JP2018039959A - Conductive adhesive composition - Google Patents
Conductive adhesive composition Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018039959A JP2018039959A JP2016177044A JP2016177044A JP2018039959A JP 2018039959 A JP2018039959 A JP 2018039959A JP 2016177044 A JP2016177044 A JP 2016177044A JP 2016177044 A JP2016177044 A JP 2016177044A JP 2018039959 A JP2018039959 A JP 2018039959A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive adhesive
- adhesive composition
- conductive
- wiring board
- inorganic particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/04—Non-macromolecular additives inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J9/00—Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
- C09J9/02—Electrically-conducting adhesives
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0216—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
- H05K1/0218—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
Abstract
【課題】リフロー後においても、優れた導電性を有する導電性接着剤組成物を提供することを目的とする。【解決手段】熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方と、導電性フィラーと、無機粒子とを含有し、無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される5μmの粒子径における累積頻度が40%以下であり、導電性接着剤組成物全体に対する無機粒子の配合量が10〜30質量%である導電性接着剤組成物を提供する。【選択図】なしAn object of the present invention is to provide a conductive adhesive composition having excellent conductivity even after reflow. SOLUTION: At least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, a conductive filler, and inorganic particles are contained, and the inorganic particles have a particle diameter of 5 μm measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device. The conductive adhesive composition in which the cumulative frequency is 40% or less and the blending amount of the inorganic particles with respect to the entire conductive adhesive composition is 10 to 30% by mass. [Selection figure] None
Description
本発明は、プリント配線板に使用される導電性接着剤組成物に関する。 The present invention relates to a conductive adhesive composition used for a printed wiring board.
従来、プリント配線板に、補強板や、電磁波シールドフィルムを貼り付けるために、接着性の樹脂組成物中に導電性フィラーを添加した導電性接着剤が使用されている。補強板や電磁波シールドフィルムをプリント配線板に貼り付ける際は、プリント配線板におけるカバーレイに開口部を形成して銅箔等からなる回路を露出させ、その開口部に導電性接着剤を充填し、当該回路と補強板や電磁波シールドフィルムとを電気的に接続させている。 Conventionally, in order to affix a reinforcement board and an electromagnetic wave shielding film to a printed wiring board, the conductive adhesive which added the conductive filler in the adhesive resin composition is used. When attaching a reinforcing plate or electromagnetic shielding film to a printed wiring board, an opening is formed in the coverlay of the printed wiring board to expose a circuit made of copper foil, and the opening is filled with a conductive adhesive. The circuit is electrically connected to the reinforcing plate and the electromagnetic shielding film.
このような導電性接着剤としては、例えば、熱硬化性樹脂に、導電性フィラーと所定の比表面積を有するシリカ粒子を配合した接着剤が開示されている。そして、このようなシリカ粒子を配合することにより、電磁波シールドフィルム全体の柔軟性を損なうことなく、絶縁層の損傷を抑制できると記載されている(例えば、特許文献1参照)。また、所定の粒子径を有する無機フィラーと、熱硬化性樹脂とを含有する接着剤組成物からなる導電性接着剤が開示されている。そして、このような導電性接着剤を使用することにより、耐湿熱性やスルーホールの段差が高い回路における接続信頼性が向上すると記載されている(例えば、特許文献2参照)。 As such a conductive adhesive, for example, an adhesive in which a thermosetting resin is blended with a conductive filler and silica particles having a predetermined specific surface area is disclosed. And it is described by mix | blending such a silica particle that the damage of an insulating layer can be suppressed, without impairing the softness | flexibility of the whole electromagnetic wave shield film (for example, refer patent document 1). Moreover, the electroconductive adhesive agent which consists of an adhesive composition containing the inorganic filler which has a predetermined particle diameter, and a thermosetting resin is disclosed. And it is described by using such a conductive adhesive that the connection reliability in a circuit with a high level of wet heat resistance and through-hole steps is improved (for example, see Patent Document 2).
ここで、一般に、導電性接着剤は、リフロー工程(例えば、270℃で10秒間)に曝すと、導電性、及びプリント配線板との密着性が低下するため、耐リフロー性(リフロー工程に耐えることができる高い耐熱性、及びリフロー工程後における導電性とプリント配線板との高い密着性)が求められる。また、近年、電子基板が小型化する傾向にあることから、カバーレイに設けられる開口部の孔径も小さくなる傾向にある。 Here, in general, when the conductive adhesive is exposed to a reflow process (for example, 270 ° C. for 10 seconds), the conductivity and the adhesion to the printed wiring board are lowered, so that the reflow resistance (withstands the reflow process). High heat resistance and high adhesion between the printed circuit board and the conductivity after the reflow process are required. In recent years, since electronic boards tend to be miniaturized, the hole diameter of the opening provided in the cover lay also tends to be small.
しかし、上記特許文献1,2に記載の接着剤においては、カバーレイに設けられる開口部の孔径が小さくなると、リフロー工程に曝した後に接続抵抗値が増大するという問題があった。 However, the adhesives described in Patent Documents 1 and 2 have a problem that the connection resistance value increases after exposure to the reflow process when the hole diameter of the opening provided in the cover lay becomes small.
そこで、本発明は、上記問題を鑑みてなされたものであり、リフロー後においても、優れた導電性を確保できる導電性接着剤組成物を提供することを目的とする。 Then, this invention is made | formed in view of the said problem, and it aims at providing the electroconductive adhesive composition which can ensure the outstanding electroconductivity after reflow.
上記目的を達成するために、本発明の導電性接着剤組成物は、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方と、導電性フィラーと、無機粒子とを含有する導電性接着剤組成物であって、無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される5μmの粒子径における累積頻度が40%以下であることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the conductive adhesive composition of the present invention is a conductive adhesive composition containing at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, a conductive filler, and inorganic particles. The inorganic particles have a cumulative frequency of 40% or less at a particle diameter of 5 μm measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer.
また、本発明の他の導電性接着剤組成物は、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方と、導電性フィラーと、無機粒子とを含有する導電性接着剤組成物であって、無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される10μmの粒子径における累積頻度が80%以下であることを特徴とする。 Another conductive adhesive composition of the present invention is a conductive adhesive composition containing at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, a conductive filler, and inorganic particles, and is inorganic. The particles have a cumulative frequency of 80% or less at a particle diameter of 10 μm measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer.
なお、ここで言う「累積頻度」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により得られる粒度分布曲線(縦軸が累積頻度%、横軸が粒子径)において、小粒子径側からの累積頻度のことを言う。 The “cumulative frequency” here refers to the cumulative frequency from the small particle diameter side in the particle size distribution curve (vertical axis is cumulative frequency%, horizontal axis is particle diameter) obtained by a laser diffraction particle size distribution analyzer. Say that.
