JP2017038041A - ウエハ形状物品を処理するためのデュアルモードチャンバ - Google Patents

Abstract

【課題】一部の処理シーケンスに対して閉じた環境を提供し、他の処理シーケンスで開いた環境を提供するデュアルモード処理チャンバを提供する。【解決手段】チャンバ１は、ウエハ形状物品Ｗを保持して、回転軸を中心にウエハ形状物品を回転させるための回転チャック３０を備える。チャンバが、回転チャックを囲んで収容し、上側開口部を備える。蓋４０が、チャンバの外側に取り付けられており、上側開口部を密閉する閉位置と、上側開口部を塞がずにそこから上側方に移動された開位置との間で移動可能である。チャンバは、ウエハ形状物品が回転軸と垂直な方向にチャンバ内に導入されるよう、蓋とは別に開く。【選択図】図１

Description

本発明は、一般に、処理チャンバに導入され処理チャンバから取り出されるウエハ形状物品（半導体ウエハなど）を処理するための装置に関する。

半導体ウエハは、エッチング、洗浄、研磨、および、材料蒸着などの様々な表面処理プロセスを受ける。かかるプロセスを行う際には、米国特許第４，９０３，７１７号および５，５１３，６６８号に例として記載されているように、単一のウエハが、回転可能なキャリアに関連するチャックによって１または複数の処理流体ノズルに対して支持されうる。

あるいは、例えば、国際公開第ＷＯ２００７／１０１７６４号および米国特許第６，４８５，５３１号に記載されているように、ウエハを支持するよう適合されたリングロータの形状のチャックが、閉じた処理チャンバ内に配置され、アクティブ磁気ベアリングを通して物理的接触なしに駆動されてもよい。遠心作用により、回転するウエハのエッジから外向きに送られた処理流体が、廃棄のために共通ドレーンに供給される。

従来の処理チャンバは、１つのモードだけで動作する。すなわち、使用中、常に閉じているか、常に開いているかのいずれかである。例えば、同一出願人による同時係属の米国特許出願第ＵＳ２０１３／００６２８３９号に開示されるように、閉じた処理チャンバは、ウエハ処理のために用いられる有害物質を収容すると共に、過圧を必要とする処理のためにかかる条件を維持するために用いられる。

閉じたチャンバは、ウエハをロードまたはアンロードするためだけに開かれる。この目的のために、かかるチャンバは、同一出願人による同時係属の米国特許出願第ＵＳ２０１３／０１０１３７２号に記載されるように、トップローダまたはサイドローダのいずれかである。

しかしながら、一部の処理シーケンスに対して閉じた環境を提供し、他の処理シーケンスで開いた環境を提供するデュアルモード処理チャンバを提供することが望ましい。これは、例えば、オゾン処理と洗浄処理との間にウエハを取り出す必要なしに、閉じたチャンバ内でウエハにオゾン処理を施した後に連続して、開いたチャンバ内で洗浄シーケンスを施すために、特に有用である。

