JP2016038520A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示装置の表示品質を向上させる。【解決手段】表示装置ＬＣＤ１は、表示部ＤＰおよび表示部ＤＰの周囲を囲む額縁部ＦＬを有する。また、表示装置ＬＣＤ１の基板１２は、回路部ＣＰを構成する導体パターン、および導体パターンを覆う有機膜である絶縁膜ＯＣ２を備える。また、絶縁膜ＯＣ２は、基板１２の周縁部まで広がる。また、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ３には絶縁膜ＯＣ２を厚さ方向に貫通するスリットＳＬＴが形成される。また、スリットＳＬＴは、回路部ＣＰと重ならない位置に形成されるものである。【選択図】図６

Description

本発明は、一対の基板が対向配置され、対向する基板の間に液晶層などの表示機能層が形成された表示装置に適用して有効な技術に関する。

対向配置された一対の基板の間に、液晶層などの表示機能層を配置して、表示機能層の周囲を封着（シール）する表示装置がある。特開２０１４−２６１９９号公報（特許文献１）には、シール材の周辺にブラックマトリクスの無い領域であるスリットを形成し、基板とブラックマトリクスの界面から浸入する水分等を遮断することが記載されている。

特開２０１４−２６１９９号公報

表示装置は、例えば液晶層などの表示機能層が一対の基板の間に形成され、表示機能層の周囲のシール部において一対の基板がシール材により接着固定されることで、表示機能層が保護された構造になっている。

また、対向配置される基板には、例えば保護膜や遮光膜として、樹脂などの有機材料から成る有機膜が形成される。このように基板に有機膜を形成する場合、有機膜の内部、あるいは有機膜と基板との界面を介して、水分が表示機能層に浸入し易くなる。そして、表示機能層に水分が浸入すると、表示機能層の構成材料が変質し、表示機能特性が変化する懸念がある。つまり、表示機能層への水分の浸入は表示品質が低下する原因になる。

表示機能層への水分の浸入を抑制する方法として、表示領域の周囲を囲むように、有機膜にスリットを形成する方法が考えられる。有機膜に形成されたスリットは、有機膜を厚さ方向に貫通するように除去することにより形成される。この場合、水分の浸入経路距離が長くなるので、水分の浸入を低減できる。

ところが、表示領域の周囲を囲むようにスリットを形成した場合、スリットが形成された部分では、有機膜に要求される機能が発揮できない。例えば、回路パターンの保護膜として形成された有機膜にスリットを形成した場合、スリットと重なる部分の回路パターンが保護されない。あるいは、遮光膜として形成された有機膜にスリットを形成した場合、スリットが形成された部分から光が漏れることを抑制するため、スリットの形成箇所とは別の場所に、光の漏れを抑制するための遮光部材を形成する必要がある。

したがって、スリットの形成箇所において、有機膜に要求される機能が発揮されない場合の対策を考慮すると、表示領域の周囲を囲む非表示部分である、所謂、額縁部、あるいは額縁領域と呼ばれる部分の面積を低減することが難しい。

本発明の目的は、表示装置の表示品質を向上させる技術を提供することにある。

本発明の一態様である表示装置は、表示部および前記表示部の周囲を囲む額縁部を有する。また、前記表示装置は、第１面を有する第１基板、前記第１基板の前記第１面と対向する第２面を有する第２基板、前記第１基板と前記第２基板との間の前記表示部に配置される表示機能層、および前記第２基板の前記額縁部に設けられた回路部、を有する。また、前記第２基板は、前記回路部を構成する導体パターン、および前記導体パターンを覆う第１有機膜を備える。また、前記第１有機膜は、前記第２基板の周縁部まで広がる。また、前記第１有機膜の角部には前記第１有機膜を厚さ方向に貫通する第１スリットが形成される。また、前記第１スリットは、前記回路部と重ならない位置に形成されるものである。

また、他の一態様として、前記第１有機膜は四つの角部を有し、前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成されても良い。

また、他の一態様として、前記第１有機膜の前記角部には、前記第１有機膜の周縁部から前記表示部の周縁部に向かって複数の前記第１スリットが形成されても良い。

また、他の一態様として、前記第１スリットは、前記表示部の角を中心として円弧を描くように形成されても良い。

また、他の一態様として、前記第１有機膜は四つの角部を有し、前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成され、前記四つの角部の間の辺部には、前記第１スリットが形成されなくても良い。

また、他の一態様として、前記第１スリットの両端は、前記第１有機膜の縁まで連通しても良い。

また、他の一態様として、前記第１基板は、有機材料からなる遮光膜を備え、前記遮光膜は、前記第１基板の周縁部まで広がり、前記遮光膜の前記額縁部には、前記遮光膜を厚さ方向に貫通する第２スリットが形成され、前記第２スリットが形成された部分には、無機材料から成る遮光部材が形成されても良い。

また、他の一態様として、前記第２スリットは、前記表示部を連続的に囲むように形成されても良い。

また、他の一態様である表示装置は、表示部および前記表示部の周囲を囲む額縁部を有する。また、前記表示装置は、第１面を有する第１基板、前記第１基板の前記第１面と対向する第２面を有する第２基板、前記第１基板と前記第２基板との間の前記表示部に配置される表示機能層、および前記第２基板の前記額縁部に設けられた回路部、を有する。また、前記第１基板は、有機材料からなる遮光膜を備え、前記第２基板は、前記回路部を構成する導体パターンを備える。また、前記遮光膜は、前記第１基板の周縁部まで広がる。また、前記遮光膜の角部には前記遮光膜を厚さ方向に貫通する第１スリットが形成される。また、前記第２基板には、前記第１スリットと厚さ方向に重なる位置に遮光部材が形成され、前記遮光部材は、前記回路部と重ならない位置に形成されても良い。

また、他の一態様として、前記第１遮光膜は四つの角部を有し、前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成されても良い。

また、他の一態様として、前記遮光膜は四つの角部を有し、前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成され、前記四つの角部の間の辺部には、前記第１スリットが形成されなくても良い。

また、他の一態様として、前記遮光膜に形成された前記第１スリットの両端は、前記遮光膜の縁まで連通しても良い。

実施の形態の液晶表示装置の一例を示す平面図である。 図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。 図２のＢ部の拡大断面図である。 図２のＣ部の拡大断面図である。 図３および図４に示すＴＦＴ基板の前面側の平面図である。 図５に示す有機膜が有する四つの角部のうちの一つを拡大して示す拡大平面図である。 図６のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図である。 図６に示すスリットに対する変形例を示す拡大平面図である。 図６に示すスリットに対する別の変形例を示す拡大平面図である。 図３および図４に示すＣＦ基板の背面側の平面図である。 図５に示すＴＦＴ基板に対する変形例である基板の前面側の平面図である。 図１０のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図である。 図１０に示す遮光膜が有する四つの角部のうちの一つを拡大して示す拡大平面図である。 図１３に示す領域と対向する基板の一部を拡大して示す拡大平面図である。 図１１に対する変形例を示す拡大平面図である。 図１５に示す領域と対向する基板の一部を拡大して示す拡大平面図である。 図１０に対する変形例であるＣＦ基板の背面側の平面図である。 図１７のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一または関連する符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

以下の実施の形態では、表示装置の例として、表示機能層である液晶層を備えた、液晶表示装置を取り上げて、詳しく説明する。また、液晶表示装置は、表示機能層である液晶層の液晶分子の配向を変化させるための電界の印加方向により、大きくは以下の２通りに分類される。すなわち、第１の分類として、液晶表示装置の厚さ方向（あるいは面外方向）に電界が印加される、所謂、縦電界モードがある。縦電界モードには、例えばＴＮ（Twisted Nematic）モードや、ＶＡ（Vertical Alignment）モードなどがある。また、第２の分類として、液晶表示装置の平面方向（あるいは面内方向）に電界が印加される、所謂、横電界モードがある。横電界モードには、例えばＩＰＳ（In-Plane Switching）モードや、ＩＰＳモードの一つであるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードなどがある。以下で説明する技術は、縦電界モードおよび横電界モードのいずれにも適用できるが、実施の形態では、一例として、横電界モードの液晶表示装置を取り上げて説明する。

