JP2018073930A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】異物の付着を抑制すること。【解決手段】チャックテーブル２と、チャックテーブル２を回転可能に支持するベアリング部５と軸部４とを備える回転軸ユニット３と、ウエーハＷに洗浄液を供給する洗浄流体供給ノズル６と、洗浄室を形成する洗浄室チャンバ８と、洗浄室チャンバ８の雰囲気を排出する排気ユニット９とを備える洗浄装置１であって、洗浄室チャンバ８は、チャックテーブル２を裏側から支持する回転軸ユニット３の軸部４の先端が突出する開口８１４を底壁８１２に備え、洗浄室チャンバ８に開口８１４から雰囲気が侵入するのを防ぐシール部材８６が開口８１４の周囲に立設する内側壁８３３に装着され、シール部材８６は、内側壁８３３に装着される環状本体部８６１と、環状本体部８６１から延出する延在部８６２を有し、延在部８６２の上端がチャックテーブル２の裏側に接触している。【選択図】図３

Description

本発明は、洗浄装置に関する。

切削装置やレーザ加工装置で、ダイシングやレーザー加工が行われた後、被加工物の表面に付着した切削屑や保護液などを洗浄して除去する除去装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００９−２５３２２６号公報

例えば、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）などのイメージセンサは、異物の付着を非常に嫌うデバイスである。これらのイメージセンサは、異物がわずかにでも付着すると、正常に機能しなくなるおそれがある。ところが、洗浄装置で被加工物を洗浄すると、ダイシングやレーザー加工などでは付着しなかったシミや異物が、イメージセンサに付着することがある。本願の発明者による鋭意研究の結果、洗浄装置のチャックテーブルの回転軸ベアリングを介し、洗浄室チャンバの雰囲気の排気につられてグリスが洗浄室チャンバに侵入しているとの知見を得た。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、異物の付着を抑制することができる洗浄装置を提供することにある。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の洗浄装置は、被加工物を保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルを回転可能に支持するベアリング部と軸部とを備える回転軸ユニットと、該チャックテーブルに保持された被加工物に洗浄液を供給するノズルと、該チャックテーブルと該ノズルとを収容し洗浄室を形成する洗浄室チャンバと、該洗浄室チャンバの雰囲気を排出する排気ユニットと、を備える洗浄装置であって、該洗浄室チャンバは、該チャックテーブルを裏側から支持する該回転軸ユニットの該軸部の先端が突出する開口を底部に備え、該洗浄室チャンバに該開口から雰囲気が侵入するのを防ぐシール部材が該開口の周囲に立設する筒状壁に装着され、該シール部材は、該筒状壁に装着される環状本体部と、該環状本体部から延出する延在部を有し、該延在部の上端が該チャックテーブルの裏側に接触していることを特徴とする。

本願発明の洗浄装置によれば、異物の付着を抑制することができる。

図１は、実施形態に係る洗浄装置を含む加工装置の構成例を示す斜視図である。 図２は、実施形態に係る洗浄装置の斜視図である。 図３は、実施形態に係る洗浄装置を示す断面図である。 図４は、実施形態に係る洗浄装置を示す部分拡大断面図である。

以下、本発明に係る実施形態につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。

以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の一端向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向をＺ軸方向とする。Ｘ軸及びＹ軸を含むＸ，Ｙ平面は、水平面と平行である。Ｘ，Ｙ平面と直交するＺ軸方向は、鉛直方向である。

図１は、実施形態に係る洗浄装置を含む加工装置の構成例を示す斜視図である。図２は、実施形態に係る洗浄装置の斜視図である。図３は、実施形態に係る洗浄装置を示す断面図である。図４は、実施形態に係る洗浄装置を示す部分拡大断面図である。

図１に示すように、本実施形態に係る洗浄装置を含む加工装置１００は、被加工物、例えば、ウエーハＷを切削加工する。加工装置１００は、チャックテーブル１１０と、Ｘ軸移動手段１２０と、切削手段１３０と、Ｙ軸移動手段１４０と、Ｚ軸移動手段１５０と、洗浄装置１とを備える。