したがって、一態様において、本発明は、ウエハ形状物品を処理するための装置に関し、その装置は、ウエハ形状物品を保持して、回転軸を中心にウエハ形状物品を回転させるための回転チャックを備える。チャンバが、回転チャックを囲んで収容しており、上側開口部を備える。蓋が、チャンバの外側に取り付けられており、その蓋は、蓋が上側開口部を密閉する閉位置と、蓋が上側開口部を塞がずにそこから側方に移動された開位置との間で移動可能である。チャンバは、ウエハ形状物品が回転軸と垂直な方向にチャンバ内に導入されることを可能にするように、蓋とは別個に開くことが可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、回転チャックは、円形列のグリップピンを有するロータを備え、グリップピンは、ウエハ形状物品をロータに着脱可能に固定するように配置されている。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、グリップピンは、回転チャックから下向きに伸びている。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、回転チャックは、環状ロータである。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、環状ロータは、磁石ロータである。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、チャンバは、さらに、チャンバへのウエハ形状物品のロードおよびアンロードを可能にするために、側方開口部およびドアを備えており、ドアは、ドアが側方開口部を密閉する処理位置と、ドアが側方開口部を塞がずにそこから側方に移動されたロード／アンロード位置との間で移動可能であるように取り付けられている。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、液体ディスペンサが、チャンバの外部に取り付けられており、液体ディスペンサは、液体ディスペンサの供給ノズルがチャンバの上側開口部から側方に移動されたスタンバイ位置と、供給ノズルが上側開口部の上方に位置する供給（サービス）位置との間で移動可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、液体ディスペンサは、蓋が開位置にある時にのみ、供給位置に移動可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、開位置と閉位置との間で蓋を移動させるための電動メカニズムが設けられている。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、サイドドアは、閉位置とロード／アンロード位置との間でサイドドアを移動させるための電動メカニズムを備える。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、蓋は、蓋が密閉位置にある時にチャンバ内にガスを供給するためのガスシャワーヘッドとして構成された下側部分を有する。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、蓋は、ウエハ形状物品が回転チャック上に配置された時にウエハ形状物品の上面に液体を供給するための少なくとも１つの液体ノズルを有する。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、少なくとも１つの液体ディスペンサが、チャンバの内部に取り付けられており、ウエハ形状物品が回転チャック上に配置された時にウエハ形状物品の下面に液体を供給するように配置されている。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、環状ロータは、回転チャックが保持するよう構成されたウエハ形状物品の直径よりも小さい内径を有する。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、チャンバは、垂直移動可能な下側カバーを備えており、カバーは、カバーとチャンバの上側部分とが回転チャックを収容する密閉チャンバを規定する閉位置と、ウエハ形状物品のロードおよびアンロードを可能にする開位置との間で移動可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、垂直移動可能な下側カバーは、ウエハ形状物品が回転チャック上に配置された時にウエハ形状物品を囲む跳ねよけを備える。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、蓋は、環状ロータの中央開口部内に突出する下向き突出要素を有する。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、下向き突出要素は、環状ロータの内径よりも０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下だけ小さい外径を有する。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、装置は、さらに、蓋が上側開口部を塞がずにそこから側方に移動された開位置にある時に蓋を洗浄するための洗浄ステーションを備える。かかる洗浄ステーションは、蓋の下面に少なくとも１種類の液体を供給するための少なくとも１つの液体供給ノズルと、液体コレクタとを備えてよい。

別の態様において、本発明は、ウエハ形状物品を処理するための装置に関し、その装置は、ウエハ形状物品を保持して、回転軸を中心にウエハ形状物品を回転させるための回転チャックを備える。チャンバが、回転チャックを囲んで収容しており、上側開口部を備える。蓋が、チャンバの外側に取り付けられており、その蓋は、蓋が上側開口部を密閉する閉位置と、蓋が上側開口部を塞がずにそこから側方に移動された開位置との間で移動可能である。液体ディスペンサが、チャンバの外部に取り付けられており、液体ディスペンサは、液体ディスペンサの供給ノズルがチャンバの上側開口部から側方に移動されたスタンバイ位置と、供給ノズルが上側開口部の上方に位置する供給位置との間で移動可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、液体ディスペンサは、蓋が開位置にある時にのみ、供給位置に移動可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、チャンバは、ウエハ形状物品が回転軸と垂直な方向にチャンバ内に導入されることを可能にするように、蓋とは別個に開くことが可能である。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、回転チャックは、環状ロータである。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、環状ロータは、回転チャックが保持するよう構成されたウエハ形状物品の直径よりも小さい内径を有する。

本発明のこの態様に従った装置の好ましい実施形態において、チャンバは、垂直移動可能な下側カバーを備えており、カバーは、カバーとチャンバの上側部分とが回転チャックを収容する密閉チャンバを規定する閉位置と、ウエハ形状物品のロードおよびアンロードを可能にする開位置との間で移動可能である。

