくとも150nm乃至180nmと200nm乃至300
nmの波長域に光の透過域を有する多結晶質セラミック製
チューブにキセノンガスを主成分とする希ガスとハロゲ
ンガスが封入された紫外線ランプが酸素もしくは酸素を
含む気体が存在するケーシング内に配置された活性酸素
生成室と、該紫外線ランプを励起発光せしめる電源装置
と、該活性酸素生成室内で生成した活性酸素を水に溶解
する手段とを具備する活性酸素水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63051597A JP2561901B2 (ja) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63051597A JP2561901B2 (ja) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01226702A JPH01226702A (ja) | 1989-09-11 |
| JP2561901B2 true JP2561901B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=12891316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63051597A Expired - Fee Related JP2561901B2 (ja) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2561901B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010060858A (ko) * | 1999-12-28 | 2001-07-07 | 이양우 | 활성산소제조방법 및 그 장치 |
| JP7305380B2 (ja) * | 2019-03-13 | 2023-07-10 | 株式会社オーク製作所 | 紫外線照射装置およびオゾン発生器 |
-
1988
- 1988-03-07 JP JP63051597A patent/JP2561901B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01226702A (ja) | 1989-09-11 |
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