JP2018099811A - ガスバリア性光学フィルム及び有機ｅｌディスプレイ - Google Patents
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Abstract
【課題】ガスバリア性、耐屈曲性を高く保持しつつ、光透過性を向上させたガスバリア性光学フィルム及び表示品質が向上した有機ＥＬディスプレイを提供する。【解決手段】ガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１と、光学等方性基材１１のおもて面及び裏面の一方に形成された原子層堆積膜１２とを備える。そして、原子層堆積膜１２の屈折率が、光学等方性基材１１の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．２７である。【選択図】図１
Description
本発明は、ガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイに関し、特に、原子層堆積層を備えるガスバリア性フィルムと、このガスバリア性フィルムを用いた有機ＥＬディスプレイに関する。
近年、有機半導体技術を利用した有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明、有機太陽電池、電子ペーパーなどの次世代デバイスの開発が進められ、一部では実用化されている。これらのデバイスの基本構成となる素子は、精密な構造を有しかつ外部から影響の受けやすい材料で形成される。このため、例えば微量あるいは極微量の水分や酸素の影響で構造や材料の劣化が生じ、デバイスの機能が低下することがある。これに対応するため、例えば、有機ＥＬ素子の劣化に対しては、素子を空気から遮断する封止効果に優れ、防湿性が高く、光透過性を有するガラス基材により挟持する構造が採用されている。
しかし、ガラス基材を用いた構造は、ガラスの取扱い難さ、その厚さや重さが課題となる。それゆえ、急速に市場拡大しているモバイル機器等への展開に対する要求から、ガラス基材等に代わって、透明ガスバリア性フィルムを用いることが検討されてきている。例えば、高い水蒸気バリア性を達成するために、プラスチックフィルム基材上に緻密な無機材料の薄膜からなるガスバリア層を形成したガスバリア性フィルムや、無機材料の脆弱性を補うために有機材料と無機材料とを積層形成した複合ガスバリア層を持つガスバリア性フィルムなどが開発されてきた。
例えば、特許文献１には、フィルム基材の側から無機物を含む第１のバリア層と、ポリシラザンを塗布して形成される第２のバリア層と、を含むガスバリア性フィルムが開示されている。
ところで、有機ＥＬディスプレイにおいても、画像の高輝度・高精細化と合わせて、薄型化の要求が高まっている。有機ＥＬディスプレイを薄型化することにより、デザイン性を向上させることが可能となる。また、薄型化により、フレキシブル性を高めることも可能となる。その場合は、有機ＥＬディスプレイの応用先が増えて、さらなる需要の拡大にもつながる可能性がある。
加えて近年では、有機ＥＬディスプレイの表示品質（例えば視認性）をさらに向上させることが求められており、その一例として有機ＥＬディスプレイに用いられるガスバリアフィルムの光透過性などの向上に改善の余地があった。
加えて近年では、有機ＥＬディスプレイの表示品質（例えば視認性）をさらに向上させることが求められており、その一例として有機ＥＬディスプレイに用いられるガスバリアフィルムの光透過性などの向上に改善の余地があった。
そこで本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ガスバリア性、耐屈曲性を高く保持しつつ、光透過性を向上させたガスバリア性光学フィルム及び表示品質が向上した有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係るガスバリア性光学フィルムは、光学等方性基材と、前記光学等方性基材の少なくとも一方の面に形成された原子層堆積膜とを備え、前記原子層堆積膜の屈折率が、前記光学等方性基材の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．２７である。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬディスプレイは、上記のガスバリア性光学フィルムと、粘着層と、封止層が取り付けられた有機ＥＬ素子と、を備えることを特徴とする。
本発明の一態様によれば、ガスバリア性、耐屈曲性を高く保持しつつ、光透過性を向上させたガスバリア性光学フィルム及び表示品質が向上した有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。ただし、以下に説明する各図において相互に対応する部分には同一符号を付し、重複部分においては後述での説明を適宜省略する。また、本発明の実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、各部の材質、形状、構造、配置、寸法等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
＜第１実施形態＞
本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０について、複数の構成例を挙げて説明する。
本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０について、複数の構成例を挙げて説明する。
（１）第１の構成例
図１は、本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０の第１の構成例を示す断面図である。図１に示すように、このガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層１３と、円偏光板１４とを備える。
図１は、本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０の第１の構成例を示す断面図である。図１に示すように、このガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層１３と、円偏光板１４とを備える。
（１．１）光学等方性基材１１
一般的にディスプレイパネルは入射光に所定の偏光を与える位相差板や円偏光板と組み合わせることで設計される。光学等方性基材１１は、その設計を阻害しない様に、光学的に等方なフィルムである。光学等方性基板１１には、透明な押し出し成型などをした高分子フィルム、例えばシクロオレフィンポリマー、（ＣＯＰ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、アクリル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等を用いることができる。また、光学等方性基材１１の片面もしくは両面にハードコート層などのコート層を設けても良い。コート層を設けることで、例えばＣＯＰフィルムなどの脆弱性が補完され加工性が向上する。例えば、ハードコート層は第４の構成例で記述される組成であってもよい。
一般的にディスプレイパネルは入射光に所定の偏光を与える位相差板や円偏光板と組み合わせることで設計される。光学等方性基材１１は、その設計を阻害しない様に、光学的に等方なフィルムである。光学等方性基板１１には、透明な押し出し成型などをした高分子フィルム、例えばシクロオレフィンポリマー、（ＣＯＰ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、アクリル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等を用いることができる。また、光学等方性基材１１の片面もしくは両面にハードコート層などのコート層を設けても良い。コート層を設けることで、例えばＣＯＰフィルムなどの脆弱性が補完され加工性が向上する。例えば、ハードコート層は第４の構成例で記述される組成であってもよい。
（１．２）原子層堆積膜１２
原子層堆積膜１２は、ＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって光学等方性基材１１の表面に形成された膜である。ここで、ＡＬＤ法は、表面吸着した物質を表面における化学反応によって原子レベルで一層ずつ成膜していく方法である。具体的には、ＡＬＤ法は、前駆体またはプリカーサともいわれる活性に富んだガスと、反応性ガスとを交互に用い、光学等方性基材１１の表面における吸着とこれに続く化学反応とを交互に行うことによって、光学等方性基材１１の表面に原子層を一層ずつ成長させていく成膜方法である。ＡＬＤ法は、真空蒸着法やスパッタリング法や一般的なＣＶＤ法と比較して、緻密であり成膜欠陥が少ない膜（つまり、ガスバリア性に優れた膜）を形成することができる。
原子層堆積膜１２は、ＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって光学等方性基材１１の表面に形成された膜である。ここで、ＡＬＤ法は、表面吸着した物質を表面における化学反応によって原子レベルで一層ずつ成膜していく方法である。具体的には、ＡＬＤ法は、前駆体またはプリカーサともいわれる活性に富んだガスと、反応性ガスとを交互に用い、光学等方性基材１１の表面における吸着とこれに続く化学反応とを交互に行うことによって、光学等方性基材１１の表面に原子層を一層ずつ成長させていく成膜方法である。ＡＬＤ法は、真空蒸着法やスパッタリング法や一般的なＣＶＤ法と比較して、緻密であり成膜欠陥が少ない膜（つまり、ガスバリア性に優れた膜）を形成することができる。
ＡＬＤ法の具体的な成膜方法は、以下のような手法で行われる。
始めに、いわゆるセルフ・リミッティング効果を利用し、光学等方性基材１１上に前駆体が一層のみ吸着したところで未反応の前駆体を排気する（第１のステップ）。ここで、セルフ・リミッティング効果とは、光学等方性基材１１上の表面吸着において、表面がある種のガスで覆われると、それ以上、そのガスの吸着が生じない現象のことをいう。
始めに、いわゆるセルフ・リミッティング効果を利用し、光学等方性基材１１上に前駆体が一層のみ吸着したところで未反応の前駆体を排気する（第１のステップ）。ここで、セルフ・リミッティング効果とは、光学等方性基材１１上の表面吸着において、表面がある種のガスで覆われると、それ以上、そのガスの吸着が生じない現象のことをいう。
