JP2017112112A

JP2017112112A - Ｈ２ｏベース電気化学的水素−触媒パワーシステム

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Publication number: JP2017112112A
Application number: JP2016244333A
Authority: JP
Inventors: ランデルエル．ミルズ，; L Mills Randell
Original assignee: BlackLight Power Inc
Current assignee: Brilliant Light Power Inc
Priority date: 2011-04-05
Filing date: 2016-12-16
Publication date: 2017-06-22
Also published as: JP2019071276A; AR085947A1; CA2830364A1; IL228358A0; AU2012240401A1; EP2702623A1; SG193922A1; MX2013011480A; KR20140016921A; TW201314997A; SG10201608591WA; WO2012138576A1; JP6134360B2; EP4181241A1; HK1244516A1; US20140072836A1; BR112013025595A2; AU2017203998A1; CN107190275A; CN103460469A

Abstract

【課題】水素の触媒反応から起電力を発生させ、より低いエネルギー（ハイドリノ）状態にし、ハイドリノ反応から放出されるエネルギーの電気への直接の変換を提供する。【解決手段】システムは、Ｈ２Ｏ触媒又はＨ２Ｏ触媒の源原子状水素又は原子状水素の源Ｈ２Ｏ触媒又はＨ２Ｏ触媒の源及び原子状水素又は原子状水素の源を形成する反応物及び原子状水素の触媒反応を開始する１又はそれ以上の反応物、から選ばれる少なくとも２つの要素を含む。電気及びハイドリノを形成するための電気化学パワーシステムは、更に、カソードコンパートメント、アノードコンパートメント、塩橋、分離した電気流れ及びイオン輸送を備えるセルにハイドリノ反応を構成する反応物、及び水素の源を含む。酸化−還元セル半反応により、ハイドリノ生成反応混合物は、外部回路を通る電子の移動と、電解質のような分離した道を通るイオン質量輸送で構成され、電気回路が完成する。【選択図】図１

Description

関連出願への相互参照
本願は、２０１１年４月５日に出願の米国仮出願番号第６１／４７２，０７６号の；２０１１年５月５日に出願の米国仮出願番号第６１／４８２，９３２号の；２０１１年５月１３日に出願の米国仮出願番号第６１／４８５，７６９号の；２０１１年５月２７日に出願の米国仮出願番号第６１／４９０，９０３号の；２０１１年６月１７日に出願の米国仮出願番号第６１／４９８，２４５号の；２０１１年７月８日に出願の米国仮出願番号第６１／５０５，７１９号の；２０１１年８月５日に出願の米国仮出願番号第６１／５１５，５０５号の；２０１１年９月２３日に出願の米国仮出願番号第６１／５３８，５３４号の；２０１１年１１月１４日に出願の米国仮出願番号第６１，５５９，５０４号の；２０１１年１２月２日に出願の米国仮出願番号第６１，５６６，２２５号の；２０１１年１２月２１日に出願の米国仮出願番号第６１／５７８，４６５号の；２０１２年１月２７日に出願の米国仮出願番号第６１／５９１，５３２号の；及び２０１２年３月１９日に出願の米国仮出願番号第６１／６１２，６０７号の優先権の利益を主張し、そして、これら全ては完全に参照によってここに組み込まれる。

開示された実施形態の概要
本開示は、電気及び熱エネルギーの少なくとも１つを生成し、雰囲気に密閉させた容器を有する電気化学パワーシステムに関し、その容器は、少なくとも１つのカソード、少なくとも１つのアノード、少なくとも１つのバイポーラ板と、単独の電子流とイオン質量輸送（ｉｏｎｍａｓｓｔｒａｎｓｐｏｒｔ）を伴うセル動作中にハイドリノ反応物を構成する反応物を有し、その反応物は少なくとも２つの構成要素を有し、その構成要素は下記から選択され、ａ）少なくとも１つのＨ_２Ｏ源、ｂ）少なくとも１つの触媒源又はｎＨ、ＯＨ、ＯＨ⁻、発生期のＨ_２Ｏ、Ｈ_２Ｓ又はＭＮＨ_２から選択される群の少なくとも１つを有する触媒、ただし、ｎは整数であり、Ｍはアルカリ金属である、ｃ）少なくとも１つの原子状水素源又は原子状水素、また、前記容器は、前記触媒源、前記触媒、前記原子状水素源及び前記原子状水素の少なくとも１つを形成する１つ以上の反応物を有し、前記容器はまた、前記原子状水素の触媒を開始させる１つ以上の反応物を有し、前記容器はまた支持体を有する、そこでは、前記カソード、アノード、反応物及びバイポーラ板の組み合わせが、各カソードとそれに対応したアノード間の化学ポテンシャルを維持しそれにより前記原子状水素の触媒が伝播し、前記システムはさらに電解システムを有する。一実施形態において、前記電気化学パワーシステムの前記電解システムは、断続的にＨ_２Ｏを電気分解して前記原子状水素源又は原子状水素を供給し、前記セルを放出することによりシステムの正味のエネルギー収支を増加させる。前記反応物は、下記から選択した少なくとも１つの電解質を有してもよい。少なくとも１つの溶融水酸化物、少なくとも１つの共晶塩混合物、溶融水酸化物と少なくとも１つの他の構成要素からなる少なくとも１つの混合物、少なくとも１つの溶融水酸化物と塩からなる少なくとも１つの混合物、溶融水酸化物とハロゲン化物塩とからなる少なくとも１つの混合物、アルカリ性水酸化物とアルカリハロゲン化物とからなる少なくとも１つの混合物、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ、ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＢｒ、ＮａＯＨ−ＮａＩ、ＮａＯＨ−ＮａＸ及びＫＯＨ−ＫＸ（ただし、Ｘはハロゲン化物を表す）、少なくとも１つのマトリックス、少なくとも１つの添加物。前記電気化学パワーシステムはさらにヒーターを有してもよい。電解質の融点を超える、前記電気化学パワーシステムのセルの温度は、下記から選択した少なくとも１つの範囲内に入ってもよい。前記融点より高い０から１５００℃の範囲、前記融点より高い０から１０００℃の範囲、前記融点より高い０から５００℃の範囲、前記融点より高い０から２５０℃の範囲、前記融点より高い０から１００℃の範囲。実施例において、電気化学的パワーシステムは、オキシアニオン化合物、アルミン酸塩、タングステン酸塩、ジルコン酸、チタン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、硝酸塩、クロム酸塩、及びマンガン酸塩、酸化物、窒化物、ホウ化物、カルコゲニド、ケイ化物、リン化物、及び炭化物、金属、金属酸化物、非金属、及び非金属酸化物；アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属、及び土類金属の酸化物、及びＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＢ、及び酸化物又はオキシアニオンを形成する他の元素の少なくとも１つ；アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属、及び希土類金属、及びＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＢ、及び酸化物又はオキシアニオンを形成する他の元素の１つのような少なくとも１つの酸化物、を含み、更に、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、及び希土類の群からの少なくとも１つのカチオン、及びＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、及びＰｂカチオン；ＬｉＡｌＯ_２、ＭｇＯ、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３、又はＳｒＴｉＯ_３；アノード材料の酸化物及び電解質の化合物；電解質のカチオン及び酸化物の少なくとも１つ；電解質ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）の酸化物；Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｖ、Ｂ、Ｎｂ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｈｆ、Ｃｏ、及びＭ’（Ｍ’はアルカリ土類金属を表す）の群の元素、金属、合金、又は混合物を含む電解質の酸化物；ＭｏＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、ＦｅＯ、又はＦｅ_２Ｏ_３、ＴａＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＶＯ、ＶＯ_２、Ｖ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｂ_２Ｏ_３、ＮｂＯ、ＮｂＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＳｅＯ_２、ＳｅＯ_３、ＴｅＯ_２、ＴｅＯ_３、ＷＯ_２、ＷＯ_３、Ｃｒ_３Ｏ_４、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＯ_２、ＣｒＯ_３、ＭｎＯ、Ｍｎ_３Ｏ_４、Ｍｎ_２Ｏ_３、ＭｎＯ_２、Ｍｎ_２Ｏ_７、ＨｆＯ_２、Ｃｏ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、Ｃｏ_３Ｏ_４、Ｃｏ_２Ｏ_３、及びＭｇＯ；カソード材料の酸化物及びオプションとして電解質の酸化物；Ｌｉ_２ＭｏＯ_３若しくはＬｉ_２ＭｏＯ_４、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３、Ｌｉ_２ＺｒＯ_３、Ｌｉ_２ＳｉＯ_３、ＬｉＡｌＯ_２、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＦｅＯ_２、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＶＯ_３、Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７、Ｌｉ_２ＮｂＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_４、Ｌｉ_２ＴｅＯ_３、Ｌｉ_２ＴｅＯ_４、Ｌｉ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_２ＣｒＯ_４、Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｌｉ_２ＭｎＯ_４、Ｌｉ_２ＨｆＯ_３、ＬｉＣｏＯ_２、及びＭ’Ｏ（Ｍ’はアルカリ土類金属を表す）、及びＭｇＯ；アノードの元素又は同じ群の元素の酸化物、及びＭｏアノードについてＬｉ_２ＭｏＯ_４、ＭｏＯ_２、Ｌｉ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_２ＣｒＯ_４、及びＬｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、を含み、そして、添加剤は、Ｓ、Ｌｉ_２Ｓ、酸化物、ＭｏＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、ＦｅＯ又はＦｅ_２Ｏ_３、ＴａＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＶＯ、ＶＯ_２、Ｖ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｂ_２Ｏ_３、ＮｂＯ、ＮｂＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＳｅＯ_２、ＳｅＯ_３、ＴｅＯ_２、ＴｅＯ_３、ＷＯ_２、ＷＯ_３、Ｃｒ_３Ｏ_４、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＯ_２、ＣｒＯ_３、ＭｇＯ、ＴｉＯ２、Ｌｉ２ＴｉＯ３、ＬｉＡｌＯ２、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３又はＬｉ_２ＭｏＯ_４、Ｌｉ_２ＺｒＯ_３、Ｌｉ_２ＳｉＯ_３、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＦｅＯ_２、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＶＯ_３、Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７、Ｌｉ_２ＮｂＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_４、Ｌｉ_２ＴｅＯ_３、Ｌｉ_２ＴｅＯ_４、Ｌｉ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_２ＣｒＯ_４、Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｌｉ_２ＭｎＯ_３、又はＬｉＣｏＯ_２、ＭｎＯ、及びＣｅＯ_２の少なくとも１つを含む。電気化学的パワーシステムの操作の間に、次の反応の少なくとも１つが起きてよい。ａ）Ｈ_２Ｏの電気分解から放電アノードにおいて、Ｈ及びＨ_２の少なくとも１つが形成される。ｂ）Ｈ_２Ｏの電気分解から放電カソードにおいて、Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つが形成される。ｃ）反応混合物の反応によって水素触媒が形成される。ｄ）電気的パワー及び熱的パワーの少なくとも１つを生産するために放電の間、ハイドリノが形成される。ｅ）ハイドリノ触媒として機能する発生期のＨ_２Ｏを形成するために、ＯＨ⁻が酸化されＨと反応する。ｆ）ＯＨ⁻が酸化され酸素イオン及びＨになる。ｇ）酸素イオン、酸素、及びＨ_２Ｏの少なくとも１つが放電カソードで還元される。ｈ）Ｈ及び発生期のＨ_２Ｏ触媒が反応してハイドリノを形成する。そして、ｉ）放電の間にハイドリノが形成されて電気的パワー及び熱的パワーの少なくとも１つを生産する。電気化学的パワーシステムの実施例において、ＯＨ⁻の酸化、及び酸素イオン、酸素、及びＨ_２Ｏの少なくとも１つの還元、の少なくとも１つの反応が、断続的な電気分解の電気分解フェーズの間の時間あたり電流を超える時間あたり電流を生成するように、セル放電の間に起きる。１つの実施例において、アノード半電池反応は、以下のようであるかもしれない。
ＯＨ⁻＋２Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／４）
ここで、Ｈ_２Ｏ触媒及びｅ⁻を形成するようなＯＨ⁻と第１のＨとの反応は、第２のＨがハイドリノになるＨ_２Ｏ触媒作用と協調する。幾つかの実施例において、放電アノード半電池反応は、標準水素電極に対して操作温度に対し熱力学的に補正を行った約１．２Ｖ、及び、２５℃で標準水素電極に対して操作温度に対し熱力学的に補正された、約１．５Ｖから０．７５Ｖ、１．３Ｖから０．９Ｖ、及び１．２５Ｖから１．１Ｖの範囲のうちの少なくとも１つの範囲における電圧のうちの少なくとも１つの電圧を備え、そして、カソード半電池は、標準水素電極に対して操作温度に対し熱力学的に補正を行った約０Ｖ、及び、２５℃で標準水素電極に対して操作温度に対し熱力学的に補正された、約−０．５Ｖから＋０．５Ｖ、−０．２Ｖから＋０．２Ｖ、及び−０．１Ｖから＋０．１Ｖの範囲のうちの少なくとも１つの範囲における電圧のうちの少なくとも１つの電圧を備える。

本開示の電気化学パワーシステムの一実施形態において、前記カソードはＮｉＯを含み、前記アノードはＮｉ、Ｍｏ、Ｈ２４２合金および炭素の少なくとも１つを含み、前記バイメタル接合部はハステロイ、Ｎｉ、Ｍｏと前記アノードとは異なる金属であるＨ２４２の少なくとも１つを含む。前記電気化学パワーシステムは少なくとも１つの積み重ねたセルを含み、そこでは、前記バイポーラ板は前記アノードとカソードを分離するバイメタル接合部を有する。一実施形態において、前記セルにはＨ_２Ｏが供給され、そこでは、前記Ｈ_２Ｏ蒸気圧が下記から選択した少なくとも１つの範囲内に入る。約０．００１トールから１００気圧の範囲、約０．００１トールから０．１トールの範囲、約０．１トールから１トールの範囲、約１トールから１０トールの範囲、約１０トールから１００トールの範囲、約１００トールから１０００トールの範囲、約１０００トールから１００トールの範囲、また、少なくとも大気圧を達成するための圧力の不足分は、希ガスとＮ_２の少なくとも１つを含んだ供給された不活性ガスによって与えられる。一実施形態において、前記電気化学パワーシステムは、前記システムにＨ_２Ｏを供給する水蒸気発生器を有してよい。一実施形態において、前記セルは充放電相間を断続的に切り替えられ、そこでは、（ｉ）前記充電相は、少なくとも、逆電圧極性の電極において、水の電気分解を含み、（ｉｉ）前記放電相は、少なくとも、前記電極の１つまたは両方においてＨ_２Ｏの形成を含む。またそこでは、（ｉ）前記カソードまたはアノードとしての各セルのそれぞれの電極の役割は、充放電相間の相互の切り替えにより反転し、（ｉｉ）電流の極性は、充放電相間の相互の切り替えにより反転し、またそこでは、前記充電は、電流と電圧の印加の少なくとも１つを含む。一実施形態において、前記印加された電流と電圧の少なくとも１つは、下記を含んだ波形を持つ。約０．００１％から約９５％の範囲内のデューティーサイクル、約０．１Ｖから１０Ｖの範囲内のセル当たりのピーク電圧、約０．００１Ｗ／ｃｍ^２から１０００Ｗ／ｃｍ^２のピーク電力密度、約０．０００１Ｗ／ｃｍ^２から１００Ｗ／ｃｍ^２の範囲内の平均電力、またそこでは、前記印加された電流と電圧は、さらに直流電圧と直流電流の少なくとも１つと、交流電流と電圧の波形の少なくとも１つを含む、またそこでは、前記波形が、約１から約１０００Ｈｚの範囲内の周波数を含む。断続的なサイクルの前記波形は、断続的なサイクルの電気分解および放電相少なくとも１つ向けに、定電流、電力、電圧および抵抗と、可変電流、電力、電圧および抵抗のうち、少なくとも１つを含んでよい。実施例において、サイクルの少なくとも１つのフェーズのためのパラメータは、約０．００１Ｈｚから１０ＭＨｚ、約０．０１Ｈｚから１００ｋＨｚ、及び約０．０１Ｈｚから１０ｋＨｚのなかの少なくとも１つの範囲において断続的なフェーズが行われる頻度と；約０．１Ｖから１００Ｖ、約０．３Ｖから５Ｖ、約０．５Ｖから２Ｖ、及び約０．５Ｖから１．５Ｖ、から選ばれる少なくとも１つの範囲におけるセルあたりの電圧と；約１μＡ・ｃｍ^−２から１０Ａ・ｃｍ^−２、約０．１ｍＡ・ｃｍ^−２から５Ａ・ｃｍ^−２、及び約１ｍＡ・ｃｍ^−２から１Ａ・ｃｍ^−２、から選ばれる少なくとも１つの範囲におけるハイドリノを形成するような活性な単位電極面積あたりの電流と；約１μＷ・ｃｍ^−２から１０Ｗ・ｃｍ^−２、約０．１ｍＷ・ｃｍ^−２から５Ｗ・ｃｍ^−２、及び約１ｍＷ・ｃｍ^−２から１Ｗ・ｃｍ^−２、から選ばれる少なくとも１つの範囲におけるハイドリノを形成するような活性な単位電極面積あたりのパワーと；約１μＡ・ｃｍ^−２から１Ａ・ｃｍ^−２の範囲におけるハイドリノを形成するような活性な単位電極面積あたりの定電流と；約１ｍＷ・ｃｍ^−２から１Ｗ・ｃｍ^−２の範囲におけるハイドリノを形成するような活性な単位電極面積あたりの定パワーと；約１０^−４ｓから１０，０００ｓ、１０^−３ｓから１０００ｓ、及び１０^−２ｓから１００ｓ、及び１０^−１ｓから１０ｓ、から選ばれる少なくとも１つの範囲における時間間隔と；約１ｍΩから１００ＭΩ、約１Ωから１ＭΩ、及び１０Ωから１ｋΩから選ばれる少なくとも１つの範囲におけるセルあたりの抵抗と；約１０^−５から１０００Ω^−１・ｃｍ^−２、１０^−４から１００Ω^−１・ｃｍ^−２、１０^−３から１０Ω^−１ｃｍ^−２、及び１０^−２から１Ω^−１・ｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲におけるハイドリノを形成するような活性な単位電極面積あたりの妥当な負荷の伝導度と；及びサイクルの毎のパワー又はエネルギー・ゲインの少なくとも１つを生じさせるような電気分解フェーズのそれよりも大きい、放電電流、電圧、パワー、又は時間間隔の少なくとも１つと；を含む。放電の間の電圧は、アノードが過剰に腐食することを防止する電圧よりも上に維持されるであろう。

電気化学パワーシステムの実施例において、触媒−形成反応は次のように与えられる。
Ｏ_２＋５Ｈ^＋＋５ｅ⁻ → ２Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）
ここで、対の半電池反応は、次の式で与えられる。
Ｈ_２ → ２Ｈ^＋＋２ｅ⁻、及び
全体の反応は、次の式で与えられる。
３／２Ｈ_２＋１／２Ｏ_２ → Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）

下記の生成物のうち少なくとも１つは、前記電気化学パワーシステムの動作中に水素から形成されてもよい。ａ）０．２３から０．２５ｃｍ^−１の整数の倍数でのラマンピークと０から２０００ｃｍ^−１の範囲の行列シフトを持つ水素生成物、ｂ）０．２３から０．２５ｃｍ^−１の整数の倍数での赤外線ピークと０から２０００ｃｍ^−１の範囲の行列シフトを持つ水素生成物、ｃ）５００から５２５ｅＶの範囲のエネルギーでのＸ線光電子分光ピークと０から１０ｅＶの範囲の行列シフトを持つ水素生成物、ｄ）高磁場ＭＡＳＮＭＲ行列シフトを起こす水素生成物、ｅ）ＴＭＳに対して−５ｐｐｍを超える高磁場ＭＡＳＮＭＲ行列シフトまたは液体ＮＭＲシフトを持つ水素生成物、ｆ）０．２３から０．３ｃｍ^−１の整数の倍数で、０から５０００ｃｍ^−１の範囲の行列シフトでの間隔を持った、２００から３００ｎｍの範囲の少なくとも２つの電子ビーム発光スペクトルピークを有する水素生成物、ｇ）０．２３から０．３ｃｍ^−１の整数の倍数で、０から５０００ｃｍ^−１の範囲の行列シフトでの間隔を持った、２００から３００ｎｍの範囲の少なくとも２つのＵＶ蛍光発光スペクトルピークを有する水素生成物。

本開示は、水素透過電極を含む水素アノードと、水酸化物を含む溶融塩電解質と、及びＯ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つと、を含む電気化学パワー・システムへと更に導かれる。実施例において、水素透過状態における膜及び電解質の溶融状態の少なくとも１つを維持するセル温度は、約２５から２０００℃、約１００から１０００℃、約２００から７５０℃、及び約２５０から５００℃、から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、電解質の融点よりも上のセル温度は、融点より約０から１５００℃高い温度、融点より０から１０００℃高い温度、融点より０から５００℃高い温度、融点より０から２５０℃高い温度、及び融点より０から１００℃高い温度の少なくとも１つの範囲にあり、膜の厚みは、約０．０００１から０．２５ｃｍ、０．００１から０．１ｃｍ、及び０．００５から０．０５ｃｍ、から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、水素の圧力は、約１Ｔｏｒｒから５００ａｔｍ、１０Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ、及び１００Ｔｏｒｒから５ａｔｍ、から選ばれる少なくとも１つの範囲に維持され、水素透過速度は、約１×１０^−１３ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−４ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、１×１０^−１２ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−５ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、１×１０^−１１ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−６ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、１×１０^−１０ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−７ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、及び１×１０^−９ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−８ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、から選ばれる少なくとも１つの範囲にある。実施例において、電気化学パワーシステムは、水素散布電極（ｈｙｄｒｏｇｅｎｓｐａｒｇｉｎｇｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）を含む水素アノードと、水酸化物を含む溶融塩電解質と、Ｏ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つと、を含む。実施例において、電解質の溶融状態を維持するセル温度は、電解質の融点よりも高い約０から１５００℃の温度範囲、電解質の融点よりも高い０から１０００℃の温度範囲、電解質の融点よりも高い０から５００℃の温度範囲、電解質の融点よりも高い０から２５０℃の温度範囲、及び電解質の融点よりも高い０から１００℃の温度範囲、から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、Ｈ_２泡立て又は散布電極の幾何学的面積あたりの水素流速（フロー・レイト（ｆｌｏｗｒａｔｅ））は、約１×１０^−１３ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−４ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、１×１０^−１２ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−５ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、１×１０^−１１ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−６ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、１×１０^−１０ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−７ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、及び１×１０^−９ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１×１０^−８ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２、から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、対電極での反応の速度は、水素が反応する電極での速度に一致又はその速度を超え、Ｈ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つの還元速度は、Ｈ又はＨ_２の反応速度を維持するのに十分であり、更に、対電極は、十分な速度を支持するのに十分な材料及び表面積を持つ。

本開示は、さらに熱エネルギー生成するパワーシステムに関し、そのパワーシステムは下記を有する。大気圧、大気圧を超えるおよび大気圧未満の少なくとも１つの圧力を受け入れることが可能な少なくとも１つの容器、少なくとも１つのヒーター、下記を有するハイドリノ反応物を構成する反応物。ａ）触媒源または発生期のＨ_２Ｏを有する触媒、ｂ）原子状水素源または原子状水素、ｃ）前記触媒源、前記触媒、前記原子状水素源および前記原子状水素の少なくとも１つを形成する反応物。前記原子状水素源を開始する１つ以上の反応物で、そこでは、前記反応は前記反応物の混合および加熱の少なくとも１つによって起こる。実施形態において、前記触媒源、前記触媒、前記原子状水素源および前記原子状水素の少なくとも１つを形成するパワーシステムの前記反応は、下記の反応から選択された少なくとも１つの反応を含む。燃焼反応、ルイス酸または塩基とブレンステッド・ローリーの酸や塩基の反応、酸化物・塩基反応、酸無水物・塩基反応、酸・塩基反応、ベース活性金属反応、酸化還元反応、分解反応、交換反応、ハロゲン化物（Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＮＨ_３）と少なくとも１つのＯＨを持った化合物との交換反応、Ｏを含んだ化合物の水素還元反応、そして、Ｈ源は、前記反応物が反応を受ける時に生成される発生期のＨと、水素化物またはガス源と解離子からの少なくとも１つの水素である。

本開示は、水素のより低いエネルギー（ハイドリノ）状態への触媒反応から起電力（ＥＭＦ）を生成し、そのハイドリノ反応から解放されるエネルギーの電気への直接の返還を提供する電池又は燃料電池システムに更に導かれる。
そのシステムは、
分離した電子流れ及びイオン質量輸送（ｉｏｎｍａｓｓｔｒａｎｓｐｏｒｔ）を伴うセル・オペレーションの間にハイドリノ反応物を構成する反応物と、
カソードを含むカソード・コンパートメントと、
アノードを含むアノード・コンパートメントと、水素源とを含む。

本開示の他の実施例は、より低いエネルギー（ハイドリノ）状態へと水素の触媒反応であって、そのハイドリノ反応から開放されたエネルギーを直接電気に変換することを提供することから起電力（ＥＭＦ）を発生する電池又は燃料電池に関する。そして、このシステムは、触媒又は触媒源、原子状水素又は原子状水素源、触媒若しくは触媒源又は原子状水素若しくは原子状水素源を形成する反応物、原子状水素の触媒反応を開始させる１以上の反応物、及び、触媒反応を可能にするサポート（支持体／担体）から選ばれる少なくとも２つの要素を含み、ハイドリノを形成するためのその電池又は燃料電池は、カソードを含むカソード・コンパートメント、アノードを含むアノード・コンパートメント、オプションとして塩橋、分離した電子流れ及びイオン質量輸送を伴うセル・オペレーションの間のハイドリノ反応を構成する反応物、そして、水素源とを更に含むことができる。

本開示の実施例において、本開示の交換反応のようなハイドリノ反応を開始するための反応混合物及び反応は、電気的なパワーがハイドリノを形成するような水素の反応によって展開されるところの燃料電池の基礎である。酸化剤−還元剤の半電池反応のため、ハイドリノ生成反応混合物は、電気的な回路を完成するため、外部回路を通す電子の移動及び分離した経路を通してイオン質量輸送により構成される。半電池反応の合計により与えられるハイドリノを生成する対応反応混合物及び全反応は、本開示のハイドリノ化学生成及び熱的なパワーに対して複数の反応の種類を含んでよい。

本開示の実施例において、異なる温度、圧力、及び濃度のうち少なくとも１つのような、異なる状態又は条件の下の同じ反応物、又は、異なる反応物は、コンパートメント間で、電気回路を完成させるように、電子及びイオンに対して分離した導管によって接続される異なるセル・コンパートメント内に生成される。システムの熱的なゲイン又は分離したコンパートメントの電極間における電位的及び電気的なパワー・ゲインは、１つのコンパートメントから別のコンパートメントへとの質量の流れにおけるハイドリノ反応の依存性により、発生させられる。質量の流れ（マス・フロー（ｍａｓｓｆｌｏｗ））は、ハイドリノ反応がかなりの速度で生じることを許す条件、及びハイドリノを生成するように反応する反応混合物の形成の少なくとも１つを提供する。理想的には、電子の流れ及びイオン質量輸送が無ければ、ハイドリノ反応は生じないか、又は感知できる程の速度では生じない。

もう１つの実施例において、セルは、電極を通して適用される電気分解パワーのそれを超える電気的な及び熱的なパワーの内の少なくとも１つを生成する。

１つの実施例において、ハイドリノを形成する反応物は、熱的に再生可能又は電気分解的に再生可能のうちの少なくとも１つに相当する。

分離した電子流れ及びイオン質量輸送を伴うセル・オペレーションの間、ハイドリノ反応物を構成する反応物、アノード、カソードを含む熱エネルギー及び起電力（ＥＭＦ）を生成する電気化学的なパワー・システムに、本開示の１つの実施例は関する。この電気化学的なパワー・システムは、ａ）ｎが整数でＭがアルカリ金属であるところ、ｎＨ、ＯＨ、ＯＨ⁻、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_２Ｓ、又はＭＮＨ_２の群から少なくとも１つを含む触媒又は触媒源と、ｂ）原子状水素又は原子状水素源と、ｃ）触媒源、触媒、原子状水素、原子状水素源の少なくとも１つを形成する反応物と、原子状水素の触媒作用を開始する１以上の反応物と、支持体と、から選択される少なくとも２つの構成要素を含む。以下の条件の少なくとも１つが電気化学的なパワー・システムにおいて起きるかもしれない。ａ）反応混合物によって水素触媒及び原子状水素が形成される。ｂ）反応を経ることにより１つの反応物が触媒を活性化させる。ｃ）触媒反応を引き起こす反応が、（ｉ）発熱反応、（ｉｉ）共役反応、（ｉｉｉ）フリー・ラジカル反応、（ｉｖ）酸化−還元反応、（ｖ）交換反応、（ｖｉ）ゲッター、サポート、又はマトリックス支援触媒反応から選択される１つの反応を含む。実施例において、ａ）異なる反応物、又は、ｂ）異なる状態又は条件下での同じ反応物の少なくとも１つが、コンパートメント間の電気回路を完成するように電子及びイオンの分離した導管によって接続される異なるセル・コンパートメントにおいて提供される。内部質量流れ及び外部電子流れの少なくとも１つは、ａ）ハイドリノを生成するように反応する反応混合物の形成、及びｂ）十分な速度でハイドリノ反応が起きることを許す条件の形成の少なくとも１つの条件が生じるように提供する。実施例において、ハイドリノを生成する反応は、熱的に又は電解的に再生可能である。電気的な及び熱的なエネルギーの出力のうちの少なくとも１つは、生成物から反応物を再生することが要求されるかもしれない。

分離した電子流れ及びイオン質量輸送を伴うセル・オペレーションの間、ハイドリノを構成する反応物、アノード、及びカソードを含む熱エネルギー及び起電力（ＥＭＦ）を生成する電気化学的なパワー・システムに、本開示の他の実施例は関する。この電気化学的なパワー・システムは、ａ）Ｈ種がＨ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、及び、ＯＯＨ⁻、の少なくとも１つを含むところ、Ｈ_２Ｏ及びＯＨの少なくとも１つを形成するＨ種との酸化反応を経る、Ｏ_２ ^２−、Ｏ_２ ⁻、Ｏ^２−、Ｏ⁻、ＯＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＨ⁻、ＯＨ^＋、ＯＨ、Ｈ_３Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｏ^＋、Ｏ、Ｏ_３ ⁻、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３、Ｏ_２から選択される少なくとも１つの酸素種を含む触媒又は触媒源と、ｂ）原子状水素又は原子状水素源と、ｃ）原子状水素、原子状水素源、触媒、触媒源の少なくとも１つを形成する反応物と、原子状水素の触媒反応を開始する１以上の反応物と、支持体と、から選択される少なくとも２つの構成要素を含む。Ｏ種の源は、Ｏ、Ｏ_２、空気、酸化物、ＮｉＯ、ＣｏＯ、アルカリ金属酸化物、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、アルカリ土類金属酸化物、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、Ｗの群からの酸化物、過酸化物、超酸化物、アルカリ又はアルカリ金属過酸化物、超酸化物、水酸化物、アルカリ、アルカリ土類、遷移金属、内部遷移金属、及び、ＩＩＩ族、ＩＶ族、又はＶ族水酸化物、オキシ水酸化物、ＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウタイト（ｇｒｏｕｔｉｔｅ）及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）マンガン酸）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、及び、Ｎｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）を含む化合物の少なくとも１つの化合物又は混合物を含んでよい。Ｈ種の源は、Ｈ、金属水素化物、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、水酸化物、オキシ水酸化物、Ｈ_２、Ｈ_２源、Ｈ_２、及び、水素透過膜、Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、及び４３０ＳＳ（Ｈ_２）のようなステンレス（ＳＳ）を含む化合物の少なくとも１つの化合物又は混合物を含んでよい。

別の実施例において、電気化学的なパワー・システムは、水素アノード、水酸化物を含む溶融塩電解質、及び、Ｏ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つを含む。水素アノードは、Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、及び、４３０ＳＳ（Ｈ_２）の少なくとも１つのような水素透過電極と、Ｒ−Ｎｉ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２、から選択される水素化物のような水素化物及びＨ_２を散布（スパージ（ｓｐａｒｇｅ））するかもしれない多孔性電極と、水素を貯蔵できる他の合金である、ＡＢ_５（ＬａＣｅＰｒＮｄＮｉＣｏＭｎＡｌ）、又は、ＡＢ_２（ＶＴｉＺｒＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）種とであって、ここで、「ＡＢ_ｘ」表記はＡ種の要素（ＬａＣｅＰｒＮｄ又はＴｉＺｒ）がＢ種の要素（ＶＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）の比率を意味するが、ＡＢ５−タイプ：ＭｍＮｉ_３．２Ｃｏ_１．０Ｍｎ_０．６Ａｌ_０．１１Ｍｏ_０．０９（Ｍｍ＝ミッシュメタル：２５ｗｔ％のＬａ、５０ｗｔ％のＣｅ、７ｗｔ％のＰｒ、１８ｗｔ％のＮｄ）、ＡＢ２−タイプ：Ｔｉ_０．５１Ｚｒ_０．４９Ｖ_０．７０Ｎｉ_１．１８Ｃｒ_０．１２合金、マンガン基の合金、Ｍｇ_１．９Ａｌ_０．１Ｎｉ_０．８Ｃｏ_０．１Ｍｎ_０．１合金、Ｍｇ_０．７２Ｓｃ_０．２８（Ｐｄ_{０．０１２}＋Ｒｈ_{０．０１２}）、及び、Ｍｇ_８０Ｔｉ_２０、Ｍｇ_８０Ｖ_２０、Ｌａ_０．８Ｎｄ_０．２Ｎｉ_２．４Ｃｏ_２．５Ｓｉ_０．１、ＬａＮｉ_５−ｘＭ_ｘ（Ｍ＝Ｍｎ、Ａｌ）、（Ｍ＝Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｕ）、（Ｍ＝Ｓｎ）、（Ｍ＝Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｕ）、及び、ＬａＮｉ_４Ｃｏ、ＭｍＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＭｇＣｕ_２、ＭｇＺｎ_２、ＭｇＮｉ_２、ＡＢ化合物、ＴｉＦｅ、ＴｉＣｏ、及び、ＴｉＮｉ、ＡＢ_ｎ化合物（ｎ＝５、２、又は１）、ＡＢ_３−４化合物、ＡＢ_ｘ（Ａ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｍｇ；Ｂ＝Ｎｉ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ａｌ）、ＺｒＦｅ_２、Ｚｒ_０．５Ｃｓ_０．５Ｆｅ_２、Ｚｒ_０．８Ｓｃ_０．２Ｆｅ_２、ＹＮｉ_５、ＬａＮｉ_５、ＬａＮｉ_４．５Ｃｏ_０．５、（Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｒ）Ｎｉ_５、ミッシュメタル・ニッケル合金、Ｔｉ_０．９８Ｚｒ_０．０２Ｖ_０．４３Ｆｅ_０．０９Ｃｒ_０．０５Ｍｎ_１．５、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９、ＦｅＮｉ、及び、ＴｉＭｎ_２とであり、それらから少なくとも１つを含んでよい。溶融塩は、他の水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、及びリン酸塩の１つ以上から選択される１つのもののような少なくとも１つの他の塩との水酸化物を含んでよい。溶融塩は、ＣｓＮＯ_３−ＣｓＯＨ、ＣｓＯＨ−ＫＯＨ、ＣｓＯＨ−ＬｉＯＨ、ＣｓＯＨ−ＮａＯＨ、ＣｓＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＯＨ、ＫＢｒ−ＫＯＨ、ＫＣｌ−ＫＯＨ、ＫＦ−ＫＯＨ、ＫＩ−ＫＯＨ、ＫＮｏ_３−ＫＯＨ、ＫＯＨ−Ｋ_２Ｓｏ_４、ＫＯＨ−ＬｉＯＨ、ＫＯＨ−ＮａＯＨ、ＫＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｌｉ_２ＣＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ、ＬｉＣｌ−ＬｉＯＨ、ＬｉＦ−ＬｉＯＨ、ＬｉＩ−ＬｉＯＨ、ＬｉＮｏ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＢｒ−ＮａＯＨ、ＮａＣｌ−ＮａＯＨ、ＮａＦ−ＮａＯＨ、ＮａＩ−ＮａＯＨ、ＮａＮＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＯＨ−Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＯＨ−ＲｂＯＨ、ＲｂＣｌ−ＲｂＯＨ、ＲｂＮＯ_３−ＲｂＯＨ、ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸ、ＫＯＨ−ＫＸ、ＲｂＯＨ−ＲｂＸ、ＣｓＯＨ−ＣｓＸ、Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＸ_２、Ｃａ（ＯＨ）_２−ＣａＸ_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２−ＳｒＸ_２、又は、Ｂａ（ＯＨ）_２−ＢａＸ_２（Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩ）、及び、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＲｂＯＨ、ＣｓＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２、又は、Ｂａ（ＯＨ）_２、及び、ＡｌＸ_３、ＶＸ_２、ＺｒＸ_２、ＴｉＸ_３、ＭｎＸ_２、ＺｎＸ_２、ＣｒＸ_２、ＳｎＸ_２、ＩｎＸ_３、ＣｕＸ_２、ＮｉＸ_２、ＰｂＸ_２、ＳｂＸ_３、ＢｉＸ_３、ＣｏＸ_２、ＣｄＸ_２、ＧｅＸ_３、ＡｕＸ_３、ＩｒＸ_３、ＦｅＸ_３、ＨｇＸ_２、ＭｏＸ_４、ＯｓＸ_４、ＰｄＸ_２、ＲｅＸ_３、ＲｈＸ_３、ＲｕＸ_３、ＳｅＸ_２、ＡｇＸ_２、ＴｃＸ_４、ＴｅＸ_４、ＴｌＸ、及び、ＷＸ_４（Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩ）から選択される少なくとも１つの塩混合物を含んでよい。溶融塩は、塩混合物電解質のアニオンに共通する（若しくは、そのアニオンがカチオンに共通する）カチオンを含んでよく、そして、その水酸化物は混合物のその他の塩に対して安定である。

本開示の別の実施例において、電気化学的なパワー・システムは、［Ｍ’’（Ｈ_２）／ＭＯＨ−Ｍ’Ｈａｌｉｄｅ／Ｍ’’’］及び［Ｍ’’（Ｈ_２）／Ｍ（ＯＨ）_２−Ｍ’Ｈａｌｉｄｅ／Ｍ’’’］，の少なくとも１つを含む。ここで、Ｍはアルカリ又はアルカリ土類金属であり、Ｍ’は、アルカリ又はアルカリ土類金属のそれらよりも安定性が低い少なくとも１つである水酸化物及び酸化物を持つ金属であり、Ｍ’’は水素透過金属であり、そして、Ｍ’’’は導体である。実施例において、Ｍ’は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、Ｗ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｉｎ、及び、Ｐｂから選択される１つのような金属である。その代わりとして、Ｍ及びＭ’は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷから独立して選択されるような金属であってよい。．他の例示的なシステムは、［Ｍ’（Ｈ_２）／ＭＯＨＭ’’Ｘ／Ｍ’’’］を含み、Ｍ、Ｍ’、Ｍ’’、Ｍ’’’は金属カチオン又は金属であり、Ｘは、水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、及びリン酸塩から選択される１つのようなアニオンであり、Ｍ’はＨ_２透過性である。実施例において、水素アノードは、放電の間に電解質と反応する、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及び、Ｗから選択される少なくとも１つのような金属を含む。別の実施例において、電気化学的なパワー・システムは、水素源と、ＯＨ、ＯＨ⁻、及び、Ｈ_２Ｏ触媒の少なくとも１つを形成することができてＨを提供することができる水素アノードと、Ｈ_２Ｏ又はＯ_２の少なくとも１つの源と、Ｈ_２Ｏ又はＯ_２の少なくとも１つを還元することができるカソードと、アルカリ電解質と、Ｈ_２Ｏ蒸気、Ｎ_２、及び、Ｏ_２の少なくとも１つの収集及び再循環ができるオプションとしてのシステム及びＨ_２を収集して再循環するシステムと、を含む。

本開示は更に、Ｒ−Ｎｉ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２、及び、ＡＢ_５（ＬａＣｅＰｒＮｄＮｉＣｏＭｎＡｌ）又はＡＢ_２（ＶＴｉＺｒＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）タイプ（「ＡＢ_ｘ」表記は、Ａタイプの要素である（ＬａＣｅＰｒＮｄ又はＴｉＺｒ）に対するＢタイプの要素である（ＶＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）の比を意味する）、ＡＢ_５−タイプ、ＭｍＮｉ_３．２Ｃｏ_１．０Ｍｎ_０．６Ａｌ_０．１１Ｍｏ_０．０９（Ｍｍ＝ミッシュメタル：２５ｗｔ％のＬａ、５０ｗｔ％のＣｅ、７ｗｔ％のＰｒ、１８ｗｔ％のＮｄ）、ＡＢ_２−タイプ：Ｔｉ_０．５１Ｚｒ_０．４９Ｖ_０．７０Ｎｉ_１．１８Ｃｒ_０．１２合金、マグネシウム基合金、Ｍｇ_１．９Ａｌ_０．１Ｎｉ_０．８Ｃｏ_０．１Ｍｎ_０．１合金、Ｍｇ_０．７２Ｓｃ_０．２８（Ｐｄ_{０．０１２}＋Ｒｈ_{０．０１２}）、及び、Ｍｇ_８０Ｔｉ_２０、Ｍｇ_８０Ｖ_２０、Ｌａ_０．８Ｎｄ_０．２Ｎｉ_２．４Ｃｏ_２．５Ｓｉ_０．１、ＬａＮｉ_５−ｘＭ_ｘ（Ｍ＝Ｍｎ、Ａｌ）、（Ｍ＝Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｕ）、（Ｍ＝Ｓｎ）、（Ｍ＝Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｕ）及びＬａＮｉ_４Ｃｏ、ＭｍＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＭｇＣｕ_２、ＭｇＺｎ_２、ＭｇＮｉ_２、ＡＢ化合物、ＴｉＦｅ、ＴｉＣｏ、及び、ＴｉＮｉ、ＡＢ_ｎ化合物（ｎ＝５、２、又は、１）、ＡＢ_３−４化合物、ＡＢ_ｘ（Ａ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｍｇ：Ｂ＝Ｎｉ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ａｌ）、ＺｒＦｅ_２、Ｚｒ_０．５Ｃｓ_０．５Ｆｅ_２、Ｚｒ_０．８Ｓｃ_０．２Ｆｅ_２、ＹＮｉ_５、ＬａＮｉ_５、ＬａＮｉ_４．５Ｃｏ_０．５、（Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｒ）Ｎｉ_５、ミッシュメタル−ニッケル合金、Ｔｉ_０．９８Ｚｒ_０．０２Ｖ_０．４３Ｆｅ_０．０９Ｃｒ_０．０５Ｍｎ_１．５、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９、ＦｅＮｉ、及び、ＴｉＭｎ_２から選択される１つのような水素貯蔵可能な他の合金のような、金属水素化物、及び、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及び、Ｗから選択される金属の少なくとも１つを含むアノードと、セパレータと、アルカリ電解質水溶液と、少なくともＯ_２及びＨ_２Ｏの１つの還元カソードと、及び、空気及びＯ_２の少なくとも１つと、を含む電気化学パワー・システムに関する。電気化学システムは、更に、正味のエネルギー・バランスがゲインであるように、セルを断続的に充電及び放電する電気分解を備える。択一的に、電気化学パワー・システムは、水素化物アノードを再水素化することにより、パワー・システムを再生する水素化システムを含む、或いは、更に含んでよい。

別の実施例は、水酸化物を含む溶融塩カソードと、ベータ・アルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）と、溶融アルカリ金属アノードと、を含む熱エネルギー及び起電力（ＥＭＦ）を発生する電気化学的パワー・システムを、含む。溶融塩カソードは、表４のそれらの内の１つのような共晶混合物と、水素透過膜及びＨ_２ガスのような水素の源とを含むかもしれない。触媒又は触媒源は、ＯＨ、ＯＨ⁻、Ｈ_２Ｏ、ＮａＨ、Ｌｉ、Ｋ、Ｒｂ^＋、及びＣｓから選択されるかもしれない。溶融塩カソードは、アルカリ性水酸化物を含んでよい。システムは、更に、水素リアクター及び金属水素化物セパレーターを含み、アルカリ金属カソード及びアルカリ水酸化物カソードは、結果として生じるアルカリ金属及び金属水酸化物の分離及び生成物である酸化物の水素化によって再生される。

電気化学パワーシステムの別の実施例は、溶融水酸化物を含む水素化物、Ｈ_２ガス、水素透過膜から選択される１つのような水素の源を含むアノードと、βアルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）と、溶融元素及び溶融ハロゲン化塩又は混合物の少なくとも１つと、を含む。適当なカソードは、Ｉｎ、Ｇａ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｐ、Ｓ、Ｉ、Ｓｅ、Ｂｉ、及びＡｓの１つを含む溶融元素カソードを含む。その代わりとして、カソードは、ＮａＸ（Ｘはハロゲン）及び、ＮａＸ、ＡｇＸ、ＡｌＸ_３、ＡｓＸ_３、ＡｕＸ、ＡｕＸ_３、ＢａＸ_２、ＢｅＸ_２、ＢｉＸ_３、ＣａＸ_２、ＣｄＸ_３、ＣｅＸ_３、ＣｏＸ_２、ＣｒＸ_２、ＣｓＸ、ＣｕＸ、ＣｕＸ_２、ＥｕＸ_３、ＦｅＸ_２、ＦｅＸ_３、ＧａＸ_３、ＧｄＸ_３、ＧｅＸ_４、ＨｆＸ_４、ＨｇＸ、ＨｇＸ_２、ＩｎＸ、ＩｎＸ_２、ＩｎＸ_３、ＩｒＸ、ＩｒＸ_２、ＫＸ、ＫＡｇＸ_２、ＫＡｌＸ_４、Ｋ_３ＡｌＸ_６、ＬａＸ_３、ＬｉＸ、ＭｇＸ_２、ＭｎＸ_２、ＭｏＸ_４、ＭｏＸ_５、ＭｏＸ_６、ＮａＡｌＸ_４、Ｎａ_３ＡｌＸ_６、ＮｂＸ_５、ＮｄＸ_３、ＮｉＸ_２、ＯｓＸ_３、ＯｓＸ_４、ＰｂＸ_２、ＰｄＸ_２、ＰｒＸ_３、ＰｔＸ_２、ＰｔＸ_４、ＰｕＸ_３、ＲｂＸ、ＲｅＸ_３、ＲｈＸ、ＲｈＸ_３、ＲｕＸ_３、ＳｂＸ_３、ＳｂＸ_５、ＳｃＸ_３、ＳｉＸ_４、ＳｎＸ_２、ＳｎＸ_４、ＳｒＸ_２、ＴｈＸ_４、ＴｉＸ_２、ＴｉＸ_３、ＴｌＸ、ＵＸ_３、ＵＸ_４、ＶＸ_４、ＷＸ_６、ＹＸ_３、ＺｎＸ_２、及びＺｒＸ_４からなる群の１つ又はそれ以上を含む。

起電力（ＥＭＦ）及び熱エネルギを生成する電気化学パワーシステムの別の実施例は、Ｌｉを含むアノードと、無機Ｌｉ電解質及びＬｉＰＦ_６の少なくとも１つ及び有機溶媒を含む電解質と、オレフィン・セパレータと、オキシ水酸化物、ＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）、（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウト鉱、及び、γ−ＭｎＯ（ＯＨ）水マンガン鉱）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、及び、Ｎｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）のうちの少なくとも１つを含むカソードと、を含む。

別の実施例において、電気化学パワーシステムは、Ｌｉ、リチウム合金、Ｌｉ_３Ｍｇ、及び、Ｌｉ−Ｎ−Ｈ系の少なくとも１つを含むアノードと、溶融塩電解質と、Ｈ_２ガス、多孔カソード、Ｈ_２及び水素透過膜、及び、アルカリ・アルカリ土類・遷移金属・内部遷移金属・希土類水素化物の少なくとも１つの金属水素化物の少なくとも１つを含む水素カソードと、を含む。

本開示は更に、ａ）からｈ）のセルの少なくとも１つを含む電気化学パワーシステムに関する。ここで、
ａ）（ｉ）Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、又は、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、ＴｉＭｎ_２Ｈ_ｘ、及びＬａ_２Ｎｉ_９ＣｏＨ_６（ｘは整数）から選択される１つのような金属水素化物と、（ｉｉ）ＭＯＨ若しくはＭ（ＯＨ）_２、又は、Ｍ及びＭ’がＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、及びＢａから独立に選択される１つ以上のような金属であり、水酸化物、ハロゲン化物、硫酸塩、及び炭酸塩から選択される１つのようにＸはアニオンであるところ、Ｍ’Ｘ若しくはＭ’Ｘ_２を備えるＭＯＨ若しくはＭ（ＯＨ）_２から選択される１つのような溶融電解質と、（ｉｉｉ）アノードの金属と同じであり、更に、空気又はＯ_２を含むカソードと、を含むセル。
ｂ）（ｉ）Ｒ−Ｎｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、Ｗ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｉｎ、及びＰｂから選択される１つのような少なくとも１つの金属を含むアノードと、（ｉｉ）約１０Ｍから飽和するまでの範囲の濃度を持つアルカリ水酸化物水溶液を含む電解質と、（ｉｉｉ）オレフィン・セパレータと、（ｉｖ）カーボン・カソードと、更に、空気又はＯ_２と、を含むセル。
ｃ）（ｉ）溶融ＮａＯＨ及びＮｉのような水素透過膜及び水素ガスを含むアノードと、（ｉｉ）βアルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）を含む電解質と、及び、（ｉｉｉ）ＮａＣｌ−ＭｇＣｌ_２、ＮａＣｌ−ＣａＣｌ_２、又はＭＸ−Ｍ’Ｘ_２’（Ｍはアルカリで、Ｍ’はアルカリ土類で、Ｘ及びＸ’はハライド）のような溶融共晶塩を含むカソードと、を含むセル。
ｄ）（ｉ）溶融Ｎａを含むアノードと、（ｉｉ）βアルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）を含む電解質と、及び、（ｉｉｉ）溶融ＮａＯＨを含むカソードと、を含むセル。
ｅ）（ｉ）ＬａＮｉ_５Ｈ_６のような水素化物を含むアノードと、（ｉｉ）約１０Ｍから飽和するまでの範囲の濃度を持つアルカリ水酸化物水溶液を含む電解質と、（ｉｉｉ）オレフィン・セパレータと、（ｉｖ）カーボン・カソードと、更に、空気又はＯ_２と、を含むセル。
ｆ）（ｉ）Ｌｉを含むアノードと、（ｉｉ）オレフィン・セパレータと、（ｉｉｉ）ＬＰ３０及びＬｉＰＦ_６を含む１つのような有機電解質と、及び、（ｉｖ）ＣｏＯ（ＯＨ）のようなオキシ水酸化物を含むカソードと、を含むセル。
ｇ）（ｉ）Ｌｉ_３Ｍｇのようなリチウム合金を含むアノードと、（ｉｉ）ＬｉＣｌ−ＫＣｌ又はＭＸ−Ｍ’Ｘ’（Ｍ及びＭ’はアルカリであり、Ｘ及びＸ’はハライドである）のような溶融塩電解質と、及び、（ｉｉｉ）ＣｅＨ_２、ＬａＨ_２、ＺｒＨ_２、及びＴｉＨ_２から選択される１つのような金属水素化物及びカーボンブラックを含むカソードと、を含むセル。
ｈ）（ｉ）Ｌｉを含むアノードと、（ｉｉ）ＬｉＣｌ−ＫＣｌ又はＭＸ−Ｍ’Ｘ’（Ｍ及びＭ’はアルカリであり、Ｘ及びＸ’はハライドである）のような溶融塩電解質と、及び、（ｉｉｉ）ＣｅＨ_２、ＬａＨ_２、ＺｒＨ_２、及びＴｉＨ_２から選択される１つのような金属水素化物及びカーボンブラックを含むカソードと、を含むセル。
本開示は、更に、Ｎｉ（Ｈ_２）と称される水素電極が、透過性の、分散性の、及び断続的な電気分解による水素の源の少なくとも１つを含む［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ］セルと、Ｎｉ（Ｈ_２）と称される水素電極が、透過性の水素の源を含む、［ＰｔＴｉ／Ｈ_２ＳＯ_４（約５Ｍ水溶液）又はＨ_３ＰＯ_４（約１４．５Ｍ水溶液）／ＰｔＴｉ］断続的電気分解、及び［ＮａＯＨＮｉ（Ｈ_２）／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌＭｇＣｌ_２］セルと、の少なくとも１つを含む電気化学パワーシステムに関する。妥当な実施例において、水素電極は、ＮｉＯのような保護性の酸化物コーティングを持つように調製されるニッケルのような金属を含む。酸化物コーティングは、酸素を含む雰囲気のような酸化性の雰囲気において酸化又は陽極酸化されることにより形成されるかもしれない。

本開示は、更に、Ｎｉ（Ｈ_２）と称される水素電極が、透過性の、分散性の、及び断続的な電気分解による水素の源の少なくとも１つを含む［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ］セルと、Ｎｉ（Ｈ_２）と称される水素電極が、透過性の水素の源を含む、［ＰｔＴｉ／Ｈ_２ＳＯ_４（約５Ｍ水溶液）又はＨ_３ＰＯ_４（約１４．５Ｍ水溶液）／ＰｔＴｉ］断続的電気分解、及び［ＮａＯＨＮｉ（Ｈ_２）／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌＭｇＣｌ_２］セルと、の少なくとも１つを含む電気化学パワーシステムに関する。

本開示は更に、ａ）からｄ）のセルの少なくとも１つを含む電気化学パワーシステムに関する。ここで、それらのセルは、それぞれ、
ａ）（ｉ）透過の、散布の、及び断続的な電気分解の水素の源の少なくとも１つを含むＮｉ（Ｈ_２）と称される水素電極を含むアノードと、（ｉｉ）ＭＯＨ若しくはＭ（ＯＨ）_２、又は、Ｍ及びＭ’がＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、及びＢａから独立に選択される１つ以上のような金属であり、水酸化物、ハロゲン化物、硫酸塩、及び炭酸塩から選択される１つのようにＸはアニオンであるところ、Ｍ’Ｘ若しくはＭ’Ｘ_２を備えるＭＯＨ若しくはＭ（ＯＨ）_２から選択される１つのような溶融電解質と、（ｉｉｉ）アノードの金属と同じであり、更に、空気又はＯ_２を含むカソードと、を含み、
ｂ）（ｉ）透過の、散布の、及び断続的な電気分解の水素の源の少なくとも１つを含む、Ｎｉ（Ｈ_２）と称される水素電極を含むアノードと、（ｉｉ）ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ、ＮａＯＨ−ＮａＢｒ、又はＮａＯＨ−ＮａＩのような溶融電解質と、（ｉｉｉ）空気又はＯ_２を更に含む、アノードのそれと同じであるものであるかもしれない金属を含むカソードと、を含み、
ｃ）（ｉ）Ｐｔ／Ｔｉのような貴金属を含むアノードと、（ｉｉ）それぞれ、１から１０Ｍ及び５から１５Ｍの濃度範囲にあるかもしれないＨ_２ＳＯ_４又はＨ_３ＰＯ_４のような酸性水溶液電解質と、及び（ｉｉｉ）空気又はＯ_２を更に含む、アノードのそれと同じであるものであるかもしれない金属を含むカソードと、を含み、
ｄ）（ｉ）透過の水素の源を含むＮｉ（Ｈ_２）と称される水素電極及び溶融ＮａＯＨを含むアノードと、（ｉｉ）ベータアルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）を含む電解質と、及び（ｉｉｉ）ＮａＣｌ−ＭｇＣｌ_２、ＮａＣｌ−ＣａＣｌ_２、又はＭＸ−Ｍ’Ｘ_２’（Ｍはアルカリ、Ｍ’はアルカリ土類、並びにＸ及びＸ’はハライド）のような溶融共晶塩を含むカソードと、を含む。

本開示の更なる実施例は、ｎ＝１の状態の原子Ｈに低エネルギー状態を形成するようにできる水素触媒、原子上水素の源、及び低エネルギー水素を形成するように反応を開始・伝播できる他の種を含む、電気化学セルのそれらのような触媒システムに関する。ある実施例において、本開示は、少なくとも１つの原子状水素源と、ハイドリノを形成する水素の触媒作用を支持するための少なくとも１つの触媒又は触媒源とを含む反応混合物に関する。固体及び液体燃料に代わりここに開示される反応物及び反応はまた、混合相を含む不均一燃料の反応物及び反応である。反応混合物は水素触媒又は水素触媒源及び原子状水素又は原子状水素源から選択された少なくとも２種の成分から成り、原子状水素及び水素触媒の少なくとも１つは反応混合物の反応により形成されてもよい。他の実施態様では、反応混合物はさらに、特定の実施態様で導電性である支持体、還元剤、及び酸化剤を含み、反応を経ることにより少なくととも１つの反応物が触媒を活性化させる。反応物は、加熱による如何なる非ハイドリノ生成物に対して生成される。

本開示はまた、
原子水素の触媒作用のための反応セルと、
反応容器と、
真空ポンプと、
反応容器に連通する原子水素の源と、
反応容器に連通するバルク材料を含む水素触媒の源と、
原子水素及び水素触媒の少なくとも１つがそのような源から形成されるように、原子水素及び水素触媒の少なくとも１つを形成する１又はそれ以上の元素を含む、少なくとも１つの反応物、及び少なくとも１つの他の元素を含む反応混合物を含む水素触媒の源及び原子水素の源の少なくとも１つの源と、
触媒作用を引き起こす少なくとも１つの他の反応物と、
容器のためのヒータと、を含むパワー源であって、
それによって、原子水素の触媒作用が、１水素モルあたり、約３００ｋＪより大きな量において、エネルギーを放出する、パワー源に関する。

ハイドリノを形成する反応は、１つ以上の化学反応により活性化されるか開始されて、伝播されてよい。これらの反応は、以下のものから例として選択され得る。（ｉ）水素化物交換反応、（ｉｉ）ハロゲン化物−水素化物交換反応（ｉｉｉ）特定の実施例においてハイドリノ反応のために活性化エネルギーを提供する発熱反応、（ｉｖ）実施例においてハイドリノ反応をサポートするための少なくとも１つの触媒源又は原子水素を提供する共役反応、（ｖ）特定の実施例においてハイドリノ反応中、触媒からの電子受容体として作用するフリーラジカル反応、（ｖｉ）特定の実施例においてハイドリノ反応中、触媒からの電子受容体として作用する酸化還元反応、（ｖｉ）ある実施例において、触媒が原子水素からエネルギーを受け取り、ハイドリノを形成するとき、イオン化するため触媒の作用を促進する、ハロゲン化物、硫化物、水素化物、ヒ化物、酸化物、リン化物、及び窒素化物交換を含む陰イオン交換等の他の交換反応、並びに、（ｖｉｉ）以下のうち少なくとも１つを提供するゲッター、支持体、又はマトリックス支援ハイドリノ反応：（ａ）ハイドリノ反応のための化学環境、（ｂ）Ｈ触媒機能を促進するために電子を移動させる作用、（ｃ）可逆的相又は他の物理的変化若しくは電子状態における変化を受けること、（ｄ）ハイドリノ反応の程度又は速度の少なくとも１つを増加させるためにより低いエネルギーの水素生成物への結合。特定の実施例において、導電性の支持体は活性化反応を可能にする。

もう一つの実施例において、ハイドリノを形成する反応は、２つの金属のような少なくとも２つの種の間での水素化物交換及びハロゲン化物交換の少なくとも１つを含む。少なくとも１つの金属は、アルカリ金属又はアルカリ金属水素化物のようなハイドリノを形成する触媒又は触媒の源であるかもしれない。水素化物交換は、少なくとも２つの水素化物、少なくとも１つの金属及び少なくとも１つの水素化物、少なくとも２つの金属水素化物、少なくとも１つの金属及び少なくとも１つの金属水素化物、並びに２以上の種の間の交換若しくは２以上の種を含む交換との組合せのような他のものの間であるかもしれない。ある実施例において、水素化物交換は、（Ｍ_１）_ｘ（Ｍ_２）_ｙＨ_ｚ（ここで、ｘ、ｙ、及びｚは整数であり、Ｍ１とＭ２は金属である）のような混合金属水素化物を形成する。

本開示の他の実施例は、活性化反応及び／又は伝達反応における触媒が層間化合物を形成するために化合物又は材料との水素の源及び触媒の源若しくは触媒の反応を含み、反応物が層間化合物化された種によって再生されるところ、その反応物に関する。１つの実施例において、炭素は酸化剤として機能するかもしれず、そして、その炭素は、例えば、加熱により、置換剤の使用の使用により、電解的に、又は溶剤の使用により、アルカリ金属がインターカレートされた炭素から再生されるかもしれない。

追加の実施例において、本開示は、以下のようなものを含むパワー・システムに関する。
（ｉ）触媒の源又は触媒、原子水素の源又は原子水素、原子水素又は原子水素の源及び触媒の源又は触媒を形成する反応物、原子水素の触媒作用を開始させる１以上の反応物、そして、触媒作用を可能にする支持体から選択される少なくとも２つの構成要素を含む化学的な燃料混合物。
（ｉｉ）複数の容器を含む反応生成物から燃料を熱的に再生するような交換反応を逆転させるような少なくとも１つの熱的なシステムであって、
ここで、その混合物の反応の生成物から初期の化学的な燃料混合物を形成する反応を含む再生反応が、パワー反応を被る少なくとも１つの反応容器において行われ、
その熱的な再生のためのエネルギーを提供するために再生を被る少なくとも１つの容器へ、少なくとも１つのパワー・生成容器からの熱が流れ、
それらの容器は、熱流れを達成するように移動媒体の中に埋め込まれ、
少なくとも１つの容器は更に真空ポンプ及び水素の源を備え、そして、より冷たいチャンバーに種が優先的に蓄積されるようにより熱いチャンバーとこのより冷たいチャンバーの間で維持される温度差を持つ２つのチャンバーを更に含むかもしれず、
水素化反応がより熱いチャンバーへ回収される少なくとも１つの初期反応物を形成するようにより冷たいチャンバー内で行われる、少なくとも１つの熱的なシステム。
（ｉｉｉ）熱バリアを間に挟みパワー・生成反応容器から熱を受容するヒートシンク。
（ｉｖ）ランキン又はブレイトンーサイクルエンジン、蒸気機関、スターリングエンジンのような熱機関を含むかもしれない、熱電式の又は熱イオン式の変換器を含むかもしれない、パワー変換システム。特定の実施例において、そのヒートシンクは、電気を生産するために、パワー変換システムへパワーを移動させるかもしれない。

特定の実施例において、パワー変換システムはヒートシンクから熱の流れ受容し、そして、特定の実施例において、ヒートシンクは蒸気発生器を含み、電気をを生産するためにタービンのような熱機関に蒸気が流れる。

追加の実施例において、本開示は、以下のようなものを含むパワーシステムに関する。
（ｉ）触媒の源又は触媒、原子水素の源又は原子水素、原子水素の源又は原子水素及び触媒の源又は触媒を形成する反応物、原子水素の触媒作用を開始させる１以上の反応物、及び触媒作用を可能にする支持体から選択される少なくとも２つの構成要素を含む化学的な燃料混合物。
（ｉｉ）少なくとも１つの反応容器を備える反応生成物から燃料を熱的に再生するような交換反応を逆転させるための熱的なシステムであって、
その混合物の反応の生成物から初期の化学的な燃料混合物を形成する反応を含む再生反応が、パワー反応と連動してその少なくとも１つの反応容器において行われ、パワー生成反応からの熱が熱的な再生のためエネルギーを提供するために再生反応に流れ、少なくとも１つの容器が、１つのセクションで断熱され、そして、種が優先的により冷たいセクションに蓄積するようにその容器のより熱いセクション及びより冷たいセクションのそれぞれの間に熱勾配を達成するように別のセクションで熱伝導性の媒体に接触している、熱的なシステム。
（ｉｉｉ）少なくとも１つの熱的なバリアをオプションとして隔てて、熱伝導性の媒体を通して移動されるパワー生成反応からの熱を受容するヒートシンク。
（ｉｖ）ランキン又はブレイトンーサイクルエンジン、蒸気機関、スターリングエンジンのような熱機関を含むかもしれず、熱電式の又は熱イオン式の変換器を含むかもしれず、そして、ヒートシンクからの熱の流れを受容する、パワー変換システム。

実施例において、ヒートシンクは、電気を生成するタービンのような熱エンジンへの蒸気の流れ及び上記の発生を含む。

図１は、本開示による、バッテリ及び燃料電池及び電解質セルの概略図である。図２は、本開示による、ＣＩＨＴセルの概略図である。図３は、本開示によるＣＩＨＴセル双極性プレート（ｄｉｐｏｌａｒｐｌａｔｅ）の概略図である。図４は、本開示による３つの半−セルのＣＩＨＴセルの概略図である。図５は、本開示によるＨ_２Ｏ及びＨ_２収集及びリサイクルシステムを含むＣＩＨＴセルの概略図である。

本開示の実施例の詳細な記述
本開示は、原子水素からエネルギーを放出し、電子殻が核に相対的により近い位置にある、より低いエネルギー状態を形成する、触媒システムに関する。放出されたパワーは発電に利用され、そして、新たな水素種及び化合物は所望の生成物である。これらのエネルギー状態は従来の物理的法則により予測され、対応するエネルギー放出遷移をするために水素からエネルギーを受け取る触媒を必要とする。

古典物理学は、水素原子、水素イオン、水素分子イオン、及び、水素分子の閉形式解を与え、分数の主量子数を持つ対応する種を予測する。マクスウェル方程式を使い、電子は、束縛されたｎ＝１状態の電子がエネルギーを放出できないと拘束して遷移間の時間変動性の電磁気場のソース電流を含むとして、電子の構造が境界値問題として導かれた。Ｈ原子の解によって予測される反応は、以前に可能と思われていたよりも低いエネルギー状態における水素を形成するために、さもなければ安定な原子水素から、エネルギーを受け入れることができる触媒へと、共鳴する非放射的なエネルギー伝達を含む。具体的には、古典物理学は、Ｅ_ｈが１ハートリーであるときに、Ｅ_ｈ＝２７．２ｅＶである原子水素のポテンシャルエネルギーの整数倍の正味エンタルピーを伴う反応を提供する、ある特定の原子、エキシマー、イオン、及び、２原子水素化物との、触媒反応を、原子水素が、受ける（被る）かもしれないことを予測する。それらの知られた電子エネルギーレベルを基礎として識別可能な特定の種（例えば、Ｈｅ^＋、Ａｒ^＋、Ｓｒ^＋、Ｋ、Ｌｉ、ＨＣｌ、そしてＮａＨ、ＯＨ、ＳＨ、ＳｅＨ、Ｈ２Ｏ、ｎＨ（ｎ＝整数））は、プロセスを触媒するために原子水素と共に存在することが要求される。反応は、分数の主量子数に対応する未反応の原子水素よりもエネルギーにおいてより低い水素原子、及び、特別に熱く励起状態のＨを形成するために、Ｈへのｑ・１３．６ｅＶのエネルギー移動又はｑ・１３．６ｅＶの連続発光が続く非放射的なエネルギー移動を含む。即ち、水素原子の主エネルギー準位に対する式において、次の式が得られる。
Ｅｎ＝ −ｅ^２／ｎ^２８πε_０α_Ｈ＝ −１３．５９８ｅＶ／ｎ^２（１）
ｎ＝１，２，３，・・・（２）
ここで、ｎ＝１，２，３，・・・であり、ａ_Ｈは、水素原子（５２．９４７ｐｍ）のボーア半径であり、ｅは電子の電荷の大きさ、ε_０は真空の誘電率であり、分数の量子数は、次のようになる。
ｎ＝１，１／２，１／３，１／４，・・・・１／ｐ，（３）
ここで、ｐ≦１３７は整数
ここで、ｐは、ｐ≦１３７となる整数であるが、励起状態の水素に対するリュードベリ式におけるｎ＝整数のよく知られるパラメータに置き換わり、「ハイドリノ」と呼ばれるより低いエネルギー状態の水素原子を表す。そして、マクスウェル方程式の解析解を持つ励起励起状態と同様に、ハイドリノ原子もまた、電子、陽子、及び光子を含む。しかし、後者の電場は、励起状態にあるので、エネルギーの吸収で中心場を減少させるよりむしろ、エネルギーの脱離に対応して結合力を増加させ、ハイドリノの結果として起こる光子−電子相互作用が放射性というよりはむしろ安定である。

水素のｎ＝１の状態、及び、水素のｎ＝１／整数の状態は、非放射性であるが、例えばｎ＝１からｎ＝１／２というような２つの非放射性の状態の間での遷移は、非放射性のエネルギー移動を介して可能である。水素は、水素又はハイドリノ原子の対応する半径が、次の式で与えられるところ、式（１）及び（３）によって与えられる安定状態の特別なケースである。
ｒ＝ａ_Ｈ／ｐ（４）
ここで、ｐ＝１，２，３，・・・・である。エネルギーの保存のため、エネルギーは水素原子から触媒へ次のような単位で移動しなければならない。
ｍ・２７．２ｅＶ，ｍ＝１，２，３，４，・・・（５）
そして、半径遷移は、ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）へとなる。触媒反応はエネルギー放出の２つのステップ：触媒への非放射的なエネルギーの移動、及び、それに続いて起きる対応する安定な最終状態に半径が減少する際の追加のエネルギー放出を含む。触媒作用の速度は、反応の正味のエンタルピーが、ｍ・２７．２ｅＶにより近くに合うと増大すると信じられている。ｍ・２７．２ｅＶの±１０％以内好ましくは±５％以内の正味の反応のエンタルピーを持つ触媒が大抵の応用に対して好ましいことが見出されてきた。より低いエネルギー状態への水素原子の触媒作用の場合は、ｍ・２７．２ｅＶ（式（５））の反応のエンタルピーが、ハイドリノ原子のポテンシャルエネルギーと同じファクターによって相対論的に補正される。

従って、一般的な反応は、次式で与えられる。
ｍ・２７．２ｅＶ＋Ｃａｔ^ｑ＋＋Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｃａｔ^{（ｑ＋ｒ）＋}＋ｒｅ⁻＋Ｈ^＊［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］＋ｍ・２７．２ｅＶ
（６）
Ｈ^＊［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］＋［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ
−ｍ・２７．２ｅＶ（７）
Ｃａｔ^{（ｑ＋ｒ）＋}＋ｒｅ⁻ → Ｃａｔ^ｑ＋＋ｍ・２７．２ｅＶ（８）
更に
ここで、全反応は、次式の通りである。
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］＋［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（９）
ここで、ｑ、ｒ、ｍ、及びｐは整数である。Ｈ^＊［а_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］は、水素原子の半径（分母において１に相当）、及び陽子の（ｍ＋ｐ）倍に等価な中心場を持ち、Ｈ［а_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］は、Ｈのそれの１／（ｍ＋ｐ）の半径を備える安定した状態に相当する。電子が、水素原子の半径からこの距離の１／（ｍ＋ｐ）の半径へと半径方向加速度を受けて、エネルギーは、特徴的な発光として、又は、第三体の運動エネルギーとして、放出される。発光は、［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２−２ｍ］・１３．６ｅＶ又は９１．２／［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２−２ｍ］ｎｍで端を持ち、より長い波長に及ぶ極端紫外線連続放射の形態であるかもしれない。放射に加えて、高速Ｈを形成する共鳴する運動エネルギーの移動が起こるかもしれない。その代わりに、高速Ｈは、触媒として機能するＨ又はハイドリノの直接の生成物であるが、共鳴エネルギー移動の受領は、イオン化エネルギーというよりむしろポテンシャルエネルギーとみなす。エネルギーの変換は、前者の場合はポテンシャルエネルギーの半分に対応する運動エネルギーの陽子を与え、後者の場合は本質的に停止した触媒イオンを与える。高速陽子のＨ再結合放射は、過剰なパワーバランスに合致する高温水素の在庫に不釣り合いな広がったバルマ−α発光を引き起こす。

本開示において、ハイドリノ反応、Ｈ触媒作用、Ｈ触媒作用反応、水素を言及するときの触媒作用、ハイドリノを形成する水素の反応、及びハイドリノ形成反応のような用語は、全て、式（１）及び（３）によって与えられるエネルギー準位を持つ水素の状態を形成するように原子水素で、式（５）によって規定される触媒の式（６−９）のそれのような反応を意味する。ハイドリノ反応物、ハイドリノ反応混合物、触媒混合物、ハイドリノ形成のための反応物、より低いエネルギー状態の水素又はハイドリノを形成又は生産する反応物はまた、式（１）及び（３）によって与えられるエネルギー準位を持つハイドリノ状態又はＨ状態へとＨの触媒作用を形成する反応混合物について言及するとき、交換可能に用いられる。

本開示の触媒的なより低いエネルギーの水素の遷移は、原子Ｈから遷移を引き起こすエネルギーを受取り、かつ、触媒によらない原子水素のポテンシャルエネルギーである２７．２ｅＶの整数ｍの吸熱化学反応の形式であってよい触媒を必要とする。吸熱の触媒反応は、原子又はイオンのような（例えば、Ｌｉ→Ｌｉ^２＋に対するｍ＝３）種からの１又はそれ以上の電子のイオン化であるかもしれず、最初の結合（例えば、ＮａＨ→Ｎａ^２＋＋Ｈに対するｍ＝２）のパートナーの１又はそれ以上から、１又はそれ以上の電子のイオン化で結合切断の協奏反応を更に含むかもしれない。Ｈｅ^＋は、それが２×２７．２ｅＶという５４．４１７ｅＶでイオン化するので、２７．２ｅＶの整数倍に等しいエンタルピー変化を伴う化学的又は物理的プロセスという触媒基準を満たす。２つの水素原子は、同じエンタルピーの触媒としてもまた機能してもよい。水素原子Ｈ（１／ｐ）ｐ＝１，２，３，・・・１３７は、式（１）及び（３）によって与えられるより低位のエネルギー状態への更なる遷移を経験することができる。ここで、１つの原子の遷移は、そのポテンシャルエネルギーにおいて同時に起きる逆の変化と共に、ｍ・２７．２ｅＶを共鳴的に及び非放射的に受取る第２のものによって触媒される。Ｈ（１／ｐ’）へのｍ・２７．２ｅＶの共鳴伝達により誘発されるＨ（１／ｐ）からＨ（１／（ｐ＋ｍ））への遷移に対する全体の一般式は、次のように表される。
Ｈ（１／ｐ’）＋Ｈ（１／ｐ） →
Ｈ＋Ｈ（１／（ｐ＋ｍ））＋［２ｐｍ＋ｍ^２−ｐ’^２＋１］・１３．６ｅＶ
（１０）
衝突相手の第３の水素原子から５４．４ｅＶを２つの原子が共鳴的に及び非放射的に受取り、２Ｈを形成するように、極めて高速のＨが１つの分子と衝突するとき、２つの原子触媒２Ｈに対する速度は高いかもしれない。同じメカニズムによって、２つの高温Ｈ_２の衝突は、第４の水素原子に対して３・２７．２ｅＶの触媒として機能するように３Ｈを供給する。２２．８ｎｍ及び１０．１ｎｍでのＥＵＶ連続体、異常な（＞１００ｅＶ）バルマ−α線の広がり、高く励起されたＨ状態、生成ガスＨ_２（１／４）、及び大きなエネルギー放出は、予告に一致して観測される。

Ｈ（１／４）は、その多極化及びその形成のための選択規則に基づき、好ましいハイドリノ状態である。このようにして、Ｈ（１／３）が形成される場合、Ｈ（１／４）への遷移は、式（１０）により、Ｈによって素早く触媒されて起きるかもしれない。同様に、Ｈ（１／４）は、式（５）において、ｍ＝３に対応する８１．６ｅＶに等しいかそれ以上の触媒エネルギーに対する好ましい状態である。この場合、触媒へのエネルギー移動は、中間物の崩壊からの２７．２ｅＶの１整数倍だけでなく、式（７）のＨ^＊（１／４）中間物を形成する８１．６ｅＶを含む。例えば、１０８．８ｅＶのエンタルピーを持つ触媒は、１２２．４ｅＶのＨ^＊（１／４）の崩壊エネルギーからの２７．２ｅＶだけでなく、８１．６ｅＶを受入れることにより、Ｈ＊（１／４）を形成するかもしれない。９５．２ｅＶの残りの崩壊エネルギーは、環境に放出され、好ましい状態Ｈ（１／４）を形成し、そして、反応してＨ_２（１／４）を形成する。

適当な触媒は従って、ｍ・２７．２ｅＶの反応の正味で正のエンタルピーを提供することができる。即ち、触媒は、共鳴して、水素原子から非放射性のエネルギー移転を受入れ、そして、周囲にそのエネルギーを放出して、分数の量子エネルギーレベルへとの電子の遷移に影響を与える。非放射性のエネルギー移転の結果として、その水素原子は不安定になり、式（１）及び（３）により与えられる主エネルギーレベルを持つより低いエネルギーの非放射性の状態を達成するまで、更にエネルギーを放射する。このようにして、触媒作用は、水素原子のサイズ、ｒ_ｎ＝ｎ・ａ_Ｈ（ｎは式（３）により与えられる）、における釣合のとれた減少を伴う水素原子からのエネルギーを放出する。例えば、Ｈ（ｎ＝１）からＨ（ｎ＝１／４）への触媒反応は２０４ｅＶを放出し、水素半径は、ａ_Ｈから１／４・ａ_Ｈに減少する。

触媒生成物Ｈ（１／ｐ）はまた、ハイドリノイオンＨ⁻（１／ｐ）を形成するように電子と反応するかもしれず、２つのＨ（１／ｐ）は、対応する分子ハイドリノＨ_２（１／ｐ）を形成するように反応するかもしれない。特に、触媒生成物Ｈ（１／ｐ）はまた、結合エネルギーＥ_Ｂで、新規なハイドリノイオンＨ⁻（１／ｐ）を形成するように電子と反応するかもしれない。

ここで、ｐ＝整数＞１であり、ｓ＝１／２であり、

は換算プランク定数であり、μ_０は真空の透磁率であり、ｍｅは電子の質量であり、μｅは換算電子質量で次の式で与えられる。

ここで、ｍ_ｐは陽子の質量であり、ａ_０はボーア半径であり、イオン半径は、

である。式（１１）から、水素化物イオンの計算されたイオン化エネルギーは、０．７５４１８ｅＶであり、実験値は、６０８２．９９±０．１５ｃｍ^−１（０．７５４１８ｅＶ）である。ハイドリノ水素化物イオンの結合エネルギーは、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定されるかもしれない。

高磁場側へシフトしたＮＭＲピークは、通常の水素化物イオンに相対的して減少した半径を持ち、陽子の反磁性シールドにおける増加を持つ、より低いエネルギー状態の水素の存在の直接的な証拠である。シフトは、２つの電子の反磁性及び大きさｐの光子場の寄与の合計によって与えられる（ミルズのＧＵＴＣＰ式（７．８７））。

ここで、第１の項は、Ｈ⁻（１／ｐ）に対してｐ＝整数＞１及びｐ＝１で、Ｈ⁻に適用され、αは微細構造定数である。予測されたハイドリノ水素化物のピークは、通常の水素化物イオンに対して非常に高磁場にシフトする（ｕｐｆｉｅｌｄｓｈｉｆｔｅｄ）。１つの実施例において、複数のピークがＴＭＳの高磁場（ｕｐｆｉｅｌｄ）にある。ＴＭＳに対するＮＭＲシフトは、通常のＨ⁻、Ｈ、Ｈ_２、又はＨ^＋単独、或いは化合物の内の少なくとも１つに対して知られているシフトよりも大きいかもしれない。そのシフトは、０、−１、−２、−３、−４、−５、−６、−７、−８、−９、−１０、−１１、−１２、−１３、−１４、−１５、−１６、−１７、−１８、−１９、−２０、−２１、−２２、−２３、−２４、−２５、−２６、−２７、−２８、−２９、−３０、−３１、−３２、−３３、−３４、−３５、−３６、−３７、−３８、−３９、及び−４０ｐｐｍのうちの少なくとも１つよりも大きいかもしれない。ＴＭＳのシフトが裸のプロトンに相対して約−３１．５であるところ、裸のプロトンに相対する絶対シフト（ａｂｓｏｌｕｔｅｓｈｉｆｔ）の範囲は、±５ｐｐｍ、±１０ｐｐｍ、±２０ｐｐｍ、±３０ｐｐｍ、±４０ｐｐｍ、±５０ｐｐｍ、±６０ｐｐｍ、±７０ｐｐｍ、±８０ｐｐｍ、±９０ｐｐｍ、及び±１００ｐｐｍのうちの少なくとも１つくらいの範囲内にある−（ｐ２９．９＋ｐ^２２．７４）ｐｐｍ（式（１２））であるかもしれない。裸のプロトンに相対する絶対シフト（ａｂｓｏｌｕｔｅｓｈｉｆｔ）の範囲は、約０．１％から９９％、１％から５０％、及び１％から１０％の少なくとも１つくらいの範囲内における−（ｐ２９．９＋ｐ^２１．５９Ｘ１０^−３）ｐｐｍ（式（１２））かもしれない。別の実施例において、ＮａＯＨ又はＫＯＨのような水酸化物の固体マトリックスのような中にあるハイドリノ原子、ハイドリノ・イオン又は分子のようなハイドリノ種の存在は、マトリックスプロトンが高磁場シフトする（ｓｈｉｆｔｕｐｆｉｅｌｄ）ことを引き起こす。ＮａＯＨ又はＫＯＨのそれらのようなマトリックス・プロトンは、交換するかもしれない。１つの実施例において、シフトは、マトリックスピークが、ＴＭＳに相対して約−０．１から−５ｐｐｍの範囲内にあるようにするかもしれない。ＮＭＲの決定は、マジック・アングル・スピンニング^１Ｈ核磁気共鳴分光法（ｍａｇｉｃａｎｇｌｅｓｐｉｎｎｉｎｇ ^１Ｈｎｕｃｌｅａｒｍａｇｎｅｔｉｃｒｅｓｏｎａｎｃｅｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）（ＭＡＳ ^１ＨＮＭＲ）を含むかもしれない。

Ｈ（１／ｐ）は陽子と反応するかもしれず、２つのＨ（１／ｐ）は反応して、Ｈ_２（１／ｐ）^＋及びＨ_２（１／ｐ）をそれぞれ形成するかもしれない。水素分子イオン及び分子電荷及び電流密度関数、結合距離、及びエネルギーは、非放射の拘束条件で楕円座標においてラプラシアンから解かれた。

長円分子軌道の各焦点で、＋ｐｅの中心場を持つ水素分子イオンの全エネルギーＥ_Ｔは、次の通りである。

ここで、ｐは整数であり、ｃは真空中の光の速度であり、μは換算された原子核の質量である。長円分子軌道の各焦点で、＋ｐｅの中心場を持つ水素分子イオンの全エネルギーは、次の通りである。

水素分子Ｈ_２（１／ｐ）の結合解離エネルギーＥ_Ｄは、対応する水素原子の全エネルギー及びＥ_Ｔの間の差である。
Ｅ_Ｄ＝Ｅ（２Ｈ（１／ｐ））−Ｅ_Ｔ（１６）
ここで、次のようになる。
Ｅ（２Ｈ（１／ｐ））＝−ｐ^２２７．２０ｅＶ（１７）
Ｅ_Ｄは、式（１６−１７）及び（１５）によって与えられる。
Ｅ_Ｄ＝−ｐ^２２７．２０ｅＶ−Ｅ_Ｔ
＝−ｐ^２２７．２０ｅＶ−（−ｐ^２３１．３５１ｅＶ−ｐ^３０．３２６４６９ｅＶ
＝ｐ^２４．１５１ｅＶ＋ｐ^３０．３２６４６９ｅＶ（１８）
Ｈ_２（１／ｐ）は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって同定されるかもしれないが、ここで、イオン化された電子に加えて、イオン化の生成物は、２つのプロトン及び１つの電子を含むそれら、１つのＨ原子、１つのハイドリノ原子、分子イオン、水素分子イオン、及びＨ_２（１／ｐ）^＋、ここで、それらのエネルギーは、マトリックスによってシフトされるかもしれないが、そのような可能性の少なくとも１であるかもしれない。

触媒反応生成ガスのＮＭＲは、Ｈ_２（１／ｐ）の理論的に予測されるケミカルシフトの最も信頼できる試験を提供する。一般に、Ｈ_２（１／ｐ）の^１ＨＮＭＲ共鳴は、楕円座標における分数半径によるＨ_２のそれから高磁場になると予測されるが、ここで、電子は原子核に極めて近いところにある。Ｈ_２（１／ｐ）に対する予測されたシフト、ΔＢ_Ｔ／Ｂは、大きさｐのプロトン場及び２つの電子の反磁性の寄与の合計によって与えられる（ミルズのＧＵＴＣＰ式（１１．４１５−１１．４１６））。

ΔＢ_Ｔ／Ｂ＝ −（ｐ２８．０１＋ｐ^２１．４９Ｘ１０^−３）ｐｐｍ
（２０）
ここで、最初の項は、Ｈ_２（１／ｐ）に対して、ｐ＝整数＞１及びｐ＝１であるときＨ_２に適用される。−２８．０ｐｐｍの実験での絶対Ｈ_２ガス−フェーズ共鳴シフトは、−２８．０１ｐｐｍの予測された絶対ガス−フェーズシフトと非常に良く一致している（式（２０））。予測される分子ハイドリノ・ピークは、通常のＨ_２に相対して非常に高磁場にシフト（ｕｐｆｉｅｌｄｓｈｉｆｔｅｄ）している。１つの実施例において、複数のピークはＴＭＳの高磁場（ｕｐｆｉｅｌｄ）にある。ＴＭＳに相対するＮＭＲシフトは、通常のＨ⁻、Ｈ、Ｈ_２、又はＨ^＋単独、或いは、化合物を含むものの少なくとも１に対して知られるそれよりも大きいかもしれない。シフトは、０、−１、−２、−３、−４、−５、−６、−７、−８、−９、−１０、−１１、−１２、−１３、−１４、−１５、−１６、−１７、−１８、−１９、−２０、−２１、−２２、−２３、−２４、−２５、，−２６、−２７、−２８、−２９、−３０、−３１、−３２、−３３、−３４、−３５、−３６、−３７、−３８、−３９、及び−４０ｐｐｍの少なくとも１よりも大きいかもしれない。裸のプロトンに相対する絶対シフトの範囲は、ここで、ＴＭＳのシフトが裸のプロトンに相対して約−３１．５であるが、±５ｐｐｍ、±１０ｐｐｍ、±２０ｐｐｍ、±３０ｐｐｍ、±４０ｐｐｍ、±５０ｐｐｍ、±６０ｐｐｍ、±７０ｐｐｍ、±８０ｐｐｍ、±９０ｐｐｍ、及び±１００ｐｐｍの少なくとも１つあたりの範囲内にある−（ｐ２８．０１＋ｐ^２２．５６）ｐｐｍ（式（２０））であるかもしれない。裸のプロトンに相対する絶対シフト（ａｂｓｏｌｕｔｅｓｈｉｆｔ）の範囲は、約０．１％から９９％、１％から５０％、及び１％から１０％の少なくとも１つくらいの範囲内にある−（ｐ２８．０１＋ｐ^２１．４９Ｘ１０^−３）ｐｐｍ（式（２０））かもしれない。

水素タイプ分子Ｈ_２（１／ｐ）のν＝０からν＝１への移行に対する振動エネルギーＥ_ｖｉｂは、次のようになる。
Ｅ_ｖｉｂ＝ｐ^２０．５１５９０２ｅＶ（２１）
ここで、ｐは整数である。

水素タイプ分子Ｈ_２（１／ｐ）のＪからＪ＋１への移行に対する回転エネルギーＥ_ｒｏｔは、次のようになる。

ここで、ｐは整数であり、Ｉは慣性モーメントである。Ｈ_２（１／４）のＲｏ−振動発光は、ガスにおいてｅ−ビーム励起された分子及び固体マトリックスにトラップされた分子に関して観測された。

回転エネルギーのｐ^２依存性は、慣性Ｉのモーメントによる対応する衝撃及び核間距離のｐの逆数依存性からの結果である。Ｈ_２（１／ｐ）に対する予測された核間距離２ｃ’は、次の通りである。

Ｈ_２（１／ｐ）の回転及び振動エネルギーの少なくとも１つは、電子線励起発光分光法、ラマン分光法、及びフーリエ解析赤外線分光法（ＦＴＩＲ）の少なくとも１つによって測定されるかもしれない。Ｈ_２（１／ｐ）は、ＭＯＨ、ＭＸ、及びＭ_２ＣＯ_３（Ｍ＝アルカリ金属；Ｘ＝ハロゲン化物）マトリックスの少なくとも１つ内のような測定のためのマトリックス内にトラップされるかもしれない。

Ｈｅ^＋、Ａｒ^＋、Ｓｒ^＋、Ｌｉ、Ｋ、ＮａＨ、ｎＨ（ｎ＝整数）、及びＨ_２Ｏは、触媒として機能すると予測される。なぜならば、それらは、２７．２ｅＶの原子状水素のポテンシャルエネルギーの整数倍に等しいエンタルピー変化を伴う化学的な又は物理的なプロセス、という触媒基準を満たすからである。特に、触媒システムは、ｔ電子のイオン化エネルギーの合計がｍを整数として、およそｍ・２７．２ｅＶであるように連続するエネルギーレベルへの各原子からのｔ電子のイオン化によって供給される。あるそのような触媒システムはリチウム原子を含む。リチウムの第１及び第２イオン化エネルギーは、それぞれ５．３９１７２ｅＶ及び７５．６４０１８ｅＶである。ＬｉからＬｉ^２＋へのダブルイオン化（ｔ＝２）反応は、従って、８１．０３１９ｅＶの反応の正味のエンタルピーを持ち、これは３・２７．２ｅＶに等価である。
８１．０３１９ｅＶ＋Ｌｉ（ｍ）＋Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｌｉ^２＋＋２ｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋３）］
＋［（ｐ＋３）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（２４）
Ｌｉ^２＋＋２ｅ⁻＋ → Ｌｉ（ｍ）＋８１．０３１９ｅＶ
（２５）
そして、全反応は次のようになる。
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋３）］＋［（ｐ＋３）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（２６）
ここで、式（５）において、ｍ＝３である。触媒反応の間に与えられるエネルギーは、触媒に向かって失うエネルギーよりもずっと大きい。解放されるエネルギーは、従来の化学反応に比べて大きい。例えば、水素及び酸素ガスが燃焼して水を形成するときは、水形成の知られているエンタルピーは、水素原子あたり、ΔＨ_ｆ＝−２８６ｋＪ／ｍｏｌｅ又は１．４８ｅＶである。
Ｈ_２（ｇ）＋１／２Ｏ_２（ｇ） → Ｈ_２Ｏ（ｌ）（２７）
対照的に、ｎ＝１／２となる触媒工程を経る各通常の水素原子（ｎ＝１）は、４０．８ｅＶの正味のエネルギーを放出する。更に、触媒的な遷移が更に起こるかもしれない：ｎ＝１／２→１／３、１／３→１／４、１／４→１／５等である。一度触媒反応が開始すると、ハイドリノは、不均化と呼ばれるプロセスにおいて更に自触しするが、Ｈ又はＨ（１／ｐ）は、別のＨ又はＨ（１／ｐ’）のための触媒として機能する（ｐはｐ’に等しくてもよい）。

特定の分子がまた、ハイドリノを形成するためにＨの遷移を影響するように機能するかもしれない。一般に、Ｍが水素以外の元素であるところ、ＭＨのような水素を含む化合物は、水素の源及び触媒の源として機能する。触媒反応は、ｔ電子の結合エネルギー及びイオン化エネルギーの合計が、ｍが整数であるところ、およそｍ・２７．２ｅＶであるように、原子Ｍから連続エネルギーレベルへとｔ電子のイオン化に加え、Ｍ−Ｈ結合の解離によって提供される。そのような触媒システムの１つは水素化ナトリウムを含む。ＮａＨの結合エネルギーは１．９２４５ｅＶであり、Ｎａの第１及び第２イオン化エネルギーは、それぞれ５．１３９０８ｅＶ及び４７．２８６４ｅＶである。これらのエネルギーに基づき、ＮａＨ分子は、触媒及びＨ源として機能する。なぜならば、ＮａからＮａ２＋へと２重イオン化（ｔ＝２）を加えたＮａＨの結合エネルギーは、５４．３５ｅＶ（２・２７．２ｅＶ）である。協奏する触媒反応は次のように与えられる。
５４．３５ｅＶ＋ＮａＨ →
Ｎａ^２＋＋２ｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／３］＋［３^２−１^２］・１３．６ｅＶ（２８）
Ｎａ^２＋＋２ｅ⁻＋Ｈ → ＮａＨ＋５４．３５ｅＶ（２９）
そして、全反応は、次のようになる。
Ｈ → Ｈ［ａ_Ｈ／３］＋［３^２−１^２］・１３．６ｅＶ（３０）

ｍ＝２で、触媒ＮａＨの生成物は、直ちにＨ（１／４）を形成し、そして、好ましい状態として分子ハイドリノＨ_２（１／４）を形成するように反応するＨ（１／３）である。特に、高い水素原子濃度の場合は、触媒（ｐ’＝１、ｍ＝１）としてのＨを備えてＨ（１／３）（ｐ＝３）からＨ（１／４）（ｐ＋ｍ＝４）への式（１０）により与えられる更なる遷移は、速くなり得る。

対応する分子ハイドリノＨ_２（１／４）及びハイドリノ水素化物イオンＨ⁻（１／４）は、観測に一致する好ましい最終生成物である。なぜならば、ｐ＝４の量子状態が、更なる触媒反応のため長い理論的な寿命をＨ（１／４）を与える四極子のそれよりも大きい多極子を持つからである。

ヘリウムの第２イオン化エネルギーが５４．４１７ｅＶであり、それは２・２７．２ｅＶであるので、ヘリウムイオンは、触媒として機能する。この場合、５４．４１７ｅＶは、原子状水素から、共鳴的にイオン化されたＨｅ^＋へ非放射的に移動される。電子は、式（３３）において与えられるように５４．４１７ｅＶの更なる解放でｎ＝１／３に崩壊する。触媒反応は以下の通りである。
５４．４１７ｅＶ＋Ｈｅ^＋＋Ｈ［ａ_Ｈ］ →
Ｈｅ^２＋＋ｅ⁻＋Ｈ^＊［ａ_Ｈ／３］＋５４．４ｅＶ（３２）
Ｈ^＊［ａ_Ｈ／３］ → Ｈ［ａ_Ｈ／３］＋５４．４ｅＶ（３３）
Ｈｅ^２＋＋ｅ⁻ → Ｈｅ^＋＋５４．４１７ｅＶ（３４）
そして、全反応は次の通りである。
Ｈ［ａ_Ｈ］ → Ｈ［ａ_Ｈ／３］＋５４．４ｅＶ＋５４．４ｅＶ（３５）
ここで、Ｈ^＊［ａ_Ｈ／３］は、水素原子の半径、及び、陽子のそれの３倍に等しい中心場を持ち、Ｈ［ａ_Ｈ／３］は、Ｈの１／３のそれの半径を持つ対応する安定状態である。電子が、水素原子の半径からこの距離の１／３の半径へとの半径加速を経ると、エネルギーが特徴的な光の発光又は第３体運動エネルギーとして解放される。２２．８ｎｍ（５４．４ｅＶ）から開始し、より長い波長に続く特徴的な連続発光は、エネルギーあるれるハイドリノ中間体が崩壊すると、この遷移反応として予測されるように、観測された。発光は、水素でヘリウムのパルス状の放電により記録されるＥＵＶスペクトルによって観測されてきた。その代わりとして、高速Ｈを形成するような共鳴運動エネルギーは、高い運動エネルギーのＨに対応する異常なバルマーのα線の広がりの観測と一致して生じるかもしれない。

水素及びハイドリノは触媒として機能してよい。水素原子Ｈ（１／ｐ）（ｐ＝１、２、３、・・・１３７）は、式（１）及び（３）によって与えられるより低いエネルギー状態への遷移を経ることができ、このとき、１つの原子の遷移は、そのポテンシャルエネルギーにおいて同時に起きる逆変化と共に、ｍ・２７．２ｅＶを共鳴的に及び非放射的に受ける第２の原子によって触媒される。ｍ・２７．２ｅＶからＨ（１／ｐ’）へとの共鳴伝達によって誘導されるＨ（１／ｐ）からＨ（１／（ｍ＋ｐ））への遷移のための全体の一般的な式は、式（１０）によって表される。このようにして、水素原子は、触媒として機能してよいが、それぞれ１、２、３原子に対して、ｍ＝１、ｍ＝２、ｍ＝３であり、他の溜めに触媒として作用する。２又は３原子触媒の場合の速度は、Ｈ密度が高いときにのみ重要になるであろう。しかし、高いＨ密度は通常ではない。第３から第４へとのエネルギーアクセプターとして機能する２Ｈ又は３Ｈを許す高い水素原子密度は、温度及び重力で導かれる密度によって太陽や星の表面において、複数の単分子層を指示する金属の表面において、及び、特に縮んだ水素プラスマのような高く分離したプラズマ内において、のようないくつかの環境下で達成されるかもしれない。更に、三体Ｈ相互作用は、２つのＨ原子が高温ＨとＨ_２の衝突によって生じるときに容易に達成される。この事象は、以上に高速なＨの高い密度を持つプラズマ内において一般に起こりえる。これは、原子状Ｈ発光の普通ではない高い強度によって証拠づけされる。そのような場合、エネルギー移動は、多極カップリングを介して典型的に数オングストロームである、十分に近い範囲内にある１つの水素原子から２つの他のものへと生じ得る。従って、２Ｈが触媒として機能するように第３の水素原子から５４．４ｅＶを共鳴的に及び非放射的に２つの原子が受け取るような、３つの水素原子間の反応は、以下の式で与えられ得る。
５４．４ｅＶ＋２Ｈ＋Ｈ →
２Ｈ_ｆａｓｔ ^＋＋２ｅ⁻＋Ｈ^＊［ａ_Ｈ／３］＋５４．４ｅＶ（３６）
Ｈ^＊［ａ_Ｈ／３］ → Ｈ［ａ_Ｈ／３］＋５４．４ｅＶ（３７）
２Ｈ_ｆａｓｔ ^＋＋２ｅ⁻ → ２Ｈ＋５４．４ｅＶ（３８）
そして、全反応は次の通りである。
Ｈ → Ｈ［ａ_Ｈ／３］＋［３^２−１^２］・１３．６ｅＶ（３９）
式（３７）のＨ^＊［ａ_Ｈ／３］中間物は、式（３３）のそれに等価であり、連続発光は、触媒としてＨｅ^＋に関するそれと同じであると予測される。２つのＨへのエネルギーの転位は、触媒の励起された状態のポンピングを引き起こし、高速Ｈが式（３６−３９）によって与えられるように、更に、触媒としてのＨｅ^＋の場合におけるように共鳴運動エネルギーの移動によって、直接生成される。２２．８ｎｍの連続放射、Ｈ励起状態のポンピング、及び高速Ｈはまた、２Ｈが触媒として機能するところ、水素プラズマに関して観測された。

式（３２−３５）及び式（３６−３９）によって、それぞれ与えられる、ヘリウムイオン及び２Ｈ触媒反応の両方の予測される生成物は、Ｈ（１／３）である。高い水素原子濃度の場合、触媒（ｐ’＝１、ｍ＝１）としてのＨを備えて、Ｈ（１／３）（ｐ＝３）からＨ（１／４）（ｐ＋ｍ＝４）への式（１０）によって与えられる更なる遷移は、式（３１）によって与えられるように速くなり得る。第２の連続バンドは、原子状水素が［ａ_Ｈ／３］から２７．２ｅＶを受け取るところ、Ｈｅ^＋触媒反応生成物［ａ_Ｈ／３］（式（３２−３５））から［ａ_Ｈ／４］状態へと引き続く高速遷移から生じると予測される。３０．４ｎｍ連続帯は、同様に観測された。同様に、Ａｒ^＋が触媒として機能するとき、９１．２ｎｍ及び４５．６ｎｍ連続帯が観測された。予測された高速Ｈは同様に観測された。

［ａ_Ｈ／４］状態への直接の遷移を含む別のＨ−原子触媒において、第４のために３・２７．２ｅＶの触媒として３つのＨ原子が機能するように、２つの高温Ｈ_２分子が、衝突し、解離するように、４つの水素原子間での反応は次の通りである。
８１．６ｅＶ＋３Ｈ＋Ｈ →
３Ｈ_ｆａｓｔ ^＋＋３ｅ⁻＋Ｈ^＊［ａ_Ｈ／４］＋８１．６ｅＶ（４０）
Ｈ^＊［ａ_Ｈ／４］ → Ｈ［ａ_Ｈ／４］＋１２２．４ｅＶ（４１）
３Ｈ_ｆａｓｔ ^＋＋３ｅ⁻ → ３Ｈ＋８１．６ｅＶ（４２）
そして、全反応は次の通りである。
Ｈ → Ｈ［ａ_Ｈ／４］＋［４^２−１^２］・１３．６ｅＶ（４３）
式（４０）のＨ^＊［ａ_Ｈ／４］中間体による極紫外線連続放射バンドは、１２２．４ｅＶ（１０．１ｎｍ）で短波長カットオフを持つと予測され、そして、より長い波長に延びると予測される。この連続バンドは、実験的に確認された。一般に、ｍ・２７．２ｅＶの受け取りによって、ＨのＨ［ａ_Ｈ／（ｐ＝ｍ＋１）］への遷移は、次の式で与えられるエネルギー：
Ｅ_{（Ｈ→Ｈ［ａＨ／ｐ＝ｍ＋１］）}
及び短波長カットオフを持つ連続バンドを与える。
Ｅ_{（Ｈ→Ｈ［ａＨ／ｐ＝ｍ＋１］）} ＝ｍ^２・１３．６ｅＶ（４４）
λ_{（Ｈ→Ｈ［ａＨ／ｐ＝ｍ＋１］）} ＝９１．２／ｍ^２ｎｍ（４５）
そして、それは対応するカットオフよりも長波長側に延びている。１０．１ｎｍ、２２．８ｎｍ、及び９１．２ｎｍの連続帯の水素発光シリーズは、実験的に観察された。

Ｉ．ハイドリノ
以下の式で与えられる結合エネルギーを持つ水素原子は、ｐが１より大きい整数で、好ましくは２から１３７であるところ、本開示のＨ触媒反応の生成物である。
結合エネルギー＝１３．６ｅＶ／（１／ｐ）^２（４６）
イオン化エネルギーとしても知られる、原子、イオン、又は分子の結合エネルギーは、原子、イオン、又は分子から１つの電子を取り除くために必要とされるエネルギーである。式（４６）で与えられる結合エネルギーを有する水素原子は、以降「ハイドリノ原子」又は「ハイドリノ」と称される。半径ａ_Ｈ／ｐ（式中ａ_Ｈは、通常の水素原子の半径であり、ｐは整数である）のハイドリノの記号表示は、Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］である。半径ａ_Ｈの水素原子は、以降、「通常の水素原子」又は「普通の水素原子」と称される。通常の原子水素は、１３．６ｅＶの結合エネルギーで特徴付けられる。

ハイドリノは、以下の正味反応エンタルピーを有する適当な触媒と通常の水素原子とを反応させることにより形成される。
ｍ・２７．２ｅＶ（４７）
ここで、ｍは整数である。正味の反応エンタルピーがｍ・２７．２ｅＶにより厳密に一致すると、触媒作用の速度が上昇すると考えられている。ｍ・２７．２ｅＶの±１０％（好ましくは±５％）以内の正味の反応エンタルピーを持つ触媒が、大抵の適用にふさわしいと発見されてきた。

この触媒作用は、水素原子のサイズｒ_ｎ＝ｎ_ａＨにおいて相応する減少とともに、水素原子からエネルギーを放出する。例えば、Ｈ（ｎ＝１）からＨ（ｎ＝１／２）への触媒作用は、４０．８ｅＶを放出し、そして、水素半径は、ａ_Ｈから（１／２）ａ_Ｈに減少する。触媒システムは、ｔ電子のイオン化エネルギーの和が近似的にｍ・２７．２ｅＶ（式中、ｍは整数である）であるような、連続体エネルギー準位への原子それぞれからのｔ電子のイオン化により提供される。

上に（式（６−９））与えられる触媒システムの更なる例は、セシウムを含む。セシウムの第１及び第２イオン化エネルギーは、それぞれ３．８９３９０ｅＶ及び２３．１５７４５ｅＶである。ＣｓからＣｓ^２＋へのダブルイオン化（ｔ＝２）反応は、２７．０５１３５ｅＶの反応の正味のエンタルピーを持ち、そして、そえは、式（４７）で、ｍ＝１に等価である。
２７．０５１３５ｅＶ＋Ｃｓ（ｍ）+Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｃｓ^２＋＋２ｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋１）］
＋［（ｐ＋１）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（４８）
Ｃｓ^２＋＋２ｅ⁻ → Ｃｓ（ｍ）＋２７．０５１３５ｅＶ（４９）
及び全反応は次の通りである。
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋１）］＋［（ｐ＋１）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（５０）

追加的な触媒システムはカリウム金属を含む。カリウムの第１、第２、及び第３のイオン化エネルギーは、４．３４０６６ｅＶ、３１．６３ｅＶ、４５．８０６ｅＶである。従って、ＫからＫ^３＋への３重イオン化（ｔ＝３）反応は、式（４７）において、ｍ＝３に等しい、８１．７７６７ｅＶの正味反応エンタルピーを有する。
８１．７７６７ｅＶ＋Ｋ（ｍ）+Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｋ^３＋＋３ｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋３）］＋［（ｐ＋３）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ
（５１）
Ｋ^３＋＋３ｅ⁻ → Ｋ（ｍ）＋８１．７４２６ｅＶ（５２）
また、全体的な反応は、以下の通りである。
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋３）］＋［（ｐ＋３）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（５３）
パワー源として、触媒作用の間に放たれるエネルギーは、触媒に持って行かれるエネルギーより非常に大きい。放出されるエネルギーは、従来の化学反応に比べ大きい。例えば、水素及び酸素ガスが水を形成するように燃焼したときには、水の生成の既知のエンタルピー変化は、ΔＨ_ｆ＝−２８６ｋＪ／ｍｏｌｅ又は１水素原子あたり１．４８ｅＶである。
Ｈ_２（ｇ）＋１／２Ｏ_２（ｇ） → Ｈ_２Ｏ（ｌ）（５４）
対照的に、触媒作用を受ける各通常の水素原子（ｎ＝１）は、正味４０．８ｅＶを放出する。更に、ｎ＝１／２→１／３，１／３→１／４，１／４→１／５，等のようにさらなる触媒の遷移が生じ得る。一旦触媒作用が始まると、ハイドリノは、不均化と呼ばれるプロセスにおいて自動触媒化する。このメカニズムは、無機イオン触媒のそれと類似している。しかし、ハイドリノ触媒作用は、ｍ・２７．２ｅＶへのエンタルピーのより良いマッチングのために、無機イオン触媒のそれより高い反応速度を持つであろう。

ｍがハイドリノを生成するための整数であるところ（それによって、ｔ電子は原子又はイオンからイオン化される）、約ｍ・２７．２ｅＶの反応の正味のエンタルピーを提供することができる水素触媒は、表１に与えられる。第１の欄に与えられる原子又はイオンは、ｍが第１１番目の欄内に与えられるところ、第１０番目の欄において与えられるｍ・２７．２ｅＶの反応の正味エンタルピーを提供するように、イオン化される。イオン化に参加する電子は、イオン化ポテンシャル（イオン化エネルギー又は結合エネルギーとも呼ばれる）と共に与えられる。原子又はイオンのｎ番目の電子のイオン化ポテンシャルは、ＩＰ_ｎによって名付けられ、ＣＲＣによって与えられる、これは例えば、Ｌｉ＋５．３９１７２ｅＶ→Ｌｉ^＋＋ｅ⁻及びＬｉ^＋＋７５．６４０２ｅＶ→Ｌｉ^２＋＋ｅ⁻である。第１イオン化ポテンシャル、ＩＰ_１＝５．３９１７２ｅＶ及び第２イオン化ポテンシャルＩＰ_２＝７５．６４０２ｅＶは、それぞれ第２及び第３欄に与えられる。Ｌｉの二重イオン化のための反応エンタルピーは、第１０欄に与えられているように８１．０３１９ｅＶであり、第１１欄に与えられているように式（５）においてｍ＝３である。

本開示のハイドリノ水素化物イオンは、ハイドリノ、即ち、約１３．６ｅＶ／ｎ^２の（式中、ｎ＝１／ｐで、ｐは１より大きい整数である）の結合エネルギーを有する水素原子との、電子源の反応により形成され得る。ハイドリノ水素化物イオンは、以下のＨ⁻（ｎ＝１／ｐ）又はＨ⁻（１／ｐ）で表される。
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］＋ｅ⁻ → Ｈ⁻（ｎ＝１／ｐ）（５５）
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］＋ｅ⁻ → Ｈ⁻（１／ｐ）（５６）

ハイドリノ水素化物イオンは、通常の水素原子核及び約０．８ｅＶの結合エネルギーを有する２つの電子を含む通常の水素化物イオンと区別される。後者は、以降「通常の水素化物イオン」又は「普通の水素イオン」と称される。ハイドリノ水素化物イオンは、プロテウム（ｐｒｏｔｅｕｍ）、ジュウテリウム（重水素）、又はトリチウム（三重水素）を含む水素核、及び式（５７−５８）にしたがった結合エネルギーで区別できない２つの電子を含む。

ハイドリノ水素化物イオンの結合エネルギーは、次のような式によって表すことができる。

ここで、Ｐは１より大きい整数であり、Ｓ＝１／２、Πは円周率、

はプランク定数（換算プランク定数）、μ_０は真空の誘電率であり、ｍ_ｅは電子の質量であり、μ_ｅは換算電子質量であり次の式による。

ここで、ｍ_ｐは陽子の質量であり、ａ_Ｈは水素原子の半径であり、ａ_０はボーア半径であり、ｅは電気素量である。

ハイドリノ水素化物イオンＨ⁻（ｎ＝１／ｐ）の結合エネルギーは、ｐを整数として、ｐの関数で、表２に示される。

本開示によると、ｐ＝２から２３までに対して通常の水素化物イオン（約０．７５ｅＶ）の結合よりも大きい式（５７−５８）による結合エネルギーを持つハイドリノ水素化物イオン（Ｈ⁻）で、ｐ＝２４未満の（Ｈ⁻）が提供される。式（５７−５８）のｐ＝２からｐ＝２４へに対して、水素化物イオンの結合エネルギーは、それぞれ、３、６．６、１１．２、１６．７、２２．８、２９．３、３６．１、４２．８、４９．４、５５．５、６１．０、６５．６、６９．２、７１．６、７２．４、７１．６、６８．８、６４．０、５６．８、４７．１、３４．７、１９．３、及び、０．６９ｅＶである。新規な水素化物イオンからなっている典型的な組成物も、またここに提供される。

１つ以上のハイドリノ水素化物イオン及び１つ以上の他の元素からなる化合物も例示しておく。このような化合物は「ハイドリノ水素化物化合物」と称する。

通常の水素種は、以下のような結合エネルギーによって特徴づけられる。（ａ）水素化物イオン（「通常の水素化物イオン」）、０．７５４ｅＶ；（ｂ）水素原子（「通常の水素原子」）、１３．６ｅＶ；（ｃ）二原子水素分子、１５．３ｅＶ（「通常の水素分子」）；（ｄ）水素分子イオン、１６．３ｅＶ（「通常の水素分子イオン」）；そして、（ｅ）Ｈ_３ ^＋、２２．６ｅＶ（「通常の三水素分子イオン」）。ここに、水素の形態に関して、「普通の」と「通常の」とは、同義である。

本開示の更なる実施例によれば、以下のような少なくとも１つの増加した結合エネルギー水素種を含む化合物が提供される。（ａ）ｐが２から１３７の整数であるときに、１３．６ｅＶ／（１／ｐ）^２の約０．９から１．１倍の範囲内のような、約１３．６ｅＶ／（１／ｐ）^２の結合エネルギーを持つ水素原子。（ｂ）ｐが２から２４の整数であるときに、

上式のような結合エネルギー（ＢｉｎｄｉｎｇＥｎｅｒｇｙ）の約０．９から１．１倍の範囲内のような、

上式のようなおよその結合エネルギー（ＢｉｎｄｉｎｇＥｎｅｒｇｙ）を持つ水素化イオン（Ｈ⁻）。（ｃ）Ｈ_４ ^＋（１／ｐ）。（ｄ）ｐが２から１３７の整数であるときに、２２．６ｅＶ／（１／ｐ）^２の約０．９から１．１倍の範囲内のような、約２２．６ｅＶ／（１／ｐ）^２の結合エネルギーを持つトリハイドリノ分子イオンＨ_３ ^＋（１／ｐ）。（ｅ）ｐが２から１３７の整数であるときに、１５．３ｅＶ／（１／ｐ）^２の約０．９から１．１倍の範囲内のような、約１５．３ｅＶ／（１／ｐ）^２の結合エネルギーを持つジハイドリノ。及び、（ｆ）ｐが整数で、好ましくは２から１３７であるときに、１６．３ｅＶ／（１／ｐ）^２の約０．９から１．１倍の範囲内のような、約１６．３ｅＶ／（１／ｐ）^２の結合エネルギーを持つジハイドリノ。

本開示の更なる実施例によれば、以下のような水素種のうち少なくとも１つの増加した結合エネルギー水素種を含む化合物が提供される。（ａ）全エネルギーは、次式のような結合エネルギーを持つが、ここで、ｐは整数であり、は換算プランク定数であり、ｍ_ｅは電子の質量であり、ｃは真空中の光の速度であり、そして、μは換算原子核質量であり、その次式の次の式のエネルギーの約０．９から１．１倍の範囲内を持つジハイドリノ分子イオン。

は換算プランク定数であり、ｍ_ｅは電子の質量であり、ｃは真空中の光の速度であり、そして、μは換算原子核質量である、ジハイドリノ。

及び、（ｂ）全エネルギーは、次式のような結合エネルギーを持つが、ｐは整数であり、ａ_０はボーアの半径であるとこと、次式の下の式のようなエネルギーの約０．９から１．１倍の範囲内であるエネルギーを持つジハイドリノ分子。

本開示の１つの実施例によると、化合物が負に荷電する増加した結合エネルギーを持つ水素種から成るところ、その化合物は、陽子、通常のＨ_２ ^＋又は通常のＨ_３ ^＋のような、１又はそれ以上の陽イオンを更に含む。

少なくとも１つのハイドリノ水素化物イオンを含む化合物を調製するための方法がここに提供される。そのような化合物は、以下において、「ハイドリノ水素化物化合物」と称される。その方法は、約１３．６ｅＶ／（１／ｐ）^２の結合エネルギーを持つ増加した結合エネルギーを持つ水素原子を生成するために、約（ｍ／２）・２７ｅＶの正味の反応エンタルピーを持っている触媒と、原子水素とを反応させるステップを含む。ここで、ｍは１を超える整数であるが、好ましくは４００未満の整数である。このとき、ｐは整数で、好ましくは２から１３７の整数である。触媒作用のさらなる生成物はエネルギーである。増加した結合エネルギー水素原子は、電子源と反応することができ、増加した結合エネルギーを持つ水素化物イオンを生産する。増加した結合エネルギーを持つ水素化物イオンは、１以上の陽イオンと反応することができ、少なくとも１つの増加した結合エネルギーの水素化物イオンを含む化合物を生産する。

新規な水素組成物の物質は以下のものを含むことができる。
（ａ）結合エネルギーを有する少なくとも１つの中性、陽性、又は陰性の水素種（以下、「結合エネルギー増大水素種」という）であって、この結合エネルギーは、
（ｉ）対応する通常の水素種の結合エネルギーより大きいか、又は、
（ｉｉ）通常の水素種の結合エネルギーが周囲条件（標準温度及び圧力（ｓｔａｎｄａｒｄｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅａｎｄｐｒｅｓｓｕｒｅ）、ＳＴＰ）での熱エネルギーより低いか、又は、負であるのて、不安定であるか、又は、観察されない対応する通常の水素種に対する如何なる水素種の結合エネルギーよりも大きい、水素種、及び、
（ｂ）少なくとも１つの他の元素。以下、本開示の化合物は「結合エネルギー増大水素化合物」という。

この文脈における「他の元素」は、結合エネルギー増大水素種以外の元素を意味する。従って、他の元素は、通常の水素種又は水素以外の任意の元素となり得る。１つの群の化合物において、他の元素及び結合エネルギー増大水素種は中性である。別の群の化合物において、他の元素及び結合エネルギー増大水素種は、他の元素がバランスをとる電荷を提供して中性の化合物を形成するように荷電している。前者の群の化合物は、分子結合及び配位結合によって特徴付けられ、後者の群は、イオン結合によって特徴付けられる。

また、提供される新規な化合物及び分子イオンは以下のものを含む。
（ａ）次のような総エネルギーを有する少なくとも１つの中性、陽性、又は陰性の水素種（以下、「結合エネルギー増大水素種」とする）であるが、この総エネルギーは、
（ｉ）対応する通常の水素種の総エネルギーより大きいか、又は、
（ｉｉ）通常の水素種の総エネルギーが周囲条件での熱エネルギーより低い、又は負であるので、対応する通常の水素種は不安定であるか、又は観測できない、如何なる水素種の総エネルギーより大きい、水素種；及び、
（ｂ）少なくとも１つの他の元素。
水素種の総エネルギーは、水素種から全ての電子を除去するエネルギーの合計である。本開示による水素種は、対応する通常の水素種の総エネルギーより大きい総エネルギーを持つ。本開示による増加した全エネルギーを持つ水素種がまた、「結合エネルギー増大水素種」とされる。たとえ、増大した総エネルギーを有する水素種のいくつかの実施例が、対応する通常の水素種の第１の電子結合エネルギーより小さい第１の電子結合エネルギーを持っていたとしてもである。例えば、ｐ＝２４に対する式（５７−５８）の水素化物イオンは、通常の水素化物イオンの第１の結合エネルギーより小さい第１の結合エネルギーを有し、一方、ｐ＝２４に対する式（５７−５８）の水素化物イオンの総エネルギーが、対応する通常の水素化物イオンの総エネルギーよりもかなり大きい。

また、ここで提供される新規な化合物及び分子イオンは以下のものを含む。
（ａ）結合エネルギーを有する複数の中性、陽性、又は陰性の水素種（以下、「結合エネルギー増大水素種」という）であって、この結合エネルギーは、
（ｉ）対応する通常の水素種の結合エネルギーより大きいか、又は、
（ｉｉ）通常の水素種の結合エネルギーは周囲条件での熱エネルギーより低いか、又は負であるので、対応する通常の水素種は不安定であるか、観測できない、如何なる水素種の結合エネルギーより大きい、水素種；及び、
（ｂ）オプションとして、１つの他の元素。以下、本開示の化合物は「結合エネルギー増大水素化合物」とする。

結合エネルギー増大水素種は、１つ以上のハイドリノ原子を、１以上の電子、ハイドリノ原子、前記結合エネルギー増大水素種の少なくとも１つを含む化合物、並びに少なくとも１つの他の原子、分子、若しくは結合エネルギー増大水素種以外のイオンと反応させることで形成することが可能である。

また、提供する新規な化合物及び分子イオンは以下のものを含む。
（ａ）総エネルギーを有する複数の中性、陽性、又は陰性の水素種（以下、「結合エネルギー増大水素種」という）であって、この総エネルギーは、
（ｉ）通常の分子水素の総エネルギーより大きいか、又は、
（ｉｉ）通常の水素種の総エネルギーは周囲条件での熱エネルギーより低いか、負であるので、対応する通常の水素種は不安定であるか、又は観測できない、如何なる水素種の総エネルギーより大きい、水素種；及び、
（ｂ）オプションとして、１つの他の元素。以下、本開示の化合物は「結合エネルギー増大水素化合物」という。

