JP2017218391A - 重合性化合物及び光学異方体 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物を含む溶液に添加した場合に高い保存安定性を有し、重合性組成物を基材に塗布した際、短時間で液晶相配向が誘起され、且つ、配向欠陥が少ない重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。【解決手段】 本願発明は一般式（Ｉ）【化１】で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体等を提供する。【選択図】 なし

Description

本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を重合することにより得られる重合体を用いた光学異方体に関する。

重合性化合物は種々のフィルムに使用される。例えば、重合性化合物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有するフィルムを作製することが可能である。このようにして作製したフィルムは、液晶ディスプレイに必要な偏光板、位相差板などに使用することができる。また、重合性化合物はコレステリック構造を有するフィルムの作製にも使用できる。特に、屈折率異方性（Δｎ）の低い重合性液晶化合物は、選択反射波長幅の狭いコレステリック相を有するフィルム用の材料として有用である。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、フィルムの透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物からなる組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。特に、コレステリック構造を有するフィルムの作製を目的とする場合、広い温度範囲でネマチック相又はコレステリック相として存在でき、かつ高いネマチック相又はコレステリック相液晶配向性を有する重合性化合物が必要である。

重合性化合物を含有する重合性組成物をディスプレイ等の光学フィルム材料として使用する場合、重合性組成物を基材に塗布した際、短時間で液晶相配向が誘起され、且つ、配向欠陥が少ないことが好ましい。また、プロセス上の観点においては、重合性組成物を長期間保管しても成分中の重合性組成物が析出することが無く、高い保存安定性を有することが好ましい。しかしながら、従来知られていた化合物は、重合性組成物に添加し長期間保管した場合に析出が生じる問題や、重合性組成物を基材に塗布してから液晶相配向が誘起されるまでの時間が長くかかるという問題、配向欠陥が多く生るという問題があった（特許文献１から４）。そのような重合性化合物を含有する重合性組成物を使用してフィルムを製造する場合、析出物を再溶解させるための追加の工程が必要となる場合や、液晶相配向を誘起させるまでの工程時間が長くする必要や、さらには配向欠陥が多く生じるという問題があった。そのため、このような問題を解決することができる重合性化合物の開発が求められていた。

ＫＲ１０−２０１５−００３７５８０号公報 特開２００５−０３５９８５号公報 特開２０１１−２４６３６５号公報 特開２０１０−２７０１０８号公報

Ｒｅｃｕｅｉｌ ｄｅｓ Ｔｒａｖａｕｘ Ｃｈｉｍｉｑｕｅｓ ｄｅｓ Ｐａｙｓ−Ｂａｓ誌、１９９６年、１１５巻、６号、３２１−３２８頁

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物を含む溶液に添加した場合に高い保存安定性を有し、重合性組成物を基材に塗布した際、短時間で液晶相配向が誘起され、且つ、配向欠陥が少ない重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、特定の部分構造を含むメソゲン基を有する重合性化合物の開発に至った。すなわち、本願発明は一般式（Ｉ）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、その他の重合性化合物を含有する重合性組成物に添加した場合に高い保存安定性を有し、重合性組成物を基材に塗布した際、短時間で液晶相配向が誘起され、且つ、配向欠陥が少ないことから、重合性組成物の構成部材として有用である。また、当該重合性組成物は位相差フィルム、選択反射フィルム等の光学材料の用途に有用である。

本願発明は特定の構造を有する化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。

（式中、Ｐ^１はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、
Ｓｐ^１はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Ｘ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
ｋ１は０から１０の整数を表し、
Ａ^１及びＡ^２は各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−９）

（式中、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。）から選ばれる基を表し、
Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌはラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^Ｌはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表し、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。
Ｂ^１は下記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１５）

