JP2017115163A - 重合体、感光性組成物、パターン形成方法及びカラーフィルタ - Google Patents

Abstract

【課題】 硬化後に十分に高度な耐熱性及び光透過性を有するものとすることが可能な重合体を提供すること。【解決手段】 下記一般式（１）：【化１】［式（１）中、Ｘ１は特定の一般式で表される４価の有機基を示し、Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立に水素原子等を示し、Ｘ４は式：−Ｏ−で表される基等を示し、Ｘ５は特定の式で表される基を示す。］で表される構造単位を有することを特徴とする重合体。【選択図】 なし

Description

本発明は、重合体、感光性組成物、パターン形成方法、並びに、カラーフィルタに関する。

近年、透過型又は反射型のカラー液晶表示素子、固体撮像素子、有機ＥＬ表示素子、電子ペーパー等に用いられるカラーフィルタの着色層や保護層を形成するために用いることが可能な様々な重合体が開発されている。例えば、特開２０１２−０４７９０３号公報（特許文献１）においては、特定の構造単位を有する重合体及びその重合体を含む感光性組成物が開示されている。しかしながら、このような特許文献１に記載の重合体は硬化後の光透過性及び耐熱性の点で必ずしも十分なものではなく、また、特許文献１に記載の感光性組成物は高感度化の観点で、必ずしも十分なものではなかった。

特開２０１２−０４７９０３号公報

本発明は、前記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、硬化後に十分に高度な耐熱性及び光透過性を有するものとすることが可能な重合体、十分に高度な感度を有するものとすることが可能な感光性組成物、その感光性組成物を用いたパターン形成方法、並びに、高コントラストなものとすることが可能なカラーフィルタを提供することを目的とする。

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、重合体を下記一般式（１）で表される構造単位を有するものとすることにより、その重合体の硬化物を十分に高度な耐熱性及び光透過性を有するするものとすることが可能となることを見出し、かかる知見に基づいて、本発明を完成するに至った。

そこで、本発明は、上記課題を解決する、以下の重合体、感光性組成物、パターン形成方法並びにカラーフィルタを提供する。

＜１＞ 下記一般式（１）：

［式（１）中、Ｘ^１は下記一般式（２）〜（４）：

（式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される１種を示し、ｎは０〜１２の整数を示し、式（３）中、Ａは置換基を有していてもよくかつ芳香環を形成する炭素原子の数が６〜３０である２価の芳香族基よりなる群から選択される１種を示し、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、式（４）中、Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される１種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している２つのＲ^６が一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、Ｒ^７はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、式（２）〜（４）中の記号＊は、該記号の付された結合手がそれぞれ式（１）中のＸ^１に結合している４本の結合手のうちのいずれかであることを示す。）
で表される４価の有機基を示し、
Ｘ^２及びＸ^３はそれぞれ独立に水素原子及びエチレン性不飽和結合を有する基からなる群から選択される１種を示し、
Ｘ^４は式：−Ｏ−で表される基及び式：−ＮＨ−で表される基よりなる群から選択される１種の基を示し、
Ｘ^５は式：−Ｏ−Ｘ^６−で表される基及び式：−ＮＨ−Ｘ^６−で表される基（前記各式中のＸ^６は多価アルコールの残基及び多価アミンの残基よりなる群から選択される１種の基を示す。）よりなる群から選択される１種の基を示す。］
で表される構造単位を有することを特徴とする重合体。

＜２＞ 前記Ｘ^２、前記Ｘ^３及び前記重合体の末端の基からなる群から選択される少なくとも１つがエチレン性不飽和結合を有する基である、上記＜１＞に記載の重合体。

このようなエチレン性不飽和結合を有する基を含有する上記＜２＞に記載の重合体は、感光性組成物中の成分として好適に利用することが可能である。

＜３＞ 上記＜２＞に記載の重合体と光重合開始剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。

＜４＞ 着色剤を更に含有する、上記＜３＞に記載の感光性組成物。

＜５＞ 上記＜３＞又は＜４＞に記載の感光性組成物からなる膜に対してフォトマスクを介して光を照射し、現像することによりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。

＜６＞ 上記＜４＞に記載の感光性組成物の硬化物からなる着色層を備えることを特徴とするカラーフィルタ。

本発明によれば、硬化後に十分に高度な耐熱性及び光透過性を有するものとすることが可能な重合体、十分に高度な感度を有するものとすることが可能な感光性組成物、その感光性組成物を用いたパターン形成方法、並びに、高コントラストなものとすることが可能なカラーフィルタを提供することが可能となる。

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。

［重合体］
本発明の重合体は、上記一般式（１）で表される構造単位を有することを特徴とするものである（上記＜１＞に記載の重合体である）。

このような一般式（１）において、式中のＸ^１は上記一般式（２）〜（４）で表される４価の有機基である（なお、上記一般式（２）〜（４）中の記号＊は、該記号の付された結合手がそれぞれ式（１）中のＸ^１に結合している４本の結合手のうちのいずれかであることを示すものである）。このような一般式（２）〜（４）で表される４価の有機基をＸ^１の部位に利用することにより、得られる重合体の透明性がより高度なものとなるとともに、上記特許文献１に記載のような従来の重合体と比較した場合により高い耐熱性を付与することが可能となる。また、このような重合体は、その透明性に起因して、例えば、感光性組成物に利用した際に重合体自体による光の吸収をより十分に抑制することが可能となり、感光性組成物の光に対する感度をより高度なものとすることも可能となる。

また、上記一般式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される１種を示す。このような一般式（２）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３として選択され得るアルキル基は、炭素数が１〜１０のアルキル基である。このような炭素数が１０を超えるとガラス転移温度が低下し十分に高度な耐熱性が達成できなくなる。また、このようなＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３として選択され得るアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、１〜６であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１〜３であることが特に好ましい。また、このようなＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３として選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。更に、このようなアルキル基としては精製の容易さの観点から、メチル基、エチル基がより好ましい。

前記一般式（２）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３としては、重合体を硬化させた場合に、より高度な耐熱性が得られるという観点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であることがより好ましく、中でも、原料の入手が容易であることや精製がより容易であるという観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基又はイソプロピル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。また、このような式中の複数のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は精製の容易さ等の観点から、同一のものであることが特に好ましい。

また、前記一般式（２）中のｎは０〜１２の整数を示す。このようなｎの値が前記上限を超えると、精製が困難になる。また、このような一般式（１）中のｎの数値範囲の上限値は、より精製が容易となるといった観点から、５であることがより好ましく、３であることが特に好ましい。また、このような一般式（１）中のｎの数値範囲の下限値は、原料化合物の安定性の観点から、１であることがより好ましく、２であることが特に好ましい。このように、一般式（１）中のｎとしては、２〜３の整数であることが特に好ましい。

また、上記一般式（３）中、Ａは置換基を有していてもよくかつ芳香環を形成する炭素原子の数が６〜３０である２価の芳香族基よりなる群から選択される１種を示し、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示す。

このような一般式（３）中のＡは、置換基を有していてもよい２価の芳香族基であり、該芳香族基中に含まれる芳香環を形成する炭素の数（なお、ここにいう「芳香環を形成する炭素の数」とは、その芳香族基が炭素を含む置換基（炭化水素基など）を有している場合、その置換基中の炭素の数は含まず、芳香族基中の芳香環が有する炭素の数のみをいう。例えば、２−エチル−１，４−フェニレン基の場合、芳香環を形成する炭素の数は６となる。）が６〜３０のものである。このように、上記一般式（３）中のＡは、置換基を有していてもよく、かつ、炭素数が６〜３０の芳香環を有する２価の基（２価の芳香族基）である。このような芳香環を形成する炭素の数が前記上限を超えると、得られる重合体の光透過性が低下する傾向にある。また、透明性及び精製の容易さの観点からは、前記２価の芳香族基の芳香環を形成する炭素の数は、６〜１８であることがより好ましく、６〜１２であることが更に好ましい。

また、このような２価の芳香族基としては、上記炭素の数の条件を満たすものであればよく、特に制限されないが、例えば、ベンゼン、ナフタレン、ターフェニル、アントラセン、フェナントレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ビフェニル、ターフェニル、クオターフェニル、キンクフェニル等の芳香族系の化合物から２つの水素原子が脱離した残基（なお、このような残基としては、脱離する水素原子の位置は特に制限されないが、例えば、１，４−フェニレン基、２，６−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基、９，１０−アントラセニレン基等が挙げられる。）；及び該残基中の少なくとも１つの水素原子が置換基と置換した基（例えば、２，５−ジメチル−１，４−フェニレン基、２，３，５，６−テトラメチル−１，４−フェニレン基）等を適宜利用することができる。なお、このような残基において、前述のように、脱離する水素原子の位置は特に制限されず、例えば、前記残基がフェニレン基である場合においてはオルト位、メタ位、パラ位のいずれの位置であってもよい。

このような２価の芳香族基としては、重合体の溶媒への溶解性がより優れたものとなり、より高度な加工性が得られるといった観点から、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいビフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、置換基を有していてもよいアントラセニレン基、置換基を有していてもよいターフェニレン基が好ましい。すなわち、このような２価の芳香族基としては、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ターフェニレン基が好ましい。また、このような２価の芳香族基の中でも、上記観点でより高い効果が得られることから、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基がより好ましく、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基が更に好ましく、置換基を有していてもよいフェニレン基が最も好ましい。

また、前記一般式（３）中のＡにおいて、前記２価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。このような２価の芳香族基が有していてもよい置換基の中でも、重合体の溶媒への溶解性がより優れたものとなり、より高度な加工性が得られるといった観点から、炭素数が１〜１０のアルキル基、炭素数が１〜１０のアルコキシ基がより好ましい。このような置換基として好適なアルキル基及びアルコキシ基の炭素数が１０を超えると、重合体の硬化物の耐熱性が低下する傾向にある。また、このような置換基として好適なアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、重合体を製造した際に、より高度な耐熱性が得られるという観点から、１〜６であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１〜３であることが特に好ましい。また、このような置換基として選択され得るアルキル基及びアルコキシ基はそれぞれ直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。

