JP2016106033A - はんだ継手 - Google Patents
はんだ継手 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016106033A JP2016106033A JP2016003762A JP2016003762A JP2016106033A JP 2016106033 A JP2016106033 A JP 2016106033A JP 2016003762 A JP2016003762 A JP 2016003762A JP 2016003762 A JP2016003762 A JP 2016003762A JP 2016106033 A JP2016106033 A JP 2016106033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- mass
- joint
- intermetallic compound
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C13/00—Alloys based on tin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/02—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
- B23K35/0222—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
- B23K35/0244—Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/26—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
- B23K35/262—Sn as the principal constituent
-
- H05K3/3465—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12708—Sn-base component
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Connection Of Batteries Or Terminals (AREA)
Abstract
【課題】クラックの発生を抑制したはんだ継手を提供する。【解決手段】Cu0.01〜7.6質量%、Ni0.001〜6質量%、残部Snからなる合金を用いたはんだ継手であって、前記はんだ継手は凝固時にCuとNiの組成比が5:1の置換率であると共に、9原子量%のNiを含む六方晶結晶構造の(Cu,Ni)6Sn5金属間化合物を有するはんだ継手である。【選択図】図1
Description
本発明は、はんだ接合物を構成した場合に、接合界面にひびや割れが発生しにくいはんだ継手に関するものである。
プリント基板に電子部品などを実装する場合には、従来からはんだが用いられる。そして、現在でははんだ合金としてPbの使用が回避される方向が顕著であるので、Pbを用いないいわゆるPbフリーはんだに移行しつつある。そして、現在のところPbフリーはんだ合金としては錫銀銅系と、錫銅系という2種類の組成が主流となっている。
Pbフリーはんだは、材料の入手容易性、コスト、製品の信頼性などを考慮すると、基本的にはSnを主要金属とし、これに対して添加金属を選択するものが主流であるが、発明者はSn−Cuを基礎とするいわゆる錫銅系はんだを開発する。
上記先行技術のうち、特許文献1ははんだ継手の素材となるSn−0.7%Cuを組成とする錫銅系のはんだ合金であり、特許文献2はSn−Cu−Niを組成とする錫銅系のはんだ合金であるが、特許文献2は本発明者の開発に係るものである。
ところで、はんだに求められる物性としては、はんだ付け作業時にはぬれ性や溶融はんだの流動性が、凝固した後にははんだ継手として強度、電気特性など多種にわたる特性が求められる。しかしながら、一般に現在求められている特性を満足したはんだ合金であっても、接合物を構成した時点でプリント基板とはんだ継手の接合部界面付近にクラックといわれる細かいひびや割れが発生することがある。そして、クラックが発生した継手は、接合強度が低下する原因や、接合面積が小さくなるので電気抵抗が増大し、発熱発火が生じる原因になり、致命的な欠陥となるという問題がある。
発明者は、このようなクラックがはんだ接合物、あるいは継手部にとって致命的な欠陥になることに着目し、さらに、このような現象ははんだ合金の凝固時のメカニズムが一要因の可能性があるとの想定のもとに実験を繰り返し、クラックの発生を減らすことができるはんだ継手を追及し、本発明組成によって上記課題を解決したものである。
本発明では、上述した課題を解決するために、Cu0.01〜7.6質量%、Ni0.001〜6質量%、残部Snからなる合金を用いたはんだ継手であって、前記はんだ継手は凝固時にCuとNiの組成比が5:1の置換率であると共に、9原子量%のNiを含む六方晶結晶構造の(Cu,Ni)6Sn5金属間化合物を有するはんだ継手を採用する。
Cuの下限値は、好ましくは0.1質量%、さらに好ましくは0.2質量%に特定した。また、Cuの上限値は、好ましくは7質量%、さらに好ましくは0.92質量%に特定した。
なお、はんだ継手を形成するプロセスとしては、はんだごてによるはんだ付け、リフローはんだ付けと、ディップないしはフローはんだ付けが一般的である。そして、リフローの場合にはプリント基板などの接合物表面から金属が溶出する量は極めて限られているので、はんだ組成そのものが継手組成であるとすることが可能である。一方、フローはんだ付けの場合には接合物表面が溶融はんだに曝露されるので、食われ現象が生じ、使用するはんだ合金組成と結果物であるはんだ継手の組成は食われの対象となる金属が幾分リッチになる可能性がある。しかしながら、溶融はんだの組成が当初組成を維持している限りにおいて、成分の変化はやはりわずかであり、当初のはんだ合金組成から大きく外れるものではなく、誤差の範囲である。従って、請求項に記載した発明において、特定した組成のはんだ合金を用いて製造したはんだ継手と、特定した組成を有するはんだ継手には組成上において大きく異なるところはない。また、本発明の対象となるはんだ継手の製造は、上記記載したプロセスに限定するものではなく、一般的な継手の製造方法によって得られたはんだ継手は全て対象とする。