次いで、チャンバー内に反応性ガスを導入して、光学等方性基材１１の表面に吸着している前駆体を反応ガスと反応させて所望の組成を有する薄膜を一層のみ形成する。その後、反応性ガスを排気する（第２のステップ）。ＡＬＤ法では、上記第１及び第２のステップを１サイクルとし、このサイクルを繰り返し行うことで、光学等方性基材１１上に薄膜を原子レベルで一層ずつ成膜する。
本発明の各実施形態において、原子層堆積膜１２は、原子層堆積膜１２の成膜原料となる前駆体（例えば、ＴＭＡ：Ｔｒｉ−Ｍｅｔｈｙｌ ＡｌｕｍｉｎｕｍやＴｒｉｓ-ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｉｌａｎｅ等の金属含有前駆体）を含有すると共に、光学等方性基材１１の表面に位置する前駆体と光学等方性基材１１の吸着サイトとが結合されている。
原子層堆積膜１２としては、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｎｂなどの元素を含む無機酸化膜や、これらの元素を含む窒化膜や酸窒化膜、それらの混合化合物を用いることができる。例えば、原子層堆積膜１２は、ＡｌＳｉＯｘ、ＴｉＡｌＯｘ、ＴａＯｘ又はＮｂＯｘからなる。また、原子層堆積膜１２としては、例えば、他元素（例えば、Ｚｒ、Ｈｆ）を含む酸化膜、窒化膜、酸窒化膜、それらの混合化合物等を用いることもできる。
原子層堆積膜１２としては、水蒸気バリア性、耐久性、及びコストの観点から、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうち、少なくとも１種の元素を含む膜（例えば、上記説明したような膜）を用いるとよい。このような元素を含む膜を原子層堆積膜１２として用いることで、高い水蒸気バリア性、及び高い耐久性を得ることができると共に、コストを低減することができる。
原子層堆積膜１２の厚さは、例えば、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。原子層堆積膜の厚さが０．５ｎｍ未満であると、製造技術の観点から十分な水蒸気バリア性を有した原子層堆積膜を形成することができない。原子層堆積膜の厚さが２００ｎｍを超えると、コスト及び成膜時間を要するため好ましくない。
したがって、原子層堆積膜１２の厚さを０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内とすることで、短時間で、かつ十分な水蒸気バリア性を有した原子層堆積膜１２を得ることができる。
原子層堆積膜１２の屈折率は、光学等方性基材１１の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．９であり、−０．１３〜＋０．２７が好ましい。例えば、光学等方性基材１１の材料として、屈折率１．５３のシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）を採用した場合、原子層堆積膜１２の材料としては、屈折率１．５２〜１．６２のＡｌＯｘや、屈折率１．４０〜１．４６のＳｉＯｘや、屈折率１．４０〜１．６２のＡｌＳｉＯｘや、屈折率１．５０〜２．４のＴｉＡｉＯｘや、屈折率１．６０〜１．８０のＳｎＳｉＯｘが挙げられる。原子層堆積膜１２の屈折率が光学等方性基材１１の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．９の範囲外であると、光線透過率が著しく低下して有機ＥＬディスプレイに用いた際に好ましい映像表示が得られにくくなる。
（１．３）粘着層１３
粘着層１３は、光学等方性基材１１と円偏光板１４との間に設けられており、光学等方性基材１１と円偏光板１４とを接着する機能を有する。粘着層１３としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
粘着層１３は、光学等方性基材１１と円偏光板１４との間に設けられており、光学等方性基材１１と円偏光板１４とを接着する機能を有する。粘着層１３としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
また、粘着層１３は、硬化型吸湿剤をそれぞれ含有していてもよい。その場合、粘着層１３における硬化型吸湿剤の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは５質量％以上６０質量％以下であり、より好ましくは１０質量％以上４５質量％以下である。
硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合がこの範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
（１．４）円偏光板１４
円偏光板１４は、光学等方性基材１１の表面側に粘着層１３を介して積層された透明フィルムである。円偏光板１４は、外光の反射や背景の映り込み等を防ぐ機能を有する。例えば、後述の図１１〜１３に示す有機ＥＬディスプレイでは、円偏光板１４は光学等方性基材１１よりも視認側に設けられている。有機ＥＬディスプレイの内部には反射性の高い金属層（例えば、ＴＦＴ素子と有機ＥＬ層との間に位置する陽極等）が設けられているが、円偏光板１４があることにより、有機ＥＬディスプレイの内部で反射散乱した光を外部（すなわち、視認側）に出さないようにすることができる。
円偏光板１４は、光学等方性基材１１の表面側に粘着層１３を介して積層された透明フィルムである。円偏光板１４は、外光の反射や背景の映り込み等を防ぐ機能を有する。例えば、後述の図１１〜１３に示す有機ＥＬディスプレイでは、円偏光板１４は光学等方性基材１１よりも視認側に設けられている。有機ＥＬディスプレイの内部には反射性の高い金属層（例えば、ＴＦＴ素子と有機ＥＬ層との間に位置する陽極等）が設けられているが、円偏光板１４があることにより、有機ＥＬディスプレイの内部で反射散乱した光を外部（すなわち、視認側）に出さないようにすることができる。
円偏光板１４は、偏光板と位相差板とを、粘着層などを介して積層されたもので（図示せず）、偏光板は位相差板よりも視認側に設けられている。
位相差板は、入射光に所定の位相差を与える透明フィルムである。位相差板として、１／４波長板又は１／４波長板および１／２波長板を組み合わせたものが例示される。位相差板には、透明な一軸延伸した高分子フィルム、例えばポリビニルアルコール、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリサルフォン、ポリスチレン、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂等を用いることができる。また、位相差板を構成する高分子フィルムには屈折率の波長依存性があるため、波長領域が広い光に対しては一種類の位相差板では十分な性能が得られない場合がある。このため、位相差値の異なる位相差フィルムをその光学軸をずらして貼り合わせ、広い波長範囲で１／２波長板及び１／４波長板を組み合わせた位相差板を構成するようにしてもよい。
偏光板は、入射光を直線偏光にするフィルムであり、上記位相差板との組合せにより、入射した光が有機ＥＬディスプレイ内部で反射した際に偏光板を通過することができない。つまり、反射光は視認されない。
偏光板には、例えば、ヨウ素などの二色性色素を吸着させたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などのフィルムを一軸延伸し、偏光性を付与したものを用いることができる。保護層としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの光学的に等方性なフィルムで挟み込んだ構成が使われている。
位相差板は、入射光に所定の位相差を与える透明フィルムである。位相差板として、１／４波長板又は１／４波長板および１／２波長板を組み合わせたものが例示される。位相差板には、透明な一軸延伸した高分子フィルム、例えばポリビニルアルコール、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリサルフォン、ポリスチレン、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂等を用いることができる。また、位相差板を構成する高分子フィルムには屈折率の波長依存性があるため、波長領域が広い光に対しては一種類の位相差板では十分な性能が得られない場合がある。このため、位相差値の異なる位相差フィルムをその光学軸をずらして貼り合わせ、広い波長範囲で１／２波長板及び１／４波長板を組み合わせた位相差板を構成するようにしてもよい。
偏光板は、入射光を直線偏光にするフィルムであり、上記位相差板との組合せにより、入射した光が有機ＥＬディスプレイ内部で反射した際に偏光板を通過することができない。つまり、反射光は視認されない。
偏光板には、例えば、ヨウ素などの二色性色素を吸着させたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などのフィルムを一軸延伸し、偏光性を付与したものを用いることができる。保護層としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの光学的に等方性なフィルムで挟み込んだ構成が使われている。
（１．５）工程順の一例
第１の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図１では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１の表面（図１では、上側の面、以下「おもて面」ということがある）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
第１の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図１では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１の表面（図１では、上側の面、以下「おもて面」ということがある）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（２）第２の構成例
図２は、ガスバリア性光学フィルム１０の第２の構成例を示す断面図である。
図２に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層１５、をさらに備えていてもよい。
