JP2007041244A - Stage position variation information acquisition method and apparatus - Google Patents
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Abstract
【課題】 ステージを移送するとともに、各位置毎のステージの位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法において、より高精度な位置変動情報を取得する。
【解決手段】 予め設定された四角形Sの頂点となる移動ステージ14上の位置に4つの基準位置補正用マーク81aを設け、移動ステージ14の移送とともに4つの基準位置補正用マーク81aを撮像手段により順次撮像し、その撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、その取得した基準位置補正用マーク位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、上記基準位置および上記マークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得する。
【選択図】 図17PROBLEM TO BE SOLVED: To acquire position fluctuation information with higher accuracy in a stage position fluctuation information acquisition method for transferring a stage and acquiring stage position fluctuation information for each position.
[MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Four reference position correction marks 81a are provided at a position on a moving stage 14 which is a vertex of a preset quadrangle S, and four reference position correction marks 81a are moved by an image pickup means as the moving stage 14 is moved. The reference position correction mark detection position information indicating the position of the reference position correction mark is acquired based on the position of the reference position correction mark image in the captured field-of-view image and the preset reference position. A stage based on the relationship between the square shape formed by the acquired reference position correction mark position information and the square shape formed by the reference position correction mark, and the reference position and the image position of the mark. The relative position variation information of is acquired.
[Selection] Figure 17
Description
本発明は、ステージ上に設けられたマークを撮像手段により撮像し、その撮像した視野画像におけるマークの画像の位置に基づいてマークの位置を測定し、その測定したマークの位置に基づいてステージの位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法および装置に関するものである。 In the present invention, the mark provided on the stage is imaged by the imaging means, the position of the mark is measured based on the position of the image of the mark in the captured field image, and the position of the stage is determined based on the measured position of the mark. The present invention relates to a stage position change information acquisition method and apparatus for acquiring position change information.
従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。 Conventionally, various exposure apparatuses using a photolithographic technique have been proposed as apparatuses for recording a predetermined pattern on a substrate of a flat panel display such as a printed wiring board or a liquid crystal display.
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露光装置が提案されている。 As an exposure apparatus as described above, for example, a light beam is scanned in a main scanning direction and a sub scanning direction on a substrate coated with a photoresist, and the light beam is modulated based on exposure image data representing an exposure pattern. An exposure apparatus for forming an exposure pattern by doing so has been proposed.
また、上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス(以下、DMDという)等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。 Further, as the above exposure apparatus, for example, a spatial light modulation element such as a digital micromirror device (hereinafter referred to as DMD) is used, and a light beam is modulated by the spatial light modulation element according to exposure image data. Various exposure apparatuses that perform exposure are proposed.
そして、上記のような露光装置として、たとえば、基板が載置されたステージを所定の移送方向に移送するとともに、変調された光ビームを基板上に照射することによって所望の露光パターンを基板に形成する露光装置が提案されている(たとえば特許文献1参照)。 As an exposure apparatus as described above, for example, a stage on which a substrate is placed is transferred in a predetermined transfer direction, and a desired exposure pattern is formed on the substrate by irradiating the substrate with a modulated light beam. An exposure apparatus has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
そして、上記露光装置のようにステージの移送にともなって露光を行う場合、ステージを移送する所定の移送機構の機械的な制御精度などの影響により、ステージが蛇行したりヨーイング動作やピッチング動作をしたりしてしまい露光パターンに歪みを生じてしまう場合がある。 When exposure is performed as the stage is moved as in the above exposure apparatus, the stage meanders, yaws or pitches due to the influence of the mechanical control accuracy of a predetermined transfer mechanism for transferring the stage. And the exposure pattern may be distorted.
そこで、たとえば、特許文献2には、マークがステージの移送方向に所定の間隔を空けて多数配置されたマーク列を、ステージ上に上記移送方向に直交する方向に複数列設け、このマーク列のマークをステージの移送とともに、マーク列毎に設けられたカメラにより撮像し、そのマークの画像の位置を検出することによって上記移送方向における各位置のステージの位置変動量を取得し、その位置変動量を考慮して露光を行うことによって適切な露光パターンを露光する露光装置が提案されている。
Therefore, for example, in
ここで、上記のように複数のカメラによって複数列のマーク列のマークを撮像してその画像の位置を検出する場合、各カメラの視野内における基準位置を設ける必要があり、この基準位置は各カメラの視野内の同じ位置に設定する必要がある。 Here, when images of marks in a plurality of rows are picked up by a plurality of cameras as described above and the positions of the images are detected, it is necessary to provide a reference position in the field of view of each camera. Must be set to the same position in the camera's field of view.
そこで、たとえば、上記移送方向に直交する方向に基準位置取得用マークを多数配置した基準位置取得用スケールをステージの先端に設け、上記基準位置取得用マークが各カメラの視野内の所定位置にくるまでステージを移送して上記基準位置取得用マークを撮像し、その撮像された視野画像における基準位置取得用マークの画像の位置を基準位置として取得する方法が考えられている。 Therefore, for example, a reference position acquisition scale in which a large number of reference position acquisition marks are arranged in a direction perpendicular to the transfer direction is provided at the tip of the stage, and the reference position acquisition mark is located at a predetermined position in the field of view of each camera. A method has been considered in which the stage is moved to image the reference position acquisition mark, and the position of the reference position acquisition mark image in the captured field-of-view image is acquired as the reference position.
しかしながら、上記のようにして基準位置を取得するようにした場合、たとえば、基準位置取得用スケールのステージへの設置精度や、基準位置取得用スケールにおける基準位置取得用マークの設置精度によって、基準位置取得用マークの並ぶ方向が、上記移送方向に直交する方向に対して傾斜する場合があり、このような傾斜が生じると各カメラ毎の基準位置が互いに異なる位置に設定されてしまい、これによりステージの位置変動量を取得するためのマークの位置を正確に測定することができず、ステージの高精度な位置変動量を取得することができない。 However, when the reference position is acquired as described above, the reference position is determined depending on, for example, the installation accuracy of the reference position acquisition scale on the stage or the installation accuracy of the reference position acquisition mark on the reference position acquisition scale. The direction in which the acquisition marks are arranged may be inclined with respect to the direction orthogonal to the transfer direction. When such an inclination occurs, the reference positions for the respective cameras are set to different positions, and thus the stage. Therefore, it is impossible to accurately measure the position of the mark for obtaining the position variation amount, and it is not possible to obtain a highly accurate position variation amount of the stage.
本発明は、上記事情に鑑み、上記のようなステージの位置変動量を取得するステージ位置変動情報取得方法および装置であって、上記のような基準位置のずれなどの影響を受けることなく、より高精度なステージ位置変動情報を取得することができるステージ位置変動情報取得方法および装置を提供することを目的とするものである。 In view of the above circumstances, the present invention is a stage position variation information acquisition method and apparatus for acquiring a stage position variation amount as described above, and is more effective without being affected by a reference position shift as described above. It is an object of the present invention to provide a stage position variation information acquisition method and apparatus capable of acquiring highly accurate stage position variation information.