好適なはんだ継手を得るための、温度プロセスとしては、はんだ付け直後から凝固が安定するまでの工程において徐冷を行なうことが好ましい。冷却速度が速い急冷を行なった場合には、継ぎ手にかかる歪みははんだ自体よりも被接合体の構造による熱歪みに大きく左右される。そして、熱歪みがどこかの部位で限界を超えたとき、そこにクラックが発生することになる。通常、はんだ合金やプリント基板表面の金属箔、およびリード線などの金属は速く冷えますが樹脂からなるプリント基板は熱伝導性が低いため冷却が遅れる。そして、プリント基板の基材に使用する樹脂は熱膨張係数が大きく、耐熱性を増すためにガラス転移温度(TG)も高くなっているので、熱歪みはむしろ大きくなっていると考えられる。したがって、金属と樹脂の耐熱歪みの差によるクラックを回避するために、これらの間の差が大きく影響しないように徐冷を行なうことが好ましい。実質的には、リフローやフローなどはんだ付け方法は異なるが、冷却速度は2〜5℃/秒ぐらいの速度が好ましい。
本発明の、Sn−Cu−Ni合金に関しての作用を以下説明する。図1はSn−Cu二元状態図であるが、SnとCuの金属間化合物であるCu6Sn5は、銅濃度が約39.1質量%以下の場合には、固相線温度よりも低い変態温度である187℃を境として、それよりも低温度側では斜方晶であるη’−Cu6Sn5が出現し、固相線温度である227℃までの高温度側においては六方晶であるη−Cu6Sn5が出現することが知られている。そして、このような状態であるから、凝固時には温度降下に伴って六方晶から斜方晶へと固相変態することになる。図2は図1の状態図の要部を拡大した図である。また、六方晶という結晶構造はいわゆるクローズドパックと呼ばれ、結晶の体積が一番小さくまとまっている。この関係において六方晶から斜方晶へと固相変態が生じると、変態時に体積変化が起こることになるが、溶融はんだが凝固する場合には温度降下によって析出したCu6Sn5の金属間化合物にも固相変態が生じることは避けられない。そうすると、Sn系合金をはんだとして用いた場合には上記現象に起因して凝固後のはんだ継手にはクラックが生じる可能性がある。また、接合部にクラックが視覚的に確認されない場合であっても、接合部には固相変態時の歪応力が内包されているので、軽度の衝撃などの外部応力を契機としてこの歪応力が発散し、クラックの出現につながるおそれがある。
一方、Sn−Cuに対してNiを添加すると、NiはCu6Sn5相のCuと一部置換し、(Cu,Ni)6Sn5を形成することが知られている。そして、実験によると、金属間化合物である(Cu,Ni)6Sn5中のNi濃度が約9at%の場合には、金属間化合物の結晶構造は六方晶であり、常温であっても変態温度以上で生じる六方晶結晶構造のη−(Cu,Ni)6Sn5を確認することができた。これは、NiがCu6Sn5のうちのCuの一部と置換することにより、六方晶としての結晶構造の安定化に寄与したためである。図3はNiが合金中に存在する場合の金属間化合物の結晶構造を示したもので、観察の対象とした試料はSn−0.7Cu−0.05Ni合金を約300℃程度に均一に溶融させた後に凝固させたもの、観察対象構造は、(Cu,Ni)6Sn5金属間化合物の結晶格子像であり、電子線解析図形および任意5箇所の平均から元素分析を行なった。解析に用いた装置は、電界放出透過型電子顕微鏡(フィリップス社製FEG−TEM)、加速電圧を200keVで測定した。測定手法は、高倍率結晶格子観察(倍率:64万倍)、640mmのカメラ長の電子線解析図形、ナノプローブによるエネルギー分散型元素分析(EDS)によった。図3に明らかなように、Niが存在する場合には、(Cu,Ni)6Sn5結晶構造は六方晶であることが明らかであり、結晶内のNi濃度は平均9at%であった。なお、表1に、採取した5箇所の金属間化合物自体の元素分析を示す。
このような知見において、発明者はSn−Cuに対してNiを適量添加すれば、金属間化合物である(Cu,Ni)6Sn5相が凝固過程で温度降下しても六方晶で結晶構造が安定することを確認し、Niを添加しない場合におけるCu6Sn5の六方晶から斜方晶への固相変態を抑制、あるいは回避できることを実現した。これによって、固相変態時におけるクラックの発生を抑制し、又は接合部に歪応力が内包することを回避した。
請求項における添加元素の量としては、Cuについては状態図において固相変態が生じる最大限が約39.1質量%であるが、7.6質量%以上では、液相からCu3Sn相を経てCu6Sn5相が形成される、いわゆる包晶反応を示す。そのため、はんだ合金としての利用目的を考慮した場合、包晶反応を経ないでCu6Sn5相が液相から直接凝固するCuの含有量7.6質量%を上限とした。また、下限については、図1の相図を参照し、固相線温度と並行して変態温度を持つ範囲の下限まで理論的に発明者の知見が適用されることになるので、0.01質量%に決定した。
さらに、発明者はCuの上限値として7質量%を設定した。これは、はんだ付けには融点が一つの重要な事項になるので、高温はんだとして一般的に約400℃前後まで温度を上昇させるため、Sn−Cu系において400℃でCu6Sn5を析出するCuの含有量に相当する量である。また、さらなるCuの上限値の限定として0.92質量%を設定したが、0.92質量%については、最近知られたところであるSn−Cu−Ni三元系の状態図におけるSn-Cuの共晶点を考慮した。
Cuの下限値については、発明者はさらに0.1質量%、及び0.2質量%を設定した。これは、Sn−Cu系の無鉛はんだ合金における接合強度などにおいてCuを添加する実質的な効果を考慮したものである。