図２は、ガスバリア性光学フィルム１０の第２の構成例を示す断面図である。
図２に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層１５、をさらに備えていてもよい。
（２．１）アンダーコート層１５
すなわち、ガスバリア性光学フィルム１０では、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間にアンダーコート層１５が配置されていてもよい。アンダーコート層１５は、例えば、無機材料のみで構成されている。アンダーコート層１５として、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ又はＮｂＯｘが例示される。また、アンダーコート層１５の形成方法として、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法が例示される。ここで、ＣＶＤ法にＡＬＤ法は含まれる。
すなわち、ガスバリア性光学フィルム１０では、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間にアンダーコート層１５が配置されていてもよい。アンダーコート層１５は、例えば、無機材料のみで構成されている。アンダーコート層１５として、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ又はＮｂＯｘが例示される。また、アンダーコート層１５の形成方法として、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法が例示される。ここで、ＣＶＤ法にＡＬＤ法は含まれる。
アンダーコート層１５に含まれる無機材料は、有機材料と比較して多くの吸着サイト（原子層堆積膜１２の成膜原料となる前駆体が結合される部分）を有している。これにより、原子層堆積膜１２の形成処理開始時から二次元成長による緻密な膜が形成されるまでの期間が短くなる。
アンダーコート層１５の厚さは、例えば、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましい。アンダーコート層の厚さが１ｎｍ未満であると、光学等方性基材表面を完全に被覆することができず、吸着サイトの密度が不十分であるため、原子層堆積膜１２の形成処理開始時から二次元成長による緻密な膜が形成されるまでの期間を短く出来ない可能性がある。つまり十分な水蒸気バリア性を有した原子層堆積膜１２を形成できない。また、アンダーコート層の厚さが１０００ｎｍを超えると、コスト及び成膜時間を要し、さらにアンダーコート層に割れや欠陥が生じるため好ましくない場合がある。
また、吸着サイトの密度を上げる方法として、アンダーコート層１５の替わりに、光学等方性基材の表面をプラズマ処理または加水分解処理することで、吸着サイトを高密度化させることが可能となる。
なお、図２では、一例として、光学等方性基材１１の裏面の全面を覆うように、アンダーコート層１５を配置させた場合を例に挙げて説明した。しかし、アンダーコート層１５は、光学等方性基材１１の裏面の少なくとも一部に配置されていてもよく、図２に示す構成に限定されない。
また、図２では、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間にアンダーコート層１５を配置させた場合を例に挙げて説明した。しかし、例えば、光学等方性基材１１とアンダーコート層１５との間に、図示していない密着層を配置させてもよい。密着層は、例えば、有機高分子を含有した樹脂層からなる。このように、光学等方性基材１１とアンダーコート層１５との間に密着層を設けると、光学等方性基材１１とアンダーコート層１５との密着強度を向上させることができる。
（２．２）工程順の一例
第２の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図２では、下側の面）にアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図２では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
第２の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図２では、下側の面）にアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図２では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（３）第３の構成例
図３は、ガスバリア性光学フィルム１０の第３の構成例を示す断面図である。
図３に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図３では、下側の面）側に形成されたオーバーコート層１６、をさらに備えてもよい。また、このガスバリア性フィルムは、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図３では、下側の面）側に剥離可能に形成された剥離フィルム、をさらに備えてもよい。図３では、オーバーコート層１６の表面を剥離フィルム１７が覆っている場合を例示している。
図３は、ガスバリア性光学フィルム１０の第３の構成例を示す断面図である。
図３に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図３では、下側の面）側に形成されたオーバーコート層１６、をさらに備えてもよい。また、このガスバリア性フィルムは、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図３では、下側の面）側に剥離可能に形成された剥離フィルム、をさらに備えてもよい。図３では、オーバーコート層１６の表面を剥離フィルム１７が覆っている場合を例示している。
（３．１）オーバーコート層１６
図３において、オーバーコート層１６は、原子層堆積膜１２を保護する保護膜である。ガスバリア性光学フィルムの加工中や輸送中に原子層堆積膜が傷つきバリア性が損なわれるのを防ぐことができる。オーバーコート層１６は、アンダーコート層１５と同様の無機材料を含む層であってもよく、有機材料を含む層であってよい。オーバーコート層１６は、例えば、無機材料を含む場合には、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法により形成することができ、有機材料を含む場合には、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法などにより形成することができる。シート状のオーバーコート層をラミネートしてもよい。また、オーバーコート層１６は、プラスチックフィルムをドライラミネートした層であってもよい。
図３において、オーバーコート層１６は、原子層堆積膜１２を保護する保護膜である。ガスバリア性光学フィルムの加工中や輸送中に原子層堆積膜が傷つきバリア性が損なわれるのを防ぐことができる。オーバーコート層１６は、アンダーコート層１５と同様の無機材料を含む層であってもよく、有機材料を含む層であってよい。オーバーコート層１６は、例えば、無機材料を含む場合には、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法により形成することができ、有機材料を含む場合には、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法などにより形成することができる。シート状のオーバーコート層をラミネートしてもよい。また、オーバーコート層１６は、プラスチックフィルムをドライラミネートした層であってもよい。
（３．２）剥離フィルム１７
剥離フィルム１７は、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面側を保護する保護膜である。ガスバリア性光学フィルムの加工中や輸送中に原子層堆積膜が傷つきバリア性が損なわれたり、オーバーコート層が傷つき光学特性が損なわれるのを防ぐことができる。図３では、剥離フィルムは、オーバーコート層１６の表面を覆って保護している。図示しないが、剥離フィルムは、基材と、基材の一方の面に設けられた粘着剤とを有する。剥離フィルムの粘着剤が、原子層堆積膜１２やオーバーコート層１６などの被保護膜に接着される。また、粘着剤の基材に対する接着力は、粘着剤の被保護膜に対する接着力よりも大きい。このため、剥離フィルムを被保護膜から剥がすと、粘着剤は被保護膜から離れて基材と共に取り除かれる。
剥離フィルム１７は、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面側を保護する保護膜である。ガスバリア性光学フィルムの加工中や輸送中に原子層堆積膜が傷つきバリア性が損なわれたり、オーバーコート層が傷つき光学特性が損なわれるのを防ぐことができる。図３では、剥離フィルムは、オーバーコート層１６の表面を覆って保護している。図示しないが、剥離フィルムは、基材と、基材の一方の面に設けられた粘着剤とを有する。剥離フィルムの粘着剤が、原子層堆積膜１２やオーバーコート層１６などの被保護膜に接着される。また、粘着剤の基材に対する接着力は、粘着剤の被保護膜に対する接着力よりも大きい。このため、剥離フィルムを被保護膜から剥がすと、粘着剤は被保護膜から離れて基材と共に取り除かれる。
基材は、紙でもよいし、樹脂フィルムであってもよい。紙として、上質紙やクラフト紙等が例示される。樹脂フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等が例示される。また、粘着剤は、シリコーンを含むシリコーン系粘着剤であってもよいし、シリコーンを含まない非シリコーン系粘着剤であってもよい。
（３．３）工程順の一例
第３の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図３では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成し、さらにオーバーコート層１６に剥離フィルムを貼付する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図３では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