また、以下の実施形態では、液晶表示装置の基本構成を説明した後、液晶表示装置の額縁部の詳細について、複数の実施態様を取り上げて説明する。

＜液晶表示装置の基本構成＞
まず、液晶表示装置の基本構成について説明する。図１は、本実施の形態の液晶表示装置の一例を示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。また、図３は、図２のＢ部の拡大断面図である。また、図４は、図２のＣ部の拡大断面図である。

なお、図１は平面図であるが、平面視における表示部ＤＰと額縁部ＦＬの境界を見やすくするため、表示部ＤＰにハッチングを付し、かつ、表示部ＤＰの輪郭を二点鎖線で示している。また、図１では、表示部ＤＰの周囲を囲む額縁部ＦＬに設けられたシールＳＬの輪郭を点線で示している。また、図１では、表示部ＤＰと基板の周縁部との間に設けられた回路部ＣＰの輪郭を二点鎖線で示している。また、図２は断面図であるが、見易さのためにハッチングは省略した。

図１に示すように、本実施の形態の表示装置ＬＣＤ１は、入力信号に応じて外部から視認可能な画像が形成される表示領域である表示部ＤＰを有する。また、表示装置ＬＣＤ１は、平面視において、表示部ＤＰの周囲に枠状に設けられた非表示領域である額縁部ＦＬを有する。また、表示装置ＬＣＤ１は、平面視において、額縁部ＦＬのさらに外側に設けられた端子部ＴＭを有する。端子部ＴＭには、表示部ＤＰに形成された複数の表示用の素子や額縁部ＦＬに設けられた回路部ＣＰの素子に電気信号、あるいは駆動用の電圧を供給するための複数の端子ＴＭ１が形成されている。

また、額縁部ＦＬは、表示部ＤＰと基板の周縁部との間に設けられた回路部ＣＰを有する。図１に示す例では、表示装置ＬＣＤ１の基板１１が有する辺１１ｓ１、辺１１ｓ２、辺１１ｓ３、および辺１１ｓ４のうち、辺１１ｓ３と表示部ＤＰの間、および辺１１ｓ４と表示部ＤＰの間に、それぞれ回路部ＣＰが設けられる。また、図４に示す例では、回路部ＣＰは、基板１２側に形成される。

回路部ＣＰには、表示部ＤＰに画像を形成するための駆動回路を構成する導体パターンが形成される。回路部ＣＰに形成された導体パターンは、端子部ＴＭに形成された複数の端子ＴＭ１に電気的に接続される。

また、図１に模式的に示すように、複数の端子ＴＭ１はフレキシブル配線基板ＦＰＣに接続される。フレキシブル配線基板ＦＰＣは、例えば、樹脂フィルム内に複数の配線が形成され、配置場所の形状に応じて自在に変形させることができる。複数の端子ＴＭ１は、フレキシブル配線基板ＦＰＣを介して画像表示用の駆動回路ＤＲ１や制御回路ＣＮＴ１と電気的に接続される。なお、回路部ＣＰと複数の端子ＴＭ１との間に駆動回路ＤＲ１や制御回路ＣＮＴ１が形成された半導体チップをＣＯＧ（Chip on glass）方式により基板１２上に設ける構成であってもよい。

また、表示装置ＬＣＤ１は、対向配置される一対の基板の間に、液晶層が形成された構造を有している。すなわち、図２に示すように、表示装置ＬＣＤ１は、表示面側の基板１１、基板１１の反対側に位置する基板１２、および基板１１と基板１２の間に配置される液晶層ＬＣＬ（図３参照）を有する。

また、表示装置ＬＣＤ１は、図１に示すように、平面視において、液晶層ＬＣＬが形成された表示部ＤＰの周囲の額縁部に形成されたシールＳＬを有する。シールＳＬは、表示部ＤＰの周囲を連続的に囲むように形成され、図２に示す基板１１と基板１２は、図１および図４に示すシールＳＬにより接着固定される。このように、表示部ＤＰの周囲にシールＳＬを設けることで、表示部ＤＰと額縁部ＦＬの一部とに形成された液晶層ＬＣＬを封止することができる。

図１に示す基板１１は、平面視において、Ｘ方向に沿って延びる辺１１ｓ１、辺１１ｓ１に対向する辺１１ｓ２、Ｘ方向に対して直交するＹ方向に沿って延びる辺１１ｓ３、および辺１１ｓ３に対向する辺１１ｓ４を有する。基板１１が有する辺１１ｓ１、辺１１ｓ２、辺１１ｓ３、および辺１１ｓ４のそれぞれから表示部ＤＰまでの距離は、同程度である。

また、図１に示す基板１２は、平面視において、Ｘ方向に沿って延びる辺１２ｓ１、辺１２ｓ１に対向する辺１２ｓ２、Ｘ方向に対して直交するＹ方向に沿って延びる辺１２ｓ３、および辺１２ｓ３に対向する辺１２ｓ４を有する。図１に示す例では、基板１２の辺１２ｓ１に沿って端子部ＴＭが形成される。したがって、基板１２の辺１２ｓ１から表示部ＤＰまでの距離は基板１２の他の辺１２ｓ２、辺１２ｓ３、および辺１２ｓ４のそれぞれから表示部ＤＰまでの距離よりも長い。また、基板１２が有する辺１２ｓ２、辺１２ｓ３、および辺１２ｓ４のそれぞれから表示部ＤＰまでの距離は、同程度である。

また、図２に示すように、表示装置ＬＣＤ１の基板１２の背面１２ｂ側には、光源ＬＳから発生した光を偏光する偏光板ＰＬ２が設けられている。偏光板ＰＬ２は、接着層を介して基板１２に接着固定されている。一方、基板１１の前面１１ｆ側には、偏光板ＰＬ１が設けられている。偏光板ＰＬ１は、接着層を介して基板１１に固定されている。

なお、図２では、表示画像を形成するための基本的な構成部品を例示的に示しているが、変形例としては図２に示す構成部品に加えて、他の部品を追加することができる。例えば、偏光板ＰＬ１を傷や汚れなどから保護する保護層として、保護フィルムやカバー部材を偏光板ＰＬ１の前面側に取り付けても良い。また例えば、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２に、位相差板などの光学フィルムを貼り付ける実施態様に適用することができる。あるいは、基板１１及び基板１２のそれぞれに、光学フィルムを成膜する方法を適用することができる。また、図１に対する変形例として、例えば、画素電極ＰＥ（図３参照）に画素電圧を供給する駆動回路が形成された半導体チップを基板１２の前面１２ｆに搭載しても良い。

また、図３に示すように、表示装置ＬＣＤ１は、基板１１と基板１２の間に配置される複数の画素電極ＰＥ、および基板１１と基板１２の間に配置される共通電極ＣＥを有する。本実施の形態の表示装置ＬＣＤ１は、上記したように横電界モードの表示装置なので、複数の画素電極ＰＥおよび共通電極ＣＥは、それぞれ基板１２に形成されている。

図３に示す、基板１２は、ガラス基板などから成る基材１２ｓｔを有し、主として画像表示用の回路が基材１２ｓｔに形成されている。画像表示用の回路には、上記した回路部ＣＰ（図１参照）に形成された駆動回路や、表示部ＤＰに形成されたＴＦＴ（Thin-Film Transistor）などのアクティブ素子などが含まれる。基材１２ｓｔは、基板１１側に位置する前面１２ｆおよびその反対側に位置する背面１２ｂ（図２参照）を有する。また、基板１２の前面１２ｆ側には、ＴＦＴなどのアクティブ素子と、複数の画素電極ＰＥがマトリクス状に形成されている。基板１２のように、アクティブ素子としてＴＦＴが形成された基板は、ＴＦＴ基板と呼ばれる。