さらに、発明者はCuの上限値として7質量%を設定した。これは、はんだ付けには融点が一つの重要な事項になるので、高温はんだとして一般的に約400℃前後まで温度を上昇させるため、Sn−Cu系において400℃でCu6Sn5を析出するCuの含有量に相当する量である。また、さらなるCuの上限値の限定として0.92質量%を設定したが、0.92質量%については、最近知られたところであるSn−Cu−Ni三元系の状態図におけるSn-Cuの共晶点を考慮した。
Cuの下限値については、発明者はさらに0.1質量%、及び0.2質量%を設定した。これは、Sn−Cu系の無鉛はんだ合金における接合強度などにおいてCuを添加する実質的な効果を考慮したものである。
Niの添加量としては、上限の最大値を6質量%としたが、これは、CuとNiの置換率がほぼ5:1であり、かつ、Sn−Cu系において固相変態が生じるCuの最大限が上述したように約39.1質量%であることを考慮した。また、下限値の最小値を0.001質量%としたが、これはNi濃度が約9at%の場合に六方晶が維持される効果を発揮することが知見によって確認されたため、Cuの下限値に対応したことによる。さらなるNiの上限値について、0.3質量%、及び0.1質量%としたが、この限定についてもNiの効果的濃度である9at%を考慮して、Cuの段階的上限値に対応したものである。一方、下限値についても0.01質量%及び0.03質量%としたが、Cuの段階的下限値に対応したものである。
なお、本発明では、Cu6Sn5金属間化合物に対してCuと一部置換する添加金属を採用することを主目的とするものであるが、請求項10に記載した金属以外のAg、Sb、Biのような別途金属を不純物レベルで含むことを排除するものではない。
本発明は、これらの組成のはんだ継手を得ることによって、Sn−Cu合金において、Cu6Sn5金属間化合物が凝固時に固相変態することを抑制、あるいは回避することができ、固層変態に起因した体積変化がなくなることにより、凝固時のひびや割れを回避することができるばかりではなく、仮に凝固時にクラックが生じていない接合部であっても、歪応力を内包することを抑制できるので、経時変化による突然の割れの発生や、不用意な衝撃によって歪が発散することによる割れを防止することができ、信頼性の高いはんだ接合部を提供することができる。
なお、本発明による無鉛はんだ合金を市場に提供する際の形態は、棒はんだに限らず、はんだペースト、ボールはんだ、はんだ箔、はんだワイヤなど、考えられる全ての形態が適用可能である。また、はんだ付けについては先に記載したように、一般的に適用されるはんだ付け方法で得られたはんだ継手は全て対象とすることができる。
発明者は、錫銅系の無鉛はんだとして広く知られているSn−0.7Cu(数値は質量%)と、これに対して0.05質量%のNiを添加したはんだ合金の2種類を用いてボールはんだを製造し、これを通常の用法に従ってリフローしてはんだ継手を得た。図4はそれぞれのはんだ接合部(継手部)のカットサンプルの断面を電子顕微鏡で確認したものであり、10ミクロンスケールで観察している。ここで、写真の下層はプリント基板上に存在するCu箔、上層がはんだである。この写真からも明らかなように、左側写真のNiを添加したはんだ接合したものでは、接合部にはクラックは一切確認されなかった。一方、右側写真に示したSn−0.7Cu合金で接合したサンプルでは、Cu箔との界面だけではなく、接合部からはなれた場所にある金属間化合物中にもクラックが確認された。これらは接合部表面から確認することはできなかったが、接合部内にこのようなクラックが存在する場合には、接合強度の低下が生じる。
さらに発明者は、より精度の高い確認のため、5ミクロンスケールで図4のカットサンプルを確認して図5を得た。より高倍率における確認では、Sn−0.7Cuはんだ接合部の顕著な割れが確認されたのみであり、Niを添加したはんだ接合部では小さいクラックであっても確認することはできなかった。
次に、ボールはんだについてより詳細に効果を確認するための実験を行なった。試料は先の実施例1と同じ組成を用いている。ボールはんだの製造は、公知のボールはんだ製造手法により、直径約500μmに調整した。そして、これを一枚のOSP基板上に上記2種類のボールはんだ試料を載せ、図6に示す温度プロファイルに従って2回リフローを行なってはんだ接合試料(継手試料)を得た。なお、図6には示されていないが、はんだ付け完了後の冷却については2〜5℃/秒の徐冷にて試料を得た。続いて、出現した金属間化合物中に発生しているクラックの数および長さを測定した。即ち、はんだ接合部(継手部)、あるいははんだ接合界面に発生するクラックの数および長さを比較することによって、接合強度を対比した。測定方法としては、試料をシリコン樹脂に埋没させ、金属間化合物の断面観察用の試料を作成し、断面のSEM観察およびEDSによる元素分析を行なった。測定機器は、日本電子製の走査型電子顕微鏡(JSM 6460LA)を用い、加速電圧20kV、後方散乱像モードによって測定した。また、金属間化合物中のクラックの測定と、金属間化合物の厚さの測定は、日本電子製画像解析ソフト(AnalysisStation:商品名)により、一例として示す図7のように行なった。図中、SCはんだとは、Sn−Cuはんだを示し、IMCとは、凝固によって発生した金属間化合物を示すもので、成長している金属間化合物中に白線を描写した部分がクラックの発生箇所、およびその長さを示している。なお、図8は2種類の試料における断面SEM写真と、金属間化合物の表面SEM写真であるが、Niが添加された試料はSn−Cuの試料よりも金属間化合物が細かく均一であることを確認することができる。これは、Sn−Cuの場合の金属間化合物はCu6Sn5であるが、Niが添加された場合の金属間化合物はCuがNiに置換することによって(Cu,Ni)6Sn5となり、個別の結晶が細分化することによる。