本発明のステージ位置変動情報取得方法は、ステージ上を撮像する撮像手段に対してステージを相対的に移送するとともに、ステージ上に設けられたマークを撮像手段により撮像し、その撮像した視野画像におけるマークの画像の位置に基づいてマークの位置を測定し、その測定したマークの位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得方法において、予め設定された四角形の頂点となるステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークを設け、ステージの移送とともに4つの基準位置補正用マークを撮像手段により順次撮像し、その撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、その取得した基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得することを特徴とする
また、上記本発明のステージ位置変動情報取得方法においては、基準位置補正用マークを長尺なガラス部材に設け、長尺なガラス部材をステージ上で基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えて設置して基準位置補正用マークの撮像を行うようにすることができる。
In the stage position variation information acquisition method of the present invention, the stage is moved relative to the imaging means for imaging on the stage, the mark provided on the stage is imaged by the imaging means, and the captured field-of-view image In the stage position variation information acquisition method for measuring the position of the mark based on the position of the image of the mark and acquiring the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark, Four reference position correction marks are provided at positions on the stage, and the four reference position correction marks are sequentially picked up by the image pickup means as the stage is moved, and the position of the reference position correction mark image in the captured field image And a reference position correction mark detection position indicating the position of the reference position correction mark based on a preset reference position Information, and the relationship between the shape of the quadrangle formed by the acquired reference position correction mark detection position information and the shape of the quadrangle formed by the reference position correction mark, the reference position, and the position of the mark image In the stage position variation information acquisition method of the present invention, a reference position correction mark is provided on a long glass member, and the long glass is obtained. The member can be placed on the stage so as to be on a rectangular diagonal line formed by the reference position correction marks, and the reference position correction marks can be imaged.
また、長尺な部材を低熱膨張素材で形成するようにすることができる。 Moreover, a long member can be formed with a low thermal expansion material.
また、基準位置補正用マークを複数回撮像するようにすることができる。 Further, the reference position correction mark can be imaged a plurality of times.
本発明のステージ位置変動情報取得装置は、ステージ上を撮像する撮像手段に対してステージを相対的に移送するとともに、ステージ上に設けられたマークを撮像手段により撮像し、その撮像した視野画像におけるマークの画像の位置に基づいてマークの位置を測定し、その測定したマークの位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得装置において、予め設定された四角形の頂点となる前記ステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークが設けられており、ステージの移送とともに4つの基準位置補正用マークを撮像手段により順次撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得する基準位置補正用マーク検出位置情報取得部と、基準位置補正用マーク検出位置情報取得部により取得された基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得部とを備えたことを特徴とする。 The stage position variation information acquisition apparatus according to the present invention moves the stage relative to the imaging means for imaging the stage, images the marks provided on the stage by the imaging means, and in the captured field-of-view image In the stage position variation information acquisition device that measures the position of the mark based on the position of the image of the mark and acquires the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark, Four reference position correction marks are provided at the position on the stage, and the position of the reference position correction mark image in the field-of-view image obtained by sequentially imaging the four reference position correction marks by the image pickup means as the stage is moved. And reference position correction mark detection that indicates the position of the reference position correction mark based on a preset reference position A reference position correction mark detection position information acquisition unit for acquiring position information, and a rectangular shape formed by the reference position correction mark detection position information acquisition unit acquired by the reference position correction mark detection position information acquisition unit and the reference position correction And a stage position variation information acquisition unit that acquires relative position variation information of the stage based on the relationship with the rectangular shape formed by the mark for use, the reference position, and the position of the image of the mark. .
また、上記本発明のステージ位置変動情報取得装置においては、基準位置補正用マークを長尺なガラス部材に設け、その長尺なガラス部材を、ステージに対し着脱可能なものとするとともに、ステージ上で基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えられて設置されるものとすることができる。 In the stage position variation information acquisition apparatus of the present invention, the reference position correction mark is provided on a long glass member, and the long glass member can be attached to and detached from the stage. Thus, it can be installed so as to be on the diagonal of the quadrangle formed by the reference position correction mark.
また、長尺な部材を低熱膨張素材で形成するようにすることができる。 Moreover, a long member can be formed with a low thermal expansion material.
また、撮像手段を、基準位置補正用マークを複数回撮像するものとすることができる。 Further, the image pickup means can pick up the reference position correction mark a plurality of times.
ここで、上記「ステージ上に設ける」とは、ステージに直接設けることに限らず、ステージ上に設置される部材などを介して設けることも含むものとする。 Here, “providing on the stage” includes not only providing directly on the stage but also providing via a member installed on the stage.
また、上記「基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得する」とは、たとえば、基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状とのずれに基づいて上記基準位置を補正し、その補正された基準位置を用いてマークの画像の位置を取得し、その取得したマークの画像の位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するようにしてもよいし、上記基準位置を用いてマークの画像の位置を取得し、その取得したマークの画像の位置を、基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状とのずれに基づいて補正し、その補正されたマークの画像の位置に基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するようにしてもよいし、上記基準位置を用いてマークの画像の位置を取得し、その取得したマークの画像の位置を用いてステージの相対的位置変動情報を取得し、その取得した相対的位置変動情報を、基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状とのずれに基づいて補正し、その補正した相対的位置変動情報を取得するようにしてもよい。 Further, based on the relationship between the square shape formed by the reference position correction mark detection position information and the square shape formed by the reference position correction mark, the reference position and the position of the image of the mark. “Acquisition of relative position variation information” means, for example, that the reference is based on a deviation between a square shape formed by the reference position correction mark detection position information and a square shape formed by the reference position correction mark. The position may be corrected, the position of the mark image may be acquired using the corrected reference position, and the relative position variation information of the stage may be acquired based on the acquired position of the mark image. The position of the mark image is acquired using the reference position, and the position of the acquired mark image is formed by the reference position correction mark detection position information. Correction is performed based on the deviation between the square shape and the square shape formed by the reference position correction mark, and the relative position variation information of the stage is acquired based on the position of the image of the corrected mark. Alternatively, the position of the image of the mark is acquired using the reference position, the relative position variation information of the stage is acquired using the position of the acquired image of the mark, and the acquired relative position variation information is obtained. The correction is performed based on the deviation between the square shape formed by the reference position correction mark detection position information and the square shape formed by the reference position correction mark, and the corrected relative position variation information is acquired. It may be.
本発明のステージ位置変動情報取得方法および装置によれば、予め設定された四角形の頂点となるステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークを設け、ステージの移送とともに4つの基準位置補正用マークを撮像手段により順次撮像し、その撮像した視野画像における基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、その取得した基準位置補正用マーク位置情報により形成される四角形の形状と基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、基準位置およびマークの画像の位置とに基づいてステージの相対的位置変動情報を取得するようにしたので、上記のような基準位置のずれなどの影響を受けることなく、より高精度なステージ位置変動情報を取得することができる According to the stage position variation information acquisition method and apparatus of the present invention, four reference position correction marks are provided at positions on the stage that are the vertices of a preset square, and the four reference position correction marks are transferred along with the stage transfer. The reference position correction mark detection position indicating the position of the reference position correction mark based on the position of the reference position correction mark image in the captured field image and the preset reference position Information is acquired, based on the relationship between the rectangular shape formed by the acquired reference position correction mark position information and the rectangular shape formed by the reference position correction mark, the reference position, and the position of the mark image The relative position variation information of the stage is acquired, so that it is not affected by the deviation of the reference position as described above. Ri can be acquired with high precision stage position variation information
以下、図面を参照して本発明のステージ位置変動情報取得方法および装置の一実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。本露光装置は、基板が設置されたステージを所定の移送方向に移送するとともに、その移送にともなって上記ステージ上の基板に対して所定の露光パターンを露光する露光装置であって、特に、上記移送方向についての各位置毎のステージの位置変動情報を取得し、そのステージの位置情報に基づいて補正された露光パターンを露光する露光装置である。まずは、本露光装置の概略構成について説明する。図1は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。 Hereinafter, an exposure apparatus using an embodiment of an apparatus and method for acquiring stage position variation information according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present exposure apparatus is an exposure apparatus that transfers a stage on which a substrate is installed in a predetermined transfer direction and exposes a predetermined exposure pattern to the substrate on the stage along with the transfer. It is an exposure apparatus that acquires stage position fluctuation information for each position in the transfer direction and exposes an exposure pattern corrected based on the stage position information. First, a schematic configuration of the present exposure apparatus will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of the exposure apparatus.
