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JP2007041244A - Stage position variation information acquisition method and apparatus - Google Patents

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JP2007041244A
JP2007041244A JP2005224857A JP2005224857A JP2007041244A JP 2007041244 A JP2007041244 A JP 2007041244A JP 2005224857 A JP2005224857 A JP 2005224857A JP 2005224857 A JP2005224857 A JP 2005224857A JP 2007041244 A JP2007041244 A JP 2007041244A
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JP
Japan
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stage
mark
reference position
variation information
position correction
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Application number
JP2005224857A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Terada
和広 寺田
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Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】 ステージを移送するとともに、各位置毎のステージの位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法において、より高精度な位置変動情報を取得する。
【解決手段】 予め設定された四角形Sの頂点となる移動ステージ14上の位置に4つの基準位置補正用マーク81aを設け、移動ステージ14の移送とともに4つの基準位置補正用マーク81aを撮像手段により順次撮像し、その撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、その取得した基準位置補正用マーク位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、上記基準位置および上記マークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得する。
【選択図】 図17
PROBLEM TO BE SOLVED: To acquire position fluctuation information with higher accuracy in a stage position fluctuation information acquisition method for transferring a stage and acquiring stage position fluctuation information for each position.
[MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Four reference position correction marks 81a are provided at a position on a moving stage 14 which is a vertex of a preset quadrangle S, and four reference position correction marks 81a are moved by an image pickup means as the moving stage 14 is moved. The reference position correction mark detection position information indicating the position of the reference position correction mark is acquired based on the position of the reference position correction mark image in the captured field-of-view image and the preset reference position. A stage based on the relationship between the square shape formed by the acquired reference position correction mark position information and the square shape formed by the reference position correction mark, and the reference position and the image position of the mark. The relative position variation information of is acquired.
[Selection] Figure 17

Description

本発明は、ステージ上に設けられたマークを撮像手段により撮像し、その撮像した視野画像におけるマークの画像の位置に基づいてマークの位置を測定し、その測定したマークの位置に基づいてステージの位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法および装置に関するものである。   In the present invention, the mark provided on the stage is imaged by the imaging means, the position of the mark is measured based on the position of the image of the mark in the captured field image, and the position of the stage is determined based on the measured position of the mark. The present invention relates to a stage position change information acquisition method and apparatus for acquiring position change information.

従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。   Conventionally, various exposure apparatuses using a photolithographic technique have been proposed as apparatuses for recording a predetermined pattern on a substrate of a flat panel display such as a printed wiring board or a liquid crystal display.

上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露光装置が提案されている。   As an exposure apparatus as described above, for example, a light beam is scanned in a main scanning direction and a sub scanning direction on a substrate coated with a photoresist, and the light beam is modulated based on exposure image data representing an exposure pattern. An exposure apparatus for forming an exposure pattern by doing so has been proposed.

また、上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス(以下、DMDという)等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。   Further, as the above exposure apparatus, for example, a spatial light modulation element such as a digital micromirror device (hereinafter referred to as DMD) is used, and a light beam is modulated by the spatial light modulation element according to exposure image data. Various exposure apparatuses that perform exposure are proposed.

そして、上記のような露光装置として、たとえば、基板が載置されたステージを所定の移送方向に移送するとともに、変調された光ビームを基板上に照射することによって所望の露光パターンを基板に形成する露光装置が提案されている(たとえば特許文献1参照)。   As an exposure apparatus as described above, for example, a stage on which a substrate is placed is transferred in a predetermined transfer direction, and a desired exposure pattern is formed on the substrate by irradiating the substrate with a modulated light beam. An exposure apparatus has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

そして、上記露光装置のようにステージの移送にともなって露光を行う場合、ステージを移送する所定の移送機構の機械的な制御精度などの影響により、ステージが蛇行したりヨーイング動作やピッチング動作をしたりしてしまい露光パターンに歪みを生じてしまう場合がある。   When exposure is performed as the stage is moved as in the above exposure apparatus, the stage meanders, yaws or pitches due to the influence of the mechanical control accuracy of a predetermined transfer mechanism for transferring the stage. And the exposure pattern may be distorted.

そこで、たとえば、特許文献2には、マークがステージの移送方向に所定の間隔を空けて多数配置されたマーク列を、ステージ上に上記移送方向に直交する方向に複数列設け、このマーク列のマークをステージの移送とともに、マーク列毎に設けられたカメラにより撮像し、そのマークの画像の位置を検出することによって上記移送方向における各位置のステージの位置変動量を取得し、その位置変動量を考慮して露光を行うことによって適切な露光パターンを露光する露光装置が提案されている。   Therefore, for example, in Patent Document 2, a plurality of mark rows in which a number of marks are arranged at predetermined intervals in the stage transfer direction are provided on the stage in a direction perpendicular to the transfer direction. The mark is imaged by a camera provided for each mark row together with the stage transfer, and the position fluctuation amount of the stage at each position in the transfer direction is obtained by detecting the position of the mark image, and the position fluctuation quantity An exposure apparatus that exposes an appropriate exposure pattern by performing exposure in consideration of the above has been proposed.

ここで、上記のように複数のカメラによって複数列のマーク列のマークを撮像してその画像の位置を検出する場合、各カメラの視野内における基準位置を設ける必要があり、この基準位置は各カメラの視野内の同じ位置に設定する必要がある。   Here, when images of marks in a plurality of rows are picked up by a plurality of cameras as described above and the positions of the images are detected, it is necessary to provide a reference position in the field of view of each camera. Must be set to the same position in the camera's field of view.

そこで、たとえば、上記移送方向に直交する方向に基準位置取得用マークを多数配置した基準位置取得用スケールをステージの先端に設け、上記基準位置取得用マークが各カメラの視野内の所定位置にくるまでステージを移送して上記基準位置取得用マークを撮像し、その撮像された視野画像における基準位置取得用マークの画像の位置を基準位置として取得する方法が考えられている。   Therefore, for example, a reference position acquisition scale in which a large number of reference position acquisition marks are arranged in a direction perpendicular to the transfer direction is provided at the tip of the stage, and the reference position acquisition mark is located at a predetermined position in the field of view of each camera. A method has been considered in which the stage is moved to image the reference position acquisition mark, and the position of the reference position acquisition mark image in the captured field-of-view image is acquired as the reference position.

特開2004−233718号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-233718 特開2000−321025号公報JP 2000-321025 A

しかしながら、上記のようにして基準位置を取得するようにした場合、たとえば、基準位置取得用スケールのステージへの設置精度や、基準位置取得用スケールにおける基準位置取得用マークの設置精度によって、基準位置取得用マークの並ぶ方向が、上記移送方向に直交する方向に対して傾斜する場合があり、このような傾斜が生じると各カメラ毎の基準位置が互いに異なる位置に設定されてしまい、これによりステージの位置変動量を取得するためのマークの位置を正確に測定することができず、ステージの高精度な位置変動量を取得することができない。   However, when the reference position is acquired as described above, the reference position is determined depending on, for example, the installation accuracy of the reference position acquisition scale on the stage or the installation accuracy of the reference position acquisition mark on the reference position acquisition scale. The direction in which the acquisition marks are arranged may be inclined with respect to the direction orthogonal to the transfer direction. When such an inclination occurs, the reference positions for the respective cameras are set to different positions, and thus the stage. Therefore, it is impossible to accurately measure the position of the mark for obtaining the position variation amount, and it is not possible to obtain a highly accurate position variation amount of the stage.

本発明は、上記事情に鑑み、上記のようなステージの位置変動量を取得するステージ位置変動情報取得方法および装置であって、上記のような基準位置のずれなどの影響を受けることなく、より高精度なステージ位置変動情報を取得することができるステージ位置変動情報取得方法および装置を提供することを目的とするものである。   In view of the above circumstances, the present invention is a stage position variation information acquisition method and apparatus for acquiring a stage position variation amount as described above, and is more effective without being affected by a reference position shift as described above. It is an object of the present invention to provide a stage position variation information acquisition method and apparatus capable of acquiring highly accurate stage position variation information.

本発明のステージ位置変動情報取得方法は、ステージ上を撮像する撮像手段に対してステージを相対的に移送するとともに、ステージ上に設けられたマークを撮像手段により撮像し、その撮像した視野画像におけるマークの画像の位置に基づいてマークの位置を測定し、その測定したマークの位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法において、予め設定された四角形の頂点となるステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークを設け、ステージの移送とともに4つの基準位置補正用マークを撮像手段により順次撮像し、その撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、その取得した基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得することを特徴とする
また、上記本発明のステージ位置変動情報取得方法においては、基準位置補正用マークを長尺なガラス部材に設け、長尺なガラス部材をステージ上で基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えて設置して基準位置補正用マークの撮像を行うようにすることができる。
In the stage position variation information acquisition method of the present invention, the stage is moved relative to the imaging means for imaging on the stage, the mark provided on the stage is imaged by the imaging means, and the captured field-of-view image In the stage position variation information acquisition method for measuring the position of the mark based on the position of the image of the mark and acquiring the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark, Four reference position correction marks are provided at positions on the stage, and the four reference position correction marks are sequentially picked up by the image pickup means as the stage is moved, and the position of the reference position correction mark image in the captured field image And a reference position correction mark detection position indicating the position of the reference position correction mark based on a preset reference position Information, and the relationship between the shape of the quadrangle formed by the acquired reference position correction mark detection position information and the shape of the quadrangle formed by the reference position correction mark, the reference position, and the position of the mark image In the stage position variation information acquisition method of the present invention, a reference position correction mark is provided on a long glass member, and the long glass is obtained. The member can be placed on the stage so as to be on a rectangular diagonal line formed by the reference position correction marks, and the reference position correction marks can be imaged.

また、長尺な部材を低熱膨張素材で形成するようにすることができる。   Moreover, a long member can be formed with a low thermal expansion material.

また、基準位置補正用マークを複数回撮像するようにすることができる。   Further, the reference position correction mark can be imaged a plurality of times.

本発明のステージ位置変動情報取得装置は、ステージ上を撮像する撮像手段に対してステージを相対的に移送するとともに、ステージ上に設けられたマークを撮像手段により撮像し、その撮像した視野画像におけるマークの画像の位置に基づいてマークの位置を測定し、その測定したマークの位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得装置において、予め設定された四角形の頂点となる前記ステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークが設けられており、ステージの移送とともに4つの基準位置補正用マークを撮像手段により順次撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得する基準位置補正用マーク検出位置情報取得部と、基準位置補正用マーク検出位置情報取得部により取得された基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得部とを備えたことを特徴とする。   The stage position variation information acquisition apparatus according to the present invention moves the stage relative to the imaging means for imaging the stage, images the marks provided on the stage by the imaging means, and in the captured field-of-view image In the stage position variation information acquisition device that measures the position of the mark based on the position of the image of the mark and acquires the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark, Four reference position correction marks are provided at the position on the stage, and the position of the reference position correction mark image in the field-of-view image obtained by sequentially imaging the four reference position correction marks by the image pickup means as the stage is moved. And reference position correction mark detection that indicates the position of the reference position correction mark based on a preset reference position A reference position correction mark detection position information acquisition unit for acquiring position information, and a rectangular shape formed by the reference position correction mark detection position information acquisition unit acquired by the reference position correction mark detection position information acquisition unit and the reference position correction And a stage position variation information acquisition unit that acquires relative position variation information of the stage based on the relationship with the rectangular shape formed by the mark for use, the reference position, and the position of the image of the mark. .