本発明によれは、リフロー後においても、優れた導電性を有する導電性接着剤組成物を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a conductive adhesive composition having excellent conductivity even after reflow.
以下、本発明の導電性接着剤組成物について具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において、適宜変更して適用することができる。 Hereinafter, the conductive adhesive composition of the present invention will be specifically described. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, In the range which does not change the summary of this invention, it can change suitably and can apply.
本発明の導電性接着剤組成物は、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方と、導電性フィラーと、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される5μmの粒子径における累積頻度が40%以下である無機粒子とを含む導電性接着剤組成物である。 The conductive adhesive composition of the present invention has a cumulative frequency at a particle size of 5 μm measured using at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, a conductive filler, and a laser diffraction particle size distribution measuring device. It is a conductive adhesive composition containing 40% or less inorganic particles.
熱硬化性樹脂は特に限定されず、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリウレタンウレア系樹脂、メラミン系樹脂、及びアルキッド系樹脂等を使用することができる。これらは単独でもよく、2種以上を併用してもよい。 Thermosetting resin is not particularly limited, and polyamide resin, polyimide resin, acrylic resin, phenol resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyurethane urea resin, melamine resin, alkyd resin, etc. are used. can do. These may be used alone or in combination of two or more.
また、熱硬化性樹脂は特に限定されず、フェノール系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ウレタン系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、アルキッド系樹脂組成物等を用いることができる。これらは単独でもよく、2種以上を併用してもよい。 Moreover, a thermosetting resin is not specifically limited, A phenol resin composition, an epoxy resin composition, a urethane resin composition, a melamine resin composition, an alkyd resin composition, etc. can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
<導電性フィラー>
本発明の導電性接着フィルムは、導電性フィラーを含有する。上記導電性フィラーとしては特に限定されず、例えば、金属フィラー、金属被覆樹脂フィラー、カーボンフィラー及びそれらの混合物を使用することができる。上記金属フィラーとしては、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コ−ト銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、金コートニッケル粉があり、これら金属粉は、電解法、アトマイズ法、還元法により作成することができる。
<Conductive filler>
The conductive adhesive film of the present invention contains a conductive filler. The conductive filler is not particularly limited, and for example, a metal filler, a metal-coated resin filler, a carbon filler, and a mixture thereof can be used. Examples of the metal filler include copper powder, silver powder, nickel powder, silver-coated copper powder, gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder, and gold-coated nickel powder. These metal powders are electrolyzed, atomized, and reduced. Can be created by law.
また、特に、フィラー同士の接触を得やすくするために、導電性フィラーの平均粒子径が3〜50μmとすることが好ましい。また、導電性フィラーの形状としては、球状、フレーク状、樹枝状、繊維状などが挙げられる。 In particular, the average particle diameter of the conductive filler is preferably 3 to 50 μm in order to easily obtain contact between the fillers. In addition, examples of the shape of the conductive filler include a spherical shape, a flake shape, a dendritic shape, and a fibrous shape.
上記導電性フィラーは、接続抵抗、コストの観点から、銀粉、銀コート銅粉、銅粉からなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。 The conductive filler is preferably at least one selected from the group consisting of silver powder, silver-coated copper powder, and copper powder from the viewpoints of connection resistance and cost.
上記導電性フィラーは、導電性接着剤組成物の全量に対して40〜90質量%の割合で含まれることが好ましい。 It is preferable that the said conductive filler is contained in the ratio of 40-90 mass% with respect to the whole quantity of a conductive adhesive composition.
また、導電性接着フィルムには、耐ハンダリフロー性を劣化させない範囲で、シランカップリング剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤,充填剤,難燃剤等を添加してもよい。 For conductive adhesive films, silane coupling agents, antioxidants, pigments, dyes, tackifying resins, plasticizers, UV absorbers, antifoaming agents, leveling regulators are used as long as solder reflow resistance is not deteriorated. , Fillers, flame retardants, etc. may be added.
<無機粒子>
本発明の導電性接着剤組成物に含有される無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される5μmの粒子径における累積頻度が40%以下である。5μmの粒子径における累積頻度が40%を超えると、粒子径の小さい無機粒子が増加するため、無機粒子間において導電性フィラーが固定されにくくなり、リフロー時の熱に起因する熱可塑性樹脂(または熱硬化性樹脂)の流動により、導電性フィラー同士の接続が切断される場合があるため、リフロー後において、接続抵抗が十分に低下しない場合があるためである。
<Inorganic particles>
The inorganic particles contained in the conductive adhesive composition of the present invention have a cumulative frequency of 40% or less at a particle diameter of 5 μm measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer. When the cumulative frequency at a particle diameter of 5 μm exceeds 40%, inorganic particles having a small particle diameter increase, so that it is difficult to fix the conductive filler between the inorganic particles, and the thermoplastic resin (or due to heat during reflow) (or This is because the connection between the conductive fillers may be disconnected due to the flow of the thermosetting resin), and thus the connection resistance may not be sufficiently reduced after reflow.
また、無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される10μmの粒子径における累積頻度が80%以下であってもよい。10μmの粒子径における累積頻度が80%を超えると、粒子径の小さい無機粒子が増加するため、上述のごとく、リフロー時の熱に起因する熱可塑性樹脂(または熱硬化性樹脂)の流動により、導電性フィラー同士の接続が切断される場合があるため、リフロー後において、接続抵抗が十分に低下しない場合があるためである。 Further, the inorganic particles may have a cumulative frequency of 80% or less at a particle diameter of 10 μm measured using a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus. When the cumulative frequency at a particle diameter of 10 μm exceeds 80%, inorganic particles having a small particle diameter increase, and as described above, due to the flow of the thermoplastic resin (or thermosetting resin) due to heat during reflow, This is because the connection between the conductive fillers may be cut off, and thus the connection resistance may not be sufficiently reduced after reflow.
なお、5μm、及び10μmの粒子径における累積頻度は、市販のレーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Microtrac(株)製、商品名:MICROTRAC S3500)等により測定できる。 The cumulative frequency at a particle size of 5 μm and 10 μm can be measured with a commercially available laser diffraction particle size distribution analyzer (for example, trade name: MICROTRAC S3500 manufactured by Microtrac).
また、無機粒子は特に限定されないが、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、タルク、モンモロリナイト、カオリン、ベントナイト等の無機化合物が挙げられる。これらの中でも、コストの観点からシリカ粒子を使用することが好ましい。 The inorganic particles are not particularly limited, but silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, montmorolinite, kaolin, bentonite Inorganic compounds such as Among these, it is preferable to use silica particles from the viewpoint of cost.
