JP2016186070A - 液晶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
1.基板としてのシリコンウエハー上のMOS(metal oxide semiconductor:金属酸化物半導体)トランジスター、
2.基板としてのガラス板上の薄膜トランジスター(TFT:thin−film transistor)。
Z1は、単結合、−CH2CH2−、−CH=CH−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−C2F4−、−C≡C−、−CF=CF−、−CH=CHCHO−または−CH2CF2O−を表す。
・式IAの化合物(1種類または多種類)の割合(パーセンテージ)は、CC−n−Vの割合(パーセンテージ)より高いかまたは等しく、
および/または
・式IAの化合物(1種類または多種類)の割合(パーセンテージ)は、CC−V−V1の割合(パーセンテージ)より高い
ことを条件とし、
ただし、割合(パーセンテージ)は、それぞれの場合で液晶媒体を基礎とする。
R2A、R2BおよびR2Cは、それぞれ互いに独立に、H、置換されていないか、CNまたはCF3によって1置換されている、またはハロゲンによって少なくとも1置換されている15個までのC原子を有するアルキルまたはアルケニル基を表し、ただし加えて、これらの基における1個以上のCH2基は、O原子が互いに直接連結しないようにして、−O−、−S−、
L1〜4は、それぞれ互いに独立に、F、Cl、CF3またはCHF2、好ましくはFを表し、
Z2およびZ2’は、それぞれ互いに独立に、単結合、−CH2CH2−、−CH=CH−、−CF2O−、−OCF2−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−C2F4−、−CF=CF−、−C≡C−または−CH=CHCH2O−を表し、
(O)は、単結合または−O−を表し、
pは、0、1または2を表し、
qは、0または1を表し、および
vは、1〜6を表す。
alkylおよびalkyl*は、それぞれ互いに独立に、1〜6個のC原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、および
alkenylおよびalkenyl*は、それぞれ互いに独立に、2〜6個のC原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。
alkylおよびalkyl*は、それぞれ互いに独立に、1〜6個のC原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、
alkenylおよびalkenyl*は、それぞれ互いに独立に、2〜6個のC原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。
Rは1〜7個のC原子を有する直鎖状のアルキルまたはアルコキシ基を表し、m=0、1、2、3、4、5または6であり、nは、0、1、2、3または4を表し、および
(O)は、単結合または−O−を表す。
alkylおよびalkyl*は、それぞれ互いに独立に、1〜6個のC原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、および
alkenylおよびalkenyl*は、それぞれ互いに独立に、2〜6個のC原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。
Z1およびZ2は、それぞれ互いに独立に、−C2H4−、−CH=CH−、−(CH2)4−、−(CH2)3O−、−O(CH2)3−、−CH=CHCH2CH2−、−CH2CH2CH=CH−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−C2F4−、−CF=CF−、−CF=CH−、−CH=CF−、−C≡C−、−CF2O−、−OCF2−、−CH2−または単結合を表す。
RB1、RB2、RCR1、RCR2、R1、R2は、それぞれ互いに独立に、R2Aの意味を有し、cは0、1または2であり、dは1または2である。R1およびR2は、好ましくは互いに独立に、それぞれ1または2〜6個のC原子を有するアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシを表す。
alkylおよびalkyl*は、それぞれ互いに独立に、1〜6個のC原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、および
alkenylおよびalkenyl*は、それぞれ互いに独立に、2〜6個のC原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。
式中、
R11、R12、R13は、それぞれ互いに独立に、1〜6個のC原子を有する直鎖状のアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキルまたはアルケニル基を表し、ただし、R12およびR13は、互いに独立に追加して、Hを表してもよく、
R12およびR13は、追加してハロゲン、好ましくはFを表し、
R、R1およびR2は、それぞれ互いに独立に、請求項4でR2Aに示される意味を有し、alkylは1〜6個のC原子を有するアルキル基を表し、(O)は単結合または−O−を表す。sは1または2を表す。
本発明による混合物は、好ましくは、
・式IA−1の化合物を、好ましくは5〜60%の濃度で、
および/または
・CC−3−V1を、好ましくは3〜15%の濃度で、
および/または
・CC−3−Vを、好ましくは5〜40%の濃度で、
および/または
・PGIY−n−Omを、好ましくは3〜15%の濃度で、
および/または
・CC−n−2V1を、好ましくは3〜20%の濃度で、
および/または
・CPY−n−Om、特に、CPY−2−O2、CPY−3−O2および/またはCPY−5−O2を、混合物全体を基礎として、好ましくは5%より多く、特に10〜30%の濃度で、
および/または
・CY−n−Om、好ましくはCY−3−O2、CY−3−O4、CY−5−O2および/またはCY−5−O4を、混合物全体を基礎として、好ましくは5%より多く、特に15〜50%の濃度で、