露光装置10は、図1(A)に示すように、基板12を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ14を備えている。そして、4本の脚部16に支持された厚い板状の設置台18の上面には、ステージ移送方向(Y方向)に沿って延びた2本のガイド20が設置され、移動ステージ14はガイド20によって往復移送可能に支持されている。そして、移動ステージ14には、基板12だけでなくガラスチャート80が設置される。
As shown in FIG. 1A, the
ガラスチャート80は、図1(B)に示すように、ガラスによって形成された長尺な部材の上面に基準マーク80aが設けられたものであり、移動ステージ14上に着脱可能なように構成されている。基準マーク80aは、ガラス部材の上面に所定の間隔(たとえば、10.0mm間隔)を空けて設けられている。そして、ガラスチャート80は、図1(A)に示すように、基準マーク80aの列の延びる方向がステージ移送方向と一致するように移動ステージ14上に設置される。なお、ガラスチャートの設置方法およびその用途については後で詳述する。
As shown in FIG. 1B, the
設置台18の中央部には、移動ステージ14の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート22が設けられている。コの字状のゲート22の端部の各々は、設置台18の両側面に固定されている。このゲート22を挟んで一方の側には後述するスキャナ24が設けられ、他方の側には基板12の先端および後端と、ガラスチャート80の基準マークとを撮像するための複数のカメラ26が設けられている。
A U-shaped
スキャナ24およびカメラ26はゲート22に各々取り付けられて、移動ステージ14の移動経路の上方に固定配置されている。スキャナ24およびカメラ26は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。
The
スキャナ24は、図2および図3(B)に示すように、2行5列の略マトリックス状に配列された10個の露光ヘッド30(30A〜30J)を備えている。
As shown in FIGS. 2 and 3B, the
各露光ヘッド30の内部には、図4に示すように、入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子(SLM)であるデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)36が設けられている。DMD36は、マイクロミラー38が直交する方向に2次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー38の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド30による露光エリア32A〜32Jは、図3(A)に示すように、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、ステージ14の移動に伴い、基板12には露光ヘッド30ごとに帯状の露光済み領域34が形成される。なお、各露光ヘッド30に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
As shown in FIG. 4, a digital micromirror device (DMD) 36 that is a spatial light modulation element (SLM) that spatially modulates an incident light beam is provided inside each
露光ヘッド30の各々に設けられたDMD36は、マイクロミラー38単位でオン/オフ制御され、基板12には、DMD36のマイクロミラー38に対応したドットパターン(黒/白)が露光される。前述した帯状の露光済み領域34は、図4に示すマイクロミラー38に対応した2次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、実質的なドット間ピッチを狭めることができ、高解像度化を図ることができる。
The
また、図3(A)および(B)に示すように、帯状の露光済み領域34のそれぞれが、隣接する露光済み領域34と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド30の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、1行目の最も左側に位置する露光エリア32A、露光エリア32Aの右隣に位置する露光エリア32Cとの間の露光できない部分は、2行目の最も左側に位置する露光エリア32Bにより露光される。同様に、露光エリア32Bと、露光エリア32Bの右隣に位置する露光エリア32Dとの間の露光できない部分は、露光エリア32Cにより露光される。
Further, as shown in FIGS. 3A and 3B, the exposure heads of the respective rows arranged in a line so that each of the strip-shaped exposed
次に、露光装置10の電気的構成について説明する。
Next, the electrical configuration of the
露光装置10は、図5に示すように、CAM(Computer Aided Manufacturing)ステーションを有するデータ作成装置40から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスター変換するラスター変換部50と、カメラ26により撮影されたガラスチャート80の基準マーク80aの撮影画像に基づいて基準マーク80aの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部52と、検出位置情報取得部52により取得された検出位置情報に基づいて、所定位置における移動ステージ14の位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得部54と、ステージ位置変動情報取得部54により取得された移動ステージ14の位置変動情報に基づいて、露光すべき露光パターンを表わす露光画像データを補正する画像データ補正部56と、画像データ補正部56において補正された露光画像データに基づいて、各露光ヘッド30の各DMD36に供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド30に出力する露光ヘッド制御部58と、移動ステージ14をステージ移送方向へ移送する移送機構60と、移送機構60による移動ステージ14の移送距離情報を取得するリニアエンコーダ62と、本露光装置全体を制御するコントローラ70とを備えている。なお、移動機構60は、移動ステージ14をガイド20に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。また、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
As shown in FIG. 5, the
次に、本露光装置10の作用について図面を参照しながら説明する。
Next, the operation of the
本露光装置10は、上述したように基板12が設置された移動ステージ14をステージ移送方向に移送し、その移送にともなって順次露光ヘッド制御部58から露光ヘッド30に制御信号を出力し、各露光ヘッド30のDMD36により移動ステージ14上の基板12に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パターンを基板12上に露光するものである。
As described above, the
ここで、上記のようにして移動ステージ14を移送しながら露光を行う際、移送機構60の機械的な制御精度などに起因して移動ステージ14が蛇行し、移動ステージ14上の基板12に露光される露光パターンに歪みが生じてしまう場合がある。
Here, when performing exposure while transferring the moving
また、移動ステージ14の移送の際には、上記のような蛇行だけでなくヨーイングやピッチング振動も発生するため、これらを検出して補正する必要がある。
Further, when the moving
そこで、本露光装置10においては、上記蛇行などによる移動ステージ14の位置変動情報を予め取得し、その位置変動情報に応じて露光画像データを補正し、その補正済露光画像データに基づいて露光を行うことによって、上記のような露光パターンの歪みを抑制する。
Therefore, in the
まずは移動ステージ14の位置変動情報の取得方法について説明する。
First, a method for acquiring position variation information of the moving
[移動ステージの位置変動情報取得方法について]
まず、図1(A)および図6(A)に示すように、移動ステージ14のX方向についての一方の端部近傍の上面にガラスチャート80が設置される。なお、移動ステージ14の位置変動情報取得の際は、基板12は設置していてもよいし、設置していなくてもよい。そして、移動ステージ14は、図1(A)に示す位置から上流端へ一旦移送された後、下流側に向けて所望の速度で移送される。なお、上記上流側とは、図1(A)における右側、つまりゲート22に対してスキャナ24が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図1(B)における左側、つまりゲート22に対してカメラ26が設置されている側のことである。
[How to obtain information on the movement of the moving stage]
First, as shown in FIGS. 1 (A) and 6 (A), a
そして、移動ステージ14の下流側への移送にともなって、リニアエンコーダ62によりパルス信号がカウントされ、移送機構60による移動ステージ14の移送距離情報が上記パルス信号のカウント数として取得され、そのカウント数がコントローラ70に出力される。