また、無機粒子は、導電性接着剤組成物の全量に対して10〜30質量%の割合で含まれることが好ましく、10〜25質量%がより好ましい。これは、無機粒子の含有量が10質量%未満であると、リフロー後の接続安定性が不安定となり、30質量%を超えると、無機粒子の配合量が多くなるため、剥離性基材などの表面に導電性接着剤組成物を塗工することが困難になる場合や、導電性接着剤組成物における導電性が低下する場合があるためである。 Moreover, it is preferable that an inorganic particle is contained in the ratio of 10-30 mass% with respect to the whole quantity of a conductive adhesive composition, and 10-25 mass% is more preferable. If the content of the inorganic particles is less than 10% by mass, the connection stability after reflow becomes unstable. If the content exceeds 30% by mass, the amount of the inorganic particles increases, so that the peelable substrate and the like. This is because it may be difficult to apply the conductive adhesive composition to the surface of the film or the conductivity of the conductive adhesive composition may be reduced.
また、無機粒子の平均粒子径は、1〜15μmであることが好ましく、2〜10μmであることがより好ましい。これは、平均粒子径が1μm未満であると導電性接着剤組成物の造膜性が低下し、厚みを制御することが困難となる。また、平均粒子径が15μmを超えると、薄型化が困難になる。 The average particle diameter of the inorganic particles is preferably 1 to 15 μm, and more preferably 2 to 10 μm. When the average particle diameter is less than 1 μm, the film forming property of the conductive adhesive composition is lowered, and it becomes difficult to control the thickness. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 15 μm, it is difficult to reduce the thickness.
<硬化剤>
本発明の導電性接着フィルムは、必要に応じて硬化剤を含有してもよい。上記硬化剤としては特に限定されず、例えば、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、カルボジイミド化合物、イミダゾール化合物、オキサゾリン化合物、メラミン、金属錯体系架橋剤などの従来公知の硬化剤を用いることができる。
<Curing agent>
The conductive adhesive film of the present invention may contain a curing agent as necessary. It does not specifically limit as said hardening | curing agent, For example, conventionally well-known hardening | curing agents, such as an isocyanate compound, a block isocyanate compound, a carbodiimide compound, an imidazole compound, an oxazoline compound, a melamine, a metal complex type crosslinking agent, can be used.
これらの硬化剤は、適量であれば耐熱性等の向上に有効である。但し、硬化剤の使用量が多すぎると、柔軟性や密着性の低下などを引き起こす場合がある。このため、硬化剤の使用量は、熱硬化性樹脂の樹脂成分100質量部に対して0.1〜200質量部以下とすることが好ましく、0.2〜100質量部とすることがより好ましく、0.2〜50質量部であることがさらに好ましい。 These curing agents are effective in improving heat resistance and the like if they are in appropriate amounts. However, if the amount of the curing agent used is too large, it may cause a decrease in flexibility and adhesion. For this reason, it is preferable that the usage-amount of a hardening | curing agent shall be 0.1-200 mass parts or less with respect to 100 mass parts of resin components of a thermosetting resin, and it is more preferable to set it as 0.2-100 mass parts. More preferably, it is 0.2-50 mass parts.
本発明の導電性接着フィルムは、前記硬化剤の硬化を促進させるために、イミダゾール系の硬化促進剤を併用してもよい。上記硬化促進剤としては特に限定されず、例えば、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−(2′−ウンデシルイミダゾリル)エチル−S−トリアジン、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、5−シアノ−2−フェニルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2′メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−S−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、1−シアノエチル−2−フェニル−4,5−ジ(2−シアノエトキシ)メチルイミダゾール等のようにイミダゾール環にアルキル基、エチルシアノ基、水酸基、アジン等が付加された化合物等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、適量であれば耐熱性等の向上に有効である。但し、硬化促進剤の使用量が多すぎると、柔軟性や密着性の低下などを引き起こす場合がある。このため、硬化促進剤の使用量は、熱硬化性樹脂の樹脂成分100質量部に対して0.01〜1.0質量部が好ましい。 The conductive adhesive film of the present invention may be used in combination with an imidazole-based curing accelerator in order to accelerate the curing of the curing agent. The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2,4-diamino-6- (2′-undecylimidazolyl) ethyl-S. -Triazine, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 2-phenylimidazole, 5-cyano-2-phenylimidazole, 2,4-diamino-6- [2'methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-S- Imidazoles such as triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-di (2-cyanoethoxy) methylimidazole, etc. An alkyl group, ethylcyano group, hydroxyl group, azine, etc. are attached to the ring. Compounds, and the like. These curing accelerators are effective in improving heat resistance and the like if they are in appropriate amounts. However, when there is too much usage-amount of a hardening accelerator, the fall of a softness | flexibility or adhesiveness may be caused. For this reason, the usage-amount of a hardening accelerator has preferable 0.01-1.0 mass part with respect to 100 mass parts of resin components of a thermosetting resin.
<導電性接着フィルム>
図1に示すように、本発明の導電性接着フィルム1は、剥離性基材2(離型フィルム)と、剥離性基材2の表面上に、上述の導電性接着剤組成物をコーティングすることにより形成された導電性接着剤層4とを備えている。なお、コーティング方法は特に限られず、ダイコート、リップコート、コンマコート等に代表される公知のコーティング機器を用いることができる。なお、離型性基材2に導電性接着剤組成物をコーティングする際の条件は、適宜設定すればよい。
<Conductive adhesive film>
As shown in FIG. 1, the conductive adhesive film 1 of the present invention coats the peelable substrate 2 (release film) and the surface of the peelable substrate 2 with the above-described conductive adhesive composition. The conductive
離型性基材2は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のベースフィルム上に、シリコン系または、非シリコン系の離型剤を、導電性接着剤層4が形成される側の表面に塗布されたものを使用することができる。なお、離型性基材2の厚みは特に限定されるものではなく、適宜、使い易さを考慮して決定される。
The releasable substrate 2 is formed by applying a silicon-based or non-silicon-based release agent on the surface on which the conductive
また、導電性接着剤層4の厚みは15〜100μmであることが好ましい。15μmより薄いと、埋め込み性が不十分になり、グランド回路との充分な接続が得られない場合があり、100μmより厚くなると、コスト的に不利であり薄膜化の要求に応えられなくなる。このような厚みに設定することにより、基材に凹凸が存在する場合に適度に流動するため、凹部を埋めるような形状に変形し、密着性よく接着することができる。
Moreover, it is preferable that the thickness of the electroconductive
<異方性導電性接着剤層、等方性導電性接着剤層>
本発明の導電性接着剤組成物は、使用目的に応じて、異方性導電性接着剤層や等方性導電性接着剤層として使用することができる。例えば、補強板と接着するための導電性接着フィルムとして本発明の導電性接着剤組成物を使用する場合には、等方性導電性接着剤層として使用することができる。
<Anisotropic conductive adhesive layer, isotropic conductive adhesive layer>
The conductive adhesive composition of the present invention can be used as an anisotropic conductive adhesive layer or an isotropic conductive adhesive layer depending on the purpose of use. For example, when the conductive adhesive composition of the present invention is used as a conductive adhesive film for bonding to a reinforcing plate, it can be used as an isotropic conductive adhesive layer.