図３に示す例は、上記したように横電界モード（詳しくはＦＦＳモード）の表示装置ＬＣＤ１を示しているので、共通電極ＣＥおよび画素電極ＰＥは、それぞれ基板１２の前面１２ｆ側に形成されている。共通電極ＣＥは、基板１２が備える基材１２ｓｔの前面側に形成され、絶縁膜ＯＣ２に覆われる。また、複数の画素電極ＰＥは、絶縁膜ＯＣ２を介して共通電極ＣＥと対向するように絶縁膜ＯＣ２の基板１１側に形成される。

また、基板１２は、液晶層ＬＣＬと接する界面である前面１２ｆに、絶縁膜ＯＣ２および複数の画素電極ＰＥを覆う配向膜ＡＦ２を有する。この配向膜ＡＦ１、ＡＦ２は液晶層ＬＣＬに含まれる液晶の初期配向を揃えるために形成された樹脂膜であって、例えばポリイミド樹脂から成る。

また、図３に示す基板１１は、ガラス基板などから成る基材１１ｓｔに、カラー表示の画像を形成するカラーフィルタＣＦが形成された基板であって、表示面側である前面１１ｆおよび前面１１ｆの反対側に位置する背面１１ｂ（図２参照）を有する。基板１１のように、カラーフィルタＣＦが形成された基板は、上記したＴＦＴ基板と区別する際に、カラーフィルタ基板、あるいは、液晶層を介してＴＦＴ基板と対向するため、対向基板と呼ばれる。なお、図３に対する変形例としては、カラーフィルタＣＦをＴＦＴ基板に設ける構成を採用しても良い。

基板１１は、例えばガラス基板などの基材１１ｓｔの一方の面に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色のカラーフィルタ画素ＣＦｒ、ＣＦｇ、ＣＦｂを周期的に配列して構成されたカラーフィルタＣＦが形成されている。カラー表示装置では、例えばこの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色のサブピクセルを１組として、１画素（１ピクセルともいう）を構成する。基板１１の複数のカラーフィルタ画素ＣＦｒ、ＣＦｇ、ＣＦｂは、基板１２に形成されている画素電極ＰＥを有するそれぞれのサブピクセルと、互いに対向する位置に配置されている。

また、各色のカラーフィルタ画素ＣＦｒ、ＣＦｇ、ＣＦｂのそれぞれの境界には、遮光膜ＢＭが形成されている。遮光膜ＢＭはブラックマトリクスと呼ばれ、例えば黒色の樹脂から成る。遮光膜ＢＭは、平面視において、格子状に形成される。言い換えれば、基板１１は、格子状に形成された遮光膜ＢＭの間に、形成された、各色のカラーフィルタ画素ＣＦｒ、ＣＦｇ、ＣＦｂを有する。

なお、本願において、表示部ＤＰまたは表示領域と記載する領域は、額縁部ＦＬよりも内側の領域として規定される。また、額縁部ＦＬは、図２に示す光源ＬＳから照射された光を遮光する遮光膜ＢＭにより覆われた領域である。遮光膜ＢＭは表示部ＤＰ内にも形成されるが、表示部ＤＰには、遮光膜ＢＭに複数の開口部が形成され、開口部にはカラーフィルタＣＦが形成されている。したがって、カラーフィルタＣＦが形成された複数の開口部のうち、最も周縁部側に形成された開口部の端部が、表示部ＤＰと額縁部ＦＬの境界として規定される。ただし、後述するように、遮光膜ＢＭに水分の浸入を抑制するスリットが形成されている場合がある。水分の浸入を抑制する目的で形成される開口部には、カラーフィルタが形成されていない点で、上記した開口部とは区別される。

また、基板１１は、カラーフィルタＣＦを覆う樹脂膜ＯＣ１を有する。各色のカラーフィルタ画素ＣＦｒ、ＣＦｇ、ＣＦｂの境界には、遮光膜ＢＭが形成されているので、カラーフィルタＣＦの内側面は、凹凸面になっている。樹脂膜ＯＣ１は、カラーフィルタＣＦの内側面の凹凸を平坦化する、平坦化膜として機能する。あるいは、樹脂膜ＯＣ１は、カラーフィルタＣＦから液晶層に対して不純物が拡散するのを防止する保護膜として機能する。樹脂膜ＯＣ１は、材料に熱硬化性樹脂成分、あるいは、光硬化性樹脂成分など、エネルギーを付与することで硬化する成分を含有させることで、樹脂材料を硬化させることができる。また、カラーフィルタＣＦの内側面の凹凸を平坦化する観点から、樹脂膜ＯＣ１は、樹脂などの有機材料により形成することが好ましい。

また、基板１１は、液晶層ＬＣＬと接する界面である背面１１ｂに、樹脂膜ＯＣ１を覆う配向膜ＡＦ１を有する。この配向膜ＡＦ１は液晶層ＬＣＬに含まれる液晶の初期配向を揃えるために形成された樹脂膜であって、例えばポリイミド樹脂から成る。図４に示す例では、表示部ＤＰの周縁部側に配向膜ＡＦ１の広がりを抑制する部材ＦＳが設けられている。部材ＦＳは、表示装置ＬＣＤ１の製造工程において、基板１１の背面１１ｂに配向膜ＡＦ１を形成する際に、配向膜ＡＦ１が額縁部を広く覆ってしまうことを抑制する、堰き止め用部材としての機能を備える。このため、部材ＦＳは、基板１１の背面１１ｂに対して突出するように形成される。

また、基板１１と基板１２の間には、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に表示用電圧が印加されることで表示画像を形成する液晶層ＬＣＬが設けられる。液晶層ＬＣＬは、印加された電界の状態に応じてそこを通過する光を変調するものである。

また、図４に示すように、液晶層ＬＣＬを囲むように配置されるシールＳＬは、シール材（封着材）ＳＬｐからなる。液晶層ＬＣＬは、シール材ＳＬｐで囲まれた領域内に封入されている。つまり、シール材ＳＬｐは、液晶層ＬＣＬの漏れ出しを防ぐ封着材としての機能を有している。また、シール材ＳＬｐは、基板１１の背面１１ｂおよび基板１２の前面１２ｆのそれぞれに密着しており、基板１１と基板１２とは、シール材ＳＬｐを介して接着固定されている。つまり、シール材ＳＬｐは、基板１１及び基板１２を接着固定する接着部材としての機能と、を有している。

図３および図４に示す液晶層ＬＣＬの厚さは、基板１１や基板１２の厚さと比較して極端に薄い。例えば、液晶層ＬＣＬの厚さは、基板１１や基板１２の厚さと比較すると、０．１％〜１０％程度の厚さである。図３および図４に示す例では、液晶層ＬＣＬの厚さは、例えば４μｍ程度である。

また、本実施の形態では、図１および図４に示すように、額縁部ＦＬは、表示部ＤＰと基板の周縁部の間に設けられた回路部ＣＰを有する。回路部ＣＰには、導体パターンＣＤＰが形成されている。導体パターンは、回路を構成するようにパターニングされた導体であって、例えば、銅（Ｃｕ），アルミニウム（Ａｌ）などの金属単体あるいは合金等により形成される。このように導体パターンＣＤＰにより回路を形成する場合、導体パターンＣＤＰの損傷を抑制する観点から、導体パターンＣＤＰを覆うように絶縁膜ＯＣ２を形成することが好ましい。また、導体パターンＣＤＰを確実に覆うように絶縁膜ＯＣ２を形成する観点から、絶縁膜ＯＣ２の少なくとも最表面は、樹脂などの有機膜により形成されることが好ましい。あるいは、絶縁膜ＯＣ２を基材１２ｓｔ側から無機絶縁膜と有機絶縁膜とが順に積層された積層膜としても良い。また、無機絶縁膜を覆うように有機絶縁膜を形成することで、絶縁膜ＯＣ２の表面の凹凸を低減し、平坦化することができる。