また、上記本発明のステージ位置変動情報取得装置においては、基準位置補正用マークを長尺なガラス部材に設け、その長尺なガラス部材を、ステージに対し着脱可能なものとするとともに、ステージ上で基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えられて設置されるものとすることができる。   In the stage position variation information acquisition apparatus of the present invention, the reference position correction mark is provided on a long glass member, and the long glass member can be attached to and detached from the stage. Thus, it can be installed so as to be on the diagonal of the quadrangle formed by the reference position correction mark.

また、長尺な部材を低熱膨張素材で形成するようにすることができる。   Moreover, a long member can be formed with a low thermal expansion material.

また、撮像手段を、基準位置補正用マークを複数回撮像するものとすることができる。   Further, the image pickup means can pick up the reference position correction mark a plurality of times.

ここで、上記「ステージ上に設ける」とは、ステージに直接設けることに限らず、ステージ上に設置される部材などを介して設けることも含むものとする。   Here, “providing on the stage” includes not only providing directly on the stage but also providing via a member installed on the stage.

また、上記「基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得する」とは、たとえば、基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状とのずれに基づいて上記基準位置を補正し、その補正された基準位置を用いてマークの画像の位置を取得し、その取得したマークの画像の位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するようにしてもよいし、上記基準位置を用いてマークの画像の位置を取得し、その取得したマークの画像の位置を、基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状とのずれに基づいて補正し、その補正されたマークの画像の位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するようにしてもよいし、上記基準位置を用いてマークの画像の位置を取得し、その取得したマークの画像の位置を用いてステージの相対的位置変動情報を取得し、その取得した相対的位置変動情報を、基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状とのずれに基づいて補正し、その補正した相対的位置変動情報を取得するようにしてもよい。   Further, based on the relationship between the square shape formed by the reference position correction mark detection position information and the square shape formed by the reference position correction mark, the reference position and the position of the image of the mark. “Acquisition of relative position variation information” means, for example, that the reference is based on a deviation between a square shape formed by the reference position correction mark detection position information and a square shape formed by the reference position correction mark. The position may be corrected, the position of the mark image may be acquired using the corrected reference position, and the relative position variation information of the stage may be acquired based on the acquired position of the mark image. The position of the mark image is acquired using the reference position, and the position of the acquired mark image is formed by the reference position correction mark detection position information. Correction is performed based on the deviation between the square shape and the square shape formed by the reference position correction mark, and the relative position variation information of the stage is acquired based on the position of the image of the corrected mark. Alternatively, the position of the image of the mark is acquired using the reference position, the relative position variation information of the stage is acquired using the position of the acquired image of the mark, and the acquired relative position variation information is obtained. The correction is performed based on the deviation between the square shape formed by the reference position correction mark detection position information and the square shape formed by the reference position correction mark, and the corrected relative position variation information is acquired. It may be.

本発明のステージ位置変動情報取得方法および装置によれば、予め設定された四角形の頂点となるステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークを設け、ステージの移送とともに4つの基準位置補正用マークを撮像手段により順次撮像し、その撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、その取得した基準位置補正用マーク位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するようにしたので、上記のような基準位置のずれなどの影響を受けることなく、より高精度なステージ位置変動情報を取得することができる   According to the stage position variation information acquisition method and apparatus of the present invention, four reference position correction marks are provided at positions on the stage that are the vertices of a preset square, and the four reference position correction marks are transferred along with the stage transfer. The reference position correction mark detection position indicating the position of the reference position correction mark based on the position of the reference position correction mark image in the captured field image and the preset reference position Information is acquired, based on the relationship between the rectangular shape formed by the acquired reference position correction mark position information and the rectangular shape formed by the reference position correction mark, the reference position, and the position of the mark image The relative position variation information of the stage is acquired, so that it is not affected by the deviation of the reference position as described above. Ri can be acquired with high precision stage position variation information

以下、図面を参照して本発明のステージ位置変動情報取得方法および装置の一実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。本露光装置は、基板が設置されたステージを所定の移送方向に移送するとともに、その移送にともなって上記ステージ上の基板に対して所定の露光パターンを露光する露光装置であって、特に、上記移送方向についての各位置毎のステージの位置変動情報を取得し、そのステージの位置情報に基づいて補正された露光パターンを露光する露光装置である。まずは、本露光装置の概略構成について説明する。図1は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。   Hereinafter, an exposure apparatus using an embodiment of an apparatus and method for acquiring stage position variation information according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present exposure apparatus is an exposure apparatus that transfers a stage on which a substrate is installed in a predetermined transfer direction and exposes a predetermined exposure pattern to the substrate on the stage along with the transfer. It is an exposure apparatus that acquires stage position fluctuation information for each position in the transfer direction and exposes an exposure pattern corrected based on the stage position information. First, a schematic configuration of the present exposure apparatus will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of the exposure apparatus.

露光装置10は、図1(A)に示すように、基板12を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ14を備えている。そして、4本の脚部16に支持された厚い板状の設置台18の上面には、ステージ移送方向(Y方向)に沿って延びた2本のガイド20が設置され、移動ステージ14はガイド20によって往復移送可能に支持されている。そして、移動ステージ14には、基板12だけでなくガラスチャート80が設置される。   As shown in FIG. 1A, the exposure apparatus 10 includes a flat moving stage 14 that holds the substrate 12 by adsorbing the substrate 12 to the surface. Two guides 20 extending along the stage transfer direction (Y direction) are installed on the upper surface of the thick plate-shaped installation table 18 supported by the four legs 16, and the moving stage 14 is a guide. 20 is supported so as to be able to reciprocate. And not only the board | substrate 12 but the glass chart 80 is installed in the movement stage 14. FIG.

ガラスチャート80は、図1(B)に示すように、ガラスによって形成された長尺な部材の上面に基準マーク80aが設けられたものであり、移動ステージ14上に着脱可能なように構成されている。基準マーク80aは、ガラス部材の上面に所定の間隔(たとえば、10.0mm間隔)を空けて設けられている。そして、ガラスチャート80は、図1(A)に示すように、基準マーク80aの列の延びる方向がステージ移送方向と一致するように移動ステージ14上に設置される。なお、ガラスチャートの設置方法およびその用途については後で詳述する。   As shown in FIG. 1B, the glass chart 80 is provided with a reference mark 80a on the upper surface of a long member made of glass, and is configured to be detachable on the moving stage 14. ing. The reference mark 80a is provided on the upper surface of the glass member with a predetermined interval (for example, 10.0 mm interval). As shown in FIG. 1A, the glass chart 80 is placed on the moving stage 14 so that the direction in which the rows of the reference marks 80a extend coincides with the stage transfer direction. In addition, the installation method of a glass chart and its use are explained in full detail later.

設置台18の中央部には、移動ステージ14の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート22が設けられている。コの字状のゲート22の端部の各々は、設置台18の両側面に固定されている。このゲート22を挟んで一方の側には後述するスキャナ24が設けられ、他方の側には基板12の先端および後端と、ガラスチャート80の基準マークとを撮像するための複数のカメラ26が設けられている。   A U-shaped gate 22 is provided at the center of the installation table 18 so as to straddle the moving path of the moving stage 14. Each end of the U-shaped gate 22 is fixed to both side surfaces of the installation base 18. A scanner 24 to be described later is provided on one side of the gate 22, and a plurality of cameras 26 for imaging the front and rear ends of the substrate 12 and the reference mark of the glass chart 80 are provided on the other side. Is provided.

スキャナ24およびカメラ26はゲート22に各々取り付けられて、移動ステージ14の移動経路の上方に固定配置されている。スキャナ24およびカメラ26は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。   The scanner 24 and the camera 26 are respectively attached to the gate 22 and fixedly arranged above the moving path of the moving stage 14. The scanner 24 and the camera 26 are connected to a controller (described later) that controls them.

スキャナ24は、図2および図3(B)に示すように、2行5列の略マトリックス状に配列された10個の露光ヘッド30(30A〜30J)を備えている。   As shown in FIGS. 2 and 3B, the scanner 24 includes ten exposure heads 30 (30A to 30J) arranged in a substantially matrix of 2 rows and 5 columns.

各露光ヘッド30の内部には、図4に示すように、入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子(SLM)であるデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)36が設けられている。DMD36は、マイクロミラー38が直交する方向に2次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー38の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド30による露光エリア32A〜32Jは、図3(A)に示すように、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、ステージ14の移動に伴い、基板12には露光ヘッド30ごとに帯状の露光済み領域34が形成される。なお、各露光ヘッド30に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。   As shown in FIG. 4, a digital micromirror device (DMD) 36 that is a spatial light modulation element (SLM) that spatially modulates an incident light beam is provided inside each exposure head 30. In the DMD 36, a large number of micromirrors 38 are two-dimensionally arranged in a direction orthogonal to each other, and the micromirrors 38 are attached so that the column direction of the micromirrors 38 forms a predetermined set inclination angle θ with the scanning direction. Therefore, the exposure areas 32A to 32J by each exposure head 30 are rectangular areas inclined with respect to the scanning direction, as shown in FIG. Along with the movement of the stage 14, a strip-shaped exposed region 34 is formed on the substrate 12 for each exposure head 30. Although a light source that makes a light beam incident on each exposure head 30 is not shown, for example, a laser light source or the like can be used.

露光ヘッド30の各々に設けられたDMD36は、マイクロミラー38単位でオン/オフ制御され、基板12には、DMD36のマイクロミラー38に対応したドットパターン(黒/白)が露光される。前述した帯状の露光済み領域34は、図4に示すマイクロミラー38に対応した2次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、実質的なドット間ピッチを狭めることができ、高解像度化を図ることができる。   The DMD 36 provided in each of the exposure heads 30 is on / off controlled in units of micromirrors 38, and the substrate 12 is exposed to a dot pattern (black / white) corresponding to the micromirrors 38 of the DMD 36. The aforementioned strip-shaped exposed region 34 is formed by two-dimensionally arranged dots corresponding to the micromirrors 38 shown in FIG. The two-dimensional array dot pattern is inclined with respect to the scanning direction, so that dots arranged in the scanning direction pass between dots arranged in the direction intersecting the scanning direction. The interval pitch can be narrowed, and high resolution can be achieved.

また、図3(A)および(B)に示すように、帯状の露光済み領域34のそれぞれが、隣接する露光済み領域34と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド30の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、1行目の最も左側に位置する露光エリア32A、露光エリア32Aの右隣に位置する露光エリア32Cとの間の露光できない部分は、2行目の最も左側に位置する露光エリア32Bにより露光される。同様に、露光エリア32Bと、露光エリア32Bの右隣に位置する露光エリア32Dとの間の露光できない部分は、露光エリア32Cにより露光される。   Further, as shown in FIGS. 3A and 3B, the exposure heads of the respective rows arranged in a line so that each of the strip-shaped exposed areas 34 partially overlaps the adjacent exposed areas 34. Each of 30 is arranged at a predetermined interval in the arrangement direction. For this reason, for example, the portion that cannot be exposed between the exposure area 32A located on the leftmost side of the first row and the exposure area 32C located on the right side of the exposure area 32A is the exposure area located on the leftmost side of the second row. It is exposed by 32B. Similarly, the portion that cannot be exposed between the exposure area 32B and the exposure area 32D located on the right side of the exposure area 32B is exposed by the exposure area 32C.