チャックテーブル１１０は、ウエーハＷを保持する。チャックテーブル１１０は、Ｘ軸移動手段１２０のＸ軸移動基台１２１に支持されている。チャックテーブル１１０は、図示しないθ軸回転手段により鉛直方向に対して平行となる軸（θ軸）周りに回転可能、言い換えると、水平面内で回転可能である。言い換えると、チャックテーブル１１０は、装置本体２００に対して、θ軸周りに相対回転可能である。チャックテーブル１１０は、ウエーハＷを保持する本体部１１１を備える。

本体部１１１は、円盤状に形成されている。本体部１１１は、例えば、ステンレス製の枠体と枠体に嵌合し、ウエーハＷを保持する保持面１１１ａを構成するポーラスセラミック板とで構成される。保持面１１１ａは、本体部１１１の鉛直方向の上端に形成されている。保持面１１１ａは、水平面に対して平行に形成され、平坦に形成されている。保持面１１１ａは、図示しない真空吸引源と連通されている。保持面１１１ａは、真空吸引源の負圧により、ウエーハＷに貼着された貼着テープＴを介してウエーハＷを吸引保持する。

Ｘ軸移動手段１２０は、チャックテーブル１１０をＸ軸方向（加工送り方向）に加工送りする。Ｘ軸移動手段１２０は、Ｘ軸移動基台１２１をＸ軸方向に移動可能に支持している。Ｘ軸移動手段１２０は、例えば、Ｘ軸方向に対して平行に延在されるボールねじ、パルスモータ等で構成される駆動源を有する。Ｘ軸移動手段１２０は、Ｘ軸移動基台１２１を装置本体２００に対してＸ軸方向に相対移動させる。Ｘ軸移動基台１２１は、装置本体２００に支持されている。Ｘ軸移動基台１２１は、チャックテーブル１１０を支持している。このため、Ｘ軸移動手段１２０により、チャックテーブル１１０が、装置本体２００に対して、Ｘ軸方向に相対移動する。

切削手段１３０は、チャックテーブル１１０に保持されたウエーハＷを切削する。切削手段１３０は、切削ブレード１３１と、スピンドル１３２と、ハウジング１３３とを備える。切削ブレード１３１は、極薄の円板状かつ環状に形成された切削砥石である。スピンドル１３２は、切削ブレード１３１を着脱可能に装着する。ハウジング１３３は、モータ等の駆動源を有しており、Ｙ軸方向の回転軸周りに回転自在に、スピンドル１３２を支持する。

Ｙ軸移動手段１４０は、Ｙ軸移動基台１４１をＹ軸方向（割り出し送り方向）に移動可能に支持している。Ｙ軸移動手段１４０は、例えば、Ｙ軸方向に対して平行に延在されるボールねじ、パルスモータ等で構成される駆動源を有する。Ｙ軸移動手段１４０は、Ｙ軸移動基台１４１を装置本体２００に対してＹ軸方向に相対移動させる。Ｙ軸移動基台１４１は、装置本体２００の鉛直方向の上端から立設された支持基台２０１に支持されている。Ｙ軸移動基台１４１は、Ｚ軸移動手段１５０を支持している。

Ｚ軸移動手段１５０は、Ｚ軸移動基台１５１をＺ軸方向（切り込み送り方向）に移動可能に支持している。Ｚ軸移動手段１５０は、例えば、Ｚ軸方向に対して平行に延在されるボールねじ、パルスモータ等で構成される駆動源を有する。Ｚ軸移動手段１５０は、Ｚ軸移動基台１５１を装置本体２００に対してＺ軸方向に相対移動させる。Ｚ軸移動基台１５１は、Ｙ軸移動基台１４１に支持されている。Ｚ軸移動手段１５０は、切削手段１３０を支持している。このため、Ｙ軸移動手段１４０とＺ軸移動手段１５０とで、切削手段１３０が、装置本体２００に対して、Ｙ軸方向およびＺ軸方向に相対移動する。

図２に示すように、洗浄装置１は、切削加工が施されたウエーハＷを洗浄し、乾燥させる。洗浄装置１は、チャックテーブル２と、回転軸ユニット３と、洗浄流体供給ノズル（ノズル）６と、エア供給ノズル７と、洗浄室チャンバ８と、排気ユニット９とを備える。

