JP2017022364A - 整列したウェーハ・ペアを取り扱うための方法 - Google Patents
整列したウェーハ・ペアを取り扱うための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017022364A JP2017022364A JP2016097185A JP2016097185A JP2017022364A JP 2017022364 A JP2017022364 A JP 2017022364A JP 2016097185 A JP2016097185 A JP 2016097185A JP 2016097185 A JP2016097185 A JP 2016097185A JP 2017022364 A JP2017022364 A JP 2017022364A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- end effector
- wafers
- floating carrier
- frame member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H10P72/3218—
-
- H10P95/00—
-
- H10P10/12—
-
- H10P72/00—
-
- H10P72/0428—
-
- H10P72/0462—
-
- H10P72/30—
-
- H10P72/3221—
-
- H10P72/3302—
-
- H10P72/3306—
-
- H10P72/3402—
-
- H10P72/50—
-
- H10P72/57—
-
- H10P72/76—
-
- H10P72/7602—
-
- H10P72/7606—
-
- H10P72/7612—
-
- H10P72/78—
-
- H10W72/073—
-
- H10W99/00—
-
- H10P72/7608—
-
- H10W72/0198—
-
- H10W72/07125—
-
- H10W72/07141—
-
- H10W72/07173—
-
- H10W72/07178—
-
- H10W80/301—
-
- H10W80/334—
-
- H10W90/792—
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Robotics (AREA)
- Manipulator (AREA)
- User Interface Of Digital Computer (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Abstract
Description
Claims (20)
- 接合デバイスに整列したウェーハを配置する方法であって、前記方法は、
フレーム・メンバーおよび前記フレーム・メンバーに移動可能に接続されたフローティング・キャリヤーを有するエンド・エフェクタで一定間隔に配置された前記ウェーハを確保にすること、
前記エンド・エフェクタを移動させるためにロボットを使用すること、それによりボンダの接合チャンバへ前記ウェーハを移動させ、
前記エンド・エフェクタからの前記ウェーハから外すこと、
前記接合チャンバから前記エンド・エフェクタを取り除くこと、そして
前記ウェーハを接合すること、を含む。 - 請求項1の方法であって、前記ウェーハは、少なくとも1つの前記フレーム・メンバーおよびフローティング・キャリヤーに接続された複数のクランプ・スペーサー・アセンブリを使用して、一定間隔に配置するよう確保されている。
- 請求項2の方法であって、前記複数のクランプ・スペーサー・アセンブリは、フローティング・キャリヤーの半円形内側境界上に実質的に等距離で配置されている。
- 請求項1から3のいずれか一つの請求項の方法であって、前記エンド・エフェクタから前記ウェーハを外すことは、前記フレーム・メンバーから前記フローティング・キャリヤーを分離すること、をさらに含む。
- 請求項1から4のいずれか一つの請求項の方法であって、前記エンド・エフェクタから前記ウェーハを外すことは、
前記ウェーハの間に少なくとも1つのボンダ・スペーサー・フラグを挿入すること、および
前記ウェーハの間から少なくとも1つの前記エンド・エフェクタ・スペーサー・フラグを取り除くこと、をさらに含む。 - 請求項1から5のいずれか一つの請求項の方法であって、前記エンド・エフェクタで一定間隔に配置された前記ウェーハを確保にすることは、前記フローティング・キャリヤーに接続された複数の真空パッドで前記ウェーハを保持することをさらに含み、前記複数の真空パッドのそれぞれは、前記フローティング・キャリヤーの半円形内側境界の内側に延びている。
- 請求項6の方法であって、前記半円形内側境界に沿って前記フローティング・キャリヤー上の前記複数の真空パッドの位置を放射状に調整することをさらに含む。
- 請求項6または7の方法であって、半円形内側境界の軸に沿って前記フレーム・メンバーに対して前記フローティング・キャリヤーを調整することを更に含み、前記フローティング・キャリヤーと前記フレーム・メンバーとの間のギャップのサイズは、調整可能である。
- 請求項1から8のいずれか一つの請求項の方法であって、前記フレーム・メンバーと前記フローティング・キャリヤーとの間で脱着可能に係合するセンタリング機構で前記フローティング・キャリヤーを前記フレーム・メンバーにセンタリングすることをさらに含み、前記センタリング機構は、前記フレーム・メンバーに対して前記フローティング・キャリヤーの位置変更を防止している。
- 請求項1から9のいずれか一つの請求項の方法であって、前記エンド・エフェクタから前記ウェーハを外すことは、
前記ウェーハの少なくとも1つに前記ボンダのチャックを接触すること、
圧縮ピンで前記ウェーハに圧縮力を加えること、
前記ウェーハの間に少なくとも1つのボンダ・スペーサー・フラグを挿入すること、
前記ウェーハからエンド・エフェクタ・クランプを取り除くこと、および
前記ウェーハの間から前記エンド・エフェクタ・スペーサー・フラグを取り除くこと、をさらに含む。 - 請求項10の方法であって、前記圧縮ピンで前記ウェーハに圧縮力を加えることは、前記ボンダの上部および下部のチャックの間の圧縮圧を調和させることをさらに含む。
- 請求項11の請求項10の方法であって、前記圧縮ピンは少なくとも2つの圧縮ピンをさらに含む。
- 請求項10から12のいずれか一つの請求項の方法であって、前記圧縮ピンの温度を前記ボンダの上部のチャックの温度に実質的に一致させることをさらに含む。