図３に示す表示装置ＬＣＤ１によるカラー画像の表示方法は、例えば以下の通りである。すなわち、光源ＬＳから出射された光は、偏光板ＰＬ２によってフィルタリングされ、偏光板ＰＬ２を通過する光が液晶層ＬＣＬに入射する。液晶層ＬＣＬに入射した光は、液晶の屈折率異方性（言い換えれば複屈折）に応じて偏光状態を変化させて液晶層ＬＣＬの厚さ方向（言い換えれば基板１２から基板１１に向かう方向）に伝搬され、基板１１から出射される。この時、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥに電圧を印加して形成される電界により、液晶配向が制御され、液晶層ＬＣＬは光学的なシャッターとして機能する。つまり、液晶層ＬＣＬにおいて、サブピクセル毎に光の透過率を制御することができる。基板１１に到達した光は、基板１１に形成されたカラーフィルタにおいて、色フィルタリング処理（すなわち、所定の波長以外の光を吸収する処理）が施され、前面１１ｆから出射される。また、前面１１ｆから出射された光は、偏光板ＰＬ１を介して観者ＶＷに到達する。

＜額縁部の詳細−１＞
ここで、額縁部ＦＬの詳細について説明する。なお、本セクションでは、図４に示す基板１１および基板１２のうち、基板１２側に形成された有機膜周辺からの水分の浸入を抑制する技術を説明する。図５は、図３および図４に示すＴＦＴ基板の前面側の平面図である。図５では、図１に示す基板１２側の構造を見やすくするため、図４に示す基板１１およびシールＳＬを取り除いた状態を示している。また、図５では、表示部ＤＰ、回路部ＣＰ、および絶縁膜ＯＣ２の四つの角部ＯＣｃ１、ＯＣｃ２、ＯＣｃ３、ＯＣｃ４を二点鎖線で囲って示している。

近年、デザイン性を向上させる観点、あるいは軽量化の観点から、表示装置が有する額縁部ＦＬの幅を低減することにより、表示装置の有効表示面積の割合を増加させる技術が要求される。ところが、額縁部ＦＬの幅を低減すると、基板の外縁から表示部ＤＰまでの距離が小さくなるので、基板の外縁から水分が浸入すると、水分が表示部ＤＰに到達し易くなる。特に、一対の基板の対向面側に形成された有機膜が基板の外縁まで広がっている場合、有機膜と基板の密着界面、あるいは有機膜の内部を通って水分が浸入し易くなる。そして、表示部ＤＰに水分が浸入すると、表示部ＤＰに形成された液晶層ＬＣＬの構成材料が変質し、表示機能特性が変化する懸念がある。例えば、図５に示すように、基板１２に形成される有機膜である絶縁膜ＯＣ２は、基板１２の周縁部まで広がっている。

そこで、表示部ＤＰへの水分の浸入を抑制する方法として、表示部ＤＰの周囲を囲むように、有機膜を貫通する開口部であるスリットを形成する方法が考えられる。有機膜を厚さ方向に貫通するようにスリットを形成することで、水分の浸入経路が途中で遮断され、水分の浸入が阻害される。このため、額縁部ＦＬの幅を低減した場合でも、表示部ＤＰに水分が浸入するまでの時間を延ばすことができる。

ところが、図１に示すように表示部ＤＰと基板の周縁部の間に回路部ＣＰが設けられている場合、スリットを形成する位置が問題になる。すなわち、図４に示す額縁部ＦＬにおいて、有機膜である絶縁膜ＯＣ２にスリットを形成すると、導体パターンＣＤＰの一部がスリットにおいて露出してしまう。絶縁膜ＯＣ２から露出した部分では、導体パターンＣＤＰは保護されない。したがって、導体パターンＣＤＰを確実に保護する観点からは、回路部ＣＰにはスリットを形成せず、導体パターンＣＤＰの全体が絶縁膜ＯＣ２により覆われていることが好ましい。

一方、導体パターンＣＤＰの全体が絶縁膜ＯＣ２により覆われるためには、回路部ＣＰ以外の場所にスリットを形成する必要があるが、回路部ＣＰと基板の周縁部の間に、スリットの形成領域を設けた場合、額縁部ＦＬの幅が大きくなってしまう。

そこで、本願発明者は、基板の外縁から水分が浸入し、表示機能特性が変化する現象についてさらに検討を行った。本願発明者の検討によれば、水分の浸入に起因する表示機能特性の変化は、表示部ＤＰの角部において最初に顕在化する。表示機能特性の変化の例として、表示ムラが視認される現象があるが、表示ムラは、四角形を成す有効表示領域の角部において最初に視認される。

このように、表示部ＤＰの角部において表示機能特性の変化が最初に顕在化する理由として、以下の理由が考えられる。すなわち、表示部ＤＰの各角部は、基板の有する四辺のうちの二辺との距離が近いため、隣り合う角部の間に位置する辺部と比較して、水分の浸入量が相対的に多い。例えば図５に示す例では、表示部ＤＰの四つの角部のうち、角部ＤＰｃ１は、基板１２の辺１２ｓ２からの水分の浸入に加え、辺１２ｓ３からの水分の浸入を考慮する必要がある。また、角部ＤＰｃ２は、基板１２の辺１２ｓ２からの水分の浸入に加え、辺１２ｓ４からの水分の浸入を考慮する必要がある。なお、角部ＤＰｃ３および角部ＤＰｃ４は基板１２の辺１２ｓ１までの距離が長いため、角部ＤＰｃ１および角部ＤＰｃ２と比較すると水分の浸入量が少ない。しかし、各角部の間の辺部と比較すると、角部ＤＰｃ３および角部ＤＰｃ４には、相対的に多くの水分が浸入する。

上記のように、表示部ＤＰの角部において、表示機能特性の変化が最初に顕在化する点に着目すれば、表示部ＤＰの角部に向かって浸入する水分の量を低減させることにより、表示装置の表示品質が維持できる期間を延ばすことができる。言い換えれば、製品寿命を延長することができる。

また、表示部ＤＰの角部に浸入する水分の量を低減させることに着目すれば、表示部ＤＰの周囲を連続的に囲むようにスリットを形成する必要はなく、例えば、図５に例示するように、基板１２の前面１２ｆを覆う有機膜である絶縁膜ＯＣ２の角部に、選択的にスリットＳＬＴを形成すれば良い。

図５に示す例では、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ１、角部ＯＣｃ２、角部ＯＣｃ３、および角部ＯＣｃ４のそれぞれにはスリットＳＬＴが形成されている。また、スリットＳＬＴのそれぞれは、互いに連結されず、独立している。

絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ１、角部ＯＣｃ２、角部ＯＣｃ３、および角部ＯＣｃ４は、以下のように定義される。すなわち、角部ＯＣｃ１は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ２、および絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ３に囲まれた領域である。また、角部ＯＣｃ２は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ２、および絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ４に囲まれた領域である。角部ＯＣｃ３は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、有機膜の終端部分である辺ＯＣｓ１、および絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ３に囲まれた領域である。角部ＯＣｃ４は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、有機膜の終端部分である辺ＯＣｓ、および絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ４に囲まれた領域である。

なお、図５に示す例では、基板１２の前面１２ｆを覆う有機膜である絶縁膜ＯＣ２は、平面視において、Ｘ方向に沿って延びる辺ＯＣｓ１、辺ＯＣｓ１に対向する辺ＯＣｓ２、Ｘ方向に対して直交するＹ方向に沿って延びる辺ＯＣｓ３、および辺ＯＣｓ３に対向する辺ＯＣｓ４を有する。図５に示す例では、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ１に沿って端子部ＴＭが形成される。このため、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ１は、基板１２の辺１２ｓ１と表示部ＤＰの間に存在する。一方、平面視において、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ２、辺ＯＣｓ３、および辺ＯＣｓ４は、基板１２の辺１２ｓ２、辺１２ｓ３、および辺１２ｓ４と、それぞれ一致する。