また、金属層を有する電磁波シールドフィルムの場合は、等方性導電性接着剤層又は異方性導電性接着剤層として使用することができるが、異方性導電性接着剤層として使用することが好ましい。 In the case of an electromagnetic wave shielding film having a metal layer, it can be used as an isotropic conductive adhesive layer or an anisotropic conductive adhesive layer, but it should be used as an anisotropic conductive adhesive layer. Is preferred.
なお、これらは導電性フィラーの配合量によって、いずれかの接着剤層とすることができる。異方性導電性接着剤層とするためには、導電性フィラーの配合量を導電性接着剤組成物の全固形分中で5質量%以上40質量%未満とすることが好ましい。等方性導電性接着剤層とするためには、導電性フィラーを導電性接着剤組成物の全固形分中で40質量%以上90質量%以下とすることが好ましい。 In addition, these can be made into any adhesive bond layer with the compounding quantity of an electroconductive filler. In order to obtain an anisotropic conductive adhesive layer, the blending amount of the conductive filler is preferably 5% by mass or more and less than 40% by mass in the total solid content of the conductive adhesive composition. In order to obtain an isotropic conductive adhesive layer, the conductive filler is preferably 40% by mass or more and 90% by mass or less in the total solid content of the conductive adhesive composition.
また、本発明の導電性接着剤を用いた導電性接着フィルムは、プリント配線板との密着性に優れるものであり、そのプリント配線板への密着性には、ポリイミドフィルムのような樹脂板への密着性と、金めっきされた銅箔や導電性補強板のような金属材料への密着性が含まれる。 In addition, the conductive adhesive film using the conductive adhesive of the present invention is excellent in adhesion to the printed wiring board, and the adhesion to the printed wiring board is to a resin board such as a polyimide film. And adhesion to metal materials such as gold-plated copper foil and conductive reinforcing plate are included.
<電磁波シールドフィルム>
図2に示すように、本発明の導電性接着剤組成物を用いた電磁波シールドフィルム20は、導電性接着剤層4と、導電性接着剤層4の表面に設けられた保護層13とを有する。保護層13としては、絶縁性を有するもの(即ち、絶縁性樹脂組成物により形成されたもの)であれば特に限定されず、公知のものを使用することができる。
<Electromagnetic wave shielding film>
As shown in FIG. 2, the electromagnetic
絶縁性樹脂組成物としては、例えば、熱可塑性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、活性エネルギー線硬化性組成物等を用いることができる。上記熱可塑性樹脂組成物としては、特に限定されないが、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物等を用いることができる。また、上記熱硬化性樹脂組成物としては、特に限定されないが、フェノール系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ウレタン系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、アルキッド系樹脂組成物等を用いることができる。また、上記活性エネルギー線硬化性組成物としては、特に限定されないが、例えば、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物等を用いることができる。 As the insulating resin composition, for example, a thermoplastic resin composition, a thermosetting resin composition, an active energy ray curable composition, or the like can be used. The thermoplastic resin composition is not particularly limited, but polyamide resin, polyimide resin, acrylic resin, polyester resin, urethane resin, polycarbonate resin, polyolefin resin, styrene resin composition, vinyl acetate A resin composition or the like can be used. The thermosetting resin composition is not particularly limited, but a phenolic resin composition, an epoxy resin composition, a urethane resin composition, a melamine resin composition, an alkyd resin composition, or the like is used. Can do. The active energy ray-curable composition is not particularly limited, and for example, a polymerizable compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule can be used.
また、保護層13として、上述した導電性接着剤層4に使用される樹脂成分(導電性フィラーを除いたもの)を使用してもよい。また、保護層13は、材質又は硬度若しくは弾性率等の物性が異なる2層以上の積層体であってもよい。
Further, as the
また、保護層13の厚さは、特に限定されず、必要に応じて適宜設定することができるが、1μm以上(好ましくは4μm以上)、20μm以下(好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下)とすることができる。
Further, the thickness of the
また、保護層13には、必要に応じて硬化促進剤、粘着性付与剤、酸化防止剤、顔料、染料、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング剤、充填剤、難燃剤、粘度調節剤、ブロッキング防止剤等が含まれていてもよい。
Further, the
また、この電磁波シールドフィルム20は、例えば、剥離性フィルムの一方の面に保護層用の樹脂組成物をコーティングして乾燥させることにより、保護層13を形成し、次に、保護層13上に、上述の導電性接着剤組成物をコーティングして乾燥させて導電性接着剤層4を形成する方法が挙げられる。
Moreover, this electromagnetic
導電性接着剤層4及び保護層13を形成する方法としては、従来公知のコーティング方法、例えば、グラビアコート方式、キスコート方式、ダイコート方式、リップコート方式、コンマコート方式、ブレードコート方式、ロールコート方式、ナイフコート方式、スプレーコート方式、バーコート方式、スピンコート方式、ディップコート方式等を使用することができる。
As a method for forming the conductive
電磁波シールドフィルム20は、熱プレスによってプリント配線板上に接着させることができる。電磁波シールドフィルム20の導電性接着剤層4は、加熱により柔らかくなり、加圧により、プリント配線板上に設けられたグランド部に流れ込む。これによって、グランド回路と導電性接着剤とが電気的に接続され、シールド効果を高めることができる。
The electromagnetic
また、この電磁波シールドフィルム20は、例えば、図2に示すシールドプリント配線板30に用いることができる。このシールドプリント配線板30は、プリント配線板40と、電磁波シールドフィルム20とを備えている。
Moreover, this electromagnetic
プリント配線板40は、ベース基板41と、ベース基板41上に形成されたプリント回路(グランド回路)42と、ベース基板41上において、プリント回路42に隣接して設けられた絶縁性接着剤層43と、絶縁性接着剤層43を覆うように設けられた絶縁性のカバーレイ44とを有している。なお、絶縁性接着剤層43とカバーレイ44により、プリント配線板40の絶縁層が構成され、絶縁性接着剤層43とカバーレイ44には、プリント回路42の一部を露出するための開口部45が形成されている。
The printed
ベース基板41、絶縁性接着剤層43及びカバーレイ44は、特に限定されず、例えば、樹脂フィルム等とすることができる。この場合、ポリプロピレン、架橋ポリエチレン、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、又はポリフェニレンサルファイド等の樹脂により形成することができる。プリント回路42は、例えば、ベース基板41上に形成された銅配線パターン等とすることができる。
The
次に、シールドプリント配線板30の製造方法について説明する。プリント配線板40上に、電磁波シールドフィルム20を載置し、プレス機で加熱しつつ加圧する。加熱により柔らかくなった導電性接着剤層4の一部は、加圧により開口部45に流れ込む。これにより、電磁波シールドフィルム20がプリント配線板40に導電性接着剤層4を介して貼り付けられる。
Next, a method for manufacturing the shield printed
<金属層を有する電磁波シールドフィルム>
また、本発明の電磁波シールドフィルムは、金属層を有するものであってもよい。金属層を有することにより、より優れた電磁波シールド性能を得ることができる。
<Electromagnetic wave shielding film having a metal layer>
Moreover, the electromagnetic wave shielding film of the present invention may have a metal layer. By having a metal layer, more excellent electromagnetic shielding performance can be obtained.