- 請求項1から13のいずれか一つの請求項の方法であって、前記ウェーハを接合することは、接合プロセス中に前記エンド・エフェクタで前記ウェーハと接触することなく、一定間隔で配置されたウェーハを接合することをさらに含む。
- 処理デバイスに整列されたウェーハ・ペアを配置する方法であって、前記方法は、
フレーム・メンバーおよびフローティング・キャリヤーを有するエンド・エフェクタで一定間隔に配置されたウェーハを運ぶことであって、前記フローティング・キャリヤーは、前記フレーム・メンバーに移動可能に接続されており、
前記エンド・エフェクタに接続されたロボットアームで前記エンド・エフェクタの位置を変更すること、
前記フレーム・メンバーおよび前記フローティング・キャリヤーが処理チャンバ内に配置されている間、前記フレーム・メンバーから前記フローティング・キャリヤーを分離することにより、処理デバイスの処理チャンバに一定間隔で配置された前記ウェーハを置くこと、を含む。 - 請求項15の方法であって、前記処理チャンバに置くことは、
前記処理デバイスのチャックを前記ウェーハの少なくとも1つと接触すること、
圧縮ピンで前記ウェーハに圧縮力を加えること、
前記ウェーハの間に少なくとも1つのボンダ・スペーサー・フラグを挿入すること、
前記ウェーハからエンド・エフェクタ・クランプを取り除くこと、
前記ウェーハの間からエンド・エフェクタ・スペーサー・フラグを取り除くこと、をさらに含む。 - 請求項16の請求項15の方法であって、圧縮ピンで前記ウェーハに圧縮力を加えることは、前記処理デバイスの上部および下部のチャックの間の圧縮圧を調和させることをさらに含む。
- 請求項15から17のいずれか一つの請求項の方法であって、圧縮ピンの温度をボンダの上部のチャックの温度と実質的に一致させることをさらに含む。
- 請求項15から18のいずれか一つの請求項の方法であって、圧縮ピンで前記ウェーハに圧縮力を加えることは、少なくとも2つの圧縮ピンで圧力を加えることをさらに含み、前記少なくとも2つの圧縮ピンのうちの少なくとも1つは、前記ウェーハの実質的な中心点で圧力を加え、前記少なくとも2つの圧縮ピンのうちの少なくとも1つが、前記ウェーハの実質的な中心点からオフセットして圧力を加えることをさらに含む。
- エンド・エフェクタで整列したウェーハを搬送する方法であって、前記方法は、
前記エンド・エフェクタのフローティング・キャリヤーに接続された複数の真空パッドで少なくとも2つの整列したウェーハを保持すること、前記フローティング・キャリヤーが、フレーム・メンバーとその間に形成されたギャップを伴って接続されており、前記フローティング・キャリヤーは、前記フローティング・キャリヤーの半円形内側境界を内側に延びている複数の真空パッドのそれぞれを伴う半円形内側境界を有しており、および
ロボットアームで前記エンド・エフェクタを移動させること、を含む。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201562161988P | 2015-05-15 | 2015-05-15 | |
| US62/161,988 | 2015-05-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017022364A true JP2017022364A (ja) | 2017-01-26 |
| JP6689668B2 JP6689668B2 (ja) | 2020-04-28 |
Family
ID=57208539
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016097185A Active JP6689668B2 (ja) | 2015-05-15 | 2016-05-13 | 整列したウェーハ・ペアを取り扱うための方法 |
| JP2016097183A Active JP6785062B2 (ja) | 2015-05-15 | 2016-05-13 | 整列したウェーハ・ペアを取り扱うための装置およびシステム |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016097183A Active JP6785062B2 (ja) | 2015-05-15 | 2016-05-13 | 整列したウェーハ・ペアを取り扱うための装置およびシステム |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US9640418B2 (ja) |
| JP (2) | JP6689668B2 (ja) |
| KR (2) | KR102210304B1 (ja) |
| CN (2) | CN106158706B (ja) |
| AT (2) | AT517258B1 (ja) |
| DE (2) | DE102016108787B4 (ja) |
| TW (2) | TWI718149B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019024081A (ja) * | 2017-06-06 | 2019-02-14 | ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングSuss MicroTec Lithography GmbH | アラインされた基板ペアを扱うシステムと関連技術 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9640418B2 (en) | 2015-05-15 | 2017-05-02 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus, system, and method for handling aligned wafer pairs |
| JP6700130B2 (ja) * | 2016-07-12 | 2020-05-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 接合システム |
| US9975255B1 (en) * | 2016-12-15 | 2018-05-22 | Jabil Inc. | Apparatus, system and method for providing a conformable vacuum cup for an end effector |
| CN109256353B (zh) * | 2017-07-12 | 2021-10-22 | 家登精密工业股份有限公司 | 定位底座 |
| KR102385573B1 (ko) * | 2017-12-13 | 2022-04-12 | 삼성전자주식회사 | 로드 컵 및 이를 포함하는 화학기계적 연마 장치 |
