JP2018037390A - 表示装置とその検査方法 - Google Patents

Abstract

【課題】封止膜を構成する有機膜のオーバーフローによる不良発生を検査することができる表示装置とその検査方法を提供する。【解決手段】本発明に係る表示装置は、画素が配置された表示領域と表示領域の外郭に形成された複数のパッドを含むパッド領域を含む基板、表示領域を覆う少なくとも一つの無機膜と有機膜を含む封止膜、表示領域とパッド領域との間に配置されたダム、ダムとパッド領域との間に配置され、基板上に配置された他の導電性ラインまたは電極と電気的に接続されていない導電性検査ラインを備える。【選択図】図７

Description

本発明は、表示装置とその検査方法に関するものである。

情報化社会が発展するにつれて映像を表示するための表示装置への要望が様々な形で高まっている。それにより、最近では、液晶表示装置（LCD：Liquid Crystal Display）、プラズマ表示装置（PDP：Plasma Display Panel）、有機発光表示装置（OLED：Organic Light Emitting Display）などの様々な表示装置が活用されている。

表示装置のうち、有機発光表示装置は、自己発光型であり、液晶表示装置（LCD）に比べて視野角、コントラスト比などに優れており、別個のバックライトを必要としないため軽量薄型化が可能で、消費電力において有利な利点がある。また、有機発光表示装置は、直流低電圧駆動が可能であり、応答速度が速く、特に製造コストが安価な長所がある。

有機発光表示装置は、アノード電極、アノード電極を区画するバンク、およびアノード電極上に形成される正孔輸送層（hole transporting layer）、有機発光層（organic light emitting layer）、電子輸送層（electron transporting layer）、および電子輸送層上に形成されるカソード電極を含む。ここで、アノード電極に高電位の電圧が印加され、カソード電極に低電位電圧が印加されると正孔と電子がそれぞれ正孔輸送層と電子輸送層を通じて有機発光層に移動して、有機発光層で互いに結合して発光することになる。

有機発光素子は、外部の水分、酸素のような外的要因によって容易に劣化が起こるという欠点がある。これを防止するために、有機発光表示装置は、外部の水分、酸素が有機発光素子に浸透しないように封止膜を形成する。

図１は、従来の表示装置を概略的に示した断面図である。

図１を参照すると、従来の表示装置は、有機発光素子２０が形成された基板１０上に封止膜３０を形成する。ここで、封止膜３０は、第１無機膜３０ａ、有機膜３０ｂ及び第２無機膜３０ｃを含むことにより、有機発光層と電極の酸素または水分が浸透することを防止する。

有機膜３０ｂは、第１無機膜３０ａを覆うように第１無機膜３０ａ上に形成されて異物（particles）が第１無機膜３０ａを突き抜けて、有機発光層と電極に投入されることを防止する。

このような有機膜３０ｂは、一般的に、ポリマー（polymer）で構成され、液状の状態で基板１０上に塗布した後、硬化工程を経て形成される。有機膜３０ｂは、硬化工程まで流動性を有しているので封止膜３０を形成しようとする領域の外に溢れる場合が発生し得る。

有機膜３０ｂが外郭に形成されたパッド部を侵すようになれば、有機膜３０ｂによって電気的接触がなされなくなって駆動不良または点灯検査不良が発生し得るという問題がある。

一方、有機膜３０ｂは、被覆性能に優れている反面、バリア性能が低いので、第２無機膜３０ｃによって封止しなければならない。しかし、有機膜３０ｂが封止膜３０を形成しようとする領域の外に溢れ出る場合、有機膜３０ｂは、図２に示したように、第２無機膜３０ｃによって封止されず、露出有機膜３０ｂを通じて水分、酸素などが浸透することになる。これにより、有機発光素子２０の劣化が発生するという別の問題がある。

上述したように、有機膜３０ｂが封止膜３０を形成しようとする領域の外に溢れ出る場合、いくつかの問題が発生するが、有機膜３０ｂの材料であるポリマーは透明なので肉眼で不良を検出することができないというまた別の問題がある。

本発明は、封止膜を構成する有機膜のオーバーフローによる不良発生を検査することができる表示装置とその検査方法を提供する。

本発明に係る表示装置は、画素が配置された表示領域および表示領域の外郭に形成された複数のパッドを含むパッド領域を含む基板、表示領域を覆い少なくとも一つの無機膜と有機膜を含む封止膜、表示領域とパッド領域との間に配置されたダム、ダムとパッド領域との間に配置され、基板上に配置された他の導電性ラインまたは電極と電気的に接続されない導電性検査ラインを備える。

本発明に係る表示装置の検査方法は、基板上の表示領域に画素を形成し、パッド領域に複数のパッドを形成し、表示領域とパッド領域との間にダムを形成し、ダムとパッド領域の間に導電性検査ラインを形成する工程、表示領域を覆う第１無機膜を形成する工程、第１無機膜を覆う有機膜を形成する工程、導電性検査ラインの少なくとも二つの点に電気信号を印加して、2点間の電流または抵抗を測定する工程、および2点間の電流または抵抗がしきい値以下である場合、不良と判断する工程を含む。

本発明によれば、表示領域とパッド領域との間にダムを形成して有機膜の流れを遮断することにより、有機膜がパッド領域を侵したり、外部に露出することを防止することができる。

また、本発明は、ダムとパッド領域との間に形成された導電性検査ラインを用いて有機膜がオーバーフローしたことを検出することができ、これにより、有機膜が無機膜によって完全に覆われないで露出することによる有機発光素子の劣化を防止することができる。

また、本発明は、不良検出の精度を高めると同時に、製品の信頼性を向上させることができる。

また、本発明は、ダムを平坦化膜またはバンクと同一の物質で形成し、導電性検査ラインをアノード電極またはカソード電極と同一の物質で形成することにより、別の製造工程を追加する必要がない。

また、本発明は、第１〜第４導電性検査ラインのそれぞれに対して同時に検査を行うことにより、検査時間を短縮することができる。

本発明で得られる効果は、以上で言及した効果に制限されず、言及していない他の効果は、以下の記載から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるだろう。