第３の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図３では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成し、さらにオーバーコート層１６に剥離フィルムを貼付する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図３では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（４）第４の構成例
図４は、ガスバリア性光学フィルム１０の第４の構成例を示す断面図である。
図４は、ガスバリア性光学フィルム１０の第４の構成例を示す断面図である。
（４．１）第１ハードコート層１８
図４に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、円偏光板１４の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図４では、上側の面）側に形成された第１ハードコート層１８をさらに備えていてもよい。この円偏光板１４の上側の面に形成された第１ハードコート層１８によって、円偏光板１４の上側の面は保護される。
図４に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、円偏光板１４の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図４では、上側の面）側に形成された第１ハードコート層１８をさらに備えていてもよい。この円偏光板１４の上側の面に形成された第１ハードコート層１８によって、円偏光板１４の上側の面は保護される。
第１ハードコート層１８に用いる材料としては、可視光の透過性を有する材料を利用できる。例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系樹脂、有機珪素系樹脂、熱硬化型ポリシロキサン樹脂など、各種の透明樹脂を第１ハードコート層１８の材料として用いてよい。
第１ハードコート層１８の屈折率は、光学等方性基材１１の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．０７であることが好ましい。例えば、光学等方性基材１１の材料として、屈折率１．５３のシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）を採用した場合、第１ハードコート層１８の材料としては、屈折率１．４０〜１．６０のアクリル系樹脂が挙げられる。
第１ハードコート層１８の形成方法としては、第１ハードコート層１８の形成材料に応じた薄膜形成方法により行うことができる。第１ハードコート層１８は、例えば、主成分となる上述したような樹脂と紫外線を吸収する材料とを溶剤に溶解させて塗液を調整し、この塗液を、ダイコーター、カーテンフローコータ、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどを用いて光学等方性基材１１に塗布し、塗膜を紫外線の照射等によって硬化させることにより形成してもよい。
第１ハードコート層１８の厚みは、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下である。ただし、第１ハードコート層１８の厚みはこの範囲に限定されるものではない。また、第１ハードコート層１８は、円偏光板１４の両面に設けてもよい。
また、図示しないが、ガスバリア性光学フィルム１０は、第１ハードコート層１８の上側の面を覆う剥離フィルムをさらに備えていてもよい。この剥離フィルムは、図３に示した剥離フィルム１７と同様の組成であってもよい。
（４．２）工程順の一例
第４の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図４では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図４では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付し、円偏光板１４の上に第１ハードコート層１８を形成する。
第４の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図４では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図４では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付し、円偏光板１４の上に第１ハードコート層１８を形成する。
（５）第５の構成例
図５は、ガスバリア性光学フィルム１０の第５の構成例を示す断面図である。
本構成例は、図５に示すように、第４の構成例におけるアンダーコート層１５に代えて第２ハードコート層１９を設けた構成である。本発明に係るガスバリア性光学フィルム１０においては、図５に示す本構成が好ましい。
図５は、ガスバリア性光学フィルム１０の第５の構成例を示す断面図である。
本構成例は、図５に示すように、第４の構成例におけるアンダーコート層１５に代えて第２ハードコート層１９を設けた構成である。本発明に係るガスバリア性光学フィルム１０においては、図５に示す本構成が好ましい。
（５．１）第２ハードコート層１９
図５に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１とアンダーコート層１２との間に形成された第２ハードコート層１９をさらに備えていてもよい。図５において、第２ハードコート層１９は、光学等方性基材１１の下側の面に形成され、光学等方性基材１１の機械強度、耐擦性などを向上させ、加工中や輸送時に光学等方性基材が傷つくのを防ぐことができる。なお、この第２ハードコート層１９の構成は、円偏光板１４のハードコートと同一の組成であってもよく、異なる組成であってもよい。また、その形成方法も同一であってよいし、異なっていてもよい。第２ハードコート層１９に防眩性、低反射性が付与されていてもよい。
図５に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、光学等方性基材１１とアンダーコート層１２との間に形成された第２ハードコート層１９をさらに備えていてもよい。図５において、第２ハードコート層１９は、光学等方性基材１１の下側の面に形成され、光学等方性基材１１の機械強度、耐擦性などを向上させ、加工中や輸送時に光学等方性基材が傷つくのを防ぐことができる。なお、この第２ハードコート層１９の構成は、円偏光板１４のハードコートと同一の組成であってもよく、異なる組成であってもよい。また、その形成方法も同一であってよいし、異なっていてもよい。第２ハードコート層１９に防眩性、低反射性が付与されていてもよい。
第２ハードコート層１９の屈折率は、第１ハードコート層１８と同様に、光学等方性基材１１の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．０７であることが好ましい。例えば、光学等方性基材１１の材料として、屈折率１．５３のシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）を採用した場合、第２ハードコート層１９の材料としては、屈折率１．４０〜１．６０のアクリル系樹脂が挙げられる。
（５．２）工程順の一例
第５の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図５では、下側の面）に第２ハードコート層１９、原子層堆積膜１２を順に形成し、次いでオーバーコート層を形成してもよく、第２ハードコート層１９と原子層堆積膜１２の層間にアンダーコート層１２を設けてもよい。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図５では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
第５の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図５では、下側の面）に第２ハードコート層１９、原子層堆積膜１２を順に形成し、次いでオーバーコート層を形成してもよく、第２ハードコート層１９と原子層堆積膜１２の層間にアンダーコート層１２を設けてもよい。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図５では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（６）第１実施形態の効果
本発明の第１実施形態は、以下の効果を奏する。
（６．１）原子層堆積膜１２は、薄膜単層で高いバリア性（１０−４〜１０−６ｇ/ｍ２/ｄａｙ）を持つ。このため、ガスバリア性光学フィルムにおけるガスバリア層の薄膜化（又は、層数を減らすこと）が可能になり、工程削減・コスト削減につながる。
本発明の第１実施形態は、以下の効果を奏する。
（６．１）原子層堆積膜１２は、薄膜単層で高いバリア性（１０−４〜１０−６ｇ/ｍ２/ｄａｙ）を持つ。このため、ガスバリア性光学フィルムにおけるガスバリア層の薄膜化（又は、層数を減らすこと）が可能になり、工程削減・コスト削減につながる。
（６．２）アンダーコート層１５は、原子層堆積膜１２を形成する前駆体の吸着サイトを増やす効果がある。ハードコート層に直接成膜するよりも、効率的かつ緻密な膜形成が可能になる。原子層堆積膜１２との屈折率差を調整することが好ましく、その場合は光学特性を高く維持することができる。ただし、第２ハードコート層１９が原子層堆積膜１２を形成する前駆体の吸着サイトを十分有している場合は、アンダーコート層１５を設けなくてもよい。
（６．３）ガスバリア層として原子層堆積膜１２を１層有することにより、ガスバリア性光学フィルム１０の水蒸気透過率を、例えば、０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下にすることができる。これにより、ガスバリア性光学フィルム１０を有機ＥＬ素子等の電子部材の保護膜として用いることができる。
（６．４）ガスバリア層として原子層堆積膜１２を用いることにより、バリアフィルムの水蒸気透過率を、例えば０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下にするために多層膜を形成する必要がなくなり、ガスバリア性光学フィルムの積層数を減らすことができる。これにより、ガスバリア性光学フィルムの工程削減、コスト削減、光線透過率の向上を図ることができる。
＜第２実施形態＞
本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０について、複数の構成例を挙げて説明する。
本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０について、複数の構成例を挙げて説明する。
（１）第１の構成例
図６は、本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０の第１の構成例を示す断面図である。図６に示すように、このガスバリア性光学フィルム２０は、光学等方性基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層１３と、円偏光板１４と、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図６では、下側の面）側に形成された粘着層２１と、を備える。図６では、原子層堆積膜１２の下側の面に粘着層が直接形成されている場合を例示しているが、有機ＥＬ素子との貼り合わせに際し、封止層上に粘着層を介してガスバリア性光学フィルムを貼り合せることができれば、封止層側に粘着層を形成してもよい。
図６は、本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０の第１の構成例を示す断面図である。図６に示すように、このガスバリア性光学フィルム２０は、光学等方性基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層１３と、円偏光板１４と、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図６では、下側の面）側に形成された粘着層２１と、を備える。図６では、原子層堆積膜１２の下側の面に粘着層が直接形成されている場合を例示しているが、有機ＥＬ素子との貼り合わせに際し、封止層上に粘着層を介してガスバリア性光学フィルムを貼り合せることができれば、封止層側に粘着層を形成してもよい。
（１．１）粘着層２１
粘着層２１は、粘着シートでもよいし、粘着剤を塗布した層であってもよい。また、粘着層２１の種類も特に限定はないが、粘着層２１として例えば以下で説明する粘着剤又は粘着シートを用いることができる。
粘着層２１は、粘着シートでもよいし、粘着剤を塗布した層であってもよい。また、粘着層２１の種類も特に限定はないが、粘着層２１として例えば以下で説明する粘着剤又は粘着シートを用いることができる。
（１．２）粘着層２１として用いられる粘着剤
粘着層２１として用いられる粘着剤としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が挙げられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
粘着層２１として用いられる粘着剤としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が挙げられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
また、粘着層２１に用いられる粘着剤は、吸湿剤や、硬化型吸湿剤を含んでいてもよい。
硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合が前記範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合が前記範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
上記吸湿剤は、下記一般式（ｉ）で表される構成単位を有する有機金属化合物を含有していてもよい。
−［Ａｌ（ＯＲ）−Ｏ］ｎ− …（ｉ）
式（ｉ）中、Ｒは、それぞれ置換もしくは非置換の、アルキル基、アリール基またはアルキルカルボニル基を表す。ｎは２〜６の整数を表す。ここで、複数存在するＲは同一または異なっていてもよく、直鎖状、環状または分岐鎖を有していてもよい。Ｒの炭素数は、好ましくは５〜３０であり、より好ましくは６〜２０であり、特に好ましくは７〜１８である。上記一般式（１）で表される構成単位を有する化合物の機能の一つとしては、化合物中に存在するＡｌ−ＯＲ結合が水分と反応することにより吸湿することが挙げられる。このような化合物を用いることにより、吸湿性能に優れた吸湿剤を得ることができる。
硬化剤としては、熱硬化剤や紫外線硬化剤を使用することができる。熱硬化剤は、硬化性モノマーと開始剤を含有する。硬化性モノマーとしては、透光性を有し、分子中に１個以上の重合性反応基を有する化合物であれば特に制限されない。このような重合性反応基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルエーテル基等が挙げられるが、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートや、分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これら単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートは併用してもよい。
開始剤は加熱により分解して上述の硬化性モノマーを重合し得る活性種を発生させることができれば特に制限されない。紫外線硬化剤には、透光性のあるモノマーと、光重合開始剤とが含まれる。透光性のあるモノマーとしては１官能乃至３官能以上の多官能アクリレート（アクリル酸エステル）又は１官能乃至３官能以上の多官能メタクリレート（メタクリル酸エステル）等が使用可能である。なお、アクリレートとメタクリレートについては、いずれか一方のみを使用しても良いし、適宜混合して使用することも可能である。光重合開始剤は、無色透明であることが好ましいが、１〜３質量％添加すればよいので、色があっても紫外線照射後に得られる硬化物が透明になるので特に問題はない。
（１．３）粘着層２１として用いられる粘着シート
粘着層２１として用いられる粘着シートは、単層又は積層構造の何れでもよい。例えば、第１有機シート層と吸湿性物質と第２有機シート層とが積層された構造の粘着シートを粘着層２１として用いてもよい。また、第１の有機シート層及び第２の有機シート層のそれぞれは、熱硬化性もしくは光硬化性を有する硬化物または粘着性を有する未硬化物で形成されていてもよい。
粘着層２１として用いられる粘着シートは、単層又は積層構造の何れでもよい。例えば、第１有機シート層と吸湿性物質と第２有機シート層とが積層された構造の粘着シートを粘着層２１として用いてもよい。また、第１の有機シート層及び第２の有機シート層のそれぞれは、熱硬化性もしくは光硬化性を有する硬化物または粘着性を有する未硬化物で形成されていてもよい。
第１の有機シート層及び第２の有機シート層の厚みは、吸湿性物質の粒径（平均粒子径）より厚い（大きい）ことが好ましい。換言すると、第１の有機シート層の膜厚と第２の有機シート層の膜厚のそれぞれの値は、吸湿性物質の平均粒子径以上の値とすることが好ましい。第１の有機シート層の膜厚と第２の有機シート層の膜厚のそれぞれの値が、吸湿性物質の平均粒子径以上の値であれば、後述する有機ＥＬディスプレイの製造時に、吸湿性物質が有機ＥＬ素子の陰極を押圧する可能性を低減でき、陰極の一部が吸湿性物質に押されて陽極と接触する（すなわち、ショートする）可能性を低減することができる。
また、第１の有機シート層と第２の有機シート層は互いに同じ厚みでもよいし、異なる厚みでもよい。ただし、第１の有機シート層よりも第２の有機シート層が原子層堆積層側に位置する場合は、第１の有機シート層の厚みは、第２の有機シート層の厚みよりも厚い（つまり、第１の有機シート層の厚み＞第２の有機シート層の厚み）であることが望ましい。このほうが、吸湿性物質が有機ＥＬ素子の陰極を押圧する可能性をさらに低減できる可能性が高くなる。
第１の有機シート層と第２の有機シート層とに挟まれた吸湿性物質として、化学吸湿性物質または物理吸湿性物質を用いることができる。より詳しくは、吸湿性物質は、化学吸湿性物質と物理吸湿性物質の少なくともいずれか一方を含んだ吸湿性物質であればよい。
化学吸湿性物質としては、例えば五酸化二リン（Ｐ２Ｏ５）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）などが挙げられる。また、物理吸湿性物質としては、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、ゼオライト（アルミナ珪酸塩）、シリカゲル、活性アルミナなどが挙げられる。
吸湿性物質の粒径（平均粒子径）は、０．０１〜１０００μｍ、望ましくは０．１〜１００μｍである。また、吸湿性物質の含有量は、１〜９０質量％、望ましくは１５〜６５質量％である。化学吸湿性物質は、１種類または数種類用いることができる。また、物理吸湿性物質も同様に、１種類または数種類用いることができる。
第１の有機シート層及び第２の有機シート層は、水蒸気をなるべく透過させない方が好ましく、水蒸気透過率は１０ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満が望ましい。仮に第１の有機シート層及び第２の有機シート層に水蒸気が侵入した場合であっても、その水蒸気は、第１の有機シート層及び２の有機シート層に埋入している吸湿性物質で吸湿される。
（１．４）粘着層２１として使用可能な製品の一例
粘着層２１として使用可能な製品を以下に例示する。なお、粘着層２１は以下の市販品に限定されるものではない。
・サイデン化学株式会社「ＯＣ−３４０５」
・三井化学株式会社「ＸＭＦ−Ｔ」
・三菱ガス化学株式会社「マクシーブ」
・ｔｅｓａ「６１５００・６１５０１」
・株式会社ダイセル「ＣＥＬＶＥＮＵＳ」
・積水化学工業株式会社「フォトレックＥ」
・ＤＩＣ株式会社「ＰＡＳＬＩＭ」
粘着層２１として使用可能な製品を以下に例示する。なお、粘着層２１は以下の市販品に限定されるものではない。
・サイデン化学株式会社「ＯＣ−３４０５」
・三井化学株式会社「ＸＭＦ−Ｔ」
・三菱ガス化学株式会社「マクシーブ」
・ｔｅｓａ「６１５００・６１５０１」
・株式会社ダイセル「ＣＥＬＶＥＮＵＳ」
・積水化学工業株式会社「フォトレックＥ」
・ＤＩＣ株式会社「ＰＡＳＬＩＭ」
（１．５）工程順の一例
第１の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図６では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いで粘着層２１を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図６では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
第１の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図６では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いで粘着層２１を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図６では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（２）第２の構成例
図７は、ガスバリア性光学フィルム２０の第２の構成例を示す断面図である。
図７に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層１５、をさらに備えていてもよい。
図７は、ガスバリア性光学フィルム２０の第２の構成例を示す断面図である。
図７に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、光学等方性基材１１と原子層堆積膜１２との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層１５、をさらに備えていてもよい。
第２の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図７では、下側の面）にアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成し、その後粘着層２１を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図７では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（３）第３の構成例
図８は、ガスバリア性光学フィルム２０の第３の構成例を示す断面図である。
図８に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図８では、下側の面）側に形成されたオーバーコート層１６、をさらに備えてもよい。また、このガスバリア性フィルムは、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図８では、下側の面）側に剥離可能に形成された剥離フィルム、をさらに備えてもよい。図８では、粘着層２１の表面を剥離フィルム１７が覆っている場合を例示している。
図８は、ガスバリア性光学フィルム２０の第３の構成例を示す断面図である。
図８に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図８では、下側の面）側に形成されたオーバーコート層１６、をさらに備えてもよい。また、このガスバリア性フィルムは、原子層堆積膜１２の光学等方性基材１１と向かい合う面の反対側の面（図８では、下側の面）側に剥離可能に形成された剥離フィルム、をさらに備えてもよい。図８では、粘着層２１の表面を剥離フィルム１７が覆っている場合を例示している。
第３の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図８では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成し、さらに粘着層２１を形成し、その後、粘着層２１に剥離フィルム１７を貼付する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図８では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（４）第４の構成例
図９は、ガスバリア性光学フィルム２０の第４の構成例を示す断面図である。
図９に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、円偏光板１４の光学等方性基材１１と向かい合う側の面の反対側の面（図９では、上側の面）側に形成された第１ハードコート層１８をさらに備えていてもよい。この円偏光板１４の上側の面に形成された第１ハードコート層１８によって、円偏光板１４の上側の面は保護される。第１ハードコート層１８はハードコート性や防眩性、低反射性などを有していてもよい。また、図示しないが、ガスバリア性光学フィルム２０は、第１ハードコート層１８の上側の面を覆う剥離フィルムをさらに備えていてもよい。
図９は、ガスバリア性光学フィルム２０の第４の構成例を示す断面図である。
図９に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、円偏光板１４の光学等方性基材１１と向かい合う側の面の反対側の面（図９では、上側の面）側に形成された第１ハードコート層１８をさらに備えていてもよい。この円偏光板１４の上側の面に形成された第１ハードコート層１８によって、円偏光板１４の上側の面は保護される。第１ハードコート層１８はハードコート性や防眩性、低反射性などを有していてもよい。また、図示しないが、ガスバリア性光学フィルム２０は、第１ハードコート層１８の上側の面を覆う剥離フィルムをさらに備えていてもよい。
第４の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図９では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、さらに粘着層２１を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図９では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付し、円偏光板１４の上に第１ハードコート層１８を形成する。
（５）第５の構成例
図１０は、ガスバリア性光学フィルム２０の第５の構成例を示す断面図である。
図１０に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、光学等方性基材１１とアンダーコート層１５との間に形成された第２ハードコート層１９をさらに備えていてもよい。図１０において、第２ハードコート層１９は、光学等方性基材１１の下側の面に形成され、光学等方性基材１１の機械強度、耐擦性などを向上させる。
図１０は、ガスバリア性光学フィルム２０の第５の構成例を示す断面図である。
図１０に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、光学等方性基材１１とアンダーコート層１５との間に形成された第２ハードコート層１９をさらに備えていてもよい。図１０において、第２ハードコート層１９は、光学等方性基材１１の下側の面に形成され、光学等方性基材１１の機械強度、耐擦性などを向上させる。
第５の構成例では、光学等方性基材１１の裏面（図１０では、下側の面）に第２ハードコート層１９を形成し、次いでアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成し、さらに粘着層２１を形成する。また、これと前後して、光学等方性基材１１のおもて面（図１０では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（６）第２実施形態の効果
第２実施形態は、第１実施形態と同様の効果を奏する。また、第１実施形態の効果に加えて、以下の効果を奏する。
（６．１）ガスバリア性光学フィルム２０には粘着層２１が既に形成されている。このため、パネルメーカー等において、ガスバリア性光学フィルム２０を有機ＥＬ素子に貼り合わせるために、接着剤を塗布したり、接着シートを貼付したりする必要がない。この粘着層２１は、有機ＥＬ素子に貼り合わせる直前まで（例えば、輸送時も含めて）原子層堆積膜１２を保護する保護層として機能すると共に、有機ＥＬ素子を貼り合わせる時には接着層として機能する。したがって、パネルメーカー等における工程の削減が可能である。
第２実施形態は、第１実施形態と同様の効果を奏する。また、第１実施形態の効果に加えて、以下の効果を奏する。
（６．１）ガスバリア性光学フィルム２０には粘着層２１が既に形成されている。このため、パネルメーカー等において、ガスバリア性光学フィルム２０を有機ＥＬ素子に貼り合わせるために、接着剤を塗布したり、接着シートを貼付したりする必要がない。この粘着層２１は、有機ＥＬ素子に貼り合わせる直前まで（例えば、輸送時も含めて）原子層堆積膜１２を保護する保護層として機能すると共に、有機ＥＬ素子を貼り合わせる時には接着層として機能する。したがって、パネルメーカー等における工程の削減が可能である。
（６．２）粘着層２１にバリア性がある場合、有機ＥＬ素子の側面側からの端面リークを抑えることができる。例えば、有機ＥＬ素子には、大気中の水分や酸素の影響により劣化しやすいが、粘着層２１が有機ＥＬ素子を覆うことにより、外部からの水分の侵入を遮断することができる。
＜第３実施形態＞
本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０について、複数の構成例を挙げて説明する。
本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０について、複数の構成例を挙げて説明する。
（１）第１の構成例
図１１は、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０の第１の構成例を示す断面図である。図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０は、第１実施形態で説明したガスバリア性光学フィルム１０（ただし、剥離フィルムを除く）と、有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０とガスバリア性光学フィルム１０とを接着する粘着層２１とを備える。または、この有機ＥＬディスプレイ５０は、第２実施形態で説明したガスバリア性光学フィルム２０と、ガスバリア性光学フィルム２０の粘着層２１側に取り付けられた有機ＥＬ素子３０と、を備える構成でもよい。
図１１は、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０の第１の構成例を示す断面図である。図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０は、第１実施形態で説明したガスバリア性光学フィルム１０（ただし、剥離フィルムを除く）と、有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０とガスバリア性光学フィルム１０とを接着する粘着層２１とを備える。または、この有機ＥＬディスプレイ５０は、第２実施形態で説明したガスバリア性光学フィルム２０と、ガスバリア性光学フィルム２０の粘着層２１側に取り付けられた有機ＥＬ素子３０と、を備える構成でもよい。
有機ＥＬ素子３０は、支持基板３１と、支持基板３１の一方の面（図１１では、上側の面）に形成された素子本体３２と、支持基板３１の一方の面に形成されて素子本体３２を封止する封止層３３と、を備える。封止層３３は、例えば無機膜からなる。また、図示しないが、素子本体３２は、支持基板３１の側から、ＴＦＴ素子、陽極、有機ＥＬ層、陰極がこの順で積層された構造を有する。
そして、図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０では、ガスバリア性光学フィルムの両面のうち、円偏光板１４よりも光学等方性基材１１に近い面側に有機ＥＬ素子３０の封止層３３が取り付けられている。封止層３３の表面及び側面は粘着層２１で覆われている。
また、図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０は、例えばガスバリア性光学フィルムの一部として、粘着層４１を介して円偏光板１４に取り付けられたカバーガラス４２をさらに備えていてもよい。また、図示しないが、この有機ＥＬディスプレイ５０は、例えばガスバリア性光学フィルムの一部として、カバーガラス４２の粘着層４１と向かい合う面側に設けられたタッチパネル層をさらに備えていてもよい。以下に、粘着層４１、カバーガラス４２、タッチパネル層について説明する。
（１．１）粘着層４１
粘着層４１は、円偏光板１４とカバーガラスとの間に設けられており、円偏光板１４とカバーガラス４２とを接着する機能を有する。
粘着層４１は、円偏光板１４とカバーガラスとの間に設けられており、円偏光板１４とカバーガラス４２とを接着する機能を有する。
粘着層４１としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
また、粘着層４１は、硬化型吸湿剤を含有していてもよい。その場合、粘着層４１における硬化型吸湿剤の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは５質量％以上６０質量％以下であり、より好ましくは１０質量％以上４５質量％以下である。
硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合がこの範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
（１．２）カバーガラス４２
カバーガラス４２は、最表面となる前面板であり、ＳｉＯ２と、Ａｌ２Ｏ３と、Ｌｉ２Ｏ及びＮａ２Ｏから選択される少なくとも１種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラスを強化処理したものが用いられる。また、カバーガラス４２は、樹脂基材で構成されていてもよい。
カバーガラス４２は、最表面となる前面板であり、ＳｉＯ２と、Ａｌ２Ｏ３と、Ｌｉ２Ｏ及びＮａ２Ｏから選択される少なくとも１種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラスを強化処理したものが用いられる。また、カバーガラス４２は、樹脂基材で構成されていてもよい。
（１．３）タッチパネル層
タッチパネルセンサーは、引き出し配線、Ｘ方向用及びＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極間の絶縁層とを有する。タッチパネルセンサーは、透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）等を介して、カバーガラス４２に添付されている。
なお、タッチパネルセンサーの配設位置は上記に限定されず、封止層３３（図１１〜１３）の上でカバーガラスの下であればどこに設けてもよい。
タッチパネルセンサーは、引き出し配線、Ｘ方向用及びＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極間の絶縁層とを有する。タッチパネルセンサーは、透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）等を介して、カバーガラス４２に添付されている。
なお、タッチパネルセンサーの配設位置は上記に限定されず、封止層３３（図１１〜１３）の上でカバーガラスの下であればどこに設けてもよい。
（２）第２の構成例
図１２は、有機ＥＬディスプレイ５０の第２の構成例を示す断面図である。
図１２に示すように、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１と粘着層２１との間ではなく、光学等方性基材１１と粘着層１３との間に形成されていてもよい。すなわち、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１の裏面ではなく、おもて面に形成されていてもよい。
図１２は、有機ＥＬディスプレイ５０の第２の構成例を示す断面図である。
図１２に示すように、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１と粘着層２１との間ではなく、光学等方性基材１１と粘着層１３との間に形成されていてもよい。すなわち、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１の裏面ではなく、おもて面に形成されていてもよい。
（３）第３の構成例
図１３は、有機ＥＬディスプレイ５０の第３の構成例を示す断面図である。
図１３に示すように、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１と粘着層２１との間と、光学等方性基材１１と粘着層１３との間にそれぞれ形成されていてもよい。すなわち、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１の両面にそれぞれ形成されていてもよい。
図１３は、有機ＥＬディスプレイ５０の第３の構成例を示す断面図である。
図１３に示すように、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１と粘着層２１との間と、光学等方性基材１１と粘着層１３との間にそれぞれ形成されていてもよい。すなわち、原子層堆積膜１２は、光学等方性基材１１の両面にそれぞれ形成されていてもよい。
（４）第３実施形態の効果
第３実施形態は、第１、第２実施形態と同様の効果を奏する。また、第１、第２実施形態の効果に加えて、以下の効果を奏する。
第３実施形態は、第１、第２実施形態と同様の効果を奏する。また、第１、第２実施形態の効果に加えて、以下の効果を奏する。
（４．１）有機ＥＬディスプレイ５０の普及をさらに促進させるために、生産コストの低減、工程数の削減の要求がある。例えば、封止層３３が積層構造の場合、積層数が多いほど、工程数が増え、製造コストの増大要因となる。例えば、封止層３３が、無機層（ＳｉＮ）／有機層／無機層（ＳｉＮ）の３層構造の場合、これら３層をそれぞれＣＶＤ法等で形成する必要があり、工程数が多い。しかしながら、本発明の各実施形態では、封止層３３を覆うガスバリア性光学フィルムに、薄くてもガスバリア性が高い原子層堆積膜１２を用いている。このため、封止層３３の積層数を減らすことが可能であり、その工程数を減らすことが可能である。これにより、有機ＥＬディスプレイ５０の工程数を削減することが可能であり、生産コストを低減することが可能である。
（４．２）有機ＥＬディスプレイ５０には光学等方性基材１１や円偏光板１４が必要である。これらを積層した有機ＥＬディスプレイ５０は厚くなりがちである。これに対し、本発明の各実施形態では、ガスバリア性光学フィルムのガスバリア層として原子層堆積膜１２を有する。このため、有機ＥＬディスプレイのガスバリア性を保ったまま封止層の積層数を減らすことが可能であり、有機ＥＬ素子から発せられる光の通過距離を短くすることが可能である。したがって、有機ＥＬディスプレイ５０の薄型化が可能であると共に、光線透過率を向上させることが可能である。
図１４は、本発明の実施例１に係る有機ＥＬディスプレイの構成例を示す断面図である。
図１４に示すように、実施例１に係る有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ素子（支持基板３１、素子本体３２及び封止層３３）と、ガスバリア性光学フィルム（基材１１、原子層堆積膜１２、粘着層１３及び円偏光板１４）と、有機ＥＬ素子とガスバリア性光学フィルムとを接合する粘着層２１と、を備える。
図１４に示すように、実施例１に係る有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ素子（支持基板３１、素子本体３２及び封止層３３）と、ガスバリア性光学フィルム（基材１１、原子層堆積膜１２、粘着層１３及び円偏光板１４）と、有機ＥＬ素子とガスバリア性光学フィルムとを接合する粘着層２１と、を備える。
（実施例１）
上述した「第１実施形態の第５の構成例」にしたがって実施例１のガスバリア性光学フィルムを作製した。具体的には、まず、屈折率１．５３のＣＯＰを材料とする基材１１（厚み５０μｍ）を用意した。
その後、基材１１の一方の面に、第１ハードコート層１８を厚み１μｍで形成した。
その後、基材１１の他方の面（一方の面の反対側）に、第２ハードコート層１９を厚み１μｍで形成した。
その後、ＡＬＤ法を用いて、第２ハードコート層１９の表面に原子層を一層ずつ成長させて厚み１５ｎｍのＡＬＤ層１２を成膜した。ＡＬＤ層を構成する材料はＡｌＳｉＯｘとした。
その後、ＡＬＤ層上に、オーバーコート層１６を形成して、実施例１のガスバリア性光学フィルムを得た。
上述した「第１実施形態の第５の構成例」にしたがって実施例１のガスバリア性光学フィルムを作製した。具体的には、まず、屈折率１．５３のＣＯＰを材料とする基材１１（厚み５０μｍ）を用意した。
その後、基材１１の一方の面に、第１ハードコート層１８を厚み１μｍで形成した。
その後、基材１１の他方の面（一方の面の反対側）に、第２ハードコート層１９を厚み１μｍで形成した。
その後、ＡＬＤ法を用いて、第２ハードコート層１９の表面に原子層を一層ずつ成長させて厚み１５ｎｍのＡＬＤ層１２を成膜した。ＡＬＤ層を構成する材料はＡｌＳｉＯｘとした。
その後、ＡＬＤ層上に、オーバーコート層１６を形成して、実施例１のガスバリア性光学フィルムを得た。
（実施例２〜５）
実施例１におけるＡＬＤ層１２の材料を、表１に示す材料に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜５のガスバリア性光学フィルムを作製した。
実施例１におけるＡＬＤ層１２の材料を、表１に示す材料に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜５のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（比較例１）
実施例１においてオーバーコート層１６、第１ハードコート層１８、第２ハードコート層１９を設けなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例１のガスバリア性光学フィルムを作製した。
実施例１においてオーバーコート層１６、第１ハードコート層１８、第２ハードコート層１９を設けなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例１のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（比較例２）
実施例１における基材１１の材料をＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例２のガスバリア性光学フィルムを作製した。
実施例１における基材１１の材料をＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例２のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（比較例３）
実施例１におけるＡＬＤ層１２の材料を、表１に示すように「ＴｉＯｘ」に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例３のガスバリア性光学フィルムを作製した。
実施例１におけるＡＬＤ層１２の材料を、表１に示すように「ＴｉＯｘ」に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例３のガスバリア性光学フィルムを作製した。
＜評価＞
［ガスバリア性］
作製した実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、ガスバリア性の評価として、ＪＩＳ−Ｋ−７１２９−１９９２に準じて水蒸気透過率［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］を測定し、判定した。測定結果を表１に示す。
［ガスバリア性］
作製した実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、ガスバリア性の評価として、ＪＩＳ−Ｋ−７１２９−１９９２に準じて水蒸気透過率［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］を測定し、判定した。測定結果を表１に示す。
［視認性］
視認性の評価として、実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、以下の要領で光線透過率及び複屈折性を評価した。
−光線透過率−
実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２ｍｍの平板状の試験片を作製し、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って光線透過率（全光線透過率）を測定し、判定した。判定結果を表１に示す。
視認性の評価として、実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、以下の要領で光線透過率及び複屈折性を評価した。
−光線透過率−
実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２ｍｍの平板状の試験片を作製し、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って光線透過率（全光線透過率）を測定し、判定した。判定結果を表１に示す。
−複屈折性−
実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２ｍｍの平板状の試験片を作製し、偏光顕微鏡（ニコン（株）製、商品名：エクリプスＥ４００ＰＯＬ）にて波長５４６ｎｍの光線でゲートから１０ｍｍの場所の位相差δ（度）を測定して厚み方向の複屈折量（ｎｍ）を求め、判定した。判定結果を表１に示す。なお、複屈折量の測定下限は３ｎｍであった。
実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２ｍｍの平板状の試験片を作製し、偏光顕微鏡（ニコン（株）製、商品名：エクリプスＥ４００ＰＯＬ）にて波長５４６ｎｍの光線でゲートから１０ｍｍの場所の位相差δ（度）を測定して厚み方向の複屈折量（ｎｍ）を求め、判定した。判定結果を表１に示す。なお、複屈折量の測定下限は３ｎｍであった。
［耐屈曲性］
実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、耐屈曲性を評価した。判定結果を表１に示す。
実施例１〜５及び比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムについて、耐屈曲性を評価した。判定結果を表１に示す。
表１に示すように、実施例１〜５のガスバリア性光学フィルムは、比較例１〜３のガスバリア性光学フィルムと比較して、「ガスバリア性（水蒸気透過率）」、「耐屈曲性」、及び「視認性」に加え、「光線透過率」が良好であることがわかった。
また、実施例１〜５及び比較例１のガスバリア性光学フィルムを用いて簡易的な有機ＥＬディスプレイを作製した場合においても、実施例１〜５の有機ＥＬディスプレイが比較例１の有機ＥＬディスプレイに比べ表示品質が向上した。
したがって、本発明によれば、ガスバリア性、耐屈曲性を高く保持しつつ、光透過性を向上させたガスバリア性光学フィルム及び表示品質が向上した有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
また、実施例１〜５及び比較例１のガスバリア性光学フィルムを用いて簡易的な有機ＥＬディスプレイを作製した場合においても、実施例１〜５の有機ＥＬディスプレイが比較例１の有機ＥＬディスプレイに比べ表示品質が向上した。
したがって、本発明によれば、ガスバリア性、耐屈曲性を高く保持しつつ、光透過性を向上させたガスバリア性光学フィルム及び表示品質が向上した有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
１０ ガスバリア性光学フィルム
１１ 光学等方性基材
１２ 原子層堆積膜
１３ 粘着層
１４ 円偏光板
１５ アンダーコート層
１６ オーバーコート層
１７ 剥離フィルム
１８ 第１ハードコート層
１９ 第２ハードコート層
２０ ガスバリア性光学フィルム
２１ 粘着層
３０ 有機ＥＬ素子
３１ 支持基板
３２ 素子本体
３３、３３０ 封止層
４１ 粘着層
４２ カバーガラス
５０ 有機ＥＬディスプレイ
３３１、３３３ 無機層
３３２ 有機層
１１ 光学等方性基材
１２ 原子層堆積膜
１３ 粘着層
１４ 円偏光板
１５ アンダーコート層
１６ オーバーコート層
１７ 剥離フィルム
１８ 第１ハードコート層
１９ 第２ハードコート層
２０ ガスバリア性光学フィルム
２１ 粘着層
３０ 有機ＥＬ素子
３１ 支持基板
３２ 素子本体
３３、３３０ 封止層
４１ 粘着層
４２ カバーガラス
５０ 有機ＥＬディスプレイ
３３１、３３３ 無機層
３３２ 有機層
Claims (6)
- 光学等方性基材と、
前記光学等方性基材の少なくとも一方の面に形成された原子層堆積膜とを備え、
前記原子層堆積膜の屈折率が、前記光学等方性基材の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．２７であることを特徴とするガスバリア性光学フィルム。 - 前記光学等方性基材の原子層堆積膜と向かい合う面の反対側の面側に形成された第１ハードコート層と、
前記光学等方性基材と前記原子層堆積膜との層間に形成された、無機材料からなるアンダーコート層、又は第２ハードコート層とをさらに備え、
第１ハードコート層の屈折率、並びに前記アンダーコート層、もしくは第２ハードコート層の屈折率が、前記光学等方性基材の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．０７である請求項１に記載のガスバリア性光学フィルム。 - 前記原子層堆積膜の前記光学等方性基材と向かい合う面の反対側の面側に形成されたオーバーコート層をさらに備え、
前記オーバーコート層の屈折率が、前記光学等方性基材の屈折率に対して、−０．１３〜＋０．０７である請求項１又は２に記載のガスバリア性光学フィルム。 - 前記原子層堆積膜の前記光学等方性基材と向かい合う面の反対側の面側に剥離可能に形成された剥離フィルムをさらに備える請求項１〜３の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
- 前記光学等方性基材の前記原子層堆積膜が形成された面と反対側の面に粘着層を介して積層された円偏光板をさらに有する請求項１〜４の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
- 請求項１〜５の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルムと、
素子本体、封止層および支持基板を備えた有機ＥＬ素子とが、
前記ガスバリア性光学フィルムに粘着層を介して接合されることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPWO2021039625A1 (ja) * | 2019-08-28 | 2021-03-04 | ||
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