（式中、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良く、Ｌ^Ｂは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、少なくとも１つの上記置換基Ｌによって置換されたベンジルオキシカルボニル基、上記置換基Ｌによって置換されても良い２−フェニルエチルオキシカルボニル基、１個の−ＣＨ_２−が−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数２のアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基を表すが、当該炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＢはＰ^ＬＢ−（Ｓｐ^ＬＢ−Ｘ^ＬＢ）_ｋＬＢ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＢはラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^ＬＢはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^ＬＢが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＢは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＢが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋＬＢは０から１０の整数を表す。）から選ばれる基を表し、
Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｒ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^２はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋ２は０から１０の整数を表す。）を表すが、一般式中、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）で表される化合物。

一般式（Ｉ）において、Ｐ^１及び存在するＰ^２は各々独立してラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表すが、各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましい。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−８）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は各々独立してスペーサー基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｓｐ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことがより好ましく、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状アルキレン基を表すことがさらに好ましく、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキレン基を表すことがさらにより好ましく、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して炭素原子数１から１２の直鎖状アルキレン基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｘ^１及び存在するＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^１のうちＡ^１と直接結合するＸ^１、及び、存在するＸ^２のうちＡ^２と直接結合するＸ^２は、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−を表すことがより好ましく、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことがさらに好ましく、各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

また、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^１のうちＡ^１と直接結合していないＸ^１、及び、存在するＸ^２のうちＡ^２と直接結合していないＸ^２は、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、各々独立して−Ｏ−又は単結合を表すことがさらにより好ましく、−Ｏ−を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｋ１及び存在するｋ２は各々独立して０から１０の整数を表すが、合成の容易さ及び液晶性の観点から、各々独立して０から５の整数を表すことが好ましく、各々独立して０から２の整数を表すことがより好ましく、各々独立して０又は１を表すことがさらに好ましく、フィルムにした場合の硬化収縮の少なさの観点から、各々１を表すことが特に好ましい。
ただし、一般式（Ｉ）において、Ｐ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−及び存在する−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。

一般式（Ｉ）において、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−９）

から選ばれる基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ、液晶性、保存安定性、液晶相配向性及び配向欠陥の観点から、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ａ−１）から式（Ａ−７）から選ばれる基を表すことが好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ａ−１）から式（Ａ−６）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ａ−１）又は式（Ａ−２）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ａ−１）で表される基を表すことがさらにより好ましく（ここで置換基Ｌの好ましい基は、下記置換基Ｌが採用する好ましい基と同様である。）、無置換の上記の式（Ａ−１）で表される基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、置換基ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良いが、化合物内に置換基Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。また、置換基ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良いが、Ｐ^Ｌ、Ｓｐ^Ｌ、Ｘ^Ｌ及びｋＬの好ましい構造は、各々Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ｘ^１及びｋ１の好ましい構造と同様である。

一般式（Ｉ）において、Ｂ^１は無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良い下記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１５）

から選ばれる基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ、液晶性、屈折率異方性、保存安定性、液晶相配向性及び配向欠陥の観点から、無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１２）から選ばれる基を表すことが好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−５）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−３）又は式（Ｂ−５）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ｂ−１）又は式（Ｂ−２）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、無置換の上記の式（Ｂ−１）又は式（Ｂ−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