従来の表示装置を概略的に示した断面図である。 オーバーフローした有機膜を示した断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置を示した斜視図である。 図３の第１基板、ソースドライブIC、軟性フィルム、回路基板、およびタイミング制御部を示した平面図である。 図４の第１基板を概略的に示した平面図である。 図５の表示領域の画素の一例を示した断面図である。 図５のダムと導電性検査ラインの一例を示した断面図である。 図５のダムと導電性検査ラインの他の例を示した断面図である。 図４の第１基板の他の例を示した平面図である。 図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。 図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。 図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。 図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。 導電性検査ラインを用いて、不良かどうかを検査する方法の一例を説明するための図である。 導電性検査ラインを用いて、不良かどうかを検査する方法の他の例を説明するための図である。

本発明の例示的な実施例を詳細に説明する、添付の図に示されている参照番号は、図全体を通じて可能な限り、同じ参照番号は同一または同様の部分を指すために使用する。

本発明の利点および特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付の図とともに詳細に後述されている実施例を参照すると明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示される実施例に限定されるものではなく、異なる多様な形態で具現されるものであり、単に本実施例は、本発明の開示を完全にして本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されているものであり、本発明は、請求項の範疇によって定義される。

本発明の実施例を説明するために図で開示された形状、大きさ、比率、角度、数などは例示的なものなので、本発明は、図示された事項に限定されるものではない。明細書全体にわたって同一参照符号は同一の構成要素を指す。また、本発明を説明するに当たって、関連する公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要に曖昧にすると判断された場合、その詳細な説明は省略する。

本明細書で言及した「含む」、「有する」、「なされる」などが用いられている場合は、「〜のみ」が使用されていない限り、他の部分が追加され得る。構成要素を単数で表現した場合、特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む場合を含む。

構成要素を解釈するに当たり、別途の明示的な記載がなくても誤差の範囲を含むものと解釈する。

位置関係の説明の場合、例えば、「〜上に」、「〜上部に」、「〜下部に」、「〜の横に」など2つの部分の位置関係が説明されている場合、「すぐ」または「直接」が使用されていない限り、二つの部分の間に1つ以上の他の部分が位置することもできる。

時間関係に対する説明の場合、例えば、「〜後に」、「〜に続いて」、「〜次に」、「〜前に」など、時間的前後関係が説明されている場合、「すぐ」または「直接」が使用されていない以上、連続していない場合も含むことができる。

第１、第２など、多様な構成要素を記述するために使用されるが、これらの構成要素はこれらの用語によって制限されない。これらの用語は、ただ一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるものである。したがって、以下で言及される第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であり得る。

「X軸方向」、「Y軸方向」および「Z軸方向」とは、互いの関係が垂直方向に成り立った幾何学的な関係だけに解釈してはならず、本発明の構成は、機能的に作用し得る範囲内より広い方向性を有することを意味し得る。

「少なくとも一つ」の用語は、一つ以上の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むことができると理解されなければならない。例えば、「第１項目、第２項目及び第３項目の中から少なくとも一つ」の意味は、第１項目、第２項目または第３項目の各々のみならず、第１項目、第２項目及び第３項目の中から2以上から提示し得るすべての項目の組み合わせを意味し得る。

本発明のいくつかの実施例のそれぞれの特徴が部分的に、または全体的に互いに結合または組み合わせ可能で、技術的に多様な連動および駆動が可能であり、各実施例は、互いに独立して実施可能であり得、連関関連によって一緒に実施することもできる。

以下、図を参照して本発明の好ましい実施例に対して詳細に説明することにする。

図３は、本発明の一実施例に係る表示装置を示した斜視図である。図４は、図３の第１基板、ソースドライブIC、軟性フィルム、回路基板、およびタイミング制御部を示した平面図である。以下では、本発明の一実施例に係る表示装置が有機発光表示装置（Organic Light Emitting Display）であることを中心に説明したが、これに限定されない。つまり、本発明の一実施例に係る表示装置は、有機発光表示装置だけでなく、液晶表示装置（Liquid Crystal Display）、電界放出表示装置（Field Emission Display）、および電気泳動表示装置（Electrophoresis display）のいずれか一つで具現することもできる。

図３及び図４を参照すると、本発明の一実施例に係る表示装置１００は、表示パネル１１０、ソースドライブ集積回路（integrated circuit,以下「IC」と称する）１４０、軟性フィルム１５０、回路基板１６０、およびタイミング制御部１７０を含む。

表示パネル１１０は、第１基板１１１と第２基板１１２を含む。第２基板１１２は、封止基板であり得る。第１基板１１１は、プラスチックフィルム（plastic film）またはガラス基板（glass substrate）であり得る。第２基板１１２は、プラスチックフィルム、ガラス基板、または封止フィルムであり得る。

第２基板１１２と向き合う第１基板１１１の一面上にゲートライン、データライン、および画素が形成される。画素は、ゲートラインとデータラインの交差構造によって定義される領域に設けられる。

画素のそれぞれは、薄膜トランジスタと、第１電極、有機発光層、及び第２電極を備える有機発光素子を含むことができる。画素のそれぞれは、薄膜トランジスタを用いて、ゲートラインからゲート信号が入力される場合は、データラインのデータ電圧に応じて、有機発光素子に所定の電流を供給する。これにより、画素それぞれの有機発光素子は、所定の電流によって所定の明るさで発光することができる。画素のそれぞれの構造に対する説明は、図５及び図６をあわせて後述する。

表示パネル１１０は、図４に示したように画素が形成されて画像を表示する表示領域（DA）と画像を表示しない非表示領域（NDA）に区分することができる。表示領域（DA）には、ゲートライン、データライン、および画素が形成され得る。非表示領域（NDA）には、ゲート駆動部とパッドが形成され得る。

ゲート駆動部は、タイミング制御部１７０から入力するゲート制御信号に応じてゲートラインにゲート信号を供給する。ゲート駆動部は、表示パネル１１０の表示領域（DA）の一側または両側の外側の非表示領域（DA）にGIP（gate driver in panel）方式で形成することができる。または、ゲート駆動部は、駆動チップに製作して軟性フィルムに実装され、TAB（tape automated bonding）方式で表示パネル１１０の表示領域（DA）の一側または両側の外側の非表示領域（DA）に付着することもできる。

ソースドライブIC１４０には、タイミング制御部１７０からデジタルビデオデータとソース制御信号が入力する。ソースドライブIC１４０は、ソース制御信号に応じて、デジタルビデオデータをアナログデータ電圧に変換してデータラインに供給する。ソースドライブIC１４０が駆動チップに製作されている場合、COF（chip on film）またはCOP（chip on plastic）方式で軟性フィルム１５０に実装することができる。