図５に示すように、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ１、角部ＯＣｃ２、角部ＯＣｃ３、および角部ＯＣｃ４のそれぞれにスリットＳＬＴを形成することにより、表示部ＤＰの角部に向かって浸入する水分を低減することができる。また、複数のスリットＳＬＴはそれぞれ分離されているので、回路部ＣＰには、スリットＳＬＴが形成されない。このため、回路部ＣＰに形成された導体パターンＣＤＰ（図４参照）の全体が、保護膜としての絶縁膜ＯＣ２に覆われる。したがって、回路部ＣＰに形成された導体パターンＣＤＰを確実に保護することができる。

また、本実施の形態では、スリットＳＬＴは、回路部ＣＰと基板１２の辺１２ｓ３との間、および回路部ＣＰと基板１２の辺１２ｓ４との間に形成されない。言い換えれば、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ１と角部ＯＣｃ３との間、および角部ＯＣｃ２と角部ＯＣｃ４との間には、スリットＳＬＴが形成されない。したがって、基板１２の周縁部と表示領域の間の距離は、回路部ＣＰを形成するために必要なスペースが確保できれば良いので、額縁部ＦＬの幅を低減することができる。

次に、水分の浸入を抑制する目的で形成される、図５に示すスリットＳＬＴの詳細について説明する。図６は、図５に示す有機膜が有する四つの角部のうちの一つを拡大して示す拡大平面図である。また、図７は図６のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図である。

なお、図６では図５に示す絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ１、角部ＯＣｃ２、角部ＯＣｃ３、および角部ＯＣｃ４の代表例として、角部ＯＣｃ３の周辺を拡大して示す。他の角部ＯＣｃ１、角部ＯＣｃ２、および角部ＯＣｃ４については拡大平面図による図示は省略するが、角部ＯＣｃ３と同様のスリットＳＴＬが形成されている。

図６に示す例では、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ３には、絶縁膜ＯＣ２の一部を除去するように形成された開口部である複数のスリットＳＬＴ１が形成されている。複数のスリットＳＬＴ１のそれぞれは、図７に示すように、絶縁膜ＯＣ２を厚さ方向に貫通するように形成されている。このように、有機膜である絶縁膜ＯＣ２を厚さ方向に貫通するスリットＳＬＴ１を形成することで、水分の浸入経路はスリットＳＬＴ１により分断される。このため、仮に絶縁膜ＯＣ２の周縁部から水分が浸入しても、スリットＳＬＴ１を迂回しなければ表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３には水分が到達しない。このため、水分が表示部ＤＰまで到達するまでの時間を延長することができる。

なお、上述したように、絶縁膜ＯＣ２は、基材１２ｓｔ側から無機絶縁膜と有機絶縁膜とが順に積層された積層膜であっても良い。上記した水分は、有機膜と無機膜の密着界面、あるいは有機膜の内部を介して浸入する。したがって、絶縁膜ＯＣ２が無機膜と有機膜の積層膜である場合には、絶縁膜ＯＣ２のうち、有機膜の部分が厚さ方向に貫通するようにスリットＳＬＴ１を形成すれば良い。

また、図６に示す例では、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ１と辺ＯＣｓ３の交点であるする角から表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３に向かって４個のスリットＳＬＴ１が配列された例を示している。言い換えれば、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ３には、絶縁膜ＯＣ２の周縁部から表示部ＤＰの周縁部に向かって複数のスリットＳＬＴ１が形成される。

しかし、一つの角部ＯＣｃ３に設けるスリットＳＬＴ１の数は４個以外に種々の変形例がある。例えば、スリットＳＬＴ１により水分の浸入経路を分断する効果は、絶縁膜ＯＣ２の周縁部の角と表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３との間に、少なくとも１個のスリットＳＬＴ１が配置されていれば得られる。また、水分の浸入をより確実に抑制する観点からは、図６に示すように、絶縁膜ＯＣ２の周縁部の角と表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３との間に、複数のスリットＳＬＴ１を配列することが好ましい。

また、複数のスリットＳＬＴ１を形成する場合、各スリットＳＬＴ１の開口幅は、例えば１０μｍ〜１００μｍ程度にすることができる。また、複数のスリットＳＬＴ１の離間距離は、スリットＳＬＴ１の配置数と角部ＯＣｃ３のスペースに応じて決定することができるが、例えば、３０μｍ〜１００μｍ程度にすることができる。この場合、複数のスリットＳＬＴ１の開口幅の合計値が１４０μｍ〜３００μｍ程度になるように、スリットＳＬＴ１の数および開口幅を決定することで、水分の浸入を効果的に抑制することができる。

また、図６に示す例では、複数のスリットＳＬＴ１は、表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３を中心として円弧を描くように形成されている。このように、複数のスリットＳＬＴ１のそれぞれが円弧を描くように形成されることで、スリットＳＬＴ１が直線的に形成された場合と比較して水分浸入時の迂回距離を長くすることができる。

また、図６に示すスリットＳＬＴ１に対する変形例として、以下のような変形例でも良い。図８および図９は、それぞれ図６に示すスリットに対する変形例を示す拡大平面図である。図８に示すスリットＳＬＴ２および図９に示す複数のスリットＳＬＴ３は、絶縁膜ＯＣ２に形成された開口部の両端が、絶縁膜ＯＣ２の縁まで連通している点で、図６に示す複数のスリットＳＬＴ１と相違する。

図８に示す変形例の場合、複数のスリットＳＬＴ２のそれぞれが、絶縁膜ＯＣ２の縁まで延びる引き出し部に連結されている。引き出し部は図７を用いて説明したスリットＳＬＴ１と同様に、有機膜である絶縁膜ＯＣ２を厚さ方向に貫通するように形成された開口部である。したがって、スリットＳＬＴ２の両端は、絶縁膜ＯＣ２の縁まで連通している。

また、図９に示す変形例の場合、複数のスリットＳＬＴ３のそれぞれが、絶縁膜ＯＣ２の縁まで延びる引き出し部を有している。引き出し部は図７を用いて説明したスリットＳＬＴ１と同様に、有機膜である絶縁膜ＯＣ２を厚さ方向に貫通するように形成された開口部である。したがって、複数のスリットＳＬＴ３の両端は、それぞれ絶縁膜ＯＣ２の縁まで連通している。

スリットＳＬＴ２やスリットＳＬＴ３のように、開口部の両端を絶縁膜ＯＣ２の縁まで連通させた場合、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ３から浸入した水分が迂回する経路を遮断することができる。したがって、スリットＳＬＴ２やスリットＳＬＴ３と絶縁膜ＯＣ２の縁に囲まれた領域から浸入した水分が、表示部ＤＰに到達することを防止できる。

また、図５では、絶縁膜ＯＣ２の四つの角部ＯＣｃ１、ＯＣｃ２、ＯＣｃ３、ＯＣｃ４にのみスリットＳＬＴを形成する実施態様を例示的に示しているが、回路部ＣＰとスリットＳＬＴとが厚さ方向に重ならなければ、種々の変形例を適用できる。例えば図５に示す例では、絶縁膜ＯＣ２の角部ＯＣｃ１と角部ＯＣｃ２の間の領域（言い換えれば辺部）には、回路部ＣＰが形成されていない。したがって、角部ＯＣｃ１に形成されたスリットＳＬＴと角部ＯＣｃ２に形成されたスリットＳＬＴとを連通させても良い。この場合、絶縁膜ＯＣ２の辺ＯＣｓ２側から浸入する水分が表示部ＤＰに到達することを防止できる。

