JP2011148762A - 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物および異方性ポリマー - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は液晶相の安定性に優れた重合性化合物、重合性液晶組成物、および光学異方性を制御可能で均一な配向性に優れた異方性ポリマーを提供することを目的とする。
【解決手段】分子の短軸方向にベンジルエステル骨格を有する式（１）で表される化合物を含有する重合性液晶組成物を支持基板上に塗布し、これを重合することによって、均一な配向を有する異方性ポリマーを得る。Ｒ^ａの少なくとも１つは重合性の基、環Ａは２価の環状基、環Ｂは置換基を有してもよいフェニル、Ｙ及びＺは単結合またはアルキレン、ｍ及びｎは０〜５の整数である。

【選択図】 なし

Description

本発明は、分子の短軸方向にベンジルエステル骨格を有する化合物、この化合物を含む重合性液晶組成物、この重合性液晶組成物から得られる異方性ポリマー、ポリマーフィルムおよびその用途に関する。

液晶相を有する重合性化合物は、重合によって光学補償（optical compensation）などの機能を有する重合体をあたえる。これは、液晶分子の配向が重合によって固定されるからである。このような重合体の機能を活用するために、種々の重合性化合物が開発されている。しかし、１つの重合性化合物では充分な機能を満たさないようである。そこで、幾つかの重合性化合物から組成物を調製し、この組成物を重合させるという試みがなされている（特許文献１〜２参照）。

本明細書では、液晶分子がホモジニアス（水平配向）、チルト（傾斜配向）、ホメオトロピック（垂直配向）、ツイスト（ねじれ配向）等の配向状態を示すことを、「ホモジニアス配向を有する」、「チルト配向を有する」、「ホメオトロピック配向を有する」、「ツイスト配向を有する」などと記すことがある。例えば、ホモジニアス分子配列の液晶フィルム即ちホモジニアスに配向された液晶フィルムを、ホモジニアス配向を有する液晶フィルムまたはホモジニアス配向の液晶フィルムのように記すことがある。

ホモジニアス配向を有する重合体は、例えば、１／２波長板、１／４波長板、または他の光学機能を有するフィルムと組み合わせて使用できる（特許文献３参照）。

上記の用途においては、重合性液晶材料はガラス基板、表面をプラスチック薄膜で被覆したガラス基板（例えば、カラーフィルター上に形成したオーバーコート膜）、カラーフィルター基板（特許文献４参照）、またはプラスチック基板上に積層される場合がある。プラスチック基板として用いられる材料の例は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ポリカーボネート、ＰＥＴ、およびシクロオレフィン系樹脂類の重合体である。

これまでに本発明者らは、室温下でも液晶相を安定して維持でき、均一な配向性を示す重合性液晶組成物を見出している（特許文献５参照）。しかしながら、これらの組成物では、光学特性、特に光学異方性（Δｎ）を小さくする必要がある場合に組成比を変更していくと、液晶相を常に維持できないという課題があった。また、光学異方性を制御する方法として、メソゲンの短軸方向に芳香環を持つ化合物（トリプチセン環を有する化合物）の添加が提案されているが、その方法でも多量に添加した場合に結晶化が起こることがあり、光学異方性の制御方法に課題があった（特許文献６参照）。

特開２００６−３０７１５０号公報 特開２００４−２３１６３８号公報 特開２００２−３７２６２３号公報 特開２００６−２８５０１４号公報 特開２００７−１６２１３号公報 特開２００６−１１１５７１号公報

本発明は、液晶性および良好な混和性（miscibility）を有する化合物、ならびに、この化合物を含有し、適切な光学異方性や良好な塗布性等を有する重合性液晶組成物を提供することを課題とする。また、重合性液晶組成物の重合によって、光学異方性、透明性、化学的安定性、耐熱性、硬度、寸法安定性、接着性、密着性および機械的強度等に優れる重合体およびその特性を利用した用途を提供することも課題とする。更に、位相差フィルム、光学補償フィルム、反射フィルムなどを提供し、これらのフィルムを含む液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰなどの画像表示装置を提供することも本発明の課題である。

本発明者らはベンジルエステル骨格を分子の短軸方向に有する重合性液晶化合物を重合性液晶組成物の成分として用いるとき、異方性ポリマーの均一な配向性が確保でき、光学異方性が効果的に制御できることを見いだした。また、重合性トリプチセン誘導体と組み合わせることでも光学異方性を低下させることが可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。このベンジルエステル骨格を短軸方向に有する重合性液晶化合物は、重合性基を１つ以上有しており、他の重合性液晶化合物と同様に重合可能である。この化合物を含有する重合性液晶組成物を、ラビング等の機械的な表面処理、光配向処理、または化学的な表面処理を行った支持基板上へ塗布し、重合させた場合、均一に配向が制御された異方性ポリマーを形成する。

本発明の化合物は重合性基を有するとともに分子の短軸方向にベンジルエステル骨格を有し、液晶相および良好な混和性（miscibility）を有する。この化合物を含有する本発明の重合性液晶組成物は光学異方性の制御が容易であり、適切な光学異方性、良好な塗布性等を有する。この組成物の重合によって得られる本発明の異方性ポリマーおよびポリマーフィルムは、光学異方性、透明性、化学的安定性、耐熱性、硬度、寸法安定性、接着性、密着性および機械的強度等の特性に優れる。従って、本発明の重合体は、位相差膜、偏光素子、円偏光素子、楕円偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜および液晶配向膜のような光学的な用途に適している。

実施例３の異方性ポリマーのレタデーション測定結果 実施例１２の異方性ポリマーのレタデーション測定結果

以下、分子の短軸方向にベンジルエステル骨格を有する化合物、この化合物を含有する重合性液晶組成物、この組成物から得られる重合体およびその用途に関する本発明について、詳細に説明する。なお、本明細書における用語の使い方は、以下のとおりである。
「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を有する化合物および液晶相を有さないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。「化合物（１）」は、式（１）で表わされる１つの化合物を意味する。「化合物（１）」は、式（１）で表わされる化合物の少なくとも１つの化合物を意味することもある。「組成物（１）」は化合物（１）から選択される少なくとも１つの化合物を含有する組成物を意味する。「異方性ポリマー（１）およびポリマーフイルム（１）」は化合物（１）または組成物（１）を重合させることによって得られる重合体を意味する。「（メタ）アクリロイルオキシ」は、アクリロイルオキシおよびメタクリロイルオキシの総称であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの総称であり、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸またはメタクリル酸の総称である。

化学構造式を説明する際に用いる用語「任意の」は、元素（または基）の位置だけでなく、その個数についても任意であることを意味する。そして、例えば、「任意のＱはＲ、ＳまたはＴで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＱがＲで置き換えられる場合、任意のＱがＳで置き換えられる場合および任意のＱがＴで置き換えられる場合に加えて、少なくとも２つのＱが、複数のＲ、ＳおよびＴの群から選ばれた少なくとも２つで置き換えられる場合をも含むことを意味する。しかしながら、任意の−ＣＨ_２−が他の基で置き換えられてもよいとするとき、連続する複数の−ＣＨ_２−が複数の同じ基で置き換えられることはない。
環を構成する炭素の何れか１つと明確に結合していないように表記されている置換基は、その結合位置が化学的に問題のない範囲内で自由であることを意味する。
複数の式において、または一つの式のなかで、環、結合基または末端基を表すために、同じ記号が用いられている場合があるが、これらの記号の定義は同一である。それらの記号が同一の基を意味してもよいし、異なった基を意味してもよい。
例えば、式（１）においてｍとｎの和が２以上のとき、複数のＡが表す基は同一であっても、異なっても良い。Ｚも同様である。また、ｍが２〜５の場合も式（１）は複数のＡを含むが、やはり複数のＡが表す基は同一であっても、異なっても良い。Ｚも同様である。もちろん、ｎが２〜５のときも同様に解釈される。

本発明は下記の［１］〜［３３］項で構成される。
［１］ 式（１）で表される重合性液晶化合物：

ここに、Ｒ^ａの少なくとも１つは重合性の基であって、重合性の基でないＲ^ａは塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；環Ａは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，６−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、または任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキルもしくは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂは任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルコキシで置き換えられてもよいフェニルであり；Ｚは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；Ｙは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；ｍおよびｎは独立して０〜５の整数である。

［２］ 重合性の基が式（ａ−１）〜式（ａ−９）で表される基から選択される基である、［１］項に記載の重合性液晶化合物：

ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。
［３］ 重合性の基が式（ａ−４）で表される基である、［１］項に記載の重合性液晶化合物：

ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。

［４］ ［１］項に記載の式（１）において、ｍ＋ｎが１〜３の整数である、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

［５］ ［１］項に記載の式（１）において、ｍ＋ｎが２である、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

［６］ ［１］項に記載の式（１）において、環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜３のアルキルもしくは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のフルオロアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルコキシで置き換えられてもよいフェニルである、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

［７］ ［１］項に記載の式（１）において、環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、−ＣＨ_３もしくは−ＣＦ_３で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２または−ＯＣＦ_３で置き換えられてもよいフェニルである、［６］項に記載の重合性液晶化合物。

［８］ ［１］項に記載の式（１）において、Ｚが独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

［９］ ［１］項に記載の式（１）において、Ｚが独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

［１０］ ［１］項に記載の式（１）において、Ｙが独立して炭素数１〜１２のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、［１］〜［９］のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。

［１２］ 式（１）で表される重合性液晶化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物：

ここに、Ｒ^ａの少なくとも１つは重合性の基であって式（ａ−１）〜式（ａ−９）で表される基から選択される基であり、重合性の基でないＲ^ａは塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；

（ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
環Ａは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，６−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、または任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキルもしくは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
環Ｂは任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルコキシで置き換えられてもよいフェニルであり；
Ｚは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｙは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
ｍおよびｎは独立して０〜５の整数である：

ここに、Ｒ^１は独立して前記の式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；
Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；
環Ａ^１は独立して１，４−シクロヘキシレンまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１は独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−であり；
Ｙ^１は独立して単結合または炭素数１〜２０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
Ｌ^１は独立して水素、フッ素または−ＣＨ_３であり；
Ｌ^２１は独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜８のアルキルまたは炭素数１〜８のハロゲン化アルキルであり；
Ｌ^２５は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、シアノ、または炭素数１〜８のハロゲン化アルキルであり；
ｐ^２５は１または２であり；
そして、ｐ^３は１または２である。

［１３］ 式（１）において、重合性の基が式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜３のアルキルまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のフルオロアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルコキシで置き換えられてもよいフェニルであり；Ｚが独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙが独立して単結合または炭素数１〜１０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；そして、ｍおよびｎが１であり、
式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｒ^１が独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；Ｒ^２が炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；環Ａ^１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ^１が独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−であり；Ｙ^１が独立して単結合または炭素数１〜１２のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；Ｌ^１が独立して水素、フッ素または−ＣＨ_３であり；Ｌ^２１が独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり；Ｌ^２５が独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり；ｐ^２５が１または２であり；ｐ^３が１または２であり、
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との全重量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が３〜９０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）、式（Ｍ２−２）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の割合が１０〜９７重量％である、［１２］項に記載の重合性液晶組成物。

［１４］ 式（１）において、重合性の基が独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、または任意の水素が塩素、フッ素、−ＣＨ_３または−ＣＦ_３で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２または−ＯＣＦ_３で置き換えられてもよいフェニルであり；Ｚが独立して単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；Ｙが独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて環Ａに結合する−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｍおよびｎが１であり、
式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｒ^１が独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；Ｒ^２が炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、シアノ、フッ素または−ＯＣＦ_３であり；環Ａ^１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ^１が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−であり；Ｙ^１が独立して単結合または炭素数１〜１０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおいて環Ａ^１に結合する−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；Ｌ^１が独立して水素または−ＣＨ_３であり；Ｌ^２１が独立して水素、フッ素、メチル、シアノ、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｌ^２５が独立して水素、フッ素、メチルまたはメトキシであり；ｐ^２５が１または２であり；ｐ^３が２であり、
そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との全重量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が１５〜８０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の割合が２０〜８５重量％である、［１２］項に記載の重合性液晶組成物。

［１５］ 式（１）、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）では表されず、そして光学活性ではない重合性化合物をさらに含有する、［１２］〜［１４］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。

［１６］ 重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１２］〜［１５］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。

［１７］ 非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、［１２］〜［１６］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。

［１８］ 非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、［１２］〜［１７］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。