表示パネル１１０の非表示領域（NDA）には、データパッドのようなパッドが形成され得る。軟性フィルム１５０には、パッドとソースドライブIC１４０を接続する配線、パッドと回路基板１６０の配線を接続する配線が形成され得る。軟性フィルム１５０は、異方性導電フィルム（antisotropic conducting film）を用いて、パッド上に付着され、これにより、パッドと軟性フィルム１５０の配線が接続することができる。

回路基板１６０は、軟性フィルム１５０に付着することができる。回路基板１６０は、駆動チップで具現された多数の回路が実装され得る。例えば、回路基板１６０には、タイミング制御部１７０が実装され得る。回路基板１６０は、プリント回路基板（printed circuit board）またはフレキシブルプリント回路基板（flexible printed circuit board）であり得る。

タイミング制御部１７０は、回路基板１６０のケーブルを通じて外部のシステムボードからデジタルビデオデータとタイミング信号が力する。タイミング制御部１７０は、タイミング信号に基づいて、ゲート駆動部の動作タイミングを制御するためのゲート制御信号とソースドライブIC１４０を制御するためのソース制御信号を発生する。タイミング制御部１７０は、ゲート制御信号をゲート駆動部に供給して、ソース制御信号をソースドライブIC１４０に供給する。

図５は、図４の第１基板の一例を示した平面図である。

図５を参照すると、第１基板１１１は、表示領域（DA）と非表示領域（NDA）に区分され、非表示領域（NDA）には、パッドが形成されるパッド領域（PA）、ダム１２０および導電性検査ライン１３０が形成され得る。

表示領域（DA）には、画像を表示する画素（P）が形成される。画素のそれぞれは、薄膜トランジスタと、第１電極、有機発光層、及び第２電極を備える有機発光素子を含むことができる。画素のそれぞれは、薄膜トランジスタを用いて、ゲートラインからゲート信号が入力される場合は、データラインのデータ電圧に応じて、有機発光素子に所定の電流を供給する。これにより、画素それぞれの有機発光素子は、所定の電流によって所定の明るさで発光することができる。

以下では、図６を参照して、本発明の実施例に係る表示領域（DA）の画素（P）の構造を詳細に説明する。

図６は、図５の表示領域の画素の一例を示した断面図である。

図６を参照すると、第２基板１１２と向き合う第１基板１１１の一面上に薄膜トランジスタ２１０及びコンデンサ２２０が形成される。

透湿に脆弱な第１基板１１１を通じて浸透する水分から薄膜トランジスタ２１０を保護するために、第１基板１１１上にバッファ膜が形成され得る。

薄膜トランジスタ２１０のそれぞれは、アクティブ層２１１、ゲート電極２１２、ソース電極２１３およびドレイン電極２１４を含む。図６では、薄膜トランジスタ２１０のゲート電極２１２がアクティブ層２１１の上部に位置する上部ゲート（トップゲート,top gate）方式で形成された例を示したが、これに限定されないことに注意しなければならない。つまり、薄膜トランジスタ２１０は、ゲート電極２１２がアクティブ層２１１の下部に位置する下部ゲート（ボトムゲート、bottom gate）方式またはゲート電極２１２がアクティブ層２１１の上部と下部の両方に位置するダブルゲート（double gate）方式で形成することができる。

第１基板１１０のバッファ膜上にアクティブ層２１１が形成される。アクティブ層２１１は、シリコン系半導体物質や酸化物系半導体物質で形成することができる。第１基板１１０上には、アクティブ層２１１に入射される外部光を遮断するための遮光層が形成され得る。

アクティブ層２１１上には、ゲート絶縁膜２３０が形成され得る。ゲート絶縁膜２３０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜またはこれらの多重膜で形成することができる。

ゲート絶縁膜２３０上には、ゲート電極２１２が形成され得る。ゲート電極２１２は、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタン（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）、銅（Cu）のいずれか、またはこれらの合金からなる単一層または多重層であり得るが、これに限定されない。

ゲート電極２１２上には、層間絶縁膜２４０が形成され得る。層間絶縁膜２４０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜またはこれらの多重膜で形成することができる。

層間絶縁膜２４０上には、ソース電極２１３とドレイン電極２１４が形成され得る。ソース電極２１３とドレイン電極２１４のそれぞれは、ゲート絶縁膜２３０と層間絶縁膜２４０を貫通するコンタクトホール（CH1、CH2）を通じてアクティブ層２１１に接続することができる。ソース電極２１３とドレイン電極２１４のそれぞれは、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタン（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）、銅（Cu）のいずれか、またはこれらの合金からなる単一層または多重層であり得るが、これに限定されない。

コンデンサ２２０のそれぞれは、下部電極２２１と上部電極２２２を含む。下部電極２２１は、ゲート絶縁膜２３０上に形成され、ゲート電極２１２と同一の物質で形成することができる。上部電極２２２は、層間絶縁膜２４０上に形成され、ソース電極２２３とドレイン電極２２４と同一の物質で形成することができる。

薄膜トランジスタ２１０およびコンデンサ２２０上には、保護膜２５０が形成され得る。保護膜２５０は、絶縁膜としての役割をすることができる。保護膜２５０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜またはこれらの多重膜で形成することができる。

保護膜２５０上には、薄膜トランジスタ２１０とコンデンサ２２０による段差を平坦にするための平坦化膜２６０が形成され得る。平坦化膜２６０は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機膜で形成され得る。

平坦化膜２６０上には、有機発光素子２８０とバンク２８４が形成される。有機発光素子２８０は、第１電極２８３、有機発光層２８２、及び第２電極２８１を含む。第１電極２８３はカソード電極であり、第２電極２８１はアノード電極であり得る。第１電極２８３、有機発光層２８２および第２電極２８１が積層された領域は、発光部（EA）と定義することができる。

第２電極２８１は、平坦化膜２６０上に形成することができる。第２電極２８１は、保護膜２５０と平坦化膜２６０を貫通するコンタクトホール（CH3）を通じて薄膜トランジスタ２１０のドレイン電極２１４に接続される。第２電極２８１は、アルミニウムとチタンの積層構造（Ti/Al/Ti）、アルミニウムとITOの積層構造（ITO/Al/ITO）、APC合金、およびAPC合金とITOの積層構造（ITO/APC/ITO）のような反射率の高い金属材料で形成することができる。APC合金は、銀（Ag）、パラジウム（Pd）、および銅（Cu）の合金である。