また、このような２価の芳香族基の中でも、重合体の溶媒への溶解性がより優れたものとなり、より高度な加工性が得られるといった観点からは、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ターフェニレン基であることが好ましく、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基であることがより好ましく、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基であることが更に好ましく、最も好ましいのは、置換基を有していてもよいフェニレン基である。

さらに、このような２価の芳香族基の中でも、より高度な耐熱性が得られるといった観点からは、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ターフェニレン基であることが好ましく、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、ターフェニレン基であることがより好ましく、それぞれ置換基を有していてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基であることが更に好ましく、最も好ましいのは、置換基を有していてもよいフェニレン基である。

また、前記一般式（３）中のＲ^４はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種である。このようなＲ^４として選択され得るアルキル基の炭素数が１０を超えると、耐熱性が低下する。また、このようなＲ^７及びＲ^８として選択され得るアルキル基としては、より高度な耐熱性が得られるという観点から、１〜６であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１〜３であることが特に好ましい。また、このようなＲ^４として選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。

また、前記一般式（３）中のＲ^４は、より高度な耐熱性が得られること、原料の入手が容易であること、精製がより容易であること、等といった観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基であることが特に好ましい。また、このような式（３）中のＲ^４は、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。また、前記一般式（３）中の複数のＲ^４は、いずれも水素原子であることが特に好ましい。このように、前記一般式（３）で表される繰り返し単位においてＲ^４で表される置換基がいずれも水素原子である場合には、より高度な耐熱性が得られる傾向にある。

また、前記一般式（３）中のＲ^５として選択され得るアルキル基は、炭素数が１〜１０のアルキル基である。このような炭素数が１０を超えると十分に高度な耐熱性が達成できなくなる。また、このようなＲ^５として選択され得るアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、１〜６であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１〜３であることが特に好ましい。また、このようなＲ^５として選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。更に、このようなアルキル基としては精製の容易さの観点から、メチル基、エチル基がより好ましい。

前記一般式（３）中のＲ^５としては、より高度な耐熱性が得られること、原料の入手が容易であること、精製がより容易であること、等といった観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基又はイソプロピル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。また、このような式中の複数のＲ^５は、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。また、前記一般式（３）中の複数のＲ^５は、いずれも水素原子であることが特に好ましい。このように、前記一般式（３）で表される繰り返し単位においてＲ^５で表される置換基がいずれも水素原子である場合には、より高度な耐熱性が得られる傾向にある。

また、上記一般式（４）中のＲ^６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される１種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している２つのＲ^６が一緒になってメチリデン基を形成する。

前記一般式（４）中のＲ^６として選択され得るアルキル基は、炭素数が１〜１０のアルキル基である。このような炭素数が１０を超えると十分に高度な耐熱性が達成できなくなる。また、このようなＲ^６として選択され得るアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、１〜６であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１〜３であることが特に好ましい。また、このようなＲ^６として選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。更に、このようなアルキル基としては精製の容易さの観点から、メチル基、エチル基がより好ましい。

また、このような一般式（４）中の複数のＲ^６のうち、同一の炭素原子に結合している２つのＲ^６は、それらが一緒になってメチリデン基（＝ＣＨ_２）を形成していてもよい。すなわち、上記一般式（４）中の同一の炭素原子に結合している２つのＲ^６が一緒になって、該炭素原子（ノルボルナン環構造を形成する炭素原子のうち、Ｒ^６が２つ結合している炭素原子）に二重結合によりメチリデン基（メチレン基）として結合していてもよい。

前記一般式（４）中の複数のＲ^６としては、より高度な耐熱性が得られること、原料の入手（調製）がより容易であること、精製がより容易であること、等といった観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基又はイソプロピル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。また、このような式中の複数のＲ^６は、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。

また、前記一般式（４）中のＲ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種である。このようなＲ^７及びＲ^８として選択され得るアルキル基の炭素数が１０を超えると、重合体の耐熱性が低下する。また、このようなＲ^７及びＲ^８として選択され得るアルキル基としては、より高度な耐熱性が得られるという観点から、１〜６であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１〜３であることが特に好ましい。また、このようなＲ^７及びＲ^８として選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。

また、前記一般式（４）中のＲ^７及びＲ^８は、重合体を製造した際により高度な耐熱性が得られること、原料の入手が容易であること、精製がより容易であること、等といった観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基であることが特に好ましい。また、このような式（４）中のＲ^７及びＲ^８は、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。

また、前記一般式（４）中の複数のＲ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、いずれも水素原子であることが特に好ましい。このように、前記一般式（３）で表される繰り返し単位において、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８で表される置換基がいずれも水素原子である場合には、当該化合物の収率が向上し、より高度な耐熱性が得られる傾向にある。

また、上記一般式（１）中のＸ^２及びＸ^３はそれぞれ独立に水素原子及びエチレン性不飽和結合を有する基からなる群から選択される１種を示す。

上記一般式（１）中のＸ^２及びＸ^３として選択され得るエチレン性不飽和結合を有する基としては、下記一般式（５）：

［式（５）中、Ｘ^７は水素原子及びカルボキシル基を有する基のうちのいずれかを示し、Ｘ^８及びＸ^９はそれぞれ独立に２価の基を示し、Ｘ^１０は水素原子及びメチル基のうちのいずれか示し、Ｘ^１１は単結合、メチレン基及びアルキレン基のうちのいずれかを示す。］
で表される基であることが好ましい。このような一般式（５）で表わされる基としては、Ｘ^７がカルボキシル基を有する基である場合、下記一般式（６）：

［式（６）中、Ｘ^８、Ｘ^９、Ｘ^１０及びＸ^１１はそれぞれ一般式（５）中のＸ^８、Ｘ^９、Ｘ^１０及びＸ^１１と同義であり、Ｘ^１２は２価の炭化水素基を示す。］
で表される基であることが好ましい。

上記一般式（５）中のＸ^７は水素原子及びカルボキシル基を有する基のうちのいずれかである。このようなカルボキシル基を有する基としては式：−ＣＯ−Ｘ^１２−ＣＯＯＨで表される基であることがより好ましい（式中のＸ^１２は上記一般式（６）中のＸ^１２と同義である）。なお、カルボキシル基を有する基が、上記式：−ＣＯ−Ｘ^１２−ＣＯＯＨで表される基である場合、上記一般式（５）で表される基は、上記一般式（６）で表すことができる。

上記一般式（５）及び（６）中のＸ^８は２価の基である。このようなＸ^８としては、２価の炭化水素基の中から選択されるいずれかの２価の基であることがより好ましい。また、上記一般式（５）及び（６）中のＸ^９も２価の基である。このようなＸ^９としては、２価の炭化水素基及び式：−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−で表される基の中から選択されるいずれかの２価の基であることがより好ましい。このような２価の炭化水素基としては、特に制限されず、２価の脂肪族炭化水素基、２価の脂環式炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基であってもよい。

このように、上記一般式（５）及び（６）中のＸ^８及びＸ^９は、それぞれ２価の脂肪族炭化水素基、２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基からなる群から選択されるいずれかの２価の炭化水素基であってもよい。このような２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のものであっても、あるいは、分岐状のものであってもよく、その形態は特に制限されない。また、前記２価の脂肪族炭化水素基及び前記２価の脂環式炭化水素基としては、飽和炭化水素基であってもよく、あるいは、不飽和炭化水素基であってもよい。

このような２価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、アルキレン基が挙げられる。このような２価の脂肪族炭化水素基の中でも、メチレン基、炭素数２〜６（より好ましくは炭素数２〜４）のアルキレン基が好ましい。また、このような２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロアルキレン基が挙げられる。このような２価の脂環式炭化水素基の中でも、３〜８員環（より好ましくは５〜６員環）のシクロアルキレン基が好ましい。さらに、このような２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、アリーレン基が挙げられる。このような２価の芳香族炭化水素基の中でも、炭素数６〜１４の単環から３環のアリーレン基が好ましい。

上記一般式（５）及び（６）中のＸ^８としては、メチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基がより好ましく、また、上記一般式（５）及び（６）中のＸ^９としては、メチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基、式：−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−で表される基がより好ましい。

上記一般式（５）及び（６）中のＸ^１０は水素原子及びメチル基のうちのいずれかである。また、上記一般式（５）及び（６）中のＸ^１１は単結合、メチレン基及びアルキレン基のうちのいずれかである。このようなＸ^１１として選択され得るアルキレン基としては、炭素数２〜６（より好ましくは炭素数２〜４）のアルキレン基が好ましい。

上記一般式（６）中のＸ^１２は２価の炭化水素基である。このような２価の炭化水素基としては、上述のＸ^８及びＸ^９として選択され得る２価の炭化水素基と同義である。ここにおいて、上記一般式（６）中のＸ^１２としては、メチレン基、炭素数２〜６（より好ましくは炭素数２〜４）のアルキレン基であることが特に好ましい。

また、上記一般式（１）中のＸ^４は式：−Ｏ−で表される基及び式：−ＮＨ−で表される基よりなる群から選択される１種の基である。また、上記一般式（１）中のＸ^５は式：−Ｏ−Ｘ^６−で表される基及び式：−ＮＨ−Ｘ^６−で表される基（前記各式中のＸ^６は多価アルコールの残基及び多価アミンの残基よりなる群から選択される１種の基を示す。）よりなる群から選択される１種の基である。