さらに別の態様において、本発明は、ウエハ形状物品を処理するためのプロセスに関し、そのプロセスは、チャンバ内に配置された回転チャック上にウエハ形状物品をロードする工程と、チャンバを閉じる工程とを備える。回転チャックは、オゾンガスまたは濃酸などの処理流体を閉じたチャンバ内に導入する間に、ウエハ形状物品を回転させるために回転する。次いで、チャンバは、チャンバの上側開口部を開くためにチャンバの上側蓋を持ち上げて側方に移動させることによって開かれる。次いで、リンス液が、上側開口部を通してウエハ形状物品に供給される。

本発明のこの態様に従ったプロセスの好ましい実施形態において、ロードは、チャンバのサイドドアを開き、サイドドアを通してチャンバ内にウエハ形状物品を導入し、サイドドアを閉じてチャンバを密閉することを含む。

本発明のこの態様に従ったプロセスの好ましい実施形態において、供給は、液体ディスペンサの供給ノズルがチャンバの上側開口部から側方にずらされたスタンバイ位置から、供給ノズルが上側開口部の上方に位置する供給位置へ、液体ディスペンサを移動させることを含む。

本発明のこの態様に従ったプロセスの好ましい実施形態において、液体ディスペンサは、蓋が上側開口部から離れて側方に移動された後にのみ、液体ディスペンサの供給位置に移動可能である。

本発明のこの態様に従ったプロセスの好ましい実施形態において、処理液が、少なくとも１つの内部液体ディスペンサを介してウエハ形状物品上に供給される間に、オゾンガスがチャンバ内に導入される。

添付の図面を参照しつつ、本発明の好ましい実施形態についての以下の詳細な説明を読めば、本発明の他の課題、特徴、および、利点が明らかになる。

サイドドアが第２の位置にあり、内部カバーが第１の位置にあることを示す本発明の第１の実施形態に従った処理チャンバの説明断面図。

サイドドアが第１の位置にあり、内部カバーが第２の位置にあることを示す本発明の第１の実施形態に従った処理チャンバの説明断面図。

処理チャンバを上から開くために上側蓋をそれに関連する電動メカニズムで持ち上げた様子を示す図２に対応する図。

処理チャンバの上側開口部を開くために上側蓋をそれに関連する電動メカニズムで側方に移動させた様子を示す図３に続く図。

図１〜図４の実施形態の上側蓋およびそれに関連する電動メカニズムの斜視図。

チャンバから離れるように移動された蓋と、蓋のための任意選択的な洗浄ステーションとを示す図５と同様の斜視図。

図１〜図４の実施形態の上側蓋の断面図。

図１〜図４の実施形態の処理チャンバのそれぞれ異なる動作モード中の上側蓋および外部取り付け液体ディスペンサの相対位置を示す説明平面図。

本発明の第２の実施形態に従った装置の図１に対応する図。

図９の装置の図２に対応する図。

本発明の第２の実施形態に従った装置の図１に対応する図。

図１１の装置の図２に対応する図。

ここで、図１を参照すると、本発明の第１の実施形態に従ったウエハ形状物品の表面を処理するための装置が、外部処理チャンバ１を備えており、外部処理チャンバ１は、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシ）樹脂で被覆されたアルミニウムで製造されることが好ましい。この実施形態のチャンバは、大きい円筒壁１０、下側部分１２、および、上側部分１５を有する。上側部分１５から、より狭い円筒壁３４が伸びており、その上端はチャンバ１の上部構造３６に結合している。上部構造３６は、この実施形態において、中央円形開口部を規定しており、この開口部は、図１では、上側蓋４０によって閉じられている。

上側蓋４０は、電動メカニズム５０を介してチャンバ１の外側に取り付けられており、電動メカニズム５０は、本明細書で詳述するように、開位置および閉位置の間で蓋４０を移動させる時に、チャンバ１に対して蓋４０を動かすよう機能する。液体ディスペンサ６０が、チャンバ１の外側に取り付けられており、図１ではスタンバイ位置に図示されている。上側蓋４０がチャンバ１の上側開口部を密閉しているので、液体ディスペンサ６０は、この構成ではチャンバ内に液体を供給できない。