次に、露光装置10の電気的構成について説明する。   Next, the electrical configuration of the exposure apparatus 10 will be described.

露光装置10は、図5に示すように、CAM(Computer Aided Manufacturing)ステーションを有するデータ作成装置40から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスター変換するラスター変換部50と、カメラ26により撮影されたガラスチャート80の基準マーク80aの撮影画像に基づいて基準マーク80aの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部52と、検出位置情報取得部52により取得された検出位置情報に基づいて、所定位置における移動ステージ14の位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得部54と、ステージ位置変動情報取得部54により取得された移動ステージ14の位置変動情報に基づいて、露光すべき露光パターンを表わす露光画像データを補正する画像データ補正部56と、画像データ補正部56において補正された露光画像データに基づいて、各露光ヘッド30の各DMD36に供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド30に出力する露光ヘッド制御部58と、移動ステージ14をステージ移送方向へ移送する移送機構60と、移送機構60による移動ステージ14の移送距離情報を取得するリニアエンコーダ62と、本露光装置全体を制御するコントローラ70とを備えている。なお、移動機構60は、移動ステージ14をガイド20に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。また、上記各構成要素の作用については後で詳述する。   As shown in FIG. 5, the exposure apparatus 10 receives vector data representing an exposure pattern to be exposed, output from a data creation apparatus 40 having a CAM (Computer Aided Manufacturing) station, and performs raster conversion on the vector data. Acquired by the conversion unit 50, the detection position information acquisition unit 52 that acquires the detection position information of the reference mark 80 a based on the captured image of the reference mark 80 a of the glass chart 80 captured by the camera 26, and the detection position information acquisition unit 52. Based on the detected position information, a stage position fluctuation information acquisition unit 54 that acquires position fluctuation information of the movement stage 14 at a predetermined position, and the position fluctuation information of the movement stage 14 acquired by the stage position fluctuation information acquisition unit 54 Based on the exposure image data representing the exposure pattern to be exposed. Based on the image data correction unit 56 to be corrected and the exposure image data corrected by the image data correction unit 56, a control signal to be supplied to each DMD 36 of each exposure head 30 is generated, and the control signal is output to each exposure head 30. Controls the exposure head controller 58 that outputs to the stage, a transfer mechanism 60 that transfers the moving stage 14 in the stage transfer direction, a linear encoder 62 that acquires transfer distance information of the moving stage 14 by the transfer mechanism 60, and the entire exposure apparatus. And a controller 70. The moving mechanism 60 may adopt any known configuration as long as it moves the moving stage 14 back and forth along the guide 20. The operation of each component will be described in detail later.

次に、本露光装置10の作用について図面を参照しながら説明する。   Next, the operation of the exposure apparatus 10 will be described with reference to the drawings.

本露光装置10は、上述したように基板12が設置された移動ステージ14をステージ移送方向に移送し、その移送にともなって順次露光ヘッド制御部58から露光ヘッド30に制御信号を出力し、各露光ヘッド30のDMD36により移動ステージ14上の基板12に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パターンを基板12上に露光するものである。   As described above, the exposure apparatus 10 moves the moving stage 14 on which the substrate 12 is placed in the stage transfer direction, and sequentially outputs a control signal from the exposure head controller 58 to the exposure head 30 along with the transfer. A desired exposure pattern is exposed on the substrate 12 by forming exposure points in time series on the substrate 12 on the moving stage 14 by the DMD 36 of the exposure head 30.

ここで、上記のようにして移動ステージ14を移送しながら露光を行う際、移送機構60の機械的な制御精度などに起因して移動ステージ14が蛇行し、移動ステージ14上の基板12に露光される露光パターンに歪みが生じてしまう場合がある。   Here, when performing exposure while transferring the moving stage 14 as described above, the moving stage 14 meanders due to the mechanical control accuracy of the transfer mechanism 60 and the like, and the substrate 12 on the moving stage 14 is exposed. In some cases, the exposure pattern is distorted.

また、移動ステージ14の移送の際には、上記のような蛇行だけでなくヨーイングやピッチング振動も発生するため、これらを検出して補正する必要がある。   Further, when the moving stage 14 is transferred, not only the meandering as described above but also yawing and pitching vibration are generated. Therefore, it is necessary to detect and correct these.

そこで、本露光装置10においては、上記蛇行などによる移動ステージ14の位置変動情報を予め取得し、その位置変動情報に応じて露光画像データを補正し、その補正済露光画像データに基づいて露光を行うことによって、上記のような露光パターンの歪みを抑制する。   Therefore, in the present exposure apparatus 10, position fluctuation information of the moving stage 14 due to the meandering or the like is acquired in advance, exposure image data is corrected according to the position fluctuation information, and exposure is performed based on the corrected exposure image data. By doing so, distortion of the exposure pattern as described above is suppressed.

まずは移動ステージ14の位置変動情報の取得方法について説明する。   First, a method for acquiring position variation information of the moving stage 14 will be described.

[移動ステージの位置変動情報取得方法について]
まず、図1(A)および図6(A)に示すように、移動ステージ14のX方向についての一方の端部近傍の上面にガラスチャート80が設置される。なお、移動ステージ14の位置変動情報取得の際は、基板12は設置していてもよいし、設置していなくてもよい。そして、移動ステージ14は、図1(A)に示す位置から上流端へ一旦移送された後、下流側に向けて所望の速度で移送される。なお、上記上流側とは、図1(A)における右側、つまりゲート22に対してスキャナ24が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図1(B)における左側、つまりゲート22に対してカメラ26が設置されている側のことである。
[How to obtain information on the movement of the moving stage]
First, as shown in FIGS. 1 (A) and 6 (A), a glass chart 80 is installed on the upper surface in the vicinity of one end of the moving stage 14 in the X direction. Note that the substrate 12 may or may not be installed when acquiring the position variation information of the moving stage 14. The moving stage 14 is once transferred from the position shown in FIG. 1A to the upstream end, and then transferred to the downstream side at a desired speed. The upstream side is the right side in FIG. 1A, that is, the side where the scanner 24 is installed with respect to the gate 22, and the downstream side is the left side in FIG. This is the side where the camera 26 is installed with respect to the gate 22.

そして、移動ステージ14の下流側への移送にともなって、リニアエンコーダ62によりパルス信号がカウントされ、移送機構60による移動ステージ14の移送距離情報が上記パルス信号のカウント数として取得され、そのカウント数がコントローラ70に出力される。   As the moving stage 14 is transferred to the downstream side, the pulse signal is counted by the linear encoder 62, and the transfer distance information of the moving stage 14 by the transfer mechanism 60 is acquired as the count number of the pulse signal. Is output to the controller 70.

そして、コントローラ70は、予め設定されたカウント数毎に撮像制御信号をカメラ26に出力し、カメラ26は上記撮像制御信号に応じてガラスチャート80上の基準マーク80aを順次撮像する。なお、撮像制御信号が出力されるタイミングを示す上記カウント数は、ガラスチャート80に設けられた基準マーク80aの間隔に対応するカウント数に設定されている。たとえば、リニアエンコーダ62が0.1μmの移送距離毎に1パルスカウントするものであり、基準マーク80aが10.0mm間隔でガラスチャート80上に設けられている場合には、100000パルス(10.0mm/0.1μm)カウントされる毎にコントローラ70から撮像制御信号が出力される。上記のように制御することにより基準マーク80aの間隔に応じた撮像が可能となる。   Then, the controller 70 outputs an imaging control signal to the camera 26 for each preset count number, and the camera 26 sequentially images the reference marks 80a on the glass chart 80 in accordance with the imaging control signal. The count indicating the timing at which the imaging control signal is output is set to a count corresponding to the interval between the reference marks 80a provided on the glass chart 80. For example, when the linear encoder 62 counts one pulse every transfer distance of 0.1 μm and the reference marks 80a are provided on the glass chart 80 at intervals of 10.0 mm, 100,000 pulses (10.0 mm /0.1 μm) An imaging control signal is output from the controller 70 every time it is counted. By controlling as described above, it is possible to perform imaging according to the interval between the reference marks 80a.

そして、図7に示すような、基準マーク80aの基準マーク画像80bを含む視野画像80cが基準マーク80毎に順次撮像され、その視野画像データは検出位置情報取得部52に出力される。   Then, as shown in FIG. 7, a visual field image 80 c including the reference mark image 80 b of the reference mark 80 a is sequentially captured for each reference mark 80, and the visual field image data is output to the detection position information acquisition unit 52.

そして、図6(A)のようにガラスチャート80を設置した状態で、全ての基準マーク80aの撮像が終了すると、移動ステージ14は再び上流端まで戻される。そして、次に、図6(B)に示すように、移動ステージ14のX方向についての他方の端部近傍の上面にガラスチャート80が設置され、上記と同様にして基準マーク80aの撮像が行われ、その視野画像データが検出位置情報取得部52に出力される。なお、カメラ26は、その視野内にガラスチャート80の基準マーク80aが位置するように設置されているが、カメラ26をX方向に移動可能に支持し、カメラ26を、その視野内に基準マーク80aが位置するように移動させるようにしてもよい。   When the imaging of all the reference marks 80a is completed with the glass chart 80 installed as shown in FIG. 6A, the moving stage 14 is returned to the upstream end again. Next, as shown in FIG. 6B, a glass chart 80 is installed on the upper surface in the vicinity of the other end in the X direction of the moving stage 14, and imaging of the reference mark 80a is performed in the same manner as described above. The visual field image data is output to the detected position information acquisition unit 52. The camera 26 is installed so that the fiducial mark 80a of the glass chart 80 is located within the field of view. However, the camera 26 is supported so as to be movable in the X direction, and the camera 26 is disposed within the field of view. You may make it move so that 80a may be located.

ここで、検出位置情報取得部52には、図7に示すように、視野画像80c内の基準位置80dが予め設定されている。そして、検出位置情報取得部52は、移動ステージ14の各位置の各視野画像80c毎について、上記基準位置80dと実際に撮像された基準マーク画像80bとの位置ずれ量(x1,y1)を取得する。なお、上記基準位置80dは、上述したように基準マーク80aの撮像前に予め設定されるものであるが、その設定方法については後で詳述する。   Here, as shown in FIG. 7, the reference position 80d in the visual field image 80c is preset in the detection position information acquisition unit 52. Then, the detected position information acquisition unit 52 acquires the positional deviation amount (x1, y1) between the reference position 80d and the actually captured reference mark image 80b for each visual field image 80c at each position of the moving stage 14. To do. The reference position 80d is set in advance before imaging the reference mark 80a as described above. The setting method will be described in detail later.

