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JP2018004860A - Alignment device, exposure device, and alignment method - Google Patents

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JP2018004860A JP2016129578A JP2016129578A JP2018004860A JP 2018004860 A JP2018004860 A JP 2018004860A JP 2016129578 A JP2016129578 A JP 2016129578A JP 2016129578 A JP2016129578 A JP 2016129578A JP 2018004860 A JP2018004860 A JP 2018004860A
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Abstract

【課題】熱などの影響を受けることなく、適切なアライメント調整を行う。【解決手段】アライメントカメラ80によってアライメント調整可能な露光装置において、テーブル52の端に複数の校正マークCMが並ぶ校正スケール62を取り付けるとともに、基準マークSMを設けた基準板72を、校正マークCMと基準マークSMが同一ライン上にあるように、テーブル52に取り付ける。そして、アライメントカメラ80に対して同じX方向位置座標の視野中心をもつ基準カメラ70を、カメラベース45に固定する。カメラ校正処理のとき、基準カメラ70による基準マークSMの撮像によって算出される校正スケール62(基準マークSM)の位置ずれ量に基づき、アライメントカメラ80による校正マークCMの撮像によって算出されるカメラ位置ずれ量を補正する。【選択図】図2PROBLEM TO BE SOLVED: To perform appropriate alignment adjustment without being affected by heat or the like. SOLUTION: In an exposure apparatus whose alignment can be adjusted by an alignment camera 80, a calibration scale 62 in which a plurality of calibration mark CMs are lined up is attached to an end of a table 52, and a reference plate 72 provided with a reference mark SM is used as a calibration mark CM. It is attached to the table 52 so that the reference mark SM is on the same line. Then, the reference camera 70 having the same field center of the X-direction position coordinates with respect to the alignment camera 80 is fixed to the camera base 45. During the camera calibration process, the camera position shift calculated by imaging the calibration mark CM with the alignment camera 80 based on the position shift amount of the calibration scale 62 (reference mark SM) calculated by imaging the reference mark SM with the reference camera 70. Correct the amount. [Selection diagram] Fig. 2

Description

本発明は、露光装置などに組み込まれるアライメント(位置合わせ)装置に関し、特に、アライメントカメラの位置の校正に関する。   The present invention relates to an alignment (positioning) apparatus incorporated in an exposure apparatus and the like, and more particularly to calibration of the position of an alignment camera.

露光装置などでは、基板などの作業対象物(以下、ワークという)の位置合わせを正確に行うため、ワークに設けられたアライメントマークをアライメントカメラで撮像し、検出された実際のアライメントマークの位置と設計(理論)上の位置とを比較することにより、搬送精度などに起因するワーク位置の変位量を検出する。そして、検出された変位量に基づき、ワーク位置調整などを行う。   In an exposure apparatus or the like, in order to accurately align a work object such as a substrate (hereinafter referred to as a workpiece), an alignment mark provided on the workpiece is imaged with an alignment camera, and the detected position of the actual alignment mark is detected. By comparing with the design (theoretical) position, the displacement amount of the workpiece position due to the conveyance accuracy or the like is detected. Then, based on the detected displacement amount, workpiece position adjustment and the like are performed.

通常、ワークサイズおよびアライメントマークの位置は品種などによって異なり、アライメントカメラは副走査方向に沿って移動可能なように取り付けられている。そのため、カメラ駆動機構のピッチングやヨーイング、および送り誤差などによって、カメラレンズの視野中心位置が本来の中心位置からずれてしまう。これを校正するため、基準位置を示す校正用マークを設けたスケールをステージに取り付け、校正マークをアライメントカメラで撮像することによってカメラの位置ずれを検出する(例えば、特許文献1参照)。   Usually, the workpiece size and the position of the alignment mark vary depending on the product type, and the alignment camera is mounted so as to be movable along the sub-scanning direction. For this reason, the visual field center position of the camera lens is deviated from the original center position due to pitching, yawing, and feed error of the camera driving mechanism. In order to calibrate this, a scale provided with a calibration mark indicating the reference position is attached to the stage, and the calibration mark is imaged with an alignment camera to detect a positional deviation of the camera (see, for example, Patent Document 1).

一方、露光装置などでは、光源の駆動、搬送ステージの駆動などによる発熱、温度変化などによって、露光位置にずれが生じる場合がある。これを解消するため、温度検出器によって装置の温度を検出し、事前測定によって得られた装置温度と露光位置変動量との相関関係に基づき、露光位置を補正する(特許文献2参照)。この場合、校正用スケールの温度依存性の位置ずれを加味して露光位置を補正する。   On the other hand, in an exposure apparatus or the like, the exposure position may be shifted due to heat generation due to driving of the light source, driving of the transport stage, or a change in temperature. In order to solve this problem, the temperature of the apparatus is detected by a temperature detector, and the exposure position is corrected based on the correlation between the apparatus temperature obtained by prior measurement and the exposure position variation (see Patent Document 2). In this case, the exposure position is corrected in consideration of the temperature-dependent position shift of the calibration scale.

特開2005−316461号公報JP 2005-316461 A 特開2014−197136号公報JP 2014-197136 A

装置の温度変化は、その使用状況、累積使用時間などによって異なるものであり、事前測定によって実際の露光位置のずれを相関関係から一義的に導き出すことは困難である。先に計測された温度情報を加味して露光位置を補正しても、実際の変位量と一致せず、正確に露光位置を補正することができない。特に、ミクロンオーダー、あるいはサブミクロンオーダーが要求される露光装置などでは、推定するワークの位置変動と実際のワーク位置変動の違いが、看過できない位置ずれをもたらす。   The temperature change of the apparatus varies depending on the use state, the accumulated use time, and the like, and it is difficult to uniquely derive the actual exposure position deviation from the correlation by the prior measurement. Even if the exposure position is corrected in consideration of the previously measured temperature information, it does not coincide with the actual displacement amount, and the exposure position cannot be accurately corrected. In particular, in an exposure apparatus or the like that requires a micron order or submicron order, a difference between an estimated workpiece position variation and an actual workpiece position variation causes a misalignment that cannot be overlooked.

したがって、装置の使用状況に関わらず、熱などの影響によって位置ずれが生じないようにカメラ位置の校正を正確に行うことが求められる。   Therefore, it is required to accurately calibrate the camera position so that the position shift does not occur due to the influence of heat or the like regardless of the usage status of the apparatus.

本発明のアライメント装置は、露光装置などに適用可能であり、ワークに設けられたアライメントマークを撮像する少なくとも1つのアライメントカメラと、装置本体部分に対して所定方向に移動するステージ部に取り付けられるとともに、アライメントカメラによって撮像される複数の校正マークを並べた校正スケールとを備える。   The alignment apparatus of the present invention is applicable to an exposure apparatus and the like, and is attached to at least one alignment camera that images an alignment mark provided on a workpiece and a stage unit that moves in a predetermined direction with respect to the apparatus main body. And a calibration scale in which a plurality of calibration marks imaged by the alignment camera are arranged.

ワークは、ステージ部に搭載されて処理対象となるものであり、例えば基板などがステージ部に搭載される。また、装置本体部分は、ステージ部が搭載される架台/基台、あるいは露光ヘッドおよび光学系を支持する支持体など、アライメント装置が組み込まれる装置の固定されたベース部分を表し、ステージ部は装置本体部分に対して相対移動する。   The workpiece is mounted on the stage unit and becomes a processing target. For example, a substrate or the like is mounted on the stage unit. Further, the apparatus main body part represents a fixed base part of an apparatus in which an alignment apparatus is incorporated, such as a pedestal / base on which a stage part is mounted, or a support that supports an exposure head and an optical system. Move relative to the body part.

本発明のアライメント装置は、ステージ部が所定位置に位置決めされたときの装置本体部分に対する校正スケールもしくは所定の校正マークの位置変動を検出可能な位置ずれ測定部を備えている。アライメント装置は、位置ずれ測定部によって検出された位置変動量に基づいて、校正スケールの位置ずれ量を補正することが可能である。   The alignment apparatus of the present invention includes a misalignment measuring unit capable of detecting a position change of a calibration scale or a predetermined calibration mark with respect to the apparatus main body when the stage unit is positioned at a predetermined position. The alignment apparatus can correct the positional deviation amount of the calibration scale based on the positional fluctuation amount detected by the positional deviation measuring unit.

自身の移動機構などに起因して校正マークの位置変動を検出することができないアライメントカメラとは異なり、装置本体部分に対して少なくともステージ移動方向に関して位置変動が生じない位置ずれ測定部は、ステージ部の熱などの影響によってテーブルなどの部材に伸縮が生じたとき、校正スケールもしくは校正マークの位置変動を検出することが可能となる。   Unlike an alignment camera that cannot detect the position fluctuation of the calibration mark due to its own movement mechanism, etc., the position deviation measuring section that does not cause a position fluctuation with respect to the apparatus main body at least in the stage moving direction is a stage section. When a member such as a table expands or contracts due to the influence of heat or the like, it is possible to detect a change in position of the calibration scale or the calibration mark.

すなわち、位置ずれ測定部は、装置本体部分に対して規定される座標系に対して位置変動しない構成となっており、校正スケールによるアライメントカメラの位置補正時に用いられるその座標系によって校正スケールもしくは校正マークの位置変動を検出することが可能である。例えば、アライメントカメラによって校正マークを測定する位置にステージ部を位置決めした時の校正スケールもしくは校正マークの位置変動を検出すればよい。   That is, the position deviation measuring unit is configured not to change its position with respect to the coordinate system defined for the apparatus main body, and the calibration scale or the calibration is used depending on the coordinate system used when correcting the position of the alignment camera using the calibration scale. It is possible to detect a change in the position of the mark. For example, the position variation of the calibration scale or the calibration mark when the stage unit is positioned at the position where the calibration mark is measured by the alignment camera may be detected.

位置ずれ測定部の構成としては、例えば、アライメントカメラとは異なる撮像部(カメラなど)で構成することが可能である。アライメントカメラの位置ずれがアライメントカメラの移動機構に起因していることを考慮すると、位置ずれ測定部は、少なくともアライメントカメラ移動方向(例えば副走査方向)に関して装置本体部分に固定され、ステージ部に設けられる、すなわち、ステージ部の熱などの影響によって装置本体部分に対し位置変動する基準マークを撮像可能な撮像部によって構成することができる。   As a configuration of the misalignment measuring unit, for example, it can be configured by an imaging unit (such as a camera) different from the alignment camera. Considering that the displacement of the alignment camera is caused by the movement mechanism of the alignment camera, the displacement measurement unit is fixed to the apparatus main body at least in the alignment camera movement direction (for example, the sub-scanning direction) and is provided on the stage unit. In other words, it is possible to configure the reference mark that changes its position with respect to the apparatus main body due to the influence of the heat of the stage portion or the like by an imaging unit capable of imaging.

ステージ部などの部材伸縮は場所によって相違することを考慮すると、アライメントカメラで校正マークを撮像する状態での位置変動を検出できることが望ましい。したがって、基準マークを、複数の校正マークの配列ラインに沿うように設けるのがよい。   Considering that the expansion and contraction of the member such as the stage portion differs depending on the location, it is desirable to be able to detect the position variation in the state where the calibration mark is imaged by the alignment camera. Therefore, it is preferable to provide the reference mark so as to follow the alignment line of the plurality of calibration marks.

基準マークの配置構成としては様々な構成を採用することができる。例えば、基準マークを設けた基準部材をステージ部に取り付けることが可能である。この場合、基準部材を、校正スケールの傍に配置することで、基準マークの位置変動量を、校正スケールもしくは校正マークの位置変動量により確実に合わせることができる。   Various arrangements can be adopted as the arrangement arrangement of the reference marks. For example, a reference member provided with a reference mark can be attached to the stage portion. In this case, by disposing the reference member near the calibration scale, the position fluctuation amount of the reference mark can be reliably matched with the position fluctuation amount of the calibration scale or the calibration mark.

一方、基準マーク用の専用部材を設ける代わりに、基準マークを校正スケールに含ませるように構成することも可能である。例えば、アライメントカメラの移動範囲外に撮像部を設けることを考慮し、複数の構成マークの両端の隣に基準マークを設けることが可能である。   On the other hand, instead of providing a dedicated member for the reference mark, the reference mark may be included in the calibration scale. For example, in consideration of providing an imaging unit outside the movement range of the alignment camera, it is possible to provide a reference mark next to both ends of a plurality of configuration marks.

撮像部の装置本体部分に対する固定箇所としては、アライメントカメラを支持するカメラベース部に対して撮像部を固定することが可能である。例えば、アライメントカメラと撮像部を構成するカメラが同製品、同じ光学特性などの場合、アライメントカメラと同じ高さに設置し、基準マークを校正マークと同じ高さに設定すればよい。   As a fixing location of the imaging unit with respect to the apparatus main body, the imaging unit can be fixed to the camera base unit that supports the alignment camera. For example, if the alignment camera and the camera constituting the imaging unit are the same product and have the same optical characteristics, they may be installed at the same height as the alignment camera and the reference mark may be set at the same height as the calibration mark.

ステージ部の熱に起因する部材伸縮などが場所によって異なる場合、校正スケールの取り付け箇所と基準マークの設置個所を揃えるのが好ましい。例えば、校正スケールおよび基準マークを、ステージ部において、ワークを搭載するテーブル、もしくはテーブルの傍に設けられる独自の校正スケール支持台に設けることが可能である。   When member expansion / contraction caused by the heat of the stage portion varies depending on the location, it is preferable to align the calibration scale mounting location and the reference mark installation location. For example, the calibration scale and the reference mark can be provided on the stage on which the work is mounted, or on an original calibration scale support provided near the table.

本発明の他の態様におけるアライメント方法は、ワークに設けられたアライメントマークをアライメントカメラによって撮像し、装置本体部分に対して所定方向に移動するステージ部に取り付けられた校正スケールに設けられた複数の校正マークを、アライメントカメラによって撮像し、装置本体部分に固定されたアライメントカメラとは異なるカメラによって、ステージ部に設けられた校正マークとは異なる基準マークを撮像する方法であって、基準マークの位置ずれ量から校正マークの位置ずれ量を補正可能となる。   An alignment method according to another aspect of the present invention includes imaging a plurality of alignment marks provided on a workpiece with an alignment camera, and a plurality of calibration scales provided on a calibration unit attached to a stage unit that moves in a predetermined direction with respect to the apparatus main body. A method in which a calibration mark is imaged by an alignment camera, and a reference mark different from the calibration mark provided on the stage unit is imaged by a camera different from the alignment camera fixed to the apparatus main body. The positional deviation amount of the calibration mark can be corrected from the deviation amount.

本発明によれば、熱などの影響を受けることなく、適切なアライメント調整を行うことができる。   According to the present invention, appropriate alignment adjustment can be performed without being affected by heat or the like.

本実施形態である露光装置の概略的側面図である。It is a schematic side view of the exposure apparatus which is this embodiment. 露光装置の上から見た概略的平面図である。It is the schematic plan view seen from the exposure apparatus. テーブルに取り付けられる校正スケールと基準板を示した図である。It is the figure which showed the calibration scale and reference | standard board attached to a table. 露光装置のブロック図である。It is a block diagram of an exposure apparatus. 制御部によって実行されるカメラ位置校正処理を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the camera position calibration process performed by the control part. 露光装置のステージ部の変形例を示した図である。It is the figure which showed the modification of the stage part of exposure apparatus.

以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本実施形態である露光装置の概略的側面図である。図2は、露光装置の上から見た概略的平面図である。   FIG. 1 is a schematic side view of an exposure apparatus according to this embodiment. FIG. 2 is a schematic plan view of the exposure apparatus as viewed from above.

露光装置10は、架台15と架台15の上面15Sに設置された支持体40を備えている。支持体40は、矩形状の支持台42とその四隅に設けられた脚部43A、43B、44A、44Bから構成されており、脚部43A、43B、44A、44Bが架台15に固定されている。支持台42の上面42Sには、露光ヘッド20および光源部30が設けられている。   The exposure apparatus 10 includes a gantry 15 and a support 40 installed on the upper surface 15S of the gantry 15. The support body 40 includes a rectangular support base 42 and leg portions 43A, 43B, 44A, 44B provided at four corners thereof, and the leg portions 43A, 43B, 44A, 44B are fixed to the gantry 15. . An exposure head 20 and a light source unit 30 are provided on the upper surface 42 </ b> S of the support base 42.

架台15の上面15Sには、架台長手方向に沿ってガイドレール60A、60Bが所定間隔で互いに平行となるように配置されており、支持台42の一方の端から脚部43A、43B、および脚部44A、44Bの間を通って他方の端まで延びている。このガイドレール60A、60Bには、ガイドレール60A、60Bに沿って移動可能なステージ部50が設置されている。   Guide rails 60A and 60B are arranged on the upper surface 15S of the gantry 15 so as to be parallel to each other at a predetermined interval along the longitudinal direction of the gantry 15. It extends between the portions 44A and 44B to the other end. The guide rails 60A and 60B are provided with a stage unit 50 that is movable along the guide rails 60A and 60B.

ステージ部50は、基板(ワーク)Wが搭載されるテーブル52と、テーブル52を下方から支持するとともに、テーブル52をX、Y方向およびZ方向に沿って移動させるステージ移動機構55を備える。ステージ移動機構55は、ガイドレール60A、60Bに沿ってステージ部50を移動させるXステージ機構56と、Y方向への移動およびZ軸回り回転させる微動ステージ機構54から構成される。   The stage unit 50 includes a table 52 on which a substrate (workpiece) W is mounted, and a stage moving mechanism 55 that supports the table 52 from below and moves the table 52 along the X, Y, and Z directions. The stage moving mechanism 55 includes an X stage mechanism 56 that moves the stage unit 50 along the guide rails 60A and 60B, and a fine movement stage mechanism 54 that moves in the Y direction and rotates around the Z axis.

架台15の上面15Sには、装置を基準とするX−Y座標系が規定されており、それの垂直(鉛直)方向としてZ方向が規定されている。ガイドレール60A、60Bは、X方向に沿って配置されており、ステージ部50のX方向位置検出用のリニアスケール58が架台15に設置されている。矩形状のテーブル52は、その長手方向端面52L、およびそれに垂直な端面52Tが、それぞれX方向,Y方向と平行となるようにステージ部50に設けられている。   On the top surface 15S of the gantry 15, an XY coordinate system with respect to the apparatus is defined, and the Z direction is defined as the vertical (vertical) direction thereof. The guide rails 60 </ b> A and 60 </ b> B are arranged along the X direction, and a linear scale 58 for detecting the position of the stage unit 50 in the X direction is installed on the gantry 15. The rectangular table 52 is provided on the stage unit 50 such that the end surface 52L in the longitudinal direction and the end surface 52T perpendicular thereto are parallel to the X direction and the Y direction, respectively.

支持体40の脚部44A、44B側、すなわち中央側には、Y方向に延びる板(以下、カメラベースという)45が、支持体40の側面および脚部44A、44Bに固定されている。そして、ガイド板45の支持体40とは反対側の面には、アライメントカメラ80をY方向に移動させるガイド機構46が装着されている。ガイド機構46は、例えば、ボールネジ機構などによって構成されており、ここでは図示しないモータなどを備えたカメラ駆動部によってアライメントカメラ80を移動させる。ここでは、所定間隔離れた2つのアライメントカメラ80A、80Bによってアライメントカメラ80が構成される。   A plate (hereinafter referred to as a camera base) 45 extending in the Y direction is fixed to the side surface of the support 40 and the legs 44A and 44B on the legs 44A and 44B side of the support 40, that is, on the center side. A guide mechanism 46 that moves the alignment camera 80 in the Y direction is mounted on the surface of the guide plate 45 opposite to the support 40. The guide mechanism 46 is constituted by, for example, a ball screw mechanism, and moves the alignment camera 80 by a camera driving unit provided with a motor (not shown). Here, the alignment camera 80 is composed of two alignment cameras 80A and 80B that are separated by a predetermined distance.

図2に示すように、テーブル52の所定位置に置かれた基板Wには、複数のアライメントマーク(ここでは9つ)AMが規則的に所定間隔で並んでいる。アライメントカメラ80は、ステージ部50のX方向移動、およびアライメントカメラ80のY方向移動によって、各アライメントマークAMを撮像することが可能である。   As shown in FIG. 2, a plurality of alignment marks (here, nine) AM are regularly arranged at predetermined intervals on the substrate W placed at a predetermined position of the table 52. The alignment camera 80 can image each alignment mark AM by moving the stage unit 50 in the X direction and moving the alignment camera 80 in the Y direction.

テーブル52には、カメラ位置校正用のスケール(以下、校正スケールという)62が、カメラベース45に平行な一方の端面52Tに沿って設置されている。校正スケール62には、テーブル端面52Tに沿って、すなわちY方向に沿って並ぶ複数(ここでは10個)の校正マークCMが設けられている。アライメントカメラ80は、ステージ部50の移動、アライメントカメラ80の移動によって、校正マークCM各々を撮像することが可能である。   On the table 52, a camera position calibration scale (hereinafter referred to as a calibration scale) 62 is installed along one end face 52T parallel to the camera base 45. The calibration scale 62 is provided with a plurality of (here, ten) calibration marks CM arranged along the table end surface 52T, that is, along the Y direction. The alignment camera 80 can image each calibration mark CM by moving the stage unit 50 and moving the alignment camera 80.

この校正スケール62とは別に、1つのマーク(以下、基準マークとという)SMが形成された矩形状板(以下では、基準板という)72が、テーブル52に取り付けられている。基準マークSMは、校正スケール62の校正マークCMが並ぶ同一ライン上にある。そして、アライメントカメラ80とは異なるカメラ(以下、基準カメラという)70が、カメラベース45に対し、アライメントカメラ80と同じ高さの位置で固定されている。   Apart from the calibration scale 62, a rectangular plate (hereinafter referred to as a reference plate) 72 on which one mark (hereinafter referred to as a reference mark) SM is formed is attached to the table 52. The reference mark SM is on the same line where the calibration marks CM of the calibration scale 62 are arranged. A camera 70 (hereinafter referred to as a reference camera) different from the alignment camera 80 is fixed to the camera base 45 at the same height as the alignment camera 80.

基準カメラ70は、アライメントカメラ80のY方向に沿った移動範囲、すなわち撮像範囲から退避した位置で、カメラベース46に取り付けられた保持部71により保持されており、ステージ部50の移動によって、基準マークSMを撮像することが可能である。また、基準カメラ70のカメラベース46に対するX方向の位置は、アライメントカメラ80と同じ位置に固定されている。すなわち、基準カメラ70は、X方向に関してアライメントカメラ80の視野中心と基準カメラ70の視野中心とがともに同じ位置座標をもつように、保持部71を介してカメラベース46に対して取り付けられている。   The reference camera 70 is held by a holding unit 71 attached to the camera base 46 in a moving range along the Y direction of the alignment camera 80, that is, a position retracted from the imaging range. It is possible to image the mark SM. The position of the reference camera 70 in the X direction with respect to the camera base 46 is fixed at the same position as that of the alignment camera 80. That is, the reference camera 70 is attached to the camera base 46 via the holding unit 71 so that the visual field center of the alignment camera 80 and the visual field center of the reference camera 70 have the same position coordinates in the X direction. .

図3は、テーブルに取り付けられる校正スケールと基準板を示した図である。   FIG. 3 is a diagram showing a calibration scale and a reference plate attached to the table.

校正スケール62は、ガラス製であって、その表面に校正マークCMを描画したクロム膜が形成されている。校正マークCMの並ぶピッチは、アライメントカメラ80の視野サイズなどに従って定められている。校正マークCMは、アライメントカメラ80によって撮像したときにマーク位置座標が正確に求められるようなサイズおよび形状に定められている。ここでは角度誤差検出も可能となるように十字状に形成されている。   The calibration scale 62 is made of glass, and has a chromium film on which a calibration mark CM is drawn. The pitch at which the calibration marks CM are arranged is determined according to the visual field size of the alignment camera 80 and the like. The calibration mark CM is sized and shaped so that the mark position coordinates can be accurately obtained when imaged by the alignment camera 80. Here, it is formed in a cross shape so that the angle error can be detected.

校正スケール62は、テーブル端面52T側に設けられた凹部に設置されており、校正スケール62の表面が基板Wの表面と面一となるようにその高さが定められている(図2参照)。基準板72は、校正スケール62と同様、ガラス製でその表面には校正マークCMと同じ形状、サイズの十字型基準マークSMが形成されている。基準板72は、基準マークSMが校正マークCMと同一ライン状に位置するように、テーブル52に取り付けられている。基準板72の表面も、基板Wの表面と面一になっている。   The calibration scale 62 is installed in a recess provided on the table end surface 52T side, and its height is determined so that the surface of the calibration scale 62 is flush with the surface of the substrate W (see FIG. 2). . Like the calibration scale 62, the reference plate 72 is made of glass, and a cross-shaped reference mark SM having the same shape and size as the calibration mark CM is formed on the surface thereof. The reference plate 72 is attached to the table 52 so that the reference mark SM is positioned on the same line as the calibration mark CM. The surface of the reference plate 72 is also flush with the surface of the substrate W.

基準カメラ70は、ここでは、アライメントカメラ80と同種の製品によって構成されており、光学倍率、視野サイズなどの撮像特性およびサイズなどの外観特性は、アライメントカメラ80と同じである。上述したようにアライメントカメラ80の取り付け位置と基準カメラ70の取り付け位置の高さが同じであることから、撮像によって得られる校正マークCM、基準マークSMのイメージ像は、同サイズのイメージになる。   Here, the reference camera 70 is configured by a product of the same type as the alignment camera 80, and imaging characteristics such as optical magnification and field size and appearance characteristics such as size are the same as those of the alignment camera 80. As described above, since the height of the mounting position of the alignment camera 80 and the mounting position of the reference camera 70 is the same, the image of the calibration mark CM and the reference mark SM obtained by imaging is an image of the same size.

図4は、露光装置のブロック図である。   FIG. 4 is a block diagram of the exposure apparatus.

制御部25は、露光装置10の露光動作、アライメント調整、照明など、露光装置全体の動作を制御する。光源制御部31によって光源32が点灯すると、照明光が光学系23を経由してDMD(Digital Micro-mirror Device)24に入射する。   The control unit 25 controls the overall operation of the exposure apparatus such as the exposure operation, alignment adjustment, and illumination of the exposure apparatus 10. When the light source 32 is turned on by the light source control unit 31, the illumination light enters a DMD (Digital Micro-mirror Device) 24 via the optical system 23.

露光制御部34は、ワークステーションから送信されてくるパターンデータ(ベクタデータ)をラスタデータに変換し、DMD駆動部22へラスタデータ(露光データ)を送信する。DMD駆動部22は、露光位置に応じたパターン光を投影するように、DMD24の各マイクロミラーをラスタデータに基づいてON/OFF制御する。DMD24で反射した光は、投影光学系25によって基板Wの表面にパターン光として結像する。   The exposure control unit 34 converts pattern data (vector data) transmitted from the workstation into raster data, and transmits the raster data (exposure data) to the DMD driving unit 22. The DMD driving unit 22 performs ON / OFF control of each micromirror of the DMD 24 based on raster data so as to project pattern light according to the exposure position. The light reflected by the DMD 24 is imaged as pattern light on the surface of the substrate W by the projection optical system 25.

モータなどを備えたステージ駆動部(移動機構)55は、図1に示した微動ステージ機構54、Xステージ機構56を駆動し、ステージ部50、すなわちテーブル52をX、Y方向に移動させる。リニアスケール58(図1参照)を含む位置検出器59は、架台15(すなわち支持体40を含む一つの構造体である露光装置本体)に対するテーブル52の位置座標を検出する。   A stage driving unit (moving mechanism) 55 provided with a motor or the like drives the fine movement stage mechanism 54 and the X stage mechanism 56 shown in FIG. 1, and moves the stage unit 50, that is, the table 52 in the X and Y directions. The position detector 59 including the linear scale 58 (see FIG. 1) detects the position coordinates of the table 52 with respect to the gantry 15 (that is, the exposure apparatus body that is one structure including the support 40).

カメラ駆動部82は、アライメントカメラ80を駆動制御し、アライメント調整を行う際、基板WのアライメントマークAMの配列ラインに従ってアライメントカメラ80を移動させる。図3に示すように、基板Wには、両端および中央のラインa1〜a3に沿ってそれぞれ3つのアライメントマークAMが形成されている。   The camera driving unit 82 drives and controls the alignment camera 80 to move the alignment camera 80 according to the alignment line of the alignment marks AM on the substrate W when performing alignment adjustment. As shown in FIG. 3, on the substrate W, three alignment marks AM are formed along both ends and the central lines a1 to a3.

アライメント調整を行うとき、アライメントカメラ80A、80Bは、ラインa1〜a3上に位置するようにY方向に沿って移動する。アライメントカメラ80の下方にアライメントマークAMが位置するようにテーブル52がX方向へ移動することで、アライメントマークAMが撮像される。   When performing alignment adjustment, the alignment cameras 80A and 80B move along the Y direction so as to be positioned on the lines a1 to a3. The alignment mark AM is imaged by moving the table 52 in the X direction so that the alignment mark AM is positioned below the alignment camera 80.

画像処理部83は、アライメントカメラ80A、80Bから出力される撮像信号に基づいてアライメントマークAMの位置を検出する。具体的には、アライメントカメラ80A80Bの視野中心からのアライメントマーク中心位置のずれを検出する。アライメント制御部35は、送られてくる位置情報に基づいて露光制御部34を制御し、基板変形などを補償するようにラスタデータを補正する。   The image processing unit 83 detects the position of the alignment mark AM based on the imaging signals output from the alignment cameras 80A and 80B. Specifically, the shift of the alignment mark center position from the center of the visual field of alignment camera 80A80B is detected. The alignment control unit 35 controls the exposure control unit 34 based on the received position information and corrects the raster data so as to compensate for substrate deformation and the like.

また、画像処理部83は、アライメントカメラ80が校正マークCMを撮像すると、校正マークCMの視野中心からの位置ずれ量を検出する。カメラ校正部37は、カメラ位置ずれ量に基づく補正量を算出する。   Further, when the alignment camera 80 images the calibration mark CM, the image processing unit 83 detects the amount of positional deviation from the center of the visual field of the calibration mark CM. The camera calibration unit 37 calculates a correction amount based on the camera position deviation amount.

さらに画像処理部83は、基準カメラ70からの撮像信号に基づいて基準マークSMの視野中心からの位置ずれ量を検出することが可能である。カメラ校正部37は、校正マークCMの位置ずれに基づいて算出された補正量(以下、スケール補正量という)を算出する。アライメント制御部35は、スケール補正量を加味した補正量に基づいてラスタデータを補正する。   Furthermore, the image processing unit 83 can detect the amount of positional deviation of the reference mark SM from the center of the field of view based on the imaging signal from the reference camera 70. The camera calibration unit 37 calculates a correction amount (hereinafter referred to as a scale correction amount) calculated based on the positional deviation of the calibration mark CM. The alignment control unit 35 corrects the raster data based on the correction amount including the scale correction amount.

ここで、校正スケール62すなわち校正マークCMの装置本体部分、すなわち架台15および支持体40に対する位置変動について説明する。   Here, the position fluctuation of the calibration scale 62, that is, the calibration mark CM with respect to the apparatus main body, that is, the gantry 15 and the support 40 will be described.

アライメントカメラ80A、80Bは、Y方向に沿って移動可能なようにガイド機構46に取り付けられており、取り付け、組み立て誤差などが生じているとともに、ガイド機構46によってアライメントカメラ80A、80Bを往復運動させると、ガイド機構46の位置誤差、カメラ軸角度変化などに起因して、視野中心の位置が設計上の位置からずれる。   The alignment cameras 80A and 80B are attached to the guide mechanism 46 so as to be movable along the Y direction. There are attachment and assembly errors, and the alignment cameras 80A and 80B are reciprocated by the guide mechanism 46. Due to the position error of the guide mechanism 46, the camera axis angle change, etc., the position of the center of the visual field is deviated from the designed position.

この視野中心位置のずれ、すなわちアライメントカメラ80A、80Bの位置ずれを補正するために、校正マークCMの位置を測定し、実際の測定位置と本来あるべきマーク位置の差から、アライメントカメラ80の位置ずれ量(すなわちアライメントカメラ80と露光ヘッド20を固定する支持台42との位置関係の誤差)を求める。このようなアライメントカメラ80の位置ずれ量の測定は、校正スケール62の位置を基準としている。すなわち、校正スケール62の架台15および支持体40の一部である支持台42に対する位置座標が変わらないことを前提としている。   In order to correct this misalignment of the visual field center, that is, the misalignment of the alignment cameras 80A and 80B, the position of the calibration mark CM is measured, and the position of the alignment camera 80 is determined from the difference between the actual measurement position and the original mark position. A deviation amount (that is, an error in the positional relationship between the alignment camera 80 and the support base 42 that fixes the exposure head 20) is obtained. The measurement of the positional deviation amount of the alignment camera 80 is based on the position of the calibration scale 62. That is, it is assumed that the position coordinates of the calibration scale 62 with respect to the gantry 15 and the support base 42 which is a part of the support body 40 do not change.

しかしながら、この校正スケール62(校正マークCM)自体の位置ずれが、露光装置10の使用状況によっては生じる。露光装置10の使用中、長時間に渡ってステージ部50を往復移動させていると、Xステージ機構56のモータによる発熱などの影響によって、ステージ部50の微動ステージ機構54、テーブル52などに熱膨張、変形が生じる。また、露光動作中において発生する光源部30、露光ヘッド20の熱もステージ部50に影響を及ぼすことがある。   However, the positional deviation of the calibration scale 62 (calibration mark CM) itself may occur depending on the use state of the exposure apparatus 10. If the stage unit 50 is reciprocated over a long period of time while the exposure apparatus 10 is in use, heat is applied to the fine movement stage mechanism 54 and the table 52 of the stage unit 50 due to the heat generated by the motor of the X stage mechanism 56. Expansion and deformation occur. Further, the heat of the light source unit 30 and the exposure head 20 generated during the exposure operation may affect the stage unit 50.

このような熱の影響によってテーブル52がX方向に沿って熱膨張すると、校正スケール62の位置が変動することとなる。特に、テーブル52の中心部よりもその端面52Tにおいて膨張変化が大きく現れることから、校正スケール62の位置変動が起こりやすい。   When the table 52 is thermally expanded along the X direction due to the influence of such heat, the position of the calibration scale 62 is changed. In particular, since the expansion change appears more at the end surface 52T than at the center of the table 52, the position of the calibration scale 62 is likely to change.

そのため、リニアスケール58によって架台15に対する位置を検出しても、Xステージ機構56から高さ方向およびX方向に関して離れているテーブル52の端面52T付近では、アライメント調整すなわちパターン精度に無視できない位置変動が生じていることがある。   Therefore, even if the position with respect to the gantry 15 is detected by the linear scale 58, there is a position variation that cannot be ignored in the alignment adjustment, that is, the pattern accuracy, near the end surface 52T of the table 52 that is separated from the X stage mechanism 56 in the height direction and the X direction. May have occurred.

この状態で上述した校正スケール62によるカメラ位置ずれの補正を行っても、校正スケール62の位置誤差が含まれた状態で補正量を算出するため、アライメント調整を正しく行うことができない。一方、アライメントカメラ80にはカメラ位置ずれが生じていることから、誤差をもつアライメントカメラ80によって校正スケール62の位置ずれを検出することができない。   Even if the correction of the camera position deviation by the calibration scale 62 described above is performed in this state, the correction amount is calculated in a state in which the position error of the calibration scale 62 is included, so that the alignment adjustment cannot be performed correctly. On the other hand, since the camera position shift occurs in the alignment camera 80, the position shift of the calibration scale 62 cannot be detected by the alignment camera 80 having an error.

そこで本実施形態では、校正スケール62(校正マークCM)の位置変動を測定するため独自に設けられた基準カメラ70によって、校正スケール62の傍に設置された基準板72の基準マークSMを撮像する。基準マークSMは、Y方向に沿って校正スケール62の校正マークCMと同一ライン上に形成されていることから、校正スケール62(校正マークCM)の位置変動と同様の位置変動が生じるものとみなせる。   Therefore, in the present embodiment, the reference mark SM of the reference plate 72 installed near the calibration scale 62 is imaged by the reference camera 70 that is uniquely provided for measuring the positional variation of the calibration scale 62 (calibration mark CM). . Since the reference mark SM is formed on the same line as the calibration mark CM of the calibration scale 62 along the Y direction, it can be considered that the position fluctuation similar to the position fluctuation of the calibration scale 62 (calibration mark CM) occurs. .

したがって、測定される基準マークSMの位置座標と、設計上(理想)の基準マークSMの位置座標とを比較して位置ずれ量を求め、カメラ位置ずれ補正量にこれを加味する(減算)ことで、正確なアライメント調整を行うことが可能となる。   Therefore, a positional deviation amount is obtained by comparing the position coordinates of the reference mark SM to be measured with the position coordinates of the designed (ideal) reference mark SM, and this is added (subtracted) to the camera positional deviation correction amount. Thus, accurate alignment adjustment can be performed.

図5は、制御部によって実行されるカメラ位置校正処理を示したフローチャートである。カメラ位置校正処理は、ロットごと、あるいは基板1枚ごとに実行することが可能である。例えば、アライメントカメラ数よりもアライメントマーク列の数が大きい場合、アライメントカメラをY軸方向に移動させる必要があるため、基板1枚ごとに処理を実行させるのがよい。   FIG. 5 is a flowchart showing camera position calibration processing executed by the control unit. The camera position calibration process can be executed for each lot or for each substrate. For example, when the number of alignment mark rows is larger than the number of alignment cameras, it is necessary to move the alignment camera in the Y-axis direction.

まず、アライメントカメラ80をアライメントマークAMのY座標に移動させる。ここでは、図3に示すラインa1〜a3の位置に合わせる。そして、校正スケール62がアライメントカメラ80の設計上の視野中心位置となるように、テーブル52が移動制御される(S101、S102)。このテーブル52(ステージ部50)の位置は、基準カメラ70の視野中心位置が理論上の基準マークSMの中心位置と一致する位置に相当する。   First, the alignment camera 80 is moved to the Y coordinate of the alignment mark AM. Here, the positions are aligned with the lines a1 to a3 shown in FIG. Then, the movement of the table 52 is controlled so that the calibration scale 62 becomes the design visual field center position of the alignment camera 80 (S101, S102). The position of the table 52 (stage unit 50) corresponds to a position where the visual field center position of the reference camera 70 matches the theoretical center position of the reference mark SM.

次に、カメラ校正処理の前段階において、基準カメラ70により基準マークSMを撮像し(S103)、基準マークSMの視野中心位置からの位置ずれ量を算出する(S104)。ここでは、X、Y方向の位置ずれ、および回転角度(θ)を位置ずれ量として算出する。基準カメラ70の中心位置がアライメントカメラ80の視野中心位置と同じX座標をもつ、すなわちY方向に沿って視野中心位置が同一ライン上にあることから、このずれ量を架台15に対する校正スケール62(校正マークCM)の位置ずれ量とみなすことができる。   Next, in the previous stage of the camera calibration process, the reference mark SM is imaged by the reference camera 70 (S103), and the amount of displacement of the reference mark SM from the visual field center position is calculated (S104). Here, the positional deviation in the X and Y directions and the rotation angle (θ) are calculated as the positional deviation amount. Since the center position of the reference camera 70 has the same X coordinate as the visual field center position of the alignment camera 80, that is, the visual field center position is on the same line along the Y direction, this deviation amount is calibrated to the calibration scale 62 ( This can be regarded as the amount of displacement of the calibration mark CM).

その後、アライメントカメラ80によって校正マークCMの視野内座標を測定し(S105)、測定されたカメラ位置ずれ量から基準マークSMの位置ずれ量を減じた値を、カメラ校正の補正量として算出する(S106)。カメラ校正処理が終了すると、基板WのアライメントマークAMの位置が測定され、アライメント調整が行われる。   Then, the alignment camera 80 measures the coordinates in the field of view of the calibration mark CM (S105), and calculates a value obtained by subtracting the positional deviation amount of the reference mark SM from the measured camera positional deviation amount as a correction amount for camera calibration (S105). S106). When the camera calibration process is completed, the position of the alignment mark AM on the substrate W is measured, and alignment adjustment is performed.

このように本実施形態によれば、アライメントカメラ80によってアライメント調整可能な露光装置10において、テーブル52の端に複数の校正マークCMが並ぶ校正スケール62を取り付けるとともに、基準マークSMを設けた基準板72を、校正マークCMと基準マークSMが同一ライン上にあるように、テーブル52に取り付ける。そして、アライメントカメラ80に対して同じX方向位置座標の視野中心をもつ基準カメラ70を、カメラベース45に固定する。カメラ校正処理のとき、基準カメラ70による基準マークSMの撮像によって算出される校正スケール62(基準マークSM)の位置ずれ量に基づき、アライメントカメラ80による校正マークCMの撮像によって算出されるカメラ位置ずれ量を補正する。   As described above, according to the present embodiment, in the exposure apparatus 10 that can be aligned by the alignment camera 80, the calibration scale 62 in which a plurality of calibration marks CM are arranged is attached to the end of the table 52, and the reference plate provided with the reference marks SM. 72 is attached to the table 52 so that the calibration mark CM and the reference mark SM are on the same line. Then, the reference camera 70 having the same visual field center in the X-direction position coordinate with respect to the alignment camera 80 is fixed to the camera base 45. During the camera calibration process, based on the amount of displacement of the calibration scale 62 (reference mark SM) calculated by imaging the reference mark SM by the reference camera 70, the camera position displacement calculated by imaging the calibration mark CM by the alignment camera 80. Correct the amount.

基準カメラ70、基準板72のX方向における設置場所を、アライメントカメラ80、校正スケール62の設置場所に合わせて配置することにより、簡易な構成、簡易な処理ステップによって熱などの影響による校正スケール62、校正マークCMの位置ずれを検出することができる。特に、基準板72が校正スケール62の傍に配置されることにより、正確な位置変動を検出することができる。   By arranging the installation location of the reference camera 70 and the reference plate 72 in the X direction in accordance with the installation location of the alignment camera 80 and the calibration scale 62, the calibration scale 62 due to the influence of heat or the like with a simple configuration and simple processing steps. The positional deviation of the calibration mark CM can be detected. In particular, by arranging the reference plate 72 near the calibration scale 62, it is possible to detect an accurate position variation.

なお、カメラ位置ずれ量を算出するのではなく、アライメントカメラ位置を微調整してもよい。また、アライメント調整時にアライメント補正量から基準マークSMの位置ずれ量を減じてもよく、あるいは、基準マークSMの位置ずれ量を考慮してラスタデータを補正してもよい。   Instead of calculating the camera position deviation amount, the alignment camera position may be finely adjusted. Further, the positional deviation amount of the reference mark SM may be subtracted from the alignment correction amount at the time of alignment adjustment, or the raster data may be corrected in consideration of the positional deviation amount of the reference mark SM.

基準板を別途設ける代わりに、校正スケールの中に基準マークを含める構成にしてもよい。例えば、校正スケールの長手方向を延ばし、最も端に基準マークを設けてもよい。   Instead of providing a reference plate separately, a reference mark may be included in the calibration scale. For example, the longitudinal direction of the calibration scale may be extended and a reference mark may be provided at the end.

位置ずれ検出については、校正スケールの位置変動量が最も大きいX方向についてのみ、カメラ位置ずれ量に対する補正量を算出してもよい。また、X方向の位置再現性が確保される条件であれば、基準カメラの支持部材を別途設置し、それを動かすことで基準カメラをXまたはY方向に退避させてもよい。さらに、基準マークを設けず、校正スケールの四隅位置などを撮像することで、校正スケールの位置ずれ量を検出してもよい。   As for the position shift detection, the correction amount for the camera position shift amount may be calculated only in the X direction where the position variation amount of the calibration scale is the largest. Further, as long as the position reproducibility in the X direction is ensured, a reference camera support member may be separately installed and moved to move the reference camera in the X or Y direction. Furthermore, the positional deviation amount of the calibration scale may be detected by imaging the four corner positions of the calibration scale without providing the reference mark.

校正スケールおよび基準板については、校正スケールおよび基準板をテーブルに取り付けず、ステージ部50の他の部分に固定させてテーブルとは独立させる構成にしてもよい。図6は、露光装置のステージ部の変形例を示した図である。Xステージ機構56に取り付けられた支持台92の上面に校正スケール62および基準板72が取り付けられている。ステージ部50のより端部側に取り付けることにより、位置変動の検出が容易となる。   Regarding the calibration scale and the reference plate, the calibration scale and the reference plate may not be attached to the table, but may be fixed to other parts of the stage unit 50 and independent of the table. FIG. 6 is a view showing a modification of the stage unit of the exposure apparatus. A calibration scale 62 and a reference plate 72 are attached to the upper surface of a support base 92 attached to the X stage mechanism 56. By attaching to the end portion side of the stage unit 50, it is easy to detect the position variation.

基準カメラの設置場所、基準板の設置場所は上記実施形態に限定されず、例えば、上方からの撮像ではなく下方からの撮像をおこなってもよい。また、アライメントカメラと同種ではないカメラなどによって撮像してもよい。さらに、基準板と撮像部を設けない構成でもよい。例えば、レーザーなどの光発信部をX方向に沿って放射し、ミラーで鉛直方向に反射させてその反射方向に設けられるフォトセンサで光を受光し、その受光位置のずれに基づいて校正スケールの位置ずれ量を算出してもよい。   The installation location of the reference camera and the installation location of the reference plate are not limited to the above-described embodiment, and for example, imaging from below may be performed instead of imaging from above. Moreover, you may image with the camera etc. which are not the same kind as an alignment camera. Furthermore, the structure which does not provide a reference | standard board and an imaging part may be sufficient. For example, a light transmission unit such as a laser is radiated along the X direction, reflected by a mirror in the vertical direction, and received by a photosensor provided in the reflection direction. A positional deviation amount may be calculated.

本実施形態では露光装置にアライメント装置が構成されているが、基板検査装置、基板穴あけ装置、部品実装装置など、ワークを対象にして作業を行う装置に組み込まれたアライメント装置にも適用可能である。   In the present embodiment, the alignment apparatus is configured in the exposure apparatus, but the present invention can also be applied to an alignment apparatus incorporated in an apparatus that performs work on a workpiece, such as a substrate inspection apparatus, a substrate drilling apparatus, or a component mounting apparatus. .

10 露光装置
50 ステージ部
52 テーブル
62 校正スケール
70 基準カメラ(撮像部、スケール位置測定部)
72 基準板(基準部材)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Exposure apparatus 50 Stage part 52 Table 62 Calibration scale 70 Reference camera (imaging part, scale position measurement part)
72 Reference plate (reference member)

Claims (10)

ワークに設けられたアライメントマークを撮像する少なくとも1つのアライメントカメラと、
装置本体部分に対して所定方向に移動するステージ部に取り付けられるとともに、前記アライメントカメラによって撮像される校正マークを複数並べた校正スケールと、
前記ステージ部が所定位置に位置決めされたときの前記装置本体部分に対する前記校正スケールもしくは所定の校正マークの位置変動を検出可能な位置ずれ測定部と
を備えたことを特徴とするアライメント装置。
At least one alignment camera that images an alignment mark provided on the workpiece;
A calibration scale that is attached to a stage portion that moves in a predetermined direction with respect to the apparatus main body portion, and that has a plurality of calibration marks imaged by the alignment camera,
An alignment apparatus comprising: a misalignment measuring unit capable of detecting a position variation of the calibration scale or a predetermined calibration mark with respect to the apparatus main body when the stage unit is positioned at a predetermined position.
前記位置ずれ測定部が、少なくともアライメントカメラ移動方向に関して前記装置本体部分に固定され、前記ステージ部に設けられる基準マークを撮像可能な撮像部を有することを特徴とする請求項1に記載のアライメント装置。   The alignment apparatus according to claim 1, wherein the misalignment measurement unit includes an imaging unit that is fixed to the apparatus main body portion at least with respect to an alignment camera moving direction and that can capture a reference mark provided on the stage unit. . 前記基準マークが、前記複数の校正マークの配列ラインに沿うように設けられていることを特徴とする請求項2に記載のアライメント装置。   The alignment apparatus according to claim 2, wherein the reference mark is provided along an array line of the plurality of calibration marks. 前記位置ずれ測定部が、前記基準マークを設けた基準部材を有し、
前記基準部材が、前記校正スケールの傍に配置されることを特徴とする請求項2又は3に記載のアライメント装置。
The positional deviation measuring unit has a reference member provided with the reference mark,
The alignment apparatus according to claim 2, wherein the reference member is disposed beside the calibration scale.
前記基準マークが、前記校正スケールに含まれることを特徴とする請求項2又は3に記載のアライメント装置。   The alignment apparatus according to claim 2, wherein the reference mark is included in the calibration scale. 前記撮像部が、前記アライメントカメラを支持するカメラベース部に対して固定されていることを特徴とする請求項2乃至5のいずれかに記載のアライメント装置。   The alignment apparatus according to claim 2, wherein the imaging unit is fixed to a camera base unit that supports the alignment camera. 前記校正スケールおよび前記基準マークが、前記ステージ部において、前記ワークを搭載するテーブル、もしくは前記テーブルの傍に設けられる校正スケール支持台に設けられていることを特徴とする請求項2乃至6のいずれかに記載のアライメント装置。   The said calibration scale and the said reference mark are provided in the calibration scale support stand provided in the table in which the said workpiece | work is mounted in the said stage part, or the said table. An alignment apparatus according to claim 1. 前記位置ずれ測定部によって検出された位置変動量に基づいて、前記校正スケールの位置ずれ量を補正することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のアライメント装置。   The alignment apparatus according to claim 1, wherein the positional deviation amount of the calibration scale is corrected based on a positional fluctuation amount detected by the positional deviation measuring unit. 前記請求項1乃至8のいずれかに記載のアライメント装置を備えたことを特徴とする露光装置。   An exposure apparatus comprising the alignment apparatus according to claim 1. ワークに設けられたアライメントマークをアライメントカメラによって撮像し、
装置本体部分に対して所定方向に移動するステージ部に取り付けられた校正スケールに設けられた複数の校正マークを、前記アライメントカメラによって撮像し、
前記装置本体部分に固定された前記アライメントカメラとは異なるカメラによって、前記ステージ部に設けられた前記校正マークとは異なる基準マークを撮像する方法であって、
前記基準マークの位置ずれ量から前記校正マークの位置ずれ量を補正可能となることを特徴とするアライメント方法。

The alignment mark provided on the work is imaged by the alignment camera,
A plurality of calibration marks provided on a calibration scale attached to a stage unit that moves in a predetermined direction with respect to the apparatus main body part is imaged by the alignment camera,
A method of imaging a reference mark different from the calibration mark provided on the stage unit by a camera different from the alignment camera fixed to the apparatus main body part,
An alignment method, wherein the positional deviation amount of the calibration mark can be corrected from the positional deviation amount of the reference mark.

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