また、絶縁膜ＯＣ２の四つの角部ＯＣｃ１、ＯＣｃ２、ＯＣｃ３、ＯＣｃ４のうち、端子部ＴＭ側に配置される角部ＯＣｃ３および角部Ｏｃｃ４において、端子ＴＭ１と回路部ＣＰとを接続する配線を形成する必要がある場合、角部ＯＣｃ３および角部Ｏｃｃ４に形成されるスリットＳＬＴの開口幅を角部ＯＣｃ１および角部Ｏｃｃ２に形成されるスリットＳＬＴの開口幅よりも小さくしても良い。あるいは、角部ＯＣｃ３および角部Ｏｃｃ４にスリットＳＬＴの配置スペースを確保することが難しい場合には、絶縁膜ＯＣ２の四つの角部ＯＣｃ１、ＯＣｃ２、ＯＣｃ３、ＯＣｃ４のうち、角部ＯＣｃ３および角部ＯＣｃ４にはスリットＳＬＴを配置しない変形例もある。

＜額縁部の詳細−２＞
次に、図５〜図９を用いて説明した表示装置ＬＣＤ１とは別の実施態様として、図４に示す基板１１および基板１２のうち、基板１１側に形成された有機膜周辺からの水分の浸入を抑制する技術を説明する。図１０は、図３および図４に示すＣＦ基板の背面側の平面図である。また、図１１は、図５に示すＴＦＴ基板に対する変形例である基板の前面側の平面図である。また、図１２は、図１０のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図である。なお、基板１１の背面１１ｂは、図３および図４に示すように遮光膜ＢＭを覆う樹脂膜ＯＣ１が形成されているが、図１０では、遮光膜ＢＭに形成されたスリットＳＬＴの位置関係を明示するため、樹脂膜ＯＣ１を取り除いた状態で示している。

上述したように、図３および図４に示す遮光膜ＢＭおよび遮光膜ＢＭを覆う樹脂膜ＯＣ１は、それぞれ有機材料により構成される有機膜である。有機膜は無機膜よりも加工が容易である。また、有機膜は液状またはペースト状の材料を塗布した後、硬化させることで成膜するという製法により形成できるので、無機膜と比較して成膜面を平坦化し易い。

ところが、有機膜である遮光膜ＢＭや樹脂膜ＯＣ１が図４に示すように基板１１の周縁部まで広がっている場合、有機膜と基板の密着界面、あるいは有機膜の内部を通って水分が浸入し易くなる。そして、上記＜額縁部の詳細−１＞のセクションで説明したように、表示部ＤＰに水分が浸入すると、表示部ＤＰに形成された液晶層ＬＣＬの構成材料が変質し、表示機能特性が変化する懸念がある。

また、表示部ＤＰへの水分の浸入を抑制する方法として、有機膜である遮光膜ＢＭにスリットを形成した場合、スリットの形成位置において光が漏れることを防ぐための遮光部材を設ける必要がある。遮光膜ＢＭは、図２に示す光源ＬＳから照射される光を遮光するための部材なので、遮光膜ＢＭにスリットを形成した場合には、スリットと厚さ方向に重なる位置に、スリットの形状に対応した遮光パターンである遮光部材を形成する必要がある。したがって、基板１１にスリットを形成する場合には、基板１１と対向する基板１２に遮光部材を形成する方法が考えられる。

ところが、上述したように、基板１２に回路部ＣＰを構成する導体パターンＣＤＰ（図４参照）が形成されている場合、導体パターンＣＤＰを避けるように遮光部材を形成する必要がある。このため、回路部ＣＰ以外の場所にスリットを形成する必要があるが、回路部ＣＰと基板の周縁部の間に、スリットの形成領域を設けた場合、額縁部ＦＬの幅が大きくなってしまう。

そこで、本願発明者は、上記＜額縁部の詳細−１＞のセクションで説明した技術を応用して、額縁部ＦＬの幅を低減し、かつ、基板１１における水分の浸入を抑制する技術を見出した。すなわち、上述したように、表示部ＤＰの角部に浸入する水分の量を低減させることにより、表示機能特性の変化が発生するまでの期間を長くすることができる。したがって、表示部ＤＰの周囲を連続的に囲むようにスリットを形成する必要はなく、例えば、図１０に例示するように、基板１１の背面１１ｂ側に形成された有機膜である遮光膜ＢＭの角部に、選択的にスリットＳＬＴを形成すれば良い。

図１０に示す例では、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１、角部ＢＭｃ２、角部ＢＭｃ３、および角部ＢＭｃ４のそれぞれにはスリットＳＬＴが形成されている。また、スリットＳＬＴのそれぞれは、互いに連結されず、独立している。複数のスリットＳＬＴのそれぞれは、図１２に示すように、遮光膜ＢＭを厚さ方向に貫通するように形成された開口部である。なお、スリットＳＬＴは樹脂膜ＯＣ１を貫通するように形成しても良いが、遮光膜ＢＭにのみ設け、遮光膜ＢＭのスリットを樹脂膜ＯＣで覆う構成でも良い。また、図１１に示すように、図１０に示すスリットＳＬＴと対向する位置には、スリットＳＬＴの形状に対応した遮光パターンである遮光部材ＢＰが形成されている。

図１２に示すように、遮光部材ＢＰは、スリットＳＬＴと厚さ方向に重なる位置に形成されている。また、遮光部材ＢＰは、スリットＳＬＴの開口形状と相似形状になっており、遮光部材の面積は、スリットＳＬＴの開口面積よりも大きくなっている。これにより、図２に示す光源ＬＳから照射された光は、遮光部材ＢＰにより遮光されるので、遮光膜ＢＭに形成されたスリットＳＬＴから光が漏れることを抑制できる。遮光部材ＢＰは、ＴＦＴ基板上の配線を形成する金属と同材料で、配線の一部と一体或いは配線とは離間して形成するが、黒色の顔料を含有する有機膜やクロム（Ｃｒ）や酸化クロムなど、配線を形成する金属と別材料であっても良い。

図１０に示す遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１、角部ＢＭｃ２、角部ＢＭｃ３、および角部ＢＭｃ４は、以下のように定義される。すなわち、角部ＢＭｃ１は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ２、および遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ３に囲まれた領域である。また、角部ＢＭｃ２は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ２、および遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ４に囲まれた領域である。角部ＢＭｃ３は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、および遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ１、および遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ３に囲まれた領域である。角部ＢＭｃ４は、表示部ＤＰの輪郭線の延長線、および遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ１、および遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ４に囲まれた領域である。

なお、図１０に示す例では、基板１２の前面１２ｆを覆う有機膜である遮光膜ＢＭは、平面視において、Ｘ方向に沿って延びる辺ＢＭｓ１、辺ＢＭｓ１に対向する辺ＢＭｓ２、Ｘ方向に対して直交するＹ方向に沿って延びる辺ＢＭｓ３、および辺ＢＭｓ３に対向する辺ＢＭｓ４を有する。図１０に示す例では、基板１１には、端子部ＴＭ（図１１参照）は形成されていない。したがって、平面視において、遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ１、辺ＢＭｓ２、辺ＢＭｓ３、および辺ＢＭｓ４は、基板１１の辺１１ｓ１、辺１１ｓ２、辺１１ｓ３、および辺１１ｓ４と、それぞれ一致する。

図１０に示すように、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１、角部ＢＭｃ２、角部ＢＭｃ３、および角部ＢＭｃ４のそれぞれにスリットＳＬＴを形成することにより、表示部ＤＰの角部に向かって浸入する水分を低減することができる。また、複数のスリットＳＬＴはそれぞれ分離されているので、図１１に示すようにスリットＳＬＴ（図１０参照）に対応して形成された遮光部材ＢＰは、回路部ＣＰには形成されない。また、遮光部材ＢＰは、回路部ＣＰと基板１２の辺１２ｓ３との間、および回路部ＣＰと基板１２の辺１２ｓ４との間に形成されない。言い換えれば、図１０に示す遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１と角部ＢＭｃ３との間、および角部ＢＭｃ２と角部ＢＭｃ４との間には、スリットＳＬＴが形成されない。したがって、額縁部ＦＬの幅を低減することができる。