なお、上記のようにして基準マーク80aの撮像を行って位置ずれ量(x1,y1)を取得する際、ガラスチャート80における基準マーク80aが、ガラスチャート80上の予め設定された位置(たとえば、10.0mm間隔)に設けられているか否かを予め既知の測定装置により測定しておき、基準マーク80aの位置が、予め設定された位置に対してずれている場合には、そのずれ量も考慮して上記位置ずれ量(x1,y1)を算出して取得することが望ましい。   When the reference mark 80a is imaged as described above to obtain the positional deviation amount (x1, y1), the reference mark 80a in the glass chart 80 is set to a preset position (for example, on the glass chart 80 (for example, (10.0 mm interval) is measured in advance by a known measuring device, and when the position of the reference mark 80a is deviated from a preset position, the amount of deviation is also determined. In consideration of the above, it is desirable to calculate and obtain the positional deviation amount (x1, y1).

そして、上記のようにして検出位置情報取得部52において取得された各視野画像80c毎の基準マーク画像80bの位置ずれ量が、各基準マーク80aの検出位置情報としてステージ位置変動情報取得部54に出力される。   Then, the displacement amount of the reference mark image 80b for each visual field image 80c acquired by the detection position information acquisition unit 52 as described above is transferred to the stage position variation information acquisition unit 54 as detection position information of each reference mark 80a. Is output.

そして、ステージ位置変動情報取得部54には、図8に示すように、移動ステージ14が蛇行などしなかった場合における、つまり移動ステージ14が理想的な状態で移送された場合における基準マーク80aの位置情報80e(以下「基準マーク位置情報」という。)の座標値が予め設定されており、この基準マーク位置情報80eの座標値と上記位置ずれ情報とに基づいて、実際の撮像された基準マーク80aの座標位置情報80fが取得される。なお、図8における縦軸は移動ステージ14上におけるX方向についての位置を示しており、横軸は移動ステージ14のY方向についての移送距離位置を示している。   Then, as shown in FIG. 8, the stage position variation information acquisition unit 54 receives the reference mark 80a when the moving stage 14 does not meander, that is, when the moving stage 14 is transferred in an ideal state. The coordinate value of the position information 80e (hereinafter referred to as “reference mark position information”) is set in advance. Based on the coordinate value of the reference mark position information 80e and the positional deviation information, the actual captured reference mark is captured. The coordinate position information 80f of 80a is acquired. Note that the vertical axis in FIG. 8 indicates the position in the X direction on the moving stage 14, and the horizontal axis indicates the transfer distance position in the Y direction of the moving stage 14.

そして、上記のようにして取得された座標位置情報80fの座標値に基づいて、所定の移送距離位置に位置する移動ステージ14の位置変動情報が取得される。以下に、たとえば、図8に示す移送距離位置Pの位置に移動ステージ14が位置する場合におけるその位置変動情報の算出方法を具体的に説明する。   Then, based on the coordinate value of the coordinate position information 80f acquired as described above, the position variation information of the moving stage 14 located at the predetermined transfer distance position is acquired. Hereinafter, for example, a method of calculating the position variation information when the moving stage 14 is located at the transfer distance position P shown in FIG. 8 will be specifically described.

移送距離位置Pにおける移動ステージ14の位置変動情報は、X方向についての移動ステージ14の位置変動量(以下「X方向位置変動量」という。)、Y方向についての移動ステージ14の位置変動量(以下「Y方向位置変動量」という。)、回転方向(θ方向)についての移動ステージ14の位置変動量(以下「θ方向位置変動量」という。)として取得される。   The position fluctuation information of the moving stage 14 at the transfer distance position P includes the position fluctuation amount of the moving stage 14 in the X direction (hereinafter referred to as “X direction position fluctuation amount”) and the position fluctuation amount of the moving stage 14 in the Y direction ( Hereinafter referred to as “Y-direction position fluctuation amount”), and the position fluctuation amount of the moving stage 14 in the rotation direction (θ direction) (hereinafter referred to as “θ-direction position fluctuation amount”).

具体的には、Y方向位置変動量を求める際には、まず、座標位置情報Aと座標位置情報Bとを結ぶ直線Lが求められるとともに、座標位置情報Cと座標位置情報Dとを結ぶ直線Mが求められる。そして、座標位置情報Aと座標位置情報Bとの中点C1と、座標位置情報Cと座標位置情報Dとの中点C2との距離dYが求められる。このdYの値がY方向位置変動量となる。なお、ステージの位置を定義する点を、座標位置情報Aと座標位置情報Dとを通る直線と、座標位置情報Bと座標位置情報Cとを通る直線とから等距離の位置と仮定した場合には、dYは、たとえば、下式によって算出することができる。   Specifically, when obtaining the Y-direction position variation amount, first, a straight line L connecting the coordinate position information A and the coordinate position information B is obtained, and a straight line connecting the coordinate position information C and the coordinate position information D. M is required. Then, the distance dY between the midpoint C1 of the coordinate position information A and the coordinate position information B and the midpoint C2 of the coordinate position information C and the coordinate position information D is obtained. The value of dY is the Y-direction position variation amount. When the point defining the position of the stage is assumed to be an equidistant position from a straight line passing through the coordinate position information A and the coordinate position information D and a straight line passing through the coordinate position information B and the coordinate position information C. DY can be calculated by the following equation, for example.

dY = (D1+D2)/2
ただし、D1:座標位置情報Cのy座標値から座標位置情報Bのy座標値を減算した値
D2:座標位置情報Dのy座標値から座標位置情報Aのy座標値を減算した値
一般にステージ上の基準マークの位置は、ステージのθ方向の位置変動量の影響を受けるが、ステージの移動定義点から等距離に配置したマーク位置の平均位置を計算することで、θ方向位置変動量に起因するマーク位置変動が相殺され、Y方向の純粋な位置変動量を算出することができる。
dY = (D1 + D2) / 2
However, D1: Value obtained by subtracting the y coordinate value of the coordinate position information B from the y coordinate value of the coordinate position information C
D2: A value obtained by subtracting the y-coordinate value of the coordinate position information A from the y-coordinate value of the coordinate position information D. Generally, the position of the reference mark on the stage is affected by the position variation amount in the θ direction of the stage, but the stage is moved. By calculating the average position of the mark positions arranged equidistant from the definition point, the mark position fluctuation caused by the θ-direction position fluctuation amount is canceled out, and the pure position fluctuation amount in the Y direction can be calculated.

そして、θ方向位置変動量を求める際には、座標位置情報Bを通過するとともに、直線Mと同じ傾きを有する直線Nが求められる。そして、直線Nと直線Lとがなす角dθが求められる。dθは、たとえば、下式によって近似値を算出することができる。このdθの値がθ方向位置変動量となる。   And when calculating | requiring (theta) direction position variation | change_quantity, while passing the coordinate position information B, the straight line N which has the same inclination as the straight line M is calculated | required. Then, an angle dθ formed by the straight line N and the straight line L is obtained. For dθ, for example, an approximate value can be calculated by the following equation. The value of dθ is the θ-direction position fluctuation amount.

dθ = (D2−D1)/E
ただし、D1:座標位置情報Cのy座標値から座標位置情報Bのy座標値を減算した値
D2:座標位置情報Dのy座標値から座標位置情報Aのy座標値を減算した値
E:座標位置情報Dのx座標値から座標位置情報Cのx座標値を減算した値
さらに、X方向位置変動量を求める際には、まず、中点C2のx座標から中点C1のx座標を減算した値dX’が求められる。そして、次に下式によってdXが算出される。このdXがX方向位置変動量となる。
dθ = (D2-D1) / E
However, D1: Value obtained by subtracting the y coordinate value of the coordinate position information B from the y coordinate value of the coordinate position information C
D2: Value obtained by subtracting the y coordinate value of the coordinate position information A from the y coordinate value of the coordinate position information D
E: Value obtained by subtracting the x-coordinate value of the coordinate position information C from the x-coordinate value of the coordinate position information D. Further, when obtaining the X-direction position fluctuation amount, first, the x coordinate of the midpoint C1 is determined from the x coordinate of the midpoint C2. A value dX ′ obtained by subtracting the coordinates is obtained. Then, dX is calculated by the following equation. This dX becomes the X direction position fluctuation amount.

dX = dX’− (Dy−Y0)・sin(dθ)
ただし、Dy:座標位置情報Dのy座標値
Y0:ステージの位置を定義する点Rのy座標値
なお、dX’から(Dy−Y0)・sin(dθ)を減算しているのは、移動ステージ14の回転によるX方向についての位置変動量を減算するためである。
dX = dX ′ − (Dy−Y0) · sin (dθ)
However, Dy: y-coordinate value of the coordinate position information D Y0: y-coordinate value of the point R defining the position of the stage Note that (Dy−Y0) · sin (dθ) is subtracted from dX ′ This is because the amount of position variation in the X direction due to the rotation of the stage 14 is subtracted.

上記のようにして移送距離位置Pにおける移動ステージ14の位置変動情報が、dY,dθ、dXとして取得される。   As described above, the position variation information of the moving stage 14 at the transfer distance position P is acquired as dY, dθ, dX.

そして、上記と同様にして、各基準マーク位置情報80eの各移送距離位置における移動ステージ14の位置変動量がそれぞれ算出される。   In the same manner as described above, the position fluctuation amount of the moving stage 14 at each transfer distance position of each reference mark position information 80e is calculated.

ここで、基準マーク80aは所定の間隔(たとえば10.0mm)で配置されているため位置変動量はY方向について離散的に取得され、連続的に取得することができない。したがって、ステージ位置変動情報取得部54においては、各移送距離位置毎に取得された位置変動情報について補間処理を行って、基準マーク80a間の移送距離位置における位置変動情報を算出する。具体的には、ステージ位置変動情報取得部54は、図9に示すように、X方向位置変動量dX、Y方向位置変動量dYおよびθ方向位置変動量のそれぞれについて、各移送距離位置について取得された位置変動情報(×印)を通過する蛇行曲線を求め、この蛇行曲線に基づいて基準マーク80a間の移送距離位置における位置変動情報を算出する。なお、本実施形態においては上記のように蛇行曲線を求めるようにしたが、その他如何なる補間処理を用いてもよい。   Here, since the reference marks 80a are arranged at a predetermined interval (for example, 10.0 mm), the amount of position variation is acquired discretely in the Y direction and cannot be acquired continuously. Therefore, the stage position variation information acquisition unit 54 performs interpolation processing on the position variation information acquired for each transfer distance position, and calculates position variation information at the transfer distance position between the reference marks 80a. Specifically, as shown in FIG. 9, the stage position variation information acquisition unit 54 acquires each transfer distance position for each of the X-direction position variation amount dX, the Y-direction position variation amount dY, and the θ-direction position variation amount. A meandering curve passing through the position fluctuation information (x mark) is obtained, and position fluctuation information at the transfer distance position between the reference marks 80a is calculated based on the meandering curve. In the present embodiment, the meandering curve is obtained as described above, but any other interpolation processing may be used.

そして、上記のようにしてステージ位置変動情報取得部54において取得された位置変動情報は、画像データ補正部56に出力される。   The position variation information acquired by the stage position variation information acquisition unit 54 as described above is output to the image data correction unit 56.