上記の式（Ｂ−１）及び式（Ｂ−２）において、Ｌ^Ｂは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、少なくとも１つの上記置換基Ｌによって置換されたベンジルオキシカルボニル基、上記置換基Ｌによって置換されても良い２−フェニルエチルオキシカルボニル基、１個の−ＣＨ_２−が−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数２のアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基を表すが、当該炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＢはＰ^ＬＢ−（Ｓｐ^ＬＢ−Ｘ^ＬＢ）_ｋＬＢ−で表される基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ、液晶性、屈折率異方性、保存安定性、液晶相配向性及び配向欠陥の観点から、Ｌ^Ｂはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、上記置換基Ｌによって置換されても良い２−フェニルエチルオキシカルボニル基、１個の−ＣＨ_２−が−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数２のアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基を表すことが好ましく、Ｌ^Ｂはフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、１個の−ＣＨ_２−が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数２のアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基アルキル基を表すことがより好ましく、Ｌ^Ｂはフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、炭素原子数１３から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素原子数６から１９の直鎖状又は分岐状アルコキシ基、１個の−ＣＨ_２−が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されており、さらに加えて当該基によって置換されている−ＣＨ_２−と隣接していない１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがさらに好ましく、Ｌ^Ｂはフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、炭素原子数１３から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素原子数６から１９の直鎖状又は分岐状アルコキシ基、１個の−ＣＨ_２−が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−又は−Ｎ＝ＣＲ^０−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されており、さらに加えて１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがさらにより好ましく、Ｌ^Ｂはフッ素原子、シアノ基、フェニル基、１個の−ＣＨ_２−が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−又は−Ｎ＝ＣＲ^０−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されており、さらに加えて１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良い、炭素原子数２から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）におけるＢ^１で表される基のうち、上記の式（Ｂ−１）で表される基としては、より具体的には下記の式（Ｂ−１−１）から式（Ｂ−１−１１）

（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表し、Ｒ^３１は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｒ^３２は水素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、一般式（Ｉ）におけるＢ^１で表される基のうち、上記の式（Ｂ−２）で表される基としては、より具体的には下記の式（Ｂ−２−１）から式（Ｂ−２−９）

（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表し、Ｒ^３１は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｒ^３２は水素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表す。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましく、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｒ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す。フィルムにした場合の柔軟性を重視する場合、Ｒ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表すことが好ましく、フィルムにした場合の機械的強度を重視する場合、Ｒ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表すことが好ましい。

Ｒ^２が−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表す場合、液晶性及び合成の容易さの観点から、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことが好ましく、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことがより好ましく、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、Ｒ^２は炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。
また、Ｒ^２が−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す場合、Ｐ^２、Ｓｐ^２、Ｘ^２及びｋ２の好ましい構造は、それぞれ、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ｘ^１及びｋ１の採用する好ましい構造と同様である。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ−ｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１、Ｚ^１及びＺ^２は各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１、Ｚ^１及びＺ^２と同じ意味を表す。）で表される化合物が好ましく、下記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１、Ｚ^１及びＺ^２は各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１、Ｚ^１及びＺ^２と同じ意味を表す。）で表される化合物がより好ましく、下記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１及びＳｐ^２は各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１及びＳｐ^２と同じ意味を表し、Ｂ^１１は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−５）から選ばれる基を表し、Ｚ^１１及びＺ^２１は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表す。）で表される化合物がさらに好ましく、下記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ）又は一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１及びＳｐ^２は各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１及びＳｐ^２と同じ意味を表し、Ｂ^１１は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−５）から選ばれる基を表す。）で表される化合物がさらにより好ましく、下記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ）から一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｘ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＬは各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＬと同じ意味を表し、Ｌ^Ｂ１はフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、炭素原子数１３から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素原子数６から１９の直鎖状又は分岐状アルコキシ基、１個の−ＣＨ_２−が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−又は−Ｎ＝ＣＲ^０−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されており、さらに加えて１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）で表される化合物がさらにより好ましい。

上記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ）から一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｖ）で表される化合物は、下記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−１）から一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｖ−２）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＬは各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＬと同じ意味を表し、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表し、Ｒ^３１は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｒ^３２は水素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）で表される化合物、及び前記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｖｉ）、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｖｉｉ）、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｖｉｉｉ）又は一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｘ）で表される化合物が特に好ましい。

前記の一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−１）から一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｘ）で表される化合物において、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−１）から一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉｖ−２）で表される化合物がより好ましく、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−１）から一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−９）で表される化合物がさらに好ましく、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−５）、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−６）及び一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−９）で表される化合物がさらにより好ましく、一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−５）及び一般式（Ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−ｉ−６）で表される化合物が特に好ましい。