バンク２８４は、発光部（EA）を区画するために平坦化膜２６０上で第２電極２８１の端部を覆うように形成することができる。バンク２８４は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機膜で形成することができる。

第２電極２８１とバンク２８４上には、有機発光層２８２が形成される。有機発光層２８２は、正孔輸送層（hole transporting layer）、少なくとも一つの発光層（light emitting layer）、および電子輸送層（electron transporting layer）を含むことができる。この場合、第２電極２８１と、第１電極２８３に電圧が印加されると正孔と電子がそれぞれ正孔輸送層と電子輸送層を通じて発光層に移動して、発光層で互いに結合して発光することになる。

有機発光層２８２は、白色光を発光する白色発光層からなり得る。この場合、第２電極２８１とバンク２８４を覆うように形成することができる。この場合、第２基板１１２上にカラーフィルタ（未図示）が形成され得る。

または、有機発光層２８２は、赤色光を発光する赤色発光層、緑色光を発光する緑色発光層、または青色光を発光する青色発光層からなり得る。この場合、有機発光層２８２は、第２電極２８１に対応する領域に形成され得、第２基板１１２上にはカラーフィルタが形成されないことがあり得る。

第１電極２８３は、有機発光層２８２上に形成される。有機発光表示装置が上部発光（top emission）構造で形成される場合、第１電極２８３は、光を透過させることができるITO、IZOのような透明な金属物質（TCO,Transparent Conductive Material）、またはマグネシウム（Mg）、銀（Ag）、またはマグネシウム（Mg）と銀（Ag）の合金のような半透過金属物質（Semi-transmissive Conductive Material）で形成することができる。第１電極２８３上にキャッピング層（capping layer）が形成され得る。

有機発光素子２８０上に封止膜２９０が形成される。封止膜２９０は、有機発光層２８２と、第１電極２８３に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。このため、封止膜２９０は、少なくとも一つの無機膜と少なくとも一つの有機膜を含むことができる。

例えば、封止膜２９０は、第１無機膜２９１、有機膜２９２、及び第２無機膜２９３を含むことができる。この場合、第１無機膜２９１は、第１電極２８３を覆うように形成される。有機膜２９２は、第１無機膜２９１を覆うように形成される。有機膜２９２は、異物（particles）が第１無機膜２９１を突破し、有機発光層２８２と、第１電極２８３に投入されることを防止するために十分な厚さで形成されていることが好ましい。第２無機膜２９３は、有機膜２９２を覆うように形成される。

封止膜２９０上には、第１〜第３のカラーフィルタ（未図示）とブラックマトリックス（未図示）が形成され得る。赤色発光部には赤色カラーフィルタ３２３が形成され、青色発光部には青色カラーフィルタ３２２が形成され、緑色発光部には、緑色カラーフィルタ３２１が形成され得る。

第１基板１１１の封止膜２９０と第２基板１１２のカラーフィルタ（未図示）は、接着層３３０を用して接着され、これにより、第１基板１１１と第２基板１１２は、合着することができる。接着層３３０は、透明な接着レジンであり得る。

再び図５を参照して説明すると、パッド領域（PA）は、第１基板１１１の一側の端部に配置することができる。パッド領域（PA）は、複数のパッドを含み、複数のパッドは、異方性導電フィルム（antisotropic conducting film）を用いて、軟性フィルム１５０の配線と電気的に接続することができる。

ダム１２０は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）との間に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵犯しないように、有機膜２９２の流れを遮断する。

導電性検査ライン１３０は、パッド領域（PA）とダム１２０との間に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２がオーバーフローしたことを検出するために用いられる。

以下では、図７を参照して、本発明の実施例に係るダムと導電性検査ラインを詳細に説明する。

図７は、図５のダムと導電性検査ラインの一例を示した断面図である。

図７に示された表示装置は、第１基板１１１上に形成された封止膜２９０、ダム１２０と導電性検査ライン１３０を含む。ここで、第１基板１１１は、画素（P）が形成された表示領域（DA）と、複数のパッド３４０が形成されたパッド領域（PA）を含む。

封止膜２９０は、図６に示したように、表示領域（DA）に形成された有機発光素子２８０を覆うように形成して有機発光素子２８０に酸素または水分が浸透することを防止する。ここで、封止膜２９０は、少なくとも一つの無機膜と少なくとも一つの有機膜を含んでいる。例えば、封止膜２９０は、第１無機膜２９１、有機膜２９２、及び第２無機膜２９３を含むことができる。この場合、第１無機膜２９１は、第１電極２８３を覆うように形成される。有機膜２９２は、第１無機膜２９１を覆うように形成され、第２無機膜２９３は、有機膜２９２を覆うように形成される。

第１および第２無機膜の２９１、２９３のそれぞれは、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物またはチタン酸化物で形成することができる。

有機膜２９２は、有機発光層２８２で発光した光を通過させるために透明に形成することができる。有機膜２９２は、有機発光層２８２で発光した光を99％以上通過させることができる有機物質、例えば、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）またはポリイミド樹脂（polyimide resin）で形成することができる。

ダム１２０は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）との間に配置して封止膜２９０を構成する有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵犯しないように、有機膜２９２の流れを遮断する。ダム１２０は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）の間にのみに形成するか、図５に示したように、表示領域（DA）の外郭を囲むように形成することができる。これにより、ダム１２０は、有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵犯したり、表示装置の外部に露出することを防止することができる。

図７は、1つのダム１２０を示しているが、これに限定されない。他の実施例において、ダム１２０は、図８に示したように、第１ダム１２１及び第１ダム１２１と離隔して第１ダム１２１とパッド領域（PA）の間に配置された第２ダム１２２を含むことができる。

これらのダム１２０は、画素（P）の平坦化膜２６０またはバンク２８４と同時に形成することができ、平坦化膜２６０またはバンク２８４と同じ物質からなり得る。このような場合、ダム１２０は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機物質で形成することができる。