なお、上記実施形態においては、移動ステージ14の位置変動情報を取得する際、図6および図10(A)に示すように、ガラスチャート80を移動ステージ14の範囲内に収まるように設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしたので、たとえば、上記実施形態の露光装置のように、上流側に露光ヘッド39が設置され、下流側にカメラ26が設置されるような場合には、露光ヘッド30が移動ステージ14上の基板12の露光開始位置まできていてもカメラの視野内にガラスチャート80の基準マーク80aが到達していないため、図10(A)に示す間隔Dにおける移動ステージ14の位置変動情報を取得することができず、移動ステージ14の位置変動情報に応じた露光を行うことができない。   In the above embodiment, when the position variation information of the moving stage 14 is acquired, the glass chart 80 is installed so as to be within the range of the moving stage 14 as shown in FIGS. 6 and 10A. Since the fiducial mark 80a is imaged, for example, when the exposure head 39 is installed on the upstream side and the camera 26 is installed on the downstream side as in the exposure apparatus of the above embodiment, exposure is performed. Even if the head 30 reaches the exposure start position of the substrate 12 on the moving stage 14, the reference mark 80a of the glass chart 80 does not reach the field of view of the camera, so that the moving stage at the interval D shown in FIG. 14 position fluctuation information cannot be acquired, and exposure according to the position fluctuation information of the moving stage 14 cannot be performed.

そこで、たとえば、図10(B)および図11に示すように、ガラスチャート80を、移動ステージ14上の基板12の露光開始位置から少なくとも露光ヘッド30とカメラ26との間隔DだけY方向下流側に突出させて設置し、露光ヘッド30による露光位置が露光開始位置を通過する時点からの基準マーク80aの撮像を行うようにしてもよい。なお、この場合においても、上記と同様に、図11(A)のようにガラスチャート80を設置して基準マーク80aの撮像を行った後、図11(B)のようにガラスチャート80を置き換えて基準マーク80aの撮像を行う必要がある。   Therefore, for example, as shown in FIG. 10B and FIG. 11, the glass chart 80 is located downstream of the exposure start position of the substrate 12 on the moving stage 14 by at least a distance D between the exposure head 30 and the camera 26 in the Y direction. The reference mark 80a may be imaged from the time when the exposure position by the exposure head 30 passes the exposure start position. Also in this case, as described above, after the glass chart 80 is set as shown in FIG. 11A and the reference mark 80a is imaged, the glass chart 80 is replaced as shown in FIG. 11B. Therefore, it is necessary to image the reference mark 80a.

また、上記のようにガラスチャート80を移動ステージ14の先端から突出させて基準マーク80aを撮像するようにするのではなく、図11に示すように、カメラ26を露光ヘッド30行にX方向について隣接させて配置するようにしてもよい。   In addition, as described above, the glass chart 80 is not projected from the tip of the moving stage 14 and the reference mark 80a is imaged. As shown in FIG. You may make it arrange | position adjacent.

また、上記実施形態においては、1本のガラスチャート80を移動ステージ14上の2箇所について置き換えて基準マーク80aの撮像を行うようにしたが、2本のガラスチャート80を用いて、これらを移動ステージ14上の上記2箇所に設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしてもよい。なお、上記実施形態のように1本のガラスチャート80を置き換えて使用した方が、ガラスチャート毎の基準マーク80aの配置のばらつきを吸収することができるので、より高精度な位置変動情報の取得が可能である。   In the above-described embodiment, one glass chart 80 is replaced at two places on the moving stage 14 to capture the reference mark 80a. However, the two glass charts 80 are used to move these. The fiducial marks 80a may be imaged by installing them at the two locations on the stage 14. In addition, since the direction which replaced and used one glass chart 80 like the said embodiment can absorb the dispersion | variation in arrangement | positioning of the reference | standard mark 80a for every glass chart, more highly accurate acquisition of position variation information is possible. Is possible.

または、移動ステージ14のX方向についての幅と同等の幅を有する1枚のガラス板上に複数の基準マーク80a列を設けてガラスチャート80を構成するようにしてもよいが、上記実施形態のように、長尺部材によりガラスチャート80を構成するようにした方が持ち運びには便利である。   Alternatively, the glass chart 80 may be configured by providing a plurality of rows of reference marks 80a on a single glass plate having a width equivalent to the width of the moving stage 14 in the X direction. As described above, it is more convenient to carry the glass chart 80 with a long member.

また、上記実施形態においては、ガラスチャート80として、その長さが移動ステージのY方向の長さと同等のものを用いるようにしたが、移動ステージ14のY方向についての移送距離よりも短いガラスチャートを用い、このガラスチャートをY方向についてずらして設置するとともに、それぞれの設置箇所について基準マーク80aの撮像を行い、この各設置における撮像によって取得された基準マーク画像の位置を接続するようにしてもよい。上記のようにガラスチャート80を短くした方が持ち運びに便利である。   Moreover, in the said embodiment, although the length was used as the glass chart 80 whose length is equivalent to the length of the moving stage 14 in the Y direction, the glass chart is shorter than the transfer distance of the moving stage 14 in the Y direction. The glass chart is installed with a shift in the Y direction, the reference mark 80a is imaged at each installation location, and the positions of the reference mark images acquired by the imaging at each installation are connected. Good. As described above, shortening the glass chart 80 is convenient for carrying.

また、上記実施形態においては、移動ステージ14のX方向についての両端部近傍の上面にそれぞれ1本のガラスチャート80を設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしたが、図13(A),(B)に示すように、複数本のガラスチャート80を移動ステージ14上にそれぞれ設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしてもよい。上記のようにガラスチャート80を複数本設置する場合には、たとえば、外側に位置するガラスチャート80の基準マーク80aに基づいて、移動ステージ14の第1の位置変動情報を取得するとともに、内側に位置するガラスチャート80の基準マーク80に基づいて、移動ステージ14の第2の位置変動情報を取得し、第1の位置変動情報と第2の位置変動情報との平均などの統計量をとるようにすればよい。上記のように複数の位置変動情報の統計量を取得することによってより高精度な位置変動情報を取得することができる。   Further, in the above-described embodiment, one glass chart 80 is installed on each of the upper surfaces in the vicinity of both ends in the X direction of the moving stage 14 to capture the reference mark 80a. , (B), a plurality of glass charts 80 may be installed on the moving stage 14 to image the reference mark 80a. When installing a plurality of glass charts 80 as described above, for example, the first position variation information of the moving stage 14 is acquired based on the reference mark 80a of the glass chart 80 located on the outside, and on the inside. Based on the reference mark 80 of the glass chart 80 that is positioned, the second position variation information of the moving stage 14 is acquired, and a statistic such as an average of the first position variation information and the second position variation information is taken. You can do it. As described above, more accurate position variation information can be acquired by acquiring statistics of a plurality of position variation information.

そして、上記のようにして移動ステージ14の位置変動情報が取得された後、画像データ補正部56において、入力された位置変動情報に基づいて露光画像データに補正処理が施され、その補正済露光画像データに基づいて露光ヘッド30により露光が行われるが、上記露光処理の説明の前に、基準マーク画像80の位置ずれ量(x1,y1)を算出する際に用いられる基準位置80dの取得方法について説明する。   After the position variation information of the moving stage 14 is acquired as described above, the image data correction unit 56 performs a correction process on the exposure image data based on the input position variation information, and the corrected exposure is performed. Although exposure is performed by the exposure head 30 based on the image data, a method for obtaining the reference position 80d used when calculating the positional deviation amount (x1, y1) of the reference mark image 80 before the description of the exposure processing. Will be described.

[基準位置取得方法について]
まず、図14(A)に示すように、移動ステージ14のY方向下流側の先端に基準位置取得用スケール90が設置される。基準位置取得用スケール90は、基準位置取得用マーク90aが長尺部材の上面にその長さ方向に沿って一列に配置されて設けられたものであり、基準位置取得用マーク90aがY方向に直交する方向に並ぶように移動ステージ14に設置される。なお、基準位置取得用スケール90は移動ステージ14に固定するようにしてもよいし、着脱可能に設置するようにしてもよい。
[Reference position acquisition method]
First, as shown in FIG. 14A, a reference position acquisition scale 90 is installed at the tip of the moving stage 14 on the downstream side in the Y direction. The reference position acquisition scale 90 is provided with the reference position acquisition marks 90a arranged in a line along the length direction on the upper surface of the long member, and the reference position acquisition marks 90a are arranged in the Y direction. It is installed on the moving stage 14 so as to be aligned in the orthogonal direction. The reference position acquisition scale 90 may be fixed to the moving stage 14 or may be detachably installed.

そして、図14(A)のように基準位置取得用スケール90が設けられた移動ステージ14が、Y方向上流側から下流側に向けて所望の速度で移送される。そして、基準位置取得用マーク90aがカメラ26の視野内に位置する位置であって、予め設定された移送距離位置まで移動ステージ14が移送された時点において、カメラ26により基準位置取得用マーク90aが撮像される。   Then, the moving stage 14 provided with the reference position acquisition scale 90 as shown in FIG. 14A is transferred from the upstream side in the Y direction toward the downstream side at a desired speed. The reference position acquisition mark 90a is positioned at the position where the reference position acquisition mark 90a is in the field of view of the camera 26 and the moving stage 14 is transferred to a preset transfer distance position. Imaged.

そして、上記のようにして撮像された基準位置取得用マーク90aの基準位置取得用マーク画像を含む視野画像81c(図7参照)が検出位置情報取得部52に出力され、検出位置情報取得部52における基準位置設定部52aにおいて、上記視野画像81cにおける基準位置取得用マーク画像の位置が仮基準位置として取得される。   The visual field image 81c (see FIG. 7) including the reference position acquisition mark image of the reference position acquisition mark 90a imaged as described above is output to the detection position information acquisition unit 52, and the detection position information acquisition unit 52 The position of the reference position acquisition mark image in the visual field image 81c is acquired as a temporary reference position.

なお、上記基準位置取得用マーク画像が、上記視野画像81c内に複数存在する場合には、所定の設定規則に基づいていずれか1つの基準位置取得用マーク画像を選択するようにすればよいが、たとえば、視野画像81cの重心位置に最も近い基準位置取得用マーク画像の位置を仮基準位置として取得するようにすればよい。また、基準位置取得用マーク90aを、カメラ26の視野内に1つしか存在しないような間隔で設けるようにしてもよい。   If there are a plurality of reference position acquisition mark images in the field-of-view image 81c, one of the reference position acquisition mark images may be selected based on a predetermined setting rule. For example, the position of the reference position acquisition mark image closest to the gravity center position of the visual field image 81c may be acquired as the temporary reference position. Further, the reference position acquisition marks 90 a may be provided at intervals such that only one reference position acquisition mark 90 a exists in the field of view of the camera 26.