なお、液晶性の観点から、一般式（Ｉ）で表される化合物に含まれる１，４−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基はシス体及びトランス体のいずれか一方のみであっても、両方の混合物であっても良いが、液晶性の観点からトランス体が主成分であることが好ましく、トランス体のみであることが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−８０）で表される化合物が好ましい。

本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−１０）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＬ^Ｂは各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＬ^Ｂと同じ意味を表し、ＰＧは保護基を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１）で表される化合物のカルボキシル基を保護基（ＰＧ）によって保護する。保護基（ＰＧ）としては、脱保護工程に至るまで安定に保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）等に挙げられている保護基（ＰＧ）が好ましい。保護基の具体例としてはテトラヒドロピラニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メチル基、エチル基又はベンジル基等が挙げられる。

式（Ｓ−２）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−３）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。また、式（Ｓ−１）で表される化合物の一方のカルボキシル基のみを保護基（ＰＧ）によって保護することによって式（Ｓ−３）で表される化合物を得ることも可能である。

式（Ｓ−３）で表される化合物を塩基存在下、式（Ｓ−４）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−５）で表される化合物を得ることができる。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、トリエチルアミン等が挙げられる。

式（Ｓ−５）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−６）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。

式（Ｓ−６）で表される化合物を式（Ｓ−７）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−８）で表される化合物を得ることができる。反応条件としては例えば縮合剤を用いる方法若しくは式（Ｓ−６）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−７）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。

前段階の方法と同様の方法によって、式（Ｓ−８）で表される化合物を式（Ｓ−９）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１０）で表される化合物を得ることができる。
（製法２）下記式（Ｓ−１７）で表される化合物の製造

式（Ｓ−１１）で表される化合物のカルボキシル基を還元する。還元反応の条件としては、式（Ｓ−１２）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ボラン−テトラヒドロフラン錯体等が挙げられる。

式（Ｓ−１２）で表される化合物を式（Ｓ−１３）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１４）で表される化合物を得ることができる。反応条件としては例えば光延反応が挙げられる。または、式（Ｓ−１２）で表される化合物のヒドロキシル基をメタンスルホキシ基又はｐ−トルエンスルホキシ基等とした後、塩基存在下、式（Ｓ−１３）で表される化合物と反応させることも可能である。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等が挙げられる。

式（Ｓ−１４）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−１５）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。

式（Ｓ−１５）で表される化合物を塩基存在下、式（Ｓ−１６）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１７）で表される化合物を得ることができる。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、トリエチルアミン等が挙げられる。

製法１及び製法２の各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載の条件又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）又はＲｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｌｔｄ．）等のオンライン検索サービスから提供される条件が挙げられる。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えばイソプロピルアルコール、エチレングリコール、メタノール、エタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、キシレン、酢酸エチル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ ２０］、ソルビタンモノオレアート［Ｓｐａｎ ８０］等が挙げられる。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。

本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましく、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが特に好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の重合性化合物と混合して使用される他の重合性化合物としては、具体的には一般式（Ｘ−１１）

及び／又は一般式（Ｘ−１２）

（式中、Ｐ^１１、Ｐ^１２及びＰ^１３は各々独立してラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２及びＳｐ^１３は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^１１、Ｘ^１２及びＸ^１３は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３及びＡ^１４は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３及びＡ^１４は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｒ^１１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｍ１１及びｍ１２は０、１、２又は３を表すが、ｍ１１及び／又はｍ１２が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^１１、Ａ^１３、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２は同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物が好ましく、Ｐ^１１、Ｐ^１２及びＰ^１３がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。一般式（Ｘ−１１）で表される化合物として具体的には、一般式（Ｘ−１１ａ）