図２ないし図４に示すように、チャックテーブル２は、ウエーハＷを保持する。チャックテーブル２は、回転軸ユニット３により、軸部４の回転軸４１回りに水平面内で回転する。チャックテーブル２は、保持面２１ａを有する保持部２１と、フランジ２２と、フレームクランプ２３と、吸引ユニット２４とを有する。

保持部２１は、円盤状に形成されている。保持部２１は、ウエーハＷと向かい合うように配置されている。保持部２１の外径は、ウエーハＷの外径より大きく、環状フレームＦの外径より小さい。保持面２１ａは、チャックテーブル１１０の保持面１１１ａと同様に、真空吸引源と連通されている。保持面２１ａは、真空吸引源の負圧により、貼着テープＴを介してウエーハＷを吸引保持する。保持面２１ａの外径は、ウエーハＷの外径より大きく、貼着テープＴの外径より小さい。

フランジ２２は、保持部２１の下方に接合されている。フランジ２２は、円盤状の小径部２２１と、小径部２２１より大きい外径を有する円盤状の大径部２２２とが一体に形成されている。小径部２２１は、保持部２１の下方に接合されている。大径部２２２は、回転軸ユニット３の回転軸４１の先端が連結されている。これにより、回転軸４１の回転により、チャックテーブル２は、一体として回転する。

フレームクランプ２３は、環状フレームＦを挟持する。フレームクランプ２３は、保持部２１の外周に、間隔を空けて配置されている。

図４に示すように、吸引ユニット２４は、保持面２１ａに負圧を作用させる。吸引ユニット２４は、第一供給管２４１と、第二供給管２４２と、接続口２４３と、負圧供給口２４４と、正圧供給口２４５とを有する。

第一供給管２４１は、軸部４の回転軸４１内に軸線方向と平行な方向に沿って配置されている。第一供給管２４１は、保持面２１ａと第二供給管２４２とに連通する中空パイプ状に形成されている。

第二供給管２４２は、軸部４の回転軸４１内において、水平面内に配置されている。第二供給管２４２は、第一供給管２４１と連通する中空パイプ状に形成されている。第二供給管２４２は、接続口２４３に連通可能である。

接続口２４３は、軸部４の回転軸４１の外側、かつ、ベアリング部５のケース５２の内側に配置されている。接続口２４３は、第二供給管２４２に連通可能である。接続口２４３は、負圧供給口２４４および正圧供給口２４５に連通されている。

接続口２４３と第二供給管２４２との間、言い換えると、軸部４の回転軸４１の外周面とベアリング部５のケース５２の内周面との間の隙間に、グリースが塗布されたオイルシールＳが設置され、シールされている。これにより、接続口２４３と第二供給管２４２との間において、軸部４の回転軸４１の外側、または、ベアリング部５のケース５２の内側の空間に、気体が漏出することが規制される。

負圧供給口２４４は、ベアリング部５のケース５２に形成された開口である。負圧供給口２４４は、真空吸引源で保持面２１ａから気体を吸引する。負圧供給口２４４は、接続口２４３と正圧供給口２４５とに連通されている。負圧供給口２４４は、ベアリング部５の負圧供給管５３と連通されている。

正圧供給口２４５は、ベアリング部５のケース５２に形成された開口である。正圧供給口２４５は、負圧供給口２４４の上方に配置されている。正圧供給口２４５は、保持面２１ａに正圧を供給する際に、保持面２１ａに気体を供給する。供給された気体により吸引保持されたウエーハＷや貼着テープＴの保持面２１ａからの剥離を促す。正圧供給口２４５は、接続口２４３と負圧供給口２４４とに連通されている。正圧供給口２４５は、ベアリング部５の正圧供給管５４と連通されている。

図３、図４に示すように、回転軸ユニット３は、チャックテーブル２を下側から回転可能に支持する。回転軸ユニット３は、軸部４と、ベアリング部５とを有する。

軸部４は、チャックテーブル２に回転力を伝達する。軸部４は、回転軸４１と、回転モータ４２と、支持機構４３とを有する。

回転軸４１は、回転モータ４２の駆動軸と連結され、回転モータ４２の回転力をチャックテーブル２に伝達する。回転軸４１の軸線方向の一端部は、回転モータ４２と連結されている。回転軸４１の軸線方向の他端部（先端）は、チャックテーブル２と連結されている。回転軸４１は、軸線回りに回転する。