As the moving
そして、コントローラ70は、予め設定されたカウント数毎に撮像制御信号をカメラ26に出力し、カメラ26は上記撮像制御信号に応じてガラスチャート80上の基準マーク80aを順次撮像する。なお、撮像制御信号が出力されるタイミングを示す上記カウント数は、ガラスチャート80に設けられた基準マーク80aの間隔に対応するカウント数に設定されている。たとえば、リニアエンコーダ62が0.1μmの移送距離毎に1パルスカウントするものであり、基準マーク80aが10.0mm間隔でガラスチャート80上に設けられている場合には、100000パルス(10.0mm/0.1μm)カウントされる毎にコントローラ70から撮像制御信号が出力される。上記のように制御することにより基準マーク80aの間隔に応じた撮像が可能となる。
Then, the
そして、図7に示すような、基準マーク80aの基準マーク画像80bを含む視野画像80cが基準マーク80毎に順次撮像され、その視野画像データは検出位置情報取得部52に出力される。
Then, as shown in FIG. 7, a
そして、図6(A)のようにガラスチャート80を設置した状態で、全ての基準マーク80aの撮像が終了すると、移動ステージ14は再び上流端まで戻される。そして、次に、図6(B)に示すように、移動ステージ14のX方向についての他方の端部近傍の上面にガラスチャート80が設置され、上記と同様にして基準マーク80aの撮像が行われ、その視野画像データが検出位置情報取得部52に出力される。なお、カメラ26は、その視野内にガラスチャート80の基準マーク80aが位置するように設置されているが、カメラ26をX方向に移動可能に支持し、カメラ26を、その視野内に基準マーク80aが位置するように移動させるようにしてもよい。
When the imaging of all the
ここで、検出位置情報取得部52には、図7に示すように、視野画像80c内の基準位置80dが予め設定されている。そして、検出位置情報取得部52は、移動ステージ14の各位置の各視野画像80c毎について、上記基準位置80dと実際に撮像された基準マーク画像80bとの位置ずれ量(x1,y1)を取得する。なお、上記基準位置80dは、上述したように基準マーク80aの撮像前に予め設定されるものであるが、その設定方法については後で詳述する。
Here, as shown in FIG. 7, the
なお、上記のようにして基準マーク80aの撮像を行って位置ずれ量(x1,y1)を取得する際、ガラスチャート80における基準マーク80aが、ガラスチャート80上の予め設定された位置(たとえば、10.0mm間隔)に設けられているか否かを予め既知の測定装置により測定しておき、基準マーク80aの位置が、予め設定された位置に対してずれている場合には、そのずれ量も考慮して上記位置ずれ量(x1,y1)を算出して取得することが望ましい。
When the
そして、上記のようにして検出位置情報取得部52において取得された各視野画像80c毎の基準マーク画像80bの位置ずれ量が、各基準マーク80aの検出位置情報としてステージ位置変動情報取得部54に出力される。
Then, the displacement amount of the
そして、ステージ位置変動情報取得部54には、図8に示すように、移動ステージ14が蛇行などしなかった場合における、つまり移動ステージ14が理想的な状態で移送された場合における基準マーク80aの位置情報80e(以下「基準マーク位置情報」という。)の座標値が予め設定されており、この基準マーク位置情報80eの座標値と上記位置ずれ情報とに基づいて、実際の撮像された基準マーク80aの座標位置情報80fが取得される。なお、図8における縦軸は移動ステージ14上におけるX方向についての位置を示しており、横軸は移動ステージ14のY方向についての移送距離位置を示している。
Then, as shown in FIG. 8, the stage position variation
そして、上記のようにして取得された座標位置情報80fの座標値に基づいて、所定の移送距離位置に位置する移動ステージ14の位置変動情報が取得される。以下に、たとえば、図8に示す移送距離位置Pの位置に移動ステージ14が位置する場合におけるその位置変動情報の算出方法を具体的に説明する。
Then, based on the coordinate value of the coordinate
移送距離位置Pにおける移動ステージ14の位置変動情報は、X方向についての移動ステージ14の位置変動量(以下「X方向位置変動量」という。)、Y方向についての移動ステージ14の位置変動量(以下「Y方向位置変動量」という。)、回転方向(θ方向)についての移動ステージ14の位置変動量(以下「θ方向位置変動量」という。)として取得される。
The position fluctuation information of the moving
具体的には、Y方向位置変動量を求める際には、まず、座標位置情報Aと座標位置情報Bとを結ぶ直線Lが求められるとともに、座標位置情報Cと座標位置情報Dとを結ぶ直線Mが求められる。そして、座標位置情報Aと座標位置情報Bとの中点C1と、座標位置情報Cと座標位置情報Dとの中点C2との距離dYが求められる。このdYの値がY方向位置変動量となる。なお、ステージの位置を定義する点を、座標位置情報Aと座標位置情報Dとを通る直線と、座標位置情報Bと座標位置情報Cとを通る直線とから等距離の位置と仮定した場合には、dYは、たとえば、下式によって算出することができる。 Specifically, when obtaining the Y-direction position variation amount, first, a straight line L connecting the coordinate position information A and the coordinate position information B is obtained, and a straight line connecting the coordinate position information C and the coordinate position information D. M is required. Then, the distance dY between the midpoint C1 of the coordinate position information A and the coordinate position information B and the midpoint C2 of the coordinate position information C and the coordinate position information D is obtained. The value of dY is the Y-direction position variation amount. When the point defining the position of the stage is assumed to be an equidistant position from a straight line passing through the coordinate position information A and the coordinate position information D and a straight line passing through the coordinate position information B and the coordinate position information C. DY can be calculated by the following equation, for example.
dY = (D1+D2)/2
ただし、D1:座標位置情報Cのy座標値から座標位置情報Bのy座標値を減算した値
D2:座標位置情報Dのy座標値から座標位置情報Aのy座標値を減算した値
一般にステージ上の基準マークの位置は、ステージのθ方向の位置変動量の影響を受けるが、ステージの移動定義点から等距離に配置したマーク位置の平均位置を計算することで、θ方向位置変動量に起因するマーク位置変動が相殺され、Y方向の純粋な位置変動量を算出することができる。
dY = (D1 + D2) / 2
However, D1: Value obtained by subtracting the y coordinate value of the coordinate position information B from the y coordinate value of the coordinate position information C
D2: A value obtained by subtracting the y-coordinate value of the coordinate position information A from the y-coordinate value of the coordinate position information D. Generally, the position of the reference mark on the stage is affected by the position variation amount in the θ direction of the stage, but the stage is moved. By calculating the average position of the mark positions arranged equidistant from the definition point, the mark position fluctuation caused by the θ-direction position fluctuation amount is canceled out, and the pure position fluctuation amount in the Y direction can be calculated.