（式中、Ｗ^１１及びＷ^１２は各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^１４及びＸ^１５は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^１３及びＺ^１４は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^１５、Ａ^１６及びＡ^１７は各々独立して無置換若しくはフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素原子数１から４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基によって置換されていても良い１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（Ｘ−１１ａ−１）から式（Ｘ−１１ａ−４）

（式中、Ｗ^１１、Ｗ^１２、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５は一般式（Ｘ−１１ａ）と同様の意味を表す。）で表される化合物が特に好ましい。上記式（Ｘ−１１ａ−１）から式（Ｘ−１１ａ−４）において、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（Ｘ−１１ｂ−１）から式（Ｘ−１１ｂ−３）

（式中、Ｗ^１３及びＷ^１４は各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１６及びＳｐ^１７は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）で表される化合物が挙げられる。上記式（Ｘ−１１ｂ−１）から式（Ｘ−１１ｂ−３）において、Ｓｐ^１６及びＳｐ^１７が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

また、一般式（Ｘ−１２）で表される化合物として具体的には、下記一般式（Ｘ−１２−１）から式（Ｘ−１２−７）

（式中、Ｐ^１４はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^１８は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良く、Ｘ^１６は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^１５は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｓ１１は０から４の整数を表し、Ｒ^１２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）で表される化合物が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。

また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤の具体例としては２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）、安息香酸［１−［４−（フェニルチオ）ベンゾイル］ヘプチリデン］アミノ（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤の具体例としては２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。

また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（Ｘ−１３−１）から式（Ｘ−１３−３５）

（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ_２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。

重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。

上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ^２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。

重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。

このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。各工程において酸素及び／又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行うことが好ましい。以下具体的に記載されている作業に加えて必要に応じて、当業者間において通常行われている反応のクエンチ、分液・抽出、中和、洗浄、分離、精製、乾燥、濃縮等の作業を行っても良い。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物２０．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール８．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．３ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１６．３ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。析出物を濾過により除去し、濾液を５％塩酸及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−１−２）で表される化合物２０．８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１−２）で表される化合物２０．８ｇ、メタノール２００ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３０ｍＬを加え６０℃で加熱撹拌した。冷却しクロロホルムを加えた。１０％塩酸を加え水層のｐＨを４〜５とし、分液処理した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。不溶物をセライト濾過した後、溶媒を留去し乾燥させることにより、式（Ｉ−１−３）で表される化合物１７．７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１−３）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−１−４）で表される化合物４．２ｇ、炭酸カリウム４．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加え９０℃で８時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−１−５）で表される化合物６．７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１−５）で表される化合物６．７ｇ、ジクロロメタン２５ｍＬ、ギ酸１５ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。溶媒を留去した後、酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−１−６）で表される化合物４．６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１−６）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−１−７）で表される化合物０．７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。再結晶（ジクロロメタン／メタノール）を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物２．５ｇを得た。
ＬＣＭＳ：７６９［Ｍ＋１］
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２−１）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−２−２）で表される化合物０．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。再結晶（ジクロロメタン／メタノール）を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２）で表される化合物２．９ｇを得た。
ＬＣＭＳ：７８５［Ｍ＋１］
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−３−１）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−３−２）で表される化合物３．９ｇ、ジブチルスズオキシド０．１ｇ、トルエン９０ｍＬを加え、トルエンを入れ替えながら８時間加熱還流させた。トルエンを留去した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−３−３）で表される化合物６．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−３−４）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−３−３）で表される化合物１．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。再結晶（ジクロロメタン／メタノール）を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−３）で表される化合物２．８ｇを得た。
ＬＣＭＳ：８７３［Ｍ＋１］
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−４−１）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−４−２）で表される化合物０．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。再結晶（ジクロロメタン／メタノール）を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物１．７ｇを得た。
ＬＣＭＳ：７３３［Ｍ＋１］
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−５−２）で表される化合物０．９ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。再結晶（ジクロロメタン／メタノール）を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物２．９ｇを得た。
ＬＣＭＳ：８０３［Ｍ＋１］
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−６−１）で表される化合物１５．０ｇ、アクリル酸７．１ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．８ｇ、トルエン１５０ｍＬを加え、水を除去しながら８時間加熱還流させた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することにより、式（Ｉ−６−２）で表される化合物１７．８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−２）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−６−３）で表される化合物３．１ｇ、炭酸カリウム２．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加え９０℃で１０時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−６−４）で表される化合物４．５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−４）で表される化合物４．５ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、メタノール２０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え室温で７時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−６−５）で表される化合物３．５ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−６−５）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−６−６）で表される化合物１．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．８ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−６−７）で表される化合物１．５ｇを得た。