次に、図１０に示すスリットＳＬＴの詳細について説明する。図１３は、図１０に示す遮光膜が有する四つの角部のうちの一つを拡大して示す拡大平面図である。また、図１４は図１３に示す領域と対向する基板の一部を拡大して示す拡大平面図である。

なお、図１３では図１０に示す遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１、角部ＢＭｃ２、角部ＢＭｃ３、および角部ＢＭｃ４の代表例として、角部ＢＭｃ３の周辺を拡大して示す。他の角部ＢＭｃ１、角部ＢＭｃ２、および角部ＢＭｃ４については拡大平面図による図示は省略するが、角部ＢＭｃ３と同様のスリットＳＴＬが形成されている。

図１３に示す例では、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ３には、遮光膜ＢＭの一部を除去するように形成された開口部であるスリットＳＬＴが形成されている。スリットＳＬＴ４は、図１２に示すように、遮光膜ＢＭを厚さ方向に貫通するように形成されている。このように、有機膜である遮光膜ＢＭを厚さ方向に貫通するスリットＳＬＴ４を形成することで、水分の浸入経路はスリットＳＬＴ４により分断される。このため、仮に遮光膜ＢＭの周縁部から水分が浸入しても、スリットＳＬＴ４を迂回しなければ表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３には水分が到達しない。このため、水分が表示部ＤＰまで到達するまでの時間を延長することができる。

なお、図１２に示すように、遮光膜ＢＭが有機膜である樹脂膜ＯＣ１に覆われている場合、少なくとも遮光膜ＢＭを貫通するようにスリットＳＬＴが形成されれば、仮にスリットＳＬＴ内に樹脂膜ＯＣ１が埋め込まれた場合でも、遮光膜ＢＭと基材１１ｓｔの密着界面を経由、或いは、遮光膜ＢＭの内部を介して浸入する水分を低減することができる。遮光膜ＢＭに加え、樹脂膜ＯＣ１を貫通するようにスリットＳＬＴが形成されていれば、樹脂膜ＯＣ１の内部を経由する水分の浸入経路も遮断することができる。

また、図１０に示す例では、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１、ＢＭｃ２、ＢＭｃ３、ＢＭｃ４に、それぞれ１個のスリットＳＬＴが形成されている。図１０〜図１４に対する変形例としては、図６を用いて説明したスリットＳＬＴ１のように、複数のスリットＳＬＴを一つの角部に配置することもできる。ただし、スリットＳＬＴにおいて光が漏れることを抑制する観点からはスリットＳＬＴの数は少ない方が好ましい。

図１３に示すように、一つのスリットＳＬＴ４を形成する場合、スリットＳＬＴ４の開口幅は、例えば、３０μｍ〜１００μｍ程度にすることができる。また、図示は省略するが、複数のスリットＳＬＴを配列する場合には、複数のスリットＳＬＴそれぞれの開口幅はさらに狭く、例えば１０μｍ〜１５μｍ程度にすることもできる。

また、図１３に示す例では、スリットＳＬＴ４は、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ３の輪郭に沿って、Ｌ字形状を成す。このように、スリットＳＬＴ４がＬ字を描くように形成されることで、スリットＳＬＴ４が直線的に形成された場合と比較して水分浸入時の迂回距離を長くすることができる。なお、図１３に示すスリットＳＬＴ４に対する変形例として、図６に示すスリットＳＬＴ１のように、表示部ＤＰの角部ＤＰｃ３を中心として円弧を描くように形成されていても良い。

また、図１３に示すスリットＳＬＴ１に対する変形例として、以下のような変形例でも良い。図１５は、図１３に示すスリットに対する変形例を示す拡大平面図である。また、図１６は、図１５に示す領域と対向する基板の一部を拡大して示す拡大平面図である。図１５に示すスリットＳＬＴ５は、遮光膜ＢＭに形成された開口部の両端が、遮光膜ＢＭの縁まで連通している点で、図１３に示すスリットＳＬＴ４と相違する。また、図１６に示す遮光部材ＢＰ２は、遮光部材ＢＰ２の両端が、図１５に示す遮光膜ＢＭの縁まで延びている点で図１４に示す遮光部材ＢＰ１と相違する。

図１５および図１６に示す変形例の場合、図８および図９を用いて説明した変形例と同様に、スリットＳＬＴ５の両端を遮光膜ＢＭの縁まで連通させることにより、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ３から浸入した水分が迂回する経路を遮断することができる。したがって、スリットＳＬＴ５と遮光膜ＢＭの縁に囲まれた領域から浸入した水分が、表示部ＤＰに到達することを防止できる。

また、図１０では、遮光膜ＢＭの四つの角部ＢＭｃ１、ＢＭｃ２、ＢＭｃ３、ＢＭｃ４にのみスリットＳＬＴを形成する実施態様を例示的に示しているが、図１１に示す回路部ＣＰと遮光部材ＢＰとが厚さ方向に重ならなければ、種々の変形例を適用できる。例えば図１０に示す例では、遮光膜ＢＭの角部ＢＭｃ１と角部ＢＭｃ２の間の領域（言い換えれば辺部）には、回路部ＣＰ（図１１参照）が形成されていない。したがって、角部ＢＭｃ１に形成されたスリットＳＬＴと角部ＢＭｃ２に形成されたスリットＳＬＴとを連通させても良い。この場合、遮光膜ＢＭの辺ＢＭｓ２側から浸入する水分が表示部ＤＰに到達することを防止できる。

また、遮光膜ＢＭの四つの角部ＢＭｃ１、ＢＭｃ２、ＢＭｃ３、ＢＭｃ４のうち、端子部ＴＭ側に配置される角部ＢＭｃ３および角部ＢＭｃ４と対向する領域において、図１１に示す端子ＴＭ１と回路部ＣＰとを接続する配線を形成する必要がある場合、角部ＢＭｃ３および角部ＢＭｃ４に形成されるスリットＳＬＴの開口面積を小さくしても良い。あるいは、角部ＢＭｃ３および角部ＢＭｃ４にスリットＳＬＴの配置スペースを確保することが難しい場合には、遮光膜ＢＭの四つの角部ＢＭｃ１、ＢＭｃ２、ＢＭｃ３、ＢＭｃ４のうち、角部ＢＭｃ３および角部ＢＭｃ４にはスリットＳＬＴを配置しない変形例もある。

また、図１２に示す遮光部材ＢＰは、絶縁膜ＯＣ２に覆われていなくても良い。したがって、例えば、表示装置ＬＣＤ２の構成と、図５〜図９を用いて説明した表示装置ＬＣＤ１の構成とを組み合わせて、図１１に示す絶縁膜ＯＣ２の四つの角部ＯＣｃ１、ＯＣｃ２、ＯＣｃ３、ＯＣｃ４のそれぞれに、図６、図８、または図９に示すスリットＳＬＴの何れかを形成することができる。この場合、図１１に示す遮光部材ＢＰと、図６、図８、または図９に示すスリットＳＬＴの位置が重なる場合には、遮光部材ＢＰの一部がスリットＳＬＴにおいて絶縁膜ＯＣ２から露出する。

＜額縁部の詳細−３＞
次に、図１０〜図１６を用いて説明した表示装置ＬＣＤ２とは別の実施態様として、図４に示す基板１１および基板１２のうち、基板１１側に形成された有機膜周辺からの水分の浸入を抑制する別の技術を説明する。

図１７は、図１０に対する変形例であるＣＦ基板の背面側の平面図である。また、図１８は、図１７のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図である。

図１７および図１８に示す表示装置ＬＣＤ３は、基板１１の表示部ＤＰの周囲を連続的に囲むスリットＳＬＴ６が形成されている点で、図１０および図１２に示す表示装置ＬＣＤ２と相違する。スリットＳＬＴ６は、遮光膜ＢＭを厚さ方向に貫通するように形成されている。また、表示装置ＬＣＤ３は、スリットＳＬＴ６が形成された領域に、遮光部材ＢＰ３が形成されている点で図１０および図１２に示す表示装置ＬＣＤ２と相違する。