そして、θ方向位置変動量を求める際には、座標位置情報Bを通過するとともに、直線Mと同じ傾きを有する直線Nが求められる。そして、直線Nと直線Lとがなす角dθが求められる。dθは、たとえば、下式によって近似値を算出することができる。このdθの値がθ方向位置変動量となる。 And when calculating | requiring (theta) direction position variation | change_quantity, while passing the coordinate position information B, the straight line N which has the same inclination as the straight line M is calculated | required. Then, an angle dθ formed by the straight line N and the straight line L is obtained. For dθ, for example, an approximate value can be calculated by the following equation. The value of dθ is the θ-direction position fluctuation amount.
dθ = (D2−D1)/E
ただし、D1:座標位置情報Cのy座標値から座標位置情報Bのy座標値を減算した値
D2:座標位置情報Dのy座標値から座標位置情報Aのy座標値を減算した値
E:座標位置情報Dのx座標値から座標位置情報Cのx座標値を減算した値
さらに、X方向位置変動量を求める際には、まず、中点C2のx座標から中点C1のx座標を減算した値dX’が求められる。そして、次に下式によってdXが算出される。このdXがX方向位置変動量となる。
dθ = (D2-D1) / E
However, D1: Value obtained by subtracting the y coordinate value of the coordinate position information B from the y coordinate value of the coordinate position information C
D2: Value obtained by subtracting the y coordinate value of the coordinate position information A from the y coordinate value of the coordinate position information D
E: Value obtained by subtracting the x-coordinate value of the coordinate position information C from the x-coordinate value of the coordinate position information D. Further, when obtaining the X-direction position fluctuation amount, first, the x coordinate of the midpoint C1 is determined from the x coordinate of the midpoint C2. A value dX ′ obtained by subtracting the coordinates is obtained. Then, dX is calculated by the following equation. This dX becomes the X direction position fluctuation amount.
dX = dX’− (Dy−Y0)・sin(dθ)
ただし、Dy:座標位置情報Dのy座標値
Y0:ステージの位置を定義する点Rのy座標値
なお、dX’から(Dy−Y0)・sin(dθ)を減算しているのは、移動ステージ14の回転によるX方向についての位置変動量を減算するためである。
dX = dX ′ − (Dy−Y0) · sin (dθ)
However, Dy: y-coordinate value of the coordinate position information D Y0: y-coordinate value of the point R defining the position of the stage Note that (Dy−Y0) · sin (dθ) is subtracted from dX ′ This is because the amount of position variation in the X direction due to the rotation of the
上記のようにして移送距離位置Pにおける移動ステージ14の位置変動情報が、dY,dθ、dXとして取得される。
As described above, the position variation information of the moving
そして、上記と同様にして、各基準マーク位置情報80eの各移送距離位置における移動ステージ14の位置変動量がそれぞれ算出される。
In the same manner as described above, the position fluctuation amount of the moving
ここで、基準マーク80aは所定の間隔(たとえば10.0mm)で配置されているため位置変動量はY方向について離散的に取得され、連続的に取得することができない。したがって、ステージ位置変動情報取得部54においては、各移送距離位置毎に取得された位置変動情報について補間処理を行って、基準マーク80a間の移送距離位置における位置変動情報を算出する。具体的には、ステージ位置変動情報取得部54は、図9に示すように、X方向位置変動量dX、Y方向位置変動量dYおよびθ方向位置変動量のそれぞれについて、各移送距離位置について取得された位置変動情報(×印)を通過する蛇行曲線を求め、この蛇行曲線に基づいて基準マーク80a間の移送距離位置における位置変動情報を算出する。なお、本実施形態においては上記のように蛇行曲線を求めるようにしたが、その他如何なる補間処理を用いてもよい。
Here, since the reference marks 80a are arranged at a predetermined interval (for example, 10.0 mm), the amount of position variation is acquired discretely in the Y direction and cannot be acquired continuously. Therefore, the stage position variation
そして、上記のようにしてステージ位置変動情報取得部54において取得された位置変動情報は、画像データ補正部56に出力される。
The position variation information acquired by the stage position variation
なお、上記実施形態においては、移動ステージ14の位置変動情報を取得する際、図6および図10(A)に示すように、ガラスチャート80を移動ステージ14の範囲内に収まるように設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしたので、たとえば、上記実施形態の露光装置のように、上流側に露光ヘッド39が設置され、下流側にカメラ26が設置されるような場合には、露光ヘッド30が移動ステージ14上の基板12の露光開始位置まできていてもカメラの視野内にガラスチャート80の基準マーク80aが到達していないため、図10(A)に示す間隔Dにおける移動ステージ14の位置変動情報を取得することができず、移動ステージ14の位置変動情報に応じた露光を行うことができない。
In the above embodiment, when the position variation information of the moving
そこで、たとえば、図10(B)および図11に示すように、ガラスチャート80を、移動ステージ14上の基板12の露光開始位置から少なくとも露光ヘッド30とカメラ26との間隔DだけY方向下流側に突出させて設置し、露光ヘッド30による露光位置が露光開始位置を通過する時点からの基準マーク80aの撮像を行うようにしてもよい。なお、この場合においても、上記と同様に、図11(A)のようにガラスチャート80を設置して基準マーク80aの撮像を行った後、図11(B)のようにガラスチャート80を置き換えて基準マーク80aの撮像を行う必要がある。
Therefore, for example, as shown in FIG. 10B and FIG. 11, the
また、上記のようにガラスチャート80を移動ステージ14の先端から突出させて基準マーク80aを撮像するようにするのではなく、図11に示すように、カメラ26を露光ヘッド30行にX方向について隣接させて配置するようにしてもよい。
In addition, as described above, the
また、上記実施形態においては、1本のガラスチャート80を移動ステージ14上の2箇所について置き換えて基準マーク80aの撮像を行うようにしたが、2本のガラスチャート80を用いて、これらを移動ステージ14上の上記2箇所に設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしてもよい。なお、上記実施形態のように1本のガラスチャート80を置き換えて使用した方が、ガラスチャート毎の基準マーク80aの配置のばらつきを吸収することができるので、より高精度な位置変動情報の取得が可能である。
In the above-described embodiment, one
または、移動ステージ14のX方向についての幅と同等の幅を有する1枚のガラス板上に複数の基準マーク80a列を設けてガラスチャート80を構成するようにしてもよいが、上記実施形態のように、長尺部材によりガラスチャート80を構成するようにした方が持ち運びには便利である。
Alternatively, the
また、上記実施形態においては、ガラスチャート80として、その長さが移動ステージのY方向の長さと同等のものを用いるようにしたが、移動ステージ14のY方向についての移送距離よりも短いガラスチャートを用い、このガラスチャートをY方向についてずらして設置するとともに、それぞれの設置箇所について基準マーク80aの撮像を行い、この各設置における撮像によって取得された基準マーク画像の位置を接続するようにしてもよい。上記のようにガラスチャート80を短くした方が持ち運びに便利である。
Moreover, in the said embodiment, although the length was used as the