ある実施例において、提供される化合物は、
（ａ）ｐ＝２から２３までに対して、通常の水素化物イオンの結合（約０．８ｅＶ）より大きく、ｐ＝２４にたいしては、それよりも小さい、式（５７−５８）に従う結合エネルギーを有する水素化物イオン（「結合エネルギー増大水素化物イオン」又は「ハイドリノ水素化物イオン」）；（ｂ）通常の水素原子の結合エネルギー（約１３．６ｅＶ）より大きい結合エネルギーを有する水素原子（「結合エネルギー増大水素原子」又は「ハイドリノ」）；（ｃ）約１５．３ｅＶより大きい第１の結合エネルギーを有する水素分子（「結合エネルギー増大水素分子」又は「ジハイドリノ」）；及び（ｄ）約１６．３ｅＶより大きい結合エネルギーを有する分子水素イオン（「結合エネルギー増大分子水素イオン」又は「ハイドリノ分子イオン」）から選択される少なくとも１つの結合エネルギー増大水素種からなる。本開示において、増加された結合エネルギー水素種及び化合物はまた、より低いエネルギーの水素種及び化合物（ｌｏｗｅｒ−ｅｎｅｒｇｙｈｙｄｒｏｇｅｎｓｐｅｃｉｅｓａｎｄｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）と呼ばれる。ハイドリノは、増加された結合エネルギーの水素種又は等価により低いエネルギー状態となる水素種（ｌｏｗｅｒ−ｅｎｅｒｇｙｈｙｄｒｏｇｅｎｓｐｅｃｉｅｓ）を含む。

ある実施例において、ＮａＯＨは、再生サイクルにおいてＮａＨの源である。ＮａＯＨ及びＮａのＮａ_２Ｏ及びＮａＨへの反応は、次のように表わされる。
ＮａＯＨ＋２Ｎａ → Ｎａ_２Ｏ＋ＮａＨ（−４４．７ｋＪ／ｍｏｌｅ）
（６１）
発熱反応は、ＮａＨ（ｇ）の形成を駆動することができる。このように、ＮａへのＮａＨ分解または金属缶は、触媒ＮａＨ（ｇ）をつくるために、還元剤の役割をする。ある実施例において、式（６１）によって与えられるようなＮａＨ触媒を生み出す反応の生成物として形成されるＮａ_２Ｏは、ＮａＨ触媒の源として機能することができるＮａＯＨを形成するように水素の源と反応する。ある実施例において、原子の水素が存在するところ、式（６１）からのＮａＯＨの再生反応は、以下のようになる。
Ｎａ_２Ｏ＋１／２Ｈ → ＮａＯＨ＋Ｎａ
ΔＨ＝−１１．６ｋＪ／ｍｏｌｅＮａＯＨ（６２）
ＮａＨ → Ｎａ＋Ｈ（１／３）
ΔＨ＝−１０，５００ｋＪ／ｍｏｌｅＨ（６３）
及び
ＮａＨ → Ｎａ＋Ｈ（１／４）
ΔＨ＝−１９，７００ｋＪ／ｍｏｌｅＨ（６４）
これにより、原子状水素源または原子状水素を伴った、Ｎａ金属やＮａＨなどのソースからの少量のＮａＯＨとＮａが、ＮａＨ触媒の触媒源として作用し、順に、式（６１−６４）で与えられる反応などの再生反応の複数のサイクルを経由して、ハイドリノの大収量を得る。式（６２）で与えられる反応は、水素解離子を使用することにより高められ、Ｈ_２から原子Ｈを形成する。好適な解離子は、貴金属、遷移金属、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、支持体上のこれらの素子からなる群の少なくとも１つの構成要素を含む。反応混合物は、ＮａＨまたはＮａＨ源とＮａＯＨとＮａＯＨ源を含んでもよく、さらにＭｇなどのアルカリ土類金属などの還元剤と炭素などの支持体またはＴｉＣ、ＹＣ_２、ＴｉＳｉＣ_２、ＷＣなどのカーバイドを含んでよい。その反応は、反応物やＮｉ、Ａｇ、Ｎｉめっきされた、ＡｇめっきされたまたはＡｌ_２Ｏ_３容器などの製造物に不活性な容器で実施してもよい。

１つの実施例において、ＫＯＨは再生サイクルにおけるＫ及びＫＨの源である。ＫＯＨ及びＫがＫ_２Ｏ及びＫＨになる反応は次のようになる。
ＫＯＨ＋２Ｋ → Ｋ_２Ｏ＋ＫＨ −５．４ｋＪ／ｍｏｌｅ（６５）
ＫＨの形成の間に、ハイドリノ反応が起こる。１つの実施例において、Ｋ_２Ｏは、式（６５）による反応物として更に機能することができるＫＯＨを形成するための水素の源と反応する。１つの実施例において、原子状の水素の存在下での式（６５）からＫＯＨの再生反応は、次の通りである。
Ｋ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２ → ＫＯＨ＋Ｋ
ΔＨ＝−６３．１ｋＪ／ｍｏｌｅＫＯＨ（６６）
ＫＨ → Ｋ＋Ｈ（１／４） ΔＨ＝−１９，７００ｋＪ／ｍｏｌｅ（６７）
これにより、原子状水素源または原子状水素を伴った、Ｋ金属やＫＨなどのソースからの少量のＫＯＨとＫが、ＫＨ触媒の触媒源として作用し、順に、式（６５−６７）で与えられる反応などの再生反応の複数のサイクルを経由して、ハイドリノの大収量を得る。式（６６）で与えられる反応は、水素解離子を使用することにより高められ、Ｈ_２から原子Ｈを形成する。好適な解離子は、貴金属、遷移金属、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、支持体上のこれらの素子からなる群の少なくとも１つの構成要素を含む。反応混合物は、ＫＨまたはＫＨ源とＫＯＨとＫＯＨ源を含んでもよく、さらに、還元剤と炭素などの支持体、カーバイドまたはＴｉＣ、ＹＣ_２、ＴｉＳｉＣ_２、ＭｇＢ_２、ＷＣなどのホウ酸化物を含んでよい。一実施形態においては、支持体は無反応かまたはＫＯＨに対して低反応性を示す。反応混合物は、さらにＲ−Ｎｉ、ＫＯＨ、ＫＨなどのＫＯＨでドープされた支持体の少なくとも１つを含んでよい。

Ｄ．追加のＭＨ−タイプの触媒作用及び反応
一般に、ｔ電子の結合エネルギーとイオン化エネルギーの合計がおよそｍが整数である２・２７．２ｅＶであるように、連続したエネルギーレベルに各々Ｍ−Ｈ結合の切断プラス原子Ｍからのｔ電子のイオン化により提供されるハイドリノを生成するＭＨタイプ水素触媒は、表３Ａにおいて与えられる。各々のＭＨ触媒は第１欄に与えられ、そして、対応するＭ−Ｈ結合エネルギーは第２欄に与えられる。第１欄に与えられるＭＨ種の原子Ｍは、イオン化されるが、第２欄で、結合エネルギーの追加に関するｍ・２７．２ｅＶの正味の反応エンタルピーを提供する。触媒のエンタルピーは、第８欄に与えられるが、ｍの値は第９欄に与えられる。イオン化に寄与する電子は、イオン化ポテンシャル（イオン化エネルギー又は結合エネルギーとも呼ばれる）に関し与えられる。例えば、ＮａＨの結合エネルギー（１．９２４５ｅＶ）は、欄２に与えられる。原子又はイオンの第ｎ番目の電子のイオン化ポテンシャルは、ＩＰ_ｎによって指定され、ＣＲＣによって与えられる。即ち、例えば、Ｎａ＋５．１３９０８ｅＶ → Ｎａ^＋＋ｅ⁻及びＮａ^＋＋４７．２８６４ｅＶ → Ｎａ^２＋＋ｅ⁻。それぞれ、第１のイオン化ポテンシャル、ＩＰ_１＝５．１３９０８ｅＶと、第２のイオン化ポテンシャル、ＩＰ_２＝４７．２８６４ｅＶは、第２、及び、第３コラムにおいて与えられる。ＮａＨ結合の切断及びＮａの二重イオン化のための正味の反応エンタルピーは、５４．３５ｅＶであり、第８のコラムで与えられ、また、式（４７）においてｍ＝２であり、第９のコラムで与えられる。ＢａＨの結合エネルギーは、１．９８９９１ｅＶであり、ＩＰ_１、ＩＰ_２、及びＩＰ_３は、それぞれ、５．２１１７ｅＶ、１０．００３９０ｅＶ、及び、３７．３ｅＶである。ＢａＨ結合の破壊及びＢａの３つのイオン化のための反応の正味のエンタルピーは第８欄において与えられるように５４．５ｅＶであり、第９欄において与えられるように式（４７）においてｍ＝２である。ＳｒＨの結合エネルギーは、１．７０ｅＶであり、ＩＰ_１、ＩＰ_２、ＩＰ_３、ＩＰ_４、及びＩＰ_５は、それぞれ、５．６９４８４ｅＶ、１１．０３０１３ｅＶ、４２．８９ｅＶ、５７ｅＶ、及び７１．６ｅＶである。ＳｒＨ結合の破壊及びＳｒからＳｒ^５＋へのイオン化エネルギーは、第８欄に与えられるように、１９０ｅＶであり、第９欄に与えられるように式（４７）においてｍ＝７である。追加的に、Ｈは、表３Ａで与えられるＭＨ触媒のＨ（１／ｐ）生成物の各々と反応することができ、それにより、典型的な式（３１）によって与えられるように、ＭＨ単独の触媒反応生成物に相対して、１つだけ量子数ｐが増加させられる（式（１０））ハイドリノを形成する。

他の実施形態では、表３Ｂには下記が記載される：１つの電子の受容体Ａへの遷移によって与えられるハイドリノを形成するＭＨ⁻タイプ水素触媒；Ｍ−Ｈ結合の崩壊と各原子Ｍから連続エネルギー準位へのｔ電子の電離、またその崩壊と電離によりＭＨとＡの電子親和力（ＥＡ）の差、Ｍ−Ｈ結合エネルギーとｔ電子のＭからのイオン化エネルギーを含んだ電子遷移エネルギーの合計が約ｍ×２７．２ｅＶであり、ｍは整数である。ＭＨ⁻触媒、受容体Ａ、ＭＨの電子親和力、Ａの電子親和力とＭ−Ｈ結合エネルギーはそれぞれ、第１、２、３、４欄で与えられる。電離に関与するＭＨの対応した原子Ｍの電子は、イオン化ポテンシャル（また、イオン化エネルギーまたは結合エネルギーと呼ばれる）を伴い、次の欄で記載され、触媒のエンタルピーと対応する整数ｍは、最後の欄に記載される。例えば、ＯＨおよびＨの電子親和力は、それぞれ、１．８２７６５ｅＶおよび０．７５４２ｅＶであり、それにより、第５欄で記載されたように電子遷移エネルギーは、１．０７３４５ｅＶである。ＯＨの結合エネルギーは、４．４５５６ｅＶで、欄６に示されている。原子またはイオンのｎ番目の電子のイオン化ポテンシャルは、ＩＰ_ｎによって示される。それは、例えば、Ｏ＋１３．６１８０６ｅＶ→Ｏ^＋＋ｅ⁻とＯ^＋＋３５．１１７３０ｅＶ→Ｏ^２＋＋ｅ⁻である。第１イオン化ポテンシャル、ＩＰ_１＝１３．６１８０６ｅＶおよび第２イオン化ポテンシャル、ＩＰ_２＝３５．１１７３０ｅＶは、それぞれ、第７および第８欄に示されている。電子遷移反応、ＯＨ結合の崩壊、およびＯの二重電離の正味のエンタルピーは、第１１欄で与えられたように、５４．２７ｅＶであり、式（４７）のｍ＝２は、第１２欄で与えられる。さらに、Ｈは表３Ｂに記載されたＭＨ触媒の各Ｈ（１／ｐ）生成物に反応でき、典型的な式（３１）で与えられた単独のＭＨの触媒反応生成物に対して１（式（１０））増加させた量子数ｐを持つハイドリノを形成する。他の実施形態では、ハイドリノを形成するためのＨの触媒は、ＥＡと１つ以上の電子のイオン化エネルギーの合計が約ｍ×２７．２ｅＶであるような負イオンの電離によって与えられ、ｍは整数である。さらに、負イオンの第１電子は、電子遷移エネルギーと１つ以上の電子のイオン化エネルギーの合計が、約ｍ×２７．２ｅＶになるように、少なくとももう１つの電子の電離に続く受容体に転写されていてもよく、ｍは整数である。電子受容体は、Ｈであり得る。

他の実施形態では、ハイドリノを生成するためのＭＨ^＋タイプ水素触媒は、１つの電子の負に荷電されているドナーＡへの遷移、Ｍ−Ｈ結合の崩壊、各原子Ｍから連続エネルギー準位へのｔ電子の電離によって与えられ、またそれよりＭＨとＡのイオン化エネルギーの差、Ｍ−Ｈ結合エネルギーとｔ電子のＭからのイオン化エネルギーを含んだ電子遷移エネルギーの合計が約ｍ×２７．２ｅＶであり、ｍは整数である。

一実施形態では、原子、イオン、または分子などの化学種は、触媒として機能し、分子の水素を分子のハイドリノＨ_２（１／ｐ）に遷移させる（ｐは整数である）。Ｈの場合と同様に、触媒はＨ_２からエネルギーを受け入れる、この場合、ミルズＧＵＴＣＰで与えられるように、エネルギーは約ｍ４８．６ｅＶとなりえる、また、ｍは整数である。Ｈ_２の直接触媒反応によって、Ｈ_２（１／ｐ）を形成する好適で典型的な触媒は、Ｏ、Ｖ、Ｃｄであり、それらはそれぞれ、ｍ＝１、ｍ＝２、ｍ＝４に対応した触媒反応間で、Ｏ^２＋、Ｖ^４＋、Ｃｄ^５＋を生成する。エネルギーは、熱、光または電気として放出されることがあり、そこでは、反応がハーフセル反応を含む。

一実施形態において、触媒は、ｍ×２７．２ｅＶ、ｍ＝１、２、３、４、．．．（式（５））のエネルギーを受け入れることができる基底や励起状態の原子、正または負に荷電したイオン、正または負に荷電した分子イオン、分子、エキシマ、化合物、またはそれらの任意の組み合わせのような化学種を含む。反応の正味のエンタルピーがより密接にｍ×２７．２ｅＶに整合するに従って、触媒の割合が増加すると考えられている。ｍ×２７．２ｅＶの±１０％以内、好ましくは、±５％以内の反応の正味エンタルピーを有する触媒が、ほとんどのアプリケーションに適していることが見出された。低エネルギー状態へのハイドリノ原子の触媒作用の場合には、ｍ×２７．２ｅＶ（式（５））の反応のエンタルピーが、ハイドリノ原子のポテンシャルエネルギーと同じ係数によって相対論的に補正される。一実施形態において、触媒は、共鳴して、無放射に水素原子からエネルギーを受け入れる。一実施形態において、受け入れられたエネルギーは水素原子から転送されたおよその量だけ触媒のポテンシャルエネルギーの大きさを減少させる。エネルギーイオンまたは電子が、最初に結合した電子の運動エネルギーを保存するために、結果として生じることがある。少なくとも１つの原子Ｈは、少なくとも１つの他のものに対する触媒として働き、そこでは、受容体の２７．２ｅＶのポテンシャルエネルギーが、触媒作用を受けているドナーＨ原子からの転送されたものすなわち２７．２ｅＶによって相殺される。受容体触媒Ｈの運動エネルギーは、速いプロトンまたは電子として保存されることがある。さらに、触媒作用を受けたＨに形成される中間状態（式（７））は、放射または第３体に誘導される運動エネルギーの形態で連続エネルギーの放出を伴って、崩壊する。これらのエネルギーの放出が、ＣＩＨＴセルの電流の流れになることがある。

１つの実施形態において、約ｍ２７．２ｅＶの分子または正にもしくは負に荷電された分子イオンのポテンシャル・エネルギーの大きさにおける減少を伴い、原子Ｈからの約ｍ２７．２ｅＶを受容する触媒として、少なくとも１つ分子または正にもしくは負に荷電された分子イオンが機能する。例えば、ミルズのＧＵＴＣＰにおいて与えられるＨ_２Ｏのポテンシャル・エネルギーは、次式のように表される。

同じエネルギーによる分子のポテンシャル・エネルギーの大きさにおける減少で原子状のＨからｍ・２７．２ｅＶを受け取る分子は、触媒として機能するかもしれない。例えば、Ｈ_２Ｏのポテンシャル・エネルギーに関して触媒反応（ｍ＝３）は、次のようになる。
８１．６ｅＶ＋Ｈ_２Ｏ＋Ｈ［ａ_Ｈ］ →
２Ｈ^＋＋Ｏ^＋＋３ｅ⁻＋Ｈ^＊［ａ_Ｈ／４］＋８１．６ｅＶ（６９）
Ｈ^＊［ａ_Ｈ／４］ → Ｈ［ａ_Ｈ／５］＋１２２．４ｅＶ（７０）
２Ｈ^＋＋Ｏ^＋＋３ｅ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋８１．６ｅＶ（７１）
そして、全反応は次のようになる。
Ｈ［ａ_Ｈ］ → Ｈ［ａ_Ｈ／４］＋８１．６ｅＶ＋１２２．４ｅＶ（７２）
ここで、Ｈ^＊［ａ_Ｈ／４］は、水素原子の半径、及び、陽子のそれの４倍に等しい中心場を持ち、Ｈ［ａ_Ｈ／４］は、Ｈの１／４のそれの半径を持つ対応する安定状態である。電子が、水素原子の半径からこの距離の１／４の半径へとの半径加速を経ると、エネルギーが特徴的な光の発光又は第３体運動エネルギーとして解放される。０℃の氷から１００℃の水へと行く際における振動熱における１０％のエネルギー変化に基づき、沸騰する水において水分子あたりのＨ結合の平均の数は、３．６である。このようにして、１つの実施例において、Ｈ_２Ｏは、ハイドリノを形成するための触媒として機能するために妥当な活性化エネルギーを持つ孤立した分子として化学的に形成されなければならない。１つの実施例において、Ｈ_２Ｏ触媒は、発生期のＨ_２Ｏである。

１つの実施例において、ｎＨ、Ｏ、ｎＯ、Ｏ_２、ＯＨ、及びＨ_２Ｏ（ｎ＝整数）の少なくとも１つは、触媒として機能するかもしれない。触媒としてのＨ及びＯＨの生成は、触媒エンタルピーが約１０８．８ｅＶであるところ、Ｈ（１／５）であるかもしれない。触媒としてのＨ及びＨ_２Ｏの反応の生成物は、Ｈ（１／４）かもしれない。ハイドリノ生成物は、更により低い状態へと反応するかもしれない。触媒としてのＨ（１／４）及びＨの生成は、触媒エンタルピーが約２７．２ｅＶであるところ、Ｈ（１／５）であるかもしれない。触媒としてのＨ（１／４）及びＯＨの生成は、触媒エンタルピーが約５４．４ｅＶであるところ、Ｈ（１／６）であるかもしれない。触媒としてのＨ（１／５）及びＨの生成は、触媒エンタルピーが約２７．２ｅＶであるところ、Ｈ（１／６）であるかもしれない。

Ｈ_２Ｏにおける結合は、Ｏの外殻の２つの電子を含む。Ｈ_２Ｏのポテンシャル・エネルギーは８１．８７ｅＶであり、Ｈ_２ＯのＯ原子の第３イオン化エネルギーは５４．９３５５ｅＶであるので、Ｈ_２Ｏは、３Ｘ２７．２ｅＶのポテンシャル・エネルギー及び２Ｘ２７．２ｅＶのＯ^２＋がＯ^３＋となる更なるイオン化に対応するエネルギーを受け取るかもしれない。このようにして、Ｈ_２Ｏは、３Ｘ２７．２ｅＶの触媒エンタルピーに対応するＨからＨ（１／４）への触媒作用だけでなく、５Ｘ２７．２ｅＶの触媒エンタルピーに対応するＨからＨ（１／６）への作用もまた起こるかもしれない。［ＮａＯＨＮｉ（Ｈ_２）／ＢＡＳＥ／ＭｇＣｌ_２−ＮａＣｌ密閉セル］セルの水素アノード生成物の固体プロトンＮＭＲは、アノードでＨとＯＨ⁻との反応によって形成されるＨ_２Ｏ触媒のハイドリノ生成物に対応する、大きな−３．９１ｐｐｍのシングルの^１ＨＭＡＳＮＭＲピークを示した。

同様にＨ_２Ｏに対して、ミルズのＧＵＴＣＰにおいて与えられるアミド官能基ＮＨ_２のポテンシャル・エネルギーは、−７８．７７７１９ｅＶである。ＣＲＣからの、対応するΔＨの各々から計算されるＫＮＨ_２を形成するＮＨ_２の反応のためのΔＨ_ｆは、（−１２８．９−１８４．９）キロジュール／モル＝−３１３．８キロジュール／モル（３．２５ｅＶ）である。ＣＲＣからの、対応するΔＨの各々から計算されるＮａＮＨ_２を形成するためのＮＨ_２の反応のためのは、（−１２３．８−１８４．９）キロジュール／モル＝−３０８．７キロジュール／モル（３．２０ｅＶ）である。ＣＲＣからの、対応するΔＨ_ｆの各々から計算されるＬｉＮＨ_２を形成するためのＮＨ_２の反応のためのΔＨは、（−１７９．５−１８４．９）キロジュール／モル＝−３６４．４キロジュール／モル（３．７８ｅＶ）である。したがって、ハイドリノを形成するためのＨ触媒として機能するアルカリアミドＭＮＨ_２（ここで、ＭはＫ，Ｎａ，Ｌｉ）により受容されてもよい正味のエンタルピーは、アミド基のポテンシャル・エネルギーおよびアミド基からのアミドを形成するためのエネルギーの合計にそれぞれ対応する、約８２．０３ｅＶ、８１．９８ｅＶ、および８２．５６ｅＶ（式（５）のｍ＝３）である。分子ハイドリノのようなハイドリノ生成物は、ＭＡＳＮＭＲのような手段によって観測される高磁場マトリックス・シフト（ｕｐｆｉｅｌｄｍａｔｒｉｘｓｈｉｆｔ）を引き起こすかもしれない。

同様にＨ_２Ｏに対して、ミルズのＧＵＴＣＰにおいて与えられるＨ_２Ｓ官能基のポテンシャル・エネルギーは、−７２．８１ｅＶである。このポテンシャル・エネルギーの相殺は、また、３ｐ殻の混成に関連するエネルギーを除去する。７．４９ｅＶのこの混成エネルギーは、水素化物軌道半径の比率から与えられ、初期の原子軌道半径は、殻の全エネルギーの時間を決める。さらに、１．１０ｅＶの２つのＳ−Ｈ結合を形成することによるＳ３ｐ殻のエネルギー変動は、触媒エネルギーに含まれる。したがってＨ_２Ｓ触媒の正味のエンタルピーは、８１．４０ｅＶ（式（５）のｍ＝３）である。Ｈ_２Ｓ触媒は、反応によりＭＨＳ（ここでＭは、アルカリ）から形成されてもよい。
２ＭＨＳ → Ｍ_２Ｓ＋Ｈ_２Ｓ（７３）
この可逆反応は、ハイドリノにＨを触媒できる生成物Ｈ_２Ｓに対して、遷移状態においてアクティブな触媒状態のＨ_２Ｓを形成してもよい。反応混合物は、Ｈ_２Ｓを形成する反応物質および原子Ｈ源を含んでもよい。分子ハイドリノのようなハイドリノ生成物は、ＭＡＳＮＭＲのような手段によって観測される高磁場マトリックス・シフト（ｕｐｆｉｅｌｄｍａｔｒｉｘｓｈｉｆｔ）を引き起こすかもしれない。

更に、原子状酸素は、原子状水素のボーアの半径に等しい同じ半径で２つの孤立電子を備える特別な原子である。原子状Ｈが、触媒として機能するとき、２７．２ｅＶのエネルギーが、受け取られ、別のものに対する触媒そして機能する各イオン化されたＨの運動エネルギーは、１３．６ｅＶである。同様にして、Ｏの２つの電子の各々は、２つの外郭の孤立電子の続くイオン化に関するＯＨのＯ−Ｈ結合の破壊に対する正味のエンタルピーは、表３に与えられるように８０．４ｅＶであるように、Ｏイオンへの１３．６ｅＶの運動エネルギーの移動でイオン化され得る。ＯＨ⁻からＯＨへのイオン化の間に、Ｈ（１／４）及びＯ^２＋＋２ｅ⁻への更なる反応に対するエネルギーマッチは起きるかもしれない。このとき、２０４ｅＶのエネルギーが解放され、ＣＩＨＴセルの電気的なパワーに寄与する。反応は次のように与えられる。
８０．４ｅＶ＋ＯＨ＋Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｏ_ｆａｓｔ ^２＋＋２ｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋３）］
＋［（ｐ＋３）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（７４）
Ｏ_ｆａｓｔ ^２＋＋２ｅ⁻ → Ｏ＋８０．４ｅＶ（７５）
そして、全反応は次の通りである。
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｐ＋３）］＋［（ｐ＋３）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ
（７６）
ここで、式（５）において、ｍ＝３である。運動エネルギーはまた、高温電子においても保存され得る。水蒸気プラズマにおけるＨ反転分布の観察が、このメカニズムの証拠である。分子ハイドリノのようなハイドリノ生成物は、ＭＡＳＮＭＲのような手段によって観測される高磁場マトリックス・シフト（ｕｐｆｉｅｌｄｍａｔｒｉｘｓｈｉｆｔ）を引き起こすかもしれない。ＦＴＩＲ、ラマン、及びＸＰＳのような分子ハイドリノ生成物を同定する他の方法は、本開示に与えられる。

酸素又は化合物が、酸化又は還元反応において酸素粒子を含むような実施例において、Ｏ_２は、触媒の源又は触媒として機能するかもしれない。酸素分子の結合エネルギーは、５．１６５ｅＶであり、酸素原子の第１、第２、及び第３イオン化エネルギーは、それぞれ、１３．６１８０６ｅＶ，３５．１１７３０ｅＶ，及び５４．９３５５ｅＶである。Ｏ_２→Ｏ＋Ｏ^２＋，Ｏ_２→Ｏ＋Ｏ^３＋，及び２Ｏ→２Ｏ^＋という反応は、正味のエンタルピーは、Ｅ_ｈのそれぞれ、約２、４、及び１倍であり、ハイドリノの形成を引き起こすＨからのこれらのエネルギーの受領により、ハイドリノを形成する触媒反応を含む。

ＩＸ．燃料電池及びバッテリ
燃料電池とバッテリー４００の実施例は、図１に示される。固体燃料または不均一系触媒から成っているハイドリノ反応物は、対応する半電池反応のために反応物から成る。触媒誘導ハイドリノ遷移（ＣＩＨＴ）セルは、触媒されたハイドリノ遷移のユニークな特質により可能となる。本開示のＣＩＨＴセルは、より低いエネルギー（ハイドリノ）状態へとの水素の触媒反応から起電力（ＥＭＦ）を発生させる水素燃料電池である。このようにして、ハイドリノ反応から解放されたエネルギーの電気への直接の返還のための燃料電池として機能する。

酸化−還元の半電池反応のため、ハイドリノ生成反応混合物は、外部回路を通る電子の移動と、電気回路を完成するように分離した道を通るイオン質量輸送とで構成される。全体の反応及び半電池反応の合計によって与えられるハイドリノを生成する対応する反応混合物は、本開示において与えられた熱パワー生産のために考慮された反応のタイプを含むかもしれない。ハイドリノ反応からの自由エネルギーΔＧは、ハイドリノ生成反応混合物を構成するように酸化−還元化学に依存する、酸化又は還元ポテンシャルであるかもしれないポテンシャルを生じさせる。ポテンシャルは、燃料電池において電圧を発生するように使用されるかもしれない。ポテンシャルＶは、自由エネルギーΔＧという用語で以下のように表さられるかもしれない。
Ｖ＝−ΔＧ／ｎＦ（７７）
ここで、Ｆはファラデー定数である。
自由エネルギーが、Ｈ（１／４）への遷移に対する約−２０ＭＪ／モルＨだと仮定すると、化学物質、電解液と、電極などの他のセル構成要素に応じて、電圧が高くなることがある。電圧がこれらのまたは他の構成要素の酸化還元電位によって制限される一実施形態において、エネルギーは、より高い電流として明らかになり、ハイドリノの形成から対応する電力の寄与となることがある。式（６−９）で示されるように、ハイドリノ遷移のエネルギーは、連続放射として放出されることがある。具体的には、エネルギーは、非放射的に触媒に転送され、準安定中間体を形成し、電子が初期から最終的な半径に変わるに従った連続放射の放出を伴い、プラズマシステムにおいて崩壊する。ＣＩＨＴセルなどの凝縮物質では、このエネルギーは、セル電流として明らかなエネルギー電子と、セル反応物の化学ポテンシャルと同様の電位での電力に寄与という形に、内部で転換することがある。これにより、電力は、式（７７）で与えられたよりも低い電圧においてより高い電流として明らかになることがある。電圧は反応速度論によって制限される；よって、ハイドリノを形成する高い反応速度は、電流と電圧の少なくとも１つを増加させることによって電力を増加することが好ましい。セル反応は、ハイドリノを形成する触媒を使用して、Ｈの大きな発熱反応によって駆動できるので、一実施の形態では、ハイドリノを形成する反応物の形成を目的とした従来の酸化還元セル反応の自由エネルギーは、可能な任意の値であってもよい。好適な範囲は、約＋１０００ｋＪ／モルから−１０００ｋＪ／モル、約＋１０００ｋＪ／モルから−１００ｋＪ／モル、約＋１０００ｋＪ／モルから−１０ｋＪ／モル、約＋１０００ｋＪ／モルから０ｋＪ／モルである。ハイドリノを形成するための負の自由エネルギーに起因して、少なくとも一つのセル電流、電圧、電力は、電流、電圧、電力に寄与することができる非ハイドリノ反応の自由エネルギーに起因するものよりも高い。これは、開放回路電圧と負荷を伴う開放回路電圧に適用される。従って、一実施形態では、ＣＩＨＴセルは、任意の従来技術に対して下記のことにより区別される：セルがロードされる時に任意の分極電圧による電圧の補正を含む非ハイドリノ関連化学のためのネルンストの式により予測よりも高い電圧を有する少なくとも１つ；従来化学によって駆動されるよりも高い電流；従来化学によって駆動されるよりも高い電力。

図１に関して、燃料すなわちＣＩＨＴセル４００は、カソード４０５を伴うカソード・コンパートメント４０１と、アノード４１０を伴うアノード・コンパートメント４０２、塩橋４２０、単独の電子流とイオン質量輸送を伴うセル動作中にハイドリノ反応物を構成する反応物と水素源を有する。一般的な実施形態では、ＣＩＨＴセルは、低いエネルギー（ハイドリノ）状態に対し、水素の触媒反応からの起電力（ＥＭＦ）を生成する水素燃料セルである。これにより、ＣＩＨＴセルは、ハイドリノ反応から放出されるエネルギーを直接的に、電気に変換するための燃料セルとして機能する。別の実施形態では、ＣＩＨＴセルは、電極４０５および４１０を介して、印加される電気分解電力以上の電気的および熱的電力利得のうちの少なくとも１つを生成する。セルは、ハイドリノを形成する際に水素を消費し、水素添加を必要とする；そうでなければ、一実施形態では、ハイドリノを形成する反応物は、熱または電解再生を持つうちの少なくとも一つである。異なる温度、圧力、および濃度の少なくとも１つなどの異なる状態または条件下での異なる反応物または同一の反応物は、コンパートメント間の電気回路を完成させる電子およびイオンのための別個の導管によって接続されている別のコンパートメントに設けられている。別個のコンパートメントまたはシステムの熱利得の電極間の電位と電力利得が、コンパートメントからコンパートメントへの質量流量に対するハイドリノ反応の依存性に起因して発生される。質量流量は、反応してハイドリノを形成する反応混合物の形成と、実質的速度で起こるハイドリノ反応を許可する条件の少なくとも１つを提供する。質量流量はさらに電子とイオンがコンパートメントを接続する別個の導管で輸送されることを必要とする。電子は、原子状水素と触媒との反応時の触媒の電離と、原子、分子、化合物、または金属などの反応化学種の酸化または還元反応による触媒の電離の少なくとも１つから生じ得る。アノード・コンパートメント４０２などのコンパートメント内の化学種の電離は、下記の少なくとも１つが原因でありうる；（１）その酸化からの有利な自由エネルギー変化、カソード４０１などの別個のコンパートメントにおける反応化学種の減少、電気的中性へコンパートメント内の電荷のバランスを取る移動イオンの反応；（２）化学種の酸化によるハイドリノの形成に起因する自由エネルギー変化、別個のコンパートメント内の種の減少、ハイドリノ形成のための反応を引き起こす移動イオンの反応。イオンの移動は、塩橋４２０を介して行われることがある。別の実施形態では、化学種の酸化、別のコンパートメントでの化学種の減少、および移動イオンの反応が、自発的でない場合もあれば、低速度で起こることもある。電解電位が加えられ、反応が強制的に行われ、そこでは、質量流量が、反応しハイドリノを作成する反応混合物の形成と、かなりの速度でハイドリノ反応が起こることを許可する条件の、少なくとも１つが提供される。電解電位は、外部回路４２５を介して加えられてもよい。各ハーフセルの反応物は、通路４６０および４６１を介した、反応物源または生成物貯蔵や再生４３０および４３１向けの容器への、反応物の追加または除去によって、少なくとも供給、維持または再生されてもよい。

ある実施例において、ハイドリノを形成する反応は電気化学的パワーを提供する。実施例に、反応混合物の反応とそれによって、反応を受けることが触媒作用を活発であるようにする１つの反応物によって、原子水素と水素触媒の少なくとも１つは、形成されるかもしれない。ハイドリノ反応を開始する反応は、発熱反応、共役反応、遊離基反応、酸化還元反応、交換反応とゲッター（支持体またはマトリックス・アシスト触媒作用反応）の少なくとも１つであるかもしれない。ある実施例において、ハイドリノを形成する反応は電気化学的パワーを提供する。本開示の交換反応のようなハイドリノ反応を開始する反応混合物と反応は、電気的パワーがハイドリノをつくるために水素の反応によって展開される燃料電池の基礎である。酸化還元電池半反応のために、ハイドリノ生産反応混合物は、配電回路を完成するために、別々の経路で外部回路とイオン質量の移動を通して電子の移行で構成される。半電池反応の合計によって与えられるハイドリノを生じる全体的な反応と対応する反応混合物は、本開示の熱的パワーとハイドリノ化学的な生産のための反応タイプから成るかもしれない。このように、理想的には、ハイドリノ反応が起こらないか、電子流とイオン質量の輸送がない場合これといった速度で起こらない。

セルは、少なくとも触媒源または触媒および水素源たは水素を含む。好適な触媒または触媒源および水素源は、下記の群から選択されるものである；Ｌｉ、ＬｉＨ、Ｎａ、ＮａＨ、Ｋ、ＫＨ、Ｒｂ、ＲｂＨ、Ｃｓ、ＣｓＨ、Ｂａ、ＢａＨ、Ｃａ、ＣａＨ、Ｍｇ、ＭｇＨ_２、ＭｇＸ_２（Ｘはハロゲン化合物）およびＨ_２。さらに好適な触媒は表３に記載される。一実施形態では、正イオンはカソードで還元を受けることがある。そのイオンは、カソードでの還元および反応のうちの少なくとも１つによって、触媒源であってもよい。一実施形態では、酸化剤は、ハイドリノ反応物を形成する反応を受け、その後、ハイドリノを形成するように反応する。あるいは、最終的な電子受容反応物は、酸化剤を含む。酸化剤またはカソードセル反応混合物は、カソード４０５を有するカソード・コンパートメント４０１に配置してもよい。あるいは、カソードセル反応混合物は、イオンと電子の移動からカソード・コンパートメントに構成されている。燃料セルの一実施形態においては、カソードとしてカソード・コンパートメント４０１が機能する。動作時には、正イオンは、アノードからカソード・コンパートメントに移動してもよい。特定の実施形態では、この移動は、塩橋４２０を介して行われる。あるいは、負イオンは、カソードから塩橋４２０を介して、アノード・コンパートメントに移動してもよい。移動イオンは、触媒のイオンまたは触媒源、Ｈ^＋、Ｈ⁻またはＨ⁻（１／ｐ）などの水素のイオン、酸化剤または酸化剤のアニオンを使って、触媒または触媒源との反応によって形成される化合物の対イオンの少なくとも１つであってよい。各セル反応は、通路４６０および４６１を介した、反応物源または生成物貯蔵や任意の再生４３０および４３１向けの容器への、反応物の追加または除去によって、少なくとも供給、維持または再生されてもよい。

一実施形態では、その化学反応が、活性ハイドリノ反応物を燃料セルのカソード・コンパートメントにおいて生成し、そこでは、還元電位が、ハイドリノへのＨの触媒作用から大きな寄与を含んでいてもよい。触媒または触媒源は、アルカリ金属原子などの中性原子または分子、または対応するアルカリ金属イオンなどの正の化学種の還元により形成する水素化物を含んでもよい。低い電子状態への遷移する触媒およびＨ電子に還元する触媒イオンの電位は、反応中のDＧを基にした式（７７）によって与えられる電位への寄与をもたらす。一実施形態では、カソードハーフセルの還元反応やその他の反応は、触媒および原子状水素の形成とハイドリノへのＨの触媒反応を含む。アノードハーフセル反応は、触媒金属などの金属のイオンを含んでもよい。そのイオンは、カソードに移動し還元されるか、または、電解質のイオンが、触媒を形成するように還元されてもよい。触媒はＨの存在下で形成してよい。典型的な例としては下記がある。
典型的な反応は以下の通りである。
カソード半電池反応：
Ｃａｔ^ｑ＋＋ｑｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］＋［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ＋Ｅ_Ｒ
（７８）
ここで、Ｅ_Ｒは、Ｃａｔ^ｑ＋の還元エネルギーである。
アノード半電池反応：
Ｃａｔ＋Ｅ_Ｒ → Ｃａｔ^ｑ＋＋ｑｅ⁻ （７９）
他の適当な還元剤は、遷移金属のような金属である。
セル反応：
Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｈ［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］＋［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（８０）
塩橋又は電解質を通る触媒カチオンの移動と共に、触媒は、カソードコンパートメントで再生され、アノードで置換されるかもしれない。そして、燃料電池反応は、ハイドリノを形成するように反応されたカソードコンパートメント水素の置換により維持されるかもしれない。水素は、水の電気分解からあるかもしれない。
水は、実施例において、電解質又は含水化合物によって、大気から吸収され又は外部源から得られるかもしれない。
セルからの生成物は、ハイドリノ原子の反応によって形成される分子ハイドリノかもしれない。Ｈ（１／４）が生成物である場合、これらの反応のエネルギーは次の通りである。
２Ｈ（１／４） → Ｈ_２（１／４）＋８７．３１ｅＶ（８１）
Ｈ_２Ｏ＋２．９６２ｅＶ → Ｈ_２＋０．５Ｏ_２（８２）

動作中に、触媒は原子状水素と反応し、原子状水素から触媒への２７．２ｅＶの整数倍の非放射エネルギー伝達が、触媒の自由電子の過渡的な放出を伴う電離となり、ハイドリノ原子が大量のエネルギーの放出を伴い形成する。一実施形態において、この反応が、アノード・コンパートメント４０２で起こり、それにより、アノード４１０が、最終的にイオン化された電子電流を受け入れてもよい。電流はまた、アノード・コンパートメント中の還元剤の酸化からのものであってもよい。燃料セルの一実施形態では、アノード・コンパートメント４０２が、アノードとして機能する。Ｌｉ、Ｋ、ＮａＨ、ｎＨおよびＨ_２Ｏの少なくとも１つは、触媒として働きハイドリノを形成してもよい。カーボン粉末などの支持体、ＴｉＣ、ＷＣ、ＹＣ_２またはＣｒ_３Ｃ_２などの炭化物またはホウ化物は、アノードなどの電極と電気的に接触した電子の伝導体として機能してよく、そのアノードは電流コレクタとして働いてもよい。処理された電子は、触媒の電離または還元剤の酸化からのものであってもよい。あるいは、支持体は、リード線で電気的に負荷に接続されたアノードおよびカソードのうちの少なくとも１つを含んでよい。負荷に接続されたカソードリード線とアノードリード線は、金属などの伝導体であってよい。

化学が、燃料電子のアノードコンパートメントで活動中のハイドリノ反応物を生成する場合、酸化剤ポテンシャル及び電子は、触媒メカニズムからの寄与を持つかもしれない。式（６−９）に示されるように、触媒は、イオン化することによって原子水素からエネルギーを受取る種を含む。化学が燃料電池のアノードコンパートメントで活性なハイドリノ反応物を引き起こす場合には、酸化電位と電子は触媒メカニズムから貢献をするかもしれない。式（６−９）に示されるように、触媒は、イオン化することによって原子水素からエネルギーを受取る種を含む。電離される触媒と低級電子状態への移行へのＨ電子のポテンシャルは、反応のΔＧに基づいて式（１８６）によって与えられる酸化電位を引き起こす。式（２８−３０）によって与えられるようにＮａＨがＮａ２＋にＮａのイオン化でハイドリノをつくる協調した内部の反応であるので、式（１８６）は特にこの症例をおさえなければならない。実施例において、アノード半電池酸化反応は、触媒作用イオン化反応から成る。カソード半電池反応は、水素化物にＨの還元から成るかもしれない。典型的な反応は以下の通りである。
アノード半電池反応：
ｍ・２７．２ｅＶ＋Ｃａｔ＋Ｈ［ａ_Ｈ／ｐ］ →
Ｃａｔ^ｒ＋＋ｅ⁻＋Ｈ［ａ_Ｈ／（ｍ＋ｐ）］
＋［（ｐ＋ｍ）^２−ｐ^２］・１３．６ｅＶ（８３）
カソード半電池反応：
ｒ／２（ＭＨ_２＋２ｅ⁻＋Ｅ_Ｒ → Ｍ＋Ｈ⁻）（８４）
ここでは、Ｅ_ＲはＭｇＨ_２の還元エネルギーである。適当な酸化剤は、希土類水素化物、チタン水素化物、ジルコニウム水素化物、イットリウム水素化物、ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、及びＢａＨ、カルコゲニド、及び、Ｌｉ−Ｎ−ＨシステムのようなＭ−Ｎ−Ｈの化合物である。触媒カチオン、又は、適当な塩橋を通る水素化物イオン、又は、電解質の移動により、触媒及び水素はアノードコンパートメントで再生されるかもしれない。触媒の安定した酸化状態がＣａｔである場合には、塩橋反応又は電解質反応は以下の通りである。
塩橋反応：
Ｃａｔ^ｒ＋＋ｒＨ⁻ →
Ｃａｔ＋Ｈ＋（ｒ−１）／２Ｈ_２＋
（（（ｒ−１）／２）４．４７８−ｒ（０．７５４））ｅＶ（８５）
ここで、０．７５４ｅＶは水素化物イオン化エネルギーである、そして、４．４７８ｅＶはＨ２の結合エネルギーである。触媒又は触媒の源は、Ｈの源の役割をしもするかもしれない水素化物であるかもしれない。それから、塩橋反応は以下の通りである。
塩橋又は電解質反応：
Ｃａｔ^ｒ＋＋ｒＨ⁻ →
ＣａｔＨ＋（ｒ−１）／２Ｈ_２＋（ｍ・２７．２ｅＶ＋
（（ｒ−１）／２）４．４７８−ｒ（０．７５４））ｅＶ
＋Ｅ_Ｌ）（８６）
ここでは、Ｅ_ＬはＣａｔＨの格子エネルギーである。
そして、燃料電池反応は、アノードコンパートメントへ水素の置換を与えて、又は、ＭＨ_２を形成するようなＭと反応する電解質内でＣａｔＨを与えて維持されるかもしれない。Ｍ＝Ｌａの典型的な反応は以下の通りである。
Ｌａ＋Ｈ_２ → ＬａＨ_２＋２．０９ｅＶ（８７）
前者の場合、Ｃａｔ^ｒ＋の還元で作られるアノードコンパートメントからの過剰な水素のリサイクリングからの水素かもしれない。Ｈ（１／４）を形成しＨ_２（１／４）にするために消費あれた水素の代わりの水素は、水の電気分解からかもしれない。

反応物は、熱的に又は電解的に再生されてもよい。反応物は、熱的に又は電解的に再生されてもよい。生成物は、カソードまたはアノード・コンパートメントで再生されるかもしれない。または、例えば、それらはここではポンプを用いたリジェネレーターに本開示の再生化学作用のどれでも送られるかもしれない、あるいは、当業者に知られて、最初の応物を再生させるために適用されるかもしれない。ハイドリノ反応を受けているセルは、熱を反応物の再生を受けているそれらに提供するかもしれない。それぞれ再生を成し遂げるために生成物が温度で上がる場合には、リジェネレーターへ／から送られる間、順序で、熱を回復して、セル効率とシステム・エネルギー・バランスを増やすために、ＣＩＨＴセル生成物と再生する反応物が回収熱交換器を通して渡されるかもしれない。

電解質は、イオン性の液体を含むかもしれない。電解質は、１００−２００℃の範囲内のような低い誘電を持つかもしれない。典型的な電解質は、硝酸エチルアンモニウム、例えば１％ドープされたような二水素リン酸塩でドープされた硝酸エチルアンモニウム、硝酸ヒドラジニウム、ＮＨ_４ＰＯ_３−ＴｉＰ_２Ｏ_７、及び、ＬｉＮＯ_３−ＮＨ_４ＮＯ_３の共晶塩である。他の適当な電解質は、ＬｉＮＯ_３、アンモニウム・トリフレート（Ｔｆ＝ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻）、アンモニウム・トリフルオロアセタト（ＴＦＡｃ＝ＣＦ_３ＣＯＯ⁻）、アンモニウム・テトラフルオロボレート（ＢＦ_４ ⁻）、アンモニウム・メタンスルホン酸塩（ＣＨ_３ＳＯ_３ ⁻）、硝酸アンモニウム（ＮＯ_３ ⁻）、チオシアン酸アンモニウム（ＳＣＮ⁻）、スルファミン酸アンモニウム（ＳＯ_３ＮＨ_２ ⁻）、重フッ化アンモニウム（ＨＦ_２ ⁻）、アンモニウム硫酸水素塩（ＨＳＯ_４ ⁻）、アンモニウム・ビス（トリフルオロメタンスルフォニル）イミド（ＴＦＳＩ＝ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ⁻）、アンモニウム・ビス（パーフルオロエタンスルフォニル）イミド（ＢＥＴＩ＝ＣＦ_３ＣＦ_２ＳＯ_２）_２Ｎ⁻）、硝酸ヒドラジニウムからなる群の少なくとも１つの塩を含むかもしれない。そして、更に、ＮＨ_４ＮＯ_３、ＮＨ_４Ｔｆ、及びＮＨ_４ＴＦＡｃの少なくとも１つを更に含む共晶混合物のような混合物を含むかもしれない。他の適当な溶媒は、リン酸のような酸を含む。妥当なアンモニウム化合物は、アンモニウム又はアルキル・アンモニウム・ハロゲン化物、イミダゾールのような芳香族化合物、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、過塩素酸塩、ＰＦ_６ ⁻、及び、その溶媒と接触するセルの如何なる要素と両立できる（ｃｏｍｐａｔｉｂｌｅ）本開示の他のアニオンである。典型的な周囲温度Ｈ^＋伝導性溶融塩電解質は、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムクロリドーＡｌＣｌ_３及びピロリジニウムベースのプロトン性イオン液体（ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｉｕｍｂａｓｅｄｐｒｏｔｉｃｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄｓ）である。

図１を参照して、典型的なセル［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］の実施例において、生成物及び反応物の混合物を含む溶融塩は、水素源及びポンプ４３０を用い制御された圧力で入口４６０を通して水素を供給することによりカソードコンパートメント４２０内で再生される。溶融塩温度は、Ｎａ層がトップに形成され、ポンプ４４０によってアノードコンパートメント４０２にポンピングされるように、ヒータ４１１によって維持される。図１に示される別の実施例において、生成物及び反応物の混合物を含む溶融塩は、通路（ｃｈａｎｎｅｌ）４１９を通して、更に４１６及び４１８を通して、これらは少なくともバルブ及びポンプのうちの１つを含むが、カソードコンパートメント４０１から再生セル４１２内へと流される。水素は、供給され、温度は制御されるが、水素源及びポンプ４１３よってであり、これは、コントロールバルブ４１４によって制御される流れを持つライン４１５によって再生セル４１２へと接続される。溶融塩温度は、ヒータ４１１で維持される。水素化は、Ｎａが分離した層を形成するようにさせるが、この層はポンピングされて、再生セル４１２のトップからカソードチャンバー４０２へと通路（ｃｈａｎｎｅｌ）４２１を通して、更に４２２及び４２３、これらはバルブ及びポンプの少なくとも１つを含むが、を通して送られる。連続するカソード塩流れを含むもののような実施例において、通路（ｃｈａｎｎｅｌ）４１９は、Ｎａ層の下を延び、少なくともＮａ_２Ｏ及びＮａＯＨを含む下層へとカソードコンパートメントから流れる塩を供給する。カソード又はアノードコンパートメント、又は、再生セルの何れであっても、パワー又は再生反応中において所望の時間で内容物を混合する攪拌機を更に含んでよい。

ＢＡＳＥ電解質を含むセルの別の実施形態においては、カソードはＮａなどのアルカリ金属であり、溶融塩のカソードは、表４に記載されたものの１つである共晶混合物や、水素透過膜などの水素源や、Ｈ_２ガスまたは解離子と、Ｈ_２ガスを含む。典型的なセルは、ＮａＩ−ＮａＢｒ＋Ｎｉ（Ｈ_２）やＰｄＡｌ_２Ｏ_３などのＮａ／ＢＡＳＥ／共晶塩である。水素は、カソード・コンパートメントでＮａと反応し、ＮａＨを形成し、そのＮａＨは触媒およびＨ源として働き、ハイドリノを形成してよい。

反応物は、ハイドリノ反応を引き起こすためにハーフセルを介して連続的に供給されてもよいし、さらに、別の領域、コンパートメント、反応器、またはシステムに流出または搬送してもよい、そこでは、再生は少数単位で、断続的に、または連続的に起こり、再生を引き起こす生成物は静止しているか動いている。

妥当な酸化剤は、ＷＯ_２（ＯＨ）、ＷＯ_２（ＯＨ）_２、ＶＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）_２、ＶＯ（ＯＨ）_３、Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_２、Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_４、Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_６、Ｖ_２Ｏ_３（ＯＨ）_２、Ｖ_２Ｏ_３（ＯＨ）_４、Ｖ_２Ｏ_４（ＯＨ）_２、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）_２、Ｍｎ_２Ｏ_３（ＯＨ）、Ｍｎ_２Ｏ_２（ＯＨ）_３、Ｍｎ_２Ｏ（ＯＨ）_５、ＭｎＯ_３（ＯＨ）、ＭｎＯ_２（ＯＨ）_３、ＭｎＯ（ＯＨ）_５、Ｍｎ_２Ｏ_２（ＯＨ）_２、Ｍｎ_２Ｏ_６（ＯＨ）_２、Ｍｎ_２Ｏ_４（ＯＨ）_６、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＴｉＯ（ＯＨ）、ＴｉＯ（ＯＨ）_２、Ｔｉ_２Ｏ_３（ＯＨ）、Ｔｉ_２Ｏ_３（ＯＨ）_２、Ｔｉ_２Ｏ_２（ＯＨ）_３、Ｔｉ_２Ｏ_２（ＯＨ）_４、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウト鉱及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）水マンガン鉱）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、及びＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）である。一般に、酸化剤は、Ｍ_ｘＯ_ｙＨ_ｚであり、ここで、ｘ，ｙ，及びｚは整数であり、Ｍは、遷移、内部遷移、又は金属オキシ水酸化物のような希土類金属のような金属である。

混合物を含む適当な典型的な溶融水素化物は、融点が５０３℃で約４３＋５７ｍｏｌ％のＮａＨ−ＫＢＨ_４と、融点が３９０℃で約６６＋３４ｍｏｌ％のＫＨ−ＫＢＨ_４と、融点が３９５℃で約２１＋７９ｍｏｌ％のＮａＨ−ＮａＢＨ_４と、融点が１０３℃で約５３＋４７ｍｏｌ％のＫＢＨ_４−ＬｉＢＨ_４と、融点が２１３℃で約４１．３＋５８．７ｍｏｌ％のＮａＢＨ_４−ＬｉＢＨ_４と、及び、融点が４５３℃で約３１．８＋６８．２ｍｏｌ％のＫＢＨ_４−ＮａＢＨ_４と、であり、混合物は、ＬｉＨ，ＮａＨ，又はＫＨのようなアルカリ又はアルカリ土類水素化物を更に含むいかもしれない。他の典型的な水素化物は、Ｍｇ（ＢＨ_４）_２（ＭＰ２６０℃）及びＣａ（ＢＨ_４）_２（３６７℃）である。

反応物のＨは、希土類、遷移、内部遷移、アルカリまたはアルカリ土類金属などの金属に結合していてもよい。Ｈ反応物は水素化物を含んでよい。その水素化物は、金属水素化物であってよい。典型的な反応においては、Ｈは金属水素化物などの水素化物から抽出され、Ｍ^＋Ｈ⁻を形成する、そこでは、Ｍ^＋は電解質などの対イオンであり、Ｈ⁻はアノードへ移動し、Ｈに酸化され、本開示に記載されたものなどの受容体と反応する。

一実施形態では、移動イオンの還元およびカソード反応物との可能なさらなる反応から形成されたカソード生成物は、非電気分解ならびに電気分解法によって再生してもよい。生成物は、反応混合物向けの本開示の方法によって、アノード出発材料に再生してもよい。例えば、移動イオンの要素を含む生成物は、物理的または熱的に分離され、再生され、アノードに戻されてもよい。その分離は、水素化物の熱分解、還元された移動イオンである金属の蒸発によるものであってもよい。移動イオンのカソード生成物は、分離し、アノード生成物と反応させて、出発反応物を形成してもよい。カソード反応物の水素化物は、水素を添加することによって再生してもよいし、または、水素化物は、初期の水素化物を形成するのに必要な対応するカソード反応生成物の分離後に、別の反応槽で形成してもよい。同様に、その他のカソード開始反応物は、その場で、または別の容器で、分離と化学合成工程によって再生し、反応物を形成してもよい。

ＣＩＨＴセルの実施例において、Ｎａ^＋のようなアルカリ・カチオンは、可動性イオンであってもよい。電解質は、対応する可動性イオンと錯体を形成するようにβ”−アルミナ（βプライム−プライム・アルミナ）又はβアルミナを含んでよい。このように固体電解質は、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｌｉ^＋、Ｓｒ^２＋、及びＢａ^２＋の少なくとも１つと錯体を形成したＡｌ_２Ｏ_３を含んでよく、そして、Ｈ^＋、Ａｇ^＋、又はＰｂ^２＋の少なくとも１つと錯体を形成してもよい。電解質又は塩橋は、Ｋ^＋ガラスのようなイオン含浸ガラスであってもよい。可動性のイオンのようなＨ^＋に関する１つの実施例において、Ｈ^＋は、ハイドリノへの触媒反応のための原子状の水素の源として機能するカソードにおいてＨに還元される。一般的な実施例において、アノードコンパートメントは、アルカリ金属を含み、固体電解質は、ベータアルミナに対して錯体化される対応する移動性の金属イオンを含み、そして、カソードコンパートメントは、水素化物又はＨ_２のような水素の源を含む。移動性の金属イオンは、カソードで金属に還元されてよい。金属から形成される水素化物又は金属は、触媒又は触媒の源であってよい。ハイドリノは、触媒及び水素の反応によって形成される。セルは、好ましい導電性を提供する温度範囲でオペレーションされてよい。妥当なオペレーション温度範囲は２５０℃から３００℃である。他の典型的なナトリウムイオン導電性塩橋は、ＮＡＳＩＣＯＮ（Ｎａ_３Ｚｒ_２Ｓｉ_２ＰＯ_１２）及びＮａ_ｘＷＯ_３である。他の実施例において、Ｌｉ又はＫのような別の金属は、Ｎａを置換してよい。１つの実施例において、塩橋並びにカソード及びアノード反応物のようなセルコンパートメントの少なくとも１つは、与えられる種に対して選択的に透過性があるコーティングを含む。例は、ＯＨ⁻に対して選択的に透過的な酸化ジルコニウム・コーティングである。反応物は、それらが選択的に透過可能な種と選択的に反応するように、そのようなコーティングにおいてカプセルに入れられたマイクロー粒子を含んでよい。リチウム固体電解質又は塩橋は、ＬｉＢＨ_４−ＬｉＸ（Ｘ＝ハロゲン）のようなハライド安定化ＬｉＢＨ_４、Ｌｉ＋含浸Ａｌ_２Ｏ_３（Ｌｉ−β−アルミナ），Ｌｉ_２Ｓベースのガラス、Ｌｉ_０．２９＋ｄＬａ_０．５７ＴｉＯ_３（ｄ＝０から０．１４）、Ｌａ_０．５１Ｌｉ_０．３４ＴｉＯ_２．９４、Ｌｉ_９ＡｌＳｉＯ_８、Ｌｉ_１４ＺｎＧｅ_４Ｏ_１６（ＬＩＳＩＣＯＮ）、Ｌｉ_ｘＭ_１−ｙＭ’_ｙＳ_４（Ｍ＝Ｓｉ、Ｇｅ、及びＭ’＝Ｐ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ）（チオーＬＩＳＩＣＯＮ）、Ｌｉ_２．６８ＰＯ_３．７３Ｎ_０．１４（ＬＩＰＯＮ）、Ｌｉ_５Ｌａ_３Ｔａ_２Ｏ_１２、Ｌｉ_１．３Ａｌ_０．３Ｔｉ_１．７（ＰＯ_４）_３、ＬｉＭ_２（ＰＯ_４）_３、Ｍ^ＩＶ＝Ｇｅ、Ｔｉ、Ｈｆ、及びＺｒ、Ｌｉ_１＋ｘＴｉ_２（ＰＯ_４）_３（０≦ｘ≦２）ＬｉＮｂＯ_３、ケイ酸リチウム、アルミン酸リチウム、リチウム・アルミノケイ酸塩、固体ポリマー又はゲル、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）、Ｌｉ_３Ｎ、Ｌｉ_３Ｐ、酸化ガリウム（Ｇａ_２Ｏ_３）、酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）、酸化ケイ素アルミニウム（ｓｉｌｉｃｏｎａｌｕｍｉｎｕｍｏｘｉｄｅ）、及び、それらの固溶体、及び、当該技術分野において知られる他のもの、であってよい。

塩橋は、アニオン導電膜および／またはアニオン導電体を含んでよい。塩橋は、カチオンを導電できる。ゼオライトまたはアルミン酸ナトリウムなどの触媒のカチオンで飽和させたものなどのアルミナ、ランタニドホウ化物（ＭＢ_６などで、Ｍはランタニド）またはアルカリ土類ホウ化物（ＭＢ_６などで、Ｍはアルカリ土類）から、塩橋は形成してもよい。反応物またはセルの成分は、酸化物であってよい。酸化物中の電気化学種は、酸化物イオンまたはプロトンであってよい。塩橋は酸化物イオンを導電してもよい。酸化物導電体の典型例としては、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガドリニアドープセリア（ＣＧＯ）、ランタンガレート、ＢｉＣｕＶＯ_ｘなどのビスマス銅バナジウム酸化物である。Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏ_ｙＯ_３−ｄなどのペロブスカイト材料の中には、混合酸化物と電子伝導性を示すものもある。塩橋はプロトンを導電してもよい。ドープしたバリウムセレートとジルコン酸は、良好なプロトン伝導体またはプロトン化された酸化物イオンの導体である。Ｈ^＋の導体は、ストロンチウム−セリウム−イットリウム−ニオブ酸化物などのＳｒＣｅＯ_３系プロトン伝導体であってよい。Ｈ_ｘＷＯ_３は他の好適なプロトン導電対である。ナフィオン、類似の膜および関連した化合物も、好適なプロトン伝導体であり、さらに、Ｎａ^＋またはＬｉ^＋伝導体などのカチオン伝導体として機能してもよい。プロトン伝導体は、ＳＳなどの金属メッシュ上のＨＣｌ−ＬｉＣｌ−ＫＣｌ溶融塩電解質の固体膜を含んでもよく、それは、有機電解質を有するセル向けのプロトン伝導体塩橋としての役割を果してもよい。カチオン電解質は、ナフィオンとの交換を受け、対応するイオン伝導体を形成してもよい。プロトン伝導体は、イオン液体系複合膜などの無水ポリマーであってもよく、その膜はナフィオンなどであり、イオン液体は、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロ−メタンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートなどであり、また、プロトン伝導体は、プロトン供与体および受容体群を含むポリマーであり、例えば、ベンズイミダゾール部分を有するものであり、それは例えば、ポリ−［（１−（４，４’−ジフェニルエーテル）−５−オキシベンゾイミダゾール）−ベンゾイミダゾール］であり、それは、ナフィオンと混合され、さらにＢＮナノ粒子などの無機電子不足化合物でドープされてもよい。

他の実施形態では、当業者に公知の１つ又はそれ以上の他のイオンが、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ａｇ^＋、Ｆ⁻、Ｃｌ⁻、Ｎ^３−などの固体内の移動であってもよい。これらのイオンのいずれかを使用する、対応する良好な電解質材料は、Ｌｉ_３Ｎ、Ｎａ−β−Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｇＩ、ＰｂＦ_２、及びＳｒＣｌ_２である。アルカリ塩がドープされたポリエチレンオキシド又は類似のポリマーは、Ｌｉ^＋のような移動アルカリ金属イオン向けの電解質／分離器として機能してもよい。さらに、アルカリ及びアルカリ土類水素化物、ハロゲン化物及び混合物は、水素化物イオンＨ⁻の良好な導体である。好適な混合物は、共晶溶融塩を含む。塩橋は、水素化物を含んでもよく、選択的に水素化物イオンを導電してもよい。水素化物は熱的に非常に安定していてもよい。その高い融点及び熱分解温度のために、好適な水素化物は、リチウム、カルシウム、ストロンチウム、及びバリウムの塩分を含む水素化物とＥｕ、Ｇｄ、Ｌａなどの希土類金属の金属水素化物である。後者の場合、Ｈ又はプロトンは、表面において、Ｈ⁻から、又はＨ⁻への変換で、金属を介して拡散してもよい。塩橋は、ＣａＣｌ_２−ＣａＨ_２などの水素化物イオン導電固体電解質であってもよい。好適な水素化物イオン導電固体電解質は、ＣａＣｌ_２−ＣａＨ_２（５から７．５ｍｏｌ％）とＣａＣｌ_２−ＬｉＣｌ−ＣａＨ_２である。

Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、及びＫ^＋に対する妥当な塩橋は、また、Ｌｉ、ＮａＨ、及びＫの触媒の源は、それぞれ、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、及びＫ^＋で錯体化されたベータアルミナである。Ｌｉ^＋の塩橋又は固体電解質は、ＬｉＢＨ_４−ＬｉＸ（Ｘ＝ハロゲン）のような安定化ＬｉＢＨ_４ハロゲン化物、Ｌｉ^＋含浸Ａｌ_２Ｏ_３（Ｌｉ−β−アルミナ）、Ｌｉ_２Ｓベースのガラス、Ｌｉ_{０．２９＋ｄ}Ｌａ_０．５７ＴｉＯ_３（ｄ＝０から０．１４）、Ｌａ_０．５１Ｌｉ_０．３４ＴｉＯ_２．９４、Ｌｉ_９ＡｌＳｉＯ_８、Ｌｉ_１４ＺｎＧｅ_４Ｏ_１６（ＬＩＳＩＣＯＮ）、Ｌｉ_ｘＭ_１−ｙＭ’_ｙＳ_４（Ｍ＝Ｓｉ、Ｇｅ、及びＭ’＝Ｐ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ）（チオ−ＬＩＳＩＣＯＮ）、Ｌｉ_２．６８ＰＯ_３．７３Ｎ_０．１４（ＬＩＰＯＮ）、Ｌｉ_５Ｌａ_３Ｔａ_２Ｏ_１２、Ｌｉ_１．３Ａｌ_０．３Ｔｉ_１．７（ＰＯ_４）_３、ＬｉＭ_２（ＰＯ_４）_３、Ｍ^ＩＶ＝Ｇｅ、Ｔｉ、Ｈｆ、及びＺｒ、Ｌｉ_１＋ｘＴｉ_２（ＰＯ_４）_３（０≦ｘ≦２）ＬｉＮｂＯ_３、ケイ酸リチウム、アルミン酸リチウム、リチウム・アルミノケイ酸塩、固体ポリマー又はゲル、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）、Ｌｉ_３Ｎ、Ｌｉ_３Ｐ、酸化ガリウム（Ｇａ_２Ｏ_３）、酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）、シリコン酸化アルミニウム、及び、それらの固体電解質、及び、技術分野で既知のその他のものであってよい。導電度は、Ｌｉ_３ＰＯ_４又はＬｉ_３ＢＯ_３のようなＬｉ塩で高められるかもしれない。Ｌｉガラスはまた、Ｌｉ^＋塩橋として機能してよい。例えば、ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）ＧＦ／Ｄ１：１ジメチルカーボネート（ＤＭＣ）中において１ＭのＬｉＰＦ_６電解質溶液で飽和したホウ珪酸ガラス−ファイバー・シート／ＬＰ３０としても知られているエチレンカーボネート、又は、１：１炭酸ジメチル（ＤＭＣ）中において１ＭのＬｉＰＦ_６／ＬＰ３０としても知られているエチレンカーボネート（ＥＣ）はセパレータとして機能する／電解質である。ハライド安定化ＬｉＢＨ_４は、室温でも、高速Ｌｉ^＋イオン導体として機能するかもしれない。ハライドは、ＬｉＦ、ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、又はＬｉＩであるかもしれない。セパレータは、一層又は多層ポリオレフィン又はアラミドのような膜であるかもしれない。膜は、アノード及びカソード間のバリアを提供するかもしれず、更に、セルの一方の側から他方の側へとリチウムイオンの交換を可能にするかもしれない。妥当な膜セパレータは、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、又は三層（ＰＰ／ＰＥ／ＰＰ）電解質膜である。特定の典型的な膜は、セルゲート（Ｃｅｌｇａｒｄ）２４００ポリプロピレン膜（シャーロッテ、ノースカロライナ州）で、２５μｍの厚みがあり気孔率が０．３７である。電解質は、１：１炭酸ジメチル（ＤＭＣ）中において１ＭのＬｉＰＦ_６電解質溶液／エチレンカーボネート（ＥＣ）であるかもしれない。別の妥当なセパレータ／電解質は、３０：５：３５：３０ｖ／ｖＥＣ−ＰＣ−ＥＭＣ−ＤＥＣ溶媒における１ＭのＬｉＰＦ_６電解質溶液及びセルガード（Ｃｅｌｇａｒｄ）２３００である。他の妥当な溶媒及び電解質は、リチウム［ビス（オキザレート）ボラート］のようなリチウムをキレートしたホウ酸塩アニオン電解質、ジオキソラン、テトラヒドロフラン誘導体、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ベンゾジオキサン（ＢＤＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、及び、１，３−ジオキソランのようなジオキソランにおける過塩素酸リチウムである。当該技術分野の当業者に知られる他の溶媒は、Ｌｉベースのアノードのオペレーションにとって適切であるものであり、妥当である。これらの溶媒は、プロピレン・カーボネートのような有機から、塩化チオニル及び二酸化硫黄のような無機までの範囲に及び、かつ、典型的に、カルボニル、ニトリル、スルホニル、及びエーテル基のうちの少なくとも１つのような極性基を持っている。溶媒は、溶媒の安定性を増大させる添加材を更に含んでよく、ハイドリノ反応の程度及び速度の少なくとも１つを増大させてよい。

実施例において、有機カーボネートとエステルは、電解質溶媒を含んでいてもよい。好適な溶媒は、エチレンカーボネート（ＥＣ）、プロピレンカーボネート（ＰＣ）、ブチレンカーボネート（ＢＣ）、γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）、δ−バレロラクトン（δ−ＶＬ）、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド（ＮＭＯ）、ジメチルカーボネート（ＤＭＣ）、ジエチルカーボネート（ＤＥＣ）、エチルメチルカーボネート（ＥＭＣ）、酢酸エチル（ＥＡ）、メチルブタン（ＭＢ）及びエチル酪酸（ＥＢ）である。実施例では、有機エーテルは、電解質溶媒を含んでいてもよい。好適な溶媒は、ジメトキシメタン（ＤＭＭ）、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，２−ジエトキシエタン（ＤＥＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−メチル−テトラヒドロフラン（２−Ｍｅ−ＴＨＦ）、１，３−ジオキソラン（１，３−ＤＬ）、４−メチル−１，３−ジオキソラン（４−Ｍｅ−１，３−ＤＬ）、２−メチル−１，３−ジオキソラン（２−Ｍｅ−１，３−ＤＬ）である。リチウム塩は、電解質の溶質を含んでもよい。好適な溶質は、リチウムテトラフルオロボレート（ＬｉＢＦ_４）、六フッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ_６）、六フッ化ヒ酸リチウム（ＬｉＡｓＦ_６）、リチウム浸出液（ＬｉＣｌＯ_４）、リチウムトリフレート（Ｌｉ^＋ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻）、リチウムイミド（Ｌｉ^＋［Ｎ（ＳＯ_２ＣＦ_３）_２］⁻）及びリチウムｂｅｔｉ（Ｌｉ^＋［Ｎ（ＳＯ_２ＣＦ_２ＣＦ_３）_２］⁻）である。実施例では、性能向上添加剤が、バルク特性のために添加される、それらは例えば、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、アザーエーテル、ホウ酸塩、ボラン及びボロネートなどである。実施形態では、電解質はさらに下記などのアノード固体電解質界面（ＳＥＩ）添加剤を含んでよい；ＣＯ_２、ＳＯ_２、１２−クラウン−４、１８−クラウン−６、カテコールカーボネート（ＣＣ）、ビニレンカーボネート（ＶＣ）、エチレンサルファイト（ＥＳ）、α−ブロモ−γ−ブチロラクトン、メチルクロロギ酸エステル、２−アセチル−４，４−ジメチル−４−ブタノリド、スクシンイミド、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミド及びメチル桂皮。実施形態では、電解質はさらに下記のカソード表面層添加剤を含んでよい；Ｉ⁻／Ｉ_２、ｎ−ブチルフェロセン、１，１’−ジメチルフェロセン、フェロセン誘導体、１，２，４−トリアゾールのナトリウムなどの塩、イミダゾールのナトリウムなどの塩、１，２，５−トリシアノベンゾニトリル（ＴＣＢ）、テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、置換ベンゼン、ピロカーボネート及びシクロヘキシルベンゼン。実施形態では、電解質はさらに下記の新規の非水系溶剤を含んでよい；環状カーボネート、γ−ＢＬ、線形エステル、フッ素化エステル、フッ素カーボネート、フッ素カルバメート、フッ素化エーテル、グリコールホウ酸エステル（ＢＥＧ）、スルホン及びスルファミド。実施形態では、電解質はさらに下記の新規のリチウム塩を含んでよい；芳香族Ｌｉホウ酸塩、非芳香族Ｌｉホウ酸塩、キレートＬｉリン酸塩、ＬｉＦＡＰ、Ｌｉアゾラート及びＬｉイミダゾリド。一実施形態では、分子ハイドリノなどのハイドリノ生成物は、ＤＭＦなどの溶媒に可溶である。典型的なセルは、Ｌｉ／溶媒を含んでいるａｔ。

カソードおよびアノードは、導電体であってもよい。導体は、支持体であり、さらに負荷にそれぞれを接続するカソードとアノードの各々のリード線を含んでいてもよい。リード線も導体である。好適な導電体は、金属、炭素、炭化物、またはホウ化物である。好適な金属は遷移金属、ステンレス鋼、貴金属、Ａｇなどの内部遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＰｂおよびＴｅである。

セルは、アノードまたはカソード反応物の結合剤を含んでもよい。好適なポリマーバインダーとしては、例えば、下記を含む；ポリ（フッ化ビニリデン）、コポリ（ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン、ポリ（塩化ビニル）、またはポリ（エチレン−プロピレン−ジエンモノマー）およびＥＰＤＭ。電極は、ハーフセルに接触したニッケルなどの好適な導電体であってよい。

セルは、固体、溶融、または液体セルを含んでもよい。後者は溶媒を含んでいてもよい。操作条件は、カソードセル反応物、アノードセル反応物、塩橋、およびセルコンパートメントなどの少なくとも１つの反応物またはセルコンパートメントの所望の状態または特性を達成するように制御してもよい。好適な状態は、固体、液体、および気体であり、好適な特性は、イオンと電子への導電性、物理的特性、混和性、拡散速度、および反応性である。１つ以上の反応物が溶融状態に維持されている場合には、コンパートメントの温度は、反応物融点以上になるように制御してもよい。熱はハイドリノに対する水素の触媒作用からくるものでもよい。あるいは、酸化剤および／または還元反応物質は、燃料セルの内部抵抗によって、またはオーブンであってもよい外部ヒーター４５０によって供給される熱で溶融している。一実施形態では、ＣＩＨＴセルは、絶縁によって覆われ、それらは、当業者に知られた、導電性と放射熱損失の断熱を充填したシートメタルジャケットのような二重壁避難ジャケットとして含有する。セルは、動作中に起こるハイドリノ生成反応などの反応から内部で生成された熱を補うために、起動やメンテナンスの熱を要望に応じて供給する熱管理システムをさらに、含んでよい。さらに、システムは、必要に応じて過剰な熱を除去する熱除去システムを含んでよい。熱除去システムは、熱交換器と冷媒循環器を備えるものなどの当該技術分野で公知の１つを含んでよく、そこでは、熱伝達が強制対流、放射、伝導のうちの少なくとも１つによってもよい。一実施形態では、その構成は、直円柱積層体などの熱力学的に効率的な熱の保持器であり、熱を保持するために、最適な体積対表面積比を提供している。一実施形態では、カソードとアノード・コンパートメントの少なくとも１つの反応物は、少なくとも部分的に溶媒による溶媒和になっている。好適な溶媒は、有機溶剤セクションと無機溶媒セクションに開示されている。アルカリ金属を溶解する好適な溶媒は、ヘキサメチルホスホルアミド（ＯＰ（Ｎ（ＣＨ_３）_２）_３、アンモニア、アミン、エーテル、錯化溶媒、クラウンエーテル、クリプタンドと、クラウンエーテルまたはクリプタンドを添加したＴＨＦなどのエーテルまたはアミド系溶媒である。

燃料セルはさらに、少なくとも１つのコンパートメントに水素を計測、配送、制御するための少なくとも１つの水素システム４６０、４６１、４３０、および４３１を含んでもよい。水素システムは、ポンプと、少なくとも１つの値−圧力計とリーダと、カソードとアノード・コンパートメントの少なくとも１つに水素を供給するための制御システムを含んでもよい。水素システムは、コンパートメントからコンパートメントへと水素をリサイクルしてもよい。一実施形態では、水素システムは、アノード・コンパートメントからカソード・コンパートメントにＨ_２ガスをリサイクルする。リサイクルは、アクティブまたはパッシブのどちらでもよい。前者の場合、Ｈ_２は、操作中に、アノード・コンパートメントからカソード・コンパートメントにポンプで送られてもよい、また、後者の場合には、Ｈ_２は、式（８５−８６）などの反応に従った動作中のアノード・コンパートメントでの圧力の蓄積により、アノード・コンパートメントからカソード・コンパートメントに拡散または流れこむ。

生成物は、カソードまたはアノード・コンパートメントで再生してもよい。生成物は、再生器に送られてもよく、そこでは、本開示の再生化学のいずれかが、初期反応物を再生するために適用されてもよい。ハイドリノ反応を受けたセルは、反応物の再生を受けたものに熱を提供してもよい。

少なくとも１つの半電池の反応物は、ＬｉＮＨ_２，Ｌｉ_２ＮＨ，又はＬｉ_３ＮのようなＭ−Ｎ−Ｈシステムの種、及び、アルミノハイドライド（ａｌｕｍｉｎｏｈｙｄｉｄｅｓ）のようなアルミニウム又はホウ化水素のようなホウ素を更に含むアルカリ金属水素化物、及び、金属水素化物のような水素貯蔵材料を含んでよい。更なる妥当な水素貯蔵材料は、ＭｇＨ_２のようなアルカリ土類水素化物のような金属水素化物、ＢａＲｅＨ_９，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，ＦｅＴｉＨ_１．７，及びＭｇＮｉＨ_４，のような金属水素化物、Ｂｅ（ＢＨ_４）_２，Ｍｇ（ＢＨ_４）_２，Ｃａ（ＢＨ_４）_２，Ｚｎ（ＢＨ_４）_２，Ｓｃ（ＢＨ_４）_３，Ｔｉ（ＢＨ_４）_３，Ｍｎ（ＢＨ_４）_２，Ｚｒ（ＢＨ_４）_４，ＮａＢＨ_４，ＬｉＢＨ_４，ＫＢＨ_４，及びＡｌ（ＢＨ_４）_３のような金属ホウ化水素、ＡｌＨ_３，ＮａＡｌＨ_４，Ｎａ_３ＡｌＨ_６，ＬｉＡｌＨ_４，Ｌｉ_３ＡｌＨ_６，ＬｉＨ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，及びＴｉＦｅＨ_２、ＮＨ_３ＢＨ_３，ポリアミノボラン（ｐｏｌｙａｍｉｏｎｂｏｒａｎｅ）、アミノボラン、水素化硼素アンモニア化合物、ヒドラジンーボラン錯体、ジボラン・ジアモニエイト（ｄｉａｍｍｏｎｉａｔｅ）、ボラジン、及び、アンモニウム・オクタハイドロトリボレイト（ｏｃｔａｈｙｄｒｏｔｒｉｂｏｒａｔｅ）又はテトラハイドロトリボレイト（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｂｏｒａｔｅｓ）、のようなアミノボラン錯体、アルキル（アリール）−３−メチルイミダゾリウムＮ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミダート塩（ａｌｋｙｌ（ａｒｙｌ）−３−ｍｅｔｈｙｌｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍＮ−ｂｉｓ（ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｙｌ）ｉｍｉｄａｔｅｓａｌｔｓ）のようなイミダゾリウム・イオン性液体、ホスホニウム・ボラート（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｕｍｂｏｒａｔｅ）、及び、カーボナイト（ｃａｒｂｏｎｉｔｅ）物質、である。更なる典型的な化合物は、アンモニア・ボラン、リチウム・アンモニア・ボランのようなアルキル・アンモニア・ボラン、ボラン・ジメチルアミン錯体のようなボラン・アルキル・アミン錯体、ボラン・トリメチルアミン錯体、及び、アミノジボラン、ｎ−ジメチルアミノジボラン、トリス（ジメチルアミノ）ボラン、ジ−ｎ−ブチルボランアミン（ｄｉ−ｎ−ｂｕｔｙｌｂｏｒｏｎａｍｉｎｅ）、ジメチルアミノボラン、リメチルアミノボラン、アンモニア・トリメチルボラン、及び、トリエチルアミノボラン（ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｂｏｒａｎｅ）である。更なる妥当な水素貯蔵材料は、カルバゾールのような吸着された水素を含む有機液体、及び、９−（２−エチルヘキシル）カルバゾール、９−エチルカルバゾール、９−フェニルカルバゾール、９−メチルカルバゾール、及び４，４’−ビス（Ｎ−カルバゾリル）−１，１’−ビフェニルのような誘導体である。

一実施形態では、少なくとも１つのセルは、さらに電解質を含む。電解質は、溶融共晶塩を含んでいてもよいし、さらに水素化物を含んでいてもよい。塩は、触媒と同じカチオンの１つ以上のハロゲン化合物を含み、また、触媒とＬｉＨとＬｉＣｌ／ＫＣＬの混合物などの塩のハロゲン化合物との反応から形成することができるハロゲン化化合物より安定な化合物である。または、塩混合物は、触媒水素化物とのハロゲン化合物−水素化物交換反応は、正味の反応をもたらさないので、触媒金属と同じアルカリ金属の混合ハロゲン化合物を含む。塩は、水素化物イオン伝導体であってもよい。ハロゲン化合物に加えて、水素化物イオンを伝導できる他の好適な溶融塩電解質は、ＫＯＨでのＫＨまたはＮａＯＨでのＮａＨなどの水酸化物やＮａＡｌ（Ｅｔ）_４でのＮａＨなどの有機金属系である。セルは、Ａｌ、ステンレス鋼、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｔａなどの金属からなるか、またはグラファイト、窒化ホウ素、ＭｇＯ、アルミナ、石英るつぼを含んでもよい。

電解質は、アルカリハロゲン化合物およびアルカリ土類ハロゲン化合物の群のうちの少なくとも２つの化合物などの２つ以上のフッ化物の共晶塩を含んでもよい。典型的な塩混合物には、ＬｉＦ−ＭｇＦ_２、ＮａＦ−ＭｇＦ_２、ＫＦ−ＭｇＦ_２およびＮａＦ−ＣａＦ_２が含まれる。他の好適な溶媒は、金属ホウ化水素および金属アルミニウム水素化物を基にした有機クロロアルミネート溶融塩およびシステムである。溶融した共晶混合物などの溶融混合物であり得るさらなる好適な電解質を表４に示す。

表４に示す典型的な塩混合物などの溶融塩電解質は、Ｈ⁻イオン伝導体である。実施形態では、ＬｉＨ、ＮａＨまたはＫＨなどのアルカリ水素化物などのＨ⁻源が、Ｈ⁻イオン伝導性を向上させるために溶融塩電解質に添加されていることを、開示において暗黙に述べられている。他の実施形態では、溶融電解質は、アルカリ金属イオン伝導体またはプロトン伝導体であってもよい。他の実施形態では、電解質は水酸化物を含む。触媒は、水酸化から形成することができるＨ_２Ｏであってもよい。

典型的な実施形態では、ＬｉＣｌ−ＫＣｌの濃度が約５８．５＋４１．２モル％であり、溶融温度は、約４５０℃であり、ＬｉＨの濃度は、約０．１モル％以下である。他の実施形態では、ＬｉＨの濃度は、約８．５％の飽和限界に対する、任意の所望のモルパーセントであってもよい。他の典型的な実施形態では、電解質は、ＬｉＨ＋ＬｉＦ＋ＫＦまたはＮａＦを、また、任意にＴｉＣなどの支持体を含んでいてもよい。他の好適な電解質は、アルカリ水素化物、アルカリおよびアルカリ土類ホウ化水素の混合物であり、そこでは、セル反応は金属交換であってよい。好適な混合物は、下記の共晶混合物である：約４３＋５７ｍｏｌ％で、溶融温度が約５０３℃のＮａＨ−ＫＢＨ_４；約６６＋３４ｍｏｌ％で、溶融温度が約３９０℃のＫＨ−ＫＢＨ_４；約２１＋７９ｍｏｌ％で、溶融温度が約３９５℃のＮａＨ−ＮａＢＨ_４；約５３＋４７ｍｏｌ％で、溶融温度が約１０３℃のＫＢＨ_４−ＬｉＢＨ_４；約４１．３＋５８．７ｍｏｌ％で、溶融温度が約２１３℃のＮａＢＨ_４−ＬｉＢＨ_４；約３１．８＋６８．２ｍｏｌ％で、溶融温度が約４５３℃のＫＢＨ_４−ＮａＢＨ_４であり、そこでは、混合物はさらに、ＬｉＨ、ＮａＨまたはＫＨなどのアルカリまたはアルカリ土類水素化物を含んでよい。水素化物の好適な濃度は、０．００１から１０ｍｏｌ％である。

反応混合物は下記を含んでよい：（１）ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、ＲｂＨ、ＣｓＨ、ＢａＨ、および少なくとも１つのＨなどの触媒または触媒源および水素源；（２）電解質として働き、高いイオン伝導性を有し、選択的に水素化物イオンを透過させることが可能な共晶塩混合物であり、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの群から少なくとも２つのカチオンとＦ，Ｃｌ，ＢおよびＩの群から少なくとも１つのハロゲン化合物を含む；（３）ＴｉＣなど炭化物などの電気導電性がある支持体；（４）必要に応じて、アルカリ土類金属またはアルカリ土類水素化物などの還元剤−水素化物イオン交換反応。

典型的なＣＩＨＴセルは、（ｉ）アルミニウム、アンチモン、バリウム、ビスマス、ホウ素、カドミウム、カルシウム、カーボン（黒鉛）、セリウム、セシウム、クロミウム、コバルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ガリウム、ゲルマニウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジウム、鉄、ランタン、リード、リチウム、ルテチウム、マグネシウム、マンガン、水銀、モリブデン、ネオジム、ニッケル、ニオブ、オスミウム、パラジウム、燐、プラチナ、カリウム、プラセオジム、プロメチウム、プロトアクチニウム、レニウム、ロジウム、ルビジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、セレニウム、シリコン、銀、ナトリウム、ストロンチウム、硫黄、タンタル、テクネチウム、テルル、テルビウム、ツリウム、スズ、チタン、タングステン、バナジウム、イッテルビウム、イットリウム、亜鉛、及び、ジルコニウムのリストからの元素を含む化合物又は元素のような還元剤の源又は還元剤と、（ｉｉ）表４に与えられるそれらの１つのような電解質と、（ｉｉｉ）表４に与えられる化合物のような酸化剤と、（ｉｖ）アルミニウム、アンチモン、バリウム、ビスマス、ホウ素、カドミウム、カルシウム、カーボン（黒鉛）、セリウム、セシウム、クロミウム、コバルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ガリウム、ゲルマニウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジウム、鉄、ランタン、リード、リチウム、ルテチウム、マグネシウム、マンガン、水銀、モリブデン、ネオジム、ニッケル、ニオブ、オスミウム、パラジウム、燐、プラチナ、カリウム、プラセオジム、プロメチウム、プロトアクチニウム、レニウム、ロジウム、ルビジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、セレニウム、シリコン、銀、ナトリウム、ストロンチウム、硫黄、タンタル、テクネチウム、テルル、テルビウム、ツリウム、スズ、チタン、タングステン、バナジウム、イッテルビウム、イットリウム、亜鉛、及び、ジルコニウムのリストからの元素を含む材料又はそれらの元素、及び、窒化チタンのような金属窒化物、ＴｉＢ_２及びＭｇＢ_２のような金属ホウ化物、ＴｉＣのような金属炭化物、金属のような導電性の電極と、を含む。金属は、アルミニウム、アンチモン、バリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、セリウム、セシウム、クロミウム、コバルト、銅、ジスプロシウム、エルビウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ガリウム、ゲルマニウム、金、ハフニウム、ホルミウム、インジウム、イリジウム、鉄、ランタン、リード、リチウム、ルテチウム、マグネシウム、マンガン、水銀、モリブデン、ネオジム、ニッケル、ニオブ、オスミウム、パラジウム、プラチナ、カリウム、プラセオジム、プロメチウム、プロトアクチニウム、レニウム、ロジウム、ルビジウム、ルテニウム、サマリウム、スカンジウム、セレニウム、シリコン、銀、ナトリウム、ストロンチウム、タンタル、テクネチウム、テルル、テルビウム、ツリウム、スズ、チタン、タングステン、バナジウム、イッテルビウム、イットリウム、亜鉛、及びジルコニウム、のリストから、更に、（ｖ）Ｌｉ，ＮａＨ，Ｋ，Ｒｂ^＋，Ｃｓ，及び少なくとも１つのＨのような触媒の源又は触媒の源、アルカリ又はアルカリ土類水素化物のような水素化物のような水素の源又は水素、からかもしれない。実施例において、セルは更に、ハイドリノ反応物を形成するような反応及びハイドリノが再生よりも速い速度でおきる状態へと、セルを再生する濃度及び種に合わせる反応物又はセル化学物質を再生するシステムを含む。実施例において、再生システムは、電気分解システムを含む。

セルは、さらに、アノードおよびカソード向けに電流コレクタを備え、そこでは、電流コレクタが固体箔またはメッシュ材料を含んでいてもよい。好適なアノードハーフセル向けのコーティングを施していない電流コレクタ材料は、ステンレス鋼、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、ＰｂとＰｂ合金、耐熱金属および貴金属からなる群から選択してもよい。好適なカソードハーフセル向けのコーティングを施していない電流コレクタ材料は、ステンレス鋼、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｐｂ酸化物（ＰｂＯ_ｘ）、貴金属からなる群から選択してもよい。あるいは、電流コレクタは、腐食されず、それが堆積された箔を保護する薄い不動態層を有したＡｌなどの好適な金属箔を含んでよい。いずれかのハーフセルに用いることができる典型的な耐腐食層は、ＴｉＮ、ＣｒＮ、Ｃ、ＣＮ、ＮｉＺｒ、ＮｉＣｒ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｚｒ、Ｗ、ＦｅＮまたはＣｏＮである。一実施形態では、カソード電流コレクタは、ＴｉＮ、ＦｅＮ、Ｃ、ＣＮで被覆されたＡｌ箔を含む。コーティングは、当該技術分野で公知の任意の方法によって達成してもよい。典型的な方法は、スパッタリング、化学蒸着、電着、スプレー堆積および積層などの物理的気相成長法である。

Ｈの源は、金属水素化物であってよく、カソード反応物及びアノード反応物の少なくとも１つを含む。その水素化物は電気的な導体であってよい。例示的な導電性水素化物はチタン水素化物（水素化チタン）及びランタン水素化物（水素化ランタン）である。他の好適な水素化物は、Ｌａ，Ｃｅ，Ｅｕ，及びＧｄのそれらのような希土類水素化物、イットリウム水素化物（水素化イットリウム）、及びジルコニウム水素化物（水素化ジルコニウム）である。追加的な好適な例示的な高い導電性を示す水素化物は、ＣｅＨ_２，ＤｙＨ_２，ＥｒＨ_２，ＧｄＨ_２，ＨｏＨ_２，ＬａＨ_２，ＬｕＨ_２，ＮｄＨ_２，ＰｒＨ_２，ＳｃＨ_２，ＴｂＨ_２，ＴｍＨ_２，及びＹＨ_２の群からの１又はそれ以上である。他の好適な導電性水素化物は、ＴｉＨ_２，ＶＨ，ＶＨ_１．６，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，ＣｒＨ，ＣｒＨ_２，ＮｉＨ，ＣｕＨ，ＹＨ_２，ＹＨ_３，ＺｒＨ_２，ＮｂＨ，ＮｂＨ_２，ＰｄＨ_０．７，ＬａＨ_２，ＬａＨ_３，ＴａＨ，ランタニド・ヒドリド（水素化物）：ＭＨ_２（フルオライト（蛍石））Ｍ＝Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｂ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｌｕ；ＭＨ_３（立方晶）Ｍ＝Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｙｂ；ＭＨ_３（六方晶）Ｍ＝Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｌｕ；アクチニド水素化物（ａｃｔｉｎｉｄｅｈｙｄｒｉｄｅｓ）：ＭＨ_２（フルオライト（蛍石））Ｍ＝Ｔｈ，Ｎｐ，Ｐｕ，Ａｍ；ＭＨ_３（六方晶）Ｍ＝Ｎｐ，Ｐｕ，Ａｍ，及びＭＨ_３（立方晶、複合体構造）Ｍ＝Ｐａ，Ｕである。

ハーフセル反応物は、さらに、任意の種類の支持体またはＴｉＣなどの炭化物、ＴｉＢ_２またはＭｇＢ_２などのホウ化物、炭素などの支持体またはＴｉＣＮなどのその他の支持体を含んでよい。他の好適な支持体としては、セルロース、炭素繊維、ナフィオン、カチオンまたはアニオン交換樹脂、４Ａまたは１３Ｘなどのモレキュラーシーブ、またはポリアニリン、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリビニルフェロセン、ポリビニルニッケロセン、またはポリビニルコバルトセンなどの導電性ポリマー、カーボンナノチューブ、フローレンまたは同様のかごまたは空洞化合物、その例としては、ゼオライト、Ｐｔ／ナノＴｉ、Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３、ゼオライト、Ｙゼオライト、ＨＹゼオライトおよびＮｉ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２で、カーボンなどの導電体と混合するか導電体とドープされていてもよい。親水性官能基を有する蒸気または活性炭が、支持体として働いてもよい。

電解質に、アミド、イミド、および窒化物化合物を添加するのに加えて、反応物または化学種の活性を、リン化物、ホウ化物、酸化物、水酸化物、ケイ化物、窒化物、ヒ化物、セレン化物、テルル化物、アンチモン化物、炭化物、硫化物、および水素化合物の群の少なくとも１つの化合物を添加することによって変更してもよい。一実施形態では、ＬｉまたはＬｉＨなどの化学種、他の触媒源またはＫ、ＫＨ、ＮａおよびＮａＨなどの触媒の活性は、その化学種に結合し得るアニオンを含む緩衝液を用いて制御される。緩衝液は対イオンを含んでもよい。対イオンは、下記の群の少なくとも１つを含んでよい：ハロゲン化合物、酸化物、リン化物、ホウ化物、水酸化物、ケイ化物、窒化物、ヒ化物、セレン化物、テルル化物、アンチモン化物、炭化物、硫化物、水素化物、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、水素硫酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、二リン酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、過マンガン酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、亜塩素酸、過塩素酸、次亜塩素酸塩、臭素酸塩、過臭素酸塩、臭化物、過臭化物、ヨウ素酸塩、過ヨウ素酸塩、ヨウ化物、過ヨウ化物、クロム、重クロム、テルル酸塩、セレン酸塩、ヒ酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩、コバルト酸化物、テルルの酸化物およびハロゲンなどのオキソアニオン、Ｐ、Ｂ、Ｓｉ、Ｎ、Ａｓ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｍｎ、Ｃｒ、ＣｏおよびＴｅ。少なくとも１つのＣＩＨＴハーフセルコンパートメントは、対イオンの化合物を含んでいてもよい、セルは塩橋を含んでいてもよく、塩橋は対イオンに対して選択的であってもよい。

電解質は、追加的に、アルカリ又はアルカリ土類金属又は水素化物のような金属又は水素化物を含んでよい。妥当なアルカリ土類金属及び水素化物は、それぞれ、Ｍｇ及びＭｇＨ_２である。少なくとも１つの電極は、ＴｉＣ，ＹＣ_２，Ｔｉ_３ＳｉＣ_２，及びＷＣのような支持体を含んでよく、そして、半電池は更に、Ｋ、ＮａＨ、又はＬｉ^＋の移動からのＬｉのような触媒と、Ｍｇ又はＣａのような還元剤と、ＴｉＣ，ＹＣ_２，Ｔｉ_３ＳｉＣ_２，又はＷＣのような支持体と、ＬｉＣｌ，ＳｒＢｒ_２，ＳｒＣｌ_２，ｏｒＢａＣｌ_２のような酸化剤と、及び、Ｒ−Ｎｉ，ＴｉＨ_２，ＭｇＨ_２，ＮａＨ，ＫＨ，又はＬｉＨのような水素化物のようなＨの源と、を含んでよい。Ｈの源として機能し、或いは、触媒を形成するように、半電池のコンパートメントの壁を通して、水素は浸透するかもしれない。浸透するＨの源は、Ｈ⁻の酸化からかもしれない。

ハーフセルコンパートメントを単離し、電気絶縁性のセパレータで接続してもよい。セパレータはまた、塩橋の支持体として働いてもよい。塩橋は、セパレータによってサポートされる溶融塩を含んでもよい。セパレータは、ＭｇＯまたはＢＮ繊維であってもよい。後者は、織布または不織布フェルトであってもよい。一実施形態では、触媒または触媒源とＮａＨまたはＫＨなどの水素源は、実質的に、塩橋に不溶である。各ハーフセル反応混合物は、プラークの中に押し込み、アノードとカソードの電流コレクタに取り付けてもよい。プラークは、金属シートなどの少なくとも１つの穿孔シートで固定してもよい。あるいは、セパレータは、Ｈに対して透過性であってもよい、そこでは、Ｈ⁻が反応してカソードハーフセルの界面にＨを形成し、Ｈはセパレータを通過し、アノードハーフセルの界面で、Ｈ⁻を形成する。Ｈを形成することによってＨ⁻を輸送する好適なセパレータは、Ｖ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｗ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈなどの耐火ベースメタル、貴金属およびレアアース、Ｐｄなどの合金およびＰｄ／Ａｇの合金である。Ｈ膜を含む金属は、界面でのＨ⁻／Ｈ変換の活性を増大するようにバイアスされてもよい。その活性は、濃度勾配を使用することによって高めてもよい。

支持体は、炭素、炭化物またはホウ化物から成るかもしれない。適当な炭素、炭化物とホウ化物は、カーボンブラック、ＴｉＣ、Ｔｉ_３ＳｉＣ_２、ＴｉＣＮ、ＳｉＣ、ＹＣ_２、ＴａＣ、Ｍｏ_２Ｃ、ＷＣ、Ｃ、Ｂ_４Ｃ、ＨｆＣ、Ｃｒ_３Ｃ_２、ＺｒＣ、ＣｒＢ_２、ＶＣ、ＺｒＢ_２、ＮｂＣとＴｉＢ_２である。水素解離剤の役割をしもするかもしれない適当な支持体は、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｔ／ＣＰｄ／ＭｇＯ、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｔ／ＭｇＯとＰｔ／Ａｌ_２Ｏ_３である。

ハーフセルコンパートメントを単離し、電気絶縁性のセパレータで接続してもよく、そのセパレータはまた、塩橋の支持体として働いてもよい。塩橋は、セパレータによってサポートされる溶融塩を含んでもよい。セパレータは、ＭｇＯまたはＢＮ繊維であってもよい。後者は、織布または不織布フェルトであってもよい。

別の実施形態では、アノードまたはカソードハーフセルは下記を含む：水素透過性カソードなどのＨまたはＨ⁻の源と、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）またはＶ（Ｈ_２）カソードなどの水素源（（Ｈ_２）は、電解質に接触するように電極を透過した水素ガスなどの水素源を指す）、アルカリの少なくとも１つの水素化物またはアルカリ土類水素化物、Ｔｉ水素化物などの遷移金属水素化物、Ｎｂ、ＺｒまたはＴａ水素化物などの内部遷移金属水素化物、パラジウムまたは白金水素化物および希土類水素化物。

セルは、断続的に、少なくとも電気分解されるか排出されてもよい。電解カソードおよびアノードは、ＣＩＨＴセルアノードとカソードであってよく、そこでの役割は、セルが再生した後に、ＣＩＨＴセルから電解セルに切り替えられまた元に戻すことにより逆転される。逆電圧は、パルスとして印加してもよい。パルス逆極性および波形は、任意の周波数範囲、ピーク電圧、ピーク電力、ピーク電流、デューティーサイクル、およびオフセット電圧であってもよい。パルス反転は、ＤＣであってもよいし、印加電圧は交流または波形を有してもよい。その印加は、所望の周波数でパルス化してよく、波形は、所望の周波数を有してよい。好適なパルス周波数は、約１から約１０００Ｈｚの範囲内であり、デューティーサイクルは、約０．００１％から約９５％でよいが、この範囲内の２つの増分の因子の狭い範囲内であってもよい。一実施形態では、セルは、放電段階中にハイドリノと反応するＨの単層を作るための入力エネルギーを最小にするために、最適な実行高周波で維持される。セル当たりのピーク電圧は、約０．１Ｖから１０Ｖの少なくとも１つの範囲内であってもよいが、この範囲内の２つの増分の因子の狭い範囲内であってもよい。別の実施形態では、高電圧パルスは、セルあたり、約１０Ｖから１００ｋＶの範囲であるように印加されるが、この範囲内のオーダーの大きさの増分の狭い範囲内であってもよい。波形は、約０．１Ｈｚから約１００ＭＨｚ、約１００ＭＨｚから１０ＧＨｚ、約１０ＧＨｚから１００ＧＨｚの少なくとも１つの範囲内の周波数を有してもよいが、この範囲内で桁の増分の狭い範囲内であってもよい。デューティーサイクルは、約０．００１％から約９５％の範囲および約０．１％から約１０％の範囲の少なくとも１つであってよいが、この範囲内で桁の増分の狭い範囲内であってもよい。パルスのピーク電力密度は、約０．００１Ｗ／ｃｍ^２から１０００Ｗ／ｃｍ^２の範囲であってよいが、この範囲内で桁の増分の狭い範囲内であってもよい。パルスの平均電力密度は、約０．０００１Ｗ／ｃｍ^２から１００Ｗ／ｃｍ^２の範囲であってよいが、この範囲内で桁の増分の狭い範囲内であってもよい。一実施形態では、間欠充放電周波数は、電荷移動抵抗を小さくするために増加されてもよい。

一実施形態では、短命でありえる反応物が、電気分解中に生成され、その結果、充放電の繰り返しサイクルのＣＩＨＴセル放電段階中に、ハイドリノおよび対応する電力が形成される。電解電力を、入力エネルギーに対するハイドリノの形成からのエネルギーを最適化するために適用してもよい。電圧、波形、デューティセル、周波数、その他のパラメータの電解条件は、セルからの電気エネルギー利得を増加させるために調整してもよい。

実施形態では、ハーフセル反応物が再生される。その再生は、バッチモードにおける、反応物への生成物の電気分解などの手段、または反応物への生成物の熱反応であってもよい。また、システムはバッチモードにおいて自発的に、または連続的に再生してもよい。ハイドリノ反応物を形成するための反応は、アノードハーフセルにおける酸化およびカソードハーフセルの低下を受ける対応した反応物を含む電子とイオンの流れにより発生する。一実施形態では、ハイドリノ反応物を形成するための全体的な反応が、熱力学的に好ましくはない。例えば、それは、正の自由エネルギーを有し、逆方向の反応は、自発的であるか、または反応条件を変えることによって自発的にさせることができる。その後、反応の進行方向は、協調反応であり得るような方法にて、ハイドリノを形成する際の大きなエネルギー放出によって駆動される。ハイドリノを形成するための反応は可逆的ではないので、ハイドリノが形成された後、生成物は、自発的に反応物に変換することがある。または、温度、水素圧、１つ以上の反応物質または生成物の濃度などの１つ以上の反応条件は、セルの初期反応物を再生するために変更される。

一実施形態では、ハイドリノ水素化物が反応を阻害し、再生が、水素化物を反応させ、セルから排出されえる分子ハイドリノを形成することによって達成される。水素化物は、カソードとアノードの少なくとも１つの上と、電解質中に存在してもよい。水素化物の分子ハイドリノへの反応は、電気分解によって達成されてもよい。電気分解は、ＣＩＨＴセル動作と反対の極性を有してもよい。電気分解は、ハイドリノ水素化物と反応するプロトンまたはＨを形成することにより、分子ハイドリノ形成してもよい。その反応は、電解質アノードで起こってもよい。一実施形態では、ハイドリノ水素化物イオンは、アノードに移動し、Ｈ^＋またはＨと反応して分子ハイドリノを形成するように、高い移動度を有する。

一実施形態では、ハーフセルの反応物は、酸化還元反応のエネルギーが、Ｈ原子と、ハイドリノを形成するよう反応速度を高める触媒との間の約２７．２ｅＶのエネルギー移動の整数倍により良く一致するように、選択される。酸化還元反応のエネルギーは、ハイドリノを形成するために反応速度を高める活性化エネルギーを提供してもよい。一実施形態では、セルへの電気負荷が調整されることにより、電気およびイオンの流れを介して結合された酸化還元反応を、Ｈ原子と、ハイドリノを形成するよう反応速度を高める触媒との間の約２７．２ｅＶのエネルギー移動の整数倍に一致させる。

図２に示される二重膜３−コンパートメント・セルにおいて、塩橋はアノード４７２とカソード４７３の間でイオン導電性電解質４７１をコンパートメント４７０に含むかもしれない。容器壁と電極が電解質４７１のためにチャンバー４７０をつくるように、電極は離れて持たれて、内部の容器壁への密封であるかもしれない。それらが互いから分離されるように、電極は容器から電気的に絶縁される。電極を電気的に短絡させるかもしれない他のどの導体も、短絡させることを避けるために、容器からも電気的に絶縁されなければならない。アノードとカソードは、水素に高浸透性を持つ金属から成るかもしれない。電極はチューブ電極のようなより高い表面積を提供する形状から成るかもしれない、あるいは、それは多孔質電極から成るかもしれない。カソード・コンパートメント４７４からの水素は、カソードによって拡散するかもしれなくて、カソードと塩橋電解質４７１の界面で、Ｈ⁻に還元を受ける。Ｈ⁻は電解質中を移動して、電解質−アノード界面で、Ｈに酸化する。Ｈはアノードによって広まって、ハイドリノをつくるために、アノード・コンパートメント４７５で触媒と反応する。Ｈ⁻と触媒イオン化は、外部回路４７６で運ばれるカソードで、還元電流を提供する。Ｈ透過性電極はＶ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、ＰｄコートのＡｇ、ＰｄコートのＶ、ＰｄコートのＴｉ、希土類元素、他の高融点金属から成るかもしれない、そして、他が当業者に既知のそのような金属である。電極は、金属箔であるかもしれない。化学物質は、熱的に分解するように、アノード・コンパートメント内で形成される如何なる水素化物をも加熱することによって、熱的に再生されるかもしれない。水素は流されるかもしれないか、最初のカソード反応物を再生させるために、カソード・コンパートメントにポンプ圧送されるかもしれない。再生反応はアノードとカソード・コンパートメントで生じるかもしれない、あるいは、コンパートメントの一方または両方の化学物質は再生を実行するために一つ以上の反応槽に輸送されるかもしれない。

図２に示す実施形態では、電解質４７１は、ＬｉＯＨとＮａＯＨの少なくとも１つなどのアルカリ水酸化物などの溶融水酸化物を含み、更にアルカリハロゲン化合物などの他の塩を含んでもよい。図２に示すセルは、積層されたそのようなセルの一単位を含んでもよい。地球に対する配向は、図２に示されるように、アノード４７２を底部に位置させ、地球の表面に対して水平であってもよい。アノードは、水酸化物による腐食に耐性のあるＮｉなどの水素透過性材料を含んでもよい。カソード４７３は、電解質４７１中に、部分的に浸漬するか、または浸漬してもよい。一実施形態では、アノードは、塩基中で安定である金属または合金を含んでよく、Ｖ、Ｎｂ、Ｔｉなどの、ＮｉＶ、ＰｄＡｇまたはＮｉを被覆したＨ透過性金属、ステンレス鋼（ＳＳ）４３０およびＴａなどのより低温で高い透過率を有し、それにより、セル動作温度を低くしてもよい。水素は、水素供給チューブを介してマニホールドから積層体の各セルに供給してもよい。透過電極が水素バブリングまたは散布電極によって置換されている実施形態では、水素供給は、さらに、水素マニホールドを含み、さらに理想的に均等に、セルの積層体のバブリングまたは散布電極上に、水素を分配する水素散布器を含んでもよい。一実施形態では、カソードは、Ｏ_２ガスや空気などの酸素源に透過性を有する。カソードは、Ｎｉでありうる多孔性マット、発泡体、焼結金属粉末を含んでよい。不活性スペーサは、カソードからアノードを分離してもよい。一実施形態では、Ａｌ_２Ｏ_３ビーズは、電極間に薄い電解質層を有する典型的なスペーサとして機能してもよい。槽４７４は、Ｏ_２ガスや空気などの酸素源用のガスギャップを含んでいてもよい。ガスギャップ４７４は、さらに、支持体上に搭載される複数のセルの積層体の次の連続した層を保持するための構造的の支持体を含んでもよい。セルは、電気的に直列または並列に接続してもよい。別の実施形態では、積層体の単位セルのアノードは、電解質と対向する一方の壁を含む水素透過膜を有する槽を備え、そこでは、槽は、槽への水素ラインなどの水素供給を有する。単位セルは、さらに、高表面積導電性材料であってもよい対向カソードを備え、それは、空気などのカソードガスに対して透過性を持つように開いていてもよい。好適な典型的な材料は、ニッケルマットなどの繊維状、糸状、または焼結多孔質金属である。次の単位セルは、アノード槽の導電壁に積層してもよく、それは、先行する単位セルのカソードと接触した水素透過膜と対向している。積層体は、各積層体の端部で、プレートなどのヒーターによって加熱、または積層体で散在していてもよい。あるいは、積層体が、オーブン中で加熱されてもよい。積層体は、断熱槽内に含まれていてもよい。

一実施形態では、図３に示すように、水素透過電極、および任意に酸素電極は、バイポーラプレート５０７の素子によって置き換えられる。セルの設計は、平面正方形の幾何学的構成に基づいてもよく、そこでは、セルは、電圧を構築するために積層してもよい。各セルは、アノード電流コレクタ、多孔質のアノード、電解質マトリックス、多孔質カソードと、カソード電流コレクタを含む繰り返し単位を形成してもよい。１つのセルがセパレータで次のものから分離されてもよく、そのセパレータは、ガスセパレータと直列電流コレクタを兼ねるバイポーラプレートを含んでよい。プレートは、クロスフローガスの構成や内部マニホールドを有してもよい。図３に示すように、相互接続またはバイポーラプレート５０７は、個々のＣＩＨＴセルを複数備えるＣＩＨＴセル積層体５００において、隣接カソード５０２からアノード５０１を分離する。アノードまたはＨ_２プレート５０４は、波形を持つか、またはポート５０３を介して供給された水素を分配するチャネル５０５を含んでもよい。チャンネル５０５を有したプレート５０４は、他の実施形態の水素透過膜または断続電解カソード（放電アノード）の代わりをする。ポートは、タンクなどの水素源によって供給されるポート５０３に沿って、マニホールドから水素を受け取ってもよい。プレート５０４は、さらに理想的には、均等に水素を分配し、アクティブ領域に泡立たせるか散布してもよく、そこでは、電気化学反応が起こる。バイポーラプレートは、さらに、Ｈ_２板と同様の構造を有するバイポーラプレートの酸素プレートを備えることにより活性領域に酸素を分配してもよく、そこでは、酸素マニホールドが、酸素ポート５０６に沿った供給から酸素を供給している。これらの波形やチャネルがつけられたプレートが導電性であり、活性領域のアノードとカソード電流コレクタに接続されており、電気的接触を維持する。一実施形態では、すべての内部接続またはバイポーラプレートが、ガス分配ネットワークを構成しており、それにより、アノードおよびカソードガスの分離が可能になる。ウェットシールは、２つの個別のプレートの間でプレスされたＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｌｉ_２ＴｉＯ_３タイルなどの電解質／マトリックスを伸張することによって形成してもよい。シールが、反応ガスの漏れを防止してもよい。電解質は、本開示の加圧ペレットを含んでもよい。ＬｉＯＨなどのアルカリ水酸化物などの水酸化物や、ＬｉＢｒなどのアルカリハロゲン化合物などのハロゲン化合物やＭｇＯなどのマトリックスを含んだものなどの電解質ペレットを形成する圧力は、平方インチ当たり約１から５００トンの範囲に入る。積層体は、さらに、ペレット電解質などの電解質と電極との間の所望の接触を維持するセルに圧力を加えるために、積層体の両端に圧力プレートを保持するタイロッドを含んでもよい。

一実施形態では、バイポーラプレートの両側の電極の金属は、一方の側のＮｉや他方のＮｉＯなどとは異なっており、そこでは、ＮｉＯが両側にあり、その片面がより大きな重量パーセントを有してもよい。また、片側が１つの金属で、反対側が、Ｎｉ対２４２合金またはＭｏなどの別の金属であってもよい。異なる金属は、積層体全体に交互に存在してもよい。別の実施形態では、双極性プレートは、アノードとカソードとの間の導電性のセパレータを含んでもよい。セパレータは、カソードとアノードの少なくとも１つとは異なる金属などの異なる材料を含んでもよい。セパレータおよび少なくとも１つの電極は、バイメタル電極を含んでもよい。バイメタルは、バイメタル接合部を含んでもよい。バイメタルは、第２の金属または合金などの少なくとも一つの他の導体上に電気めっきされた金属または合金などの少なくとも１つの導体を含んでもよい。バイメタル電極や接合部の少なくとも１つが、ハイドリノ反応速度を増加させる真性電圧をもたらしてもよい。一実施形態では、バイメタルは、Ｎｉなどの金属と、金属の酸化物などの酸化物の、２つの導体を有し、それはさらに、アルカリ金属酸化物などの化合物を含んでよい。好適で典型的なアルカリ金属酸化物は、ニッケル酸化物をリチオ化したものである。その増加は、触媒およびＨのより良好なエネルギーの一致に起因し、ハイドリノ遷移を可能にしてもよい。別の実施形態では、バイポーラプレートの両側の電解質が異なっている。電解質の差は、少なくとも１つの異なる構成要素を有する異なる組成のうちの少なくとも１つを含んでもよく、電解質の同じ成分の濃度が異なっていてもよい。例えば、電解質は、１つの側にＭｇＯなどのマトリックスを、他の側にＬｉＡｌＯ_２を含んでもよい。また、電解質は、１つの側にＬｉＯＨ−ＬｉＢｒを、他の側にＬｉＯＨ−ＬｉＣｌを含んでもよい。また、１つの側には、いくらかのＮａＯＨの重量パーセントを含んでよい。一実施形態では、電極の一方側と他方の違いは、各ハーフセルに対する化学ポテンシャル、フェルミ準位、または電極の電圧を、それぞれの電解質とは異ならせる。別の実施形態では、非伝導性材料または絶縁体のような分離媒体またはスペーサが、バイポーラプレートの両側を分離するし、それにより、電解液に接触する電極側の化学ポテンシャル、フェルミ準位、または電圧が、分離媒体を接触するものとは異なるようになる。一実施形態では、化学ポテンシャル、フェルミ準位、または電圧の差が、ハイドリノを形成するために、水素の触媒作用を容易にする。一実施形態では、異なる電極金属、バイメタル接合部、電解質、マトリックス、ならびに水和および温度などの条件のうちの少なくとも１つは、積層体全体にわたって交互になる。一実施形態では、カソードは、アノードとは異なる金属などの異なる材料である。アノードに対するカソードの異なる材料が、バイポーラプレートのバイメタルアノードの要件を置き換えてもよい。一実施形態では、バイポーラプレートの、アノードとカソードを区別するバイメタル的な性質は、異なる金属などの異なるカソード材料を有する単一層のアノードを使用することによって満足される。好適な典型的なカソードは、本開示の少なくとも１つを含む。

別の実施形態では、少なくとも１つの電極は、少なくとも２つの異なる材料を含む複数の層を備える。電極は、異なる材料の積層体を含んでもよい。内層は、電解質と接触した、または電解液との接触が増加した外層の電極電位を変化させてもよい。外層は、腐食に耐性があるように選択してもよい。外層に好適な安定な材料は、Ｎｉ、貴金属、ならびに本開示のものなどの耐食合金である。内層または電極電位を変更する層に好適な材料は下記である：ＭｏおよびＨ２４２ならびにＶ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｏ、ＣｕまたはＺｎなどの遷移金属、Ｚｒ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗなどの内部遷移金属、ＬａやＬａＮｉ_５などの合金などの希土類金属、他の金属、半金属またはＡｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｂ合金、ＭｏＣｏ、ＭｏＣｕ、ＭｏＭｎ、ＭｏＮｉおよびＭｏＣｒなどの他の合金。電極は、アノードまたはカソードとして働いてもよい。アノードとして働く典型的な多層、多金属電極、または積層電極は、プレスされたＮｉ／Ｍｏ／Ｎｉ、プレスされたＮｉ／Ｈ２４２／ＮｉおよびプレスされたＮｉ／Ｈ２４２／Ｍｏ／Ｎｉである。一実施形態では、電極は、水酸化物と、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒなどの本開示のものなどのアルカリ塩などの水素化物塩との混合物などの溶融塩または水酸化物または炭酸塩電解質などの水溶性電解質または本開示の他のものであってよい。