回転モータ４２は、回転軸ユニット３の駆動源である。回転モータ４２は、回転軸４１を軸線回りに回転させる。

支持機構４３は、回転モータ４２を上下方向に移動可能に支持する。支持機構４３は、複数本、例えば３本の支持脚４３１と、支持脚４３１をそれぞれ連結し回転モータ４２に取り付けられた複数本、例えば３本のエアシリンダ４３２とを有する。エアシリンダ４３２を作動することにより、回転モータ４２およびチャックテーブル２を、上方位置である被洗浄物搬入・搬出位置と、下方位置である作業位置とに位置付ける。

ベアリング部５は、軸部４と洗浄室チャンバ８とを連結する。ベアリング部５は、ベアリング５１と、ケース５２と、負圧供給管５３と、正圧供給管５４と、開放管５５とを備える。

ベアリング５１は、ボールベアリングである。ベアリング５１は、軸部４の回転軸４１の中央部を回転自在に軸支する。ベアリング５１は、外輪がケース５２の内側に固定されている。

ケース５２は、ベアリング５１を内側に収容可能な円筒状に形成されている。ケース５２は、洗浄室チャンバ８の下方に固定されている。より詳しくは、ケース５２は、洗浄室チャンバ８の内側壁８１３の内側の空間に配置されている。

負圧供給管５３は、ケース５２を厚さ方向に貫通して配置されている。負圧供給管５３は、吸引ユニット２４の負圧供給口２４４と連通する中空パイプ状に形成されている。負圧供給管５３は、真空吸引源と接続されている。

正圧供給管５４は、ケース５２を厚さ方向に貫通して配置されている。正圧供給管５４は、負圧供給管５３の上方に配置されている。正圧供給管５４は、吸引ユニット２４の正圧供給口２４５と連通する中空パイプ状に形成されている。

開放管５５は、ケース５２を厚さ方向に貫通して配置されている。開放管５５は、正圧供給管５４の上方に配置されている。開放管５５は、ケース５２の内側の空間と、洗浄室チャンバ８の外側の空間と連通する中空パイプ状に形成されている。開放管５５は、一端がケース５２の内側の空間と連通し、他端は装置外部にて大気開放される。

図２、図３に示すように、洗浄流体供給ノズル６は、洗浄時には、純水等の洗浄水をウエーハＷに向けて噴射し、ウエーハＷを洗浄する。洗浄流体供給ノズル６は、乾燥時には、清浄なエアー等をウエーハＷに向けて噴射し、ウエーハＷを乾燥させる。洗浄流体供給ノズル６は、ノズルアーム６１と、洗浄流体噴出部６２とを有する。

ノズルアーム６１は、水平面内で揺動自在に設けられている。ノズルアーム６１は、図示しない洗浄流体供給源に接続されている。ノズルアーム６１は、洗浄流体噴出部６２に連通する中空パイプ状に形成されている。洗浄流体噴出部６２は、ノズルアーム６１の先端に配設されている。洗浄流体噴出部６２は、チャックテーブル２の保持面２１ａ上に保持された、切削加工が施されたウエーハＷに向けて純水とエアーとからなる洗浄流体を鉛直方向に噴射する。

図２に示すように、エア供給ノズル７は、洗浄後のウエーハＷに対してエアーを噴出する。エア供給ノズル７は、ノズルアーム７１と、エア噴出部７２とを有する。ノズルアーム７１は、水平面内で揺動自在に設けられている。ノズルアーム７１は、図示しないエアー供給源に接続されている。ノズルアーム７１は、エア噴出部７２に連通する中空パイプ状に形成されている。エア噴出部７２は、ノズルアーム７１の先端に配設されている。エア噴出部７２は、チャックテーブル２の保持面２１ａ上に保持された、洗浄後のウエーハＷに向けてエアーを噴出する。