表2に、上記実施例2の結果を示すが、上段の表は2種類の試料におけるクラックの実数と総長を示したもの、下段の表はNiを添加しないSn−Cu試料の結果を100として、Ni添加試料の実数を百分率で示したものである。これによると、Sn−0.7Cuの試料に比べて、0.05質量%のNiを添加した試料はクラックの発生、およびその長さが約2分の1に抑制されたことが確認された。数値の根拠は、次の通りである。
金属間化合物層単位長さ当たりのクラック数=測定クラック数/金属間化合物長
金属間化合物層単位長さ当たりのクラック総長=測定クラック長総計/金属間化合物長
金属間化合物層単位長さ当たりのクラック数=測定クラック数/金属間化合物長
金属間化合物層単位長さ当たりのクラック総長=測定クラック長総計/金属間化合物長
次に、実施例2と同じ組成の試料を用い、同様にリフローにて接合試料(継手試料)を作成し、接合部に対して衝撃試験を行なった。クラックが多く発生している接合部は、衝撃吸収能が低いという一般的な知見に基づいた確認を行なうことを目的としたものである。用いたプリント基板は1.6mm厚のFR−4材で、ランド径を0.42mmに設定して試料を得た。衝撃測定に用いた機器は、ハイスピードボンドテスター(dage社製 4000HS)であり、プル速度を1、10、100、200(mm/sec)の4条件にて結果を測定した。表3にその実測値を、図9はこの結果を比較グラフとして表現した。グラフにおいて、三角のプロットはSn−Cu試料、四角のプロットはこれにNiを添加した試料を示している。
上記衝撃試験でも明らかなように、Niを添加した試料は10mm/secまでのプル速度ではSn−Cu試料とほとんど差がないが、これを超える大きいエネルギーが加えられた場合には耐性が高い。
さらに、発明者は、リフローによるはんだ付けだけでなく、フローはんだ付けにおいても本発明が目的とする効果を発揮することを確認するために、ディップによって試料を作成し、実施例2で説明したと同様の確認試験を行なった。表4にその結果を示す。
表4に示した試料は、Snに対してCuが0.01質量%、0.1質量%、0.2質量%、0.92質量%、3質量%、7質量%、および7.6質量%の7通りに調整し、さらに、それぞれのCuの調整に対して、Ni添加なし、0.001質量%、0.01質量%、0.03質量%、0.05質量%、0.1質量%、0.3質量%、および6質量%の8通りから適宜選択した添加量にて、合計34種類を作成した。なお、ディップの手法は一般的な手法を用いている。そして、このようにして調整した34種類の試料を、エポキシ樹脂に埋没させて断面観察用試料を作成し、実施例2と同様の機材を用いてクラック実数、およびクラック長を測定した。
表5は、表4の測定実数値をCuの添加量に応じて7種類のグループにし、それぞれNiを添加しない場合のクラック出現を100として、クラック数、およびクラック総長を百分率で示したものである。この比較は、表2と同様である。
図10〜15は、表5の結果中の7質量%Cuの場合を除いた試料に関する測定結果を視覚的に理解しやすいようにグラフとしたものである。7質量%Cuの場合のグラフ化を省略したことについては、技術的意味はない。これらのグラフから容易に理解できるように、Sn−Cu組成に比較すると、Niを添加した試料は全て、クラックの実数も総長も飛躍的に減少する。特に、Cu添加量が0.2質量%、および0.92質量%の場合にNiの添加量を0.001質量%とした試料を実験しているが(図12、図13)、この場合でもいずれもNiを添加しない試料と比較すると大幅にクラック実数および総長が減少しており、0.001質量%というNiの添加においても十分に効果を発揮していることを確認した。一方、Niの添加量を6質量%とした試料(試料No.6と30)については、図10と図15の右側方向に出現するが、グラフの関係で表現を省略している。しかしながら、表4、および表5から明らかなように、試料No.30ではクラックそのものを確認できず、No.6についても極めて小さいクラックのみしか確認しかなったことから、Niの添加量0.3質量%を超えて6質量%までの範囲においても、その他の試料とほぼ同様の結果を呈すると判断することができる。図16〜21は、実施例4で得られた試料のうち、11種類の試料の断面SEM写真を示したものであり、Cuの5種類の添加量に対して、Niを添加した試料と添加していない試料を目視によって対比することができる。これらの写真からも明らかなように、Niを添加した試料はCu6Sn5のような針状結晶物の成長がほとんど見られず、クラックの発生も確認されなかった。なお、各図に示した試料番号は表4の試料番号に対応している。
Claims (1)
- Cu0.01〜7.6質量%、Ni0.001〜6質量%、残部Snからなる合金を用いたはんだ継手であって、前記はんだ継手は凝固時にCuとNiの組成比が5:1の置換率であると共に、9原子量%のNiを含む六方晶結晶構造の(Cu,Ni)6Sn5金属間化合物を有するはんだ継手。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007272810 | 2007-10-19 | ||
| JP2007272810 | 2007-10-19 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009538190A Division JP5924852B2 (ja) | 2007-10-19 | 2008-10-20 | はんだ継手 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016106033A true JP2016106033A (ja) | 2016-06-16 |
Family
ID=40567443
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009538190A Active JP5924852B2 (ja) | 2007-10-19 | 2008-10-20 | はんだ継手 |