より具体的には、例えば、図3に示すように、本発明の導電性接着剤組成物を用いた電磁波シールドフィルム21は、金属層(シールド層)14と、金属層14の第1の面側に設けられた導電性接着剤層4と、金属層14の第1の面とは反対側の第2の面側に設けられた保護層13とを備えている。
More specifically, for example, as shown in FIG. 3, the electromagnetic
金属層14を形成する金属材料としては、ニッケル、銅、銀、錫、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、及び、これらの材料の何れか、または2つ以上を含む合金などを挙げることができ、求められる電磁シールド効果及び繰り返し屈曲・摺動耐性に応じて、適宜、選択することができる。
Examples of the metal material for forming the
また、金属層14の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1μm〜8μmに設定することができる。なお、金属層14の形成方法としては、電解めっき法、無電解めっき法、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、真空蒸着法、CVD法、メタルオーガニックなどがある。また、金属層14は、金属箔や金属ナノ粒子であってもよい。
Moreover, the thickness of the
また、この電磁波シールドフィルム21は、例えば、図3に示すシールドプリント配線板31に用いることができる。このシールドプリント配線板31は、上述のプリント配線板40と、電磁波シールドフィルム21と備えている。
Moreover, this electromagnetic
次に、シールドプリント配線板31の製造方法について説明する。プリント配線板40上に、電磁波シールドフィルム21を載置し、プレス機で加熱しつつ加圧する。加熱により柔らかくなった接着剤層4の一部は、加圧により開口部45に流れ込む。これにより、電磁波シールドフィルム21がプリント配線板40に接着剤層4を介して貼り付けられるとともに、金属層14とプリント配線板40のプリント回路42とが、導電性接着剤を介して接続され、金属層14とプリント回路42とが接続される。
Next, the manufacturing method of the shield printed
<補強板を備えるシールドプリント配線板>
また、本発明の導電性接着剤組成物は、補強板を備えるシールドプリント配線板に使用できる。より具体的には、例えば、図4に示すシールドプリント配線板32に用いることができる。このシールドプリント配線板32は、プリント配線板47と、導電性接着剤層4と、導電性補強板15とを備えている。そして、プリント配線板47と導電性補強板15とが、本発明の導電性接着剤層4によって接着されるとともに、電気的に接続されている。
<Shield printed wiring board with reinforcing plate>
Moreover, the electroconductive adhesive composition of this invention can be used for a shield printed wiring board provided with a reinforcement board. More specifically, for example, it can be used for the shield printed
また、プリント配線板47においては、プリント回路42の表面の一部にめっき層(例えば、金めっき層)46が設けられ、このめっき層46が開口部45から露出する構成となっている。
In the printed
なお、上述の図2に示すシールドプリント配線板30と同様に、めっき層46を設けずに、開口部45に流れ込んだ導電性接着剤層4を介して、プリント回路42と導電性補強板15とを、直接、接続する構成としてもよい。
Similar to the shield printed
導電性補強板15は、電子部品が実装されたプリント配線板において、プリント配線板の屈曲に起因して、電子部品を実装した部位に歪みが生じ、電子部品が破損することを防止するために設けられる。この導電性補強板15としては、導電性を有する金属板等を使用することができ、例えば、ステンレス板、鉄板、銅板またはアルミ板などを用いることができる。これらの中でもステンレス板を用いることがより好ましい。ステンレス板を用いることにより、薄い板厚でも電子部品を支えるのに十分な強度を有する。
In order to prevent the conductive reinforcing
また、導電性補強板15の厚さは、特に限定はされないが、0.025〜2mmが好ましく、0.1〜0.5mmがより好ましい。導電性補強板15の厚みが、この範囲内にあれば、導電性補強板15を接着した回路基板を、小型機器に無理なく内蔵でき、また、実装された電子部品を支えるのに十分な強度を有する。また、導電性補強板15の表面には、NiやAu等の金属層がめっき等によって形成されていてもよい。また、導電性補強板15の表面は、サンドブラストやエッチング等によって凹凸形状が付与されていてもよい。
Moreover, although the thickness of the
なお、ここでいう電子部品としては、コネクタやICの他、抵抗器、コンデンサー等のチップ部品などを挙げることができる。 In addition, as an electronic component here, chip components, such as a resistor and a capacitor | condenser, can be mentioned besides a connector and IC.
次に、シールドプリント配線板32の製造方法について説明する。まず、導電性補強板15上に導電性接着剤層4となる導電性接着フィルムを載置し、プレス機で加熱しつつ加圧することにより、補強板付き導電性接着フィルムを作製する。次に、プリント配線板47上に、補強板付き導電性接着フィルムを載置し、プレス機で加熱しつつ加圧する。加熱により柔らかくなった接着剤層4の一部は、加圧により開口部45に流れ込む。これにより、導電性補強板15がプリント配線板47に接着剤層4を介して貼り付けられるとともに、導電性補強板15とプリント配線板47のプリント回路42とが、導電性接着剤を介して接続され、導電性補強板15とプリント回路42とが導通状態となる。従って、導電性補強板15による電磁波遮蔽能を得ることができる。
Next, a method for manufacturing the shield printed
なお、本発明の導電性接着剤組成物により形成された導電性接着フィルムを貼着することのできる被着体としては、例えば、繰り返し屈曲を受けるフレキシブル配線板を代表例として挙げることができるが、リジッドプリント配線板にも適用できることは言うまでもない。さらに、片面シールドの配線板に限らず、両面シールドの配線板にも適用できる。 In addition, as a to-be-adhered body which can stick the electroconductive adhesive film formed with the electroconductive adhesive composition of this invention, the flexible wiring board which receives a bending repeatedly can be mentioned as a representative example, for example. Needless to say, the present invention can also be applied to rigid printed wiring boards. Furthermore, the present invention can be applied not only to a single-side shielded wiring board but also to a double-sided shielded wiring board.
以下に、本発明を実施例に基づいて説明する。なお、本発明は、これらの実施例に限定されるものではなく、これらの実施例を本発明の趣旨に基づいて変形、変更することが可能であり、それらを発明の範囲から除外するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described based on examples. In addition, this invention is not limited to these Examples, These Examples can be changed and changed based on the meaning of this invention, and they are not excluded from the scope of the invention. Absent.