および/または
・CCY−n−Om、好ましくは、CCY−4−O2、CCY−3−O2、CCY−3−O3、CCY−3−O1および/またはCCY−5−O2を、混合物全体を基礎として、好ましくは5%より多く、特に10〜30%の濃度で、
および/または
・CLY−n−Om、好ましくは、CLY−2−O4、CLY−3−O2および/またはCLY−3−O3を、混合物全体を基礎として、好ましくは5%より多く、特に10〜30%の濃度で、
および/または
・CK−n−F、好ましくは、CK−3−F、CK−4−Fおよび/またはCK−5−Fを、混合物全体を基礎として、好ましくは5%より多く、特に5〜25%で、
含む。
・CPY−n−OmおよびCY−n−Omを、混合物全体を基礎として、好ましくは、10〜80%の濃度で、
および/または
・CPY−n−OmおよびCK−n−Fを、混合物全体を基礎として、好ましくは、10〜70%の濃度で、
および/または
・Y−nO−Om、好ましくはY−4O−O4を、混合物全体を基礎として、特に2〜20%の濃度で、
および/または
・CPY−n−OmおよびPY−n−Om、好ましくはCPY−2−O2および/またはCPY−3−O2およびPY−3−O2を、混合物全体を基礎として好ましくは、10〜45%の濃度で、
および/または
・CPY−n−OmおよびCLY−n−Omを、混合物全体を基礎として好ましくは、10〜80%の濃度で、
および/または
・CCVC−n−V、好ましくはCCVC−3−Vを、混合物全体を基礎として好ましくは、2〜10%の濃度で、
および/または
・CCC−n−V、好ましくはCCC−2−Vおよび/またはCCC−3−Vを、混合物全体を基礎として好ましくは、2〜10%の濃度で
含む。
Rは、それぞれが1または2〜6個のC原子をそれぞれ有する直鎖状のアルキル、アルコキシまたはアルケニルを表し、
Xは、F、Cl、CF3、OCF3、OCHFCF3またはCCF2CHFCF3、好ましくはFまたはOCF3を表す。
Gは、−CH=CH−、−N(O)=N−、−CH=CQ−、−CH=N(O)−、−C≡C−、−CH2−CH2−、−CO−O−、−CH2−O−、−CO−S−、−CH2−S−、−CH=N−、−COO−Phe−COO−、−CF2O−、−CF=CF−、−OCF2−、−OCH2−、−(CH2)4−、−(CH2)3O−またはC−C単結合を表し、Qはハロゲン、好ましくは塩素、または、−CNを表し、および、R20およびR21は、それぞれ、18個までの、好ましくは8個までの炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキルまたはアルコキシカルボニルオキシを表し、あるいは、これらの基の1つは、CN、NC、NO2、NCS、CF3、SF5、OCF3、F、ClまたはBrを表す。
RMaおよびRMbは、それぞれ互いに独立に、P、P−Sp−、H、ハロゲン、SF5、H、CN、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、SF5、NO2、アルキル、アルケニルまたはアルキニル基を表し、ただし加えて、1個以上の隣接していないCH2基は、それぞれ互いに独立に、Oおよび/またはS原子が互いに直接連結しないようにして、−C(R0)=C(R00)−、−C≡C−、−N(R00)−、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−または−O−CO−O−で置き換えられていてもよく、ただし好ましくは、基RMaおよびRMbの少なくとも一方は、基PまたはP−Sp−を表すか含有し、
Pは、重合性基を表し、
Spは、スペーサー基または単結合を表し、
AM1およびAM2は、それぞれ互いに独立に、芳香族、ヘテロ芳香族、脂環式またはヘテロ環式基(これらは、好ましくは、4〜25個の環原子、好ましくは、C原子を有し、該基は、また、縮合環を包含するか含有してもよく、該基はLで単置換または多置換されていてもよい。)を表し、
Lは、P、P−Sp−、OH、CH2OH、F、Cl、Br、I、−CN、−NO2、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、−C(=O)N(Rx)2、−C(=O)Y1、−C(=O)Rx、−N(Rx)2、置換されていてもよいシリル、6〜20個のC原子を有する置換されていてもよいアリール、または、1〜25個のC原子を有する直鎖状または分岐状のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ(ただし加えて、これらの基において1個以上のH原子は、F、Cl、PまたはP−Sp−で置き換えられていてもよい。)、好ましくはP、P−Sp−、H、OH、CH2OH、ハロゲン、SF5、NO2、アルキル、アルケニルまたはアルキニル基を表し、
Y1は、ハロゲンを表し、
ZM1は、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−OCO−、−O−CO−O−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−(CH2)n1−、−CF2CH2−、−CH2CF2−、−(CF2)n1−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH=CH−、−COO−、−OCO−CH=CH−、CR0R00または単結合を表し、
R0およびR00は、それぞれ互いに独立に、H、または、1〜12個のC原子を有するアルキルを表し、
Rxは、P、P−Sp−、H、ハロゲン、1〜25個のC原子を有する直鎖状、分岐状または環状のアルキル(ただし加えて、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接連結しないようにして、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−で置き換えられていてもよく、ただし加えて、1個以上のH原子は、F、Cl、PまたはP−Sp−で置き換えられていてもよい。)、6〜40個のC原子を有する置換されていてもよいアリールまたはアリールオキシ基、または、2〜40個のC原子を有する置換されていてもよいヘテロアリールまたはヘテロアリールオキシ基を表し、