回転チャック３０が、チャンバ１の上側部分に配置されており、円筒壁３４に囲まれている。回転チャック３０は、装置の使用中にウエハＷを回転可能に支持する。回転チャック３０は、リングギア３８を備えた回転駆動部を備えており、回転駆動部は、ウエハＷの周縁部と選択的に接触および解放するための複数の偏心可動グリップ部材と係合して駆動する。

この実施形態において、回転チャック３０は、円筒壁３４の内面に隣接して提供されたリングロータである。ステータ３２が、円筒壁３４の外面に隣接して、リングロータの反対側に提供されている。ロータ３０およびステータ３２は、アクティブ磁気ベアリングを通してリングロータ３０（ひいては、支持されたウエハＷ）を回転させることができるモータとして機能する。例えば、ステータ３２は、ロータ上に提供された対応する永久磁石によって回転チャック３０を回転可能に駆動するように能動的に制御されうる複数の電磁コイルおよび巻線を備えてよい。回転チャック３０の軸方向および半径方向の支持は、ステータのアクティブ制御によってまたは永久磁石によっても達成されうる。このように、回転チャック３０は、機械的接触なしに、浮揚して、回転可能に駆動されうる。あるいは、ロータは、パッシブベアリングによって支持されてもよく、その場合、ロータの磁石が、チャンバ外部の外側ロータの円周上に配列された対応する高温超伝導磁石（ＨＴＳ磁石）によって支持される。この別の実施形態によれば、リングロータの各磁石は、外側ロータの対応するＨＴＳ磁石にピン留めされる。したがって、内側ロータは、物理的に接続されることなしに外側ロータと同じ運動をする。

上側蓋４０は、この実施形態において、環状ロータによって規定された中央の開口空間内に伸びていることに注意されたい。

この実施形態のウエハＷは、回転チャック３０からぶら下がり、グリップメンバ３１によって支持されていることにも注意されたい。さらに、ウエハは、ウエハを二等分する水平面が環状ロータの下向きの内面と交わるように配置される。ウエハＷが、例えば、３００ｍｍまたは４５０ｍｍの直径の半導体ウエハである場合、ウエハＷの上向きの面は、ウエハＷのデバイス側または表側でありえ、これは、ウエハが回転チャック３０上にどのように配置されるかによって決定され、その配置は、チャンバ１内で実行される特定のプロセスによって決まる。

回転チャックは、所定の直径のウエハＷ（例えば、３００ｍｍまたは４５０ｍｍの半導体ウエハ）のみを保持するよう設計される。さらに、回転チャック３０の中央開口部は、チャック３０が保持するよう設計されたウエハＷの直径未満の直径を有する。したがって、ウエハＷは、最初にチャンバからチャック３０を除去することなしにチャンバの上側開口部を通してチャック３０上へロードすることがでず、これは、非常に実現が困難である。

図１の装置は、さらに、処理チャンバ１に対して移動可能な内部カバー２を備える。内部カバー２は、図１では、第１の位置すなわち開位置に示されており、その位置では、回転チャック３０がチャンバ１の外側円筒壁１０と連通している。この実施形態のカバー２は、略カップ形状であり、直立する円筒壁２１によって囲まれた基部２０を備える。カバー２は、さらに、基部２０を支えると共にチャンバ１の下壁１４を貫通する中空シャフト２２を備える。

中空シャフト２２は、主チャンバ１に形成されたボス１２によって囲まれており、これらの要素は、チャンバ１の気密シールを維持しつつ中空シャフト２２をボス１２に対して移動させることを可能にする運動用シールを介して結合されている。

円筒壁２１の上部には、環状のデフレクタ部材２４が取り付けられており、その上向きの面上にガスケット２６が設けられている。カバー２は、基部２０を貫通する流体媒体流入口２８を備えており、それにより、処理流体およびリンス液が、ウエハＷの下向きの面へとチャンバ内に導入されうる。