［１９］ ［１２］〜［１８］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られるポリマーフィルム。

［２０］ ［１２］〜［１８］のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られる異方性ポリマー。

［２１］ 重合性液晶組成物の配向形態がホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つである、［２０］項に記載の異方性ポリマー。

［２２］ 重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、イオンビーム処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、［２０］項または［２１］項に記載の異方性ポリマー。
［２３］ 重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、［２０］項または［２１］項に記載の異方性ポリマー。

［２４］ ガラス基板を支持基板として形成される、［２０］〜［２３］のいずれか１項に記載の異方性ポリマー。
［２５］ プラスチック薄膜で被覆されたガラス基板またはプラスチックフィルムからなるプラスチック基板を支持基板として形成される、［２０］〜［２３］のいずれか１項に記載の異方性ポリマー。

［２６］ プラスチック薄膜およびプラスチックフィルムの素材であるプラスチックが、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロース、トリアセチルセルロースの部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびシクロオレフィン系樹脂から選択されるいずれか１つである、［２５］項に記載の異方性ポリマー。

［２７］ プラスチック薄膜およびプラスチックフィルムの素材であるプラスチックがポリイミド、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース、トリアセチルセルロースの部分鹸化物、およびシクロオレフィン系樹脂から選択されるいずれか１つである、［２５］項に記載の異方性ポリマー。

［２８］ ［２０］〜［２７］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーを有する光学補償フィルム。
［２９］ ［２０］〜［２７］のいずれか１項に記載の異方性ポリマーを有する反射フィルム。

［３０］ ［２８］項に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示素子。
［３１］ ［２９］項に記載の反射フィルムを有する液晶表示素子。

［３２］ ［２８］項に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示装置。
［３３］ ［２９］項に記載の反射フィルムを有する液晶表示装置。

本発明の化合物は式（１）で表される。

式（１）において、Ｒ^ａの少なくとも１つは重合性の基である。即ち、式（１）は次の２つの式に展開される。

式（１−Ａ）および式（１−Ｂ）において、Ｒ^ａ１は重合性の基であり、下記の式（ａ−１）〜式（ａ−９）で表される基から選択される基であることが好ましい。このとき、式（１−Ｂ）における２つのＲ^ａ１はそれぞれ異なる基であってもよいが、同じ基であることが好ましい。

これらの式において、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２の好ましい例は水素、フッ素、塩素、−ＣＨ_３および−ＣＦ_３である。Ｒ^ｂ１の特に好ましい例は水素である。そして、Ｒ^ａ１の特に好ましい例は式（ａ−４）で表される基である。

式（１−Ａ）におけるＲ^ａ２は、塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３である。

式（１−Ａ）および式（１−Ｂ）における環Ａは、独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，６−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、または任意の水素がハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキルもしくは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。

環Ａの好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜３のアルキルもしくは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、そして、環Ａのより好ましい例は１，４−シクロヘキシレン、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、−ＣＨ_３もしくは−ＣＦ_３で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。

式（１−Ａ）および式（１−Ｂ）における環Ｂは、任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルコキシで置き換えられてもよいフェニルである。環Ｂの好ましい例は任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のフルオロアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルコキシで置き換えられてもよいフェニルである。環Ｂのより好ましい例は任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２または炭素数１〜３のフルオロアルコキシで置き換えられてもよいフェニルである。この炭素数１〜３のフルオロアルコキシの特に好ましい例は−ＯＣＦ_３である。

式（１−Ａ）および式（１−Ｂ）におけるＺは、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンである。そして、このアルキレンにおいて、任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｚの好ましい例は単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましい例は単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−および−ＯＣＯ−である。

式（１−Ａ）および式（１−Ｂ）におけるＹは、独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンである。このアルキレンにおいて、任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。Ｙの好ましい例は炭素数１〜１２を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい。

式（１−Ａ）および式（１−Ｂ）におけるｍおよびｎは独立して０〜５の整数である。ｍおよびｎに関しては、ｍ＋ｎが１〜３の整数であることが好ましく、ｍ＋ｎが２であることがより好ましい。そして、ｍおよびｎが共に１であることがさらに好ましい。

本発明の化合物（１）は高い重合反応性を有する。化合物（１）は、分子の短軸方向にベンジル骨格を有することから内部自由体積が大きく、これが光学異方性を低減する効果を有する。化合物（１）は、液晶骨格を有するので液晶相を維持しやすく、そして他の液晶性化合物や重合性化合物等と混合させた場合、容易に相溶して均一になりやすい。なお、化合物（１）は、不斉炭素を有する場合には光学活性を有することになる。

化合物（１）の末端基、環および結合基を適宜選択することによって、光学異方性等の物性を任意に調整することが可能である。末端基Ｒ^a、環Ａおよび結合基Ｚの種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。

末端基Ｒ^aが塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３である場合、融点や溶剤への溶解性、他の化合物との相溶性等の特性に影響を与えるようである。炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシである場合に融点や溶解性に影響があり、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３である場合、融点や溶剤への溶解性、他の化合物との相溶性等の特性にも影響を与えるようである。

環Ａが、１，４−フェニレン、任意の水素がフッ素で置き換えられている１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルまたはピリダジン−３，６−ジイルの場合、光学異方性が大きい。環Ａが１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレンまたは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの場合、光学異方性が小さい。複数の環Ａのうち少なくとも２つの環Ａが１，４−シクロヘキシレンの場合、透明点が高く、光学異方性が小さく、粘度が小さい。少なくとも１つの環Ａが１，４−フェニレンの場合、光学異方性が比較的大きく、配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が大きい。少なくとも２つの環Ａが１，４−フェニレンの場合、光学異方性が大きく、液晶相の温度範囲が広く、透明点が高い。

環Ｂが任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルコキシで置き換えられているフェニルである場合、融点や溶剤への溶解性、他の化合物との相溶性等の特性にも影響を与えるようである。

結合基Ｚが、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−（ＣＨ_２）_４−の場合、粘度が小さい。結合基Ｚが、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−（ＣＨ_２）_４−の場合、粘度がより小さい。結合基Ｚが、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ＝ＣＦ−の場合、液晶相の温度範囲が広い。結合基Ｚが−Ｃ≡Ｃ−の場合、光学異方性が大きい。

化合物（１）が３つ以下の環Ａを有するときは粘度が低く、３つ以上の環Ａを有するときは透明点が高い。化合物（１）は、光学活性であってもよいし、光学的に不活性でもよい。光学活性な場合における不斉炭素の立体配置はＲでもＳでもよい。不斉炭素を有する場合は相溶性がよい。

以上のように、末端基、環および結合基の種類や、環の数を適宜選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。

化合物（１）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）等に記載されている。

結合基Ｚの生成について、スキーム１〜１２で説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ¹およびＭＳＧ²は少なくとも１つの環を有する１価の有機基である。複数のＭＳＧ¹（またはＭＳＧ²）は同一の有機基でもよく、または異なった有機基でもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｍ）は、本発明の化合物（１）に相当する。これらの方法は、光学活性な化合物（１）および光学的に不活性な化合物（１）に適用できる。また、これらの方法はＹを生成させる際にも応用することができる。

＜スキーム１＞ Ｚが単結合の化合物
下記に示すように、アリールホウ酸（Ｓ１）と公知の方法で合成される化合物（Ｓ２）とを、炭酸塩水溶液中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で反応させることにより化合物（１Ａ）を合成できる。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させた後、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどの触媒の存在下で化合物（Ｓ２）とさらに反応させることによっても合成できる。

＜スキーム２＞ Ｚが−ＣＨ＝ＣＨ−の化合物
下記に示すように、公知の方法で合成されるホスホニウム塩（Ｓ５）にカリウムｔ−ブトキシドなどの塩基を添加して発生させたリンイリドを、アルデヒド（Ｓ４）に反応させることにより化合物（１Ｂ）を合成できる。反応条件や基質によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。

＜スキーム３＞ Ｚが−（ＣＨ_２）_２−の化合物
下記に示すように、化合物（１Ｂ）をパラジウム炭素などの触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｃ）を合成できる。

＜スキーム４＞ Ｚが−（ＣＦ_２）_２−の化合物
下記に示すように、J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414 に記載された方法に従い、フッ化水素触媒の存在下、ジケトン（Ｓ６）を四フッ化硫黄でフッ素化することにより、−（ＣＦ_２）_２−を有する化合物（１Ｄ）を合成できる。

＜スキーム５＞ Ｚが−（ＣＨ_２）_４−の化合物
下記に示すように、スキーム２の方法に従って、ホスホニウム塩（Ｓ５）の代わりにホスホニウム塩（Ｓ７）を用いて−（ＣＨ_２）_２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を合成し、これを接触水素化することにより化合物（１Ｅ）を合成できる。

＜スキーム６＞ Ｚが−ＣＨ_２Ｏ−または−ＯＣＨ_２−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ４）を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元して化合物（Ｓ８）を得る。これを臭化水素酸等でハロゲン化して化合物（Ｓ９）を得る。次いで、炭酸カリウム等の存在下で、化合物（Ｓ９）を化合物（Ｓ１０）と反応させることにより化合物（１Ｆ）を合成できる。この方法によって−ＣＨ_２Ｏ−を有する化合物も合成できる。

＜スキーム７＞ Ｚが−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−の化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させてカルボン酸（Ｓ１１）を得る。化合物（Ｓ１１）とフェノール（Ｓ１０）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）およびＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させることにより、−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｇ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成できる。また、（Ｓ１１）に塩化チオニルまたはオキザリルクロリドなどを作用させ、酸クロリド化合物に誘導し、ピリジンまたはトリエチルアミンなどの塩基存在下、（Ｓ１０）を作用させることにより（１Ｇ）を合成することもできる。

＜スキーム８＞ Ｚが−ＣＦ＝ＣＦ−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（Ｓ１２）を得る。次いで、化合物（Ｓ２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（Ｓ１２）と反応させことにより化合物（１Ｈ）を合成できる。合成条件を選択することで、シス体の化合物（１Ｈ）を製造することもできる。

＜スキーム９＞ Ｚが−Ｃ≡Ｃ−の化合物
下記に示すように、ジクロロパラジウムおよびハロゲン化銅の触媒存在下、化合物（Ｓ１３）を化合物（Ｓ２）と反応させることにより、化合物（１Ｊ）を合成できる。

＜スキーム１０＞ Ｚが−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（Ｓ１３）をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、二酸化炭素を作用させてカルボン酸（Ｓ１４）を得る。次いで、カルボン酸（Ｓ１４）とフェノール（Ｓ１０）とを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で脱水させることにより、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｋ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＯ−Ｃ≡Ｃ−を有する化合物も合成できる。また、スキーム７において（Ｓ１１）から（１Ｇ）に誘導したように、酸クロリド化合物経由で（１Ｋ）を合成することもできる。

＜スキーム１１＞ Ｚが−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−の化合物
下記に示すように、化合物（Ｓ１３）とビニルブロミド（Ｓ１５）とのクロスカップリング反応により、−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物（１Ｌ）を合成できる。シス体の化合物（Ｓ１５）を使用すれば、シス体の（１Ｌ）を製造できる。

＜スキーム１２＞ Ｚが−ＣＦ_２Ｏ−または−ＯＣＦ_２−の化合物
下記に示すように、まず、化合物（１Ｇ）をローソン試薬などの硫黄化剤で処理して化合物（Ｓ１６）を得る。次いで、フッ化水素ピリジン錯体およびＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）を用いて化合物（Ｓ１６）をフッ素化することにより、−ＣＦ_２Ｏ−を有する化合物（１Ｍ）を合成できる。また、化合物（Ｓ１６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化することによっても化合物（１Ｍ）を合成できる。この方法によって−ＯＣＦ_２−を有する化合物も合成できる。P. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によって、これらの結合基を生成させることも可能である。

上記のような方法で合成される化合物の例を以下に示す。なお、上記のようにして合成された化合物の構造は、たとえば、プロトンＮＭＲスペクトルにより確認することができる。

本発明の組成物（１）は良好な塗布性等の特性を有する。本発明の組成物（１）の第１の態様は、化合物（１）から選択された１つの化合物を含有する。この組成物の重合によって単独重合体が得られる。第２の態様は、化合物（１）から選択された少なくとも２つの化合物を含有する。この組成物の重合によって共重合体が得られる。これらの組成物は添加物をさらに含有してもよい。第３の態様は、化合物（１）から選択された少なくとも１つの化合物と、その他の重合性化合物とを含有する。その他の重合性化合物は、重合性基を有する化合物ではあるが、化合物（１）とは異なる。この組成物の重合によっても共重合体が得られる。また、本発明の組成物（１）は、その他の重合性化合物、液晶性化合物、光学活性化合物、重合開始剤、溶媒、添加物などをさらに含有してよい。添加物は、界面活性剤、有機ケイ素化合物、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤などである。これらの化合物と添加物を順に説明する。

組成物（１）は、その他の重合性化合物を含有してもよい。その他の重合性化合物としては、組成物の被膜形成性および重合体の機械的強度を低下させない化合物が好ましい。この化合物は液晶性を有する化合物と液晶性でない化合物とに分類される。

液晶性を有するその他の重合性化合物は、組成物（１）における液晶相の温度範囲、光学異方性、塗布性等を調整するのに適している。このような化合物の例として、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、フマロイルオキシ基、マレイミジル基、オキシラン環またはオキセタン環などを官能基として有する液晶性化合物であって、化合物（１）ではないものを挙げることができる。

本発明の重合体の特徴と共重合体の特徴を顕著に発現させるために、組成物（１）は、化合物（１）以外の重合性化合物を、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは２０〜８５重量％の範囲で含有することが望ましい。液晶性を有する重合性化合物および液晶性でない重合性化合物の割合については、これらの全重量が上述する範囲内であれば自由に変更することができる。また、どちらか一方の化合物だけを含有していてもよい。

上記液晶性を有するその他の重合性化合物の好ましい例は、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）、式（Ｍ２−２）、式（Ｍ２−３）、式（Ｍ２−４）、式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物である。これらの化合物を総称して、化合物（Ｍ）と表すことがある。

式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｒ^１は独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基である。

ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。Ｒ^ｂ１の好ましい例は水素であり、Ｒ^ｂ２の好ましい例は水素、メチルおよびエチルである。

式（Ｍ−３）におけるＲ^２は、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３である。Ｒ^２の好ましい例は炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３および−ＯＣＦ_３である。そして、Ｒ^２のより好ましい例は炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、フッ素、シアノおよび−ＯＣＦ_３である。

式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、環Ａ^１は独立して１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、この１，４−フェニレンにおける任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。環Ａ^１の好ましい例は１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンおよびジフルオロ−１，４−フェニレンである。

式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｚ^１は独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−である。Ｚ^１の好ましい例は単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−および−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−である。そして、Ｚ^１のより好ましい例は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−および−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−である。

式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｙ^１は独立して単結合または炭素数１〜２０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよい。Ｙ^１の好ましい例は単結合または炭素数１〜１２のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯで置き換えられてもよい。そして、Ｙ^１のより好ましい例は単結合または炭素数１〜１０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおいて環Ａ^１に結合する−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯで置き換えられてもよい。

式（Ｍ１）におけるＬ^１は独立して水素、フッ素またはメチルであり、Ｌ^１の好ましい例は水素およびメチルである。
式（Ｍ２−１）におけるＬ^２１は独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜８のアルキルまたは炭素数１〜８のハロゲン化アルキルであり、Ｌ^２１の好ましい例は水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキルおよび炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり、より好ましい例は水素、フッ素、メチル、シアノ、イソプロピル、ターシャリーブチルおよびトリフルオロメチルである。
式（Ｍ２−５）におけるＬ^２５は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、シアノまたは炭素数１〜８のハロゲン化アルキルであり、Ｌ^２５の好ましい例は水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシおよび炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり、より好ましい例は水素、フッ素、メチルおよびメトキシである。
式（Ｍ２−５）におけるｐ^２５は１または２である。
式（Ｍ４）におけるｐ^３は１または２であり、好ましくは２である

化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２−１）〜化合物（Ｍ２−５）、および化合物（Ｍ４）は、広い温度範囲の液晶相を示すとともに、構造中に２つの重合性基を有するため、３次元網目構造を形成することができ、高い機械的強度を有する重合体の形成が可能となる。化合物（Ｍ２−２）はトリプチセン環を構造中に有するため内部の自由体積が特に大きくなり、化合物（１）と併用すると光学異方性を低減させることができる。また、化合物（Ｍ２−３）も化合物（Ｍ２−２）と同様な効果がある。化合物（Ｍ３）は、１つの重合性基を有する（単官能性）ため、分子長軸方向において重合性基の反対側に極性基などの置換基を導入することができ、液晶状態での配向制御の調整が可能となる。化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２−１）〜化合物（Ｍ２−５）、化合物（Ｍ３）および化合物（Ｍ４）のいずれにおいても、環Ａ¹が１，４−フェニレンの場合は高いΔｎを有する組成物を、１，４−シクロヘキシレンの場合は低いΔｎを有する組成物を調製することができる。

化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２−１）、化合物（Ｍ２−２）、化合物（Ｍ２−３）、化合物（Ｍ２−４）、化合物（Ｍ２−５）、化合物（Ｍ３）および化合物（Ｍ４）の好ましい例として、化合物（Ｍ１−１）〜（Ｍ１−３）、化合物（Ｍ２−１−１）〜（Ｍ２−１−１２）、化合物（Ｍ２−２−１）〜化合物（Ｍ２−２−４）、化合物（Ｍ３−１）〜（Ｍ３−１６）および化合物（Ｍ４−１）〜（Ｍ４−５）が挙げられる。

以下の化合物において、Ｙ^１は式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）、式（Ｍ２−２）、式（Ｍ２−３）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）におけるＹ¹と同義であり、Ｒ^１は次に示す式（ａ−４−１）、式（ａ−５−１）、式（ａ−９−１）または式（ａ−９−２）で表される基である。

化合物（Ｍ１）の好ましい例を次に示す。

上記の式（Ｍ１−１）〜式（Ｍ１−３）において、Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンであり、このアルキレンにおける１つのまたは隣接しない２つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、Ｗ^１は水素またはフッ素であり、Ｌ^１は水素またはメチルであり、そしてＲ^１は式（ａ−４−１）、式（ａ−５−１）または式（ａ−９−２）で表される基である。

化合物（Ｍ１−１）〜（Ｍ１−３）の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ２−１）の好ましい例を次に示す。

上記の式（Ｍ２−１−１）〜式（Ｍ２−１−１５）において、Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり、Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンであり、Ｙ^３は炭素数２〜１２のアルキレンであり、Ｗ^１は水素またはフッ素であり、そしてＲ^１は前記の式（ａ−４−１）で表される基である。

化合物（Ｍ２−１−１）〜化合物（Ｍ２−１−１５）の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ２−２）の好ましい例を次に示す。

これらの式において、Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり、Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンであり、Ｗ^１は水素またはフッ素であり、そしてＲ^１は前記の式（ａ−４−１）で表される基である。

化合物（Ｍ２−２−１）〜化合物（Ｍ２−２−５）の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ２−３）の好ましい例を次に示す。

これらの式において、Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり、Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンであり、Ｗ^１は水素またはフッ素であり、そしてＲ^１は前記の式（ａ−４−１）で表される基である。

化合物（Ｍ２−３−１）〜化合物（Ｍ２−３−５）の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ２−４）の好ましい例を次に示す。

これらの式において、Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり、Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンであり、Ｗ^１は水素またはフッ素であり、そしてＲ^１は前記の式（ａ−４−１）で表される基である。

化合物（Ｍ２−４−１）〜化合物（Ｍ２−４−５）の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ２−５）の好ましい例を次に示す。

これらの式において、Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり、Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンであり、Ｗ^１は水素またはフッ素であり、Ｌ^２５は水素、フッ素、メチルまたはメトキシそしてＲ^１は前記の式（ａ−４−１）で表される基である。

化合物（Ｍ２−５−１）〜化合物（Ｍ２−５−８）の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ３）の好ましい例を次に示す。

ここに、Ｘは炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、シアノまたは−ＯＣＦ_３であり；Ｗ^１は水素またはフッ素であり；Ｒ^１は式（ａ−４−１）で表される基であり；Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシである。但し、式（Ｍ３−３）においては、Ｒ^１は式（ａ−９−２）で表される基であってもよく、このときＹ^１は炭素数２〜１２のアルキレンであり、このアルキレンにおける１つのまたは隣接しない２つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよい。

化合物（Ｍ３−１）〜化合物（Ｍ３−１６）において、Ｒ^１が式（ａ−４−１）で表される基である場合の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ３−３）において、Ｒ^１が式（ａ−９−２）で表される基である場合の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ４）の好ましい例を次に示す。

ここに、Ｒ^１は式（ａ−４−１）で表される基であり；Ｙ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり；Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンである。但し、式（Ｍ４−２）においてはＲ^１は式（ａ−５−１）で表される基であってもよく、このときＹ^１は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のアルキレンオキシであり、Ｙ^２は炭素数２〜１２のアルキレンまたは炭素数２〜１２のオキシアルキレンである。

化合物（Ｍ４−１）〜化合物（Ｍ４−５）において、Ｒ^１が式（ａ−４−１）で表される基である場合の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ４−２）において、Ｐ^１が式（ａ−５−１）で表される基である場合の具体例を次に示す。以下の具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。

化合物（Ｍ）は、有機合成化学の手法を組み合わせることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環および結合基を導入する方法は、ホーベン−ワイル（Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）等に記載されている。また、化合物（Ｍ）の具体的製造法は下記の文献に記載されている。
化合物（Ｍ１−１−９）〜化合物（Ｍ１−１−１４）および化合物（Ｍ１−１−１５）〜化合物（Ｍ１−１−２０）：特開２００５−６０３７３号公報
化合物（Ｍ１−３−１）〜化合物（Ｍ１−３−２）：ＷＯ２００８／１３６２６５号パンフレット
化合物（Ｍ２−１−１−１）および化合物（Ｍ２−１−２−１）：Makromol. Chem., 190, 3201-3215 (1998)
化合物（Ｍ２−１−３−１）および化合物（Ｍ２−１−９−１）：特開２００４−２３１６３８号公報
化合物（Ｍ２−１−３−１）：特開２００６−３３７５６５号公報
化合物（Ｍ２−１−１３−１）：ＷＯ９７／００６００号パンフレット
化合物（Ｍ２−２−１−１）：特開２００６−１１１５７１号公報
化合物（Ｍ２−５）：特開２００８−２３９８７３号公報
化合物（Ｍ３−３−４）〜（Ｍ３−３−７）：特開２００５−３２０３１７号公報
化合物（Ｍ４−２−２）：Macromolecules, 26, 1244-1247 (1993)

上記の式（ａ−４−１）で表される重合性基を有する化合物を含有する組成物には、さらに化合物（Ｍ５）を添加してもよい。化合物（Ｍ５）の添加割合は、化合物（Ｍ１）〜化合物（Ｍ４）の全重量に対する重量比で０〜０．２０である。

式（Ｍ５）において、Ｒ^ｂ５は独立して水素またはメチルであり、Ｗ^５は独立して水素またはフッ素であり、Ｚ^５は独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、ｎ５およびｍ５は独立して２〜１２の整数であり、そしてＡ^５は式（Ａ５−１）〜式（Ａ５−１８）のいずれか１つである。

化合物（Ｍ５）の好ましい例を次に示す。

これらの化合物の合成方法は、特開２００７−１６２１３号公報、特開２００８−１３３３４４号公報に記載されている。

本発明における重合性液晶組成物は、化合物（Ｍ）および化合物（Ｍ５）以外のその他の重合性化合物を含有してもよい。その他の重合性化合物としては、被膜形成性および機械的強度を低下させない化合物が好ましい。この化合物は、液晶性を持たない化合物と液晶性を有する化合物とに分類される。

液晶性を持たないその他の重合性化合物としては、ビニル誘導体、スチレン誘導体、（メタ）アクリル酸誘導体、オキシラン誘導体、オキセタン誘導体、ソルビン酸誘導体、フマル酸誘導体、イタコン酸誘導体などが挙げられる。これらの化合物は、組成物の粘度や配向を調整するのに適しており、組成物を塗布する際、塗膜の厚さを均一にする効果が大きい。

液晶性を持たないその他の重合性化合物の例は、重合性基を１つ有する化合物、重合性基を２つ有する化合物、および重合性基を３つ以上有する多官能化合物である。重合性基を１つ有する化合物は、特開２００８−２６６６３２号公報のｐ．４７の段落００９７に記載のものが例示され、粘度や融点等の調整に適している。

重合性基を２つ以上有する化合物は、特開２００８−２６６６３２号公報のｐ．４８の段落００９８記載のものが例示され、重合体の機械的強度を制御するのに適している。

その他の重合性化合物として、エポキシアクリレート系樹脂を用いてもよい。その具体例はフェノールノボラック系エポキシアクリレート樹脂、クレゾールノボラック系エポキシアクリレート樹脂、フェノールノボラック系酸変性エポキシアクリレート樹脂、クレゾールノボラック系酸変性エポキシアクリレート樹脂、およびトリスフェノールメタン系酸変性エポキシアクリレート樹脂である。

エポキシ樹脂として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の２価のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール変性型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等の３価以上のフェノール類から誘導されるエポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪酸系エポキシ樹脂、脂環式系エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂、などが挙げられる。またこれらのエポキシ樹脂は単独で用いてもよく、２種以上を混合してもよい。

その他の重合性化合物として、エポキシ系化合物を用いてもよい。エポキシ系化合物としては、特開２００８−２６６６３２号公報のｐ．４９の段落０１０１記載のものが例示され、この化合物は重合体の機械的強度を制御するのに適している。

その他の重合性化合物として、以下のビスフェノール構造を有する重合性化合物を用いてもよい。これらの化合物は、重合体の被膜形成性や重合性液晶の均一な配向性の補助に適している。

上記化合物の製法は、特開２００２−３４８３５７号公報、特開２００５−４１９２５号公報、特開２００５−２６６７３９号公報等に記載されている。化合物（Ｎ−１）、化合物（Ｎ−７）、化合物（Ｎ−８）または化合物（Ｎ−９）を含む市販品として、大阪ガスケミカル製のＯＮＦ−１、オンコートＥＸ−１０１０、オンコートＥＸ−１０２０、オンコートＥＸ−１０４０等が挙げられる。これらの市販品を用いてもよい。

重合性液晶組成物は重合性基を持たない液晶性化合物を含有してもよい。このような非重合性の液晶性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト（LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany）等に記載されている。重合性液晶化合物（Ｍ）は、他の液晶性化合物との良好な相溶性を有する。したがって、液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物は、液晶表示素子に封入される液晶組成物として用いることができる。このような重合性液晶組成物は、二色性色素等の添加物をさらに含有してもよい。液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させることによって、重合性液晶化合物（Ｍ）の重合体と液晶性化合物との複合材料（composite materials）を得ることができる。

重合性液晶組成物中の重合性基をもたない液晶性化合物の含有量は、重合性液晶化合物（Ｍ）と前記液晶性化合物の全重量１００重量％に対し、５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下である。

重合性基をもたない液晶性化合物としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物を挙げることが出来る。

［式（Ａ）中、Ａ^４およびｎはそれぞれ前記式（Ｍ１）中のＡ^４およびｎと同義であり、Ｚ^Ａは独立して単結合または炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、Ｒ^Ａは炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０のアルコキシ、水素、塩素、フッ素、−ＣＮ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３である。］
以下に、具体例を示す。

重合性液晶組成物は光学活性化合物を含有してもよい。光学活性を有する化合物を適当量含有した重合性液晶組成物、または、光学活性を有する重合性化合物を適当量含有した重合性液晶組成物を、配向処理した基板上に塗布して重合することによって、らせん構造（ツイスト構造）を示す位相差フィルムが得られる。重合性液晶化合物（Ｍ）の重合によって、このらせん構造が固定される。得られる異方性ポリマーの特性は、得られたらせん構造のらせんピッチに依存する。このらせんピッチ長は、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。添加する光学活性化合物は１つでもよいが、らせんピッチの温度依存性を相殺する目的で複数の光学活性化合物を用いてもよい。なお、重合性液晶組成物には、重合性液晶化合物（Ｍ）および光学活性化合物の他に、その他の重合性化合物が含まれてもよい。

上記のような異方性ポリマーの特性である可視光の選択反射は、らせん構造が入射光に作用し、円偏光や楕円偏光を反射させるものである。選択反射特性はλ＝ｎ・Pitch（λは選択反射の中心波長、ｎは平均屈折率、Pitchはらせんピッチ）で表されるため、ｎまたはPitchを変えることにより中心波長（λ）および波長幅（Δλ）を適宜調整することができる。色純度を良くするには波長幅（Δλ）を小さくすればよいし、広帯域の反射を所望する際には波長幅（Δλ）を大きくすればよい。さらにこの選択反射は重合体の厚みの影響も大きく受ける。色純度を保つためには、厚みが小さくなりすぎないようにしなければならない。均一な配向性を保つためには、厚みが大きくなりすぎないようにしなければならない。したがって、適度な厚みの調整が必要であり、０．５〜２５μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。

らせんピッチを可視光よりさらに短くすることで、W. H. de Jeu, Physical Properties of Liquid Crystalline Materials, Gordon and Breach, New York（1980）に記載のネガティブ型Ｃプレート（Negative C plate）を調製できる。らせんピッチを短くするためには、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）の大きな光学活性化合物を用い、さらにその添加量を増やすことで達成できる。具体的にはλを３５０ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下とすることで、ネガティブ型Ｃプレートを調製できる。このネガティブ型Ｃプレートは液晶表示素子のうちＶＡＮ型、ＶＡＣ型、ＯＣＢ型等の表示素子に適した光学補償膜となる。

異方性ポリマーは、らせんピッチを可視光より長くすることで特開２００４−３３３６７１号公報に記載されているような反射波長領域を近赤外（波長８００〜２５００ｎｍ）に設定した反射フィルムに用いることができる。らせんピッチを長くするためには、ねじり力の小さな光学活性化合物を用いたり、光学活性化合物の添加量を減らすことで達成できる。

上記光学活性化合物は、らせん構造を誘起し、ベースとなる重合性液晶組成物と適切に混合できれば、いずれの光学活性化合物を用いてもよい。また、重合性化合物でも非重合性化合物のいずれでもよく、目的に応じて最適な化合物を添加することができる。耐熱性および耐溶媒性を考慮した場合、重合性化合物の方が好適である。上記光学活性を発現する骨格として不斉炭素を１つもしくは複数有するアルキレン、アルケニレン、または以下の部分構造を有するものなどがある。

さらに上記光学活性化合物の中でも、ねじり力（ＨＴＰ：ヘリカル・ツイスティング・パワー）が大きいものは、らせんピッチを短くする上で好適である。ねじり力の大きな化合物の代表例が、ＧＢ２２９８２０２号公報、ＤＥ１０２２１７５１号公報で開示されている。

以下に重合性光学活性化合物の具体例を示す。これらの具体例において、ｎおよびｍは独立して２〜１２の整数である。Ｒは炭素数１〜１０のアルキルである。

上記式中、Ｒ^３はメチルであり、Ｒ^４およびＲ^５は独立してフェニル、炭素数１〜６のアルキルまたはトリフルオロメチルである。

上記式中、−ＣＯＯ−Ｃｈｏｌは下記のコレステロール部位を意味する。

重合性液晶組成物は重合開始剤を含有してもよい。重合開始剤は重合の種類により選択できる。好ましい開始剤を以下に示す。

光ラジカル重合開始剤の例は、特開２００８−２６６６３２号公報のｐ．５０の段落０１０３〜段落０１０４に記載のものが挙げられ、公知のものまたは市販のものでもよい。光重合開始剤の好ましい添加量は、重合性化合物の全重量に基づく重量比で０．０００１〜０．２０である。より好ましい割合は０．００１〜０．１０である。

熱によるラジカル重合に用いられる開始剤の好ましい例としては、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリーブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシピバレート、ジ−ターシャリー−ブチルパーオキシド、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエート、過酸化ラウロイル、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、アゾビスイソブチロニトリル、１，１−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルや以下の図に示す化合物

などが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。
アゾ系の市販の開始剤としては、たとえば、和光純薬工業（株）製のＶ−７０、Ｖ−６５、Ｖ−６０、Ｖ−５９、Ｖ−４０，Ｖ−３０、Ｖ−５０１、Ｖ−６０１、ＶＥ−０７３、ＶＡ−０８０、ＶＡ−０８６、ＶＦ−０９６、ＶＡｍ−１１０、ＶＡｍ−１１１、ＶＡ−０４４、ＶＡ−０４６Ｂ、ＶＡ−０６０、ＶＡ−０６１、Ｖ−５０、ＶＡ−０５７、ＶＡ−０６７、ＶＲ−１１０、ＶＰＥ−０２０１、ＶＰＥ−０４０１、ＶＰＥ−０６０１、ＶＰＳ−１００１などが挙げられる。

光カチオン重合用の好ましい開始剤は、ジアリールヨードニウム塩（以下「ＤＡＳ」と略す）、トリアリールスルホニウム塩（以下「ＴＡＳ」と略す）などである。ＤＡＳとしては、たとえば、特開２００８−２６６６３２号公報のｐ．５１の段落０１０６に記載のものが挙げられる。ＤＡＳと光増感剤とを組み合わせることも好ましい。このような光増感剤としては、たとえば、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルブレンなどが挙げられるが、公知のいずれのものも使用できる。ＴＡＳとしては、たとえば、特開２００８−２６６６３２号公報のｐ．５１の段落０１０８に記載のものが挙げられる。

光カチオン重合に用いる市販の開始剤として、ＵＣＣの製品のサイラキュアーＵＶＩ−６９９０、サイラキュアーＵＶＩ−６９７４およびサイラキュアーＵＶＩ−６９９２、旭電化工業（株）の製品のアデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５２、ＳＰ−１７０およびＳＰ−１７２、ローディア（株）の製品のPHOTOINITIATOR２０７４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）の製品のイルガキュアー２５０、ＧＥシリコンズの製品のＵＶ−９３８０Ｃ、サンアプロ（株）の製品のＨＳシリーズ、ＣＰＩシリーズの他、みどり化学（株）のＴＰＳシリーズ、ＴＡＺシリーズ、ＤＰＩシリーズ、ＢＰＩシリーズ、ＭＤＳシリーズ、ＤＴＳシリーズ、ＳＩシリーズ、ＰＩシリーズ、ＮＤＩシリーズ、ＰＡＩシリーズ、ＮＡＩシリーズ、ＮＩシリーズ、ＤＡＭシリーズ、ＭＢＺシリーズ、ＰＹＲシリーズ、ＤＮＢシリーズ、ＮＢシリーズ等を挙げることができる。

熱硬化剤を含有しても良い。熱硬化剤としてはアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基などを有する酸性あるいは塩基性の化合物、フェノール部位を有する化合物または酸無水物部位を有する化合物などである。より好ましくは、アミノ基を有する塩基性の化合物、フェノール部位を有する化合物および酸無水物部位を有する化合物である。これらは、光カチオン重合開始剤または光ラジカル開始剤と共に使用してもよい。

アミノ基を有する熱硬化剤の例は、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ｍ−キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、２−メチルペンタメチレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、イソフォロンジアミン、１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ノルボルネンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ラロミン、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン、ポリシクロヘキシルポリアミン混合物、Ｎ−アミノエチルピペラジンである。

フェノール部位を有する熱硬化剤の例は、フェノールノボラック、キシリレンノボラック、ビスフェノールＡノボラック、トリフェニルメタンノボラック、ビフェニルノボラック、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック、テルペンフェノールノボラックである。

酸無水物部位を有する熱硬化剤の例は、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、ドデセニル無水コハク酸、脂肪族二塩基酸ポリ無水物、クロレンド酸無水物である。

市販の熱重合開始剤を添加してもよい。具体的な商品名の例は、三新化学工業（株）の製品の
サンエイド（主剤） ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−１６０、ＳＩ−１８０、サンエイド（助剤）ＳＩである。これらは光ラジカル重合開始剤および光カチオン重合開始剤と併用、または光ラジカル重合開始剤と併用してもよい。

また、総説エポキシ樹脂 第１巻（エポキシ樹脂技術協会編）に記載されているアミン系硬化剤なども必要とされる特性に応じて添加することができる。

重合性液晶組成物は溶剤で希釈しないで基板面に塗布することもある。しかしながら、通常は塗布を容易にするために、溶剤を用いる。溶剤で重合性液晶組成物を希釈するか、または溶剤に重合性液晶組成物の各成分を溶解させたあと、これらの溶液を混合する。この溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用しても良い。溶剤の例はエステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤、脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、およびアセテート系溶剤である。

エステル系溶剤の好ましい例は、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸n-プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンおよびγ−バレロラクトンである。

アミド系溶剤の好ましい例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンである。

アルコール系溶剤の好ましい例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールである。

エーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ターピニルメチルエーテル、ジヒドロターピニルメチルエーテル、１，８−シネオール、１，４−シネオールおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。

グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルである。

芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、アニソール、ｐ−サイメン、リモネン、ターピノーレンおよびテトラリンである。ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例はクロロベンゼンである。脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ヘキサンおよびヘプタンである。ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンである。脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例は、シクロヘキサンおよびデカリンである。

ケトン系溶剤の好ましい例は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジヒドロカルボン、メントン、ピペリテノンおよびメチルプロピルケトンである。

アセテート系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、α-タ−ピニルアセテート、ペリリルアセテート、３−オクチルアセテート、２−オクチルアセテート、ミルテニルアセテート、イソボニルアセテート、ジヒドロターピニルアセテート、ジヒドロカルビルアセテート、カルビルアセテートおよび１−メトキシ−２−プロピルアセテートである。

重合性液晶化合物の溶解性の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤も好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基板としてプラスチック基板を用いる場合は、基板の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が基板を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤としては、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤である。

重合性液晶組成物における溶剤の好ましい割合は、この溶液の全重量を基準として３０〜９５重量％の範囲である。この範囲の下限は重合性液晶化合物の溶解性およびこの溶液を塗布する際のその最適粘度を考慮した数値である。そしてその上限は、溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった経済的観点を考慮した数値である。より好ましい割合は６０〜９０重量％の範囲であり、最も好ましい割合は７０〜８５重量％の範囲である。

重合性液晶組成物の均一な膜厚を得るための塗布方法の例は、スピンコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、メニスカスコート法およびダイコート法である。

重合性液晶組成物は界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、組成物を支持基板などに均一な膜厚で塗布するのを容易にし、液晶相の配向を制御するといった効果も有する。好ましい界面活性剤としては、たとえば、陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤が挙げられるが、より好ましい界面活性剤は非イオン性界面活性剤である。非イオン性界面活性剤の好ましい例は、シリコーン系、フッ素系、および炭化水素系の非イオン性界面活性剤である。このうち、シリコーン系の非イオン性界面活性剤の例は、変性シリコーンを主成分とした共栄社化学（株）製のポリフローＡＴＦ―２、グラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、グラノールＢ−１４８４、ポリフローＫＬ−２５０、ポリフローＫＬ−２６０、ポリフローＫＬ−２７０、ポリフローＫＬ−２８０、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０、およびＢＹＫ−３５７０である。

フッ素系の非イオン性界面活性剤の例は、ＢＹＫ−３４０、フタージェント２５１、フタージェント２２１ＭＨ、フタージェント２５０、ＦＴＸ−２１５Ｍ、ＦＴＸ−２１８Ｍ、ＦＴＸ−２３３Ｍ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、フタージェント２２２Ｆ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４５Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、フタージェント２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−７２０Ｃ、ＦＴＸ−７４０Ｃ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＫＢ−Ｌ８２、ＫＢ−Ｌ８５、ＫＢ−Ｌ９７、ＫＢ−Ｌ１０９、ＫＢ−Ｌ１１０、ＫＢ−Ｆ２Ｌ、ＫＢ−Ｆ２Ｍ、ＫＢ−Ｆ２Ｓ、ＫＢ−Ｆ３ＭおよびＫＢ−ＦａＭである。

炭化水素系の非イオン性界面活性剤の例は、アクリル系ポリマーを主成分としたポリフローＮｏ．３、ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ、ポリフローＮｏ．５４Ｎ、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２、およびＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００である。
なお、上記のポリフローおよびグラノールはどちらも共栄社化学（株）から販売されている商品の名称である。ＢＹＫはビックケミー・ジャパン（株）から販売されている商品の名称である。フタージェント、ＦＴＸおよびＫＢは（株）ネオスから販売されている商品の名称である。界面活性剤の量は、界面活性剤の種類、組成物の組成比などにより異なるが、重合性液晶組成物（溶媒を除く）の全重量に対して、重量比０．０００１〜０．０３、好ましくは重量比０．０００３〜０．０２の範囲である。

重合性液晶組成物は、配向性を制御するために有機ケイ素化合物を含有してもよい。具体例としては、アミン系の３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、３−アミノプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｎ-（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ-（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ-（６−アミノヘキシル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、およびケチミン系の３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１、３ジメチル−ブチリデン）などが挙げられる。また、支持基板との密着性を制御するために、上記以外の有機ケイ素化合物を含有してもよい。具体例としては、ビニルトリアルコキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３−クロロトリアルコキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、１，４−ビス（３−アミノプロピルジメチルシリル）ベンゼンなどである。別の例は、これらの化合物において、３つのアルコキシ基の１つがメチルに置き換えられたジアルコキシメチルシランである。有機ケイ素化合物の量は、有機ケイ素化合物の種類、組成物の組成比などにより異なるが、重合性液晶組成物（溶媒を除く）の全重量に対して重量比０．０１〜０．３０、好ましくは０．０３〜０．１５の範囲である。

重合性液晶組成物は、１種または２種以上の連鎖移動剤を加えて、ポリマーの機械特性を制御することが可能である。連鎖移動剤を用いることによりポリマー鎖の長さまたはポリマーフィルムにおける２つの架橋ポリマー鎖の長さを制御することができる。これらの長さを同時に制御することもできる。連鎖移動剤の量を増大させると、ポリマー鎖の長さは減少する。好ましい連鎖移動剤は、チオール化合物である。単官能性チオールの例はドデカンチオール、２−エチルへキシル−（３−メルカプトプロピオネート）である。多官能性チオールの例は、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン（カレンズＭＴ ＢＤ１）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（カレンズＭＴ ＰＥ１）、および１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（カレンズＭＴ ＮＲ１）である。「カレンズ」は昭和電工株式会社の商品名である。

重合性液晶組成物には、保存時の重合開始を防止するために重合防止剤を添加することができる。公知の重合防止剤を使用できるが、その好ましい例は、２，５−ジ（ｔ−ブチル）ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ハイドロキノン、メチルブルー、ジフェニルピクリン酸ヒドラジド（ＤＰＰＨ）、ベンゾチアジン、４−ニトロソジメチルアニリン（ＮＩＤＩ）、ｏ−ヒドロキシベンゾフェノンなどである。

重合性液晶組成物の保存安定性を向上させるために、酸素阻害剤を添加することもできる。重合性液晶組成物内で発生するラジカルは雰囲気中の酸素と反応しパーオキシドラジカルを与え、重合性化合物との好ましくない反応が促進される。これを防ぐ目的で酸素阻害剤を添加することが好ましい。酸素阻害剤の例はリン酸エステル類である。

重合体の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカル捕捉剤）、酸化防止剤等を重合性液晶組成物に添加してもよい。紫外線吸収剤の例は、チヌビンＰＳ、チヌビンＰ、チヌビン９９−２、チヌビン１０９、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、チヌビン３２９、チヌビン３８４−２、チヌビン５７１、チヌビン９００、チヌビン９２８、チヌビン１１３０、チヌビン４００、チヌビン４０５、チヌビン４６０、チヌビン４７９、チヌビン５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３、およびアデカスタブＬＡ−５１である。「チヌビン」はチバ・ジャパン（株）の商品名であり、「アデカスタブ」は旭電化（株）の商品名である。

光安定剤の例は、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン１５２、チヌビン２９２、チヌビン６２２、チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン７８０、チヌビン９０５、チヌビン５１００、チヌビン５０５０、５０６０、チヌビン５１５１、キマソーブ１１９ＦＬ、キマソーブ９４４ＦＬ、キマソーブ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、サイテック社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社のグッドライトＵＶ−３０３４である。「キマソーブ」はチバ・ジャパン（株）の商品名である。

酸化防止剤の例は、旭電化社製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学（株）から販売されているスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０、並びにチバ・ジャパン（株）から販売されているＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４およびＩｒｇａｎｏｘ２４５である。

本発明では、重合性液晶組成物の配向を制御して重合することで得られる本発明のポリマーを異方性ポリマーと称する。異方性ポリマーは、次のようにして形成させることができる。まず、溶剤で希釈された重合性液晶組成物をラビング法や偏向光を利用した光配向法により表面処理された支持基板上に塗布し、これを乾燥させて液晶分子が配向した塗膜を形成させる。つぎに、その塗膜に光照射あるいは加熱を行い、液晶状態の重合性液晶組成物を重合させ、ネマチック配向を固定化する。支持基板には、ガラスおよびプラスチックフィルムが主に使われる。プラスチックフィルムの材質の例は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロースおよびその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、およびシクロオレフィン系樹脂などである。

シクロオレフィン系樹脂としてノルボルネン系樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂等が挙げられる。これらの中で、不飽和結合を有さないか、または不飽和結合が水素添加されたものが好適に用いられる。例えば、１種または２種以上のノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体の水素添加物、１種または２種以上のノルボルネン系モノマーの付加（共）重合体、ノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマー（エチレン、α−オレフィン等）との付加共重合体、ノルボルネン系モノマーとシクロオレフィン系モノマー（シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等）との付加共重合体、および、これらの変性物等が挙げられ、具体的には、ＺＥＯＮＥＸ、ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）、ＴＯＰＡＳ（チコナ（株）製）、ＡＰＥＬ（三井化学（株）製）、エスシーナ（積水化学工業（株）製）、ＯＰＴＯＲＥＺ（日立化成（株）製）等が挙げられる。

これらのプラスチックフィルムは、一軸延伸フィルムであってよく、二軸延伸フィルムであってもよい。これらのプラスチックフィルムは、例えば、コロナ処理やプラズマ処理などの親水化処理、または疎水化処理などの表面処理を施したものであってもよい。親水化処理の方法は特に制限はないが、コロナ処理またはプラズマ処理が好ましく、特に好ましい方法はプラズマ処理である。プラズマ処理は、特開２００２−２２６６１６号公報、特開２００２−１２１６４８号公報などに記載されている方法を用いても良い。親水化処理は、重合性液晶組成物をホメオトロピック配向に制御する場合に用いることができる。また、プラスチックフィルムは積層フィルムであってもよい。プラスチックフィルムに代えて、表面にスリット状の溝をつけたアルミニウム、鉄、銅などの金属基板や、表面をスリット状にエッチング加工したアルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス基板などを用いることもできる。

これらのガラス、プラスチックフィルム等の支持基板には、重合性液晶組成物の塗膜形成に先立って、先に記載のラビングや偏向光照射等の配向処理が行われていてもよい。

溶剤で希釈された重合性液晶組成物を塗工する場合、塗布後に溶剤を除去して、支持基板上に均一な膜厚の重合性液晶組成物の層を形成させる。溶剤除去の条件は特に限定されない。溶剤がおおむね除去され、重合性液晶組成物の塗膜の流動性がなくなるまで乾燥すればよい。室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用して溶剤を除去することができる。重合性液晶組成物に用いる化合物の種類と組成比によっては、塗膜を乾燥する過程で、塗膜である重合性液晶組成物のネマチック配向が完了していることがある。この場合には、乾燥工程を経た塗膜は、後述する熱処理工程を経由することなく、重合工程に供することができる。

塗膜を熱処理する際の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、光源から照射する光の量などは、重合性液晶組成物に用いる化合物の種類と組成比、光重合開始剤の添加の有無やその添加量などによって、好ましい条件が異なる。従って、以下に説明する条件は、あくまでもおよその範囲を示すものである。

塗膜の熱処理は、溶剤が除去され重合性液晶の均一な配向性が得られる条件で行うことが好ましい。熱処理方法の一例は、塗膜である重合性液晶組成物がネマチック液晶相を示す温度まで塗膜を加温して、塗膜にネマチック配向を形成させる方法である。塗膜がネマチック液晶相を示す温度範囲内で、塗膜の温度を変化させることによってネマチック配向を形成させてもよい。この方法では、上記温度範囲の高温域まで塗膜を加温することによって塗膜のネマチック配向を概ね完成させ、次いで温度を下げることによってさらに秩序だった配向にすることができる。あるいは、塗膜である重合性液晶組成物の透明点以上に加温して、その後冷却させてネマチック配向を形成させもよい。上記のどちらの熱処理方法を採用する場合でも、熱処理温度は室温〜１２０℃である。この温度の好ましい範囲は室温〜１００℃であり、より好ましい範囲は室温〜９０℃、さらに好ましい範囲は室温〜８５℃である。熱処理時間は５秒〜２時間である。この時間の好ましい範囲は１０秒〜４０分であり、より好ましい範囲は２０秒〜２０分である。重合性液晶組成物からなる層の温度を所定の温度まで上昇させるためには、熱処理時間を５秒以上にすることが好ましい。生産性を低下させないためには、熱処理時間を２時間以内にすることが好ましい。このようにして本発明の重合性液晶層が得られる。

重合性液晶層中に形成された重合性液晶化合物のネマチック配向状態は、この重合性液晶化合物を光照射や加熱により重合することによって固定化される。光照射に用いられる光の波長は特に限定されない。電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）などを利用することができる。通常は、紫外線または可視光線を用いればよい。好ましい波長は１５０〜５００ｎｍの範囲である。さらに好ましい波長は２５０〜４５０ｎｍの範囲であり、最も好ましい波長は３００〜４００ｎｍの範囲である。光源の例は、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などである。光源の好ましい例は、メタルハライドランプやキセノンランプ、超高圧水銀ランプおよび高圧水銀ランプである。光源と重合性液晶層との間に設置したフィルターを通すことにより、照射光の特定の波長範囲（または、特定の波長）を選択してもよい。光の好ましい量は、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ²である。より好ましい量は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であり、最も好ましい量は１００〜２０００の範囲は、ｍＪ／ｃｍ²である。光照射時の温度条件は、上記の熱処理温度と同様に設定されることが好ましい。加熱による重合を行う場合は、熱重合開始剤の熱分解温度を目安に設定するとよい。また、光照射あるいは加熱による重合環境の雰囲気は窒素雰囲気、不活性ガス雰囲気、空気雰囲気のいずれでも良いが、窒素雰囲気または不活性ガス雰囲気が硬化性を向上させる観点から好ましい。

異方性ポリマーを様々な光学素子に用いる場合、または液晶表示装置に用いる光学補償素子として適用する場合には、厚み方向におけるチルト角の分布の制御が極めて重要となる。

異方性ポリマーのチルト角を制御する方法の一つは、重合性液晶組成物に用いる液晶性化合物の種類や組成比などを調整する方法である。この重合性液晶化合物に界面活性剤を添加することによって、チルト角を制御することができる。このチルト角は、重合性液晶組成物中の溶剤の種類や溶質濃度、界面活性剤の種類や添加量などによっても制御することができる。支持基板の種類、配向処理条件、塗膜の乾燥条件や熱処理条件などによっても、チルト角を制御することができる。配向後の光重合工程での照射雰囲気や照射時の温度なども異方性ポリマーのチルト角に影響を与える。即ち、異方性ポリマーの製造プロセスにおけるほとんど全ての条件が多少なりともチルト角に影響を与えると考えてよい。従って、重合性液晶性組成物の最適化と共に、異方性ポリマーの製造プロセスの諸条件を適宜選択することにより、目的のチルト角にすることができる。

ホモジニアス配向状態においては、チルト角が基板界面から空気界面にかけて一様に０°に近く、特に０°〜５°に分布している。この配向状態は、化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２−１）〜化合物（Ｍ２−５）、化合物（Ｍ３）、化合物（Ｍ４）および非イオン性界面活性剤を用いることで得られる。物性を調整するために化合物（Ｍ５）を使用する際には最小量とするとよい。非イオン性界面活性剤の好ましい例は、フッ素系、シリコーン系、および炭化水素系の非イオン性界面活性剤であり、フッ素系の非イオン性界面活性剤がより好ましい。添加量は組成物（１）全体（溶媒を除く）の重量に対して０．０００１〜０．０３重量％、好ましくは０．０００３〜０．０２の範囲である。

異方性ポリマーの適切な厚さは、レタデーションや光学異方性（複屈折）の値に依存する。一般的には、異方性ポリマーの好ましい厚さは、およそ０．０５〜５０μｍである。そして、より好ましい厚さは０．５〜２０μｍであり、さらに好ましい厚さは１〜１０μｍである。異方性ポリマーの好ましいヘイズ値は１．５％以下であり、より好ましいヘイズ値は１．０％以下である。好ましい透過率は８０％以上であり、より好ましい透過率は９５％以上である。透過率については、可視光領域でこれらの条件を満たすことが好ましい。

異方性ポリマーは、液晶表示素子（特に、アクティブマトリックス型およびパッシブマトリックス型の液晶表示素子）に適用する光学補償素子として有効である。この異方性ポリマーを光学補償膜として使用するのに適している液晶表示素子の型の例は、ＶＡ型（バーティカリー・アラインド）、ＩＰＳ型（イン・プレーン・スイッチング）、ＯＣＢ型（光学的に補償された複屈折）、ＴＮ型（ツィステッド・ネマティック）、ＳＴＮ型（スーパー・ツィステッド・ネマティック）、ＥＣＢ型（電気的に制御された複屈折）、ＤＡＰ型（整列相の変形効果）、ＣＳＨ型（カラー・スーパー・ホメオトロピック）、ＶＡＮ／ＶＡＣ型（垂直配向したネマチック／コレステリック）、ＨＡＮ型（ハイブリッド・アラインドネマティック）、ＯＭＩ型（光学モード干渉）、ＳＢＥ型（超複屈折効果）などである。さらにゲスト−ホスト型、強誘電性型、反強誘電性型、透過型、反射型、半透過型などの表示素子用の位相レターダーとして、この異方性ポリマーを使用することもできる。なお、異方性ポリマーに求められるチルト角の厚み方向の分布や厚みなどのパラメーターの最適値は、補償すべき液晶表示素子の種類とその光学パラメーターに強く依存するので、素子の種類によって異なる。

光学補償素子である異方性ポリマーは、偏光板などと一体化させた光学素子としても使用することができ、この場合は液晶セルの外側に配置させられる。この異方性ポリマーは、セルに充填された液晶への不純物の溶出がないかまたは少ないので、液晶セルの内部に配置させることも可能である。例えば、特開２００６−３５０２９４号公報に開示されている方法を応用すれば、カラーフィルター上に異方性ポリマーの層を形成することでカラーフィルターの機能を更に向上させることが可能となる。

重合性液晶組成物が重合性または非重合性の光学活性化合物を含有するとき、異方性ポリマーは固定化されたらせん構造（helical structure）を有する。

らせん構造が固定化された異方性ポリマーは、位相差膜、偏光素子、円偏光素子、楕円偏光素子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜の用途に適している。

らせん構造の固定化は熱重合や光重合が適している。熱重合は、熱ラジカル発生剤またはカチオン重合開始剤の存在下で行うことが好ましい。例えば、光カチオン重合開始剤の存在下、紫外線または電子線等を照射する重合法によって、分子が偏光の方向に配列した重合体が得られる。このような重合体は、ラビング処理をしなくても液晶配向膜等に使用できる。

ラビング処理、光配向処理あるいは延伸処理をした支持基板上においても、重合性または非重合性の光学活性化合物を含有する重合性液晶組成物を重合するとき、らせん構造が固定された異方性ポリマーが得られる。らせん構造を有する異方性ポリマーの特性は、らせん構造におけるピッチに依存する。このらせんピッチは、光学活性化合物の種類および添加量により調整できる。この添加量は、重合性液晶組成物全体（溶媒を除く）に対して、通常、重量比０．０００１〜０．５、好ましくは重量比０．０１〜０．３である。光学活性化合物は１つでもよいが、複数の光学活性化合物を添加してらせんピッチを制御することできる。

分子配列およびらせん構造の両方が固定化されていない重合体（１）は、反射防止膜、液晶配向膜等に適している。また、いずれの場合においても、接着剤、機械的異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線型光学材料および情報記憶材料等としても利用できる。

異方性ポリマーは、溶媒に溶かしてフィルム等に加工することができる。異方性ポリマーは、他の重合体を混合して加工してもよく、また他の重合体と積層させてもよい。好ましい溶媒としては、たとえば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、テトラヒドロフラン、クロロホルム、１，４−ジオキサン、ビス（メトキシエチル）エーテル、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸エチル、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶媒は、アセトン、ベンゼン、トルエン、ヘプタン、塩化メチレンなどの一般的な有機溶媒と混合して用いてもよい。

以下、実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により制限されない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、質量スペクトル等で確認した。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶を、Ｎはネマチック相を、Ｉは等方性液体相を示す。括弧内表示はモノトロピックの液晶相を示す。以下に、物性値の測定法を示す。

＜重合条件＞
窒素雰囲気下または大気中において、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用いて３０ｍＷ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ）の強度の光を３０秒間試料に照射した。
＜ガラス基板の前処理＞
厚さ１．１ｍｍのガラス板に、配向剤（チッソ（株）製、商品名：リクソンアライナー ＰＩＡ−５３７０）をスピンコートした。溶媒を乾燥後、ガラス板を２１０℃で３０分間焼成し、表面をラビング処理した。このガラス板をガラス基板として用い、この上に液晶フィルムを調製した。
＜液晶配向状態の確認＞
基板上の液晶フィルムを偏光顕微鏡観察し、配向欠陥の有無を確認した。
＜偏光解析装置による測定＞
シンテック（株）製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用い、基板上の液晶フィルムに波長が５５０ｎｍの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して９０度から減少させながらレタデーションを測定した。レタデーション（retardation；位相遅れ）は、Δｎ×ｄで表される。記号Δｎは光学異方性であり、記号ｄは重合体フィルムの厚さである。
＜膜厚測定＞
ガラス基板上の液晶フィルムの厚さを微細形状測定装置（ＫＬＡ ＴＥＮＣＯＲ（株）製 アルファステップＩＱ）を用いて測定した。
＜光学異方性（Δｎ）の評価＞
ホモジニアス配向を有する液晶フィルムについて求めたレタデーションと膜厚の値から、レタデーション／膜厚として算出した。
＜選択反射波長の確認＞
選択反射を有するフィルムの透過スペクトルは、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光（株）製 Ｖ−６７０）を用いて評価した。選択反射域は、最大透過率と最小透過率の中央に位置する透過率の波長幅で示した。選択反射の中心波長は、波長幅の中央の値とした。
[実施例１]

下記に示す化合物（１−Ａ−１０）を以下のようにして合成した。

＜第１段＞
２，５-ジヒドロ安息香酸ベンジルエステル８５ｍｍｏｌ、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（ＤＨＰ）１３０ｍｍｏｌおよびｐ−トルエンスルホン酸１０ｍｍｏｌをジクロロメタン３００ｍＬに加え、窒素雰囲気下、５０℃で５時間撹拌した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、ヘプタンから再結晶することにより化合物（ｅｘ１−１）３２ｍｍｏｌを得た。

＜第２段＞
化合物（ｅｘ１−１）３２ｍｍｏｌ、ブロモブタン３８ｍｍｏｌおよび炭酸カリウム３８ｍｍｏｌを２−ブタノン３５０ｍｌに加え、窒素雰囲気下５時間加熱還流した。トルエンと水を加え有機層を水で洗浄した。減圧下で溶剤を留去し、３Ｎ−塩酸およびアセトン３５０ｍｌを加え１時間室温で攪拌した。酢酸エチルを加え有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、ヘプタンから再結晶することにより化合物（ｅｘ１−２）２８ｍｍｏｌを得た。

＜第３段＞
上記化合物（ｅｘ１−２）２８ｍｍｏｌ、化合物（ｅＸ１−３）６５ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）１６ｍｍｏｌを、ジクロロメタン１５０ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）５６０ｍｍｏｌのジクロロメタン１００ｍＬ溶液を滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶することにより、上記化合物（１−Ａ−１０）１７ｍｍｏｌを得た。
[実施例２]

下記に示す化合物（１−Ｂ−１０）を以下のようにして合成した。

上記化合物（ｅｘ２−１）７４ｍｍｏｌ、２，５-ジヒドロ安息香酸ベンジルエステル３５ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２１ｍｍｏｌを、ジクロロメタン２００ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）７４ｍｍｏｌのジクロロメタン１００ｍＬ溶液を滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶することにより、上記化合物（１−Ｂ−１０）１６ｍｍｏｌを得た。得られた化合物（１−Ｂ−１０）の融点は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ７９（Ｎ ６５） Ｉ

実施例３〜１７で使用した化合物を以下に示す。

化合物（Ｍ１−１−４）および化合物（Ｍ２−４−５−１）は、特開２００６−３０７１５０号公報に記載の方法と同様にして合成した。
化合物（Ｍ１−１−７）および化合物（Ｍ１−１−８）は、はＷＯ２００８／１３６２６５号パンフレットに記載の方法で合成した。
化合物（Ｍ２−１−２−１）はMakromol. Chem., 190, 2255-2268 (1989) に記載の方法で合成した。
化合物（Ｍ２−２−１−１）は特開２００６−１１１５７１号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物（Ｍ３−１５−２）はＷＯ９７／３４８６２号パンフレットに記載の方法で合成した。
化合物（Ｍ３−１５−３）および化合物（Ｍ３−１５−４）はＷＯ９７／３４８６２号パンフレットと特開２００６−３０７１５０号公報に記載の方法を組み合わせて合成した。
ＯＰ−１は特開２００５−２６３７７８号公報に記載の方法に従って合成した。
なお、実施例および比較例で用いた重合開始剤イルガキュアー９０７およびイルガキュアー３６９は、前述のようにいずれもチバ・ジャパン（株）の商品である。

なお、化合物（Ｍ２−５−１−２）は以下のように合成した。

＜第１段＞
２−ベンジルオキシ−５−ブロモ−１，３−ジメチルベンゼン６８．７ｍｍｏｌ、マグネシウム７５．５ｍｍｏｌをテトラヒドロフラン５０ｍLに加え、窒素雰囲気下、５０℃で２時間撹拌してグリニヤール試薬を調製した。−１０℃に冷却し、ホウ酸トリメチル９６．０ｍｍｏｌを滴下し、１時間撹拌した。６Ｎ−塩酸５０ｍＬを滴下し、酢酸エチルを加え有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、トルエンから再結晶することにより（ｅｘ３−１）３６．７ｍｍｏｌを得た。

＜第２段＞
化合物（ｅｘ３−１）３６．７ｍｍｏｌ、１−ベンジルオキシ−４−ブロモベンゼン３６．１ｍｍｏｌ、２Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液３６ｍＬ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１．０４ｍｍｏｌをエチレングリコールジメチルエーテル９０ｍＬに加え、窒素雰囲気下、８時間加熱還流した。水を加えて析出した結晶をろ過した。アセトンから再結晶することにより（ｅｘ３−２）２２．６ｍｍｏｌを得た。

＜第３段＞
化合物（ｅｘ３−２）２２．６ｍｍｏｌ、水酸化パラジウム２．８５ｍｍｏｌをテトラヒドロフラン１００ｍＬに加え、水素雰囲気下、室温で８時間撹拌した。水酸化パラジウムをろ過し、減圧下で溶剤を留去して化合物（ｅｘ３−３）２０．１ｍｍｏｌを得た。

＜第４段＞
上記化合物（ｅｘ３−３）２．３３ｍｍｏｌ、化合物（ｅＸ２−１）５．１３ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．４１ｍｍｏｌをジクロロメタン１０ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）５．３６ｍｍｏｌのジクロロメタン５ｍＬ溶液を滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶することにより、上記化合物（Ｍ−２−５−１−２）０．５２ｍｍｏｌを得た。得られた化合物（Ｍ２−５−１−２）の融点は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ７９ 。透明点（ＮＩ）は重合により測定できなかった。
[実施例３]

＜重合性液晶組成物（１）の調製＞
化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ２−１−２−１）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝３４：２３：４３の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１とする。このＭＩＸ１に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、重量比０．０３の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン（株））を添加した。この組成物にシクロペンタノン／ＰＧＭＥＡ＝１／１（重量比）を加えて、溶剤の割合が７５重量％である重合性液晶組成物（１）とした。なお、ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称である。

次に、重合性液晶組成物（１）を、ラビング処理済配向膜付きガラス基板上へスピンコートにより塗布した。この基板を８０℃で３分間加熱、室温で３分間冷却し、溶剤が除去された塗膜を紫外線により窒素気流下で重合させて、配向が固定された異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを偏光顕微鏡観察したところ、配向欠陥はなく均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１のような結果であり、ホモジニアス配向であることが分かった。フィルム面に対して９０度のレタデーション測定値は１３７ｎｍであり、膜厚は１１６０ｎｍであったことからΔｎは０．１２と算出された。

［比較例１］
化合物（Ｍ２−１−２−１）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝３５：６５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ２とする。このＭＩＸ２をＭＩＸ１の代わりに使用したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（２）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁していた。この重合体のレタデーションは評価が困難であった。
[実施例４]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ２−２−１−１）：化合物（Ｍ３−１５−２）＝３４：４３：２３の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ３とする。このＭＩＸ３をＭＩＸ１の代わりに用いたこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（３）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１１と算出された。

［比較例２］
化合物（Ｍ２−２−１−１）：化合物（Ｍ３−１５−２）＝６５：３５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ４とする。このＭＩＸ４をＭＩＸ１の代わりに使用したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（４）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例５]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ１−１−７）：化合物（Ｍ１−１−８）＝３３：３４：３４の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ５とする。このＭＩＸ５をＭＩＸ１の代わりに用いたこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（５）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であり、ホモジニアス配向であり、Δｎは０．１６と算出された。
[実施例６]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ１−１−７）：化合物（Ｍ１−１−８）＝６６：１７：１７の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ６とする。このＭＩＸ６をＭＩＸ１の代わりに用いたこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（６）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１３と算出された。

［比較例３］
化合物（Ｍ１−１−７）：化合物（Ｍ１−１−８）＝５０：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ７とする。このＭＩＸ７をＭＩＸ１の代わりに使用したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（７）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例７]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ１−１−４）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝２０：３５：４５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ８とする。このＭＩＸ８をＭＩＸ１の代わりに用いたこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（８）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１２と算出された。

［比較例４］
化合物（Ｍ１−１−４）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝３５：６５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ９とする。このＭＩＸ９をＭＩＸ１の代わりに使用したこと以外は実施例３と同様にして重合性液晶組成物（９）を調整して評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例８]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ２−４−５−１）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝５０：２５：２５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１０とする。このＭＩＸ１０をＭＩＸ１の代わりに用い、重合開始剤をイルガキュアー９０７の代わりにイルガキュアー３６９（チバ・ジャパン（株）製）としたこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（１０）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１４と算出された。

［比較例５］
化合物（Ｍ２−４−５−１）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝５０：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１１とする。このＭＩＸ１１をＭＩＸ１０の代わりに使用したこと以外は実施例８と同様にして調製した重合性液晶組成物（１１）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例９]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ２−５−１−２）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝３４：２３：４３の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１２とした。このＭＩＸ１２をＭＩＸ１０の代わりに使用し、溶媒をシクロペンタノン／ＰＧＭＥＡ＝１／１（重量比）の代わりにシクロペンタノン／ＰＧＭＥＡ＝７／３（重量比）としたこと以外は実施例８と同様にして調製した重合性液晶組成物（１２）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１３と算出された。

［比較例６］
化合物（Ｍ２−５−１−２）：化合物（Ｍ２−２−１−１）＝３５：６５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１３とする。このＭＩＸ１３をＭＩＸ１２の代わりに使用したこと以外は実施例９と同様にして調製した重合性液晶組成物（１３）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例１０]

ＭＩＸ１に対して、重量比０．０７の重合性光学活性化合物Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ−７５６（ＢＡＳＦジャパン（株）製）をさらに添加したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（１４）から重合体を得た。これを評価したところ、青色の選択反射を有し、配向欠陥のない均一なプラナー配向の異方性ポリマーであった。選択反射の中心波長は４６５ｎｍで、約５５ｎｍの選択反射域を有していた。
[実施例１１]

ＭＩＸ１に対して、重量比０．０５の重合性光学活性化合物Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ−７５６（ＢＡＳＦジャパン（株）製）をさらに添加したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（１５）から重合体を得た。これを評価したところ、赤色の選択反射を有し、配向欠陥のない均一なプラナー配向の異方性ポリマーであった。選択反射波長の中心は６３５ｎｍで、約８０ｎｍの選択反射域を有していた。
[実施例１２]

ＭＩＸ１に対して、重量比０．０６の重合性光学活性化合物（ＯＰ−１）を添加し、重量比０．０３の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン（株）製）と重量比０．０１の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）とを添加したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（１６）から重合体を得た。これを評価したところ、配向欠陥のない均一なツイスト配向の異方性ポリマーであった。また、この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図２のようになり、ネガティブＣプレートであることが分かった。
[実施例１３]

ＭＩＸ１に対して、重量比０．０６の重合性光学活性化合物（ＯＰ−１）の代わりに重量比０．０３の重合性光学活性化合物（ＯＰ−１）を添加したこと以外は、実施例１２と同様にして調製した重合性液晶組成物（１７）から重合体を得た。これを評価したところ、赤色の選択反射を有し、配向欠陥のない均一なプラナー配向の異方性ポリマーであった。選択反射波長中心は６２５ｎｍで、約８０ｎｍの選択反射域を有していた。
[実施例１４]

ＭＩＸ１に対して、重量比０．０６の重合性光学活性化合物（ＯＰ−１）の代わりに重量比０．０４５の重合性光学活性化合物（ＯＰ−１）を添加したこと以外は、実施例１２と同様にして調製した重合性液晶組成物（１８）から重合体を得た。これを評価したところ、青色の選択反射を有し、配向欠陥のない均一なプラナー配向の異方性ポリマーであった。選択反射波長中心は４５５ｎｍで、約５０ｎｍの選択反射域を有していた。
[実施例１５]

ＭＩＸ１に対して、重量比０．０４の重合性光学活性化合物Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ−７５６（ＢＡＳＦジャパン（株）製）をさらに添加したこと以外は実施例３と同様にして調製した重合性液晶組成物（１９）から重合体を得た。これを評価したところ、近赤外の選択反射を有し、配向欠陥のない均一なプラナー配向の異方性ポリマーであった。選択反射波長中心は８００ｎｍで、約１５０ｎｍの選択反射域を有していた。
[実施例１６]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ２−１−２−１）：化合物（Ｍ３−１５−２）＝４５：２５：３０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１４とする。このＭＩＸ１４に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、重量比０．０６の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン（株）製）を添加した。この組成物にシクロヘキサノンを加えて、溶剤の割合が７５重量％である重合性液晶組成物（２０）とした。重合性液晶組成物（２０）を用い、空気中で硬化させたこと以外は実施例３と同様な方法で異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１４と算出された。

［比較例７］
化合物（Ｍ２−１−２−１）：化合物（Ｍ３−１５−２）＝７０：３０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１５とする。このＭＩＸ１５をＭＩＸ１の代わりに使用したこと以外は実施例１５と同様にして調製した重合性液晶組成物（２１）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例１７]

化合物（１−Ｂ−１０）：化合物（Ｍ２−２−１−１）：化合物（Ｍ３−１５−４）＝３４：４３：２３の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１６とする。このＭＩＸ１６に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、重量比０．０６の重合開始剤イルガキュアー９０７（チバ・ジャパン（株）製）を添加した。この組成物にシクロヘキサノンを加えて、溶剤の割合が７５重量％である重合性液晶組成物（２２）とした。重合性液晶組成物（２２）を用い、空気中で硬化させたこと以外は実施例３と同様な方法で異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１１と算出された。
[実施例１８]

下記に示す化合物（１−Ｂ−４７）を以下のようにして合成した。

（第１段階）
水３００ｍＬに水酸化ナトリウム４．４ｍｏｌを加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこにシクロヘキセンメタノール０．８９ｍｏｌ、テトラブチルアンモニウムブロマイド（ＴＢＡＢ）０．０８９ｍｏｌおよび１，４−ジブロモブタン１．８ｍｏｌを加え、１００℃で５時間攪拌した。有機層を抽出し、得られた有機層を５％重曹水で洗浄し、ついで１０％食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、溶剤を減圧留去し、無色の液体である化合物（ｅｘ４−２）を得た。
次いで、得られた化合物（ｅｘ４−２）０．５２ｍｏｌ、４−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル０．５７ｍｏｌおよび水酸化カリウム０．５７ｍｏｌを、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）７００ｍＬに加え、窒素雰囲気下８０℃で５時間攪拌した。反応液にトルエン５００ｍＬおよび水５００ｍＬを加え、有機層を抽出した。得られた有機層を飽和重曹水および水を順次用いて洗浄し、溶剤を減圧留去した。
次いで、残渣にメタノール４００ｍＬ、水４００ｍＬおよび水酸化カリウム０．５７ｍｏｌを加え３時間加熱還流下攪拌した。溶剤を減圧留去し、３Ｎ塩酸水５００ｍｌ、トルエン５００ｍｌを加え有機層を抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、溶剤を減圧留去した。エタノールから再結晶することにより、無色結晶の化合物（ｅｘ４−３）０．４３ｍｏｌを得た。

（第２段階）
上記化合物（ｅｘ４−３）１６ｍｍｏｌ、２，５-ジヒドロ安息香酸ベンジルエステル８．２ｍｍｏｌおよび４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）３．３ｍｍｏｌを、ジクロロメタン５０ｍＬに加え、窒素雰囲気下で撹拌した。そこへ、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１７ｍｍｏｌのジクロロメタン１０ｍＬ溶液を滴下した。滴下後、室温で８時間撹拌した。析出した沈殿物を濾別し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶剤を留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶することにより、無色結晶の化合物（ｅｘ４−３）を得た。
次いで、化合物（ｅｘ４−３）６．０ｍｍｏｌをジクロロメタン５０ｍＬに加え、窒素雰囲気下５℃以下で撹拌した。そこへ、ｍ−クロロ過安息香酸１３ｍｍｏｌを加え、室温で１６時間撹拌した。析出した不溶物を減圧ろ過により除去し、ろ液を１０％亜硫酸水素ナトリウム、３％水酸化ナトリウム水溶液および水を順次用いて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶剤を減圧留去して得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、エタノールから再結晶することにより、上記化合物（１−Ｂ−４７）３．４ｍｍｏｌを得た。得られた化合物（１−Ｂ−４７）の融点は以下のとおりである。
相転移温度：Ｃ ５１（Ｎ ２８）Ｉ

以下に、実施例１９〜２０で使用した化合物を以下に示す。

化合物（Ｍ１−１−９）および化合物（Ｍ１−１−１５）は特開２００５−６０３７３号公報に記載の方法に従って合成した。
[実施例１９]

化合物（１−Ｂ−４７）：化合物（Ｍ１−１−１５）＝５０：５０の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１７とする。このＭＩＸ１７に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、重量比０．０３の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した。この組成物にシクロペンタノン／ＰＧＭＥＡ＝１／１（重量比）を加えて、溶剤の割合が８０重量％である重合性液晶組成物（２３）とした。重合性液晶組成物（２３）を用い、空気中で硬化させたこと以外は実施例３と同様な方法で異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１３と算出された。

［比較例８］
ＭＩＸ１７の代わりに、化合物（Ｍ１−１−１５）のみを用いたこと以外は実施例１９と同様にして調製した重合性液晶組成物（２４）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。
[実施例２０]

化合物（１−Ｂ−４７）：化合物（Ｍ１−１−９）：化合物（Ｍ１−１−１５）＝７５：２０：５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１８とする。このＭＩＸ１８に対して、重量比０．００２の非イオン性のフッ素系界面活性剤（ネオス（株）製、商品名フタージェント ＦＴＸ−２１８）、重量比０．０３の重合開始剤ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ製）を添加した。この組成物にシクロペンタノン／ＰＧＭＥＡ＝１／１（重量比）を加えて、溶剤の割合が８０重量％である重合性液晶組成物（２５）とした。重合性液晶組成物（２５）を用い、空気中で硬化させたこと以外は実施例３と同様な方法で異方性ポリマーを得た。この異方性ポリマーを評価したところ、配向欠陥のない均一な配向を有していた。この異方性ポリマーのレタデーションを測定したところ、図１と同様な傾向であることからホモジニアス配向であることが分かり、Δｎは０．１３と算出された。

［比較例９］
化合物（Ｍ１−１−９）：化合物（Ｍ１−１−１５）＝９５：５の重量比で、これらの化合物を混合した。この組成物をＭＩＸ１９とする。このＭＩＸ１９をＭＩＸ１８の代わりに用いたこと以外は、実施例２０と同様にして調製した重合性液晶組成物（２６）から重合体を得た。これを評価したところ、結晶化に由来する配向欠陥が多発し、外観が白濁したポリマーが得られた。このポリマーのレタデーションは評価が困難であった。

上記の実施例および比較例の結果から、ベンジルエステル骨格を分子の短軸方向に有する重合性化合物は、組成物の室温における結晶化を防ぐことが分かった。また、本発明の重合性液晶組成物から得られる異方性ポリマーは液晶の配向を維持しながら、Δｎを制御することが可能となることが分かった。

本発明により、ベンジルエステル骨格を分子の短軸方向に有する重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を用いることで、均一なホモジニアス配向やツイスト配向を有する異方性ポリマーを得ることができ、さらに光学異方性の制御も可能となる。

Claims (33)

1. 式（１）で表される重合性液晶化合物：
   
   

   

   ここに、Ｒ^ａの少なくとも１つは重合性の基であって、重合性の基でないＲ^ａは塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；環Ａは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，６−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、または任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキルもしくは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂは任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルコキシで置き換えられてもよいフェニルであり；Ｚは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；Ｙは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；ｍおよびｎは独立して０〜５の整数である。
2. 重合性の基が式（ａ−１）〜式（ａ−９）で表される基から選択される基である、請求項１に記載の重合性液晶化合物：
   
   

   

   ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。
3. 重合性の基が式（ａ−４）で表される基である、請求項１に記載の重合性液晶化合物：
   
   

   

   ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。
4. 請求項１に記載の式（１）において、ｍ＋ｎが１〜３の整数である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
5. 請求項１に記載の式（１）において、ｍ＋ｎが２である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
6. 請求項１に記載の式（１）において、環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜３のアルキルもしくは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のフルオロアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまたは炭素数１〜３のフルオロアルコキシで置き換えられてもよいフェニルである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
7. 請求項１に記載の式（１）において、環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、−ＣＨ_３もしくは−ＣＦ_３で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２または−ＯＣＦ_３で置き換えられてもよいフェニルである、請求項６に記載の重合性液晶化合物。
8. 請求項１に記載の式（１）において、Ｚが独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
9. 請求項１に記載の式（１）において、Ｚが独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
10. 請求項１に記載の式（１）において、Ｙが独立して炭素数１〜１２を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよい、請求項１〜９のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する重合性液晶組成物。
12. 式（１）で表される重合性液晶化合物の少なくとも１つと、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物：
    
    

    

    ここに、Ｒ^ａの少なくとも１つは重合性の基であって式（ａ−１）〜式（ａ−９）で表される基から選択される基であり、重合性の基でないＲ^ａは塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；
    
    

    

    （ここに、Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。）
    環Ａは独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリジン−２，６−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、または任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキルもしくは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
    環Ｂは任意の水素がハロゲン、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル、炭素数１〜５のアルコキシまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルコキシで置き換えられてもよいフェニルであり；
    Ｚは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
    Ｙは独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであって、このアルキレンにおいて任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、そして任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
    ｍおよびｎは独立して０〜５の整数である：
    
    

    

    ここに、Ｒ^１は独立して前記の式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；
    Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシ、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；
    環Ａ^１は独立して１，４−シクロヘキシレンまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
    Ｚ^１は独立して単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−であり；
    Ｙ^１は独立して単結合または炭素数１〜２０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
    Ｌ^１は独立して水素、フッ素または−ＣＨ_３であり；
    Ｌ^２１は独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜８のアルキルまたは炭素数１〜８のハロゲン化アルキルであり；
    Ｌ^２５は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、シアノ、または炭素数１〜８のハロゲン化アルキルであり；
    ｐ^２５は１または２であり；
    そして、ｐ^３は１または２である。
13. 式（１）において、重合性の基が式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素が塩素、フッ素、シアノ、炭素数１〜３のアルキルまたは炭素数１〜３のフルオロアルキルで置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２、炭素数１〜３のアルキル、炭素数１〜３のフルオロアルキル、炭素数１〜３のアルコキシまた炭素数１〜３のフルオロアルコキシで置き換えられてもよいフェニルであり；Ｚが独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−、−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり；Ｙが独立して単結合または炭素数１〜１０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；そして、ｍおよびｎが１であり、
    式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｒ^１が独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；Ｒ^２が炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、塩素、フッ素、シアノ、−ＣＦ_３または−ＯＣＦ_３であり；環Ａ^１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ^１が独立して単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−であり；Ｙ^１が独立して単結合または炭素数１〜１２のアルキレンであり、このアルキレンにおける任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；Ｌ^１が独立して水素、フッ素または−ＣＨ_３であり；Ｌ^２１が独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキルまたは炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり；Ｌ^２５が独立して水素、ハロゲン、シアノ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシ、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルであり；ｐ^２５が１または２であり；ｐ^３が１または２であり、
    そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との全重量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が３〜９０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）、式（Ｍ２−２）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の割合が１０〜９７重量％である、請求項１２に記載の重合性液晶組成物。
14. 式（１）において、重合性の基が独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；環Ａが独立して１，４−シクロヘキシレン、または任意の水素が塩素、フッ素、−ＣＨ_３または−ＣＦ_３で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；環Ｂが任意の水素がフッ素、シアノ、−ＮＯ_２または−ＯＣＦ_３で置き換えられてもよいフェニルであり；Ｚが独立して単結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり；Ｙが独立して炭素数１〜１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて環Ａに結合する−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；ｍおよびｎが１であり、
    式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）において、Ｒ^１が独立して式（ａ−４）、式（ａ−５）または式（ａ−９）で表される基であり；Ｒ^２が炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、シアノ、フッ素または−ＯＣＦ_３であり；環Ａ^１が独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、モノフルオロ−１，４−フェニレンまたはジフルオロ−１，４−フェニレンであり；Ｚ^１が独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＯＯ−または−ＯＣＯ（ＣＨ_２）_２−であり；Ｙ^１が独立して単結合または炭素数１〜１０を有するアルキレンであり、このアルキレンにおいて環Ａ^１に結合する−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく；Ｌ^１が独立して水素または−ＣＨ_３であり；Ｌ^２１が独立して水素、フッ素、メチル、シアノ、イソプロピル、ターシャリ−ブチルまたはトリフルオロメチルであり；Ｌ^２５が独立して水素、フッ素、メチルまたはメトキシであり；ｐ^２５が１または２であり；ｐ^３が２であり、
    そして、式（１）で表される重合性液晶化合物と、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物との全重量を基準として、式（１）で表される重合性液晶化合物の割合が１５〜８０重量％であり、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）で表される化合物の群から選択される重合性化合物の割合が２０〜８５重量％である、請求項１２に記載の重合性液晶組成物。
15. 式（１）、式（Ｍ１）、式（Ｍ２−１）〜式（Ｍ２−５）、式（Ｍ３）および式（Ｍ４）では表されず、そして光学活性ではない重合性化合物をさらに含有する、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
16. 重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
17. 非重合性の液晶性化合物をさらに含有する、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
18. 非重合性の光学活性化合物をさらに含有する、請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
19. 請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られるポリマーフィルム。
20. 請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合することによって得られる異方性ポリマー。
21. 重合性液晶組成物の配向形態がホモジニアス配向、チルト配向、ツイスト配向、ホメオトロピック配向のいずれか１つである、請求項２０に記載の異方性ポリマー。
22. 重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、イオンビーム処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、請求項２０または２１に記載の異方性ポリマー。
23. 重合性液晶組成物の配向形態をラビング処理、光配向処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか１つの方法により制御する、請求項２０または２１に記載の異方性ポリマー。
24. ガラス基板を支持基板として形成される、請求項２０〜２３のいずれか１項に記載の異方性ポリマー。
25. プラスチック薄膜で被覆されたガラス基板またはプラスチックフィルムからなるプラスチック基板を支持基板として形成される、請求項２０〜２３のいずれか１項に記載の異方性ポリマー。
26. プラスチック薄膜およびプラスチックフィルムの素材であるプラスチックが、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロース、トリアセチルセルロースの部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびシクロオレフィン系樹脂から選択されるいずれか１つである、請求項２５に記載の異方性ポリマー。
27. プラスチック薄膜およびプラスチックフィルムの素材であるプラスチックが、ポリイミド、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース、トリアセチルセルロースの部分鹸化物、およびシクロオレフィン系樹脂から選択されるいずれか１つである、請求項２５に記載の異方性ポリマー。
28. 請求項２０〜２７のいずれか１項に記載の異方性ポリマーを有する光学補償フィルム。
29. 請求項２０〜２７のいずれか１項に記載の異方性ポリマーを有する反射フィルム。
30. 請求項２８に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示素子。
31. 請求項２９に記載の反射フィルムを有する液晶表示素子。
32. 請求項２８に記載の光学補償フィルムを有する液晶表示装置。
33. 請求項２９に記載の反射フィルムを有する液晶表示装置。

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