導電性検査ライン１３０は、ダム１２０とパッド領域（PA）との間に配置され、第１基板１１１上に配置された他の導電性ラインまたは電極と電気的に接続されない。ここで、他の導電性ラインは、第１基板１１１上に形成されたゲートラインおよびデータラインを含み、電極は、第１基板１１１上に形成されたソース電極、ドレイン電極、アノード電極およびカソード電極を含むが、これに限定されない。

このような導電性検査ライン１３０は、有機膜２９２が形成され、第２無機膜２９３が形成される前に、有機膜２９２のオーバーフローを検出するために用いられる。有機膜２９２を形成した後、外部の測定装置（未図示）は、プローブを用いて、導電性検査ライン１３０の二つの地点に電気信号を印加して、２地点間の電流または抵抗を測定することができる。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下である場合、有機膜２９２がダム１２０の外側まで溢れ出て導電性検査ライン１３０上に形成されたものなので不良と判断することができる。このように、本発明は、導電性検査ライン１３０の二つの地点の電流または抵抗を測定し、測定された電流または抵抗をもとに、有機膜２９２のオーバーフローを判断している。有機膜２９２のオーバーフローの正確な判断のためには、第１無機膜２９１が導電性検査ライン１３０を覆っていないことが好ましい。第１無機膜２９１が導電性検査ライン１３０を覆うように形成されるようになると、導電性検査ライン１３０の２地点間の電流または抵抗は、常にしきい値以下で測定されるからである。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えた場合、良品と判断することができる。導電性検査ライン１３０を用いた不良検査方法の具体的な説明は、図１4と一緒に後述する。

導電性検査ライン１３０は、ダム１２０とパッド領域（PA）の間のみに形成するか、図５に示したように、表示領域（DA）の外郭を囲むように形成することができる。

導電性検査ライン１３０は、画素（P）の第１電極２８３または第２電極２８１と同時に形成することができ、第１電極２８３または第２電極２８１と同じ物質からなることができる。このような場合、導電性検査ライン１３０は、ITO、IZOのような透明な金属物質（TCO、Transparent Conductive Material）、またはマグネシウム（Mg）、銀（Ag）、またはマグネシウム（Mg）と銀（Ag）の合金のような半透過金属物質（Semi-transmissive Conductive Material）で形成することができる。本発明は、導電性検査ライン１３０を第１電極２８３または第２電極２８１と同時に形成することにより、別の製造工程を追加することなく、導電性検査ライン１３０を形成することができる。

一方、導電性検査ライン１３０は、第１電極２８３または第２電極２８１と同時に形成されないこともある。このような場合、導電性検査ライン１３０は、非表示領域（NDA）に形成されるので、第１電極２８３または第２電極２８１のように光を透過する金属物質で形成する必要はなく、電気が流れる導電性物質であれば材料は限定されない。

本願発明は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）の間にダム１２０を形成することにより、流動性を有する有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵すことを防止することができる。また、本願発明は、ダム１２０とパッド領域（PA）の間に導電性検査ライン１３０を形成することにより、導電性検査ライン１３０を用いて有機膜２９２のオーバーフローを検出することができる。これにより、本発明は、有機膜２９２が第２無機膜２９１によって完全に覆われていないで露出することによる有機発光素子２８０の劣化を防止することができ、正確な不良検出を通じて製品の信頼性を向上させることができる。

一方、本願発明は、第１無機膜２９１が導電性検査ライン１３０を覆わないように形成することにより、有機膜２９２のオーバーフローを正確に検出することができる。また、本願発明は、第２無機膜２９３がダム１２０と導電性検査ライン１３０を覆うように形成することにより、有機膜２９２に水分、酸素などが浸透することを防止することができる。

図９は、図４の第１基板の他の例を示した平面図である。

図９を参照すると、第１基板１１１は、表示領域（DA）と非表示領域（NDA）に区分され、非表示領域（NDA）には、パッドが形成されるパッド領域（PA）、ダム１２０および導電性検査ライン１３０が形成され得る。ここで、図９に示された導電性検査ライン１３０は、複数個で構成され、図５に示した第１基板と差異がある。

ダム１２０は、表示領域（DA）の４つの側面を囲むように配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２の流れを遮断する。これにより、ダム１２０は、有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵すことを防止すると同時に、表示装置の外部に露出することを防止する。

導電性検査ライン１３０は、表示領域（DA）の４つの側面のそれぞれに配置された第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４を含む。ここで、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４は、互いに離隔して電気的に接続しない。

第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４のそれぞれは、ダム１２０の外側に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２がダム１２０外側にオーバーフローしたことを検出するために用いられる。

図１０は、図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。

図１０を参照すると、第１基板１１１は、表示領域（DA）と非表示領域（NDA）に区分され、非表示領域（NDA）には、パッドが形成されるパッド領域（PA）、ダム１２０および導電性検査ライン１３０が形成され得る。ここで、図１０に示された第１基板１１１は、ダム１２０が複数個で構成され、導電性検査ライン１３０が、複数のダムの間に配置されるという点で、図５に示された第１基板と差異がある。

ダム１２０は、第１ダム１２１及び第１ダム１２１とパッド領域（PA）との間に配置された第２ダム１２２を含む。第１および第２ダム１２１、１２２は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）の間のみに配置するか、表示領域（DA）の外郭を取り囲むように配置して画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２の流れを遮断する。これにより、第１および第２ダム１２１、１２２は、有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵犯したり、表示装置の外部に露出することを防止することができる。

導電性検査ライン１３０は、第１ダム１２１及び第２ダム１２２との間に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２がオーバーフローしたことを検出するために用いられる。

図１１は、図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。

図１１を参照すると、第１基板１１１は、表示領域（DA）と非表示領域（NDA）に区分され、非表示領域（NDA）には、パッドが形成されるパッド領域（PA）、ダム１２０および導電性検査ライン１３０が形成され得る。ここで、図１１に示された第１基板１１１は、ダム１２０が複数個で構成され、導電性検査ライン１３０が複数個で構成されて複数のダムの間に配置されるという点で、図５に示された第１基板と差異がある。

ダム１２０は、第１ダム１２１及び第１ダム１２１とパッド領域（PA）との間に配置された第２ダム１２２を含む。第１および第２ダム１２１、１２２は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）の間のみに配置するか、表示領域（DA）の４つの側面を囲むように配置して画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２の流れを遮断する。これにより、第１および第２ダム１２１、１２２は、有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵犯したり、表示装置の外部に露出することを防止することができる。