このような一般式（１）中のＸ^４とＸ^５は、上記構造単位を有する重合体をより効率よく製造できるといった観点から、以下の関係にあることが好ましい。すなわち、このようなＸ^４とＸ^５は、Ｘ^４が式：−Ｏ−で表される基である場合にＸ^５は式：−Ｏ−Ｘ^６−で表される基であること；又は、Ｘ^４が式：−ＮＨ−で表される基である場合にＸ^５は式：−ＮＨ−Ｘ^６−で表される基であること；が好ましい。なお、このようなＸ^４が式：−Ｏ−で表される基でありかつＸ^５が式：−Ｏ−Ｘ^６−で表される基である構造単位を有する重合体は、後述の一般式（１１）〜（１３）で表されるテトラカルボン酸無水物と、後述の多価アルコールとを反応させることにより容易に製造でき、この場合において、Ｘ^６は多価アルコールから反応で使用された水酸基を除いた残基となる。また、上述のようなＸ^４が式：−ＮＨ−で表される基でありかつＸ^５が式：−ＮＨ−Ｘ^６−で表される基である構造単位を有する重合体は、後述の一般式（１１）〜（１３）で表されるテトラカルボン酸無水物と、後述の多価アミンとを反応させることにより容易に製造でき、この場合において、Ｘ^６は多価アミンから反応で使用されたアミノ基を除いた残基となる。ここにいう多価アルコール又は多価アミンとしては、２価以上のアルコール又は２価以上のアミンであればよく、それらの化合物として好適なものについては後述する。

また、このようなＸ^６は、多価アルコールから反応で使用された水酸基を除いた残基又は多価アミンから反応で使用されたアミノ基を除いた残基である。そのため、Ｘ^６は、多価アルコール又は多価アミンに由来する２価の有機基となる。なお、ここにいう「残基」は、重合体が後述の化合物Ａと、３価以上の多価アルコール又は３価以上の多価アミンとの反応物である場合、その化合物Ａと前記多価アルコール又は前記多価アミンとの反応に由来して形成される基を置換基として有する２価の有機基であってもよい。このようなＸ^６として選択され得る２価の有機基としては、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基及び置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基からなる群から選択されるいずれかの２価の基であることが好ましい。

このような２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖又は分岐鎖上の炭素数２〜１０（更に好ましくは３〜８、特に好ましくは５〜６）のアルキレン基がより好ましい。また、このようなアルキレン基としては、中でも、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピレン基、２−エチル−２−ヒドロキシメチル−プロピレン基が好ましい。また、このような２価の脂環式炭化水素基としては、炭素数４〜１０（更に好ましくは５〜８、特に好ましくは６〜７）のシクロアルキレン基が好ましい。また、このようなシクロアルキレン基としては、中でも、シクロヘキシレン基、ノルボルナン基が好ましい。

さらに、２価の芳香族炭化水素基としては、芳香環を有する２価の基を適宜利用できる。このような２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数が６〜１２のアリーレン基を挙げることができる。また、このような芳香環を有する２価の基としては、中でも、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基が好ましい。

また、このような２価の脂肪族炭化水素基、２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、水酸基、アルキル基、エチレン性不飽和結合を有する基等が挙げられる。なお、このような２価の有機基（２価の脂肪族炭化水素基、２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基）が、その置換基としてエチレン性不飽和結合を有する基を有する場合、Ｘ^６はエチレン性不飽和結合を有する基（エチレン性不飽和結合を有する基を置換基として有する２価の有機基）となる。

また、このような一般式（１）で表される構造単位を有する重合体としては、下記一般式（１１）〜（１３）：

［式（１１）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎは前記一般式（２）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎと同義であり（その好適なものも前記一般式（１）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎと同義である）、
式（１２）中のＡ、Ｒ^４、Ｒ^５は前記一般式（３）中のＡ、Ｒ^４、Ｒ^５と同義であり（その好適なものも前記一般式（３）中のＡ、Ｒ^４、Ｒ^５と同義である）、
式（１３）中のＲ^６、Ｒ^７はそれぞれ前記一般式（４）中のＲ^６、Ｒ^７と同義である（その好適なものも前記一般式（４）中のＲ^６、Ｒ^７と同義である）。］
で表されるテトラカルボン酸無水物の中から選択される少なくとも１種の化合物Ａ（以下、場合により単に「化合物Ａ」と称する）と、多価アルコール及び多価アミンの中から選択される少なくとも１種の化合物Ｂ（以下、場合により単に「化合物Ｂ」と称する）との重合物（Ｉ）；前記重合物（Ｉ）とエポキシ基を含有しかつ構造中にエチレン性不飽和結合を有する化合物（以下、場合により、単に「エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物」と称する）との反応物である重合物（ＩＩ）；重合物（ＩＩ）と無水カルボン酸化合物との反応物である重合体（ＩＩＩ）であることが好ましい。すなわち、本発明の重合体としては、前記重合物（Ｉ）、前記重合物（ＩＩ）、前記重合物（ＩＩＩ）を好適に利用することができる。以下、これらの重合物（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を分けて説明する。

〈重合物（Ｉ）〉
本発明の重合体として好適な重合物（Ｉ）は、化合物Ａと化合物Ｂとの重合物である。このような重合物（Ｉ）の原料となる化合物Ａとして利用され得る一般式（１１）で表されるテトラカルボン酸二無水物を製造するための方法としては、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、国際公開第２０１１／０９９５１７号に記載の方法や国際公開第２０１１／０９９５１８号に記載の方法等を採用してもよい。また、前記化合物Ａとして利用され得る前記一般式（１２）で表されるテトラカルボン酸二無水物を製造するための方法としては、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、国際公開第２０１５／１６３３１４号に記載の方法等を採用してもよい。更に、前記化合物Ａとして利用され得る前記一般式（１３）で表されるテトラカルボン酸二無水物を製造するための方法としては、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、国際公開第第２０１７／０３００１９号に記載の方法等を採用してもよい。

また、前記化合物Ｂとして利用され得る前記多価アルコールとしては特に制限されず、公知のものを適宜利用できる。このような多価アルコールとしては、２〜１０価（より好ましくは２〜６価、更に好ましくは２〜４価）のものを好適に利用できる。このような多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール（エチレングリコールの３〜１５量体）、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（プロピレングリコールの３〜１５量体）、１，３−プロパンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２−メチル−１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，３−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール等の２価アルコール；グリセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜８量体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン等）、トリメチロールアルカン（トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン等）及びこれらの２〜８量体、ペンタエリスリトール及びこれらの２〜４量体、１，２，４−ブタントリオール、１，３，５−ペンタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３，４−ブタンテトロール、ソルビトール、ソルビタン、ソルビトールグリセリン縮合物、アドニトール、アラビトール、キシリトール、マンニトール等の３価以上の多価アルコール；キシロース、アラビノース、リボース、ラムノース、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース、ソルボース、セロビオース、マルトース、イソマルトース、トレハロース、スクロース等の糖類；等が挙げられる。

このような多価アルコールとしては、重合体を硬化させた後の硬化物の耐熱性の観点からは、３価以上の多価アルコール類が好ましく、トリメチロールアルカン（トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン等）及びこれらの２〜８量体、ペンタエリスリトール及びこれらの２〜４量体がより好ましく、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが特に好ましい。さらに、このような多価アルコールとしては、式：ＨＯ−Ｘ^６−ＯＨで表される化合物（式中のＸ^６は式（１）中のＸ^６と同義（好ましくは２価の有機基）である）を利用することが好ましい。また、このような多価アルコールは、１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。

さらに、前記化合物Ｂとして利用され得る前記多価アミンとしては特に制限されず、公知のものを適宜利用でき、脂肪族ジアミン、脂環族ジアミン、芳香族ジアミン、３価以上の脂肪族アミン、３価以上の芳香族アミンが挙げられる。このような脂肪族ジアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、等が挙げられ、また、脂環族ジアミンとしては、４，４’−ジアミノ−３，３’ジメチルジシクロヘキシルメタン、ジアミンシクロヘキサン、イソホロンジアミン等が挙げられる。また、このような芳香族ジアミンとしては、例えば、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、３，３’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、ｐ−ジアミノベンゼン、ｍ−ジアミノベンゼン、ｏ−ジアミノベンゼン、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジメチルビフェニル，３，３’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジアミノビフェニル、２，６−ジアミノナフタレン、１，４−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノナフタレン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチル−エチリデン）］ビスアニリン、４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチル−エチリデン）］ビスアニリン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、９，９’−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、ｏ−トリジンスルホン、２，３，５，６−テトラメチル−１，４−フェニレンジアミン、３，３’，５，５’−テトラメチルベンジジン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン等が挙げられる。また、３価以上の脂肪族アミンとしては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等が挙げられ、また、３価以上の芳香族アミンとしては、１，３，５−トリアジン、メラミン、シアヌル酸等が挙げられる。

このような多価アミンの中でも、重合体を硬化させた後の硬化物の耐熱性の観点からは、芳香族ジアミン、３価以上の芳香族ジアミン、脂環式ジアミンが好ましく、３価以上の芳香族ジアミンが特に好ましい。このような多価アミンは、１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。また、このような多価アミンとしては、式：ＨＮ−Ｘ^６−ＮＨで表される化合物（式中のＸ^６は式（１）中のＸ^６と同義（好ましくは２価の有機基）である）を利用することが好ましい。また、このような多価アミンは、１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。

また、前記重合体（Ｉ）としては、溶剤可溶性の観点からは、前記化合物Ａ（前記テトラカルボン酸無水物）と前記多価アルコールとの重合物（ポリエステル）であることが好ましい。

また、上記一般式（１）で表される構造単位を有する重合体を、上記一般式（１１）〜（１３）で表されるテトラカルボン酸無水物の中から選択される少なくとも１種の化合物Ａと、多価アルコール及び多価アミンの中から選択される少なくとも１種の化合物Ｂとの重合物（Ｉ）とする場合、その重合方法は特に制限されず、前記化合物Ａ（前記テトラカルボン酸無水物）中の酸無水物基を、前記化合物Ｂ（多価アルコール及び／又は多価アミン）と反応させて、化合物Ａの酸無水物基を開環重合させることが可能となるように、用いる化合物Ａ及びＢの種類に応じて反応条件を適宜設定して重合すればよい。なお、式：ＨＯ−Ｘ^６−ＯＨで表される化合物を利用した場合の反応を反応式（Ｉ）に示し及び多価アミンとして式：Ｈ_２Ｎ−Ｘ^６−ＮＨ_２で表される化合物を利用した場合の反応を反応式（ＩＩ）に示す。なお、下記の反応式（Ｉ）及び（ＩＩ）中の^１、Ｘ^６はそれぞれ上記一般式（１）中のＸ^１、Ｘ^６と同義である。