構造、材料、及び方法は、当業者に知られている融解炭酸塩又はアルカリ型燃料電池のそれらから適応させるようにしてもよい。例示的な好適な構造、材料、及び方法が続く。セパレータ又は電流コレクタ（集電体）は、３１０Ｓ／３１６Ｌのようなステンレス鋼でＮｉ又はＣｕ被覆されたものでもよい。電流コレクタは、穿孔されてよい。被覆は約５０ミクロンであってよいが、他の厚みも１ミクロンから１ｍｍのように好適である。他の好適な材料は、３０４Ｌ，３０９Ｓ，３１０Ｓ，３１４，３１６Ｌ，３４７，４０５，４３０，４４６，１７−４ＰＨ１８−１８^＋，１８ＳＲ，Ａ１１８−２，Ａ１２６−１Ｓ，Ａ１２９−４，Ａ１４３９，ガラス・シール２７（ＧｌａｓｓＳｅａｌ２７），フェラリウム２５５（Ｆｅｒｒａｌｉｕｍ２５５），ＲＡ２５３ｍＡ，ニトロニック５０（Ｎｉｔｒｏｎｉｃ５０），２０Ｃｂ３，３３０，クルテンプ−２５（Ｃｒｕｔｅｍｐ−２５），クルテンプ−２５＋Ｌａ（Ｃｒｕｔｅｍｐ−２５＋Ｌａ），サニクロ−３３（Ｓａｎｉｃｒｏ−３３），３１０＋Ｃｅ，ＩＮ８００，ＩＮ８４０，Ａ−２８６，及びニッケルのような鉄基合金（鉄ベース合金）、ＩＮ６００，ＩＮ６０１，ＩＮ６７１，ＩＮ６９０，ＩＮ７０６，ＩＮ７１８，ＩＮ８２５，ＩＮ９２５，ＭＡ９５６，ＲＡ３３３，Ｎｉ２００，Ｎｉ２０１，Ｎｉ２７０のようなコバルト基合金（コバルトベース合金），ハイネス２３０（Ｈａｙｎｅｓ２３０），ハイネス６２５（Ｈａｙｎｅｓ６２５），ハイネス１８８（Ｈａｙｎｅｓ１８８），ハイネス５５６（Ｈａｙｎｅｓ５５６），ニクロム（Ｎｉｃｈｒｏｍｅ），モネル４００（Ｍｏｎｅｌ４０）のようなコバルト基合金（コバルト・ベース合金）、及び、ＧＥ−２５４１，ＦｅＣｒＡｌ＋Ｈｆ，ハイネス２１４（Ｈａｙｎｅｓ２１４），ＦｅＣｒ合金，ＩＪＲ（４０６），８５Ｈ，カンタルＡＦ（ＫａｎｔｈａｌＡＦ）、及びＮｉ_３Ａｌのようなアルミ含有合金である。好適なコーティング方法は、クラッディングであるが、他の方法も使用されてよく、例えば電解Ｎｉめっき、スルファミン酸浴又は無電解Ｎｉめっきのようなものも使用されてよい。少なくとも１つの電極は、耐食性合金のような合金やスペシャリー・スチール（ｓｐｅｃｉａｌｌｙｓｔｅｅｌｓ）のようなこれらの材料の１又はそれ以上を含んでよい。アノードは、Ｍ１Ｎｉ_３．６５Ａｌ_０．３Ｍｎ_０．３又はＭ１（ＮｉＣｏＭｎＣｕ）_５のようなＭ１：Ｌａリッチなミッシュメタルのようなミッシュメタルのような本開示のそれら、Ｎｉ，Ｒ−Ｎｉ，Ｒ−Ｎｉ＋約８ｗｔ％バルカン（Ｖｕｌｃａｎ）ＸＣ−７２，ＬａＮｉ_５，Ｃｕ，又はＮｉ−Ａｌ、約１０％ＣｒのようなＮｉ−Ｃｒ、約３／９０／７ｗｔ％のようなＣｅ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｃｕ−Ａｌ，又はＣｕ−Ｎｉ−Ａｌ合金のような水素貯蔵材料であってよい。アノードは、ＭｎＯ，ＣｅＯ_２，及びＬｉＦｅＯ_２のような酸化物をドープされてもよく、これら又は他の酸化物を含んでもよい。カソードは、ＮｉＯであってよく、ＬｉＦｅＯ_２，Ｌｉ_２ＭｎＯ_３，又はＬｉＣｏＯ_２がドープされてもよい。マトリックスは、セラミックのような不活性材料を含んでよい。マトリックス材料は、イオン輸送を容易にさせるために移動する種を含む化合物を含んでもよい。好適な例示のマトリックス材料は、アルミン酸塩、タングステン酸塩、ジルコン酸塩、チタン酸塩のようなオキシアニオン化合物であってよく、同様に、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、硝酸塩、クロム酸塩、及びマンガン酸塩、更に、酸化物窒化物、ホウ化物、カルコゲニド、ケイ化物、リン化物、及び炭化物のような本開示の他のものであってもよい。マトリックス材料は、金属、金属酸化物、非金属、及び非金属酸化物を含んでよい。酸化物は、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、及び土類金属、並びに、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓ，Ｔｅ，Ｓｅ，Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃ，Ｓｉ，Ｇｅ，及びＢ、更に、酸化物又はオキシアニオンを形成する他の元素の少なくとも１つを含んでよい。マトリックスは、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、及び土類金属、並びに、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓ，Ｔｅ，Ｓｅ，Ｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃ，Ｓｉ，Ｇｅ，及びＢ、更に、酸化物を形成する他の元素の少なくとも１つ、及び１つのオキシアニオンを含んでよく、更に、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、及び希土類金属、並びに、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，及びＰｂカチオンの少なくとも１つのカチオンを更に含んでよい。好適な例は、ＬｉＡｌＯ_２，ＭｇＯ，Ｌｉ_２ＴｉＯ_３，又はＳｒＴｉＯ_３である。１つの実施例において、マトリックス化合物は、電解質の酸化物及びカチオンの少なくとも１つのような電解質の化合物及びアノード材料の酸化物を含んでよい。１つの実施例において、電解質は、Ｌｉ_２ＯのようなＭ_２Ｏのような対応する酸化物を形成するかもしれないＬｉＯＨのようなＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のようなアルカリ水酸化物（水酸化アルカリ）のような水酸化物を含み、電解質は、ＭｏＯ_２，ＴｉＯ_２，ＺｒＯ_２，ＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，ＮｉＯ，ＦｅＯ又はＦｅ_２Ｏ_３，ＴａＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５，ＶＯ，ＶＯ_２，Ｖ_２Ｏ_３，Ｖ_２Ｏ_５，Ｂ_２Ｏ_３，ＮｂＯ，ＮｂＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５，ＳｅＯ_２，ＳｅＯ_３，ＴｅＯ_２，ＴｅＯ_３，ＷＯ_２，ＷＯ_３，Ｃｒ_３Ｏ_４，Ｃｒ_２Ｏ_３，ＣｒＯ_２，ＣｒＯ_３，ＭｎＯ，Ｍｎ_３Ｏ_４，Ｍｎ_２Ｏ_３，ＭｎＯ_２，Ｍｎ_２Ｏ_７，ＨｆＯ_２，Ｃｏ_２Ｏ_３，ＣｏＯ，Ｃｏ_３Ｏ_４，Ｃｏ_２Ｏ_３，及びＭｇＯのような対応する酸化物を形成するかもしれないＭｇのようなＭ’（Ｍ’＝アルカリ土類）や、Ｍｏ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｔａ，Ｖ，Ｂ，Ｎｂ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｗ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｈｆ，Ｃｏのような、元素、金属、合金、又は混合物を含み、マトリックスは、ＭｇＯのようなＭ’Ｏ（Ｍ’＝アルカリ土類）や、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３若しくはＬｉ_２ＭｏＯ_４，Ｌｉ_２ＴｉＯ_３，Ｌｉ_２ＺｒＯ_３，Ｌｉ_２ＳｉＯ_３，ＬｉＡｌＯ_２，ＬｉＮｉＯ_２，ＬｉＦｅＯ_２，ＬｉＴａＯ_３，ＬｉＶＯ_３，Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７，Ｌｉ_２ＮｂＯ_３，Ｌｉ_２ＳｅＯ_３，Ｌｉ_２ＳｅＯ_４，Ｌｉ_２ＴｅＯ_３，Ｌｉ_２ＴｅＯ_４，Ｌｉ_２ＷＯ_４，Ｌｉ_２ＣｒＯ_４，Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｌｉ_２ＭｎＯ_４，Ｌｉ_２ＨｆＯ_３，及びＬｉＣｏＯ_２の例示的な好適なマトリックスに対応するＬｉ_２Ｏのような電解質の酸化物をオプションとして含むことがあるが、カソード材料の酸化物を含む。マトリックスは、同じ群の元素又はアノードの元素の酸化物を含んでよい。例えば、Ｍｏアノードに関して、同じ元素又は族のマトリックスは、Ｌｉ_２ＭｏＯ_４，ＭｏＯ_２，Ｌｉ_２ＷＯ_４，Ｌｉ_２ＣｒＯ_４，及びＬｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７であるかもしれない。マトリックスは、支持体（サポート）を提供してよい。マトリックスは、過酸化物又は超酸化物イオンのような反応性の酸素種又は酸素のような放電カソードから放電アノードへの反応性の種の拡散を阻止してよい。マトリックスは、ペースト状態であってよい。粒子サイズは、サブミクロンであってよいが、ミクロンからミリメータのような他のサイズも実施例において好適である。

一実施形態では、電解質マトリックスは、誘電材料を備える。誘電体マトリックスは、Ｈの触媒作用が、放電時にカソードに対して、アノードを負に充電させてもよい。その充電は、イオン二重層を形成、または電解質およびマトリックスの少なくとも１つなどの、セルの化学種のイオン化（酸化）によって行われてもよい。一実施形態では、そのエネルギーは、ハイドリノへのＨの触媒作用からくるものである。ハイドリノへのＨの遷移からのエネルギーは、エネルギーが、対応するアノード電圧での充電に寄与するように放出されるか、または充電がアノード電圧に寄与してもよいように、連続していてもよい。その充電は、コンデンサやアノードハーフセルの電解質の酸化などの、少なくとも１つのセル種の電気化学的変化を伴うものの充電に類似した機構の充電の少なくとも１つを含んでよい。アノード充電は、対応したカソード充電に、電解質を介したイオンまたは電子の流れを伴う外部回路を完成させる。
１つの実施例において、アノード半電池反応は、次のように与えられる。
ＯＨ⁻＋２Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（８８）
ここで、Ｈ_２Ｏ触媒及びｅ⁻を形成するＯＨ⁻と第１のＨとの反応は、第２のＨのハイドリノへのＨ_２Ｏ触媒反応と協調される。ＯＨ⁻と反応するＨは、Ｍ−Ｈからなってもよく、そこでは、Ｍは、金属などのアノード材料である。一実施形態において、触媒は３Ｘ２７．２ｅＶを受けとり、それは、式（６８）で与えられるように、形成されたＨ_２Ｏ分子のポテンシャルエネルギーに一致し、式（５）中のｍ＝３に対応し、その結果、Ｈ（１／４）の形成をもたらす。第２のＨから受け入れ後に触媒から放出されるエネルギーとともに、ハイドリノ状態への第２のＨ遷移の電子として放出された連続エネルギーが、アノードの充電を引き起こしてもよい。その充電は、電解質または電極の少なくとも一種の電解質または酸化のイオンの容量充電を含んでもよい。これにより、Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための電気化学反応で放出されるエネルギーとハイドリノを形成するための協調Ｈ触媒作用反応が、外部回路を通る電流の流れにパワーを与える。電解質はＨ_２Ｏと、水素、酸素、および水の酸化還元生成物を含む化学種を含むので、電圧は、水素と酸素セル反応のものであってもよい。セル反応は、式（１７１−１７３）により与えられたもののうちの少なくとも１つを含んでよい。回路を完成するための電解質を通るイオン経路は、Ｌｉ^＋、ＯＨ⁻、酸化物および過酸化物イオンの少なくとも１つなどの電解質のイオンを含み、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒまたはマトリックスのイオンを含む電解質の場合Ｂｒ⁻を含んでよい。従って、一実施形態では、マトリックスは、イオン伝導媒体として働き、そこでは、伝導は、電荷移動またはイオン輸送によって提供されてもよい。別の実施形態では、マトリックスは、酸化物の混合物または複数の酸化物、水酸化物または複数の水酸化物、混合金属酸化状態、電解質イオンおよび他のイオンのうちの少なくとも１つを含む。イオン伝導は、イオンホッピングによるものであってもよい。輸送は、酸素および水素の少なくとも１つ含むものなどの負イオンなどのイオン種の電荷移動またはイオン輸送を含んでもよい。好適な種は、Ｏ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻、及びＯ_２ ^２−から選ばれる酸素種の少なくとも１つと、Ｈ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、及びＯＯＨ⁻から選ばれる水素種及びＨ種である。１つの典型的な実施例において、輸送される種は、典型的な種であるＯ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ_２ ⁻、及びＯ_２ ^２−から形成されるカソードで形成されるＯ^２−のような酸素を含むより還元された状態の種である。より還元された種はアノードで酸化されてよい。

一実施形態では、ハイドリノ反応エネルギーは、放電段階中に、アノードの中へと、カソードの外への電子の流れによって、電気に変換してもよい。これは、放電中のアノードにおける酸化とカソードにおける還元を必要とする。アノードにおける典型的な化学種ＯＨ⁻とＨ_２Ｏの少なくとも１つなどの電解質の直接的な酸化と、カソードにおける典型的な化学種Ｈ_２Ｏなどの電解質の還元が、それぞれ、酸素と水素を生成し、それらは、それぞれ、対応する各電極で、電気分解生成物Ｈ_２とＯ_２と反応およびそれらを消費できる。一実施形態では、イオン担持マトリックスは、セル放電時に、アノードの酸素とカソードの水素のハイドリノ反応エネルギー駆動形成を低減し、それは、放電段階の利用可能な反応物質を減少させるだろう。

マトリックスを持たない一実施形態では、イオン伝導は、セル放電時に電解質を通じて行ってもよい。搬送された化学種が、セルの外部に、少なくとも部分的に、供給されてもよい。セルは、大気への開放として開放してもよい。典型的な実施形態では、外部の酸素およびＨ_２Ｏの少なくとも１つが、カソードで還元され、外部の酸素とＨ_２Ｏの少なくとも１つの還元生成物などの還元種が、アノードで酸化される。輸送は、ハイドリノ状態へのＨの触媒作用によるエネルギーによって駆動されてもよい。外部酸素およびＨ_２Ｏの少なくとも１つなどの外部酸化剤によるこの電流は、制御されて、アノードの腐食などの腐食を制御する。一実施形態では、アノードは安定し、また、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−などの酸素種などの空気由来の化学種によって運ばれる電流に対する腐食抵抗性を持つ。耐食アノードは、本開示の一つであってもよい。また、カソードは、酸化物などの安定種や、ＮｉＯやＭｏＳなどの硫化物を含んでよい。一実施形態では、間欠電気分解放電時のセル当たりのセル電圧は、アノード電位より高く維持され、それにより、アノードが、Ｎｉアノードの場合は約０．８Ｖなどの酸化が、実質的に防止される。

一実施形態では、ハイドリノへのＨの触媒作用によりセル放電中に放出されるエネルギーは、エネルギーを供給し、アノードを負に充電する、それは、容量充電などのイオン二重層の形成などの少なくとも１つの機構によっておよび少なくとも一つのセル種の酸化によって行われる。間欠充放電周波数は、二重層のエネルギーを、少なくとも部分的に外部回路で放散されるのに十分に高くてもよい。一実施形態では、高周波数は、１秒未満の充放電時間の少なくとも１つの範囲にあるが、約０．１ミリ秒から５秒の範囲であってもよい。一実施形態では、放電時に形成されたイオン二重層は、充電（電気分解）段階中に、充電するエネルギーを減少させる。二重層からのエネルギーは、少なくとも部分的に、充電（電気分解）段階中に、Ｈ_２およびＯ_２など電気分解生成物の形成において保存してもよい。電解質は、マトリックスを含んでも、または含まなくてもよい。一実施形態では、マトリックスが、マトリックスの不在に対する高周波充電を可能にする速い充電（電気分解）時間を可能にする。一実施形態では、高周波数は、水素および酸素のような電気分解反応物を形成する入力エネルギーを低減することによって、エネルギー利得を最適化するように選択される。好適な入力エネルギーは、Ｈ_２Ｏやハイドリノなどの触媒の反応により、形成するために、原子状水素の層を生成する。触媒およびハイドリノの少なくとも１つの形成に対して、失われるか、または関与しない過剰な気体の電解生成物は、本開示の範囲のものなどの好適な充放電時間を選択することによって回避される。

一実施形態では、反応物質は、イオンキャリアの供給源を含む。イオンキャリアは、カルコゲナイドを含んでもよい。一実施形態では、硫黄を含むものなどのカルコゲナイド種が、セル放電時に、イオン電流を伝えてもよい。Ｓは、電解液に溶解してもよい。ＳまたはＳ_ｎ（ｎ＝整数）などのＳ化学種は、カソードでは還元し、放電時にアノードで酸化されてもよい。一実施形態では、セルは閉じられる。電極は、両方を電解液中に浸漬させてもよい。イオン電流と外部電流を駆動する電力は、ハイドリノへのＨの触媒作用からきてもよい。一実施形態では、放電アノードなどの少なくとも１つの電極は、ＭＯＳ合金などの合金などの硫黄源を含んでもよい。一実施形態では、Ｓのモル比は、Ｍｏよりも小さい。典型的な合金は、ＭＯＳ（９０から９９．５重量％、０．５から１０重量％）である。一実施形態では、硫黄源は、下記のうち少なくとも１つを含むものなどの硫化物である；アルカリ、アルカリ土類金属、遷移、内部遷移、および希土類金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｂおよび硫化物を形成する他の元素。硫化物は、ＳｅＳ_２、Ｓｅ_４Ｓ_４およびＳｅ_２Ｓ_６の少なくとも１つなどのセレンまたはテルル硫化物を含んでもよい。一実施形態では、カルコゲナイドは、セレンおよびテルルのうちの少なくとも１つを含む。セレンまたはテルルの供給源は、それぞれ、下記などのセレン化物またはテルル化物である；アルカリ、アルカリ土類金属、遷移、内部遷移、および希土類金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｂおよびセレン化物またはテルル化物を形成する他の元素。

熱力学の観点から、負イオンなどの化学種は、アノードでイオン化されてもよく、電力による放電カソードでの還元により生成された同じ化学種は、アノードでのイオンや電子の温度がカソードでの温度より大きい場合に、外部回路で放散される。ハーフセルの温度差を含む非ハイドリノの例は、セル［Ｎａ（熱）／ＢＡＳＥ／Ｎａ（冷）］である。ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ塩中の典型的なイオンは、ＯＨ⁻およびＢｒ⁻であり、そのそれぞれは、ＯＨおよびＢｒに酸化されてもよく、外部回路を介してカソードに送られた電子により還元されてもよい。また、ＯおよびＨのうち少なくとも１つを含む化学種が、イオン電流を伝えてもよい。ハイドリノ反応が、回路に供給される電力を生成するために、熱に相当するエネルギーを提供する。一実施形態では、マトリックスは、短絡からカソードおよびアノード電極またはハーフセルを防止するセパレータとして働く。防止された短絡は、熱力学や電気的観点の少なくとも１つであってもよい。マトリックスは、外部回路を介して電流を駆動するためのカソードに対する、アノードでの起電力（ＥＭＦ）を生成するハイドリノ反応の速度、有効性、または範囲を増大させるために、ハーフセル反応を分離してもよい。一実施形態では、アノードとカソードハーフセル反応の分離が、触媒Ｈ_２Ｏにより第２Ｈから受け入れられたエネルギーのより良い一致を引き起こし、そこでは、Ｈ_２Ｏの形成が、ＯＨ⁻の酸化および第１Ｈとの反応により起こり、触媒を形成する酸化反応は、式（８８）で与えられるように、ハイドリノを形成するための第２Ｈの触媒反応と協調している。一実施形態では、マトリックスはＨ_２Ｏを結合してもよいし、また、断続的な電気分解反応にＨ_２Ｏ源として働いてもよい。Ｈ_２Ｏの結合および供給は、ハイドリノ形成反応の速度または程度を増大させるエネルギーであってもよい。Ｈ_２Ｏの結合エネルギーは、Ｈ_２Ｏなどの触媒にＨから転送されたエネルギーのより良い一致を引き起こしてもよい。誘電体、セパレータまたはＨ_２Ｏバインダーおよび槽の少なくとも１つのうちの少なくとも１つとして働くマトリックスを含む典型的な電解質は、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒなどのアルカリ水酸化物−アルカリ水素化物混合物および任意の所望のモル比で成分を有していてもよい本開示のマトリックス材料である。アルカリ水素化物およびマトリックス材料の重量％は類似していてもよい。マトリックスを含む電解質は、約７５℃から７００℃の範囲などにおけるセルの動作温度で固体または半固体を含んでもよい。典型的な電解質は、それぞれ、±１から３０重量％で、約１０重量％、４５重量％、４５重量％の範囲の重量％を有するＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯである。

電解質は、テープキャスティング、電気泳動堆積、熱ロールミリング、またはホットプレスなどの方法により製造することができる。バイポーラプレートの湿潤封止領域は、コーティングを含んでよいアルミニウムまたはアルミニウム合金を含んでもよい。好適なアルミ蒸着方法には、ペインティング、熱溶射、真空蒸着やさらに溶融熱処理やパックセメンテーションがある。ステンレス鋼の典型的な結果として得られる拡散コーティングは、ＭＡＬ−Ｍ_３Ａｌ構造（Ｍ＝鉄、ニッケル、加えて、５から１５モル％のクロム）を含む。あるいは、ＦｅＣｒＡｌＹ、ＭＡＬ、またはＭ_３Ａｌ（Ｍ＝ニッケル、鉄）などのアルミニウム含有合金粉末を、典型的な実施形態において、熱噴霧してもよい。

水素が透過または断続電気分解によって提供されるなどの実施形態では、セルは電解質を保持するためのマトリックスを含む。マトリックスは、電解質を吸い取る、またはそれを不活性化合物などのようにより粘性にさせる原因となる化合物を含んでもよい。好適で典型的なマトリックス材料は、下記のうちの少なくとも１つである；アスベスト、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、Ｌｉ_２ＺｒＯ_３、ＬｉＡｌＯ_２、Ｌｉ_２ＭｏＯ_４、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３またはＳｒＴｉＯ_３。電解質は、ペーストとして固定化してもよい。薄層などの層として電解質を保持するためのマトリックスは、マトリックス材料を混合する工程や、バインダー、粒子状物質、溶媒を高温に加熱し、マトリックスを形成するために混合物を加熱する時に、実質的に完了するまで燃焼する溶媒などの少なくとも一つの他の材料を含む。好適な化合物は、ポリ（ビニルホルマール）（ＰＶＦＯ）、エタノール溶媒およびポリエチレングリコール（ＰＥＧ）である。マトリックスの細孔サイズおよび密度は、少なくとも１つの他の化合物にマトリックス材料の粒径との比を変えることによって変えてもよい。一実施形態では、電解質は、マトリックス材料に添加される。細孔サイズおよび密度は、電解液の表面張力に対するマトリックスの毛管作用を調節するために制御してもよく、それにより、電解質は、カソードまたはアノードの過剰なフラッディングを起こさずに実質的に層に維持される。マトリックスの細孔サイズは、約１０ｎｍから１０ｍｍ、約１００ｎｍから１００マイクロメートル、または約１マイクロメートルから１０マイクロメートルの範囲であってもよい。マトリックスはセラミックなどの固体を含んでもよい。好適で典型的な固体マトリックスは、ＭｇＯ、ＺｒＯ_２またはイットリア安定化ジルコニウム酸化物である。マトリックスは、次のような酸化物イオンを伝導する固体酸化物燃料セルの１つであってもよい；イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）（多くの場合、８％フォームＹ_８ＳＺ）、スカンジア安定化ジルコニア（ＳｃＳＺ）（通常は９モル％Ｓｃ_２Ｏ_３−９ＳｃＳＺ）とガドリニウムドープセリア（ＧＤＣ）。マトリックスは、酸化物イオンを導電する塩橋を含んでよい。酸化物導電体の典型的な例としては、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガドリニアドープセリア（ＣＧＯ）、ランタンガレートやＢｉＣｕＶＯ_ｘなどのビスマス銅酸化バナジウムである。Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏ_ｙＯ_３−ｄなどのペロブスカイト材料のなかには、また、混合酸化物と電子伝導性を示すものもある。マトリックスは、アルカリ水酸化物などの水酸化物などの共晶塩電解質などの電解質を含浸させてもよいし、さらにアルカリハロゲン化合物を含んでもよい。好適な典型的な電解質は、ＭｇＯ固体マトリックス中に含浸させることができるＬｉＯＨ−ＬｉＢｒである。固体マトリックスはさらに、ＭｇＯの粒子などの粒子マトリックスまたは本開示の他のマトリックス化合物を含んでもよい。一実施形態では、アノードは、断続的な電気分解電極、またはニッケルマット電極などの多孔質電極などの水素散布またはバブリング電極を含む。一実施形態では、電極と電解質の少なくとも１つが、電解質フラッディングに抵抗する。電解質は、電解質を安定させるためにマトリックスを含んでもよい。アノードは、電解質を吸い取るための閾値を下回っている毛管力を持つ大孔径を有するマットであってもよく、そこでは、電解質は、ＭｇＯまたはＬｉ_２ＴｉＯ_３などのマトリックス材料を含んでもよい。電極は、定期的にフラッディング電解質を除去するためにリンスしてもよい。動作条件は、フラッディングを防止するために変更してもよい。例えば、温度は、電解質の粘度、表面張力および毛管作用を、電極フラッディングを防止するために変更するように調整してもよい。再循環されてもよい水素流は、電極フラッディングを防止するために変更してもよい。

１つの実施例において、アノード半電池（ｈａｌｆ−ｃｅｌｌ）の反応物は、Ｈ源を含む。一実施形態では、アルカリ金属イオンなどの金属イオンは、カソード・コンパートメントに移動し、カソード・コンパートメントの水素化物との水素化物交換反応を受けてもよい。アノード反応物がＬｉの源を含むところ典型的な全従来型のセル反応は、以下のように示される。

ここで、Ｍは、水素化物を形成することができる金属又は半金属から選択される１又は幾つかの元素（混合物、金属間化合物、又は合金形態において）を意味する。これらの水素化物は、また、水素原子に吸収される（例えば、化学的に結合される）元素Ｍを意味する“Ｍ水素化物”と称する化合物により置き換えることができる。Ｍ水素化物は、以下ＭＨ_ｍと表すことがある、ここでは、ｍはＭによって吸収または結合されるＨ原子の数である。一実施形態では、水素化物Ｍ_ｎＨ_ｍまたはＭＨ_ｍのＨあたりの生成自由エンタルピーは、ＬｉＨなどの触媒の水素化物のそれよりも、高い、同等、または、小さい。また、少なくとも１つのＨが触媒として働いてもよい。

実施形態では、典型的な水素化物金属または半金属は下記を含む：アルカリ金属（Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属の（（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒ）、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＳｂなどのグループＩＩＩＡからの元素、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｎなどのグループＩＶＡからの元素、Ｎ、Ｐ、ＡｓなどのグループＶＡからの元素。さらなる例としては、遷移金属合金および金属間化合物ＡＢ_ｎがあり、そこでは、Ａは安定した水素化物を形成することができる１つ以上の元素を表し、Ｂは不安定な水素化物を形成する元素である。金属間化合物の例を表５に示す。

さらなる例は、金属間化合物であり、そこでは、サイトＡおよび／またはサイトＢの一部が他の元素で置換されている。例えば、ＭがＬａＮｉ_５を表す場合、金属間化合物合金は、ＬａＮｉ_５−ｘＡ_ｘで表すことができ、そこでは、例えば、ＡはＡｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎおよび／またはＣｏであり、Ｌａはミッシュメタルで置換されていてもよく、希土類金属の混合物は、セリウム、ネオジムおよび非常に少量の同じシリーズの元素を３０％から７０％を含有し、残りはランタンである。他の実施形態では、リチウムは、下記などの他の触媒または触媒源によって置き換えてもよい；Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｃａおよび少なくとも１つのＨ。実施形態では、アノードは、ＭＭｇＨ_３（Ｍ＝アルカリ金属）などの混合水素化物を形成するＬｉ_３Ｍｇ、Ｋ_３Ｍｇ、Ｎａ_３Ｍｇなどの合金を含んでもよい。

一実施形態では、再生は、図４に示すように、３つのハーフセルを含むＣＩＨＴセルを用いて達成される。一次アノード６００とカソード６０１ハーフセルは、セパレータ６０２と有機電解質で区切られた、それぞれの、ＬｉとＣｏＯ（ＯＨ）の供給源などの標準的な反応物を含有する原理セルを含む。それぞれは、その対応した電極６０３と６０４を有する。放電原理セルの電力は、スイッチ６０６を閉じた後、負荷６０５で放散される。また、第３または再生ハーフセル６０７は、一次カソードハーフセル６０１を結びつけ、プロトン源を含む。一次カソードと再生ハーフセルは、プロトン導電体６０８で分離される。再生ハーフセルはその電極６０９を有する。原理セルの再充電中、スイッチ６１１が閉じ、スイッチ６０６が開かれた状態で、電力は、ソース６１０によって供給される。再生ハーフセル６０７は、二次アノードとして働き、一次アノード６００は、二次カソードとして働く。プロトンはＨの酸化によって形成され、再生セル６０７から一次カソード６０１に移動する。Ｌｉ^＋イオンは、Ｌｉ^＋イオンが二次カソード６００へ移動し、Ｌｉに還元されるに伴い、Ｈ^＋イオンによってＬｉＣｏＯ_２からずれて、ＣｏＯ（ＯＨ）またはＨＣｏＯ_２を形成する。３槽セルの実施形態では、再充電アノードは、Ｐｔ／Ｃ（Ｈ_２）などのプロトン源とプロトン伝導体を含んでもよい。その後、充電セルは、［プロトン伝導体インターフェイス／ＬｉＣｏＯ２／Ｌｉを有するＰｔ／Ｃ（Ｈ_２）］でありえる。典型的なセルは下記である：［ＬｉなどのＬｉ源、またはＬｉ_３ＭｇまたはＬｉＣ／オレフィンセパレーターなどのＬｉ合金、セルガードなどの有機電解質、Ｐｔ（Ｈ_２）、Ｐｔ／Ｃ（Ｈ_２）などのＬＰ４０／ＣｏＯ（ＯＨ）またはＨＣｏＯ_２／プロトン導体／Ｈ^＋供給源］。別の実施形態では、Ｐｔ／Ｃなどの水素解離触媒とナフィオンであってもよい膜セパレータを備える槽６０８を含む槽６０７に供給され、それにより、電気分解電圧が電極６０４と６０３との間に印加される間に、Ｈ原子は、槽６０１のカソード生成物材料中に拡散する。電極６０４の正の印加電圧が、電気分解時にＨがカソード材料に組み込まれる間に、Ｌｉを槽６００に移動させ、電極６０３で還元させる。別の実施形態では、セパレータ６０８は、電気的に、セルボディから単離され、電極６０９を備える。槽６０７は、水素化物などのＨ源を含む。電極６０９は、水素化物などの供給源のＨ⁻を酸化させてもよい。導電性は、槽６０７内の溶融共晶塩Ｈ⁻導電体によって増加させてもよい。電気分解は、Ｈを槽６０１に移動させ、オキシ水酸化に挿入される。

一実施形態において、セルは水性電解質を含む。電解質は溶液中のアルカリ金属塩であってもよく、例としては下記である；アルカリ硫酸塩、硫酸水素塩、硝酸塩、亜硝酸塩、リン酸塩、リン酸水素、リン酸二水素、炭酸塩、炭酸水素塩、ハロゲン化物、水酸化物、過マンガン酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、亜塩素酸塩、過亜塩素酸塩、次亜塩素酸塩、臭素酸塩、過臭素、亜臭素、過亜臭素、ヨウ素酸塩、過ヨウ素酸塩、ヨウ素化物、過ヨウ素化物、クロメート、二クロム酸塩、テルル酸塩、セレン酸塩、ヒ酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩、および他のオキシアニオン。別の好適な電解質は、約１４ＭＮａＯＨ中の約４．４ＭＮａＢＨ_４などの、濃縮された塩基の水素化ホウ素ナトリウムなどのアルカリ化ホウ素である。

水性または溶融水酸化物電解質を含む他の実施形態において、セルは、本開示のものなどの金属水素化物電極を備える。好適で典型的な水素化物は下記である：Ｒ−Ｎｉ、ラネーコバルト（Ｒ−Ｃｏ）ラネー銅（Ｒ−Ｃｕ）、ＣｏＨ、ＣｒＨ、ＴｉＨ_２、ＦｅＨ、ＭｎＨ、ＮｉＨ、ＳｃＨ、ＶＨ、ＣｕＨ、ＺｎＨなどの遷移金属水素化物、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２およびＡｇＨ、ＣｄＨ_２、ＰｄＨ、ＰｔＨ、ＮｂＨ、ＴａＨ、ＺｒＨ_２、ＨｆＨ_２、ＹＨ_２、ＬａＨ_２、ＣｅＨ_２などの金属水素化物、その他の希土類水素化物。好適な水素化物のさらなる典型的な金属または半金属は下記を含む：アルカリ金属（Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒ）、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＳｂなどのグループＩＩＩＡの元素、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｎなどのグループＩＶＡの元素、Ｎ、Ｐ、ＡｓなどのグループＶＡの元素、遷移金属および合金。水素化物は、金属間化合物であってもよい。さらなる例としては、金属間化合物であるＡＢ_ｎがあり、そこでは、Ａは、安定した水素化物を形成することができる１つ以上の元素を表し、Ｂは不安定な水素化物を形成する元素である。金属間化合物の例は、表５および開示に対応するセクションに記載されている。水素化物は、下記のタイプの少なくとも１つであってよい；ＡＢ_５タイプ、そこでは、Ａはランタン、セリウム、ネオジム、プラセオジムの希土類元素混合物であり、Ｂはニッケル、コバルト、マンガンおよび／またはアルミニウムである；ＡＢ_２タイプ、そこでは、Ａはチタンおよび／またはバナジウムであり、Ｂはクロム、コバルト、鉄で修飾されたジルコニウムまたはニッケルであり、および／またはマンガンである。一実施形態では、アノード材料は、可逆的に水素化金属化合物の混合物を形成する役割を果たしている。典型的な化合物は、ＬａＮｉ_５及びＬａＮｉ_３．６Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７である。金属水素化物Ｒ−Ｎｉの典型的なアノード反応は次の通りである。
Ｒ−ＮｉＨ_ｘ＋ＯＨ⁻ → Ｒ−ＮｉＨ_ｘ−１＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ （９０）
実施例において、ニッケル水素化物は、アノードのような半電池反応物として機能するかもしれない。それは、水素化されるニッケルカソードを用いて水溶液電気分解によって形成されるかもしれない。電極は、ＫＯＨ又はＫ_２ＣＯ_３のような塩基性のものであるかもしれず、アノードはまた、ニッケルであるかもしれない。カソードは、ニッケルオキシハイドライド（ｎｉｃｋｅｌｏｘｙｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）（ＮｉＯＯＨ）のような金属酸化物のような水と反応するかもしれない酸化剤を含むかもしれない。一実施形態では、ニッケル水素化物は、アノードなどのハーフセル反応物として働いてもよい。これは、水素化されているニッケルカソードを用いて、水性電解質によって形成してもよい。電解質は、ＫＯＨまたはＫ_２ＣＯ_３などの塩基物であってもよく、また、アノードは、ニッケルであってもよい。カソードは、オキシ水酸化ニッケル（ＮｉＯＯＨ）などの金属酸化物などの、水と反応し得る酸化剤を含んでもよい。
典型的なカソード反応は次の通りである。
ＮｉＯ（ＯＨ）＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ → Ｎｉ（ＯＨ）_２＋ＯＨ⁻ （９１）
ハイドリノは、アノードにおいて形成されるＨ_２Ｏ触媒によって形成されるかもしれない。セルは、ＫＯＨのようなアルカリ水酸化物のような電解質を含んでよく、更に、親水性のポリオレフィンのようなスペーサを含んでよい。典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ、ラネーコバルト（Ｒ−Ｃｏ）、ラネー銅（Ｒ−Ｃｕ）、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２、ＣｏＨ、ＣｒＨ、ＦｅＨ、ＭｎＨ、ＮｉＨ、ＳｃＨ、ＶＨ、ＣｕＨ、ＺｎＨ、ＡｇＨ／ポリオレフィンＫＯＨ（ａｑ）、ＮａＯＨ（ａｑ）、又はＬｉＯＨ（ａｑ）／ＮｉＯ（ＯＨ）］である。追加的な好適な酸化剤は、ＷＯ_２（ＯＨ），ＷＯ_２（ＯＨ）_２，ＶＯ（ＯＨ），ＶＯ（ＯＨ）_２，ＶＯ（ＯＨ）_３，Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_２，Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_４，Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_６，Ｖ_２Ｏ_３（ＯＨ）_２，Ｖ_２Ｏ_３（ＯＨ）_４，Ｖ_２Ｏ_４（ＯＨ）_２，ＦｅＯ（ＯＨ），ＭｎＯ（ＯＨ），ＭｎＯ（ＯＨ）_２，Ｍｎ_２Ｏ_３（ＯＨ），Ｍｎ_２Ｏ_２（ＯＨ）_３，Ｍｎ_２Ｏ（ＯＨ）_５，ＭｎＯ_３（ＯＨ），ＭｎＯ_２（ＯＨ）_３，ＭｎＯ（ＯＨ）_５，Ｍｎ_２Ｏ_２（ＯＨ）_２，Ｍｎ_２Ｏ_６（ＯＨ）_２，Ｍｎ_２Ｏ_４（ＯＨ）_６，ＮｉＯ（ＯＨ），ＴｉＯ（ＯＨ），ＴｉＯ（ＯＨ）_２，Ｔｉ_２Ｏ_３（ＯＨ），Ｔｉ_２Ｏ_３（ＯＨ）_２，Ｔｉ_２Ｏ_２（ＯＨ）_３，Ｔｉ_２Ｏ_２（ＯＨ）_４，及びＮｉＯ（ＯＨ）である。更に、典型的な好適なオキシ水酸化物は、ブレイスウェル石（ｂｒａｃｅｗｅｌｌｉｔｅ）（ＣｒＯ（ＯＨ））、ダイアスポア（ｄｉａｓｐｏｒｅ）（ＡｌＯ（ＯＨ））、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ゲータイト（ｇｏｅｔｈｉｔｅ）（α−Ｆｅ^３＋Ｏ（ＯＨ））、グラウト鉱（ｇｒｏｕｔｉｔｅ）（Ｍｎ^３＋Ｏ（ＯＨ））、グヤナ鉱（ｇｕｙａｎａｉｔｅ）（ＣｒＯ（ＯＨ））、モンローズ石（ｍｏｎｔｒｏｓｅｉｔｅ）（（Ｖ，Ｆｅ）Ｏ（ＯＨ））、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、及びＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、ツムガライト（ｔｓｕｍｇａｌｌｉｔｅ）（ＧａＯ（ＯＨ））、水マンガン鉱（ｍａｎｇａｎｉｔｅ）（Ｍｎ^３＋Ｏ（ＯＨ））、イットロ重石華（ｙｔｔｒｏｔｕｎｇｓｔｉｔｅ）−（Ｙ）ＹＷ_２Ｏ_６（ＯＨ）_３、イットロ重石華（ｙｔｔｒｏｔｕｎｇｓｔｉｔｅ）−（Ｃｅ）（（Ｃｅ、Ｎｄ、Ｙ）Ｗ_２Ｏ_６（ＯＨ）_３）、無名の（ｕｎｎａｍｅｄ）（Ｎｄ−イットロ重石華（ｙｔｔｒｏｔｕｎｇｓｔｉｔｅ）のアナログ−（Ｃｅ））（（Ｎｄ、Ｃｅ、Ｌａ）Ｗ_２Ｏ_６（ＯＨ）_３）、フランクホーゾーネアイト（ｆｒａｎｋｈａｗｔｈｏｒｎｅｉｔｅ）（Ｃｕ_２［（ＯＨ）_２［ＴｅＯ_４］）、ケヒン鉱（ｋｈｉｎｉｔｅ）（Ｐｂ^２＋Ｃｕ_３ ^２＋（ＴｅＯ_６）（ＯＨ）_２）、及びパラケヒン鉱（ｐａｒａｋｈｉｎｉｔｅ）（Ｐｂ^２＋Ｃｕ_３ ^２＋ＴｅＯ_６（ＯＨ）_２）の群から少なくとも１つである。一般に、酸化剤は、Ｍ_ｘＯ_ｙＨ_ｚであってよく、ここで、ｘ、ｙ、ｚは整数で、Ｍは、遷移、内部遷移、又は希土類金属のような金属であり、金属水酸化物のようなものである。他の実施例において、他の水素化カルコゲニド又はカルコゲニドは、オキシ水酸化物を置換してもよい。セルは、充電により再生されてよく、或いは、Ｒ−Ｎｉのような金属水素化物を再水素化することのような化学的な処理によって再生されてよい。

電解質は、約６．５Ｍから飽和までの濃度範囲で、ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）などの濃縮された塩基を含んでもよい。正極活物質は、オキシ水酸化ニッケルに充電される水酸化ニッケルを含んでよい。あるいは、それは、別のオキシ水酸化物、酸化物、水酸化物、または、ＣＢ、ＰｔＣ、またはＰｄＣなどの炭素、またはＴｉＣなどの炭化物、ＴｉＢ_２などのホウ化物、またはＴｉＣＮなどのカルボニトリルであってもよい。水酸化ニッケルなどのカソードは、酸化コバルトと、ニッケル発泡体骨格などの電流コレクタからなる導電ネットワークを有していてもよいが、交互に、ニッケル繊維マトリックスであってもよいし、ニッケルフィラメント繊維を焼結することで生産してもよい。

負極における活物質は、水素を貯蔵可能な合金であるかもしれず、ＡＢ_５（ＬａＣｅＰｒＮｄＮｉＣｏＭｎＡｌ）又はＡＢ_２（ＶＴｉＺｒＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）タイプであるかもしれず，ここで、「ＡＢ_ｘ」は、Ａタイプの要素（ＬａＣｅＰｒＮｄ又はＴｉＺｒ）対Ｂタイプの要素（ＶＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）の比率を意味する。妥当な水素化物アノードは、本分野の当業者に知られるニッケル−金属水素化物電池のような金属水素化物電池において使用されるそれらである。典型的な妥当な水素化物アノードは、Ｒ−Ｎｉ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，及び他の水素貯蔵可能な合金の群の水素化物を含み、ＡＢ_５（ＬａＣｅＰｒＮｄＮｉＣｏＭｎＡｌ）又はＡＢ_２（ＶＴｉＺｒＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）タイプであり，ここで、「ＡＢ_ｘ」は、Ａタイプ要素（ＬａＣｅＰｒＮｄ又はＴｉＺｒ）とＢタイプ要素（ＶＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）との比を意味すものの１つのようなものを含む。他の実施例において、水素化物アノードは、ＭｍＮｉ_３．５Ｃｏ_０．７Ａｌ_０．８のようなＭｍＮｉ_５（Ｍｍ＝ミッシュメタル），ＡＢ_５−タイプ：ＭｍＮｉ_３．２Ｃｏ_１．０Ｍｎ_０．６Ａｌ_０．１１Ｍｏ_０．０９（Ｍｍ＝ミッシュメタル：２５ｗｔ％Ｌａ，５０ｗｔ％Ｃｅ，７ｗｔ％Ｐｒ，１８ｗｔ％Ｎｄ），Ｌａ_１−ｙＲ_ｙＮｉ_５−ｘＭ_ｘ，ＡＢ_２−タイプ：Ｔｉ_０．５１Ｚｒ_０．４９Ｖ_０．７０Ｎｉ_１．１８Ｃｒ_０．１２合金，Ｍｇ_１．９Ａｌ_０．１Ｎｉ_０．８Ｃｏ_０．１Ｍｎ_０．１ａｌｌｏｙのようなマグネシウム−ベ−ス合金，Ｍｇ_０．７２Ｓｃ_０．２８（Ｐｄ_{０．０１２}＋Ｒｈ_{０．０１２}），及びＭｇ_８０Ｔｉ_２０，Ｍｇ_８０Ｖ_２０，Ｌａ_０．８Ｎｄ_０．２Ｎｉ_２．４Ｃｏ_２．５Ｓｉ_０．１，ＬａＮｉ_５−ｘＭ_ｘ（Ｍ＝Ｍｎ，Ａｌ），（Ｍ＝Ａｌ，Ｓｉ，Ｃｕ），（Ｍ＝Ｓｎ），（Ｍ＝Ａｌ，Ｍｎ，Ｃｕ）及びＬａＮｉ_４Ｃｏ，ＭｍＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＭｇＣｕ_２，ＭｇＺｎ_２，ＭｇＮｉ_２，ＴｉＦｅ，ＴｉＣｏ，及びＴｉＮｉのようなＡＢ化合物，ＡＢ_ｎ化合物（ｎ＝５，２，又は１），ＡＢ_３−４化合物，及びＡＢ_ｘ（Ａ＝Ｌａ，Ｃｅ，Ｍｎ，Ｍｇ；Ｂ＝Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ａｌ）のうちの少なくとも１つを含む。他の妥当な水素化物は、ＺｒＦｅ_２，Ｚｒ_０．５Ｃｓ_０．５Ｆｅ_２，Ｚｒ_０．８Ｓｃ_０．２Ｆｅ_２，ＹＮｉ_５，ＬａＮｉ_５，ＬａＮｉ_４．５Ｃｏ_０．５，（Ｃｅ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｐｒ）Ｎｉ_５，ミッシュメタル−ニッケル合金，Ｔｉ_０．９８Ｚｒ_０．０２Ｖ_０．４３Ｆｅ_０．０９Ｃｒ_０．０５Ｍｎ_１．５，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９，及びＴｉＭｎ_２である。何れかの場合、材料は、大抵の材料が熱力学的に酸化物としてより安定なところ、セル内で侵食環境内で、水素貯蔵合金がオペレーションできるような複雑な微細構造を持つかもしれない。妥当な金属水素化物材料は、導電性があり、銅製それ又はニッケルフォーム基板又はパーフォレイテッド（ｐｅｒｆｏｒａｔｅｄ）又はエクスパンドニッケルでできたそれのような集電体に適用されるかもしれない。

実施形態においては、水性溶媒は、Ｈ_２Ｏ、Ｄ_２Ｏ、Ｔ_２Ｏまたは水混合物および同位体混合物を含んでよい。一実施形態では、温度は、ハイドリノ反応の速度を制御し、その結果、ＣＩＨＴセルの電力を制御するために制御される。好適な温度範囲は、約周囲温度から１００℃である。温度は、圧力が生成され、沸騰が抑制されるように、セルを封止することによって、１００℃以上程度に維持してもよい。

１つの実施例において、ＯＨ及びＨ_２Ｏ触媒の少なくとも１つが、Ｈの源又はＨの存在下でＯＨ⁻の酸化からアノードで形成される。妥当なアノード半電池反応物は水素化物である。実施例において、アノードは、ＢａＲｅＨ_９，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＬａＮｉ_５Ｈ_６又はＬａＮｉ_５Ｈ（本開示において，ＬａＮｉ_５Ｈは、ＬａＮｉ_５の水素化物と定義され、ＬａＮｉ_５Ｈ_６更に他の化学量論比のものも含むかもしれず，及び、同じことが本開示の他の水素化物に当てはまることろ、提示されるもの以外の他の化学量論比のものも本開示の範囲内にある），ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，ＦｅＴｉＨ_１．７，ＴｉＦｅＨ_２，及びＭｇＮｉＨ_４のような金属合金水素化物のような金属水素化物のような水素貯蔵材料を含んでよい。ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，又はＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２を含む実施例において、アノード又は類似のアノード及びＫＯＨ又はＮａＯＨ電解質、ＬｉＯＨは、電解質に加えられ、如何なる酸化物コーティングも不動態化して、Ｈ_２を取り、ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，又はＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２を水素化又は再水素化することを容易ならしめる。典型的なセルは、［ＢａＲｅＨ_９，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，ＦｅＴｉＨ_１．７，ＴｉＦｅＨ_２，及びＭｇＮｉＨ_４／ＭＯＨ（飽和水溶液）（Ｍ＝アルカリ）／カーボン，ＰｄＣ，ＰｔＣ，オキシ水酸化物，炭化物，又はホウ化物］及び［ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，又はＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２／ＫＯＨ（飽和水溶液）ＥｕＢｒ_２又はＥｕＢｒ_３／ＣＢ］である。

１つの実施例において、セルは、ＬａＮｉ_５Ｈ_６，ＭｍＮｉ_３．５Ｃｏ_０．７Ａｌ_０．８Ｈ_６，（ＬａＮｄ）（ＮｉＣｏＳｉ）_５Ｈ_４，ＴｉＭｎ_２，及び（Ｔｉ，Ｚｒ）（Ｖ，Ｎｉ）_２の少なくとも１つのような金属水素化物アノード及びＫＯＨ（１Ｍから飽和濃度迄）のような水性電解質を含み、ここで、セルは更にアノードでのように固体電解質を含んでよい。好適な固体電解質は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド五水和物（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍｈｙｄｒｏｘｉｄｅｐｅｎｔａｈｙｄｒａｔｅ）（ＴＭＡＨ５）（ＣＨ_３）_４ＮＯＨ．５Ｈ_２Ｏである。カソードは、空気やＯ_２のような酸素の源及び蒸気カーボン（ｓｔｅａｍｃａｒｂｏｎ（ＳＣ））のようなカーボンのような酸素還元触媒を含んでよい。典型的なセルは、［ＬａＮｉ_５Ｈ_６，ＭｍＮｉ_３．５Ｃｏ_０．７Ａｌ_０．８Ｈ_６，（ＬａＮｄ）（ＮｉＣｏＳｉ）_５Ｈ_４，ＴｉＭｎ_２，及び（Ｔｉ，Ｚｒ）（Ｖ，Ｎｉ）_２ＴＭＡＨ５の少なくとも１つ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＳＣ＋空気］である。

ＯＨ⁻またはＨ_２Ｏへの（複数の）反応物の還元反応の中間体として形成されるＯＨは、ハイドリノを形成するための、触媒またはＯＨまたはＨ_２Ｏなどの触媒源として働いてもよい。一実施形態では、水性ＭＯＨまたはＭ_２ＣＯ_３電解質（Ｍ＝アルカリ）などのアルカリ電解質を含むセルの酸化剤は、下記の少なくとも１つなどの酸素源を含む：酸素を含む化合物、酸素含有導電性ポリマー、炭素、Ｏ_２、空気などの導電マトリックスに加える酸素含有化合物またはポリマー、蒸気処理カーボンなどの酸化炭素。酸素の還元反応は、過酸化水素イオン、超酸化物イオン、ヒドロラジカル、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−、ＨＯＯＨ、ＨＯＯ⁻、ＯＨおよびＯＨ⁻などの少なくともＯ、おそらくＨを含んでもよい還元酸素化合物やラジカルを形成してもよい。一実施形態において、セルは、カソードからアノードへの酸素の移動を防止または遅延させ、ＯＨ⁻などの移動イオンへの透過性をもつセパレータをさらに備える。セパレータは、また、アノードハーフセルコンパートメント内に形成されるＺｎ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｓｎ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｓｎ（ＯＨ）_６ ^２−、Ｓｂ（ＯＨ）_４ ⁻、Ｐｂ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｃｒ（ＯＨ）_４ ⁻およびＡｌ（ＯＨ）_４ ⁻などの酸化物または水酸化物がカソード・コンパートメントへ移動することを抑制または防いでもよい。一実施形態では、アノードは、Ｒ−Ｎｉ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５またはＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２またはＨ_２ガスなどの水素化物などのＨ源およびＰｔ／Ｃなどの解離子を含む。Ｒ−Ｎｉ、ラネーコバルト（Ｒ−Ｃｏ）などのラネー金属、ラネー銅（Ｒ−Ｃｕ）、他の金属、金属酸化物、合金、または化合物を含んでいてもよい活性化剤を含んだＲ−Ｎｉの他の形態を含む本実施形態や本開示の他の実施形態は、さらなる実施形態を含むようにＲ−Ｎｉを代用してもよい。典型的なセルは下記を含む；金属水素化物Ｍ’Ｈ_ｘ（Ｍ’＝金属またはＲ−ＮｉやＬａＮｉ_５などの合金）、Ｃ（Ｏ_２）_ｘ−１を与えるＯ_２を放出する炭素Ｃ（Ｏ_２）_ｘに吸収される炭素カソードまたは酸素などのカソードでのＯ_２ガスや空気などの酸素カソード。式（９４）と同様の実施形態においては、水および酸素の少なくとも１つが、カソードのＯＨ⁻、ＨおよびＨ_２の少なくとも１つに還元される。
対応する典型的な反応は次の通りである。
アノード
Ｍ’Ｈ_ｘ＋ＯＨ⁻ → Ｍ’Ｈ_ｘ−１＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ （９２）
ここで、ＯＨは、中間体として形成され、ハイドリノを形成するように触媒として機能するかもしれない。或いは、Ｈ_２Ｏは、触媒として機能するように形成されるかもしれない。
カソード
１／２Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ２ＯＨ⁻ （９３）
その代わりとして、カソード反応は、正極で、水単独が含まれる。
Ｈ_２Ｏ＋ｅ− → １／２Ｈ_２＋ＯＨ⁻ （９４）
反応式（９４）を実行するカソードは、水還元触媒および、任意には、カーボンなどの導電性のマトリックスと混合されるポリアニリン、ポリチオフェン、ポリアセチレンなどの導電性をもつ、支持された金属、ゼオライトおよびポリマーなどのＯ_２還元（式（９３））触媒である。好適なＨ_２Ｏ還元触媒は、効率的に、アルカリ溶液などの溶液中で、Ｈ_２Ｏを還元する。典型的な触媒は、下記の群のものである；Ｎｉ、多孔質のＮｉ、焼結ニッケル粉末、Ｎｉ−Ｎｉ（ＯＨ）_２、Ｒ−Ｎｉ、Ｆｅ、遷移金属の金属間化合物、Ｈｆ_２Ｆｅ、Ｚｒ−Ｐｔ、Ｎｂ−Ｐｄ（Ｉ）、Ｐｄ−Ｔａ、Ｎｂ−Ｐｄ（ＩＩ）、Ｔｉ−Ｐｔ、ナノ結晶Ｎｉ_ｘＭｏ_１−ｘ（ｘ＝０．６、０．８５原子％）、ＭｍＮｉ_３．６Ｃｏ_０．７５Ｍｎ_０．４２Ａｌ_０．２７などのＮｉ−Ｍｏ、Ｍｍ合金、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｍｏ合金（６４：２４：１２）（重量％）、Ｎｉ−Ｓ合金、Ｎｉ−Ｓ−Ｍｎ合金。電解質は、トリス（エチレンジアミン）Ｃｏ（ＩＩＩ）塩化物錯体とＮａ_２ＭｏＯ_４またはＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）と鉄などのイオン活性化剤の各または組み合わせなどの活性化剤を含んでもよい。典型的なセルは下記である：［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／水還元触媒とできるならＯ_２還元触媒］；Ｍ＝合金またはＺｎ、Ｓｎ、Ｃｏ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｍｏ、Ｐｂ、Ｇｅなどの金属；水還元触媒遷移と可能ならＯ_２還元触媒＝Ｐｔ／Ｔｉ、Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３、蒸気炭素、ペロブスカイト、Ｎｉ、多孔質Ｎｉ、焼結Ｎｉ粉末、Ｎｉ−Ｎｉ（ＯＨ）_２、Ｒ−Ｎｉ、Ｆｅ、遷移金属の金属間化合物、Ｈｆ_２Ｆｅ、Ｚｒ−Ｐｔ、Ｎｂ−Ｐｄ（Ｉ）、Ｐｄ−Ｔａ、Ｎｂ−Ｐｄ（ＩＩ）、Ｔｉ−Ｐｔ、ナノ結晶Ｎｉ_ｘＭｏ_１−ｘ（ｘ＝０．６、０．８５原子％）、ＭｍＮｉ_３．６Ｃｏ_０．７５Ｍｎ_０．４２Ａｌ_０．２７などのＮｉ−Ｍｏ、Ｍｍ合金、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｍｏ合金（６４：２４：１２）（重量％）、Ｎｉ−Ｓ合金、Ｎｉ−Ｓ−Ｍｎ合金の少なくとも１つ。

一実施形態において、カソードは、酸化物、水酸化物、酸素ガス、または空気などの酸素源を含む。供給源からの酸素は、Ｏを含む負イオンを形成するために水溶液中のカソードで還元され、Ｈを含んでいてもよい。酸素の還元反応は、過酸化水素イオン、超酸化物イオン、ヒドロラジカル、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−、ＨＯＯＨ、ＨＯＯ⁻、ＯＨおよびＯＨ⁻などの少なくともＯ、おそらくＨを含んでもよい還元酸素化合物やラジカルを形成してもよい。一実施形態では、アノードで形成されるこれらの化学種または生成物種の少なくとも１つが、触媒を含んでもよい。触媒反応はＯＯＨ⁻のＯＨと金属酸化物への酸化をともなってもよく、そこでは、ＯＯＨ⁻は触媒源として働く。
典型的な金属Ｍの反応は次の通りである。
カソード
Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＯＯＨ⁻＋ＯＨ⁻ （９５）
アノード：
Ｍ＋ＯＯＨ⁻ → ＭＯ＋ＯＨ＋ｅ⁻ （９６）
ＭＨ又はＭＯＨ＋ＯＯＨ⁻ → Ｍ又はＭＯ＋ＨＯＯＨ＋ｅ⁻ （９７）
ここで、ＯＯＨ⁻及び可能性のあるＯ_２ ^２−、そして、ＨＯＯＨの少なくとも１つは、ＯＨ及びＨ_２Ｏの少なくとも１つのような触媒の源として機能する。ＯＯＨ⁻は、また、酸素を形成する及びＢＡＳＥのような固体電解質を更に含むかもしれない、水酸化物のカソード又はアノード反応物を含むセルにおいて触媒の源として機能するかもしれない。触媒は、Ｈ_２Ｏであってよい。典型的なセルは、［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］であり、超酸化物、過酸化物、及び酸化物を含む典型的な反応は次の通りである。
Ｎａ＋２ＮａＯＨ → ＮａＯ_２＋２ＮａＨ →
ＮａＯＯＨ＋２Ｎａ → Ｎａ_２Ｏ＋ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２（９８）
２Ｎａ＋２ＮａＯＨ → Ｎａ_２Ｏ_２＋２ＮａＨ →
ＮａＯＯＨ＋２Ｎａ＋ＮａＨ（９９）
２ＮａＯＨ → ＮａＯＯＨ＋ＮａＨ → Ｎａ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ（１００）
後者の反応において、Ｈ_２Ｏは、Ｎａと反応するかもしれない。Ｎａ_２Ｏ及びＯＨを形成するような反応をするＮａＯＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のような中間体ＭＯＯＨを形成する反応は、供給された水素を含むかもしれない。典型的なセルは、［Ｎｉ（約１から１．５ａｔｍの範囲内のようなＨ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＮｉＣｌ_２又はＮａＣｌ−ＭｎＣｌ_２又はＬｉＣｌ−ＢａＣｌ_２］及び）［Ｎｉ（Ｈ_２）Ｎａ_２Ｏ及びＮａＯＨの少なくとも１つ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＮｉＣｌ_２又はＮａＣｌ−ＭｎＣｌ_２又はＬｉＣｌ−ＢａＣｌ_２］、これは以下のような反応を経由してハイドリノを形成することにより電気的なパワーを生成するかもしれない。
カソード：
２Ｎａ^＋＋２ｅ⁻＋Ｍ’Ｘ_２ → ２ＮａＣｌ＋Ｍ’ （１０１）
アノード：
１／２Ｈ_２＋３ＮａＯＨ → ＮａＯＯＨ＋ＮａＨ＋Ｈ_２Ｏ＋Ｎａ^＋＋ｅ⁻
（１０２）
ＮａＯＯＨ＋ＮａＨ → Ｎａ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ（１０３）
Ｎａ_２Ｏ＋ＮａＯＨ → ＮａＯＯＨ＋２Ｎａ^＋＋２ｅ⁻ （１０４）
ここで、Ｍ’は金属、Ｘはハライド、他のアルカリ金属は、Ｎａを置換するかもしれない。ＮａＨ又はＯＯＨ⁻は触媒の源として機能するかもしれない。又は、ＯＨは、中間体として形成され、触媒として機能するかもしれない。

一実施形態では、酸素源は、少なくとも１つの他の元素に結合したＯを含む化合物を含んでもよい。酸素の好適な供給源には、ＣＯ_２、ＮＯ_２、ＮＯ、Ｎ_２ＯおよびＳＯ_２の少なくとも１つがある。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＭＯＨ−ＭＸ／Ｎｉ＋ＣＯ_２，ＮＯ_２，ＮＯ，Ｎ_２Ｏ，又はＳＯ_２］（Ｍ＝アルカリ、Ｘ＝ハロゲン）である。

一実施形態においては、電解質は、アルカリ炭酸塩などの塩を含むまたは、追加的に含む。電気分解の間、ペルオキシ種は、ハイドリノを形成するための触媒源または触媒として働くＯＯＨ⁻、ＯＨまたはＨ_２Ｏの供給源となりうるペルオキソ炭酸またはアルカリ過炭酸塩として形成してもよい。典型的なセルは、［Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，Ｇｅ／ＫＯＨ（飽和水溶液）＋Ｋ_２ＣＯ_３／カーボン＋空気］及び［Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，Ｇｅ／ＫＯＨ（飽和水溶液）＋Ｋ_２ＣＯ_３／Ｎｉ粉末＋カーボン（５０／５０ｗｔ％）＋空気］である。

実施例において、蒸気活性化カーボンのようなマトリクスは、Ｋ_２ＣＯ_３のような対応するカルボン酸塩を形成するようにＫＯＨのような水酸化物のような触媒と反応するカルボン酸塩の群のような酸素の源を含む。
例えば、カルボン酸塩の群からのＣＯ_２は次の式のように反応するかもしれない。
２ＫＯＨ＋ＣＯ_２ → Ｋ_２ＣＯ_３＋Ｈ_２Ｏ（１０５）
ここで、ＯＨは酸化され、ＣＯ_２が還元される。プロセスは、ハイドリノを形成するメカニズムを含むかもしれない。活性化されたカーボンを含むＰｔＣ及び活性化されたカーボンは、ハイドリノを形成するようにこのように反応するかもしれない。同様に、Ｒ−Ｎｉは、ＯＨ⁻の酸化を含むＨ_２Ｏ及びＡｌ_２Ｏ_３を形成するようにＯＨ⁻と反応し、ハイドリノを形成する直接のメカニズムを提供する。このようにして、ハイドリノは、直接反応によりＲ−Ｎｉアノード又はカーボンカソードで形成されるかもしれない。

一実施形態は、Ｈ_２ガスおよびＯ_２ガスなどの空気など水素ガスや酸素源などの水素源を有する燃料セルを備える。Ｈ_２およびＯ_２の少なくとも１つが、水の電気分解によって生成してもよい。電気分解用電気は、電気分解セルから直接に供給されるガスによって駆動するＣＩＨＴセルによって供給されてもよい。電気分解は、さらに、カソードおよびアノードの各々に精製されたガスを供給するためのＨ_２およびＯ_２のガスセパレータを含んでもよい。水素はアノードハーフセルに供給されてもよく、酸素はカソードハーフセルに供給されてもよい。アノードは、Ｈ_２酸化触媒を含んでもよく、Ｐｔ／Ｃ、Ｉｒ／Ｃ、Ｒｕ／Ｃ、Ｐｄ／ＣなどＨ_２解離子や本開示の他のものを含んでもよい。カソードは、本開示のそれのようなＯ_２還元触媒を含んでもよい。セルは、ハイドリノを形成し、水を形成するための水素と酸素の反応からのものを超える電気エネルギーなどのエネルギーを生成する触媒として働くＯＨを形成する化学種を生成する。

一実施形態では、カソードでのＯ_２または空気の還元反応を含むセルは、ＬａＮｉ_５Ｈ_６アノードなどのＰｂ、Ｉｎ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｄまたは水素化物などのＨ_２の漸進的な変化に耐性があるアノードを備える。アノード金属Ｍは、電解液中に少なくとも部分的に可溶性であるＭ（ＯＨ）_４ ^２−などの錯体やイオンを形成してもよく、それにより、アノード反応が進行し、酸化被膜などのコーティングによって妨げられないようにする。アノードはまた、Ｌｉ、ＭｇまたはＡｌなどの他の多くの活性金属を含んでもよく、そこでは、阻害剤は、水性電解質との直接的な反応を防止するために使用してもよく、また、有機電解質またはイオン性液体などの非水電解質を使用してもよい。Ｌｉなどのアノードに好適なイオン性液体電解質は、１−メチル−３−オクチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）アミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）アミド、および１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）アミドである。アノードは、電気分解によって水溶液中で再生してもよく、そこでは、Ｐｂ、ＨｇまたはＣｄは、Ｈ_２の漸進的な変化を抑制するために添加してもよい。Ａｌ、ＭｇおよびＬｉなどの高負極電位を有する金属が、非プロトン性有機電解質を有するアノードとして使用することができる。

一実施形態では、Ｏ_２の還元は、２つの電子を伴う過酸化経路を介し進行する。過酸化経路を支持する好適なカソードは下記である：グラファイト、他のほとんどの炭素、ニッケルまたはコバルトなどの金属に覆われた金、酸化物、いくつかの遷移金属大員環および遷移金属酸化物。二酸化マンガンなどのマンガン酸化物が、酸素還元触媒として働いてもよい。また、酸素は、４つの電子によって、ＯＨ⁻またはＨ_２Ｏに、直接的に還元されてもよい。この経路は、下記のものに優勢である；白金、白金族金属などの貴金属、ペロブスカイトまたはパイロクロア構造を有するいくつかの遷移金属酸化物、鉄フタロシアニンなどのいくつかの遷移金属大員環、および銀。一実施形態では、カソードはＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、またはＫＯＨなどの水性または溶融アルカリ水酸化物などのアルカリ電解質による腐食に耐性がある。好適なカソードは、ＮｉおよびＣｕである。

電極は、酸素還元と漸進的な変化のための複合電極を含んでもよい。後者は、再生のために使用してもよい。電極は、酸素還元と漸進的な変化が可能な二官能性であってもよく、そこでは、活性は、対応する別個の触媒層によって提供される、または電極触媒は二官能性であってもよい。電極とセル設計は、ＦｅまたはＺｎ−空気セルなどの金属−空気セルの当業者には知られているものまたは当業者には知られている好適な修飾であってもよい。好適な電極構造は、電流コレクタ、カーボンおよびバインダーを含むガス拡散層および二官能性触媒である活性層を備える。あるいは、電極は、電流コレクタの一方の側にＯ_２還元層を、他の側にＯ_２漸進的変化層を含んでもよい。前者は、酸素源と接触する外側ガス拡散層と、電流コレクタと接触する多孔質疎水性触媒層を含んでよく、一方、後者は、一方側に電解質と接触する多孔質親水性触媒層を、他の側に電流コレクタを含んでよい。

源からの酸素を還元する触媒として機能するかもしれない妥当なペロブスカイトタイプの酸化物は、一般式ＡＢＯ_３を持つかもしれず、そのような置換されるペロブスカイトは、一般式Ａ_１−ｘＡ’_ｘＢ_１−ｙＢ’_ｙＯ_３を持つことができる。Ａは、Ｌａ、Ｎｄであるかもしれない。Ａ’は、ストロンチウム、バリウム、カルシウムであるかもしれず、Ｂは、ニッケル、コバルト、マンガン、ルテニウムであるかもしれない。カソードで、酸素を還元するための他の妥当な触媒は、金属酸化物をドープしたＬａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３、ＭＮｉＯ_２（Ｍ＝アルカリ）、ＭＭ’Ｏ_２（Ｍ＝アルカリ、Ｍ’＝遷移金属、Ｌａ_１−ｘＣａ_ｘＣｏＯ_３、Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏＯ_３（０≦ｘ≦０．５），又はＬａ_０．８Ｓｒ_０．２Ｃｏ_１−ｙＢ_ｙＯ_３（Ｂ＝Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｕ，ｏｒＣｒ；０≦ｙ≦０．３），Ｌａ_０．５Ｓｒ_０．５ＣｏＯ_３，ＬａＮｉＯ_３，ＬａＦｅ_ｘＮｉ_１−ｘＯ_３，置換されたＬａＣｏＯ_３，Ｌａ_１−ｘＣａ_ｘＭＯ_３，Ｌａ_０．８Ｃａ_０．２ＭｎＯ_３，Ｌａ_１−ｘＡ’_ｘＣｏ_１−ｙＢ’_ｙＯ_３（Ａ’＝Ｃａ；Ｂ’＝Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ），Ｌａ_０．６Ｃａ_０．４Ｃｏ_０．８Ｆｅ_０．２Ｏ_３，Ｌａ_１−ｘＡ’_ｘＦｅ_１−ｙＢ’_ｙＯ_３（Ａ’＝Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｌａ；Ｂ’＝Ｍｎ），Ｌａ_０．８Ｓｒ_０．２Ｆｅ_１−ｙＭｎ_ｙＯ_３，及びＭｎに基づくペロブスカイト型酸化物及びある遷移金属又はランタノイド，又はＣｏ_３Ｏ_４又はＮｉＣｏ_２Ｏ_４のようなスピネル，Ｐｂ_２Ｒｕ_２Ｐｂ_１−ｘＯ_１−ｙ又はＰｂ_２Ｒｕ_２Ｏ_６．５のようなパイロクロア（ｐｙｒｏｃｈｌｏｒｅ），Ｎａ_０．８Ｐｔ_３Ｏ_４のような他の酸化物，コバルトポルフィリン（ｃｏｌｂａｌｔｐｏｒｐｈｙｒｉｎ）のような有機金属化合物，又はＣｏ添加剤で熱分解された大員環のしょうなペロブスカイトタイプの触媒である。妥当なパイロクロアタイプの酸化物は、Ｐｂ_２Ｉｒ_２Ｏ_７−ｙ，ＰｂＢｉＲｕ_２Ｏ_７−ｙ，Ｐｂ_２（Ｐｂ_ｘＩｒ_２−ｘ）Ｏ_７−δ，及びＮｄ_３ＩｒＯ_７のような、一般式Ａ_２Ｂ_２Ｏ_７又はＡ_２Ｂ_２−ｘＡ_ｘＯ_７−ｙ（Ａ＝Ｐｂ／Ｂｉ，Ｂ＝Ｒｕ／Ｉｒ）を持つ。妥当なスピネルは、ニッケル・コバルト酸化物，純粋な又はリチウムドープした酸化コバルト（Ｃｏ_３Ｏ_４），Ｍ_ｘＣＯ_３−ｘＯ_４（Ｍ＝Ｃｏ，Ｎｉ，Ｍｎ酸素還元）及び（Ｍ＝Ｃｏ，Ｌｉ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｎ酸素発生）というタイプの輝コバルト鉱（ｃｏｂａｌｔｉｔｅ）のスピネルである。酸素還元触媒は、ニッケル、Ｒ−Ｎｉ、銀、Ａｇ−Ａｌ_２Ｏ_３のようなＡｇ−支持体、Ｐｔ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、又はＲｕのような貴金属、ＮｉＣｏ_２Ｏ_４のようなニッケル・コバルト酸化物、及びＣｕＣｏ_２Ｏ_４のような銅・コバルト酸化物である。酸素還元又は発生触媒は、カーボンブラック、グラファイトカーボン、ケッチェンブラック（Ｋｅｔｊｅｎｂｌａｃｋ）、又は黒鉛化バルカンＸＣ７２（ｇｒａｐｈｉｔｉｚｅｄＶｕｌｃａｎＸＣ７２）のようなカーボンのような導電性の支持体を更に含むかもしれない。典型的なセルは、［Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，Ｇｅ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／空気＋カーボン＋金属酸化物でドープされたＬａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３のようなペロブスカイト型の触媒であるＯ_２還元触媒，Ｌａ_１−ｘＣａ_ｘＣｏＯ_３，Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏＯ_３（０≦ｘ≦０．５），又はＬａ_０．８Ｓｒ_０．２Ｃｏ_１−ｙＢ_ｙＯ_３（Ｂ＝Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｕ，ｏｒＣｒ；０≦ｙ≦０．３），又はＣｏ_３Ｏ_４又はＮｉＣｏ_２Ｏ_４のようなスピネル，Ｐｂ_２Ｒｕ_２Ｐｂ_１−ｘＯ_１−ｙ又はＰｂ_２Ｒｕ_２Ｏ_６．５のようなパイロクロア（ｐｙｒｏｃｈｌｏｒｅ），Ｎａ_０．８Ｐｔ_３Ｏ_４のような他の酸化物，又はＣｏ添加剤で熱分解された大員環］である。別の実施例において、カソードは水還元触媒を含む。

カソードは、Ｈ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つの還元を支持することができる。カソードは、カーボンブラック、活性化カーボン、及び蒸気活性化カーボンのようなカーボンのような高い表面積の導電体を含む。カソードは、カソードの半電池反応物のようなＨ_２Ｏを持つカソードのようなカーボン又はチタンのような導電性の支持体上のＰｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ａｕ，又はこれらの組合せが、少なくともＯ_２又はＨ_２Ｏ又はＨ_２発生の少なくとも１つの還元のためのポテンシャルを持つ導体を含む。電解質は、約６．１Ｍから飽和までの範囲で濃い塩基性であってよい。典型的なセルは、［ＰｔＣＢ，ＰｄＣのような解離剤及び水素，又はＰｔ（２０％）Ｒｕ（１０％）（Ｈ_２，〜１０００Ｔｏｒｒ），又は種々の組成のＲ−Ｎｉの金属水素化物，Ｒ−Ｃｏ，Ｒ−Ｃｕ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２又はＴＡＢＬＥ５の水素化物／水溶性の塩基性の（ａｑ）電解質（＞６．５Ｍから飽和まで、又は＞１１Ｍ飽和に向かって）／カーボン，カーボンでのＯ_２又は空気のような酸素電極，蒸気活性化カーボンのようなＣ（Ｏ_２）_ｘ又は酸化カーボン，又はＣＢ，ＰｔＣ，ＰｄＣ，ＣＢ（Ｈ_２），ＰｔＣ（Ｈ_２），ＰｄＣ（Ｈ_２），カソード半電池反応物ようなＨ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つを持つカソードのようなカーボン又はチタンのような導電性の支持体の上にあるＰｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ａｕ，又はそれらの金属のようなＯ_２又はＨ_２Ｏ又はＨ_２のうち少なくとも１つの還元に対する低い過電圧を持つ導体］である。

実施例において、アニオンは、カソードで酸素の源として機能できる。妥当なアニオンはＣＯ_３ ^２−，ＳＯ_４ ^２−，及びＰＯ_４ ^３−のようなオキシアニオンである。ＣＯ_３ ^２−のようなアニオンは、塩基性の溶液を構成するかもしれない。典型的なカソードの反応は、次の通りである。
カソード
ＣＯ_３ ^２−＋４ｅ⁻＋３Ｈ_２Ｏ → Ｃ＋６ＯＨ⁻ （１０６）
反応は、次のような可逆半電池酸化−還元反応を含むかもしれない。
ＣＯ_３ ^２−＋Ｈ_２Ｏ → ＣＯ_２＋２ＯＨ⁻ （１０７）
Ｈ_２ＯからＯＨ⁻＋Ｈへの還元は、Ｈ_２Ｏが触媒として機能するところ、ハイドリノを形成するカソード反応という結果となるかもしれない。典型的なセルは、ＫＯＨ−Ｋ_２ＣＯ_３電解質を持つ［Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ／ＫＯＨ（飽和水溶液）＋Ｋ_２ＣＯ_３／ＣＢ−ＳＡ］である。１つの実施例において、ＣＯ_２、ＳＯ_２、ＰＯ_２及び他の類似の反応物は、酸素の源としてセルに添加されるかもしれない。

アノードは、ＯＯＨ⁻またはＯＨ⁻などの酸素種と反応し得る金属を含んでもよい。好適な金属は、粉末であってもよいＡｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｓｅ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、ＴｌおよびＷである。アノードは、充電中に緻密化を防ぐために、セルロース繊維などの短い親水性繊維を含んでもよい。アノードは放電状態で形成され、充電により活性化されてもよい。典型的な亜鉛アノードは、Ｈ_２の漸進的な変化を妨げるために、下記を含んでいてもよい；酸化亜鉛粉末、セルロース繊維、ポリテトラフルオロエチレンバインダーの混合物、任意に、いくつかの亜鉛粉末と鉛（ＩＩ）酸化物などの添加物またはアンチモン、ビスマス、カドミウム、ガリウム、インジウムの酸化物。混合物は、水−アセトン混合物にて撹拌してもよいし、得られた均質な懸濁液を濾過してもよいし、フィルターケーキは、鉛メッキ銅ネットなどの電流クレクタにプレスして、わずかに１００℃を超える温度で乾燥させてもよい。約５０％の気孔率を有する電極は、一緒に電極を保持するセルガードなどの微多孔性高分子膜に包まれてもよく、セパレータとして働いてもよい。他の実施形態では、アノードは、初期充電工程を回避する、主としてＺｎ粉末を使用して組み立ててもよい。

セルは、電解質中の体積変化を吸収する槽を有する、直列または並列に接続された積層セルを含んでもよい。セルはさらに、湿度およびＣＯ_２管理システムのうちの少なくとも１つを含んでよい。金属電極は、表面積を倍増する酸素電極の間に挟まれてもよい。酸素は、酸素拡散電極を含む多孔性テフロン積層空気電極を介して、空気から拡散してもよい。一実施形態では、カソードからの電子が、還元水と酸素種を形成するために、酸素拡散電極の湿潤部分の触媒部位で酸素と反応する。一実施形態では、アノードを浸漬させ、カソードは、電解質湿潤部分と空気またはＯ_２などの酸素源と直接接触している部分を備えている。一実施形態では、酸素還元電流は、より多くの空気露出カソード表面積を加えることによって、ある決まった電解質界面面積に対する空気にさらされる材料を増やすことによって増大される。一実施形態では、カソードを浸漬させ、酸素を電気分解により提供する。一実施形態では、アノードの腐食などの過度の腐食を回避しながら、ハイドリノを形成するためにセルの効率を最適化し、電気分解によって提供されるものを補うように、カソードは、主に、空気に露出した小さな表面積部に浸漬される。一実施形態では、酸素および不活性ガス混合物は、付加したＨ_２Ｏ蒸気により、セルに提供される。酸素は約１から１０モル％の範囲で、Ｈ_２Ｏが約３１トールから９３トールの範囲であってもよい。Ｈ_２Ｏが供給されるＣＩＨＴセルの実施形態では、Ｈ_２Ｏ蒸気は、下記の少なくとも１つの圧力範囲内である；約０．００１トールから１００気圧、約０．００１トールから０．１トール、約０．１トールから１トール、約１トールから１０トール、約１０トールから１００トール、約１００トールから１０００トール、約１０００トールから１００気圧。残りは、窒素などの不活性ガスであってもよい。一実施形態では、Ｏ_２は、約５モル％である。一実施形態では、空気は膜であるか、または当業者に公知の手段によって、ガスの所望の比を達成するために、冷凍フィルタにかけられるかまたは処理される。別の実施形態では、カソードなどの酸素還元電極は、電解質に完全に浸漬されてもよい。供給源からの酸素は、Ｏ_２または空気などのガスを含んだ酸素を散布するなどの手段により、または断続電気分解により供給されてもよい。間欠電気分解電極は、異なる金属などの異なる材料、または金属、炭化物、ホウ化物、窒化物、カルボニトリルからなる群から選択された、本開示の異なる材料であってもよい。カソードが浸漬される実施形態においては、酸素は、電解質などの供給源によって提供され、そこでは、電極に対するＯ_２分圧の上昇を維持することにより、Ｏ_２分圧が増加する。高められた圧力は、約０．５気圧から２００気圧、または、約１気圧から１０気圧の範囲であってよい。一実施形態では、電解質は、高い酸素の溶解性を有するように選択される。あるいは、カソード材料は、酸素に対する親和性を有するように選択される。

一実施形態では、アノードは、部分的に浸漬され、そこでは、放電アノードは、少なくともその表面の一部が電解質に浸漬されていない。一実施形態では、少なくとも１つの電極が部分的に浸漬される。各電極は、電解質と接触している。一実施形態では、少なくとも１つの電極は、電解質と接触した電極表面積の一部分のみを有している。少なくとも表面積の一部は、直接的に、電解質と接触していない。非接触面積は、プレートセパレータまたはバイポーラプレートの対向側などのセル雰囲気またはセルの他の構成要素にさらされてもよく、そこでは、電極は、バイポーラプレートの側面を含む。電解質中に浸漬しない電極部分を有する条件は、異なる化学ポテンシャル、フェルミ準位、浸漬に対する電圧または浸漬部分を提供する。その異なる化学ポテンシャル、フェルミ準位、電圧は、ハイドリノ反応を促進してもよい。

一実施形態では、放電カソードは、セル雰囲気またはカソードガスに独立して、電解質に浸漬していないその表面の少なくとも一部を有していてもよい。カソードガスは、供給された空気、酸素、Ｈ_２Ｏと電気分解で生成された酸素の少なくとも１つである。水は、Ｈ_２Ｏ、ＨＯＤ、Ｄ_２Ｏ、Ｔ_２Ｏ、ＤＯＴおよびＨＯＴのうちの少なくとも１つなどの、水素、重水素およびトリチウムの少なくとも１つを含んでもよい。カソードガスは、Ｎ_２またはＡｒなどの希ガスなどの不活性ガスであってもよい。この場合、酸素は電解からのものであってもよい。この場合、部分的非浸漬カソードは、２つが同じ材料であっても、異なる化学ポテンシャル、フェルミ準位または浸漬した放電アノードに対する電圧を提供する。その異なる化学ポテンシャル、フェルミ準位または電圧は、ハイドリノ反応を促進する。放電カソードが部分的に浸漬した電解質は、ＭｇＯ、ＬｉＡｌＯ_２、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３、ＬｉＶＯ_３、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２および本開示の他のものなどのマトリックスを含んでよい。マトリックスを含む電解質は、電解質の融点またはそれを超えた温度であってもよいセルの動作温度で、固体または半固体であってもよい。電解質は、ＭＯＨ−ＭＸなどのアルカリ塩、共晶塩または混合物などの溶融塩などの本開示のものを含んでもよく、ＭＯＨ−ＭＸにおいては、Ｍはアルカリであり、Ｘはハロゲン化物である。水素と酸素の少なくとも１つが間欠電気分解によって少なくとも部分的に生成されてもよい実施形態では、水素と酸素はＨ_２Ｏの約化学量論比である。実施形態では、比率は、約２部Ｈ_２対１部Ｏ_２、約±３００％以内、約±１００％以内、約±５０％以内、約±２５％以内または約±１０％以内である。セルガスの残量が、電力を最適化するか、または所望の電力を実現する圧力で水蒸気を含んでよく、さらに、希ガスまたはＮ_２などの不活性ガスを含んでもよい。水蒸気圧は、約０．０１トールから１０気圧の範囲に維持されてもよい。別の実施形態では、水蒸気圧は、約３１トールから９３トールの範囲内に維持される。全圧力は、約１気圧から５００気圧、約１気圧から１００気圧または約１気圧から１０気圧などの大気圧の上下の任意の所望の値であってよい。一実施形態では、セルは、少なくとも電解質に接触するように供給源からセル積層体を貫通するために、Ｈ_２Ｏ蒸気向けの少なくとも１つのチャネルまたは通路を含む。一実施形態では、Ｈ_２Ｏは、ヒートパイプなどの芯構造を介して積層体に供給される。芯は、電極が電気的に短絡するのを回避するために、非導電性材料を含んでもよい。芯材は、金属酸化物または他の非導電性化合物などの酸化物を含んでもよい。酸化物または他の化合物は、本開示のものなどのように吸湿性であってもよい。別の実施形態では、ガス状Ｈ_２Ｏまたは液体状Ｈ_２Ｏなどの圧力下のＨ_２Ｏは、電解質層への導管またはチャネルを介して注入してもよい。一実施形態では、電解質層は、積層体の各セルの電解質層を介して、Ｈ_２Ｏを輸送する芯または毛細管構造を備える。その構造は、最適なレベルでＨ_２Ｏ濃度を維持する層内の迅速な輸送を達成するための気孔率および気孔径を有する電解質に埋め込まれたまたは混合されたマトリックスを含み、そのレベルは、例えば、約１０から１００トールの範囲内の電解質と平衡状態にあるＨ_２Ｏ蒸気の分圧に相当する。

一実施形態では、積層体は、並列に配置され、共通の電気分解槽内に浸漬された電極を備える。電極は、水平方向または垂直方向または任意の所望の向きに積み重ねられたプレートを含んでもよい。電解質は下記を含んでもよい；ＫＯＨ（水溶液）などの溶融または水性のアルカリ水溶液などの塩基、溶融ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ、Ｈ_２ＳＯ_４（水溶液）などの水性または溶融酸などの溶融または水性の酸性水溶液または溶融Ｈ_３ＰＯ_４。セルは、Ｈ_２、Ｏ_２およびＨ_２Ｏの少なくとも１つの供給源を含んでもよい。酸素や水は、空気中から、少なくとも部分的に得てもよい。水素は、水素透過電極、水素散布またはバブリング電極の少なくとも１つにより、または、断続的な電気分解によって供給されてもよい。［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気］などのセルのアノードは、２つの対向するプレートなどの反対の面上に透過膜を含んでもよい。水素は、プレートなどの２つの対向する膜面によって形成された槽に共通のマニホールドから任意に離れたラインによって供給されてもよい。カソードは、少なくとも部分的に空気に曝されてもよいセルメットなどの多孔質ニッケルなどの多孔質材料であってもよく；一方、アノードは完全に浸漬させてもよい。複数のアノードは、電解質に垂直に浸漬してもよいし、少なくとも１つのカソードは、部分的に電解質の表面に浸漬してもよい。カソードは、電解質表面上に平坦に向けられてもよい。各アノードは、少なくとも１つのカソードに垂直であってもよく、そこでは、複数のアノードは、共通のカソードと並列に電子的に接続されてもよい。また、カソードおよびアノード電極が平行であってもよく、ＭｇＯまたはＬｉ_２ＴｉＯ_３などの不活性セパレータで分離してもよい。共通の槽は、少なくとも１つのヒーターで加熱してもよい。電解質を含む溶融槽の温度は、温度制御器によって制御してもよい。一般的な電解質は、均一な温度を維持するためのサーキュレータによって循環してもよい。槽は絶縁されていてもよい。セルは、断続的な電気分解セルを備えていてもよい。水素と酸素は、電気分解することによって断続的に生成してもよい。セルの極性は、充電と放電の間のサイクルが交互になるのにつれ、断続的に電流の反転方向と一定のままであってもよい。電極は、直列または並列またはそれらの組み合わせで、電気的に接続してもよい。別の実施形態では、カソードなどの酸素還元電極を、電解質に完全に浸漬してもよい。供給源からの酸素は、Ｏ_２または空気などのガスを含んだ酸素を散布するなどの手段により、または断続電気分解により供給されてもよい。間欠電気分解電極は、異なる金属などの異なる材料、または金属、炭化物、ホウ化物、窒化物、カルボニトリルからなる群から選択された、本開示の異なる材料であってもよい。

一実施形態では、Ｚｎ−空気セルなどの金属−空気セルは、金属−空気燃料セルを含んでもよく、そこでは、金属は、連続的に添加され、金属酸化物または水酸化物などの酸化金属は連続的に除去される。当業者に知られているこれらの材料を移動させる手段、例えば、ポンピング、アーグアリング、搬送、または他の機械的手段などにより、新しい金属は搬送され、酸化金属はアノードハーフセルから廃棄される。金属は、ポンピングすることができるペレットを含んでもよい。

実施例において、オキシ水酸化物は、ＯＨ⁻を形成するために酸素の源とし機能するかもしれない。オキシ水酸化物は安定な酸化物を形成するかもしれない。典型的なカソード反応は、Ｌａ_２Ｏ_３，Ｍｎ_２Ｏ_３，ＣｏＯ，Ｇａ_２Ｏ_３，及びＩｎ_２Ｏ_３のような対応する酸化物を形成するようにＨ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つと共にＬａＯＯＨのようなランタニド・オキシ水酸化物、及び、ＭｎＯＯＨ，ＣｏＯＯＨ，ＧａＯＯＨ，及びＩｎＯＯＨの群の１つのようなオキシ水酸化物の還元反応又はオキシ水酸化物の還元の少なくとも１つを含む。典型的な金属Ｍの反応は次のように与えられる。
カソード：
ＭＯＯＨ＋ｅ⁻ → ＭＯ＋ＯＨ⁻ （１０８）
２ＭＯＯＨ＋２ｅ⁻＋Ｈ_２Ｏ → Ｍ_２Ｏ_３＋２ＯＨ⁻＋Ｈ_２（１０９）
２ＭＯＯＨ＋２ｅ⁻＋１／２Ｏ_２ → Ｍ_２Ｏ_３＋２ＯＨ⁻ （１１０）
その代わりとして、酸化物はＯＨ⁻を形成するように酸素の源として機能するかもしれない。還元された金属生成物は、酸化物、オキシ水酸化物、又は、より低い酸化の状態にある金属を持つ水酸化物であるかもしれない。金属Ｍを含む典型的なカソード反応は、次の通りである。
カソード：
ｙＭＯ_ｘ＋ｒｅ⁻＋ｑＨ_２Ｏ →
Ｍ_ｙＯ_{ｙｘ＋ｑ−ｒ}＋ｒＯＨ⁻＋（２ｑ−ｒ）／２Ｈ_２（１１１）
ここで、ｙ，ｘ，ｒ，及びｑは整数である。妥当な酸化物は、ＭｎＯ_２，Ｍｎ_２Ｏ_３，Ｍｎ_３Ｏ_４，Ｍ’Ｏ（Ｍ’＝遷移金属），ＳｅＯ_２，ＴｅＯ_２，Ｐ_２Ｏ_５，ＳＯ_２，ＣＯ_２，Ｎ_２Ｏ，ＮＯ_２，ＮＯ，ＳｎＯ，ＰｂＯ，Ｌａ_２Ｏ_３，Ｇａ_２Ｏ_３，及びＩｎ_２Ｏ_３であり、ここで、ガスは、カーボンに吸収されるようにマトリクスに維持されるかもしれない。電解質は、約６．１Ｍから飽和までの範囲においてのような濃い塩基性であるかもしれない。典型的なセルは、［ＰｔＣＢ，ＰｄＣ，又はＰｔ（２０％）Ｒｕ（１０％）（Ｈ_２，〜１０００Ｔｏｒｒ）のような解離剤及び水素，又は種々の組成のＲ−Ｎｉのような金属水素化物，Ｒ−Ｃｏ，Ｒ−Ｃｕ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２又は表５の水素化物／ＫＯＨ（ａｑ）電解質のような水溶性の塩基（＞６．５Ｍから飽和迄又は＞１１Ｍから飽和迄）／ＭｎＯ_２，Ｍｎ_２Ｏ_３，Ｍｎ_３Ｏ_４，Ｍ’Ｏ（Ｍ’＝遷移金属），ＳｅＯ_２，ＴｅＯ_２，Ｐ_２Ｏ_５，ＳＯ_２，ＣＯ_２，Ｎ_２Ｏ，ＮＯ_２，ＮＯ，ＳｎＯ，ＰｂＯ，Ｌａ_２Ｏ_３，Ｇａ_２Ｏ_３，そしてＩｎ_２Ｏ_３のようなオキシ水酸化物又は酸化物（ガスは、カーボン又はＣｏＯＯＨ，ＭｎＯＯＨ，ＬａＯＯＨ，ＧａＯＯＨ，又はＩｎＯＯＨに吸収されるようにマトリクス内に維持される）］，［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＭＯ_ｘ（ｘ＝１又は２）妥当な金属Ｍ＝Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，Ｇｅ］，及び［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／Ｍ’ＯＯＨ妥当な金属Ｍ＝Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，Ｇｅ；Ｍ’＝Ｍｎ，Ｃｏ，Ｌａ，Ｇａ，Ｉｎである。

ＯＨ⁻の酸化反応の中間体として形成されるＯＨは、ハイドリノを形成するＯＨやＨ_２Ｏなどの触媒または触媒源として働いてもよい。一実施形態では、水酸化物または酸化物を形成する金属は、アノードとして働いてもよい。また、水酸化物開始反応物は、アノードとして働いてもよい。酸化金属、金属酸化物および金属水酸化物の少なくとも１つは、金属水酸化物、酸化物またはオキシ水酸化物などの金属、酸素、および水素のうちの少なくとも２つを含む化合物を形成するための中間体としてＯＨ⁻をＯＨに酸化してもよい。例えば、金属は、さらに酸化物と反応し得る水酸化物を形成するように、酸化してもよい。少なくとも１つの水酸化物Ｈは、それが水を形成するように酸化されるに伴い、ＯＨ⁻に変換してもよい。よって、金属水酸化物またはオキシ水酸化物は、ハイドリノを形成するための触媒として働くことができるＯＨ中間体を形成するために、水酸化物（式（９２））として、同様の方法で反応してもよく、あるいはＨ_２Ｏは触媒として働くように形成されてもよい。
金属Ｍの典型的な反応は次の通りである。
アノード：
Ｍ＋ＯＨ⁻ → Ｍ（ＯＨ）＋ｅ⁻ （１１２）
そして、
Ｍ（ＯＨ）＋ＯＨ⁻ → ＭＯ＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ （１１３）
Ｍ＋２ＯＨ⁻ → Ｍ（ＯＨ）_２＋２ｅ⁻ （１１４）
そして、
Ｍ（ＯＨ）_２ → ＭＯ＋Ｈ_２Ｏ（１１５）
Ｍ＋２ＯＨ⁻ → ＭＯ＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ （１１６）
ここで、水という生成物のＯＨは、中間体として最初形成され、ハイドリノを形成するための触媒として機能するかもしれないし、或いは、Ｈ_２Ｏが形成され触媒として機能するかもしれない。アノード金属は、濃い塩基との反応を導くのに安定であるかもしれず、また、遅い速度で反応するかもしれない。妥当な金属は、遷移金属、Ａｇ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，及びこれら及び他の金属の１又はそれ以上を含む合金である。アノードは、ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のような塩基のような電解質及び粉末としての金属のペーストを含むかもしれない。典型的なペーストアノード反応物は、ＫＯＨと混合されたＣｄ粉末又は飽和ＫＯＨと混合されたＺｎ文末である。アノードのための妥当な陽性の金属は、Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｓｅ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｄ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｓｎ，Ｉｎ，及びＰｂの群からの１又はそれ以上である。その代わりとして、低い水との反応性を持つ妥当な金属は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，及びＷである。他の実施例において、アノードは、Ｃｏ（ＯＨ）_２，Ｚｎ（ＯＨ）_２，Ｓｎ（ＯＨ）_２，及びＰｂ（ＯＨ）_２のようなこれらの金属の１つのような水酸化物又はオキシ水酸化物を含むかもしれない。妥当な金属水酸化物は、酸化物又はオキシ水酸化物である。電解質は、約６．１Ｍから飽和までの範囲内のような濃い塩基であるかもしれない。典型的なセルは、［Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂのような金属，又はＣｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，及びＷの群からの１つのような低い水との反応性を持つ金属，又は飽和ＭＯＨとでペーストとなるこれらの金属又はＣｏ（ＯＨ）_２，Ｚｎ（ＯＨ）_２，Ｓｎ（ＯＨ）_２，又はＰｂ（ＯＨ）_２のような金属水酸化物／ＫＯＨ（ａｑ）電解質（＞６．５Ｍから飽和まで又は＞１１Ｍから飽和まで）のような水溶性の塩基／ＭｎＯ_２，Ｍｎ_２Ｏ_３，Ｍｎ_３Ｏ_４，Ｍ’Ｏ（Ｍ’＝遷移金属），ＳｅＯ_２，ＴｅＯ_２，Ｐ_２Ｏ_５，ＳＯ_２，ＣＯ_２，Ｎ_２Ｏ，ＮＯ_２，ＮＯ，ＳｎＯ，ＰｂＯ，Ｌａ_２Ｏ_３，Ｇａ_２Ｏ_３，及びＩｎ_２Ｏ_３のようなオキシ水酸化物又は酸化物（ガスは、カーボン又はＣｏＯＯＨ，ＭｎＯＯＨ，ＬａＯＯＨ，ＧａＯＯＨ，又はＩｎＯＯＨに吸収されるようにマトリクス内に維持される）又はカーボンでＯ_２又は空気のような炭素，酸素電極，蒸気活性化カーボンのようなＣ（Ｏ_２）_ｘ又は酸化されたカーボン，又はＣＢ，ＰｔＣ，ＰｄＣ，ＣＢ（Ｈ_２），ＰｔＣ（Ｈ_２），ＰｄＣ（Ｈ_２），Ｐｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈ，ＡｕのようなＯ_２又はＨ_２Ｏ又はＨ_２発生の少なくとも１つの還元のための低い過電圧をもつ導体，又はカソード半電池反応物のようなＨ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つを備えるカソードのようなカーボン又はチタンのような導電性の支持体の上のこれらの金属］，［Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，又はＹの水酸化物／ＫＯＨ（飽和水溶液）／蒸気カーボン］，及び［Ｚｎ−飽和ＭＯＨペースト／ＭＯＨ（飽和水溶液）／ＣＢ，活性炭又はＯ_２で蒸気活性化されたカーボン］である。

実施例において、カソードは、酸化物又はオキシ水酸化物のような金属酸化物を含むかもしれず、アノードは、カソードの酸化された金属に相対して還元された酸化物又は金属を含むかもしれない。式（９３）で与えられる水の還元は、酸化物又はオキシ水酸化物の酸素を含むかもしれない。カソード及びアノードは、異なる酸化又は酸化状態の同じ金属を含むかもしれない。アノード反応は、式（１１２−１１６）の少なくとも１つにより与えられるかもしれない。典型的なセルは、［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＭＯＯＨ（Ｍ＝遷移金属，希土類金属，Ａｌ，Ｇａ，又はＩｎ）］，［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＭＯ_２（Ｍ＝Ｓｅ，Ｔｅ，又はＭｎ）］，及び［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＭＯ（Ｍ＝Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，ｏｒＧｅ）］である。水素は、Ｈ_２ＯのようなＯ及びＨの少なくとも１つを含む触媒又はＯＨを維持する水の酸化還元反応（例えば、式（９３−９４）及び（１２３））を開始し及び伝播するように少なくとも１つの半電池に添加されるかもしれない。水素の源は、Ｒ−Ｎｉ又はＬａＮｉ_５Ｈ_６のような水素化物であるかもしれない。蒸気カーボンのようなカーボンは、また、ＯＨ及び可能ならＨ_２Ｏに酸化されるＯＨ⁻及び水からＯＨ⁻に還元されることを容易にするようなカソードのような電極に添加されるかもしれない。少なくとも１つの電極は、カーボンを含む混合物を含むかもしれない。例えば、カソードは、Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，又はＧｅの酸化物及び蒸気カーボンの混合物のような金属酸化物及びカーボンの混合物を含むかもしれない。アノードは、カソード金属酸化物の対応する金属を含むかもしれない。カソードにおいてＯ_２を還元するための他の妥当な触媒は、金属酸化物がドープされたＬａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３のようなペロブスカイト型触媒，Ｌａ_１−ｘＣａ_ｘＣｏＯ_３，Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏＯ_３（０≦ｘ≦０．５），又はＬａ_０．８Ｓｒ_０．２Ｃｏ_１−ｙＢ_ｙＯ_３（Ｂ＝Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｕ，又はＣｒ；０≦ｙ≦０．３），又はＣｏ_３Ｏ_４又はＮｉＣｏ_２Ｏ_４のようなスピネル，Ｐｂ_２Ｒｕ_２Ｐｂ_１−ｘＯ_１−ｙ又はＰｂ_２Ｒｕ_２Ｏ_６．５のようなパイロクロア，Ｎａ_０．８Ｐｔ_３Ｏ_４のような他の酸化物，又はＣｏ添加剤と共に熱分解された大員環である。酸素還元触媒は、カーボンブラック又はグラファイトカーボンのようなカーボンのような導電性の支持体をさらに含むかもしれない。典型的なセルは、［Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｗ，Ｍｏ，Ｐｂ，Ｇｅ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／空気＋カーボン＋金属酸化物ドープのＬａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３のようなペロブスカイト型触媒のような還元触媒Ｏ_２，Ｌａ_１−ｘＣａ_ｘＣｏＯ_３，Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏＯ_３（０≦ｘ≦０．５），又はＬａ_０．８Ｓｒ_０．２Ｃｏ_１−ｙＢ_ｙＯ_３（Ｂ＝Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｕ，又はＣｒ；０≦ｙ≦０．３），Ｃｏ_３Ｏ_４又はＮｉＣｏ_２Ｏ_４のようなスピネル、Ｐｂ_２Ｒｕ_２Ｐｂ_１−ｘＯ_１−ｙ又はＰｂ_２Ｒｕ_２Ｏ_６．５のようなパイロクロア，Ｎａ_０．８Ｐｔ_３Ｏ_４のような他の酸化物，又はＣｏ添加剤と共に熱分解された大員環］である。別の実施例において、カソードは水の還元触媒を含む。

実施例において、セルは更に、ハイドリノを形成するように更に反応するＨの源及び触媒の形成に直接又は間接的に参加する反応物として機能する酸素の源を含む。セルは、対応する金属イオンが移動性のイオンとして機能するようにアノードとして機能する金属Ｍを含むかもしれない。妥当な典型的な金属は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，及びＷの群の少なくとも１つ、及びそれらの合金又は他の金属との合金である。ＯＨは、表３に与えられる反応に従い触媒として機能するかもしれないし、Ｈ_２Ｏは形成されて触媒として機能するかもしれない。Ｍ^２＋のような金属イオンに追加して、あるＯＨは、ＯＨ⁻から少なくとも過渡的に形成されるかもしれない。ＯＨから形成されるＨ_２Ｏは触媒として機能するかもしれない。酸素はカソードで還元されるかもしれない。水はまた、ハイドリノを形成するように、Ｈ_２Ｏのような触媒の源又は触媒として機能するかもしれない少なくともあるＯＨを形成する還元反応に参加するかもしれない。典型的な反応は次の通りである。
アノード：
Ｍ → Ｍ^２＋＋２ｅ⁻ （１１７）
Ｍ＋２ＯＨ⁻ → Ｍ（ＯＨ）_２＋２ｅ⁻ （１１８）
カソード
Ｍ^２＋＋２ｅ⁻＋１／２Ｏ_２ → ＭＯ（１１９）
Ｍ^２＋＋２ｅ⁻＋Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２ → Ｍ^２＋＋２ＯＨ⁻ → Ｍ（ＯＨ）_２
（１２０）
ここで、あるＯＨラジカル中間体は、多分、Ｈ_２Ｏ触媒を形成することにより、ハイドリノを形成するようにさらに反応するカソード又はアノードで形成される。別の実施例において、水と反応する酸素の源は、ＭｎＯＯＨ又はＣｏＯＯＨのようなオキシ水酸化物である。ＯＨは、カソードで、Ｏ又はＯ_２からＯＨ⁻へとの還元及びアノードでのＯＨ⁻の酸化により形成されるかもしれない。Ｏはオキシ水酸化物のそれであるかもしれない。エネルギーバランスは、ハイドリノを形成する反応を伝播する条件下で、ＯＨ及びＨ_２Ｏの少なくとも１つの形成を容易にならしめるかもしれない。他の実施例において、酸化剤は、ガスであるかもしれず、又は、不活性であるかもしれない別の酸化剤及び酸素の混合物であるかもしれない。妥当な典型的な混合物は、ＣＯ_２，ＮＯ_２，ＮＯ，Ｎ_２Ｏ，ＮＦ_３，ＣＦ_４，ＳＯ_２，ＳＦ_６，ＣＳ_２，Ｈｅ，Ａｒ，Ｎｅ，Ｋｒ，及びＸｅの少なくとも１つと混合されるＯ_２である。

ＫＯＨ（水溶液）などのＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）などのベース濃度は、下記の範囲などの任意の所望の範囲であってよい；約０．０１Ｍから飽和（飽和）、約６．５Ｍから飽和、約７Ｍから飽和、約８Ｍから飽和、約９Ｍから飽和、約１０Ｍから飽和、約１１Ｍから飽和、約１２Ｍから飽和、約１３Ｍから飽和、約１４Ｍから飽和、約１５Ｍから飽和、約１６Ｍから飽和、約１７Ｍから飽和、約１８Ｍから飽和、約１９Ｍから飽和、約２０Ｍから飽和、約２１Ｍから飽和。単独、ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）などとの組み合わせおよび任意の組み合わせにおける他の好適で典型的な電解質は下記である；アルカリまたはアンモニウムハロゲン化物、硝酸塩、過塩素酸塩、炭酸塩、Ｎａ_３ＰＯ_４またはＫ_３ＰＯ_４、および硫酸塩とＮＨ_４Ｘ、Ｘ＝ハロゲン化物、硝酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、硫酸。電解質は任意の望ましい濃度であってよい。Ｒ−Ｎｉをアノードとして使用する場合、ＯＨ⁻の局所的に高い濃度は、Ｒ−Ｎｉの塩基組成または水または塩基とのＡｌの反応により起こる。Ａｌの反応は、また、式（９２）の反応をさらに促進するために、アノードで水素を供給してもよい。

アノード粉末粒子は、当該技術分野で知られている金属のアルカリ腐食を防ぐために保護コーティングを有していてもよい。好適な亜鉛腐食防止剤および水素変化防止剤は、アミノカルボン酸、ポリアミン、所望の阻害を達成するために十分な量で、アノードに加えたアミノアルコールの群から選択される１つなどのキレート剤である。Ｚｎの腐食の抑制には、また、最大１０％のＨｇで亜鉛をアマルガムにすることによって、および、ＺｎＯをアルカリ電解質中に、または、Ｚｎ塩を酸性電解質中で溶解させることによって達成してもよい。他の好適な材料としては下記がある；ポリエチレングリコールなどの有機化合物、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第４，３７７，６２５号に開示されているもの、当業者に知られている商用のＺｎ−ＭｎＯ_２のセルに用いられる阻害剤。Ｚｎおよび可能なら、他の金属向けにさらに好適で典型的な阻害剤としては下記がある；有機または無機の阻害剤、界面活性剤などの有機化合物、対応した金属酸化物とＨ_２の形成を抑制する鉛、アンチモン、ビスマス、カドミウム、ガリウムを含有する化合物、５％のＣｏＯ＋０．１％ジエチレントリアミン五酢酸、５％のＳｎＯ_２＋０．１％ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）などのキレート剤または同様のキレート剤、アスコルビン酸、ラポナイトまたはその他のそのような水酸化物イオン輸送性粘土、界面活性剤および硫酸インジウム、エチルブチル硫化物、ジブチル硫化物、アリルメチル硫化物などの脂肪族硫化物、アルカリクエン酸塩、アルカリスズ、酸化カルシウム、金属合金などの錯化剤、グループＩＩＩおよびＶの金属などの添加物、ＰＥＧ２００またはＰＥＧ６００などの異なる分子量のものなどのポリエチレングリコール、エチレン−ポリグリコール、フロオロポリトスキアルコール、エチレンオキシドを有するエーテル、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステルの酸形態、ポリアルキルリン酸塩、エトキシル−ポリフルオロアルコールおよびアルキルポリエチレンオキシド。さらに他の実施形態では、他の陽性金属は、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｇａ、Ｉｎ、ＳｎおよびＰｂなどであり、また、低い水反応性を有する好適な金属は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、ＳｎおよびＷであり、腐食防止剤によって保護されている。一実施形態では、保護コーティング材料は、ＯＨ⁻の選択のための塩橋を含むように支持されていてもよい。塩橋を含む好適なセルは、本開示に記載された燃料セルタイプである。塩橋は、ＯＨ⁻に対する選択性を提供する類似基の四級アンモニウム基を有する膜であってもよい。あるいは、それは、ＯＨ⁻に選択性を有する酸化物または水酸化物でありうる。水素アノードで使用するためにＨ_２の透過に対する耐性を持つ商業的なセパレータは、ナフィオン３５０（デュポン社製）である。

セルは、電気分解によって、水素との反応によって、また、本開示に記載され、または当該技術分野で公知の他の化学処理および分離方法およびシステムにより再生してもよい。金属酸化物などの酸化金属は、アノードにＨ_２を供給することにより、低い電圧で電気分解によって再生してもよく、そこでは、金属がカソードで堆積される。別の例としては、亜鉛アノードは、化学的に再生されたＺｎを持つ新しいキャニスターで取り除き、交換してもよい。それぞれのＺｎＯ、ＰｂＯおよびＳｎＯを形成するＺｎ、ＰｂまたはＳｎアノードを含む一実施形態では、放電中に、生成物のＺｎＯ、ＰｂＯおよびＳｎＯは、炭素またはＣＯによって処理され、亜鉛、鉛、錫とＣＯ_２を形成し、または、硫酸で処理され、Ｚｎ、ＰｂおよびＳｎおよび再循環させることができる硫酸を形成するようにＺｎＳＯ_４、ＰｂＳＯ_４、ＳｎＳＯ_４を電気分解してもよい。金属アノードと、酸化物、オキシ水酸化物および水酸化物などの対応する酸化金属の初期反応物を含むセルの場合には、セル生成物は、両方の電極での酸化金属である。セルは、電気分解によって、または、電極を除去し、金属と酸化金属化合物の混合物を含む電極反応物質を組み合わせ、混合物を金属と酸化金属化合物に分離することによって再生してもよい。典型的な方法は、金属が溶融し、密度に基づいて分離可能な層を形成するように、混合物を加熱することである。好適な金属は、Ｐｂ（ＭＰ＝３２７．５℃）、ＳｂＭＰ＝６３０．６℃）、Ｂｉ（ＭＰ＝２７１．４℃）、Ｃｄ（ＭＰ＝３２１℃）、Ｈｇ（ＭＰ＝−３９℃）、Ｓｅ（ＭＰ＝２２１℃）およびＳｎ（ＭＰ＝２３２℃）である。別の実施形態では、アノードは、ＣｏまたはＦｅなどの強磁性金属などの磁性金属を含み、カソードは、ＣｏＯとＮｉＯなどの対応する酸化物を含む。放電に続いて、カソードとアノードは、金属と対応する酸化物の混合物を含んでもよい。金属は強磁性体であるので、各ハーフセルの金属と酸化物を磁気的に分離してもよい。分離された金属は、アノードに戻してもよいし、分離された金属酸化物は、再生セルを形成するために、カソードに戻してもよい。

一般的な反応において、ＯＨ⁻は、ハイドリノを形成する触媒として機能するようにＯＨへの酸化を受け、水素化物（式（９２））又は水酸化物（式（１１３））のようなＨの源からＨ_２Ｏを形成するかもしれず、ここで、Ｈ_２Ｏはハイドリノを形成する触媒として機能するかもしれない。Ｈを提供する水酸化物の反応は、金属酸化物及びＨ_２Ｏを形成する酸化の下、２つのＯＨ⁻群の反応によるかもしれない。金属酸化物は、少なくとも１つのＯＨ⁻群の源と同じ金属又は異なる金属であるかもしれない。式（１１３）に与えられるように、金属Ｍ’は、ＯＨ及びＨ_２Ｏを形成するようにＭがアルカリのようにＭＯＨからＯＨ⁻の源と反応するかもしれない。一方、式（１２８）は、金属酸化物を形成する金属及びＯＨ⁻の源として金属Ｍの反応の例である。式（１１３）のそれと同じメカニズムに従う典型的なセル［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］を含む式（１２８）及び（６１）の反応の別の形は次の通りである。
Ｎａ＋２ＮａＯＨ →
Ｎａ_２Ｏ＋ＯＨ＋ＮａＨ → Ｎａ_２Ｏ＋ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２（１２１）
塩基性の水溶性電解質を含む電気分解セルの実施例において、ＯＨ及びハイドリノを形成する反応のメカニズムは、式（９２−１２１）及び（１２８）のそれに従う。例えば、電解質が、Ｈ_２Ｏへの中間体としてＭ_２Ｏ及びＯＨを形成するアルカリ金属イオンＭ^＋及びＯＨ⁻を供給するＭＯＨ又はＭ_２ＣＯ_３のようなアルカリ（Ｍ）塩基を含むかもしれない。例えば、式（１２１）に続く典型的なカソード反応は、次の通りである。
Ｋ^＋＋ｅ⁻＋２ＫＯＨ → Ｋ_２Ｏ＋ＯＨ＋ＫＨ → Ｋ_２Ｏ＋ＫＯＨ＋１／２Ｈ_２
（１２２）
水性電気分解セルの別の実施形態では、アノードからの酸素は、カソードでの金属または金属水素化物と反応して、アノードで酸化されてＯＨを形成するＯＨ⁻（式（９３））を形成する。ＯＨはまた、カソードにおける中間体として形成されてもよい。ＯＨは、さらに、おそらく、触媒として働くＨ_２Ｏを形成することにより、ハイドリノを形成するように反応する。カソードにおけるＯ_２とＨ_２ＯのＯＨ⁻への還元は、炭素または炭素被覆金属カソードを使用することによって促進されてもよい。炭素は、Ｋ_２ＣＯ_３などの炭酸アルカリなどのカーボネート電解質から電気めっきされてもよい。セルは、Ｏ_２濃度を高め、Ｏ_２減少率を増加させるために、外部の再結合器なしに動作させてもよい。

ＯＨを生成するセルの他の実施形態では、酸化還元反応の少なくとも一方の間に形成されるＨおよびＯのうち少なくとも１つは、また、ハイドリノを形成するための触媒として働いてもよい。

水素カルコゲナイドイオン電解質を有するさらなる一般化反応において、カソード反応は、電子やＨを受け付ける工程の少なくとも１つを実行する反応を含む。アノード反応は、電子やＨを供与し、水素カルコゲナイドイオンを酸化する工程の少なくとも１つを実行する反応を含む。

別の実施例において、図４に示されるセルシステムは、アノードコンパートメント６００、Ｚｎのようなアノード６０３、カソードコンパートメント６０１、カーボンのようなカソード６０４、及び、ＭＯＨ（６．５Ｍから飽和迄）（Ｍ＝アルカリ）のような電解質のＯＨ⁻のような移動性のイオンに対する選択的に透過性のあるポリオレフィン膜のようなセパレータ６０２を含むかもしれない。妥当な膜は、セルガード（Ｃｅｌｇａｒｄ）３５０１である。電極は、セルを放電するために、負荷６０５によりスイッチ６０６を通して接続されるが、これにより、ＺｎＯのような酸化物又は水酸化物生成物がアノード６０３で形成される。電極６０３及び６０４を含むセルは、別のＣＩＨＴセル又は第１のＣＩＨＴセルによって充電されるキャパシターであるかもしれない電解パワー供給源６１２を使用して、再充電されるかもしれない。セルは更に、図２１に示すように予備コンパートメント６０７において予備アノード６０９のような予備電極を含んでよい。アノード６０３及びカソード６０４を含むセルが妥当に放電されるとき、ＺｎＯのような酸化された生成物を含む電極６０３は、自発的な放電のため、或いは、アノード６０３の電気分解再生のためのアノードとして機能する予備電極６０９に関しカソードとして機能してよい。塩基性の電解質に関する後者の場合における妥当な電極は、Ｎｉ又はＰｔ／Ｔｉである。後者の場合、妥当な水素化物アノードは、本分野の当業者に知られるニッケル−金属水素化物電池のような金属水素化物電池において使用されるそれらである。典型的な妥当な呼び電極アノードは、Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂのような金属又はＣｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，又はＷのような水との低い反応性を持つ妥当な金属，又は飽和ＭＯＨでペーストになったこれらの金属，ＰｔＣ（Ｈ_２）のような解離剤及び水素，又はＲ−Ｎｉのような金属水素化物，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，及び他の水素を貯蔵できる合金，ＡＢ_５（ＬａＣｅＰｒＮｄＮｉＣｏＭｎＡｌ）又はＡＢ_２（ＶＴｉＺｒＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）タイプの１つのようなもの，ここで、「ＡＢ_ｘ」は、Ａタイプ要素（ＬａＣｅＰｒＮｄ又はＴｉＺｒ）とＢｔタイプ要素（ＶＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）の比率を意味するが、上述のような本開示のそれらである。他の実施例において、水素化物アノードは、ＡＢ_５−タイプ：ＭｍＮｉ_３．２Ｃｏ_１．０Ｍｎ_０．６Ａｌ_０．１１Ｍｏ_０．０９（Ｍｍ＝ミッシュメタル：２５ｗｔ％Ｌａ，５０ｗｔ％Ｃｅ，７ｗｔ％Ｐｒ，１８ｗｔ％Ｎｄ），ＡＢ_２−ｔｙｐｅ：Ｔｉ_０．５１Ｚｒ_０．４９Ｖ_０．７０Ｎｉ_１．１８Ｃｒ_０．１２合金，Ｍｇ_１．９Ａｌ_０．１Ｎｉ_０．８Ｃｏ_０．１Ｍｎ_０．１合金のようなマグネシウムベースの合金，Ｍｇ_０．７２Ｓｃ_０．２８（Ｐｄ_{０．０１２}＋Ｒｈ_{０．０１２}），及びＭｇ_８０Ｔｉ_２０，Ｍｇ_８０Ｖ_２０，Ｌａ_０．８Ｎｄ_０．２Ｎｉ_２．４Ｃｏ_２．５Ｓｉ_０．１，ＬａＮｉ_５−ｘＭ_ｘ（Ｍ＝Ｍｎ，Ａｌ），（Ｍ＝Ａｌ，Ｓｉ，Ｃｕ），（Ｍ＝Ｓｎ），（Ｍ＝Ａｌ，Ｍｎ，Ｃｕ）そしてＬａＮｉ_４Ｃｏ，ＭｍＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＭｇＣｕ_２，ＭｇＺｎ_２，ＭｇＮｉ_２，ＴｉＦｅ，ＴｉＣｏ，及びＴｉＮｉのようなＡＢ化合物，ＡＢ_ｎ化合物（ｎ＝５，２，又は１），ＡＢ_３−４化合物，及びＡＢ_ｘ（Ａ＝Ｌａ，Ｃｅ，Ｍｎ，Ｍｇ；Ｂ＝Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ａｌ）の少なくとも１つを含む。アノード６０９及びカソード６０３を含むセルは、スイッチ６１１が閉じられ、スイッチ６０６が開けられると、負荷６１３を通して放電されるかもしれない。電極６０３及び６０９を含むセルは、別のＣＩＨＴセルであるかもしれないパワー供給源６１０を使用して再充電されるかもしれない。その代わりとして、スイッチ６１４を閉じること及びスイッチ６１１を開けることに続いて、電極６０４及び６０９を含む放電されたセルの再充電は、別のＣＩＨＴセルであるかもしれないパワー源６１６を用いて起きるかもしれない。更に、Ｒ−Ｎｉ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，又はＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２のような水素化物のような予備アノード６０９は、その場での水素の添加により、又は、除去、水素化、及び交換により、電気的に再充電され、又は、再生されるかもしれない。金属へのＨ_２還元の熱力学的に有利な再生反応を持つ放電の間の酸化物又は水酸化物を形成する妥当な典型的なアノードは、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，及びＷである。これら及び他の電極は、電極を連続的に再生する又はバッチ式で行うように、半電池において、Ｈ_２で作動するかもしれない。電極は、代わる代わるリサイクルされることができる。例えば、ＬａＮｉ_５Ｈ_６からＬａＮｉ_５のような放電された金属水素化物アノードが、別の水溶液セルにおいてカソードとして使用されるかもしれない。ここで、カソードでの水又はＨ^＋の水素への還元は、今度はアノードとして機能できるようにＬａＮｉ_５をＬａＮｉ_５Ｈ_６に再水素化するであろう。放電及び再充電を駆動するエネルギー源は、水素からのハイドリノの形成である。本開示の他のアノード、カソード、予備電極、電解質、及び溶媒は、最初のアノードのような少なくとも１つの電極の再生を引き起こすことができる他のセルを含むように、当該技術分野の当業者によって相互に交換されるかもしれない。

他の実施形態では、アノード６０３とカソード６０４の少なくとも１つが、複数の電極を含んでもよく、そこでは、各々は、複数の電極のそれぞれを電気的に回路に接続したり、切断するスイッチをさらに含む。その後、１つのカソードまたはアノードは、放電中に接続してもよいし、別の方は、例えば、電気分解により再充電中に接続してもよい。ＫＯＨ（水溶液飽和）などのＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）などの基本的な電解質を有する典型的な実施形態では、アノードは、低水分反応性を有する好適な下記の金属を有し；Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、ＷまたはＺｎ、またはＲ−ＮｉやＬａＮｉ_５Ｈ_６などの水素化物、また、カソードは、放電中に、回路に接続される炭素電極や再充電時に接続されるニッケルなどの少なくとも２つの複数の電極を備える。別の実施形態では、電気分解の前に少なくとも１つのハーフセルにおいて、電解質を変更してもよい。例えば、飽和したＭＯＨは、電気分解カソードで、Ｈ２の漸進的な変化を可能にするために希釈され、次いで放電のために再び濃縮してもよい。別の実施形態では、溶媒および溶質の少なくとも１つは、セル反応物を再生成することを可能にするように変更してもよい。セル生成物の電気分解電圧は、溶媒のそれを超えることがあり、その後、溶媒変化は、電気分解による反応物の再生を可能にするように選択される。一実施形態では、金属または水素化物などのアノードは、放電の後に、アノードとカソードを含む第一セルから除去してもよいし、対向電極を有する第二のセルの電気分解によって再生されてもよいし、再生されたアノードとして第一セルに戻されてもよい。一実施形態では、水素化物アノードを含むＣＩＨＴセルは、セルを断続的に充放電する電気分解システムをさらに含み、それにより、正味のエネルギーバランスにおいて利得がもたらされる。典型的なセルは、［ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｒ−Ｎｉ、ＴａＶ、ＭＣｏ、ＭｏＳｉ、ＭＣｒ、ＭＣｕ、ＳｎＶ、ＮｉＺｒＭｇＹ、本開示のものなどの他の金属水素化物、ＫＯＨ（飽和水溶液）またはＯＨ⁻／ＳＣまたはＭの供給源である他の電解質］（Ｍ＝金属またはＮｉ、Ｐｔ／Ｔｉまたは本開示の他のものなどの合金）で、一定の放電と充電電流とで、パルス電気分解され、そこでは、放電時間は、充電時間の約１．１倍から１００倍であり、放電と充電電流が、約１０倍以内と同じであってもよい。一実施形態において、セルは、間欠的に充放電される。典型的な実施形態において、セルは、下記などの金属アノードまたは金属水素化物（ＭＨ）を有する；［Ｃｏ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＳＣ］、［Ｚｎ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＳＣ］、［Ｓｎ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＳＣ］、［ＭＨ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＳＣ］、そこでは、ＭＨは、ＬａＮｉ_５Ｈ_ｘ、ＴｉＭｎ_２Ｈ_ｘまたはＬａ_２Ｎｉ_９ＣｏＨ_ｘである。断続的に充放電されるＣＩＨＴセルは、また、少なくとも１つの水酸化物、ハロゲン化合物または他の塩などの溶融電解質を含んでもよく、さらに、電解質中にあってもよい水素化物ＭＨまたはＨ_２Ｏなどのアノードで、Ｈの供給源を含んでもよい。典型的なセルは、［ＭＨ／Ｍ’（ＯＨ）_ｎ−Ｍ’’Ｘ_ｍ／Ｍ’’’］および［Ｍ／Ｍ’（ＯＨ）_ｎ−Ｍ’’Ｘ_ｍ（Ｈ_２Ｏ）／Ｍ］であり、そこでは、ｎおよびｍは整数であり、Ｍ、Ｍ’、Ｍ’’およびＭ’’’は金属であってもよく、好適な金属Ｍは、ＮｉおよびＭ’であり、Ｍ’’は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属であってもよいし、遷移、内部遷移、希土類元素であってもよいし、グループＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、およびＶＩの金属であってよく、好適なアニオンＸは、水酸化物、ハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、およびリン酸塩であってもよい。典型的な実施形態では、ＣＩＨＴセルは、１ｍＡなどの定電流で、２秒間充電され、次いで、１ｍＡの定電流などで、２０秒間放電される。電流および時間は、最大エネルギー利得を達成するために、任意の所望の値に調整してもよい。