| JP2016003762A Pending JP2016106033A (ja) | 2007-10-19 | 2016-01-12 | はんだ継手 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009538190A Active JP5924852B2 (ja) | 2007-10-19 | 2008-10-20 | はんだ継手 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8999519B2 (ja) |
| EP (1) | EP2218540B1 (ja) |
| JP (2) | JP5924852B2 (ja) |
| CN (1) | CN101896310B (ja) |
| TW (1) | TWI457192B (ja) |
| WO (2) | WO2009051181A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019013944A (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-31 | 新光電気工業株式会社 | 導電性ボール及び電子装置とそれらの製造方法 |
| JP2019013960A (ja) * | 2017-07-07 | 2019-01-31 | 新光電気工業株式会社 | 導電性ボール及び電子装置とそれらの製造方法 |
| JP2022515254A (ja) * | 2018-12-27 | 2022-02-17 | アルファ・アセンブリー・ソリューションズ・インコーポレイテッド | 鉛フリーはんだ組成物 |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8013444B2 (en) * | 2008-12-24 | 2011-09-06 | Intel Corporation | Solder joints with enhanced electromigration resistance |
| US8493746B2 (en) * | 2009-02-12 | 2013-07-23 | International Business Machines Corporation | Additives for grain fragmentation in Pb-free Sn-based solder |
| JP2011054892A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Nihon Superior Co Ltd | 導電性ペーストを用いたはんだ接合 |
| JP2012020331A (ja) * | 2010-07-16 | 2012-02-02 | Nihon Superior Co Ltd | 接合構造 |
| JP5018978B1 (ja) * | 2010-11-19 | 2012-09-05 | 株式会社村田製作所 | 導電性材料、それを用いた接続方法、および接続構造 |
| TWI461252B (zh) * | 2010-12-24 | 2014-11-21 | 村田製作所股份有限公司 | A bonding method, a bonding structure, an electronic device, an electronic device manufacturing method, and an electronic component |
| TWI436710B (zh) * | 2011-02-09 | 2014-05-01 | 村田製作所股份有限公司 | Connection structure |
| JP2012182379A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Murata Mfg Co Ltd | 多層チップ部品およびその製造方法 |
| JP6292407B2 (ja) * | 2011-06-17 | 2018-03-14 | エルジー・ケム・リミテッド | ソルダリングコネクター、これを含むバッテリーモジュール、及びバッテリーパック |
| JP6118249B2 (ja) * | 2011-06-29 | 2017-04-19 | 株式会社日本スペリア社 | 信頼性が向上したはんだ接合部の製造方法 |
| WO2014013632A1 (ja) | 2012-07-19 | 2014-01-23 | ハリマ化成株式会社 | はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板 |
| EP2940719B1 (en) | 2012-12-25 | 2019-01-30 | Mitsubishi Materials Corporation | Power module |
| JP5938390B2 (ja) * | 2012-12-25 | 2016-06-22 | 三菱マテリアル株式会社 | パワーモジュール |
| JP6247819B2 (ja) * | 2013-01-15 | 2017-12-13 | 株式会社日本スペリア社 | アルミニウム用はんだ及びはんだ継手 |
| JPWO2014142153A1 (ja) * | 2013-03-13 | 2017-02-16 | 株式会社日本スペリア社 | はんだ接合物及びはんだ接合方法 |
| CN104995731B (zh) | 2013-03-29 | 2019-11-26 | 三菱综合材料株式会社 | 功率模块 |
| KR20160012878A (ko) | 2013-05-29 | 2016-02-03 | 신닛테츠스미킹 마테리알즈 가부시키가이샤 | 땜납 볼 및 전자 부재 |