また、上記実施形態においては、移動ステージ14のX方向についての両端部近傍の上面にそれぞれ1本のガラスチャート80を設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしたが、図13(A),(B)に示すように、複数本のガラスチャート80を移動ステージ14上にそれぞれ設置して基準マーク80aの撮像を行うようにしてもよい。上記のようにガラスチャート80を複数本設置する場合には、たとえば、外側に位置するガラスチャート80の基準マーク80aに基づいて、移動ステージ14の第1の位置変動情報を取得するとともに、内側に位置するガラスチャート80の基準マーク80に基づいて、移動ステージ14の第2の位置変動情報を取得し、第1の位置変動情報と第2の位置変動情報との平均などの統計量をとるようにすればよい。上記のように複数の位置変動情報の統計量を取得することによってより高精度な位置変動情報を取得することができる。
Further, in the above-described embodiment, one
そして、上記のようにして移動ステージ14の位置変動情報が取得された後、画像データ補正部56において、入力された位置変動情報に基づいて露光画像データに補正処理が施され、その補正済露光画像データに基づいて露光ヘッド30により露光が行われるが、上記露光処理の説明の前に、基準マーク画像80の位置ずれ量(x1,y1)を算出する際に用いられる基準位置80dの取得方法について説明する。
After the position variation information of the moving
[基準位置取得方法について]
まず、図14(A)に示すように、移動ステージ14のY方向下流側の先端に基準位置取得用スケール90が設置される。基準位置取得用スケール90は、基準位置取得用マーク90aが長尺部材の上面にその長さ方向に沿って一列に配置されて設けられたものであり、基準位置取得用マーク90aがY方向に直交する方向に並ぶように移動ステージ14に設置される。なお、基準位置取得用スケール90は移動ステージ14に固定するようにしてもよいし、着脱可能に設置するようにしてもよい。
[Reference position acquisition method]
First, as shown in FIG. 14A, a reference
そして、図14(A)のように基準位置取得用スケール90が設けられた移動ステージ14が、Y方向上流側から下流側に向けて所望の速度で移送される。そして、基準位置取得用マーク90aがカメラ26の視野内に位置する位置であって、予め設定された移送距離位置まで移動ステージ14が移送された時点において、カメラ26により基準位置取得用マーク90aが撮像される。
Then, the moving
そして、上記のようにして撮像された基準位置取得用マーク90aの基準位置取得用マーク画像を含む視野画像81c(図7参照)が検出位置情報取得部52に出力され、検出位置情報取得部52における基準位置設定部52aにおいて、上記視野画像81cにおける基準位置取得用マーク画像の位置が仮基準位置として取得される。
The
なお、上記基準位置取得用マーク画像が、上記視野画像81c内に複数存在する場合には、所定の設定規則に基づいていずれか1つの基準位置取得用マーク画像を選択するようにすればよいが、たとえば、視野画像81cの重心位置に最も近い基準位置取得用マーク画像の位置を仮基準位置として取得するようにすればよい。また、基準位置取得用マーク90aを、カメラ26の視野内に1つしか存在しないような間隔で設けるようにしてもよい。
If there are a plurality of reference position acquisition mark images in the field-of-
また、仮基準位置は、図6(A)に示すようにガラスチャート80が設置された場合における基準マーク列(以下「第1の基準マーク列」という。)と、図6(B)に示すようにガラスチャート80が設置された場合における基準マーク列(以下「第2の基準マーク列」という。)とに対応してそれぞれ設定される。本実施形態においては、上記第1の基準マーク列と第2の基準マーク列とが、別個のカメラ26で撮像されるので、各カメラ26毎にそれぞれ仮基準位置が設定される。なお、以下第1の基準マーク列に対応して設定された仮基準位置を「第1の仮基準位置」といい、第2の基準マーク列に対応して設定された仮基準位置を「第2の仮基準位置」という。
Further, the temporary reference position is shown in FIG. 6A as a reference mark row (hereinafter referred to as “first reference mark row”) when the
ここで、基準位置取得用スケール90における基準位置取得用マーク90aが、Y方向に対して直交する方向、つまりX方向に沿って並んでいる場合には、上記のようにして取得した仮基準位置をそのまま基準位置80dとすればよいが、たとえば、基準位置取得用スケール90に基準位置取得用マーク90aを設ける際の設置精度または移動ステージ14に基準位置取得用スケール90を設置する際の設置精度などに起因して、たとえば、図14(B)に示すように、基準位置取得用マーク90aが、X方向に対して角度αだけ傾いて設置される場合がある。なお、図14(B)に示すC線は基準位置取得用マーク90a列の中心軸である。
Here, when the reference position acquisition marks 90a on the reference
上記のように基準位置取得用マーク90a列の延びる方向が、X方向に対して傾いてしまうと、移動ステージ14上に配設された基準マークの正確な位置情報を取得できない。
As described above, if the extending direction of the reference position acquisition marks 90a is inclined with respect to the X direction, accurate position information of the reference marks arranged on the moving
より具体的には、上記のように基準位置取得用マーク90a列の延びる方向が、X方向に対して傾くと、図15に示すように、本来、Y方向について同じ位置に存在する基準マーク80aの座標位置情報80f同士(たとえば、p1とp2、p3とp4)が、Y方向についてずれた位置となり、移動ステージ14上に配設された基準マークの正確な位置情報を取得することができない。
More specifically, when the extending direction of the reference
そこで、上記のような基準位置取得用マーク90a列の延びる方向のX方向に対する角度ずれ量αを取得し、この角度ずれ量αに基づいて仮基準位置を補正し、その補正された仮基準位置を基準位置80dとする。
Therefore, an angular deviation amount α with respect to the X direction in the extending direction of the reference
角度ずれ量αの取得方法としては、まず、図16(A)に示すように基準位置補正用ガラスチャート81を、Y方向(X方向)に対して所定の角度だけ傾けて配置し、移動ステージ14をY方向上流側から下流側に向けて所望の速度で移送する。そして、基準位置補正用ガラスチャート81における所定の2点の基準位置補正用マーク81aをカメラ26により撮像する。なお、撮像対象の基準位置補正用マーク81aは、基準位置補正用ガラスチャート81の長さ方向についての端部近傍に位置するものであることが望ましい。
As a method for obtaining the angle deviation amount α, first, as shown in FIG. 16A, a reference position correcting
そして、次に、図16(B)に示すように、図16(A)に示す位置に対してY方向に延びる軸Y1について対称となるように基準位置補正用ガラスチャート81が設置され、上記と同様にして、基準位置補正用ガラスチャート81における、上記所定の2点に対応する2点の基準位置補正用マーク81aをカメラ26による撮像する。なお、上記軸Y1はX方向についての中心軸である。また、図16(A)に示す状態で撮像される2点の基準位置補正用マーク81aと図16(B)に示す状態で撮像される2点の基準位置補正用マーク81aとは同じものである。また、撮像対象の4つの基準位置補正用マーク81aのX方向およびY方向についての位置は、基準位置補正用マーク位置情報として後述する基準位置ずれ量取得部52bに予め設定されている。
Then, as shown in FIG. 16B, a reference position correcting
上記のようにして予め設定された四角形Sの頂点となる基準位置補正用マーク80aの撮像が行われる。
As described above, the reference
そして、上記のようにして撮像された4点の基準位置補正用マーク81aを含む視野画像が検出位置情報取得部52に出力され、検出位置情報取得部52において、上記視野画像における、基準位置補正用マーク画像の位置と基準位置設定部52aに上記のようにして設定された仮基準位置との位置ずれ量が算出される。なお、このとき、上記第1の基準マーク列に沿った辺s1の両端の基準位置補正用マーク81aについては、上記第1の仮基準位置に基づいて位置ずれ量が算出され、上記第2の基準マーク列に沿った辺s2の両端の基準位置補正用マーク81aについては、上記第2の仮基準位置に基づいて位置ずれ量が算出される。
Then, the visual field image including the four reference position correction marks 81a imaged as described above is output to the detection position
そして、上記のようにして取得された位置ずれ量は、基準位置ずれ量取得部52bに出力され、基準位置ずれ量取得部52bにおいては、入力された位置ずれ量と予め設定された基準位置補正用マーク位置情報とに基づいて、図17に示すような、各基準位置補正用マーク81a毎の基準位置補正用マーク検出位置情報81bが取得される。
The positional deviation amount acquired as described above is output to the reference positional deviation
そして、基準位置ずれ量取得部52bにおいて、下式に基づいて角度ずれ量αが取得される。
In the reference position deviation
α = Arctan(D/DX) ≒ D/DX ={(L22−L12)/(4×DY)}/DX
ただし、L1:基準位置補正用マーク検出位置情報r1と
基準位置補正用マーク検出位置情報r4との距離
L2:基準位置補正用マーク検出位置情報r2と
基準位置補正用マーク検出位置情報r3との距離
DY:基準位置補正用マーク検出位置情報r3のy座標値から基準位置補正用