m1は、0、1、2、3または4を表し、および
n1は、1、2、3または4を表し、
ただし、基RMa、RMbおよび存在する置換基Lからの少なくとも1個、好ましくは1個、2個または3個、特に好ましくは1個または2個は、基PまたはP−Sp−を表すか、基PまたはP−Sp−の少なくとも一方を含有する。
RMaおよびRMbが、それぞれ互いに独立に、P、P−Sp−、H、F、Cl、Br、I、−CN、−NO2、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、SF5、または、1〜25個のC原子を有する直鎖状または分岐状のアルキル(ただし加えて、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−C(R0)=C(R00)−、−C≡C−、−N(R00)−、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−で置き換えられていてもよく、ただし加えて、1個以上のH原子は、F、Cl、Br、I、CN、PまたはP−Sp−で置き換えられていてもよい。)を表し、ただし、基RMaおよびRMbの少なくとも一方は、好ましくは、基PまたはP−Sp−を表すか含み、
AM1およびAM2は、それぞれ互いに独立に、1,4−フェニレン、ナフタレン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、フェナントレン−2,7−ジイル、アントラセン−2,7−ジイル、フルオレン−2,7−ジイル、クマリン、フラボン(ただし加えて、これらの基における1個以上のCH基はNで置き換えられていてもよい。)、シクロヘキサン−1,4−ジイル(ただし加えて、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはSで置き換えられていてもよい。)、1,4−シクロヘキセニレン、ビシクロ[1.1.1]ペンタン−1,3−ジイル、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイル、スピロ[3.3]ヘプタン−2,6−ジイル、ピペリジン−1,4−ジイル、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル、インダン−2,5−ジイルまたはオクタヒドロ−4,7−メタノインダン−2,5−ジイルを表し、ただし、これらの全ての基は無置換でもLで一置換または多置換されていてもよく、
Lは、P、P−Sp−、OH、CH2OH、F、Cl、Br、I、−CN、−NO2、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、−C(=O)N(Rx)2、−C(=O)Y1、−C(=O)Rx、−N(Rx)2、置換されていてもよいシリル、6〜20個のC原子を有する置換されていてもよいアリール、または、1〜25個のC原子を有する直鎖状または分岐状のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ(ただし加えて、これらの基において1個以上のH原子は、F、Cl、PまたはP−Sp−で置き換えられていてもよい。)を表し、
Pは、重合性基を表し、
Y1は、ハロゲンを表し、
Rxは、P、P−Sp−、H、ハロゲン、1〜25個のC原子を有する直鎖状、分岐状または環状のアルキル(ただし加えて、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接連結しないようにして、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−で置き換えられていてもよく、ただし加えて、1個以上のH原子は、F、Cl、PまたはP−Sp−で置き換えられていてもよい。)、6〜40個のC原子を有する置換されていてもよいアリールまたはアリールオキシ基、または、2〜40個のC原子を有する置換されていてもよいヘテロアリールまたはヘテロアリールオキシ基を表す
ものである。
P1、P2およびP3は、それぞれ互いに独立に、重合性基(好ましくは、Pに対して、上および下で示される意味の1つを有する。)、特に好ましくは、アクリレート、メタクリレート、フルオロアクリレート、オキセタン、ビニルオキシまたはエポキシ基を表し、
Sp1、Sp2およびSp3は、それぞれ互いに独立に、単結合またはスペーサー基(好ましくは、Spaに対して、上および下で示される意味の1つを有する。)、特に好ましくは、−(CH2)p1−、−(CH2)p1−O−、−(CH2)p1−CO−O−または−(CH2)p1−O−CO−O−を表し、式中、p1は1〜12の整数であり、ただし、最後に述べた基において隣接する環への連結はO原子を介して起こり、
ただし、加えて、1個以上の基P1−Sp1−、P2−Sp2−およびP3−Sp3−は基Raaを表してもよく、ただし、存在する基P1−Sp1−、P2−Sp2−およびP3−Sp3−の少なくとも1つは基Raaを表さず、
Raaは、H、F、Cl、CN、または、1〜25個のC原子を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキル(ただし加えて、1個以上の隣接していないCH2基は、Oおよび/またはS原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−C(R0)=C(R00)−、−C≡C−、−N(R0)−、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−で置き換えられていてもよく、ただし加えて、1個以上のH原子は、F、Cl、CNまたはP1−Sp1−で置き換えられていてもよい。)、特に好ましくは、1〜12個のC原子を有し直鎖状または分岐状で一フッ素化または多フッ素化されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニルまたはアルキルカルボニルオキシ(ただし、アルケニルおよびアルキニル基は少なくとも2個の、分岐状の基は少なくとも3個のC原子を有する。)を表し、
R0およびR00は、それぞれ互いに独立に、それぞれの出現において同一または異なって、Hまたは1〜12個のC原子を有するアルキルを表し、