| JPWO2015053114A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2017-03-09 | 株式会社日本スペリア社 | 低融点ろう材 |
| JP6172573B2 (ja) | 2013-11-29 | 2017-08-02 | 日立金属株式会社 | はんだ接合材料とその製造方法、及びはんだ接合用部材、並びに太陽電池モジュール |
| CN103737193A (zh) * | 2013-12-23 | 2014-04-23 | 苏州宏泉高压电容器有限公司 | 一种铁镍锡焊接材料的制备方法 |
| CN104923951A (zh) * | 2014-03-17 | 2015-09-23 | 广西民族大学 | 一种新型抗氧化无铅焊料 |
| JP6288284B2 (ja) * | 2014-09-10 | 2018-03-07 | 株式会社村田製作所 | 金属間化合物の生成方法 |
| CN105040106B (zh) * | 2015-06-10 | 2019-02-01 | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 | 一种Cu6Sn5金属间化合物单晶种籽的制备方法 |
| US20170095891A1 (en) * | 2015-10-01 | 2017-04-06 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Lead-free composite solder |
| CN105397328A (zh) * | 2015-12-15 | 2016-03-16 | 瑞声光电科技(常州)有限公司 | Sn-Cu系无铅钎料及其制备方法 |
| JP6659950B2 (ja) | 2016-01-15 | 2020-03-04 | 富士通株式会社 | 電子装置及び電子機器 |
| CN108290250B (zh) * | 2016-06-16 | 2020-07-07 | 富士电机株式会社 | 软钎焊接合部 |
| JP6621068B2 (ja) | 2016-12-08 | 2019-12-18 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 実装構造体 |
| CN107538149B (zh) * | 2017-10-25 | 2019-09-24 | 郑州轻工业学院 | 一种Sn-Cu-Co-Ni无铅焊料及其制备方法 |
| JP7291320B2 (ja) * | 2018-10-26 | 2023-06-15 | 株式会社日本スペリア社 | はんだ接合部の製造方法 |
| JP6799649B1 (ja) * | 2019-08-27 | 2020-12-16 | 有限会社 ナプラ | 金属粒子 |
| JP6744972B1 (ja) * | 2019-10-04 | 2020-08-19 | 有限会社 ナプラ | 接合構造部 |
| JP6799701B1 (ja) * | 2020-03-12 | 2020-12-16 | 有限会社 ナプラ | 金属粒子 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003326386A (ja) * | 2002-05-13 | 2003-11-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 無鉛はんだ合金 |
| JP2005014076A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Toshiba Corp | 耐酸化性はんだ、耐酸化性はんだの製造方法およびはんだ付け方法 |
| JP2005288544A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-10-20 | Toshiba Corp | 無鉛はんだ、はんだ付け方法および電子部品 |
| JP2006289434A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Nihon Superior Co Ltd | はんだ合金 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4643875A (en) * | 1985-07-24 | 1987-02-17 | Gte Products Corporation | Tin based ductile brazing alloys |
| US5127969A (en) * | 1990-03-22 | 1992-07-07 | University Of Cincinnati | Reinforced solder, brazing and welding compositions and methods for preparation thereof |
| CA2214130C (en) | 1996-09-19 | 2003-12-02 | Northern Telecom Limited | Assemblies of substrates and electronic components |
| US6179935B1 (en) * | 1997-04-16 | 2001-01-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Solder alloys |
| EP0985486B1 (en) * | 1998-03-26 | 2004-07-21 | Nihon Superior Sha Co., Ltd | Leadless solder |
| JP2000197988A (ja) * | 1998-03-26 | 2000-07-18 | Nihon Superior Co Ltd | 無鉛はんだ合金 |