また、仮基準位置は、図6(A)に示すようにガラスチャート80が設置された場合における基準マーク列(以下「第1の基準マーク列」という。)と、図6(B)に示すようにガラスチャート80が設置された場合における基準マーク列(以下「第2の基準マーク列」という。)とに対応してそれぞれ設定される。本実施形態においては、上記第1の基準マーク列と第2の基準マーク列とが、別個のカメラ26で撮像されるので、各カメラ26毎にそれぞれ仮基準位置が設定される。なお、以下第1の基準マーク列に対応して設定された仮基準位置を「第1の仮基準位置」といい、第2の基準マーク列に対応して設定された仮基準位置を「第2の仮基準位置」という。   Further, the temporary reference position is shown in FIG. 6A as a reference mark row (hereinafter referred to as “first reference mark row”) when the glass chart 80 is installed as shown in FIG. 6A. As described above, the reference mark row (hereinafter referred to as “second reference mark row”) when the glass chart 80 is installed is set respectively. In the present embodiment, since the first reference mark row and the second reference mark row are imaged by separate cameras 26, a temporary reference position is set for each camera 26. Hereinafter, the temporary reference position set corresponding to the first reference mark row is referred to as “first temporary reference position”, and the temporary reference position set corresponding to the second reference mark row is referred to as “first reference mark row”. This is referred to as “2 temporary reference position”.

ここで、基準位置取得用スケール90における基準位置取得用マーク90aが、Y方向に対して直交する方向、つまりX方向に沿って並んでいる場合には、上記のようにして取得した仮基準位置をそのまま基準位置80dとすればよいが、たとえば、基準位置取得用スケール90に基準位置取得用マーク90aを設ける際の設置精度または移動ステージ14に基準位置取得用スケール90を設置する際の設置精度などに起因して、たとえば、図14(B)に示すように、基準位置取得用マーク90aが、X方向に対して角度αだけ傾いて設置される場合がある。なお、図14(B)に示すC線は基準位置取得用マーク90a列の中心軸である。   Here, when the reference position acquisition marks 90a on the reference position acquisition scale 90 are arranged in a direction orthogonal to the Y direction, that is, along the X direction, the temporary reference position acquired as described above. Can be used as the reference position 80d as it is, for example, installation accuracy when the reference position acquisition mark 90a is provided on the reference position acquisition scale 90 or installation accuracy when the reference position acquisition scale 90 is installed on the moving stage 14. For example, as shown in FIG. 14B, the reference position acquisition mark 90a may be installed at an angle α with respect to the X direction. The line C shown in FIG. 14B is the central axis of the reference position acquisition mark 90a row.

上記のように基準位置取得用マーク90a列の延びる方向が、X方向に対して傾いてしまうと、移動ステージ14上に配設された基準マークの正確な位置情報を取得できない。   As described above, if the extending direction of the reference position acquisition marks 90a is inclined with respect to the X direction, accurate position information of the reference marks arranged on the moving stage 14 cannot be acquired.

より具体的には、上記のように基準位置取得用マーク90a列の延びる方向が、X方向に対して傾くと、図15に示すように、本来、Y方向について同じ位置に存在する基準マーク80aの座標位置情報80f同士(たとえば、p1とp2、p3とp4)が、Y方向についてずれた位置となり、移動ステージ14上に配設された基準マークの正確な位置情報を取得することができない。   More specifically, when the extending direction of the reference position acquisition mark 90a row is inclined with respect to the X direction as described above, the reference mark 80a originally present at the same position in the Y direction as shown in FIG. The coordinate position information 80f (for example, p1 and p2, p3 and p4) are shifted from each other in the Y direction, and accurate position information of the reference mark disposed on the moving stage 14 cannot be acquired.

そこで、上記のような基準位置取得用マーク90a列の延びる方向のX方向に対する角度ずれ量αを取得し、この角度ずれ量αに基づいて仮基準位置を補正し、その補正された仮基準位置を基準位置80dとする。   Therefore, an angular deviation amount α with respect to the X direction in the extending direction of the reference position acquisition mark 90a row as described above is acquired, the temporary reference position is corrected based on the angular deviation amount α, and the corrected temporary reference position is corrected. Is a reference position 80d.

角度ずれ量αの取得方法としては、まず、図16(A)に示すように基準位置補正用ガラスチャート81を、Y方向(X方向)に対して所定の角度だけ傾けて配置し、移動ステージ14をY方向上流側から下流側に向けて所望の速度で移送する。そして、基準位置補正用ガラスチャート81における所定の2点の基準位置補正用マーク81aをカメラ26により撮像する。なお、撮像対象の基準位置補正用マーク81aは、基準位置補正用ガラスチャート81の長さ方向についての端部近傍に位置するものであることが望ましい。   As a method for obtaining the angle deviation amount α, first, as shown in FIG. 16A, a reference position correcting glass chart 81 is arranged to be inclined at a predetermined angle with respect to the Y direction (X direction), and a moving stage. 14 is transferred from the upstream side in the Y direction toward the downstream side at a desired speed. Then, two predetermined reference position correction marks 81 a on the reference position correction glass chart 81 are imaged by the camera 26. The reference position correction mark 81a to be imaged is desirably located in the vicinity of the end of the reference position correction glass chart 81 in the length direction.

そして、次に、図16(B)に示すように、図16(A)に示す位置に対してY方向に延びる軸Y1について対称となるように基準位置補正用ガラスチャート81が設置され、上記と同様にして、基準位置補正用ガラスチャート81における、上記所定の2点に対応する2点の基準位置補正用マーク81aをカメラ26による撮像する。なお、上記軸Y1はX方向についての中心軸である。また、図16(A)に示す状態で撮像される2点の基準位置補正用マーク81aと図16(B)に示す状態で撮像される2点の基準位置補正用マーク81aとは同じものである。また、撮像対象の4つの基準位置補正用マーク81aのX方向およびY方向についての位置は、基準位置補正用マーク位置情報として後述する基準位置ずれ量取得部52bに予め設定されている。   Then, as shown in FIG. 16B, a reference position correcting glass chart 81 is installed so as to be symmetric with respect to the axis Y1 extending in the Y direction with respect to the position shown in FIG. Similarly, two reference position correction marks 81a corresponding to the two predetermined points in the reference position correction glass chart 81 are imaged by the camera 26. The axis Y1 is a central axis in the X direction. Also, the two reference position correction marks 81a imaged in the state shown in FIG. 16A and the two reference position correction marks 81a imaged in the state shown in FIG. 16B are the same. is there. Further, the positions of the four reference position correction marks 81a to be imaged in the X direction and the Y direction are set in advance in a reference position deviation amount acquisition unit 52b described later as reference position correction mark position information.

上記のようにして予め設定された四角形Sの頂点となる基準位置補正用マーク80aの撮像が行われる。   As described above, the reference position correction mark 80a that is the apex of the rectangle S set in advance is imaged.

そして、上記のようにして撮像された4点の基準位置補正用マーク81aを含む視野画像が検出位置情報取得部52に出力され、検出位置情報取得部52において、上記視野画像における、基準位置補正用マーク画像の位置と基準位置設定部52aに上記のようにして設定された仮基準位置との位置ずれ量が算出される。なお、このとき、上記第1の基準マーク列に沿った辺s1の両端の基準位置補正用マーク81aについては、上記第1の仮基準位置に基づいて位置ずれ量が算出され、上記第2の基準マーク列に沿った辺s2の両端の基準位置補正用マーク81aについては、上記第2の仮基準位置に基づいて位置ずれ量が算出される。   Then, the visual field image including the four reference position correction marks 81a imaged as described above is output to the detection position information acquisition unit 52, and the detection position information acquisition unit 52 performs the reference position correction in the visual field image. A positional deviation amount between the position of the mark image and the temporary reference position set as described above in the reference position setting unit 52a is calculated. At this time, with respect to the reference position correction marks 81a at both ends of the side s1 along the first reference mark row, a positional deviation amount is calculated based on the first temporary reference position, and the second For the reference position correction marks 81a at both ends of the side s2 along the reference mark row, the amount of displacement is calculated based on the second temporary reference position.

そして、上記のようにして取得された位置ずれ量は、基準位置ずれ量取得部52bに出力され、基準位置ずれ量取得部52bにおいては、入力された位置ずれ量と予め設定された基準位置補正用マーク位置情報とに基づいて、図17に示すような、各基準位置補正用マーク81a毎の基準位置補正用マーク検出位置情報81bが取得される。   The positional deviation amount acquired as described above is output to the reference positional deviation amount acquisition unit 52b. In the reference positional deviation amount acquisition unit 52b, the input positional deviation amount and a preset reference position correction are performed. Based on the mark position information for reference, reference position correction mark detection position information 81b for each reference position correction mark 81a as shown in FIG. 17 is acquired.

そして、基準位置ずれ量取得部52bにおいて、下式に基づいて角度ずれ量αが取得される。   In the reference position deviation amount acquisition unit 52b, the angle deviation amount α is acquired based on the following expression.

α = Arctan(D/DX) ≒ D/DX ={(L2−L1)/(4×DY)}/DX
ただし、L1:基準位置補正用マーク検出位置情報r1と
基準位置補正用マーク検出位置情報r4との距離
L2:基準位置補正用マーク検出位置情報r2と
基準位置補正用マーク検出位置情報r3との距離
DY:基準位置補正用マーク検出位置情報r3のy座標値から基準位置補正用
マーク検出位置情報r1のy座標値を減算した値
DX:基準位置補正用マーク検出位置情報r3のx座標値から基準位置補正用
マーク検出位置情報r4のx座標値を減算した値
そして、上記のようにして取得された角度ずれ量αに基づいて、検出位置情報取得部において基準位置設定部52aに設定された第1および第2の仮基準位置が補正されて正しい基準位置80dとして設定される。
α = Arctan (D / DX) ≈D / DX = {(L2 2 −L1 2 ) / (4 × DY)} / DX
However, L1: reference position correction mark detection position information r1 and
Distance to reference position correction mark detection position information r4
L2: Reference position correction mark detection position information r2 and
Distance to reference position correction mark detection position information r3
DY: For reference position correction from the y coordinate value of the reference position correction mark detection position information r3
A value obtained by subtracting the y-coordinate value of the mark detection position information r1
DX: For reference position correction from the x-coordinate value of the reference position correction mark detection position information r3
A value obtained by subtracting the x-coordinate value of the mark detection position information r4. Based on the angle deviation amount α acquired as described above, the first and first values set in the reference position setting unit 52a in the detection position information acquisition unit 2 is corrected and set as the correct reference position 80d.

なお、上記実施形態においては、上記のように角度ずれ量αを取得することによって第1の仮基準位置と第2の仮基準位置のY方向についてのずれ量を取得し、このずれ量に基づいて第1および第2の仮基準位置を補正して正しい基準位置80dを取得するようにしたが、たとえば、上記第1および第2の仮基準位置を用いて、上記と同様にして、移動ステージ14の位置変動情報を取得し、この位置変動情報を上記角度ずれ量αに基づいて補正するようにしてもよい。また、上記角度ずれ量αに基づいて、基準マーク80aの検出位置情報または座標位置情報80fを補正するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the amount of shift in the Y direction between the first temporary reference position and the second temporary reference position is acquired by acquiring the angle shift amount α as described above, and based on this shift amount. The first and second temporary reference positions are corrected to obtain the correct reference position 80d. For example, the first and second temporary reference positions are used in the same manner as described above. 14 position fluctuation information may be acquired, and the position fluctuation information may be corrected based on the angle shift amount α. Further, the detected position information or the coordinate position information 80f of the reference mark 80a may be corrected based on the angle deviation amount α.