導電性検査ライン１３０は、表示領域（DA）の４つの側面のそれぞれに配置された第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４を含む。ここで、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４は、互いに離隔して電気的に接続しない。

第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４のそれぞれは、第１ダム１２１及び第２ダム１２２との間に配置して画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２が、ダム１２０の外側にオーバーフローしたことを検出するために用いられる。

図１２は、図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。

図１２を参照すると、第１基板１１１は、表示領域（DA）と非表示領域（NDA）に区分され、非表示領域（NDA）には、パッドが形成されるパッド領域（PA）、ダム１２０および導電性検査ライン１３０が形成され得る。ここで、図１２に示された第１基板１１１は、導電性検査ライン１３０が表示領域（DA）とダム１２０との間に配置されるという点で、図５に示された第１基板と差異がある。

ダム１２０は、表示領域（DA）とパッド領域（PA）との間に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵犯しないように、有機膜２９２の流れを遮断する。

導電性検査ライン１３０は、表示領域（PA）とダム１２０との間に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２がダム１２０の内側面まで形成されないことを検出するために用いられる。

有機膜２９２は、異物（particles）が第１無機膜２９１を突破し、有機発光層２８２と第１電極２８３に投入されることを防止するために十分な厚さで形成することが好ましい。しかし、有機膜２９２がダム１２０の内側面まで十分に形成されていない場合には、異物が第１無機膜２９１を突破し、有機発光層２８２および第１電極２８３に投入し得る。これを防止するために、表示領域（PA）とダム１２０との間に配置された導電性検査ライン１３０を用いて有機膜２９２がダム１２０の内側面まで十分に形成されているかどうかを確認することができる。

図１３は、図４の第１基板のまた他の例を示した平面図である。

図１３を参照すると、第１基板１１１は、表示領域（DA）と非表示領域（NDA）に区分され、非表示領域（NDA）には、パッドが形成されるパッド領域（PA）、ダム１２０および導電性検査ライン１３０が形成され得る。ここで、図１３に示された第１基板１１１は、導電性検査ライン１３０が複数個で構成されて表示領域（DA）とダム１２０との間に配置されるという点で、図５に示された第１基板と差異がある。

ダム１２０は、表示領域（DA）の４つの側面を囲むように配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２の流れを遮断する。これにより、ダム１２０は、有機膜２９２がパッド領域（PA）を侵すことを防止すると同時に、表示装置の外部に露出することを防止する。

導電性検査ライン１３０は、表示領域（DA）の４つの側面のそれぞれに配置された第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４を含む。ここで、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４は、互いに離隔して電気的に接続しない。

第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４のそれぞれは、ダム１２０の内側に配置されて画素（P）の封止膜２９０を構成する有機膜２９２が、ダム１２０の外側にオーバーフローしたことを検出するために用いられる。

図１４ａ〜図１４ｇは、本発明の一実施例に係る表示装置の検査方法を説明するための断面図である。

まず、図１４ａに示したように、薄膜トランジスタ２１０およびコンデンサ２２０を形成する。

詳細には、第１基板１１１上には、アクティブ層２１１を形成する。アクティブ層２１１は、シリコン系半導体物質または酸化物系半導体物質で形成することができる。

そして、アクティブ層２１１上にゲート絶縁膜２３０を形成する。ゲート絶縁膜２３０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜またはこれらの多重膜で形成することができる。

そして、ゲート絶縁膜２３０上には、ゲート電極２１２とコンデンサ２２０の下部電極２２１を形成する。ゲート電極２１２と下部電極２２１は、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタン（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）、銅（Cu）のいずれか、またはこれらの合金からなる単一層または多重層であり得るが、これに限定されない。

そして、ゲート電極２１２と下部電極２２１上には、層間絶縁膜２４０を形成する。層間絶縁膜２４０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜またはこれらの多重膜で形成することができる。

そして、ゲート絶縁膜２３０と層間絶縁膜２４０を貫通して、アクティブ層２１２を露出させるコンタクトホール（CH1、CH2）を形成する。

そして、層間絶縁膜２４０上には、ソース電極２１３、ドレイン電極２１４およびコンデンサ２２０の上部電極２２２を形成する。ソース電極２１３、ドレイン電極２１４および上部電極２２２のそれぞれは、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタン（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）、銅（Cu）のいずれか、またはこれらの合金からなる単一層または多重層であり得るが、これに限定されない。

そして、薄膜トランジスタ２１０とコンデンサ２２０上には、保護膜２５０を形成する。保護膜２５０は、絶縁膜としての役割をすることができる。保護膜２５０は、無機膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜またはこれらの多重膜で形成することができる。

次に、図１４ｂに示したように平坦化膜２６０およびダム１２０を形成する。

より詳細には、保護膜２５０上には、平坦化膜２６０およびダム１２０を形成する。平坦化膜２６０およびダム１２０のそれぞれは、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機膜で形成することができる。

そして、保護膜２５０と平坦化膜２６０を貫通して薄膜トランジスタ２１０のソースまたはドレイン電極２２４を露出させるコンタクトホール（CH3）を形成する。

図１４ｂは、ダム１２０が平坦化膜２６０と同時に形成されることを示しているが、他の実施例において、ダム１２０は、保護膜２５０またはそれ以降に形成されるバンク２８４と同時に形成することもできる。

次に、図１４ｃに示したように、第２電極２８１および導電性検査ライン１３０を形成する。第２電極２８１および導電性検査ライン１３０のそれぞれは、アルミニウムとチタンの積層構造（Ti/Al/Ti）、アルミニウムとITOの積層構造（ITO/Al/ITO）、APC合金、およびAPC合金とITOの積層構造（ITO/APC/ITO）のような反射率の高い金属物質で形成することができる。APC合金は、銀（Ag）、パラジウム（Pd）、および銅（Cu）の合金である。

図１４ｃは、導電性検査ライン１３０が第２電極２８１と同時に形成されることを示しているが、他の実施例において、導電性検査ライン１３０は、以後に形成される第１電極２８３と同時に形成することもできる。

次に、図１４ｄに示したようにバンク２８４、有機発光層２８２および第１電極２８３を形成する。

より詳細には、発光部（EA）を区画するために平坦化膜２６０上で第２電極２８１の端部を覆うようにバンク２８４を形成する。バンク２８４は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機膜で形成することができる。