| WO2001070448A1 (en) * | 1999-02-08 | 2001-09-27 | Tokyo First Trading Company | Lead-free solder alloy |
| JP3036636B1 (ja) * | 1999-02-08 | 2000-04-24 | 日本アルミット株式会社 | 無鉛半田合金 |
| WO2001078931A1 (en) * | 2000-04-17 | 2001-10-25 | Fujitsu Limited | Solder joining |
| JP4724650B2 (ja) * | 2000-04-17 | 2011-07-13 | 富士通株式会社 | はんだ接合方法およびはんだ接合部 |
| WO2002068146A1 (en) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Sumida Corporation | Unleaded solder alloy and electronic components using it |
| US20030021718A1 (en) * | 2001-06-28 | 2003-01-30 | Osamu Munekata | Lead-free solder alloy |
| JP4391276B2 (ja) * | 2004-03-12 | 2009-12-24 | 新日鉄マテリアルズ株式会社 | 半導体実装用半田合金とその製造方法、及び半田ボール、電子部材 |
| JP2005103645A (ja) * | 2004-10-29 | 2005-04-21 | Hitachi Metals Ltd | はんだボールおよびその製造方法 |
| WO2006122240A2 (en) * | 2005-05-11 | 2006-11-16 | American Iron & Metal Company, Inc. | Tin alloy solder compositions |
| US20070062679A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-03-22 | Agee Keith D | Heat exchanger with modified diffuser surface |
| TWI465312B (zh) * | 2005-07-19 | 2014-12-21 | 日本斯倍利亞股份有限公司 | 追加供應用無鉛焊料及焊浴中之Cu濃度及Ni濃度之調整方法 |
| US7233074B2 (en) * | 2005-08-11 | 2007-06-19 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor device with improved contacts |
| JP4618089B2 (ja) * | 2005-10-12 | 2011-01-26 | 千住金属工業株式会社 | Sn−In系はんだ合金 |
| JP2007196289A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Toshiba Corp | 電子部品用無鉛金属材料 |
| JP4979120B2 (ja) * | 2006-08-17 | 2012-07-18 | 日本アルミット株式会社 | 鉛フリー半田合金 |
| JP2008130697A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Sharp Corp | はんだ接合構造、及びはんだ接合構造の製造方法 |
-
2008
- 2008-10-16 WO PCT/JP2008/068756 patent/WO2009051181A1/ja not_active Ceased
- 2008-10-20 JP JP2009538190A patent/JP5924852B2/ja active Active
- 2008-10-20 CN CN200880120553.3A patent/CN101896310B/zh active Active
- 2008-10-20 US US12/738,646 patent/US8999519B2/en active Active
- 2008-10-20 EP EP08840759.8A patent/EP2218540B1/en active Active
- 2008-10-20 WO PCT/JP2008/068956 patent/WO2009051255A1/ja not_active Ceased
- 2008-11-24 TW TW097145347A patent/TWI457192B/zh active
-
2016
- 2016-01-12 JP JP2016003762A patent/JP2016106033A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003326386A (ja) * | 2002-05-13 | 2003-11-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 無鉛はんだ合金 |
| JP2005014076A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Toshiba Corp | 耐酸化性はんだ、耐酸化性はんだの製造方法およびはんだ付け方法 |
| JP2005288544A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-10-20 | Toshiba Corp | 無鉛はんだ、はんだ付け方法および電子部品 |