一実施形態では、アノードは、酸化物または水素により還元され得る水酸化物を形成する金属を含む。水素は、式（９４）で与えられるものなどの、水の反応などの反応により、カソードで形成してもよい。酸化物または水酸化物は、また、付加水素により還元されてもよい。一実施形態では、酸化物または水酸化物は、アノードで形成されており、そこでは、水は水酸化物源であり、水素はその水酸化物を還元し、そこでは、水は、少なくとも部分的には、水素源である。ハイドリノは、下記を伴いながら、動的反応中に形成される；ＯＨ⁻またはアノードの金属の酸化、水素ガスへの水の還元、アノード金属を再生するためのアノード酸化物または水酸化物との水素との反応。そして、アノードは、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，及びＷの群からの低い水との反応性を持つ妥当な金属、又は遷移金属、Ａｇ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，及びＰｂの群からの１つのような水素により還元されるかもしれない酸化物又は水酸化物の元となる金属を含む。実施例において、遷移金属Ｚｎもまた、表１に与えられる反応により触媒として機能するかもしれない。

セルは、ハイドリノの形成において消費されるか、またはセルから失われる水素の加減による水の電気分解で再生してもよい。一実施形態では、電気分解がパルス化され、それにより、ニッケル水素化物などの金属水素化物などの水素化物が、電気分解の間に形成され、その電気分解は、電気分解の逆方向の電圧を生成し、印加電圧を印加しない期間を持ったデューティーサイクルの時間間隔中に水を電気分解する。ピーク電圧、電流、電力、オフセット電圧、電流、電力、およびデューティーサイクル、周波数などの電気分解パラメータは、エネルギー利得を増加させるために最適化される。一実施形態では、セルは電気および生成物として回収することができる水素ガス（式（９４））を生成する。また、水素ガスを、電気の生産でセル放電を継続する水素化物Ｒ−Ｎｉに、再循環してもよく、そこでは、ハイドリノの形成は、セル電圧、電流、電力、エネルギーの少なくとも１つに貢献する。セルは、また、ハイドリノの形成において消費されるか、またはセルから失われるものを置き換えるために水素の発生を引き起こす別のＣＩＨＴセルであり得る電気の外部源によって再充電してもよい。一実施形態においては、水素化物材料は、アノード・コンパートメントからの除去の後、その場、または別の容器で、Ｈ_２の添加によって再水素化してもよい。前者の場合、アノードは、水素によって、密封され、加圧されてもよい。あるいは、セルを水素で加圧し、そこでは、水素が、アノード反応物によって、優先的に吸収されるか、保持されてもよい。一実施形態では、セルは、動作中にＨ_２で加圧してもよい。

塩基性の電解質は、ＫＯＨ又はＮａＯＨのような水溶性のアルカリ水酸化物のような水酸化水溶液であるかもしれない。カソードは、ＡｌＯ（ＯＨ），ＳｃＯ（ＯＨ），ＹＯ（ＯＨ），ＶＯ（ＯＨ），ＣｒＯ（ＯＨ），ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウト鉱及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）マンガナイト），ＦｅＯ（ＯＨ），ＣｏＯ（ＯＨ），ＮｉＯ（ＯＨ），ＲｈＯ（ＯＨ），ＧａＯ（ＯＨ），ＩｎＯ（ＯＨ），Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ），及びＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）のようなオキシ水酸化物であるかもしれず、又は、ＣＢ，Ｐｔ／Ｃ又はＰｄ／Ｃのようなカーボン、ＴｉＢ_２のようなホウ化物、ＴｉＣのような炭化物のような高表面積導体であるかもしれない。塩基性の溶液において、反応は次の通りである。
アノード
Ｈ_２＋２ＯＨ⁻ → ２Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻
又は
Ｈ_２＋ＯＨ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）
（１２３）
カソード
２（ＣｏＯＯＨ＋ｅ⁻＋Ｈ_２Ｏ → Ｃｏ（ＯＨ）_２＋ＯＨ⁻）
又は
ＣｏＯＯＨ＋２ｅ⁻＋２Ｈ_２Ｏ → Ｃｏ（ＯＨ）_２＋２ＯＨ⁻＋Ｈ（１／ｐ）
（１２４）
典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ，Ｈ_２及びＰｄ／Ｃ，Ｐｔ／Ｃ，Ｉｒ／Ｃ，Ｒｈ／Ｃ，又はＲｕ／Ｃ又は遷移金属、内部遷移金属、希土類水素化物のような金属水素化物，又はＡＢ_５又はＡＢ_２タイプのアルカリ電池の１つのような合金／ＫＯＨのようなＭＯＨ（Ｍはアルカリ金属）（約６Ｍから飽和迄）ここで塩基はＫ又は２Ｋ^＋のように触媒又は触媒の源として機能するかもしれず，又はＮＨ_４ＯＨのような他の塩基，塩基性の水溶液電解質のようなＯＨ⁻導体，第四級アルキル・アンモニウム水酸化群及び塩基性水溶液を伴うそれのようなセパレータ，イオン性の液体、又は固体ＯＨ⁻導体／ＭＯ（ＯＨ）（Ｍ＝Ｃｏ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ａｌのような金属），ＡｌＯ（ＯＨ），ＳｃＯ（ＯＨ），ＹＯ（ＯＨ），ＶＯ（ＯＨ），ＣｒＯ（ＯＨ），ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウト鉱及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）マンガナイト），ＦｅＯ（ＯＨ），ＣｏＯ（ＯＨ），ＮｉＯ（ＯＨ），ＲｈＯ（ＯＨ），ＧａＯ（ＯＨ），ＩｎＯ（ＯＨ），Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ），及びＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）又は他のＨがインターカレーションしたカルコゲニド，又はＨＹ］．他の実施例において、電解質は、有機溶媒における塩又はイオン性液体であってよい。セルは、化学処理により又は充電により再生されてよい。

Ｈ_２に供給された燃料セルシステムの実施形態では、Ｈ_２は、選択的または優先的にアノードで反応させる。アノードでのＨ_２の反応速度は、カソードよりもはるかに高い。アノードハーフセルへのＨ_２の制限、または、カソードよりもアノードでの反応を好む材料の使用は、カソードが選択性を達成するための二つの方法を含む。セルは、Ｈ_２に理想的に不透過性である膜または塩橋を含んでもよい。その膜または塩橋は、ＯＨ⁻輸送に対して選択的であってもよい。

別の実施例において、ｐＨは、中性から酸性へのように低いかもしれない。ハイドリノを形成するように更に反応するＯＨを形成するようにＨ_２Ｏを酸化させる場合において、電解質の濃度は、ＯＨを形成する反応速度を上昇するように活動度及び伝導度を増加させるように高いかもしれない。そして、ハイドリノは以下に示すような反応により与えられる。
アノード
Ｈ_２Ｏ → ＯＨ＋ｅ⁻＋Ｈ^＋ → １／２Ｏ_２＋ｅ⁻＋Ｈ^＋＋Ｈ（１／ｐ）
（１２５）
ＭＨ_ｘ＋Ｈ_２Ｏ → ＯＨ＋２ｅ⁻＋２Ｈ^＋ →
１／２Ｏ_２＋２Ｈ^＋＋２ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（１２６）
カソード
Ｈ^＋＋ｅ⁻ → １／２Ｈ_２
又は
Ｈ^＋＋ｅ⁻ → Ｈ（１／ｐ）（１２７）
ＭＨ_ｘ（ＭはＨ以外の元素で例えば金属）のようなアノード反応物の存在は、式（３５３）により与えられる反応を完成するようにＯ_２の発生のよりも、ＯＨの形成を有利にする。ハイドリノを形成する反応は、水素化物からのＨの利用可能性によって限定されるかもしれない。従って、Ｈ濃度を上げる条件は、最適化されるかもしれない。例えば、温度は、上げられるかもしれず、Ｈ_２は消費された如何なるものも補充するように水素化物に供給されるかもしれない。分離は、上げられた温度でセル内においてテフロン（登録商標）であるかもしれない。

実施例において、アノード又はカソードは、ＬａＮ又はＫＩのようなゲッター又は無機化合物、又はＰｔＣ／Ｃ又はＣＢのようなカーボン、又はＴａＣ又はＴｉＣのような炭化物のような支持体のような添加剤を含むかもしれない。典型的なセルは、［ＺｎＬａＮ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］，［ＳｎＴａＣ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］，［ＳｎＫＩ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］，［ＰｂＣＢ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］，［ＷＣＢ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］である。別の実施例において、電解質は、ＫＯＨにおいて飽和させられた飽和アンモニウム水酸化物のような混合物を含むかもしれない。典型的なセルは、［Ｚｎ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）ＮＨ_４ＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］，及び［Ｃｏ／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）ＮＨ_４ＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ］である。

一実施形態では、カソードおよびアノードハーフセル反応の少なくとも１つが、ハイドリノを形成するための触媒として作用するＯＨとＨ_２Ｏのうち少なくとも１つを形成する。ＯＨは、ＯＨ⁻の酸化によって形成してもよく、または、ＯＨは、ＯＨ、ＨおよびＯの少なくとも１つの供給源などの前駆体の酸化によって形成してもよい。後者の２つのケースでは、ＨはＯＨを形成するために、Ｏの供給源と反応し、Ｏは、ＯＨを形成するためにＨの供給源と反応する。前駆体は、負または中性の化学種や化合物であってもよい。負の化学種は下記であってよい；ＯＨ、ＯＨ⁻を含むイオン、ＯＨ⁻を含むＡｌ（ＯＨ）_４ ⁻などのＯＨ、ＯＨ⁻を含む部分、ＯＨを含む過酸化物や過酸化水素イオンＨＯ_２ ⁻。負の化学種は下記であってよい；Ｈ、Ｈ⁻を含むイオン、Ｈ⁻を含むＡｌＨ_４ ⁻などのＨ、Ｈ⁻を含む部分、Ｈを含む過酸化水素イオン。負の化学種の酸化によるＨ生成物は、その後、Ｏの供給源と反応し、ＯＨを形成する。一実施形態では、ＯＨを形成する中間体として、ＯＨ⁻を形成する酸化物または水酸化物とで、Ｈの反応またはＨの供給源によって、ＯＨを形成してもよい。負の化学種は下記であってよい；Ｏ、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−などのＨ以外の元素または複数の元素を含むイオン、酸化物イオンを含むＣｏＯ_２ ⁻またはＮｉＯ_２ ⁻などの金属酸化物などのＯ、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻またはＯ_２ ^２−を含む部分、Ｏを含む過酸化水素イオン。負の化学種の酸化によるＯ生成物は、その後、Ｈの供給源と反応し、ＯＨを形成する。中性化学種または化合物は下記を含んでよい；、ＯＨ、ＯＨ⁻、ＯＨ⁻またはＨ_２Ｏおよびアルコールを含むＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃｏ（ＯＨ）_２またはＣｏＯＯＨなどの水酸化物またはオキソ水酸化物などのＯＨまたはＯＨ⁻を含む部分、ＯＨを含む過酸化物。中性化学種または化合物は下記を含んでよい；、Ｈ、Ｈ⁻、Ｈ⁻またはＨ_２Ｏおよびアルコールを含む金属水素化物などのＨまたはＨ⁻を含む部分、Ｈを含む過酸化物。酸化によるＨ生成物は、その後、Ｏの供給源と反応し、少なくとも１つのＯＨおよびＨ_２Ｏを形成し、そこでは、少なくとも１つが触媒として働く。中性化学種または化合物は下記を含んでよい；Ｏ、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−などのＨ以外の元素または複数の元素、酸化物イオンまたはその供給源またはＨ_２Ｏおよびアルコールを含む金属酸化物、水酸化物またはオキソ水酸化物などのＯ、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻またはＯ_２ ^２−を含む部分、Ｏを含む過酸化物。酸化によるＯ生成物は、その後、Ｈの供給源と反応し、少なくとも１つのＯＨおよびＨ_２Ｏを形成する。

ＯＨは、ＯＨ^＋の還元によって形成してもよく、または、ＯＨは、ＯＨ、ＨおよびＯの少なくとも１つの供給源などの前駆体の還元によって形成してもよい。後者の２つのケースでは、ＨはＯＨを形成するために、Ｏの供給源と反応し、Ｏは、ＯＨを形成するためにＨの供給源と反応する。前駆体は、正または中性の化学種や化合物であってもよい。正の化学種は下記であってよい；ＯＨを含むイオン、ＯＨ⁻を含むＡｌ（ＯＨ）_２ ^＋などのＯＨを含む部分、ＯＨを含む過酸化水素イオン。正の化学種は下記であってよい；Ｈ、Ｈ^＋を含むイオン、Ｈ^＋を含むＨ_３Ｏ^＋などのＨ、Ｈ^＋を含む部分、Ｈを含む過酸化水素イオン。正の化学種の酸化によるＨ生成物は、その後、Ｏの供給源と反応し、ＯＨを形成する。正の化学種は下記であってよい；Ｏ、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−などのＨ以外の元素または複数の元素を含むイオン、酸化物イオンを含むＡｌＯ^＋などの金属酸化物などのＯ、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻またはＯ_２ ^２−を含む部分、Ｏを含む過酸化水素イオン。正の化学種の酸化によるＯ生成物は、その後、Ｈの供給源と反応し、ＯＨを形成する。中性化学種または化合物は、ＯＨまたは、Ｈ_２ＯおよびアルコールなどのＯＨを含んだ部分または過酸化物を含んでよい。中性化学種または化合物は下記を含んでよい：ＨおよびＨ^＋、Ｈ^＋またはＨ_２Ｏおよびアルコールを含むＭＨＳＯ_４、ＭＨ_２ＰＯ_４、Ｍ_２ＨＰＯ_４（Ｍ＝アルカリ）およびＨＸ（Ｘ＝水素化物）などの酸塩または酸などのＨまたはＨ^＋を含む部分、Ｈを含む過酸化物。還元によるＨ生成物は、その後、Ｏの供給源と反応し、ＯＨを形成する。中性化学種または化合物は下記を含んでよい：ＯなどのＨ以外の元素または複数の元素、Ｈ_２ＯおよびアルコールなどのＯを含む部分、過酸化物。還元によるＯ生成物は、その後、Ｈの供給源と反応し、ＯＨを形成する。ＯＨは、さらにＨまたはＨの供給源と反応し、触媒として働いてもよいＨ_２Ｏを形成する。

ＯＨは、中間体として、または、化合物または化学種の酸化または還元を伴う協調または二次化学反応によって形成してもよい。同じことは、Ｈ_２Ｏ触媒にも適用される。反応物は、ＯＨ⁻、Ｏ、およびＨの少なくとも１つなどのＯＨまたはＯＨの供給源を含んでもよい。ＯＨ⁻の形成または消費における中間体として形成されるＯＨの好適な供給源は、金属酸化物、金属水酸化物、または、ＣｏＯＯＨなどのオキシ水酸化物である。典型的な反応は、本開示で記載されており、そこでは、ＯＨは、ＯＨ⁻をともなった反応中に、一過的に形成され、少なくともＯＨとＨ_２Ｏの一部が反応し、ハイドリノを形成する。二次反応によって形成されたＯＨの例は、ＯＨ⁻を含むＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃｏ（ＯＨ）_２またはＣｏＯＯＨなどの水酸化物またはオキシ水酸化物を含む。例えば、Ｎａは、［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］などのセル内のＮａ^＋の還元によって形成されてもよく、そこでは、ＮａＯＨとの反応が、下記のように、一時的な中間体として、ＯＨを形成することができる：
Ｎａ^＋＋ｅ⁻ → Ｎａ；
Ｎａ＋ＮａＯＨ → Ｎａ_２＋ＯＨ → Ｎａ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２（１２８）
［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］などの実施形態では、Ｎａ^＋の搬送速度は、Ｎａ_２とＨの形成の少なくとも１つの速度を増加させるために、温度を上昇させるか、またはその厚さを減少させることによって、ＢＡＳＥ抵抗を下げるなどの手段によって、最大化される。その結果、ＯＨとＨ_２Ｏの少なくとも１つの実際の速度、およびその後のハイドリノ生成が起こる。
同様に、Ｌｉは、［Ｌｉ／セルガードＬＰ３０／ＣｏＯＯＨ］などのセルにおけるＬｉ^＋の還元によって形成してもよく、そこでは、ＣｏＯＯＨとの反応が、下記のように、一時的な中間体として、ＯＨを形成することができる：
Ｌｉ^＋＋ｅ⁻ → Ｌｉ；
３Ｌｉ＋２ＣｏＯＯＨ → ＬｉＣｏＯ_２＋Ｃｏ＋Ｌｉ_２＋２ＯＨ →
ＬｉＣｏＯ_２＋Ｃｏ＋２ＬｉＯＨ（１２９）
また、有機電解質セル［Ｌｉ／セルガードＬＰ３０／ＣｏＯＯＨ］において、メカニズムは、アノードへのＯＨ⁻の移動であってよく、そこでは、ハイドリノを形成するための触媒または反応物として働くｎＯ、ＯＨおよびＨ_２Ｏの少なくとも１つに酸化される。典型的な反応は、次式により表される。
カソード
ＣｏＯＯＨ＋ｅ⁻ → ＣｏＯ＋ＯＨ⁻ （１３０）
アノード
ＯＨ⁻ → ＯＨ＋ｅ⁻；
ＯＨ → Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）（１３１）
Ｏは、Ｌｉと反応し、Ｌｉ_２Ｏを形成してもよい。オキシ水酸化および電解質を、移動イオンとしてＯＨ⁻に有利であるように選択してもよい。一実施形態では、ＯＨ⁻の移動を容易にする電解質は、ＬｉＣｌ−ＫＣｌなどのアルカリハロゲン化物の共融混合物などの溶融塩などのイオン電解質である。アノードは、金属または水素化物などのＯＨ⁻またはＯＨとの反応物であってよく、カソードは、本開示で与えられたものなどのオキシ水酸化物または水酸化物などのＯＨ⁻源であってよい。典型的なセルは、［Ｌｉ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ／ＣｏＯＯＨ、ＭｎＯＯＨ、Ｃｏ（ＯＨ）_２、Ｍｇ（ＯＨ）_２］である。

一実施形態では、Ｏ_２、２Ｏ、ＯＨおよびＨ_２Ｏの少なくとも１つが、固体燃料反応およびＣＩＨＴセルの少なくとも１つにおいて、ハイドリノを形成するための触媒として働く。一実施形態では、ＯＨは、Ｐ_２Ｏ_５、ＳＯ_２、ＫＮＯ_３、ＫＭｎＯ_４、ＣＯ_２、Ｏ_２、ＮＯ、Ｎ_２Ｏ、ＮＯ_２、Ｏ_２およびＨ_２Ｏなどの酸素源およびＭＨ（Ｍ＝アルカリ）、Ｈ_２Ｏ、またはＨ_２ガスおよび解離子などの水素の供給源の反応によって形成されてもよい。

セルは、電気分解によって、またはＨ_２を添加することによって再生してもい。電気分解は、本開示で与えられた条件下でパルス化してもよい。循環工程の充電−再充電サイクルを段階的に行い、再充電のそれを超えた正味の電力を出力するに従って、１つのＣＩＨＴセルが、他のものからの電気分解の電力を供給してもよい。セルは、アノードとカソードとの間で往復したＨに対するロッキングチェアタイプであってもよい。Ｈを含む移動イオンは、実施形態において、ＯＨ⁻またはＨ^＋であってもよい。アノードでＨ源を有し、カソードで、［Ｒ−Ｎｉ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＡＣ］などのＨ向けシンクを有するセルを考えてみる。典型的な放電及び再充電反応は以下に与えられる。
放電
アノード：
ＬａＮｉ_５Ｈ_ｘ又はＲ−ＮｉＨ_ｘ＋ＯＨ⁻ →
Ｈ_２Ｏ＋ＬａＮｉ_５Ｈ_ｘ−１又はＲ−ＮｉＨ_ｘ−１＋ｅ⁻ （１３２）
カソード
Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ → ＯＨ⁻＋１／２Ｈ_２（炭素中（Ｃ（Ｈ_ｘ））（１３３）
電解再充電
カソード
ＬａＮｉ_５Ｈ_ｘ−１又はＲ−ＮｉＨ_ｘ−１＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ →
ＯＨ⁻＋ＬａＮｉ_５Ｈ_ｘ又はＲ−ＮｉＨ_ｘ（１３４）
アノード
Ｃ（Ｈ_ｘ）＋ＯＨ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋Ｃ（Ｈ_ｘ−１）＋ｅ⁻ （１３５）
ここで、これらの反応（式（１３２−１３３））の間に生産されるＨ、ＯＨ、及びＨ_２Ｏの少なくとも１つは、ハイドリノを形成するための触媒として機能する。
セルは、ハイドリノを形成している水素を置き換えるために水を消費するように動作してもよい。酸素を、酸素に対する選択的反応物によって、選択的に、ゲッター除去、すなわち取り除いてもよい。また、水素はセルに戻してもよい。セルは、電極間のＨ在庫残を含むように、別の方法で、密封してもよい。少なくとも１つの電極は、セル作動中に連続的または断続的に再水素化してもい。水素は、電極内にＨ_２を流すガスラインによって供給されてもよい。セルは、少なくとも一つの電極を通る流れを維持するために、Ｈ_２を削除する別のラインを含んでもよい。内部水素在庫、電気分解による内部で発生した水素、外部から供給された水素のうちの少なくとも１つによる再水素化は、カソードまたはアノードまたは反応物と水素との直接反応によるものであってもよい。一実施形態では、水素化物などのアノード反応物は、さらに、Ｒ−Ｎｉ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８、ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５、またはＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２などの水素化物などのアノード反応物によるＨ_２の吸収の量および速度の増加の少なくとも１つを実行するための薬剤を含む。その薬剤は、水素流出触媒であってもよい。適切な薬剤は、ＣＢ、ＰｔＣ、ＰｄＣおよび他の水素解離子と支持材料上の水素解離子である。水素圧は、約０．０１から１０００気圧の範囲であってもよい。ＬａＮｉ_５を再水素化する好適な範囲は、約１から３気圧である。

移動性のイオンは、ＣｏＯＯＨのようなオキシ水酸化物のようなＨインターカレーションされた層状カルコゲニド，ＮｉＯＯＨ，ＨＴｉＳ_２，ＨＺｒＳ_２，ＨＨｆＳ_２，ＨＴａＳ_２，ＨＴｅＳ_２，ＨＲｅＳ_２，ＨＰｔＳ_２，ＨＳｎＳ_２，ＨＳｎＳＳｅ，ＨＴｉＳｅ_２，ＨＺｒＳｅ_２，ＨＨｆＳｅ_２，ＨＴａＳｅ_２，ＨＴｅＳｅ_２，ＨＲｅＳｅ_２，ＨＰｔＳｅ_２，ＨＳｎＳｅ_２，ＨＴｉＴｅ_２，ＨＺｒＴｅ_２，ＨＶＴｅ_２，ＨＮｂＴｅ_２，ＨＴａＴｅ_２，ＨＭｏＴｅ_２，ＨＷＴｅ_２，ＨＣｏＴｅ_２，ＨＲｈＴｅ_２，ＨＩｒＴｅ_２，ＨＮｉＴｅ_２，ＨＰｄＴｅ_２，ＨＰｔＴｅ_２，ＨＳｉＴｅ_２，ＨＮｂＳ_２，ＨＴａＳ_２，ＨＭｏＳ_２，ＨＷＳ_２，ＨＮｂＳｅ_２，ＨＮｂＳｅ_３，ＨＴａＳｅ_２，ＨＭｏＳｅ_２，ＨＶＳｅ_２，ＨＷＳｅ_２，及びＨＭｏＴｅ_２のようなＨの源を含む。電解質は、水溶性ＫＯＨのような塩基水溶液のようなＯＨ⁻導体であるかもしれないが、ここで、塩基は、ＯＨ，Ｋ，又は２Ｋ^＋のような触媒の源又は触媒として機能する。セルは、ＣＧ３４０１のようなＯＨ⁻透過性のセパレータを更に含むかもしれない。典型的なセルは、［ＣｏＯＯＨのようなＨインターカレーションされたカルコゲニド，ＮｉＯＯＨ，ＨＴｉＳ_２，ＨＺｒＳ_２，ＨＨｆＳ_２，ＨＴａＳ_２，ＨＴｅＳ_２，ＨＲｅＳ_２，ＨＰｔＳ_２，ＨＳｎＳ_２，ＨＳｎＳＳｅ，ＨＴｉＳｅ_２，ＨＺｒＳｅ_２，ＨＨｆＳｅ_２，ＨＴａＳｅ_２，ＨＴｅＳｅ_２，ＨＲｅＳｅ_２，ＨＰｔＳｅ_２，ＨＳｎＳｅ_２，ＨＴｉＴｅ_２，ＨＺｒＴｅ_２，ＨＶＴｅ_２，ＨＮｂＴｅ_２，ＨＴａＴｅ_２，ＨＭｏＴｅ_２，ＨＷＴｅ_２，ＨＣｏＴｅ_２，ＨＲｈＴｅ_２，ＨＩｒＴｅ_２，ＨＮｉＴｅ_２，ＨＰｄＴｅ_２，ＨＰｔＴｅ_２，ＨＳｉＴｅ_２，ＨＮｂＳ_２，ＨＴａＳ_２，ＨＭｏＳ_２，ＨＷＳ_２，ＨＮｂＳｅ_２，ＨＮｂＳｅ_３，ＨＴａＳｅ_２，ＨＭｏＳｅ_２，ＨＶＳｅ_２，ＨＷＳｅ_２，及びＨＭｏＴｅ_２／ＫＯＨ（６．５Ｍから飽和迄）＋ＣＧ３４０１／ＣＢのようなカーボン，ＰｔＣ，ＰｄＣ，ＣＢ（Ｈ_２），ＰｔＣ（Ｈ_２），ＰｄＣ（Ｈ_２），ＴｉＣのような炭化物，及びＴｉＢ_２のようなホウ化物］である。アノードは、水素を供給することにより又は電気分解により再生されるかもしれない。

典型的な電解質単独、ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のような塩基との組合せ、及び如何なる組合せにおいても、それらは、アルカリ又はアンモニウム・ハロゲン化物、硝酸塩、過塩素酸塩、炭酸塩、Ｎａ_３ＰＯ_４又はＫ_３ＰＯ_４，及び硫酸塩、及び、ＮＨ_４Ｘ，Ｘ＝ハライド、硝酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、及び硫酸塩である。電解質は、混合物、又は水酸化物、又は、ハライド、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、及び硝酸塩のような他の塩を含むかもしれない。一般に、典型的な妥当な溶質は、単独又は組合せで、ＭＮＯ_３，ＭＮＯ，ＭＮＯ_２，ＭＸ（Ｘ＝ハライド），ＮＨ_３，ＭＯＨ，Ｍ_２Ｓ，ＭＨＳ，Ｍ_２ＣＯ_３，ＭＨＣＯ_３，Ｍ_２ＳＯ_４，ＭＨＳＯ_４，Ｍ_３ＰＯ_４，Ｍ_２ＨＰＯ_４，ＭＨ_２ＰＯ_４，Ｍ_２ＭｏＯ_４，ＭＮｂＯ_３，Ｍ_２Ｂ_４Ｏ_７（Ｍテトラボレート），ＭＢＯ_２，Ｍ_２ＷＯ_４，Ｍ_２ＣｒＯ_４，Ｍ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｍ_２ＴｉＯ_３，ＭＺｒＯ_３，ＭＡｌＯ_２，ＭＣｏＯ_２，ＭＧａＯ_２，Ｍ_２ＧｅＯ_３，ＭＭｎ_２Ｏ_４，Ｍ_４ＳｉＯ_４，Ｍ_２ＳｉＯ_３，ＭＴａＯ_３，ＭＶＯ_３，ＭＩＯ_３，ＭＦｅＯ_２，ＭＩＯ_４，ＭＣｌＯ_４，ＭＳｃＯ_ｎ，ＭＴｉＯ_ｎ，ＭＶＯ_ｎ，ＭＣｒＯ_ｎ，ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＭＦｅＯ_ｎ，ＭＣｏＯ_ｎ，ＭＮｉＯ_ｎ，ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＭＣｕＯ_ｎ，ＭＺｎＯ_ｎ，（Ｍはアルカリ又はアンモニウム及びｎ＝１，２，３，又は４），及びＭアセテート又はＭカルボキシレートのような有機塩基性塩である。電解質はまた、これらと、アルカリ土類、遷移金属、内部の遷移金属、希有土類、及び、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｂｉ，及びＴｅのような第ＩＩＩ，ＩＶ，Ｖ，及びＶＩ族の他のカチオンのような溶媒において溶解可能な如何なるカチオンを持つ他のアニオンと、を含むかもしれない。他の妥当な溶質は、Ｈ_２Ｏ_２（約＜０．００１ｗｔ％から１０ｗｔ％の希釈した量において連続的に添加されてもよい）のような過酸化物，アミド，尿素のような有機塩基又は類似の化合物又は塩及びグアニジン又は類似の化合物でアルギニン又はその塩の誘導体のようなもの，イミド，アミナール又はアミノアセタール，ヘミアミナール，エタノールのようなＲＯＨ（Ｒは有機基又はアルコール），エリスリトール（Ｃ_４Ｈ_１０Ｏ_４），ガラクチトール（ズルシトール），（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−ヘキサン−１，２，３，４，５，６−ヘキソール（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−ｈｅｘａｎｅ−１，２，３，４，５，６−ｈｅｘｏｌ），又はポリビニルアルコール（ＰＶＡ），チオールのようなＲＳＨ，ＭＳＨ，ＭＨＳｅ，ＭＨＴｅ，Ｍ_ｘＨ_ｙＸ_ｚ（Ｘは酸性陰イオン，Ｍは、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、又は希土類金属のような金属，及びｘ，ｙ，ｚは０を含む整数）である。濃度は、飽和溶液のように、如何なる所望のものでよい。妥当な溶質は、水溶液のような溶液を塩基性にする。好ましくは、ＯＨ⁻の濃度は高い。典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ／ＫＯＨ，ＫＨＳ，Ｋ_２Ｓ，Ｋ_３ＰＯ_４，Ｋ_２ＨＰＯ_４，ＫＨ_２ＰＯ_４，Ｋ_２ＳＯ_４，ＫＨＳＯ_４，Ｋ_２ＣＯ_３，ＫＨＣＯ_３，ＫＸ（Ｘ＝ハロゲン），ＫＮＯ_３，ＫＮＯ，ＫＮＯ_２，Ｋ_２ＭｏＯ_４，Ｋ_２ＣｒＯ_４，Ｋ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，ＫＡｌＯ_２，ＮＨ_３，ＫＮｂＯ_３，Ｋ_２Ｂ_４Ｏ_７，ＫＢＯ_２，Ｋ_２ＷＯ_４，Ｋ_２ＴｉＯ_３，ＫＺｒＯ_３，ＫＣｏＯ_２，ＫＧａＯ_２，Ｋ_２ＧｅＯ_３，ＫＭｎ_２Ｏ_４，Ｋ_４ＳｉＯ_４，Ｋ_２ＳｉＯ_３，ＫＴａＯ_３，ＫＶＯ_３，ＫＩＯ_３，ＫＦｅＯ_２，ＫＩＯ_４，ＫＣｌＯ_４，ＫＳｃＯ_ｎ，ＫＴｉＯ_ｎ，ＫＶＯ_ｎ，ＫＣｒＯ_ｎ，ＫＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＫＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＫＦｅＯ_ｎ，ＫＣｏＯ_ｎ，ＫＮｉＯ_ｎ，ＫＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＫＣｕＯ_ｎ，及びＫＺｎＯ_ｎ，（ｎ＝１，２，３，または４）（全飽和）の群からの溶質の組合せ又は単独の溶質を含む水溶液、及びカクテタート（Ｋａｃｔｅｔａｔｅ），希釈Ｈ_２Ｏ_２添加剤，希釈ＣｏＣｌ_２添加剤，アミド，有機塩基，尿素，グアニジン，イミド，アミナール又はアミノアセタール，ヘミアミナール，エタノールのようなＲＯＨ（Ｒは有機基又はアルコール），エリスリトール（Ｃ_４Ｈ_１０Ｏ_４），ガラクチトール（ズルシトール），（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−ヘキサン−１，２，３，４，５，６−ヘキソール（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−ｈｅｘａｎｅ−１，２，３，４，５，６−ｈｅｘｏｌ），又はポリビニルアルコール（ＰＶＡ），チオールのようなＲＳＨ，ＭＳＨ，ＭＨＳｅ，及びＭＨＴｅ／ＣＢ又はＣｏＯＯＨ＋ＣＢ］である。電解質濃度は、如何なる所望の濃度であってよいが、望ましくは、０．１Ｍから飽和までのように高い。

本開示の他の溶媒又は混合物、及び、ミルズのここに参照され組み込まれる米国０９／０５２０７２の有機溶媒セクションのそれらは水溶性の溶液と同様に、また、それと組み合わせて使用でされてよい。溶媒は極性があるかもしれない。溶媒は、純水、又は、水とアルコール、アミン、ケトン、エーテル、ニトリル、及びカルボン酸の少なくとも１つのような１又はそれ以上の追加の溶媒との混合物を含むかもしれない。妥当な典型的な溶媒は、水、エタノール又はメタノールのようなアルコール、ジオキソラン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ベンゾジオキサン（ＢＤＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、メタノール、エタノール、三ブチルアミンのようなアミン、三エチルヤムイモイン、三イソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、イソキノリン、インドール、２，６−ルチジン（２，６−ジメチルピリジン）、２−ピコリン（２−メチルピリジン）、及びアセトニトリル及びプロパンニトリルのようなとニトリル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、アセトン、及びジメチル・アセトン−１，３−ジカルボキシレートの少なくとも１つの群から選択されるかもしれない。典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ／水、アルコール、アミン、ケトン、エーテル、及びニトリルの群からの溶媒又は溶媒の組合せと、ＫＯＨ，Ｋ_３ＰＯ_４，Ｋ_２ＨＰＯ_４，ＫＨ_２ＰＯ_４，Ｋ_２ＳＯ_４，ＫＨＳＯ_４，Ｋ_２ＣＯ_３，Ｋ_２Ｃ_２Ｏ_４，ＫＨＣＯ_３，ＫＸ（Ｘ＝ｈａｌｉｄｅ），ＫＮＯ_３，ＫＮＯ，ＫＮＯ_２，Ｋ_２ＭｏＯ_４，Ｋ_２ＣｒＯ_４，Ｋ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，ＫＡｌＯ_２，ＮＨ_３，Ｋ_２Ｓ，ＫＨＳ，ＫＮｂＯ_３，Ｋ_２Ｂ_４Ｏ_７，ＫＢＯ_２，Ｋ_２ＷＯ_４，Ｋ_２ＴｉＯ_３，ＫＺｒＯ_３，ＫＣｏＯ_２，ＫＧａＯ_２，Ｋ_２ＧｅＯ_３，ＫＭｎ_２Ｏ_４，Ｋ_４ＳｉＯ_４，Ｋ_２ＳｉＯ_３，ＫＴａＯ_３，ＫＶＯ_３，ＫＩＯ_３，ＫＦｅＯ_２，ＫＩＯ_４，ＫＣｌＯ_４，ＫＳｃＯ_ｎ，ＫＴｉＯ_ｎ，ＫＶＯ_ｎ，ＫＣｒＯ_ｎ，ＫＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＫＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＫＦｅＯ_ｎ，ＫＣｏＯ_ｎ，ＫＮｉＯ_ｎ，ＫＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＫＣｕＯ_ｎ，及びＫＺｎＯ_ｎ，（ｎ＝１，２，３，または４）（全飽和）及びカクテタート（Ｋａｃｔｅｔａｔｅ）の群からの溶質又は少子の組合せと、を含む溶液／ＣＢ又はＣｏＯＯＨ＋ＣＢ］、及び、［Ｎｉ／ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）１から１０％Ｈ_２Ｏ＋イオン性の液体溶媒又は、炭酸ジメチル（ＤＭＣ）、炭酸エチレン（ＥＣ）、炭酸ジエチル（ＤＥＣ）、エタノール、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ベンゾジオキサン（ＢＤＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，３−ジオキソランのようなジオキソランのような、有機溶媒／ＮｉＯ断続的な電気分解反応の浸漬されたカソード］である。更なる典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／Ｐｔ／Ｔｉ］，［Ｒ−Ｎｉ／Ｋ_２ＳＯ_４（飽和水溶液）／Ｐｔ／Ｔｉ］，［ＰｔＣ（Ｈ_２）／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＭｎＯＯＨＣＢ］，［ＰｔＣ（Ｈ_２）／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＦｅＰＯ_４ＣＢ］，［Ｒ−Ｎｉ／ＮＨ_４ＯＨ（飽和水溶液）／ＣＢ］である。

カソード及びアノード材料は、反応速度を向上しそれによってパワーを向上するように非常に高い表面積を持つかもしれない。他の好適なカソードは、炭化物、ホウ化物、窒化物、及びニトリルのような支持体を含む。アノードは、コンパートメントの１つのように支持体を含むかもしれない。本開示の異なる実施例において、支持体は、フッ素化炭素支持体であるかもしれない。典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ，ラネ−コバルト（Ｒ−Ｃｏ），ラネ−銅（Ｒ−Ｃｕ），ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，ＣｏＨ，ＣｒＨ，ＦｅＨ，ＭｎＨ，ＮｉＨ，ＳｃＨ，ＶＨ，ＣｕＨ，ＺｎＨ，ＡｇＨ／ＫＯＨまたはＮａＯＨ（飽和）／カーボン、炭化物、ホウ化物、窒化物、ＣＢ，ＰｄＣ，ＰｔＣ，ＴｉＣ，Ｔｉ_３ＳｉＣ_２，ＹＣ_２，ＴａＣ，Ｍｏ_２Ｃ，ＳｉＣ，ＷＣ，Ｃ，Ｂ_４Ｃ，ＨｆＣ，Ｃｒ_３Ｃ_２，ＺｒＣ，ＣｒＢ_２，ＶＣ，ＺｒＢ_２，ＭｇＢ_２，ＮｉＢ_２，ＮｂＣ，ＴｉＢ_２，六方晶系窒化ホウ素（ｈＢＮ），及びＴｉＣＮ］である。アノードは、Ｚｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｃｄ，又はＣｏのような金属、又は、ＬａＮｉ_５Ｈ_６のような水素化物、及び、カーボン、炭化物、ホウ化物、窒化物、及びニトリル，ＣＢ，蒸気カーボン，活性炭，ＰｄＣ，ＰｔＣ，ＴｉＣ，Ｔｉ_３ＳｉＣ_２，ＹＣ_２，ＴａＣ，Ｍｏ_２Ｃ，ＳｉＣ，ＷＣ，Ｃ，Ｂ_４Ｃ，ＨｆＣ，Ｃｒ_３Ｃ_２，ＺｒＣ，ＣｒＢ_２，ＶＣ，ＺｒＢ_２，ＭｇＢ_２，ＮｉＢ_２，ＮｂＣ，ＴｉＢ_２，六方晶系の窒化ホウ素（ｈＢＮ），及びＴｉＣＮのような支持体を含むかもしれない。

水和ＭＯＨ（Ｍ＝Ｋなどのアルカリ）は、式（１２３）と（９４）で与えられるのと同じメカニズムにより、低い速度で、ハイドリノを形成するために直接反応してもよく、その式は、ＯＨ⁻とＨとのＨ_２Ｏに対する酸化反応とＨ_２ＯのＨとＯＨ⁻に対する還元反応を含む。ＯＨは、表３に示すＭＨ型触媒として働いてもよく、または、Ｈは、別のＨ向けの触媒として働いてもよい。一実施形態では、ＨをＯＨ⁻のアノードでの酸化反応に供給する方式を使用することにより、および、カソードでの水の還元を促進するために大きな表面積を持つカソードを使用することにより、反応速度が劇的に上昇し、それにより、加速された反応が、電気を生成するために利用される。

ハーフセル反応および本開示のＣＩＨＴセルの正味の反応の少なくとも１つが、熱エネルギーの生成のための反応を含んでもよい。実施形態では、熱および電気エネルギーの両方を生成してもよい。熱のパワーは、現在の開示のシステムや関連技術で公知のシステムによって電気に変換してもよい。

１つの実施例において、ＯＨ⁻は、酸化があると生じるＯＨ及びＨ_２Ｏ触媒の少なくとも１つの源である。例えば、ＯＨ⁻は、アノードで酸化され、Ｈ_２Ｏ触媒及びハイドリノを形成する協調反応において更に反応するＯＨを形成するかもしれない。アノード半電池反応物は、ＮａＯＨのような塩基を含むかもしれない。アノード半電池反応物は、水素化物、水素、及び解離剤のようなＨ源と、又は、水素及び水素透過性の膜を更に含むかもしれない。この膜は、例えば、Ｎｉ（Ｈ_２），Ｖ（Ｈ_２），Ｔｉ（Ｈ_２），Ｆｅ（Ｈ_２），又はＮｂ（Ｈ_２）膜又はチューブで、これはアノードのような電極であるかもしれない。セルは、移動性のイオンがＮａ^＋であるような場合において、ＮａＢＡＳＥのようなＢＡＳＥのような固体電解質塩橋を含むかもしれない。塩基性のＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のＭ^＋は、少なくとも１つのカソード反応物と続いて、協調的に反応するかもしれない、Ｎａに還元される、ＢＡＳＥのような塩橋を通して、移動する。反応物は、セル反応物の融点以上で維持される上昇されたセル温度で溶融されるかもしれない。カソード半電池反応物は、還元された移動性のイオンと反応する少なくとも１つの化合物を含む。生成ナトリウム化合物は、アノード半電池反応物のナトリウム化合物よりも安定であるかもしれない。カソード生成物はＮａＦかもしれない。カソード反応物は、フルオロカーボン、ＸｅＦ_２，ＢＦ_３，ＮＦ_３，ＳＦ_６，Ｎａ_２ＳｉＦ_６，ＰＦ_５，及び本開示のそれらのように類似の化合物のようなフッ素源を含むかもしれない。別のハロゲンは、カソードでＦを置換するかもしれない。例えば、カソード反応物は、Ｉ_２を含むかもしれない。他のカソード反応物は、遷移金属、内部遷移金属、希土類、Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，そしてＴｅハロゲン化物、例えば、ＮｉＣｌ_２，ＦｅＣｌ_２，ＭｎＩ_２，ＡｇＣｌ，ＥｕＢｒ_２，ＥｕＢｒ_３，及び本開示の固体燃料の他のハロゲン化物、のような金属ハロゲン化物を含む。何れかのセルコンパートメントは、アルカリハロゲン化物塩の混合物のような共晶塩のような溶融塩電解質を含むかもしれない。カソード反応物は、遷移金属ハロゲン化物を含むかもしれないハロゲン化物の混合物のような共晶塩であるかもしれない。遷移金属のような金属を含む妥当な共晶塩は、ＣａＣｌ_２−ＣｏＣｌ_２，ＣａＣｌ_２−ＺｎＣｌ_２，ＣｅＣｌ_３−ＲｂＣｌ，ＣｏＣｌ_２−ＭｇＣｌ_２，ＦｅＣｌ_２−ＭｎＣｌ_２，ＦｅＣｌ_２−ＭｎＣｌ_２，ＫＡｌＣｌ_４−ＮａＡｌＣｌ_４，ＡｌＣｌ_３−ＣａＣｌ_２，ＡｌＣｌ_３−ＭｇＣｌ_２，ＮａＣｌ−ＰｂＣｌ_２，ＣｏＣｌ_２−ＦｅＣｌ_２，及び表４にある他のものである。典型的なセルは、［ＮａＯＨ，ＮａＨＳ，ＮａＣｌ，Ｒ−Ｎｉ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，ＣｅＨ_２，ＬａＨ_２，ＰｔＣ（Ｈ_２），ＰｄＣ（Ｈ_２），Ｎｉ（Ｈ_２），Ｖ（Ｈ_２），Ｔｉ（Ｈ_２），Ｆｅ（Ｈ_２），又はＮｂ（Ｈ_２）の群からの少なくとも１つ／ＢＡＳＥ／Ｉ_２，Ｉ_２＋ＮａＩ，フルオロカーボン，ＸｅＦ_２，ＢＦ_３，ＮＦ_３，ＳＦ_６，Ｎａ_２ＳｉＦ_６，ＰＦ_５，遷移金属、内部遷移金属、希土類のような金属ハロゲン化物、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，及びＮｉＣｌ_２のようなＴｅハロゲン化物，ＦｅＣｌ_２，ＭｎＩ_２，ＡｇＣｌ，ＥｕＢｒ_２，そしてＥｕＢｒ_３，ＣａＣｌ_２−ＣｏＣｌ_２のような共晶塩，ＣａＣｌ_２−ＺｎＣｌ_２，ＣｅＣｌ_３−ＲｂＣｌ，ＣｏＣｌ_２−ＭｇＣｌ_２，ＦｅＣｌ_２−ＭｎＣｌ_２，ＦｅＣｌ_２−ＭｎＣｌ_２，ＫＡｌＣｌ_４−ＮａＡｌＣｌ_４，ＡｌＣｌ_３−ＣａＣｌ_２，ＡｌＣｌ_３−ＭｇＣｌ_２，ＮａＣｌ−ＰｂＣｌ_２，ＣｏＣｌ_２−ＦｅＣｌ_２，及び表４の他の物］及び［ＮａＯＨ＋ＰｔＣ（Ｈ_２），ＰｄＣ（Ｈ_２），Ｎｉ（Ｈ_２），Ｖ（Ｈ_２），Ｔｉ（Ｈ_２），Ｆｅ（Ｈ_２），又はＮｂ（Ｈ_２）／ＢＡＳＥ／ＮａＸ（Ｘは、ハライド、水酸化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩のようなアニオン）＋ＮａＣｌ，ＡｇＣｌ，ＡｌＣｌ_３，ＡｓＣｌ_３，ＡｕＣｌ，ＡｕＣｌ_３，ＢａＣｌ_２，ＢｅＣｌ_２，ＢｉＣｌ_３，ＣａＣｌ_２，ＣｄＣｌ_３，ＣｅＣｌ_３，ＣｏＣｌ_２，ＣｒＣｌ_２，ＣｓＣｌ，ＣｕＣｌ，ＣｕＣｌ_２，ＥｕＣｌ_３，ＦｅＣｌ_２，ＦｅＣｌ_３，ＧａＣｌ_３，ＧｄＣｌ_３，ＧｅＣｌ_４，ＨｆＣｌ_４，ＨｇＣｌ，ＨｇＣｌ_２，ＩｎＣｌ，ＩｎＣｌ_２，ＩｎＣｌ_３，ＩｒＣｌ，ＩｒＣｌ_２，ＫＣｌ，ＫＡｇＣｌ_２，ＫＡｌＣｌ_４，Ｋ_３ＡｌＣｌ_６，ＬａＣｌ_３，ＬｉＣｌ，ＭｇＣｌ_２，ＭｎＣｌ_２，ＭｏＣｌ_４，ＭｏＣｌ_５，ＭｏＣｌ_６，ＮａＡｌＣｌ_４，Ｎａ_３ＡｌＣｌ_６，ＮｂＣｌ_５，ＮｄＣｌ_３，ＮｉＣｌ_２，ＯｓＣｌ_３，ＯｓＣｌ_４，ＰｂＣｌ_２，ＰｄＣｌ_２，ＰｒＣｌ_３，ＰｔＣｌ_２，ＰｔＣｌ_４，ＰｕＣｌ_３，ＲｂＣｌ，ＲｅＣｌ_３，ＲｈＣｌ，ＲｈＣｌ_３，ＲｕＣｌ_３，ＳｂＣｌ_３，ＳｂＣｌ_５，ＳｃＣｌ_３，ＳｉＣｌ_４，ＳｎＣｌ_２，ＳｎＣｌ_４，ＳｒＣｌ_２，ＴｈＣｌ_４，ＴｉＣｌ_２，ＴｉＣｌ_３，ＴｌＣｌ，ＵＣｌ_３，ＵＣｌ_４，ＶＣｌ_４，ＷＣｌ_６，ＹＣｌ_３，ＺｎＣｌ_２，及びＺｒＣｌ_４の群から１又はそれ以上］である。別のアルカリ金属は、Ｎａを置換するかもしれない。他のハライドは、Ｃｌを置換するかもしれない。ＢＡＳＥは移動イオンとマッチするかもしれない。

セルは、電気分解により又は機械的に再生されるかもしれない。例えば、セル［Ｎｉ（Ｈ_２１ａｔｍ）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＭｇＣｌ_２共晶］は、実施例において、Ｈ_２Ｏを生成し、半電池からベントで排出する。カソードで、移動性Ｎａ^＋のからのＮａは、ＭｇＣｌ_２と反応しＮａＣｌ及びＭｇを形成する。代表的なセルの反応は次の通りである。
アノード
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２ → Ｈ_２Ｏ＋Ｎａ^＋＋ｅ⁻ （１３６）
カソード
Ｎａ^＋＋ｅ⁻＋１／２ＭｇＣｌ_２ → ＮａＣｌ＋１／２Ｍｇ（１３７）
ハーフセルアノードは、さらに、ナトリウムハロゲン化物などのアルカリまたはアルカリ土類ハロゲン化物の塩を含有してもよい。放電の後、アノードは、水または水の供給源を添加することによって再生してもよい。セルは、また、式（１３７）で与えられた反応の自由エネルギーが、＋４６ｋＪ／モル（５００℃）であるので、Ｈ_２Ｏの付加により、逆に自発的に動作することがある。水の供給源は水蒸気であってもよく、そこでは、ハーフセルは封止される。あるいは、水の供給源は水和物であってもよい。典型的な水和物は下記である：リン酸マグネシウム五または八水和物、硫酸マグネシウム七水和物、ナトリウム塩水和物、アルミニウム塩水和物、ならびにＳｒＢｒ_２、ＳｒＩ_２、ＢａＢｒ_２またはＢａＩ_２などのアルカリ土類ハロゲン化物水和物。供給源は、ＮａＯＨを含有する溶融塩の混合物を含んでもよい。代替の典型的な機械的な再生方法において、ＮａＣｌがＭｇと反応し、ＭｇＣｌ_２とＮａを生成するのにともない、ＭｇＣｌ_２はＮａを蒸発させることによって再生される。Ｎａを水と反応させ、再生アノード反応物であるＮａＯＨおよびＨ_２を形成することができる。セルは、フローシステムを備えてもよく、そこでは、カソードとアノード反応物が対応するハーフセルを流れ、別個のコンパートメントで再生され、フローの流れに戻される。また、Ｎａを、セル［ＮＡ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］で、アノード反応物として、直接使用してもよい。セルは、カスケード接続してもよい。

一実施形態では、アノードは、ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ金属）などの塩基を含み、そこでは、触媒または触媒源は、触媒としての役割を果たしてもよいＨ_２Ｏを形成するたならびにめにＨと反応するＯＨであってもよい。カソードは、さらに、下記を含んでよい：希土類などの水素化物などの水素源、遷移金属水素化物、または本開示の他のもの、または、透過膜とＮｉ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）などの水素ガスおよび本開示の他のもの。触媒または触媒源は、ＯＨ⁻の酸化によって形成されてもよい。Ｈとのさらなる反応を伴うカソード酸化生成物は、Ｈ_２Ｏであってもよい。セルは、ＢＡＳＥ（ベーターアルミナ）などの固体電解質であってよい電解質と塩橋のうちの少なくとも１つを含んでもよい。カソードは、溶液、合金、混合物または化合物を形成するために、下記のうちの少なくとも１つを含んでよい：元素、複数元素、化合物、複数化合物、金属、合金、ならびに移動イオンまたはＭ^＋またはＭなどの還元された移動イオンと反応してもよいそれらの混合物。カソードは、溶融した元素または化合物を含んでもよい。好適な溶融元素は、下記のうちの少なくとも１つである：Ｉｎ、Ｇａ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｐ、Ｓ、Ｉ、Ｓｅ、ＢｉおよびＡｓ。ベータアルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）などの塩橋を介した移動イオンとしてＮａ^＋を有する典型的な実施形態では、カソードは、溶融硫黄を含み、カソード生成物はＮａ_２Ｓである。典型的なセルは下記である：［ＬａＨ_２、ＣｅＨ_２，、ＺｒＨ_２、ＴｉＨ_２またはＮｉ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）などのＮａＯＨ＋Ｈ源／ＢＡＳＥ／下記のうちの少なくとも１つのＳ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｐ、Ｉ、Ｓｅ、ＢｉおよびＡｓ，任意に、支持体］。別の実施形態では、Ｈ_２または水素化物などの還元剤は、アノードに制限されるので、セルは、ＢＡＳＥなどの塩橋に対して不在となり、そして、ハーフセル反応物間の反応は、他の点において、エネルギー的にまたは動力学的に好ましくない。塩橋を有さない実施形態では、アノードハーフセルの反応物は、発エルゴン的に、カソードハーフセル反応物とは反応しない。典型的なセルは下記である：［ＬａＨ_２、ＣｅＨ_２、ＺｒＨ_２、ＴｉＨ_２またはＮｉ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）などのＨ源／ＮａＯＨなどの水酸化物溶融塩／下記のうちの少なくとも１つＳ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｐ、Ｉ、Ｓｅ、Ｂｉ、Ａｓおよび合金、任意に、支持体］。

一実施形態では、触媒を形成する反応は、別のＨ向けの触媒として機能するＨ_２Ｏを形成する反応を含む。エネルギーは、熱や光または電気として放出されてもよく、そこでは、反応はハーフセル反応を含む。反応物が触媒として働くＨ_２Ｏを形成する一実施形態において、反応物は、Ｈ_２Ｏに酸化されてもよいＯＨ⁻を含んでもよい。典型的な反応は、本開示に記載されている。反応はＣＩＨＴセルまたは電気分解セルで起こってもよい。触媒反応は、生成物への遷移状態のＨ_２Ｏに対して好都合でありうる。セルはさらに、原子状Ｈ源を含む。供給源は、電気分解、水酸化物、または本開示で与えられた他の供給源によって生成される水素化物、水素ガス、水素であってもよい。例えば、アノードは、ＺｎまたはＳｎなどの金属を含んでもよく、そこでは、ハーフセル反応は、ＯＨ⁻の水と金属酸化物への酸化を含む。反応は、また、生成されるＨ_２Ｏの存在下の原子状Ｈを形成し、そこでは、Ｈ_２Ｏは、ハイドリノを形成するための触媒として機能する。アノードは、ＬａＮｉ_５Ｈ_６などの水素化物を含んでいてもよく、そこでは、ハーフセル反応は、水素化物によって提供されるＨにより、ＯＨ⁻のＨ_２Ｏへの酸化を含む。酸化反応は、形成されたＨ_２Ｏによってハイドリノに触媒される水素化物からのＨの存在下で起こる。アノードは、金属と水素化物との組み合わせを含んでもよく、そこでは、ＯＨ⁻は、金属酸化物または水酸化物の形成によって、Ｈ_２Ｏへ酸化され、Ｈは水素化物によって提供される。Ｈは、触媒として機能し、形成されるＨ_２Ｏによってハイドリノに触媒される。別の実施形態では、ＣＯ_２などの酸化剤またはＲ−ＮｉのＺｎまたはＡｌなどの還元剤は、中間体としてＨ_２ＯおよびＨを形成するためにＯＨ⁻と反応してもよく、そこでは、Ｈの一部が、反応中にＨ_２Ｏによってハイドリノに触媒される。別の実施形態では、Ｈ_２ＯおよびＨの少なくとも１つは、下記の少なくとも１つを含む化学種の少なくとも１つの還元反応によって形成してもよい；Ｈ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｏ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻およびＯ_２ ^２−などのＯおよびＨ。別の実施形態では、Ｈ_２ＯおよびＨの少なくとも１つは、下記の少なくとも１つを含む化学種の少なくとも１つを伴う酸化反応によって形成してもよい；Ｈ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｏ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻およびＯ_２ ^２−などのＯおよびＨ。反応は、本開示のものの１つを含んでもよい。反応はＣＩＨＴセルまたは電気分解セルで起こってもよい。反応は、プロトン交換膜、リン酸、固体酸化物型燃料セルなどの燃料セルで起こるものであってもよい。反応は、ＣＩＨＴセルアノードで起こってもよい。反応は、ＣＩＨＴセルカソードで起こってもよい。代表的なカソード反応はＨ_２Ｏ触媒およびＨを形成するか、または、カソードおよびアノード（逆方向反応）の一方または両方で、Ｈ_２Ｏ触媒およびＨを形成し、溶解したＨ_２Ｏにより水性または溶融媒体で発生するかもしれない中間体種を形成するところの、下記である。

Ｏ_２＋４Ｈ^＋＋４ｅ⁻ → ２Ｈ_２Ｏ（１３８）
Ｏ_２＋２Ｈ^＋＋２ｅ⁻ → Ｈ_２Ｏ_２（１３９）
Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋４ｅ⁻ → ４ＯＨ⁻ （１４０）
Ｏ_２＋Ｈ^＋＋ｅ⁻ → ＨＯ_２（１４１）
Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＨＯ_２ ⁻＋ＯＨ⁻ （１４２）
Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → Ｈ_２Ｏ_２＋２ＯＨ⁻ （１４３）
Ｏ_２＋ｅ⁻ → Ｏ_２ ⁻ （１４４）
ＨＯ_２ ⁻＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＋３ＯＨ⁻ （１４５）
２ＨＯ_２ ⁻ → ２ＯＨ⁻＋Ｏ_２（１４６）
Ｈ_２Ｏ_２＋２Ｈ^＋＋２ｅ⁻ → ２Ｈ_２Ｏ（１４７）
２Ｈ_２Ｏ_２ → ２Ｈ_２Ｏ＋Ｏ_２（１４８）
２Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → Ｈ_２＋２ＯＨ⁻ （１４９）
Ｈ_２Ｏ＋ＨＯ_２ ⁻ → Ｈ_２＋Ｏ_２＋ＯＨ⁻ （１５０）
Ｏ_２＋２ＯＨ⁻ → ２ＨＯ_２ ⁻ （１５１）
ＨＯ_２ ⁻＋Ｈ_２Ｏ → Ｈ_２＋Ｏ_２＋ＯＨ⁻ （１５２）
Ｈ_２Ｏ → ２Ｈ_２＋Ｏ_２（１５３）

ハイドリノに加えて、触媒として機能するＨ_２Ｏの生成物は、Ｈ_２とＯ_２に再結合する可能性があるイオン化Ｈ_２Ｏであり；従って、Ｈ_２Ｏ電気分解は、商業的に使用することができるこれらのガスを生成してもよい。Ｈ_２のこの供給源は、ＣＩＨＴセルの電力出力を維持するために使用してもよい。それは、アノード水素化物または金属などのＣＩＨＴハーフセル反応物を再生成するために、直接または反応物として、Ｈ_２を供給してもよい。
別の実施例において、Ｈ_２Ｏ及びＯ_２ ^２−及びＯ_３ ^２−＋のような触媒の源又は触媒は、Ｏ_２とのＯＨ⁻の反応によって形成されるかもしれない。例示的な反応は以下の通りである。
１／２Ｏ_２＋２ＯＨ⁻ → Ｏ_２ ^２−＋Ｈ_２Ｏ（１５４）
Ｏ_２＋２ＯＨ⁻ → Ｏ_３ ^２−＋Ｈ_２Ｏ（１５５）
３／２Ｏ_２＋２ＯＨ⁻ → ２Ｏ_２ ⁻＋Ｈ_２Ｏ（１５６）

一実施形態では、還元酸素種は、ＣＩＨＴセルのアノードで酸化することができるまたは固体燃料反応で化学的に生成することができるＯＨ⁻などのＨＯの供給源である。ＣＩＨＴセルのアノード反応物などのセル反応物は、さらに、Ｈ_２を含む。Ｈとの反応によってハイドリノを形成するために触媒として作用するＨ_２Ｏ向けの活性状態でＨおよびＨ_２Ｏを形成するために、Ｈ_２はＯＨと反応する。また、反応物は、水素化物またはＨ_２と解離子として、Ｈ源を含み、それにより、Ｈは、さらに、ハイドリノを形成するために別のＨと反応して活性Ｈ_２Ｏハイドリノ触媒を形成するために、ＯＨと反応する。典型的なセルは下記である：［Ｍ＋Ｈ_２／ＫＯＨ（飽和水溶液）／蒸気炭素＋Ｏ_２］および［Ｍ＋Ｈ_２＋ＰｔＣまたはＰｄＣ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／蒸気炭素などの解離子＋Ｏ_２］、ただし、Ｍ＝Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｏ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｃｄ、Ｐｂ、ＳｂおよびＩｎ。熱反応器の一実施形態では、水素と酸素は、ハイドリノを形成するように反応するＨ_２Ｏ触媒およびＨを形成するために金属表面で結合される。金属は、ハイドリノを形成するためにＨ向けの触媒として機能する水を形成するために、ＨおよびＯの酸化的組換えを促進し、そこでは、酸化金属が、水酸化物または酸化物を形成してもよい。好適で、典型的な金属は、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｏ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｃｄ、Ｐｂ、ＳｂおよびＩｎである。

一実施形態では、アノードとカソードハーフセル反応物間の協調反応が、ＨとＨ_２Ｏ触媒との間のエネルギーの一致の少なくとも１つを引き起こし、それにより、ハイドリノが形成され、ハイドリノ触媒反応のための活性化エネルギーを提供する。例示的な実施形態では、蒸気炭素（ＳＣ）またはカーボンブラック（ＣＢ）などの、［Ｍ／ＫＯＨ（飽和数溶液）／Ｈ_２ＯまたはＯ_２還元触媒＋空気］；ただし、Ｍ＝Ｚｎ、Ｃｏ、Ｐｂ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｃｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、ＩｎまたはＧｅ、Ｈ_２ＯまたはＯ_２還元触媒を含むＣＩＨＴは、エネルギーの一致を引き起こすか、活性化エネルギーを提供するの少なくとも１つとして働く。一実施形態では、活性触媒状態のＨ_２Ｏを形成する反応物とＨは、熱エネルギーを発生させるように働いてもよい。ハーフセル反応は、直接的に熱エネルギーの放出を引き起こすために混合してもよい。典型的な反応物は、Ｍ＋ＫＯＨ（飽和水溶液）＋Ｈ_２ＯまたはＯ_２還元触媒＋空気の混合物であってもよく；ＭはＺｎ、Ｃｏ、Ｐｂ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｃｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、ＩｎまたはＧｅであってよく、Ｈ_２ＯまたはＯ_２還元触媒は、炭素、炭化物、ホウ化物、またはニトリルであってよい。別の実施形態では、アノードは、Ｚｎなどの金属Ｍ’であってよく、カソードは、ＬａＮｉ_５Ｈ_６などの金属水素化物ＭＨ_ｘであってもよい。典型的なＣＩＨＴセルは、［Ｚｎ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｒ−ＮｉまたはＰｔＣ＋大気またはＯ_２］を備えてもよい。典型的な一般的な電極反応は、次式で表される。
カソード：
ＭＨ_ｘ＋１／２Ｏ_２＋ｅ⁻ → ＭＨ_ｘ−１＋ＯＨ⁻ （１５７）
アノード
２Ｍ’＋３ＯＨ⁻ → ２Ｍ’Ｏ＋Ｈ＋Ｈ_２Ｏ＋３ｅ⁻；
Ｈ → Ｈ（１／ｐ）（１５８）
好適で典型的な熱化学反応混合物は、Ｓｎ＋ＫＯＨ（飽和水溶液）＋ＣＢまたはＳＣ＋大気、およびＺｎ＋ＫＯＨ（飽和水溶液）＋ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｒ−Ｎｉ、またはＰｔＣ＋大気である。

ＯＨ⁻の酸化およびＨとの反応に加えて、Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応は、脱水反応であってもよい。好適で典型的な反応は、下記などの金属酸化物への金属水酸化物の脱水である：Ｚｎ（ＯＨ）_２からＺｎＯ＋Ｈ_２Ｏ、Ｃｏ（ＯＨ）_２からＣｏＯ＋Ｈ_２Ｏ、Ｓｎ（ＯＨ）_２からＳｎＯ＋Ｈ_２ＯまたはＰｂ（ＯＨ）_２からＺｎＯ＋Ｈ_２Ｏ。別の例としては、Ａｌ（ＯＨ）_３からＡｌ_２Ｏ_３＋Ｈ_２Ｏであり、そこでは、Ｒ−ＮｉはＡｌ（ＯＨ）_３を含み、また、ＯＨおよび触媒として作用するＨ_２Ｏの少なくとも１つとハイドリノを形成するために触媒作用を受けえるＨ源として働いてもよい。反応は加熱により開始し促進してもよい。

一実施形態では、ｎＨ、ｎＯ（ｎ＝整数）、Ｏ_２、ＯＨおよびＨ_２Ｏ触媒のうちの少なくとも１つは、脱水または分解反応により、活性状態で形成されている。反応は、Ｈの存在下で起こり、Ｈおよび触媒がハイドリノを形成するために反応する。一実施形態においては、反応はＨ_２Ｏ_２の分解を含む。触媒Ｈ_２Ｏは、以下の典型的な反応によって形成されるかもしれない。
Ｈ_２Ｏ_２＋Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２又はＯ＋Ｈ（１／ｐ）（１５９）
典型的な脱水反応は、水酸化物のＨの存在下での、対応する酸化物とＨ_２Ｏへの分解であり、例としては、Ｈを放出しながらのＲ−ＮｉのＡｌ（ＯＨ）_３のＡｌ_２Ｏ_３とＨ_２Ｏへの分解である。脱水反応は、さらに、水和ＫＯＨまたはＮａＯＨの分解などの水和Ｈ_２Ｏを含んでもよい。

一実施形態では、脱水反応は、アルデヒドを形成するために、端末アルコールからＨ_２Ｏの放出を伴う。端末アルコールは、触媒としての役割を果たすことができるＨ_２Ｏを放出する糖またはその誘導体を含んでもよい。好適で典型的なアルコールは、メソエリスリトール、ガラクチトールまたはズルシトール、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）である。

１つの実施形態において、セルは、水酸化物を含む溶融塩電解質を含む。電解質は、塩混合物を含んでもよい。１つの実施形態において、塩混合物は、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、およびリン酸塩などの本開示の別のアニオンをもつ、金属水酸化物および同一の金属を含んでもよい。好適な塩混合物は、ＣｓＮＯ_３−ＣｓＯＨ、ＣｓＯＨ−ＫＯＨ、ＣｓＯＨ−ＬｉＯＨ、ＣｓＯＨ−ＮａＯＨ、ＣｓＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＯＨ、ＫＢｒ−ＫＯＨ、ＫＣｌ−ＫＯＨ、ＫＦ−ＫＯＨ、ＫＩ−ＫＯＨ、ＫＮＯ_３−ＫＯＨ、ＫＯＨ−Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＯＨ−ＬｉＯＨ、ＫＯＨ−ＮａＯＨ、ＫＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｌｉ_２ＣＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ、ＬｉＣｌ−ＬｉＯＨ、ＬｉＦ−ＬｉＯＨ、ＬｉＩ−ＬｉＯＨ、ＬｉＮＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＢｒ−ＮａＯＨ、ＮａＣｌ−ＮａＯＨ、ＮａＦ−ＮａＯＨ、ＮａＩ−ＮａＯＨ、ＮａＮＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＯＨ−Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＯＨ−ＲｂＯＨ、ＲｂＣｌ−ＲｂＯＨ、およびＲｂＮＯ_３−ＲｂＯＨである。混合物は共融混合物であってもよい。セルは共融混合物の融点程度の温度で動作させてもよいが、より高い温度で動作させてもよい。Ｈ_２Ｏ触媒は、アノードでのＯＨ⁻の酸化および下記の金属膜を透過するＨ_２ガスなどの供給源からのＨとの反応により、形成してもよく：その金属膜は、Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）または４３０ＳＳ（Ｈ_２）で表されるＮｉ、Ｖ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｐｄ、ＰｄＡｇまたはＦｅなどである。アルカリ電解質向けの好適な水素透過電極は下記を備える：ＮｉおよびＬａＮｉ５などの合金、Ｐｔ、ＰｄおよびＡｕなどの貴金属、Ｖ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金などのニッケルまたは貴金属被覆された水素透過性金属、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、Ｐｄ被覆されたＡｇ、Ｐｄ被覆されたＶ、Ｐｄ被覆されたＴｉ、希土類元素、他の耐火金属、４３０ＳＳ（ＳＳ）などのステンレス鋼、当該技術分野の当業者に公知の金属。水酸化物の金属、金属などの水酸化物のカチオンまたは別のカチオンＭは、カソードで還元してもよい。
典型的な反応は、次式により表される。
アノード
１／２Ｈ_２＋ＯＨ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻
又は
Ｈ_２＋ＯＨ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ ＋Ｈ（１／ｐ）（１６０）
カソード
Ｍ^＋＋ｅ⁻ → Ｍ（１６１）
Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属もしくは希土類金属などの金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、及びＴｅであってもよいし、Ｓ又はＰなどの別の元素であってもよい。水酸化物のそれ以外のカチオンの還元は、塩性のカチオン間の陰イオン交換においてもたらしてもよい。典型的なセルは、［Ｍ’（Ｈ_２）／ＭＯＨＭ’’Ｘ／Ｍ’’’であり、ここで、Ｍ、Ｍ’、Ｍ’’、及びＭ’’’は、金属などのカチオンであり、Ｘは、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、及びリン酸塩などの水酸化物又は別のアニオンであってもよいアニオンであり、Ｍ’は、浸透性のＨ_２である。別の実例は［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍ（ＯＨ）_２−Ｍ’Ｘ／Ｎｉ］であり、ここで、Ｍは、アルカリ土類金属であり、Ｍ’は、アルカリ金属であり、Ｘは、ハロゲン化物（例えば［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＮａＣｌ／Ｎｉ］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＣｌ_２−ＮａＣｌ／Ｎｉ］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＯ−ＭｇＣｌ_２／Ｎｉ］、及び［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＮａＦ／Ｎｉ］など）。Ｈ_２Ｏ及びＨは、ハイドリノをさらに形成するために陽極で形成し反応する。また、Ｍｇ金属は、熱力学的に、陰極反応からの最も安定した生成物である。他の好適な典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＭＯＨ−Ｍ’ハロゲン化物／Ｎｉが］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍ（ＯＨ）_２−Ｍ’ハロゲン化物／Ｎｉ］、［Ｍ’’（Ｈ_２）／ＭＯＨ−Ｍ’ハロゲン化物／Ｍ’’］、及び［Ｍ’’（Ｈ_２）／Ｍ（ＯＨ）_２−Ｍ’ハロゲン化物／Ｍ’’］である。ここで、Ｍは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属であり、Ｍ’は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属ほど安定していないもの、又は水との低い反応性を有するもの（例えばＣｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、及びＷのグループからの１つ）の少なくとも１つである水酸化物及び酸化物を有する金属であり、Ｍ’’は、水素浸透性金属である。あるいは、Ｍ’はＡｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｓｅ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、及びＰｂのグループのうちの１つ以上などの、陽電性の金属であってもよい。別の実施形態において、Ｍ及びＭ’の少なくとも１つは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷのグループからの１つを含んでもよい。１つの実施形態において、カチオンは、塩混合物電解質のアニオンと共通であってもよいし、又は、アニオンは、カチオンと共通であってもよい。あるいは、水酸化物は、混合物の他の塩類に対して安定していてもよい。電極は、Ｎｉ粉末のような多孔質又は焼結金属粉末のような高表面積電極を含んでよい。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、又は４３０ＳＳ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸ、ＫＯＨ−ＫＸ、ＲｂＯＨ−ＲｂＸ、ＣｓＯＨ−ＣｓＸ、Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＸ_２、Ｃａ（ＯＨ）_２−ＣａＸ_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２−ＳｒＸ_２、もしくはＢａ（ＯＨ）_２−ＢａＸ_２（ここで、Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩ）／Ｎｉ）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、又は４３０ＳＳ（Ｈ_２）／ＣｓＮＯ_３−ＣｓＯＨ、ＣｓＯＨ−ＫＯＨ、ＣｓＯＨ−ＬｉＯＨ、ＣｓＯＨ−ＮａＯＨ、ＣｓＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＯＨ、ＫＢｒ−ＫＯＨ、ＫＣｌ−ＫＯＨ、ＫＦ−ＫＯＨ、ＫＩ−ＫＯＨ、ＫＮＯ_３−ＫＯＨ、ＫＯＨ−Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＯＨ−ＬｉＯＨ、ＫＯＨ−ＮａＯＨ、ＫＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｌｉ_２ＣＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ、ＬｉＣｌ−ＬｉＯＨ、ＬｉＦ−ＬｉＯＨ、ＬｉＩ−ＬｉＯＨ、ＬｉＮＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＢｒ−ＮａＯＨ、ＮａＣｌ−ＮａＯＨ、ＮａＦ−ＮａＯＨ、ＮａＩ−ＮａＯＨ、ＮａＮＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＯＨ−Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＯＨ−ＲｂＯＨ、ＲｂＣｌ−ＲｂＯＨ、及びＲｂＮＯ_３−ＲｂＯＨ／Ｎｉ］、及び［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、又は４３０ＳＳ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＲｂＯＨ、ＣｓＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２、又はＢａ（ＯＨ）_２＋ＡｌＸ_３、ＶＸ_２、ＺｒＸ_２、ＴｉＸ_３、ＭｎＸ_２、ＺｎＸ_２、ＣｒＸ_２、ＳｎＸ_２、ＩｎＸ_３、ＣｕＸ_２、ＮｉＸ_２、ＰｂＸ_２、ＳｂＸ_３、ＢｉＸ_３、ＣｏＸ_２、ＣｄＸ_２、ＧｅＸ_３、ＡｕＸ_３、ＩｒＸ_３、ＦｅＸ_３、ＨｇＸ_２、ＭｏＸ_４、ＯｓＸ_４、ＰｄＸ_２、ＲｅＸ_３、ＲｈＸ_３、ＲｕＸ_３、ＳｅＸ_２、ＡｇＸ_２、ＴｃＸ_４、ＴｅＸ_４、ＴｌＸ及びＷＸ_４のうちの１つ以上（ここで、Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩ）／Ｎｉ］。他の適当なＨ_２浸透性の金属は、Ｎｉ陽極と置き換わってもよいし、安定した陰極電極は、Ｎｉと置き換わってもよい。１つの実施形態において、電解質は、オキシ水酸化物、又は水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、及びオキシ水酸化物のうちの１つ以上などの塩類の混合物を含んでもよい。１つの実施形態において、セルは、ＢＡＳＥ又はＮＡＳＩＣＯＮなどの塩橋を含んでもよい。１つの実施例において、セルは、ＢＡＳＥ又はＮＡＳＩＣＯＮのような塩橋を備えるかもしれない。１つの実施例において、電解質は、Ｍ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｍ（ＯＨ）_４ ⁻、又はＭ（ＯＨ）_６ ^２−（ここで、Ｍは例示的にＺｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ａｌ、又はＣｒであってよい。）のようなイオン又は錯体を含む水酸化物を含んでよい。水酸化物は、アルカリ・カチオンのようなカチオンを更に含んでよい。水酸化物は、Ｌｉ_２Ｚｎ（ＯＨ）_４、Ｎａ_２Ｚｎ（ＯＨ）_４、Ｌｉ_２Ｓｎ（ＯＨ）_４、Ｎａ_２Ｓｎ（ＯＨ）_４、Ｌｉ_２Ｐｂ（ＯＨ）_４、Ｎａ_２Ｐｂ（ＯＨ）_４、ＬｉＳｂ（ＯＨ）_４、ＮａＳｂ（ＯＨ）_４、ＬｉＡｌ（ＯＨ）_４、ＮａＡｌ（ＯＨ）_４、ＬｉＣｒ（ＯＨ）_４、ＮａＣｒ（ＯＨ）_４、Ｌｉ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６、及びＮａ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６であってよい。追加的な好適な水酸化物は、Ｃｏ（ＯＨ）_２、Ｚｎ（ＯＨ）_２、Ｎｉ（ＯＨ）_２、他の遷移金属水酸化物、Ｃｄ（ＯＨ）_２、Ｓｎ（ＯＨ）_２、及びＰｂ（ＯＨ）からの少なくとも１つである。

１つの実施形態において、酸素およびＨ_２Ｏの少なくとも１つの源は、セルに供給され、且つ陰極に選択的に供給されてもよい。１つの実施形態において、Ｈ_２は、陽極反応が式（１６０）から与えられるように、陽極に選択的に供給されてもよい。１つの実施形態において、Ｏ_２およびＨ_２Ｏの少なくとも１つは、セルに供給されてもよい。１つの実施形態においてＯ_２またはＨ_２Ｏは、その反応が以下の式で表されるように、陰極半セルに添加されてもよい。
陰極
Ｍ^＋＋ｅ⁻＋Ｈ_２Ｏ → ＭＯＨ＋１／２Ｈ_２（１６２）
Ｍ^＋＋２ｅ⁻＋１／２Ｏ_２ → Ｍ_２Ｏ（１６３）
その後、Ｈ_２Ｏは、その反応が以下の式で表されるように、添加されてもよい。
Ｍ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ → ２ＭＯＨ（１６４）
Ｏ_２が供給される場合には、全体としてバランスの取れた反応は、Ｈ_２Ｏの別の電気分解によって再生されるＨ_２の燃焼であってもよい。一実施形態では、Ｈ_２は、アノードで供給され、Ｈ_２Ｏと任意にＯ_２が、カソードで供給される。Ｈ_２は、選択的に、膜を介した透過により適用されてもよく、Ｈ_２Ｏが、選択的に、バブリング蒸気によって適用されてもよい。一実施形態では、制御されたＨ_２Ｏ蒸気圧が、溶融電解質にわたって維持される。Ｈ_２Ｏセンサは、蒸気圧を監視して蒸気圧を制御するために使用してもよい。センサは、赤外線発光分光センサなどの光学的なもの、または当該技術分野で知られているようなものであってよい。Ｈ_２Ｏ蒸気圧は、Ｎ_２またはＡｒなどの不活性キャリアガスによって搬送される加熱される水槽から供給してもよく、そこでは、槽の温度および流量は、センサによって監視される蒸気圧を決定する。セルは下記により連続的に動作してもよい：未反応の補給物やそれぞれアノードとカソードで形成されるガスなどのセルからの蒸気とＨ_２を収集し、Ｈ_２Ｏの縮合などの手段によりガスを分離し、アノードにＨ_２を、カソードにＨ_２Ｏを再供給する。一実施形態では、水蒸気は約２０から１００℃の温度範囲内に維持された水発生器によって供給される。別の実施形態では、温度は、約３０から５０℃の範囲に維持される。水蒸気圧は、約０．０１トールから１０気圧の範囲に維持されてもよい。別の実施形態では、水蒸気圧は、約３１トールから９３トールの範囲内に維持される。一実施形態において、カチオンは、塩混合物電解質のアニオンに共通であってもよいし、また、アニオンはカチオンに共通であってもよい。あるいは、水酸化物は、混合物の他の塩に安定であってもよい。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＮａＣｌ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＣｌ_２−ＮａＣｌ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＯ−ＭｇＣｌ_２／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＮａＦ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、またはＦｅ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸ、ＫＯＨ−ＫＸ、ＲｂＯＨ−ＲｂＸ、ＣｓＯＨ−ＣｓＸ、Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＸ_２、Ｃａ（ＯＨ）_２−ＣａＸ_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２−ＳｒＸ_２、またはＢａ（ＯＨ）_２−ＢａＸ_２（ここで、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ／ＮｉＨ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、またはＦｅ（Ｈ_２）／ＣｓＮＯ_３−ＣｓＯＨ、ＣｓＯＨ−ＫＯＨ、ＣｓＯＨ−ＬｉＯＨ、ＣｓＯＨ−ＮａＯＨ、ＣｓＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＯＨ、ＫＢｒ−ＫＯＨ、ＫＣｌ−ＫＯＨ、ＫＦ−ＫＯＨ、ＫＩ−ＫＯＨ、ＫＮＯ_３−ＫＯＨ、ＫＯＨ−Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＯＨ−ＬｉＯＨ、ＫＯＨ−ＮａＯＨ、ＫＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｌｉ_２ＣＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ、ＬｉＣｌ−ＬｉＯＨ、ＬｉＦ−ＬｉＯＨ、ＬｉＩ−ＬｉＯＨ、ＬｉＮＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＢｒ−ＮａＯＨ、ＮａＣｌ−ＮａＯＨ、ＮａＦ−ＮａＯＨ、ＮａＩ−ＮａＯＨ、ＮａＮＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＯＨ−Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＯＨ−ＲｂＯＨ、ＲｂＣｌ−ＲｂＯＨ、およびＲｂＮＯ_３−ＲｂＯＨ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、および［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、またはＦｅ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＲｂＯＨ、ＣｓＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２、またはＢａ（ＯＨ）_２＋ＡｌＸ_３、ＶＸ_２、ＺｒＸ_２、ＴｉＸ_３、ＭｎＸ_２、ＺｎＸ_２、ＣｒＸ_２、ＳｎＸ_２、ＩｎＸ_３、ＣｕＸ_２、ＮｉＸ_２、ＰｂＸ_２、ＳｂＸ_３、ＢｉＸ_３、ＣｏＸ_２、ＣｄＸ_２、ＧｅＸ_３、ＡｕＸ_３、ＩｒＸ_３、ＦｅＸ_３、ＨｇＸ_２、ＭｏＸ_４、ＯｓＸ_４、ＰｄＸ_２、ＲｅＸ_３、ＲｈＸ_３、ＲｕＸ_３、ＳｅＸ_２、ＡｇＸ_２、ＴｃＸ_４、ＴｅＸ_４、ＴｌＸ、およびＷＸ_４のうちの１つ以上（ここで、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］である。［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＭＯＨ（ここで、Ｍはアルカリである）Ｍ’Ｘ_２（ここで、Ｍ’はアルカリ土類である）および状況に応じてＭＸ（ここで、Ｘはハロゲン化物である）／Ｎｉ］などのセルは、高温で反応物質が水酸化物とハロゲン化物との交換に対して熱力学的に安定するように動作されてもよい。

タイプ［Ｍ’（Ｈ_２）または溶融水酸化物／Ｍ’’を含む水素化物／電解質］、そこでは、Ｍ’とＭ’’は、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、ＰｔおよびＰｔＡｇなどのＨ_２透過性の金属を含んでもよいところの別の実施形態では、電解質は、水酸化物とＭＯＨ−ＭＨ（Ｍ＝アルカリ）などの水素化物の混合物を含む。ＭＨは、カソードにおいて、ＭおよびＨ⁻に還元されてもよい。ＯＨ⁻およびＨは、アノードで、Ｈ_２Ｏに酸化されてもよい。ＭＨを過剰に含む電解質は、Ｏ_２またはＨ_２Ｏを添加することによって再生してもよい。他の実施形態において、電解質は、ホウ素水素化物およびアルミニウム水素化物などのＭＨに加えて、他の水素貯蔵材料を含んでもよい。

図２を参照すると、水の還元により形成されたＨは、水素透過膜４７３を透過し、Ｈ反応物と反応してもよい。Ｈ透過電極は下記を含んでもよい：Ｖ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、Ｐｄ被覆されたＡｇ、Ｐｄ被覆されたＶ、Ｐｄ被覆されたＴｉ、希土類元素、他の耐火金属、当該技術分野の当業者に公知の他の金属。Ｈ反応物は下記であってよい：アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、および希土類金属、合金、またはそれらの混合物などの水素化物および本開示のものなどのような水素貯蔵材料を形成する元素または化合物。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ（Ｌｉ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｃｅ）］である。

さらに典型的なセルは下記である：［Ｎｉ（Ｈ_２）＋ＭＯＨ／下記の溶融塩Ｍ’Ｘ−Ｍ’’Ｘ’（ＭおよびＭ’＝アルカリ、ＸおよびＸ’＝ハロゲン化合物または他のアニオン、Ｍ’’はアルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、およびグループＩＩＩ−ＶＩなどの金属、そこでは、塩は、混合物との反応と中性を与えられたＭ’Ｘ−Ｍ’’Ｘ’の各元素の反応化学量論に対して安定である）。Ｍ’Ｘ−Ｍ’’Ｘ’は下記のうちの少なくとも１つを含んでよい：ＮｉＣｌ_２、ＭｎＩ_２、ＥｕＢｒ_２、ＳｎＩ_２、ＦｅＣｌ_２、ＡｇＣｌ、ＦｅＣｌ_２、ＩｎＣｌ、ＣｏＣｌ_２、ＣｒＣｌ_２、ＣｓＣｌ、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ_２、ＭｎＣｌ_２、ＮｉＣｌ_２、ＰｂＣｌ_２、ＲｂＣｌ、ＳｎＣｌ_２、ＴｉＣｌ_２およびＺｎＣｌ_２］。セルは、更に、例えば、カソードにおける空気やＯ_２ガスなどの酸素源を含んでもよい。セルは、電気分解、Ｈ_２の付加、または機械的に再生してもよい。一実施形態では、反応槽は、ニッケルまたはモネル合金などの溶融水酸化物による腐食に対して抵抗性をもつ材料を含んでよい。一実施形態では、カソードとアノードの少なくとも１つは、ＬｉＮｉＯを含むＮｉなどのリチオ化ニッケル電極などのようにリチオ化されている。実施形態では、溶融塩のアノードまたは水性アルカリセルは、最初からの充電および２度目の放電などの波形によって、連続的または間欠的に放出され、そこでは、時間期間のうちの少なくとも１つにおいては、電流は一定に維持されてもよく、アノードは、ニッケル水素化物、ＬａＮｉ_５Ｈ_６，またはＬａ_２ＣｏＮｉ_９Ｈ_６などの水素化物を含んでよい。

酸素の還元からカソードにおいて、ＨＯＯ⁻及びＯ_２ ^２−のような過酸化物イオンを形成する好適な溶融水酸化電解質は、ＬｉＯＨ及びＮａＯＨである。ＯＨ、Ｈ_２Ｏ、Ｏ_２、ｎＨ、及びｎＯの少なくとも１つのようなハイドリノ触媒を形成するための例示的な反応は、以下のとおりである。
カソード：
Ｏ_２＋２ｅ⁻ → Ｏ_２ ^２− （１６５）
Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＨＯ_２ ⁻＋ＯＨ⁻ （１６６）
アノード
Ｈ＋ＨＯ_２ ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２＋ｅ⁻ （１６７）
Ｈ_２＋ＨＯ_２ ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋ＯＨ＋ｅ⁻ （１６８）
一実施形態では、セル反応物は、過酸化物の供給源または過酸化物を含む。好適な過酸化物はＬｉ_２Ｏ_２とＮａ_２Ｏ_２である。過酸化物または過酸化物イオンは、ＯＨおよびＨ_２Ｏの少なくとも１つなどのハイドリノ触媒を形成してもよい。典型的な反応経路は、式（１３８−１４８）と（１６５−１６８）で与えられる。好適なセルは下記である：［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨおよびＮａＯＨの少なくとも１つとおそらく、ＬｉＸまたはＮａＸ（Ｘ＝ハロゲン）および過酸化物またはＬｉ_２Ｏ_２またはＮａ_２Ｏ_２／Ｎｉなどのアルカリ過酸化物などの他の塩］。一実施形態において、電解質は、水酸化物および酸素の還元による１つ以上の酸素種の形成に有利に働く他の塩との混合物のうちの少なくとも１つを含む。電解質は、さらに従属触媒形成とハイドリノを形成するための反応を最適化する所望の酸素還元生成物への酸素の還元を最適化するように選択される。典型的な実施形態では、ＮａＯＨまたはＫＯＨの１つ以上がハイドリノ形成からの電力を最適化するために、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒの共融混合物に添加される。別の実施形態では、Ｈ_２ＯまたはＨ_２Ｏの供給源が、過酸化物および超酸化物などの高い酸化物の水酸化物への変換を引き起こすために、カソード反応物に添加される。好適な反応は、直接的または、過酸化物、超酸化物、酸化物イオン、ＨＯＯ⁻およびＨＯＯＨの少なくとも１つなどの中間体種を介してＯＨ⁻を形成するためのＯ_２およびＨ_２Ｏの還元である。

一実施形態では、酸素が、触媒またはさらに触媒を形成するように反応する中間体として機能する化学種として働くカソードでの化学種に還元される。化学種または更なる反応生成物は、下記の少なくとも１つを含む、少なくとも１つの化学種であってよい：Ｈ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｏ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻およびＯ_２ ^２−などのＯおよびＨ。別の実施形態においては、カソード反応は、アノード反応と協調してもよい。酸素を含むカソード反応は、アノードに形成されたＨと触媒の両方の間のエネルギーの一致を起こさせる化学種を形成してもよく、そこでは、Ｈは、ハイドリノを形成するように反応してもよい。カソードで形成される典型的な化学種は、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻、Ｏ_２ ^２−、ＯＨ⁻、ＨＯＯ⁻、Ｈ、Ｈ_２、Ｏ、ＯＨ、Ｈ_２Ｏ、Ｏ_２、Ｏ_３およびＯ_３ ⁻である。アノード反応は、ＨＯ⁻のＯＨ、Ｈ_２Ｏ、ＯおよびＯ_２のうち少なくとも１つへの酸化を含んでいてもよく、そこでは、ＯＨ、Ｈ_２Ｏ、ＯおよびＯ_２のうち少なくとも１つが触媒として働いてもよい。一実施形態では、協調的な反応は、ＯＨ⁻のＯＨとＨ_２Ｏの少なくとも１つに対するアノード反応を含んでもよく（式（１２３）および（１３１））、カソード反応には、Ｏ_２ ^２−へのＯ_２の還元を含んでもよい（式（１６５））。Ｏ_２ ^２−を優先的に形成するための好適な電解質は、ＬｉＯＨおよびＮａＯＨのうちの少なくとも１つを含む。一実施形態では、Ｈ_２Ｏは、さらに、少なくとも１つの還元した酸素種と反応するために設けられている。少なくとも１つの生成物は、ＯＨ⁻であってもよい。酸素と水の少なくとも１つの供給源は空気であってもよい。酸素とＨ_２Ｏのうちの１つ以上の濃度は、ハイドリノの形成から電気的および熱的なパワー出力の少なくとも１つを制御するように制御してもよい。一実施形態では、セルの電気パワー出力が最適化される。一実施形態では、ＣＯ_２およびＣＯが、セル内に流入する前に、空気中から除去される。その除去は、当業者に公知のスクラバーを使用することによって達成してもよい。一実施形態では、水酸化物電解質は、ＣＯおよびＣＯ_２からの炭酸塩形成を抑制する酸化物などの添加剤を含む。好適な添加剤は、高い水濃度、Ｍｇ，ＳｂおよびＳｉの酸化物、およびピロリン酸塩や過硫酸塩などのオキシアニオンである。具体例は、ＳｉＯ_２、ＭｇＯ、Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_８およびＮａ_４Ｐ_２Ｏ_７である。溶融した水酸化アルカリ塩などの溶融電解質を含む実施形態では、炭酸塩は、アルカリ金属などの活性金属との反応によって除去してもよい。断続的に充電および放電されたセルを含む実施形態では、セルは、ＣＯおよびＣＯ_２を回避する空気に閉じこめられる。一実施形態では、少なくとも１つのハーフセル反応の酸素は、Ｈ_２ＯおよびＯＨ⁻との少なくとも１つの酸化などの電気分解からのものである。

１つの実施例において、溶融水酸化物電解質及び溶融水酸化物を含む混合物は更に、アルカリ酸化物（Ｍ_２Ｏ）又はアルカリ土類酸化物（Ｍ’Ｏ）のような酸化物を含む。その濃度は、飽和迄であってよい。その酸化物は、平衡濃度を形成するように水酸化物又は水と反応するかもしれない。典型的な反応は、次式により表される。
Ｌｉ_２Ｏ → Ｈ_２Ｏ → ２ＬｉＯＨ（１６９）
Ｌｉ_２Ｏ＋２ＯＨ⁻ → ２ＬｉＯ⁻＋Ｈ_２Ｏ（１７０）
一実施形態において、電解質は、溶融水酸化物、任意の他の塩と、Ｍ、ＭＨ、Ｍ_２Ｏ、ＭＯ_２またはＭ_２Ｏ_２の少なくとも１つを含み、そこでは、Ｍはアルカリ金属などの金属である。一実施形態では、酸化物、Ｈ_２Ｏ、過酸化物、および超酸化物平衡の少なくとも１つがシフトしている。

一実施形態では、Ｈ_２Ｏ、ＯＨ、Ｏ_２、ｎＨおよびｎＯ（ｎ＝整数）のうちの少なくとも１つなどの触媒を形成するためのセル反応のエネルギーは、真空でおこる反応と同等である。反応は、液相または固相などの気相または凝縮相で起こってもよい。液体は、電解質などの水性または溶融塩の媒体であってもよい。触媒を形成する反応は、ハーフセル反応を含んでもよい。一実施形態において、触媒を形成する反応に対向するハーフセル反応は、標準水素電極（ＳＨＥ）に対して、約０Ｖの電圧で起こってもよい。電圧は、ＳＨＥに対して、約−０．５Ｖから＋０．５Ｖ、−０．２Ｖから＋０．２Ｖ、−０．１Ｖから＋０．１Ｖの範囲にあるのが好適である。触媒を形成するハーフセル反応の触媒は、Ｈ_２Ｏ、ＯＨ、Ｏ_２、ｎＨおよびｎＯ（ｎ＝整数）のうちの少なくとも１つであってもよい。対半電池反応及び触媒形成反応は、次のようであってよい。
アノード：
ＯＨ⁻＋Ｈ_２ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（１７１）
カソード：
Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋４ｅ⁻ → ４ＯＨ⁻ （１７２）
全反応は次のようであってよい。
３／２Ｈ_２＋１／２Ｏ_２ → Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）（１７３）
溶融水酸化物塩電解質の場合には、セルに供給される水の分圧は、過酸化物、超酸化物および酸化物の少なくとも１つを形成するものなどのＯ_２とＨ_２Ｏ還元反応に対して、ＯＨ⁻生成反応に有利に制御されてもよい。一実施形態では、温度、Ｏ_２圧力、Ｈ_２Ｏ圧力、Ｈ_２圧力、およびＯＨ⁻濃度の少なくとも１つは、ハイドリノの最適な形成をもたらす触媒を形成するハーフセル反応と反反応に有利に制御される。１つ以上の対応する反応は、式（１７１−１７３）で与えられる。好適で典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＮａＯＨ−ＮａＢｒ／Ｎｉ＋空気］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＮａＯＨ−ＮａＩ／Ｎｉ＋空気］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｓｒ（ＯＨ）_２／Ｎｉ＋空気］および本開示の同様のセルであり、そこでは、空気はいくらかのＨ_２Ｏを含む。

一実施形態では、Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応は、動作温度に対して、約１．２ボルトで、熱力学的に補正される。一実施形態では、２５℃およびＳＨＥに対する、触媒を形成するためのハーフセル反応の電圧は、約１．２Ｖである。電圧は、ＳＨＥおよび２５℃に対して、約１．５Ｖから０．７５Ｖ、１．３Ｖから０．９Ｖ、１．２５Ｖから１．１Ｖの範囲にあるのが好適である。セルは、約２００℃から１０００℃または約２５０℃から６００℃の温度範囲で動作してもよい。好適な反応は、Ｈ_２Ｏを形成するものであり、そこでは、Ｈ_２Ｏは、式（１７１）と（１７２）と式（１９７）と（１９８）で与えられる触媒として働いてもよい。所望の電圧を達成するための好適な電解質は、さらに、ハロゲン化物などの他の塩を含んでもよい溶融アルカリまたはアルカリ土類水酸化物である。好適な混合物は、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ、ＮａＯＨ−ＮａＢｒおよびＮａＯＨ−ＮａＩなどのアルカリ金属水酸化物およびハロゲン化物などの共晶塩の混合物である。典型的なアルカリ土類水酸化物は、Ｓｒ（ＯＨ）_２である。水素は、透過によって、またはバブリングによって、アノードに供給してもよい。好適な酸性の電解質は、本開示のものなどの水性Ｈ_２ＳＯ_４、ＨＸ（Ｘ−ハロゲン化合物）または酸性イオン液体などの水性酸電解質である。

アルカリ水性セル実施例において、触媒形成反応は、式（１７１）によって与えられてよく、約０ＶのＳＨＥに相対する還元ポテンシャルを持つ対半電池反応は、次の式の少なくとも１つである。
Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＨＯ_２ ⁻＋ＯＨ⁻ （１７４）
Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＨＯＯＨ＋２ＯＨ⁻ （１７５）
Ｏ_２＋ｅ⁻ → Ｏ_２ ⁻ （１７６）
１つの実施例において、Ｏ_２濃度又はカソード材料は、所望のポテンシャルで反応を達成するために変更されるかもしれない。好適な例示的セルは、［ＭＨ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／ＳＣ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、又は多の酸素還元カソード＋空気］及び本開示の類似のセルである。ここで、ＭＨはＬａＮｉ_５Ｈ_ｘのような金属水素化物である。

ＬｉＯＨなどのアルカリ水酸化物などの水性または溶融水酸化物などの水酸化物電解質を含む電気分解セルの実施形態では、Ｈ_２はカソードで発生し、Ｏ_２はＨ_２Ｏの電気分解によりアノードで生成される。電解質の水酸化物は、Ｍ_２ＣＯ_３（Ｍ＝アルカリ）などの炭酸塩などの水性塩基の溶液を形成してもよい。セルは、約２５℃から３００℃の範囲などの高温で動作させてもよいが、より高い温度で動作させてもよい。セルを、およそ沸騰点以上の温度で動作するように加圧してもよい。一実施形態では、Ｈの存在下、カソードでのＯＨ⁻のＨ_２Ｏへの酸化およびアノードでのＯ_２およびＨ_２ＯのＯＨ⁻への還元の反応のうち少なくとも１つが、ハイドリノの形成と伴に起こる。一実施形態では、カソードで形成された酸素は、アノードにおいて、Ｈ_２Ｏによって、ＯＨ⁻へと還元され、カソードで形成されたＨ_２は、それがカソードでＨ_２Ｏに酸化されるにともない、ＯＨ⁻と反応し、それにより、ＯＨ⁻経路は、式（１７２）と（１７１）に従って、アノードとカソードで発生する。触媒は、カソードで形成されたとＨと反応するカソードで形成されたＨ_２Ｏであってもよい。カソードは、ＮｉまたはＬａＮｉ_５などのＰｄ、ＰｔまたはＡｕまたは遷移金属または合金などの貴金属などの水素化物を形成する金属であってもよい。カソードは、Ｈ_２ＯをＨ_２に還元する二官能性電極として作用してもよく、Ｈの存在下で、ＯＨ⁻をＨ_２Ｏに酸化する。アノードは、ＮｉまたはＬａＮｉ_５などのＰｔ、ＰｄまたはＡｕまたは遷移金属または合金などの貴金属などの金属などの導電体を含んでもよく、水性電解質をＯ_２に酸化する二官能性電極として作用してもよく、Ｏ_２およびＨ_２Ｏの少なくとも１つをＯＨ⁻に還元してもよい。電極の形態は、その表面積を増加させてもよい。Ｎｉなどの典型的な電極は、ワイヤ、焼結したもの、シート、またはマットＮｉである。一実施形態では、水酸化物および炭酸塩の少なくとも１つ含むものなどのアルカリ電解質を有する溶融塩セルは、ニッケル、酸化ニッケル、コバルト、酸化コバルト、およびクロムがドープされたニッケルおよびニッケル、ＮｉＯ、コバルト、酸化コバルト、Ａｇ、Ａｇ_２Ｏ_２などの酸化銀、ＡｇがドープしたＮｉ、リチオ化した酸化ニッケルであってよいアノードの少なくとも１つを有し、ＭｇＯ、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３またはＬｉＡｌＯ_２などの電解質支持体を含んでもよい。アノードなどの電極は、ＮｉＯやＮｉ_１−ｘＭｇ_ｘＯおよびＮｉＦｅ_２Ｏ_４を形成してもよいＭｇＯまたはＦｅ_２Ｏ_３などのＮｉＯを安定化させる別の化合物を含んでもよい。一実施形態では、ＮｉＯなどのアノードなどの電極は、Ｏ^２−源などの供給源によって塩基性を増加させることによって安定化させてもよい。電解質の塩基性を高めるための好適な供給源は、ＭｇＯ、ＣｄＯ、ＺｎＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、Ｌｉ_２Ｏ、ＭｏＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＷＯ_２およびＯ^２−源として働く類似の酸化物である。別の化合物を電極に添加してもよいし、電解質の添加剤またはマトリックスを含んでもよい。ハイドリノ反応の現在の貢献は、電気分解電流のそれとは反対方向にあり、セル内で追加の熱生産を引き起こすことがある。別の実施形態では、少なくとも１つのガスは、ハーフセル間をクロスオーバーしてもよく、それにより、式（１７１）と（１７２）によって与えられる反応の少なくとも１つは、ハイドリノを形成するために起こる。電極間隔は、ガスクロスオーバーを促進するために最小限であってもよい。ガスは、セル内でクロスオーバーしてもよく、それにより、式（１７２）で与えられるＯＨ⁻システムは、少なくとも部分的に、カソードで起こり、式（１７１）で与えられたＯＨ⁻システムは、少なくとも部分的にアノードで起こる。触媒は、カソードからアノードにクロスオーバーする追加のＨと反応するクロスオーバーＨから、アノードで形成したＨ_２Ｏであってもよい。アノードは、クロスオーバー水素の存在化下で、水溶性電解質をＯ_２に酸化し、ＯＨ⁻をＨ_２Ｏに酸化する二官能性電極として作用するＮｉまたはＬａＮｉ_５などのＰｄ、ＰｔまたはＡｕまたは遷移金属または合金などの貴金属などの水素化物を形成する金属であってよい。カソードは、ＮｉまたはＬａＮｉ_５などのＰｄ、Ｐｔ、またはＡｕまたは遷移金属または合金などの貴金属などの水素化物を形成する金属であってよい。カソードは、Ｈ_２ＯをＨ２に還元する二官能性電極として作用してもよく、さらに、クロスオーバーＯ_２とＨ_２Ｏのうち少なくとも１つをＯＨ⁻に還元してもよい。従って、カソードは、酸素とＨ_２Ｏ還元触媒のうちの少なくとも１つを含んでもよい。電気および熱エネルギーの少なくとも１つが、クロスオーバー反応によって放出され、そこでは、電流は電気分解電流と同じ極性を有するが、電圧は、反対の極性である。これにより、定電流電気分解が実行される場合には、一実施形態では、セル電圧は低下し、セル温度が上昇する。典型的な電気分解セルは、［Ｐｔ／ＬｉＯＨ０．１Ｍから飽和水溶液／Ｐｄ］である。他の実施形態では、両方の電極がＮｉまたは１つはＮｉで、他のものが、Ｐｔ、Ｐｄ、ＤＳＡ材料などの異なる材料、他の貴金属、炭素、Ａｇ、本開示の材料、またはこれらの材料の１つ以上のもの、またはＰｔ／Ｔｉなどの支持体上の本開示の他のものであり、電解質は、約０．１Ｍから飽和までの濃度範囲における水溶性ＫＯＨまたはＫ_２ＣＯ_３である。具体例は、［ＰｔＴｉ／Ｋ_２ＣＯ_３またはＫＯＨ０．１Ｍから飽和水溶液／Ｎｉ］である。

一実施形態では、ＰｄＯＯＨ、ＰｔＯＯＨまたはＮｉＯＯＨなどのオキシ水酸化物、Ｐｔ（ＯＨ）_２、Ｐｔ（ＯＨ）_４、Ｐｄ（ＯＨ）_２またはＮｉ（ＯＨ）_２などの水酸化物およびＰｔ（Ｈ_２Ｏ）_４などの水和物が、アノードなどの電極で形成されてもよい。ＯＨ⁻とのアノードなどの電極の酸化生成物のうちの１つ以上の酸化反応は、Ｈ_２ＯやＨなどのハイドリノを形成するようにさらに反応する触媒を形成してもよい。Ｐｔアノードでの例示的な反応は、以下のとおりである。
ＰｔＯＯＨ＋２ＯＨ⁻ → ＰｔＯ＋Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／４）＋Ｏ_２＋２ｅ⁻
（１７７）
Ｐｔ（ＯＨ）_２＋ＯＨ⁻ → ＰｔＯ_２＋Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／４）＋ｅ⁻ （１７８）
３Ｐｔ（ＯＨ）_２＋ＯＨ⁻ → Ｐｔ_３Ｏ_４＋３Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／４）＋ｅ⁻
（１７９）

アノードにおけるオキシ水酸化物、ヒドロキシ水酸化物、または水和物の反応は、電気分解セル電圧を低減してもよい。ハイドリノを形成するための反応は、熱的および電気的エネルギーの少なくとも１つの形態であってもよいエネルギーを放出する。電気分解または断続電気分解セルの一実施形態においては、Ｈは、電気分解時に、負極でＨ_２Ｏの還元により形成され、そして反応は、少なくとも部分的に可逆的であり、それにより、Ｈ_２Ｏなどの触媒が形成され、Ｈとさらに反応し、ハイドリノを形成する。Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応は、ＯＨ⁻＋ＨからＨ_２Ｏ＋ｅ⁻であってよい。

Ｈ_２透過アノードを含むもの、断続電気分解下で動作されるものなどの電気分解セルまたはＣＩＨＴセルの実施形態では、少なくとも１つの電極は、酸化物を形成し、さらに、連続的または断続電解分解などの電解分解から表面上でＨ_２ガスの透過、生成のうちの少なくとも１つなどの供給源からの水素を含み、対向電極からまたは供給されるＨ_２ガスなどの外部供給源からのＨ_２クロスオーバーからのＨ_２を吸収する。酸化物は、電解質と金属および、電解質に溶解する酸素と金属の少なくとも１つの反応によって形成されてもよい。酸素は、大気圧または供給された酸素ガスの少なくとも１つなどの供給源から、または、セル内で作用してもよいＨ_２Ｏの電気分解からのものであってもよい。電解質は水酸化物を含んでもよい。電解質は、ハイドリノを形成するために、電極上の原子状水素などの水素とさらに反応するＨ_２Ｏ触媒を形成するように金属酸化物と反応してもよい。ハイドリノの形成で放出されるエネルギーは、電気エネルギーおよび熱エネルギーの少なくとも１つとして、明白であってもよい。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための水酸化物とニッケル酸化物との代表的な反応は、以下のとおりである。
２ＫＯＨ＋ＮｉＯ → Ｋ_２ＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（１８０）
３ＫＯＨ＋ＮｉＯ → ＫＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２（１８１）
４ＫＯＨ＋Ｎｉ_２Ｏ_３ → ２Ｋ_２ＮｉＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２（１８２）

式（１８０−１８２）に対応したものなどの反応物と反応は、化学反応やハイドリノを形成するための固体燃料を含んでもよく、それらは、化学反応器の項で与えられる。

実施形態では、ハイドリノを形成するための反応は、原子状水素と触媒を必要とする。原子状水素を形成するのに好適な反応は、Ｎｉ、ＴｉまたはＮｂまたはＰｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、およびＲｕなどの貴金属などの遷移金属などの高表面積解離子上での水素解離である。解離子は、約１ｎｍから５０ミクロンの範囲内の粒子サイズを有するものなどのナノ粉末であってもよい。また、原子状水素は、Ｎｉなどの水素透過膜を介した水素透過によって、または散布によって提供される。原子状水素は、電気分解によって、表面上または電解質中に生成してもよい。電気分解を間欠的に維持してもよい。少なくとも間欠サイクルの放電段階中に、ハイドリノを形成するように反応する１つ以上のＨ原子層を、形成してもよい。

図１に示す電気分解セル４００は、カソード４０５を有するカソード・コンパートメント４０１と、アノード４１０を有するアノード・コンパートメント４０２、および必要に応じて、セパレータまたは塩橋４２０を備える。電解分解電力が、端子間に印加される電力によって供給される。電力源は、少なくとも第２ＣＩＨＴセルまたはコンデンサであってもよい電力供給または電力貯蔵部であってもよい。第２ＣＩＨＴセルまたはコンデンサなどの電力貯蔵は、電力源を備える第１ＣＩＨＴセルによって充電されてもよい。制御電子機器は、電力源を使用して、第１ＣＩＨＴセルの充電と放電を切り替えてもよく、電圧、電流、電力および負荷などの充放電パラメータを制御してもよい。電解質は、水性であり、溶融塩または本開示のものなどの組み合わせであってもよい。電気分解セルの実施形態では、電気分解電圧が断続的またはパルスである。電解質は、アルカリまたはアルカリ土類水酸化物およびハロゲン化物塩などの溶融水酸化物共晶塩などの溶融塩であってもよい。典型的な電解質は、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒである。電解質は、塩基性、酸性または約中性であってもよい水性電解質であってもよい。典型的な塩基性電解質は、ＫＯＨなどの水性アルカリ水酸化物などの水性水酸化物電解質である。典型的な酸性電解質は、Ｈ_２ＳＯ_４またはＨＸ（Ｘ＝ハロゲン化物）などの水性酸である。

一実施形態において、電解質は、塩基性水溶液を含んでよい。断続的またはパルスサイクルの充電段階は、Ｈ_２ＯのＨ_２とＯ_２への電気分解を含んでもよい。ハイドリノ形成は不可逆的であることを除いて、カソードおよびアノード反応は、式（１７１）と（１７２）の逆反応を含んでもよい。カソード放電ハーフセル反応は、Ｈ_２Ｏおよび酸素の少なくとも１つの還元を含んでもよい。還元は式（１７２）で与えられてもよい。還元反応に対する過電位が、ハーフセル電圧をほぼゼロにしてもよい。一実施形態では、アルカリ水溶液中での、Ｏ_２およびＨ_２ＯのＯＨ⁻への還元に対する電位（式（１７２））は、ＳＨＥおよび２５℃に対して、約０．４Ｖである。電極上の還元に対する過電位は約０．４Ｖで、それにより、還元ハーフセル反応は約０Ｖで起こる。アノード放電ハーフセル反応は、ＯＨ⁻の酸化と、さらに、Ｈ_２Ｏを形成するＨとの反応を含んでよい（式（１７１））。Ｈ_２Ｏは、ハイドリノを形成するための触媒として働いてもよい。一実施形態では、ＯＨ⁻の酸化に対する還元電位、さらに、Ｈ_２Ｏを形成するためのＨとの反応（式（１７１））は、ＳＨＥと２５℃に対して、約１．２３Ｖである。電極上の酸化に対する過電圧では、酸化ハーフセル反応が、約１．２３Ｖで起こる。

他の実施形態において、触媒は、本開示のものなどの原子状水素からｍ２７．２ｅＶを受ける化学種を含んでいてもよく、そこでは、触媒は、ハーフセル種であるか、または、電気分解や放電段階中に形成されてもよい。ハイドリノは、充電と放電段階の少なくともどちらかの間に形成される。放電段階に関しては、酸化反応のハーフセル電位は、ＳＨＥと２５℃に対して、約１．２３Ｖであるか、または、約０．６Ｖから１．５Ｖの範囲であってよく、還元反応のハーフセル電位は、ＳＨＥと２５℃に対して、約０Ｖであるか、または、約−０．５Ｖから＋０．５Ｖの範囲であってよい。電気分解停止や放電段階中に、電気分解カソードとアノードとの間のセル電位は、ＳＨＥと２５℃に対して、約１．２Ｖであるか、または、約０．６Ｖから２Ｖの範囲であってよい。高い温度を有する実施形態では、これらの室内温度範囲は、熱力学的に運転温度に対して補正される。別の方法では与えられてない本開示の電圧は、ＳＨＥと２５℃に対してのものである。

ハイドリノおよび水性電解質を含む電気および熱パワーの少なくとも１つを形成するＣＩＨＴまたは電気分解セルの一実施形態では、少なくとも１つのシステム変更または方法を適用することにより下記を向上させる：発生期のＨ_２Ｏを形成するための領域を提供する多孔性アノードの使用を含むハイドリノの形成速度；電気分解電流を変化させるなどの手段によるガス流量の変化で、それにより、ガス／電解質／電極界面層の特性を変化させ、触媒として、遊離したまたは発生期のＨ_２Ｏ（非バルクＨ_２Ｏ）の形成を有利にする（Ｈ_２Ｏが触媒として記載されている場合には、本明細書では、ハイドリノ触媒活性状態のまたは発生期のＨ_２Ｏが、元々、意図されている）；電解質組成、濃度、温度、および他のそのような物理的パラメータの変動で、遊離したまたは発生期のＨ_２Ｏ触媒およびハイドリノを形成するためのセル反応の容量を変化させるイオン周りの溶媒球の変化などの性質の変化を生じさせる。

溶融塩または水性電解セルを含む少なくとも１つなどの実施形態では、セルは、Ｈ_２およびＯ_２のＨ_２Ｏへの反応のためのセル電位の負に対応するセル当たりの定電圧で充電される。充電電位は、熱力学の電圧成分および過電位を有するＨ_２Ｏ電気分解電位を含んでもよい。セルは、また、一定電流、電力、または負荷、または可変電圧、電流、電力、または負荷で充電してもよい。セルは、その後、一定電圧、電流、電力、または負荷で放電してもよい。定電圧は、所望の放電電圧を維持する負荷を用いて達成してもよい。他の実施形態では、放電は、電圧、電流、電力および負荷コントローラの少なくとも１つで制御することができる可変電圧、電流、電力、または負荷であってもよい。電圧および電流パラメータは、例えば、充電の間に、最小値から最大値へ、放電の間に、最大値から最小値へのようないずれかの方向に傾斜を含んでもよい。一実施形態では、放電は、ハーフセル還元電位を、最適化を達成するものに合わせることによって、ハイドリノ反応速度を最大にする条件の下にある。一実施形態では、放電は、Ｈ_２およびＯ_２のＨ_２Ｏへの反応のためのセル電位に対応するセル当たりの定電圧で充電される。一致電位は、熱力学的電圧成分および過電圧をも含んでよい。他の実施形態では、電圧と電流の少なくとも１つが、ハイドリノ触媒反応を最大速度で起こさせる放電電圧を達成するために、可変である。セル電位は、熱力学的電圧成分および過電圧をも含んでよいハーフセル還元電位の差である。周波数およびその他の充放電パラメータは、ハイドリノ触媒の反応速度を最大化するように調整してもよい。一実施形態では、サイクルの波形は、好適な負荷と一致するように調整されるか、負荷が波形に整合される。一実施形態では、充放電周波数は、電力網などの標準のものであってもよい。周波数は、５０Ｈｚであってもよいし、６０Ｈｚであってもよい。波形は、６０Ｈｚまたは５０Ｈｚでの交流電流などの交流電流に調整してもよい。周波数は、充放電サイクルの位相がずれた２つのセルの間で逆の充電を含んでよく、それにより、一つが別のものを充電してもよいし、その逆でもよい。別の実施形態では、電流が整流されてもよい。電流は、ほぼ一定電流であってよい直流電流として放電時に負荷に供給されてもよい。複数のＣＩＨＴセルは、任意の個々のセルのサイクルよりも長い期間にわたって一定の電流を供給するように時間を計ってもよい。

一実施形態では、セルは、Ｈ_２Ｏから、水素と酸素の少なくとも１つを生成する。一実施形態では、Ｈ_２及びＯ_２を、間欠電気分解中に、それぞれ、放電アノードとカソードに形成してもよい。また、ガスは、Ｈ_２Ｏから自発的に生成され、電気分解とは独立していてもよい。Ｈ_２ＯからＨ_２とＯ_２との少なくとも１つの自発的な生成を駆動するためのエネルギーは、ハイドリノの形成である。ガス、Ｈ_２及びＯ_２の少なくとも１つは、触媒及びハイドリノの少なくとも１つを形成する反応物である。機構は、電気化学とイオン化反応の少なくとも１つを含んでもよい。Ｈとさらに反応させてハイドリノを形成するＨ_２Ｏなどの触媒を、放電時に、形成してもよい。放電時にＨ_２Ｏ形成するための反応は、セル操作の任意の段階で可逆的であってもよく、それにより、Ｈは、直接的に、放電アノードで形成され、必要に応じて、電気分解により形成されるものとは独立している。追加的に又は代替的に、それぞれの放電アノードとカソードにおける、Ｈ_２とＯ_２への、Ｈ_２Ｏの電気分解に対して、Ｈの形成は、ハイドリノを形成するために放出されるエネルギーにより自発的であってもよく、そこでは、両方の反応は、同時に起こってもよい。一実施形態では、セル電圧は、Ｈ_２Ｏの電気分解が、ハイドリノ形成に対して、自発的に起こるようなものである。ハイドリノ反応は、Ｈ_２Ｏの電気分解の伝播とハイドリノ形成反応の伝播の少なくとも１つを達成するセル電圧を、少なくとも部分的に維持又は支持してもよい。一実施形態では、セル電圧は、約０．８Ｖ±０．５Ｖである。［ＭｇＯ／Ｎｉなどの任意のマトリックスを有するＮｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ］を有する典型的なセルとＨ_２Ｏの供給は、約０．８Ｖ±０．２Ｖのセル電圧で、約２８０から５００℃の温度範囲で動作してもよい。電圧が、ハイドリノ形成を伴う間欠電気分解と自発電気分解のうちの少なくとも１つによって補助されてもよい。断続的電気分解の典型的なセルの波形は、０．８Ｖ±０．２Ｖまでの充電するステップを含み、セルの放電に伴った設定時間の間、その電圧を維持してもよい。セル波形は、さらに、０．６Ｖ±０．２Ｖなどの一定電圧から制限電圧までの電圧や、４ｓ±３ｓなどの制限時間の間などの条件下で、セルをさらに放電してもよい。Ｈ_２Ｏの自発的な電気分解は、セル内のアノード材料、電解質、固体、液体、及び気体の少なくとも１つの反応を含む１つ以上の中間段階を有していてもよい。例えば、Ｈ_２Ｏは、ＭＯ及びＨ_２を形成するために、アノード金属Ｍと反応してもよい。典型的な固体、液体及び気体は、ＭｇＯ、ＬｉＡｌＯ_２、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３、ＬｉＶＯ_３、ＣｅＯ_２、ＴｉＯ_２などの固体マトリックス、本開示の他のもの及びＨ_２Ｏ_２、Ｏ_２、ＣＯ_２、ＳＯ_２、Ｎ_２Ｏ、ＮＯ及びＮＯ_２である。あるいは、電解質に対して、酸化及び還元のうち少なくとも一つが実施されもよいし、Ｈ_２Ｏは反応物である。典型的な自発的なＨ_２Ｏ電気分解反応は以下のとおりである。
放電アノード：
２ＯＨ⁻ → ２Ｈ＋Ｏ_２ ⁻＋ｅ⁻ （１８３）
２Ｈ → ２Ｈ（１／ｐ）（１８４）
ここで、Ｈ_２Ｏ触媒は、例えば、式（１７１）の反応によって形成される。
放電カソード：
Ｏ_２ ⁻＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ → １／２Ｏ_２＋２ＯＨ⁻ （１８５）
全反応は以下のとおりであってよい。
Ｈ_２Ｏ → １／２Ｏ_２及び２Ｈ（１／ｐ）（１８６）
Ｈ_２Ｏ → １／２Ｏ_２及びＨ_２（１８７）