| CN110581097B (zh) * | 2018-06-07 | 2024-03-29 | 佳宸科技有限公司 | 宽度可调式移动机构 |
| CN110660723B (zh) * | 2018-06-29 | 2022-05-10 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种机械手、键合腔体、晶圆键合系统及键合方法 |
| KR20200102612A (ko) * | 2019-02-21 | 2020-09-01 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| CN111211084A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-05-29 | 长江存储科技有限责任公司 | 晶圆承载装置 |
| CN111916384B (zh) * | 2020-08-17 | 2022-05-17 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 一种键合机对准模块和键合机 |
| KR102840203B1 (ko) | 2020-09-01 | 2025-08-01 | 삼성전자주식회사 | 기판 정렬 장치 및 이를 구비하는 기판 본딩 설비 |
| CN113921455B (zh) * | 2021-09-29 | 2025-06-24 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体工艺设备及其晶圆支撑结构 |
| CN114540798B (zh) * | 2022-03-03 | 2025-07-08 | 江西汉可泛半导体技术有限公司 | 一种硅片镀膜用的防落装置 |
| US20230360940A1 (en) * | 2022-05-03 | 2023-11-09 | Applied Materials, Inc. | Wafer film frame carrier |
| WO2024010711A1 (en) * | 2022-07-05 | 2024-01-11 | Lam Research Corporation | End effector |
| CN115424958B (zh) * | 2022-09-16 | 2023-06-23 | 浙江嘉辰半导体有限公司 | 一种双面散热半导体封装结构及其工艺 |
| CN117174643B (zh) * | 2023-10-07 | 2024-09-03 | 合肥开悦半导体科技有限公司 | 一种机械手臂 |
| CN117049125B (zh) * | 2023-10-11 | 2023-12-26 | 合肥铠柏科技有限公司 | 一种可自适应样品架角度误差样品传输器 |
| CN117174624B (zh) * | 2023-11-02 | 2024-04-12 | 迈为技术(珠海)有限公司 | 一种键合设备及键合方法 |
| US12480761B2 (en) * | 2023-11-28 | 2025-11-25 | Applied Materials, Inc. | High temperature auto teach calibration disc |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007210079A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ワーク搬送装置及びワーク搬送方法 |
| JP2011517094A (ja) * | 2008-04-02 | 2011-05-26 | ズース マイクロテク,アイエヌシー. | 半導体ウェーハアライメントのための装置及び方法 |
| JP2013162029A (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP2014007299A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 重ね合わせ装置および重ね合わせ方法 |
| JP2014057070A (ja) * | 2007-06-21 | 2014-03-27 | Nikon Corp | ウエハ接合方法、ウエハ接合装置およびウエハホルダ |
Family Cites Families (48)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970003907B1 (ko) * | 1988-02-12 | 1997-03-22 | 도오교오 에레구토론 가부시끼 가이샤 | 기판처리 장치 및 기판처리 방법 |
| JP2867194B2 (ja) * | 1992-02-05 | 1999-03-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び処理方法 |
| US5784797A (en) * | 1994-04-28 | 1998-07-28 | Semitool, Inc. | Carrierless centrifugal semiconductor processing system |
| JP3892494B2 (ja) | 1996-01-26 | 2007-03-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置 |
| JP3722598B2 (ja) * | 1997-07-16 | 2005-11-30 | 株式会社ダイヘン | 2アーム方式の搬送用ロボット装置 |
| JPH1167873A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-09 | Hitachi Ltd | 半導体ウエハの処理方法および装置 |
| JP2001225292A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-08-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ワークグリップ機構 |
| DE50102174D1 (de) * | 2000-03-03 | 2004-06-09 | Theo J J Zegers | Kopfhalterungsvorrichtung für chirurgische Zwecke |