| JP2006289434A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Nihon Superior Co Ltd | はんだ合金 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019013944A (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-31 | 新光電気工業株式会社 | 導電性ボール及び電子装置とそれらの製造方法 |
| JP7041477B2 (ja) | 2017-07-05 | 2022-03-24 | 新光電気工業株式会社 | 導電性ボール及び電子装置とそれらの製造方法 |
| JP2019013960A (ja) * | 2017-07-07 | 2019-01-31 | 新光電気工業株式会社 | 導電性ボール及び電子装置とそれらの製造方法 |
| JP7014535B2 (ja) | 2017-07-07 | 2022-02-01 | 新光電気工業株式会社 | 導電性ボール及び電子装置とそれらの製造方法 |
| JP2022515254A (ja) * | 2018-12-27 | 2022-02-17 | アルファ・アセンブリー・ソリューションズ・インコーポレイテッド | 鉛フリーはんだ組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201016374A (en) | 2010-05-01 |
| CN101896310A (zh) | 2010-11-24 |
| JP5924852B2 (ja) | 2016-05-25 |
| WO2009051255A1 (ja) | 2009-04-23 |
| JPWO2009051255A1 (ja) | 2011-03-03 |
| EP2218540A4 (en) | 2013-02-20 |
| US8999519B2 (en) | 2015-04-07 |
| WO2009051181A1 (ja) | 2009-04-23 |
| CN101896310B (zh) | 2014-03-05 |
| EP2218540B1 (en) | 2017-12-13 |
| US20100266870A1 (en) | 2010-10-21 |
| EP2218540A1 (en) | 2010-08-18 |
| TWI457192B (zh) | 2014-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5924852B2 (ja) | はんだ継手 | |
| JP6842500B2 (ja) | 無鉛ソルダーペースト及びその製造方法 | |
| KR101318454B1 (ko) | 수축공이 억제된 납프리 땜납 합금 | |
| EP3715040B1 (en) | Solder alloy, solder paste, solder ball, resin cored solder, and solder joint | |
| EP3707285A1 (en) | Low-silver tin based alternative solder alloy to standard sac alloys for high reliability applications | |
| KR102672970B1 (ko) | 땜납 합금, 땜납 볼, 땜납 페이스트 및 솔더 조인트 | |
| JP5973992B2 (ja) | はんだ合金 | |
| US20170334026A1 (en) | Solder alloy and package structure using same | |
| KR20250140630A (ko) | 땜납 합금, 땜납 볼, 땜납 페이스트 및 땜납 조인트 | |
| KR100904656B1 (ko) | 웨이브 및 디핑용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및 인쇄회로기판 | |
| TW201934769A (zh) | 用於極端環境中的電子應用之高可靠性無鉛焊料合金 | |
| TW201934768A (zh) | 用於電子應用之成本效益高的無鉛焊料合金 | |
| TW201016373A (en) | Lead-free solder alloy | |
| JP5051633B2 (ja) | はんだ合金 | |
| JP2017217693A (ja) | 鉛フリーはんだ合金 | |
| KR100904652B1 (ko) | 웨이브 및 디핑용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및 인쇄회로기판 | |
| KR102786493B1 (ko) | 땜납 합금, 땜납 볼, 땜납 프리폼, 땜납 페이스트 및 솔더 조인트 | |
| JP7674691B1 (ja) | はんだ合金、はんだペースト、はんだボール、およびはんだ継手 | |
| JP5633812B2 (ja) | Au−Sn系合金はんだ | |
| HK40097802A (zh) | 软钎料合金、焊料球、焊膏和钎焊接头 | |
| TW202546247A (zh) | 用於極端環境中的電子應用之高可靠性無鉛焊料合金 | |
| KR20220143112A (ko) | 땜납 합금, 땜납 볼 및 땜납 조인트 | |
| JPH1133774A (ja) | はんだ合金、ソルダーペースト及びやに入りはんだ | |
| KR20170097283A (ko) | 무연 솔더 합금 조성물 및 그의 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161025 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161221 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170606 |