カバー２は、さらに、排出管２５に向かって開く処理液排出開口部２３を備える。管２５は、カバー２の基部２０に堅く取り付けられているが、管が気密シールを維持しつつ下壁１４に対して軸方向に摺動しうるように、運動用シール１７を介してチャンバ１の下壁１４を貫通している。

排気開口部１６が、チャンバ１の壁１０を貫通し、適切な排気導管（図示せず）に接続されている。

図１に示した位置は、ウエハＷのロードまたはアンロードに対応する。特に、ウエハＷは、ウエハＷのロードまたはアンロードを可能にするためのサイドドア１１（図１では開位置すなわち第２の位置に示されている）を通して、回転チャック３０上にロードされうる。

図２において、内部カバー２は、その第２の位置すなわち閉位置に移動されており、この位置は、ウエハＷの処理に対応する。すなわち、ウエハＷが回転チャック３０上にロードされた後、ドア１１は、図２に示すように閉位置すなわち第１の位置に移動され、カバー２は、適切なモータ（図示せず）が中空シャフト２２に作用することにより、チャンバ１に対して上方に移動される。内部カバー２の上方移動は、デフレクタ部材２４がチャンバ１の上側部分１５の内面と接触するまで継続する。特に、デフレクタ２４に設けられたガスケット２６は、上側部分１５の下面に向かって密閉し、その一方で、上側部分１５に設けられたガスケット１８は、デフレクタ２４の上面に向かって密閉する。

内部カバー２が図２に示すように第２の位置に達すると、閉じた処理チャンバ１内に第２のチャンバ４８が形成される。内部チャンバ４８は、さらに、チャンバ１の残りの部分から気密的にシールされる。

閉チャンバ処理が図２に示した構成の装置で実行された後、チャンバからウエハを取り出して別の装置に配置する必要なく、リンスなどの開チャンバ処理を実行することが望ましい場合がある。

例えば、図２に示した構成の装置で、オゾンガスおよび／または濃酸が閉じた処理チャンバに導入されてウエハＷと接触する処理が実行されてよい。しかしながら、例えば、ウエハＷをリンスする際にが、開いた処理チャンバでリンスを実行することが好ましい場合がある。

したがって、図３において、処理チャンバ１は、関連する電動メカニズム５０で蓋４０を上げることによって開かれている。次いで、メカニズム５０は、図４に示すように、上部チャンバ構造３６によって規定された上側開口部３７を開けるように、蓋４０をチャンバ１に対して側方に移動させる。図４に示すように、蓋がその位置であれば、開口部３７を通してディスチャージノズル６２をウエハＷの上方に配置する使用位置に、外部に取り付けられた液体ディスペンサ６０をスイングさせることができる。

ここで、図５〜図７を参照して、上側蓋４０およびそれに関連する電動メカニズム５０の構造について詳述する。上側蓋４０は、電動メカニズム５０のアーム５２にしっかりと固定された上部プレート４２を備える。次に、アーム５２は、スクリューモータ５６の作動によってスライドブロック５５に対して垂直に移動されうる取り付けブロック５４にしっかりと固定されている。スライドブロック５５は、装置のフレームに取り付けられたプレート５８に設けられた一対のレール５７に沿って水平に内部モータによって移動可能である。

したがって、スクリューモータ５６の作動により、蓋４０がチャンバ１に対して持ち上げられ、スライドブロック５５のモータの作動により、蓋４０がチャンバ１に対して側方に移動される。蓋４０の所望の移動を達成できる任意の他のメカニズムが、図のメカニズムの代わりに利用されてもよく、蓋４０がチャンバ１の開口部３７から抜けると、チャンバ１に対する蓋４０の上方および側方への移動を必要に応じて同時に行ってもよいことがわかる。