RyおよびRzは、それぞれ互いに独立に、H、F、CH3またはCF3を表し、
X1、X2およびX3は、それぞれ互いに独立に、−CO−O−、−O−CO−または単結合を表し、
Z1は、−O−、−CO−、−C(RyRz)−または−CF2CF2−を表し、
Z2およびZ3は、それぞれ互いに独立に、−CO−O−、−O−CO−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−または−(CH2)n−を表し、ただし、nは、2、3または4であり、
Lは、それぞれの出現において同一または異なって、F、Cl、CN、SCN、SF5または、1〜12個のC原子を有し直鎖状または分岐状で一フッ素化または多フッ素化されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ、好ましくは、Fを表し、
L’およびL”は、それぞれ互いに独立に、H、FまたはClを表し、
rは、0、1、2、3または4を表し、
sは、0、1、2または3を表し、
tは、0、1または2を表し、および
xは、0または1を表す。
式中、
Lは、それぞれの出現において同一または異なって、上および下で示される意味の1つを有し、好ましくは、F、Cl、CN、NO2、CH3、C2H5、C(CH3)3、CH(CH3)2、CH2CH(CH3)C2H5、OCH3、OC2H5、COCH3、COC2H5、COOCH3、COOC2H5、CF3、OCF3、OCHF2、OC2F5またはP−Sp−、特に好ましくは、F、Cl、CN、CH3、C2H5、OCH3、COCH3、OCF3またはP−Sp−、非常に特に好ましくは、F、Cl、CH3、OCH3、COCH3またはOCF3、特に、FまたはCH3を表す。
以下の略称を使用する:
(n、m、m’、z:それぞれ互いに独立に、1、2、3、4、5または6;(O)CmH2m+1はOCmH2m+1またはCmH2m+1を意味する)。
本発明によって使用できる液晶混合物は、それ自体従来の様式で調製される。一般に、より少量で使用される成分の所望の量を、主要な組成を構成する成分中で、有利には昇温して溶解する。また、有機溶媒、例えば、アセトン、クロロホルムまたはメタノール中の成分の溶液を混合し、完全に混合後に、例えば、蒸留によって溶媒を再び除去することも可能である。
表Bに、本発明による混合物に添加できる可能なドーパントを示す。混合物がドーパントを含む場合、それは0.01〜4重量%、好ましくは0.01〜3重量%の量で添加する。
表Dに、本発明によるLC媒体における反応性メソゲン化合物として好ましく使用される例示的化合物を示す。本発明による混合物が1種類以上の反応性化合物を含む場合、それらは、好ましくは、0.01〜5重量%の量で用いられる。重合のために、開始剤または2種以上の開始剤の混合物を加えることが必要な場合もある。開始剤または開始剤の混合物は、好ましくは、混合物を基礎として0.001〜2重量%の量で加える。適切な開始剤は、例えば、Irgacure(BASF)またはIrganox(BASF)である。
好ましい実施形態において、本発明による混合物は、好ましくは式RM−1〜RM−96の重合性化合物から選択される、1種類以上の重合性化合物を含む。このタイプの媒体は、PS−VA、PS−FFSおよびPS−IPS用途に特に適している。表Dに示す反応性メソゲンの中で、化合物RM−1、RM−2、RM−3、RM−4、RM−5、RM−11、RM−17、RM−35、RM−41、RM−44、RM−64、RM−81、RM−95およびRM−98が、特に好ましい。
V0は、20℃における容量閾電圧[V]を表し、
neは、20℃および589nmにおける異常屈折率を表し、
n0は、20℃および589nmにおける通常屈折率を表し、
Δnは、20℃および589nmにおける光学的異方性を表し、
ε⊥は、20℃および1kHzにおけるダイレクターに垂直な誘電率を表し、
ε‖は、20℃および1kHzにおけるダイレクターに平行な誘電率を表し、
Δεは、20℃および1kHzにおける誘電異方性を表し、
cl.p.,T(N,I)は、透明点[℃]を表し、
γ1は、磁場における回転法によって決定される、20℃で測定される回転粘度[mPa・s]を表し、
K1は、20℃における「スプレイ(splay)」変形に対する弾性定数[pN]を表し、
K2は、20℃における「ツイスト(twist)」変形に対する弾性定数[pN]を表し、
K3は、20℃における「ベンド(bend)」変形に対する弾性定数[pN]を表し、
LTSは、試験セルにおいて決定される低温安定性(ネマチック相)を表す。
<混合物例>
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M6による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M8による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M9による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M10による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M10による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M11による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M11による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M12による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M12による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M13による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M14による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M15による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M16による