また、上記実施形態においては、基準位置補正用ガラスチャート81を上記のように長尺部材から構成するようにしたが、これに限らず、たとえば、1枚のガラス板に4つ基準位置補正用マーク81aを設け、そのガラス板を移動ステージ14上に設置するようにしてもよい。なお、上記実施形態のように長尺部材から構成するようにした方が持ち運びなどが便利である。   Moreover, in the said embodiment, although the glass chart 81 for reference | standard position correction | amendment was comprised from the elongate member as mentioned above, it is not restricted to this, For example, it is for 4 reference | standard position correction | amendment on one glass plate. The mark 81a may be provided, and the glass plate may be installed on the moving stage 14. In addition, carrying around etc. is more convenient when it is constructed from a long member as in the above embodiment.

また、上記実施形態においては、1本の基準位置補正用ガラスチャート81を移動ステー14上で置き換えて4つの基準位置補正用マーク81aの撮像を行うようにしたが、これに限らず、2本の別個の基準位置補正用ガラスチャート81を用い、それぞれを移動ステージ14上において置き換えて4つの基準位置補正用マーク81aの撮像を行うようにしてもよい。この場合、2本の基準位置補正用ガラスチャート81は、撮像対象の基準位置補正用マーク81aのX方向およびY方向についての位置さえわかっていれば、必ずしも同じものでなくてもよい。なお、上記実施形態のように1本の基準位置補正用ガラスチャート81を用いるようにした方が、対角線上の2つの基準位置補正用マーク81aの距離のばらつきを吸収することができる。   Further, in the above embodiment, one reference position correction glass chart 81 is replaced on the moving stay 14 and the four reference position correction marks 81a are imaged. These separate reference position correction glass charts 81 may be used, and each of them may be replaced on the moving stage 14 to image the four reference position correction marks 81a. In this case, the two reference position correction glass charts 81 are not necessarily the same as long as the positions of the reference position correction marks 81a to be imaged are known in the X direction and the Y direction. Note that the use of one reference position correction glass chart 81 as in the above embodiment can absorb variations in the distance between the two reference position correction marks 81a on the diagonal.

また、移動ステージ14の位置変動情報を取得する際に用いたガラスチャート80を、基準位置補正用ガラスチャート81とし、ガラスチャート80の一部の基準マーク81aを基準位置補正用マーク81aとして利用するようにしてもよい。上記のようにすれば持ち運びも便利であり、コストの削減も図ることができる。   Further, the glass chart 80 used when acquiring the position variation information of the moving stage 14 is used as a reference position correcting glass chart 81, and a part of the reference marks 81a of the glass chart 80 is used as a reference position correcting mark 81a. You may do it. If it carries out as mentioned above, carrying around is convenient and can also aim at reduction of cost.

また、基準位置補正用ガラスチャート81は、必ずしもガラスで形成する必要はないが、低熱膨張素材で形成することが望ましい。   The reference position correcting glass chart 81 is not necessarily formed of glass, but is preferably formed of a low thermal expansion material.

次に、上記のようにして補正された基準位置80dに基づいて取得された移動ステージ14の位置変動情報を用いて基板12上に露光パターンを露光する方法について説明する。   Next, a method of exposing an exposure pattern on the substrate 12 using the position variation information of the moving stage 14 acquired based on the reference position 80d corrected as described above will be described.

[露光処理について]
まず、データ作成装置40において、基板12に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成され、そのベクトルデータはラスター変換部50に出力され、ラスター変換部50においてラスター変換され、ビットマップ形式の露光画像データにされた後、画像データ補正部56に出力され、一時記憶される。
[Exposure processing]
First, in the data creation device 40, vector data representing an exposure pattern to be exposed on the substrate 12 is created. The vector data is output to the raster conversion unit 50, raster-converted by the raster conversion unit 50, and exposed in a bitmap format. After being converted to image data, it is output to the image data correction unit 56 and temporarily stored.

そして、画像データ補正部56は、一時記憶された露光画像データに対し、入力された移動ステージ14の位置変動情報に基づいて補正処理を施し、その補正済露光画像データを露光ヘッド制御部58に出力する。   Then, the image data correction unit 56 performs correction processing on the temporarily stored exposure image data based on the input position variation information of the moving stage 14, and sends the corrected exposure image data to the exposure head control unit 58. Output.

上記補正処理とは、具体的には、たとえば、X方向位置変動量dXおよびY方向位置変動量dYに対しては、そのdXおよびdYに応じた量だけ露光画像データをX方向およびY方向にシフト処理するようにすればよい。また、θ方向位置変動量dθに対しては、そのdθに応じた角度だけ回転処理を施すようにすればよい。また、回転処理を行うのではなく、dθの成分をX方向およびY方向の成分に分解し、その成分だけさらにX方向およびY方向にシフト処理を施すようにしてもよい。なお、上記X方向位置変動量dX、Y方向位置変動量dYおよびθ方向位置変動量dθを相殺するような補正処理であれば、上記のようなシフト処理や回転処理に限らず如何なる既知の演算処理を施すようにしてもよい。   Specifically, for example, with respect to the X-direction position fluctuation amount dX and the Y-direction position fluctuation amount dY, the correction process is performed by changing the exposure image data in the X direction and the Y direction by an amount corresponding to the dX and dY. A shift process may be performed. In addition, the θ-direction position variation amount dθ may be rotated by an angle corresponding to the dθ. Instead of performing rotation processing, the component of dθ may be decomposed into components in the X direction and Y direction, and the shift processing may be further performed in the X direction and Y direction only by that component. In addition, as long as the correction process cancels out the X-direction position fluctuation amount dX, the Y-direction position fluctuation amount dY, and the θ-direction position fluctuation amount dθ, any known calculation is not limited to the shift process and the rotation process as described above. Processing may be performed.

そして、上記のようにして補正処理の施された補正済露光画像データは、露光ヘッド制御部58に出力される。   Then, the corrected exposure image data subjected to the correction process as described above is output to the exposure head controller 58.

なお、本実施形態においては、ベクトルデータをラスター変換した後、補正処理を施すようにしたが、ベクトル形式の露光画像データに補正処理を施した後、ラスター変換するようにしてもよい。   In this embodiment, correction processing is performed after raster conversion of vector data. Alternatively, raster conversion may be performed after correction processing is performed on exposure image data in vector format.

そして、移動ステージ14の位置変動情報が取得された後、再び移動ステージ14は上流端に移送される。そして、下流側に向けて所望の速度で移送され、基板12の先端がカメラ26により検出されると露光が開始される。   Then, after the position variation information of the moving stage 14 is acquired, the moving stage 14 is again transferred to the upstream end. Then, it is transferred toward the downstream side at a desired speed, and exposure is started when the tip of the substrate 12 is detected by the camera 26.

具体的には、露光ヘッド制御部58から各露光ヘッド30のDMD36に上記露光画像データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド30は入力された制御信号に基づいてDMD36のマイクロミラーをオン・オフさせて基板12を露光する。なお、露光ヘッド制御部58から各露光ヘッド30へ制御信号が出力される際には、基板12に対する各露光ヘッド30の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ14の移送にともなって順次露光ヘッド制御部58から各露光ヘッド30に出力される。   Specifically, a control signal based on the exposure image data is output from the exposure head controller 58 to the DMD 36 of each exposure head 30, and the exposure head 30 turns on / off the micromirror of the DMD 36 based on the input control signal. The substrate 12 is exposed by turning it off. When a control signal is output from the exposure head controller 58 to each exposure head 30, a control signal corresponding to each position of each exposure head 30 with respect to the substrate 12 is sequentially exposed as the moving stage 14 is transferred. Output from the head controller 58 to each exposure head 30.

また、上記実施形態においては、移動ステージ14の位置変動情報に基づいて露光画像データに補正を施すようにしたが、露光画像データに補正を施すのではなく、上記位置変動情報に基づいて、X方向位置変動量dX、Y方向位置変動量dYおよびθ方向位置変動量dθを相殺するように露光ヘッド30および移動ステージを相対的に移動させるようにしてもよい。   In the above embodiment, the exposure image data is corrected based on the position variation information of the moving stage 14, but the exposure image data is not corrected, but based on the position variation information. The exposure head 30 and the moving stage may be relatively moved so as to cancel the direction position fluctuation amount dX, the Y direction position fluctuation amount dY, and the θ direction position fluctuation amount dθ.

また、図18(A),(B)に示すように、透明なガラス板85と、このガラス板85を支持するガラス枠86と、ガラス枠86の一端をY方向軸周りに回転可能に支持する、Y方向に延設された回転軸87と、ガラス枠86の他端をX−Y平面に直交する方向(Z方向)に移動させる偏心カム88と、偏心カム88を軸支して回転させる電動モータ89とを設け、電動モータ89を制御して偏心カム88を回転させることによって、ガラス枠86をY方向軸周りに回転させ、露光ヘッド30から射出される露光ビームLeの位置をX方向に移動させてX方向位置変動量dXについての補正を行うようにしてもよい。   Further, as shown in FIGS. 18A and 18B, a transparent glass plate 85, a glass frame 86 that supports the glass plate 85, and one end of the glass frame 86 are supported so as to be rotatable around the Y-direction axis. A rotating shaft 87 extending in the Y direction, an eccentric cam 88 for moving the other end of the glass frame 86 in a direction (Z direction) perpendicular to the XY plane, and rotating with the eccentric cam 88 pivotally supported. An electric motor 89 for rotating the glass frame 86 around the Y direction axis by controlling the electric motor 89 to rotate the eccentric cam 88, and the position of the exposure beam Le emitted from the exposure head 30 is set to X. The X direction position variation amount dX may be corrected by moving in the direction.

また、上記と同様の機構を用いてガラス枠86をX方向軸周りに回転させることによって、露光ビームLeの位置をY方向に移動させてY方向位置変動量dYについての補正を行うようにしてもよい。   Further, by rotating the glass frame 86 around the X direction axis using the same mechanism as described above, the position of the exposure beam Le is moved in the Y direction to correct the Y direction position variation dY. Also good.

また、上記実施形態において、ガラスチャート80における基準マーク80a、基準位置取得用マーク90aおよび基準位置補正用マーク81aを撮像する際、1つのマークについて複数回の撮像を行い、複数のマーク画像の位置について平均など統計量を取得するようにしてもよい。上記のように平均化などすることによりカメラ26による撮像誤差をより小さくすることができる。   In the above-described embodiment, when the reference mark 80a, the reference position acquisition mark 90a, and the reference position correction mark 81a in the glass chart 80 are imaged, a plurality of times of imaging are performed for one mark, and the positions of the plurality of mark images are determined. Statistics such as an average may be acquired. By averaging as described above, an imaging error by the camera 26 can be further reduced.

また、上記実施形態では、空間光変調素子としてDMDを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。   In the above-described embodiment, the exposure apparatus including the DMD as the spatial light modulation element has been described. However, in addition to the reflective spatial light modulation element, a transmissive spatial light modulation element can also be used.