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−６−８）で表される化合物１５．０ｇ、２−フルオロアクリル酸１１．９ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．８ｇ、トルエン１５０ｍＬを加え、水を除去しながら８時間加熱還流させた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することにより、式（Ｉ−６−９）で表される化合物１８．９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−９）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−６−１０）で表される化合物３．５ｇ、炭酸カリウム３．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加え９０℃で１０時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−６−１１）で表される化合物５．０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−１１）で表される化合物５．０ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、メタノール２０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え室温で７時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−６−１２）で表される化合物３．８ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−６−７）で表される化合物１．５ｇ、式（Ｉ−６−１２）で表される化合物１．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物１．７ｇを得た。
ＬＣＭＳ：８２１［Ｍ＋１］
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−７−１）で表される化合物１０．０ｇ、式（Ｉ−７−２）で表される化合物９．４ｇ、炭酸カリウム２４．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍＬを加え９０℃で２０時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、５％塩酸に注いだ。酢酸エチルで抽出し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−７−３）で表される化合物６．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−７−３）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−７−４）で表される化合物３．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．５ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−７−５）で表される化合物３．２ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−７−５）で表される化合物３．２ｇ、式（Ｉ−７−６）で表される化合物１．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．８ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−７−７）で表される化合物３．４ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−７）で表される化合物３．４ｇ、ジクロロメタン１５ｍＬ、ギ酸１０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。溶媒を留去した後、得られた固体を水で洗浄し乾燥させることにより、式（Ｉ−７−８）で表される化合物２．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−７−８）で表される化合物２．９ｇ、式（Ｉ−７−９）で表される混合物０．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．６ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−７）で表される化合物２．６ｇを得た。
ＬＣＭＳ：９０９［Ｍ＋１］
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−８−１）で表される化合物５．０ｇ、プロパノール３．９ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．３ｇ、トルエン５０ｍＬを加え、水を除去しながら８時間加熱還流させた。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−８−２）で表される化合物５．１ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−３）で表される化合物１７．７ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら０．９ｍｏｌ／Ｌボラン−テトラヒドロフラン錯体１０３ｍＬを滴下し１時間撹拌した。５％塩酸を滴下した後、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留去することにより、式（Ｉ−８−４）で表される化合物１４．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−４）で表される化合物１０．０ｇ、式（Ｉ−８−５）で表される化合物１０．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．３ｇ、ジクロロメタン８０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド７．１ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−８−６）で表される化合物１５．４ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−６）で表される化合物１５．４ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬ、ギ酸４０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−８−７）で表される化合物１２．０ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−２）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−８−７）で表される化合物５．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．３ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−８−８）で表される化合物４．１ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−８）で表される化合物４．１ｇ、式（Ｉ−８−９）で表される化合物１．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．２ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−８−１０）で表される化合物４．６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−１０）で表される化合物４．６ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、メタノール２０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え室温で７時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−８−１１）で表される化合物３．８ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−１２）で表される化合物５．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム０．２ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３．８ｇを加え撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−８−１３）で表される化合物７．６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−１４）で表される化合物４．１ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、水素化ナトリウム１．１ｇを加え室温で１時間撹拌した。式（Ｉ−８−１３）で表される化合物７．６ｇをテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し５０℃で８時間加熱撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−８−１５）で表される化合物７．３ｇを得た。

反応容器にギ酸３０ｍＬ、ジクロロメタン３０ｍＬを加え、３５％過酸化水素水１５ｍＬを滴下し撹拌した。式（Ｉ−８−１５）で表される化合物７．３ｇをジクロロメタン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し４０℃で６時間加熱撹拌した。水及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−８−１６）で表される化合物６．１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−１６）で表される化合物６．１ｇ、メタノール３０ｍＬ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え室温で５時間撹拌した。ジクロロメタンで希釈した後、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−８−１７）で表される化合物４．０ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−１１）で表される化合物３．８ｇ、式（Ｉ−８−１７）で表される化合物１．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．８ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−８）で表される化合物３．９ｇを得た。
ＬＣＭＳ：８８５［Ｍ＋１］
（実施例９）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−１）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−９−２）で表される化合物３．３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド３．５ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−９−３）で表される化合物６．３ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−３）で表される化合物６．３ｇ、ジクロロメタン１５ｍＬ、ギ酸１０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。酢酸エチルで希釈した後、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−９−４）で表される化合物４．７ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−４）で表される化合物４．７ｇ、式（Ｉ−９−５）で表される化合物２．７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．５ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−９−６）で表される化合物３．５ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−６）で表される化合物３．５ｇ、式（Ｉ−９−７）で表される化合物１．９ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．３ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−９−８）で表される化合物４．３ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−８）で表される化合物４．３ｇ、ジクロロメタン１５ｍＬ、ギ酸１０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。酢酸エチルで希釈した後、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／酢酸エチル）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−９−９）で表される化合物３．５ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−９）で表される化合物３．５ｇ、式（Ｉ−９−１０）で表される化合物１．３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．９ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物３．３ｇを得た。
ＬＣＭＳ：７７５［Ｍ＋１］
（実施例１０）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１０−１）で表される化合物１４．９ｇ、ピリジン７．２ｇ、ジクロロメタン１５０ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド８．８ｇを滴下し室温で３時間撹拌した。水に注ぎ、５％塩酸及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）及び再結晶（アセトン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物１６．３ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−２）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−１０−３）で表される化合物２．５ｇ、炭酸カリウム７．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍＬを加え９０℃で１５時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、５％塩酸に注いだ。酢酸エチルで抽出し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）及び再結晶（ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−１０−４）で表される化合物２．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１０−４）で表される化合物２．９ｇ、式（Ｉ−１０−５）で表される化合物１．７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．３ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１０−６）で表される化合物３．６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物３．６ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬ、ギ酸２０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。酢酸エチルで希釈した後、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／酢酸エチル）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−１０−７）で表される化合物２．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１０−７）で表される化合物２．９ｇ、式（Ｉ−１０−８）で表される化合物０．９ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．９ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１０）で表される化合物２．９ｇを得た。
ＬＣＭＳ：５９７［Ｍ＋１］
前記と同様の方法及び公知の方法を組み合わせることによって、式（Ｉ−１１）から式（Ｉ−８０）で表される化合物を製造した。
（実施例１１〜３０、比較例１〜８）
実施例１から実施例１０に記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物及び特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）、特許文献３記載の化合物（Ｒ−３）、特許文献４記載の化合物（Ｒ−４）を評価対象の化合物とした。

また、特開２００４−１７５７２８号公報記載の化合物（Ｘ−１）：３０％、特開２００４−２３１６３８号公報記載の化合物（Ｘ−２）：２０％、特開２００５−１７９５５７号公報記載の化合物（Ｘ−３）：４５％及び特開２００４−１７５７２８号公報記載の化合物（Ｘ−４）：５％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。

保存安定性を評価するために、母体液晶（Ｘ）に対して評価対象の化合物を１０％から６０％まで５％刻みで添加し７０℃で加熱溶解させた重合性液晶組成物を各々調製した。調製した重合性液晶組成物を２５℃で５週間保管した後、結晶の析出が起こらない評価対象の化合物の最大添加濃度を下表に記載する。

上記の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも比較化合物（Ｒ−１）から（Ｒ−４）で表される化合物と比較して、同等又はそれ以上の保存安定性を有することがわかる。

配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。

母体液晶（Ｘ）を１１．８７％、評価対象となる化合物を７．９１％（母体液晶（Ｘ）と当該化合物の合計含有量に対し４０％）、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を０．２０％、４−メトキシフェノールを０．０２％及びシクロヘキサノンを８０．００％混合することにより塗布液を調製した。この塗布液をラビングしたガラス基材にバーコーター（Ｎｏ．９）を使用して塗布した後、１００℃のホットプレートに載せ溶媒を蒸発させた。溶媒の蒸発とともにコレステリック液晶相が誘起された。その際のコレステリック液晶相が誘起されるまでの配向速度を比較した。溶媒の蒸発に伴いほぼ同時にコレステリック液晶相が誘起された場合には○、やや遅れてコレステリック液晶相が誘起された場合には△、さらに遅れてコレステリック液晶相が誘起された場合には×とした。また、得られたコレステリック液晶相について偏光顕微鏡観察によって配向欠陥を評価した。塗布膜を縦１０マス×横１０マス、計１００マスの領域に区分し、配向欠陥の生じたマス目の数をカウントした。値が小さいほど、配向欠陥が少ないことを意味する。結果を下表に示す。

比較例７においては、コレステリック液晶相が誘起されなかった。上記の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも比較化合物（Ｒ−１）から（Ｒ−４）で表される化合物と比較して、コレステリック液晶相を誘起するまでの時間が短時間であり、得られたコレステリック液晶相に配向欠陥が少ないことがわかる。

以上の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−４）と比較し、重合性組成物を含む溶液に添加した場合に高い保存安定性を有し、重合性組成物を基材に塗布した際、短時間で液晶相配向が誘起され、且つ、配向欠陥が少ないことがわかる。従って、本願発明の化合物は、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。

Claims (8)

1. 下記の一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｐ^１はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、
   Ｓｐ^１はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
   Ｘ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
   ｋ１は０から１０の整数を表し、
   Ａ^１及びＡ^２は各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−９）
   

   

   （式中、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。）から選ばれる基を表し、
   Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌはラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^Ｌはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表し、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。
   Ｂ^１は下記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１５）
   

   

   （式中、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良く、Ｌ^Ｂは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、上記置換基Ｌによって置換されても良いフェニル基、少なくとも１つの上記置換基Ｌによって置換されたベンジルオキシカルボニル基、上記置換基Ｌによって置換されても良い２−フェニルエチルオキシカルボニル基、１個の−ＣＨ_２−が−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良く、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数２のアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基を表すが、当該炭素原子数３から２０の直鎖状、分岐状又は環状アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＢはＰ^ＬＢ−（Ｓｐ^ＬＢ−Ｘ^ＬＢ）_ｋＬＢ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＢはラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^ＬＢはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^ＬＢが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＢは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＢが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋＬＢは０から１０の整数を表す。）から選ばれる基を表し、
   Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
   Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｒ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^２はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋ２は０から１０の整数を表す。）を表すが、一般式中、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。
   ）で表される化合物。
2. 一般式（Ｉ）において、Ｐ^１及び存在するＰ^２は、各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
   

   

   から選ばれる基を表す請求項１に記載の化合物。
3. 一般式（Ｉ）において、Ｓｐ^１及び存在するＳｐ^２は、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表す、請求項１又は請求項２に記載の化合物。
4. 請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性組成物。
5. 請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性液晶組成物。
6. 請求項４又は請求項５に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
7. 請求項６に記載の重合体を用いた光学異方体。
8. 請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品。