他の例示的な自発的なＨ_２Ｏ電気分解反応は、以下のとおりである。
放電アノード：
２ＯＨ⁻ → Ｈ＋ＨＯＯ⁻＋ｅ⁻ （１８８）
Ｈ → Ｈ（１／ｐ）（１８９）
ここで、Ｈ_２Ｏ触媒は、例えば式（１７１）の反応によって形成される。
放電カソード：
ＨＯＯ⁻＋１／２Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ → ２ＯＨ⁻＋１／４Ｏ_２（１９０）
全反応は、式（１８６）及び（１８７）によって与えられるかもしれない。
放電アノード：
３ＯＨ⁻ → Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋Ｈ＋３ｅ⁻ （１９１）
Ｈ → Ｈ（１／ｐ）（１９２）
ここで、Ｈ_２Ｏ触媒はまた、例えば式（１７１）の反応によって形成される。
放電カソード：
１／２Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ２ＯＨ⁻ （１９３）
全反応は、式（１８６）及び（１８７）によって与えられるかもしれない。式（１８３）、（１８５）、（１８８）、（１９０）、および（１９１）の水素および酸素は、式（１７１）および（１７２）に従って、それぞれ、ＯＨ⁻およびＨ_２Ｏを形成してもよい。酸化物、過酸化物、超酸化物、およびＨＯＯ⁻などの酸素種および（式（１３８から１５３））などの本開示で与えられた反応は、Ｈ、触媒およびハイドリノの少なくとも１つの供給源を形成するために、Ｈ_２Ｏの自発的な電気分解に関与していてもよい。一実施形態において、Ｈは放電アノードとカソードで、形成されてもよく、そこでは、触媒が形成されているので、ハイドリノは、優先的にアノードなどの電極で形成される。典型的なセルは、Ｎｉ放電アノードとＮｉＯの放電カソードを有し、そこでは、ハイドリノは、優先的にＮｉ電極で形成される。上記反応に加えて、放電カソードでの反応は、Ｈ_２ＯのＯＨ⁻とＨ_２の還元であってよく、アノードでの反応は、上記の反応で与えられるＯＨ⁻の酸化であってもよいし、さらに、アノードの金属酸化物を形成する反応を含んでいてもよい。あるいは、ＮｉＯなどの金属酸化物などの酸化物は、カソードで還元されてもよい。還元はまた、Ｈ_２Ｏなどの他の反応物を含んでもよい。典型的な還元反応は、ＮｉＯからＮｉおよび酸化物、過酸化物、および超酸化物などの酸素を含んだ負イオンへの還元、およびＮｉＯおよびＨ_２ＯのＮｉや水酸化物への還元である。また、一実施形態では、Ｈ_２Ｏなどの触媒は、放電アノードで形成されてもよい。セルは、一実施形態では、連続放電モードで実行してもよく、そこでは、Ｈとその後のハイドリノの自然発生は、セルからの所望の電気出力を維持するのに十分である。Ｈ_２Ｏを、電気的出力を維持するためにセルに供給してもよい。代わりにおよび組み合わせて、セルは、本開示のシステムおよび方法に従って断続的な電気分解で実行してもよい。断続的または自発的な電気分解からの余分な水素は、別の商業的利用のために収集してもよい。一実施形態では、ハイドリノ反応からのエネルギーによって維持される過剰な電流は、式（１８３−１９３）の反応によって例示される自発的な水の電気分解として、明白であってもよいし、また、伝播してもよい。一実施形態では、ハイドリノ、電気、酸素、または、酸素を含む化合物または化学種へのＨ_２Ｏの変換を伴うハイドリノ反応は、加水分解反応を含んでもよい。

一実施形態では、水蒸気圧は、自発的電気分解反応を維持するように制御される。反応混合物の水蒸気圧または組成物は、ＯＨ⁻、酸化物、過酸化物、超酸化物およびＨＯＯ⁻のうちの少なくとも１つなどの自発的電気分解を維持するイオンを保持するために維持してもよい。特定のイオンは、優先的に、水の電気分解、触媒およびＨの形成、およびハイドリノの形成に有利に維持される。式（１８３−１９３）の典型的な反応において、水蒸気圧は、ハイドリノを形成するために、対応する反応経路に対する超酸化物イオンの定常状態濃度を保持するために維持されている。水蒸気の圧力は、水蒸気または蒸気発生器を使用して制御してもよく、そこでは、貯水槽の温度は、システムの最低温度に維持される。システムは、水生成器、セルへの水蒸気ライン、およびセルを含んでもよい。反応物に対して平衡か、または定常状態での水の蒸気圧は、約１マイクロトールから１００気圧、約１ミリトールから１気圧または約１トールから１００トールの範囲であってよい。

電解質は、任意の所望の比率でアルカリ金属水酸化物または炭酸塩またはそれらの混合物などの水性水酸化物または炭酸塩電解質として溶融塩またはアルカリ水溶液であってもよい。水性電解質などの電解質は下記を含んでもよい：Ｍ_２ＣＯ_３、ＭＯＨ、Ｍ_２ＳＯ_４、Ｍ_３ＰＯ_４、ＭＮＯ_３（Ｍ＝アルカリ）。典型的な電解質は、濃度範囲が約０．０１Ｍから飽和までの範囲であってよい下記である：ＫＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３、ＮａＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３、ＬｉＯＨおよびＬｉ_２ＣＯ_３またはその混合物。パルスまたは断続的に印加される電圧または電流の電気分解の実施形態では、カソードとアノードの少なくとも１つは、二官能性電極を含んでもよい。電極は、所望の反応を達成するために、異なる材料を含んでもよい。所望の酸化または還元反応に対して選択的であってもよいカソードとアノードの各々は、下記の１つまたは組み合わせであってもよい：ＮｉまたはＬａＮｉ_５などの遷移金属または合金、炭素、炭素被覆Ｎｉ、Ｐｔ／ＣまたはＰｄ／Ｃなどの貴金属ドープされた炭素、ＭｏまたはＮｉなどの金属でドープされた炭素、Ｐｔ−Ｎｉ合金、Ｐｔ被覆Ｎｉ、Ａｇ、ＰｂおよびＰｔ、ＰｄまたはＡｕなどの貴金属または合金。酸化・還元のための適切な能力を有する他の安定した導体は、当業者に知られているものである。負極などの水素電極は、ＰｔまたはＰｄ／Ｃなどの水素流出触媒または水素解離子でドープされた他の高表面積支持体含んでいてもよい。水素電極は、Ｈ_２の漸進的な変化に対する低い過電圧を提供する、Ｎｉ_{３５．６３}Ｆｅ_{２４．６７}Ｍｏ_{２３．５２}Ｃｏ_{１６．１８}または同様の比率のものなどのＮｉ、Ｆｅ、ＣｏおよびＭｏの少なくとも２つの合金などの金属または合金を含んでもよい。電極は下記であってよい：ＺｒＣまたはＴｉＣなどの炭化物、ホウ化物、または窒化物、導体でドープされてもよいＡＣ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、Ｔｉ_３ＳｉＣ_２、ＴｉＣＮ、ＳｉＣ、ＹＣ_２、ＴａＣ、Ｍｏ_２Ｃ、ＷＣ、Ｃ、ＨｆＣ、Ｃｒ_３Ｃ_２、ＺｒＣ、ＶＣ、ＮｂＣ、Ｂ_４Ｃ、ＣｒＢ_２、ＺｒＢ_２、ＧｄＢ_２、ＭｇＢ_２およびＴｉＢ_２などのカーボンブラック。電極は、二官能性およびバイメタルカソードおよびアノードのうちの少なくとも１つを含んでよい。水素電極またはアノードは下記を含んでよい：ＮｉセルメットなどのＮｉ、Ｎｉ繊維マット、Ｎｉ電力、Ｍｏ、Ｍｏガーゼ、Ｍｏの繊維マット、Ｍｏ粉末または任意のそれらの組み合わせまたは他の高表面積材料。電極は、酸化被覆および典型的なリチオ化ニッケル酸化物の形成の場合などは、アルカリイオンなどの電解質からの化学種の取り込みのうち少なくとも１つを形成することによって活性化してもよい。酸化被膜は、部分的な酸素雰囲気の少なくとも１つにおける電極の操作によりおよび酸素源への暴露によって、形成してもよい。セルは、経時的に枯渇する酸素の初期充電により、断続的に、充電および放電してもよい。枯渇は、希ガスまたはＮ_２などの不活性ガスの流れによって起こってもよい。酸化被膜は、好適な酸化性溶液中でアノードなどの電極の前処理によって形成してもよい。Ｎｉ上に酸化物層を形成する典型的で好適な解決方法は、０．６ＭＫ_２ＣＯ_３／３％Ｈ_２Ｏ_２などの過酸化物のアルカリ性溶液である。活性化は、少なくとも１つのハーフセル反応の電圧を変更してもよく、それにより、ハイドリノを形成する反応がより良好になる。活性化は、電解質を含むハーフセル反応の電圧変化を含んでいてもよく、そこでは、活性化の非存在下で、それが好ましくない場合は、ハイドリノを形成するための触媒反応が良好となる。一実施形態において、電解質は、少なくとも、セルのハーフセル反応に関与するか、触媒およびＨの少なくとも１つを形成する反応物である。活性化は、ハイドリノを形成するために水素からエネルギーを受け入れるのに必要とするものと一致する電解液から、その形成時に、触媒のエネルギーと一致させることを含んでよい。典型的な電解質は下記である：アルカリ水酸化物または水酸化物の混合物などの塩との混合物およびハロゲン化物などの他の塩である。活性化セルの典型的な電解質混合物は、下記を含んでよい：ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ、ＮａＯＨ−ＮａＢｒ、ＫＯＨ−ＫＢｒおよびアルカリなどの水酸化物やハロゲン化物の組み合わせ。ハイドリノ形成用の電極を活性化するように形成された酸化被膜を含む本開示の他の金属は、水素電極またはアノードとして働いてもよい。別の実施形態では、電解質が活性化してもよい。活性化は、酸素または酸素源への暴露によるものであってもよい。活性化は、酸化物、過酸化物、超酸化物の少なくとも１つの酸素種の形成を含んでもよい。電解質は、アルカリ水酸化物などの水酸化物を含んでもよく、さらに、アルカリハロゲン化合物などのハロゲン化合物などの他の塩を含んでもよい。約１００℃から１０００℃の範囲などの高温での酸素への曝露によって活性化される典型的な電解質は、ＫＯＨ−ＫＢｒである。酸素種の形成はハイドリノの形成に有利な塩基性を変更してもよい。別の実施形態では、ハーフセル反応と電圧の少なくとも１つが、ハイドリノの形成に有利な活性化によって変更される。一実施形態では、酸素または酸素源は、活性化を引き起こすためにセルに加えられる。酸素は、０．１ｐｐｍから１０ｖｏｌ％の範囲などの微量であってよいが、ハイドリノ反応を高めるためのアノードなどの電極上に、酸化被膜を維持するのに十分であればよい。強化機構は、ハイドリノを形成するＨ触媒を可能にする１つのさらなる有利性と一致するように、原子状Ｈの提供と少なくとも１つのハーフセルのハーフセル反応電圧への準拠のうちの少なくとも１つを含んでよい。酸素は、Ｏ_２およびＨ_２ＯのＯＨ⁻への還元およびＨ_２Ｏを形成するアノードのそれなどのＯ_２還元反応の少なくとも１つなどのハーフセル電圧に影響を及ぼしてもよい。効果は、ＨおよびＯ化学を介して、直接的であってよく、酸化被膜の形成などの手段により、電極表面を変化させることにより間接的であってもよい。酸化被膜は、ハイドリノ生成反応がより良好になることを引き起こすために少なくとも１つのハーフセル反応の過電位をもたらしてもよい。

典型的な電極は、約１０％のＣｒなどのＮｉ、Ｎｉ−Ａｌ、またはＮｉ−Ｃｒ合金の１つを含んだアノードおよびＮｉＯ、Ｎｉ、Ｃｏ、ＣｏＯ、Ａｇ、およびＣｕの少なくとも１つを含んだアノードである。Ａｇカソードは、炭素上に分散したＡｇ粒子であってもよい。最適な負荷は、約２０から３０ｗｔ％の範囲である。アノードは、酸化物を形成する金属を含んでもよく、そこでは、金属原子または酸素原子のうち少なくとも１つあたりの生成自由エネルギーが、Ｈ_２とＯ_２からのＨ_２Ｏの形成とほぼ同じである。エネルギーは、約１０％から３００％または約１０％から１００％または約１０％から５０％の範囲と一致してもよい。典型的な金属は、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｃｄ、Ｓｎ、ＷおよびＰｂである。他の好適なアノード金属またはその合金は、下記の群から選ばれる少なくとも１つである：Ｃｕ、Ｎｉ、ＣｕＮｉ、ＮｉＭｏ、ＣｕＭｏ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、ＴｌおよびＳｎ。一実施形態では、カソードおよびアノードの両方が、実質的に浸漬されており、それにより、すべてではない放電中に消費される酸素のほとんどが、間欠電気分解セルの電気分解中に生成される。典型的なセルは下記のうちの少なくとも１つ：［Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、ＴｌまたはＳｎ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ／ＮｉＯ間欠電気分解］。一実施形態では、アノードなどの少なくとも１つの電極が磁化されてもよい。磁化された電極は、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏまたは合金などのの強磁性金属を含んでもよい。一実施形態では、アノードは、金属などの導体などの異なる材料の層を含んでもよい。アノードはバイメタルまたは多金属電極を含んでもよい。１つの層が、ハイドリノ反応が伝播するために有利なエネルギーを提供する、最適な電圧を確立してもよいし、他方は、電流を運んでもよい。アノードなどのバイメタル電極を形成するための典型的な材料は、Ｎｉ、ＭｏおよびＨ２４２合金のうち少なくとも２つである。カソードは、また、ＮｉとＡｇまたは本開示のカソード材料の他の組み合わせからなるものなどのバイメタル電極などの多金属などの複数の層を含んでもよい。

カソードは、ＭｎＯ_２／Ｃ、Ｍｎ_２Ｏ_３／ＣまたはＭｎＯＯＨなどの二酸化マンガンなどの酸素還元電極を含んでよい。他の好適なＯ_２還元カソードは、少なくとも下記のうちの１つである：Ｐｔ／ＣまたはＰｔＲｕ／Ｃ、Ｌａ_０．５Ｓｒ_０．５ＣｏＯ_３／Ｃ、ＣｏＴＰＰ／Ｃ、Ｌａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３／Ｃ、Ｐｔ／ＣＮＴ／Ｃ、Ｐｒ_０．８Ｃａ_０．２ＭｎＯ_３、ＣｏＴＭＰＰ／Ｃ、ＬａＭｎＯ_３／ＣおよびＭｎＣｏ_２Ｏ_４／ＣなどのＰｔ合金／Ｃ。放電アノードは、また、間欠サイクルの間に、電気分解カソードとして機能するので、従来の電極に加えて、異なる放電アノード材料は、従来のアルカリ燃料セルよりも使用してもよい。候補は下記である：ＴｉやＶなどの他の遷移金属、ＮｂおよびＨｇなどの内部遷移金属や合金、ＡｇＨｇなどのアマルガム、ＬａＮｉ_５などのレアアースおよび合金、およびグループＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、およびＶＩの金属または半金属や合金。一実施形態では、放電アノードは、安定した水素化物を形成する材料を含む。好適なアノード材料は、粉末などの多孔質材料を含む。粉末は、活性の損失に対する安定剤または抑制剤を含んでもよい。活性の損失は、焼結などの機構によって、表面積の損失からのものでありうる。好適な安定剤または抑制剤は、例えば、約２から１０ｗｔ％のＣｒなどのＮｉ−Ｃｒ合金などの合金、多孔質のＮｉまたはＣｏに添加した２０ｗｔ％のＺｒＯ_２などのジルコニアである。さらに好適なアノード材料は、ＬｉＦｅ_５Ｏ_８，ＬａＣｒＯ_３、ＭｎＯおよびＮｂまたはＴａをドープしたＴｉＯ_２、ＬｉＡｌＯ_２またはＡｌ_２Ｏ_３およびＳｒＴｉＯ_３などのＮｉまたはＣｕメッキセラミックを含む。好適なカソード材料は下記を含む：ＮｉＯ、ＣｏＯ、ＭＮｉＯ_２、Ｍ_２ＮｉＯ_２、ＭＣｏＯ_２、Ｍ_２ＣｏＯ_２、ＭＦｅＯ_２、Ｍ_２ＦｅＯ_２、Ｌｉ_２ＭｎＯ_３、Ｍｇ−Ｌｉ_２ＭｎＯ_３、Ｍｎ−ＬｉＦｅＯ_２、ＬａＭｎＯ_３、ＳｒＴｉＯ_３、ＬｉＣｒＯ_２、ＬｉＡｌＯ_２、ＬａＮｉＯ_３、ＬａＣｏＯ_３、Ｚｒ−ＺｎＯ、ＭＭ’Ｏ_２、Ｍ_２Ｍ’Ｏ_２、ＭＭ’Ｏ_ｘ、Ｍ_２Ｍ’Ｏ_ｘ（ｘは整数、Ｍ＝アルカリ、Ｍ’＝遷移金属またはＡｌなどの他の金属）、ＬｉＦｅ_１−ｙＭｇ_ｙＯ（ｙ＞０．０３）などのマグネシウムでドープしたＭ_２Ｍ’Ｏ_ｘ。一実施形態では、電極気孔率は、約２０から９５％または約５０から７５％の範囲である。細孔径は、約１から５０μｍまたは約３から１０μｍの範囲であってもよい。

カソードなどの電極の好適な酸素還元反応（ＯＲＲ）触媒は、下記のうちの少なくとも１つを含む：約５から１５ａｔ％ＡｌなどのＮｉ、Ｎｉ−Ａｌ合金、Ｎｉ_３ＡｌおよびＮｉ−Ｎｂ合金、ＭｎＯ_２、Ａｇ、混合原子価ＣｏＯ_ｘ−ＭｎＯ_ｘ、（ＣｏＴＭＰＰ、ＦｅＴＭＰＰ−Ｃｌ／Ｃ）などの金属テトラメトキシフェニルポルフィリン、金属窒化物、スピネルなどの遷移金属の混合酸化物、ペロブスカイト、Ａ_２Ｂ_２Ｏ_６Ｏ’などのパイロクロア。一実施形態では、典型的ＯＲＲ触媒は、個々の酸化物または混合物に基づくか、下記を有する：ＮｉＯ、ＮｉＯ／Ｎｉ、ＮｉＯ＋などのスピネル、ペロブスカイト、またはパイロクロア構造、下記のうちの少なくとも１つ：Ｄｙ（例えば、約１−１０ｗｔ％）、Ｃｏ_３Ｏ_４、Ｌａ_２Ｏ_３、ＭｇＯおよびＦｅ_２Ｏ_３、リチオ化ＮｉＯ、ＰＴＦＥなどの支持体上のＮｉ、ＭｎＯ_２、Ａｇ、Ｃｏ_３Ｏ_４、Ｌａ_２Ｏ_３、ＬａＮｉＯ_３、スピネルＡＢ_２Ｏ_４でＡ＝Ｍｎ、Ｂ＝Ｃｏ、ＮｉＣｏ_２Ｏ_４、ＬａＭｎＯ_３およびＬａＮｉＯ_３。アノードおよびカソードの少なくとも１つは、リチオ化ＮｉＯであってよく、そこでは、本開示におけるＮｉ電極の指定は、少なくとも部分的にＮｉＯを含んでいてもよく、任意には、部分的にリチオ化ＮｉＯ（Ｌｉ_ｘ ^＋Ｎｉ_１−２ｘ ^２＋Ｎｉ_ｘ ^３＋Ｏｘ＜０．５）またはリチウムでドープされたＮｉＯおよびＮｉである。ＯＲＲカソードなどの電極は下記を含んでよい：Ｃｏ−フタロシアニン、Ｃｏ−Ｃ−Ｎなどの同様の化合物、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ、Ｐｔまたは他の貴金属、Ｐｄ−Ｆｅ、Ｐｄ−Ｃｏ、Ｐｄ−Ｃｏ−ＡｕなどのＰｔ、Ｆｅ、ＣｏまたはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｄ合金などの合金、Ｐｄ_３Ｆｅ／Ｃナノ粒子、Ｒｕ、または結晶シェブレル相カルコゲナイド（例えば、Ｍ_６Ｘ_８そこではＭ＝高い原子価遷移金属およびＸ＝Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ；（Ｍｏ、Ｒｕ）_６Ｓｅ_８）などのルテニウム化合物、ナノ構造のＲｕ、Ｒｕ−Ｓｅのクラスタ、Ｒｕ−Ｎキレート化合物、Ｍｏ_４Ｒｕ_２Ｓｅ_８などのＲｕセレン化物、Ｒｕ_ｘＳｅ_ｙ、炭素、ドープされたカーボンナノチューブ、Ｎ−ドープされたカーボンナノチューブなどのグラフェン。電極は、さらにカーボンブラック、結合剤、電流コレクタ、およびテフロン膜を含んでよい。ゾル−ゲルおよび逆ミセル方法は、炭素上の触媒の均一、高表面積分布を形成するために使用してもよい。セルは、さらに、イオン交換に対して選択的であってもよいセパレータを含んでもよい。イオンは、アルカリセルの水酸化物イオンであってもよい。好適で典型的な実施形態では、膜は、ペンダント第四グアニジニウム基を含むポリ（アリーレンエーテルスルホン）を含有してもよい。

電極は、酸素還元と漸進的な変化のための複合電極を含んでもよい。後者は、例えば、断続的な電気分解セルで使用してもよい。電極は、酸素還元と漸進的な変化が可能な二官能性であってもよく、そこでは、活性は、対応する別個の触媒層によって提供される、または電極触媒は、二官能性であってもよい。電極とセル設計は、ＦｅまたはＺｎ空気セルなどの金属−空気セルの当業者に公知のものであってよく、または、当業者に公知の好適な修飾であってもよい。好適な電極構造は、電流コレクタ、カーボンおよびバインダーを含んでよいガス拡散層、および二官能性触媒であってもよい活性層を備える。あるいは、電極は、反対側の電流コレクタとＯ_２の漸進的な変化層の一方の側にＯ_２還元層を含んでもよい。前者は、集電体と接触する多孔の撥水性の触媒層及び酸素の源と接触する外部ガス拡散層を含むかもしれないが、しかるに、後者は、層の一方の側に電解質に接触する親水性の多孔の触媒層含むかもしれず、他方の側に集電体を含むかもしれない。二機能の空気電極は、Ｌａ_１−ｘＡ_ｘＦｅ_１−ｙＭｎＯ_３（Ａ＝Ｓｒ又はＣａ）、Ｌａ_０．６Ｃａ_０．４Ｃｏ_０．８Ｂ_０．２Ｏ_３（Ｂ＝Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、又はＣｕ）、Ｌａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３−ｄ、及びＬａ_０．７Ｃａ_０．３ＣｏＯ_３−ｄを含んでよい。更に、例示的なＯＲ触媒及び二機能性の触媒カソードは、ＰｄＯ_２／ＰｄＯ_３、ＴａＣ＋ＷＣ＋Ｗ_２Ｃ＋ＴｉＣのような炭化物、Ｃｏ／Ｃｅ−被覆Ｎｉ、ＭｎＯ_２＋Ｃ＋ＰＴＦＥ；Ｍｎイソプロポキシド＋活性化されたＣ＋１２％ＰＴＦＥ；５％ＭｎＯ_２＋７５％Ｃ（３０％ＥＣ−６００ＪＤ及び７０％ＡＢ−５０の混合物）＋２０％ＰＴＦＥ；５％ＭｎＯ_２（Ｍｎ^３＋／Ｍｎ^４＋）＋７０％Ｃ（６０％ＰＷＡ＋４０％カーボンブラック）（ＰＴＦＥ−テフロン（登録商標）３０Ｂ）；ＧＤＬ：３０％ＥＣ−６００ＪＤ＋７０％ＡＢ−５０；ＭｎＯ_２＋Ｃ（活性炭＋ＢＰ２０００）＋ＴＦＥ；粒子サイズ分布ＭｎＯ_２−２０−２６μｍ３０％ＭｎＯ_２＋２０％活性炭＋２０％カーボンブラック＋３０％ＰＴＦＥ；２０％ＭｎＯ_２＋６６％Ｃ＋１４％ＰＴＦＥ；触媒層：２０％ＭｎＯ_２＋７０％活性炭＋１０％ＰＴＦＥ；ＧＤＬ：１５％カーボンブラック＋８５％ＰＴＦＥ；１１％γ−ＭｎＯ_２＋４１％Ｃ（ＢＰ２０００）＋４８％ＰＴＦＥ；ＭｎＯ_２カソード＋ＰＴＦＥ＋２−２０％アノードに使用されるゲル化材料のような吸収材料；ＭｎＯ_２；Ａｇ／ＣＮＣ；Ｎｉフォーム上に載せたＡｇ；ＡｇＷ_２Ｃ／Ｃ；ＡｇＭｎＯ_４＋５−１０％ＭｎＯ_２＋Ｃ＋ＰＴＦＥ；ラニー（Ｒａｎｅｙ）銀触媒＋ＰＴＦＥ＝５：１（ｗｔ．％）（２４ｍｇｃｍ^−２）；Ａｇ_２Ｏ＋１０％ＬａＮｉＯ_３；５％Ａｇ＋１５％ＢＰ２０００＋１０％Ｄａｘａｄ＋６０％テフロン（登録商標）ＲＰＭＴ−３０；５０％（２０％ＣｏＴＭＰＰ／Ｃ）＋５０％（１５％ＣｏＯ_ｘ＋５％ＭｎＯ_ｘ／Ｃ）；２．５％ＭｎＯ_ｘ＋７．５％ＣｏＯ_ｘ／Ｃ；４％ＣｏＴＭＰＰ＋１５％ＢＰ２０００＋６０％テフロン（登録商標）ＲＴＭＴ−３０；ＭｎＯ_２及び／又はＡｇＮＯ_３（Ｐｔ，Ｃｏ_３Ｏ_４）；１０％ＣｏＴＭＰＰ／Ｃ＋ナフィオン（Ｎａｆｉｏｎ）＋ＦＥＰ＋ＦＥＰ−被覆ＰＴＦＥ繊維；ＣｏＴＭＰＰ＋ＭｎＯ_ｘ／Ｃ；６０％Ｍｎ_４Ｎ／Ｃ＋ＰＴＦＥ；ＮｉＣｏ_２Ｏ_４スピネル；Ｍｎ_ｘＣｏ_３−ｘＯ_４＋ＰＴＦＥ（０＜ｘ＜１）スピネル；ペロブスカイト；ＬａＭｎＯ_３；ＬａＣｏＯ_３；ＬａＮｉＯ_３；ＬａＣｒＯ_３；ＬａＦｅＯ_３；Ｌａ_０．８Ｓｒ_０．２ＦｅＯ_３；Ｌａ_０．６Ｓｒ_０．４Ｆｅ_０．６Ｃｏ_０．４Ｏ_３；Ｌａ_０．６Ｓｒ_０．４Ｆｅ_０．６Ｍｎ_０．４Ｏ_３；ＬａＮｉＯ_３；ＬａＣｏＳｒＯ_３；Ｐｂ_２Ｍ_２−ｘＰｂ_ｘＯ_７−ｙ；Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ水酸化物＋カーボンブラック＋ＰＴＦＥ；Ａｇ＋Ｐｔ＋ＭｎＯ_２＋Ｃ＋ＰＴＦＥ１０％Ｐｔ／Ｃ；鉄−空気燃料電池（ＺＡＦＣに類似）（アルカリ電解質付）：ＣｕＳＯ_４，ＮｉＷＯ_４，ＷＣ＋２０％Ｃｏ；ＷＳ_２＋ＷＣ又はＷＣ＋１−２０％Ｃｏ；ＷＳ＋Ｃ＋ＰＴＦＥ；ＷＣ＋Ａｇ＋ＣＰＴＦＥ（ＦＥＰ）；３０パートＡｇ＋３０パートＷＣ（１２％Ｃｏで被覆された）＋３２パートＰＴＦＥ＋９０パートカーボンブラック；３％（５−１０％）Ａｇ（ＯＲＲ）＋〜［７％（１０％−１５％ＦｅＷＯ_４）＋７％（１０％−１５％）ＷＣ＋〜１２％（１０％−１５％）Ｃｏ（ＯＥＲ）＋〜５４％Ｃ］＋〜２２％ＰＴＦＥ，Ａｇ担持−２ｍｇｃｍ^−２；［ＯＲＲ−Ａｇ］＋［ＯＥＲ−ＣｏＷＯ_４＋ＷＣ＋ＷＳ_２＋ＮｉＳ＋１０−１５％Ｃｏ］＋ＰＴＦＥ；ＯＲＲ触媒［（０．３−２％）ＣｏＴＭＭＰ＋（４−１０％）ＬａＮｉ_１−ｘＣｏ_ｘ＋（１−４％）Ａｇ＋（１８−３２％）Ｃｏ_ｘＯ_ｙ＋ＯＥＲｃａｔａｌｙｓｔ（１−２０％）ＷＣ＋（１−２０％）Ｃｏ＋（１−７％）ＦｅＷＯ_４＋（１−７％）ＮｉＳ］＋ＡＢ−５０＋ＰＴＦＥ；ｃａｔａｌｙｓｔｌａｙｅｒ：６３．５％ＸＣ５００＋１５％ＰＴＦＥ＋１３％ＭｎＳＯ_４＋８．５％Ｌａ_２Ｏ_３；１５％ＰＴＦＥ＋６９％ＸＣ５００＋８％ＭｎＯ_２＋８％Ｌａ_２Ｏ_３；５８％ＸＣ５００＋１５％ＰＴＦＥ＋１９％ＡｇＮＯ_３＋８％ＭｎＳＯ_４；ＧＤＬ：６５％Ｃ＋３５％ＰＴＦＥ；ＯＥＲ電極３０％Ａｇ＋７０％ＬａＮｉＯ_３；Ｌａ_１−ｘＡ_ｘＦｅ_１−ｙＭｎ_ｙＯ_３（Ａ＝Ｓｒ，Ｃａ）；Ｌａ_０．６Ｃａ_０．４Ｃｏ_０．８Ｆｅ_０．２Ｏ_３，及び、当業者に知られたたそれらの組成の比率及び類似組成又はこれらを持つ他の類似の実施例である。もう１つの実施例において、カソードは、アノードの金属を更に含むかもしれない酸化物、水酸化物、又はオキシ水酸化物を含んでよい。好適な例において、カソードは、Ｍｏ、Ｗ、Ｈｆ、又はＴａのオキシ水酸化物を含み、対応するアノードは、金属Ｍｏ、Ｗ、Ｈｆ、又はＴａの金属又は合金を含む。

アノードのような電極は、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｌａ、Ｈｆ、そしてＺｒ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｎｉ、及びＷの少なくとも１つとＨｆのようなＨｆ合金、Ｒｅ、Ｉｒ、Ａｕ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、及びＴｅのようなＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、又はＶＩ族金属、希土類金属、Ｍｏのような内部遷移金属、遷移金属、貴金属の少なくとも１つのような更にもう１つの金属でドーピングされて、或いは、単独で、Ｎｉマット、ホイル、粉末、又はワイヤとなったものを含んでよい。アノードは、ニッケル又はＮｉＮｂ，ＮｉＣｒ，ＮｉＣｏ，ＮｉＣｕ，ＭｏＮｉ，ＨｆＮｉ，ＴａＮｉ，ＷＮｉ，ＶＮｉ，ＺｒＮｉ，ＣｄＮｉ，ＮｂＮｉ，及びＴｉＮｉのようなニッケル合金又はニッケル自身；Ｓｎ又はＳｎＡｇ，ＳｎＡｌ，ＳｎＡｓ，ＳｎＡｕ，ＳｎＢａ，ＳｎＢｅ，ＳｎＢｉ，ＳｎＣａ，ＳｎＣｄ，ＳｎＣｄ，ＳｎＣｅ，ＳｎＣｏ，ＳｎＣｒ，ＳｎＣｕ，ＳｎＦｅ，ＳｎＧａ，ＳｎＧｅ，ＳｎＨｆ，ＳｎＨｇ，ＳｎＩｎ，ＳｎＫ，ＳｎＬａ，ＳｎＬｉ，ＳｎＭｇ，ＳｎＭｎ，ＳｎＮａ，ＳｎＮｂ，ＳｎＮｄ，ＳｎＮｉ，ＳｎＰ，ＳｎＰｂ，ＳｎＰｄ，ＳｎＰｒ，ＳｎＰｔ，ＳｎＳ，ＳｎＳｂ，ＳｎＳｅ，ＳｎＳｉ，ＳｎＳｒ，ＳｎＴｅ，ＳｎＴｉ，ＳｎＵ，ＳｎＶ，ＳｎＹｂ，ＳｎＺｎ，及びＳｎＺｒのようなＳｎ合金；Ａｌ又はＡｌＡｓ，ＡｌＡｕ，ＡｌＢ，ＡｌＢａ，ＡｌＢｅ，ＡｌＢｉ，ＡｌＣａ，ＡｌＣｄ，ＡｌＣｅ，ＡｌＣｏ，ＡｌＣｒ，ＡｌＣｓ，ＡｌＣｕ，ＡｌＤｙ，ＡｌＥｒ，ＡｌＦｅ，ＡｌＧａ，ＡｌＧｄ，ＡｌＧｅ，ＡｌＨｆ，ＡｌＨｇ，ＡｌＨｏ，ＡｌＩｎ，ＡｌＫ，ＡｌＬａ，ＡｌＬｉ，ＡｌＭｇ，ＡｌＭｎ，ＡｌＭｏ，ＡｌＮａ，ＡｌＮｂ，ＡｌＮｄ，ＡｌＮｉ，ＡｌＰｂ，ＡｌＰｄ，ＡｌＰｒ，ＡｌＰｔ，ＡｌＰｕ，ＡｌＲｅ，ＡｌＲｕ，ＡｌＳｂ，ＡｌＳｃ，ＡｌＳｅ，ＡｌＳｉ，ＡｌＳｍ，ＡｌＳｎ，ＡｌＳｒ，ＡｌＴａ，ＡｌＴｅ，ＡｌＴｈ，ＡｌＴｉ，ＡｌＴｉＭｏ，ＡｌＴｌ，ＡｌＵ，ＡｌＶ，ＡｌＷ，ＡｌＹ，ＡｌＹｂ，ＡｌＺｎ，及びＡｌＺｒのようなＡｌ合金；Ｈｆ又は、ＨｆＡｌ，ＨｆＢ，ＨｆＢｅ，ＨｆＣ，ＨｆＣｏ，ＨｆＣｒ，ＨｆＣｕ，ＨｆＦｅ，ＨｆＧｅ，ＨｆＩｒ，ＨｆＭｎ，ＨｆＭｏ，ＨｆＮｂ，ＨｆＮｉ，ＨｆＯ，ＨｆＲｅ，ＨｆＳｎ，ＨｆＴａ，ＨｆＴｈ，ＨｆＴｉ，ＨｆＵ，ＨｆＷ，ＨｆＺｒ，及びＨｆＩｎのようなＨｆとＺｒ，Ｆｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｎｉ，及びＷの少なくとも１つのような合金；Ｍｏ、又は、ＭｏＳｉ_２，ＴＺＭ（Ｍｏ（〜９９％），Ｔｉ（〜０．５％），Ｚｒ（〜０．０８％）），ＭｏＢ，ＭｏＣ，ＭｏＣｕ，ＭｏＣｏ，ＭｏＣｒ，ＭｏＦｅ，ＭｏＧｅ，ＭｏＨｆ，ＭｏＩｒ，ＭｏＯｓ，ＭｏＮｂ，ＭｏＮｉ，ＭｏＰｄ，ＭｏＰｔ，ＭｏＲｅ，ＭｏＲｈ，ＭｏＲｕ，ＭｏＳ，ＭｏＳｉ，ＭｏＴａ，ＭｏＴｈ，ＭｏＴｉ，ＭｏＵ，ＭｏＶ，ＭｏＷ，窒化モリブデン，ＮｉＣｒＭｏＴａＮｂ，及びＭｏＹのようなＭｏ合金若しくは化合物；Ｃｒ，Ｃｒ合金；Ｗ、又はＷＡｌ，ＷＢ，ＷＣ，ＷＣｏ，ＷＣｒ，ＷＦｅ，ＷＨｆ，ＷＭｏ，ＷＮｂ，ＷＮｉ，ＷＯｓ，ＷＰｂ，ＷＰｄ，ＷＰｔ，ＷＲｅ，ＷＲｈ，ＷＳｉ，ＷＴａ，ＷＴｉ，ＷＶ，及びＷＺｒのようなＷ合金；Ｔａ，及び、ＴａＡｌ，ＴａＢ，ＴａＣ，ＴａＣｏ，ＴａＣｒ，ＴａＦｅ，ＴａＨｆ，ＴａＭｏ，ＴａＮｂ，ＴａＮｉ，ＴａＰｄ，及びＴａＲｈのようなＴａ合金；ＶＢ，ＶＣｕ，ＶＦｅ，ＶＧａ，ＶＬａ，ＶＭｎ，ＶＭｏ，ＶＮｂ，ＶＮｉ，ＶＰｄ，ＶＰｔ，ＶＲｅ，ＶＲｈ，ＶＳｉ，ＶＴａ，ＶＴｉ，ＶＵ，ＶＷ，ＶＹ，及びＶＺｒのようなバナジウム合金；ＡｇＭｏ，ＡｇＮｉ，ＨｇＭｏ，ＨｇＮｉ，又はＡｇＨｇのようなＡｇ又はＨｇ合金のようなセル温度で不安定な酸化物を形成する金属の合金；のような金属及びそれらの合金の少なくとも１つを含んでよい。更に典型的な合金は、ＭｏＴｉＡｌ，ＭｏＶＡｌ，ＮｉＺｒＭｏ，ＮｉＭｇＭｏ，ＮｉＡｌＭｏ，ＮｉＣｕＭｏ，ＮｉＭｏＳｉ，ＮｉＣｒＳｉ，６２５（２１％Ｃｒ，９％Ｍｏ，４％Ｎｂ−Ｎｉ合金）のようなインコネル合金，インコネル６２２，Ｃ−２７６，及び６８６，ハステロイ合金，ハステロイＣ２２，Ｎｉ−Ｃｒ−Ｍｏ−Ｗ合金，５６^ａＮｉ−２２Ｃｒ−１３Ｍｏ−３Ｗ−３Ｆｅ−２．５＊Ｃｏ−０．５０＊Ｍｎ−０．３５＊Ｖ−０．０８＊Ｓｉ−０．０１０＊Ｃ（^ａＡｓＢａｌａｎｃｅ^＊Ｍａｘｉｍｕｍ），炭素鋼，合金２０，２４２又は５５６（例えば、ヘイス・インターナショナル），ＭｇＭｏ，ＭｇＡｇ，ＭｇＡｌ，ＭｇＢｉ，ＭｇＣｄ，ＭｇＡＣｏ，ＭｇＣｕ，ＭｇＦｅ，ＭｇＧａ，ＭｇＧｄ，ＭｇＨｇ，ＭｇＩｎ，ＭｇＬａ，ＭｇＭｎ，ＭｇＮｉ，ＭｇＰｂ，ＭｇＰｒ，ＭｇＳｂ，ＭｇＳｃ，ＭｇＳｉ，ＭｇＴｉ，ＭｇＹ，ＭｇＺｎ，及びＭｇＺｒのようなＭｇ合金，ＴｉＡｌ，Ｃｕ_６Ｃｏ_４，ＢＭｏ合金，Ｃａ合金，ＬａＴｉＡｌのようなＬａ合金，ＭｏＡｇ合金；ＭｏＳｉ及びＭｏＣｒ合金；ＳｎＺｒＭｏ，ＣｒＮｉＭｏ，ＭｎＮｉＭｏ，ＭｏＴｉ，ＭｏＰｂ，ＴａＣ合金，ＭｏＳ合金，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｍｏ，及びＴＺＭの少なくとも１を含む合金である。アノードのような電極は、ＣｏＣ，ＣｒＣ，ＣｕＣ，ＦｅＣ，ＧｅＣ，ＨｆＣ，ＩｒＣ，ＬａＣ，ＬｉＣ，ＭｎＣ，ＭｏＣ，ＮｂＣ，ＮｉＣ，ＲｅＣ，ＳｉＣ，ＴａＣ，ＴｉＣ，ＶＣ，ＷＣ，ＹＣ，及びＺｒＣのような合金又はカーボンを含んでよい。追加的な好適な合金は、ＭｏＭｎ，ＭｏＣｕＳｉ，ＭｏＣｏＳｉ，及びＭｏＮｉＳｉのようなＭｏＳｉ−遷移金属，ＭｏＳｉＣ，遷移金属−ＳｉＣ，ＹＳｉＣ，ＬａＳｉＣ，ＺｒＳｉＣ，ＨｆＳｉＣ，ＮｂＳｉＣ，ＴａＳｉＣ，ＷＳｉＣ，ＭｏＮｉＣ，ＮｉＭｏＦｅ，ＭｏＣｏＣ，ＭｏＣｕＣ，ＬａＮｉＣ，ＭｏＨｆＮｉ，ＮｉＺｒＨｆ，ＭｏＴｉＮｉ，ＴｉＮｂＭｏ，ＣｏＣｕＣ，ＣｏＣｕＳｉ，ＮｉＺｒＴａ，ＮｉＭｏＴａ，ＮｉＭｏＷ，ＮｉＭｏＮｂ，ＣｒＭｏＷ，ＶＮｂＴａ，ＴｉＺｒＨｆ，ＬａＮｉＭｏ，ＬａＮｉＨｆ，ＬａＮｉＴａ，ＬａＮｉＭｏ，ＬａＮｉＷ，ＬａＮｉＮｂ，ＬａＮｉＣｒ，ＬａＮｉＶ，ＬａＮｉＴｉ，ＬａＮｉＺｒ，ＬａＮｉＳｃ，ＬａＮｉＹ，ＮｉＺｒＷ，ＮｉＺｒＮｂ，ｓｕｃｈａｓＭｏＴｉＺｒ，ＭｏＳｉ，ＭｏＣ，Ｎｉ−ＴＺＭ，ＭｏＺｒＮｉ，ＬａＮｉ_５Ｍｏ，ＬａＮｉ_５Ｈｆ，ＬａＮｉ_５Ｔａ，ＬａＮｉ_５Ｍｏ，ＬａＮｉ_５Ｗ，ＬａＮｉ_５Ｎｂ，ＬａＮｉ_５Ｃｒ，ＬａＮｉ_５Ｖ，ＬａＮｉ_５Ｔｉ，ＬａＮｉ_５Ｚｒ，ＬａＮｉ_５Ｓｃ，ＬａＮｉ_５Ｙ，及びＬａＮｉ_５Ｃのような遷移金属−Ｚｒ−Ｍｏである。比率は、二種類の金属に対しては、約５０−５０ｗｔ％、及び、三種類の金属に対しては、３３−３３−３３ｗｔ％のような如何なる所望の比率でよい。典型的なセルは、［ＮｉＭｏ，ＭｏＳｉ，ＭｏＣ，Ｎｉ−ＴＺＭ，ＭｏＺｒＮｉ，ＲｕＭｏ，ＲｈＭｏ，ＯｓＭｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／ＮｉＯ又はＣｏ_２Ｏ_３−ＣｕＯ−ＮｉＯ電属的な電気分解］である。他の実施例において、電極金属又は合金は、本開示の方法のような蒸着又はプラズマ蒸着によって又は電気めっきによってのような電解作用にによって付着されてよいコーティング又は層を含んでよい。Ｒ−Ｎｉ放電アノードを含む典型的なセルは、［Ｒ−Ｎｉ／Ｋ_２ＣＯ_３０．６Ｍａｑ／Ｎａｆｉｏｎ又はセルガード／カーボン又はＮｉ断続的な電気分解］である。

一実施形態では、電極は、三相流動床などの流動床を含んでもよい。この例では、電解質は、アルカリ性溶液または溶融物を含み、電極は、電流コレクタとしてＮｉ穿孔プレートを有するラネー銀であり、そこでは、酸素または空気などの酸素源が、電力出力を所望のレベルへ最適化する流速で電極に供給される。別の実施形態では、アノードは、Ｒ−Ｎｉであり、そこでは、Ｈ_２は、酸素の供給源にに取って代わる。

電極材料が電解質に可溶である場合には、腐食防止剤を添加してもよい。阻害剤は下記を含んでよい：オキシアニオンなどの化合物、Ｍｏ、Ｗ、Ｈｆ、Ｔａなどのアノードの金属を含むハロゲン化合物およびＴｉなどの遷移金属。例えば、ＬｉＯＨを含む電解質を有するＭｏアノードは、アルカリに可溶であるＭｏＯ_２、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３またはＬｉ_２ＭｏＯ_４を形成するように、酸化してもよい。この生成物は、飽和状態に到達するのを許したり、または、腐食を抑制し飽和を達成するために、電解質に添加してもよい。一実施形態では、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３またはＬｉ_２ＭｏＯ_４の濃度は、約０．１から１０ｗｔ％、または、約０．５から３ｗｔ％である。あるいは、添加剤は、さらに、下記などの腐食を阻害してもよい：ホウ酸リチウム、ケイ酸リチウム、ＭｇＯ、ＭｏＢｒ_２またはＭｏＢｒ_３、ＭｏＳ_２、ＭｏＳｅ_２、ＭｏＴｅ_２、Ｂｉ_３Ｍ’Ｍｏ_２Ｏ_１２などのＭｏＸｎ（Ｘ＝ハロゲン化物、ｎ＝整数）、そこでは、Ｍ’は、ＦｅまたはＳｃ、Ｍ’ＭｏＯ_４などの遷移金属を含んでもよく、そこでは、Ｍ’は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、ＣｕおよびＺｎ、またはＭ’_２ＭｏＯ_４などのアルカリ土類または遷移金属を含んでもよく、そこでは、Ｍ’はアルカリ金属である。Ｍ’ＭｏＯ_４またはＭ’_２ＭｏＯ_４は、さらに、それぞれ、Ｍ（ＯＨ）_２またはＭ’ＯＨの形成を伴う触媒源として働いてもよく、そこでは、ＯＨ⁻はＨと反応し、Ｈ_２Ｏ触媒を形成してもよい。添加剤は、ＷまたはＭｏの１つなどのポリアニオンを含み、ポリタングステン酸塩またはポリモリブデン酸塩イオンまたは化合物を含んでよい。一実施形態では、アノード、カソード、または電解質成分の少なくとも１つは、ＷまたはＭｏの青銅を含んでよい。一実施形態において、添加剤は、アノード金属の酸化よりも、水の形成に有利に働くように、ネルンストの式の電位をシフトしてもよい。別の実施形態では、ＭｏＯ_２、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３またはＬｉ_２ＭｏＯ_４添加剤は、マトリックス材料を含み、そこでは、アノードなどの電極は、Ｍｏ以外の金属または導体を含んでいてもよい。典型的なセルは、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ＋ＭｏＯ_２、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３またはＬｉ_２ＭｏＯ_４／Ｎｉ＋空気；断続電気分解］である。一実施形態では、カソードは、Ｍｏなどのカソードの金属を含む化合物を含んでもよい。典型的なセルは、［Ｍｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｍｏ_６Ｓｅ_８またはモリブデンオキシ酸化物断続電気分解］である。一実施形態では、カソードおよびアノードは、一方の電極から他方に移動してもよい、同じ金属、合金、または元素の供給源を含んでもよい。アノードおよびカソードは、間欠充放電中に定期的に逆転してもよく、それにより、放電アノードが周期的に放電カソードとなる。典型的な移動金属、合金、または元素は、Ｃｄ、Ｎｉ、ＣｄＮｉ、ＭｏおよびＭｏＮｉである。Ｍｏは塩基に溶解するが、Ｎｉはしないので、Ｎｉアノードを有したＬｉ_２ＭｏＯ_４マトリックスなどのＭｏマトリックスを持つ典型的な実施形態は、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ（Ｌｉ_２ＭｏＯ_４マトリックス）／Ｎｉ−ＮｉＯ両電極が浸漬した断続電気分解］である。一実施形態では、アノードでの安定した合金を形成する化合物を、電解質に添加してもよい。一例としては、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒＮｉＢｒ_２／Ｎｉ−ＮｉＯ間欠電気分解］などのＭｏアノードを含むセル内のＭｏアノードで安定ＭｏＮｉ合金を形成するＮｉＢｒ_２などの可溶性のＮｉ化合物である。

一実施形態では、酸化された放電アノードは、放電アノードを還元するために負電位を印加することによって再生してもよい。電気分解は、再生を引き起こす典型的なものよりも高い負電圧で実施してもよい。これにより、放電アノードは、再生ステップの電気分解カソードとされる。水素は、また、過剰な酸化物の還元に寄与するこのステップ中に生成されてもよく、その結果、アノードが、機能状態に復元してもよい。印加されるセル電圧の大きさは、約０．５Ｖから５Ｖ、約１Ｖから２Ｖ、または約１Ｖから１．５Ｖの範囲内であってもよい。

別の実施形態において、電解質は、酸化されたアノード元素を析出するアニオンを含む。例えば、ＰｂＳＯ_４およびＰｂＦ_２は、Ｈ_２Ｏに不溶である。これも、また、溶融塩電解質の場合であってもよい。その後、典型的な実施形態では、ＬｉＦまたはＬｉ_２ＳＯ_４は、Ｐｂアノードで、電解質に添加される。他の例としては、Ａｇの硝酸塩、および塩化物、臭化物、およびＡｇおよびＰｂ（ＩＩ）のヨウ化物であり、これらのイオンは、ＡｇまたはＰｂを含むアノードを持つセルの電解質に添加されるか、または、濃度は、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨまたはＬｉＣｌ−ＬｉＯＨなどの混合塩において、増加する。

ＬｉＯＨなどの電解質が、Ｍｏアノードなどのアノードなどの電極と反応してもよい場合には、Ｌｉ_２ＯおよびＭｏＯ_２のうちの少なくとも１つなどの少なくとも１つの生成物は、腐食抑制するために添加されてもよい。ＳなどのＳの供給源、または、硫化物または硫化水素などのＳを含む化合物は、電極の腐食を低減するために、電解質に添加してもよい。Ｌｉ_２Ｓ、ＭｇＳまたはＬｉＨＳなどのＳの供給源は、水酸化物に過酸化物を変換などの反応性の低い化学種に、反応Ｏ化学種を変換するために、Ｈバッファとして機能することができる。Ｓ化学種は、Ｏ、ＯＨ、ＯＨ⁻、ＯＯＨ、ＯＯＨ⁻のうちの１つ以上のものなどの酸素種で、Ｈを交換することができるＨバッファを含んでいてもよい。
例示的な反応は以下のとおりである。
ＳＨ⁻＋Ｏ → ＯＨ⁻＋Ｓ（１９４）
Ｓ化学種は、溶融あるかり塩の塩基度を変更してもよい。ＳのようなＳ化学種が、ハイドリノに対するゲッターとして働いてもよい。

一実施形態では、アノードなどの少なくとも１つの電極は、腐食から保護されてもよい。アノードなどの腐食保護された電極は、ＭｏＮｉまたはＭｏＣなどのＮｉＣｒまたはＭｏなどのＮｉ合金などの合金を含んでよい。セルは、アノードなどの少なくとも１つの電極を、腐食から保護するために、過酸化物またはそのイオンまたは超酸化物などの活性酸素還元生成物を水酸化物に変換するための触媒を含んでいてもよい。好適な触媒は、Ａｌ_２Ｏ_３またはカーボンなどの支持体上にあってもよいＰｔまたはＰｄなどの貴金属である。他の好適な触媒は、ＣｏまたはＦｅの化学種である。あるいは、Ｈ_２Ｏの添加は、過酸化物または超酸化物を水酸化物に変換するため使用してもよい。Ｍｏアノードは、Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３などの水酸化物を形成するために、触媒または支持触媒に埋め込んでもよい。

過酸化物および他の活性酸素種によるアノード腐食は、ＮｉＭｏなどのＮｉを含むものなどの耐食合金を使用することによって回避してもよい。過酸化腐食は、また、浸漬カソードを使用するか、あるいは制御されたガス雰囲気または空気拡散障壁としての固体電解質層により、Ｏ_２の圧力を制限することによって、防止することができる。セル雰囲気中のＯ_２が制限されるか、または、除外される実施形態では、カソードは浸漬されない。反応速度論は、酸素還元率の傾向ＬｉＯＨからＮａＯＨ＜＜ＫＯＨを考慮した適切な酸素還元率を有する電解質塩混合物を使用することによって維持してもよい。速度は、温度によって制御してもよく、そこでは、速度は、より低い温度で低減され、その逆の場合も同様である。過酸化物濃度は、ＯＨ⁻、４電子還元、過酸化物上の経路、２電子還元、経路に有利である酸素還元触媒を含むカソードを使用することによって還元することができる。水は反応物であるため、前者は、高いＨ_２Ｏ圧力で有利になる。また、水は、過酸化物イオンと反応し、ＯＨ⁻への変換によってそれらを非活性化する。また、過酸化物から水酸化物への変換触媒は、過酸化腐食からアノードを保護するために、アノードまたはカソードで使用することができる。Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３などのＰｔまたは鉄ハロゲン化合物などのＦｅ種またはコバルトペロブスカイトなどのＣｏ種が、転換触媒として働いてもよい。アノードは、また、化学種を提供して、活性酸素中間体と反応させることにより、または、化学的にアノードを保護することによって保護してもよい。例えば、追加の水素などの還元反応物は、Ｈ_２雰囲気の適応または水素透過による手段によって、アノードに設けてもよい。例えば、ＭｏＯ_４ ^２−を形成する過酸化物と反応するＭｏＯ_２などの添加剤や、ＣＯ_３ ^２−および１／２Ｏ_２と反応するＣＯ_２は、他の典型的な反応物である。アノード金属腐食の抑制は、例えば最大５０％まで、Ｈｇで金属をアマルガム化することによって達成してもよい。典型的なアマルガムアノードは、ＡｇＨｇである。

一実施形態では、ＭｏまたはＴＺＭなどの腐食性アノードは、ＭｏＳ_２、ＭｏＳｅ_２またはテフロン（登録商標）の１つなどの保護層で被覆されている。別の実施形態では、間欠電気分解サイクルの充電電圧は、アノードから電解質に溶解したり、または、アノード上に電気めっきされた塩などの化合物として、電解質に添加されたいくつかの金属を引き起こすのに十分に高い。アノードがＭｏを有している場合には、添加塩は、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３またはＬｉ_２ＭｏＯ_４などのモリブデン化合物であってもよい。電解質は、水酸化物を含んでよい溶融共晶塩を含んでもよい。電解質は、水酸化物が添加されたアルカリハロゲン化物塩混合物などの溶融共晶塩を含んでもよい。典型的な電解質は、ＬｉＯＨを添加したＬｉＣｌ−ＫＣｌまたはＬｉＣｌ−ＫＣｌ−ＬｉＦである。ＬｉＯＨは、少数派の化学種であってよい。添加剤は、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３またはＬｉ_２ＭｏＯ_４であってよい。モル％は、任意の所望の値であるか、または、約０．１から２０モル％、または約１から３モル％の範囲であってもよい。電極は、ＭｏまたはＭｏが電気めっきされたＮｉなどの他の金属であってもよい。セル電圧は、Ｍｏを再電気めっきするために、１Ｖよりも高くてもよい。セル電圧は、約０．９から２Ｖ、または、約１．１４Ｖより大きい範囲であってよい。一実施形態では、電気分解は、アノード金属を電気めっきする第１電圧および水素を生成する第２電圧などの複数の電圧で行ってもよい。一実施形態では、アノード金属は、可溶性金属化合物または水酸化物イオン錯体などの錯体を形成する。金属は、間欠サイクルの電気分解段階中に、アノード上に電気めっきされてもよい。好適な錯体は、Ｚｎ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｓｎ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｓｎ（ＯＨ）_６ ^２−、Ｐｂ（ＯＨ）_４ ^２−、Ｃｒ（ＯＨ）_４ ⁻、Ａｌ（ＯＨ）_４ ⁻およびＳｂ（ＯＨ）_４ ⁻であり、そこでは、放電アノードは対応する金属を含む。電解質から置き換えるのに好適で典型的な金属は、Ｃｕ、Ｎｉ、ＮｉＣｕ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｅ、ＴｌおよびＳｎである。

ＣＩＨＴまたは電気分解セルの一実施形態では、少なくとも１つの電極は、配位化合物などの導電性化合物を含む。配位化合物は、ＮｉまたはＰｔなどの金属などの電流コレクタ上に固定化してもよい。配位化合物は、ポリマーを含んでもよく、そこでは、ポリマーは、配位化合物に導電性を与えてもよい。配位化合物は、ＦｅやＮｉなどの遷移金属イオンの１つなどのシクロペンタジエニル化合物などのサンドイッチ化合物を含んでよい。好適で典型的な化合物およびポリマーは下記の少なくとも１つである：ｎ−ブチルフェロセン、１，１’−ジメチルフェロセン、フェロセン誘導体、１，２，４−トリアゾールのＮａなどの塩、イミダゾールのＮａなどの塩、１，２，５−トリシアノベンゼン（ＴＣＢ）、テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリビニルフェロセン、ポリビニルニッケロセン、またはポリビニルコバルトセン、カーボンナノチューブおよびフラーレン。セルは、低温などで、化合物またはポリマーの熱分解温度未満で動作する。ＣＩＨＴセルは、約１０℃から１５０℃の温度範囲で動作してもよい。セルは、有機溶媒やイオン性液体などの他の溶媒を含んでもよい水性電解質などの液体電解質を含んでもよく、また、さらに、本開示のものなどの溶質をふくんでもよい。電解質は、中性、塩基、または酸性であってもよい。典型的な電解質は下記である：ＫＯＨなどのアルカリ水酸化物などの水性水酸化物、Ｋ_２ＣＯ_３などのアルカリ炭酸塩などの炭酸塩、およびＨ_２ＳＯ_４またはＨ_３ＰＯ_４などの酸。一実施形態では、少なくとも１つの電極は下記を含んでよい：少なくとも１つの金属酸化物、水酸化物、オキシ水酸化物、または、遷移金属酸化物、水酸化物またはオキシ水酸化物などのそれらの混合物。酸化された金属は、導電性支持体上に電気めっきされてもよい。典型的な金属酸化物、水酸化物およびオキシ水酸化物とは、少なくとも下記の１つである：Ｎｉの上に電気めっきすることができるＣｕＯ、ＦｅＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＦｅＯＯＨ、ＮｉＯ、ＮｉＯＯＨ、Ｎｉ_２Ｏ_３およびＣｏ_２Ｏ_３。

一実施形態では、アノードは、電解質および水やＯ_２の還元からの少なくとも１つなどの空気還元生成物の少なくとも１つと反応する。反応は、水素を放出してもよい。水素は、触媒を形成し、ハイドリノを形成するために、電解質との反応の少なくとも１つを受けてもよい。アノードは、断続的な電解によるアノード酸化生成物の還元によって再生してもよい。典型的な実施形態では、ＭｏまたはＭｏ合金金属アノードは、金属酸化物を形成するためのＬｉＯＨなどの水酸化物電解質と反応する。反応生成物は、ＭｏＯ_２、Ｌｉ_２Ｏ、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３，および水素のうちの少なくとも１つであってもよい。水素は、ＯＨ⁻と反応して、Ｈ_２Ｏなどの触媒を形成してもよい。触媒は、ハイドリノを形成するために付加的なＨと反応してもよい。Ｍｏは、断続的な電気分解を適用することにより、アノード上に置き換えてもよい。電解質に溶解するモリブデンの酸化物は、好適な選択的な電圧と電流のパラメータを用いて、電気めっきしてもよい。その後、間欠サイクルの間、Ｈ_２は、電力を生成するハイドリノのその後の形成を伴う化学反応によって形成され、セルアノードは、電気分解により、間欠的に再生される。

一実施形態では、アノードは、水素雰囲気での腐食から保護される。水素は、水素ガスを加えることによって、または、少なくとも部分的にアノードを含んでもよい膜を介した水素透過によって提供されてもよい。水素保護は、断続的な電気分解などによって、その場で形成される水素の濃度によって提供されてもよい。アノードは、金属中心などのＨ結合中心の少なくとも１種および少なくとも１つの支持体を含み、そこでは、支持体は、優先的にこれらの中心に有効なＨ原子濃度を増加させるために、移動して、中心に結合するために、対応する中心表面に発生する水素の移動性を可能にする。好適で典型的な中心は、アノード金属などの金属、Ｍｏ，Ｎｉ，Ｐｄ，およびＰｔなどの本開示の合金であり、好適で典型的な支持体は、炭素、炭化物、窒化物、ホウ化物などの本開示のものである。典型的なセルは下記である：［炭素、Ｎｉカーボン、Ｍｏカーボン、ＮｉＭｏカーボン、ＰｔＣ、ＰｄＣ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／蒸気カーボン（ＳＣ）、ＮｉＯ、ＰｔＮｉＯ、またはＡｇＮｉＯ；空気カソードまた浸漬カソード］。セルは、Ｌｉ_２ＭｏＯ_４などの電解質マトリックス材料またはテフロン（登録商標）などの膜スペーサを含んでもよい。典型的なセルは下記である：［グラファイトなどの炭素粉末、ＡＣ、カーボンブラック、ガラス状炭素、バルカンＸＣ−７２＋ＭｏまたはＮｉ粉／テフロンシート−ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／蒸気カーボン］および［炭素粉末＋Ｍｏ粉末／Ｌｉ_２ＭｏＯ_４＋ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／ＮｉＯ］。炭素を含むものなどのアノードは下記を含んでもよい：リチウムイオンセルのアノード、本開示や下記などの私の先行米国特許出願のものなどの変形；水素触媒反応器、ＰＣＴ／ＵＳ０８／６１４５５、ＰＣＴ出願４／２４／２００８、異種水素触媒リアクター、ＰＣＴ／ＵＳ０９／０５２０７２、ＰＣＴ出願７／２９／２００９、異種水素触媒パワーシステム、ＰＣＴ／ＵＳ１０／２７８２８、ＰＣＴ出願３／１８／２０１０および電気化学水素触媒パワーシステム、ＰＣＴ／ＵＳ１１／２８８８９、ＰＣＴ出願３／１７／２０１１、その全体が参考として援用。一実施形態では、好適なアノードは、水および安定した空気である。

金属は、炭素マトリックス中に含浸させてもよい。金属は、ナノクラスターなどのクラスタであってよい。炭素は、アノードとして機能し、金属に対する還元環境を提供するために、水素を吸収してもよい。還元環境は、金属の腐食を防止してもよい。アノードの外面は、少なくとも部分的に、または、過酸化水素などの活性酸素種を分解する貴金属などの材料で薄く被覆されてもよい。

一実施形態において、電解質は、大気などの供給源からＨ_２Ｏを吸収する塩などの吸湿性化合物を含む。化合物は、ＣＩＨＴセルの電解質として機能する水和状態を維持してもよい。水和した電解質は、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒなどの共融混合物などの乾燥塩の融点よりも低い温度で、イオン導電性であってもよい。電解質は、Ｌｉ_２ＣＯ_３、Ｌｉ_２Ｏ、ＬｉＯＨおよびＬｉＢｒの混合物などのスラリーを維持するために、塩の混合物を含んでもよい。他の吸湿性添加剤は、ＫＭｇＣｌ_３、ＭｇＣｌ_２、ＣａＣｌ_２およびＫＯＨなどの本開示のものなどを加えてもよい。水和化合物は、埋葬電気分解セル向けの電解質として働いてもよい。あるいは、水素電極は、水素散布電極を含んでもよい。セルは、室温から非水和電解質の融点までの温度範囲などの低温で実行されてもよい。

電気分解時に、酸素をアノードで形成し、水素をカソードで形成してもよい。Ｏ_２は、Ｏ_２ガスまたは空気などの供給源からの散布によって提供されてもよい。電気分解停止や放電段階では、Ｏ_２とＨ_２Ｏが、ＯＨ⁻を形成するために、電気分解アノードで、還元を受けてもよいし（式（１７２））、ＯＨ⁻は、電気分解カソードでハイドリノを形成するために触媒としてはたらいてもよいＨ_２Ｏを形成するために、酸化され、Ｈと反応してもよい（式（１７１）。これにより、セルは、サイクルの各段階の反転電流の極性に対して、充放電間は、一定の極性を維持してもよい。出力は、調整されたパワーや波形であってよい。別の実施形態では、式（１７１）によって与えられる反応は、ハイドリノ生成物が不可逆であることを除いて、両方の電極で可逆的に起こる。（本開示で与えられる間欠充放電セルの指定は、［放電アノード／電解質／放電カソード］などの放電モードである。一実施形態では、この指定は、［負極／電解質／正極］に相当するが、他の実施形態では、極性が逆であってもよい。電流は、断続電気分解サイクルの充放電段階の間に、断続的に反転してもよい。）典型的なセルは、［Ｐｔ／ＬｉＯＨ０．１Ｍから飽和水溶液／Ｐｄ＋空気断続充放電］である。他の実施形態では、両方の電極がＮｉまたは１つはＮｉで、他のものが、Ｐｔ、Ｐｄ、ＤＳＡ材料などのことなる材料、他の貴金属、炭素、Ａｇ、本開示の材料、またはこれらの材料の１つ以上のもの、またはＰｔ／Ｔｉなどの支持体上の本開示の他のものであり、電解質は、約０．１Ｍから飽和までの濃度範囲における水溶性ＫＯＨまたはＫ_２ＣＯ_３である。具体例は、［ＰｔＴｉ／Ｋ_２ＣＯ_３またはＫＯＨ０．１Ｍから飽和水溶液／Ｎｉ＋空気断続充放電］である。一実施態様においては、水性電気分解は、約１から１０秒または２秒などの第１の期間に、約１から１．６Ｖまたは約１．４Ｖなどの一定のセル電圧で実施してもよく、放電は、約１から１００秒または約１０秒などの第２の期間に、約０．０１から１０ｍＡ／ｃｍ^２または０．２ｍＡ／ｃｍ^２などの一定のセル電流で実施してもよい。アルカリ電解質を含むものなどで、＞５秒などの少なくとも一つの長時間充電または放電期間を有する１つとしての実施形態においては、放電アノードは、ＬａＮｉ_５Ｈ_６またはＰｄなどの電気分解サイクル中に、水素化物を形成する材料を含む。

１つの実施例において、放電カソードは、水和物、酸化物、過酸化物、スーパーオキサイド、オキシ水酸化物、及び水酸化物の少なくとも１つのような本開示の他のものを含んでよい。カソードは、溶融塩電解質のような電解質に不溶性の金属酸化物であってもよい。好適な金属酸化物は、ＮｉＯ，ＣｏＯ，ＰｂＯ_２，Ａｇ_２Ｏ_２，ＡｇＯ，ＲｕＯ_２，ＭｎＯ_２，ＭＮｉＯ_２，Ｍ_２ＮｉＯ_２，ＭＣｏＯ_２，Ｍ_２ＣｏＯ_２，ＬｉＦｅＯ_２，ＭＦｅＯ_２，Ｍ_２ＦｅＯ_２，Ｌｉ_２ＭｎＯ_３，ＭＴｉＯ_３，Ｍ_２ＴｉＯ_３，ＬｉＴｉＯ_３，Ｍ_３ＴａＯ_４，Ｍ_２ＷＯ_４，Ｋ_２ＷＯ_４，Ｌｉ_３ＴａＯ_４，Ｍ_３ＶＯ_４，Ｌｉ_３ＶＯ_４，Ｍｇ−Ｌｉ_２ＭｎＯ_３，Ｍｎ−ＬｉＦｅＯ_２，ＬａＭｎＯ_３，ＳｒＴｉＯ_３，ＬｉＣｒＯ_２，ＬｉＡｌＯ_２，ＬａＮｉＯ_３，ＬａＣｏＯ_３，ＺｎＯ，ＭｇＯ，Ｍ_２ＳｎＯ_３，Ｌｉ_２ＳｎＯ_３，Ｚｒ−ＺｎＯ，ＭＭ’Ｏ_２，Ｍ_２Ｍ’Ｏ_２，ＭＭ’Ｏ_ｘ，Ｍ_２Ｍ’Ｏ_ｘ（ｘ＝整数，Ｍ＝アルカリ，Ｍ’＝遷移金属又はＡｌのような他の金属），ＬｉＦｅ_１−ｙＭｇ_ｙＯ（ｙ＞０．０３）のようなマグネシウムをドーピングしたＭ_２Ｍ’Ｏ_ｘ，Ｎｂ^５＋若しくはＴａ^５＋のをドーピングしたようなＰｂＺｒＯ_３及びＮｂ^５＋をドーピングしたＳｒＴｉＯ_３及びＣａＴｉＯ_３のような関連化合物及びドーピングされたｎタイプのペロブスカイト、バリウムフェライト、イットリウム鉄ガーネット、ランタン族ＶＩＩＩ化合物のようなｐタイプのペロブスカイト、Ｎｉ，Ｃｕ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｙ，Ａｌ，Ｕ，Ｔｉ，及びＦｅの金属又は化合物、Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，及びＷの群のそれらである。ＭＭ’Ｏ_２，Ｍ_２Ｍ’Ｏ_２のようなカソード材料は、ＬｉＯＨ，ＮａＯＨ，又はＫＯＨのようなＭを含む電解質及び空気若しくはＯ_２雰囲気のような酸化性の環境の存在下でＭ’からその位置で形成されるかもしれない。好適な例示的な金属オキシ水酸化物は、ＡｌＯ（ＯＨ），ＳｃＯ（ＯＨ），ＹＯ（ＯＨ），ＶＯ（ＯＨ），ＣｒＯ（ＯＨ），ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウト鉱、及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）水マンガン鉱），ＦｅＯ（ＯＨ），ＣｏＯ（ＯＨ），ＮｉＯ（ＯＨ），ＲｈＯ（ＯＨ），ＧａＯ（ＯＨ），ＩｎＯ（ＯＨ），Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ），及びＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）である。好適な例示的な水酸化物は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，及びＷのそれらである。オキシ水酸化物を含む例示的な放電カソード反応は、式（１３０）で与えられる。カソードは、断続的な電気分解の電気分解フェーズの間に再充電されてよい。セルは、断続的な電気分解セル、透過セル、化学的な若しくは電気分解的な再生を備える電気化学放電セル、水素散布セル、又はそれらの組合せを含んでよい。１つの実施例において、透過セルは、断続的に放電されてよい。

別の実施形態では、ガスはアノードの少なくとも１つからカソードへのクロスオーバーであってもよいし、逆もまた同様である。その後、放電中に、ハーフセル反応の少なくとも１つを切り替えてもよく、それにより、Ｏ_２（式（１７２））の還元が、電気分解カソードで起こり、ＯＨ⁻のＨに対する酸化還元（式（１７１））は、電気分解アノードで起こる。その後、現在の極性は一定であるが、電極スイッチの電圧極性またはその同じ方向での大きさは、サイクルの段階により変化する。電極間隔は、ガスクロスオーバーを容易にするために最小限に抑えてもよい。電極は、セルガードまたは塩基と互換性のナフィオン膜などの多孔質オレフィン膜などの膜によって分離されてもよい。電極間の回路は、電流の一定の極性を維持するために、ダイオードを含んでもよい。実施形態では、ハイドリノの成形からの電力が、消費される電気分解パワーに対する過剰な電気および熱パワーのうち少なくとも１つとして現れる。

Ｈからの８１．６ｅＶを受けたハイドリノ触媒Ｈ_２Ｏは、Ｈ_２と１／２Ｏ_２に分解されてもよく；その結果、Ｈ_２Ｏ電気分解の成分が、電気分解電圧または電流が存在しない場合でも発生することがある。これは、１００％を超えるファラデー効率として観察されることがあり、Ｈ_２およびＯ_２ガスの供給源であってもよい。Ｏ_２とＨ_２の各々は、クロスオーバーの後、対応する電気分解供給源電極、または、対応するカウンタ電極で反応してもよい。間欠放電の放電段階中に、酸素と水素のハイドリノ支持反応は、それぞれ、（式（１７１））および（式（１７２））で与えられてもよい。他の実施形態では、セルの、または、セルの動作の間に形成される他の触媒は、ハイドリノを形成するための触媒反応中に、触媒のイオン化とエネルギー放出により、水の電気分解を引き起こしてもよい。

一実施形態では、電気分解カソードは、ＯＨ⁻とＨ_２の少なくとも１つを形成するためのＨ_２ＯとＯ_２の両方の還元と、ＯＨ⁻からＨ_２Ｏへの酸化を、水素の存在下で可能とする二官能性電極を含んでもよい。Ｈ_２の供給源は、カソードにおけるＨ_２Ｏの還元であってもよい。Ｏ_２の供給源は、電気分解アノードからのクロスオーバーガスであってもよい。アノードとカソードの分離は、電気分解アノードで生成されるＯ_２が、カソードに拡散する程に小さくてよい。電極は、セルガードまたは塩基と互換性のナフィオン膜などの多孔質オレフィン膜などの膜によって分離されてもよい。酸素と水素のハイドリノ支持反応は、（式（１７２））と（式（１７１））により、それぞれ与えられてもよい。反応は、おそらく、電極上の異なる場所で、協調的に起こってもよい。両方の反応は、断続的な電気分解の電気分解段階または放電段階の少なくとも１つの間に、電気分解カソード上で、同時に起こってもよい。典型的な二官能性電極は、Ｋ_２ＣＯ_３などの炭酸塩電解質の電気分解によって形成されてもよい部分的に炭素被覆されたニッケルカソードである。酸化還元反応のための過電位は、炭素被覆の量に起因する個別電極領域で異なる。別の実施形態では、Ｈ_２クロスオーバーガスが供給する電気分解アノードは、少なくとも放電段階中に、ハイドリノを形成するために、二官能性電極としてこの役割を果たしている。一実施形態では、セル電流が、断続的に放電段階中に約ゼロになり、そこでは、追加の熱エネルギーは、少なくとも放電段階中に、カソードまたはアノードで起こるハイドリノ反応によって放出される。

別の実施形態では、静電容量を有する少なくとも１つの電極が、電子受容体として機能し、放電段階中に充電される。電極が、酸化されるＨ、ＯＨ⁻、およびＨ_２Ｏの少なくとも１つから電荷を受けてもよい。酸化反応は、式（１７１）のものを含んでもよい。酸化のためのエネルギーは、ハイドリノを形成する反応物を形成するための協調的な反応の一部であってもよいハイドリノの形成からのものであってもよい。典型的な実施形態では、電荷は、炭素カソードまたは炭素被覆ニッケルカソードなどの静電容量を有する電気分解カソード上に格納されている。帯電した静電容量は、間欠電気分解サイクルの別の段階中に放電してもよい。放電された静電容量は、局所的に生産される、または、クロスオーバーＯ_２の還元を含んでもよい。還元反応は、式（１７２）によって与えられるものであってよい。

一実施形態では、間欠的に充放電されたセルの電気分解カソードは、厚い非導電性酸化物被膜を生成することができる。ニッケル電極上の典型的な被覆はＮｉＯである。一実施形態では、ＮｉＯの場合には、被覆は、約１Ｖから１．５Ｖの範囲などの好適な還元セル電圧を印加することによって還元してもよい。還元は、放電アノードに適用してもよい。電気分解は、十分に酸化被膜を還元するために、好適な期間、一定電圧または好適な電圧で維持されてもよく、それにより、電極の導電性が実質的に復元する。そして、充放電サイクルが再適用されてもよい。高い放電電流の実施形態では、放電アノードの酸化被膜の形成は、一定の電圧であってもよいピーク制限電圧で充電することにより回避される。電流は、充電時に制限されてもよい。少なくとも、充電電圧および電流が制限される実施形態では、充電が一定の電力で行われてもよい。放電は、定電流、負荷、電力または電圧で行われてもよい。一実施形態では、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ空気、断続的な充放電］などのセルが、一定の０．９Ｖなどの約０．８から１．２Ｖのセル電圧範囲で充電される。また、充電は、約０．１から１００ｍＷｃｍ^−２の範囲における制限またはピーク一定電力であってもよい。典型的な放電電流密度は、約０．００１から１０００ｍＡｃｍ^−２、０．１から１００ｍＡｃｍ^−２、１から１０ｍＡｃｍ^−２の範囲であってよい。一実施形態では、電解質カソードとアノードは、任意の過剰な酸化被膜を還元するために、入れ替えられる。その交換は断続的であってもよい。期間は、断続的な電気分解の間欠充放電サイクルとは異なっていてもよい。一実施形態では、両方の電極は、水素散布することが可能であってよく、そこでは、水素が交互に供給され、酸素電極としての動作中に形成される任意の過剰な酸化被膜を還元させる。［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気間欠；充放電］などのセルの実施形態では、ＮｉＯ被覆などの酸化物の被覆は、技術分野で公知の手段によって、機械的または化学的に除去される。除去は再利用の電極で、定期的に実施してもよい。別の実施形態では、水素は、アノードなどの水素透過電極の槽に印加される。セル温度は、透過率が、セルにより生成された電力に対して著しく大きくなる温度以下であってよい。しかし、透過によるアノードで水素の低流量またはその存在が、ＮｉＯを形成する酸化などの酸化から電極を保護してもよい。別の実施形態では、間欠電気分解セルの電極が、水素透過電極として動作可能であり、かつ動作され、そこでは、水素は、水素ガスなどの供給源からの透過によってセルに提供される；その後、電極は、電気分解モードに切り替えられる。一実施形態では、切り替えられた電極が、電気分解カソードおよび放電アノードとして働く。前処理は、断続電気分解モードで望まれるように実行するために、電極を条件づけてもよい。一実施形態では、間欠電気分解が行われ、それと同時に、水素が、透過または散布などの手段により、放電アノードなどの電極に供給される。あるいは、Ｈ_２を含む雰囲気が、セルに提供されてもよい。所望の水素反応および本開示のものなどの対向電極反応の選択性は、対応する電極の選択によって達成してもよい。例えば、Ｈ_２Ｏを形成するための、ＯＨ⁻とのカソード酸素還元反応およびアノード水素反応の選択性は、カソードとアノードの対応した選択により、選択的になる。アノードに供給される水素は、以下の反応が進行しやすいから、保護的である。
ＮｉＯ＋Ｈ_２ → Ｎｉ＋Ｈ_２Ｏ（１９５）
別の実施形態では、電気分解に対するデューティーサイクルを増加させ、それにより、十分な水素が、腐食から放電アノードを保護するために生成される。パラメータは、腐食から保護されるのに十分な水素を生成しながら、電気エネルギー利得などのエネルギー利得を達成するように選択される。セル温度は、また、透過、電気分解などの手段により供給された水素を制御しながら、耐食性を改善するように制御してもよい。腐食に耐性のある放電カソードは、セルの動作条件に適するように選択してもよい。約３５０から４５０℃以下の温度については、カソードは、Ｎｉを含んでよい。より高い温度のために、好適で安定したカソードは、ＮｉＯまたはＣｏＯまたはＡｇ−Ａｌ_２Ｏ_３などのＡｇに支持されたＡｇなどの酸化物を含む１つなどとして使用してもよい。

一実施形態では、透過によって供給される酸素が、セル電圧に対する透過率の影響に基づくフィードバック機構によって、セルの電圧を変更するか、透過率を制御するかの少なくとも一方となるように機能する。一実施形態では、セル電圧が、水素透過率を調整することによって調整される。透過率は、セル温度を制御する、水素透過膜に対する水素圧力勾配、膜厚、膜材料、およびセル電圧を調整することなどの少なくとも１つの手段によって調整されてもよい。一実施形態では、透過率を制御することに加えて、セル電圧を調整する手段が、放電を制御すること含み、必要に応じて、負荷、印加電圧、電流特性およびパラメータなどのパラメータを充電し、そこでは、後者を、断続的な電気分解実施形態と考えてもよい。一実施形態では、セル電圧が、約０．５から１．５Ｖまたは約０．８から１．２Ｖの範囲に維持される。電圧範囲は、一実施形態などの断続的な電気分解の電気分解位相の間に形成される水素の収率を最適化するように制御される。別の実施形態では、透過率は、負荷を制御することによって制御される。一実施形態では、透過率は、負荷の抵抗値の減少に伴って増加する。一実施形態では、透過率は、放電電流に伴って増加する。透過率は、Ｈ_２ＯからＨ_２を形成する電力に対するハイドリノを形成することから、電力利得を最適化するように調整されてもよい。

一実施形態において、酸素雰囲気等の酸化環境でＮｉ電極を焼きなますことで保護膜層のＮｉＯ被膜が塗布される。被覆の厚さはイオン導電率を高く維持しながらも、アルカリ性電解物に安定性を与える厚さに制御される。一実施形態において、前記アノード等の電極を安定化させるために１つの化学種が前記電解質に対して添加される。前記添加物はＮｉＦ_２またはＮｉＳＯ_４等のより安定的なＮｉ化合物を形成することができる。もう一つの実施形態において、前記化学種は、ＮｉＯに含浸したＣｅＯ等のより安定的なＮｉ合金、または酸化物添加剤を含むことが出来る。酸化セリウムの重量％は約０．１から５パーセント、または０．３から１パーセントの範囲であっても良い。もう一つの実施形態において、前記電気分解カソードでのＨ_２の生産を高めるためにＶ_２Ｏ_５等の１つの化学種が添加されるが、ここで前記電解は断続的であり、前記電解質が溶融塩または塩水溶液であっても良い。前記添加物はＦｅ_２Ｏ_３、またはＦｅＯＯＨ等の本開示の酸化物、水酸化物、またはオキシ水酸化物であっても良い。他の好適で典型的な添加物は、ＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グロウタイトおよびγ−ＭｎＯ（ＯＨ）マンガン酸化物）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、およびＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）である。前記添加物は前記アノード等の電極の容量を高める、または保護する。例えば、Ｎｉ_１−ｘＭｇ_ｘＯおよびＮｉＦｅ_２Ｏ_４を形成することができるＭｇＯまたはＦｅ_２Ｏ_３等の添加物は、それぞれ、アノード等の電極を安定化させることができる。

一実施形態において、前記放電カソードは、メッシュ等の大きな表面積を含むＮｉ等の本開示の酸素還元触媒を含み、さらに、Ｍｎ_ｘＯ_ｙ（ｘとｙは整数）、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、他の貴金属およびＭＮｉＯ_２（Ｍ＝アルカリ）の少なくとも一つを含む。他の好適な酸素還元電極はアルカリ土類ルテニウム酸塩、リチウムドープしたニッケル酸ランタン、Ｎｉ−Ｃｏスピネル、Ｐｂ−Ｒｕパイロクロア、Ｎａ−Ｐｔブロンズ、およびＡｇ／ＡｇＨｇである。追加的なカソード材料には、ＭＮｉＯ_２、Ｍ_２ＮｉＯ_２、ＭＣｏＯ_２、Ｍ_２ＣｏＯ_２、ＬｉＦｅＯ_２、ＭＦｅＯ_２、Ｍ_２ＦｅＯ_２、Ｌｉ_２ＭｎＯ_３、ＭＴｉＯ_３、Ｍ_２ＴｉＯ_３、ＬｉＴｉＯ_３、Ｍ_３ＴａＯ_４、Ｍ_２ＷＯ_４、Ｋ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_３ＴａＯ_４、Ｍ_３ＶＯ_４、Ｌｉ_３ＶＯ_４、Ｍｇ−Ｌｉ_２ＭｎＯ_３、Ｍｎ−ＬｉＦｅＯ_２、ＬａＭｎＯ_３、ＳｒＴｉＯ_３、ＬｉＣｒＯ_２、ＬｉＡｌＯ_２、ＬａＮｉＯ_３、ＬａＣｏＯ_３、ＺｎＯ、ＭｇＯ、Ｍ_２ＳｎＯ_３、Ｌｉ_２ＳｎＯ_３、Ｚｒ−ＺｎＯ、ＭＭ’Ｏ_２、Ｍ_２Ｍ’Ｏ_２、ＭＭ’Ｏ_ｘ、Ｍ_２Ｍ’Ｏ_ｘ（ｘ＝整数、Ｍ＝アルカリ、Ｍ’＝遷移金属またはＡｌ等の他の金属）、ＬｉＦｅ_１−ｙＭｇ_ｙＯ（ｙ＞０．０３）等のマグネシウムでドープしたＭ_２Ｍ’Ｏ_ｘ、ドープしたｎ−タイプのペロブスカイトおよびＣａＴｉＯ_３、Ｎｂ^５＋をドープしたＳｒＴｉＯ_３、およびＮｂ^５＋またはＴａ^５＋をドープしたＰｂＺｒＯ_３等の同族化合物、バリウム・フェライト、イットリウム・鉄・ガーネット、ランタン第ＶＩＩＩ族化合物等のｐ−タイプのペロブスカイト、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｙ、Ａｌ、Ｕ、Ｔｉ、およびＦｅ等の金属または化合物の少なくとも１つを含む。前記カソードはナノ粒子を含むことができるＮｉ等の多孔質材のドーパントを含んでも良い。前記ドーパントは本開示の酸素還元触媒であっても良い。前記カソードは安定化可能なＮｉＯを含んでも良い。１つの好適な安定化方法はコバルト等の安定金属材を使ってのカプセル封入である。このように、酸素還元触媒はコバルトにカプセル封入したＮｉＯを含んでも良い。酸素還元カソードは、カソードとして機能する前に、化学的または熱的方法、または陽極酸化処理、または陰極酸化処理による酸化等の熱的、化学的、または電気化学的調整を行っても良い。調整はその場で行っても良い。前記カソードは、後に低減される高電流で動作しても良く、することができ、高電流で前記カソードを調整する。カソード等の電極は、導電性マトリックス、または、炭素、炭化物、窒化物、ニトリル、またはホウ化物等の表面被覆を含んでも良い、またはこれらの材料を含んでも良い。一実施形態において、前記電気分解アノードは、ＨＯＯ⁻、またはＨＯＯＨまたは、前記電極が放電カソードとして機能する時の放電期間中にＯ_２よりも速い速度で還元するＰｄＯ、ＡｇＯ、Ａｇ_２Ｏ、Ａｇ_２Ｏ_３、またはＨｇＯ等の酸を含む１つの化合物等、１つの活性酸素種を形成する金・パラジウムナノ粒子等の触媒を含む。前記化合物は、間欠周期の非電解放電に対して酸素を供給するために、充放電期間中に可逆的に形成される１つの金属酸化物を含んでも良い。前記化合物は、Ｈ_２Ｏ以下の生成自由エネルギーを有することができる。前記放電反応は式（１４５）で与えても良い。前記カソードリード等のリードはアルカリ性電解物および空気、またはＯ_２等の電解質に対して安定的である材料で良い。好適なリードは前記カソードにスポット溶接が可能な金線等の貴金属線である。一実施形態において、溶融電解質等のＫＯＨを含む電解質での酸素還元速度は、ＫＯＨ電解質における酸素イオンの移動度がより高いことから、ＬｉＯＨまたはＮａＯＨを含む電解質よりも１００倍高い。一実施形態において、音波、超音波、回転、または当技術分野で知られているその他のソース等の１つの機械的攪拌源を、前記カソード、および取り囲む電解質の中の少なくとも１つに適用して低いイオン移動度を補う。もう一つの実施形態において、前記カソードはモーター等の手段で回転させても良い。もう一つの実施形態において、少なくとも、前記カソードおよびアノードの中の１つを機械的に攪拌させる。前記電極は、音波攪拌では約０．１から１ＭＨｚ、または１０から１００Ｈｚ、そして超音波攪拌では１から１００ｋＨｚの周波数領域で音波または超音波で振動させても良い。電力は、セル出力電力以下でも良く、又、対応の攪拌消費電力と比べて、攪拌による出力への貢献を考慮して、電力利得を最適化させるものであっても良い。一実施形態において、溶融水酸化物、または水性水酸化物、または混合物等の溶融電解質、または水性電解質等の前記電解質は、酸素還元速度を増加させるために、前記カソードで形成される酸素イオンの拡散を増加させるＨ_２Ｏが添加されている。セルは沸騰温度以上で動作するように加圧しても良い。電解によって、その場で水素と酸素を生成しても良い。Ｈ_２Ｏ、酸素、および水素の中の少なくても１つを加圧下の前記セルに加えても良い。セル圧力は約大気圧以下から５００ａｔｍまで、または２から１００ａｔｍまでの範囲で良い。もう一つの実施形態において、前記カソードで形成される酸素イオンの拡散速度は、より高い酸素イオン移動度を提供するもう１つの塩を使うことで、水酸化物を含むアルカリ性電解物等のオキシアニオンを含む溶融電解質に置いて上昇する。一実施形態において、前記電解質は、金属イオンと少なくともアルカリとアルカリ土類の中の１つのアニオンの混合物、および遷移、内部遷移、希土類、ならびにＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、およびＶＩ族金属イオン等のその他の金属イオンを含む。前記アニオンは少なくとも、水酸化物、硫酸塩、炭酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ハロゲン化合物、および本開示の他のイオンの１つを含む。一実施形態において、酸素イオン移動度は前記電解質内のＨ_２Ｏの含有量が増えるに従って増加する。一実施形態において、好適な電解質は吸湿性である。好適な吸湿性塩は、臭化リチウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、炭酸カリウム、リン酸カリウム、ＫＭｇＣｌ_３・６（Ｈ_２Ｏ）等のカーナライトクエン酸第二鉄アンモニウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウムである。酸性水溶液形態では、吸湿性電解質は濃縮硫酸とリン酸を含む。

他の実施形態では、前記電極は前記電解質および前記セルの動作条件に対して十分に安定的な導体を含む。前記アルカリセルに好適な電極はＮｉである。他の導電性金属、合金、化合物、または元素を、アルカリ電解質、酸性電解質、または、少なくとも、Ｃ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ、およびアルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、および希土類金属の中の１つの水性塩または溶融塩である中性電解質と使用しても良い。寸法安定性アノード、Ｐｔ／Ｔｉ、Ａｇ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＮｉＯ−ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、およびＰｔ、Ｐｄ、または、他の金属、またはＡｌ_２Ｏ_３、Ｃ、またはゼオライト等のマトリックス上に支持された担持金属および担持材料も好適である。電解質または空気と反応して非導電性酸化被膜を通常形成することが出来る材料も、電極が定期的に還元される断続的電気分解条件下のようなセルの動作条件下で好適である。典型的な電極は定期的に電気分解カソードであり、放電アノードであるＺｒである。前記電極材料は導体をドープした不導体であっても良い。炭素、炭化物、ホウ化物、窒化物、ＴｉＣＮ等の炭窒化物、またはニトリルは、前記アノード等の電極を含むことができる。

Ｈ_２Ｏ触媒の生成物としてのＨ_２（１／４）の形成に加え、溶融、または水溶性水酸化物電解質等のＯＨ⁻源を持つアルカリ溶液を含む反応混合物は、分子ハイドリノＨ_２（１／２）等の、少なくとも、他のもう１つのハイドリノ生成物を形成しても良い。前記触媒は、Ｈ（１／２）を形成し、さらに反応してＨ_２１／２）とＨ⁻（１／２）を形成する原子Ｈから約２７．２ｅＶを受けとることで触媒として機能することが可能な２７．２ｅＶのポテンシャルエネルギーをそれぞれが有するＯまたはＨを含んでも良い。
追加的に、ＯＨは、ＯＨのポテンシャル・エネルギーが以下のようになるので、触媒として機能してよい。

Ｈ状態ｐ＝１とｐ＝２間のエネルギーの差は４０．８ｅＶである。このように、ＯＨはＨ（１／２）を形成する触媒として機能するためにＨから約４０．８ｅＶを受け取っても良い。ＯＨは前記アノードでの酸化によってＯＨ⁻から形成しても良い。該当するハイドリノ状態に対するＨ触媒として機能するＨ_２ＯとＯＨによってＨ_２（１／４）とＨ_２（１／２）を形成する典型的なセルは｛Ｍｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／ＮｉＯ断続的電気分解｝と｛Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／ＮｉＯ断続的電気分解｝である。前記ハイドリノ生成物は、前記電解質のプロトンＮＭＲ、またはアノードが酸消化によって処理され、ハイドリノバスをＮＭＲ溶媒に解放するアノードガスによって特定することができる。

１つの実施例において、触媒形成反応は、次のように与えられるかもしれない。
Ｏ_２＋５Ｈ^＋＋５ｅ⁻ → ２Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）（１９７）
対半電池反応は以下のとおりである。
Ｈ_２ → ２Ｈ^＋＋２ｅ⁻ （１９８）
全体の反応は、次のとおりである。
３／２Ｈ_２＋１／２Ｏ_２ → Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）（１９９）
ここで、Ｈ_２Ｏ、ＯＨ、Ｏ_２、ｎＨ、及びｎＯ（ｎ＝整数）の少なくとも１つは、触媒として機能してよい。水素はＨ^＋の反応によって前記カソードで生成しても良く、そこでは、いくつかの水素が前記触媒と反応してハイドリノを形成する。もう１つの方法として、前記カソードに過剰の水素を供給し、前記触媒と反応してハイドリノを形成する。一実施形態において、温度、Ｏ_２圧力、Ｈ_２Ｏ圧力、Ｈ_２圧力およびＨ^＋濃度の中の少なくとも１つを制御して、最適なハイドリノの形成につながる触媒形成ハーフセル反応とカウンター反応を有利に働かせる。一実施形態において、２５℃でのＳＨＥに対する前記カソードハーフセル電位は、約±０．５Ｖ内の約１．２３Ｖである。一実施形態において、ＳＨＥに対する前記アノードハーフセル電位は、約±０．５Ｖ内の約０Ｖである。好適で典型的なハーフセル反応は、それぞれ、式（１９７）と式（１９８）で示される。ハイドリノを形成するための反応全体は式（１９９）で示される。好適で典型的なセルは｛Ｐｔ／Ｃ＋Ｈ_２／ナフィオン／Ｐｔ／Ｃ＋空気＋Ｈ_２または水素化物等のＨ源、または本開示の他のＨ貯蔵物質｝および、｛Ｐｔ／Ｃ＋Ｈ_２／Ｈ_２ＳＯ_４／Ｐｔ／Ｃ＋空気＋Ｈ_２または水素化物等のＨ源、または本開示の他のＨ貯蔵物質｝であり、ナフィオン等の分離子はＨ_２ＳＯ_４等の１つの酸性電解液と一緒に使用しても良い。

式（１９８）に関して、他の実施形態では、カウンターのハーフセル反応は、Ｈ_２とは異なる１つの水素源、または任意にＨ_２に加える水素源の酸化によってＨ^＋を提供しても良い。前記水素源は炭化水素でも良い。反応によってさらに、ＣＯとＣＯ_２の中の少なくとも１つを生成しても良く、ここで、前記炭化水素は少なくとも１つのＯを含んでも良い。１つの好適な炭化水素はメタノール等の１つのアルコールである。好適で典型的なセルは｛ＰｔＲｕ＋ＣＨ_３ＯＨ／ナフィオン／Ｐｔ／Ｃ＋空気＋Ｈ_２または水素化物等のＨ源、または本開示の他のＨ貯蔵物質｝である。

式（１９９）で示される前記反応を維持するために、プロトン伝導性、酸性溶融性、または酸水性電解質を含む前記セルは断続性の、またはパルス状の電解セルを含んでも良い。式（１９７）と式（１９８）で与えられる反応はガスクロスオーバーに続き、対応する電極およびカウンター電極上で可逆的に起こっても良い。

一実施形態において、前記電解質は酸性水溶液を含んでも良い。間欠サイクル、またはパルスサイクルの放電相は、Ｈ_２ＯからＨ_２とＯ_２への電気分解を含んでも良い。前記電解陰極反応と陽極反応は、前記ハイドリノ形成が不可逆性であることを除いては、それぞれ、式（１９７）と式（１９８）の逆であっても良い。前記カソード放電ハーフセル反応には、酸素、Ｈ^＋、およびＨ_２Ｏの中の少なくとも１つの還元を含んでも良い。還元は式（１９７）で与えられても良い。放電期間中の前記カソード生成品はＨとＨ_２Ｏであって良い。前記Ｈ_２Ｏはハイドリノを形成するための１つの触媒として機能できる。前記還元反応に対する過電圧によって、２５℃で前記反セル電圧はＳＨＥに対して約１．２３Ｖになる。前記陽極放電ハーフセル反応には、Ｈ^＋を形成するためのＨ_２の酸化が含まれても良い（式（１９８）。一実施形態において、水性酸性溶液（式（１９８））におけるＨ_２のＨ^＋への酸化に対する還元電位は、２５℃でＳＨＥに対して約０Ｖである。前記電極上の酸化に対する過電圧は、前記酸化反セル反応が約０Ｖで起こるので、約０Ｖである。

他の実施形態では、前記触媒は本開示のような原子状水素からｍ２７．２ｅＶを受け取る１つの化学種を含んでも良いが、ここで、前記触媒はハーフセル化学種であるか、または、前記電解または放電期間中に形成されても良い。ハイドリノは少なくとも充放電期間中に形成される。放電については、２５℃でＳＨＥに対して、還元反応の反セル電位は約１．２３Ｖであるか、０．６から１．４Ｖの範囲であり、前記酸化反応のハーフセル電位はＳＨＥに対して約０Ｖであるか、−０．５から＋０．５Ｖの範囲であって良い。電解オフ、または放電期間中の前記電気分解カソードとアノード間のセル電位は、２５℃でＳＨＥに対して、約１．２Ｖ、または０．３Ｖから２Ｖの範囲であって良い。高温での実施形態では、室内温度の範囲を当該動作温度に熱力学的に補正する。

前記電解質は、水性酸性電解質等の水性酸性溶液であって良い。好適な酸性電解質はＨ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ、ＨＸ（Ｘ−ハロゲン化合物）、Ｈ_３ＰＯ_４、ＨＣｌＯ_４、ＨＮＯ_３、ＨＮＯ、ＨＮＯ_２、Ｈ_２Ｓ、Ｈ_２ＣＯ_３、Ｈ_２ＭｏＯ_４、ＨＮｂＯ_３、Ｈ_２Ｂ_４Ｏ_７（Ｍ四ホウ酸）、ＨＢＯ_２、Ｈ_２ＷＯ_４、Ｈ_２ＣｒＯ_４、Ｈ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｈ_２ＴｉＯ_３、ＨＺｒＯ_３、ＭＡｌＯ_２、ＨＭｎ_２Ｏ_４、ＨＩＯ_３、ＨＩＯ_４、ＨＣｌＯ_４、または純粋な酸に対して７．１ＭのｐＨ範囲にあるギ酸、または酢酸等の有機酸の水溶液である。前記酸は溶融リン酸等の水溶性、または溶融性であって良い。典型的な溶融セルは｛ＰｔまたはＣ／Ｈ_３ＰＯ_４（ｌ）（Ｔ＞４３℃）／ＣまたはＰｔ｝。パルス印加電圧、または間欠印加電圧、または電流電解実施形態において、少なくとも、前記のカソードとアノードの１つは二官能性電極を含んでも良い。前記電極は所望の反応を得るために異なった材料を含むことができる。前記の各カソードとアノードは、所望の酸化または還元反応に対して選択的であっても良く、Ｐｔ、Ｐｄ、またはＡｕ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｂ合金、ハステロイＢ等のＮｉ−Ｍｏ合金、ハステロイＣ、ハステロイＢ−３合金、ハステロイＣ２２合金、またはハステロイＣ２７６合金等の一つの貴金属または合金、炭素、または寸法安定性アノード（ＤＳＡ）または、Ｔｉ等の導体上に担持されたＲｕＯ_２やＩｒＯ_２等のＴｉＯ_２が安定化した導体金属酸化物等の電極であって良い。好適で典型的なＤＳＡはＴａ_２Ｏ_５とＴｉ／Ｉｒ_０．３Ｔｉ_０．７Ｏ_２である。貴金属等の電極材料も担持される。好適な支持体は炭素、金属およびセラミックである。支持電極材料に該当する例は、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ／Ｃ、Ｒｕ／Ｃ、Ｐｔ／Ｔｉ、Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３、およびＡｇ／Ａｌ_２Ｏ_３である。適切な酸化および還元能力を持つその他の安定した導体は当業者に周知である。

電解期間中にアノードでＨ^＋とＯ_２が、カソードで水素が形成される。電解オフ、または放電期間中に、前記電気分解カソードでＨ_２がＨ^＋に酸化され（式（１９８））、前記電解アノードでＨ^＋とＯ_２が還元されＨとＨ_２Ｏを形成するが（式（１９７））、そこで、後者は電気分解アノードでハイドリノを形成する触媒として機能する。このように、セルは、充放電期間中に一定の極性を維持し、サイクルの位相毎に電流の極性が逆転する。出力は、電力または波形で調整しても良い。もう一つの実施形態において、式（１９７）で示される反応は、前記ハイドリノ形成が不可逆性であることを除いては、両方の電極で可逆的に起こる。典型的なセルは［ＰｔＴｉ／Ｈ_２ＳＯ_４またはＨ_３ＰＯ_４（ａｑ）／Ｐｔ、間欠電解］および［Ｐｂ／Ｈ_２ＳＯ_４（ａｑ）／ＰｂまたはＰｂＯ間欠電解］である。前記酸は約０．１Ｍから飽和までの所望の濃度であって良い。典型的な濃度は１４．７ＭＨ_３ＰＯ_４と５ＭＨ_２ＳＯ_４である。

もう一つの実施形態において、前記ガスは少なくとも一方のアノードからカソードへ、またはその逆方向で交差しても良い。次に、放電中に、前記電気分解カソードで、Ｏ_２の還元（式（１９７））が、そして、電気分解カソードでＨ_２の酸化（式（１９８））が起こるように、ハーフセル反応を切り替えても良い。次に、前記電流の極性は一定に維持されるが、前記電極の電圧極性はサイクルの位相と共に切り替わる。電極の間隔はガスのクロスオーバーを促進するために最小限にしても良い。前記電極はナフィオン膜等のプロトン交換膜のような１つの膜で分離しても良い。前記電極間の回路は電流の一定の極性を維持するために１つのダイオードを含んでも良い。実施形態では、ハイドリノ形成からの電力は少なくとも、分散した電解電力に対する余剰電力および熱出力の１つとして現れる。

前記酸性電解液は本開示の酸、またはその混合物、イオン液体、またはその混合物、および本開示の有機溶媒、またはその混合物の少なくとも１つの水性混合物を含んでも良い。好適な有機溶媒はアルコール、アミン、ケトン、エーテル、ニトリル、およびカルボン酸等の水と混合できる有機溶媒である。典型的なセルは［ＰｔＴｉ／ナフィオン＋少なくとも、酸、イオン性液体、および有機溶媒の中の１つ＋Ｈ_２Ｏ／ＰｔＴｉ＋空気］である。好適で典型的なイオン液体は、好適で例示的なイオン液体は、エチルアンモニウム硝酸塩、例えば、約１％のリン酸二水素でドープしたエチルアンモニウム硝酸塩、ヒドラジニウム硝酸、ＮＨ_４ＰＯ_３−ＴｉＰ_２Ｏ_７、ＬｉＮＯ_３−ＮＨ_４ＮＯ_３の共晶塩、ＬｉＮＯ_３の混合物、アンモニウムトリフラート（Ｔｆ＝ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻）、アンモニウムトリフルオロアセテート（ＴＦＡ_Ｃ＝ＣＦ_３ＣＯＯ⁻）、アンモニウムテトラフルオロホウ酸（ＢＦ_４ ⁻）、メタンスルホン酸アンモニウム（ＣＨ_３ＳＯ_３ ⁻）、硝酸塩（ＮＯ_３ ⁻）、チオシアン酸アンモニウム（ＳＣＮ⁻）、スルファミン酸アンモニウム（ＳＯ_３ＮＨ_２ ⁻）、重フッ化アンモニウム（ＨＦ_２ ⁻）、硫酸水素アンモニウム（ＨＳＯ_４ ⁻）、アンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＴＦＳＩ＝ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ⁻）、アンモニウムビス（ペルフルオロエタンスルホニル）イミド（ＢＥＴＩ＝ＣＦ_３ＣＦ_２ＳＯ_２）_２Ｎ⁻）、ヒドラジン・硝酸塩、ＮＨ_４ＮＯ_３、ＮＨ_４Ｔｆ、ＮＨ_４ＴＦＡｃ、アンモニウム、またはアルキルアンモニウムハライド、およびイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、過塩素酸塩、ＰＦ_６ ⁻、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩化物−ＡｌＣｌ_３並びにピロリジニウム系プロトン性イオン液体のような芳香族化合物の群から選択される。好適で典型的溶媒は、アルコール、アミン、ケトン、エーテル、ニトリル、カルボン酸、ジオキソラン、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ベンゾジオキサン（ＢＤＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、メタノール、エタノール、トリブチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン等のアミン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、イソキノリン、インドール、２，６−ルチジン（２，６−ジメチルピリジン）、２−ピコリン（２−メチルピリジン）、アセトニトリル、プロパンニトリル等のニトリル類、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、アセトン、および１，３−アセトンジカルボン酸ジメチルの群から選択される

水性の断続的な電気分解セルの１つの実施例において、Ｈ^＋及び酸素は、電気分解アノードで形成されるかもしれず、そして、ＯＨ⁻及びＨ_２は、電気分解カソードで形成されるかもしれないが、以下のような例示的な反応によって与えられるようにであるかもしれない。
電気分解アノード
Ｈ_２Ｏ → １／２Ｏ_２＋２Ｈ^＋＋２ｅ⁻ （２００）
電気分解カソード
２Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → Ｈ_２ → ２ＯＨ⁻ （２０１）
溶液反応は以下のとおりである。
２Ｈ^＋＋２ＯＨ⁻ → ２Ｈ_２Ｏ（２０２）
全反応は、以下のとおりである。
Ｈ_２Ｏ → Ｈ_２＋１／２Ｏ_２（２０３）
放電フェースの間、Ｈ_２Ｏ，ＯＨ，Ｏ_２，ｎＨ，及びｎＯ（ｎ＝整数）の少なくとも１つが触媒として機能してよいところ、ハイドリノは、次のようになる。
カソード
１／２Ｏ_２＋３Ｈ^＋＋３ｅ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）（２０４）
アノード
Ｈ_２＋ＯＨ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（２０５）
溶液反応は次のようになるであろう。
３Ｈ^＋＋３ＯＨ⁻ → ３Ｈ_２Ｏ（２０６）
全反応は、次のようになる。
３Ｈ_２＋１／２Ｏ_２ → Ｈ_２Ｏ＋４Ｈ（１／ｐ）（２０７）
前記電解液はおよその中和ｐＨで良い。およその中和の好適な電解質は、水性硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化合物、過塩素酸塩、過ヨウ素酸、クロム酸塩、および本開示にあるその他の強酸金属塩である。カチオンは、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、希土類、およびＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、およびＶＩ族金属等のアンモニウム、または金属で良い。前記濃度は約０．０１Ｍから飽和までの水溶性の所望の濃度であって良い。

間欠波形は、入力電気量に対する出力電気量を最適化する波形である。間欠電気分解の周波数は、約０．００１Ｈｚから１０ＭＨｚ、約０．０１Ｈｚから１００ｋＨｚ、または約０．０１Ｈｚから１０ｋＨｚで良い。セルあたりの電気分解電圧は、約０．１Ｖから１００Ｖ、約０．３Ｖから５Ｖ、約０．５Ｖから２Ｖ、または約０．５Ｖから１．５Ｖの範囲で良い。ハイドリノを形成するために活性のある電極面積当りの前記電解電流は、約１マイクロアンペアｃｍ^−２から１０アンペアｃｍ^−２、約０．１ミリアンペアｃｍ^−２から５アンペアｃｍ^−２、および約１ミリアンペアｃｍ^−２から１アンペアｃｍ^−２の範囲で良い。ハイドリノを形成するために活性のある電極面積当りの前記電解電力は、約１マイクロＷｃｍ^−２から１０Ｗｃｍ^−２、約０．１ミリＷｃｍ^−２から５Ｗｃｍ^−２、および約１ミリＷｃｍ^−２から１Ｗｃｍ^−２の範囲で良い。前記間欠波形は、少なくとも充電と放電の中の１つに対する定電流、定電力、または定電圧に起きても良い。一好適な実施形態において、ハイドリノを形成するために活性のある電極面積当りの定電流は、約１マイクロアンプｃｍ^−２から１Ａｃｍ^−２の範囲で良い。ハイドリノを形成するために活性のある電極面積当りの定電力は、約１ミリＷｃｍ^−２から１Ｗｃｍ^−２で良い。セルあたりの定電気分解電圧は約１Ｖから２０Ｖの範囲で良い。そして、セルあたりの定放電電圧は約０．１Ｖから２０Ｖの範囲で良い。電解時間の間隔は約１０^−４秒から１０，０００秒、１０^−３秒から１０００秒、または１０^−２秒から１００秒、または１０^−１秒から１０秒の範囲で良い。放電時間間隔は約１０^−４秒から１０，０００秒、１０^−３秒から１０００秒、または１０^−２秒から１００秒、または１０^−１秒から１０秒の範囲で良い。前記放電は一定の、または可変の電流、電圧、および電力で良く、前記電解のものと同じ範囲で良い。放電抵抗は一定でも可変でも良い。前記放電抵抗は、約１ミリオームから１００Ｍオーム、約１オームから１Ｍオーム、および１０オームから１ｋオームで良い。一実施形態において、少なくとも、前記放電電流、電圧、および電力、または時間間隔の中の１つは前記電気分解相のものよりも大きく、サイクルに亘って少なくとも電力、またはエネルギーの中の１つの利得を生じさせる。

一実施形態において、少なくとも、前記充電時間と放電時間の中の１つが、１つの化学種の一方の電極からもう一方への電極への拡散時間よりも短い。一実施形態において、前記化学種は、過酸化物、過酸化物イオン、超酸化物、ＨＯＯＨ、ＨＯＯ⁻、Ｏ、Ｏ_２ ^２−、およびＯ^２−等の活性酸素種の少なくとも１つでも良い。一実施形態において、少なくとも、前記充電時間と放電時間の中の１つが、約１００秒、１０秒、１秒、０．１秒、０．０１秒、０．００１秒、０．０００１秒、０．０１ミリ秒、１マイクロ秒、または０．１マイクロ秒以下である。一実施形態において、前記充電・放電サイクルの周波数は、放電カソードで形成される活性種が放電アノードへ移動・拡散を可能にする周波数よりも高い。前記充電・放電時間は、例えば、過酸化物イオン等の１つの活性酸素種がＭｏ等のアノード、またはＭｏ合金アノード、または本開示のその他のアノードに達し、反応することが出来ない１秒以下で良い。ここで、少なくとも、電解電場とイオンを移動させる電流の中の１つが前記アノードへの移動時間よりも速く方向を切り替えている。充電期間中に活性酸素種を形成する前記放電カソードは、放電アノードにまで拡散し、腐食させないように放電期間中に該活性酸素種を破壊しても良い。一実施形態において、１つの典型的な充放電回路は、当業者に周知のＧａｍｒｙＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社のＥＩＳ３００モデルまたはその修正版のもので良い。

一実施形態において、前記間欠充電、または放電電圧、電流、電力、および負荷の中の少なくとも１つは、一定でも可変でも良い。電気利得、またはエネルギー利得を得るために、前記パラメータは制御される。セルあたりの電気分解電圧は、閾値の約０から０．５Ｖの範囲等、電流の閾値と同じであるか、わずかに超えても良い。セル範囲当たりの好適な電気分解電圧は約０．２５Ｖから２Ｖまたは、０．２５Ｖから１．７Ｖである。セルあたりの放電電圧は、前記電解電流の電圧の反対の極性の電流を維持する範囲で良い。セルあたりの放電電圧は、約０．０１Ｖから最大電気分解電圧までの範囲で良い。セルあたりの好適な放電電圧は約０．０１Ｖから２Ｖ、または０．０１Ｖから１．７Ｖである。ハイドリノを形成するために活発な電極面積に関し、放電電流は約１マイクロアンペアｃｍ^−２から１Ａｃｍ^−２、０．０１ｍＡｃｍ^−２から２０ｍＡｃｍ^−２、または０．０１ｍＡｃｍ^−２から１０ｍＡｃｍ^−２の範囲で良い。放電負荷は約１マイクロオームから１メガオームの範囲で良い。好適な負荷は、電流を１マイクロアンペアｃｍ^−２から１Ａｃｍ^−２、０．０１ｍＡｃｍ^−２から２０ｍＡｃｍ^−２、または０．０１ｍＡｃｍ^−２から１０ｍＡｃｍ^−２の範囲に維持すれば良い。ハイドリノを形成するために活発な電極面積当たりの好適な負荷の導電率は約１０^−５から１０００Ω^−１ｃｍ^−２、１０^−４から１００Ω^−１ｃｍ^−２、１０^−３から１０Ω^−１ｃｍ^−２、または１０^−２から１Ω^−１ｃｍ^−２の範囲である。電力は、少なくとも、好適な電圧、電流、および抵抗の中の１つで測定しても良い。ハイドリノを形成するために活発な電極面積当たりの好適な電力密度は、約１マイクロＷｃｍ^−２から１Ｗｃｍ^−２、０．０１ｍＷｃｍ^−２から２０ｍＷｃｍ^−２、または０．０１ｍＷｃｍ^−２から１０ｍＷｃｍ^−２である。一実施形態において、１つの典型的な間欠充放電回路は、当業者に周知のＡｒｂｉｎＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社のＢＴ２０００モデルまたはその修正版のもので良い。

溶融電解質の１つの実施例において、セル温度は、電解質の融点以上に維持される。電解質は、ハロゲン化物塩のような塩のような少なくとも他の１つの化合物との混合物であるかもしれない溶融水酸化物であるかもしれない。例示的な好適な水酸化物混合物電解質は、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ，ＬｉＯＨ−ＬｉＸ，ＮａＯＨ−ＮａＢｒ，ＮａＯＨ−ＮａＩ，ＮａＯＨ−ＮａＸ，ＫＯＨ−ＫＸ（Ｘ＝ハロゲン）である。塩は、共晶混合物であるかもしれない。融点を超える温度は、約０から１５００℃だけより高温、０から１０００℃だけより高温、０から５００℃だけより高温、０から２５０℃だけより高温、又は０から１００℃だけより高温の範囲内にあるかもしれない。１つの実施例において、水素透過膜を備えるところ、セルの温度は、所望の透過速度を達成する昇温された温度で維持される。膜の材料、厚み、及び水素圧力はまた、所望の透過速度を達成できるように選択される。１つの実施例において、セル温度は、約２５から２０００℃、１００から１０００℃、２００から７５０℃、又は２５０から５００℃の範囲内にある。もしセルが、透過膜及び溶融塩電解質を備えるならば、セル温度は、電解質の融点を超えて、及び、所望の透過速度が達成できるレベルで維持される。このようにして、実施例において、セル温度は、塩の融点以上において維持される。融点を超える温度は、約０から１５００℃だけより高温、０から１０００℃だけより高温、０から５００℃だけより高温、０から２５０℃だけより高温、又は、０から１００℃だけより高温の範囲内にあってよい。膜厚は、約０．０００１から０．２５ｃｍ，０．００１から０．１ｃｍ，又は０．００５から０．０５ｃｍの範囲にあってよい。水素圧力は、約１Ｔｏｒｒから５００ａｔｍ，１０Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ，又は１００Ｔｏｒｒから５ａｔｍの範囲に維持されてよい。水素透過速度は、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，又は１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２の範囲内にあってよい。断続的な電気分解セル又は水素散布又はバブリング電極を備えるセルのセル温度は、電解質の融点より上に維持される。水素電極（指定されたＮｉ（Ｈ_２））がＨ_２散布又はバブリング電極を含むところ、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気；断続的な電気分解］又は［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気］セルのような約（４３％−５７％）の共晶混合物を持つ電解質ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒを含む例示的なセルにおいて、共晶電解質の融点は約２６５℃である。セルは、この温度以上で維持されてよい。Ｈ_２バブリング又は散布電極の幾何学的面積あたりの水素フロー速度は、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，又は１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２の範囲内にあってよい。１つの実施例において、対電極での反応の速度は、水素が反応する電極でのそれと一致するか、又は、それを超える。１つの実施例において、Ｈ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つの還元速度は、Ｈ又はＨ_２の反応速度を維持するために十分である。対電極は、十分な速度を支持するために十分な材料及び表面積を持つ。

前記電極と電解質システムは大気に対して閉じられた容器の中で良い。溶融水酸化物塩電解質を含む間欠電気分解セルの場合には、前記セルに供給される水分圧は、少なくとも過酸化物、超酸化物、および酸化物の中の１つを形成するＯ_２やＨ_２Ｏの還元反応よりも、ＯＨ⁻の生成反応を好むように制御して良い。一実施形態において、触媒形成ハーフセル反応および最適なハイドリノ形成に結果するカウンター反応を有利にするために、少なくとも、温度、Ｏ_２圧力、Ｈ_２Ｏ圧力、Ｈ_２圧力、およびＯＨ⁻濃度の中の１つを制御する。１または複数の対応の反応は式（１７１−１７３）で与えられる。前記セルは大気に対して閉じていても良い。一実施形態において、少なくとも１つのハーフセル反応の酸素は、少なくとも、Ｈ_２ＯおよびＯＨ⁻の中の１つの酸化等の電解からのものである。間欠電気分解、またはパルス電解を被る好適で典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＮａＯＨ−ＮａＢｒ／Ｎｉ］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＮａＯＨ−ＮａＩ／Ｎｉ］、［Ｎｉ（Ｈ_２）／Ｓｒ（ＯＨ）_２／Ｎｉ］、およびいくつかのＨ_２Ｏが存在する本開示の類似のセルである。ハイドリノを形成するために、消費されたＨ_２Ｏを取り替えるために、Ｈ_２Ｏを添加しても良い。過剰な酸素は除去しても良い。水蒸気圧は前記セルに接続された発生器によって制御しても良い。Ｈ_２Ｏ蒸気発生器は、Ｈ_２Ｏ蒸気圧を制御するためにセル温度よりも低い温度を有しても良い。一実施形態において、水蒸気発生器は超音波等のアトマイザーまたはネブライザーを含んでも良い。Ｈ_２Ｏ蒸気は、希ガスまたはＮ_２等の不活性ガスの流れのような流れで送っても良い。前記ガスは再循環しても良い。または、Ｈ_２Ｏのマスバランスは、電解質またはハーフセル反応体の所望のＨ_２Ｏ重量％を得るために制御しても良い。一実施形態において、ＬｉＯＨ等の水酸化物の揮発による電解質の喪失は、セル温度を下げる、セルの高圧を維持する、そして、前記ガスが間欠電気分解および選択的な方向流量によって供給される状態になる、少なくとも部分的にセルを閉じて走らせることで低減できる。水蒸気発生器、または水のマスバランスはまた、少なくとも、含水量および酸性電解液を有する閉鎖された間欠電気分解質セルの圧力の中の１つを制御できる。Ｈ_２Ｏを含む典型的な反応は式（１９７−１９９）で示される。

１つの実施形態において、前記セルへのＨ_２Ｏ源は水酸化物のような前記電解質の脱水であってよい。ＬｉＯＨのようなアルカリ水酸化物の例示的な反応は次のようになる。
２ＬｉＯＨ → Ｌｉ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ（２０８）
前記脱水反応は、間欠電気分解、ハイドリノ形成反応、および熱の中の少なくとも１つによって供給されるエネルギーを吸収して発生しても良い。一実施形態において、前記ＣＩＨＴまたは電解セルアノードは、Ｍｏまたは、Ｈａｙｎｅｓ２４２、ＭｏＮｉ、ＭｏＣｕ、またはＨ_２Ｏと発エルゴン反応を有するＭｏＣｏ等のＭｏ合金等の金属等の材料を含む。Ｈ_２Ｏのセル源はアノードとの全体反応においてエネルギーを吸収する脱水反応でも良い。典型的な反応は、Ｍｏ酸化物、Ｌｉ_２Ｏ、および水素を形成するＬｉＯＨ電解質のＭｏとの反応である。そこでは、前記アノードの有意な劣化もなく好適な期間、前記セルが稼働しエネルギーを形成する。動作温度等のセル条件は、前記電解質が前記アノードとの大きな反応もなく再生できるように変更しても良い。例えば、セル温度を下げ、前記電解質に水分を再供給するためにＨ_２Ｏを加えることができる。再生したセルはそこで、標準的な動作条件でさらに動作可能になる。

一実施形態において、前記電解質はＬｉＯＨ等のアルカリ水酸化物等の水酸化物を含み、さらに１つの混合物として酸化物等の脱水型を含み、そこでは、Ｌｉ_２Ｏ等の前記脱水型の濃度は前記アノードが酸化から安全である範囲内にある。一実施形態において、Ｍｏアノード等の前記アノードはＬｉＯＨ等の水和型と反応し、Ｌｉ_２Ｏ等の脱水型の存在下では安定している。前記２つの形の濃度範囲は、酸化電位が前記アノードの酸化に対する安定性を提供する範囲である。前記濃度範囲はさらに、過剰エネルギーが前記セルの動作中に形成されるものであり、そこではＨ源が間欠電気分解から由来する。一実施形態において、前記電解質は動作中にさらに脱水する。前記電解質は継続的に、定期的に、または断続的に再中和する。後者の場合には、脱水中にＭｏアノード等の前記アノードが酸化するのを防ぐために、前記動作温度よりも低い温度でＨ_２Ｏの追加が起きても良い。一旦再中和されたら、前記セルは標準よりも高い動作温度で加熱および動作しても良い。前記電解質は、水酸化物、前記脱水型、および少なくともＬｉＢｒ等のアルカリハロゲン化合物等のハロゲン化合物のような他の塩の混合物を含んでも良い。