そして、第２電極２８１とバンク２８４上に、有機発光層２８２を形成する。

そして、有機発光層２８２上に、第１電極２８３を形成する。第１電極２８３は、光を透過させることができるITO、IZOのような透明な金属物質（TCO,Transparent Conductive Material）、またはマグネシウム（Mg）、銀（Ag）、またはマグネシウム（Mg）と銀（Ag）の合金のような半透過金属物質（Semi-transmissive Conductive Material）で形成することができる。第１電極２８３上には、キャッピング層（capping layer）が形成され得る。

次に、図１４ｅに示したように、表示領域を覆うと同時にダム１２０を覆わないように、第１無機膜２９１を形成する。第１無機膜２９１は、シリコン窒化物、窒化アルミニウム、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物またはチタン酸化物で形成することができる。

次に、図１４ｆに示したように、第１無機膜２９１を覆うと同時にダム１２０を覆わないように有機膜２９２を形成する。有機膜２９２は、有機発光層２８２で発光した光を99％以上通過させることができる有機物質、例えば、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）またはポリイミド樹脂（polyimide resin）で形成することができる。

そして、導電性検査ライン１３０の少なくとも二つの地点の電流または抵抗を測定して不良を検出する。

より詳細には、外部の測定装置１８０は、複数のプローブを用いて、導電性検査ライン１３０の第１地点（A）及び第２地点（B）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下の場合、導電性検査ライン１３０に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えた場合、その表示装置を良品と判定する。

以下では、図１５及び図１６をまとめて、導電性検査ライン１３０を用いて、不良かどうかを検査する方法について詳細に説明する。

図１５は、導電性検査ラインを用いて、不良かどうかを検査する方法の一例を説明するための図である。

導電性検査ライン１３０が表示領域（DA）の外郭を取り囲むように形成された場合、外部の測定装置１８０は、第１プローブを導電性検査ライン１３０の第１地点（A）に固定して、第２プローブを導電性検査ライン１３０に沿って所定間隔で移動しながら不良かどうかを検査することができる。

より詳細には、外部の測定装置１８０は、第１プローブを導電性検査ライン１３０の第１地点（A）に配置して、第２プローブを第１地点（A）から所定の間隔を有する第２地点（B1）に配置する。そして、外部の測定装置１８０は、導電性検査ライン１３０の第１地点（A）及び第２地点（B1）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B1）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下の場合、導電性検査ライン１３０に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えている場合は、外部の測定装置１８０は、第２プローブを所定の間隔で移動させて第２地点（B2）に配置する。そして、外部の測定装置１８０は、導電性検査ライン１３０の第１地点（A）及び第２地点（B2）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B2）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下の場合、導電性検査ライン１３０に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。たとえて説明すると、図１５に示したように導電性検査ライン１３０の第２地点（B2）に有機膜２９２が形成されている場合には、第１地点（A）及び第２地点（B2）との間の電流または抵抗がゼロに近い値が測定され得る。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えている場合は、外部の測定装置１８０は、第２プローブを所定の間隔で移動させて第３地点（B3）に配置する。

外部の測定装置１８０は、第２プローブが導電性検査ライン１３０に沿って移動して、第１地点（A）に位置するようになったら、テストを終了し、その表示装置を良品と判定する。

本発明は、導電性検査ライン１３０の第１地点（A）は、固定したまま、導電性検査ライン１３０の第２地点（B）のみを導電性検査ライン１３０に沿って所定間隔で移動しながら不良かどうかを検査することにより、不良検査をより正確に行うことができる。

図１６は、導電性検査ラインの電流または抵抗を測定する方法のまた他の例を説明するための図である。

導電性検査ライン１３０は、表示領域（DA）の４つの側面のそれぞれに配置された第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４を含む場合、外部の測定装置１８０は、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４を同時に検査することができる。図１６は、外部の測定装置１８０が、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４のそれぞれに対応して、第１〜第４の測定装置１８１、１８２、１８３、１８４を含む例を示しているが、これに限定されない。他の実施例において、測定装置１８０は、物理的に一つの装置として実装することもできる。

第１測定装置１８１は、第１プローブを第１導電性検査ライン１３１の第１地点（A）に固定して、第２プローブを第１導電性検査ライン１３１の長さに沿って所定の間隔で移動しながら不良かどうかを検査することができる。

より詳細には、第１測定装置１８１は、第１プローブを第１導電性検査ライン１３１の第１地点（A）に配置して、第２プローブを第１地点（A）から所定の間隔を有する第２地点（B1）に配置する。そして、第１測定装置１８１は、第１導電性検査ライン１３１の第１地点（A）及び第２地点（B1）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B1）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下である場合、第１導電性検査ライン１３１に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えた場合、第１測定装置１８１は、第２プローブを所定の間隔で移動させて第２地点（B2）に配置する。第１測定装置１８１は、第２プローブが第１導電性検査ライン１３１の長さを超えて移動したら、テストを終了する。

第２測定装置１８２は、第１プローブを第２導電性検査ライン１３２の第１地点（A）に固定して、第２プローブを第２導電性検査ライン１３２の長さに沿って所定の間隔で移動しながら不良かどうかを検査することができる。

より詳細には、第２測定装置１８２は、第１プローブを第２導電性検査ライン１３２の第１地点（A）に配置して、第２プローブを第１地点（A）から所定の間隔を有する第２地点（B1）に配置する。そして、第２測定装置１８２は、第２導電性検査ライン１３２の第１地点（A）及び第２地点（B1）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B1）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下の場合、第２導電性検査ライン１３２に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えた場合、第２測定装置１８２は、第２プローブを所定の間隔で移動させて第２地点（B2）に配置する。第２測定装置１８２は、第２プローブが第２導電性検査ライン１３２の長さを超えて移動したら、テストを終了する。

第３の測定装置１８３は、第１プローブを第３導電性検査ライン１３３の第１地点（A）に固定して、第２プローブを第３導電性検査ライン１３３の長さに沿って所定の間隔で移動しながら不良かどうかを検査することができる。