マーク検出位置情報r1のy座標値を減算した値
DX:基準位置補正用マーク検出位置情報r3のx座標値から基準位置補正用
マーク検出位置情報r4のx座標値を減算した値
そして、上記のようにして取得された角度ずれ量αに基づいて、検出位置情報取得部において基準位置設定部52aに設定された第1および第2の仮基準位置が補正されて正しい基準位置80dとして設定される。
α = Arctan (D / DX) ≈D / DX = {(L2 2 −L1 2 ) / (4 × DY)} / DX
However, L1: reference position correction mark detection position information r1 and
Distance to reference position correction mark detection position information r4
L2: Reference position correction mark detection position information r2 and
Distance to reference position correction mark detection position information r3
DY: For reference position correction from the y coordinate value of the reference position correction mark detection position information r3
A value obtained by subtracting the y-coordinate value of the mark detection position information r1
DX: For reference position correction from the x-coordinate value of the reference position correction mark detection position information r3
A value obtained by subtracting the x-coordinate value of the mark detection position information r4. Based on the angle deviation amount α acquired as described above, the first and first values set in the reference
なお、上記実施形態においては、上記のように角度ずれ量αを取得することによって第1の仮基準位置と第2の仮基準位置のY方向についてのずれ量を取得し、このずれ量に基づいて第1および第2の仮基準位置を補正して正しい基準位置80dを取得するようにしたが、たとえば、上記第1および第2の仮基準位置を用いて、上記と同様にして、移動ステージ14の位置変動情報を取得し、この位置変動情報を上記角度ずれ量αに基づいて補正するようにしてもよい。また、上記角度ずれ量αに基づいて、基準マーク80aの検出位置情報または座標位置情報80fを補正するようにしてもよい。
In the above-described embodiment, the amount of shift in the Y direction between the first temporary reference position and the second temporary reference position is acquired by acquiring the angle shift amount α as described above, and based on this shift amount. The first and second temporary reference positions are corrected to obtain the
また、上記実施形態においては、基準位置補正用ガラスチャート81を上記のように長尺部材から構成するようにしたが、これに限らず、たとえば、1枚のガラス板に4つ基準位置補正用マーク81aを設け、そのガラス板を移動ステージ14上に設置するようにしてもよい。なお、上記実施形態のように長尺部材から構成するようにした方が持ち運びなどが便利である。
Moreover, in the said embodiment, although the
また、上記実施形態においては、1本の基準位置補正用ガラスチャート81を移動ステー14上で置き換えて4つの基準位置補正用マーク81aの撮像を行うようにしたが、これに限らず、2本の別個の基準位置補正用ガラスチャート81を用い、それぞれを移動ステージ14上において置き換えて4つの基準位置補正用マーク81aの撮像を行うようにしてもよい。この場合、2本の基準位置補正用ガラスチャート81は、撮像対象の基準位置補正用マーク81aのX方向およびY方向についての位置さえわかっていれば、必ずしも同じものでなくてもよい。なお、上記実施形態のように1本の基準位置補正用ガラスチャート81を用いるようにした方が、対角線上の2つの基準位置補正用マーク81aの距離のばらつきを吸収することができる。
Further, in the above embodiment, one reference position
また、移動ステージ14の位置変動情報を取得する際に用いたガラスチャート80を、基準位置補正用ガラスチャート81とし、ガラスチャート80の一部の基準マーク81aを基準位置補正用マーク81aとして利用するようにしてもよい。上記のようにすれば持ち運びも便利であり、コストの削減も図ることができる。
Further, the
また、基準位置補正用ガラスチャート81は、必ずしもガラスで形成する必要はないが、低熱膨張素材で形成することが望ましい。
The reference position correcting
次に、上記のようにして補正された基準位置80dに基づいて取得された移動ステージ14の位置変動情報を用いて基板12上に露光パターンを露光する方法について説明する。
Next, a method of exposing an exposure pattern on the
[露光処理について]
まず、データ作成装置40において、基板12に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成され、そのベクトルデータはラスター変換部50に出力され、ラスター変換部50においてラスター変換され、ビットマップ形式の露光画像データにされた後、画像データ補正部56に出力され、一時記憶される。
[Exposure processing]
First, in the
そして、画像データ補正部56は、一時記憶された露光画像データに対し、入力された移動ステージ14の位置変動情報に基づいて補正処理を施し、その補正済露光画像データを露光ヘッド制御部58に出力する。
Then, the image
上記補正処理とは、具体的には、たとえば、X方向位置変動量dXおよびY方向位置変動量dYに対しては、そのdXおよびdYに応じた量だけ露光画像データをX方向およびY方向にシフト処理するようにすればよい。また、θ方向位置変動量dθに対しては、そのdθに応じた角度だけ回転処理を施すようにすればよい。また、回転処理を行うのではなく、dθの成分をX方向およびY方向の成分に分解し、その成分だけさらにX方向およびY方向にシフト処理を施すようにしてもよい。なお、上記X方向位置変動量dX、Y方向位置変動量dYおよびθ方向位置変動量dθを相殺するような補正処理であれば、上記のようなシフト処理や回転処理に限らず如何なる既知の演算処理を施すようにしてもよい。 Specifically, for example, with respect to the X-direction position fluctuation amount dX and the Y-direction position fluctuation amount dY, the correction process is performed by changing the exposure image data in the X direction and the Y direction by an amount corresponding to the dX and dY. A shift process may be performed. In addition, the θ-direction position variation amount dθ may be rotated by an angle corresponding to the dθ. Instead of performing rotation processing, the component of dθ may be decomposed into components in the X direction and Y direction, and the shift processing may be further performed in the X direction and Y direction only by that component. In addition, as long as the correction process cancels out the X-direction position fluctuation amount dX, the Y-direction position fluctuation amount dY, and the θ-direction position fluctuation amount dθ, any known calculation is not limited to the shift process and the rotation process as described above. Processing may be performed.
そして、上記のようにして補正処理の施された補正済露光画像データは、露光ヘッド制御部58に出力される。
Then, the corrected exposure image data subjected to the correction process as described above is output to the
なお、本実施形態においては、ベクトルデータをラスター変換した後、補正処理を施すようにしたが、ベクトル形式の露光画像データに補正処理を施した後、ラスター変換するようにしてもよい。 In this embodiment, correction processing is performed after raster conversion of vector data. Alternatively, raster conversion may be performed after correction processing is performed on exposure image data in vector format.