一実施形態において、前記間欠電気分解セルの複数のセルは積み重ねて配置されている。各セルは溶融水酸化物等の溶融電解質、および任意に、もう１つの他の塩、または水性アルカリ性電解物等の水溶性電解質の中の少なくとも１つを含んでも良い。各セルのカソードは空気電極または酸素電極を含んでも良い。実施形態では、前記セルの酸素源は、空気、外部酸素、および電解で生成された酸素の中の１つである。一実施形態において、前記カソードは空気、またはＯ_２ガス等の酸素源に曝される少なくとも一部分を含んでも良い。前記暴露部分は、前記カソード−電解質インターフェースでの電解質にＯ_２または還元されたＯ_２が流れ込むように、セルの積み重ねおよび電解質から延出しても良い。もう一つの実施形態において、前記セルは閉じていても良く、水素と酸素は電解で生成しても良い。システムは積み重ねを所望の高温度で維持するために加熱器を含んでも良い。前記温度は前記溶融電解質の融点と凡そ同等、またはそれ以上であって良い。一実施形態において、前記セルはゼリーロール、またはスイスロールを含む。一実施形態において、１つのセパレータまたはスペーサは、巻かれたシートを含んでも良い電極間に貼り付けられる。前記ゼリーロール、またはスイスロールは閉じても良い。前記セルは電解によって提供される酸素でしっかりと巻いても良い。一実施形態において、前記カソード等の酸素還元電極は前記電解質に完全に隠れていても良い。水素と酸素を供給する前記間欠電気分解電極は、本開示の異なる金属、または異なる材料等の異なる材料、または、炭素、炭化物、ホウ化物、窒化物、および炭窒化物の金属群から選択された異なった電極であっても良い。前記カソード材料は、電界中に酸素を吸収し、断続的なサイクルの放電中に酸素を放出しても良い。

一実施形態において、２５℃およびＳＨＥで触媒を形成するためのハーフセル反応の電圧は１．２Ｖである。好適な電圧は２５℃およびＳＨＥで１．５Ｖから０．７５Ｖ、１．３Ｖから０．９Ｖおよび１．２５Ｖから１．１Ｖである。好適な反応はＨ_２Ｏを形成するものであり、式（１７１）と（１９７）で示される。一実施形態において、前記セルの理論的電圧は約０Ｖである。前記セル反応は前記カソードでの水のＯＨ⁻およびＨ_２への還元と、前記アノードでのＯＨ⁻と１／２Ｈ_２のＨ_２Ｏに対する反応を含んでも良い。一実施形態において、約０Ｖの理論的なセル電圧を有すセル反応は、約０Ｖ以上の理論的なセル電圧を有するもう１つのセルとの間で起こる。例示的な一実施形態において、セル反応は、前記カソードでの水のＯＨ⁻およびＨ_２への還元と、約０Ｖの理論的なセル電圧を有す前記アノードでのＯＨ⁻と１／２Ｈ_２のＨ_２Ｏに対する反応を含んでも良く、理論的なセル電圧を有する水を形成する（式（１７３））純水のセル反応は０Ｖ以上である。前記水は式（１７１）および（１７２）で示されるようなハーフセル反応を経由して形成される。前記セル［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−Ｍ_ｘＣｌ_ｙ］のその他の典型的なセル反応は、ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋１／ｙＭ_ｘＣｌ_ｙ＝ＮａＣｌ＋６Ｈ_２Ｏ＋ｘ／ｙＭであり、ここで、典型的な化合物Ｍ_ｘＣｌ_ｙはＡｌＣｌ_３、ＢｅＣｌ_２、ＨｆＣｌ_４、ＫＡｇＣｌ_２、ＭｎＣｌ_２、ＮａＡｌＣｌ_４、ＳｃＣｌ_３、ＴｉＣｌ_２、ＴｉＣｌ_３、ＵＣｌ_３、ＵＣｌ_４、ＺｒＣｌ_４、ＥｕＣｌ_３、ＧｄＣｌ_３、ＭｇＣｌ_２、ＮｄＣｌ_３、およびＹＣｌ_３である。約０Ｖのセル電圧を有する好適なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＳｃＣｌ_３約８００−９００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＴｉＣｌ_２約３００−４００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＵＣｌ_３約６００−８００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＵＣｌ_４約２５０−３００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＺｒＣｌ_４約２５０−３００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＭｇＣｌ_２約９００−１３００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＥｕＣｌ_３約９００−１０００Ｋで］、［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＮｄＣｌ_３約＞１０００Ｋで］、および［Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＹＣｌ_３約＞１０００Ｋで］である。

もう一つの実施形態において、ハイドリノを形成する触媒の形成に関与する理論的なセル電圧は約０Ｖで良い。別の典型的なセル反応は前記カソードでの水素のＨ⁻への還元と前記アノードでのＨ⁻からＨへの酸化を含み、ここで、ｎＨ（ｎ＝整数）はハイドリノを形成するためのＨに対する触媒として機能しても良い。前記Ｈはさらに、本開示の反応に準じて反応しても良く、ここで、理論的なセル電圧は０Ｖ以上である。好適な反応は、対応する水素化物を形成するための、ＨとＬｉ等の金属、またはＭｇ_３Ｌｉ等の合金との反応、または、例えばＬｉＮＨ_２またはＬｉ_２ＮＨを形成するためのＬｉ−Ｎ−Ｈシステムの化学種と、Ｈとの反応である。典型的なセルは、［Ｌｉ、Ｍｇ_３Ｌｉ、またはＬｉ_３Ｎ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌＬｉＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）、ＬａＨ_２、ＣｅＨ_２、ＴｉＨ_２、またはＺｒＨ_２］である。実施形態では、前記触媒はｎＨ、ｎＯ（ｎ＝整数）、Ｏ_２、ＯＨ、Ｈ_２Ｏ、および表３のＭＨまたはＭＨ⁻触媒、および表１の全てのハイドリノ触媒の中の少なくとも１つで良い。

一実施形態において、前記表３のＭＨまたはＭＨ⁻触媒はセル反応で形成され、ここでの理論的なセル電圧は約０Ｖである。約７００Ｋのセル動作温度でのＥ〜０Ｖの理論的なセル電圧を有する典型的な反応は式（６１）で与えられており、ここで、ＮａＨは［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］を含む典型的なセルにおいて前記ＭＨタイプ触媒として機能する。実施形態では、前記理論的なセル電圧は、約＋／−０．７５Ｖ、＋／−０．５Ｖ、＋／−０．２５Ｖ、または＋／−０．１Ｖの範囲の約０Ｖで良い。

一実施形態において、前記セルは、共晶塩混合物等の溶融塩のようなＨ⁻伝導性電解質を含む。典型的な溶融塩電解質は表４に示す。前記セルはさらに、水素化物イオンを形成するＨ源とＨと化合物を形成する反応混合物を含む。前記セルはカソードおよびアノード用の水素貯蔵材料を含んでも良い。好適で典型的なアノードはＬｉ、Ｍｇ_３Ｌｉ、およびＬｉ_３Ｎである。好適なカソードはＮｉ（Ｈ_２）等の水素透過電極や本開示の電極、またはＺｒＨ_２、ＴｉＨ_２、ＬａＨ_２、およびＣｅＨ_２等の水素化物を含む。前記電解質はさらに、ＬｉＨ等の水素化物を含んでも良い。典型的なセルは、［Ｌｉ，Ｍｇ_３Ｌｉ，およびＬｉＣｌ−ＫＣｌ等のＬｉ_３Ｎ／ａ共晶溶融塩＋ＬｉＨ／Ｎｉ（Ｈ_２等の水素化物）またはＬａＨ_２等の水素化物、または、ＬａＨ_２等の水素化物］である。一実施形態において、前記セルは断続的に充放電される。１または複数のカソードとアノードでのＨの形成はハイドリノの形成を引き起こし、ここで、ｎＨ（ｎ＝整数）は触媒として機能しても良い。一実施形態において、過剰な水素化物が前記セルに供給され、前記アノードは前記電解質の元素合金を含んでも良く、前記カソードは、Ｎｉ等の遷移金属、またはＰｄ等の貴金属である金属等の水素化物を形成しても良い。充電状態での典型的なセルは、断続的に充放電されても良い［ＬｉＡｌまたはＭｇ_３Ｌｉ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ等の共晶溶融塩＋ＬｉＨ／ＮｉＨ、ＴｉＨ、またはＰｄＨ等の水素化物］である。ハイドリノ生成物を除いた例示的な可逆反応は次のようになる。
カソード：
Ａｌ＋Ｌｉ^＋＋ｅ⁻ → ＬｉＡｌ（２０９）
又は
３Ｍｇ＋Ｌｉ^＋＋ｅ⁻ → Ｍｇ_３Ｌｉ（２１０）
アノード：
２Ｈ⁻＋Ｎｉ^＋ → ＮｉＨ＋Ｈ（１／ｐ）＋２ｅ⁻ （２１１）
全反応は次のようになるであろう。
２ＬｉＨ＋２Ａｌ＋Ｎｉ → ２ＬｉＡｌ＋ＮｉＨ＋Ｈ（１／ｐ）（２１２）
又は
２ＬｉＨ＋６Ｍｇ＋Ｎｉ → ２Ｍｇ_３Ｌｉ＋ＮｉＨ＋Ｈ（１／ｐ）（２１３）
前記セルは間欠的な電気分解電圧を印加することで断続的に再生させても良い。前記印加セル電圧は前記電気分解カソードでＬｉＡｌまたはＭｇ_３Ｌｉが形成されるもので良い（式（２０９−２１３））。

水素透過電極の一実施形態において、前記水素は前記電極内で、電解的にまたは化学的に生成される。一実施形態において、前記水素透過電極は、電解で水素を生成するためのセルのアノードを含む。前記水素は前記電解質の水素化物の酸化によって生成されても良い。前記水素は電解中に前記アノードを通して拡散しても良い。典型的なセルは、［Ｎｉ、Ｔｉ、またはＰｄ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ等の共晶溶融＋ＬｉＨ／ＡｌまたはＭｇ等の水素化物］であり、ここで、Ｈは前記アノードで、そしてリチウム合金は対応する前記カソードで、式（２０９−２１３）に準じて形成される。前記カソードは前記水素透過電極を含む同心陽極管の中心にあっても良い。もう一つの実施形態において、前記水素透過電極は電解で水素を生成するためのセルのカソードを含む。前記水素は、前記電解質の水の還元により生成しても良い。前記水素は電解中に前記カソードを通して拡散しても良い。典型的なセルは、［Ｎｉ／ＫＯＨ（ａｑ）／Ｎｉ］であり、ここで、Ｈは前記カソードで、そして、酸素は対応の前記アノードで形成される。前記アノードは前記水素透過電極を含む同心陰極管の中心にあっても良い。もう一つの実施形態において、前記ＣＩＨＴセルの前記水素透過電極の水素は化学的に生成される。前記水素は、アルカリ、アルカリ土類、遷移金属、内部遷移金属、または希土類水素化物、または合金、または本開示の水素貯蔵材料等の水素化物の分解に由来しても良い。例示的な一実施形態において、ＨはＬｉＨとＬｉＮＨ_２の反応によって生成されても良い。前記水素透過電極は追加したＨを伴う逆電解よって、または追加したＨのみによって、またはＨ_２Ｏ等の反応混合物の追加によって、再生されても良い。前記水素透過電極はＣＩＨＴセルのアノード、またはカソードの中の１つとして機能しても良い。好適で典型的なＣＩＨＴは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気またはＯ_２］であり、ここで、Ｎｉ（Ｈ_２）は電解的に、または化学的に生成された水素電極である。前記電解で生成された水素電極の態様は図４に示すが、ここで電極６０４はセパレータ６０８に取り代わり、水素透過膜と対電極６０３を有するセルの電極を含む。水素は、６０８に代わって６０８の位置の６０９と６０４の間の６１６源から、電圧を印加することで生成される。

一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルの電極での水素源、またはＨ_２透過膜等の水素電極、およびＮｉ（Ｈ_２）等のＨ_２ガス、またはＬａＮｉ_５Ｈ_６の水素化物は、Ｈ_２発泡金属チューブ等の水素ガス源に取り替えても良く、ここで、前記金属はＮｉ粉末、またはＲ−Ｎｉ粉末等の焼結金属粉末から成るＨ_２多孔性チューブ等の多孔性のもの、または、金属製繊維、フィラメント、マット、またはセルメット（住友電工製のセルメットＣＮｉ＃４、＃６、または＃８）等の多孔質材であっても良い。前記Ｈ_２発泡電極は、対応する電極、または対応するハーフセルで酸素を反応体として有する前記アノード、またはカソードに置き換えても良い。例えば、前記Ｈ_２発泡電極は、水性塩基セルのアノード、水酸化物を有する溶融塩を含むセルのアノード、またはＨ⁻移動イオンを有する溶融塩を含むカソード等の本開示セルの電極を置換しても良い。後者の場合、前記置換された電極は水素透過電極を含んでも良い。水性酸などの酸性電解質を含む別のセルの実施形態では、水素は、前記水素電極は前記アノードを含んでも良い。前記アノードは発泡電極、散布電極、または水素透過電極を含んでも良い。前記水素は水の電解によって供給しても良い。前記水素は放電中にＨ^＋に酸化しても良い。このように、水素電極に対する一般的な表示はＭ（Ｈ_２）で良く、ここでＭは、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｐｄ、またはＰｔ等の遷移金属、または、前記電解質に安定している、水素透過性である、および前記電解質およびセルの動作条件と互換性のある好適な電気分解電極の少なくとも１つの本開示の別の金属であって良い。典型的なセルは、［導体（発泡性Ｈ_２）／ＫＯＨ（ｓａｔａｑ）／ＳＣ＋空気］、［導体（発泡性Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸ（Ｘ＝ハロゲン化物または硝酸塩）等の水酸化アルカまたは、ＬｉＯＨ−Ｌｉ_２ＸまたはＮａＯＨ−Ｎａ_２Ｘ（Ｘ＝硫酸塩または炭酸塩）を含む共晶溶融塩／導体＋Ｏ_２還元触媒でも良い空気］、および［Ｐｔ／Ｈ_２ＳＯ_４／Ｐｔ等を含む導体（発泡性Ｈ_２）＋空気］である。１つのアルカリセルの実施形態において、セル雰囲気はＨ_２とＯ_２の混合物と任意にＨ_２Ｏを含んでも良く、ここで、前記カソードは、Ｏ_２とＨ_２Ｏの中の少なくとも１つの還元に選択的であり、前記アノードは、Ｈと前記電解質種の中の少なくとも１つの酸化に選択的である。前記アノード反応は、Ｈ_２Ｏ等の生成物を形成するための水素反応を含んでも良い。前記アノードとカソードは本開示のもの、または当業者に周知のものでも良い。

前記セルは、Ｍ（Ｈ_２）と表示される水素源であるアノードの１つを含んでいても良く、ここでＭは、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｐｄ、またはＰｔ、または前記電解質に安定的である、または水素透過性である中の少なくとも１つである本開示の別の金属でも良い。前記アノードは、水素散布電極、多孔性導体または多孔性金属等の発泡電極、または水素透過性電極を含んでも良い。透過電極、散布電極、多孔性導体等の発泡電極のような水素アノードはさらに、水素解離子と、炭素、炭化物、ホウ化物、またはニトリルであっても良いＰｔ／Ａｕ等の支持体上のＲ−Ｎｉまたは貴金属等の表面積支持体を含んでも良い。前記水素電極は、外側のアルミナ管を含み得る水素ラインの周囲に強固に結合された金属多孔質体アセンブリ（例、住友電工製のセルメット＃４、＃６、または＃８等のＮｉ）のような多孔質材を含んでも良く、ここで、水素ガスは前記管を介して散布され、前記電解質と接触している前記多孔質材全体に拡散される。実施形態では、水素透過電極、水素散布電極、多孔性導体または多孔性金属等の発泡電極を含む本開示のセルは前記水素透過電極を置換しても良い。もう一つの実施形態において、前記水素電極は、水素が電解によって生成される電気分解電極を含む。このように、水素電極に対する一般的な表示はＭ（Ｈ_２）であり、ここでＭは、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｐｄ、またはＰｔ等の遷移金属、または、前記電解質に安定している、水素透過性である、および前記電解質およびセルの動作条件と互換性のある好適な電気分解電極の少なくとも１つの本開示の別の金属であって良い。前記セルはさらに、Ｏ_２とＨ_２Ｏの還元アノード、および溶融水酸化物電解質の中の１つであるカソードを含んでも良い。好適なアノード物質はＮｉ等の金属であり、好適なカソード物質はＡｇ等の金属である。前記Ａｇカソードは炭素上で分散しているＡｇ粒子であって良い。最適な装荷は約２０から３０重量％の範囲である。前記カソードはＭｎＯ_２／Ｃ、Ｍｎ_２Ｏ_３／Ｃ、またはＭｎＯＯＨ等のマンガン酸化物を含んでも良い。その他の好適なＯ_２還元カソードは、Ｐｔ／Ｃ、ＰｔＲｕ／Ｃ等のＰｔ合金／Ｃ、Ｌａ_０．５Ｓｒ_０．５ＣｏＯ_３／Ｃ、ＣｏＴＰＰ／Ｃ、Ｌａ_０．６Ｃａ_０．４ＣｏＯ_３／Ｃ、Ｐｔ／ＣＮＴ／Ｃ、Ｐｒ_０．８Ｃａ_０．２ＭｎＯ_３、ＣｏＴＭＰＰ／Ｃ、ＬａＭｎＯ_３／Ｃ、ＭｎＣｏ_２Ｏ_４／Ｃ、アルカリ土類ルテニウム酸塩、リチウムドープしたニッケル酸ランタン、ＮｉＣｏ_２Ｏ_４等のＮｉ−Ｃｏスピネル、Ｐｂ_２Ｒｕ_２Ｏ_６．５等のＰｂ−Ｒｕパイロクロア、Ｎａ−Ｐｔブロンズ、Ａｇ／ＡｇＨｇ、Ｎｉ、ＮｉＯ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｆｅ、ＮｉＯ−ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、ＦｅＴｉａｌｌｏｙ、Ｆｅ_２Ｔｉ、遷移金属、ならびに陶性合金等の任意のこれらの酸化物の中の少なくとも１つである。前記酸素還元カソードは、酸素過剰カソード、または酸素過剰触媒を含むカソードを含んでも良い。一実施形態において、前記カソードは、前記電解質に浸かっている、または前記電解質によって濡れている部分と、前記電解質に浸かっていない、または前記電解質によって濡れていない部分を含む。後者の部分は空気またはＯ_２ガス等の酸素源に直接曝されていても良い。酸素はＯ_２源露出部分と反応して、前記電解質に浸かっている、または前記電解質によって濡れている部分に移動しても良い。前記酸素過カソードは部分的に浸出したニッケルマット、フォーム、または焼結、または多孔性のＮｉカソードを含んでも良い。一実施形態において、前記酸素還元電流は、より多くの空気露出カソード表面積を加えて、所定の電解質界面領域に対する空気露出物質を増加することで増やされる。もう一つの実施形態において、前記カソード等の前記酸素還元電極は前記電解質に完全に浸出しても良い。供給源からの酸素は、間欠的電解によって、Ｏ_２または空気等の酸素を含むガスの散布等の手段で供給しても良い。前記間欠電気分解電極は、炭素、炭化物、ホウ化物、窒化物、および炭窒化物の金属グループから選ばれた本開示の電極とは異なる金属、または異なる物質等、異なる物質であっても良い。一実施形態において、前記カソード等の酸素還元電極は、空気に露出していても良く、ここで前記セルは還元された酸素の前記電解質への流入を制限するために前記電解質界面領域に前記電解質の固体層を含む。前記固体層は前記電解質の温度勾配による固体化によって形成されてもよい。

一実施形態において、前記セルはＢＡＳＥまたはＮＡＳＩＣＯＮ等の塩橋を含んでも良い。前記カソードはＨ_２ＯまたはＯ_２還元触媒を含んでも良い。Ｈ_２Ｏおよび任意でＯ_２は、外側アルミナ管内のＮｉ多孔質体（セルメット＃６、住友電気工業株式会社）の強固に結合したアセンブリから成る多孔質電極等の多孔質電極を介して散布することにより供給されても良い。もう一つの実施形態において、Ｈ_２Ｏは前記電解質のバルクに注入される、または滴下され、前記電解質の溶媒和によって蒸発する迄十分な時間セル電圧を維持するするために保留される。Ｈ_２Ｏは定期的にまたは継続的に添加し直しても良い。

一実施形態において、水素透過性の陽極等のアノードは洗浄される。前記の典型的なＮｉ（Ｈ_２）アノードは剥離、または３％のＨ_２Ｏ_２／０．６ＭＫ_２ＣＯ_３に浸し、続いて蒸留Ｈ_２Ｏですすぎ洗浄しても良い。前記剥離によって、表面面積が増加する。別途に、前記アノードの形態および形状の中の１つを選択して陽極表面積を増大する。前記表面積はメタルブラックを電気めっきか、粗い被覆をする、または金属表面等の表面を酸エッチングすることで増加させても良い。もう一つの実施形態において、少なくとも１つの電極の表面積は、連続蒸着（ＣＶＤ）、スパッタリング、プラズマ蒸着、原子層堆積（ＡＬＤ）、プラズマスプレー等の物理蒸着（ＰＶＤ）、陰極アーク蒸着法、電子ビーム物理蒸着、蒸発蒸着、パルスレーザー堆積、スパッタ堆積、化学蒸着（ＣＶＤ）、有機金属気相成長（ＭＯＶＤＥ）、および金属有機化学蒸着法（ＭＯＣＶＤ）等の蒸着技術によって塗布されるメタルブラック塗布等の被覆を塗布することによって増加される。他の好適な方法には、スプレイング、ペイントブラッシング、メイヤーロッドの適用、スクリーン印刷、およびテープキャスティングが含まれる。他の実施形態では、前記電解質層は、これら、または当該技術分野で周知の技術で塗布しても良い。

１つの実施形態において、溶融塩電解質セルの陽極は、少なくとも水性のアルカリのセルのものなどの本開示からのＬａＮｉ_５Ｈ_６等などの水素化物、およびＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷのグループからの１つなどの金属を含む。典型的なセルは、［ＭまたはＭＨ／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＮａＣｌ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［ＭまたはＭＨ／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＣｌ_２−ＮａＣｌ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［ＭまたはＭＨ／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＯ−ＭｇＣｌ_２／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［ＭまたはＭＨ／Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＮａＦ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［ＭまたはＭＨ／ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸ、ＫＯＨ−ＫＸ、ＲｂＯＨ−ＲｂＸ、ＣｓＯＨ−ＣｓＸ、Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＸ_２、Ｃａ（ＯＨ）_２−ＣａＸ_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２−ＳｒＸ_２、またはＢａ（ＯＨ）_２−ＢａＸ_２、ここでは、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、［ＭまたはＭＨ／ＣｓＮＯ_３−ＣｓＯＨ、ＣｓＯＨ−ＫＯＨ、ＣｓＯＨ−ＬｉＯＨ、ＣｓＯＨ−ＮａＯＨ、ＣｓＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＯＨ、ＫＢｒ−ＫＯＨ、ＫＣｌ−ＫＯＨ、ＫＦ−ＫＯＨ、ＫＩ−ＫＯＨ、ＫＮＯ_３−ＫＯＨ、ＫＯＨ−Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＯＨ−ＬｉＯＨ、ＫＯＨ−ＮａＯＨ、ＫＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｌｉ_２ＣＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ、ＬｉＣｌ−ＬｉＯＨ、ＬｉＦ−ＬｉＯＨ、ＬｉＩ−ＬｉＯＨ、ＬｉＮＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＢｒ−ＮａＯＨ、ＮａＣｌ−ＮａＯＨ、ＮａＦ−ＮａＯＨ、ＮａＩ−ＮａＯＨ、ＮａＮＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＯＨ−Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＯＨ−ＲｂＯＨ、ＲｂＣｌ−ＲｂＯＨ、およびＲｂＮＯ_３−ＲｂＯＨ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］、および［ＭまたはＭＨ／ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＲｂＯＨ、ＣｓＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２が、またはＢａ（ＯＨ）_２＋ＡｌＸ_３、ＶＸ_２、ＺｒＸ_２、ＴｉＸ_３、ＭｎＸ_２、ＺｎＸ_２、ＣｒＸ_２、ＳｎＸ_２、ＩｎＸ_３、ＣｕＸ_２、ＮｉＸ_２、ＰｂＸ_２、ＳｂＸ_３、ＢｉＸ_３、ＣｏＸ_２、ＣｄＸ_２、ＧｅＸ_３、ＡｕＸ_３、ＩｒＸ_３、ＦｅＸ_３、ＨｇＸ_２、ＭｏＸ_４、ＯｓＸ_４、ＰｄＸ_２、ＲｅＸ_３、ＲｈＸ_３、ＲｕＸ_３、ＳｅＸ_２、ＡｇＸ_２、ＴｃＸ_４、ＴｅＸ_４、ＴｌＸ、およびＷＸ_４のうちの１つ以上、ここでＸは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ／Ｎｉ芯（Ｈ_２Ｏおよび状況に応じてＯ_２）］ここでＭＨは、本開示からのＬａＮｉ_５Ｈ_６などであり、Ｍは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷのグループからの１つである。セルに対して適用されたようなＨ_２、Ｏ_２および大気などのガス圧力Ｈ_２浸透圧力、またはセルに散布された任意のガスの圧力は、任意の所望された圧力であってもよい。好適な圧力は、約０．００１Ｔｏｒｒ〜２００，０００Ｔｏｒｒ、約１Ｔｏｒｒ〜５０，０００Ｔｏｒｒ、および約７００Ｔｏｒｒ〜１０，０００Ｔｏｒｒの範囲である。反応物質の集中度は、任意の所望の値であってもよい。好適な集中度は、電力を最大化し、コストを最小限にし、耐久性を増加させ、再生能力を増加させ、且つ当業者により知られている他の機能特性を改善するものである。これらの基準は、また、本開示の他の実施形態にも当てはまる。電解質に好適な典型的な集中度は、共融混合物の集中度に関係する。別の実施形態において、セルは、一定期間にわたってＯ_２またはＨ_２の添加を止めるバッチモ−ドにおいて動作される。Ｈ_２は、セルに添加されてもよいし、または、バッチの間にＨ_２添加を止めてもよい。陽極で形成されたＨ_２ＯおよびＨ_２は、内部循環における陰極にて反応してもよいし、または、陽極のガスの生成物は、動的に取り除かれてもよい。反応混合物は、バッチ後に再生されてもよい。

１つの実施例において、溶融水酸化物電解質は、追加的な塩を含む。典型的な電解質単独、ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のような塩基との組合せ、及び如何なる組合せにおいても、それらは、アルカリ又はアンモニウム・ハロゲン化物、硝酸塩、過塩素酸塩、炭酸塩、及び硫酸塩、及び、ＮＨ_４Ｘ，Ｘ＝ハライド、硝酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、及び硫酸塩である。電解質は、混合物、又は水酸化物、又は、ハライド、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、及び硝酸塩のような他の塩を含むかもしれない。一般に、例示的な好適な塩単独若しくは塩の組合せは、ＭＯＨ，Ｍ_２Ｓ，Ｍ_３ＰＯ_４，Ｍ_２ＳＯ_４，Ｍ_２ＣＯ_３，ＭＸ（Ｘ＝ハロゲン），ＭＮＯ_３，ＭＮＯ，ＭＮＯ_２，ＭＸ（Ｘ＝ハロゲン），Ｍ_２ＣＯ_３，Ｍ_２ＳＯ_４，ＭＨＳＯ_４，Ｍ_３ＰＯ_４，Ｍ_２ＭｏＯ_４，ＭＮｂＯ_３，Ｍ_２Ｂ_４Ｏ_７（四ホウ酸Ｍ），ＭＢＯ_２，Ｍ_２ＷＯ_４，Ｍ_２ＣｒＯ_４，Ｍ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｍ_２ＴｉＯ_３，ＭＺｒＯ_３，ＭＡｌＯ_２，ＭＣｏＯ_２，ＭＧａＯ_２，Ｍ_２ＧｅＯ_３，ＭＭｎ_２Ｏ_４，Ｍ_４ＳｉＯ_４，Ｍ_２ＳｉＯ_３，ＭＴａＯ_３，ＭＶＯ_３，ＭＩＯ_３，ＭＦｅＯ_２，ＭＩＯ_４，ＭＣｌＯ_４，ＭＳｃＯ_ｎ，ＭＴｉＯ_ｎ，ＭＶＯ_ｎ，ＭＣｒＯ_ｎ，ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＭＦｅＯ_ｎ，ＭＣｏＯ_ｎ，ＭＮｉＯ_ｎ，ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＭＣｕＯ_ｎ，ＭＺｎＯ_ｎ，（Ｍは、水酸化物又はアンモニウムのカチオンと同じであってよいアルカリであり、ｎ＝１，２，３，又は４），及びＭ酢酸塩又はＭカルボン酸塩のような有機塩基塩である。電解質はまた、アルカリ土類、遷移金属、内部遷移金属、希土類、及び、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｂｉ，及びＴｅのようなＩＩＩ，ＩＶ，Ｖ，及びＶＩ族の他のカチオンのようなメルト（溶融塩）に溶解できる如何なるカチオンを備える他のアニオン及びこれらを含んでよい。そのｗｔ％は、如何なる所望のものであってよい。追加の塩は、水酸化物電解質への少量の添加剤であってよい。ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒのような水酸化物電解質は、添加の塩を更に含む共晶混合物であってよい。例示的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＭＯＨの溶融電解質及びＭ_２Ｓ，Ｍ_３ＰＯ_４，Ｍ_２ＳＯ_４，Ｍ_２ＣＯ_３，ＭＸ（Ｘ＝ｈａｌｉｄｅ），ＭＮＯ_３，ＭＮＯ，ＭＮＯ_２，Ｍ_２ＭｏＯ_４，Ｍ_２ＣｒＯ_４，Ｍ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，ＭＡｌＯ_２，ＭＮｂＯ_３，Ｍ_２Ｂ_４Ｏ_７，ＭＢＯ_２，Ｍ_２ＷＯ_４，Ｍ_２ＴｉＯ_３，ＭＺｒＯ_３，ＭＣｏＯ_２，ＭＧａＯ_２，Ｍ_２ＧｅＯ_３，ＭＭｎ_２Ｏ_４，Ｍ_４ＳｉＯ_４，Ｍ_２ＳｉＯ_３，ＭＴａＯ_３，ＭＶＯ_３，ＭＩＯ_３，ＭＦｅＯ_２，ＭＩＯ_４，ＭＣｌＯ_４，ＭＳｃＯ_ｎ，ＭＴｉＯ_ｎ，ＭＶＯ_ｎ，ＭＣｒＯ_ｎ，ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＭＦｅＯ_ｎ，ＭＣｏＯ_ｎ，ＭＮｉＯ_ｎ，ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＭＣｕＯ_ｎ，そしてＭＺｎＯ_ｎ，（ｎ＝１，２，３，又は４）の群から選ばれる添加剤と混合物とを含むオプションとしての他の１つの塩、及び、Ｍアセテイト（Ｍａｃｔｅｔａｔｅ）／Ｎｉ＋空気］及び［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ及びＬｉ_２Ｓ，Ｌｉ_３ＰＯ_４，Ｌｉ_２ＳＯ_４，Ｌｉ_２ＣＯ_３，ＬｉＮＯ_３，ＬｉＮＯ，ＬｉＮＯ_２，Ｌｉ_２ＭｏＯ_４，Ｌｉ_２ＭｏＯ_３，Ｌｉ_２ＣｒＯ_４，Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，ＬｉＡｌＯ_２，ＬｉＮｂＯ_３，Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７，ＬｉＢＯ_２，Ｌｉ_２ＷＯ_４，Ｌｉ_２ＴｉＯ_３，ＬｉＺｒＯ_３，ＬｉＣｏＯ_２，ＬｉＧａＯ_２，Ｌｉ_２ＧｅＯ_３，ＬｉＭｎ_２Ｏ_４，Ｌｉ_４ＳｉＯ_４，Ｌｉ_２ＳｉＯ_３，ＬｉＴａＯ_３，ＬｉＶＯ_３，ＬｉＩＯ_３，ＬｉＦｅＯ_２，ＬｉＩＯ_４，ＬｉＣｌＯ_４，ＬｉＳｃＯ_ｎ，ＬｉＴｉＯ_ｎ，ＬｉＶＯ_ｎ，ＬｉＣｒＯ_ｎ，ＬｉＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＬｉＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＬｉＦｅＯ_ｎ，ＬｉＣｏＯ_ｎ，ＬｉＮｉＯ_ｎ，ＬｉＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＬｉＣｕＯ_ｎ，そしてＬｉＺｎＯ_ｎ，（ｎ＝１，２，３，又は４）の群から選ばれる添加剤及びＬｉアセテイト（Ｌｉａｃｔｅｔａｔｅ）／Ｎｉ＋空気］である。

典型的なセル［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］を含み、且つ式（１０１〜１０４）および（１１３）のものと同様のメカニズムに追従する電解セルでも動作できる、式（１２８）および（６１）により表わされる反応の別の形式は、次式により表わされる。
Ｎａ＋３ＮａＯＨ → ２Ｎａ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２；
Ｈ → Ｈ（１／ｐ）（２１４）
ＯＨおよびＨ_２Ｏの少なくとも１つは、触媒として機能してもよい。１つの実施形態において、［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］などのＨ_２Ｏを形成してもよい水酸化物を含むセルは、さらに、ＢａＩ_２２Ｈ_２Ｏなどの水和物を含んでもよいし、または、Ｈ_２Ｏが、陰極に添加されてもよい。セルは、Ｎｉ（Ｈ_２）などの浸透膜を通じて供給される水素化物またはＨ_２ガスなどのＨ源をさらに含んでもよい。

１つの実施形態において、陰極は、水源および酸素の少なくとも１つを含む。陰極は、水和物、酸化物、過酸化物、超酸化物、オキシ水酸化物および水酸化物であってもよい。陰極は、溶融塩電解質などの電解質における不溶性の金属酸化物であってもよい。好適で典型的な金属酸化物は、ＰｂＯ_２、Ａｇ_２Ｏ_２、ＡｇＯ、ＲｕＯ_２、ＭｎＯ_２、および、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷのグループの金属酸化物である。好適で典型的な金属オキシ水酸化物はＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グロウタイトおよびγ−ＭｎＯ（ＯＨ）亜マンガン酸塩）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、およびＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）である。好適で典型的な水酸化物は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷの水酸化物である。１つの実施形態において、溶融塩電解質セルの陽極は、少なくとも水性アルカリセルの陽極などの本開示からのＬａＮｉ_５Ｈ_６等などの水素化物、およびＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷのグループからの１つなどの金属を含む。アノードは、水素透過、散布、又は断続的な電気分解水素電極を含む水素電極を含んでよい。好適な水素化物又は金属は、溶融電解質において適当に不溶性である。典型的なセルは、［水酸化物又はＮｉ芯／Ｎｉ（Ｈ_２Ｏ及び状況に応じてＯ_２）を含むＬａＮｉ_５Ｈ_６／溶融塩電解質などの水素化物］、［水酸化物／酸化物（例えばＰｂＯ_２、Ａｇ_２Ｏ_２、ＡｇＯ、ＲｕＯ_２、ＭｎＯ_２のグループの１つ、及びＶ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷのグループのものなど）を含むＬａＮｉ_５Ｈ_６又はＭ（Ｈ_２）／溶融塩電解質などの水素化物］（ここで、Ｍは、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ又はＦｅなどのＨ_２の浸透性金属である）、［水酸化物／オキシ水酸化物（例えばＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グロウタイト及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）亜マンガン酸塩）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、及びＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）のグループのうちの１つなど）を含むＬａＮｉ_５Ｈ_６又はＭ（Ｈ_２）／溶融塩電解質などの水素化物］（ここで、Ｍは、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ又はＦｅなどのＨ_２の浸透性金属である）、［水酸化物／水酸化物（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷのグループからのカチオンを含むもののうちの１つなど）を含むＬａＮｉ_５Ｈ_６又はＭ（Ｈ_２）／溶融塩電解質などの水素化物］（ここで、Ｍは、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ又はＦｅなどのＨ_２の浸透性金属である）である。

１つの実施形態において、溶融塩または水性のアルカリの溶液などの電解質は、１つ以上の酸化状態において存在できないカチオンを有する塩などのイオン化合物を含んでもよい。多価であることが可能な好適で典型的なカチオンはＦｅ^３＋（Ｆｅ^２＋）、Ｃｒ^３＋（Ｃｒ^２＋）、Ｍｎ^３＋（Ｍｎ^２＋）、Ｃｏ^３＋（Ｃｏ^２＋）、Ｎｉ^３＋（Ｎｉ^２＋）、Ｃｕ^２＋（Ｃｕ^＋）、およびＳｎ^４＋（Ｓｎ^２＋）、遷移、内部遷移、およびＥｕ^３＋（Ｅｕ^２＋）などの希土類カチオンである。アニオンは、本開示のハロゲン化物、水酸化物、酸化物、炭酸塩、硫酸塩、または別のものであってもよい。１つの実施形態において、ＯＨ⁻は、Ｈ_２Ｏを形成するために陽極にて酸化され、Ｈと反応させてもよい。ＯＨおよびＨ_２Ｏの少なくとも１つは、触媒として機能してもよい。水素化物陽極反応は、式（９２）から与えられてもよい。多価であることが可能なカチオンは、陰極にて還元されてもよい。典型的な正味反応は、次式により表される。
ＬａＮｉ_５Ｈ_６＋ＫＯＨ＋ＦｅＣｌ_３又はＦｅ（ＯＨ）_３ →
ＫＣｌ又はＫＯＨ＋ＦｅＣｌ_２又はＦｅ（ＯＨ）_２
＋ＬａＮｉ_５Ｈ_５＋Ｈ_２Ｏ（２１５）
多価であることが可能なカチオンを含む化合物が不溶性である場合に、それは陰極半セル反応物質を含んでもよい。それは、炭素、カーバイド、硼化物、またはニトリルなどの導電性支持体と混合されてもよい。本開示または金属の別の水素化物は、Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷのグループのうちの１つなどの陽極として機能してもよく、ここで、陽極反応は、式（３３７）から与えられてもよい。水素、およびＯＨおよびＨ_２Ｏのうちの少なくとも１つなどの触媒を形成するために、金属は、水酸化物などの電解質と反応してもよい。他の水酸化物は、本開示のものなどの電解質として機能しＫＯＨと置き換わってもよい。Ｋ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６またはＦｅ（ＯＨ）_３などの多価であることが可能なカチオンを有する他の塩類は、ＦｅＣｌ_３と置き換わってもよい。１つの実施形態において、化合物の還元電位は、Ｈ_２Ｏの還元電位よりも大きい。典型的なセルは、［Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷのうちの１つなどの酸化可能な金属、ＬａＮｉ_５Ｈ_６などの金属水素化物、又はＨ_２、及びＶ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ（Ｚｒ）、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、ＰｄがコーティングされたＡｇ、ＰｄがコーティングされたＶ、及びＰｄがコーティングされたＴｉ／ＫＯＨ（飽和水溶液）のうちの１つなどの水素浸透膜＋Ｋ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６、Ｆｅ（ＯＨ）_３などの多価であることが可能なカチオンを有する塩、又は炭素又は粉末金属などのＦｅＣｌ_３／導体］、［Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷのうちの１つなどの酸化可能な金属、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、及びＷ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６などの金属水素化物、又はＨ_２、及びＶ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍ合金、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ（Ｚｒ）、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、ＰｄがコーティングされたＡｇ、ＰｄがコーティングされたＶ、及びＰｄがコーティングされたＴｉ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／炭素又は粉末金属などの導体と混合されたＦｅ（ＯＨ）_３、Ｃｏ（ＯＨ）_３、Ｍｎ（ＯＨ）_３、Ｎｉ_２Ｏ_３、又はＣｕ（ＯＨ）_２などの多価であることが可能なカチオンを有する塩のうちの１つなどの水素浸透膜］、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、又は４３０ＳＳ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸ、ＫＯＨ−ＫＸ、ＲｂＯＨ−ＲｂＸ、ＣｓＯＨ−ＣｓＸ、Ｍｇ（ＯＨ）_２−ＭｇＸ_２、Ｃａ（ＯＨ）_２−ＣａＸ_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２−ＳｒＸ_２、又はＢａ（ＯＨ）_２−ＢａＸ_２（ここで、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ、及びＫ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６、Ｆｅ（ＯＨ）_３、又はＦｅＣｌ_３／Ｎｉなどの多価であることが可能なカチオンを有する塩である）］、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、又は４３０ＳＳ（Ｈ_２）／ＣｓＮＯ_３−ＣｓＯＨ、ＣｓＯＨ−ＫＯＨ、ＣｓＯＨ−ＬｉＯＨ、ＣｓＯＨ−ＮａＯＨ、ＣｓＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＯＨ、ＫＢｒ−ＫＯＨ、ＫＣｌ−ＫＯＨ、ＫＦ−ＫＯＨ、ＫＩ−ＫＯＨ、ＫＮＯ_３−ＫＯＨ、ＫＯＨ−Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＯＨ−ＬｉＯＨ、ＫＯＨ−ＮａＯＨ、ＫＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｌｉ_２ＣＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ、ＬｉＣｌ−ＬｉＯＨ、ＬｉＦ−ＬｉＯＨ、ＬｉＩ−ＬｉＯＨ、ＬｉＮＯ_３−ＬｉＯＨ、ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＲｂＯＨ、Ｎａ_２ＣＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＢｒ−ＮａＯＨ、ＮａＣｌ−ＮａＯＨ、ＮａＦ−ＮａＯＨ、ＮａＩ−ＮａＯＨ、ＮａＮＯ_３−ＮａＯＨ、ＮａＯＨ−Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＯＨ−ＲｂＯＨ、ＲｂＣｌ−ＲｂＯＨ、及びＲｂＮＯ_３−ＲｂＯＨ＋Ｋ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６、Ｆｅ（ＯＨ）_３、又はＦｅＣｌ_３／Ｎｉなどの多価であることが可能なカチオンを有する塩］、［ｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｎｂ（Ｈ_２）、Ｐｄ（Ｈ_２）、ＰｄＡｇ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、又は４３０ＳＳ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＲｂＯＨ、ＣｓＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｓｒ（ＯＨ）_２、又はＢａ（ＯＨ）_２＋ＡｌＸ_３、ＶＸ_２、ＺｒＸ_２、ＴｉＸ_３、ＭｎＸ_２、ＺｎＸ_２、ＣｒＸ_２、ＳｎＸ_２、ＩｎＸ_３、ＣｕＸ_２、ＮｉＸ_２、ＰｂＸ_２、ＳｂＸ_３、ＢｉＸ_３、ＣｏＸ_２、ＣｄＸ_２、ＧｅＸ_３、ＡｕＸ_３、ＩｒＸ_３、ＦｅＸ_３、ＨｇＸ_２、ＭｏＸ_４、ＯｓＸ_４、ＰｄＸ_２、ＲｅＸ_３、ＲｈＸ_３、ＲｕＸ_３、ＳｅＸ_２、ＡｇＸ_２、ＴｃＸ_４、ＴｅＸ_４、ＴｌＸ、及びＷＸ_４のうちの１つ以上（ここで、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ＋Ｋ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６、Ｆｅ（ＯＨ）_３、又はＦｅＣｌ_３／Ｎｉなどの多価であることが可能なカチオンを有する塩］、［ＬａＮｉ５Ｈ／ＫＯＨ（飽和水溶液）／フェロセニウムＳＣなどの有機金属化合物］、及び［ＬａＮｉ_５Ｈ_６／ＫＯＨ（飽和水溶液）／フェロセニウムなどの有機金属化合物］である。セルは、電気分解により、又は機械的に再生されてもよい。

一実施形態において、前記ハイドリノ反応は活性化エネルギー源によって拡散される。前記活性化エネルギーは少なくとも、加熱または化学反応の中の１つによって提供しても良い。前記セルの高い動作温度で不安定になる水性セル、溶媒、または反応混合物を含む一実施形態において、前記セルは、前記セルのハウジング、または少なくともハーフセルコンパートメントが有す圧力容器で加圧される。前記活性化エネルギーを提供する化学反応は前記カソードでの酸素の還元、または前記アノードでのＯＨ⁻の反応、およびＨのＨ_２Ｏ等の酸化反応、または還元反応でも良い。Ｈ源はＬａＮｉ_５Ｈ_６等の水素化物でも良い。前記アノード反応は又、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｉｎ、Ｇｅ、および本開示の金属等の酸化を含んでも良い。Ｆｅ^３＋（Ｆｅ^２＋）、Ｃｒ^３＋（Ｃｒ^２＋）、Ｍｎ^３＋（Ｍｎ^２＋）、Ｃｏ^３＋（Ｃｏ^２＋）、Ｎｉ^３＋（Ｎｉ^２＋）、Ｃｕ^２＋（Ｃｕ^＋）、およびＳｎ^４＋（Ｓｎ^２＋）等の１つであり得る多価カチオンの還元は活性化エネルギーを提供する。前記水素透過膜を通して透過し、ＬｉＨ等の金属水素化物等の化合物を形成する前記カソードで形成されるＨの透過が活性化エネルギーを提供する。一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルの反応も又、反応の活性化エネルギーの提供、または溶融電解質の維持等の前記セルの動作を維持する目的で熱を生産するために使用される。熱出力も又外部負荷の加熱に使用される。または、前記ハイドリノ反応を維持し、外部負荷に熱を供給するための熱を生成するために電極なしで反応を実施しても良い。［ＰｔＴｉ／Ｈ_２ＳＯ_４（ａｑ５Ｍ）／ＰｔＴｉ］間欠充放電等の間欠電気分解セルの一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルで分散される熱を生産するための放電中に、前記電極を短絡する、または抵抗加熱器を介して短絡しても良い。

１つの実施形態において、Ｏ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻およびＯ_２ ^２−のうちの少なくとも１つなどの酸素種は、ハイドリノを形成するための触媒として、機能するＯＨおよびＨ_２Ｏのうちの少なくとも１つを形成するために、Ｈ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨおよびＯＯＨ⁻のうちの少なくとも１つなどのＨ種との酸化反応を経てもよい。Ｈがの源はＬａＮｉ_５Ｈ_６などの水素化物、水酸化物、またはオキシ水酸化物化合物などの化合物、Ｈ_２、Ｈ_２源、およびＮｉ（Ｈ_２），Ｖ（Ｈ_２），Ｔｉ（Ｈ_２），Ｆｅ（Ｈ_２）、またはｂ（Ｈ_２）などの水素浸透膜のうちの少なくとも１つであってもよい。Ｏ種は、陰極でのＨ_２ＯまたはＯ_２の還元反応により供給されてもよい。Ｏ種のＯ_２源は、大気からであってもよい。あるいは、Ｏ種は、セルに供給されてもよい。ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻およびＯ_２ ^２−などのＯ種の好適な源は、酸化物、アルカリ金属のものなどの過酸化物、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のものなどの超酸化物、水酸化物、本開示のものなどのオキシ水酸化物である。典型的な酸化物は、ＮｉＯおよびＣｏＯ、およびＳｎＯなどのＳｎなどの遷移金属、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏなどのアルカリ金属、およびＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯなどのアルカリ土類金属の酸化物である。ＮｉＯまたはＣｏＯなどの源酸化物は、溶融塩電解質に添加されてもよい。さらに典型的な酸化物は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、およびＷのグループからの１つである。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）、Ｖ（Ｈ_２）、Ｔｉ（Ｈ_２）、Ｆｅ（Ｈ_２）、またはＮｂ（Ｈ_２）、またはＬａＮｉ_５Ｈ_６／ＬｉＯＨ−ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＸなどのアルカリ性水酸化物を含む共晶塩電解質などの水素化物（ここで、Ｘは、ハロゲン化物または硝酸塩である）、またはＬｉＯＨ−Ｌｉ_２ＸまたはＮａＯＨ−Ｎａ_２Ｘ（ここで、Ｘは硫酸塩または炭酸塩である）、およびＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯ、または、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、またはＷの酸化物、アルカリ金属のものなどの過酸化物、またはアルカリ金属およびアルカリ土類金属／Ｎｉのものなどの超酸化物、または陽極のそれと同一であってもよい他の金属］である。

一実施形態において、ハイドリノを形成するためのＨの触媒として機能するＨ_２Ｏを形成するために、前記アノードでＯＨ⁻を酸化させ、Ｈと反応させても良い。何れの場合においても、前記Ｈは、タンク、ライン６４２を介して流れる供給６４０、およびレギュレータ６４４（図５）等の水素源からＮｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｐｄ、ＰｄＡｇ、またはＦｅ等の膜を通して水素源から浸透するＬａＮｉ_５Ｈ_６またはＨ_２等の水素化物源からでも良い。前記供給源は、実質的に純粋なＨ_２を供給するＨ_２とＯ_２の分離器を備えた水性電解セル６４０でも良い。Ｈ_２Ｏは前記カソードでＨ_２とＯＨ⁻に還元しても良い。図５に示される一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルはＨ_２ＯとＨ_２の回収とリサイクリングシステムを含む。前記ＣＩＨＴ６５０セルは、前記アノードで形成されるようなＨ_２Ｏ蒸気を前記ＣＩＨＴセルから回収するために、容器６５１、カソード６５２、アノード６５３、負荷６５４、電解質６５５およびシステム６５７を含む。Ｈ_２Ｏ回収システムは、前記セルから前記Ｈ_２Ｏ回収槽６５８に続く蒸気通路６５９を通じて、Ｈ_２Ｏ蒸気を受け取るために前記セルに接続している第１槽６５８を含む。前記回収システムは、少なくともＨ_２Ｏ吸入装置とＨ_２Ｏ濃縮装置６６０の中の１つを含む。前記回収された水は、ポンプ６６３、または前記回収された水をヒータ６６５で加熱して作られる圧力によって、通路６６１を通じて、Ｈ_２Ｏ蒸気または液体水としてＣＩＨＴに戻しても良い。前記水の流れや蒸気の圧力はバルブ６６６、６６７、および６６８で制御し計器６６９でモニターしても良い。前記水は、前記回収されたＨ_２Ｏに対して多孔性である前記カソード６５２に戻しても良い。前記ＣＩＨＴセルはさらに、前記ＣＩＨＴセルからＨ_２を回収するシステム６７１を含む。前記Ｈ_２を回収するシステムはＨ_２ゲッター６７３を備える第２槽６７２を含み、ここで、前記アノード源から、反応しなかったＨ_２と前記カソードで形成されたＨ_２は、前記Ｈ_２ゲッターで回収しても良い。前記Ｈ_２Ｏ回収システムから部分的に除去された水を有する前記Ｈ_２は、ガス通路６７５を通じて第１槽から第２槽に流れる。一実施形態において、Ｈ_２選択膜が、Ｈ_２Ｏが前記第２槽に入り、前記ゲッターと反応することを防止するための前記室間に存在する。前記ゲッターは、遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属、内部遷移金属、希土類金属、金属の組み合わせ、合金、および本開示のそれのような水素貯蔵物質を含んでも良い。前記回収されたＨ_２は、ポンプ６７８、または前記ゲッター、または回収されたＨ_２をヒータ６８０で加熱することで作られる圧力によって通路６７６を通じて前記ＣＩＨＴセルに戻しても良い。Ｈ_２と前期圧力の流れはバルブ６８１および６８２で制御し計器６８４でモニターしても良い。前記ゲッターは、前記セルに対して、前記バルブ６８１を開け、前記バルブ６８２を閉じた状態で水素を回収しても良く、ここで、前記ヒータは前記ゲッターをＨ_２の再吸収に好適な温度に維持する。次に、前記バルブ６８１を閉じて、水素が計器６８４で測定される所望の圧力で放出されるように、温度を上げても良い。前記バルブ６８２は、前記加圧された水素が前記セルに流れるように開けても良い。流れはＨ_２透過壁を含む前記アノード６５３方向で良い。繰り返されるサイクルでは、前記ゲッター６７３を使って、Ｈ_２を回収するために、前記バルブ６８２を閉め、前記ヒータ６８０の温度を下げ、前記バルブ６８１を開けても良い。一実施形態において、前記ヒータ、バルブ、および計器への電力は前記ＣＩＨＴセルで供給しても良い。一実施形態において、前記回収システムとセル間の温度差は、Ｈ_２またはＨ_２Ｏを前記セルに導入する時に所望の圧力を得るために使用しても良い。例えば、Ｈ_２は、より高い塩温度でより高い第２圧力を得るために、先ず高温塩に浸出された密封槽で、第１の温度および圧力下にあっても良い。一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルは、一般的なガスマニホールドを通じて水素を供給し得る複数の水素透過アノードを含む。

図５で示されるシステムのもう一つの実施形態において、前記カソード６５１で、空気、Ｏ_２、酸化物、Ｈ_２Ｏ、ＨＯＯＨ、水酸化物、およびオキシ水酸化物等の１つのＯ_２源が提供される。前記酸素源は、選択的なバルブ、または複数であっても良い膜６４６を通じて前記セルに供給しても良く、ここで、前記膜はテフロン膜等のＯ_２浸透膜である。次に、システム６５７は、Ｈ_２や窒素、水蒸気、および酸素の中の少なくとも１つのセルガスの分離器を含み、ここで、前記システム６７１は未使用の水素を回収し、前記Ｈ_２水素透過アノード６５３を通じて前記セルに戻す。前記システム６５７は、水を濃縮しても良い。システム６６７は、さらに、または任意で、Ｏ_２、Ｎ_２、そして、恐らく水を保留し、選択的にＨ_２をシステム６７１に通過させる前記システム６５７の出口にあっても良い、選択的なＨ_２透過膜とバルブ６６８を含んでも良い。一実施形態において、前記水蒸気圧は、セル電力出力を制御するために、１つ以上の前記カソード６５１および前記セルで制御される。

一実施形態において、前記Ｈ_２透過性電極は、Ｈ_２発泡電極６５３と置換される。Ｈ_２は６７８等の少なくとも１つのポンプを使って、Ｈ_２Ｏを除去することなく、リサイクルしても良い。もし酸素が、選択的なバルブ、または膜６４６を通じて、または前記Ｏ_２多孔性電極６５２において前記セルに供給されたら、システム６５７によって前記Ｈ_２から除去しても良い。散布によって、Ｈ_２、Ｈ_２Ｏ、空気、およびＯ_２の中の少なくとも１つを供給する典型的な多孔性電極は、外側アルミナ管内のＮｉ多孔質体（セルメット＃６、住友電気工業株式会社）の強固に結合したアセンブリを含む。もし空気が前記セルに供給されたら、Ｎ_２を任意に、前記リサイクルされるＨ_２ガスから除去する。ハイドリノを形成するために消費された全てのＨ_２、または前記システムから喪失したＨ_２は交換（補充）しても良い。前記Ｈ_２は、Ｈ_２Ｏの前記電解から取り替えても良い。前記電解用の電力は前記ＣＩＨＴセルからのもので良い。

前記透過電極および発泡電極に対する水素透過速度、または流量は、水を形成するための従来の水素と酸素の反応に比べ、ハイドリノ反応による電力利得を最適化するために制御される。前記電解質に露出する前記外部表面の物理的なサイズにより定義される活性表面積を考慮すると、好適な流量は約１０^−１２から１０^−２モルｃｍ^−２ｓ^−１、約１０^−１１から１０^−６モルｃｍ^−２ｓ^−１、約１０^−１０から１０^−７モルｃｍ^−２ｓ^−１、および約１０^−９から１０^−８モルｃｍ^−２ｓ^−１の範囲である。空気中でのようなＯ_２、Ｈ_２Ｏ、およびＯ_２とＨ_２Ｏの混合物の中の少なくとも１つのカソード還元速度は、前記アノードでの所定の水素透過速度、または流量のセル反応を維持できる任意の所望速度であっても良い。有効面あたりの電流で表される好適な還元速度は、約０．００１から１０００ｍＡｃｍ^−２、約０．１から１００ｍＡｃｍ^−２、および約０．５から１０ｍＡｃｍ^−２の範囲である。一実施形態において、前記カソードはＯ_２、Ｈ_２Ｏ、およびＮ_２の混合物を含んでも良い。モル分率は任意の所望のもので良い。好適なモル分率は、空気（Ｏ_２〜２０％、Ｎ_２〜８０、Ｈ_２Ｏ〜０．５−３％）のモル分率であるが、成分の何れも約０．１から９９モル％の範囲で変えても良い。他の実施形態では、前記Ｏ_２／Ｎ_２／Ｈ_２Ｏモル％は、それぞれ、約１から９９％、１から９９％、そして０．０００１から９９％、合計で１００％である。空気のＡｒ等の他のガスが存在しても良い。一実施形態において、ＣＯ_２は前記セルに入るガスから除去される。

一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルは前記Ｈ_２透過管が中心にあり、電解質とカソード管が同心円状に外側に向かい、外管がカソードとして機能する同軸設計を含む。他の設計において、前記電極は、空気拡散電極を含むことができる拡散アノードとカソードのＨ_２の透過に対向している。前記設計は水性アルカリセルの設計と類似していても良い。

増大した結合エネルギー水素種、化合物および熱エネルギーを生産するための一実施形態において、図５で示すセルは水素を供給するために、水素透過膜と水素槽６５３を含んでも良く、前記カソード６５２はなくても良い。次に、ハイドリノ熱反応器は、膜６５３で囲まれる加圧水素で充填された反応槽６５３と、塩基性溶液およびハイドリノを形成するためのｎＨ、ＯＨ、ｎＯ、Ｏ_２、およびＨ_２Ｏ（ｎ＝整数）触媒を形成するために水素と反応可能な酸化物に充填された反応槽６５５を分離する。前記水素透過膜と水素槽６５３は大きな表面積を有しても良い。好適なシステムは、Ｎｉ管、または本開示のＮｉ被膜されたＶ、Ｔａ、Ｔｉ、ステンレス鋼ｌ（ＳＳ）４３０、またはＮｂ等の他の材料性のチューブのような長いコイル管である。一実施形態において、前記水素は前記触媒と原子状水素を前記反応槽で形成されるように前記膜前提に浸透され、熱出力はハイドリノの形成によって生成される。前記反応器はさらに、酸化物やその他の反応槽の反応体を運んだり、反応槽の生成物を取り除くための６５９等の入口と出口を含む。前記セルは連続的に動作しても良い。前記反応生成物は本開示の方法や、本出願人の下記の先行出願に開示の用法で再生してもよい。或いは、当業者が周知のものでも良い：（１）２００８年４月２４日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ０８／６１４５５「水素触媒反応器」、（２）２００９年７月２９日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ０９／０５２０７２「異種触媒反応器」、（３）２０１０年３月１８日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ１０／２７８２８「水素触媒パワーシステム」、（４）２０１１年３月１７日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ１１／２８８８９「電気化学的水素触媒パワーシステム」なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。前記水素槽は６７６等の水素ライン、タンク、供給６４０、ライン６４２、および水素圧と流量を監視し、制御するための制御器６４４を含んでも良い。一実施形態において、前記Ｈ_２と酸化物Ｏ_２は前記電解装置６４０で産生しても良い。もう一つの実施形態において、前記セルは前記水素透過膜６５３を含んでも良く、ここでＨは、ハイドリノを形成するための追加的な触媒Ｈとして機能し得るＯＨとＨ_２Ｏの中の少なくとも１つを形成するために、ＯＨ⁻または本開示のようなオキシアニオン等の酸素源と反応しても良い。酸化物は協調して還元しても良い。前記還元反応はＯＨ⁻等のオキシアニオンを形成しても良い。前記反応は、本開示の燃料セル実施形態の酸化還元反応を含んでも良い。前記セルはさらに、アノードとして機能する前記水素膜と電気的に接続可能なカソード６５２を含んでも良い。代替的に、６５１等の容器壁は前記還元反応に対する対電極として機能しても良い。前記酸化物は間欠的に、または継続的に前記セル６５５に供給され得る酸素を含んでも良い。前記酸化物は前記カソードで供給しても良い。

その溶液は、ＭＯＨ、Ｍ_２ＣＯ_３（ここで、Ｍはアルカリである）、Ｍ’（ＯＨ）_２、Ｍ’ＣＯ_３（ここで、Ｍ’はアルカリ土類である）、Ｍ’’（ＯＨ）_２、ＭＣＯ_３（ここで、Ｍ’’は遷移金属である）、希土類水酸化物、Ａｌ（ＯＨ）_３、Ｓｎ（ＯＨ）_２、Ｉｎ（ＯＨ）_３、Ｇａ（ＯＨ）_３、Ｂｉ（ＯＨ）_３、および本開示の他の水酸化物およびオキシ水酸化物のグループのうちの少なくとも１つなどのベースを含んでもよい。溶剤は、本開示の水溶性のものなどであってもよい。水素は、ハイドリノを形成するために触媒として機能してもよいＯＨおよびＨ_２Ｏのうちの少なくとも１つを形成するために、膜を介して浸透して、ＯＨ⁻により反応してもよい。反応混合物は、ＯＨおよびＨ_２Ｏ触媒のうちの少なくとも１つを形成する反応を容易にするために、オキシダントをさらに含んでもよい。オキシダントは、Ｏ源として、または本開示において示される、もしくは当業者に知られているようなオキシダントとして、機能するＨ_２Ｏ_２、Ｏ_２、ＣＯ_２、ＳＯ_２、Ｎ_２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ_２、Ｏ_２または別の化合物もしくはガスを含んでもよい。他の好適な典型的なオキシダントは、Ｍ_２Ｓ_２Ｏ_８、ＭＮＯ_３、ＭＭｎＯ_４、ＭＯＣｌ、ＭＣｌＯ_２、ＭＣｌＯ_３、ＭＣｌＯ_４（ここで、Ｍはアルカリ金属である）、およびＷＯ_２（ＯＨ）、ＷＯ_２（ＯＨ）_２、ＶＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）_２、ＶＯ（ＯＨ）_３、Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_２、Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_４、Ｖ_２Ｏ_２（ＯＨ）_６、Ｖ_２Ｏ_３（ＯＨ）_２、Ｖ_２Ｏ_３（ＯＨ）_４，Ｖ_２Ｏ_４（ＯＨ）_２、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）_２、Ｍｎ_２Ｏ_３（ＯＨ）、Ｍｎ_２Ｏ_２（ＯＨ）_３、Ｍｎ_２Ｏ（ＯＨ）_５、ＭｎＯ_３（ＯＨ）、ＭｎＯ_２（ＯＨ）_３、ＭｎＯ（ＯＨ）_５、Ｍｎ_２Ｏ_２（ＯＨ）_２、Ｍｎ_２Ｏ_６（ＯＨ）_２、Ｍｎ_２Ｏ_４（ＯＨ）_６、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＴｉＯ（ＯＨ）、ＴｉＯ（ＯＨ）_２、Ｔｉ_２Ｏ_３（ＯＨ）、Ｔｉ_２Ｏ_３（ＯＨ）_２、Ｔｉ_２Ｏ_２（ＯＨ）_３、Ｔｉ_２Ｏ_２（ＯＨ）_４、およびＮｉＯ（ＯＨ）などのオキシ水酸化物である。一般に、酸化剤は、ＭｘＯｙＨｚであり、ここで、ｘ，ｙ，及びｚは整数であり、Ｍは、遷移、内部遷移、又は金属オキシ水酸化物のような希土類金属のような金属である。酸化剤は、ＯＨ及びＨ_２Ｏの少なくとも１つのような触媒を形成するように水素と反応する酸素の源を含んでよい。ｘ及びｙが整数であるところ、好適な酸素源の源は、Ｏ_２，Ｈ_２Ｏ_２，ＭｎＯ_２，酸化物，炭素の酸化物，好ましくはＣＯ又はＣＯ_２，窒素の酸化物，Ｎ_２Ｏ及びＮＯ_２のようなＮ_ｘＯ_ｙ，硫黄の酸化物，Ｓ_ｘＯ_ｙ，好ましくはＭ_２Ｓ_ｘＯ_ｙ（Ｍはアルカリ金属）のような酸化剤，Ｃｌ_２Ｏ，ＣｌＯ_２，ＮａＣｌＯ_２のようなＣｌ_ｘＯ_ｙ，ＨＮＯ_２，ＨＮＯ_３，Ｈ_２ＳＯ_４，Ｈ_２ＳＯ_３のような濃縮された酸及びそれらの混合物、ニトロニウムイオン（ＮＯ_２ ^＋）を形成する酸，ＮａＯＣｌ，Ｉ_２Ｏ_５のようなＩ_ｘＯ_ｙ，Ｐ_ｘＯ_ｙ，Ｓ_ｘＯ_ｙ，亜硝酸塩、硝酸塩、塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩の１つのような無機化合物のオキシアニオン、酸化コバルトのような金属酸化物、水酸化物、オキシ水酸化物、過塩素酸塩、及び、Ｍ_２Ｏ_２のような過酸化物（ここでＭはアルカリ金属で、例えば、Ｌｉ_２Ｏ_２，Ｎａ_２Ｏ_２，及びＫ_２Ｏ_２）並びに、ＭＯ_２（ここでＭはアルカリ金属で、例えば、ＮａＯ_２，ＫＯ_２，ＲｂＯ_２，及びＣｓＯ_２，）のようなスーパーオキシド、並びに、アルカリ土類金属スーパーオキシドである。イオン性の過酸化物は、更にＣａ，Ｓｒ，又はＢａのそれらを含んでよい。他の好適な酸素の源は、ＳＯ_２，ＳＯ_３，Ｓ_２Ｏ_５Ｃｌ_２，Ｆ_５ＳＯＦ，Ｍ_２Ｓ_２Ｏ_８，ＳＯＣｌ_２，ＳＯＦ_２，ＳＯ_２Ｆ_２，ＳＯＢｒ_２のようなＳＯ_ｘＸ_ｙ、ＰＯＢｒ_３，ＰＯＩ_３，ＰＯＣｌ_３又はＰＯＦ_３のようなＰＯ_ｘＸ_ｙ、ＴｅＯ_２，ＭＮＯ_３，ＭＮＯ，ＭＮＯ_２，Ｍ_２ＣＯ_３，ＭＨＣＯ_３，Ｍ_２ＳＯ_４，ＭＨＳＯ_４，Ｍ_３ＰＯ_４，Ｍ_２ＨＰＯ_４，ＭＨ_２ＰＯ_４，Ｍ_２ＭｏＯ_４，ＭＮｂＯ_３，Ｍ_２Ｂ_４Ｏ_７（Ｍの四ホウ酸塩），ＭＢＯ_２，Ｍ_２ＷＯ_４，Ｍ_２ＣｒＯ_４，Ｍ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｍ_２ＴｉＯ_３，ＭＺｒＯ_３，ＭＡｌＯ_２，ＭＣｏＯ_２，ＭＧａＯ_２，Ｍ_２ＧｅＯ_３，ＭＭｎ_２Ｏ_４，Ｍ_４ＳｉＯ_４，Ｍ_２ＳｉＯ_３，ＭＴａＯ_３，ＭＶＯ_３，ＭＩＯ_３，ＭＦｅＯ_２，ＭＩＯ_４，ＭＣｌＯ_４，ＭＳｃＯ_ｎ，ＭＴｉＯ_ｎ，ＭＶＯ_ｎ，ＭＣｒＯ_ｎ，ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＭＦｅＯ_ｎ，ＭＣｏＯ_ｎ，ＭＮｉＯ_ｎ，ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＭＣｕＯ_ｎ，及びＭＺｎＯ_ｎ（ここで、Ｍはアルカリで、ｎ＝１，２，３，又は４），オキシアニオン，強酸のオキシアニオン，酸化剤，Ｖ_２Ｏ_３，Ｉ_２Ｏ_５，ＭｎＯ_２，Ｒｅ_２Ｏ_７，ＣｒＯ_３，ＲｕＯ_２，ＡｇＯ，ＰｄＯ，ＰｄＯ_２，ＰｔＯ，ＰｔＯ_２，Ｉ_２Ｏ_４，Ｉ_２Ｏ_５，Ｉ_２Ｏ_９，ＳＯ_２，ＳＯ_３，ＣＯ_２，Ｎ_２Ｏ，ＮＯ，ＮＯ_２，Ｎ_２Ｏ_３，Ｎ_２Ｏ_４，Ｎ_２Ｏ_５，Ｃｌ_２Ｏ，ＣｌＯ_２，Ｃｌ_２Ｏ_３，Ｃｌ_２Ｏ_６，Ｃｌ_２Ｏ_７，ＰＯ_２，Ｐ_２Ｏ_３，及びＰ_２Ｏ_５のような分子オキシダント、ＮＨ_４Ｘ（ここで、Ｘは、ＮＯ_３ ⁻，ＮＯ_２ ⁻，ＳＯ_４ ^２−，ＨＳＯ_４ ⁻，ＣｏＯ_２ ⁻，ＩＯ_３ ⁻，ＩＯ_４ ⁻，ＴｉＯ_３ ⁻，ＣｒＯ_４ ⁻，ＦｅＯ_２ ⁻，ＰＯ_４ ^３−，ＨＰＯ_４ ^２−，Ｈ_２ＰＯ_４ ⁻，ＶＯ_３ ⁻，ＣｌＯ_４ ⁻そしてＣｒ_２Ｏ_７ ^２−からなる群の１つのような当該技術分野において知られている硝酸塩又は他の好適なアニオン）の群の１又はそれ以上を含む。更に別の実施例において、Ｏ種又はＯの源は、Ｏ、Ｏ_２、空気、酸化物、ＮｉＯ、ＣｏＯ、アルカリ金属酸化物、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、アルカリ土類金属酸化物、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｓｎ、Ｗの群からの酸化物、過酸化物、超酸化物、アルカリ又はアルカリ金属過酸化物、超酸化物、水酸化物、アルカリ、アルカリ土類、遷移金属、内部遷移金属、及び、ＩＩＩ族、ＩＶ族、又はＶ族水酸化物、オキシ水酸化物、ＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウタイト（ｇｒｏｕｔｉｔｅ）及びγ−ＭｎＯ（ＯＨ）マンガン酸）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、及び、Ｎｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）を含む化合物の少なくとも１つの化合物又は混合物を含んでよい。金属酸化物のような化合物は、ナノパウダーであってよい。粒子サイズは、約１ｎｍから１００μｍ，１０ｎｍから５０μｍ，又は５０ｎｍから１０μｍの範囲であってよい。

前記セルは約２５℃から１０００℃、または約２００℃から５００℃の範囲のような高温度で動作しても良い。前記容器６５１は圧力容器であって良い。前記水素は約２から８００気圧、または約２から１５０気圧の範囲の高圧で供給しても良い。約０．１から１０気圧のＮ_２またはＡｒ等の不活性ガスカバーを、水溶液等の溶液の沸騰を防止するために加えても良い。前記反応剤は任意で所望のモル濃度比で良い。１つの典型的なセルはＮｉ（Ｈ_２５０−１００気圧）ＫＯＨ＋Ｋ_２ＣＯ_３であり、ここでＫＯＨ濃度は０．１Ｍから飽和までのモルの範囲内であり、Ｋ_２ＣＯ_３濃度は０．１Ｍから飽和までのモルの範囲内であり、前記容器の動作温度は約２００−４００℃である。もう一つの実施形態において、塩基は水酸化物溶解物等の溶融塩を含んでも良い。前記溶解物はさらに少なくとも、金属ハロゲン化合物等の塩化合物をを含んでも良い。前記混合物は共融混合物であって良い。好適な水酸化物混合物は表４に示す。前記混合物はさらに一部に、０．１から９５重量％、０．１から５０重量％、０．１から２５重量％、０．１から１０重量％、０．１から５重量％、または０．１から１重量％等のＨ_２Ｏを含んでも良い。もう一つの実施形態において、前記Ｈ_２透過膜は、本開示のＨ_２発泡電極、または散布電極と置き換えても良い。前記水素源は、さらに外側アルミナ管を含む水素線の周囲に外側アルミナ管内の金属多孔体（例えば、セルメット＃４、＃６、あるいは＃８、住友電気工業株式会社）の強固に結合したアセンブリ等の多孔質材を含んでもよく、ここで、水素ガスは前記管を通じて散布され、溶解物と接触する前記多孔質材の表面全体に拡散される。一実施形態において、未反応のＨ_２は回収され、リサイクルされる。前記水素は、膜分離、複合ガスの選択的な反応、またはクライオ−分離法等の周知の方法で、その他の既存ガスから分離しても良い。ハイドリノを形成するために消費される水素および全ての水は前記セルに再供給しても良い。

実施例において、膜の材料、厚み、及び水素圧力は、所望の透過速度を達成するように選択される。１つの実施例において、セル温度は、約２５から２０００℃、１００から１０００℃、２００から７５０℃、又は２５０から５００℃の範囲内にである。もしセルが透過膜及び溶融反応混合物を含むならば、セル温度は、その混合物の融点の上であって、所望の透過速度を達成できるレベルに維持される。このようにして、１つの実施例において、セル温度は、反応物の融点以上に維持される。融点を超える温度は、約０から１５００℃だけより高温の、０から１０００℃だけより高温の、０から５００℃だけより高温の、０から２５０℃だけより高温の、又は０から１００℃だけより高温の範囲内にあってよい。膜の厚みは、約０．０００１から０．２５ｃｍ，０．００１から０．１ｃｍ，又は０．００５から０．０５ｃｍの範囲内にあってよい。水素圧力は、約１Ｔｏｒｒから１０００ａｔｍ，１０Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ，又は１００Ｔｏｒｒから５ａｔｍの範囲内に維持されてよい。水素透過速度は、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，又は１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２の範囲内にあってよい。Ｈ_２バブリング又は散布の水素源の幾何学的面積あたりの水素フロー速度は、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２，又は１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅｓ^−１ｃｍ^−２の範囲内にあってよい。多孔性の電極材料の１つの実施例において、細孔径は、約１ｎｍから１ｍｍ，１０ｎｍから１００μｍ，又は０．１から３０μｍの範囲内にあってよい。

増加した結合エネルギーの水素種及び化合物を形成するもう１つの化学的なリアクター（化学反応器）及び熱的なシステムの１つの実施例において、ｎＨ（ｎ＝整数）は触媒として機能してよい。反応混合物は、水素貯蔵材料及び水素の源のような水素化物を形成するかもしれない化合物又は元素を含んでよい。その材料は、ハイドリノを形成するような触媒及び反応物として機能する原子状の水素の形成を引き起こすように可逆的に水素化され及び脱水素化されてよい。水素化物を形成する金属のような水素貯蔵材料は、本開示のそれらの１又はそれ以上であってよい。好適な例示的な対応する金属水素化物は、Ｒ−Ｎｉ，ＬａＮｉ_５Ｈ_６，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６，ＺｒＣｒ_２Ｈ_３．８，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＺｒＭｎ_０．５Ｃｒ_０．２Ｖ_０．１Ｎｉ_１．２，及び他の水素を貯蔵可能な化合物であって、例えば、ＡＢ_５（ＬａＣｅＰｒＮｄＮｉＣｏＭｎＡｌ）又はＡＢ_２（ＶＴｉＺｒＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）タイプ（ここで“ＡＢ_ｘ”は、Ａタイプ要素（ＬａＣｅＰｒＮｄ又はＴｉＺｒ）のＢタイプ要素（ＶＮｉＣｒＣｏＭｎＡｌＳｎ）に対する比を意味する），ＡＢ_５−タイプ，ＭｍＮｉ_３．２Ｃｏ_１．０Ｍｎ_０．６Ａｌ_０．１１Ｍｏ_０．０９（Ｍｍ＝ミッシュメタル：２５ｗｔ％Ｌａ，５０ｗｔ％Ｃｅ，７ｗｔ％Ｐｒ，１８ｗｔ％Ｎｄ），ＡＢ_２−タイプ：Ｔｉ_０．５１Ｚｒ_０．４９Ｖ_０．７０Ｎｉ_１．１８Ｃｒ_０．１２合金，マグネシウム基の合金，Ｍｇ_１．９Ａｌ_０．１Ｎｉ_０．８Ｃｏ_０．１Ｍｎ_０．１ａｌｌｏｙ，Ｍｇ_０．７２Ｓｃ_０．２８（Ｐｄ_{０．０１２}＋Ｒｈ_{０．０１２}），及びＭｇ_８０Ｔｉ_２０，Ｍｇ_８０Ｖ_２０，Ｌａ_０．８Ｎｄ_０．２Ｎｉ_２．４Ｃｏ_２．５Ｓｉ_０．１，ＬａＮｉ_５−ｘＭ_ｘ（Ｍ＝Ｍｎ，Ａｌ），（Ｍ＝Ａｌ，Ｓｉ，Ｃｕ），（Ｍ＝Ｓｎ），（Ｍ＝Ａｌ，Ｍｎ，Ｃｕ）及びＬａＮｉ_４Ｃｏ，ＭｍＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＬａＮｉ_３．５５Ｍｎ_０．４４Ａｌ_０．３Ｃｏ_０．７５，ＭｇＣｕ_２，ＭｇＺｎ_２，ＭｇＮｉ_２，ＡＢ化合物，ＴｉＦｅ，ＴｉＣｏ，及びＴｉＮｉ，ＡＢ_ｎ化合物（ｎ＝５，２，又は１），ＡＢ_３−４化合物，ＡＢ_ｘ（Ａ＝Ｌａ，Ｃｅ，Ｍｎ，Ｍｇ；Ｂ＝Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ａｌ），ＺｒＦｅ_２，Ｚｒ_０．５Ｃｓ_０．５Ｆｅ_２，Ｚｒ_０．８Ｓｃ_０．２Ｆｅ_２，ＹＮｉ_５，ＬａＮｉ_５，ＬａＮｉ_４．５Ｃｏ_０．５，（Ｃｅ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｐｒ）Ｎｉ_５，ミッシュメタル−ニッケル合金，Ｔｉ_０．９８Ｚｒ_０．０２Ｖ_０．４３Ｆｅ_０．０９Ｃｒ_０．０５Ｍｎ_１．５，Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９，ＦｅＮｉ，及びＴｉＭｎ_２から選ばれる少なくとも１つである。可逆的な水素化物材料はナノパウダーであってよい。粒子径は、約１ｎｍから１００μｍ，１０ｎｍから５０μｍ，又は５０ｎｍから１０μｍの範囲の中にあってよい。セルは、ある温度範囲内で維持又はサイクルされてよい。１つの実施例において、セル温度は、約２５から２０００℃、１００から１０００℃、２００から７５０℃、又は２５０から５００℃の範囲内にある。水素化物及び脱水素化物に対する１つの実施例において、セル圧力は、ある範囲内で維持又はサイクルされる。水素圧力は、約０．００１ｍＴｏｒｒから１０００ａｔｍ，１０Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ，又は１００Ｔｏｒｒから５ａｔｍの範囲内に維持されてよい。

１つの実施例において、ハイドリノのような、増大した結合エネルギーの水素種及び化合物を形成する反応混合物は、酸素又は酸素ガスを含む酸化剤のような酸素の源及び水素ガスのような水素の源を含む。水素は、触媒として機能するかもしれないｎＨ，Ｏ，ｎＯ，Ｏ_２，ＯＨ，及びＨ_２Ｏ（ｎ＝整数）の少なくとも１つを形成するように、酸素と反応してよい。反応混合物はまた、Ｔｉ又はＡｌ_２Ｏ_３のような支持体の上にある貴金属又はＲ−Ｎｉのような本開示のそのようなもののような水素解離剤を含む。反応混合物は、ＭＨ又はＭＨＸ（Ｍ＝アルカリ金属、Ｘ＝ハロゲン）又はＭＨ_２又はＭＨＸ_２（Ｍ＝アルカリ土類金属、Ｘ＝ハロゲン）のような水素化物を含む化合物を形成するように、アルカリ土類ハロゲン化物又はアルカリハロゲン化物のような少なくとも１つの他の元素又は化合物を更に含んでよい。例示的な反応混合物は、Ｈ_２ガスであり、酸化剤ＫＨＳＯ_４、及びＬｉＣｌは、３００から１０００℃、又は約４００から６００℃、及び約０．１から１００ａｔｍＨ_２又は約２から５ａｔｍＨ_２で、作動する。他の実施例において、反応混合物は、私の以前の出願において開示されたそれらを含む。以前の出願は、不均一水素触媒パワーシステム、ＰＣＴ／ＵＳ１０／２７８２８，２０１０年３月１８日のＰＣＴ出願、及び、電気化学的な水素触媒パワーシステム、ＰＣＴ／ＵＳ１１／２８８８９，２０１１年３月１７日のＰＣＴ出願、それら全体が参照され組み込まれる。好適な反応混合物は、反応物の反応の間、Ｈ_２Ｏ及び原子状の水素を形成するそれらである。

実施形態では、前記セルは、当業者に周知の１つ、または複数のタイプを含み、（ｉ）自由液体電解質を含むセル、（ｉｉ）細孔系に液体電解質を含むセル、（ｉｉｉ）前記電解質が電極マトリックスに固定されているマトリックス電極を含むセル、ならびに（ｉｖ）流下薄膜セルを含む。一実施形態において、前記電解質は当業者が周知する方法で循環しても良い。前記システムは、ポンプ、タンク、熱交換器、ＣＯ_２除去機、およびフィルター、ならびに、任意で他の処理システムやスタックに空気を供給するための送風機を含んでも良い。これによって、前記電解質において、生成物または、ＮｉＯや炭酸塩等の不純物を除去し、所望の組成と所望の温度を維持することが可能になる。

一実施形態において、前記水性アルカリセルは１つの膜、図２で示された２コンパートメント式セルを含み、前記アノード膜とコンパートメント４７５がなくても良いところが変更されている。前記アノードは式（１１６）で示されるようにＯＨ⁻と反応して酸化し、その結果Ｈ_２Ｏを生成する金属を含んでも良い。少なくともＯＨとＨ_２Ｏの中の１つは前記触媒として機能しても良い。前記アノードはＶ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、およびＷの群の中の１つで良い。または、前記アノードは、ＬａＮｉ_５Ｈ_６および本開示のその他の、式（９２）で示されるようにＨを提供し、ＯＨ⁻をＨ_２Ｏに酸化する水素化物を含んでも良い。前記アノードは、Ｈ_２透過膜４７２と、コンパートメント４７５にあっても良く、式（１２３）で示されるようにＨを提供し、ＯＨ⁻をＨ_２Ｏに酸化するＨ_２ガスのような水素源を含んでも良い。前記カソードで、式（９４）で示されるようにＨ_２ＯはＨ_２とＯＨ⁻に還元されても良い。前記カソード４７３は、水素への高い透過性を有する金属を含んでも良い。前記電極はチューブ電極のようなより高い表面積を提供する形状、または多孔性電極を含んでも良い。前記の水の還元の速度と歩留まりの中の少なくとも１つを向上させるために、水還元触媒を使用しても良い。もう一つの実施形態において、前記カソードのハーフセル反応体は、水の還元の速度と歩留まりの中の少なくとも１つを向上させるためにエネルギーを放出するＨと化合物を形成するＨ反応体を含む。前記Ｈ反応体は前記カソード・コンパートメント４７４に含まれていても良い。前記水の還元で形成されるＨは水素透過膜４７３に浸透し、前記Ｈ反応体と反応しても良い。前記水素透過膜は、Ｖ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、Ｐｄ被覆Ａｇ、Ｐｄ被覆Ｖ、Ｐｄ被覆Ｔｉ、希土類、その他の高融点金属、およびその他の当業者に周知の金属を含んでも良い。前記Ｈ反応体は、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、希土類金属、合金、またはこれらの混合物等の水素化物を形成する元素、または化合物、および本開示のような水素貯蔵物質でも良い。典型的な反応は、次式により表される。
カソード外壁
Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ → １／２Ｈ_２＋ＯＨ⁻ （２１６）
カソード内壁
１／２Ｈ_２＋Ｍ → ＭＨ（２１７）
前記化学物質は、分解するために、前記カソード・コンパートメントで形成される任意の水素化物を加熱することで熱的に再生させても良い。前記水素は前記の最初のアノード反応体を再生するために、前記アノード・コンパートメントに流入させる、または送りこんでも良い。前記再生反応は、前記カソードおよびアノード・コンパートメントで起こっても良く、または、前記のコンパートメントの１つ、または両方における前記化学物質を再生させるために、１つ以上の反応槽に移動させても良い。または、前記の最初のアノード金属または水素化物、および金属等のカソード反応体は、その場でまたは、離れた場所で再生させても良い。典型的なセルは、｛Ｖ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｅ、Ａｇ、Ｔｃ、Ｔｅ、Ｔｌ、Ｗ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６等の金属水素化物、またはＨ_２、およびＶ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、Ｐｄ被膜Ａｇ、Ｐｄ被膜Ｖ、ならびにＰｄ被膜Ｔｉ／ＫＯＨ（飽和・水溶性）／Ｍ（Ｍ’）｝の中の１つの水素透過膜｝の中の１つの酸化性金属であり、ここで、ＭはＶ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｗ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｂｅ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｔｈ、Ｐｄ、Ｐｄ−被膜Ａｇ、Ｐｄ被膜Ｖ、およびＰｄ被膜Ｔｉの中の１つの水素透過膜であり、Ｍ’は、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、希土類金属、合金、またはこれらの混合物等の水素化物を形成する金属、または水素貯蔵物質でも良い。前記セルは高温・高圧で走らせても良い。

１つの実施例において、ｎＨ，Ｏ，ｎＯ，ＯＨ，及びＨ_２Ｏ（ｎ＝整数）の少なくとも１つは、触媒として機能してよい。Ｈは、ＯＨ及びＨ_２Ｏの少なくとも１つを形成するように酸素の源と反応してよい。酸素の源は、オキシアニオンであってよい。電解質は、オキシアニオンを含む化合物を含んでよい。典型的な好適なオキシアニオンは、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、クロム酸塩、重クロム酸塩、過塩素酸塩、及び過ヨウ素酸塩の少なくとも１つである。一般に、単独で若しくは組み合わせて酸素の源として機能する典型的な好適な化合物は、ＭＮＯ_３，ＭＮＯ，ＭＮＯ_２，ＭＯＨ，Ｍ_２ＣＯ_３，ＭＨＣＯ_３，Ｍ_２ＳＯ_４，ＭＨＳＯ_４，Ｍ_３ＰＯ_４，Ｍ_２ＨＰＯ_４，ＭＨ_２ＰＯ_４，Ｍ_２ＭｏＯ_４，ＭＮｂＯ_３，Ｍ_２Ｂ_４Ｏ_７（Ｍｔｅｔｒａｂｏｒａｔｅ），ＭＢＯ_２，Ｍ_２ＷＯ_４，Ｍ_２ＣｒＯ_４，Ｍ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｍ_２ＴｉＯ_３，ＭＺｒＯ_３，ＭＡｌＯ_２，ＭＣｏＯ_２，ＭＧａＯ_２，Ｍ_２ＧｅＯ_３，ＭＭｎ_２Ｏ_４，Ｍ_４ＳｉＯ_４，Ｍ_２ＳｉＯ_３，ＭＴａＯ_３，ＭＶＯ_３，ＭＩＯ_３，ＭＦｅＯ_２，ＭＩＯ_４，ＭＣｌＯ_４，ＭＳｃＯ_ｎ，ＭＴｉＯ_ｎ，ＭＶＯ_ｎ，ＭＣｒＯ_ｎ，ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＭＦｅＯ_ｎ，ＭＣｏＯ_ｎ，ＭＮｉＯ_ｎ，ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＭＣｕＯ_ｎ，ＭＺｎＯ_ｎ，（Ｍはアルカリ又はアンモニウムで、ｎ＝１、２、３、又は４；Ｍはまた、アルカリ土類、遷移、内部遷移、又は希土類金属カチオン、又は、１３から１６族のカチオンのようなもう１つのカチオンであってよい），及び、Ｍの酢酸塩又はＭのカルボン酸塩のような有機塩基性塩である。ハイドリノを形成するための触媒として、ＯＨ及びＨ_２Ｏの少なくとも１つを形成する反応は、オキシアニオンの酸化反応として起きてよい。その反応は、Ｈとの反応を更に含んでよい。その反応は、アノードで起きてよい。Ｈの存在において、ＯＨ及びＨ_２Ｏ触媒の少なくとも１つの形成が、触媒によるハイドリノへのＨの触媒作用という結果になる。典型的な一般的反応は、Ｅが元素又は化合物を意味するところ、次のようになる。
アノード
ＯＨ⁻＋Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ （２１８）
ＥＯ_ｘ ^ｎ−＋２Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋ＥＯ_ｘ−１ ^{（ｎ−ｍ）−}＋ｍｅ⁻ （２１９）
ＥＨ_ｙＯ_ｘ ^ｎ−＋Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋ＥＨ_ｙ−１Ｏ_ｘ−１ ^{（ｎ−ｍ）−}＋ｍｅ⁻
（２２０）
カソード
ＥＯ_ｘ−１ ^{（ｎ−ｍ）−}＋ｍｅ⁻＋１／２Ｏ_２ → ＥＯ_ｘ ^ｎ− （２２１）
ＥＨ_ｙ−１Ｏ_ｘ−１ ^{（ｎ−ｍ）−}＋（ｍ＋１）ｅ⁻＋Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２
＋ＥＨ_ｙＯ_ｘ ^ｎ−＋ＯＨ⁻ （２２２）
Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋４ｅ⁻ → ４ＯＨ⁻ （２２３）
特定の例において、ＣＯ_３ ^２−が酸素の源として機能するところ、Ｈ_２Ｏ触媒を形成する好適な反応は、以下のとおりである。
アノード
ＣＯ_３ ^２−＋２Ｈ → Ｈ_２Ｏ＋ＣＯ_２＋２ｅ⁻ （２２４）
カソード
ＣＯ_２＋１／２Ｏ_２＋２ｅ⁻ → ＣＯ_３ ^２− （２２５）
その代わりに、水素は以下のようなメカニズムによって更に反応する対応する水素化物を形成するように、Ｎｉ又はＣｏのような金属Ｍ’を含んでよいアノードと反応してよい。
アノード
２Ｍ＋Ｈ_２ → ２ＭＨ（２２６）
ＭＨ＋ＣＯ_３ ^２− → ＯＨ⁻＋ＣＯ_２＋ｅ⁻ （２２７）
２ＭＨ＋ＯＨ⁻ → ２Ｍ＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（２２８）
ＭＨ＋１／２Ｈ_２＋ＯＨ⁻ → Ｍ＋Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（２２９）
同様の反応は他のオキシアニオンに対して起こっても良い。他の実施形態では、オキシアニオンと対応するガス等の酸化種がそれぞれ、ＣＯ_３ ^２−とＣＯ_２に取り替わる。典型系的なアニオン、ガス、および化合物はそれぞれ、ＳＯ_４ ^２−とＮＯ_３ ⁻、ＰＯ_４ ^３−とＳＯ_２、ならびにＮＯ_２、とＰ_２Ｏ_５である。前記セルには、前記生成物ガスまたは、ＣＯ_２、ＳＯ_２、またはＮＯ_２等の化合物を供給しても良い。または、ＣＯ_２、ＳＯ_２、またはＮＯ_２等の前記ガスや化合物を前記セル内でリサイクルさせても良い。前記セルは、空気に曝せた１つのオープンセルと、任意でＯ_２またはＨ_２Ｏを追加した１つのセルを維持しながら、前記ガスや化合物を保留するための半透過膜等の手段を含んでも良い。前記セルはＯ_２やＨ_２Ｏ等のこれらのガスを供給するラインを含んでも良い。前記ラインはオキシアニオンの酸化生成物の漏れを防止するための方向流量制御弁を有しても良い。一実施形態において、前記酸化生成物はＳまたはＰ等の元素、または化合物である。前記生成物はリンの硫化物のような対応する化合物を形成するために還元を受けても良い。または、前記生成物は前記セルに供給される酸素と反応して、ＳＯ_４ ^２−またはＰＯ_４ ^３−等の元の反応性オキシアニオンのようなオキシアニオンを形成する。前記セルは、クローズドセルであるか、または、前記酸素と水素がその場で生成される間欠電気分解の場合には、セミクローズドであっても良い。続いて、メイクアップガスを、前記電解質やハイドリノを形成するための水素源を維持するために定期的に加えても良い。ＣＯ_２、ＳＯ_２、またはＮＯ_２等のガスを内部でリサイクルしても良い。

低エネルギー水素種と化合物、またはエネルギーの中の少なくとも１つを生産する目的でハイドリノを形成するためのもう一つの実施形態において、前記反応混合物は、原子状水素源および、ＨとＯの中の少なくとも１つを含む触媒源、ならびに本開示のＨ_２Ｏ触媒等を含む。前記原子状水素は、解離によるＨ_２ガスから形成しても良い。前記水素解離子は、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、炭素、またはＡｌ_２Ｏ_３等の支持体上のＲ−Ｎｉ、貴金属、または遷移金属等、本開示の中の１つでも良い。代替的に、前記原子状水素は本開示の膜を通じての水素透過によるものでも良い。一実施形態において、前記セルは、一方で選択的にＨ_２の拡散を可能にしながら、他方でＨ_２Ｏ等の他の種の拡散を防止するセラミック膜等の膜を含む。

前記電解質は、水溶液または溶融塩を含んでも良い。前記電解質は、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、クロム、重クロム酸、過塩素酸塩、およびヨウ素の中の１つを含んでも良く、混合物は表４の共晶塩混合物の中の少なくとも１つ、さらに本開示の共晶塩混合物の中の少なくとも１つ、または当業者が周知の混合物の１つをを含んでも良い。前記セルは水素源、水、および酸素を含んでも良い。前記水は、Ｈ_２Ｏ、ＨＯＤ、Ｄ_２Ｏ、Ｔ_２Ｏ、ＤＯＴ、およびＨＯＴの中の少なくとも１つの水素、重水素およびトリチウムの中の少なくとも１つを含んでも良い。典型的な共晶塩混合物は、アルカリハロゲン化合物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、および水酸化物の中の少なくとも２つである。前記溶融電解質は、大気から吸収され、水または蒸気の形で前記セルに供給されるＨ_２Ｏ源を含んでも良い。前記セルはオープンセルを含んでも良い。酸素は大気からのものでも、またはガスとして供給されても良い。前記水素源は、浸透、散布、発泡、または、いくらかのＨ_２Ｏを含む電解質の電解等の水素源の断続的電気分解などの手段を媒介して、ガスとして供給しても良い。一実施形態において、セル動作温度は、電極、または容器の腐食等の腐食を起こす温度以下である。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２）／下記の１、または複数の水溶性、または共晶塩電解質：ＭＮＯ_３、ＭＮＯ、ＭＮＯ_２、ＭＯＨ、Ｍ_２ＣＯ_３、ＭＨＣＯ_３、Ｍ_２ＳＯ_４、ＭＨＳＯ_４、Ｍ_３ＰＯ_４、Ｍ_２ＨＰＯ_４、ＭＨ_２ＰＯ_４、Ｍ_２ＭｏＯ_４、ＭＮｂＯ_３、Ｍ_２Ｂ_４Ｏ_７（Ｍ四ホウ酸）、ＭＢＯ_２、Ｍ_２ＷＯ_４、Ｍ_２ＣｒＯ_４、Ｍ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｍ_２ＴｉＯ_３、ＭＺｒＯ_３、ＭＡｌＯ_２、ＭＣｏＯ_２、ＭＧａＯ_２、Ｍ_２ＧｅＯ_３、ＭＭｎ_２Ｏ_４、Ｍ_４ＳｉＯ_４、Ｍ_２ＳｉＯ_３、ＭＴａＯ_３、ＭＶＯ_３、ＭＩＯ_３、ＭＦｅＯ_２、ＭＩＯ_４、ＭＣｌＯ_４、ＭＳｃＯ_ｎ、ＭＴｉＯ_ｎ、ＭＶＯ_ｎ、ＭＣｒＯ_ｎ、ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ、ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ、ＭＦｅＯ_ｎ、ＭＣｏＯ_ｎ、ＭＮｉＯ_ｎ、ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ、ＭＣｕＯ_ｎ、ＭＺｎＯ_ｎ、（Ｍはアルカリ、またはアンモニア、そしてｎ＝１、２、３、または４）／Ｎｉ＋空気］、ここで前記水素電極は浸透性、散布性、または断続的電解である。追加的な例は、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−Ｌｉ_２ＳＯ_４／Ｎｉ＋空気の間欠充電−放電］、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−Ｌｉ_２ＳＯ_４（ａｑ）／Ｎｉ＋空気の間欠充電−放電］、［ＮｉまたはＰｔＴｉ／ＮＨ_４ＯＨ（ａｑ）／ＮｉまたはＰｔＴｉ＋空気の間欠充電−放電］、［Ｎｉ／Ｓｒ（ＯＨ）_２またはＢａ（ＯＨ）_２（ａｑ）／Ｎｉ＋空気の間欠充電−放電］、［ＰｔＴｉまたはＮｉ／Ｋ_２ＣＯ_３（ａｑ）／ＮｉまたはＰｔＴｉ＋空気の間欠充電−放電］、および［ＰｔＴｉまたはＰｄ／ＬｉＯＨ（ａｑ）／ＰｄまたはＰｔＴｉ＋空気の間欠充電−放電］である。

ハイドリノを形成することで熱エネルギーおよび電気的エネルギーの中の少なくとも１つを生成する１つのＣＩＨＴセルの実施態様において、前記Ｈ反応は、水素インベントリの一部が反復反応のサイクルごとにハイドリノに転換される以外は、再生的である。水性の電解質又は水和化された溶融電解質であってよいＫ_２ＣＯ_３のような電解質からの炭酸塩と水素との典型的な反応は次のとおりである。
ＣＯ_３ ^２−＋Ｈ_２Ｏ → ２ＯＨ⁻＋ＣＯ_２（２３０）
アノード
ＯＨ⁻＋１／２Ｈ_２ → Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻ （２３１）
カソード
ＣＯ_２＋Ｈ_２Ｏ＋２ｅ⁻ → ＣＯ_３ ^２−＋Ｈ_２（２３２）
前記アノード反応は、前記触媒として機能するためにＣＯ_３ ^２−のＨ_２Ｏへの酸化を含む式（２２４）で与えられても良い。次に、前記Ｈの一部は、ｎＨ、Ｏ、ｎＯ、ＯＨ、およびＨ_２Ｏ（ｎ＝整数）が前記触媒として機能しても良いことを特徴とするＨ（１／ｐ）に転換される。前記水素源は、浸透、散布、発泡、および断続的電気分解の中の少なくとも１つであっても良い。前記反応は、熱発電実施形態でのように、電極がない中で、協調的に起こっても良い。特定の熱的な実施形態は、水素加圧槽と、Ｋ_２ＣＯ_３等のアルカリ性炭酸塩等の炭酸塩を含む２つ目の反応槽への透過によって水素を供給する水素透過膜を含む。

一実施形態において、前記移動イオンは、Ｈ源と反応し、前記Ｈ源と共に触媒として機能し得るＯＨおよびＨ_２Ｏの中の少なくとも１つを形成する酸化物イオンでである。前記カソードは、酸素等の酸化物イオン源、または酸化物等のＯを含む化合物を含んでも良い。前記セルは電解質および塩橋の中の少なくとも１つを含んでも良い。前記電解質は、１２Ｍから飽和状態までの範囲の高い濃度を含みうるＫＯＨのようなアルカリ水酸化物等の水酸化物でも良い。前記塩橋は酸化物イオンに対して選択性がある。好適な塩橋は、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、ガドリニアドープセリア（ＣＧＯ）、ランタンガレート、およびＢｉＣｕＶＯ_ｘのようなビスマス銅酸化バナジウムである。Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＣｏ_ｙＯ_３−ｄ等の一部のペロブスカイト材料は又、混合酸化物と電子伝導性を示す。前記Ｈ源は、水素ガス、解離子、水素透過膜、または水素化物でも良い。カソード及びアノード反応は以下のようであってよい。
アノード
Ｏ^２−＋１．５Ｈ_２ → Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）＋２ｅ⁻ （２３３）
カソード
０．５Ｏ_２＋２ｅ⁻ → Ｏ^２− （２３４）
前記カソードおよびアノードは、ニッケルまたは、ＰｔまたはＰｄ等の貴金属の触媒を含んでも良い。前記電極はさらに、サーメットなどの支持体材料を含んでも良い。典型的なセルは、［ＰｔＣ（Ｈ_２）、Ｎｉ（Ｈ_２）、ＣｅＨ_２、ＬａＨ_２、ＺｒＨ_２またはＬｉＨ／ＹＳＺ／ＮｉまたはＰｔ（Ｏ_２または酸化物）］である。

一実施形態において、Ｈ⁻は移動イオンであり、Ｈ⁻とＯＨの少なくとも一方が、Ｈ、ＯＨ、およびＨ_２Ｏの少なくとも１つを形成するために、前記アノードで酸化される。Ｈは、前記かそーどでＨ⁻に還元しても良い。Ｈの供給源は水素化物でも、本開示の水素透過性電極からのＨであっても良い。前記アノードは、Ｎｉなどの腐食に安定な金属であってもよい。前記アノードはさらに、前記電極を通してＨと反応する元素または化合物を含むＮｉ、Ｖ、Ｔｉ、Ｖ、Ｆｅ、またはＮｂ等の金属のような水素透過性物質を含んでも良い。好適なＨ反応性元素または化合物は、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、およびＬｉ−Ｎ−Ｈ系等の水素貯蔵物質である。前記電解質は、アルカリ、アルカリ土類金属、遷移、希土類、およびＩＩＩ、ＩＶ、ＶならびにＶＩ族水酸化物等の中の少なくとも１つの水酸化物を含んでも良い。前記電解質はさらに、アルカリ、アルカリ土類、遷移金属、内部遷移金属、希土類水素化物、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムの中の少なくとも１つの水素化物を含んでも良い。典型的な反応は以下のようである。
カソード
Ｈ＋ｅ⁻ → Ｈ⁻ （２３５）
アノード
Ｈ⁻＋ＯＨ⁻ → Ｈ＋ｅ⁻，ＯＨ＋ｅ⁻，
又はＨ_２Ｏ＋２ｅ⁻ （２３６）
典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＬｉＨ−ＬｉＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ／ＬｉＨ−ＬｉＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＮａＨ−ＮａＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ／ＮａＨ−ＮａＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＫＨ−ＫＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、および［Ｎｉ／ＫＨ−ＫＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］である。前記の溶融水酸化物電解質の混合物を含む好適で典型的な溶融水素化物は、約５０３℃の溶融温度を有する、約４３＋５７モル比のＮａＨ−ＫＢＨ_４、約３９０℃溶融温度を有する、約６６＋３４モル比のＫＨ−ＫＢＨ_４、約３９５℃溶融温度を有する、約２１＋７９モル比のＮａＨ−ＮａＢＨ_４、約１０３℃の溶融温度を有する、約５３＋４７モル比のＫＢＨ_４−ＬｉＢＨ_４、約２１３℃の溶融温度を有する、約４１．３＋５８．７モル比のＮａＢＨ_４−ＬｉＢＨ_４、そして４５３℃の溶融温度を有する約３１．８＋６８．２モル比のＫＢＨ_４−ＮａＢＨ_４の共融混合物であり、ここで、前記混合物はさらにアルカリ、またはＬｉＨ、ＮａＨ、またはＫＨ等のアルカリ土類水素化物を含んでも良い。その他の典型的な水素化物は、Ｍｇ（ＢＨ_４）_２（ＭＰ２６０℃）とＣａ（ＢＨ_４）_２（３６７℃）である。少なくともハーフセルの前記反応体は、金属水素化物のような水素貯蔵物質、ＬｉＮＨ_２、Ｌｉ_２ＮＨ、またはＬｉ_３Ｎ等のＭ−Ｎ−Ｈ系の化学種を含んでも良く、アルカリ金属水素化物はさらにホウ化水素等のホウ素、または水素化アルミニウム等のアルミニウムを含む。さらに好適な水素水素貯蔵物質は、金属水素化物、ＭｇＨ_２等のアルカリ土類金属水素化物、ＢａＲｅＨ_９、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、ＦｅＴｉＨ_１．７、およびＭｇＮｉＨ_４等の金属合金水素化物、Ｂｅ（ＢＨ_４）_２、Ｍｇ（ＢＨ_４）_２、Ｃａ（ＢＨ_４）_２、Ｚｎ（ＢＨ_４）_２、Ｓｃ（ＢＨ_４）_３、Ｔｉ（ＢＨ_４）_３、Ｍｎ（ＢＨ_４）_２、Ｚｒ（ＢＨ_４）_４、ＮａＢＨ_４、ＬｉＢＨ_４、ＫＢＨ_４、およびＡｌ（ＢＨ_４）_３等の水素化ホウ素金属、ＡｌＨ_３、ＮａＡｌＨ_４、Ｎａ_３ＡｌＨ_６、ＬｉＡｌＨ_４、Ｌｉ_３ＡｌＨ_６、ＬｉＨ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６、Ｌａ_２Ｃｏ_１Ｎｉ_９Ｈ_６、ＴｉＦｅＨ_２、ＮＨ_３ＢＨ_３、ポリアミノボラン、アミンボラン等のアミンボラン錯体、水素化ホウ素アンモニア化物、ヒドラジン・ボラン錯体、ジボラン二アンモニウム、ボラジン、オクタヒドロ三ホウ酸アンモニウム、テトラヒドロ、アルキル（アリール）−３−メチルＮ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート塩等のイミダゾリウムイオン液体、ホスホニウムホウ酸、およびカーボナイト物質である。さらに典型的な化合物は、アンモニアボラン、リチウムアンモニアボラン等のアルカリアンモニアボラン、ボランジメチルアミン錯体、ボラントリメチルアミン複合体、および、アミノジボラン、ｎ−ジメチルアミノボラン、トリス（ジメチルアミノ）ボラン、ジ−ｎ−ブチルボランアミンボラン、ジメチルアミノボラン、トリメチルアミノボラン、トリメチルアミノボラン、アンモニア−トリメチルボラン、およびトリエチルアミノボランである。さらに好適な水素貯蔵材料は、９−（２−エチルヘキシル）カルバゾール、９−エチルカルバゾール、９−フェニルカルバゾール、９−メチルカルバゾール、および４、４’−ビス（Ｎ−カルバゾリル）−１、１’−ビフェニル等のカルバゾールと誘導体のような水素を吸収した有機液体である。典型的なセルは［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＬｉＢＨ_４−ＬｉＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ／ＬｉＢＨ_４−ＬｉＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＮａＢＨ_４−ＮａＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ／ＮａＢＨ_４−ＮａＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＫＢＨ_４−ＫＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ／ＫＢＨ_４−ＫＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＬｉＨ−ＬｉＢＨ_４−ＬｉＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ／ＬｉＨ−ＬｉＢＨ_４−ＬｉＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＮａＨ−ＮａＢＨ_４−ＮａＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）、［Ｎｉ／ＮａＨ−ＮａＢＨ_４−ＮａＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（Ｌｉ）／ＫＨ−ＫＢＨ_４−ＫＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、および［Ｎｉ／ＫＨ−ＫＢＨ_４−ＫＯＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］である。

一実施形態において、ｎＨとＭＮＨ_２（Ｍ＝アルカリ）の中の１つが前記触媒として機能しても良い。Ｎ_２等の窒素源は前記カソードで供給しても良く、水素透過膜が供給するＨ_２ガス等のＨ源は前記アノードを含んでも良い。前記電解質は溶融塩やアルカリハロゲン化合物の混合物を含んでも良い。前記電解質はさらに、Ｍ_３Ｎ、Ｍ_２ＮＨ、およびＭＮＨ_２等の少なくとも１つのＭ−Ｎ−Ｈを形成する金属を含んでも良い。ｎＨ又はＭＮＨ_２が中間体として形成されるところ、典型的な反応は以下の通りである。
アノード
Ｎ^３−＋３Ｈ → ＮＨ_３＋３ｅ⁻ （２３７）
カソード
１／Ｎ_２＋３ｅ⁻ → Ｎ^３− （２３８）
典型的なセルは［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＣｌ−ＫＣｌＬｉ／Ｎｉ＋Ｎ_２］であり、ここでＮｉ（Ｈ_２）は、水素透過性電極であり、ＮＨ_３は一実施形態において選択的に除去しても良い。ＮＨ_３は、濃縮、選択膜、炭素、またはゼロライト等のゲッター、酸との反応、または水等の溶媒の中での回収によって除去しても良い。

一実施形態において、Ｈ⁻は移動イオンである。前記電解質は、溶融塩、共融混合物、ＬｉＣｌ−ＫＣｌ等のアルカリハロゲン化合物の混合物のような水素化物イオン伝導体であっても良い。前記カソードは、Ｎｉ（Ｈ_２）等の水素透過膜であっても良い。前記アノードは前記アノード反応混合物を含むコンパートメントを含んでも良い。前記反応混合物は、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、および希土類金属または金属合金の中の少なくとも１つの水素化物を形成する金属のような水素貯蔵物質を含んでも良い。前記アノード反応体はＬｉ_３ＮまたはＬｉ_２ＮＨ等のＭ−Ｎ−Ｈ系を含んでも良い。前記アノード反応混合物は、水酸化物と、少なくとも、別の水酸化物のような他の混合物、またはアルカリハロゲン化合物の塩の混合物を含む溶融水酸化物を含んでも良い。前記アノード反応混合物は、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒを含んでも良い。典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｌｉ_３Ｎ）／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ０．０１モル％ＬｉＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］、［Ｎｉ（ＬｉＯＨ）／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ０．０１モル％ＬｉＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］［Ｎｉ（ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ）／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ０．０１モル％ＬｉＨ／Ｎｉ（Ｈ_２）］である。一実施形態において、前記アノード反応体に対しては、金属または、前記セルの動作温度で溶解する共晶塩等の溶媒を添加しても良い。例えば、Ｌｉ金属、またはＬｉＣｌ−ＫＣｌ等の共晶塩を、Ｌｉ_３Ｎを溶解するためのアノードチューブに添加しても良い。

一実施形態において、前記セルは、Ｈ⁻導体である溶融水酸化物−水素化物電解質、Ｎｉ（Ｈ_２）等の本開示の水素透過性電極の１つの水素化物イオンを形成するＨ源、および、Ｈを形成するために少なくとも１つのアニオンを選択的に酸化する１つのアノードと、ＯＨ、Ｈ_２Ｏ、ｎＨ、Ｏ_２、およびｎＯ（ｎ＝整数）が前記触媒として機能しうることを特徴とするＯＨ、Ｈ_２Ｏ、ｎＨ、Ｏ_２、およびｎＯ（ｎ＝整数）の中の少なくとも１つを含む。前記水酸化物はアルカリ水酸化物、そして、前記水素化物はアルカリ水素化物であっても良い。前記アノードは、Ｐｔ／Ｃ等の本開示の貴金属、または支持貴金属であっても良い。その反応は以下のとおりであろう。
アノード：
２Ｈ⁻＋ＯＨ⁻ → Ｈ_２Ｏ＋３ｅ⁻＋Ｈ（１／ｐ）（２３９）
カソード：
Ｈ_２＋２ｅ⁻ → ２Ｈ⁻ （２４０）
典型的なセルは、［Ｐｔ／Ｃ／溶融水酸化物−水素化物／Ｍ’（Ｈ_２）］であり、ここでＭ’はＮｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｐｔ、およびＰｔＡｇ等の水素透過性金属を含んでも良く、前記電解質は、ＭＯＨ−Ｍ’’Ｈ（Ｍ、Ｍ’＝アルカリ）等の水酸化物と水素化物を含み、そして、他の金属および支持体はＰｔ／Ｃに取り替わっても良い。前記電解質はさらに、アルカリ金属ハロゲン化合物等の少なくとも別の塩を含んでも良い。

一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルは、電気と熱エネルギーが負荷に対して生成されるコージェネレーションシステムを含む。前記電気負荷とエネルギー負荷の中の少なくとも１つが少なくとも、内部と外部の１つであっても良い。例えば、ハイドリノを形成することで生成される前記の熱エネルギー、または電気エネルギーの一部は、溶融塩電解質、または溶融反応物を含むＣＩＨＴセルの溶融塩の温度等のセル温度を維持しても良い。前記電気エネルギーは、前記生成物から最初のセル反応体を再生するために前記電解力の一部を供給しても良い。一実施形態において、前記の水性、または溶融塩電解質等の前記電解質は、熱を除去し、その熱を最終的に負荷に移動する熱交換器に送りだしても良い。

一定の実施形態では、前記反応体を再生し、低エネルギー水素を形成する、ここに開示されている電力、化学、セル、および燃料セルシステムは、ハイドリノを形成する際に消費される水素以外はクローズできる。なお、ここで、前記の消費された水素は前記の水の電解で得ても良い。前記燃料セルは、商用電力、コージェネレーション、動力、マリンパワー、航空用の電力生成のための幅広い用途に使用しても良い。後者の場合には、前記ＣＩＨＴセルは電気自動車用の電力貯蔵としてのバッテリーを充電しても良い。

前記電力は、前記カソードとアノードのハーフセル反応体と反応条件を制御することで制御しても良い。好適な制御用パラメータは、水素圧力と動作温度である。前記燃料セルは１つのスタックを構成する複数のセルの部材であっても良い。前記燃料セルは、積み重ねて、各接合点で相互接合機を介して直列に相互接続しても良い。前記相互接合機は金属性でもセラミックでも良い。好適な相互接合機は導電性金属、セラミック、および金属−セラミック複合体である。

一実施形態において、前記セルは、生成物阻害をなくすために、酸化−還元反応生成物とハイドリノ生成物の少なくとも１つが除去されるように任意の電圧を印加して、その極性を定期的に逆にする。前記生成物は、超音波と加熱のような物理的方法と熱的方法によってそれぞれ除去しても良い。一実施形態において、前記電解質は、除去し、ハイドリノを除去するために熱等の手段で処理し、そして取り替えても良い。溶融塩、または水性塩等の前記電解質は循環させても良く、処理はバッチまたはフロー条件下で起こっても良い。

一実施形態において、前記セルに対して磁場が印加される。前記磁場は、任意の所望の方向での少なくとも１つの電極に印加しても良い。前記磁場ラインは少なくとも１つの電極の電極表面に対して垂直でも、少なくとも１つの電極との前記表面に対して平行でも良い。磁場強度は、約１ｍＴから１０Ｔ、０．０１から１Ｔ、および０．１から０．３Ｔの範囲で良い。

一実施形態において、前記ＣＩＨＴセルは、プラズマセルを含み、ここで前記プラズマは外部入力電源を断続的に印加することで断続的に形成され、電源は、前記外部電源がオフの間は、取り出され、出力される。前記プラズマガスは、水素源、水素、触媒源、および、外部負荷に対して電力を供給する触媒とＨが反応することでハイドリノを形成する触媒の中の少なくとも２つを含む。前記入力されたプラズマ電力は、少なくとも、前記外部電源がオフの時に、ハイドリノを形成する前記反応体を創造する。前記プラズマセルは、プラズマ電解反応器、バリア電極反応器、ＲＦプラズマ反応器、ｒｔ−プラズマ反応器、加圧ガスのエネルギー反応器、ガス放電エネルギー反応器、マイクロセルエネルギー反応器、およびグロー放電セルとマイクロ波または／およびＲＦ反応器のコンビネーションを含んでも良い。前記触媒およびシステムは本開示のもの、ならびに、本出願人の下記の先行申請に開示のものでも良い：（１）２００８年４月２４日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ０８／６１４５５「水素触媒反応器」、（２）２００９年７月２９日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ０９／０５２０７２「異種触媒反応器」、（３）２０１０年３月１８日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ１０／２７８２８「水素触媒パワーシステム」、（４）２０１１年３月１７日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ１１／２８８８９「電気化学的水素触媒パワーシステム」なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。

一実施形態において、ＯＨ、Ｈ_２Ｏ、Ｏ_２、ｎＯ、およびｎＨ（ｎは整数）の中の少なくとも１つを含む触媒は、水アークプラズマで生成される。１つの典型的なプラズマシステムは、「ベースプレート−ロッド電極」と水を含む「同心バレル電極」との間に接続されるエネルギー蓄積コンデンサを含み、ここで、前記「ベースプレート−ロッド電極」は、前記水柱の下に位置する。前記ロッドは、前記バレル部分と、前記ベースプレートと前記バレルとの間のナイロンブロックにおいて、ナイロンスリーブのような絶縁体に埋め込まれている。前記回路はさらに、抵抗（器）と、前記ロッドとバレルとの間の前記水に振動放電を発生させるインダクターを含む。前記コンデンサは高電圧供給により充電されて良く、大気中スパークギャップを含みうるスイッチで放電される。前記電極は銅製でも良い。前記高電圧は５から２５ｋＶの範囲でも良い。前記放電電流は５から１００ｋＡの範囲でも良い。３．５ｍｌのＨ_２Ｏに対する典型的なパラメータは、約０．６μＦのキャパシタンス、約０．３μＨのインダクタンス、約１７３ｍΩの抵抗、約１／２インチと３インチのバレル電極幅と深さ、約１／４インチのロッド幅、約１２．０ｋＶの充電電圧、そして約３．５μｓのＬＲＣ時定数である。霧爆発は、水中アーク放電を発生させることで創造され、そこで、前記アークは、前記霧爆発を引き起こすエネルギーの放出によって、ハイドリノを形成するために反応する原子状水素と触媒を形成する。前記ハイドリノ形成からの電力は、熱エネルギーであって良く、直接的に、空間およびプロセスの加熱等のアプリケーションに使用しても良く、または、蒸気タービン等の熱エンジンを使用する電力に変換しても良い。前記システムはまたは増大した結合エネルギー水素種や分子ハイドリノＨ_２（１／ｐ）等の化合物を形成するために使用しても良い。

一実施形態において、前記のハイドリノセルは、ハイドリノの連続放出を形成するピンチプラズマ源を含む。前記セルはピンチ水素プラズマを形成するために、カソードと、アノードと、電源と、水素源を含む。前記プラズマシステムは、当該技術分野で知られている高密度プラズマフォーカス源のような中空アノード・システムを含んでも良い。際立った特徴は、プラズマガスが水素であり、前記プラズマ条件が水素の連続放出を提供するように最適化されることである。放出は、ＥＵＶリソグラフィの光源として用いても良い。