(実施例1〜3、比較例1〜3)
<導電性接着剤組成物の作製>
表1に示す組成(質量%)を有する実施例1〜3及び比較例1〜5の導電性接着剤組成物を、下記の製造方法により製造した。
(Examples 1-3, Comparative Examples 1-3)
<Preparation of conductive adhesive composition>
The conductive adhesive compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 having the composition (% by mass) shown in Table 1 were produced by the following production method.
表1に示す、樹脂組成物を構成する以下の各材料に、導電性フィラーである銀コート銅粉と無機粒子である球状シリカ粒子とを配合し、ペースト状の導電性接着剤組成物を作製した。 The following materials constituting the resin composition shown in Table 1 are mixed with silver-coated copper powder that is a conductive filler and spherical silica particles that are inorganic particles to produce a paste-like conductive adhesive composition. did.
熱可塑性樹脂:150℃における複素粘度が8.2×103Pa・sであり、末端が無水カルボキシル基であるポリアミド樹脂
熱硬化性樹脂:グリシジルアミン系エポキシ樹脂(三菱化学製、商品名:jER604)
シランカップリング剤:信越シリコーン製、商品名:KBM−602
シアネート系硬化剤:ロンザジャパン製、商品名:PT−30
イミダゾール系硬化剤:四国化成製、商品名:2MZ−H
Thermoplastic resin: Polyamide resin having a complex viscosity at 150 ° C. of 8.2 × 10 3 Pa · s and a terminal being an anhydrous carboxyl group Thermosetting resin: Glycidylamine epoxy resin (trade name: jER604, manufactured by Mitsubishi Chemical) )
Silane coupling agent: Shin-Etsu Silicone, trade name: KBM-602
Cyanate-based curing agent: Lonza Japan, trade name: PT-30
Imidazole-based curing agent: Shikoku Chemicals, trade name: 2MZ-H
<無機粒子の累積頻度の測定>
また、実施例1〜3及び比較例1〜5の導電性接着剤組成物に含有される無機粒子の累積頻度を測定した。より具体的には、レーザー回折式粒度分布測定装置(Microtrac(株)製、商品名:MICROTRAC S3500)を使用して、溶媒として純水(屈折率=1.33)、無機粒子の屈折率=1.51とし、体積分布モードで測定した。以上の結果を表1に示す。
<Measurement of cumulative frequency of inorganic particles>
Moreover, the cumulative frequency of the inorganic particles contained in the conductive adhesive compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 was measured. More specifically, using a laser diffraction particle size distribution analyzer (trade name: MICROTRAC S3500, manufactured by Microtrac Co., Ltd.), pure water (refractive index = 1.33) as a solvent, refractive index of inorganic particles = 1.51 was measured in the volume distribution mode. The results are shown in Table 1.
<電磁波シールドフィルムの製造>
次に、上述の導電性接着剤組成物を使用して、電磁波シールドフィルムを作製した。より具体的には、支持基材として、厚さが60μmで、表面に離型処理を施したPETフィルムを用いた。次に、支持基材の上に、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂(三菱化学(株)製、jER1256)及びメチルエチルケトンからなる保護層用組成物(固形分量30質量%)を塗布し、加熱乾燥することにより、5μmの厚みを有する保護層付き支持基材を作製した。
<Manufacture of electromagnetic shielding film>
Next, an electromagnetic wave shielding film was produced using the above-mentioned conductive adhesive composition. More specifically, a PET film having a thickness of 60 μm and a release treatment applied to the surface was used as the support substrate. Next, a protective layer composition (
次に、保護層の表面にシールド層を形成した。より具体的には、厚み2μmの圧延銅箔を保護層に張り合わせた。 Next, a shield layer was formed on the surface of the protective layer. More specifically, a rolled copper foil having a thickness of 2 μm was bonded to the protective layer.
次いで、シールド層の表面に、実施例1〜3及び比較例1〜5において作製した導電性接着剤組成物を塗布して、5μmの厚みを有する接着剤層を形成し、電磁波シールドフィルムを作製した。 Subsequently, the conductive adhesive composition produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 was applied to the surface of the shield layer to form an adhesive layer having a thickness of 5 μm, and an electromagnetic shielding film was produced. did.
<シールドプリント配線板の作製>
次に、作製した電磁波シールドフィルムとプリント配線板とを、電磁波シールドフィルムの接着剤層とプリント配線板とが対向するように重ね合わせ、プレス機を用いて170℃、3.0MPaの条件で1分間加熱加圧した後、同じ温度および圧力で3分間加熱加圧し、支持基材を保護層から剥離して、シールドプリント配線板を作製した。
<Preparation of shield printed wiring board>
Next, the produced electromagnetic wave shielding film and the printed wiring board are overlapped so that the adhesive layer of the electromagnetic wave shielding film and the printed wiring board are opposed to each other, and 1 is used at 170 ° C. and 3.0 MPa using a press machine. After heat-pressing for 5 minutes, heat-pressing was performed for 3 minutes at the same temperature and pressure, and the supporting base material was peeled from the protective layer to produce a shield printed wiring board.
プリント配線板は、互いに間隔をおいて平行に延びる2本の銅箔パターンと、銅箔パターンを覆うとともに、ポリイミドからなる絶縁層(厚み:25μm)を有しており、絶縁層には、各銅箔パターンを露出する開口部(直径:0.8mm)を設けた。また、この開口部が電磁波シールドフィルムにより完全に覆われるように、電磁波シールドフィルムの接着剤層とプリント配線板とを重ね合わせた。 The printed wiring board has two copper foil patterns extending parallel to each other at an interval, and has an insulating layer (thickness: 25 μm) made of polyimide, covering the copper foil pattern. An opening (diameter: 0.8 mm) for exposing the copper foil pattern was provided. Moreover, the adhesive layer of the electromagnetic wave shielding film and the printed wiring board were overlapped so that the opening was completely covered with the electromagnetic wave shielding film.
なお、銅箔パターンの端部が絶縁層で覆われておらず、銅箔パターンの端部が露出したプリント配線板を使用した。 In addition, the printed wiring board which the edge part of the copper foil pattern was not covered with the insulating layer and the edge part of the copper foil pattern was exposed was used.
<耐リフロー性評価>
次に、作製したシールドプリント配線板の耐リフロー性の評価を行った。リフローの条件としては、鉛フリーハンダを想定し、シールドプリント配線板におけるシールドフィルムが265℃に1秒間曝されるような温度プロファイルを設定した。
<Reflow resistance evaluation>
Next, the reflow resistance of the produced shielded printed wiring board was evaluated. As a reflow condition, lead-free solder was assumed, and a temperature profile was set such that the shield film on the shield printed wiring board was exposed to 265 ° C. for 1 second.