蓋４０の上方および側方への移動は、別個の構成要素を有する必要はなく、例えば、上方および側方への移動は、蓋の一側面に設けられたヒンジを介してチャンバの外面または別の支持構造に蓋４０を取り付けることによって達成されてよい。したがって、ヒンジ取り付けの場合には、ヒンジに隣接する蓋の一部が必ずしも上方へ移動されないので、本明細書で論じる蓋の上方への移動においては、蓋全体が上方へ移動される必要がない。

図６に示すように、装置は、さらに、蓋４０がチャンバ１から除去される時に蓋４０の下面を洗浄するための洗浄ステーションを提供されてもよい。例えば、洗浄ステーションは、洗浄流体のリザーバと連通する上向きのノズルを備えた液体ディスペンサ４１と、リンス液が蓋４０の下面に供給された後に使用済みのリンス液を受けるためのコレクタ４３とを備えてよい。

図７に示すように、上側蓋４０は、上部プレート４２がしっかりと固定されると共に円筒壁４５によって下側プレート４６に結合された上側プレート４４を備えたドラム形構造を有することが好ましい。底部プレート４８が、この実施形態において下側プレート４６に固定されており、底部プレートは、上側蓋４０を介してオゾンなどのガスを閉じたチャンバ１に導入するためのガスシャワーヘッドを構成するように二次元配列で形成された複数のオリフィス４９を有し、したがって、この実施形態におけるプレート４６および４８の間の空間は、ガス分配マニホルドとして機能する。蓋４０は、ウエハ形状物品の上向きの表面上に少なくとも１つの液体を供給するための少なくとも１つの液体供給ノズルを有してもよい。かかるノズルは、蓋の下向きの表面の中心に配置されてもよいし、偏心して配置されてもよい。

ここで、図８を参照すると、外部に取り付けられた液体ディスペンサ６０および蓋４０の協調した運動が図示されている。特に、実線で示す位置は図１および図２に対応し、破線で示す位置は図４に対応する。外部に取り付けられた液体ディスペンサ６０は、この実施形態では、ブームスイングアームで旋回運動するように取り付けられていることがわかるが、必要に応じて、ディスペンサは、線形運動するように取り付けられてもよい。

実際的には、図８に示した運動は、装置の動作全体を統制するコンピュータによって機械化および制御される。

図９および図１０は、サイドドアおよびそれに関連する開閉メカニズムが省略されている点で第１の実施形態と異なる第２の実施形態を示す。その代わり、周知の移送メカニズムによって運ばれたウエハＷを受け入れるのに適切なサイズの細長い開口部１３が提供されている。

この実施形態において、外部チャンバは、決して完全には閉じられず、したがって、内部カバーが図１０に示す位置にある時に、唯一の密閉されたチャンバが形成されることがわかる。

図１１および図１２は、下側の外部チャンバの構造が完全に省略されている点で第２の実施形態と異なる第３の実施形態を示す。したがって、この実施形態においては、カバー２がシーリングガスケット１８および２６によって上側チャンバ構造のプレート１９に対して密閉することによって、唯一の閉じたチャンバが形成される。図１１に示す位置では、下側カバー２とプレート１９との間のギャップが、チャック３０上へウエハＷをロードおよびアンロードするための間隙を提供する。この実施形態の構造および動作については、前の実施形態に関連して上述した。

本発明の好ましい実施形態に関するこれまでの記載は、当業者が、本発明を具体化および適用できる多くの他の方法を理解する助けとして提供されている。この記載は、限定として見なすべきではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲に記載の通りである。

Claims (19)