一実施形態において、Ｈ_２Ｏは前記触媒として機能しても良い。ここで、該触媒は、水素源からの水素との反応による供給源から前記セル内で形成される。一実施形態において、前記Ｈ_２Ｏ触媒反応と対応するエネルギーの放出は、水素原子の反転分布を形成しても良い。前記Ｈ_２Ｏ源はアルカリ硝酸塩等の硝酸で、前記水素源はＨ_２ガスであっても良い。前記混合反応物は下記の本出願人の論文に記載されるように、真空気密容器内の高温で加熱しても良い：（１）｛Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ、Ｐ．Ｒａｙ、Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ、Ｗ．Ｇｏｏｄ、Ｐ．Ｊａｎｓｓｏｎ、Ｍ．Ｎａｎｓｔｅｅｌ、Ｊ．Ｈｅ、Ａ．Ｖｏｉｇｔ、「ＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃａｎｄＮＭＲＩｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎｏｆＮｏｖｅｌＨｙｄｒｉｄｅＩｏｎｓｉｎＦｒａｃｔｉｏｎａｌＱｕａｎｔｕｍＥｎｅｒｇｙＳｔａｔｅｓＦｏｒｍｅｄｂｙａｎＥｘｏｔｈｅｒｍｉｃＲｅａｃｔｉｏｎｏｆＡｔｏｍｉｃＨｙｄｒｏｇｅｎｗｉｔｈＣｅｒｔａｉｎＣａｔａｌｙｓｔｓ」（特定の触媒と原子状水素との発熱反応で形成された分数量子エネルギー状態における新規水素化物イオンの分光とＮＭＲによる特定）、「ＥｕｒｏｐｅａｎＰｈｙｓｉｃａｌＪｏｕｒｎａｌ：ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ、２８、（２００４）、８３−１０４」｝、および（２）｛Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ、Ｐ．Ｒａｙ、Ｒ．Ｍ．Ｍａｙｏ、「ＣＷＨＩＬａｓｅｒＢａｓｅｄｏｎａＳｔａｔｉｏｎａｒｙＩｎｖｅｒｔｅｄＬｙｍａｎＰｏｐｕｌａｔｉｏｎＦｏｒｍｅｄｆｒｏｍＩｎｃａｎｄｅｓｃｅｎｔｌｙＨｅａｔｅｄＨｙｄｒｏｇｅｎＧａｓｗｉｔｈＣｅｒｔａｉｎＧｒｏｕｐＩＣａｔａｌｙｓｔｓ」（特定のグループ１触媒を使って、灼熱温水水素ガスから形成した定常反転Ｌｙｍａｎ分布に基づくＣＷＨＩレーザー）、「ＩＥＥＥＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏｎＰｌａｓｍａＳｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．３１、Ｎｏ．２、（２００３）、ｐｐ．２３６−２４７」なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。Ｈ_２Ｏ触媒はプラズマで分解された水からの水素と酸素の反応によって形成しても良い。前記ハイドリノ反応からのエネルギーは、本出願人の論文に記載されるように、Ｈラインの反転を起こし、高速のＨを発生しても良い。｛Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ、Ｐ．Ｃ．Ｒａｙ、Ｒ．Ｍ．Ｍａｙｏ、Ｍ．Ｎａｎｓｔｅｅｌ、Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ、Ｊ．Ｐｈｉｌｌｉｐｓ、「ＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃＳｔｕｄｙｏｆＵｎｉｑｕｅＬｉｎｅＢｒｏａｄｅｎｉｎｇａｎｄＩｎｖｅｒｓｉｏｎｉｎＬｏｗＰｒｅｓｓｕｒｅＭｉｃｒｏｗａｖｅＧｅｎｅｒａｔｅｄＷａｔｅｒＰｌａｓｍａｓ」（低圧マイクロ波で生成される水プラズマにおけるユニークなラインの広がりと反転に関する分光研究）、「Ｊ．ＰｌａｓｍａＰｈｙｓｉｃｓ、Ｖｏｌ．７１、Ｎｏ６、（２００５）、８７７−８８８」｝なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。一実施形態において、前記Ｈ_２Ｏ触媒は、Ｈ_２ガスとアルカリ炭酸塩やＫ_２ＣＯ_３等の炭酸塩との反応で形成されても良い。前記エネルギー放出は熱活性化によってプラズマを伝搬し、異常な残照期間で示されるように印加電解の不在によって持続しても良い。１つの典型的な反応は下記の本出願人の論文に記載されるている。｛Ｈ．Ｃｏｎｒａｄｓ、Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ、Ｔｈ．Ｗｒｕｂｅｌ、「ＥｍｉｓｓｉｏｎｉｎｔｈｅＤｅｅｐＶａｃｕｕｍＵｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｆｒｏｍａＰｌａｓｍａＦｏｒｍｅｄｂｙＩｎｃａｎｄｅｓｃｅｎｔｌｙＨｅａｔｉｎｇＨｙｄｒｏｇｅｎＧａｓｗｉｔｈＴｒａｃｅＡｍｏｕｎｔｓｏｆＰｏｔａｓｓｉｕｍＣａｒｂｏｎａｔｅ」（微量の炭酸カリウムを含む水素ガスを白熱で熱して形成したプラズマからの深い真空紫外線での放出）、「ＰｌａｓｍａＳｏｕｒｃｅｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｖｏｌ．１２、（２００３）、ｐｐ．３８９−３９５」｝なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。一実施形態において、前記Ｈ_２Ｏ触媒は、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、またはＳｍ、Ｆｅ、Ｓｒ、またはＰｒの中の１つの金属酸化物等の酸素を含む化合物の酸素源の反応で形成しても良い。前記触媒反応は、下記の本出願人の論文に記載されるているように、前記酸素源が水素ガスで加熱される時、ｒｔ−プラズマと呼ばれるプラズマを形成しても良い。｛Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ、Ｊ．Ｄｏｎｇ、Ｙ．Ｌｕ、「ＯｂｓｅｒｖａｔｉｏｎｏｆＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔｒａｖｉｏｌｅｔＨｙｄｒｏｇｅｎＥｍｉｓｓｉｏｎｆｒｏｍＩｎｃａｎｄｅｓｃｅｎｔｌｙＨｅａｔｅｄＨｙｄｒｏｇｅｎＧａｓｗｉｔｈＣｅｒｔａｉｎＣａｔａｌｙｓｔｓ」（特定の触媒を使って白熱加熱された水素ガスから生じる極紫外線水素放射の観察）、「Ｉｎｔ．Ｊ．ＨｙｄｒｏｇｅｎＥｎｅｒｇｙ、Ｖｏｌ．２５、（２０００）、ｐｐ．９１９−９４３」｝なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。一実施形態において、ｎＨ（ｎ＝整数）は、ハイドリノを形成するための触媒として機能してもよく、ここで、エネルギーの放出は高速のＨを発生させる。Ｈプラズマへのヘリウム、および特にアルゴンの添加は、下記の本出願人の論文に記載されるているように、Ｈバルマー線の強度の増加で示されるように全体のＨ分布を増加させることで前記高速Ｈを増加させても良い。｛Ｋ．Ａｋｈｔａｒ、Ｊ．Ｓｃｈａｒｅｒ、Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ、「ＳｕｂｓｔａｎｔｉａｌＤｏｐｐｌｅｒＢｒｏａｄｅｎｉｎｇｏｆＡｔｏｍｉｃＨｙｄｒｏｇｅｎＬｉｎｅｓｉｎＤＣａｎｄＣａｐａｃｔｉｖｅｌｙＣｏｕｐｌｅｄＲＦＰｌａｓｍａｓ」（ＤＣと容量結合プラズマにおける原子状水素ラインの大幅なドップラー広がり）、「Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ：Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．、Ｖｏｌ．４２、Ｉｓｓｕｅ１３（２００９）、１３５２０７（１２ｐｐ）」｝なお、引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。

Ｘ．ハイドリノ水素化物セル
本発明に係るセルは図１に示されるものであり、カソード・コンパートメント４０１とカソード４０５、アノード・コンパートメント４０２とアノード４１０ならびに塩橋４４０を含み、前記カソード・コンパートメント４０１はハイドリノ水素化物イオンを含む化合物を含む。一実施形態において、前記酸化化合物は、ナトリウムハイドリノ水素化物を含み、前記ナトリウムは少なくとも２＋の酸化状態にあっても良い。前記酸化物はＮａ（Ｈ（１／ｐ）を含んでも良く、ここでｘは整数で、Ｈ（１／ｐ）はハイドリノ水素化物イオンである。一実施形態において、ｐは安定したＮａ^２＋化合物を形成するために選択される。一実施形態において、ｐは少なくとも、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、および２１の中の１つである。一実施形態において、前記塩橋４４０はＮａイオン導体である。好適なナトリウムイオン導体は、β−アルミナ固体電解質（ＢＡＳＥ）ＮＡＳＩＣＯＮ（Ｎａ_３Ｚｒ_２Ｓｉ_２ＰＯ_１２）およびＮａ_ｘＷＯ_３等の本開示のものである。前記還元剤はナトリウム金属等のナトリウムイオン源であっても良い。前記セルはさらに、ヒータを含んでもよく、又、Ｎａ金属の融点以上のような高い作動温度で前記セルを維持するために外部絶線等の絶縁を含んでも良い。前記のセル反応は、Ｎａ^＋イオンの前記ナトリウム導体塩橋４４０を介して前記アノード・コンパートメント４０２から前記カソード・コンパートメント４０１への移動を伴う、ナトリウム金属還元剤による前記水素化ナトリウム酸化物の還元を含んでも良い。典型的なバッテリ反応は以下のとおりである。
カソード：
ＮａＨ_ｘ＋ｅ⁻ → ＭＨ_ｘ−１＋Ｈ⁻ （２４１）
アノード：
Ｎａ → Ｎａ^＋＋ｅ⁻ （２４２）
全体：
ＮａＨ_ｘ＋Ｎａ → ＮａＨ_ｘ−１＋ＮａＨ（２４３）
一実施形態において、前記セルは式（２４１−２４３）により示されるような放電反応の逆反応によって再充電可能である。一実施形態において、前記ハーフセルコンパートメントは前記対応の電極として機能する。前記セル４００は、セルケースで密封しても良い。

本発明の別の態様は、前記ＣＩＨＴセルによって生成され得るエネルギーの貯蔵を含む。前記貯蔵エネルギーは、長期間にわたって前記貯蔵セルを間欠的に充電し得る前記ＣＩＨＴセルの電力よりも高い電力で伝搬しても良い。前記貯蔵セルの前記のより高い電力は、飛行機の離陸や動力アプリケーションで必要とされる高いパワーの短いバースト用に使用しても良い。前記貯蔵セルはリチウムイオンセルや金属水素化物セルとして当業者に周知の従来のセルを含んでも良い。別のアプリケーションにおいて、前記貯蔵セルは当業者に周知の再生可能な燃料セルを含んでも良い。本発明にかかる燃料セルは当業者に周知のリチウム空気セルを含む。もう一つの実施形態において、前記リチウム空気セルは、Ｌｉ金属等のＬｉアノードと、Ｌｉハロゲン化合物、水酸化物、炭酸塩、または本開示のもの等の１つのＬｉを含む溶融塩電解質を含む。前記電解質は、共融混合物等の混合物、ＬｉＣｌ−ＫＣｌ等のアルカリハライド塩の混合物、さらはその他の本開示の混合物を含んでも良い。前記セルはＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ｐ_２Ｏ_５−ＴｉＯ_２−ＧｅＯ_２、日本に本社を置くＯｈａｒａのリチウムイオン伝導性セパレータ等のＬｉイオン伝導性セパレータを含んでも良い。前記カソードは、ＮｉＯ等の酸素還元カソードや、本開示の他の酸素還元カソードを含んでも良い。前記カソード還元反応は、Ｏ_２の還元反応でも良く、又、Ｏ_２とＨ_２Ｏの還元を含んでも良い。生成物はＯＨ⁻や、少なくとも酸素と水素の中の１つを含むその他の酸素や種でも良い。前記カソードのハーフセルは、更に溶融塩等の電解質を含んでも良い。前記溶融塩は、ハロゲン化合物および、アルカリ金属等の水酸化物、ＬｉＯＨ−ＭＸ（ここで、Ｍはアルカリで、Ｘはハロゲン化合物）等の水酸化物、または本開示のの水酸化物の中の少なくとも１つを含んでも良い。可逆放電反応は以下のようであってよい。
カソード：
２Ｈ_２Ｏ＋Ｏ_２＋４ｅ⁻ → ４ＯＨ⁻ （２４４）
アノード：
Ｌｉ → Ｌｉ^＋＋ｅ⁻ （２４５）
全体：
４Ｌｉ＋２Ｈ_２Ｏ＋Ｏ_２ → ４ＬｉＯＨ（２４６）
１つの実施例において、Ｈ及びＨ_２Ｏ触媒は、再充電の間に放電カソードにおいて形成され、Ｈは、再充電プロセスを助けるようにエネルギーを放出するためにハイドリノを形成するためにＨ_２Ｏによって触媒反応をさせられるが、これにより、ハイドリノのエネルギー寄与がない条件下であるよりも、エネルギーは少なくしか必要とされない。

ＸＩ．化学反応器
本開示は、ジハイドリノ分子及びハイドリノ・ヒドリド化合物のような、本開示の増加した結合エネルギーの水素種及び化合物を生産するための他の反応器にもまた、関係する。触媒作用の更なる生成物は、セルのタイプによるが、パワー及びオプションとしてプラズマ及び光である。そのような反応器は、以下「水素反応器」又は「水素セル」と称する。水素反応器は、ハイドリノを作るためのセルを含む。ハイドリノを作るためのセルは、ガス放電セル、プラズマトーチ・セル、又は、マイクロ波パワー・セル、及び、電気化学セルのような化学反応器又は気体燃料電池の形であるかもしれない。ハイドリノを作るためのセルの典型的な実施例は、液体燃料電池（セル）、固体燃料電池（セル）、及び、不均−燃料電池（セル）、及び、ＣＩＨＴセルの形であるかもしれない。これらのセルの各々は、（ｉ）原子状水素の源と；（ｉｉ）ハイドリノを作るための固体触媒、融解触媒、液体触媒、ガス状触媒、又はそれらの混合物から選ばれる少なくとも１つの触媒と；及び（ｉｉｉ）反応している水素のための容器及びハイドリノを作るための触媒とを含む。ここに使われ、本開示によって考慮された、用語「水素」は、特に明記しない限り、プロチウム（ｐｒｏｔｅｕｍ）（^１Ｈ）だけでなく、デューテリウム（^２Ｈ）もとトリチウム（^３Ｈ）をも含む。ハイドリノ反応の反応物としてのデューテリウムが使用される場合、不均−系燃料と固体燃料のヘリウム生成物又はトリチウム生成物の相対的な極微量は予想される。典型的な化学反応混合物と反応器（リアクター）はＣＩＨＴセル、または本開示の熱セルの実施形態を含んでも良い。典型的な実施形態はさらに、この「化学反応器」セクションで示される。前記混合物の反応中に形成される触媒としてＨ_２Ｏを有する反応混合物の例は本開示で示されている。表１と３で示されるようなその他の触媒は増大した結合エネルギー水素種や化合物を形成するために機能しても良い。表３Ａの典型的なＭ−Ｈタイプの触媒はＮａＨである。１つの好適な反応混合物は水素化ナトリウムや、アルカリハロゲン化合物、ＮａＣｌ等の化合物、および、任意に、Ｒ−ＮｉやＲ−Ｎｉ２８００等の解離子である。各反応体の重量％は任意で、所望のもので良い。一実施形態において、ＮａＣｌの重量％はＮａＨの１０倍であり、Ｒ−Ｎｉの重量％も同様に、もし使用されたら、１０倍であっても良い。前記セル温度は、約３００℃から５５０℃の範囲のように高くても良い。高磁場シフトの観察に基づいて、前記のＮＭＲ結果を伴う、少なくとも１つのハイドリノ生成物を有する他の好適な反応混合物は：（１）Ｌｉ＋ＬｉＦ（各、５＋９５重量％）／Ｎｉスクリーン解離子６００℃で観察された^１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１７と−０．２７３ｐｐｍ、（２）Ｌｉ＋ＬｉＢｒ（各、５＋９５重量％）／Ｎｉスクリーン解離子６００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１３と−２．４６２ｐｐｍ、（３）Ｌｉ_３Ｎ＋ＬｉＨ＋ＬｉＢｒ（各、５＋１０＋８５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子４５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：−２．５７３ｐｐｍ、（４）Ｌｉ_２ＮＨ＋Ｌｉ＋ＬｉＢｒ（各、５＋１０＋８５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：−２．５１２ｐｐｍ、（５）ＬｉＮＨ_２＋Ｌｉ＋ＬｉＢｒ（各、５＋１０＋８５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：−２．４７９ｐｐｍ、（６）ＬｉＮＨ_２＋ＬｉＢｒ（各、５＋９５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子４５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１６５と−２．６２５ｐｐｍ、（７）Ｌｉ＋ＬｉＩ（各、５＋９５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１２２と−２．０３８ｐｐｍ、（８）ＬｉＮＨ_２＋Ｌｉ＋ＬｉＩ（各、５＋１０＋８５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子４５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：−２．０８７ｐｐｍ、（９）Ｎａ＋ＮａＣｌ（各、２５＋７５重量％）／Ｎｉ銀とＰｔ／Ｔｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１７４と−３．８０２ｐｐｍ、（１０）ＮａＨ＋ＮａＣｌ（各、１０＋９０重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０５７と−３．８１６ｐｐｍ、（１１）ＮａＨ＋ＮａＣｌ（各、１０＋９０重量％）／５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０９３と−３．６７２ｐｐｍ、（１２）Ｎａ＋ＮａＢｒ（各、１８＋８２重量％）／Ｐｔ／Ｔｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１２９と−３．５８３ｐｐｍ、（１３）ＮａＨ＋ＮａＩ（各、１８＋８２重量％）／５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０５と−２．４５４ｐｐｍ、（１４）Ｋ＋ＫＦ（１０＋９０重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：０．９８７と−５．１４３ｐｐｍ、（１５）Ｋ＋ＫＣｌ（各、８＋９２重量％）／Ｎｉスクリーン解離子６００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０９８、−４．０７４と−４．４７３ｐｐｍ、（１６）Ｋ＋ＫＢｒ（各、１０＋９０重量％）／Ｎｉスクリーン解離子４５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．４１５と−４．１９３ｐｐｍ、（１７）Ｋ＋ＫＩ（各、５＋９５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１１３と−２．２４４ｐｐｍ、（１８）Ｃｓ＋ＣｓＦ（各、４５＋５５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１０６と−３．９６５ｐｐｍ、（１９）Ｃｓ＋ＣｓＣｌ（各、４５＋５５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子５５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０７３と−３．４７８ｐｐｍ、（２０）Ｃｓ＋ＣｓＩ（各、４５＋５５重量％）／Ｒ−Ｎｉ解離子４００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．１４７と−１．２７８ｐｐｍ、（２１）ＮａＣｌ＋ＫＨＳＯ_４（各、８５＋１５重量％）／６００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０９４、−３．０２７と−３．８９４ｐｐｍ、（２２）ＮａＣｌ＋ＮａＨＳＯ_４（各、８５＋１５重量％）／６００℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０８５、−３．５３５と−４．０７７ｐｐｍ、そして（２３）ＣｓＣｌ＋ＮａＨＳＯ_４（各、９５＋５重量％）／５５０℃で観察された１ＨＭＡＳＮＭＲのピーク：１．０７０と−２．３８６ｐｐｍ。なお、ここで、Ｈ_２圧力は５ＰＳＩＧであり、解離子の重量は前記反応体の、約５０％から３００％であった。前記反応と条件は、反応体、反応体重量％、Ｈ_２圧力、および反応温度等のパラメータにおける、これらの典型的なケースから調節しても良い。好適な反応体、条件、およびパラメータの範囲は本開示のものである。一実施形態において、これらの反応混合物はさらに、Ｈ_２と反応するステンレス鋼反応器、およびＨ_２Ｏ触媒を形成するために存在するその他の反応体、ならびに、前記反応期間中に形成される水酸化物のもののように、高磁場マトリックスシフトを起こすハイドリノを含む。

一実施形態において、固形燃料の反応が、生成物および中間反応生成物としてＨ_２ＯとＨを形成する。前記Ｈ_２Ｏは、ハイドリノを形成するための触媒として機能しても良い。前記反応体は少なくとも１つの酸化物と１つの還元剤を含み、前記反応は少なくとも１つの酸化−還元反応を含む。前記還元剤はアルカリ金属等の金属を含んでも良い。前記反応混合物は、さらに水素源とＨ_２Ｏ源、そして、任意に、炭素、炭化物、ホウ化物、窒化物、ＴｉＣＮ等の炭窒化物、またはニトリル等の支持体を含んでも良い。前記水素源はアルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、希土類水素化物および本開示の水素化物のグループから選択しても良い。前記水素源は、炭素、またはアルミナ、または本開示の他の支持体上に本開示の貴金属等の解離子をさらに含む水素ガスでも良い。前記水源は、水酸化物、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｓｂ、およびＰｂの水酸化物複合体等の水酸化物複合体のような脱水化合物を含んでも良い。前記水源は水素源と酸素源を含んでも良い。前記酸素源は酸素を含む化合物を含んでも良い。典型的な化合物又は分子は、Ｏ_２，アルカリ又はアルカリ土類酸化物、過酸化物、スーパーオキサイド、ＴｅＯ_２，ＳｅＯ_２，ＰＯ_２，Ｐ_２Ｏ_５，ＳＯ_２，ＳＯ_３，Ｍ_２ＳＯ_４，ＭＨＳＯ_４，ＣＯ_２，Ｍ_２Ｓ_２Ｏ_８，ＭＭｎＯ_４，Ｍ_２Ｍｎ_２Ｏ_４，Ｍ_ｘＨ_ｙＰＯ_４（ｘ，ｙ＝整数），ＰＯＢｒ_２，ＭＣｌＯ_４，ＭＮＯ_３，ＮＯ，Ｎ_２Ｏ，ＮＯ_２，Ｎ_２Ｏ_３，Ｃｌ_２Ｏ_７，及びＯ_２（Ｍ＝アルカリ；及びアルカリ土類又は他のカチオンはＭを代替してよい）である。他の典型的な反応物は、Ｌｉ，ＬｉＨ，ＬｉＮＯ_３，ＬｉＮＯ，ＬｉＮＯ_２，Ｌｉ_３Ｎ，Ｌｉ_２ＮＨ，ＬｉＮＨ_２，ＬｉＸ，ＮＨ３，ＬｉＢＨ_４，ＬｉＡｌＨ_４，Ｌｉ_３ＡｌＨ_６，ＬｉＯＨ，Ｌｉ_２Ｓ，ＬｉＨＳ，ＬｉＦｅＳｉ，Ｌｉ_２ＣＯ_３，ＬｉＨＣＯ_３，Ｌｉ_２ＳＯ_４，ＬｉＨＳＯ_４，Ｌｉ_３ＰＯ_４，Ｌｉ_２ＨＰＯ_４，ＬｉＨ_２ＰＯ_４，Ｌｉ_２ＭｏＯ_４，ＬｉＮｂＯ_３，Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７（四ホウ酸リチウム），ＬｉＢＯ_２，Ｌｉ_２ＷＯ_４，ＬｉＡｌＣｌ_４，ＬｉＧａＣｌ_４，Ｌｉ_２ＣｒＯ_４，Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｌｉ_２ＴｉＯ_３，ＬｉＺｒＯ_３，ＬｉＡｌＯ_２，ＬｉＣｏＯ_２，ＬｉＧａＯ_２，Ｌｉ_２ＧｅＯ_３，ＬｉＭｎ_２Ｏ_４，Ｌｉ_４ＳｉＯ_４，Ｌｉ_２ＳｉＯ_３，ＬｉＴａＯ_３，ＬｉＣｕＣｌ_４，ＬｉＰｄＣｌ_４，ＬｉＶＯ_３，ＬｉＩＯ_３，ＬｉＦｅＯ_２，ＬｉＩＯ_４，ＬｉＣｌＯ_４，ＬｉＳｃＯ_ｎ，ＬｉＴｉＯ_ｎ，ＬｉＶＯ_ｎ，ＬｉＣｒＯ_ｎ，ＬｉＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＬｉＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＬｉＦｅＯ_ｎ，ＬｉＣｏＯ_ｎ，ＬｉＮｉＯ_ｎ，ＬｉＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＬｉＣｕＯ_ｎ，及びＬｉＺｎＯ_ｎ（ここで、ｎ＝１，２，３，又は４），オキシアニオン、強酸のオキシアニオン、酸化剤、Ｖ_２Ｏ_３，Ｉ_２Ｏ_５，ＭｎＯ_２，Ｒｅ_２Ｏ_７，ＣｒＯ_３，ＲｕＯ_２，ＡｇＯ，ＰｄＯ，ＰｄＯ_２，ＰｔＯ，ＰｔＯ_２，及びＮＨ_４Ｘ（ここで、Ｘは硝酸塩又は他の好適なアニオンでＣＲＣにおいて与えられる）のような分子酸化剤及び還元剤の群から選ばれる試薬を含む。もう１つのアルカリ金属又は他のカチオンは、Ｌｉを置き換えてよい。追加的な酸素の源は、ＭＣｏＯ_２，ＭＧａＯ_２，Ｍ_２ＧｅＯ_３，ＭＭｎ_２Ｏ_４，Ｍ_４ＳｉＯ_４，Ｍ_２ＳｉＯ_３，ＭＴａＯ_３，ＭＶＯ_３，ＭＩＯ_３，ＭＦｅＯ_２，ＭＩＯ_４，ＭＣｌＯ_４，ＭＳｃＯ_ｎ，ＭＴｉＯ_ｎ，ＭＶＯ_ｎ，ＭＣｒＯ_ｎ，ＭＣｒ_２Ｏ_ｎ，ＭＭｎ_２Ｏ_ｎ，ＭＦｅＯ_ｎ，ＭＣｏＯ_ｎ，ＭＮｉＯ_ｎ，ＭＮｉ_２Ｏ_ｎ，ＭＣｕＯ_ｎ，及びＭＺｎＯ_ｎ（ここで、Ｍはアルカリで、ｎ＝１，２，３，又は４），オキシアニオン、強酸のオキシアニオン、酸化剤、Ｖ_２Ｏ_３，Ｉ_２Ｏ_５，ＭｎＯ_２，Ｒｅ_２Ｏ_７，ＣｒＯ_３，ＲｕＯ_２，ＡｇＯ，ＰｄＯ，ＰｄＯ_２，ＰｔＯ，ＰｔＯ_２，Ｉ_２Ｏ_４，Ｉ_２Ｏ_５，Ｉ_２Ｏ_９，ＳＯ_２，ＳＯ_３，ＣＯ_２，Ｎ_２Ｏ，ＮＯ，ＮＯ_２，Ｎ_２Ｏ_３，Ｎ_２Ｏ_４，Ｎ_２Ｏ_５，Ｃｌ_２Ｏ，ＣｌＯ_２，Ｃｌ_２Ｏ_３，Ｃｌ_２Ｏ_６，Ｃｌ_２Ｏ_７，ＰＯ_２，Ｐ_２Ｏ_３，及びＰ_２Ｏ_５．のような分子酸化剤の群から選ばれてよい。反応物は、ハイドリノを形成するような所望の如何なる割合であってもよい。典型的な反応混合物は、０．３３ｇのＬｉＨ，１．７ｇのＬｉＮＯ_３及び、１ｇのＭｇＨ_２及び４ｇの活性化されたＣ粉末の混合物である。もう１つの典型的な反応混合物は、ＫＮＯ_３（７５ｗｔ％）のような火薬、針葉樹の木炭（製剤Ｃ_７Ｈ_４Ｏを含むかもしれないもの）（１５ｗｔ％）、及び、Ｓ（１０ｗｔ％）であり、ＫＮＯ_３（７０．５ｗｔ％）及び針葉樹の木炭（２９．５ｗｔ％）又はこれらの比率は±の範囲において約±１−３０ｗｔ％の範囲内である。水素の源は、製剤Ｃ_７Ｈ_４Ｏを含む木炭であってもよい。

一実施形態において、前記反応混合物は、窒素、二酸化炭素、およびＨ_２Ｏを形成する反応体を含み、ここで、後者は前記反応で形成されたＨに対するハイドリノ触媒として機能する。一実施形態において、前記反応混合物は、水素源と、硝酸塩、硫酸塩、過塩素酸塩、過酸化水素などの過酸化物、または、Ｏ_２と、ニトロセルロース（ＡＰＮＣ）等のニトロ化合物、酸素、または酸素化合物、またはオキシアニオン化合物等のその他の化合物等の酸素源の添加によって特に水素源として機能し得るトリアセトン−過酸化アセトン（ＴＡＴＰ）、またはジアセトン−ジペルオキシド（ＤＡＤＰ）等のペルオキシ化合物を含むＨ_２Ｏ源とを含む。前記反応混合物は、化合物源、または化合物、または、官能基源、または水素、炭素、炭化水素、および窒素に結合した酸素の中の少なくとも２つを含む官能基を含んでも良い。前記反応体は、硝酸塩、亜硝酸塩、ニトロ基、およびニトロアミンを含んでも良い。前記硝酸塩は、アルカリ硝酸塩等の金属を含んでも良く、アンモニア硝酸塩、または、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、希土類金属、または、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、またはＰｂ硝酸塩等の当業者に周知のその他の硝酸塩を含んでも良い。前記ニトロ基は、ニトロメタン、ニトログリセリン、トリニトロトルエン、またはその他の当業者が周知の類似化合物等の有機化合物の官能基を含んでも良い。典型的な反応混合物は、ＮＨ_４ＮＯ_３、長鎖炭化水素（Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋２）、酸素を含みうる暖房油、ディーゼル燃料、灯油、糖蜜または砂糖やニトロメタン等のニトロ等の炭素源、または、炭塵等の炭素源である。前記水素源は又、ＮＨ_４、燃料油等の炭化水素、または砂糖を含んでも良く、ここで炭素に結合したＨはＨを制御して放出する。前記Ｈの放出はフリーラジカル反応によるものであっても良い。前記炭素はＯと反応してＨを放出し、ＣＯ、ＣＯ_２、およびギ酸塩等の炭素−酸素化合物を形成しても良い。一実施形態において、単一化合物は、窒素、二酸化炭素およびＨ_２Ｏを形成するための官能性を含んでも良い。さらに炭化水素可能性を含むニトラミンは、一般的に、サイクロナイト、またはＲＤＸのコードで参照される、シクロトリメチレントリニトラミンである。その他のＨ源およびＨ_２Ｏ触媒源の中の少なくとも１つとして、Ｏ源およびＨ源の中の少なくとも１つとして機能し得る典型的な化合物は、下記の群から選択される少なくとも１つである：硝酸アンモニア塩（ＡＮ）、黒色火薬（７５％ＫＮＯ_３＋１５％木炭＋１０％Ｓ）、硝酸アンモニア塩／燃料油（ＡＮＦＯ）（９４．３％ＡＮ＋５．７％燃料油）、エリスリトール四硝酸、トリニトロトルエン（ＴＮＴ）、アマトール（８０％ＴＮＴ＋２０％ＡＮ）、テトリトール（テトリル７０％＋３０％ＴＮＴ）、テトリル（２，４，６−トリニトロフェニルメチルニトラミン（Ｃ_７Ｈ_５Ｎ_５Ｏ_８））、Ｃ−４（９１％ＲＤＸ）、Ｃ−３（ＲＤＸベース）、組成Ｂ（６３％ＲＤＸ＋３６％ＴＮＴ）、ニトログリセリン、ＲＤＸ（シクロトリメチレントリニトロアミン）、セムテックス（９４．３％ＰＥＴＮ＋５．７％ＲＤＸ）、ＰＥＴＮ（四硝酸ペンタエリスリトール）、ＨＭＸまたはオクトーゲン（オクタヒドロ−１，３，５，７−テトラニトロ−１，３，５，７−テトラゾシン）、ＨＮＩＷ（ＣＬ−２０）（２，４，６，８，１０，１２−ヘキサニトロ−２，４，６，８，１０，１２−ヘキサニトロヘキサアザイソウルチタン）、ＤＤＦ、（４，４’−ジニトロ−３，３’−ジアゼノフロクサン）、ヘプタニトロキュバン、オクタニトロキュバン、２，４，６−トリス（トリニトロメチル）−１，３，５−トリアジン、ＴＡＴＮＢ（１，３，５−トリニトロベンゼン、３，５−トリアジド−２，４，６−トリニトロベンゼン）、トリニトロアナリン、ＴＮＰ（２，４，６−トリニトロフェノールまたはピクリン酸）、Ｄ爆薬（アンモニウムピクリン酸）、ピクリン酸メチルエチル、ピクリン酸、ピクリン酸アンモニウムクロリド（２−クロロ−１，３，５−トリニトロベンゼン）、トリニトクレソール、スチフニン酸鉛（鉛２，４，６−トリシネート、Ｃ_６ＨＮ_３Ｏ_８Ｐｂ）、ＴＡＴＢ（トリアミノトリニトロベンゼン）、メチル硝酸塩、ニトログリコール、マンニトールヘキサニトレート、エチレンジニトロアミン、ニトログアニジン、テトラニトログリコールウリル、ニトロセルロース、尿素、硝酸、およびヘキサメチレントリペルオキシドジアミン（ＨＭＴＤ）。水素、炭素、酸素、および窒素比は任意で所望の比で良い。硝酸アンモニウム／燃料油（ＡＮＦＯ）として知られている硝酸アンモニウム（ＡＮ）および燃料油（ＦＯ）の反応混合物の一実施形態において、バランスの取れた反応を示す好適な化学量論は、約９４．３重量％のＡＮと５．７重量％のＦＯであるが、ＦＯは過剰でも良い。ＡＮ及びニトロメタンの典型的な可逆反応は次のとおりである。
３ＮＨ_４ＮＯ_３＋２ＣＨ_３ＮＯ_２ → ４Ｎ_２＋２ＣＯ_２＋９Ｈ_２Ｏ（２４７）
ここで、Ｈの幾つかはまた、ｐ＝４のようなＨ_２（１／ｐ）及びＨ⁻（１／ｐ）のようなより低いエネルギーの水素種へと変換される。１つの実施例において、水素、窒素、及び酸素のモル比率は、式Ｃ_３Ｈ_６Ｎ_６Ｏ_６を持つＲＤＸ内のように類似する。

一実施形態において、エネルギー論は、炭素、炭化物、ホウ化物、窒化物、シリカ、またはアルミナなどの支持体上のＨ_２ガス等の追加的な原子状水素源、または、アルカリ、アルカリ土類金属、遷移、内部推移、および希土類金属水素化物等の水素化物、および炭素、炭化物、ホウ化物、窒化物、シリカ、またはアルミナなどの支持体上のＮｉ、Ｎｂ、または貴金属等の解離子を使うことで増加する。前記反応混合物は、ハイドリノを形成するための動力を増やすために、Ｈ_２Ｏ触媒と原子状水素を形成するための反応期間中に圧縮または衝撃波を生産しても良い。前記反応混合物は、水素とＨ_２Ｏ触媒を形成するための反応期間中に熱を増加させる反応体を少なくとも１つ含んでも良い。前記反応混合物は、固形燃料の顆粒またはプリルの間に分散することが出来る空気等の酸素源を含んでも良い。例えば、ＡＮプリルは約２０％の空気を含んでも良い。一好適な実施形態において、Ａｌ等の粉末金属を熱と反応動力を増やすために追加される。例えば、Ａｌ金属粉末はＡＮＦＯに添加しても良い。他の反応混合物は、水素源とＨ_２Ｏ等の触媒源を有する花火の材料を含む。一実施形態において、ハイドリノの形成は、エネルギー物質や花火材料等のエネルギー反応によって供給される高い活性化エネルギーを有するが、ここでハイドリノの形成は、前記反応混合物の自己発熱に貢献する。または、前記活性化エネルギーは、１１，６００Ｋ／ｅＶに相当する高温度を有する前記ＣＩＨＴセルのそれのような電気化学反応によって提供可能である。

別の典型的な反応混合物は、約０．０１気圧から１００気圧の圧力範囲にあり得るＨ_２ガス、アルカリ硝酸塩、ＫＮＯ_３等の硝酸塩、およびＰｔ／Ｃ、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３、またはＰｄ／Ａｌ_２Ｏ_３等の水素解離子である。混合物はさらに、グラファイトまたはグレードＧＴＡＧｒａｆｏｉｌ（ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ社）等の炭素を含んでも良い。反応比は、硝酸塩が約５０重量％で残りが炭素である混合物の約０．１から１０重量％で炭素に対して約１から１０％ＰｔあるいはＰｄ等の所望のもので良い。なお、典型的な実施形態では、前記比は約５から１０倍変えても良い。炭素が支持体として使用される場合は、温度は炭素塩やアルカリ炭素塩等の化合物を形成するためのＣ反応に結果する以下の温度で維持する。一実施形態において、前記温度はＮＨ_３がＮ_２を超えて形成されるような約５０℃から３００℃または約１００℃から２５０℃の範囲に維持される。

反応物及び再生反応及びシステムは、ここにおいて全体として参照され組み込まれる、水素触媒リアクタ、ＰＣＴ／ＵＳ０８／６１４５５，２００８年４月２４日にＰＣＴ出願；不均一水素触媒リアクタ、ＰＣＴ／ＵＳ０９／０５２０７２，２００９年７月２９日にＰＣＴ出願；不均一水素触媒パワーシステム，ＰＣＴ／ＵＳ１０／２７８２８，２０１０年３月１８日ＰＣＴ出願；及び電気化学的水素触媒パワーシステム，ＰＣＴ／ＵＳ１１／２８８８９，２０１１年３月１７日ＰＣＴ出願（“ミルズの従前の出願”）のような私の以前の米国特許出願における、及び、本開示のそれらを含んでよい。

１つの実施例において、反応は、硝酸塩というよりもむしろ、Ｎ_２Ｏ，ＮＯ_２，又はＮＯのような窒素酸化物を含んでよい。その代わりとして、ガスはまた、反応混合物に追加される。ＮＯ，ＮＯ_２，及びＮ_２Ｏ並びにアルカリ硝酸塩は、オストワルト法が続くハーバー法によるような既知の工業的な方法によって発生させられ得る。１つの実施例において、典型的な一連のステップは次のとおりである。

具体的に、ハーバー法はα−鉄含有の一部の酸化物等の触媒を使って、高温と高圧で、Ｎ_２とＨ_２からＮＨ_３を生成するために使用しても良い。オストワルト法は、熱白金または白金−ロジウム触媒等の触媒でアンモニアをＮＯ、ＮＯ_２、およびＮ_２Ｏに酸化するために使用しても良い。一実施形態において、前記生成物はアンモニア、およびアルカリ化合物の中の少なくとも１つである。ＮＯ_２は酸化によって、ＮＨ_３から形成しても良い。ＮＯ_２はＭ硝酸塩を形成するＭ_２Ｏ、ＭＯＨ、Ｍ_２ＣＯ_３、またはＭＨＣＯ_３等のアルカリ化合物と反応して、硝酸を形成するために水に溶解しても良く、ここでＭはアルカリである。

一実施形態において、（ｉ）Ｈ_２ＯとＭＮＯ_３（Ｍ＝アルカリ）等の触媒を形成する酸素源の反応、（ｉｉ）Ｈ_２等の供給源からの原子状水素の形成、および（ｉｉｉ）ハイドリノを形成する反応の中の少なくとも１つの反応は、加熱可能なＰｔ等の貴金属等の触媒によって、または触媒上で発生する。前記加熱した触媒は熱フィラメントを含んでも良い。前記フィラメントは熱Ｐｔフィラメントを含んでも良い。ＭＮＯ_３等の前記酸素源は少なくとも部分的にガス状であって良い。前記ガス状態とその蒸気圧はＫＮＯ_３などの前記ＭＮＯ_３を加熱することで制御しても良い。ＭＮＯ_３等の前記酸素源は、ガス状のＭＮＯ_３を放出するために加熱されるオープンボート（舟形の皿）にあっても良い。前記加熱は熱フィラメントのような加熱器で行っても良い。一好適な実施形態において、ＭＮＯ_３は石英のボート（舟形の皿）に置かれ、Ｐｔフィラメントは前記加熱器として機能するための前記ボートの周囲に巻きつけられる。ＭＮＯ_３の蒸気圧は約０．１トールから１０００トール、または約１トールから１００トールの圧力範囲に維持しても良い。前記水素源は約１トールから１００気圧、約１０トールから１０気圧、または約１００トールから１気圧の圧力範囲に維持されるガス状の水素で良い。前記フィラメントもまた、ガスラインを通じて前記セルに供給される水素ガスを解離するために機能する。前記セルも真空ラインを含んでも良い。前記セル反応は、ハイドリノを形成するために反応するＨ_２Ｏ触媒と原子状水素を発生させる。前記反応は、真空、大気圧、または大気圧以上の圧力の中の少なくとも１つを維持することが出来る容器に維持しても良い。ＮＨ_３とＭＯＨ等の生成物は前記セルから除去し、再生させても良い。一好適な実施形態において、ＭＮＯ_３は前記水素源と反応し、Ｈ_２Ｏと、別の反応槽でまたは酸化による別の処理として再生されるＮＨ_３を形成する。一実施形態において、Ｈ_２ガス等の前記水素源は、電解、または熱的処理の中の１つの方法で水から生成される。典型的な熱的方法は酸化鉄サイクル、セリウム（ＩＶ）酸化−セリウム（ＩＩＩ）酸化サイクル、亜鉛亜鉛−酸化サイクル、硫黄−ヨウ素サイクル、銅−塩素サイクル、ハイブリッド硫黄サイクル、および当業者が周知のその他のサイクルがある。ハイドリノを形成するようにＨと更に反応するＨ_２Ｏ触媒を形成するための典型的なセル反応は、以下のとおりである。
ＫＮＯ_３＋９／２Ｈ_２ → Ｋ＋ＮＨ_３＋３Ｈ_２Ｏ（２４９）
ＫＮＯ_３＋５Ｈ_２ → ＫＨ＋ＮＨ_３＋３Ｈ_２Ｏ（２５０）
ＫＮＯ_３＋４Ｈ_２ → ＫＯＨ＋ＮＨ_３＋２Ｈ_２Ｏ（２５１）
ＫＮＯ_３＋Ｃ＋２Ｈ_２ → ＫＯＨ＋ＮＨ_３＋ＣＯ_２（２５２）
２ＫＮＯ_３＋Ｃ＋３Ｈ_２ → Ｋ_２ＣＯ_３＋１／２Ｎ_２＋３Ｈ_２Ｏ（２５３）
窒素酸化物を形成する典型的な再生反応は式（２４８）によって与えられる。Ｋ，ＫＨ，ＫＯＨ，及びＫ_２ＣＯ_３のような生成物は、ＫＮＯ_２又はＫＮＯ_３を形成するために水への窒素酸化物の添加によって形成される硝酸と反応させられてよい。反応物Ｈ_２Ｏ触媒及びＨ_２の少なくとも１つを形成するための追加的な好適な典型的な反応は、表６、７、及び８に与えられる。

Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応混合物質は、例えばＯ種等のＯ源とＨ源を含んでも良い。前記Ｏ種源は少なくとも、Ｏ_２、空気、およびＯを含む化合物または混合剤の中の１つを含んでも良い。酸素を含む前記化合物は酸化剤を含んでも良い。酸素を含む前記化合物は少なくとも、酸化物、オキシ水酸化物、水酸化物、過酸化物、および超酸化物の中の１つを含んでも良い。好適で典型的な金属酸化物は、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、およびＫ_２Ｏ等のアルカリ酸化物、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯ等のアルカリ土類酸化物、ＮｉＯ、Ｎｉ_２Ｏ_３、ＦｅＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、およびＣｏＯ等の遷移酸化物、内部遷移と希土類金属酸化物、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、およびＴｅ等のその他の金属および半金属、ならびにこれらの混合物および酸素を含むその他の元素を含んでも良い。前記酸化物は、本開示の酸化物アニオンや金属酸化物アニオン等の酸化物アニオン、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移および希土類金属カチオン、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、およびＴｅ等のその他の金属および半金属、ならびに、ＭＭ’_２ｘＯ_３ｘ＋１またはＭＭ’_２ｘＯ_４（Ｍ＝アルカリ土類、Ｍ’＝Ｆｅ、または、Ｎｉ、またはＭｎ等の遷移金属、ｘ＝整数）およびＭ_２Ｍ’_２ｘＯ_３ｘ＋１またはＭ_２Ｍ’_２ｘＯ_４（Ｍ＝アルカリ、Ｍ’＝Ｆｅ、または、Ｎｉ、またはＭｎ等の遷移金属、ｘ＝整数）アニオンおよびカチオンを含んでも良い。好適で典型的な金属オキシ水酸化物は、ＡｌＯ（ＯＨ）、ＳｃＯ（ＯＨ）、ＹＯ（ＯＨ）、ＶＯ（ＯＨ）、ＣｒＯ（ＯＨ）、ＭｎＯ（ＯＨ）（α−ＭｎＯ（ＯＨ）グラウト鉱（Ｇｒｏｕｔｉｔｅ）およびγ−ＭｎＯ（ＯＨ）マンガン酸化物）、ＦｅＯ（ＯＨ）、ＣｏＯ（ＯＨ）、ＮｉＯ（ＯＨ）、ＲｈＯ（ＯＨ）、ＧａＯ（ＯＨ）、ＩｎＯ（ＯＨ）、Ｎｉ_１／２Ｃｏ_１／２Ｏ（ＯＨ）、およびＮｉ_１／３Ｃｏ_１／３Ｍｎ_１／３Ｏ（ＯＨ）である。好適で典型的な水酸化物は、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、および希土類金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、およびＴｅ等のその他の金属および半金属、ならびに混合物の水酸化物である。好適な錯イオン水酸化物は、Ｌｉ_２Ｚｎ（ＯＨ）_４、Ｎａ_２Ｚｎ（ＯＨ）_４、Ｌｉ_２Ｓｎ（ＯＨ）_４、Ｎａ_２Ｓｎ（ＯＨ）_４、Ｌｉ_２Ｐｂ（ＯＨ）_４、Ｎａ_２Ｐｂ（ＯＨ）_４、ＬｉＳｂ（ＯＨ）_４、ＮａＳｂ（ＯＨ）_４、ＬｉＡｌ（ＯＨ）_４、ＮａＡｌ（ＯＨ）_４、ＬｉＣｒ（ＯＨ）_４、ＮａＣｒ（ＯＨ）_４、Ｌｉ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６、およびＮａ_２Ｓｎ（ＯＨ）_６である。更なる典型的で好適な水酸化物は、少なくとも、Ｃｏ（ＯＨ）_２、Ｚｎ（ＯＨ）_２、Ｎｉ（ＯＨ）_２、その他の遷移金属水酸化物、Ｃｄ（ＯＨ）_２、Ｓｎ（ＯＨ）_２、およびＰｂ（ＯＨ）の中の１つである。好適で典型的な過酸化物は、Ｈ_２Ｏ_２、有機化合物の過酸化物、Ｍがアルカリ金属であるＭ_２Ｏ_２、Ｌｉ_２Ｏ_２、Ｎａ_２Ｏ_２、Ｋ_２Ｏ_２等の過酸化物、Ｃａ、Ｓｒ、またはＢａ過酸化物等のアルカリ土類過酸化物等のその他のイオン性過酸化物、ランタニド等のその他の陽性金属のイオン性過酸化物、およびＺｎ、Ｃｄ、およびＨｇ等の共有結合性金属過酸化物である。好適で典型的な超酸化物は、Ｍがアルカリ金属であるＭＯ_２、ＮａＯ_２、ＫＯ_２、ＲｂＯ_２、およびＣｓＯ_２の超酸化物ならびに、アルカリ土類金属超酸化物である。

他の実施形態では、前記酸素源は気体であるか、または容易にＮＯ_２、ＮＯ、Ｎ_２Ｏ、ＣＯ_２、Ｐ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５、およびＳＯ_２等のガスを形成する。Ｃ、Ｎ、ＮＨ_３、Ｐ、またはＳ等のＨ_２Ｏ形成からの還元酸化物はＭｉｌｌｓの先行出願で示されているように、酸素との燃焼によってもう一度、酸化物に、または酸化物源に戻すこともできる。前記セルは加熱用途に使用することができる過剰な熱を生成しても良いし、前記熱はランキンまたはブレイトンシステムなどの手段によって電気に変換しても良い。または、前記セルは分子ハイドリノ、ハイドリノ水素化物イオンおよび対応の化合物等の低エネルギー水素種を合成するために使用しても良い。

１つの実施例において、エネルギーの生成及びより低いエネルギーの水素種及び化合物の生成の少なくとも１つのため、ハイドリノを形成するための反応混合物は、Ｈ_２Ｏ触媒のような本開示のそれらのようなＨ及びＯの少なくとも１つを含む触媒の源及び原子状水素の源を含む。反応混合物は、更に、Ｈ_２ＳＯ_３，Ｈ_２ＳＯ_４，Ｈ_２ＣＯ_３，ＨＮＯ_２，ＨＮＯ_３，ＨＣｌＯ_４，Ｈ_３ＰＯ_３，及びＨ_３ＰＯ_４のような酸、又は、酸無水物又は無水の酸のような酸の源を含んでよい。後者は、ＳＯ_２，ＳＯ_３，ＣＯ_２，ＮＯ_２，Ｎ_２Ｏ_３，Ｎ_２Ｏ_５，Ｃｌ_２Ｏ_７，ＰＯ_２，Ｐ_２Ｏ_３，及びＰ_２Ｏ_５の群の少なくとも１つを含んでよい。反応混合物は、Ｍ_２Ｏ（Ｍ＝アルカリ），Ｍ’Ｏ（Ｍ’＝アルカリ土類），ＺｎＯ、又は、他の遷移金属酸化物、ＣｄＯ，ＣｏＯ，ＳｎＯ，ＡｇＯ，ＨｇＯ，又はＡｌ_２Ｏ_３のような塩基性無水物及び塩基の少なくとも１つを含んでよい。更に典型的な無水物は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｗ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｉｎ，及びＰｂのようなＨ_２Ｏに安定な金属を含む。無水物は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属であってよく、そして、水和された化合物は水酸化物を含んでよい。反応混合物は、ＦｅＯＯＨ，ＮｉＯＯＨ，又はＣｏＯＯＨのようなオキシ水酸化物を含んでよい。反応混合物は、Ｈ_２Ｏ及びＨ_２Ｏの源の少なくとも１つを含んでよい。そのＨ_２Ｏは、原子状の水素の存在下で、水和及び脱水反応により可逆的に形成されてよい。Ｈ_２Ｏ触媒を形成する典型的な反応は次のとおりである。
Ｍｇ（ＯＨ）_２ → ＭｇＯ＋Ｈ_２Ｏ（２５４）
２ＬｉＯＨ → Ｌｉ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ（２５５）
Ｈ_２ＣＯ_３ → ＣＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２５６）
２ＦｅＯＯＨ → Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｈ_２Ｏ（２５７）

一実施形態において、Ｈ_２Ｏ触媒は、［Ｐ_ｎＯ_３ｎ＋１］^{（ｎ＋２）−}のようなポリリン酸塩、［（ＰＯ_３）_ｎ］^ｎ−のような長鎖メタリン、ｎ≧３である［（ＰＯ_３）_ｎ］^ｎ−のような環状メタリン酸塩、およびＰ_４Ｏ_１０のような超リン酸塩の中の少なくとも１つの縮合リン酸塩を形成するために、リン酸塩、リン酸水素、およびリン酸二水素等のリン酸塩の塩等のリン酸塩、アルカリ、アルカリ土類金属、遷移、内部遷移、および希土類金属を含むカチオンのリン酸塩、ならびに、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、およびＴｅとその混合物等の他の金蔵および半金属のリン酸塩を含む少なくとも１つの化合物の脱水によって形成される。典型的な反応は次の通りである。

脱水反応の反応物は、Ａｌ（ＯＨ）_３，及びＡｌ_２Ｏ_３の少なくとも１つを含んでよいＲ−Ｎｉを含んでよい。反応物は、更に、内在する水素だけでなく、Ｈ_２のような水素の源及びアルカリ水酸化物のような本開示のそれらのような金属水酸化物、金属水素化物ＭＨ、アルカリ金属のような本開示のそれらのような金属Ｍを含んでよい。典型的な反応は次の通りである。
２Ａｌ（ＯＨ）_３ ^＋ → Ａｌ_２Ｏ_３＋３Ｈ_２Ｏ（２６０）
Ａｌ_２Ｏ_３＋２ＮａＯＨ → ２ＮａＡｌＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２６１）
３ＭＨ＋Ａｌ（ＯＨ）_３ ^＋ → Ｍ_３Ａｌ＋３Ｈ_２Ｏ（２６２）
反応生成物は合金を含んでよい。Ｒ−Ｎｉは、再水和によって再生されてよい。Ｈ_２Ｏ触媒を形成する脱水反応及び反応混合物は、次の典型的な反応において与えられるような本開示のそれらのようなオキシ水酸化物を包含し及び含んでよい。
３Ｃｏ（ＯＨ）_２ → ２ＣｏＯＯＨ＋Ｃｏ＋２Ｈ_２Ｏ（２６３）
前記原子状水素は解離によってＨ_２ガスから形成しても良い。前記水素解離子は、Ｎｉ、または、Ｐｔ、または、Ｐｄ、または炭素、またはＡｌ_２Ｏ_３等の支持体上のＲ−Ｎｉ、または貴金属、または遷移金属等の本開示の中の１つでも良い。または、前記原子状水素は本開示の膜を通してのＨの透過からであっても良い。一実施形態において、前記セルは、一方でＨ_２Ｏの拡散を防止しながら、選択的にＨ_２の拡散を可能にするセラミック膜等の膜を含む。一実施形態において、Ｈ_２および原子状水素の中の１つは、Ｈ_２Ｏを含む水溶性、または溶融電解質等の水素源を含む電解質の電解によって前記セルに供給される。一実施形態において、Ｈ_２Ｏ触媒は無水形態への酸または塩基の脱水によって可逆的に形成される。一実施形態において、Ｈ_２Ｏ触媒およびハイドリノを形成するための反応は、前記セルのｐＨ、活性、温度、および、圧力（温度を変えること変えられる圧力）の中の少なくとも１つを変えることで伝搬される。酸、塩基、または酸無水物などの化学種の活性は、当業者が周知の塩を添加して変更しても良い。一実施形態において、前記反応混合物はハイドリノを形成するための反応に対するＨ_２または、酸無水物ガス等のガス源である炭素等の物質を含んでも良い。前記反応体は任意で所望の濃度および比率であって良い。前記反応混合物は溶融性であっても、水溶性のスラリーを含んでも良い。

もう一つの実施形態において、前記Ｈ_２Ｏ触媒源は、少なくともハロゲン化水素酸、硫酸、硝酸および亜硝酸の中の１つの酸と塩基のような、酸と塩基の反応である。他の好適な反応体はＨ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ、ＨＸ（Ｘ−ハロゲン化合物）、Ｈ_３ＰＯ_４、ＨＣｌＯ_４、ＨＮＯ_３、ＨＮＯ、ＨＮＯ_２、Ｈ_２Ｓ、Ｈ_２ＣＯ_３、Ｈ_２ＭｏＯ_４、ＨＮｂＯ_３、Ｈ_２Ｂ_４Ｏ_７（Ｍ四ホウ酸）、ＨＢＯ_２、Ｈ_２ＷＯ_４、Ｈ_２ＣｒＯ_４、Ｈ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｈ_２ＴｉＯ_３、ＨＺｒＯ_３、ＭＡｌＯ_２、ＨＭｎ_２Ｏ_４、ＨＩＯ_３、ＨＩＯ_４、ＨＣｌＯ_４、またはギ酸または酢酸等の有機酸の水溶液である。好適で典型的な塩基は、水酸化物、オキシ水酸化物、またはアルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、またはＰｂを含む酸化物である。

１つの実施例において、反応物は、それぞれ、酸のアニオン及び塩基性無水物のカチオン又は酸性無水物のアニオン及び塩基のカチオンの化合物とＨ_２Ｏ触媒とを形成するように、それぞれに、酸性の無水物又は塩基性の無水物と反応する塩基又は酸を含んでよい。塩基ＮａＯＨと酸性の無水物ＳｉＯ_２の典型的な反応は次のとおりである。
４ＮａＯＨ＋ＳｉＯ_２ → Ｎａ_４ＳｉＯ_４＋２Ｈ_２Ｏ（２６４）
ここで、対応する酸の脱水反応は次のとおりである。
Ｈ_４ＳｉＯ_４ → ２Ｈ_２Ｏ＋ＳｉＯ_２（２６５）
他の好適な典型的な無水物は、Ｍｏ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｔａ，Ｖ，Ｂ，Ｎｂ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｗ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｈｆ，Ｃｏ，及びＭｇの群から１つのような、元素、金属、合金、又は混合物を含んでよい。対応する酸化物は、ＭｏＯ_２，ＴｉＯ_２，ＺｒＯ_２，ＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，ＮｉＯ，Ｎｉ_２Ｏ_３，ＦｅＯ，Ｆｅ_２Ｏ_３，ＴａＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５，ＶＯ，ＶＯ_２，Ｖ_２Ｏ_３，Ｖ_２Ｏ_５，Ｂ_２Ｏ_３，ＮｂＯ，ＮｂＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５，ＳｅＯ_２，ＳｅＯ_３，ＴｅＯ_２，ＴｅＯ_３，ＷＯ_２，ＷＯ_３，Ｃｒ_３Ｏ_４，Ｃｒ_２Ｏ_３，ＣｒＯ_２，ＣｒＯ_３，ＭｎＯ，Ｍｎ_３Ｏ_４，Ｍｎ_２Ｏ_３，ＭｎＯ_２，Ｍｎ_２Ｏ_７，ＨｆＯ_２，Ｃｏ_２Ｏ_３，ＣｏＯ，Ｃｏ_３Ｏ_４，Ｃｏ_２Ｏ_３，及びＭｇＯの少なくとも１つを含んでよい。典型的な実施例において、塩基は、Ｌｉ_２Ｏ，及びＨ２ＯのようなＭ_２Ｏのような対応する塩基性の酸化物を形成するかもしれないＬｉＯＨのようなＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）のようなアルカリ水酸化物のような水酸化物を含む。その塩基性の酸化物は、生成酸化物を形成する無水酸化物と反応してよい。Ｈ_２Ｏの放出を伴う無水の酸化物とＬｉＯＨの１つの典型な反応において、生成酸化物化合物は、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３又はＬｉ_２ＭｏＯ_４，Ｌｉ_２ＴｉＯ_３，Ｌｉ_２ＺｒＯ_３，Ｌｉ_２ＳｉＯ_３，ＬｉＡｌＯ_２，ＬｉＮｉＯ_２，ＬｉＦｅＯ_２，ＬｉＴａＯ_３，ＬｉＶＯ_３，Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７，Ｌｉ_２ＮｂＯ_３，Ｌｉ_２ＳｅＯ_３，Ｌｉ_２ＳｅＯ_４，Ｌｉ_２ＴｅＯ_３，Ｌｉ_２ＴｅＯ_４，Ｌｉ_２ＷＯ_４，Ｌｉ_２ＣｒＯ_４，Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，Ｌｉ_２ＭｎＯ_４，Ｌｉ_２ＨｆＯ_３，ＬｉＣｏＯ_２，及びＭｇＯを含んでよい。他の好適な典型的な酸化物は、Ａｓ_２Ｏ_３，Ａｓ_２Ｏ_５，Ｓｂ_２Ｏ_３，Ｓｂ_２Ｏ_４，Ｓｂ_２Ｏ_５，Ｂｉ_２Ｏ_３，ＳＯ_２，ＳＯ_３，ＣＯ_２，ＮＯ_２，Ｎ_２Ｏ_３，Ｎ_２Ｏ_５，Ｃｌ_２Ｏ_７，ＰＯ_２，Ｐ_２Ｏ_３，及びＰ_２Ｏ_５，並びに当該技術分野における当業者に知られている他の類似の酸化物の群からの少なくとも１つである。もう１つの例は、式（２５７）によって与えられる。金属酸化物の好適な反応は次のとおりである。
２ＬｉＯＨ＋ＮｉＯ → Ｌｉ_２ＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２６６）
３ＬｉＯＨ＋ＮｉＯ → ＬｉＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２
（２６７）
４ＬｉＯＨ＋Ｎｉ_２Ｏ_３ → ２Ｌｉ_２ＮｉＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２
（２６８）
２ＬｉＯＨ＋Ｎｉ_２Ｏ_３ → ２ＬｉＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２６９）
Ｆｅ、Ｃｒ、およびＴｉ等の他の遷移金属、内部遷移、希土類金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、およびＴｅ等の他の金属と半金属をＮｉに代えても良く、Ｌｉ、Ｎａ、Ｒｂ、およびＣｓ等の他のアルカリ金属をＫに代えても良い。前記反応はさらに、水素ガス等の水素源やＰｄ／Ａｌ_２Ｏ_３等の解離子を含む。前記水素は軽水素、重水素、トリチウムまたはこれらの組み合わせのどれでも良い。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための前記反応は、水を形成するための２つの水酸化物の反応を含んでも良い。前記水酸化物のカチオンはアルカリ金属水酸化物と遷移金属またはアルカリ土類水酸化物との反応とは異なる酸化状態であっても良い。反応混合物及び反応は、次のような典型的な反応において与えられるように源からのＨ_２を更に包含し含んでよい。
ＬｉＯＨ＋２Ｃｏ（ＯＨ）_２＋１／２Ｈ_２ → ＬｉＣｏＯ_２＋３Ｈ_２Ｏ＋Ｃｏ
（２７０）
反応混合物及び反応は、更に、次の典型的な反応において与えられるようにアルカリ又はアルカリ土類金属のような金属Ｍを包含し、かつ、含んでよい。
Ｍ＋ＬｉＯＨ＋Ｃｏ（ＯＨ）_２ → ＬｉＣｏＯ_２＋Ｈ_２Ｏ＋ＭＨ（２７１）
１つの実施例において、反応混合物は、金属酸化物のＦｅのような金属がハイドリノを形成するためにＨと反応する触媒として機能するＨ_２Ｏを形成する反応の間に酸化−還元反応を経るように複数の酸化状態を持つことができるところ、Ｈの源及びオプションとしてＨのもう１つの源として機能してよい金属酸化物及び水酸化物を含む。１つの例は、ＦｅＯであるが、ここで、触媒を形成する反応の間にＦｅ^２＋がＦｅ^３＋へと酸化を経ることができる。典型的な反応は、次のとおりである。
ＦｅＯ＋３ＬｉＯＨ → Ｈ_２Ｏ＋ＬｉＦｅＯ_２＋Ｈ（１／ｐ）＋Ｌｉ_２Ｏ
（２７２）
１つの実施例において、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，又はＭｎのような金属原子がもう１つの可能性のある酸化の状態よりも高い酸化の状態にあってよいところ、金属酸化物、水酸化物、又はオキシ水酸化物のゆな少なくとも１つの反応物は、酸化剤として、機能する。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための金属酸化物、水酸化物、又はオキシ水酸化物の典型的な反応は以下のとおりである。
２ＫＯＨ＋ＮｉＯ → Ｋ_２ＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２７３）
３ＫＯＨ＋ＮｉＯ → ＫＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２（２７４）
２ＫＯＨ＋Ｎｉ_２Ｏ_３ → ２ＫＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２７５）
４ＫＯＨ＋Ｎｉ_２Ｏ_３ → ２Ｋ_２ＮｉＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋１／２Ｏ_２（２７６）
２ＫＯＨ＋Ｎｉ（ＯＨ）_２ → Ｋ_２ＮｉＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ（２７７）
３ＫＯＨ＋Ｎｉ（ＯＨ）_２ → ＫＮｉＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋１／２Ｈ_２
（２７８）
２ＫＯＨ＋２ＮｉＯＯＨ → Ｋ_２ＮｉＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋ＮｉＯ＋１／２Ｏ_２
（２７９）
ＫＯＨ＋ＮｉＯＯＨ → ＫＮｉＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２８０）
２ＮａＯＨ＋Ｆｅ_２Ｏ_３ → ２ＮａＦｅＯ_２＋Ｈ_２Ｏ（２８１）
Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｒ，及びＴｉのような他の遷移金属、内部遷移金属、及び希土類金属、並びに、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，及びＴｅのような他の金属又は半金属は、Ｎｉ又はＦｅを置換してよく、そして、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，及びＣｓのような他のアルカリ金属はＫ又はＮａを置換してよい。１つの実施例において、反応混合物は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｗ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｒ，及びＩｎのようなＨ_２Ｏに安定な金属の水酸化物及び酸化物の少なくとも１つを含む。追加的に、反応混合物は、Ｈ_２ガスのような水素の源、及び、オプションとして、支持体の上にある貴金属のような解離剤を含む。

酸性のＨＣｌと塩基性の無水物ＮｉＯの典型的な反応は次のとおりである。
２ＨＣｌ＋ＮｉＯ → Ｈ_２Ｏ＋ＮｉＣｌ_２（２８２）
ここで、対応する塩基の脱水反応は次のとおりである。
Ｎｉ（ＯＨ）_２ → Ｈ_２Ｏ＋ＮｉＯ（２８３）
反応物は、ルイス酸又は塩基及びブレンステッド−ローリーの酸又は塩基の少なくとも１つを含んでよい。反応混合物及び反応は、酸が次の典型的な反応において与えられるように水を形成するために酸素を含む化合物と反応するところ、酸素を含む化合物を更に包含し、且つ、含んでよい。
２ＨＸ＋ＰＯＸ_３ → Ｈ_２Ｏ＋ＰＸ_５（２８４）
（Ｘ＝ハロゲン）。ＰＯＸ_３として類似の化合物は、ＳがＰを置換するそれらのように好適である。他の好適な典型的な無水物は、Ｍｏ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｔａ，Ｖ，Ｂ，Ｎｂ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｗ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｈｆ，Ｃｏ，及びＭｇの群からの１つのような、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、又は希土類金属、或いは、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，又はＰｂを含む水酸化物、オキシ水酸化物、又は酸化物のような酸において溶解できる元素、金属、又は混合物の酸化物を含んでよい。対応する酸化物は、ＭｏＯ_２，ＴｉＯ_２，ＺｒＯ_２，ＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，ＮｉＯ，ＦｅＯｏｒＦｅ_２Ｏ_３，ＴａＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５，ＶＯ，ＶＯ_２，Ｖ_２Ｏ_３，Ｖ_２Ｏ_５，Ｂ_２Ｏ_３，ＮｂＯ，ＮｂＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５，ＳｅＯ_２，ＳｅＯ_３，ＴｅＯ_２，ＴｅＯ_３，ＷＯ_２，ＷＯ_３，Ｃｒ_３Ｏ_４，Ｃｒ_２Ｏ_３，ＣｒＯ_２，ＣｒＯ_３，ＭｎＯ，Ｍｎ_３Ｏ_４，Ｍｎ_２Ｏ_３，ＭｎＯ_２，Ｍｎ_２Ｏ_７，ＨｆＯ_２，Ｃｏ_２Ｏ_３，ＣｏＯ，Ｃｏ_３Ｏ_４，Ｃｏ_２Ｏ_３，及びＭｇＯを含んでよい。他の好適な典型的な酸化物は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｗ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｉｎ，及びＰｂの群のそれらのものである。１つの典型的な実施例において、酸は、ハロゲン化水素酸を含み、そして、生成物はＨ_２Ｏ及びその酸化物の金属ハロゲン化物である。反応混合物は、Ｈ及びＨ_２Ｏ触媒がハイドリノを形成するように反応するところ、Ｐｔ／Ｃのような解離剤及びＨ_２ガスのような水素の源を更に含む。

１つの実施例において、固体燃料は、Ｈ_２Ｏへと還元される水酸化物又は酸化物を含むＨ_２Ｏ触媒の源及びＰｔ／Ｃのような解離剤及びＨ_２ガス又は透過膜のようなＨ_２の源を含む。金属の酸化物又は水酸化物は、Ｈの源として機能する金属水素化物を形成してよい。ＬｉＯＨ及びＬｉ_２Ｏのようなアルカリ水酸化物及び酸化物の典型的な反応は次のとおりである。
ＬｉＯＨ＋Ｈ_２ → Ｈ_２Ｏ＋ＬｉＨ（２８５）
Ｌｉ_２Ｏ＋Ｈ_２ → ＬｉＯＨ＋ＬｉＨ（２８６）
反応混合物は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｃｏ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ａｕ，Ｉｒ，Ｆｅ，Ｈｇ，Ｍｏ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｅ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｓｅ，Ａｇ，Ｔｃ，Ｔｅ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｗ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｉｎのそれらのような水素還元を受けてＨ_２Ｏになる金属の水酸化物又は酸化物、及び、Ｈ_２ガスのような水素の源、及びＰｔ／Ｃのような解離剤を含んでよい。

もう一つの実施形態において、前記反応混合物はＨ_２ガス等のＨ_２源、Ｐｔ／Ｃ等の解離子、Ｈ_２Ｏ触媒を分解するＨ_２Ｏ_２等の過酸化物化合物、およびＯ_２．等の酸素を含むその他の生成物を含む。前記Ｈ_２およびＯ_２等の分解生成物も反応してＨ_２Ｏ触媒を形成しても良い。

一実施形態において、前記触媒としてのＨ_２Ｏを形成するための反応は、多価アルコール等のアルコールと砂糖のアルデヒドやＨ_２Ｏに対する有機脱水反応を含む。一実施形態において、前記脱水反応はアルデヒドを形成するために末端アルコールからＨ_２Ｏを放出することを含む。前記末端アルコールは、触媒として機能できるＨ_２Ｏを放出する砂糖または、砂糖誘導体を含んでも良い。好適で典型的なアルコールは、メソ・エリスリトール、ガラクチトールまたは、ズルシトール、およびポリビニルアルコール（ＰＶＡ）である。典型的な反応混合物は、砂糖とＰｄ／Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｈ_２等の水素解離子を含む。或いは、前記反応は、少なくとも１つの水和水を持つ脱水等の金属塩の脱水を含む。一実施形態において、前記脱水は、アコイオンとＢａＩ_２２Ｈ_２ＯおよびＥｕＢｒ_２ｎＨ_２Ｏ等の塩水和物等の水和物から、前記触媒として機能するためのＨ_２Ｏの喪失を含む。

一実施形態において、Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための前記反応は、ＣＯ等の酸素、ＭＮＯ_３（Ｍ＝アルカリ）等のオキシアニオン、ＮｉＯ、Ｎｉ_２Ｏ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、またはＳｎＯ等の金属酸化物、Ｃｏ（ＯＨ）_２等の水酸化物、ＦｅＯＯＨ、ＣｏＯＯＨ、およびＮｉＯＯＨ等のオキシ水酸化物、化合物、オキシアニオン、酸化物、水酸化物、オキシ水酸化物、過酸化物、超酸化物、ならびに、本開示の酸やＨ_２Ｏに還元可能な水素を含むその他の重要な成分を含む。酸素またはオキシアニオンを含む典型的な化合物は、ＳＯＣｌ_２、Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３、ＮａＭｎＯ_４、ＰＯＢｒ_３、Ｋ_２Ｓ_２Ｏ_８、ＣＯ、ＣＯ_２、ＮＯ、ＮＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５、Ｎ_２Ｏ_５、Ｎ_２Ｏ、ＳＯ_２、Ｉ_２Ｏ_５、ＮａＣｌＯ_２、ＮａＣｌＯ、Ｋ_２ＳＯ_４、およびＫＨＳＯ_４である。水素還元用の水素源は、Ｈ_２ガス、および本開示の金属水素化物等の水素化物の中の１つで良い。前記反応混合物はさらに、化合物または酸素含有イオンを形成できる還元体を含んでも良い。前記オキシアニオンのカチオンは、ハロゲン化合物等の他のアニオン、他のカルコゲナイド、リン、別のオキシアニオン、窒化物、シリサイド、砒素、または本開示の別のアニオンを含む生成物を形成しても良い。典型的な反応は次の通りである。
４ＮａＮＯ_３（ｃ）＋５ＭｇＨ_２（ｃ） →
５ＭｇＯ（ｃ）＋４ＮａＯＨ（ｃ）＋３Ｈ_２Ｏ（ｌ）＋２Ｎ_２（ｇ）
（２８７）
Ｐ_２Ｏ_５（ｃ）＋６ＮａＨ（ｃ） →
２Ｎａ_３ＰＯ_４（ｃ）＋３Ｈ_２Ｏ（ｇ）（２８８）
ＮａＣｌＯ_４（ｃ）＋２ＭｇＨ_２（ｃ） →
２ＭｇＯ（ｃ）＋ＮａＣｌ（ｃ）＋２Ｈ_２Ｏ（ｌ）（２８９）
ＫＨＳＯ_４＋４Ｈ_２ → ＫＨＳ＋４Ｈ_２Ｏ（２９０）
Ｋ_２ＳＯ_４＋４Ｈ_２ → ２ＫＯＨ＋２Ｈ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｓ（２９１）
ＬｉＮＯ_３＋４Ｈ_２ → ＬｉＮＨ_２＋３Ｈ_２Ｏ（２９２）
ＧｅＯ_２＋２Ｈ_２ → Ｇｅ＋２Ｈ_２Ｏ（２９３）
ＣＯ_２＋Ｈ_２ → Ｃ＋２Ｈ_２Ｏ（２９４）
ＰｂＯ_２＋２Ｈ_２ → ２Ｈ_２Ｏ＋Ｐｂ（２９５）
Ｖ_２Ｏ_５＋５Ｈ_２ → ２Ｖ＋５Ｈ_２Ｏ（２９６）
Ｃｏ（ＯＨ）_２＋Ｈ_２ → Ｃｏ＋２Ｈ_２Ｏ（２９７）
Ｆｅ_２Ｏ_３＋３Ｈ_２ → ２Ｆｅ＋３Ｈ_２Ｏ（２９８）
３Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｈ_２ → ２Ｆｅ_３Ｏ_４＋Ｈ_２Ｏ（２９９）
Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｈ_２ → ２ＦｅＯ＋Ｈ_２Ｏ（３００）
Ｎｉ_２Ｏ_３＋３Ｈ_２ → ２Ｎｉ＋３Ｈ_２Ｏ（３０１）
３Ｎｉ_２Ｏ_３＋Ｈ_２ → ２Ｎｉ_３Ｏ_４＋Ｈ_２Ｏ（３０２）
Ｎｉ_２Ｏ_３＋Ｈ_２ → ２ＮｉＯ＋Ｈ_２Ｏ（３０３）
３ＦｅＯＯＨ＋１／２Ｈ_２ → Ｆｅ_３Ｏ_４＋２Ｈ_２Ｏ（３０４）
３ＮｉＯＯＨ＋１／２Ｈ_２ → Ｎｉ_３Ｏ_４＋２Ｈ_２Ｏ（３０５）
３ＣｏＯＯＨ＋１／２Ｈ_２ → Ｃｏ_３Ｏ_４＋２Ｈ_２Ｏ（３０６）
ＦｅＯＯＨ＋１／２Ｈ_２ → ＦｅＯ＋Ｈ_２Ｏ（３０７）
ＮｉＯＯＨ＋１／２Ｈ_２ → ＮｉＯ＋Ｈ_２Ｏ（３０８）
ＣｏＯＯＨ＋１／２Ｈ_２ → ＣｏＯ＋Ｈ_２Ｏ（３０９）
ＳｎＯ＋Ｈ_２ → Ｓｎ＋Ｈ_２Ｏ（３１０）

反応混合物は、酸素を含む化合物のような酸素又は酸素の源及びアニオン又はアニオンの源を含んでよい。ここで、Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応は、Ｈ_２Ｏを形成するために酸素と反応する源からのＨ_２とのことをオプションとする、アニオン−酸素交換反応を含む。典型的な反応は次の通りである。
２ＮａＯＨ＋Ｈ_２＋Ｓ → Ｎａ_２Ｓ＋２Ｈ_２Ｏ（３１１）
２ＮａＯＨ＋Ｈ_２＋Ｔｅ → Ｎａ_２Ｔｅ＋２Ｈ_２Ｏ（３１２）
２ＮａＯＨ＋Ｈ_２＋Ｓｅ → Ｎａ_２Ｓｅ＋２Ｈ_２Ｏ（３１３）
ＬｉＯＨ＋ＮＨ_３ → ＬｉＮＨ_２＋Ｈ_２Ｏ（３１４）

１つの実施例において、反応混合物は、水素の源、酸素を含む化合物、及び、その反応混合物の他の少なくとも１つの元素との合金を形成することができる少なくとも１つの元素を含む。Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応は、酸素化合物のカチオンと合金を形成することができる元素と酸素とを含む化合物の酸素の交換反応を含んでよい。ここで、酸素は、Ｈ_２Ｏを形成するためにその源からの水素と反応する。典型的な反応は次の通りである。
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋Ｐｄ → ＮａＰｂ＋Ｈ_２Ｏ（３１５）
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋Ｂｉ → ＮａＢｉ＋Ｈ_２Ｏ（３１６）
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋２Ｃｄ → Ｃｄ_２Ｎａ＋Ｈ_２Ｏ（３１７）
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋４Ｇａ → Ｇａ_４Ｎａ＋Ｈ_２Ｏ（３１８）
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋Ｓｎ → ＮａＳｎ＋Ｈ_２Ｏ（３１９）
ＮａＡｌＨ_４＋Ａｌ（ＯＨ）_３＋５Ｎｉ →
ＮａＡｌＯ_２＋Ｎｉ_５Ａｌ＋Ｈ_２Ｏ＋５／２Ｈ_２（３２０）

１つの実施例において、反応混合物は、オキシ水酸化物のような酸素を含む化合物と、酸化物を形成する金属のような還元剤とを含む。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための反応は、金属酸化物及びＨ_２Ｏを形成する金属とオキシ水酸化物の反応を含んでよい。典型的な反応は次の通りである。
２ＭｎＯＯＨ＋Ｓｎ → ２ＭｎＯ＋ＳｎＯ＋Ｈ_２Ｏ（３２１）
４ＭｎＯＯＨ＋Ｓｎ → ４ＭｎＯ＋ＳｎＯ_２＋２Ｈ_２Ｏ（３２２）
２ＭｎＯＯＨ＋Ｚｎ → ２ＭｎＯ＋ＺｎＯ＋Ｈ_２Ｏ（３２３）

１つの実施例において、反応混合物は、水酸化物、水素の源、及びハロゲンのような異なるアニオン又はもう１つ別の元素を含む少なくとも１つの他の化合物を含む。Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応は、他の化合物又は元素とその水酸化物との反応を含んでよい。ここで、そのアニオン又は元素は、アニオン又は元素の別の化合物を形成するように水酸化物と交換され、Ｈ_２ＯはＨ_２との水酸化物との反応で形成される。アニオンは、ハロゲンを含んでよい。典型的な反応は次の通りである。
２ＮａＯＨ＋ＮｉＣｌ_２＋Ｈ_２ → ２ＮａＣｌ＋２Ｈ_２Ｏ＋Ｎｉ（３２４）
２ＮａＯＨ＋Ｉ_２＋Ｈ_２ → ２ＮａＩ＋２Ｈ_２Ｏ（３２５）
２ＮａＯＨ＋ＸｅＦ_２＋Ｈ_２ → ２ＮａＦ＋２Ｈ_２Ｏ＋Ｘｅ（３２６）
その水酸化物及びハロゲン化物化合物は、Ｈ_２Ｏを形成するような反応が熱的に可逆であるように、選択されてよい。１つの実施例において、一般的な交換反応は次のとおりである。
ＮａＯＨ＋１／２Ｈ_２＋１／ｙＭ_ｘＣｌ_ｙ＝ＮａＣｌ＋６Ｈ_２Ｏ＋ｘ／ｙＭ
（３２７）
ここで、典型的な化合物Ｍ_ｘＣｌ_ｙは、ＡｌＣｌ_３，ＢｅＣｌ_２，ＨｆＣｌ_４，ＫＡｇＣｌ_２，ＭｎＣｌ_２，ＮａＡｌＣｌ_４，ＳｃＣｌ_３，ＴｉＣｌ_２，ＴｉＣｌ_３，ＵＣｌ_３，ＵＣｌ_４，ＺｒＣｌ_４，ＥｕＣｌ_３，ＧｄＣｌ_３，ＭｇＣｌ_２，ＮｄＣｌ_３，及びＹＣｌ_３である。昇温された温度において、約１００℃から２０００℃の範囲内のように、式（３２７）の反応は、エンタルピー及び約０ｋＪの自由エネルギーの少なくとも１つを持ち、かつ、可逆的である。可逆温度は、各反応の対応する熱力学的なパラメータから計算される。代表的な温度範囲は、ＮａＣｌ−ＳｃＣｌ_３で約８００−９００Ｋ，ＮａＣｌ−ＴｉＣｌ_２で約３００−４００Ｋ，ＮａＣｌ−ＵＣｌ_３で約６００−８００Ｋ，ＮａＣｌ−ＵＣｌ_４で約２５０−３００Ｋ，ＮａＣｌ−ＺｒＣｌ_４で約２５０−３００Ｋ，ＮａＣｌ−ＭｇＣｌ_２で約９００−１３００Ｋ，ＮａＣｌ−ＥｕＣｌ_３で約９００−１０００Ｋ，ＮａＣｌ−ＮｄＣｌ_３で約＞１０００Ｋ，及びＮａＣｌ−ＹＣｌ_３で約＞１０００Ｋである。

１つの実施例において、反応混合物は、金属酸化物のような酸化物であり、それは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属、及び希土類金属の酸化物及び、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，ａｎｄＴｅのような金属及び半金属酸化物のそれらを含む。ここで、Ｍは、Ｌｉ_２Ｏ_２，Ｎａ_２Ｏ_２，及びＫ_２Ｏ_２，のようなアルカリ金属及びアルカリ土類金属スーパーオキシドであり、水素の源である。イオン性の過酸化物は、更に、Ｃａ，Ｓｒ，又はＢａのそれらを含んでよい。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための反応は、Ｈ_２Ｏを形成するように、酸化物、過酸化物、スーパーオキシドの水素還元を含んでよい。典型的な反応は次の通りである。
Ｎａ_２Ｏ＋２Ｈ_２ → ２ＮａＨ＋Ｈ_２Ｏ（３２８）
Ｌｉ_２Ｏ_２＋Ｈ_２ → Ｌｉ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ（３２９）
ＫＯ_２＋３／２Ｈ_２ → ＫＯＨ＋Ｈ_２Ｏ（３３０）

１つの実施例において、反応混合物は、Ｈ_２、アルカリ、アルカリ土類、遷移、内部遷移、及び希土類金属水素化物のような水素化物及び本開示のそれら及び水素の源又は金属アミドのような可燃性の水素を含む他の化合物の少なくとも１つのような水素の源と、Ｏ_２のような酸素の源と、を含む。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための反応は、Ｈ_２Ｏを形成するために、Ｈ_２，水素化物，又は金属アミドのような水素化合物の酸化を含んでよい。典型的な反応は次の通りである。
２ＮａＨ＋Ｏ_２ → Ｎａ_２Ｏ＋Ｈ_２Ｏ（３３１）
Ｈ_２＋１／２Ｏ_２ → Ｈ_２Ｏ（３３２）
ＬｉＮＨ_２＋２Ｏ_２ → ＬｉＮＯ_３＋Ｈ_２Ｏ（３３３）
２ＬｉＮＨ_２＋３／２Ｏ_２ → ２ＬｉＯＨ＋Ｈ_２Ｏ＋Ｎ_２（３３４）

１つの実施例において、反応混合物は、水素の源と酸素の源とを含む。Ｈ_２Ｏ触媒を形成するための反応は、Ｈ_２Ｏを形成するために、水素の源及び酸素の源の少なくとも１つの分解を含んでよい。典型的な反応は次の通りである。
ＮＨ_４ＮＯ_３ → Ｎ_２Ｏ＋２Ｈ_２Ｏ（３３５）
ＮＨ_４ＮＯ_３ → Ｎ_２＋１／２Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ（３３６）
Ｈ_２Ｏ_２ → １／２Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ（３３７）
Ｈ_２Ｏ_２＋Ｈ_２ → ２Ｈ_２Ｏ（３３８）

この「化学反応器セクション」で開示される反応混合物はさらに、ハイドリノを形成するための水素源を含む。前記源は、水素解離子、Ｈ_２ガス、金属水素化物、または、本開示の解離子や金属水素化物等の原子状水素源を含む。原子状水素を提供する水素源は、水酸化物またはオキシ水酸化物等の水素を含む化合物でも良い。ハイドリノを形成するために反応するＨは、水酸化物と酸化物の反応のような、少なくとも１つが水素源を含む１つ以上の反応体の反応によって形成される発生期のＨで良い。前記反応は又、Ｈ_２Ｏ触媒を形成しても良い。例えば、ＦｅＯＯＨのようなオキシ水酸化物は、Ｈ_２Ｏ触媒を提供するように脱水し得、また、脱水反応の間にハイドリノ反応のために発生期のＨを供給できる。
４ＦｅＯＯＨ → Ｈ_２Ｏ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋２ＦｅＯ＋Ｏ_２＋２Ｈ（１／４）
（３３９）
ここで、前記反応中に形成される発生期のＨはハイドリノに対して反応する。他の典型的な反応は、ＮａＦｅＯ_２＋Ｈ_２Ｏ等のアルカリ金属酸化物を形成するための水酸化物とオキシ水酸化物または、ＮａＯＨ＋ＦｅＯＯＨまたはＦｅ_２Ｏ_３等の酸化物の反応であり、ここで前記反応中に形成される発生期のＨはハイドリノを形成することが出来るが、この際、Ｈ_２Ｏが前記触媒として機能する。

一実施形態において、Ｈ_２Ｏは発生期のＨ_２Ｏを提供するために低濃度で維持される前記触媒として機能する。一実施形態において、前記低濃度は、固体、液体、または気体等の別の物質の中にＨ_２Ｏ分子を分散することで得る。前記Ｈ_２Ｏ分子は、分離された発生期分子の限界まで薄めても良い。前記物質は又Ｈ源を含む。前記物質はＫＣｌ、ハロゲン化カリウム、アルカリハロゲン化合物のようなイオン性化合物を含んでも良い。発生期のＨを形成するための前記低濃度は動的に得ても良く、そこではＨ_２Ｏは反応によって形成される。前記生成物Ｈ_２Ｏは、発生期のＨを提供するための安定した状態の低濃度の形成速度と相対的な速度で除去しても良い。Ｈ_２Ｏを形成するための反応は、脱水、燃焼、酸・塩基反応および、本開示の他の反応を含んでも良い。前記Ｈ_２Ｏは、蒸発や濃縮等の手段で除去しても良い。典型的な反応体は、鉄酸化物とＨ_２Ｏを形成するためのＦｅＯＯＨで、ここで発生期のＨもまたはイドリノを形成するための更なる反応によって形成される。他の典型的な反応混合物は、Ｆｅ_２Ｏ_３＋少なくともＮａＯＨとＨ_２の中の１つ、およびＦｅＯＯＨ＋少なくともＮａＯＨとＨ_２の中の１つである。前記反応混合物は、約１００℃から６００℃の範囲等の高温度で維持しても良い。Ｈ_２Ｏ生成物は１００℃以下で維持されるガスライン等の反応器の冷点の中での蒸気の濃縮によって除去しても良い。もう一つの実施形態において、格子に分散させたり、吸収されたりしたＨ_２Ｏ、イオン性化合物、アルカリハロゲン化合物、ハロゲン化カリウム、ＫＣｌ等の混合物、または化合物に含まれるもの、または一部を形成するものとしてＨ_２Ｏを含む物質は高エネルギー粒子との衝突であっても良い。前記粒子は、光子、イオン、および電子の中の少なくとも１つを含んでも良い。前記衝突は、Ｈ_２Ｏ触媒、Ｈ、およびハイドリノを形成するための反応の活性化の中の少なくとも１つを提供しても良い。

前記反応混合物は、導電性の高表面積支持体等の支持体を提供しても良い。好適で典型的な支持体は、ＮｉまたはＲ−Ｎｉ金属粉末、Ｎｉ、炭素、ＴｉＣやＷＣ等の炭化物、およびホウ化物等の金属スクリーン等の本開示の支持体である。前記支持体はＰｄ／ＣまたはＰｄ／Ｃ等の解離子を含んでも良い。反応体は任意で、所望のモル比で良い。一実施形態において、化学量論は、Ｈ_２Ｏ触媒を形成し、ハイドリノを形成するためにＨを提供するための反応完了を支持する。前記反応温度は約周囲温度から１５００℃までの範囲の中で任意で所望の範囲で良い。加圧範囲は、約０．０１トールから５００気圧までの範囲の任意で所望の範囲で良い。前記反応は、ここに開示されると共に本出願人が米国特許出願を行った（１）２００８年４月２４日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ０８／６１４５５「水素触媒反応器」、（２）２００９年７月２９日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ０９／０５２０７２「異種触媒反応器」、（３）２０１０年３月１８日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ１０／２７８２８「水素触媒パワーシステム」、（４）２０１１年３月１７日に提出されたＰＣＴ／ＵＳ１１／２８８８９「電気化学的水素触媒パワーシステム」に記載の再生法、または可逆法の中の少なくとも１つである。なお引用された全ての文献は、その全体が、本明細書に参考として組み込まれる。Ｈ_２Ｏを形成する反応は、Ｈ_２Ｏを消費する可逆反応を可能にするために、温度や圧力等の反応条件を変えることによる可逆性でも良く、当業者が周知するところである。例えば、前記のＨ_２Ｏ圧力は水分補給によって生成物を改質するために逆反応で増加させても良い。他の場合には、水素還元生成物は、酸素とＨ_２Ｏの中の少なくとも１つと反応させる酸化によって再生させても良い。一実施形態において、逆反応生成物は前記の可逆、または再生反応が実施されるように前記反応から除いても良い。前記逆反応は、少なくとも一つの逆反応生成物を除去することによって平衡熱力学が有利でなくなる場合にあっても、有利になる場合がある。一好適な実施形態において、前記の再生された反応体（逆、または再生反応生成物）は、アルカリ水酸化物等の水酸化物を含む。前記水酸化物は、溶媒和または昇華等の方法によって除去しても良い。後者の場合には、アルカリ水酸化物は約３５０−４００℃の範囲の温度で変質せず昇華する。前記反応は、本出願人の上記の米国特許出願のパワープラントシステムの中で維持することができる。電力を生成するセルからの熱エネルギーは、以前に開示したように再生されている少なくとも１つの別のセルに熱を供給しても良い。または、Ｈ_２Ｏ触媒を形成する反応と前記の逆再生反応との均衡は、以前に開示したように、前記セルの選択した領域で、冷却液による温度勾配を有する前記システム設計の水冷壁の温度を変えることでシフト可能である。

一実施形態において、低エネルギー水素種と化合物は、Ｈ_２Ｏ等の少なくともＨおよびＯの中の１つの触媒を用いて合成される。Ｍはアルカリであり、または対応する化学量論を有するアルカリ土類等の他の金属でも良く、Ｈがハイドリノ水素化物等のハイドリノであり、Ｘがハロゲン化合物等のアニオンである前記の典型的な低エネルギー水素化合物ＭＨＸを合成する前記反応混合物は、ＭとＸ源として、アルカリハロゲン化合物、ＫＣｌ、アルカリ金属等の金属還元剤、Ｎｉ、Ｎｉスクリーン、またはＲ−Ｎｉ、および炭素などの任意の支持体源としての水素解離子を含み、水素源として、ＭとＨ_２ガスに置換可能なＭＨ等の金属水素化物の中の少なくとも１つを含み、酸素源として、金属酸化物または酸素を含む化合物を含む。好適で典型的な金属酸化物は、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、およびＮｉＯである。前記反応温度は、約２００℃から１５００℃または、約４００℃から８００℃の範囲で維持することができる。前記反応体は任意の所望比で良い。ＫＨＣｌを形成するための反応混合物はＫ、Ｎｉスクリーン、ＫＣｌ、水素ガス、および少なくともＦｅ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、およびＮｉＯの中の１つを含んでも良い。典型的な重量と条件は、１．６ｇＫ、２０ｇＫＣｌ、４０ｇＮｉスクリーン、１．５ｇＦｅ_２Ｏ_３および１．５ｇＮｉＯ等の金属酸化物からのＫと同等の酸素モル比、１気圧Ｈ_２、および約５５０−６００℃の反応温度である。前記反応は前記金属酸化物からのＨとＯの反応によってＨ_２Ｏ触媒を形成し、Ｈは前記触媒と反応しハイドリノと生成物ＫＨＣｌを形成するハイドリノ水素化物イオンを形成する。ＫＨＩを形成するための前記反応混合物は、Ｋ、Ｒ−Ｎｉ、ＫＩ、水素ガス、および少なくともＦｅ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、およびＮｉＯの中の１つを含んでも良い。典型的な重量と条件は、１ｇＫ、２０ｇＫＩ、１５ｇＲ−Ｎｉ２８００、１ｇＦｅ_２Ｏ_３および１ｇＮｉＯ等の金属酸化物からのＫと同等の酸素モル比、１気圧Ｈ_２、および約４５０−５００℃の反応温度である。前記反応は前記金属酸化物からのＨとＯの反応によってＨ_２Ｏ触媒を形成し、Ｈは前記触媒と反応しハイドリノと生成物ＫＨＣｌを形成するハイドリノ水素化物イオンを形成する。一実施形態において、ＣＩＨＴセル、固体燃料、または化学セルの中の少なくとも１つの生成物はハイドリノ種およびカチオンを含む化合物であり、ここで、後者は前記ハイドリノ種のＮＭＲシフトを前記隔離されたハイドリノ種のダウンフィールドにする。前記カチオンのダウンシフトは＋１０ｐｐｍ以上のように大きくても良い。前記カチオンは２^＋アルカリカチオン等の異常な酸化状態にあっても良い。前記化合物はＭ^２＋（Ｍ＝アルカリ）といった通常、高度に荷電したカチオンと、少なくとも１つのＨ⁻（１／ｐ）、そしてさらに、ハロゲン化合物イオン等の別のアニオンを含んでも良い。１つの典型的な化合物は、Ｍがアルカリであり、Ｈはハイドリノ水素化物イオンであり、そしてＸはＮａＨＣｌ、ＫＨＣｌ、またはＫＨＩ等のハロゲン化合物イオンであるＭＨＸである。一実施形態において、前記化合物中における前記ハイドリノ水素化物イオンのＮＭＲシフトは、前記ハイドリノ水素化物イオンがＴＭＳに対して、Ｈ⁻（１／４）を含む、約−４ｐｐｍ＋／−２ｐｐｍの範囲で良い。もう一つの実施形態において、ハイドリノ原子、水素化物イオン、または分子等のハイドリノ種のＮａＯＨまたはＫＯＨ等の水酸化物等の固体マトリックスにおける存在は、前記マトリックスのプロトンをアップフィールドにシフトする。ＮａＯＨまたはＫＯＨ等の前記マトリックスのプロトンは変わっても良い。一実施形態において、前記のシフトによって、マトリックスのピークがＴＭＳに対して、約−０．１から−５ｐｐｍの範囲になるようにしても良い。

ＫまたはＬｉ等のアルカリ金属Ｍ、およびｎＨ（ｎ＝整数）、ＯＨ、Ｏ、２Ｏ、Ｏ_２、ならびにＨ_２Ｏの中の１つが前記触媒として機能する一実施形態において、前記Ｈ源は、少なくともＭＨ等の金属水素化物の１つであり、Ｈを形成するためのＨ源との、少なくとも金属Ｍおよび金属水素化物ＭＨの中の１つの反応である。１つの生成物は酸化物または水酸化物等の酸化したＭであっても良い。原子状水素および触媒の中の少なくとも１つを生成するための反応は電子移動反応、または酸化還元反応であっても良い。前記反応混合物はさらにＨ_２、本開示のＨ_２の解離子、Ｎｉスクリーン、またはＲ−Ｎｉ、およびこれらの解離子等の導電性支持体、他の支持体、ならびに炭素、炭化物、ホウ化物、および炭窒化物等、本開示の支持体を含んでも良い。Ｍ又はＭＨの典型的な酸化反応は次のとおりである。
４ＭＨ＋Ｆｅ_２Ｏ_３ →
＋Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）＋Ｍ_２Ｏ＋ＭＯＨ＋２Ｆｅ＋Ｍ（３４０）
前記反応混合物はさらに、塩等の化合物、ハロゲン化合物塩、アルカリハロゲン化合物塩、ＫＣｌまたはＫＩ等のハイドリノ用のゲッターを含んでも良い。前記生成物はＭＨＸ（Ｍ＝アルカリ等の金属、Ｘはハロゲン化合物等の対イオン、Ｈはハイドリノ種）であっても良い。他のハイドリノ触媒は本開示のＭや表１のＭと置き換わっても良い。

一実施形態において、前記酸素源は、前記酸素源化合物の還元生成物と水素の交換が最小限のエネルギーの放出で発生する水の生成熱に類似した生成熱を有する化合物である。好適で典型的な酸素源化合物はＣｄＯ、ＣｕＯ、ＺｎＯ、ＳＯ_２、ＳｅＯ_２、およびＴｅＯ_２である。金属酸化物等の他の化合物も又ＭｎＯ_ｘ、ＡｌＯ_ｘ、およびＳｉＯ_ｘ等のＨ_２Ｏ触媒源として脱水反応を受ける酸または塩基の水素化物でも良い。一実施形態において、酸化物層の酸素源は、金属水素化物や水素化パラジウム等の水素源をカバーしても良い。Ｈ_２Ｏ触媒と原子状水素を形成し、さらにハイドリノを形成するための反応は、金属酸化物被覆パラジウム水素化物などの酸化物被覆水素源を加熱することによって開始しても良い。前記放出の水素が選択的に、金属酸化物等の前記酸化層等の前記酸素源に移動できるように、前記水素化パラジウムを、金膜の層としての水素不透過層によって前記酸素源とは逆側上に被覆しても良い。一実施形態において、ハイドリノ触媒を形成するための反応と再生反応はそれぞれ、酸素源化合物と水素間、および水と前記還元酸素源化合物間の酸素交換を含む。好適な還元酸素源はＣｄ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓ、Ｓｅ、およびＴｅである。一実施形態において、前記酸素交換反応は、熱的に水素ガスを形成するのに使用されるものを含んでもよい。典型的な熱的方法は、酸化鉄サイクル、セリウム（ＩＶ）酸化物、セリウム（ＩＩＩ）酸化物サイクル、亜鉛酸化亜鉛サイクル、硫黄−ヨウ素サイクル、銅塩素サイクル、ハイブリッド硫黄サイクル、およびその他、当業者が周知のものである。一実施形態において、ハイドリノ触媒を形成するための反応と酸素交換反応等の再生反応は、同一の反応槽で同時に起こる。反応の同時性を達成するために、温度や圧力等の条件を制御しても良い。または、前記生成物を移動し、本開示およびＭｉｌｌｓの先行特許で示す電源生成反応とは異なる条件下で、他の反応槽で再生させても良い。

一実施形態において、ＬｉＮＨ_２等のアミドのＮＨ_２グループは、ポテンシャルエネルギーが、式（５）においてｍ＝３に相当する約８１．６ｅＶであることを特徴とする触媒として機能する。酸または塩基と水素化物の間の可逆的なＨ_２Ｏ除去、または付加反応、またはその逆の反応と同様に、前記アミドとイミド、または窒化物との間の可逆反応はハイドリノを形成するために原子状水素とさらに反応するＮＨ_２触媒の形成につながる。アミドとイミドおよび窒化物の中の少なくとも１つとの間の可逆反応は、原子状水素等の水素源として機能しても良い。

ハイドリノガスは、膜を通して拡散し、溶媒中に溶解すると、ハイドリノ水素化物を形成するために反応しても良い。前記生成物Ｈ_２（１／ｐ）は、ガスを放出する前記生成物を加熱することで分離しても良い。ハイドリノガス源が結晶源を含む場合、ハイドリノガス源はＨ_２Ｏ等の好適な溶媒中に溶解しても良い。前記の放出されるガスは、Ｈ_２Ｏ等の前記溶媒がガス回収ラインのプリトラップで除去されることを特徴とする、液体Ｈｅトラップ等のクライオトラップで捕捉しても良い。前記アノードがハイドリノガスを吸収するので、前記アノードは化学的消化、または加熱によって加速することができるガス放出によって、ハイドリノガス源として機能しても良い。前記消化はアノードと酸との反応を含んでも良い。いくつかの物質は、生産中における取り込み、または自然に豊富なガスを捕捉することで、捕捉されたハイドリノガスを含んでも良い。例はＫＯＨとＫ_２ＣＯ_３である。一実施形態において、ハイドリノガスＨ_２（１／ｐ）を、ハイドリノガスに対して高い溶解度を有する溶媒中で捕捉して、分離し精製しても良い。好適な溶媒は、本明細書に参考として全体を援用する文献「Ｃ．Ｌ．Ｙｏｕｎｇ、Ｅｄｉｔｏｒ、ＳｏｌｕｂｉｌｉｔｙＤａｔａＳｅｒｉｅｓＨｙｄｒｏｇｅｎａｎｄＤｅｕｔｅｒｉｕｍ、Ｖｏｌ．５／６、ＩＵＰＡＣ、ＰｅｒｇａｍｏｎＰｒｅｓｓ、Ｏｘｆｏｒｄ１９８１」で周知のヘキサンまたはパーフルオロヘキサン等のＨ_２に対して高い溶解性を有しても良い。

一実施形態において、ＫＣｌ等の結晶性化合物のような物質の合成物はＨ_２（１／ｐ）等の捕捉されたハイドリノを含む。一実施形態において、Ｈ_２（１／ｐ）等の前記ハイドリノは、前記の物質の合成物から精製される。Ｈ_２（１／ｐ）等の前記ハイドリノは、前記の物質の合成物からの化学種と関係する可能性があるＨ_２（１／ｐ）等の溶融和されたハイドリノを形成するためにＨ_２Ｏ等の好適な溶媒の中でＫＣｌ等の物質の合成物を溶解することで精製しても良い。例えば、前記Ｈ_２（１／ｐ）は、ＫＣｌと複合体を形成しても良い。ハイドリノを含む前記の溶融和混合物の成分は選択的に分離される。前記分離は温度等の条件を変えるために別の溶媒を加え、ハイドリノ含有留分を選択的に析出し、ろ過等の手段で回収しても良い。または、前記ハイドリノ含有留分は溶液中に残存し、残りの化学種のみを析出しても良い。ハイドリノから除去される成分を除去することでハイドリノが豊富な溶液が残る。前記溶媒を除去し、前記ハイドリノ含有留分を回収する。この留分においてハイドリノを分離するための別の手段は、ハイドリノ含有種を析出するために溶媒を加える、または条件を変え、ろ過等の手段で回収することである。

一実施形態において、ハイドリノガスは、マイクロ波等のプラズマ放電、ＲＦ、または、水素、またはヘリウム・水素混合物等の希ガス・水素混合物のグロー放電によって形成しても良い。前記プラズマは水蒸気プラズマ等の水素源を含んでも良い。ハイドリノ生成物は、Ｄ_２Ｏ、または有機溶媒等の好適な溶媒中で回収しても良い。前記回収は液体窒素、または液体ヘリルムクライオトラップ等のクライオトラップで先ず行っても良い。前記濃縮された、または吸収されたガスは加熱し、ＮＭＲ溶媒に移しても良い。

一実施形態において、ハイドリノ水素化物化合物は精製しても良い。前記精製方法は、抽出方法および好適な溶媒を使用しての再結晶化方法の中の１つを含んでも良い。前記方法は又、無機化合物の分離にあたり、当業者が周知するクロマトグラフィーや他の技術を含んでも良い。

実施例において、ハイドリノ水素化物化合物はＣＩＨＴセル又はカソード及びアノード半電池反応の反応混合物により形成される。典型的なＣＩＨＴセル又はハイドリノ及びハイドリノ水素化物化合物を形成するためのカソード及びアノード半電池反応物の反応混合物は、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気，断続的電気分解］，［ＰｔＴｉ（Ｈ_２）／Ｋ_２ＣＯ_３／Ｎｉ＋空気，断続的電気分解］，［ＰｔＴｉ（Ｈ_２）／ＫＯＨ／Ｎｉ＋空気，断続的電気分解］，［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ＋空気］，［Ｍ／ＫＯＨ（飽和水溶液）＋ＣＧ３４０１／蒸気カーボン＋空気又はＯ_２］Ｍ＝Ｒ−Ｎｉ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｓｂ，Ｐｂ，Ｉｎ，Ｇｅ，［ＮａＯＨＮｉ（Ｈ_２）／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌＭｇＣｌ_２］，［Ｎａ／ＢＡＳＥ／ＮａＯＨ］，［ＬａＮｉ_５Ｈ_６／ＫＯＨ（飽和水溶液）＋ＣＧ３４０１／蒸気カーボン＋空気又はＯ_２］，［Ｌｉ／セルガードＬＰ３０／ＣｏＯ（ＯＨ）］，［Ｌｉ_３Ｍｇ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ／ＴｉＨ_２又はＺｒＨ_２］，［Ｌｉ_３ＮＴｉＣ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ／ＣｅＨ_２ＣＢ］，及び［Ｌｉ／ＬｉＣｌ−ＫＣｌ／ＬａＨ_２］である。生産物分子ハイドリノ及びハイドリノ水素化物イオンは好ましい１／４状態を持ち、好ましくは重水のＤＭＦ又はＤＭＳＯであるＮＭＲ溶媒で生成物混合物を抽出し、液体ＮＭＲを使用して観測されるかもしれない。

一実施形態において、分子ハイドリノ、又はハイドリノ水素化物イオン等のハイドリノ種は、Ｈと少なくともＯＨ及びＨ_２Ｏ触媒の中の１つの反応によって合成される。前記ハイドリノ種は、アルカリ金属、アルカリ土類、遷移、内部遷移、希土類金属、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、及びＴｅ等の金属群の中からの少なくとも２つ、ＬａＮｉ_５Ｈ_６や本開示の金属水素化物、アルカリ水酸化物、０．１Ｍから飽和濃度までのＫＯＨ等の水性水酸化物、炭素、Ｐｔ／Ｃ、蒸気炭素、カーボンブラック、炭化物、ホウ化物、又はニトリル等の支持体、及び酸素によって生成されても良い。分子ハイドリノ等のハイドリノ種を形成するための好適で典型的な反応混合物は、（１）ＣｏＰｔＣＫＯＨ（飽和）Ｏ_２を含有、又は非含有；（２）Ｚｎ又はＳｎ＋ＬａＮｉ_５Ｈ_６＋ＫＯＨ（飽和）、（３）Ｃｏ、Ｓｎ、Ｓｂ、又はＺｎ＋Ｏ_２＋ＣＢ＋ＫＯＨ（飽和）、（４）ＡｌＣＢＫＯＨ（飽和）、（５）ＳｎＮｉ−被覆のフラファイトＫＯＨ（飽和）Ｏ_２を含有、又は非含有、（６）Ｓｎ＋ＳＣ又はＣＢ＋ＫＯＨ（飽和）＋Ｏ_２、（７）ＺｎＰｔ／ＣＫＯＨ（飽和）Ｏ_２、（８）ＺｎＲ−ＮｉＫＯＨ（飽和）Ｏ_２、（９）ＳｎＬａＮｉ_５Ｈ_６ＫＯＨ（飽和）Ｏ_２、（１０）ＳｂＬａＮｉ_５Ｈ_６ＫＯＨ（飽和）Ｏ_２、（１１）Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、又はＳｂ＋ＫＯＨ（飽和／水溶性）＋Ｋ_２ＣＯ_３＋ＣＢ−ＳＡ、及び（１２）ＬｉＮＨ_２ＬｉＢｒ及びＬｉＨ又はＬｉ及びＨ_２又はそれらの源及びオプションとしてＮｉ又はＲ−Ｎｉのような水素解離剤である。追加的な反応混合物は、溶融水酸化物、水素源、酸素源、及び水素解離子を含む。分子ハイドリノ等のハイドリノ種を形成するための好適で典型的な反応混合物は、（１）Ｎｉ（Ｈ_２）ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ空気又はＯ_２、（２）Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ−ＮａＢｒ空気又はＯ_２、及び（３）Ｎｉ（Ｈ_２）ＫＯＨ−ＮａＢｒ空気、又はＯ_２である。一実施形態において、前記ガス回収は、Ｈ_２（１／ｐ）が反応体から進化中であることを特徴とするＨ_２とＨ_２Ｏの進化の発生後に起こっても良い。前記進化は、Ｈ⁻（１／４）＋Ｈ_２Ｏ→Ｈ_２（１／４）反応のようなＨ_２（／ｐ）を形成するためのＨ⁻（１／ｐ）と水とのゆっくりした反応によるものであっても良い。

一実施形態において、前記ハイドリノガスは、加熱によるハイドリノ反応生成物のようなハイドリノを含有する固体または液体から放出される。Ｈ_２Ｏ等の溶媒のような分子ハイドリノ以外の任意のガスは、例えば、コンデンサを使って濃縮しても良い。前記濃縮物は、還流されても良い。前記分子ハイドリノガスは、分留によって．他のガスが含まれない状態で回収しても良い。又、通常の水素は、水素再結合器によって、または蒸留によるＨ_２Ｏの燃焼および除去によって除去しても良い。分子ハイドリノのようなハイドリノ種はＤＭＦまたはＤＭＳＯ等の有機溶媒のような溶媒の中で抽出し、加熱や、前記溶媒からの前記分子ハイドリノガスの蒸留等の手段で前記溶媒から任意で精製しても良い。一実施形態において、前記ハイドリノ種含有生成物はＤＭＦ等の有機溶媒のような溶媒で抽出し、前記溶媒は加熱し、任意に、回収するためのハイドリノガスを放出するために還流される。前記ハイドリノガスは、前記ガスを広範に吸収しないＴｉＣ、ＴａＣ、またはＬａＮ等の炭化物のような支持体または添加物を含む反応混合物を使って得ても良い。

ハイドリノガスＨ_２（１／ｐ）は、化合物、または前記ガスを含む物質等の物質の合成物から、溶解等で前記物質の合成物の位相を変更して、溶解可能な溶媒中で抽出する、または、Ｈ_２（１／ｐ）の溶解度が低い、または溶解しない溶媒中に前記物質の合成物を溶解するの中の少なくとも１つによって、分離しても良い。

一実施形態において、ゼロではない量子数１を有する分子ハイドリノは、正味の磁気モーメントを有することからＨ_２よりも有意に高い液化温度を有すると予測される。ＭＡＳＮＭＲにおける常磁性マトリックスシフトと、ＡｒとＫＣｌを含有するＨ_２（１／４）に入射する電子ビームにより励起される回転−振動スペクトルにおけるデルタＪ＝−１選択規則は、これらの状態を確認する。空気のような供給源の寒冷ろ過によって得られるアルゴン、ネオン、およびヘリウムにおけるＨ_２（１／４）の存在は、Ｈ_２に対して、より高いＨ_２（１／ｐ）の液化温度を支持する。このように、Ｈ_２（１／ｐ）は、液体窒素、アルゴン、またはヘリウムクライオトラップ等の液体ヘリウムの温度よりも高い温度でクライオトラップを使って、分離しても良い。Ｈ_２（１／ｐ）は又、極低温での磁極片間で固体を形成することができる酸素の場合のように低温での磁場で回収しても良い。

［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＭＯＨまたはＭ（ＯＨ）_２−Ｍ’ＸまたはＭ’Ｘ_２／Ｎｉ空気］等の溶融塩電解質を含むＣＩＨＴセルの態様において、ＭとＭ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、およびＢａの中の１つであり、Ｘは水酸化物、ハロゲン化合物、硫酸塩、および炭酸塩の中の１つであり、水素は間欠電気分解によって放電アノードで生成される。次に、前記水素透過性電極は、Ｈ透過膜のような電極壁全体に拡散を通じてハイドリノを受け取る真空電極、または真空槽に置換される。１つの典型的なセルは、［Ｎｉ（Ｈ_２（１／ｐ））／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ空気］間欠充放電である。前記ハイドリノガスＨ_２（１／ｐ）は、レーザー媒質、増大した結合エネルギーを有する水素種や化合物を形成するための化学試薬、ならびに熱伝達媒体等の有益なアプリケーション用に回収される。

一実施形態において、ハイドリノを形成するための化学セルとＣＩＨＴセルの中の少なくとも１つの生成物は、ハイドリノまたは無機化合物と複合体を形成するＨ_２（１／ｐ）のような低エネルギー水素種を含む化合物である。前記化合物はアルカリ等のオキシアニオン化合物、またはアルカリ土類、炭酸塩、水酸化物、または本開示のその他の化合物を含んでもよい。一実施形態において、前記生成物はＭ_２ＣＯ_３Ｈ_２（１／４）およびＭＯＨＨ_２（１／４）（Ｍ＝アルカリ、または本開示の他のカチオン）複合体の中の少なくとも１つを含む。前記生成物は、Ｍ（Ｍ_２ＣＯ_３Ｈ_２（１／４））_ｎ ^＋およびＭ（ＫＯＨＨ_２（１／４））_ｎ ^＋をそれぞれ含む正のスペクトルにおける複数のイオンとしてＴｏＦ−ＳＩＭＳによって同定されても良く、ここでｎは整数であり整数Ｐ＞１で４を置換してもよい。

本開示の方法によって合成された低エネルギー水素化合物は、式ＭＨ、ＭＨ_２、またはＭ_２Ｈ_２、を有していてもよく、式中、Ｍはアルカリカチオンであり、Ｈは増大した結合エネルギー水素化物イオン、または増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は式ＭＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは１または２、Ｍはアルカリ土類カチオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増加した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式ＭＨＸを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリカチオン、Ｘはハロゲン原子、分子、またはハロゲンアニオン等の単独で負に帯電したアニオン等の中性原子の一つであり、Ｈは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式ＭＨＸを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式ＭＨＸを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは複数で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式Ｍ_２ＨＸを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリカチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオン、または増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は式ＭＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、Ｍはアルカリカチオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式Ｍ_２Ｈ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、Ｍはアルカリ土類カチオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式Ｍ_２ＸＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式Ｍ_２Ｘ_２Ｈ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは１または２、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式Ｍ_２Ｘ_３Ｈを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式Ｍ_２ＸＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは１または２、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは複数で負に帯電したアニオン、そして、前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式Ｍ_２ＸＸ’Ｈを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、Ｘ’は複数で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式ＭＭ’Ｈ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは１から３までの整数、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｍ’はアルカリ金属カチオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは、少なくとも、１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式ＭＭ’ＸＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは１または２、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｍ’はアルカリ金属カチオン、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式ＭＭ’ＸＨを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｍ’はアルカリ金属カチオン、Ｘは複数で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式ＭＭ’ＸＸ’Ｈを有していてもよく、式中、Ｍはアルカリ土類カチオン、Ｍ’はアルカリ金属カチオン、ＸとＸ’は単独で負に帯電したアニオン、そしてＨは増大した結合エネルギー水素化物イオンまたは増大した結合エネルギー水素原子である。前記化合物は、式ＭＸＸ’Ｈ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは１から５までの整数、Ｍはアルカリ、またはアルカリ土類カチオン、Ｘは単独でまたは複数で負に帯電したアニオン、Ｘ’は金属、半金属、遷移元素、内部遷移元素、または希土類元素、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式ＭＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、Ｍは遷移元素、内部遷移元素、または希土類元素等のカチオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式ＭＸＨ_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、Ｍはアルカリカチオン等のカチオン、アルカリ土類、Ｘは遷移元素、内部遷移元素、または希土類元素カチオン等の別のカチオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｎは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式［ＫＨ_ｍＫＣＯ_３］_ｎを有していてもよく、式中、ｍとｎは整数、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｍは、少なくとも、１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式［ＫＨ_ｍＫＮＯ_３］_ｎ ^＋ｎＸ⁻を有していてもよく、式中、ｍとｎは整数、Ｘは単独で負に帯電したアニオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｍは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式［ＫＨＫＮＯ_３］_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、そして前記化合物の水素含有量は、少なくとも、１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。前記化合物は、式［ＫＨＫＯＨ］_ｎを有していてもよく、式中、ｎは整数、そして前記化合物の水素含有量Ｈは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。アニオンまたはカチオンを含む前記化合物は、式［ＭＨ_ｍＭ’Ｘ］_ｎを有していてもよく、式中、ｍとｎは整数、ＭとＭ’はそれぞれ、アルカリ金属、およびアルカリ土類カチオン、Ｘは単独でまたは複数で負に帯電したアニオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｍは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。アニオンまたはカチオンを含む前記化合物は、式［ＭＨ_ｍＭ’Ｘ’］_ｎ ^＋ｎＸ⁻を有していてもよく、式中、ｍとｎは整数、ＭとＭ’はそれぞれ、アルカリ金属、およびアルカリ土類カチオン、ＸとＸ’はそれぞれ単独でおよび複数で負に帯電したアニオン、そして前記化合物の水素含有量Ｈ_ｍは少なくとも１つの増大した結合エネルギー水素種を含む。アニオンは本開示のアニオンの１つを含んでも良い。好適で典型的な、単独で負に帯電したアニオンは、ハロゲン化合物イオン、水酸化物イオン、炭酸水素イオン、または硝酸イオンである。好適で典型的な、複数で負に帯電したアニオンは、炭酸イオン、酸化物、または硫酸イオンである。

一実施形態において、増大した結合エネルギー水素化合物または混合物は、金属格子またはイオン格子等の結晶格子に埋め込まれたハイドリノ原子、ハイドリノ水素化物イオン、および二価ハイドリノ分子等の低エネルギー水素種の少なくとも１つを含む。一実施形態において、前記格子は、前記低エネルギー水素種とは反応しない。マトリックスは例えば、埋め込まれたハイドリノ水素化物イオンの場合のように、非プロトン性であってもよい。前記化合物または混合物は、アルカリ、アルカリ土類塩、ハロゲン化合物等の塩格子に埋め込まれているＨ（１／ｐ）、Ｈ_２（１／ｐ）、およびＨ⁻（１／ｐ）の中の少なくとも１つを含んでも良い。典型的なアルカリハロゲン化合物は、ＫＣｌとＫＩである。他の好適な塩格子は、本開示のものを含む。前記低エネルギー水素種は、水素触媒と表１の触媒のような非プロトン性触媒で形成されても良い。

本発明の化合物は、０．１原子％濃度以上が好ましい。より好ましくは、前記化合物は１原子パーセント濃度以上である。さらにより好ましくは、前記化合物は１０原子パーセント濃度以上である。最も好ましくは、前記化合物は５０原子パーセント濃度以上である。もう一つの実施形態において、前記化合物は９０原子パーセント濃度以上である。もう一つの実施形態において、前記化合物は９５原子パーセント濃度以上である。

前記化合物の用途には、セル、燃料セル、切削材、軽量高強度構造材料、合成繊維、熱電子発電器、光輝性化合物、極致の紫外レーザ媒質、光ファイバケーブル、磁石と磁気コンピュータ記憶媒体、エッチング剤、マスキング剤、導体製造におけるドーパント、燃料、爆薬、および推進剤が挙げられる。前記の増大した結合エネルギー水素化合物は、化学合成処理方法や精製方法に有益である。前記の増大した結合エネルギー水素イオンは、高電圧電気分解セルの電解質の陰イオンとしての用途を有する。

本開示の方法等で形成されるハイドリノ水素化物化合物の１つのアプリケーションは爆薬、または推進剤としてである。一実施形態において、前記化合物の前記ハイドリノ水素化物イオンは二価ハイドリノを形成するためにプロトンと反応する。または、前記ハイドリノ水素化物化合物は、二価ハイドリノを形成するために分解する。これらの反応は爆発力、または推進力を放出する。前記プロトンの爆発、または推進反応においては、ＨＦ、ＨＣｌ、Ｈ_２ＳＯ_４、またはＨＮＯ_３等の酸素、またはＨＦ＋ＳｂＦ_５、ＨＣｌ＋Ａｌ_２Ｃｌ_６、Ｈ_２ＳＯ_３Ｆ＋ＳｂＦ_５、またはＨ_２ＳＯ_４＋ＳＯ_２（ｇ）等の超酸等のプロトン源が使用される。もう一つの実施形態において、前記爆発または推進剤は、ハイドリノ水素化物イオンおよび、Ｈ_２ガス、水素化物化合物、Ｈ_２Ｏ等の水素を含む化合物および燃料等の炭化水素の中の少なくとも１つの水素源を含む。前記水素化合物は、アルカリまたは、ＬｉＨ等のアルカリ土類水素化物のような本開示のものでも良い。パワーの爆発的な又は推進的な開放と共にジハイドリノを形成する水素の源との、ＭＨ（１／ｐ）（Ｍ＝アルカリ；Ｈ（／１ｐ）は、ハイドリノ水素化物イオンＨ⁻（１／ｐ）である）のようなハイドリノ水素化物化合物の典型的な反応は、次のとおりである。
ＭＨ（１／ｐ）＋Ｈ_２ → ＭＨ＋Ｈ_２（１／ｐ）（３４１）
ＭＨ（１／ｐ）＋ＭＨ → ２Ｍ＋Ｈ_２（１／ｐ）（３４２）
ＭＨ（１／ｐ）＋Ｈ_２Ｏ → ＭＯＨ＋Ｈ_２（１／ｐ）（３４３）
爆発または推進反応は、前記ハイドリノ水素化物イオン含有化合物と、酸素または超酸等のＨ^＋源、または前記水素源の急速な混合によって開始される。前記急速な混合は、ハイドリノ水素化物化合物または反応混合物の近位にある従来の爆発剤、または推進剤の爆発によって発生させても良い。爆発または推進反応を生成するためのハイドリノ水素化物化合物、または反応混合物の急速な熱分解、または反応において、前記分解、または反応は、前記ハイドリノ水素化物化合物または混合物のパーカッション加熱によって、ハイドリノ水素化物化合物または反応混合物の近位にある従来の爆発剤、または推進剤を爆発させることで発生させても良い。例えば、弾丸はハイドリノ水素化合物、またはハイドリノ水素化合物を含む反応混合物、および恐らくプロトン源、またはパーカッション加熱を介しての衝撃で爆発する水素等のその他の反応物をその先に付けても良い。