また、前記重合物（Ｉ）を製造する際には、酸無水物基と多価アルコールとを反応させて重合物（ポリエステル）を製造することが可能な公知の方法において採用されている条件や、酸無水物基と多価アミンとを反応させて重合物（ポリアミック酸）を製造することが可能な公知の方法において採用されている条件を適宜採用できる。例えば、前記化合物Ａ及びＢを溶解可能な有機溶媒中において、反応温度０〜１５０℃の温度条件で重合する方法が挙げられる。

このような有機溶媒としては、特に制限されず、ポリエステルやポリアミック酸の製造に利用することが可能な公知の溶媒を適宜用いることができる。このような有機溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、プロピレンカーボネート、テトラメチル尿素、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ピリジンなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒；テトラハイドロフラン、ジオキサン、セロソルブ、グライムなどのエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート系溶媒；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル系溶媒；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン系溶媒；プロピレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート等のジアセテート系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル系溶媒；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等のエステル系溶媒；が挙げられる。このような有機溶媒の中でも重合体の溶解性の観点から、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。

また、重合物（Ｉ）の調製工程においては、反応させる成分や反応系等に応じて触媒（例えばテトラブチルアンモニムブロミドなどの４級アンモニウム塩等）を適宜利用してもよい。さらに、このような重合物（Ｉ）の調製工程においては、テトラカルボン酸無水物と、多価アルコール及び／又は多価アミンとを反応させることが可能な公知の方法において採用している各種条件を適宜採用することができる。

なお、重合物（Ｉ）の調製工程においては、化合物Ａ及びＢとともに、水酸基含有（メタ）アクリレートを混合して反応させることにより、重合物（Ｉ）の末端にエチレン性不飽和結合を有する基を導入してもよい。このように、化合物Ａ及びＢとともに水酸基含有（メタ）アクリレートを混合して反応させることにより、重合物の末端に（メタ）アクリレートを導入可能である。なお、このような水酸基含有（メタ）アクリレートは１価であるため、いわゆる反応希釈剤として作用させることも可能である。このような水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシ−アルキル（メタ）アクリレート（より好ましくは２−ヒドロキシ−Ｃ_２−６アルキル（メタ）アクリレート：例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等）、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンポリオールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンポリオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。このような水酸基含有（メタ）アクリレートは１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。

また、重合物（Ｉ）の調製工程においては、副反応（エチレン性不飽和結合を介した重合）の防止の観点から、いわゆる重合禁止剤（ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル等）を利用してもよい。特に、水酸基含有（メタ）アクリレートを混合して反応させる場合には、重合禁止剤を利用することで、前記副反応を抑制することが可能となり、所望の重合反応のみを選択的に進行させることが可能となる。

このような重合体（Ｉ）を製造する際の化合物Ａと化合物Ｂの使用量は目的の設計に応じて適宜変更することができ、特に制限されないが、化合物Ａの酸無水物基の総数に対して、化合物Ｂ（水酸基含有（メタ）アクリレートを使用する場合は、それを含む）中の反応に関与する官能基（水酸基又はアミノ基）の総数が０．８：１．０〜１．２：１．０（より好ましくは０．９：１．０〜１．０：０．９）となるようにして用いることが好ましい。このような化合物Ｂの使用量が前記下限未満では重合度が低下し、現像後の硬化物の物性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると同様に、重合体の重合度が低下し、現像後の硬化物の物性が低下する傾向にある。

また、重合体（Ｉ）のカルボキシ基に対して反応する官能基（より好ましくはエポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基等）を含有しかつ構造中にエチレン性不飽和結合を有する化合物を、前記重合体（Ｉ）を得た後に反応させることで、重合体（Ｉ）の側鎖にエチレン性不飽和結合を導入した重合物とすることもできる（その好適な対応としては、例えば、下記重合物（ＩＩ）が挙げられる）。

〈重合物（ＩＩ）〉
本発明の重合体として好適な重合物（ＩＩ）は、前記重合物（Ｉ）とエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物との反応物である。

このような反応物においては、前記重合物（Ｉ）の構造単位中のカルボキシ基（式：−ＣＯＯＨ）と、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物中のエポキシ基との反応により、構造単位中にエチレン性不飽和結合を有する基が導入されている。すなわち、このような反応物は、上記一般式（１）で表され、かつ、Ｘ^２及び／又はＸ^３がエチレン性不飽和結合を有する基である構造単位を有する重合体である。なお、利用するエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物を適宜選択することで、かかる重合体を、Ｘ^２及び／又はＸ^３が上記一般式（５）で表される基（エチレン性不飽和結合を有する基）である上記一般式（１）で表される構造単位を有する重合体とすることもできる。

このようなエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物としては特に制限されず、前記重合物（Ｉ）の構造単位中のカルボキシ基と反応することが可能なエポキシ基とエチレン性不飽和結合部位とを有する化合物であればよく、公知の材料を適宜利用することができる。このようなエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、２−メチルグリシジルアクリレート、３，４−エポキシブチルアクリレート、６，７−エポキシヘプチルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のアクリル酸エポキシアルキルエステル類；グリシジルメタクリレート、２−メチルグリシジルメタクリレート、３，４−エポキシブチルメタクリレート、６，７−エポキシヘプチルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イソクロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリルグリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシエステル類；ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類；３−〔（メタ）クリロイルオキシメチル〕オキセタン、３−〔（メタ）クリロイルオキシメチル〕−３−エチルオキセタン、３−〔（メタ）クリロイルオキシメチル〕−２−トリフルオロメチルオキセタン、３−〔（メタ）クリロイルオキシメチル〕−２−フェニルオキセタン、２−〔（メタ）クリロイルオキシメチル〕オキセタン、２−〔（メタ）クリロイルオキシメチル〕−４−トリフルオロメチルオキセタン等のオキセタニル基含有エチレン性不飽和化合物セタン類を挙げることができる。このようなエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物としてはグリシジルアクリレート、２−メチルグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−メチルグリシジルメタクリレートがより好ましい。このようなエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物は１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。

また、エチレン性不飽和結合基含有エポキシ化合物の使用量は、前記重合物（Ｉ）中のカルボキシ基（式：−ＣＯＯＨ）１個に対して、エチレン性不飽和結合基含有エポキシ化合物中のエポキシ基の数が０．８〜１．２個（０．８〜１．２当量）（より好ましくは０．８５〜１．１個（０．８５〜１．１当量））となるように調整することが好ましい。

なお、このような重合物（ＩＩ）を製造するための方法は特に制限されず、前記重合物（Ｉ）とエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物とを反応させることが可能な方法（前記重合物（Ｉ）の構造単位中のカルボキシ基（式：−ＣＯＯＨ）と、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物中のエポキシ基とを反応させることが可能な方法）を適宜採用することができる。このような方法について、上記反応式（Ｉ）及び（ＩＩ）に記載の反応後に形成される構造単位を例に検討すると、各構造単位中に形成されている２つのカルボキシ基中の少なくとも１つと、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物中のエポキシ基とを反応させることが可能となるように反応条件を適宜選択すればよく、例えば、有機溶媒中において、前記重合物（Ｉ）とエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物とを、６０〜１５０℃の温度条件下で反応させる方法を採用してもよい。また、このような反応により、得られる重合体においては、少なくとも側鎖にエチレン性不飽和結合を有する基が導入されるとともに、エポキシ基とカルボキシ基との反応により形成される水酸基が、その側鎖に導入されることとなる。

〈重合物（ＩＩＩ）〉
本発明の重合体として好適な重合物（ＩＩＩ）は、重合物（ＩＩ）と無水カルボン酸化合物との反応物である。

このような無水カルボン酸化合物としては特に制限されないが、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリト酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ドデカニルコハク酸、無水アジピン酸等の環状無水カルボン酸が好ましい。また、このような環状無水カルボン酸としては、炭素数が２〜１２のものが好ましく、４〜８のものがより好ましい。このような無水カルボン酸化合物は１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。

このような重合物（ＩＩ）と無水カルボン酸化合物との反応物に関して、重合物（ＩＩ）として、Ｘ^２及び／又はＸ^３が上記一般式（５）で表される基である上記一般式（１）で表される構造単位（なお、かかる一般式（５）中のＲ^７は水素原子である）を有するものを選択し、かつ、無水カルボン酸化合物として、上記環状無水カルボン酸を選択した場合には、Ｘ^２及び／又はＸ^３が上記一般式（６）で表される基（エチレン性不飽和結合を有する基）である上記一般式（１）で表される構造単位を有する重合体とすることも可能である。

このような無水カルボン酸化合物の使用量は、前記重合物（ＩＩ）の製造時に利用した前記エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物のエポキシ基１個に対して、環状無水カルボン酸中の酸無水物基が０．３〜１．２個（０．３〜１．２当量）（更に好ましくは０．４〜０．７個（０．４〜０．７当量））となるように調整することが好ましい。

このような反応物を製造するための方法は特に制限されず、上記重合体（ＩＩ）の側鎖に導入されている水酸基と、無水カルボン酸化合物の無水カルボン酸基とを反応させることが可能な条件を適宜採用すればよい。例えば、有機溶媒中において、前記重合物（ＩＩ）と無水カルボン酸化合物とを、３０〜１２０℃の温度条件下で反応させる方法を採用してもよい。

さらに、本発明の重合体としては、上記一般式（１）で表される構造単位（繰り返し単位）を、重合体中に含有される全構造単位を基準として、モル比で５０〜１００モル％含有するものが好ましく、７０〜１００モル％含有するものが更に好ましい。このようなモル比が前記下限未満では露光時の硬化反応が十分に進まず、硬化物の物性が低下する傾向にある。