1. ウエハ形状物品を処理するための装置であって、
   ウエハ形状物品を保持して、回転軸を中心に前記ウエハ形状物品を回転させるための回転チャックと、
   前記回転チャックを囲んで収容すると共に、上側開口部を備えるチャンバと、
   前記チャンバの外側に取り付けられた蓋であって、前記蓋が前記上側開口部を密閉する閉位置と、前記蓋が前記上側開口部を塞がずにそこから側方に移動された開位置との間で移動可能である蓋と
   を備え、
   前記チャンバは、ウエハ形状物品が前記回転軸と垂直な方向に前記チャンバ内に導入されることを可能にするように、前記蓋とは別個に開くことが可能である装置。
2. 請求項１に記載の装置であって、前記回転チャックは、円形列のグリップピンを有するロータを備え、前記グリップピンは、ウエハ形状物品をロータに着脱可能に固定するように配置されている装置。
3. 請求項２に記載の装置であって、前記グリップピンは、前記回転チャックから下向きに伸びている装置。
4. 請求項１に記載の装置であって、前記回転チャックは、環状ロータである装置。
5. 請求項４に記載の装置であって、前記環状ロータは、磁石ロータである装置。
6. 請求項１に記載の装置であって、前記チャンバは、さらに、前記チャンバへのウエハ形状物品のロードおよびアンロードを可能にするために、側方開口部およびドアを備え、
   前記ドアは、前記ドアが前記側方開口部を密閉する処理位置と、前記ドアが前記側方開口部を塞がずにそこから側方に移動されたロード／アンロード位置との間で移動可能であるように取り付けられている装置。
7. 請求項１に記載の装置であって、さらに、液体ディスペンサを備え、
   前記液体ディスペンサは、前記液体ディスペンサの供給ノズルが前記チャンバの前記上側開口部から側方に移動されたスタンバイ位置と、前記供給ノズルが前記上側開口部の上方に位置する供給位置との間で移動可能であるように、前記チャンバの外部に取り付けられている装置。
8. 請求項７に記載の装置であって、前記液体ディスペンサは、前記蓋が前記開位置にある時にのみ、前記供給位置に移動可能である装置。
9. 請求項１に記載の装置であって、さらに、前記開位置と前記閉位置との間で前記蓋を移動させるための電動メカニズムを備える装置。
10. 請求項６に記載の装置であって、前記サイドドアは、前記閉位置と前記ロード／アンロード位置との間で前記サイドドアを移動させるための電動メカニズムを備える装置。
11. 請求項１に記載の装置であって、前記蓋は、前記蓋が前記密閉位置にある時に前記チャンバ内にガスを供給するためのガスシャワーヘッドとして構成された下側部分を有する装置。
12. 請求項１に記載の装置であって、前記蓋は、ウエハ形状物品が前記回転チャック上に配置された時に前記ウエハ形状物品の上面に液体を供給するための少なくとも１つの液体ノズルを有する装置。
13. 請求項１に記載の装置であって、さらに、前記チャンバの内部に取り付けられ、ウエハ形状物品が前記回転チャック上に配置された時に前記ウエハ形状物品の下面に液体を供給するように配置された少なくとも１つの液体ディスペンサを備える装置。
14. 請求項４に記載の装置であって、前記環状ロータは、前記回転チャックが保持するよう構成されたウエハ形状物品の直径よりも小さい内径を有する装置。
15. 請求項１に記載の装置であって、前記チャンバは、垂直移動可能な下側カバーを備え、前記カバーは、前記カバーと前記チャンバの上側部分とが前記回転チャックを収容する密閉チャンバを規定する閉位置と、ウエハ形状物品のロードおよびアンロードを可能にする開位置との間で移動可能である装置。
16. 請求項１５に記載の装置であって、前記垂直移動可能な下側カバーは、前記ウエハ形状物品が前記回転チャック上に配置された時に前記ウエハ形状物品を囲む跳ねよけを備える装置。
17. 請求項４に記載の装置であって、前記蓋は、前記環状ロータの中央開口部内に突出する下向き突出要素を有する装置。
18. 請求項１７に記載の装置であって、前記下向き突出要素は、前記環状ロータの内径よりも０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下だけ小さい外径を有する装置。
19. 請求項１に記載の装置であって、さらに、前記蓋が前記上側開口部を塞がずにそこから側方に移動された開位置にある時に前記蓋を洗浄するための洗浄ステーションを備える装置。

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