| JP5259907B2 (ja) * | 2000-09-01 | 2013-08-07 | クロッシング オートメーション インコーポレイテッド | 加工ツール、加工物を位置合わせする方法、及び加工物を次々に加工する方法 |
| DE10230373B3 (de) | 2002-07-05 | 2004-03-04 | Süss Microtec Lithography Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Bonden eines Stapels aus drei oder mehr scheibenförmigen Substraten, insbesondere eines 3-Wafer-Stacks |
| US20060120832A1 (en) * | 2004-11-08 | 2006-06-08 | Rajeshwar Chhibber | Method and apparatus for handling a substrate |
| GB2425589A (en) * | 2005-04-30 | 2006-11-01 | Manh Han | Adjustable connection ring for photographic softbox or lighting umbrella |
| KR100746850B1 (ko) * | 2005-05-27 | 2007-08-07 | 주식회사 엔씨비네트웍스 | 반도체 웨이퍼 이송장치 |
| JP4439464B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2010-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送方法及び基板搬送装置 |
| US7948034B2 (en) | 2006-06-22 | 2011-05-24 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus and method for semiconductor bonding |
| JP4854427B2 (ja) | 2006-08-11 | 2012-01-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板移載装置,基板処理装置,基板移載用アーム |
| WO2009065757A1 (en) * | 2007-11-23 | 2009-05-28 | Sez Ag | Device and process for wet treating a peripheral area of a wafer-shaped article |
| TW201008729A (en) * | 2008-07-30 | 2010-03-01 | Fabworx Solutions Inc | Edge grip end effector |
| KR20100034450A (ko) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 삼성전자주식회사 | 기판접합장치 |
| JP5178495B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2013-04-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 |
| US8181688B2 (en) | 2009-04-16 | 2012-05-22 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus for temporary wafer bonding and debonding |
| JP2011205004A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| US8567837B2 (en) * | 2010-11-24 | 2013-10-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Reconfigurable guide pin design for centering wafers having different sizes |
| FR2972078A1 (fr) | 2011-02-24 | 2012-08-31 | Soitec Silicon On Insulator | Appareil et procédé de collage par adhésion moléculaire |
| JP5490741B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2014-05-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置 |
| IL218981A (en) * | 2011-05-12 | 2015-10-29 | Semiconductor Tech & Instr Inc | System and method for using multi-component windshield holders in the appropriate configuration to handle and move windshield components |
| CN106373911B (zh) * | 2011-09-22 | 2019-04-09 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置及基板处理方法 |
| TWI523134B (zh) * | 2011-09-22 | 2016-02-21 | 東京威力科創股份有限公司 | 基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體 |
| JP5582152B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2014-09-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 |
| SG194239A1 (en) * | 2012-04-09 | 2013-11-29 | Semiconductor Tech & Instr Inc | End handler |
| JP6118044B2 (ja) * | 2012-07-19 | 2017-04-19 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP5886821B2 (ja) * | 2013-01-04 | 2016-03-16 | ピーエスケー インコーポレイテッド | 基板処理装置及び方法 |