また、本発明の重合体としては、上記一般式（５）で表される基を含有する上記一般式（１）で表される構造単位の量が、重合体中の上記一般式（１）で表される構造単位の全量に対して、モル比で５０〜１００モル％であることが好ましく、７５〜１００モル％であることがより好ましい。このような上記一般式（１）で表される構造単位の総量に対する上記一般式（５）で表される基を含有す構造単位の割合が前記下限未満では露光時の硬化反応が十分に進まず、硬化物の物性が低下する傾向にある。

また、本発明の重合体としては、上記一般式（５）で表される基を含有し、少なくともその一部が上記一般式（６）で表される基である場合、上記一般式（５）で表される基の総量に対して上記一般式（６）で表される基をモル比で５０〜１００モル％含有することが好ましく、７５〜１００モル％含有することがより好ましい。このような上記一般式（６）で表される基の含有割合が前記下限未満では露光時の硬化反応が十分に進まず、硬化物の物性が低下する傾向にある。

さらに、本発明の重合体としては、前記Ｘ^２、前記Ｘ^３、及び前記重合体の末端の基からなる群から選択される少なくとも１つがエチレン性不飽和結合を有する基である重合体がより好ましい。このように、本発明の重合体としては、前記構造単位の側鎖のＸ^２に該当する部分、前記構造単位の側鎖の前記Ｘ^３に該当する部分、及び、重合体の末端の部分からなる少なくとも１つの部分に、エチレン性不飽和結合を有する基が導入されていることが好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基が導入された重合体においては、感光性樹脂組成物の原料として好適に利用することが可能である。なお、以下において、本発明の重合体の中でも、前記Ｘ^２、前記Ｘ^３、及び前記重合体の末端の基からなる群から選択される少なくとも１つがエチレン性不飽和結合を有する基である重合体を、便宜上、「感光性化合物」と称する。

なお、本発明の重合体の製造方法は特に制限されず、上記化合物Ａ（前記テトラカルボン酸二無水物）を利用して、上記一般式（１）で表される構造単位が形成されるように、前記多価アルコール、前記多価アミン、前記プレポリマー等を適宜反応させればよく、その反応条件（各成分の使用量、反応温度、反応時の雰囲気、圧力等）は、公知のポリエステルの製造方法や公知のポリアミック酸の製造方法において採用されている条件の中から、用いる化合物の種類に応じて適宜設定すればよい。このように、本発明の重合体の製造方法は特に制限されず、酸二無水物として上記化合物Ａを利用する点以外は、基本的に、公知の方法と同様の条件等を採用して製造することができ、例えば、特開２０１２−４７９０３号公報、特開平１０−２７３５２５号公報に記載されているポリエステルの製造方法（製造条件）や、国際公開第２０１１／０９９５１８号、国際公開第２０１５／１６３３１４号に記載されているポリアミック酸（ポリアミド酸）の製造方法（製造条件）等を参照して、最適な反応条件を適宜設定しながら製造することができる。

［感光性組成物］
本発明の感光性組成物は、上記＜２＞に記載の重合体（感光性化合物）と光重合開始剤とを含有することを特徴とするものである。

このような感光性組成物（感光性樹脂組成物）が含有する重合体は、上記一般式（１）で表される構造単位を有する重合体であり、かつ、前記Ｘ^２、前記Ｘ^３、及び該重合体の末端の基からなる群から選択される少なくとも１つがエチレン性不飽和結合を有する基である重合体である。このようなエチレン性不飽和結合により感光性を発現することが可能となるためである。

また、本発明に用いることが可能な光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線等の露光により、上記感光性化合物中のエチレン性不飽和結合基による重合を開始し得る活性種を発生する化合物であればよく、特に制限されず、例えば、露光によりプロトン酸又はルイス酸を発生する光カチオン重合開始剤、又は、露光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤のいずれであってもよいし、これらを併用してもよい。

このような光重合開始剤としては、特に制限されず、公知のものを適宜利用できる。このような光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。また、このような光重合開始剤としては、反応性の観点から、チオキサントン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物が好ましい。

このような光重合開始剤として好適なチオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等を挙げることができる。また、前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等を挙げることができる。また、前記ビイミダゾール系化合物としては、例えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。さらに、前記トリアジン系化合物としては、例えば、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。また、前記Ｏ−アシルオキシム系化合物としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、Ｏ−（アセチル）−Ｎ−（１−フェニル−２−オキソ−２−（４’−メトキシ−ナフチル）エチリデン）ヒドロキシルアミン、エタノン，１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。なお、このような光重合開始剤としては、市販品を適宜利用することができる。さらに、このような光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよいし、あるいは、２種以上を併用してもよい。

また、前記光重合開始剤として、特にビイミダゾール系化合物を用いる場合、感度をより向上させるといった観点から、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して水素原子を供与することが可能な成分（以下、単に「水素供与体」と称する）を併用することが好ましい。このような水素供与体としては、例えば、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール等のメルカプタン系水素供与体；４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等のアミン系水素供与体；等を挙げることができる。このような水素供与体は、１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。なお、前記水素供与体としては、感度をより向上させるといった観点からは、１種以上のメルカプタン系水素供与体と、１種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することがより好ましい。

光重合開始剤は増感剤を併用することができる。このような増感剤は、露光により励起状態となり、光重合開始剤と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸などを発生することが可能なものが好適に利用される。このような増感剤としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン等を挙げることができる。

このような光重合開始剤の含有量としては特に制限されるものではないが、上記感光性化合物（上記＜２＞に記載の重合体）１００質量部に対して、１〜２０質量部とすることが好ましく、５〜１０質量部とすることがより好ましい。このような光重合開始剤の含有量が前記下限未満では露光時に硬化が不十分となり、硬化物の物性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると現像時に不具合が生じ、良好なパターンが得られない傾向にある。

また、前記増感剤を併用する場合、前記増感剤の含有量としては特に制限されるものではないが、上記感光性化合物（上記＜２＞に記載の重合体）１００質量部に対して、１〜２０質量部とすることが好ましく、５〜１０質量部とすることがより好ましい。このような光重合開始剤の含有量が前記下限未満では露光時に硬化が不十分となり、硬化物の物性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると現像時に不具合が生じ、良好なパターンが得られない傾向にある。

本発明の感光性組成物においては、着色剤を更に含有することが好ましい。すなわち、本発明の感光性組成物としては、前記感光性化合物（上記＜２＞に記載の重合体）と、前記光重合開始剤と、前記着色剤とを含有する感光性組成物（上記＜４＞に記載の感光性組成物と同様のもの：以下、場合により「着色剤含有感光性組成物」と称する）が好ましい。このような着色剤を含有させた着色剤含有感光性組成物は、これを用いることで後述するカラーフィルタを効率よく製造することが可能であり、かかる感光性組成物に含有させた着色剤に応じた色を得られるフィルタ等に付与することができる。

このような着色剤としては、着色性を有すればよく、特に限定されるものではなく、カラーフィルタ、ブラックマトリックス等といった用途に応じて、その色や材質等を適宜選択すればよい。このような着色剤としては、例えば、有機顔料、無機顔料等の顔料；染料；天然色素等を利用することができる。

このような有機顔料としては、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ ＤｙｅＸｓ ａｎｄ ＣｏｌｏｕＸｉｓｔｓ社発行）においてピグメントに分類されている化合物（下記（Ｃ．Ｉ．）名が付されている化合物）を適宜利用できる。
〈有機顔料として利用し得る化合物〉
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２１１；Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７０、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７４；Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２７２；Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３８；Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー８０；Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７。

また、前記無機顔料としては特に制限されず、公知のもの（例えば、硫酸バリウム、酸化チタン、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄（ＩＩＩ））、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等が挙げられる。

また、前記染料としては、例えば、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）名が付されている化合物を挙げることができる。
〈染料として利用し得る化合物〉
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド３７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８０、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー２９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド２８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ２６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン５９、Ｃ．Ｉ．リアクティブイエロー２、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１７、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１２０、Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック５、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５８、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー１６５、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー４１、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１８、Ｃ．Ｉ．モルダントレッド７、Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー５、Ｃ．Ｉ．モルダントブラック７等のアゾ系染料；Ｃ．Ｉ．バットブルー４、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー４０、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン２５、Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー１９、Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー４９、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド６０、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー５６、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー６０等のアントラキノン系染料；Ｃ．Ｉ．パッドブルー５等のフタロシアニン系染料；Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー３、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー９等のキノンイミン系染料；Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー６４等のキノリン系染料；Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ３、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー４２等のニトロ系染料；ディスパースイエロー２０１等のメチン系染料。

また、前記着色剤として顔料を使用する場合、その顔料を適宜精製した後に使用してもよく、その精製方法としては例えば再結晶法、再沈殿法、溶剤洗浄法、昇華法、真空加熱法又はこれらの組み合わせが挙げられる。また、顔料は、所望により、その粒子表面を樹脂で改質して使用することもできる。このような顔料の粒子表面を改質する樹脂としては、公知のものを適宜利用でき、市販品（各種の顔料分散用の樹脂）を適宜利用してもよい。また、前記着色剤としてカーボンブラックの表面を樹脂で被覆したものを利用してもよく、その被覆方法としては特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。さらに、前記有機顔料は、いわゆるソルトミリング法により、一次粒子を微細化して使用することが好ましい。このようなソルトミリング法としても特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。

また、本発明の感光性組成物として好適な前記着色剤含有感光性組成物としては、画素の形成に用いる場合、形成される画素に高精細な発色が要求されることから、前記着色剤として発色性の高い着色剤を含有するものが好ましい。このように画素の形成に用いる場合には、前記着色剤含有感光性組成物中の前記着色剤としては有機顔料を用いることがより好ましい。一方、本発明の感光性組成物として好適な前記着色剤含有感光性組成物をブラックマトリックスの形成に用いる場合、遮光性が要求されることから、前記着色剤として有機顔料又はカーボンブラックを用いることがより好ましい。また、このような着色剤は、１種を単独で、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することができる。