より詳細には、第３の測定装置１８３は、第１プローブを第３導電性検査ライン１３３の第１地点（A）に配置して、第２プローブを第１地点（A）から所定の間隔を有する第２地点（B1）に配置する。そして、第３の測定装置１８３は、第３導電性検査ライン１３３の第１地点（A）及び第２地点（B1）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B1）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下の場合、第３導電性検査ライン１３３に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えた場合、第３の測定装置１８３は、第２プローブを所定の間隔で移動させて第２地点（B2）に配置する。第３の測定装置１８３は、第２プローブが第３導電性検査ライン１３３の長さを超えて移動したら、テストを終了する。

第４の測定装置１８４は、第１プローブを第４導電性検査ライン１３４の第１地点（A）に固定して、第２プローブを第１導電性検査ライン１３４の長さに沿って所定の間隔で移動しながら不良かどうかを検査することができる。

より詳細には、第４の測定装置１８４は、第１プローブを第４導電性検査ライン１３４の第１地点（A）に配置して、第２プローブを第１地点（A）から所定の間隔を有する第２地点（B1）に配置する。そして、第４の測定装置１８４は、第４導電性検査ライン１３４の第１地点（A）及び第２地点（B1）に電気的信号を印加して、第１地点（A）及び第２地点（B1）との間の電流または抵抗を測定する。

ここで、測定された電流または抵抗がしきい値以下の場合、第４導電性検査ライン１３４に有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。

一方、測定された電流または抵抗がしきい値を超えた場合、第４の測定装置１８４は、第２プローブを所定の間隔で移動させて第２地点（B2）に配置する。第４の測定装置１８４は、第２プローブが第１導電性検査ライン１３１の長さを超えて移動したら、テストを終了する。

第１〜第４の測定装置１８１、１８２、１８３、１８４のうち少なくとも一つによって測定された電流または抵抗がしきい値以下である場合、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４のうち少なくとも一つの有機膜２９２が形成されたものなので、その表示装置を不良と判定する。

一方、第１〜第４の測定装置１８１、１８２、１８３、１８４による測定された電流または抵抗のすべてがしきい値を超えた場合、その表示装置を良品と判定する。

図１６に示された検査方法は、第１〜第４導電性検査ライン１３１、１３２、１３３、１３４を同時に検査することができるので、図１５に示された検査方法よりも検査時間を短縮することができる。

一方、導電性検査ライン１３０に有機膜２９２が形成されていないため、良品と判定されると、図１４ｇに示したように、有機膜２９２、ダム１２０および導電性検査ライン１３０を覆うように、第２無機膜２９２を形成する。第２無機膜２９２は、シリコン窒化物、窒化アルミニウム、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物またはチタン酸化物で形成することができる。

以上、添付した図を参照して、本発明の実施例をより詳細に説明したが、本発明は、必ずしもこれらの実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で多様に変形実施することができる。したがって、本発明の開示された実施例は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、これらの実施例により、本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。したがって、以上で記述した実施例は、すべての面で例示的なものであり限定的ではないと理解されなければならない。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によって解釈され、それと同等の範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されなければならない。

１００：表示装置
１１０：表示パネル
１１１：下部基板
１１２：上部基板
１２０：ダム
１３０：導電性検査ライン
１４０：ソースドライブＩＣ
１５０：軟性フィルム
１６０：回路基板
１７０：タイミング制御部
２１０：薄膜トランジスタ
２１１：アクティブ層
２１２：ゲート電極
２１３：ソース電極
２１４：ドレイン電極
２２０：コンデンサ
２２１：下部電極
２２２：上部電極
２３０：ゲート絶縁膜
２４０：層間絶縁膜
２５０：保護膜
２６０：平坦化膜
２８０：有機発光素子
２８１：第１電極
２８２：有機発光層
２８３：第２電極
２８４：バンク
２９０：封止膜
２９１：第１無機膜
２９２：有機膜
２９３：第２無機膜

Claims (12)

1. 画素が配置された表示領域、及び前記表示領域の外郭に形成された複数のパッドを含むパッド領域を含む基板;
   前記表示領域を覆い少なくとも一つの無機膜と有機膜を含む封止膜;
   前記表示領域と前記パッド領域との間に配置されたダム；および
   前記ダムと前記パッド領域との間に配置され、前記基板上に配置された他の導電性ラインまたは電極と電気的に接続されない導電性検査ラインを具備する表示装置。
2. 前記封止膜は、
   前記表示領域を覆う第１無機膜;
   前記第１無機膜を覆う有機膜;および
   前記有機膜を覆う第２無機膜を含み、
   前記第１無機膜は、前記導電性検査ラインを覆わないことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第２無機膜は、前記ダムおよび前記導電性検査ラインを覆うことを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
4. 前記ダムと前記導電性検査ラインは、前記表示領域を囲むように配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
5. 前記ダムは、前記表示領域の４つの側面を囲むように配置され、
   前記導電性検査ラインは、前記表示領域の４つの側面のそれぞれに配置される第１〜第４導電性検査ラインを含み、
   前記第１〜第４導電性検査ラインは、互いに離隔して配置されて電気的に接続しないことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
6. 前記ダムは、
   第１ダム;および
   前記第１ダムと前記パッド領域との間に配置された第２ダムを含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
7. 前記導電性検査ラインは、前記第１及び第２ダムの間に配置されることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
8. 前記導電性検査ラインは、前記ダムと前記表示領域との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
9. 前記画素のそれぞれは、アノード電極とカソード電極を含む有機発光素子を備え、
   前記導電性検査ラインは、前記アノード電極又は前記カソード電極と同一の物質であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
10. 基板上の表示領域に画素を形成し、パッド領域に複数のパッドを形成し、前記表示領域と前記パッド領域との間にダムを形成し、前記ダムと前記パッド領域との間に導電性検査ラインを形成する工程;
    前記表示領域を覆う第１無機膜を形成する工程；
    前記第１無機膜を覆う有機膜を形成する工程；
    前記導電性検査ラインの少なくとも二つの地点に電気信号を印加して、前記２地点間の電流または抵抗を測定する工程;および
    前記２地点間の電流または抵抗がしきい値以下である場合、不良と判断する工程を含む表示装置の検査方法。
11. 前記２地点間の電流または抵抗がしきい値を超えた場合、前記有機膜を覆う第２無機膜を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置の検査方法。
12. 前記測定する工程は、
    前記導電性検査ライン上に固定された第１地点、及び前記導電性検査ラインに沿って所定の間隔で移動する第２地点間の電流または抵抗を測定することを特徴とする請求項１０に記載の表示装置の検査方法。

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