そして、作製した実施例1〜3、及び比較例1〜5の各シールドプリント配線板を、上記プロファイルの温度条件下で、1〜5回曝した後、図6に示すように、プリント配線板50に形成された2本の銅箔パターン51間の電気抵抗値を抵抗計52で測定し、銅箔パターン51と電磁波シールドフィルム53との接続性を評価した。
And after exposing each shield printed wiring board of produced Examples 1-3 and Comparative Examples 1-5 1-5 times under the temperature conditions of the said profile, as shown in FIG. The electrical resistance value between the two
そして、上記リフロー工程を1回、2回、3回、及び5回行い、各リフロー後の抵抗値の変化を評価した。以上の結果を表2に示す。 And the said reflow process was performed once, twice, three times, and five times, and the change of the resistance value after each reflow was evaluated. The results are shown in Table 2.
表2に示すように、5μmの粒子径における累積頻度が40%以下(または、10μmの粒子径における累積頻度が80%以下)の無機粒子を含有する導電性接着剤組成物を使用した実施例1〜3は、比較例1〜3に比し、リフロー工程後の接続抵抗値の増大が効果的に抑制されており、リフロー後においても、優れた導電性を確保できると言える。 As shown in Table 2, an example using a conductive adhesive composition containing inorganic particles having an accumulation frequency of 40% or less at a particle size of 5 μm (or an accumulation frequency of 80% or less at a particle size of 10 μm). In comparison with Comparative Examples 1 to 3, increase in connection resistance value after the reflow process is effectively suppressed, and it can be said that 1 to 3 can ensure excellent conductivity even after reflow.
以上説明したように、本発明は、プリント配線板に使用される導電性接着剤組成物に適している。 As described above, the present invention is suitable for a conductive adhesive composition used for a printed wiring board.
1 導電性接着フィルム
2 剥離性基材
4 導電性接着剤層
13 保護層
14 金属層
15 導電性補強板
20 電磁波シールドフィルム
21 電磁波シールドフィルム
30 シールドプリント配線板
31 シールドプリント配線板
32 シールドプリント配線板
40 プリント配線板
41 ベース基板
42 プリント回路
43 絶縁性接着剤層
44 カバーレイ
45 開口部
46 めっき層
47 プリント配線板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive adhesive film 2
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される5μmの粒子径における累積頻度が40%以下であり、
前記導電性接着剤組成物全体に対する前記無機粒子の配合量が10〜30質量%であることを特徴とする導電性接着剤組成物。 A conductive adhesive composition containing at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, a conductive filler, and inorganic particles,
The inorganic particles have a cumulative frequency of 40% or less at a particle size of 5 μm measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer,
The conductive adhesive composition, wherein a blending amount of the inorganic particles with respect to the entire conductive adhesive composition is 10 to 30% by mass.
無機粒子は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される10μmの粒子径における累積頻度が80%以下であり、
前記導電性接着剤組成物全体に対する前記無機粒子の配合量が10〜30質量%であることを特徴とする導電性接着剤組成物。 A conductive adhesive composition containing at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin, a conductive filler, and inorganic particles,
The inorganic particles have a cumulative frequency of 80% or less at a particle diameter of 10 μm measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer,
The conductive adhesive composition, wherein a blending amount of the inorganic particles with respect to the entire conductive adhesive composition is 10 to 30% by mass.
前記ベース基板と前記導電性補強板とが、前記導電性接着剤層によって電気的に接続されていることを特徴とするプリント配線板。 A base substrate on which a printed circuit is formed, a conductive adhesive layer made of the conductive adhesive composition according to claim 1 or 2, and a conductive reinforcing plate.
The printed wiring board, wherein the base substrate and the conductive reinforcing plate are electrically connected by the conductive adhesive layer.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016177044A JP2018039959A (en) | 2016-09-09 | 2016-09-09 | Conductive adhesive composition |
| KR1020197004703A KR20190046796A (en) | 2016-09-09 | 2017-09-08 | Conductive adhesive composition |
| PCT/JP2017/032554 WO2018047957A1 (en) | 2016-09-09 | 2017-09-08 | Conductive adhesive composition |
| CN201780051113.6A CN109563382A (en) | 2016-09-09 | 2017-09-08 | Electrically conductive adhesive composition |
| TW106130874A TWI699787B (en) | 2016-09-09 | 2017-09-08 | Conductive adhesive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016177044A JP2018039959A (en) | 2016-09-09 | 2016-09-09 | Conductive adhesive composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018039959A true JP2018039959A (en) | 2018-03-15 |
Family
ID=61562855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016177044A Pending JP2018039959A (en) | 2016-09-09 | 2016-09-09 | Conductive adhesive composition |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2018039959A (en) |
| KR (1) | KR20190046796A (en) |
| CN (1) | CN109563382A (en) |
| TW (1) | TWI699787B (en) |
| WO (1) | WO2018047957A1 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020116409A1 (en) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | タツタ電線株式会社 | Ground member and shielded printed wiring board |
| JPWO2021167047A1 (en) * | 2020-02-19 | 2021-08-26 | ||
| DE102020204215A1 (en) | 2020-04-01 | 2021-10-07 | Rampf Holding GmbH + Co. KG | Conductive polyurethane |
| JP7747156B1 (en) * | 2024-12-17 | 2025-10-01 | artience株式会社 | Sheet-shaped inductor, flexible printed wiring board, module, and method of using laminate |
| WO2025206251A1 (en) * | 2024-03-29 | 2025-10-02 | タツタ電線株式会社 | Electromagnetic wave shield film |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113811583A (en) * | 2019-05-20 | 2021-12-17 | 拓自达电线株式会社 | Conductive bonding sheet |
| JP6904464B2 (en) * | 2019-06-12 | 2021-07-14 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Printed wiring board |
| JP6956926B1 (en) * | 2020-01-07 | 2021-11-02 | タツタ電線株式会社 | Electromagnetic wave shield film |
| KR20230075473A (en) * | 2020-09-28 | 2023-05-31 | 가부시끼가이샤 레조낙 | Adhesive film for circuit connection, inorganic filler-containing composition, circuit connection structure, and manufacturing method thereof |
| CN112852328A (en) * | 2021-01-11 | 2021-05-28 | 常州威斯双联科技有限公司 | Superconducting film and preparation process thereof |
| TWI862884B (en) * | 2021-02-24 | 2024-11-21 | 日商拓自達電線股份有限公司 | Electromagnetic wave shielding film |
| TWI832229B (en) * | 2021-11-19 | 2024-02-11 | 達發科技股份有限公司 | Semiconductor package |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07292048A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-07 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Curable resin composition |
| JPH1021746A (en) * | 1996-07-02 | 1998-01-23 | Toshiba Chem Corp | Anisotropic conductive film |