このような着色剤の含有量は特に制限されるものではないが、上記感光性化合物（上記＜２＞に記載の重合体）１００質量部に対して、５０〜２００質量部とすることが好ましく、７５〜１５０質量部とすることがより好ましい。このような着色剤の含有量が前記下限未満では着色剤としての機能を十分に発現できず、カラーフィルターの色彩が十分なものではなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色剤の分散性が十分でなくなり、カラーフィルターの色彩が十分なものではなくなる傾向にある。

また、本発明の感光性組成物においては、前記着色剤を含有させる場合、組成物中により均一に着色剤を分散させるために、分散剤や分散助剤を更に含有させてもよい。このような分散剤としては、カチオン系のものであっても、アニオン系のものであっても、ノニオン系のものであってもよい。また、このような分散剤としては、カラーフィルタを形成した際に色調がより安定するといった観点から、アクリル系共重合体、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン等のポリマー分散剤が好ましい。このような分散剤は、１種を単独で、あるいは、２種以上を混合して使用することができる。また、このような分散剤は市販のものを適宜利用してもよい。このような市販の分散剤としては、例えば、前記アクリル系共重合体として、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−２０００、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−２００１、ＢＹＫ−ＬＰＮ６９１９、ＢＹＫ−ＬＰＮ２１１１６、ＢＹＫ−ＬＰＮ２１３２４（以上、ビックケミー（ＢＹＫ）社製）；前記ポリウレタンとして、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−１６１、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−１６２、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−１６５、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−１６７、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−１７０、ＤｉｓｐｅＸｂｙｋ−１８２（以上、ビックケミー（ＢＹＫ）社製）、ソルスパース７６５００、ソルスパース３７５００（以上、ルーブリゾール（株）社製）；前記ポリエチレンイミンとして、ソルスパース２４０００（ルーブリゾール（株）社製）；前記ポリエステルとして、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＢ８８０（以上、味の素ファインテクノ株式会社製）；等を適宜利用できる。

このような分散剤の含有量は特に制限されるものではないが、上記着色剤１００質量部に対して、１０〜５０質量部とすることが好ましく、２５〜４０質量部とすることがより好ましい。このような分散剤の含有量が前記下限未満では着色剤の分散性が十分でなくなり、カラーフィルターの色彩が十分なものではなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると現像時に不具合が生じ、良好なパターン形成ができにくい傾向にある。なお、前記分散助剤としては、例えば、顔料誘導体が挙げられる。このような、顔料誘導体としては、例えば、銅フタロシアニン、ジケトピロロピロール、キノフタロンのスルホン酸誘導体、等を適宜利用できる。なお、このような分散助剤の含有量は特に制限されず、本発明の効果を損なわない範囲で適宜利用すればよい。

また、本発明の感光性組成物は、塗膜の形成時の作業性の向上などの観点から、有機溶媒を更に含有することが好ましい。このような有機溶媒としては、他の成分を分散又は溶解することが可能でありながら、これらの成分とは反応しないものであって、適度の揮発性を有するものを好適に利用することができる。このような有機溶媒としては、公知の有機溶媒の中から好適な溶媒を、感光性組成物中に含有させる成分に応じて適宜選択して利用すればよい。このような有機溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；プロピレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート等のジアセテート類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド又はラクタム類；等を挙げることができる。

このような有機溶媒の中でも、重合体に対する溶解力の観点からは、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類が好ましい。また、上記着色剤を含有させる場合には、その分散性の観点から、前記有機溶媒の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸エチルを用いることが好ましい。

本発明の感光性組成物においては、前記有機溶媒を含有させる場合、感光性組成物の総量に対して、有機溶媒の含有量が５０〜８０質量％であることが好ましく、５０〜７０質量％であることがより好ましい。このような有機溶媒の含有量が前記下限未満では重合体等を十分に溶解させることができず、結果として現像後に、良好なパターン形成を行うことが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合体等の濃度が低すぎるため、均一な塗膜を得られにくく、結果として現像後に、良好なパターン形成を行うことが困難となる傾向にある。

また、本発明の感光性組成物においては、本発明の効果を損なわない範囲で、他の高分子化合物（例えば、カルボキシル基を有する重合体、いわゆるバインダー樹脂等）、２個以上の重合可能な基（エチレン性不飽和基、オキシラニル基、オキセタニル基、Ｎ−アルコキシメチルアミノ基等）を有する単量体（多官能性の単量体）、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、各種充填剤等の各種添加剤を適宜利用できる。

なお、このような他の高分子化合物としては、例えば、本発明にかかる重合体以外のカルボキシル基を有する重合体、ポリビニルアルコール類、ポリ（フロオロアルキルアクリレート）類が挙げられる。このようなカルボキシル基を有する重合体（樹脂）としては、例えば、ラジカル反応の開始剤（例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等）を用いて、有機溶媒の存在下、カルボキシル基を有しかつラジカル重合が可能なモノマーを含む単量体成分（場合により該モノマー以外のラジカル重合が可能なモノマー（例えば、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド等）を含んでいていもよい）を重合させて得られるものを適宜利用できる。このような単量体成分は、所望の設計に応じて適宜選択でき、例えば、メタクリル酸、ベンジルメタクリレート、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、グリセロールメタクリレート及びω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレートの混合物等としてもよい。なお、このようなカルボキシル基を有する重合体（樹脂）としては、感光性組成物に利用される公知のもの（例えば、特開２０１２−４７９０３号公報に記載されているカルボキシル基を有する重合体等）を適宜利用することができる。

また、２個以上の重合可能な基を有する単量体（多官能性の単量体）としては、例えば、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と（メタ）アクリル酸を反応させて得られる（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性された多官能（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性された多官能（メタ）アクリレート、水酸基を有する（メタ）アクリレートと多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタン（メタ）アクリレート、水酸基を有する（メタ）アクリレートと酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基を有する多官能（メタ）アクリレート等の２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物；メラミン構造、ベンゾグアナミン構造、ウレア構造を有する化合物（Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサ（アルコキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（アルコキシメチル）ベンゾグアナミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラ（アルコキシメチル）グリコールウリル等）からなる２個以上のＮ−アルコキシメチルアミノ基を有する化合物；等が挙げられる。このような２個以上の重合可能な基を有する単量体としては、（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性された多官能（メタ）アクリレート、水酸基を有する（メタ）アクリレートと多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。

また、前記界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤等が挙げられ、また、前記密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。さらに、前記酸化防止剤としては、例えば、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等が挙げられ、前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類、ポリアクリル酸ナトリウム等が挙げられ、前記充填剤としては例えばガラス、アルミナ等が挙げられ、その他の添加剤（例えばの残渣の改善等を目的とする添加剤等）としては、例えば、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸、２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、５−アミノ−１−ペンタノール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール等が挙げられる。

このような添加剤（他の高分子化合物等）を用いる場合、その含有量としては、上記感光性化合物（上記＜２＞に記載の重合体）１００質量部に対して、５０〜２００質量部とすることが好ましく、８０〜１５０質量部とすることがより好ましい。このような含有量が前記下限未満ではアルカリ現像性が悪くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると現像後の硬化物の耐熱性が低下する傾向にある。

また、このような感光性組成物を製造するための方法は、特に制限されず、感光性の化合物として上記＜２＞に記載の重合体（感光性化合物）を利用する以外は公知の方法を適宜採用でき、例えば、上記＜２＞に記載の重合体（感光性化合物）と光重合開始剤とを、必要に応じて加えられる他の成分（例えば、有機溶媒や着色剤、添加剤等）とともに混合することにより調製することができる。

［パターン形成方法］
本発明のパターン形成方法は、上記本発明の感光性組成物からなる膜に対してフォトマスクを介して光を照射し、現像することによりパターンを形成することを特徴とする方法である。

このようなパターン形成方法においては、先ず、上記本発明の感光性組成物からなる膜に対してフォトマスクを介して光を照射する。このような膜の形成方法は特に制限されないが、各種基板上に前記感光性組成物を塗布して塗膜を形成する方法を採用することが好ましい。なお、ここにおいて、塗膜を形成する際の作業性の向上等といった観点から、上記本発明の感光性組成物としては、有機溶媒を更に含むものを利用することが好ましい。

また、このような塗膜を形成する際に利用し得る基板としては、特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ＳｉＯ_２処理ガラス、ＩＴＯ着きガラス等のガラス類、ポリエステル系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリプロピレンフィルム等の各種プラスチックフィルム類及び板、各種金属基板、金属を積層したプラスチック板及びプラスチックフィルム、メッシュ、シリコンウエハー等が例示される。

本発明の感光性組成物の塗布方法としては、特に制限されず、公知の方法（例えば、回転塗布法、カーテンコート法、アプリケーター法、等）を適宜利用することができる。また、このようにして塗膜を形成した後においては、例えば、前記感光性組成物が有機溶媒を含む場合には、所定の温度で有機溶媒を除去する工程を更に含むことが好ましい。なお、このような有機溶媒を除去する工程としては、有機溶媒の種類等に応じて、その除去が可能となるような条件を適宜採用すればよい。

本発明のパターン形成方法において用いるフォトマスクとしては特に制限されず、所望のパターンを形成させるために、光照射の際に前記感光性組成物からなる膜に光の照射領域と未照射の領域を形成することが可能となるような所望の形状のもの及び種々の材質のものを適宜利用できる。

また、光の照射（パターン露光）のために用いられる露光光源としては、特に制限されず、感光性組成物中の感光性化合物が感光して反応させることが可能となるような波長を有するものであればよく、公知の光源の中から、組成物中の成分の種類に応じて公知の様々な光源を適宜利用できる。また、このような露光光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ等が挙げられる。また、光の照射（パターン露光）の際に採用し得る露光方式としても特に制限されず、公知の露光方式（例えば、縮小投影露光法、コンタクト露光法、プルキシミティー露光法等）を適宜利用することが可能である。