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M16による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M19による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M20による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M20による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M21による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M21による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M21による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M21による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M21による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M21による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M2aによる混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M22による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M22による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M22による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M22による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M22による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M17による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M18による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M19による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M20による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M21による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M23による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M23による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M24による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M24による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M26による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M27による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M27による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M27による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M28による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M29による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M30による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M31による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M32による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M33による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M33による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M35による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M36による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M37による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M38による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M38による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M38による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M38による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M38による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.75%の例M37による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M1による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M1による混合物を0.25%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M16による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M13による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M15による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M29による混合物を0.2%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.8%の例M31による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
例えば、PS−VA、PS−IPSまたはPS−FFSディスプレイ用のPS(ポリマー安定化)混合物を調製するために、99.7%の例M29による混合物を0.3%の下式の重合性化合物と混合する。
Claims (23)
- 式IAの化合物と、加えて、式CC−n−Vの少なくとも1種類の化合物および/または式CC−V−V1の化合物とを含むことを特徴とする液晶媒体であって、
ただし、
・式IAの化合物の割合(パーセンテージ)は、CC−n−Vの割合(パーセンテージ)より高いかまたは等しく、
および/または
・式IAの化合物の割合(パーセンテージ)は、CC−V−V1の割合(パーセンテージ)より高いことを条件とし、
ただし、割合(パーセンテージ)は、それぞれの場合で液晶媒体を基礎とする液晶媒体。
(式中、
Z1は、単結合、−CH2CH2−、−CH=CH−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−C2F4−、−C≡C−、−CF=CF−、−CH=CHCHO−または−CH2CF2O−を表す。)
(式中、
nは、2、3、4、5または6を表す。) - 混合物全体における式IAの化合物(1種類または多種類)の割合が、混合物を基礎として1〜50重量%であることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶媒体。
- 式IIA、IIBおよびIICの化合物から成る群より選択される1種類以上の化合物を追加的に含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶媒体。
(式中、
R2A、R2BおよびR2Cは、それぞれ互いに独立に、H、無置換か、CNまたはCF3で一置換されている、またはハロゲンで少なくとも一置換されている15個までのC原子を有するアルキルまたはアルケニル基を表し、ただし加えて、これらの基における1個以上のCH2基は、O原子が互いに直接連結しないようにして、−O−、−S−、
−C≡C−、−CF2O−、−OCF2−、−OC−O−または−O−CO−で置き換えられていてもよく、
L1〜4は、それぞれ互いに独立に、F、CF3、CHF2またはClを表し、
Z2およびZ2’は、それぞれ互いに独立に、単結合、−CH2CH2−、−CH=CH−、−CF2O−、−OCF2−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−C2F4−、−CF=CF−、−C≡C−または−CH=CHCH2O−を表し、
pは、0、1または2を表し、
qは、0または1を表し、
vは、1〜6を表し、および
(O)は、単結合または−O−を表す。) - 以下の式の化合物群から選択される1種類以上の化合物を追加的に含むことを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の液晶媒体。
(式中、
式T−20およびT−21の化合物中のR、nおよびmは、請求項7で示される意味を有し、
式BF−1およびBF−2中のR1およびR2は、請求項9で示される意味を有し、
化合物V−10およびL−4中のRおよびR10は、それぞれ互いに独立に、R2Aの意味を有し、
alkylおよびalkyl*は、それぞれ互いに独立に、1〜6個のC原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、
alkenylおよびalkenyl*は、それぞれ互いに独立に、2〜6個のC原子を有する直鎖状のアルケニル基を表し、
xは、1〜6の整数を表し、
cは、0、1または2を表し、および
(O)は、単結合または−O−を表す。) - 少なくとも1種類の重合性化合物を含むことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の液晶媒体。
- 1種類以上の添加剤を含むことを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の液晶媒体。
- 添加剤が、フリーラジカル捕捉剤、抗酸化剤およびUV安定剤から成る群より選択されることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載の液晶媒体。
- 液晶媒体におけるUV安定剤の含有量が、0〜10重量%であることを特徴とする請求項16または17に記載の液晶媒体。
- 少なくとも1種類の式IAの化合物を少なくとも1種類の更なるメソゲン化合物と混合し、任意成分として1種類以上の添加剤、および任意成分として少なくとも1種類の重合性化合物を添加することを特徴とする請求項1〜18のいずれか1項に記載の液晶媒体の調製方法。
- 電気光学的ディスプレイにおける、請求項1〜18のいずれか1項に記載の液晶媒体の使用。
- 誘電体として、請求項1〜18のいずれか1項に記載の液晶媒体を含むことを特徴とする、アクティブマトリクスアドレスを有する電気光学的ディスプレイ。
- VA、PSA、PA−VA、PS−VA、PVA、SA−VA、SS−VA、PALC、IPS、PS−IPS、FFSまたはPS−FFSディスプレイであることを特徴とする、請求項21に記載の電気光学的ディスプレイ。
- プラナー配向層を有するIPS、PS−IPS、FFSまたはPS−FFSディスプレイであることを特徴とする請求項22に記載の電気光学的ディスプレイ。
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