また、上記実施形態では、露光ヘッド30およびカメラ26に対して、移動ステージ14が移送される場合における移動ステージ14の位置変動情報の取得方法および装置について説明したが、ステージを固定とし、そのステージに対して露光ヘッド30およびカメラ26を移送する場合においても、上記同様にして、露光ヘッド30およびカメラ26に対するステージの相対的位置変動情報を取得することができる。   In the above embodiment, the method and apparatus for acquiring position variation information of the moving stage 14 when the moving stage 14 is transferred to the exposure head 30 and the camera 26 have been described. However, the stage is fixed and the stage is fixed. In contrast, when the exposure head 30 and the camera 26 are transferred, information on the relative position variation of the stage with respect to the exposure head 30 and the camera 26 can be acquired in the same manner as described above.

また、本発明におけるステージ位置変動情報取得方法および装置は、上記のような露光装置に限らず、描画対象が設置されたステージを描画ヘッドに対して相対的に移送して描画を行う描画装置にも適用可能である。   The stage position variation information acquisition method and apparatus according to the present invention is not limited to the exposure apparatus as described above, and is a drawing apparatus that performs drawing by moving a stage on which a drawing target is installed relative to the drawing head. Is also applicable.

(A)本発明のステージ位置変動情報取得方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図,(B)本発明のステージ位置変動情報取得方法および装置において用いられるガラスチャートの斜視図(A) The perspective view which shows schematic structure of the exposure apparatus using one Embodiment of the stage position variation information acquisition method and apparatus of this invention, (B) The glass chart used in the stage position variation information acquisition method and apparatus of this invention Perspective view 図1の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図1 is a perspective view showing the configuration of a scanner of the exposure apparatus in FIG. (A)は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、(B)は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図(A) is a plan view showing an exposed region formed on the exposure surface of the substrate, and (B) is a plan view showing an array of exposure areas by each exposure head. 図1の露光装置の露光ヘッドにおけるDMDを示す図The figure which shows DMD in the exposure head of the exposure apparatus of FIG. 本発明の一実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図1 is a block diagram showing an electrical configuration of an exposure apparatus using an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態を用いた露光装置において移動ステージの位置変動情報を取得する方法を説明するための図The figure for demonstrating the method to acquire the positional variation information of a movement stage in the exposure apparatus using one Embodiment of this invention. カメラにより撮像された視野画像を示す図The figure which shows the visual field image imaged with the camera 基準マークの検出位置情報に基づいて移動ステージの位置変動情報を取得する方法を説明するための図The figure for demonstrating the method to acquire the positional variation information of a movement stage based on the detection position information of a reference mark 移動ステージの位置変動情報を示す図Diagram showing position variation information of moving stage 移動ステージの位置変動情報取得方法のその他の実施形態を説明するための図The figure for demonstrating other embodiment of the position variation information acquisition method of a moving stage. 移動ステージの位置変動情報取得方法のその他の実施形態を説明するための図The figure for demonstrating other embodiment of the position variation information acquisition method of a moving stage. 移動ステージの位置変動情報取得方法のその他の実施形態を説明するための図The figure for demonstrating other embodiment of the position variation information acquisition method of a moving stage. 移動ステージの位置変動情報取得方法のその他の実施形態を説明するための図The figure for demonstrating other embodiment of the position variation information acquisition method of a moving stage. 基準マークの検出位置情報を取得する際に用いられる基準位置の取得方法を説明するための図The figure for demonstrating the acquisition method of the reference position used when acquiring the detection position information of a reference mark 基準位置を取得するための基準位置取得用マーク列がX方向に対して角度αだけ傾いて配置されている場合に取得される基準マークの座標位置情報を示す図The figure which shows the coordinate position information of the reference mark acquired when the reference position acquisition mark row | line | column for acquiring a reference position is inclined by angle (alpha) with respect to the X direction. 基準位置取得方法を説明するための図Diagram for explaining the reference position acquisition method 基準位置取得方法を説明するための図Diagram for explaining the reference position acquisition method 移動ステージの位置変動情報に基づいて機械的に露光パターンを補正する方法の一例を説明するための図The figure for demonstrating an example of the method of correct | amending an exposure pattern mechanically based on the positional variation information of a moving stage

符号の説明Explanation of symbols

10 露光装置
12 基板
14 移動ステージ
18 設置台
20 ガイド
22 ゲート
24 スキャナ
26 カメラ
30 露光ヘッド
32 露光エリア
36 DMD
52 検出位置情報取得部(基準位置補正用マーク検出位置情報取得部)
52a 基準位置設定部
52b 基準位置ずれ量取得部
54 ステージ位置変動情報取得部
80 ガラスチャート
80a 基準マーク80a
80b 基準マーク画像
80c 視野画像
80d 基準位置
80e 基準マーク位置情報
80f 基準マークの座標位置情報
81 基準位置補正用ガラスチャート
81a 基準位置補正用マーク
81b 基準位置補正用マーク検出位置情報
85 ガラス板
86 ガラス枠
87 回転軸
88 偏心カム
89 電動モータ
90 基準位置取得用スケール
90a 基準位置取得用マーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Exposure apparatus 12 Substrate 14 Moving stage 18 Installation stand 20 Guide 22 Gate 24 Scanner 26 Camera 30 Exposure head 32 Exposure area 36 DMD
52 Detection position information acquisition unit (reference position correction mark detection position information acquisition unit)
52a Reference position setting unit 52b Reference position deviation amount acquisition unit 54 Stage position variation information acquisition unit 80 Glass chart 80a Reference mark 80a
80b Reference mark image 80c Field of view image 80d Reference position 80e Reference mark position information 80f Reference mark coordinate position information 81 Reference position correction glass chart 81a Reference position correction mark 81b Reference position correction mark detection position information 85 Glass plate 86 Glass frame 87 Rotating shaft 88 Eccentric cam 89 Electric motor 90 Reference position acquisition scale 90a Reference position acquisition mark

Claims (8)

ステージ上を撮像する撮像手段に対して前記ステージを相対的に移送するとともに、前記ステージ上に予め設けられたマークを前記撮像手段により撮像し、該撮像した視野画像における前記マークの画像の位置に基づいて前記マークの位置を測定し、該測定したマークの位置に基づいて前記ステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法において、
予め設定された四角形の頂点となる前記ステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークを設け、
前記ステージの移送とともに前記4つの基準位置補正用マークを前記撮像手段により順次撮像し、
該撮像した視野画像における前記基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて前記基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、
該取得した基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、前記基準位置および前記マークの画像の位置とに基づいて前記ステージの相対的位置変動情報を取得することを特徴とするステージ位置変動情報取得方法。
The stage is moved relative to the imaging means for imaging on the stage, and a mark provided in advance on the stage is imaged by the imaging means, and the image of the mark in the captured field image is located at the position of the image. In the stage position variation information acquisition method for measuring the position of the mark based on the position and acquiring the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark,
Four reference position correction marks are provided at positions on the stage that are the vertices of a preset rectangle,
The four reference position correction marks are sequentially imaged by the imaging means along with the transfer of the stage,
Obtaining reference position correction mark detection position information indicating the position of the reference position correction mark based on a position of the image of the reference position correction mark in the captured field image and a preset reference position;
Based on the relationship between the square shape formed by the acquired reference position correction mark detection position information and the square shape formed by the reference position correction mark, the reference position, and the position of the image of the mark. A stage position variation information acquisition method comprising acquiring relative position variation information of the stage.
前記基準位置補正用マークを長尺なガラス部材に設け、
該長尺なガラス部材を前記ステージ上で前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えて設置して前記基準位置補正用マークの撮像を行うことを特徴とする請求項1記載のステージ位置変動情報取得方法。
The reference position correction mark is provided on a long glass member,
The long glass member is replaced on the stage so as to be on a diagonal of a quadrangle formed by the reference position correction mark, and the reference position correction mark is imaged. Item 1. The stage position variation information acquisition method according to Item 1.
前記長尺な部材を低熱膨張素材で形成することを特徴とする請求項2記載のステージ位置変動情報取得方法。   3. The stage position variation information acquisition method according to claim 2, wherein the long member is formed of a low thermal expansion material. 前記基準位置補正用マークを複数回撮像することを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載のステージ位置変動情報取得方法。   4. The stage position variation information acquisition method according to claim 1, wherein the reference position correction mark is imaged a plurality of times. ステージ上を撮像する撮像手段に対して前記ステージを相対的に移送するとともに、前記ステージ上に設けられたマークを前記撮像手段により撮像し、該撮像した視野画像における前記マークの画像の位置に基づいて前記マークの位置を測定し、該測定したマークの位置に基づいて前記ステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得装置において、
予め設定された四角形の頂点となる前記ステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークが設けられており、
前記ステージの移送とともに前記4つの基準位置補正用マークを前記撮像手段により順次撮像した視野画像における前記基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて前記基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得する基準位置補正用マーク検出位置情報取得部と、
該基準位置補正用マーク検出位置情報取得部により取得された基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、前記基準位置および前記マークの画像の位置とに基づいて前記ステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得部とを備えたことを特徴とするステージ位置変動情報取得装置。
The stage is moved relative to the imaging means for imaging the stage, the mark provided on the stage is imaged by the imaging means, and based on the position of the image of the mark in the captured field image In the stage position variation information acquisition device that measures the position of the mark and acquires the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark,
Four reference position correction marks are provided at positions on the stage that are the vertices of a preset square,
Based on the position of the image of the reference position correction mark and the preset reference position in the field-of-view image obtained by sequentially capturing the four reference position correction marks by the imaging means along with the transfer of the stage, the reference position correction A reference position correction mark detection position information acquisition unit for acquiring reference position correction mark detection position information indicating the position of the mark;
The relationship between the rectangular shape formed by the reference position correction mark detection position information acquired by the reference position correction mark detection position information acquisition unit and the rectangular shape formed by the reference position correction mark, the reference A stage position variation information acquisition apparatus comprising: a stage position variation information acquisition unit configured to acquire relative position variation information of the stage based on the position and the position of the mark image.
前記基準位置補正用マークが長尺なガラス部材に設けられており、
該長尺なガラス部材が、前記ステージに対し着脱可能なものであるとともに、前記ステージ上で前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えられて設置されるものであることを特徴とする請求項5記載のステージ位置変動情報取得装置。
The reference position correction mark is provided on a long glass member,
The long glass member is detachable with respect to the stage, and is installed so as to be on a rectangular diagonal formed by the reference position correction mark on the stage. 6. The stage position variation information acquisition apparatus according to claim 5, wherein the stage position variation information acquisition apparatus is provided.
前記長尺な部材が低熱膨張素材で形成されていることを特徴とする請求項6記載のステージ位置変動情報取得装置。   The stage position variation information acquisition apparatus according to claim 6, wherein the long member is formed of a low thermal expansion material. 前記撮像手段が、前記基準位置補正用マークを複数回撮像するものであることを特徴とする請求項5から7いずれか1項記載のステージ位置変動情報取得装置。   8. The stage position variation information acquisition apparatus according to claim 5, wherein the imaging unit images the reference position correction mark a plurality of times.
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