また、本発明においては、前記膜に対してフォトマスクを介して光を照射した後に現像することによりパターンを形成する。

このような現像工程としては、公知の方法（例えば、露光後の膜の硬化部分に存在する成分を除去する方法（いわゆるポジ型レジスト）、露光後の膜の未硬化部分に存在する成分を除去する方法（いわゆるネガ型レジスト））を適宜採用できる。また、このような現像工程においては、いわゆる現像液を利用した現像方法を採用することが好ましい。このような現像液としては、ポ硬化部分に存在する成分、又は、未硬化部分に存在する成分を除去することが可能なものであればよく、特に制限されず、例えば、水、水と水溶性溶媒の混合溶媒、有機溶媒等の溶媒に対して酸、アルカリ、ｐＨ調整剤、界面活性剤等を適宜溶解した水溶液等を、除去する成分に応じて適宜調製して利用することができる。なお、このような現像液を用いる現像の方法は、公知の方法を適宜採用でき、例えば、スプレー現像、デッピング現像、パドル現像等の方法を適宜利用できる。また、このような現像の際の条件は特に制限されず、公知の条件を適宜採用できる。また、現像後においては膜の更なる硬化等といった観点から、加熱処理（いわゆるポストベーク）等を適宜行なってもよい。このような各処理の条件は特に制限されず、膜の成分に応じて条件を適宜設定すればよい。

このような本発明のパターン形成方法は、特に、後述のような、カラーフィルタを形成するための方法等として好適に利用することができる。また、この場合には、例えば、上記本発明の感光性組成物を着色剤（好ましくは有機顔料）を含むものとし、所定のパターンのマスクを介して光を照射（露光）した後、現像することによってパターン（露光した部分のみが残って所定のパターンとなる）を形成してもよい。また、カラーフィルタを形成する場合、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３種類の着色剤をそれぞれ別々に用いた上記本発明の感光性組成物を準備して、前記工程を３回繰り返すことにより、カラーフィルタを完成させてもよい。

以上、本発明のパターン形成方法について説明したが、以下、本発明のカラーフィルタについて説明する。

［カラーフィルタ］
本発明のカラーフィルタは、上記着色剤含有感光性組成物（上記＜４＞に記載の感光性組成物：上記＜２＞に記載の重合体と、前記光重合開始剤と、前記着色剤とを含有する感光性組成物）の硬化物からなる着色層を備えることを特徴とするものである。

このような硬化物を形成する着色剤含有感光性組成物は、上記本発明の感光性組成物において説明したものと同様のものである。また、このような着色層の形成方法としては特に制限されないが、例えば、赤色の顔料が分散された感光性組成物（Ｒ）、緑色の顔料が分散された感光性組成物（Ｇ）、青色の顔料が分散された感光性組成物（Ｂ）をそれぞれ準備し、赤色、緑色及び青色のパターン（いわゆる画素パターン）を同一基板上に順次形成することによって製造してもよい。なお、各色の画素パターンの形成順は任意に選択することができる。また、このような本発明のカラーフィルタにおいて、着色層以外の他の構成物は特に制限されず、公知のカラーフィルタと同様のものを適宜利用することができる。

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（合成例１）
国際公開第２０１１／０９９５１８号の合成例１、実施例１及び実施例２に記載された方法に準拠して、下記一般式（Ａ）：

で表されるテトラカルボン酸二無水物を合成した。以下、場合により、上記一般式（Ａ）で表されるテトラカルボン酸二無水物を、単に「ＣｐＯＤＡ」と称する。

（合成例２）
国際公開第２０１５／１６３３１４号の実施例１に記載された方法に準拠して、下記一般式（Ｂ）：

で表されるテトラカルボン酸二無水物を調製した。以下、場合により、上記一般式（Ｂ）で表されるテトラカルボン酸二無水物を、単に「ＢｚＤＡ」と称する。

（合成例３）
国際公開第２０１７／０３００１９号の実施例１〜２に記載された方法に準拠して、下記一般式（Ｃ）：

で表されるテトラカルボン酸二無水物を調製した。以下、場合により、上記一般式（Ｃ）で表されるテトラカルボン酸二無水物を、単に「ＢＮＢＤＡ」と称する。

（実施例１）
撹拌機を備えた反応容器に、ＣｐＯＤＡ（合成例１）を１００質量部、トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）を１２質量部、ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）を３４質量部、ヒドロキノンモノメチルエーテルを３質量部、テトラブチルアンモニムブロミドを５質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を４００質量部入れた後、６０℃で８時間加熱した。次いで、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）を６７質量部入れ、１００℃で８時間加熱した。その後、反応容器に水を２１０質量部入れ、室温で攪拌して、水層を除去した。その後、減圧下でＰＧＭＥＡを留去し、ポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を得た。なお、このようなポリエステルを含む溶液の調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＴＭＰ中の水酸基とＨＥＭＡ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＴＭＰ及びＨＥＭＰを利用し、かつ、ＣｐＯＤＡとＴＭＰ及びＨＥＭＰとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。なお、表１中に記載の単位「部」は質量部を示す。

（実施例２）
ＨＥＭＡを使用せず、ＴＭＰの使用量を１２質量部から２４質量部とした以外は、実施例１と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＴＭＰ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＴＭＰを利用し、かつ、ＣｐＯＤＡとＴＭＰとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例３）
撹拌機を備えた反応容器に、ＣｐＯＤＡを１００質量部、ＴＭＰを１２質量部、ＨＥＭＡを３４質量部、ヒドロキノンモノメチルエーテルを３質量部、テトラブチルアンモニムブロミドを５質量部、ＰＧＭＥＡを４００質量部入れた後、６０℃で８時間加熱した。次いで、ＧＭＡを６７質量部入れ、１００℃で８時間加熱した。次いで、無水コハク酸を２４質量部入れ、１００℃で８時間加熱した。その後、反応容器に水を２５０質量部入れ、室温で攪拌して、水層を除去した。その後、減圧下でＰＧＭＥＡを留去し、ポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を得た。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＴＭＰ中の水酸基とＨＥＭＡ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＴＭＰ及びＨＥＭＰを利用し、ＣｐＯＤＡとＴＭＰ及びＨＥＭＰとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用し、かつ、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対して無水コハク酸中の酸無水物基が０．５当量となる割合で無水コハク酸を利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例４）
ＨＥＭＡを使用せず、ＴＭＰの使用量を１２質量部から２４質量部とした以外は、実施例３と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＴＭＰ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＴＭＰを利用し、かつ、ＣｐＯＤＡとＴＭＰとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例５）
無水コハク酸を２４質量部使用する代わりに、テトラヒドロフタル酸無水物（ＴＨＰＡ）を３６質量部使用した以外は、実施例３と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対してＴＨＰＡ中の酸無水物基が０．５当量となる割合でＴＨＰＡを利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例６）
ＨＥＭＡを使用せず、ＴＭＰの使用量を１２質量部から２４質量部とした以外は、実施例５と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＴＭＰ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＴＭＰを利用し、ＣｐＯＤＡとＴＭＰとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用し、かつ、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対してＴＨＰＡ中の酸無水物基が０．５当量となる割合でＴＨＰＡを利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例７）
ＴＭＰを１２質量部使用する代わりに、ペンタエリスリトール（ＰＥ）を９質量部使用した以外は、実施例３と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＰＥ中の水酸基とＨＥＭＡ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＰＥ及びＨＥＭＰを利用しており、ＣｐＯＤＡとＰＥ及びＨＥＭＰとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用しており、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対して無水コハク酸中の酸無水物基が０．５当量となる割合で無水コハク酸を利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例８）
ＴＭＰを１２質量部使用する代わりに、ＰＥを１８質量部使用した以外は、実施例４と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＰＥ中の水酸基の総数が１：１となる割合でＰＥを利用し、ＣｐＯＤＡとＰＥとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用し、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対して無水コハク酸中の酸無水物基が０．５当量となる割合で無水コハク酸を利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例９）
撹拌機を備えた反応容器に、ＣｐＯＤＡを１００質量部、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を４００質量部入れて混合した後、メラミンを１１質量部入れ、５０℃で３時間加熱した。次いで、ＨＥＭＡを３４質量部、ヒドロキノンモノメチルエーテルを３質量部、テトラブチルアンモニムブロミドを５質量部入れ、６０℃で８時間加熱した。次いで、ＧＭＡを６７質量部入れ、１００℃で８時間加熱した。次いで、無水コハク酸を２４質量部入れ、１００℃で８時間加熱した。その後、反応容器に水を２５０質量部入れ、室温で攪拌して、水層を除去した。その後、減圧下でＮＭＰを留去し、ポリアミック酸を含む溶液（樹脂溶液）を得た。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してメラミン中のアミノ基及びＨＥＭＡ中の水酸基の総数が１：１となる割合でメラミン及びＨＥＭＡを利用し、ＣｐＯＤＡとメラミン及びＨＥＭＡとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用し、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対して無水コハク酸中の酸無水物基が０．５当量となる割合で無水コハク酸を利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例１０）
ＨＥＭＡを使用せず、かつ、メラミンの使用量を１１質量部から２２質量部とした以外は、実施例９と同じ方法でポリアミック酸を含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してメラミン中のアミノ基の総数が１：１となる割合でメラミンを利用し、ＣｐＯＤＡとメラミンとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用し、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対して無水コハク酸中の酸無水物基が０．５当量となる割合で無水コハク酸を利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例１１）
ＴＭＰの使用量を１２質量部から６質量部に変更し、かつ、メラミンの使用量を０質量部から６質量部に変更した以外は、実施例３と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。なお、このような調製工程において、ＣｐＯＤＡ中の酸無水物基の総数に対してＴＭＰ中の水酸基とＨＥＭＡ中の水酸基とメラミン中のアミノ基との総数が１：１となる割合でＴＭＰ、メラミン及びＨＥＭＡを利用し、ＣｐＯＤＡとＴＭＰ、メラミン、ＨＥＭＡとの反応物中のカルボキシ基（ＣＯＯＨ基）の総数に対してＧＭＡ中のエポキシ基の数が０．９当量となる割合でＧＭＡを利用し、ＧＭＡのエポキシ基の総数に対して無水コハク酸中の酸無水物基が０．５当量となる割合で無水コハク酸を利用した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例１２）
ＣｐＯＤＡを１００質量部使用する代わりに、ＢｚＤＡ（合成例２）を１００質量部使用した以外は、実施例３と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例１３）
ＣｐＯＤＡを１００質量部使用する代わりに、ＢｚＤＡを１００質量部使用した以外は、実施例９と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例１４）
ＣｐＯＤＡを１００質量部使用する代わりに、ＢＮＢＤＡを（合成例３）１００質量部使用した以外は、実施例３と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（実施例１５）
ＣｐＯＤＡを１００質量部使用する代わりに、ＢＮＢＤＡを１００質量部使用した以外は、実施例９と同じ方法でポリエステルを含む溶液（樹脂溶液）を調製した。表１に反応に利用した成分の量比を示す。

（合成例４：カルボキシル基を有する重合体を含む溶液Ａの調製）
攪拌機を備えた反応容器に、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を３質量部、ＰＭＧＥＡを２００質量部、メタクリル酸を１０質量部、ベンジルメタクリレートを２５質量部、スチレンを１１質量部、Ｎ−フェニルマレイミドを２９質量部、グリセロールメタクリレートを５質量部、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレートを３０質量部及び分子量調節剤としてα−メチルスチレンダイマーを５質量部仕込んで、窒素置換した。その後、８０℃の温度条件で５時間加熱することにより、カルボキシル基を有する重合体（樹脂）を含む溶液（溶液Ａ）を得た。

（調製例１：顔料分散液の調製）
着色剤として、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を７０質量部及びＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を３０質量部、分散剤として、ビッグケミー社製の分散剤（商品名：ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１８２）を３０質量部、溶剤として、ＰＭＧＥＡを５７０質量部加え、ビーズミルにより１２時間混合及び分散して、顔料分散液Ａ１を得た。

（調製例２〜１１：顔料分散液の調製）
表２に示す各成分を、表２に示す割合で用いたこと以外は、調製例１と同様の手法にて顔料分散液Ａ２〜Ａ１１を調製した。なお、表２中に記載の単位「部」は質量部を示す。

なお、上記表２中に記載の各成分の略称を以下に示す。
Ｒ２５４ ：Ｃ．Ｉピグメントレッド２５４
Ｒ１７７ ：Ｃ ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
Ｇ３６ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６
Ｇ７ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７
Ｇ５８ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
Ｙ１３９ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
Ｙ１５０ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
Ｙ１８０ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０
Ｙ１８５ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５
Ｙ１３８ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８
Ｙ８３ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３
Ｂ１５：６ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
Ｂ１５：４ ：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４
Ｖ２３ ：Ｃ ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３。

（実施例１６）
顔料分散液（Ａ１）を７００質量部、実施例１で調製した樹脂溶液（ポリエステルを含む溶液）を８１質量部、光重合開始剤として、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２（商品名）を２質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９Ｅを６質量部、溶剤として、ＰＭＧＥＡを１００質量部、添加剤として、合成例４で調製した溶液Ａを１１０質量部、シトラコン酸を０．２５質量部、及び、界面活性剤（ＤＩＣ製の商品名：Ｆ−４７７）を０．２５質量部混合して感光性樹脂組成物を得た。

（実施例１７〜３０）
表３に示す各成分を表３に示す割合で用いたこと以外は、実施例１６と同様の手法にて感光性樹脂組成物を調製した。なお、表３中に記載の単位「部」は質量部を示す。

［実施例１６〜３０で得られた感光性樹脂組成物の特性の評価］
以下のようにして、実施例１６〜３０で得られた感光性樹脂組成物をそれぞれ用いて、画素パターンを形成し、パターン形状、残渣及び残膜率を評価した。得られた結果を表４に示す。

＜下地膜形成用組成物を調製工程＞
画素パターンを形成する際に利用する基板（６インチシリコンウェハー）の表面に、残膜評価用の下地膜を形成するための組成物（下地膜形成用組成物）を以下のようにして調製した。すなわち、先ず、フラスコ内を窒素置換した後、ＡＩＢＮを０．６質量部溶解したメチル−３−メトキシプロピオネート溶液を２００質量部仕込んだ。引き続きターシャリーブチルメタクリレートを３７．５質量部、グリシジルメタクリレートを６２．５質量部仕込んだ後、撹拌し、７０℃にて６時間加熱した。室温まで冷却し、ポリマーを含有する樹脂溶液を得た。次いで、得られた樹脂溶液３３．３質量部（ポリマーを１０質量部含む）を、メチル−３−メトキシプロピオネート３１．９質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル３．４質量部とで希釈した後、トリメリット酸を０．３質量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを０．５質量部、商品名「ＦＣ−４４３２」（住友スリーエム製）を０．００５質量部加えて溶解させて、下地膜形成用組成物を調製した。

＜画素パターンの形成工程＞
６インチシリコンウェハー上に、自動塗布現像装置（東京エレクトロン株式会社製のクリーントラック、商品名「ＭＡＲＫ−Ｖｚ」）を用いて、前記下地膜形成用組成物をスピンコート法にて塗布した後、２５０℃で３００秒間ベークを行い、膜厚０．５μｍの下地膜を形成した。この下地膜上に感光性組成物をスピンコート法にて塗布した後、９０℃で１５０秒間プレベークを行って、膜厚０．８５μｍの塗膜を形成した。その後、得られた基板を室温に冷却し、基板上の塗膜に、フォトマスクを介して、縮小投影露光機（株式会社ニコン製ＮＳＲ−２００５ｉ１０Ｄ、レンズ開口数＝０．６３）を用いて、波長３６５ｎｍ（ｉ線）にて３０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量を１０ｍＪ／ｃｍ^２間隔で露光した。続いて、自動塗布現象装置内で、０．０５質量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液により９０秒間パドル現像し、超純水によりリンスし、スピン乾燥した後、ホットプレート上にて２５０℃で３００秒間ポストベークを行って、ドットパターンを形成した。

＜Ｉ＞パターン形状の評価
前記画素パターンの形成工程において、ドットパターンの幅が１．０μｍの寸法となる時の露光量を適正露光量とした。適正露光量での１．０μｍのドットパターンを、走査型電子顕微鏡により観察し、下記基準にて評価を行った。
「Ａ」：パターンに剥がれやゆがみがない。
「Ｂ」：パターンに剥がれやゆがみがある。

＜ＩＩ＞残渣の有無の評価
前記パターン形状の評価のために形成した１．０μｍのドットパターンのエッジ部分及び周辺の未露光部を、走査型電子顕微鏡により観察し、下記基準にて評価を行った。
「Ａ」：残渣がない。
「Ｂ」：残渣がある。

＜ＩＩＩ＞残膜率の評価
前記画素パターンの形成工程において、露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２で形成された１０．０μｍのドットパターンの、露光後の膜厚およびポストベーク後の膜厚を走査型電子顕微鏡で測定し、下記計算式：
［残膜率（％）］＝［（ポストベーク後の膜厚）／（露光後の膜厚）］×１００
により、残松率（％）を算出した。なお、残膜率（％）が７０％未満であると、硬化不足である可能性が高く、ポストベーク時に昇華物が発生し、ポストベーク炉を汚染する恐れがあると考えられる。

以上説明したように、本発明によれば硬化後に十分に高度な耐熱性及び光透過性を有するものとすることが可能な重合体、十分に高度な感度を有するものとすることが可能な感光性組成物、その感光性組成物を用いたパターン形成方法、並びに、高コントラストなものとすることが可能なカラーフィルタを提供することが可能となる。このように、本発明の重合体は、硬化後に十分に高度な耐熱性及び光透過性を有するものすることが可能なものであるため、例えば、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、半導体バッファーコート、液状ソルダーレジスト、フォトスペーサ等を製造するための樹脂組成物中に含有させる成分（材料）等として特に有用である。

Claims (6)

1. 下記一般式（１）：
   ［式（１）中、Ｘ^１は下記一般式（２）〜（４）：
   （式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基及びフッ素原子よりなる群から選択される１種を示し、ｎは０〜１２の整数を示し、式（３）中、Ａは置換基を有していてもよくかつ芳香環を形成する炭素原子の数が６〜３０である２価の芳香族基よりなる群から選択される１種を示し、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、式（４）中、Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される１種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している２つのＲ^６が一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、Ｒ^７はそれぞれ独立に水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選択される１種を示し、式（２）〜（４）中の記号＊は、該記号の付された結合手がそれぞれ式（１）中のＸ^１に結合している４本の結合手のうちのいずれかであることを示す。）
   で表される４価の有機基を示し、
   Ｘ^２及びＸ^３はそれぞれ独立に水素原子及びエチレン性不飽和結合を有する基からなる群から選択される１種を示し、
   Ｘ^４は式：−Ｏ−で表される基及び式：−ＮＨ−で表される基よりなる群から選択される１種の基を示し、
   Ｘ^５は式：−Ｏ−Ｘ^６−で表される基及び式：−ＮＨ−Ｘ^６−で表される基（前記各式中のＸ^６は多価アルコールの残基及び多価アミンの残基よりなる群から選択される１種の基を示す。）よりなる群から選択される１種の基を示す。］
   で表される構造単位を有することを特徴とする重合体。
2. 前記Ｘ^２、前記Ｘ^３及び前記重合体の末端の基からなる群から選択される少なくとも１つがエチレン性不飽和結合を有する基であることを特徴とする請求項１に記載の重合体。
3. 請求項２に記載の重合体と光重合開始剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。
4. 着色剤を更に含有することを特徴とする請求項３に記載の感光性組成物。
5. 請求項３又は４に記載の感光性組成物からなる膜に対してフォトマスクを介して光を照射し、現像することによりパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
6. 請求項４に記載の感光性組成物の硬化物からなる着色層を備えることを特徴とするカラーフィルタ。