| US9061423B2 (en) | 2013-03-13 | 2015-06-23 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Wafer handling apparatus |
| WO2014165406A1 (en) * | 2013-04-01 | 2014-10-09 | Brewer Science Inc. | Apparatus and method for thin wafer transfer |
| HK1220546A1 (en) | 2013-05-23 | 2017-05-05 | Nikon Corporation | Substrate holding mehtod, substrate holding apparatus, exposure method, and exposure apparatus |
| JP6190645B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2017-08-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送方法 |
| KR101416421B1 (ko) * | 2013-07-17 | 2014-07-09 | 현대자동차 주식회사 | 차량용 어시스트 핸들 |
| KR102420245B1 (ko) | 2013-09-25 | 2022-07-13 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 기판 본딩 장치 및 방법 |
| WO2015048303A1 (en) | 2013-09-26 | 2015-04-02 | Applied Materials, Inc | Pneumatic end effector apparatus, substrate transportation systems, and methods for transporting substrates |
| US20150206783A1 (en) | 2014-01-20 | 2015-07-23 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | System amd method for substrate holding |
| KR20160048301A (ko) * | 2014-10-23 | 2016-05-04 | 삼성전자주식회사 | 본딩 장치 및 그를 포함하는 기판 제조 설비 |
| US10755960B2 (en) | 2014-11-04 | 2020-08-25 | Brooks Automation, Inc. | Wafer aligner |
| JP6412786B2 (ja) | 2014-12-03 | 2018-10-24 | 東京応化工業株式会社 | 搬送方法 |
| FR3031046B1 (fr) * | 2014-12-24 | 2018-06-29 | Solystic | Installation pour la separation et l'individualisation d'objets postaux heterogenes |
| US9640418B2 (en) * | 2015-05-15 | 2017-05-02 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus, system, and method for handling aligned wafer pairs |
| TWM513454U (zh) * | 2015-05-29 | 2015-12-01 | 漢磊科技股份有限公司 | 晶圓傳輸裝置 |
| JP6574715B2 (ja) * | 2016-02-01 | 2019-09-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送方法及び基板処理システム |
| KR101817209B1 (ko) * | 2016-06-24 | 2018-02-22 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
-
2016
- 2016-05-10 US US15/150,856 patent/US9640418B2/en active Active
- 2016-05-10 US US15/150,689 patent/US10825705B2/en active Active
- 2016-05-12 KR KR1020160058121A patent/KR102210304B1/ko active Active
- 2016-05-12 TW TW105114716A patent/TWI718149B/zh active
- 2016-05-12 DE DE102016108787.4A patent/DE102016108787B4/de active Active
- 2016-05-12 DE DE102016108788.2A patent/DE102016108788B4/de active Active
- 2016-05-12 TW TW105114719A patent/TWI706502B/zh active
- 2016-05-12 KR KR1020160058127A patent/KR102173844B1/ko active Active
- 2016-05-13 JP JP2016097185A patent/JP6689668B2/ja active Active
- 2016-05-13 JP JP2016097183A patent/JP6785062B2/ja active Active
- 2016-05-13 AT ATA50443/2016A patent/AT517258B1/de active
- 2016-05-13 AT ATA50442/2016A patent/AT517254B1/de active
- 2016-05-16 CN CN201610323232.XA patent/CN106158706B/zh active Active
- 2016-05-16 CN CN201610323805.9A patent/CN106158714B/zh active Active
-
2020