図２、図３に示すように、洗浄室チャンバ８は、チャックテーブル２と洗浄流体供給ノズル６とを収容する洗浄室を形成する。洗浄室チャンバ８は、洗浄室本体８１と、支持脚８２と、カバー部材８３と、ドレンホース８４と、ラビリンスシール部８５と、シール部材８６と、蓋８７とを有する。

洗浄室本体８１は、円筒状の外側壁８１１と、環状の底壁（底部）８１２と、円筒状の内側壁８１３と、開口８１４と、排液口８１５とを有する。外側壁８１１と底壁８１２と内側壁８１３とで囲われた空間が、洗浄室である。外側壁８１１は、底壁８１２の外周縁から上方に突出している。内側壁８１３は、底壁８１２の内周縁、言い換えると、開口８１４の周縁から上方に突出している。内側壁８１３の軸線方向の長さは、外側壁８１１の軸線方向の長さより短い。開口８１４は、底壁８１２の中央部に形成され、回転軸ユニット３の回転軸４１の先端が突出する。排液口８１５は、底壁８１２を厚さ方向に貫通して形成されている。排液口８１５には、ドレンホース８４が接続されている。

内側壁８１３の内側の空間は、開口８１４を介して、洗浄室チャンバ８の外側の空間と連通されている。内側壁８１３の内側の空間には、開放管５５が連通している。

支持脚８２は、洗浄室本体８１を支持する複数本、例えば３本の脚部である。支持脚８２は、支持機構４３の周囲に配置されている。

カバー部材８３は、回転軸ユニット３の回転軸４１に装着されている。カバー部材８３は、環状の底壁８３１と、円筒状の外側壁８３２と、円筒状の内側壁（筒状壁）８３３とを有する。底壁８３１の外径は、底壁８１２の内径より大きい。外側壁８３２は、底壁８３１の外周縁から下方に突出している。内側壁８３３は、底壁８３１の内周縁から上方に突出している。このように構成されたカバー部材８３の外側壁８３２は、洗浄室本体８１を構成する内側壁８１３の外側に隙間をもって位置付けられる。

ドレンホース８４は、洗浄室本体８１の下部に溜まった洗浄液を、洗浄室チャンバ８の外部に排出する。ドレンホース８４は、排液口８１５に接続されている。

ラビリンスシール部８５は、洗浄室チャンバ８の洗浄室の洗浄液が、内側壁８３３の内側の空間に侵入することを規制する。ラビリンスシール部８５は、チャックテーブル２とカバー部材８３との間に配置されている。より詳しくは、ラビリンスシール部８５は、チャックテーブル２のフランジ２２と、カバー部材８３の内側壁８３３との間に配置されている。ラビリンスシール部８５は、内側筒部８５１と、外側筒部８５２とを有する。

内側筒部８５１は、環状の底壁８５１１と、円筒状の側壁８５１２とを有する。底壁８５１１は、底壁８３１の上面に固定されている。底壁８５１１の内径は、フランジ２２の外径よりわずかに大きい。側壁８５１２は、底壁８５１１の内周縁から上方に突設している。

外側筒部８５２は、環状の底壁８５２１と、円筒状の側壁８５２２とを有する。底壁８５２１は、チャックテーブル２の保持部２１と、フランジ２２の小径部２２１と大径部２２２との間に固定されている。底壁８５２１の外径は、側壁８５１２の外径よりわずかに大きい。側壁８５２２は、底壁８５２１の外周縁から下方に突設している。側壁８５２２は、側壁８５１２の外側にわずかな隙間をもって位置付けられている。

図２ないし図４に示すように、シール部材８６は、洗浄室チャンバ８の洗浄室の洗浄液が、内側壁８３３の内側の空間に侵入することを規制する。シール部材８６は、チャックテーブル２とカバー部材８３との間に配置されている。より詳しくは、シール部材８６は、チャックテーブル２のフランジ２２と、カバー部材８３の内側壁８３３との間に配置されている。シール部材８６は、カバー部材８３の内側壁８３３の全周に装着されている。シール部材８６は、Ｖリングで構成されている。シール部材８６は、環状本体部８６１と、延在部８６２とを有する。

環状本体部８６１は、カバー部材８３の内側壁８３３に装着されている。環状本体部８６１は、カバー部材８３の底壁８３１の外周面と内側壁８３３の外周面とに密着している。延在部８６２は、環状本体部８６１の上面から上方に延出している。延在部８６２は、側面視において、上下方方向の下側から上側に向かうに連れて、径方向の内側から外側に傾斜している。延在部８６２の上端は、フランジ２２の大径部２２２の底面に接触している。

蓋８７は、洗浄室本体８１の上方を覆う。より詳しくは、蓋８７は、外側壁８１１の上方の開口を塞ぐ。

排気ユニット９は、洗浄室チャンバ８の洗浄室の内部の雰囲気、すなわち内部雰囲気を排気する。排気ユニット９は、洗浄室チャンバ８の上部から排気を行う。排気ユニット９は、洗浄室チャンバ８の外側壁８１１に設けられた排気口９１と、排気口９１と吸引ポンプ９３とに接続された排気配管９２とを有する。排気ユニット９は、吸引ポンプ９３により排気配管９２、排気口９１を介して洗浄室チャンバ８の洗浄室の内部雰囲気を吸引し、図示しない排気処理部により内部雰囲気に含まれている、ウエーハＷに付着していた物質や洗浄液に含まれている物質などの不純物を除去し、外部に排気する。

次に、本実施形態に係る洗浄装置１を用いたウエーハＷの洗浄方法および作用について説明する。

切削加工が施されたウエーハＷは、図示しない搬送手段によりチャックテーブル１１０から洗浄装置１まで搬送される。搬送されたウエーハＷは、負圧が作用するチャックテーブル２の保持面２１ａで吸引保持される。環状フレームＦは、フレームクランプ２３で挟持し固定される。そして、洗浄水が洗浄流体供給ノズル６からウエーハＷに向けて噴射され、ウエーハＷが洗浄される。

ウエーハＷの洗浄時、ウエーハＷに噴射された洗浄液は、汚れなどの異物を含んだ噴霧となり舞い上がる。噴霧は、排気ユニット９を作動させることにより、排気口９１と排気配管９２とを介して、洗浄室チャンバ８の外部に排気される。

洗浄室チャンバ８の洗浄室には、シール部材８６がチャックテーブル２とカバー部材８３との間に装着されている。これにより、排気ユニット９の作動時、洗浄室チャンバ８の洗浄室の内部雰囲気が排気口９１に向かって流れていても、シール部材８６がカバー部材８３の内側壁８３３に装着されているので、カバー部材８３の内側壁８３３の内側の空間の雰囲気は、洗浄室チャンバ８の洗浄室の内部雰囲気と遮断されている。言い換えると、オイルシールＳのグリースを含んだ洗浄室チャンバ８の洗浄室の外部雰囲気が、ベアリング部５のベアリング５１を介して、洗浄室チャンバ８の洗浄室に流入することが規制されている。このように、洗浄室チャンバ８の洗浄室は、洗浄室チャンバ８の洗浄室の外部雰囲気が流入することが規制されている。

軸部４の回転軸４１の外周面とベアリング部５のケース５２の内周面との間のオイルシールＳが劣化すると、吸引ユニット２４の作動時、ベアリング部５のケース５２の内側の空間の雰囲気が負圧になる。これにより、開放管５５を介して、洗浄室チャンバ８の洗浄室の外部雰囲気がベアリング部５のケース５２の内部に流入する。このようにして、ベアリング部５のケース５２の内側の空間の雰囲気は、過度に負圧になることが抑制される。

以上のように、本実施形態によれば、洗浄室チャンバ８の洗浄室は、シール部材８６がチャックテーブル２とカバー部材８３との間に装着されていることで、洗浄室チャンバ８の洗浄室の外部雰囲気が流入することを規制することができる。より詳しくは、本実施形態は、ラビリンスシール部８５により、排気ユニット９の作動時、内側筒部８５１の側壁８５１２の内側の空間の雰囲気が、排気口９１に向かって流れることを抑制することができる。さらに、本実施形態は、シール部材８６により、カバー部材８３の内側壁８３３の内側の空間の雰囲気を、洗浄室チャンバ８の洗浄室の内部雰囲気と遮断することができる。これにより、本実施形態は、ベアリング部５やオイルシールＳのグリースを含んだ洗浄室チャンバ８の洗浄室の外部雰囲気が、ベアリング部５のベアリング５１を介して、洗浄室チャンバ８の洗浄室に流入することを規制することができる。このように、本実施形態は、ウエーハＷに異物が付着することを抑制することができる。

本実施形態において、軸部４の回転軸４１の外周面とベアリング部５のケース５２の内周面との間のオイルシールＳがグリース不足等により劣化すると、吸引ユニット２４の作動時、ベアリング部５のケース５２の内側の空間の雰囲気が負圧になる。これにより、本実施形態によれば、開放管５５を介して、洗浄室チャンバ８の洗浄室の外部雰囲気がベアリング部５のケース５２の内部に流入することができる。このようにして、本実施形態は、ベアリング部５のケース５２の内側の空間の雰囲気が、過度に負圧になることを抑制することができる。

これに対して、開放管５５が配置されていない場合、オイルシールＳが劣化すると、ベアリング部５のベアリング５１を介して、内側壁８３３の内側の空間の雰囲気が負圧になる。シール部材８６は、内側壁８３３の内側の空間の雰囲気の負圧による吸引力で、延在部８６２が起立するように変形する。延在部８６２が起立することで、延在部８６２がチャックテーブル２の裏側に密着し、チャックテーブル２に該シール部材８６が吸着する。これにより、チャックテーブル２の回転が阻害されるおそれがある。また、チャックテーブル２の保持面２１ａが平坦でなくなるおそれがある。さらに、チャックテーブル２の回転で延在部８６２が摩耗し、シール部材８６は、短寿命化し、短期間での交換が必要になるおそれがある。

しかしながら、本実施形態によれば、ベアリング部５のケース５２の内側の空間の雰囲気が過度に負圧になることが抑制され、シール部材８６が変形しない。このため、本実施形態は、チャックテーブル２の回転が阻害されることを抑制することができる。本実施形態は、チャックテーブル２を平坦に保持した状態を維持することができる。また、本実施形態によれば、チャックテーブル２の回転で延在部８６２が摩耗することを抑制することができる。これにより、本実施形態は、シール部材８６を長短寿命化し、シール部材８６の交換サイクルを長くすることが可能である。

本実施形態によれば、ウエーハＷの洗浄時、ウエーハＷに噴射された洗浄液は、汚れなどの異物を含んだ噴霧となり舞い上がる。本実施形態は、排気ユニット９で、排気口９１と排気配管９２とを介して、舞い上がった噴霧を、洗浄室チャンバ８の外部に排気することができる。

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。

１ 洗浄装置
２ チャックテーブル
３ 回転軸ユニット
４ 軸部
５ ベアリング部
６ 洗浄流体供給ノズル（ノズル）
７ エア供給ノズル
８ 洗浄室チャンバ
８１ 洗浄室本体
８１２ 底壁（底部）
８１４ 開口
８３ カバー部材
８３３ 内側壁（筒状壁）
８６ シール部材
８６１ 環状本体部
８６２ 延在部
９ 排気ユニット
１００ 加工装置
１１０ チャックテーブル
１１１ａ 保持面
１２０ Ｘ軸移動手段
１３０ 切削手段
１４０ Ｙ軸移動手段
１５０ Ｚ軸移動手段
Ｗ ウエーハ（被加工物）

Claims (1)

1. 被加工物を保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルを回転可能に支持するベアリング部と軸部とを備える回転軸ユニットと、該チャックテーブルに保持された被加工物に洗浄液を供給するノズルと、該チャックテーブルと該ノズルとを収容し洗浄室を形成する洗浄室チャンバと、該洗浄室チャンバの雰囲気を排出する排気ユニットと、を備える洗浄装置であって、
   該洗浄室チャンバは、
   該チャックテーブルを裏側から支持する該回転軸ユニットの該軸部の先端が突出する開口を底部に備え、
   該洗浄室チャンバに該開口から雰囲気が侵入するのを防ぐシール部材が該開口の周囲に立設する筒状壁に装着され、
   該シール部材は、該筒状壁に装着される環状本体部と、該環状本体部から延出する延在部を有し、該延在部の上端が該チャックテーブルの裏側に接触していることを特徴とする洗浄装置。

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