| JP2000123639A (en) * | 1998-10-12 | 2000-04-28 | Sony Chem Corp | Light shielding, anisotropic, conductive adhesive film and liquid crystal display element |
| WO2001072921A1 (en) * | 2000-03-28 | 2001-10-04 | Fujitsu Limited | Adhesive composition |
| JP2013077557A (en) * | 2011-09-13 | 2013-04-25 | Sekisui Chem Co Ltd | Anisotropic conductive material and connection structure |
| WO2014046053A1 (en) * | 2012-09-21 | 2014-03-27 | デクセリアルズ株式会社 | Anisotropic conductive film, connection method, and connected body |
| JP2016102204A (en) * | 2014-11-12 | 2016-06-02 | デクセリアルズ株式会社 | Thermosetting adhesive composition |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1189173A (en) | 1981-11-20 | 1985-06-18 | Alice W.L. Lin | Elements and methods of preparing elements containing low-resistance contact electrodes for cdte semiconductor materials |
| JP4031545B2 (en) * | 1997-01-24 | 2008-01-09 | 富士通株式会社 | adhesive |
| KR20090027845A (en) * | 2007-09-13 | 2009-03-18 | 광운대학교 산학협력단 | Method for manufacturing a non-conductive adhesive for chip lamination comprising NANo fumed iiiia |
| JP6255816B2 (en) | 2013-09-09 | 2018-01-10 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Electromagnetic shielding sheet and printed wiring board |
| WO2016082138A1 (en) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | Dow Global Technologies Llc | Composition for electrically insulating polymer-inorganic hybrid material with high thermal conductivity |
-
2016
- 2016-09-09 JP JP2016177044A patent/JP2018039959A/en active Pending
-
2017
- 2017-09-08 WO PCT/JP2017/032554 patent/WO2018047957A1/en not_active Ceased
- 2017-09-08 CN CN201780051113.6A patent/CN109563382A/en active Pending
- 2017-09-08 KR KR1020197004703A patent/KR20190046796A/en not_active Ceased
- 2017-09-08 TW TW106130874A patent/TWI699787B/en active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07292048A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-07 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Curable resin composition |
| JPH1021746A (en) * | 1996-07-02 | 1998-01-23 | Toshiba Chem Corp | Anisotropic conductive film |
| JP2000123639A (en) * | 1998-10-12 | 2000-04-28 | Sony Chem Corp | Light shielding, anisotropic, conductive adhesive film and liquid crystal display element |
| WO2001072921A1 (en) * | 2000-03-28 | 2001-10-04 | Fujitsu Limited | Adhesive composition |
| JP2013077557A (en) * | 2011-09-13 | 2013-04-25 | Sekisui Chem Co Ltd | Anisotropic conductive material and connection structure |
| WO2014046053A1 (en) * | 2012-09-21 | 2014-03-27 | デクセリアルズ株式会社 | Anisotropic conductive film, connection method, and connected body |
| JP2016102204A (en) * | 2014-11-12 | 2016-06-02 | デクセリアルズ株式会社 | Thermosetting adhesive composition |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113170603B (en) * | 2018-12-03 | 2025-03-28 | 拓自达电线株式会社 | Grounding components and shielded printed circuit boards |
| KR102640186B1 (en) * | 2018-12-03 | 2024-02-22 | 타츠타 전선 주식회사 | Ground member and shield printed wiring board |
| KR20210095876A (en) * | 2018-12-03 | 2021-08-03 | 타츠타 전선 주식회사 | Ground member and shielding printed wiring board |
| WO2020116409A1 (en) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | タツタ電線株式会社 | Ground member and shielded printed wiring board |
| JPWO2020116409A1 (en) * | 2018-12-03 | 2021-10-14 | タツタ電線株式会社 | Ground member and shield printed wiring board |
| US11653439B2 (en) | 2018-12-03 | 2023-05-16 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. | Ground member and shielded printed wiring board |
| CN113170603A (en) * | 2018-12-03 | 2021-07-23 | 拓自达电线株式会社 | Grounding member and shielded printed circuit board |
| JP7282802B2 (en) | 2018-12-03 | 2023-05-29 | タツタ電線株式会社 | Ground member and shield printed wiring board |
| WO2021167047A1 (en) * | 2020-02-19 | 2021-08-26 | タツタ電線株式会社 | Electroconductive adhesive, electromagnetic shielding film and electroconductive bonding film |
| JP7470179B2 (en) | 2020-02-19 | 2024-04-17 | タツタ電線株式会社 | Conductive adhesives, electromagnetic shielding films and conductive bonding films |
| JPWO2021167047A1 (en) * | 2020-02-19 | 2021-08-26 | ||
| KR102887121B1 (en) * | 2020-02-19 | 2025-11-17 | 타츠타 전선 주식회사 | Conductive adhesives, electromagnetic shielding films and conductive bonding films |
| DE102020204215A1 (en) | 2020-04-01 | 2021-10-07 | Rampf Holding GmbH + Co. KG | Conductive polyurethane |
| WO2021198215A1 (en) | 2020-04-01 | 2021-10-07 | Rampf Holding Gmbh & Co. Kg | Conductive polyurethane |
| WO2025206251A1 (en) * | 2024-03-29 | 2025-10-02 | タツタ電線株式会社 | Electromagnetic wave shield film |
| JP7747156B1 (en) * | 2024-12-17 | 2025-10-01 | artience株式会社 | Sheet-shaped inductor, flexible printed wiring board, module, and method of using laminate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201812795A (en) | 2018-04-01 |
| CN109563382A (en) | 2019-04-02 |
| TWI699787B (en) | 2020-07-21 |
| WO2018047957A1 (en) | 2018-03-15 |
| KR20190046796A (en) | 2019-05-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2018039959A (en) | Conductive adhesive composition | |
| KR102345942B1 (en) | adhesive composition | |
| KR102321279B1 (en) | conductive adhesive | |
| JP6594745B2 (en) | Thermosetting adhesive composition | |
| JP6748784B2 (en) | Conductive adhesive | |
| TWI731271B (en) | Electromagnetic wave shielding film and shielding printed wiring board | |
| JP2019065069A (en) | Conductive adhesive sheet | |
| KR102823854B1 (en) | Challenging Adhesive | |
| JP2022021641A (en) | Electromagnetic wave shield film and electromagnetic wave shield film-attached printed wiring board | |
| KR102443614B1 (en) | Conductive adhesive film and electromagnetic wave shielding film using same | |
| KR102883193B1 (en) | conductive adhesive layer | |
| JP7496949B1 (en) | Conductive adhesive layer | |
| KR20200080337A (en) | Connection material | |
| HK40002728A (en) | Conductive adhesive composition | |
| WO2025205404A1 (en) | Heat-conducting electroconductive adhesive layer | |
| KR20240168301A (en) | Thermally conductive layer | |
| HK40009870B (en) | Conductive bonding film and electromagnetic wave shielding film using the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190703 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200818 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200915 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210302 |