そして、移動ステージ14の位置変動情報が取得された後、再び移動ステージ14は上流端に移送される。そして、下流側に向けて所望の速度で移送され、基板12の先端がカメラ26により検出されると露光が開始される。
Then, after the position variation information of the moving
具体的には、露光ヘッド制御部58から各露光ヘッド30のDMD36に上記露光画像データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド30は入力された制御信号に基づいてDMD36のマイクロミラーをオン・オフさせて基板12を露光する。なお、露光ヘッド制御部58から各露光ヘッド30へ制御信号が出力される際には、基板12に対する各露光ヘッド30の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ14の移送にともなって順次露光ヘッド制御部58から各露光ヘッド30に出力される。
Specifically, a control signal based on the exposure image data is output from the
また、上記実施形態においては、移動ステージ14の位置変動情報に基づいて露光画像データに補正を施すようにしたが、露光画像データに補正を施すのではなく、上記位置変動情報に基づいて、X方向位置変動量dX、Y方向位置変動量dYおよびθ方向位置変動量dθを相殺するように露光ヘッド30および移動ステージを相対的に移動させるようにしてもよい。
In the above embodiment, the exposure image data is corrected based on the position variation information of the moving
また、図18(A),(B)に示すように、透明なガラス板85と、このガラス板85を支持するガラス枠86と、ガラス枠86の一端をY方向軸周りに回転可能に支持する、Y方向に延設された回転軸87と、ガラス枠86の他端をX−Y平面に直交する方向(Z方向)に移動させる偏心カム88と、偏心カム88を軸支して回転させる電動モータ89とを設け、電動モータ89を制御して偏心カム88を回転させることによって、ガラス枠86をY方向軸周りに回転させ、露光ヘッド30から射出される露光ビームLeの位置をX方向に移動させてX方向位置変動量dXについての補正を行うようにしてもよい。
Further, as shown in FIGS. 18A and 18B, a
また、上記と同様の機構を用いてガラス枠86をX方向軸周りに回転させることによって、露光ビームLeの位置をY方向に移動させてY方向位置変動量dYについての補正を行うようにしてもよい。
Further, by rotating the
また、上記実施形態において、ガラスチャート80における基準マーク80a、基準位置取得用マーク90aおよび基準位置補正用マーク81aを撮像する際、1つのマークについて複数回の撮像を行い、複数のマーク画像の位置について平均など統計量を取得するようにしてもよい。上記のように平均化などすることによりカメラ26による撮像誤差をより小さくすることができる。
In the above-described embodiment, when the
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてDMDを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。 In the above-described embodiment, the exposure apparatus including the DMD as the spatial light modulation element has been described. However, in addition to the reflective spatial light modulation element, a transmissive spatial light modulation element can also be used.
また、上記実施形態では、露光ヘッド30およびカメラ26に対して、移動ステージ14が移送される場合における移動ステージ14の位置変動情報の取得方法および装置について説明したが、ステージを固定とし、そのステージに対して露光ヘッド30およびカメラ26を移送する場合においても、上記同様にして、露光ヘッド30およびカメラ26に対するステージの相対的位置変動情報を取得することができる。
In the above embodiment, the method and apparatus for acquiring position variation information of the moving
また、本発明におけるステージ位置変動情報取得方法および装置は、上記のような露光装置に限らず、描画対象が設置されたステージを描画ヘッドに対して相対的に移送して描画を行う描画装置にも適用可能である。 The stage position variation information acquisition method and apparatus according to the present invention is not limited to the exposure apparatus as described above, and is a drawing apparatus that performs drawing by moving a stage on which a drawing target is installed relative to the drawing head. Is also applicable.
10 露光装置
12 基板
14 移動ステージ
18 設置台
20 ガイド
22 ゲート
24 スキャナ
26 カメラ
30 露光ヘッド
32 露光エリア
36 DMD
52 検出位置情報取得部(基準位置補正用マーク検出位置情報取得部)
52a 基準位置設定部
52b 基準位置ずれ量取得部
54 ステージ位置変動情報取得部
80 ガラスチャート
80a 基準マーク80a
80b 基準マーク画像
80c 視野画像
80d 基準位置
80e 基準マーク位置情報
80f 基準マークの座標位置情報
81 基準位置補正用ガラスチャート
81a 基準位置補正用マーク
81b 基準位置補正用マーク検出位置情報
85 ガラス板
86 ガラス枠
87 回転軸
88 偏心カム
89 電動モータ
90 基準位置取得用スケール
90a 基準位置取得用マーク
DESCRIPTION OF
52 Detection position information acquisition unit (reference position correction mark detection position information acquisition unit)
52a Reference
80b
Claims (8)
予め設定された四角形の頂点となる前記ステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークを設け、
前記ステージの移送とともに前記4つの基準位置補正用マークを前記撮像手段により順次撮像し、
該撮像した視野画像における前記基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて前記基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得し、
該取得した基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、前記基準位置および前記マークの画像の位置とに基づいて前記ステージの相対的位置変動情報を取得することを特徴とするステージ位置変動情報取得方法。 The stage is moved relative to the imaging means for imaging on the stage, and a mark provided in advance on the stage is imaged by the imaging means, and the image of the mark in the captured field image is located at the position of the image. In the stage position variation information acquisition method for measuring the position of the mark based on the position and acquiring the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark,
Four reference position correction marks are provided at positions on the stage that are the vertices of a preset rectangle,
The four reference position correction marks are sequentially imaged by the imaging means along with the transfer of the stage,
Obtaining reference position correction mark detection position information indicating the position of the reference position correction mark based on a position of the image of the reference position correction mark in the captured field image and a preset reference position;
Based on the relationship between the square shape formed by the acquired reference position correction mark detection position information and the square shape formed by the reference position correction mark, the reference position, and the position of the image of the mark. A stage position variation information acquisition method comprising acquiring relative position variation information of the stage.
該長尺なガラス部材を前記ステージ上で前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えて設置して前記基準位置補正用マークの撮像を行うことを特徴とする請求項1記載のステージ位置変動情報取得方法。 The reference position correction mark is provided on a long glass member,
The long glass member is replaced on the stage so as to be on a diagonal of a quadrangle formed by the reference position correction mark, and the reference position correction mark is imaged. Item 1. The stage position variation information acquisition method according to Item 1.
予め設定された四角形の頂点となる前記ステージ上の位置に4つの基準位置補正用マークが設けられており、
前記ステージの移送とともに前記4つの基準位置補正用マークを前記撮像手段により順次撮像した視野画像における前記基準位置補正用マークの画像の位置と予め設定された基準位置とに基づいて前記基準位置補正用マークの位置を示す基準位置補正用マーク検出位置情報を取得する基準位置補正用マーク検出位置情報取得部と、
該基準位置補正用マーク検出位置情報取得部により取得された基準位置補正用マーク検出位置情報により形成される四角形の形状と前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の形状との関係、前記基準位置および前記マークの画像の位置とに基づいて前記ステージの相対的位置変動情報を取得するステージ位置変動情報取得部とを備えたことを特徴とするステージ位置変動情報取得装置。 The stage is moved relative to the imaging means for imaging the stage, the mark provided on the stage is imaged by the imaging means, and based on the position of the image of the mark in the captured field image In the stage position variation information acquisition device that measures the position of the mark and acquires the relative position variation information of the stage based on the measured position of the mark,
Four reference position correction marks are provided at positions on the stage that are the vertices of a preset square,
Based on the position of the image of the reference position correction mark and the preset reference position in the field-of-view image obtained by sequentially capturing the four reference position correction marks by the imaging means along with the transfer of the stage, the reference position correction A reference position correction mark detection position information acquisition unit for acquiring reference position correction mark detection position information indicating the position of the mark;
The relationship between the rectangular shape formed by the reference position correction mark detection position information acquired by the reference position correction mark detection position information acquisition unit and the rectangular shape formed by the reference position correction mark, the reference A stage position variation information acquisition apparatus comprising: a stage position variation information acquisition unit configured to acquire relative position variation information of the stage based on the position and the position of the mark image.
該長尺なガラス部材が、前記ステージに対し着脱可能なものであるとともに、前記ステージ上で前記基準位置補正用マークにより形成される四角形の対角線上となるように置き換えられて設置されるものであることを特徴とする請求項5記載のステージ位置変動情報取得装置。 The reference position correction mark is provided on a long glass member,
The long glass member is detachable with respect to the stage, and is installed so as to be on a rectangular diagonal formed by the reference position correction mark on the stage. 6. The stage position variation information acquisition apparatus according to claim 5, wherein the stage position variation information acquisition apparatus is provided.
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