表示装置ＬＣＤ３は、有機膜である遮光膜ＢＭにスリットＳＬＴ６を形成することにより、水分の浸入を抑制する。また、スリットＳＬＴ６が形成される箇所に遮光部材ＢＰ３を形成することにより、光の漏れを抑制する。遮光部材ＢＰ３は、例えばクロムや酸化クロムなどの無機材料で形成される。このため、スリットＳＬＴ６が形成される部分に遮光部材ＢＰ３を配置しても、水分の浸入を抑制することができる。

また、図１８に示すように、遮光部材ＢＰ３の幅は、スリットＳＬＴ６の開口幅よりも大きい。このため、遮光部材ＢＰ３の両端部は、遮光膜ＢＭにより覆われている。このように、遮光部材ＢＰ３の両端部が遮光膜ＢＭに覆われていることにより、光の漏れを確実に防止できる。

また、表示装置ＬＣＤ３の場合、遮光部材ＢＰ３を基板１１側に形成するので、図３および図４に示す基板１２には、遮光部材ＢＰを形成しない。このため、図１７に示すように回路部ＣＰとスリットＳＬＴが重なっていても良いので、表示部ＤＰの周囲を連続的に囲むように、スリットＳＬＴ６を形成することができる。したがって、表示部ＤＰの角部に対する水分の浸入の他、表示部ＤＰの各辺に対する水分の浸入も抑制できる。

また、表示装置ＬＣＤ３は、基板１２側に遮光部材ＢＰを形成する必要がない。したがって、図１７および図１８に示す表示装置ＬＣＤ３の構成と、図５〜図９を用いて説明した表示装置ＬＣＤ１の構成とを組み合わせて適用することが容易である。

以上、本願発明者によってなされた発明を実施の形態および代表的な変形例に基づき具体的に説明したが、例えば、上記した種々の変形例同士を組み合わせて適用することもできる。また例えば、上述の実施例では、表示機能層として液晶層を用いる表示装置を開示しているがこれに限ったものではない。例えば、表示機能層として有機化合物から成る発光素子を用いる、所謂、有機ＥＬ（Organic Electro-Luminescence）タイプの表示装置の額縁部に上記した技術を適用することもできる。

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

本発明は、液晶表示装置などの表示装置や表示装置が組み込まれた電子機器に利用可能である。

１１、１２ 基板
１１ｂ、１２ｂ 背面
１１ｆ、１２ｆ 前面
１１ｓ１、１１ｓ２、１１ｓ３、１１ｓ４、１２ｓ１、１２ｓ２、１２ｓ３、１２ｓ４ 辺
１１ｓｔ、１２ｓｔ 基材
ＡＦ１、ＡＦ２ 配向膜
ＢＭ 遮光膜（有機膜）
ＢＭｃ１、ＢＭｃ２、ＢＭｃ３、ＢＭｃ４ 角部
ＢＭｓ１、ＢＭｓ２、ＢＭｓ３、ＢＭｓ４ 辺
ＢＰ、ＢＰ１、ＢＰ２、ＢＰ３ 遮光部材
ＣＤＰ 導体パターン
ＣＥ 共通電極
ＣＦ カラーフィルタ
ＣＦｒ、ＣＦｇ、ＣＦｂ カラーフィルタ画素
ＣＮＴ１ 制御回路
ＣＰ 回路部
ＤＰ 表示部
ＤＰｃ１、ＤＰｃ２、ＤＰｃ３、ＤＰｃ４ 角部（角）
ＤＲ１ 駆動回路
ＦＬ 額縁部
ＦＰＣ フレキシブル配線基板
ＦＳ 部材
ＬＣＤ１、ＬＣＤ２、ＬＣＤ３ 表示装置
ＬＣＬ 液晶層（表示機能層）
ＬＳ 光源
ＯＣ１ 樹脂膜（絶縁膜）
ＯＣ２ 絶縁膜（樹脂膜）
ＯＣｃ１、ＯＣｃ２、ＯＣｃ３、ＯＣｃ４ 角部
ＯＣｓ１、ＯＣｓ２、ＯＣｓ３、ＯＣｓ４ 辺
ＰＥ 画素電極
ＰＬ１、ＰＬ２ 偏光板
ＳＬ シール
ＳＬｐ シール材（封着材）
ＳＬＴ、ＳＬＴ１、ＳＬＴ２、ＳＬＴ３、ＳＬＴ４、ＳＬＴ５、ＳＬＴ６ スリット
ＴＭ 端子部
ＴＭ１ 端子
ＶＷ 観者

Claims (12)

1. 表示部および前記表示部の周囲を囲む額縁部を有する表示装置であって、
   第１面を有する第１基板、前記第１基板の前記第１面と対向する第２面を有する第２基板、前記第１基板と前記第２基板との間の前記表示部に配置される表示機能層、および前記第２基板の前記額縁部に設けられた回路部、を有し、
   前記第２基板は、前記回路部を構成する導体パターン、および前記導体パターンを覆う第１有機膜を備え、
   前記第１有機膜は、前記第２基板の周縁部まで広がり、
   前記第１有機膜の角部には前記第１有機膜を厚さ方向に貫通する第１スリットが形成され、
   前記第１スリットは、前記回路部と重ならない位置に形成される、表示装置。
2. 請求項１に記載の表示装置であって、
   前記第１有機膜は四つの角部を有し、
   前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成される、表示装置。
3. 請求項１に記載の表示装置であって、
   前記第１有機膜の前記角部には、前記第１有機膜の周縁部から前記表示部の周縁部に向かって複数の前記第１スリットが形成される、表示装置。
4. 請求項１に記載の表示装置であって、
   前記第１スリットは、前記表示部の角を中心として円弧を描くように形成される、表示装置。
5. 請求項１に記載の表示装置であって、
   前記第１有機膜は四つの角部を有し、
   前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成され、
   前記四つの角部の間の辺部には、前記第１スリットが形成されない、表示装置。
6. 請求項１に記載の表示装置であって、
   前記第１スリットの両端は、前記第１有機膜の縁まで連通する、表示装置。
7. 請求項１に記載の表示装置であって、
   前記第１基板は、有機材料から成る遮光膜を備え、
   前記遮光膜は、前記第１基板の周縁部まで広がり、
   前記遮光膜の前記額縁部には、前記遮光膜を厚さ方向に貫通する第２スリットが形成され、
   前記第２スリットが形成された部分には、無機材料から成る遮光部材が形成される、表示装置。
8. 請求項７に記載の表示装置であって、
   前記第２スリットは、前記表示部を連続的に囲むように形成される、表示装置。
9. 表示部および前記表示部の周囲を囲む額縁部を有する表示装置であって、
   第１面を有する第１基板、前記第１基板の前記第１面と対向する第２面を有する第２基板、前記第１基板と前記第２基板との間の前記表示部に配置される表示機能層、および前記第２基板の前記額縁部に設けられた回路部、を有し、
   前記第１基板は、有機材料からなる遮光膜を備え、
   前記第２基板は、前記回路部を構成する導体パターンを備え、
   前記遮光膜は、前記第１基板の周縁部まで広がり、
   前記遮光膜の角部には前記遮光膜を厚さ方向に貫通する第１スリットが形成され、
   前記第２基板には、前記第１スリットと厚さ方向に重なる位置に遮光部材が形成され、
   前記遮光部材は、前記回路部と重ならない位置に形成される、表示装置。
10. 請求項９に記載の表示装置であって、
    前記遮光膜は四つの角部を有し、
    前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成される、表示装置。
11. 請求項９に記載の表示装置であって、
    前記遮光膜は四つの角部を有し、
    前記第１スリットは前記四つの角部のそれぞれに形成され、
    前記四つの角部の間の辺部には、前記第１スリットが形成されない、表示装置。
12. 請求項９に記載の表示装置であって、
    前記第１スリットの両端は、前記遮光膜の縁まで連通する、表示装置。

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