水素源と酸素源を含む反応体を含むハイドリノを形成するための前記化学反応器のもう一つの実施形態において、前記原子状水素源は、原子状水素とハイドリノを形成するための触媒を形成する水素と酸素の少なくとも１つを提供するために爆発する爆発剤である。１つの実施形態において、前記触媒はｎＨ、ｎＯ（ｎ＝整数）、Ｏ_２、ＯＨ、およびＨ_２Ｏ触媒の中の少なくとも１つを含む。爆発剤を含む固体反応体および任意で酸化物、水酸化物、オキシ水酸化物、過酸化物、および本開示の超酸化物等の酸素含有化合物に加え、前記酸素源は空気でも良い。前記触媒は、前記爆発反応のエネルギーに加え、原子状水素と反応してエネルギーを放出する。１つの実施形態において、原子状水素触媒からの寄与も相まって、前記の爆発的なエネルギーの放出と共にセルは破裂する。そのようなセルの１つの例は前記触媒を形成するための原子状水素源および酸素源を含有する爆弾である。

ハイドリノを形成するための前記化学反応器のもう一つの実施形態において、ハイドリノを形成し、熱出力等の電力を放出する前記セルは、内燃エンジン、ロケットエンジン、またはガスタービンの燃焼槽を含む。前記混合物は前記触媒とハイドリノを生成するための水素源と酸素源を含む。前記触媒源は水素を含む化学種および酸素を含む化学種の中の少なくとも１つで良い。前記化学種、または別の反応生成物は、Ｈ_２、Ｈ、Ｈ^＋、Ｏ_２、Ｏ_３、Ｏ_３ ^＋、Ｏ_３ ⁻、Ｏ、Ｏ^＋、Ｈ_２Ｏ、Ｈ_３Ｏ^＋、ＯＨ、ＯＨ^＋、ＯＨ⁻、ＨＯＯＨ、ＯＯＨ⁻、Ｏ⁻、Ｏ^２−、Ｏ_２ ⁻、およびＯ_２ ^２−等のＯとＨの中の少なくとも１つを含む化学種の１つであって良い。前記触媒は、Ｈ_２Ｏの酸素種、または水素種を含んでも良い。もう一つの実施形態において、前記触媒は、ｎＨ、ｎＯ（ｎ＝整数）、Ｏ_２、ＯＨ、およびＨ_２Ｏ触媒の中の少なくとも１つを含む。水素原子源等の前記水素源は、Ｈ_２ガス、または炭化水素等の水素含有燃料を含んでも良い。水素原子は炭化水素燃焼中に炭化水素の熱分解によって生成しても良い。前記反応混合物は、本開示のような水素解離子をさらに含んでも良い。水素原子は又、水素の解離によって形成しても良い。前記酸素源はさらに、空気からのＯ_２を含んでも良い。前記反応体はさらに、ＨとＯの中の少なくとも１つの源として機能し得るＨ_２Ｏを含んでも良い。一実施形態において、水は、前記セルにおけるＨ_２Ｏの熱分解によって供給され得る水素と酸素の中の少なくとも１つの源として機能する。前記水は、シリンダーやピストンヘッド等の表面上で熱または触媒で水素原子に解離させることができる。前記表面は、水を水素と酸素に解離させる物質を含んでも良い。物質を解離させる前記水は、元素、化合物、合金、遷移元素または内部遷移元素の混合物、鉄、プラチナ、ジルコニウム、バナジウム、ニッケル、チタン、Ｓｃ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｖｂ、Ｌｕ、Ｔｈ、Ｐａ、Ｕ、活性炭素、または、Ｃｓを挿入した炭素（グラファイト）を含んでも良い。前記ＨとＯは、ハイドリノを形成するための前記触媒とＨを形成するために反応しても良い。前記酸素源と水素源は吸気バルブまたはマニホールド等のポートや吸気口を通じて引き込まれても良い。前記生成物は排気ポートや出口を通して排気しても良い。流量はそれぞれのポートを通じての入気および排気速度を制御することで制御しても良い。

ＸＩＩ．実験
Ａ．典型的なＣＩＨＴセル試験結果
不活性アルミナ坩堝に、アノード、、共融電解質、およびカソードをそれぞれ含む溶融塩ＣＩＨＴセルを、無酸素のアルゴン雰囲気のグローブボックス内で組み立てて、該グローブボックス内で、アルゴン雰囲気下で加熱した。前記アノードは、ＢＡＳＥ管においてＮａＯＨとＮｉ（Ｈ_２）等のＨ源を、そして前記カソードは、Ｎｉ等の電極においてＭｇＣｌ_２−ＮａＣｌのような共融混合物を含んでいた。２つ目のタイプはＮｉ（Ｈ_２）等の水素透過アノード、ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ等の溶融水酸化物電解質、および空気に曝されているＮｉカソードを含んでいた。３つ目のタイプは、Ｈ_２Ｏ容器を通してアルゴンキャリアガスを発泡することで、または３０から５０℃（３１トールから９３トールＨ_２Ｏ）の典型的な温度範囲で維持された水生成装置を用いてＨ_２Ｏが供給されたクローズドセルを含んでいた。前記電解質はＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ等の溶融塩と、任意にＭｇＯ等のマトリックスを含んでいた。前記セルは間欠電気分解下で動作され、そこではＨ_２Ｏから放電アノードで水素が、そして、放電カソードで酸素が形成された。放電時、正味余剰の電気エネルギーバランスが達成されるように、発生期のＨ_２Ｏ触媒とハイドリノを形成し、過電流とエネルギーを生成させるために、反応および電流を逆転させた。別の形では、このセルのタイプは空気に曝せて動作させた。４つ目のタイプは飽和したＫＯＨ等の水溶性電解質、および空気に曝された間欠的な電解条件下で動作された異なるカソードとアノードを含んでいた。典型的なセルからの結果は、［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＭＯＨまたはＭ（ＯＨ）_２−Ｍ’ＸまたはＭ’Ｘ_２／Ｎｉ空気］のような（アノード／電解質／カソード）を指定し、ここでＭとＭ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、およびＢａの中の１つであり、Ｘは水酸化物、ハロゲン化合物、硫酸塩、および炭酸塩の中の１つであり、そしてＭはＲ−Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｏ、Ｃｄ、Ｓｂ、およびＰｂである。なお、［ＮａＯＨＮｉ（Ｈ_２）ＢＡＳＥ／ＮａＣｌＭｇＣｌ_２／Ｎｉ］、［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（クローズド、または空気）］、および［Ｓｎ_５Ｖ_５／ＫＯＨ（飽和ａｑ）／Ｎｉ（空気）］は下記に示す。

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル−１０Ｗの増量
− ０３２０１２ＧＺＣ１−１０２３：Ｍｏ／２１０ｇＬｉＯＨ＋１．０５ｋｇＬｉＢｒ＋４２０ｇＭｇＯ一層において／ＮｉＯ（１０層）；アノード：Ｍｏフォイル；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ；Ｔｓｅｔ＝４２０℃，Ｔｒｅａｌ＝４２０℃；８Ｖまで充電，もしＶ＞６Ｖなら、４ｓ間放電。

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０３０１１２ＧＺＣ３−１００５：Ｍｏ／０．５” ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒペレット−ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒ＋ＭｇＯペレット−ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒペレット２個／ＮｉＯ；アノード：１．５インチ直径Ｍｏ，カソード：１．５”Ｘ１．５”圧縮予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６（１層）溶融電解質により予め濡らされた；Ｔｓｅｔ＝５００℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６Ｖならば４ｓ間放電

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０３１３１２ＧＺＣ２−１０１２：Ｎｉ−Ｍｏ−Ｎｉ／ＬｉＯＨ：ＬｉＢｒ：ＭｇＯ＝１：５：１０／ＮｉＯ；アノード：ＣＮｉ_８＋Ｍｏ＋ＣＮｉ_８，プレスされた，電解質で予め濡らされた；カソード：ＣＮｉ_８−プレスされたＣＮｉ_６Ｃ−ＣＮｉ_８，電解質で予め濡らされた；セパレータ：０．５インチ径の４ペレットが使用された；Ｔｓｅｔ＝４４０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６Ｖなら４ｓ間放電

０３１２１２ＧＣ１（断続的電気分解閉鎖系セル，Ｍｏナノ・パウダーでラミネートされたアノード）Ｎｉ−Ｍｏ−Ｎｉメッシュ矩形／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯメッシュ矩形（湿潤Ａｒ）Ｔ＝４５０℃，Ｖ＝０．８Ｖまで２０ｍＡで充電；Ｖ＞＝０．６Ｖまで２０ｍＡで放電、他の場合４ｓ放電；アノード：Ｎｉ−Ｍｏ−Ｎｉ矩形（１４．０４ｇ，１４ｃｍ^２）；カソード：ＮｉＯ矩形（３ｘ１．５’ｘ１．５’）；電解質：１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋１８ｇＭｇＯ

０３０８１２ＧＣ１（断続的電気分解閉鎖系セル，ラミネートされたアノード，高パワー密度），０３０７１２ＧＣ１の繰り返しＮｉ−Ｍｏ−Ｎｉ矩形／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯメッシュ矩形（湿潤Ａｒ）Ｔ＝４５０℃，Ｖ＝０．８Ｖまで５０ｍＡで充電；Ｖ＞＝０．６Ｖまで５０ｍＡで放電、他の場合４ｓ放電；アノード：Ｎｉ−Ｍｏ−Ｎｉ矩形（１１．３７ｇ，１４ｃｍ^２）；カソード：ＮｉＯ矩形（３ｘ１．５’ｘ１．５’）；電解質：１５ｇＬｉＯＨ＋７５ｇＬｉＢｒ＋２８ｇＭｇＯ

０２２８１２ＧＣ１（断続的電気分解閉鎖系セル，水蒸気流）圧縮されたＮｉ−Ｍｏ−Ｎｉ矩形／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯメッシュ矩形（湿潤Ａｒ）Ｔ＝４５０℃，Ｖ＝０．８Ｖまで１０ｍＡで充電；Ｖ＞＝０．６Ｖまで１０ｍＡで放電、他の場合４ｓ放電；アノード：Ｎｉ−Ｍｏ−Ｎｉ矩形（１１．６ｇ含ワイヤ，１４ｃｍ^２）；カソード：ＮｉＯ矩形（３ｘ１．５’ｘ１．５’）；電解質：１５ｇＬｉＯＨ＋７５ｇＬｉＢｒ＋２８ｇＭｇＯ

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０３１２１２ＧＺＣ１−１００８：Ｎｉ−Ｃ−Ｎｉ／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：１．５”Ｘ１．５”ＣＮｉ_６＋１”Ｘ１”グラファイト＋１．５”Ｘ１．５”ＣＮｉ６，圧縮された；カソード：１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６（２ｌａｙｅｒ）；Ｔｓｅｔ＝５１５℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６Ｖならば４ｓ間放電

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０３１２１２ＧＺＣ２−１００９：Ｎｉ−Ｎｉパウダー−Ｎｉ／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：１．５”Ｘ１．５” ＣＮｉ_６＋０．６７ｇＮｉナノ・パウダー＋１．５”Ｘ１．５”ＣＮｉ_６，圧縮された；カソード：１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６（２層）；Ｔｓｅｔ＝５００℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６Ｖならば４ｓ間放電

１０Ｗスケールアップ：高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル−１０セル・スタック
−０２１０１２ＧＺＣ２−９７４：Ｍｏフォイル／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：９”直径Ｍｏフォイル，カソード：９”直径予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ（２片）；Ｔｓｅｔ＝４１０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；８Ｖまで充電，もしＶ＞６Ｖならば、４ｓ間放電

０１０４１１ＸＹ３−１３４５密閉フランジ，ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．５”，１１ｃｍ２，５．３４５７ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上におかれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３０．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予備湿潤された）

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０３０１１２ＧＺＣ２−１００４：Ｃ／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ／ＮｉＯ；アノード：１．５”Ｘ１．５”グラファイト，カソード：１．５”Ｘ１．５”プレスされ予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）されたＣＮｉ_６（２層）；Ｔｓｅｔ＝４６０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．６Ｖまで充電，もしＶ＞０．４Ｖならば４ｓ間放電

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０２１７１２ＧＺＣ２−９８３：ＣＮｉ_６−Ｍｏ−ＣＮｉ_６／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋３０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：１．５”Ｘ１．５” ＣＮｉ_６−Ｍｏ−ＣＮｉ_６圧縮された，カソード：１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＮｉＦｅＣｒＡｌ，空孔サイズ：１．２ｍｍ；Ｔｓｅｔ＝４６０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６Ｖならば４ｓ間充電

高温Ｔ溶融電解質−水気泡装置を通したアルゴンの流れのある密閉系ステンレス製セル
−０１０９１２ＧＺＣ１−９３４：Ｍｏ＋Ｎｉ／８ｇＬｉＯＨ＋４０ｇＬｉＢｒ＋１５ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：１．５”Ｘ１．５”３．８３１ｇＭｏ＋０．６２３ｇＣＮｉ_８，カソード：１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ（２個）；Ｔｓｅｔ＝４６０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６Ｖならば、４ｓ充電

０１１８１２ＸＹ１−１３６９密閉フランジ，ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（高電流，湿度は水蒸気発生機から供給される）；アノード：プレスされた多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ”，１１ｃｍ^２，９．３６３２ｇ，含ワイヤ）；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；水蒸気発生機で湿度がセルに供給された。

０１２５１２ＸＹ２−１３８４密閉フランジ，ペースト電解質Ｎｉ繊維／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：Ｎｉ繊維（１．５”ＯＤ”，１１ｃｍ^２，８．５８８０ｇ，含ワイヤ）；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ），電解質の上に置かれた状態で；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；水蒸気発生機から湿度が供給された。

０１１８１２ＣＧ７−４８５；ＨＸトレイ＋Ｍｏアノード４Ｘスタック；２層のＮｉＯ底部３スタック，１層のＮｉＯトップ・スタック；密閉セル，Ｈ_２Ｏ加熱＠９０Ｃ，密閉セル；アノード：１．５”直径ＭｏフォイルＸ４，ＨＸトレイ上に及ぼされた；カソード：ＮｉＯＸ_４；電解質：ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ；ＯＣＶ〜４．０Ｖ；＠２０ｍＡでＶ＞３．２Ｖまで充電，；＠−２０ｍＡで５ｓｅｃ間又は２．４Ｖで放電

０１０９１２ＸＹ１−１３５２密閉フランジ，ペースト電解質Ｍｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（異なる波形、高電流）；アノード：Ｍｏプレート（１＊１”，６．２５ｃｍ^２，３１．７７７６ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された状態；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態で；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

０１１０１２ＸＹ１−１３５５５層スタックＣ２７６（Ｍｏ）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（密閉フランジ、ペースト電解質）；各層におけるアノード：Ｃ２７６フォイル（４．８７５”ＯＤ”，１１６ｃｍ^２）パン（皿）の中に一片のＭｏフォイル（４．２５”ＯＤ）を備えるパン；各層におけるカソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（４．２５”ＯＤ），電解質の上に置かれた状態；各層における電解質：４０．０ｇＬｉＯＨ＋２００．０ｇＬｉＢｒ＋６０．０ｇＭｇＯ．温度４５０℃

０１０５１２ＸＹ３−１３４８密閉フランジ、ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（水蒸気発生機で湿度が供給された。）；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ”，１１ｃｍ^２，５．２８１６ｇ）；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；水蒸気発生機で湿度がセルに供給された。

０１０６１２ＸＹ３−１３５１密閉フランジ、ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（高電流，水蒸気発生機で湿度が供給された）；アノード：多孔ＮｉＣ６ＮＣ（１．５”ＯＤ”，１１ｃｍ^２，６．７０１２ｇ）；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；水蒸気発生機で湿度がセルに供給された。

１２１３１１ＸＹ１−１２９１密閉フランジ、ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．５”，１１ｃｍ^２，２．２２０４ｇ），電解質に浸漬された．カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ
温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

１２１３１１ＸＹ２−１２９２密閉フランジ、ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．５”，１１ｃｍ^２，２．１１７９ｇ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ
温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

１２１３１１ＸＹ３−１２９３密閉フランジ、ペースト電解質Ｍｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：Ｍｏプレート（１＊１”，６．２５ｃｍ^２，３３．８２５２ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

１２１３１１ＸＹ４−１２９４密閉フランジ、ペースト電解質ハイネス２４２合金／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ。（バリデーション・セル）；アノード：ハイネス２４２合金ホイル（１＊１”，６．２５ｃｍ^２，４．５８３０ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質；１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

１２２２１１ＣＧ２０−４４７Ｎｉトレイ＋Ｍｏアノード三重スタック；トップ直径２．００”底部直径．２．００”準備されたペースト；密閉セル，Ｈ_２Ｏを通るＡｒ流れ；セパレータとして、トレイ及び一方側がＮｉＯで他方側がＭｏホイルのバイポーラ・プレートを用いて３つのセルを積み重ねる；アノード：ＭｏホイルＸ３；カソード：ＮｉＯＸ_３；電解質：ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ；Ｔｓｅｔ＝４５０℃；Ｖ＞２．８Ｖまで＠１０ｍＡで充電；５ｓｅｃ間又は１．５Ｖで＠−１０ｍＡで放電

１２０９１１ＸＹ３−１２８４水性Ｍｏ_６Ｓｉ_４／ＫＯＨ／Ｎｉ；アノード：Ｍｏ_６Ｓｉ_４合金ペレット（ＯＤ１．４ｃｍ，１．５ｃｍ^２）；カソード：多孔ＮｉＣ_８ＮＣ；電解質：飽和ＫＯＨ；室温

１２２８１１ＸＹ１−１３３１密閉フランジ、ペースト電解質ＴＺＭ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ（Ａｒ＋Ｈ_２Ｏ）；アノード：ＴＺＭホイル（０．７５＊１．５”，７．０ｃｍ^２，２．８００４ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

１２１５１１ＸＹ１−１３０１密閉フランジ、ペースト電解質Ｍｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ。（湿度は水蒸気発生機によって供給される）；アノード：Ｍｏプレート（１＊１”，６．２５ｃｍ^２，３２．０２８６ｇ）；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；水蒸気発生機で湿度がセルに供給された。

１２１６１１ＸＹ１−１３０５三層スタックＭｏ（Ｎｉ）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ。（密閉フランジ、ペースト電解質，部分浸漬アノード）。（蒸気発生器によって水が供給）；各層におけるアノード：Ｍｏホイル・パン（２．０”ＯＤ”，１９．６ｃｍ^２）で、一層のセルメットＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ，１１ｃｍ^２）を内部に持つ；各層におけるカソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．７５”ＯＤ），電解質の上に置かれた状態；各層における電解質：８．０ｇＬｉＯＨ＋４０．０ｇＬｉＢｒ＋２０．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；（水蒸気発生機で湿度が供給された）

１２１２１１ＸＹ２−１２８８密閉フランジ、ペースト電解質Ｍｏ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：Ｍｏプレート（１＊１”，６．２５ｃｍ^２），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１０．０ｇＬｉＯＨ＋５０．０ｇＬｉＢｒ＋２５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された，低速）

１２０９１１ＸＹ５−１２８６密閉フランジ、ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ。（湿度は水蒸気発生機で供給される）；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５”ＯＤ”，１１ｃｍ^２，２．０２８６ｇ）；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；湿度は水蒸気発生機でセルに供給された。

１１３０１１ＸＹ１−１２５４密閉フランジ、ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．５”，１１ｃｍ^２，３．１８１６ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３０．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された）

高温Ｔ溶融電解質−分離された水蒸気発生機であるがＡｒ流れのある密閉系ステンレス製セル
−１２１３１１ＧＺＣ１−９０４：Ｎｉ／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：１．５”Ｘ１．５”２．９７５ｇＣＮｉ_６Ｃ，カソード：２個の１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ；Ｔｓｅｔ＝４４０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；結果：（１）実験をすることなく，セルを清浄化するため３０ＳＣＣＭＡｒ流れを使用（水泡器を通らない）。１４：４０，ＯＣＶ＝０．９２０Ｖ；１６：５７，ＯＣＶ＝０．７３７Ｖ（２）Ｄｅｃ１４。ガス流れを停止。Ａｒの入口及び出口の両方を閉じ、もしＶ＞０．６Ｖならば４ｓ間放電し、０．８Ｖまで充電する。６０℃の温度のヒータへウォータ・リザーバーを置く。

高温Ｔ溶融電解質−Ａｒ流れのある密閉系ステンレス製セル：２セルのスタック
−１２１５１１ＧＺＣ１−９０８：Ｎｉトレイ内のＭｏ／ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒ（１：５ｗｔ）＋ＭｇＯ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：直径１．７５”厚さ０．０１”のＭｏホイルカソード：２個の直径１．７５”の予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ。バイポーラ・プレート及びアノード・ホルダー：厚み０．０１０”のＮｉトレイ。ＭｏホイルがＮｉトレイ上にスポット溶接された；Ｔｓｅｔ＝５００℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；スケジュール：１．６Ｖまで充電，もしＶ＞１．２Ｖならば、４ｓ間放電。各スタックの状態をチェックするために３個のリードを出させる。

水性ＲＴセル
−１２０１１１ＧＺＣ３−８８７：Ｃｒ_６Ｍｏ_４／飽和ＫＯＨ／Ｎｉ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：０．５”ＯＤＣｒ_６Ｍｏ_４，カソード：ＣＮｉ_８；ＲＴ，１．２Ｖまで充電，もしＶ＞０．８Ｖならば４ｓ間放電。

１２０９１１ＸＹ２−１２８３水性Ｔａ_５Ｖ_５／ＫＯＨ／Ｎｉ；アノード：Ｔａ_５Ｖ_５合金ペレット（ＯＤ１．４ｃｍ，１．５ｃｍ^２）；カソード：多孔ＮｉＣ_８ＮＣ；電解質：飽和ＫＯＨ；室温

１２０１１１ＧＣ３（断続的な充電−放電密閉系セル，Ｎｉ粉末アノード）；Ｎｉ粉末プレート／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／ＮｉＯメッシュ矩形（湿潤Ａｒ）；Ｔ＝４５０℃，Ｖ＝０．８Ｖまで５ｍＡで充電；Ｖ＞＝０．６Ｖまで５ｍＡで放電、そうでなければ４ｓ放電；アノード：Ｎｉ粉末プレート（４．７８ｇ，ｄ：１’，５．０６ｃｍ^２）；カソード：ＮｉＯ矩形：３ｘ１．５’ｘ１．５’；電解質：８ｇＬｉＯＨ＋４０ｇＬｉＢｒ＋２４ｇＭｇＯ

水蒸気無のコントロール（対照）：
高温Ｔ溶融電解質−Ａｒ流れのある密閉系ステンレス製セル，しかし入口に水泡器無
−１１２８１１ＧＺＣ１−８７７：Ｎｉ／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：１．５”Ｘ１．５” ３．２０１ｇＣＮｉ_６Ｃ，カソード：２個の１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ；Ｔｓｅｔ＝５００℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；連続的に放電

高温Ｔ溶融電解質−Ａｒ流れ及び独立水蒸気発生機を備える密閉系ステンレス製セル。
−１１２２１１ＧＺＣ２−８７２：Ｎｉ／１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：１．５”Ｘ１．５”２．９２６ｇＣＮｉ_６Ｃ，カソード：１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ；Ｔｓｅｔ＝５００℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６であれば４ｓ間放電

高温Ｔ溶融電解質−Ｈ２Ｏ水泡器を通してＡｒ流れを備える密閉系ステンレス製セル。
−１１１４１１ＧＺＣ１−８５８：Ｎｉ／１２ｇＬｉＯＨ＋６０ｇＬｉＢｒ＋２０ｇＭｇＯ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：１．５”Ｘ１．５”３．０２８ｇＮｉＣＮｉ６Ｃ，カソード：２個の１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ；Ｔｓｅｔ＝４６０℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，Ｖ＞０．６ならば４ｓ間放電；結果：（１）ＯＣＶ＝０．９４３Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．８６０。その後、水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（２）ＯＣＶ＝０．９２０Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．８７２．その後水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（３）ＯＣＶ＝０．９０２Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．８５８．その後水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（４）ＯＣＶ＝０．８４２Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．７９３．その後水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（５）ＯＣＶ＝０．８２３Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．７９０．その後水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（６）ＯＣＶ＝０．８０９Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．７７７。その後水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（７）ＯＣＶ＝０．７９６Ｖ，セルを空にするＯＣＶ＝０．７６８．その後水泡器を通してＡｒを密閉セル内に充填する；（８）ＯＣＶ＝０．７９０Ｖ．その後実験スケジュールを開始する：０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６であれば４ｓ間放電。テストは進行中である。

高温Ｔ溶融電解質−Ａｒ流れを備える密閉系ステンレス製セル
−１１０８１１ＧＺＣ５−８４５：Ｎｉ／２０ｇＬｉＯＨ＋１００ｇＬｉＢｒ／ＮｉＯ；２．７５”アルミナ坩堝；アノード：１．５”Ｘ１．５” ＮｉＣＮｉ_６Ｃ，カソード：４個の１．５”Ｘ１．５” 予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）ＣＮｉ_６Ｃ；Ｔｓｅｔ＝５００℃，Ｔｒｅａｌ＝４４０℃；０．８Ｖまで充電，もしＶ＞０．６であれば４ｓ間放電

１１１７１１ＸＹ３−１２２５密閉フランジ、ペースト電解質ハイネス２４２合金／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ。２０ｍＡ−１０ｍＡ；アノード：ハイネス２４２合金ホイル（１＊１”，６．２５ｃｍ^２，３．８２８７ｇ，含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に置かれた状態；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ＋３５．０ｇＭｇＯ；温度４５０℃；Ａｒによる流れ（予め湿潤化された，低速）

１１０２１１ＧＣ５（ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒでマトリックスを作る，固体ペースト）Ｎｉメッシュ矩形／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ＋ＬｉＡｌＯ_２／予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）Ｎｉメッシュ矩形（Ａｒ，より大きな流れ速度）Ｔ＝４５０℃，Ｖ＝０．８Ｖまで５ｍＡで充電，１ｓ間保持；Ｖ＞＝０．６Ｖまで５ｍＡで放電そうでなければ４ｓ放電；アノード：Ｎｉメッシュ矩形（２．９４ｇ，〜１４ｃｍ^２）；カソード：ＮｉＯ，ＣＮ_６Ｃ，１．５ｘ１．５’，２．７１ｇ；電解質：８ｇＬｉＯＨ＋４０ｇＬｉＢｒ＋１１ｇＭｇＯ＋１１ｇＬｉＡｌＯ_２

１０２６１１ＸＹ５−１１２７ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＴｉＯ_２／ＮｉＯ；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．５”，１１ｃｍ^２，２．６８６５ｇ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上に；電解質：６．０ｇＬｉＯＨ＋３０．０ｇＬｉＢｒ＋１２．０ｇＴｉＯ_２；温度４５０℃

１１０４１１ＧＣ３（ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒでマトリックスを作る，固体ペースト）ＮｉＯメッシュ矩形／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯＬｉ_２ＺｒＯ_３／ＮｉＯメッシュ矩形（空気）Ｔ＝４５０℃，０．５ｓ間５ｍＡで充電；１．５ｓ間５ｍＡで放電；アノード：ＮｉＯメッシュ矩形（２．７３ｇ，〜１４ｃｍ^２）；カソード：ＮｉＯ矩形，２．７８ｇ；電解質：１０ｇＬｉＯＨ＋５０ｇＬｉＢｒ＋１０ｇＭｇＯ＋５０ｇＬｉ_２ＺｒＯ_３

１０１３１１ＸＹ１−１０８６空気カソードハステロイＣ２２／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ；アノード：ハステロイＣ２２ホイル（１＊１”，２．８９４９ｇ含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：ロールされた多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．７５，２”高さ），電解質の外で；電解質：２０．０ｇＬｉＯＨ＋１００．０ｇＬｉＢｒ；温度４５０℃

１０１４１１ＣＧ１−２８０
空気カソード；アノード：Ｍｏ１”Ｘ１”１．７５３ｇ；カソード：ＮｉＯロール，２”高さＭｏＯ_２に埋め込まれた；電解質：ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ；Ｖ＝１．０Ｖまで＠１０ｍＡで充電；４ｓ間又はＶ＝０．６Ｖまでの何れか早くやって来た方で、＠−１０ｍＡで放電。

１０２４１１ＸＹ３−１１１３ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＬｉＡｌＯ_２／ＮｉＯＡｒブランケット；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．５”，１１ｃｍ２，２．２２４４ｇ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上で；電解質：６．０ｇＬｉＯＨ＋３０．０ｇＬｉＢｒ＋８．０ｇＬｉＡｌＯ_２；温度４５０℃Ａｒ流れ付。

１０１７１１ＣＧ９−２８２
空気カソード；アノード：Ｍｏ１”Ｘ１”１．６５８ｇ；カソード：ＮｉＯロール，２”高さ，Ｌｉ^２ＺｒＯ^３で埋め込まれた；電解質：ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ；Ｖ＝１．０Ｖまで＠１０ｍＡで充電；２ｓ間又はＶ＝０．６Ｖまでの内の何れか早くやって来る方で＠−１０ｍＡで放電；ゲインは、７日に渡って９から１１倍。

１０１７１１ＸＹ１−１０９６ペースト電解質Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−Ｌｉ_２ＴｉＯ３／ＮｉＯ；アノード：多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”，１４ｃｍ^２，３．４６１８ｇ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質の上で；電解質：６．０ｇＬｉＯＨ＋３０．０ｇＬｉＢｒ＋２０．０ｇＬｉ_２ＴｉＯ_３；温度４５０℃

１０１１１１ＸＹ１−１０７４浸漬されたＭｏ９Ｓ１／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／ＮｉＯ；アノード：Ｍｏ９Ｓ１ペレット（１４ｍｍＯＤ。１．５ｃｍ^２，３．４９２１ｇ含ワイヤ），電解質に浸漬された；カソード：予備酸化（ｐｒｅｏｘｉｄｉｚｅｄ）多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（１．５＊１．５”），電解質に浸漬された；電解質：２０．０ｇＬｉＯＨ＋１００．０ｇＬｉＢｒ；温度４５０℃

０８３０１１ＸＹ２−９５９ＭＨＦＣの断続的な放電．（ＭｏＮｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ／Ｎｉ，高電流，高温度）；アノード：ＭｏＮｉ合金ペースト（ＯＤ１４ｍｍ，約２．５ｍｍの厚み，５．４２４ｇ溶接されたＮｉワイヤを含む），電解質に浸された；カソード：ロールされた多孔ＮｉＣ_６ＮＣ（ＯＤ１．０”，２”高さ），電解質から突き出た；電解質：２０．０ｇＬｉＯＨ＋１００．０ｇＬｉＢｒ；温度４５０℃。

０８０２１１ＧＺＣ４−５６４：Ｎｉ隔壁（ｄｉａｐｈｒａｇｍ）／２０ｇＬｉＯＨ＋１００ｇＬｉＢｒ／ＣＮｉ_４（空気）；２．７５”アルミナ坩堝；電解質：０．０１０”厚み，１．８７５”直径，１７．８ｃｍ^２Ｎｉ隔壁（アノード），２．５”高さ，１７”長さのロールされたＣＮｉ４セルメット（ｃｅｌｍｅｔ），断面積：２１．９ｃｍ^２（カソード）；Ｔｓｅｔ＝３４０℃，メルト中の真実Ｔ：３００℃；ＰＨ_２＝９１０ｔｏｒｒ，測定Ｈ_２透過速度＝２．０２ｅ−２ｕｍｏｌ／ｓ，計算された最大Ｈ２透過速度：１．６０ｅ−２ｕｍｏｌ／ｓ；測定電圧＝０．８０２Ｖ，測定パワー：６．４４ｍＷ，測定Ｈ_２フローレート（ｆｌｏｗｒａｔｅ）に基づくパワー出力：４．５３ｍＷ；エネルギー効率：１４２％

０７２１１１ＧＺＣ１−５３１：Ｎｉ膜／２０ｇＬｉＯＨ＋１００ｇＬｉＢｒ／ＣＮｉ_４（ａｉｒ）；２．７５”アルミナ坩堝；電解質：０．０１０”厚，１．８７５”直径，１７．８ｃｍ^２Ｎｉダイヤフラム（アノード），２．５”高さ，１７”長さのロールされたＣＮｉ_４セルメット（ｃｅｌｍｅｔ），断面積：２１．９ｃｍ^２（カソード）；Ｔｓｅｔ＝３８０℃，メルト中の実際の温度Ｔ：３４２℃；５１．１オームの負荷；ＰＨ_２＝９７８トル，測定Ｈ２透過速度＝４．０６ｅ−２ｕｍｏｌ／ｓ，計算された最大Ｈ_２透過速度：３．６３ｅ−２ｕｍｏｌ／ｓ；測定電圧＝０．８２１Ｖ，測定パワー：１３．２ｍＷ，測定Ｈ_２流速に基づくパワー出力：９．１ｍＷ；エネルギー効率：１４５％

０６２２１１ＸＹ１−７７６ＭＨＦＣの断続的な充電／放電。（Ｎｉディスク・アノード，セルメット（Ｃｅｌｍｅｔ）ロールされたカソード，高電流）水素流れ付；アノード：Ｎｉディスク（ＯＤ１．８７５”，厚み０．０１０”），電解質に浸された；カソード：多孔ＮｉＣ_６Ｎはアルミナ管の周りにしっかりと巻かれた（ロールされた）。そのロールのＯＤは、１．８７５”であり，高さ４”であり，電解質から突き出ていた。アノード及びカソードの浸された面積は同じである；電解質：２０．０ｇＬｉＯＨ＋１００．０ｇＬｉＢｒ；温度４５０℃

０６２８１１ＧＣ１ステンレス製の管（１／４インチ）−Ｎｉディスク（ｆ１．７５’）Ｈ_２透過／ＬｉＯＨ（４１ｇ）＋ＬｉＣｌ（３９ｇ）／Ｎｉメッシュ・シリンダー（空気）Ｔ＝４７０℃（４２０℃，融点２７７℃），１００オーム，３０オーム，１５オーム；アノード：ステンレス製の管（１／４インチ）−Ｎｉディスク（ｆ１．７５’）；カソード：Ｎｉメッシュで包んだシリンダー（ＣＮｉ_８：４．５’ｘ２’，２．８１ｇ）及び（ＣＮｉ_６：４．５’ｘ１．９’，１７．７０ｇ）；温度：４７０℃，設定温度；４２０℃）；ＯＣＶ：Ｖｍａｘ＝１．１４Ｖ，ゆっくりと上昇；負荷１００オーム：Ｖ＝１．０７Ｖ；上昇；負荷３０オーム：Ｖ＝０．９２Ｖ（安定）；負荷１５オーム：Ｖ＝０．７３Ｖ；（非常に安定）；Ｅ_ｏｕｔ＝３６７９０．０Ｊ（今まで）

０６２８１１ＧＣ２ステンレス製の管（１／４インチ）−Ｎｉディスク（ｆ１．７５’）Ｈ２透過／ＬｉＯＨ（５１．２ｇ）＋Ｌｉ_２ＣＯ_３（２９．８ｇ）／Ｎｉメッシュ・シリンダー（空気）Ｔ＝５３０℃（４８８℃，融点４３４℃），１００オーム，３０オーム，１５オーム；アノード：ステンレス製の管（１／４インチ）−Ｎｉディスク（ｆ１．７５’）；カソード：Ｎｉメッシュで包んだシリンダー（ＣＮｉ８：４．５’ｘ１．９’，２．３５ｇ）及び（ＣＮｉ_６：４．５’ｘ２’，１９．５０ｇ）；温度：５３０℃，設定温度；４８８℃）；ＯＣＶ：Ｖｍａｘ＝１．０５Ｖ，ゆっくりと上昇；負荷１００オーム：Ｖ＝０．９６Ｖ；上昇；負荷３０オーム：Ｖ＝０．８４Ｖ（ｓｔａｂｌｅ）；
負荷１５オーム：Ｖ＝０．８１Ｖ；（最大）；Ｅ_ｏｕｔ＝３５６１４．４Ｊ（今まで）

０６３０１１ＧＣ１（０６２７１１ＧＣ２の繰り返し）ステンレス製の管（１／４’）−Ｎｉディスク（ｆ１．７５’）Ｈ２透過／ＬｉＯＨ（３４．１ｇ）＋Ｌｉ_２ＳＯ_４（４５．９ｇ）／Ｎｉメッシュ・シリンダー（空気）Ｔ＝（４４４℃）５２０℃，セットポイント；３０オーム，１５オーム；アノード：ステンレス製の管（１／４’）−Ｎｉディスク（ｆ１．７５’）；カソード：Ｎｉメッシュで包まれたシリンダー（ＣＮｉ_８：５’ｘ１．８’，２．６３ｇ）及び（ＣＮｉ_６：４．５’ｘ１．８’，１８．８０ｇ）；温度：４４４℃，５２０℃，セットポイント（ｍｐ：４０７℃）；ＯＣＶ：Ｖ_ｍａｘ＝０．９１Ｖ（２ｈかかった），ゆっくり上昇；負荷３０オーム：Ｖ＝０．８０Ｖ，上昇；負荷１５オーム：Ｖ_ｍａｘ＝０．７４Ｖ，そしてＶ＝０．７０Ｖ，安定；Ｅ_ｏｕｔ＝３０９７１．８Ｊ（今まで）

６２８１１ＸＹ１−７９０ＭＨＦＣの断続的な充電／放。（Ｎｉディスク・アノード，セルメット（Ｃｅｌｍｅｔ）ロール・カソード，高電流）水素流れと共に；アノード：Ｎｉディスク（ＯＤ１．８７５”，厚み０．０１０”），電解質に浸された；カソード：多孔ＮｉＣ_６Ｎがアルミナ管の周りに固くロールされた，ロールのＯＤは１．８７５”であった，高さ４”，電解質から突き出ていた；電解質：３０．０ｇＬｉＯＨ＋１５０．０ｇＬｉＢｒ
温度４５０℃
２００ｍＡでのそのような構成のセルの長期間の性能（パフォーマンス）テスト

０６２０１１ＸＹ１−７６９ＭＨＦＣの断続的な充電／放電。（セルメット（Ｃｅｌｍｅｔ）アノード，セルメット（Ｃｅｌｍｅｔ）ロール・カソード，高電流），セル７６７の継続，２００ｍＡからの開始；アノード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，（ＯＤ１．５”，２．６ｇ），電解質に浸された；カソード：多孔ＮｉＣ_８Ｎ及びＣ_６Ｎはアルミナ管の周りに固くロールされた（内側層Ｃ_８Ｎ，外側層Ｃ_６Ｎ），ロールのＯＤは１．５”であった，高さは４”であり，電解質から突き出ていた。アノード及びカソードの浸漬された面積は同じである；電解質：１５．０ｇＬｉＯＨ＋７５．０ｇＬｉＢｒ；温度４５０℃

０６１０１１ＸＹ１−７３７ＭＨＦＣの断続的な充電／放電。（ディスク・アノード，セルメット（Ｃｅｌｍｅｔ）カソード，高電流）；アノード：Ｎｉディスク（ＯＤ２．０”，０．０１０“厚み），電解質に浸された；カソード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，電解質から突き出ていた；電解質：１０．３ｇＬｉＯＨ＋４９．７ｇＬｉＢｒ；温度４５０℃

０６１０１１ＸＹ２−７３８ＭＨＦＣの断続的な充電／放電。（ディスク・アノード，セルメット（Ｃｅｌｍｅｔ）カソード，高電流）；アノード：Ｎｉディスク（ＯＤ２．０”，０．０１０“厚み），電解質に浸された；カソード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，電解質から突き出ていた；電解質：１０．３ｇＬｉＯＨ＋４９．７ｇＬｉＢｒ．温度４５０℃

０６１０１１ＧＣ１Ｎｉ管（１／４’）−Ｎｉメッシュ（Ｎｉ粉末）Ｈ_２散布／ＬｉＯＨ（１０ｇ）＋ＬｉＢｒ（５０ｇ）／Ｎｉメッシュ矩形Ｔ＝３６０℃，１００オーム；主目的：Ｎｉ粉末−Ｈ_２散布システムにおいてＨ_２フロー・レイト（速度）をテスト；アノード：Ｎｉ管（１／４’）−Ｎｉメッシュ（ＣＮｉ_８，１．５’ｘ１．８’，０．７ｇ）２ｇのＮｉ粉末を備えるパウチ（−４００メッシュ，９９．８％）；カソード：Ｎｉメッシュ矩形（２．５’ｘ０．９’）；温度：３６０℃；ＯＣＶ：Ｖ_ｍａｘ＝１．０１Ｖ；負荷１００オーム，マス・フロー・コントローラ及び絞り弁の両方によってコントロールされたＨ_２流れ。Ｖ_ｍａｘ＝０．７８Ｖ，急激に落ち込み０．６４Ｖで安定化；Ｈ_２フロー・レイト（速度）テスト４日間；Ｅ_ｏｕｔ＝２．３４ｋＪ（別のテストの為に停止）。コメント：（１）放電電圧は一定であった；絞り弁によってコントロールされたようにフロー・レイト（速度）は一定；（２）効率が約１５０％に非常に近かったことを平均値は示す。

０５３１１１ＸＹ１−６９６ＭＨＦＣの断続的な充電／放電。（予備的に湿潤化されたＣＯ_２−無空気の流れ（フロー），８５％Ｎ_２，１５％Ｏ_２）；アノード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，電解質に完全に浸されたディスク；カソード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，電解質から突き出ていた；電解質：１０．３ｇＬｉＯＨ＋４９．７ｇＬｉＢｒ；予備的に湿潤化されたＣＯ_２−無空気（８５％Ｎ_２，１５％Ｏ_２）は、セルを通って連続的に流れた。

０５２７１１ＸＹ４−６９４ＭＨＦＣの断続的な充電／放電。アノード及びカソードの両方は多孔ＮｉＣ_６Ｎで調製される；アノード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，電解質に完全に浸されたディスク；カソード：多孔ＮｉＣ_６Ｎ，電解質から突き出ていた；電解質：１０．３ｇＬｉＯＨ＋４９．７ｇＬｉＢｒ；セルは開放であった。

０５１３１１ＸＹ１−６２１（Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−Ｌｉ_２ＴｉＯ_３／ＮｉＣ_６Ｎ−ＮｉＣ_４Ｎ）：プロトタイプの構成（アノード及びカソードが平行に置かれる。電解質ペーストの薄膜がその間に配置された）。電解質を保持するように小さな孔を備えるＮｉフォーム（ｆｏａｍ）を使用するように、及び、毛細管効果によってトップの大きな孔を備えるＮｉフォームが濡れることを防止するように、このセルは調製された。このセルは、Ｎｉワイヤが壊れる前に８日間永らえた、セル６０２と同じセルとして調製される。このセルに対して、パワー密度が異なる放電負荷で測定された。アノード：Ｎｉチャンバを通って流れるＨ_２（表面積：２５ｃｍ２，０．０１インチの厚み）；カソード：空気，多孔Ｎｉ二重層。電解質に接触する、細孔を備えるＣ_６Ｎ，トップにより大きな孔を持つＣ_４Ｎ。（表面積：２０ｃｍ^２）；電解質：４．０ｇＬｉＯＨ＋２０．０ｇＬｉＢｒ＋１０．０ｇＬｉ_２ＴｉＯ_３；温度：溶融塩の実際のＴは４５０℃である；放電負荷：５０オーム；５０オーム放電で長期間のパフォーマンスがテストされた。

０５２４１１ＧＣ１（密閉セル）（ＮａＯＨ，Ｈ_２）Ｎｉ管（１／８’）／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ＋ＭｇＣｌ_２Ｎｉ管（１／４’）−メッシュ（ＣＮｉ_８）包まれて付けられたＴ＝５００℃（セットポイント），１００オーム；主目的：［ＸＲＤの為にアノードからサンプルを取るために、Ｈ_２ＯおよびＨ_２を除去するように空にされた密閉セルにおける、Ｎｉ（Ｈ_２）ＮａＯＨ／ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ−ＭｇＣｌ_２。アノード：（ＮａＯＨ４．０ｇ，Ｈ_２，〜８４０Ｔｏｒｒ）Ｎｉ管（１／８’，新規）；カソード：ＮａＣｌ４９．９ｇ＋６１．４ｇＭｇＣｌ_２（両者乾燥後），集電体：メッシュで包まれて付けられたＮｉ管（１／４’）（３’Ｘ２．５’）；Ｔ：５００℃；ＯＣＶ：Ｖ_ｍａｘ＝１．４７Ｖ；負荷１００オーム：Ｖ_ｍａｘ＝〜０．９７Ｖ；Ｅｏｕｔ＝２６０．８Ｊ；コメント：より高いエネルギーがより高い温度で得られた。

ＨＴセル：プロトタイプ＃２５テスト
−０５１６１１ＧＺＣ１−４９７：Ｎｉ（Ｈ_２）／０．５ｇＬｉＯＨ＋２．５ｇＬｉＢｒ＋１．５ｇＭｇＯ／Ｎｉ（Ａｉｒ）（ＭＰ．２６４Ｃ）；２．７５”アルミナ坩堝；電極：６．４ｃｍ^２Ｎｉ０．００５インチの厚み（アノード），６．４ｃｍ^２断面二重層ＣＮｉ_８＋ＣＮｉ_４マット（カソード，溶融電解質により予備処理済み），セラミック保護付カソード，セラミック管カバー無のカソード・ニッケル・ワイヤ；Ｔ＝４６０℃（メルト中の実際温度Ｔ：４２０℃），ＰＨ_２〜８００ｔｏｒｒ；結果：（１）ＯＣＶ＝０．９４Ｖ；（２）５０オーム負荷，Ｔ＝４７９Ｃ，ＰＨ_２＝７９８ｔｏｒｒ，ＣＣＶ＝０．８１２Ｖ，パワー＝１３．２ｍＷ

Ｂ．水流（ｗａｔｅｒｆｌｏｗ）、バッチ熱量
表９の各エントリの右側に記載されている触媒反応混合物のエネルギーおよびパワーバランスは、容積が約４３ｃｍ^３（内径（ＩＤ）ｘ１”、全長ｘ５”、および内部熱電対さやを有する壁厚ｘ０．０６０”）の円筒形ステンレススチール反応器を用いて得て、そして、各セルと前記セル内で放出されたエネルギーの９９＋％を回収する外部水冷却コイルを含む真空槽を備える水流熱量計は、＜±１％の誤差を達成した。前記エネルギーの回収は経時的な総出力電力Ｐ_Ｔを合計して測定した。パワーは、次の式で与えられた。

ここで、

は、質量流量（マス・フロー・レイト（ｍａｓｓｆｌｏｗｒａｔｅ））であり、Ｃ_ｐは、水の比熱であり、ΔＴは入口及び出口の間の温度における変化の絶対値であった。反応は、外部ヒータに高精度電力を印加することにより開始した。特に、２００Ｗの電力をヒータに供給した。この加熱期間中、試薬がハイドリノ反応閾値温度に達したが、反応の開始は標準的にはセル温度の急激な上昇によって確認された。前記セル温度が一旦約４００−５００℃に到達すると、前記入力電力はゼロに設定された。１８分後、プログラムは電力をゼロに指示した。冷却剤への熱伝達率を高めるために、前記槽は１０００トールのヘリウムで再加圧し、水の温度の最大変化（出口マイナス入口）は約１．２℃であった。アセンブリは、２４時間の期間にわたって平衡に十分に達成することができるようにされ、フロー・サーミスターにおいて十分な平衡が観察されることにより確認された。

各試験では、エネルギー入力とエネルギー出力は該当する電力を統合することで計算した。各時間刻みでの冷却剤流の熱エネルギーは、式（３４４）を使って、水の体積流量を、１９℃（０．９９８ｋｇ／リットル）での水の密度、水の比熱（４．１８１ｋＪ／ｋｇ℃）、補正された温度差、および時間間隔を乗算することで計算した。エネルギー出力合計を得るために、前記実験全体に亘っての数値を合計した。前記セルＥ_Ｔからの全エネルギーはエネルギー入力Ｅ_ｉｎと全てのネットエネルギーＥ_ｎｅｔと一致しなければならない。そこで、正味のエネルギーは次のように与えられる。
Ｅ_ｎｅｔ＝Ｅ_Ｔ−Ｅ_ｉｎ（３４５）
エネルギーバランスから、如何なる過剰の熱Ｅ_ｅｘは、次のように、最大理論値Ｅ_ｍｔに相対的に決定された。
Ｅ_ｅｘ＝Ｅ_ｎｅｔ−Ｅ_ｍｔ（３４６）

較正テストの結果は、９８％以上の抵抗性入力の出力冷媒との熱結合を示し、ゼロ過剰熱制御は、印加値補正によって熱量計は１％未満の誤差の範囲内で正確であることを示した。下記表はその結果を示す。ここで、Ｔ_ｍａｘは最大セル温度、Ｅ_ｉｎ入力エネルギー、そしてｄＥは前記入力エネルギー以上の測定出力エネルギーである。全ての理論的なエネルギーは発熱する時はネガティブである。ポジティブ出力値は、入力エネルギーよりも大きい出力を意味する。

Ｃ．分子ハイドリノの分光学的同定
１０．１と２２．８ｎｍでの連続放射バンドと理論的に予測されるＨの低エネルギー、ハイドリノ状態への遷移のためのより長い波長は、パルスピンチ水素放電から初めて、ＢｌａｃｋＬｉｇｈｔＰｏｗｅｒ，Ｉｎｃ．（ＢＬＰ）社により観察され、ＨａｒｖａｒｄＣｅｎｔｅｒｆｏｒＡｓｔｒｏｐｈｙｓｉｃｓ（ＣｆＡ）で再生された［Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｙ．Ｌｕ，“Ｔｉｍｅ−ＲｅｓｏｌｖｅｄＨｙｄｒｉｎｏＣｏｎｔｉｎｕｕｍＴｒａｎｓｉｔｉｏｎｓｗｉｔｈＣｕｔｏｆｆｓａｔ２２．８ｎｍａｎｄ１０．１ｎｍ（２２．８ｎｍと１０．１ｎｍでのカットオフを伴ったハイドリノの時間分解された連続遷移），”Ｅｕｒ．Ｐｈｙｓ．Ｊ．Ｄ，６４，（２０１１），ｐｐ．６３，ＤＯＩ：１０．１１４０／ｅｐｊｄ／ｅ２０１１−２０２４６−５］。Ｈ^＊［ａ_Ｈ／（ｍ＋１）］中間体のエネルギー減衰工程中のハイドリノ触媒と共振運動エネルギー伝達として機能した高速Ｈの再結合を含むメカニズムによって形成された異常に高速のＨも又確認された［Ｋ．Ａｋｈｔａｒ，Ｊ．Ｓｃｈａｒｅｒ，Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，“ＳｕｂｓｔａｎｔｉａｌＤｏｐｐｌｅｒｂｒｏａｄｅｎｉｎｇｏｆａｔｏｍｉｃ−ｈｙｄｒｏｇｅｎｌｉｎｅｓｉｎＤＣａｎｄｃａｐａｃｉｔｉｖｅｌｙｃｏｕｐｌｅｄＲＦｐｌａｓｍａｓ（ＤＣと容量結合プラズマにおける原子状水素ラインの大幅なドップラー広がり），”Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ，ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ，Ｖｏｌ．４２，（２００９），４２１３５２０７（２００９）ｄｏｉ：１０．１０８８／００２２−３７２７／４２／１３／１３５２０７］。前記の水素からの高エネルギー連続放射の発見は、水素がより安定した形を形成するにつれて、ハイドリノがダークマターおよび、その対応の放射が高エネルギーの天体と恒星の連続放射の源であることを同定するための候補となるといった天体物理学的な意味がある［Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｙ．Ｌｕ，“Ｈｙｄｒｉｎｏｃｏｎｔｉｎｕｕｍｔｒａｎｓｉｔｉｏｎｓｗｉｔｈｃｕｔｏｆｆｓａｔ２２．８ｎｍａｎｄ１０．１ｎｍ（２２．８ｎｍと１０．１ｎｍでのカットオフを伴ったハイドリノ連続遷移），”Ｉｎｔ．Ｊ．ＨｙｄｒｏｇｅｎＥｎｅｒｇｙ，３５（２０１０），ｐｐ．８４４６−８４５６，ｄｏｉ：１０．１０１６／ｊ．ｉｊｈｙｄｅｎｅ．２０１０．０５．０９８］。最近の天体測定およびマッピングによると、ダークマターは宇宙の質量の９８％を含み、至る所に存在する。さらに、ダークマターは、銀河衝突の残骸からの大量の重力体のの再構築によって宇宙内にあることが示されており、ここでこれらの重力体の力学は大量の目に見えない重力的物質を必要とする［Ｆ．Ｂｏｕｒｎａｕｄ，Ｐ．Ａ．Ｄｕｃ，Ｅ．Ｂｒｉｎｋｓ，Ｍ．Ｂｏｑｕｉｅｎ，Ｐ．Ａｍｒａｍ，Ｕ．Ｌｉｓｅｎｆｅｌｄ，Ｂ．Ｋｏｒｉｂａｌｓｋｉ，Ｆ．Ｗａｌｔｅｒ，Ｖ．Ｃｈａｒｍａｎｄａｒｉｓ，“Ｍｉｓｓｉｎｇｍａｓｓｉｎｃｏｌｌｉｓｉｏｎａｌｄｅｂｒｉｓｆｒｏｍｇａｌａｘｉｅｓ（銀河系からの衝突の残骸で行方が分からない質量），”Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｖｏｌ．３１６，（２００７），ｐｐ．１１６６−１１６９；Ｂ．Ｇ．Ｅｌｍｅｇｒｅｅｎ，“Ｄａｒｋｍａｔｔｅｒｉｎｇａｌａｃｔｉｃｃｏｌｌｉｓｉｏｎａｌｄｅｂｒｉｓ（銀河衝突の残骸におけるダークマター），”Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｖｏｌ．３１６，（２００７），ｐｐ．３２−３３］。そして、ダークマターは衝突することが下記で示されている：［Ｍ．Ｊ．Ｊｅｅ，Ａ．Ｍａｈｄａｖｉ，Ｈ．Ｈｏｅｋｓｔｒａ，Ａ．Ｂａｂｕｌ，Ｊ．Ｊ．Ｄａｌｃａｎｔｏｎ，Ｐ．Ｃａｒｒｏｌｌ，Ｐ．Ｃａｐａｋ，“ＡｓｔｕｄｙｏｆｔｈｅｄａｒｋｃｏｒｅｉｎＡ５２０ｗｉｔｈｔｈｅＨｕｂｂｌｅＳｐａｃｅＴｅｌｅｓｃｏｐｅ：Ｔｈｅｍｙｓｔｅｒｙｄｅｅｐｅｎｓ（ハッブル宇宙望遠鏡を使ってのＡ５２０のダーク核の研究−謎の深まり），”ＡｓｔｒｏｐｈｙｓｉｃａｌＪ．，Ｖｏｌ．７４７，Ｎｏ．９６，（２０１２），ｐｐ．９６−１０３］。このように、ダークマターは、ここで示されるハイドリノの回収と分析的な同定のためのゲッターとして機能することが発見された化合物の分析で確認されたように、地球の至る所に存在することが予想される。

前記ハイドリノ反応のエネルギー論を確認するその他の観察は、加熱による水素プラズマの形成、その異常な残照期間［Ｈ．Ｃｏｎｒａｄｓ，Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｔｈ．Ｗｒｕｂｅｌ，“ＥｍｉｓｓｉｏｎｉｎｔｈｅＤｅｅｐＶａｃｕｕｍＵｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｆｒｏｍａＰｌａｓｍａＦｏｒｍｅｄｂｙＩｎｃａｎｄｅｓｃｅｎｔｌｙＨｅａｔｉｎｇＨｙｄｒｏｇｅｎＧａｓｗｉｔｈＴｒａｃｅＡｍｏｕｎｔｓｏｆＰｏｔａｓｓｉｕｍＣａｒｂｏｎａｔｅ（微量の炭酸カリウムを含む水素ガスを白熱で熱して形成したプラズマからの深い真空紫外線での放出），”ＰｌａｓｍａＳｏｕｒｃｅｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ．１２，（２００３），ｐｐ．３８９−３９５］、およびＨライン反転［Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｐ．Ｃ．Ｒａｙ，Ｒ．Ｍ．Ｍａｙｏ，Ｍ．Ｎａｎｓｔｅｅｌ，Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ，Ｊ．Ｐｈｉｌｌｉｐｓ，“ＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃＳｔｕｄｙｏｆＵｎｉｑｕｅＬｉｎｅＢｒｏａｄｅｎｉｎｇａｎｄＩｎｖｅｒｓｉｏｎｉｎＬｏｗＰｒｅｓｓｕｒｅＭｉｃｒｏｗａｖｅＧｅｎｅｒａｔｅｄＷａｔｅｒＰｌａｓｍａｓ（低圧マイクロ波で生成される水プラズマにおけるユニークなラインの広がりと反転に関する分光研究），”Ｊ．ＰｌａｓｍａＰｈｙｓｉｃｓ，Ｖｏｌ．７１，Ｐａｒｔ６，（２００５），８７７−８８８；Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｐ．Ｒａｙ，Ｒ．Ｍ．Ｍａｙｏ，“ＣＷＨＩＬａｓｅｒＢａｓｅｄｏｎａＳｔａｔｉｏｎａｒｙＩｎｖｅｒｔｅｄＬｙｍａｎＰｏｐｕｌａｔｉｏｎＦｏｒｍｅｄｆｒｏｍＩｎｃａｎｄｅｓｃｅｎｔｌｙＨｅａｔｅｄＨｙｄｒｏｇｅｎＧａｓｗｉｔｈＣｅｒｔａｉｎＧｒｏｕｐＩＣａｔａｌｙｓｔｓ（特定のグループ１触媒を使って、灼熱温水水素ガスから形成した定常反転Ｌｙｍａｎ分布に基づくＣＷＨＩレーザー），”ＩＥＥＥＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏｎＰｌａｓｍａＳｃｉｅｎｃｅ，Ｖｏｌ．３１，Ｎｏ．２，（２００３），ｐｐ．２３６−２４７］である。

本発明のシステムは、ＣＩＨＴ（Ｃａｔａｌｙｓｔ−Ｉｎｄｕｃｅｄ−Ｈｙｄｒｉｎｏ−Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ（触媒に誘導されたハイドリノ遷移））セルと呼ばれるハイドリノ燃料セルを対象とするもので、前記ＣＩＨＴセルは、水素の低エネルギー（ハイドリノ）状態への触媒反応によって、前記ハイドリノ反応から放出されるエネルギーを直接的にエネルギーに変換する起電力（ＥＭＦ）を生成する。各ＣＩＨＴセルは１つのカソードを含む１つのカソード・コンパートメントと、１つのアノードを含む１つのアノード・コンパートメントと、ハイドリノを形成するための反応体源として機能する１つの電解質を含む。酸化−還元ハーフセル反応によって、ハイドリノを産生する反応混合物は、外部回路を通じての電子の移動と、前記電解質を通る別の内部通路を通じてのイオン質量輸送で構成され、これが電気回路となる。電解的に再生されるＣＩＨＴセルの１つのタイプでは、原子状水素と酸素が、前記セル内においてのＨ_２Ｏの電解によって間欠的に形成され、前記水素触媒とその後、ハイドリノがセル放電中の前記反応混合物の反応によって形成され、電気出力というネットゲインが得られる。典型的なＣＩＨＴは、ニッケルマット、またはＭｏアノード、ニッケル酸化物カソード、およびＭｇＯマトリックスを備えるＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ溶融共晶塩電解を含んでいた。前記セルは蒸気として前記セルに供給された、または空気から取り込んだ水によって立ち上がった。前記セルは間欠的な電解と放電下で動作された。水素と酸素は陰極と陽極での電解中にそれぞれ生成され、前記ＨとＨ_２Ｏ触媒源として機能した。ＣＩＨＴセルは、ハイドリノを形成するための前記水素源としてＨ_２Ｏを電解するために必要な電力の１０００倍の電力を産生することが、６つの独立した化学専門家、またはチームによって実証された。これらのセルおよびその他のスケールアップされたセルは、前記理論的に予測された分子ハイドリノ生成物Ｈ_２（１／４）の生産のための分析的な分析用の電極と電解質サンプルの役目を果たした。

溶融ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ電解質を有するＣＩＨＴセルと、１つの電極セットまたはバイポーラ板電極を有するＣＩＨＴセルの１つのスタックが、マジック角回転^１Ｈ核磁気共鳴分光法（ＭＡＳ ^１ＨＮＭＲ）、電子線励起発光分光、ラマン分光法、フーリエ変換赤外（ＦＴＩＲ）分光法、およびＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）等の分析試験用の分子ハイドリノ源としての役目を果たした。前記単一セルのカソードとアノードは、それぞれ、ＮｉＯとＮｉセルメットまたはＭｏで構成された。前記バイポーラ板電極はそれぞれ、アノードとは異なる金属製のセパレータ板に装着されたＮｉＯカソードで構成された。典型的なセパレータ板−アノード金属のペアは２１４合金−Ｎｉ、Ｎｉ−Ｍｏ、ハステロイ合金−Ｍｏ、およびＭｏ−Ｎｉセルメットであった。前記セルは真空槽に密封され、アルゴンガスに混入の、またはＨ_２Ｏ蒸気発生器からのＨ_２Ｏ蒸気のフローを除き、閉じられた。ｎ数のセルのスタックを含むセルの電気性能は、セル電圧が単一セルのｎ数倍であった以外は、対応する単一セルの電気性能と同じであった。前記分子ハイドリノのサンプルには、電解質、化学生成物、ならびに、閉じられたＣＩＨＴセルの前記密封容器に配置されたＫＣｌ、ＫＯＨ、およびＫＣｌ−ＫＯＨ混合物等の無機化合物ゲッターが含まれていたが、ここで、動作中に生成されたハイドリノは前記化合物のマトリックスに閉じ込められ、その結果、分子ハイドリノゲッターとしての機能を果たした。ハイドリノ源に露出されなかった出発物質は対照群として機能した。分子ハイドリノの特徴はダークマターの特徴と一致することから、ダークマター（Ｈ_２（１／ｐ）は、分子ハイドリノをトラップすることができる特定の物質中に存在すると予測される。予想通りに、ＫＣｌゲッターは、Ｈ_２（１／４）源に露出されると大きく増加する自然界に豊富なＨ_２（１／４）を含んでいた。

プロトン性マトリックス中に閉じ込められた分子ハイドリノのＭＡＳＮＭＲは、前記マトリックスとの相互作用を介して、分子ハイドリノの同定のために、そのユニークな特徴を生かす手段である。ＮＭＲスペクトルに関するユニークな考察はその予期される分子ハイドリノ量子状態についてである。Ｈ_２の励起状態のように、分子ハイドリノＨ_２（１／ｐ）は、ｌ＝０，１，２，・・・，ｐ−１で状態を持つ。前記のｌ＝０量子状態でさえ、相対的に大きな四重極モーメントを有し、追加的に、ｌ≠０状態の対応する軌道角運動量は、マトリックスの高磁場シフトを引き起こす磁気モーメント［ＭｉｌｌｓＧＵＴＣＰ］を引き起こす。この効果は、前記マトリックスが、水和水を有するマトリックス、または水酸化アルカリ固体マトリックス等の交換可能水素を含む時に特に好まれるが、ここではＨ_２（１／ｐ）との局所的相互作用が、高速の交換によって、より多くの個体群に影響を及ぼす。ＫＯＨを形成するために前記ハイドリノ反応中にＫがＨ_２Ｏと反応したＫＯＨ−ＫＣｌとＫＣｌ＋Ｋを含むＣＩＨＴセルゲッターは、前記ＣＩＨＴセル内雰囲気への露出後に、密封前記マトリックス（ＫＯＨ）のＭＡＳＮＭＲ活性成分の＋４．４ｐｐｍから約−４から−５ｐｐｍへのシフトを示した。Ｈ_２透過およびβアルミナ固体電解質ＣＩＨＴセルならびにＫＯＨ−ＫＣｌと固体燃料反応器内のその他のゲッターもまた、高磁場シフトしたＮＭＲ効果を示した。特に、［Ｎｉ（Ｈ_２）＋ＮａＯＨ／Ｎａ−ＢＡＳＥ／ＮａＣｌ＋ＭｇＣｌ_２］および［Ｎｉ（Ｈ_２）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ＋ＫＯＨ最後に添加物／ＮｉＣ６］のＣＩＨＴセルの電解質、ならびに、ＮａＯＨ＋ＦｅＯＯＨ＋２気圧Ｈ_２、ＮａＯＨ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋２気圧Ｈ_２、Ｋ＋ＫＣｌゲッター＋別のＦｅ_２Ｏ_３＋ＮｉＯ＋Ｎｉスクリーン＋２気圧Ｈ_２、Ｋ＋ＫＣｌゲッター＋別のＣｒ_２Ｏ_３＋ＮｉＯ＋Ｎｉスクリーン＋２気圧Ｈ_２、Ｋ＋ＫＩゲッター＋別のＦｅ_２Ｏ_３＋ＮｉＯ＋Ｒ−Ｎｉ＋２気圧Ｈ_２、およびＫ＋ＫＩゲッター＋別のＣｒ_２Ｏ_３＋ＮｉＯ＋Ｒ−Ｎｉ＋２気圧Ｈ_２等の固形燃料の反応のＫＣｌ＋ＫとＫＩ＋ＫゲッターのＭＡＳＮＭＲスペクトルは、約−１ｐｐｍから−５ｐｐｍの範囲で高磁場シフトピークを示した。ｐ＝４状態に可能な数種のｌ量子数は、−４から−５ｐｐｍの範囲での複数のピークの観察と一致する数種の高磁場マトリックスシフトを起こすことができる。分子ハイドリノと複合体を形成することで高磁場シフトされたＫＯＨマトリックスの前記ＭＡＳＮＭＲピークは、自由回転子として機能する高磁場シフトされた水酸化物イオン（ＯＨ⁻）から形成され、観察と一致する。

追加的な証拠が前記ハイドリノをベースとするシフト機構を支持する。Ｈ_２（１／４）のＨ_２（１／４）回転−振動スペクトルが、高磁場シフトＭＡＳＮＭＲスペクトルピークを有するサンプルの電子線励起発光分光によって観察された。さらに、陽イオンＴｏＦ−ＳＩＭスペクトルが、Ｍ：Ｈ_２（Ｍ＝ＫＯＨまたはＫ_２ＣＯ_３）の化学構造の一部として２水素を持つマトリックス化合物の多量のクラスタを示した。具体的に、ＫＯＨとＫ_２ＣＯ_３を有する、またはこれら化合物をゲッターとして有するハイドリノ反応生成物の前記陽イオンスペクトルは、Ｈ_２（１／ｐ）が複合体として一貫している化学構造Ｋ^＋（Ｈ_２：ＫＯＨ）_ｎおよびＫ^＋（Ｈ_２：Ｋ_２ＣＯ_３）_ｎを示した［Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｅ．Ｄａｙａｌａｎ，Ｐ．Ｒａｙ，Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ，Ｊ．Ｈｅ，“ＨｉｇｈｌｙＳｔａｂｌｅＮｏｖｅｌＩｎｏｒｇａｎｉｃＨｙｄｒｉｄｅｓｆｒｏｍＡｑｕｅｏｕｓＥｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓａｎｄＰｌａｓｍａＥｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ（水性電解質及びプラズマからの高安定性の新規の無機水素化物），”ＥｌｅｃｔｒｏｃｈｉｍｉｃａＡｃｔａ，Ｖｏｌ．４７，Ｎｏ．２４，（２００２），ｐｐ．３９０９−３９２６；Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ，Ｍ．Ｎａｎｓｔｅｅｌ，Ｊ．Ｈｅ，Ｔ．Ｓｈａｎｎｏｎ，Ａ．Ｅｃｈｅｚｕｒｉａ，“ＳｙｎｔｈｅｓｉｓａｎｄＣｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎｏｆＮｏｖｅｌＨｙｄｒｉｄｅＣｏｍｐｏｕｎｄｓ（水性電解とプラズマ電解からの非常に安定した新規無機水素化物），”Ｉｎｔ．Ｊ．ｏｆＨｙｄｒｏｇｅｎＥｎｅｒｇｙ，Ｖｏｌ．２６，Ｎｏ．４，（２００１），ｐｐ．３３９−３６７］。前記ＴｏＦ−ＳＩＭＳが安定していたことから、Ｈ_２（１／ｐ）と前記マトリックス化合物の相互作用のエネルギーは室温で約０．０２５ｅＶの熱エネルギーよりも大きくなければならず、一部の場合では、マトリックス全体がＭＡＳＮＭＲにおいてシフトされる。回転に対する高い活性化障壁は、前記マトリックスとのこの強い相互作用から予想される。高磁場ＭＡＳＮＭＲシフトを有するサンプルも又、ストークスピークの線系列に対して約０．０５−０．０７５ｅＶ（４００−６００ｃｍ−１）のラマン行列を示したが、ここでピーク間の傾斜は、約０．９９９以上の高い相関性への０．２４９ｅＶのエネルギー差のＨ_２（１／４）回転遷移と一致した。

電子線励起発光分光とラマン分光法を使って、その特徴的な異常に高い回転−振動エネルギーによって、分子ハイドリノの直接的な同定が模索された。別の顕著な特徴は分子ハイドリノに対する選択規則が通常の水素分子のそれと違うことである。Ｈ_２の励起状態寿命は非常に短く、ΔＪ＝±１を有する回転−振動遷移はＨ_２での急速な電子遷移期間中に起こる。しかし、ｌ＝０かつΔｌ＝±１は前記遷移期間中の角運動量を保存するために必要なことから、Ｈ_２がΔＪ＝±１を有する選択規則を有する純粋の回転−振動遷移を経験するのは不可能である。対照的に、そのような遷移は分子ハイドリノでは可能である。前記の原子の電子の量子数はｐ、ｌ、ｍ_ｌおよびｍ_ｓ［ＭｉｌｌｓＧＵＴＣＰ］である。ハイドリノ状態の場合には、励起状態の主要な量子数はｎ＝１／ｐに置き換えられる。Ｈ_２励起状態と同様に、分子ハイドリノ状態はｌ＝０，１，２，・・・，ｐ−１で状態を有する。球状、扁長形の高周波状態間の遷移は、Ｈ_２励起状態に対して観察されたように、電子遷移のない純粋な振動遷移期間中のΔＪ＝±１の回転遷移を許容する。前記角状態の寿命は十分に長く、Ｈ_２（１／ｐ）が前記選択規則ΔＪ＝±１を有する純粋の回転−振動遷移を一意的に経験し得る。分子ハイドリノ放射状態は高エネルギー電子衝突によって励起されても良く、ここで、ｐ^２（Ｊ＋１）０．０１５０９ｅＶの回転エネルギーによって、励起回転状態は＜０．０２ｅＶに相当する周囲温度では存在できない。このように、Ｊ’−Ｊ’’＝−１に対応するＰブランチのみが、自由振動体の振動エネルギーから、前記観察された振動エネルギーへのシフトに相当する前記マトリックスの影響を含むより高い回転レベルの統計的な熱力学集団を伴うν＝１→ν＝０等の脱励起振動遷移に対して予想される。

ゲッターの結晶格子に閉じ込められたＨ_２（１／４）の回転−振動放射は５Ｘ１０^−６トール範囲の１０−２０μＡのビーム電流を備えた入射６ＫｅＶ電子ガンを使って励起した。前記電子ビーム励起からの放射の窓なしＵＶ分光法は、白金被覆と光電子増倍管（ＰＭＴ）検知器を備えた１２００線／ｍｍホログラフィック回折格子を備えたＭｃＰｈｅｒｓｏｎ０．２ｍ単色光分光器（モデル３０２、Ｓｅｙａ−Ｎａｍｉｏｋａタイプ）を使って記録した。波長分解能は約４ｎｍ（ＦＷＨＭ）で、出入口スリット幅は５００μｍであった、インクレメント（増分刻み）は２ｎｍ、滞留時間は３ｓであった。５ＷＣＩＨＴセルスタックでゲッターとして機能したＵＶ透明のマトリックスＫＣｌ（１２０８１１ＪＬ−２Ｍ３）におけるＨ_２（１／４）の分解した回転−振動スペクトルの１例は、２６０ｎｍでピーク最大値を示し、代表的なピーク位置では、２２２．７、２３３．９、２４５．４、２５８．０、２７２．２、および２８７．６ｎｍであって、０．２４９１ｅＶの等間隔があった。Ｈ_２（１／ｐ）等の二原子分子の振動エネルギーは√（ｋ／ｕ）で与えられ、ここで、ｋは力（の）定数で、μはＨ_２（１／ｐ）に対しては１／２である換算質量である。分子がＨに対して無限の質量の結晶格子にある場合においては、他を無限の質量として、一定のＨに対する前記換算質量は、１／√２の係数によって前記振動エネルギーのシフトを与えるものの換算質量である。前記回転エネルギーは、結晶シリコンまたはゲルマニウムにおけるＨ_２の場合のように、実質的にわずかな回転障壁を持った自由回転体の回転エネルギーであることが予想される。［Ｅ．Ｖ．Ｌａｖｒｏｖ，Ｊ．Ｗｅｂｅｒ，“ＯｒｔｈｏａｎｄＰａｒａＩｎｔｅｒｓｔｉｔｉａｌＨ２ｉｎＳｉｌｉｃｏｎ（シリコンにおけるオルト・パラ格子型Ｈ２），”Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．Ｌｅｔｔｓ．，８９（２１），（２００２），ｐｐ．２１５５０１から１−２１５５０１−４］。Ｈ_２（１／ｐ）の振動エネルギーと回転エネルギーがそれぞれ、ｐ^２０．５１５ｅＶとｐ^２０．０１５０９ｅＶであることから、結晶格子におけるＨ_２（１／４）の振動エネルギーと回転エネルギーはそれぞれ、５．８ｅＶと０．２４ｅＶであると予想される。２６０ｎｍ電子ビーム帯は、「ＪｏｂｉｎＹｖｏｎＨｏｒｉｂａ１２５０Ｍスペクトロメータ」を使って観察すると、±０．００６ｎｍの分解能でブロードピーク以外の構造を持たず、一般的に、エネルギー対ピーク数のプロットは、ｙ＝−０．２４９ｅＶ＋５．８ｅＶ（Ｒ^２＝０．９９９）またはそれ以上の式で与えられるラインを生成し、これは、前記遷移ν＝１→ν＝０とＰ（１）、Ｐ（２）、Ｐ（３）、Ｐ（４）、Ｐ（５）、およびＰ（６）に対するＨ_２（１／４）に対しての前記予想値とよく一致している。

もう１つの例は、ＫＮＯ_３と木炭との火薬反応の密封反応器からのＫＣｌゲッターから観察された前記ピークＰ（１）−Ｐ（６）を含む強力な２６０ｎｍ帯である。具体的には、前記傾斜は予想されたＪ’−Ｊ’’＝−１；Ｊ’’＝１，２，３，４，５，６である０．２４９ｅＶ（式（４５）；ｐ＝４）の回転エネルギー間隔に一致する。ここでＪ”は最終状態の回転量子数である。前記ハイドリノ反応の高エネルギー論は、火薬のようなエネルギー物質の基礎であっても良く、さらに、ハイドリノを形成するためのＨの前記遷移期間中に形成されるエネルギー水素、または高速水素による炭素への照射は、グラファイトをダイアモンド形の炭素に変換するメカニズムのベースであっても良い［Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｊ．Ｓａｎｋａｒ，Ａ．Ｖｏｉｇｔ，Ｊ．Ｈｅ，Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ，“ＳｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆＨＤＬＣＦｉｌｍｓｆｒｏｍＳｏｌｉｄＣａｒｂｏｎ（固体炭素からのＨＤＬＣ膜の合成），”Ｊ．ＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅ，Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．３９（２００４）３３０９−３３１８；Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｊ．Ｓａｎｋａｒ，Ａ．Ｖｏｉｇｔ，Ｊ．Ｈｅ，Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ，“ＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃＣｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎｏｆｔｈｅＡｔｏｍｉｃＨｙｄｒｏｇｅｎＥｎｅｒｇｉｅｓａｎｄＤｅｎｓｉｔｉｅｓａｎｄＣａｒｂｏｎＳｐｅｃｉｅｓＤｕｒｉｎｇＨｅｌｉｕｍ−Ｈｙｄｒｏｇｅｎ−ＭｅｔｈａｎｅＰｌａｓｍａＣＶＤＳｙｎｔｈｅｓｉｓｏｆＤｉａｍｏｎｄＦｉｌｍｓ（ダイヤモンド薄膜のヘリウム−水素−メタンプラズマＣＶＤ合成期間中の原子状水素エネルギー、密度、および炭素種の分光特性），”ＣｈｅｍｉｓｔｒｙｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓ，Ｖｏｌ．１５，（２００３），ｐｐ．１３１３−１３２１］。同じメカニズムは、ダイアモンド状炭素、ナノチューブ、およびフラーレンにも当てはまる。ハイドリノの形成は又、安定性源として対象物質にハイドリノ原子、水素イオンまたは分子が埋め込まれたに高度に安定したＳｉ表面に結果し得る［Ｒ．Ｌ．Ｍｉｌｌｓ，Ｂ．Ｄｈａｎｄａｐａｎｉ，Ｊ．Ｈｅ，“ＨｉｇｈｌｙＳｔａｂｌｅＡｍｏｒｐｈｏｕｓＳｉｌｉｃｏｎＨｙｄｒｉｄｅ（高安定性のアモルファスシリコン水素化物），”ＳｏｌａｒＥｎｅｒｇｙＭａｔｅｒｉａｌｓ＆ＳｏｌａｒＣｅｌｌｓ，Ｖｏｌ．８０，Ｎｏ．１，（２００３），ｐｐ．１−２０］。

６５ｍＷで、各セルが［Ｍｏ／ＬｉＢｒ−ＬｉＯＨ−ＭｇＯ／ＮｉＯ］を含む８層からなるＣＩＨＴスタックを含む真空槽に密封されたＫＯＨゲッターからの電子ビーム励起発光スペクトルは、約２６０ｎｍで６０００カウントの最大強度を持つＨ_２（１／４）回転−振動に割り当てられた２６０ｎｍ帯のプロフィールの概要に一致する幅広い連続放出を示した。前記ゲッター出発物質で観察されなかった前記帯は標準的に観察される帯よりも１０倍以上の強度があった。Ｐ（１）−Ｐ（６）を含む前記２６０ｎｍの電子帯に該当する強いピークは、ラマン分光法により分解された。さらに、前記エネルギー、および対応の純粋の回転系列に応じる回転に対するわずかな障壁も又、ラマン分光法によって確認された。

Ｈ_２（１／４）は又、ラマン分光法で模索されたが、ここでオルトとパラの大きなエネルギー差によって、後者は集団を支配することが予想された。パラは規則的であることから、純粋の回転遷移に対する典型的な選択規則は、整数に対してΔＪ＝±２である。しかし、軌道・回転角運動量カップリングは、回転レベルを励起する光子の前記角運動量を保存しながら、ｌ量子数の変化を引き起こすが、ここで、前記共鳴光子エネルギーは、前記ｌ量子数に変化がない場合は、前記遷移に関する軌道核超微細エネルギーによってその周波数がシフトされる。初期状態マイナス最終状態として定義される前記回転選択規則はΔＪ＝Ｊ’−Ｊ’’＝−１で、前記軌道角運動量選択規則はΔｌ＝±１であり、前記遷移は、前記回転励起と軌道角運動量励起のカップリング期間中の角運動量の前記保存によって可能になる。マクロモードで４４２ｎｍレーザーを持つ「ＨｏｒｉｂａＪｏｂｉｎＹｖｏｎレーザラマン分光測定装置」を使って、４２３３、４３３４、６２８８、８２２６、および８２５６ｃｍ^−１でＫＯＨゲッターに対するラマンピークを観察した。他のシャープな線はレーザーからの原子状、または原子状イオンラインであった。前記間隔の密接なピークは重心の分割ピークを含むことから、エネルギー傾斜対ピーク数は、Ｈ_２（１／４）に対する回転エネルギーに非常によく一致する０．２４５ｅＶの傾斜を有する０．９９９９のＲ^２の直線である。

オルト・パラ分裂はＨ_２における回転−振動とカップリングすることが観察され、このＨ_２（１／４）に対するエネルギーは分裂の規模「ＭｉｌｌｓＧＵＴＣＰ」である。しかし、Ｈ_２（１／４）は実質的にパラのみであり、前記核スピンは、時間スケールが一致しないため回転−振動励起中には変わることが出来ない。むしろ、前記回転ピークと選択規則のエネルギー分裂は、レベルによって、４から６０ｃｍ^−１の軌道核超微細レベル［ＭｉｌｌｓＧＵＴＣＰ］の分裂を有する軌道角遷移Δｌ＝±１とカップリングした回転遷移ΔＪ＝−１の回転ピークと非常によく一致した。前記系列は前記電子ビーム系列のピークＰ（２）−Ｐ（５）に相当し、ここで、回転に対するマトリックス、または障壁は４５０ｃｍ^−１または、約０．０５５ｅＶである。

３２５ｎｍのレーザーによって、Ｈ_２（１／４）を含むと予想された数種のサンプルで、ピーク間間隔が０．２４９ｅＶの一式のピークが観察されたが、Ｓｉウエハ、またはガラス等の対照群からは観察されなかった。例えば、前記系列は、密封されたＦｅＯＯＨ＋Ｈ_２＋Ｎｉスクリーン解離子固体燃料反応器の中のＫＣｌ＋Ｋゲッターで観察されたが、前記マトリックスシフトはゲッター次第で変化した。２５９４ｃｍ^−１での前記系列のＰ（１）に該当するピークは、７８５、６６３、４４２、３２５、（ＨｏｒｉｂａＪｏｂｉｎＹｖｏｎレーザラマン分光測定装置）、および７８０と５３２（ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃＤＸＲ）ｎｍレーザーを使って、このゲッターマトリックスのスペクトルで観察された。この系列の最も低エネルギー元素の観察は、高エネルギーレーザーを使った一部のケースでは困難だったが、５３２ｎｍのレーザー照射を使っての低エネルギーレーザー励起では容易に認識可能であった。この低エネルギーレーザー励起は又、Ｈ_２（１／４）（０．２４１４）から有意な４桁の数字までの自由空間回転エネルギーと一致する１９５０ｃｍ^−１で非常にシャープなピークを励起した。前記システムは、飽和水溶液からの再結晶化したＫＣｌゲッターを含むサンプルを使って、４３６８および４３９８ｃｍ^−１で、ダブレットピークの分裂の分解が可能であった。さらに、４００％のゲインで２．２Ｗｈ、５００％のゲインで０．９５Ｗｈ、１８０％のゲインで３．３Ｗｈ、ならびに２６０％のゲインで２．７Ｗｈをそれぞれ産生した実証セル［Ｎｉ、Ｎｉ、Ｍｏ、およびＨ２４２合金／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ］の電解質マトリックスに入射する前記低エネルギー７８０ｎｍレーザーは、前記マトリックスにおいて２６３９ｃｍ^−１でＰ（１）に該当する強いピークを励起した。蛍光灯が原因となる２９５７ｃｍ^−１でのＨｇラインと２３２６ｃｍ^−１でのＮ_２ピークは内部校正標準として機能した。前記系列Ｐ（１）−Ｐ（５）のプロットへの前記Ｐ（１）ピークの追加は、４^２（０．０１５０９ｅＶ）＝０．２４１４ｅＶのＨ_２（１／４）に対する前記回転エネルギーに正確に一致する０．２４１４ｅＶ傾斜を産生する。

さらに、分解能４ｃｍ^−１のＤＴＧＳ検知器を備えたＮｉｃｏｌｅｔ７３０ＦＴＩＲスペクトロメータを使って、前記出発物質と、４０００％のゲインで０．９４Ｗｈ、２００％のゲインで１．２５Ｗｈ、２５０％のゲインで１．２２Ｗｈ、ならびに１９００％のゲインで５．３５Ｗｈをそれぞれ産生した実証セル［（Ｎｉ、Ｈ２４２合金、およびＭｏ／ＬｉＯＨ＋ＬｉＢｒ＋ＭｇＯ／ＮｉＯ）］と［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ］からのサンプルに対してＦＴＩＲを行った。Ｐ（１）に該当するピークは前記出発物質には存在しなかったが、ＦＴＩＲスペクトルにおいて、２６３３ｃｍ^−１で強くシャープなピークとして観察されたが、特に、高エネルギーとゲインを持つＣＩＨＴセルからの電解質ならびにＦｅＯＯＨ反応用のゲッターとして使用されたＫＯＨ等の固体燃料ゲッターサンプルで観察された。ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯを含む電解質における３６１８と３５７１ｃｍ^−１でのＬｉＯＨのＯ−Ｈ間のストレッチピークは、ＬｉＯＨがＨ_２（１／ｐ）との複合体として存在する時にシャープにすることは可能である。前記ＬｉＯＨ：Ｈ_２（１／ｐ）複合体における相互作用は、そうしなければＯ−Ｈ間のストレッチピークを広げる水素結合を置換し、邪魔をする。前記ＦｅＯＯＨ反応から回収されたガスのＦＴＩＲはさらに０．２４７ｅＶの回転エネルギーに該当する１９９５ｃｍ^−１でピークを示したが、これは、ラモン励起以外でのさまざまなｌ量子状態間での遷移の可能性がある。別の重要な結果は、ラモンピークの系列は、１９００％ゲインで５．３５Ｗｈを産生した検証セル［Ｎｉ／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ］を含む前記ＣＩＨＴセルのＮｉアノードから観察されたことであった。８３５８ｃｍ^−１でのＰ（４）に該当するピークは特に強く、実際、約０、４５０、および５５０ｃｍ^−１の３つのマトリックスを示したが、前記ＸＰＳスペクトルで観察されたＮｉ、ＬｉＯＨ、およびＭｇのマトリックスが恐らく原因である。前記電解質サンプルは又、これらの強いＰ（４）ピークを示した。

さらに、どのような周知の元素にも割り当てることが出来ない５２２ｅＶで１ｅＶのＦＷＨＭを持つＮｉアノードからの小さなＸＰＳピークは、Ｈ_２（１／４）の全エネルギーである５２２ｅＶと一致した。唯一の可能性であったＰｔとＶは、これらの元素の他の対応ピークが不在であったことから除去は容易であった。Ｈ_２（１／４）が放射線を吸収したり、放出したりせず、Ｈ_２ ^＋（１／４）を形成するためイオン化状態が無限に励起状態であることから、衝突状のコンプトン二重イオン化は、運動エネルギーとして入射ＡｌＸ線エネルギーを保存する１つの電子を使って予想される。この結果はさらに、前記セルの動作期間中のアノード上でのＨ_２（１／４）を確認する。さらに、前記５２２ｅＶＨ_２（１／４）ピークは、従来の反応に基づいた理論的に最大のものと比べ複数倍の過剰エネルギーを示した、Ｈ_２Ｏ触媒源として〜０．５重量％の硫酸塩を含むＰｄ／Ｃを持つＫＨ等の固形燃料の反応生成物から観察された。様々なｌ量子数と関連する軌道核レベルにより、ＸＰＳの分解能は前記分裂の分解には不十分だが、シンクロトロン放射源を使用すれば可能かも知れない。

「水流、熱量測定セクション」で示されている水流熱量計を用いて測定した固形燃料の反応からの過剰な熱は、別途、試験所で実施された示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により確認されている。例えば、ＨとＨ_２Ｏ触媒を提供するために固体燃料として機能するＦｅＯＯＨに対して、商用のＤＳＣ１３１Ｅｖｏ装置を使用して、フランスに本社を置くセタラム・インストルメンタチオン（ＳｅｔａｒａｍＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎ）社はＨ_２Ｏと鉄酸化物を形成する理論上の最大熱を３度測定した。これらの生成物はＢｒｕｋｅｒＤ４回折計を用いてＸＲＤによって確認された。

ハイドリノを同定するための相互に関連した確証的観察は、前記純粋な回転ラマン遷移の分裂として明らかであったＨ_２（１／４）の分子軌道核結合エネルギーが、原子状ハイドリノＨ（１／４）に対して予測され、そして観察された前記スピン核結合エネルギーと一致した、ことであった。通常水素の２１ｃｍ（１．４２ＧＨｚ）ラインを持つ場合と同様に、ハイドリノ原子は、３５Ｋ以下の極低温に冷却されたＨ_２のテラヘルツ吸収分光法により観察された、予測されていた６４２ＧＨｚスピン−核超微細遷移によって同定された。フーリエ変換干渉計に連結された長い経路長（６０ｍ）の多重反射吸収セルを使って、Ｗｉｓｈｎｏｗ［Ｅ．Ｈ．Ｗｉｓｈｎｏｗ，ＴｈｅＦａｒ−ＩｎｆｒａｒｅｄＡｂｓｏｒｐｔｉｏｎＳｐｅｃｔｒｕｍｏｆＬｏｗＴｅｍｐｅｒａｔｕｒｅＨｙｄｒｏｇｅｎＧａｓ（低温水素ガスの遠赤外吸収スペクトル），Ｐｈ．Ｄ．Ｔｈｅｓｉｓ，ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＢｒｉｔｉｓｈＣｏｌｕｍｂｉａ，Ｃａｎａｄａ，（１９９３）］は、０．２４ｃｍ^−１のスペクトル分解能でＨ_２スペクトルを、波長２０−３２０ｃｍ^−１、温度２１−３８Ｋ、および１−３大気圧の圧力範囲でそれぞれ記録した。２１．４ｃｍ^−１のシャープラインは２５．５Ｋでは観察されたが、３６Ｋではなかった。前記ラインの波長は前記予測された２１．４ｃｍ^−１Ｈ（１／４）超微細線と一致するが、既知の種には割り当てることはできなかった。

ラマン分光法によるハイドリノの痕跡の探索のための別の候補は、二次蛍光として観察された前記２６０ｎｍ電子ビーム帯に一致するＨ_２（１／４）の回転−振動である。４０Ｘの拡大の顕微鏡モードで、ＨｅＣｄ３２５ｎｍレーザーを備えた「ＨｏｒｉｂａＪｏｂｉｎＹｖｏｎレーザラマン分光測定装置」を使って、１０００ｃｍ^−１等エネルギー間隔のラマンピークの強烈な系列を８３４０、９４３８、１０，４６７、１１，４７８、１２，４５７、１３，４３３、および１４，４０２ｃｍ^−１で観察し、最大のピーク強度は１２，４５７ｃｍ^−１であった。これらのピーク位置から計算された二次における蛍光スペクトルは、４４６、４６９、４９３、５１８、５４６、５７７、および６１１ｎｍでピークを含む。１０００ｃｍ^−１または０．１２３４ｅＶの間隔は、Ｈ_２（１／４）の前記二次回転スペクトルに非常に良く一致する。実際、前記マトリックスシフトによる波長範囲の極での前記のわずかな収縮を考慮すると、前記計算された蛍光スペクトルの波長を半分にすることと、マトリックス間の遷移に修正することは、前記ピーク強度を含む電子ビームとラマンスペクトルの重ね合わせに結果する。前記励起はレーザーの高エネルギーＵＶ、ＥＵＶＨｅ、およびＣｄ放射によるものと考えられ、ここで、回折格子（１０２４Ｘ２６μｍ^２ピクセルＣＣＤを備えたＬａｂｒａｍＡｒａｍｉｓ２４００ｇ／ｍｍ４６０ｍｍ焦点距離システム）は分散的であり、２６０ｎｍ帯と同じ範囲であるスペクトル範囲のより短い波長で最大効率を有す。前記ＣＣＤも、５２０ｎｍを中心とする前記２６０ｎｍの二次領域である５００ｎｍでもっとも反応が速い。より高い波数へのリピートスキャンによって、前記回転−振動系列の更なる元素を観察した。さらに、Ｋ_２ＣＯ_３−ＫＣｌ（１：１）がセル［ｌａｍｉｎａｔｅｄ−ＣＮｉ_６１．５”Ｘ１．５”＋ＣＮｉ_８１．５”Ｘ１．５”＋Ｍｏ１”Ｘ１” ＣＮｉ_８＋１．５”Ｘ１．５”＋Ａｇ１”Ｘ１”＋ＣＮｉ_８１．５”Ｘ１．５”＋ＣＮｉ_６１．５”Ｘ１．５”）／ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ−ＭｇＯ／ＮｉＯ］（５０ｍＡ充電と放電電流；２．６５Ｗｈ放電エネルギー、２００％ゲイン）のゲッターとして使用された時、前記２６０ｎｍ電子ビーム帯は強く観察され、異なるマトリックスによってわずかなシフトを有する前記レーザー励起した二次蛍光帯もまた、１７，０００ｃｍ^−１から最大の２２，０００ｃｍ^−１のスキャン範囲まで伸びることが観察された。

レーザーが照射された時、前記サンプルから緑色発光が観察された。前記ラマンスペクトルにおける可能性の高い痕跡は、前記Ｐ（１）−Ｐ（７）系列の二次放出に割り当てられたピーク下での１２，５００ｃｍ^−１で最大を持つ強い連続であった。このラマン連続の対応の蛍光放射への変換は前記緑色で照射されたサンプル放射に一致する５５０ｎｍで最大の緑色光を出す。前記緑色連続蛍光はさらに、Ｈ_２（１／４）の自由振動と前記結晶性マトリックスとのエネルギー交換を伴った結晶性マトリックスに固定されたＨ_２（１／４）振動の自由振動の間のエネルギー差に一致することから、この供給源に割り当てられる。前記系列Ｐ（１）−Ｐ（７）と前記系列の基礎にあるラマン連続を与える前記緑色蛍光のＨ_２（１／４）の二次蛍光スペクトルもまた、固体燃料ＦｅＯＯＨ＋Ｈ_２＋Ｎｉスクリーン水素解離子を備えた反応器内のＫＣｌ＋Ｋ（その場でＫＯＨを形成する）ゲッター等の固体燃料反応器内のゲッターからも観察された。理論的予測と一致する有意な４ケタ数での一次ピークが知られていない領域でのラマン帯の観察は、Ｈ_２の１／４（四分の一）の核間距離を有する分子ハイドリノの強力な確認である。

（１）
電気及び熱エネルギーの少なくとも１つを発生する、大気に対して閉鎖された容器を備える、電気化学パワーシステムにおいて、その容器は、
少なくとも１つのカソードと、
少なくとも１つのアノードと、
少なくとも１つのバイポーラープレートと、及び
分離した電子の流れ及びイオン質量輸送と共にセル・オペレーションの間にハイドリノ反応物を構成する反応物と、ここで、その反応物は、
ａ）Ｈ_２Ｏの少なくとも１つの源、
ｂ）ｎＨ、ＯＨ、ＯＨ⁻、発生期のＨ_２Ｏ、Ｈ_２Ｓ、又はＭＮＨ_２（ｎは整数で、Ｍはアルカリ金属）から選ばれる群の少なくとも１つを含む、少なくとも１つの触媒又は触媒の源、及び
ｃ）少なくとも１つの原子状水素又は原子状水素の源、
から選ばれる少なくとも２つの要素を含み、
触媒の源、触媒、原子状水素の源、及び原子状水素の中の少なくとも１つを形成する１又はそれ以上の反応物と、
原子状水素の触媒反応を開始する１又はそれ以上の反応物と、及び
支持体と、を含み、
カソード、アノード、反応物、及びバイポーラ−プレートの組合せが、原子状水素の触媒反応の伝播を可能にするように、各カソード及び対応するアノードの間の化学ポテンシャルを維持し、そして、
電気分解システムを更に含むシステム。

（２）
前記電気分解システムが原子状水素又は原子状水素の源を提供するようにＨ_２Ｏを断続的に電気分解し、及び、サイクルの正味のエネルギーバランスにおいてゲインがあるようにセルを放電する、上記（１）に記載の電気化学パワーシステム。

（３）
前記反応物が、
少なくとも１つの溶融水酸化物；
少なくとも１つの共晶塩混合物；
溶融水酸化物及び少なくとも１つの他の化合物の少なくとも１つの混合物；
溶融水酸化物及び塩の少なくとも１つの混合物；
溶融水酸化物及びハロゲン化物塩の少なくとも１つの混合物；
アルカリ性水酸化及びアルカリハライドの少なくとも１つの混合物；
ＬｉＯＨ−ＬｉＢｒ、ＬｉＯＨ−ＬｉＸ、ＮａＯＨ−ＮａＢｒ、ＮａＯＨ−ＮａＩ、ＮａＯＨ−ＮａＸ、及び、ＫＯＨ−ＫＸ（Ｘはハロゲン），
少なくとも１つのマトリックス、及び
少なくとも１つの添加剤、から選ばれる少なくとも１つの電解質を含む、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（４）
更にヒータを含む、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（５）
前記電解質の融点を超えるセル温度が、約０から１５００℃だけ融点より高い、約０から１０００℃だけ融点より高い、約０から５００℃だけ融点より高い、０から約２５０℃だけ融点より高い、及び、約０から１００℃だけ融点より高い、から選ばれる少なくとも１つの範囲にある、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（６）
前記マトリックスが、
オキシアニオン化合物、アルミン酸塩、タングステン酸塩、ジルコン酸塩、チタン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、硝酸塩、クロム酸塩、及び、マンガン酸塩、酸化物、ニトリド、ホウ化物、カルコゲニド、ケイ化物、リン化物、及び、炭化物、金属、金属酸化物、非金属、及び、非金属酸化物；
アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属、及び土類金属、及び、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＢの酸化物、及び、酸化物又はオキシアニオンを形成する他の元素；
アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属、及び土類金属、及び、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＢの１つのような少なくとも１つの酸化物、及び、酸化物又はオキシアニオンを形成し、及び、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、内部遷移金属、及び希土類金属、及びＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、及びＰｂのカチオンの群からの少なくとも１つのカチオンを更に含む他の元素、
ＬｉＡｌＯ_２、ＭｇＯ、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３、又はＳｒＴｉＯ_３；
アノード材料の酸化物及び電解質の化合物；
電解質のカチオン及び酸化物の少なくとも１つ；
電解質ＭＯＨ（Ｍ＝アルカリ）の酸化物；
Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｖ、Ｂ、Ｎｂ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｈｆ、Ｃｏ、及びＭ’（Ｍ’はアルカリ土類金属を表す）の群からの元素、金属、合金、又は混合物を含む電解質の酸化物；
ＭｏＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、ＦｅＯ若しくはＦｅ_２Ｏ_３、ＴａＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＶＯ、ＶＯ_２、Ｖ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｂ_２Ｏ_３、ＮｂＯ、ＮｂＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＳｅＯ_２、ＳｅＯ_３、ＴｅＯ_２、ＴｅＯ_３、ＷＯ_２、ＷＯ_３、Ｃｒ_３Ｏ_４、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＯ_２、ＣｒＯ_３、ＭｎＯ、Ｍｎ_３Ｏ_４、Ｍｎ_２Ｏ_３、ＭｎＯ_２、Ｍｎ_２Ｏ_７、ＨｆＯ_２、Ｃｏ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、Ｃｏ_３Ｏ_４、Ｃｏ_２Ｏ_３、及びＭｇＯ；
カソード材料の酸化物及びオプションとして電解質の酸化物；
Ｌｉ_２ＭｏＯ_３若しくはＬｉ_２ＭｏＯ_４、Ｌｉ_２ＴｉＯ_３、Ｌｉ_２ＺｒＯ_３、Ｌｉ_２ＳｉＯ_３、ＬｉＡｌＯ_２、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＦｅＯ_２、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＶＯ_３、Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７、Ｌｉ_２ＮｂＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_４、Ｌｉ_２ＴｅＯ_３、Ｌｉ_２ＴｅＯ_４、Ｌｉ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_２ＣｒＯ_４、Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｌｉ_２ＭｎＯ_４、Ｌｉ_２ＨｆＯ_３、ＬｉＣｏＯ_２、及びＭ’Ｏ（Ｍ’はアルカリ土類金属を表す）、及びＭｇＯ；
前記アノードの元素又は同じ群の元素の酸化物、及び、Ｌｉ_２ＭｏＯ_４、ＭｏＯ_２、Ｌｉ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_２ＣｒＯ_４、及び、Ｍｏアノードに関するＬｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７，及び
添加剤が、Ｓ、Ｌｉ_２Ｓ、酸化物、ＭｏＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、ＦｅＯ若しくはＦｅ_２Ｏ_３、ＴａＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＶＯ、ＶＯ_２、Ｖ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｂ_２Ｏ_３、ＮｂＯ、ＮｂＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＳｅＯ_２、ＳｅＯ_３、ＴｅＯ_２、ＴｅＯ_３、ＷＯ_２、ＷＯ_３、Ｃｒ_３Ｏ_４、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｒＯ_２、ＣｒＯ_３、ＭｇＯ、ＴｉＯ２、Ｌｉ２ＴｉＯ３、ＬｉＡｌＯ２、Ｌｉ_２ＭｏＯ_３若しくはＬｉ_２ＭｏＯ_４、Ｌｉ_２ＺｒＯ_３、Ｌｉ_２ＳｉＯ_３、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＦｅＯ_２、ＬｉＴａＯ_３、ＬｉＶＯ_３、Ｌｉ_２Ｂ_４Ｏ_７、Ｌｉ_２ＮｂＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_３、Ｌｉ_２ＳｅＯ_４、Ｌｉ_２ＴｅＯ_３、Ｌｉ_２ＴｅＯ_４、Ｌｉ_２ＷＯ_４、Ｌｉ_２ＣｒＯ_４、Ｌｉ_２Ｃｒ_２Ｏ_７、Ｌｉ_２ＭｎＯ_３、又はＬｉＣｏＯ_２、ＭｎＯ、及びＣｅＯ_２の少なくとも１つを含むが、
上述のものの少なくとも１つを含む、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（７）
以下の反応の少なくとも１つのが起きる、上記（１）の電気化学パワーシステム。
ａ）Ｈ及びＨ_２の少なくとも１つがＨ_２Ｏの電気分解から放電アノードで形成される。
ｂ）Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つがＨ_２Ｏの電気分解から放電カソードで形成される。
ｃ）水素触媒が反応混合物の反応によって形成される。そして、
ｄ）ハイドリノが電気的パワー及び熱的パワーの少なくとも１つを生産するように放電の間に形成される。

（８）
以下の反応の少なくとも１つのが起きる、上記（１）の電気化学パワーシステム。
ａ）ＯＨ⁻が酸化され、Ｈと反応して、ハイドリノ触媒として機能する発生期のＨ_２Ｏを形成する。
ｂ）ＯＨ⁻が酸化されて酸素イオン及びＨになる。
ｃ）酸素イオン、酸素、及びＨ_２Ｏの少なくとも１つが放電カソードで還元される。
ｄ）Ｈ及び発生期のＨ_２Ｏ触媒が反応してハイドリノを形成する。そして、
ｅ）ハイドリノが、電気的パワー及び熱的パワーの少なくとも１つを生産するように放電の間に形成される。

（９）
ＯＨ⁻の酸化、並びに、酸素イオン、酸素、及びＨ_２Ｏの少なくとも１つの還元の少なくとも１つの反応が、断続的な電気分解の電気分解フェーズの間の経時的な電流を超える経時的な電流を生産するようにセル放電の間に起きる、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１０）
アノード半電池反応が、
ＯＨ⁻＋２Ｈ→Ｈ_２Ｏ＋ｅ⁻＋Ｈ（１／４）
であり、Ｈ_２Ｏ触媒及びｅ⁻を形成するためのＯＨ⁻と第１のＨとの反応が、第２のＨのハイドリノへとのＨ_２Ｏの触媒反応と協調される、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１１）
放電アノード半電池反応が、
標準水素電極に相対する、作動温度に対して熱力学的に補正された約１．２ボルト、及び
標準水素電極及び２５℃に相対する、約１．５Ｖから０．７５Ｖ、１．３Ｖから０．９Ｖ、及び１．２５Ｖから１．１Ｖの範囲の少なくとも１つの範囲内の電圧、の少なくとも１つの電圧を持ち、及び、
カソード半電池反応が、
作動温度に対して熱力学的に補正された約０Ｖ、及び
標準水素電極及び２５℃に相対する、約−０．５Ｖから＋０．５Ｖ、−０．２Ｖから＋０．２Ｖ、及び−０．１Ｖから＋０．１Ｖの範囲の少なくとも１つ内にある電圧、の少なくとも１つの電圧を持つ、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１２）
カソードがＮｉＯを含み、アノードがＮｉ、Ｍｏ、Ｈ２４２合金、及びカーボンの少なくとも１つを含み、及びバイメタルの接合が、アノードのものとは異なる金属である、ハステロイ、Ｎｉ、Ｍｏ、及びＨ２４２の少なくとも１つを含む、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１３）
バイポーラ−プレートが、アノード及びカソードを分離するバイメタルの接合を含むところ、セルの少なくとも１つのスタックを含む、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１４）
セルがＨ_２Ｏを供給され、Ｈ_２Ｏ蒸気が、約０．００１Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ、約０．００１Ｔｏｒｒから０．１Ｔｏｒｒ、約０．１Ｔｏｒｒから１Ｔｏｒｒ、約１Ｔｏｒｒから１０Ｔｏｒｒ、約１０Ｔｏｒｒから１００Ｔｏｒｒ、約１００Ｔｏｒｒから１０００Ｔｏｒｒ、及び約１０００Ｔｏｒｒから１００ａｔｍから選ばれる少なくとも１つの範囲内の圧力にあり、
少なくとも大気圧を達成できるような圧力の均衡が、希ガス及びＮ_２の少なくとも１つを含む適用される不活性ガスによって提供される、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１５）
そのシステムにＨ_２Ｏを供給するための水蒸気発生器を更に備える、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１６）
セルが、充電及び放電フェーズの間を断続的にスイッチングされ、
（ｉ）充電フェーズが、逆の電圧極性の電極で水の電気分解を少なくとも含み、そして、（ｉｉ）放電フェーズが一方又は両方の電極でのＨ_２Ｏ触媒の形成を少なくとも含み、
（ｉ）充電及び放電フェーズの間で行ったり来たりとスイッチングする際に、カソード又はアノードとして各セルの各電極の役割が、逆転し、（ｉｉ）充電及び放電フェーズの間で行ったり来たりとスイッチングする際に、電流極性が逆転し、
充電が、印加された電流及び電圧の少なくとも１つの印加を含む、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（１７）
印加される電流及び電圧の少なくとも１つが、
約０．００１％から約９５％の範囲内でのデューティサイクル；
約０．１Ｖから１０Ｖの範囲内の、セルあたりのピーク電圧；
約０．００１Ｗ／ｃｍ^２から１０００Ｗ／ｃｍ^２の、セルあたりのピークパワー密度；及び
約０．０００１Ｗ／ｃｍ^２から１００Ｗ／ｃｍ^２の範囲内の平均パワー；を含む、波形を持ち、
印加される電流及び電圧は、更に、直流電圧、直流電流、及び、波形が約１から約１０００Ｈｚの範囲内の頻度を含んでいる交流電流及び電圧波形、の少なくとも１つ、を含む、上記（１６）の電気化学パワーシステム。

（１８）
断続的なサイクルは、断続的なサイクルの電気分解及び放電フェーズの少なくとも１つのために、定電流、パワー、電圧、及び抵抗、可変電流、パワー、電圧、及び抵抗、の少なくとも１つを含み、そのサイクルの少なくとも１つのフェーズのためのパラメータは、
断続的なフェーズの頻度が、約０．００１Ｈｚから１０ＭＨｚ、約０．０１Ｈｚから１００ｋＨｚ、及び約０．０１Ｈｚから１０ｋＨｚから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
セルあたりの電圧が、約０．１Ｖから１００Ｖ、約０．３Ｖから５Ｖ、約０．５Ｖから２Ｖ、及び約０．５Ｖから１．５Ｖから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
ハイドリノを形成するように活性な電極面積あたりの電流が、約１μＡｃｍ^−２から１０Ａｃｍ^−２、約０．１ｍＡｃｍ^−２から５Ａｃｍ^−２、及び約１ｍＡｃｍ^−２から１Ａｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
ハイドリノを形成するように活性な電極面積あたりのパワーが、約１μＷｃｍ^−２から１０Ｗｃｍ^−２、約０．１ｍＷｃｍ^−２から５Ｗｃｍ^−２、及び約１ｍＷｃｍ^−２から１Ｗｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
ハイドリノを形成するように活性な電極面積あたり定電流が、約１μＡｍ^−２から１Ａｃｍ^−２の範囲にあり、
ハイドリノを形成するように活性な電極面積あたり定パワーが、約１ｍＷｃｍ^−２から１Ｗｃｍ^−２の範囲にあり、
時間間隔が、約１０^−４ｓから１０，０００ｓ、１０^−３ｓから１０００ｓ、及び１０^−２ｓから１００ｓ、及び１０^−１ｓから１０ｓから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
セルあたりの抵抗が、約１ｍΩから１００ＭΩ、約１Ωから１ＭΩ、及び１０オームから１ｋΩから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
ハイドリノを形成するように活性な電極面積あたりの好適な負荷の導電率が、約１０^−５から１０００Ω^−１ｃｍ^−２、１０^−４から１００Ω^−１ｃｍ^−２、１０^−３から１０Ω^−１ｃｍ^−２、及び１０^−２から１Ω^−１ｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
放電電流、電圧、パワー、又は時間間隔の少なくとも１つは、サイクルに渡ってのパワー又はエネルギーのゲインの少なくとも１つを生じる電気分解フェーズのそれよりも大きい、
ということを含む、上記（１７）の電気化学パワーシステム。

（１９）
放電の間の電圧が、アノードが過度に腐食することを防止できるものよりも上に維持される、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（２０）
触媒形成反応が、次の式で与えられ、
Ｏ_２＋５Ｈ^＋＋５ｅ⁻→２Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）；
対半電池反応が次の式で与えられ、
Ｈ_２→２Ｈ^＋＋２ｅ⁻；及び
全反応が、次の式で与えられる、上記（１）の電気化学パワーシステム。
３／２Ｈ_２＋１／２Ｏ_２→Ｈ_２Ｏ＋Ｈ（１／ｐ）。

（２１）
以下の生成物の少なくとも１つが水素から形成される、上記（１）の電気化学パワーシステム。
ａ）０から２０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．２５の整数倍でラマンピークを持つ水素生成物。
ｂ）０から２０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．２５の整数倍で赤外のピークを持つ水素生成物。
ｃ）０から１０ｅＶの範囲内に、マトリックスシフトを加えて、５００から５２５ｅＶの範囲内のエネルギーでＸ線光電子分光スペクトルピークを持つ水素生成物。
ｄ）高磁場側のＭＡＳＮＭＲマトリックスシフトを引き起こす水素生成物。
ｅ）ＴＭＳに相対して−５ｐｐｍよりも大きい高磁場側ＭＡＳＮＭＲ又は液体ＮＭＲシフトを持つ水素生成物。
ｆ）０から５０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．３ｃｍ^−１の整数倍のスペースを持つ２００から３００ｎｍの範囲内に少なくとも２つの電子ビーム発光スペクトルピークを持つ水素生成物。
ｇ）０から５０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．３ｃｍ^−１の整数倍のスペースを持つ２００から３００ｎｍの範囲内に少なくとも２つのＵＶ蛍光発光スペクトルピークを持つ水素生成物。

（２２）
水素透過電極を含む水素アノードと；
水酸化物を含む溶融塩電解質と；及び
Ｏ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つと、を備え、
水素透過状態にある膜及び溶融状態の電解質の少なくとも１つを維持するセル温度が、約２５から２０００℃、約１００から１０００℃、約２００から７５０℃、及び約２５０から５００℃から選ばれる少なくとも１つの範囲内であり、
約０から１５００℃だけ融点より高い、０から１０００℃だけ融点より高い、０から５００℃だけ融点より高い、０から２５０℃だけ融点より高い、及び０から１００℃だけ融点より高い、のうち少なくとも１つの範囲にある、電解質の融点より上のセル温度；
膜厚が、約０．０００１から０．２５ｃｍ、０．００１から０．１ｃｍ、及び０．００５から０．０５ｃｍから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
水素圧力が、約１Ｔｏｒｒから５００ａｔｍ、１０Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ、及び１００Ｔｏｒｒから５ａｔｍから選ばれる少なくとも１つの範囲に維持され、
水素透過速度が、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、及び１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にある、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（２３）
水素スパージング電極を含む水素アノードと；
水酸化物を含む溶融塩電解質と；及び
Ｏ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つと；を含み、
溶融状態の電解質を維持するセル温度が、約０から１５００℃だけ融点より高い、０から１０００℃だけ融点より高い、０から５００℃だけ融点より高い、０から２５０℃だけ融点より高い、及び０から１００℃だけ融点より高いから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり；
Ｈ_２バブリング又はスパージング電極の幾何学上の面積あたりの水素流速度が、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、及び１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
対電極での反応の速度が、水素が反応する電極での速度に、一致又はその速度を超え、
Ｈ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つの還元速度が、Ｈ又はＨ_２の反応速度を維持するのに十分であり、
対電極が、十分な速度を支持するだけ十分な材料及び表面を持つ、上記（１）の電気化学パワーシステム。

（２４）
熱的なエネルギーを発生するパワーシステムであって、
大気圧の、大気圧より上の、大気圧より下の、少なくとも１つの圧力を可能にする少なくとも１つの容器と、
少なくとも１つのヒータと、
ハイドリノ反応物を構成する反応物と、ここで、該反応物は、
ａ）発生期のＨ_２Ｏを含む触媒又は触媒の源、
ｂ）原子状水素の源又は原子状水素、
ｃ）触媒の源、触媒、原子状水素の源、原子状水素の少なくとも１つを形成する反応物、を含み、そして、
反応物の混合及び加熱の少なくとも１つをすると反応が起きるところ、原子状水素の触媒反応を開始する１又はそれ以上の反応物と、を含むパワーシステム。

（２５）
触媒の源、触媒、原子状水素の源、及び原子状水素の少なくとも１つを形成する反応は、
脱水反応；
燃焼反応；
ルイス酸又は塩基及びブレンステッド・ローリーの酸又は塩基の反応；
酸化物ベースの反応；
酸無水物ベースの反応；
酸ベースの反応；
塩基−活性金属の反応；
酸化−還元反応；
分解反応；
交換反応，及び
少なくとも１つのＯＨを持つ化合物と、ハライド、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＮＨ_３との交換反応；
Ｏを含む化合物の水素還元反応，から選ばれる少なくとも１つの反応を含み、
Ｈの源が、反応物が反応を受けるときに形成される発生期のＨ、及び水素化物又はガス源及び解離剤からの水素の少なくとも１つのである、上記（２４）のパワーシステム。

Claims

電気及び熱エネルギーの少なくとも１つを発生する、大気に対して閉鎖された容器を備える、電気化学パワーシステムにおいて、その容器は、
少なくとも１つのカソードと、
少なくとも１つのアノードと、
少なくとも１つのバイポーラープレートと、及び
分離した電子の流れ及びイオン質量輸送と共にセル・オペレーションの間にハイドリノ反応物を構成する反応物と、ここで、その反応物は、
ａ）Ｈ_２Ｏの少なくとも１つの源、
ｂ）ｎＨ、ＯＨ、ＯＨ⁻、発生期のＨ_２Ｏ、Ｈ_２Ｓ、又はＭＮＨ_２（ｎは整数で、Ｍはアルカリ金属）から選ばれる群の少なくとも１つを含む、少なくとも１つの触媒又は触媒の源、及び
ｃ）少なくとも１つの原子状水素又は原子状水素の源、
から選ばれる少なくとも２つの要素を含み、
触媒の源、触媒、原子状水素の源、及び原子状水素の中の少なくとも１つを形成する１又はそれ以上の反応物と、
原子状水素の触媒反応を開始する１又はそれ以上の反応物と、及び
支持体と、を含み、
カソード、アノード、反応物、及びバイポーラ−プレートの組合せが、原子状水素の触媒反応の伝播を可能にするように、各カソード及び対応するアノードの間の化学ポテンシャルを維持し、そして、
電気分解システムを更に含み、
ここで、
ａ）０から２０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．２５の整数倍でラマンピークを持つ水素生成物、
ｂ）０から２０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．２５の整数倍で赤外のピークを持つ水素生成物、
ｃ）０から１０ｅＶの範囲内に、マトリックスシフトを加えて、５００から５２５ｅＶの範囲内のエネルギーでＸ線光電子分光スペクトルピークを持つ水素生成物、
ｄ）高磁場側のＭＡＳＮＭＲマトリックスシフトを引き起こす水素生成物、
ｅ）ＴＭＳに相対して−５ｐｐｍよりも大きい高磁場側ＭＡＳＮＭＲ又は液体ＮＭＲシフトを持つ水素生成物、
ｆ）０から５０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．３ｃｍ^−１の整数倍のスペースを持つ２００から３００ｎｍの範囲内に少なくとも２つの電子ビーム発光スペクトルピークを持つ水素生成物、及び、
ｇ）０から５０００ｃｍ^−１の範囲内に、マトリックスシフトを加えて、０．２３から０．３ｃｍ^−１の整数倍のスペースを持つ２００から３００ｎｍの範囲内に少なくとも２つのＵＶ蛍光発光スペクトルピークを持つ水素生成物、
の少なくとも１つの生成物が水素から形成されることを特徴とする、電気化学パワーシステム。
水素透過電極を含む水素アノードと；
水酸化物を含む溶融塩電解質と；及び
Ｏ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つと、を備え、
水素透過状態にある膜及び溶融状態の電解質の少なくとも１つを維持するセル温度が、約２５から２０００℃、約１００から１０００℃、約２００から７５０℃、及び約２５０から５００℃から選ばれる少なくとも１つの範囲内であり、
約０から１５００℃だけ融点より高い、０から１０００℃だけ融点より高い、０から５００℃だけ融点より高い、０から２５０℃だけ融点より高い、及び０から１００℃だけ融点より高い、のうち少なくとも１つの範囲にある、電解質の融点より上のセル温度；
膜厚が、約０．０００１から０．２５ｃｍ、０．００１から０．１ｃｍ、及び０．００５から０．０５ｃｍから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
水素圧力が、約１Ｔｏｒｒから５００ａｔｍ、１０Ｔｏｒｒから１００ａｔｍ、及び１００Ｔｏｒｒから５ａｔｍから選ばれる少なくとも１つの範囲に維持され、
水素透過速度が、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、及び１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にある、請求項１の電気化学パワーシステム。
水素スパージング電極を含む水素アノードと；
水酸化物を含む溶融塩電解質と；及び
Ｏ_２及びＨ_２Ｏカソードの少なくとも１つと；を含み、
溶融状態の電解質を維持するセル温度が、約０から１５００℃だけ融点より高い、０から１０００℃だけ融点より高い、０から５００℃だけ融点より高い、０から２５０℃だけ融点より高い、及び０から１００℃だけ融点より高いから選ばれる少なくとも１つの範囲にあり；
Ｈ_２バブリング又はスパージング電極の幾何学上の面積あたりの水素流速度が、約１Ｘ１０^−１３ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−４ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１２ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−５ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１１ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−６ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、１Ｘ１０^−１０ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−７ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２、及び１Ｘ１０^−９ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から１Ｘ１０^−８ｍｏｌｅ・ｓ^−１・ｃｍ^−２から選ばれる少なくとも１つの範囲にあり、
対電極での反応の速度が、水素が反応する電極での速度に、一致又はその速度を超え、
Ｈ_２Ｏ及びＯ_２の少なくとも１つの還元速度が、Ｈ又はＨ_２の反応速度を維持するのに十分であり、
対電極が、十分な速度を支持するだけ十分な材料及び表面を持つ、請求項１の電気化学パワーシステム。
熱的なエネルギーを発生するパワーシステムであって、
大気圧の、大気圧より上の、大気圧より下の、少なくとも１つの圧力を可能にする少なくとも１つの容器と、
少なくとも１つのヒータと、
ハイドリノ反応物を構成する反応物と、ここで、該反応物は、
ａ）発生期のＨ_２Ｏを含む触媒又は触媒の源、
ｂ）原子状水素の源又は原子状水素、
ｃ）触媒の源、触媒、原子状水素の源、原子状水素の少なくとも１つを形成する反応物、を含み、そして、
反応物の混合及び加熱の少なくとも１つをすると反応が起きるところ、原子状水素の触媒反応を開始する１又はそれ以上の反応物と、
を含むパワーシステム。
触媒の源、触媒、原子状水素の源、及び原子状水素の少なくとも１つを形成する反応は、
脱水反応；
燃焼反応；
ルイス酸又は塩基及びブレンステッド・ローリーの酸又は塩基の反応；
酸化物ベースの反応；
酸無水物ベースの反応；
酸ベースの反応；
塩基−活性金属の反応；
酸化−還元反応；
分解反応；
交換反応，及び
少なくとも１つのＯＨを持つ化合物と、ハライド、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＮＨ_３との交換反応；
Ｏを含む化合物の水素還元反応，から選ばれる少なくとも１つの反応を含み、
Ｈの源が、反応物が反応を受けるときに形成される発生期のＨ、及び水素化物又はガス源及び解離剤からの水素の少なくとも１つのである、請求項４のパワーシステム。