- 2020-09-23 US US17/029,635 patent/US11651983B2/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007210079A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ワーク搬送装置及びワーク搬送方法 |
| JP2014057070A (ja) * | 2007-06-21 | 2014-03-27 | Nikon Corp | ウエハ接合方法、ウエハ接合装置およびウエハホルダ |
| JP2011517094A (ja) * | 2008-04-02 | 2011-05-26 | ズース マイクロテク,アイエヌシー. | 半導体ウェーハアライメントのための装置及び方法 |
| JP2013162029A (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP2014007299A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 重ね合わせ装置および重ね合わせ方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019024081A (ja) * | 2017-06-06 | 2019-02-14 | ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングSuss MicroTec Lithography GmbH | アラインされた基板ペアを扱うシステムと関連技術 |
| JP7251926B2 (ja) | 2017-06-06 | 2023-04-04 | ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | アラインされた基板ペアを扱うシステムと関連技術 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US10825705B2 (en) | 2020-11-03 |
| AT517258A3 (de) | 2018-09-15 |
| US11651983B2 (en) | 2023-05-16 |
| AT517258A2 (de) | 2016-12-15 |
| US20160336208A1 (en) | 2016-11-17 |
| CN106158706A (zh) | 2016-11-23 |
| TWI706502B (zh) | 2020-10-01 |
| CN106158714A (zh) | 2016-11-23 |
| KR20160134539A (ko) | 2016-11-23 |
| JP6785062B2 (ja) | 2020-11-18 |
| KR102210304B1 (ko) | 2021-02-02 |
| DE102016108788B4 (de) | 2024-02-22 |
| DE102016108787B4 (de) | 2024-02-22 |
| TW201712789A (zh) | 2017-04-01 |
| AT517254B1 (de) | 2020-01-15 |
| US20160336212A1 (en) | 2016-11-17 |
| AT517258B1 (de) | 2020-01-15 |
| TWI718149B (zh) | 2021-02-11 |
| CN106158706B (zh) | 2020-11-13 |
| DE102016108788A1 (de) | 2016-11-17 |
| JP6689668B2 (ja) | 2020-04-28 |
| CN106158714B (zh) | 2020-12-11 |
| KR102173844B1 (ko) | 2020-11-05 |
| AT517254A2 (de) | 2016-12-15 |
| DE102016108787A1 (de) | 2016-11-17 |
| KR20160134540A (ko) | 2016-11-23 |
| JP2017022363A (ja) | 2017-01-26 |
| TW201712793A (zh) | 2017-04-01 |
| US9640418B2 (en) | 2017-05-02 |
| US20210013079A1 (en) | 2021-01-14 |
| AT517254A3 (de) | 2018-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6689668B2 (ja) | 整列したウェーハ・ペアを取り扱うための方法 | |
| TWI765054B (zh) | 用來處理已對準的基板對之系統及相關技術 | |
| TWI616975B (zh) | 基板固定器及基板貼合裝置 | |
| EP2704182B1 (en) | Substrate bonding apparatus and substrate bonding method | |
| KR101860956B1 (ko) | 기판홀더쌍, 디바이스의 제조방법, 분리장치, 기판의 분리방법, 기판홀더 및 기판 위치맞춤 장치 | |
| KR20200008246A (ko) | 기판 본딩용 진공척, 이를 포함하는 기판 본딩 장치 및 이를 이용한 기판 본딩 방법 | |
| CN104835771A (zh) | 基片保持系统和方法 | |
| KR101421574B1 (ko) | 웨이퍼 접합 시스템용 웨이퍼 쿨러 언클램핑 조립체 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190123 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191220 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200107 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200318 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200331 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200408 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6689668 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |