JP2016018146A - Optical module and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光素子を高密度で集積、実装する光モジュールおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical module in which optical elements are integrated and mounted at high density and a method for manufacturing the same.
平面型光導波回路(PLC:Planar lightwave circuit)と複数個の光学装置を集積した光モジュールとして、例えば、特許文献1や特許文献2に示されている光モジュールが挙げられる。特許文献1には、基板の上に配置されたPLCの上に光学装置を配置する光モジュールが示されている。特許文献2には、PLCの端部に光学装置を配置する光モジュールが示されている。PLCを構成する層の上に光学装置を配置する場合、PLCの光導波路の中を導波し、光導波路から出射された光信号の光路を、PLCの上に配置された光学装置に向けて変換する。具体的には、マイクロミラーを用いて、PLC内部を導波する光と光学装置を光学的に結合させる。 As an optical module in which a planar lightwave circuit (PLC) and a plurality of optical devices are integrated, for example, optical modules shown in Patent Document 1 and Patent Document 2 can be cited. Patent Document 1 discloses an optical module in which an optical device is disposed on a PLC disposed on a substrate. Patent Document 2 shows an optical module in which an optical device is arranged at an end of a PLC. When an optical device is arranged on a layer constituting the PLC, the optical device is guided in the optical waveguide of the PLC, and the optical path of the optical signal emitted from the optical waveguide is directed toward the optical device arranged on the PLC. Convert. Specifically, the light guided inside the PLC and the optical device are optically coupled using a micromirror.
図1(a)に、PLC22の上に光学装置105及び電子装置106を配置した光モジュールの例を示す。図1(a)の光モジュールは、ミラー構造体104と、PLC22と、基板21と、光学装置105と、電子装置106とを備える。108はボンディングワイヤーである。ボンディングワイヤー108は、光学装置105と、電子装置106を電気的に接続する。図1(a)の光モジュールでは、基板21の上にPLC22を形成し、PLC22の上に光学装置105と電子装置106を配置する。Tp1は光学装置105又は電子装置106の厚さ、Tw1はPLC22の厚さ、Tsub1は基板21の厚さである。
FIG. 1A shows an example of an optical module in which an
図1(b)に、基板21の上に光学装置105及び電子装置106を配置した光モジュールの例を示す。図1(b)の光モジュールは、ミラー構造体104と、PLC22と、基板21と、支持基板23と、光学装置105と、電子装置106とを備える。108はボンディングワイヤーである。ボンディングワイヤー108は、光学装置105と、電子装置106を電気的に接続する。図1(b)の光モジュールでは、基板21の上にPLC22を形成した後、PLC22を下面側として、基板21の上に光学装置105と電子装置106を配置する。Tp2は光学装置105又は電子装置106の厚さ、Tw2はPLC22の厚さ、Tsub2は基板21の厚さ、Tsup2は支持基板23の厚さである。
FIG. 1B shows an example of an optical module in which the
図1(a)に示した光モジュール全体の厚さは、Tp1と、Tw1と、Tsub1の和であり、図1(b)に示した光モジュール全体の厚さは、Tp2と、Tw2と、Tsub2と、Tsup2の和である。光学装置105や電子装置106の厚さを薄くするのは容易ではないので、Tp1及びTp2を小さくするのは容易ではない。また、基板21の厚さTsub1及びTsub2、そして支持基板23の厚さTsup2を、機械的強度を保ちつつ薄くするのも容易ではない。そのため、光モジュールが大型化してしまうという問題があった。
The total thickness of the optical module shown in FIG. 1A is the sum of Tp1, Tw1, and Tsub1, and the total thickness of the optical module shown in FIG. 1B is Tp2, Tw2, It is the sum of Tsub2 and Tsup2. Since it is not easy to reduce the thickness of the
図2に、光導波路の端部に光学装置105を配置した光モジュールの例を示す。図2に示した光モジュールは、PLC22と、基板21と、光学装置105と、光学ベンチ31とを備える。PLC22は、上部クラッド22cと、コア22bと、下部クラッド22aと、端面22dとを備える。コア22bは、上部クラッド22c及び下部クラッド22aよりも屈折率が高い。上部クラッド22c及び下部クラッド22aに挟まれたコア22bは、光導波路として機能する。41は、コア22bを導波して端面22dから出射される光、及び端面22dからコア22bへと入射する光の光路である。図2のようにPLC22の端部に光学装置105を配置する場合、PLC22と光学装置105を光学的に結合しなければならない。そのため、光学装置105を光学ベンチ31などの上に配置し、コア22bと光学装置105の活性層の高さを一致させる。そして、光路41を通過する光を、光学装置105が備える光学素子の活性層に入射させる。また、光学装置105が出射する光が端面22dからコア22bへと入射するようにする。
FIG. 2 shows an example of an optical module in which the
しかし、温度が変化すると、基板21及びPLC22の熱膨張係数と、光学ベンチ31の熱膨張係数の相違が原因で、コア22bと光学装置105の活性層の高さが一致しなくなる場合がある。そうすると、コア22bから出射されて光路41を伝搬する光が、光学装置105が備える光学素子の活性層102へ入射しなくなるという問題が生じる。また、光学装置105が出射する光がコア22bへと入射しなくなるという問題も生じる。さらに、基板の反り等によって、コア22bから出射された光が光学装置105が備える光学素子の活性層へ入射しなくなる場合や、光学装置105が出射する光がコア22bへと入射しなくなる場合があるという問題もあった。
However, when the temperature changes, the heights of the active layers of the
前記課題を解決するために、本発明は、従来の光モジュールよりも厚さが薄く、光軸調整が容易な光モジュールとその製造方法を提供することを目的とする。 In order to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide an optical module that is thinner than a conventional optical module and that can easily adjust an optical axis, and a method for manufacturing the same.
上記目的を達成するために、本願発明の光モジュールは、基板に設けられた溝の内部に光学装置を配置する。本願発明の光モジュール製造方法は、本願発明の光モジュールの製造方法である。 In order to achieve the above object, in the optical module of the present invention, an optical device is disposed inside a groove provided in a substrate. The optical module manufacturing method of the present invention is an optical module manufacturing method of the present invention.
具体的には、本願発明の光モジュールは、基板の上に配置された平面光導波回路と、前記基板の前記平面光導波回路が配置された面と反対側の面に設けられた溝と、前記溝の内部に配置され、前記平面光導波回路へ光を入射させ又は前記平面光導波回路から出射される光を受光する光学装置と、を備える。 Specifically, the optical module of the present invention includes a planar optical waveguide circuit disposed on a substrate, a groove provided on a surface of the substrate opposite to the surface on which the planar optical waveguide circuit is disposed, An optical device disposed inside the groove and configured to receive light incident on the planar optical waveguide circuit or to receive light emitted from the planar optical waveguide circuit.
本願発明に係る光モジュールは、基板に溝を備え、溝の内部に光学装置を配置することで、光モジュールの厚さを薄くすることができる。基板の内部に光学装置を配置するので、温度変化による平面光導波回路と光学装置の間の光軸ずれは、光学ベンチ等の異なった材質の上に配置した場合と比べて小さい。また、溝の内部にある光学装置が配置される場所を自由に形成できるので、平面光導波回路と光学装置の間の光軸調整を容易にすることができる。したがって、本発明は、従来の光モジュールよりも厚さが薄く、光軸調整が容易な光モジュールを提供することができる。 The optical module according to the present invention can reduce the thickness of the optical module by providing the substrate with a groove and disposing the optical device inside the groove. Since the optical device is arranged inside the substrate, the optical axis deviation between the planar optical waveguide circuit and the optical device due to temperature change is small compared to the case where the optical device is arranged on a different material such as an optical bench. In addition, since the place where the optical device inside the groove is disposed can be freely formed, the optical axis adjustment between the planar optical waveguide circuit and the optical device can be facilitated. Therefore, the present invention can provide an optical module that is thinner than a conventional optical module and that allows easy adjustment of the optical axis.
本願発明の光モジュールでは、前記平面光導波回路の上面から下面へと貫通し、前記平面光導波回路の上面と前記溝を連結する貫通孔と、前記平面光導波回路と前記光学装置の間の光路に挿入され、前記光学装置からの光を反射して前記平面光導波回路へ光を入射させるか又は前記平面光導波回路からの光を反射して前記光学装置へと光を入射させるミラーと、をさらに備えてもよい。 In the optical module of the present invention, the planar optical waveguide circuit penetrates from the upper surface to the lower surface, connects the upper surface of the planar optical waveguide circuit and the groove, and between the planar optical waveguide circuit and the optical device. A mirror that is inserted into an optical path and reflects light from the optical device and makes the light incident on the planar optical waveguide circuit, or reflects light from the planar optical waveguide circuit and makes the light enter the optical device; , May be further provided.
本願発明の光モジュールでは、前記溝は、深さの異なる複数の底部を備えてもよい。 In the optical module of the present invention, the groove may include a plurality of bottom portions having different depths.
本願発明の光モジュールでは、前記平面光導波回路のうちの前記貫通孔と接する端面は、当該端面の配置される前記平面光導波回路の光軸方向に対して傾斜していてもよい。 In the optical module of the present invention, an end surface of the planar optical waveguide circuit that contacts the through hole may be inclined with respect to the optical axis direction of the planar optical waveguide circuit on which the end surface is disposed.
具体的には、本願発明の光モジュールの製造方法は、基板の上に平面光導波回路を形成する平面光導波回路形成工程と、前記基板に溝を形成する溝形成工程と、前記平面光導波回路へ光を入射させ又は前記平面光導波回路から出射される光を受光する光学装置を、前記溝の内部に設置する光学装置設置工程と、を順に有する。 Specifically, the optical module manufacturing method of the present invention includes a planar optical waveguide circuit forming step of forming a planar optical waveguide circuit on a substrate, a groove forming step of forming a groove in the substrate, and the planar optical waveguide. An optical device installation step in which an optical device that makes light incident on the circuit or receives light emitted from the planar optical waveguide circuit is installed inside the groove;
溝形成工程及び光学装置設置工程を有するため、基板に溝を形成し、溝の内部に光学装置を設置することができる。そのため、厚さが薄い光モジュールを製造することができる。光学装置設置工程において、基板に光学装置を設置するため、温度変化による平面光導波回路と光学装置の間の光軸ずれを、光学ベンチ等の異なった材質の上に設置した場合と比べて小さくすることができる。また、溝形成工程において、溝の内部にある光学装置が配置される場所を自由に形成できるため、平面光導波回路と光学装置の間の光軸調整を容易にすることができる。したがって、本発明は、従来の光モジュールよりも厚さが薄く、光軸調整が容易な光モジュールの製造方法を提供することができる。 Since the groove forming step and the optical device installing step are included, the groove can be formed on the substrate, and the optical device can be installed inside the groove. Therefore, an optical module with a small thickness can be manufactured. In the optical device installation process, since the optical device is installed on the substrate, the optical axis shift between the planar optical waveguide circuit and the optical device due to temperature change is smaller than when the optical device is installed on a different material such as an optical bench. can do. Further, in the groove forming step, a place where the optical device inside the groove is disposed can be freely formed, so that the optical axis adjustment between the planar optical waveguide circuit and the optical device can be facilitated. Therefore, the present invention can provide a method of manufacturing an optical module that is thinner than a conventional optical module and that allows easy adjustment of the optical axis.
本願発明の光モジュールの製造方法は、前記平面光導波回路形成工程で形成された前記平面光導波回路の上面から下面へと貫通し、前記平面光導波回路の上面と、前記溝形成工程で形成された前記溝を連結する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記平面光導波回路と前記光学装置の間の光路に、前記平面光導波回路からの光を反射して前記光学装置へと入射させ又は前記光学装置からの光を反射して前記平面光導波回路へ入射させるミラーを設置するミラー設置工程と、を前記溝形成工程の後に有してもよい。 The optical module manufacturing method of the present invention is formed by penetrating from the upper surface to the lower surface of the planar optical waveguide circuit formed in the planar optical waveguide circuit forming step, and formed in the upper surface of the planar optical waveguide circuit and the groove forming step. A through-hole forming step for forming a through-hole that connects the grooves, and a light path between the planar optical waveguide circuit and the optical device to reflect light from the planar optical waveguide circuit to the optical device And a mirror installation step of installing a mirror that enters or reflects the light from the optical device and enters the planar optical waveguide circuit, after the groove forming step.
本願発明の光モジュールの製造方法は、前記溝形成工程において、深さの異なる複数の底部を形成してもよい。 In the method for manufacturing an optical module of the present invention, a plurality of bottom portions having different depths may be formed in the groove forming step.
本願発明の光モジュールの製造方法は、前記貫通孔形成工程において、前記貫通孔と接する端面を、当該端面の配置される前記平面光導波回路の光軸方向に対して傾斜させてもよい。 In the method for manufacturing an optical module according to the present invention, in the through hole forming step, an end surface in contact with the through hole may be inclined with respect to the optical axis direction of the planar optical waveguide circuit on which the end surface is arranged.
なお、上記各発明は、可能な限り組み合わせることができる。 The above inventions can be combined as much as possible.
本発明によれば、従来の光モジュールよりも厚さが薄く、光軸調整が容易な光モジュールとその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical module that is thinner than a conventional optical module and that can easily adjust the optical axis, and a method for manufacturing the same.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態に限定されるものではない。これらの実施の例は例示に過ぎず、本発明は当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した形態で実施することができる。なお、本明細書及び図面において符号が同じ構成要素は、相互に同一のものを示すものとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to embodiment shown below. These embodiments are merely examples, and the present invention can be implemented in various modifications and improvements based on the knowledge of those skilled in the art. In the present specification and drawings, the same reference numerals denote the same components.
(第一の実施形態)
図3(a)に、本発明の第一の実施形態に係る光モジュール10の断面図を示す。また、図3(b)に104zで示した領域の拡大図を示す。本実施形態に係る光モジュール10は、基板21と、PLC22と、ミラー構造体104と、光学装置105と、電子装置106とを備える。PLC22は端面22dを備える。
(First embodiment)
FIG. 3A shows a cross-sectional view of the
基板21の上にPLC22が配置される。基板21と接するPLC22の一方の面がPLC22の下面、PLC22の他方の面がPLC22の上面である。また、基板21のPLC22と接する一方の面が基板21の上面である。PLC22は光を導波する。基板21及びPLC22は貫通孔109を備える。貫通孔109はPLC22の上面と下面を貫通する。PLC22は、PLC22と貫通孔109とが接する部分に、PLC22へ入射する光を入射させ又はPLC22から出射する光を出射する端面22dを備える。
The
貫通孔109は、PLC22の端面22dから出射される光の光路、及び端面22dからPLC22へ入射する光の光路として機能する。ミラー構造体104は、ミラー104aを備える。ミラー104aは、基板21の上面に対し傾きをもって配置され、端面22dから出射した光を反射し、光の光路を光路42a(水平方向)から光路42b(垂直方向)に変換する。また、ミラー104aは、端面22dへと入射する光を反射し、光の光路を光路42bから光路42aに変換する。
The through
貫通孔109の形状は任意である。しかし、貫通孔109は、PLC22から出射した光路42aの光がミラー104aで反射され光学装置105へ入射されるまでの経路及び光学装置105から出射した光路42aの光がミラー104aで反射されPLC22に入射するまでの経路で減衰しない形状であることを要する。例えば、PLC22から出射した光路42aの光が貫通孔109の側面に当たって散乱されるような形状としてはならない。
The shape of the through
基板21は、溝107を備える。溝107は、PLC22が配置された基板21の上面とは反対側の面である基板21の下面に設けられ、光学装置105と電子装置106とを収容する。PLC22の上面と下面を貫通する貫通孔109は、PLC22の上面と溝107を連結する。D1は溝107の深さである。ここで、溝107の深さとは、基板21の下面から溝107の底107bまでの距離である。溝107の底107bは面であり、底部として機能する。
The
光学装置105は、例えば、フォトダイオード(PD:Photo Diode)又はレーザーダイオード(LD:Laser Diode)を備える。光学装置105は、PLC22へ入射する光を出射し、またPLC22から出射される光を受光する。光学装置105は、光の入出射面にレンズ105aを備えてもよい。光学装置105が、レンズ105aを備える場合、光学装置105内の光学素子から出射される光は、レンズ105aを介してPLC22へと入射する。また、PLC22内を伝搬する光は、レンズ105aを介して光学装置105内の光学素子(不図示)へと入射する。
The
電子装置106は、例えば、Trans―Impedance Amplifier(TIA)を備える。電子装置106は光学装置105から出力される電気信号、又は光学装置105へ入力される電気信号に対し、所定の電気的変換を行う。108はボンディングワイヤーである。ボンディングワイヤー108は、光学装置105と、電子装置106を電気的に接続する。
The
PLC22は、例えば、半導体単結晶の基板21の上に形成される。基板21の材料の例として、Si単結晶、GaAs単結晶、InP単結晶などの半導体単結晶基板や、ガラス、セラミック、プラスチック、金属が挙げられる。基板21の厚さは、概ね500μm以上1000μm以下である。光学装置105を構成する光学素子や電子装置106を構成する電子部品の厚さが数百μm程度である。つまり、基板21の厚さは、光学装置105や電子装置106を構成する光学素子や電子部品の厚さの数倍である。
The
図3(a)のように、基板21の中に設けられた溝107の内部に、光学装置105や電子装置106の少なくとも一部を収容することができる。また、基板21は、光学装置105や電子装置106を収容し、保持する機械的強度も有する。つまり、溝107を形成する空間に光学装置105等を配置することで、光モジュール10としての厚さは、PLC22の上面に光学装置105等を配置した場合に比べて、数百μm程度低減できる。そして、溝107の内部に光学装置105や電子装置106を構成する光学素子や電子部品を完全に収容すれば、光モジュールの厚さは、光学装置105や電子装置106の厚さとPLC22と基板21の厚さの和から、PLC22と基板21の厚さの和となる。したがって、光モジュールの厚さを削減するために、溝107の深さは、光学装置105及び電子装置106の高さよりも深くする。そして、溝107の内部に、光学装置105及び電子装置106を収容する。しかし、溝107の深さを、光学装置105及び電子装置106の高さよりも深くするのは必須の要件ではない。
As shown in FIG. 3A, at least a part of the
光学装置105が配置される部分の溝107の深さD1は、可能な限り深くする。これは、溝107の内部に光学装置105や電子装置106を完全に収容するためだけではなく、光学装置105とミラー104aの距離を短くするためである。光学装置105とミラー104aの距離を短くすることで、光路42bが短くなる。光路42bが長いほど、光路42bを通過する光が拡散し、光学装置105と、ミラー構造体104の光軸調整が難しくなる。そのため、光学装置105が配置される部分の溝107の深さが深いほど、光学装置105と、ミラー構造体104の光軸調整が容易となる。例えば、溝107は、PLC22の下面から、PLC22の厚みとほぼ等しい約50μm程度の位置まで達する場合もある。
The depth D1 of the
溝107を配置する際には、PLC22内の光導波路の位置を考慮する。これは、溝107を配置する場所によって、光導波路の実効屈折率に影響を及ぼす場合があるからである。例えば、2本の光導波路がマッハツェンダー干渉計を構成するとする。その場合には、マッハツェンダー干渉計を構成する2本の光導波路に対して対称又は均等に影響を与える位置に溝107を配置するか、2本の光導波路に影響を及ぼさない位置に溝107を配置する。ここで、2本の光導波路に対して対称又は均等に影響を与えるとは、例えば、同じ実効屈折率の変化を及ぼすことである。
When the
図4を用いて、溝107を配置する位置について説明する。図4は、PLC22を上面から見た透視図である。24はマッハツェンダー干渉計である。マッハツェンダー干渉計24は、2本の光導波路として、光導波路24bと、光導波路24cとを備える。光導波路24b及び24cが交わる部分に、光導波路24a及び光導波路24dが配置されている。光導波路24aと光導波路24dは接しないが、同一直線状に配置される。また、光導波路24aと光導波路24dを結ぶ直線L0からの距離は、光導波路24bと光導波路24cで同じである。L1は、L0から光導波路24b方向の溝107の側壁面までの距離である。L2はL0から光導波路24c方向の溝107の側壁面までの距離である。貫通孔109は、溝107の内側に配置される。
The position where the
図4(a)に、マッハツェンダー干渉計24を構成する2本の光導波路である光導波路24b及び光導波路24cに対して対称又は均等に影響を与える溝107の配置例を示す。図4(a)では、溝107は、L1とL2が等しくなるような位置に配置されている。L1とL2が等しいので、溝107は光導波路24dに対して線対称に配置される。溝107は光導波路24dに対して線対称に配置されるので、溝107の配置による光導波路24b及び24cの実効屈折率変化は同じである。しかし、図4(b)のように溝107を配置してはならない。これは、図4(b)では、L1よりもL2の方が大きいため、光導波路24bと光導波路24cで実効屈折率が異なるためである。
FIG. 4A shows an arrangement example of the
図4(c)及び図4(d)に、マッハツェンダー干渉計24を構成する2本の光導波路である光導波路24b及び光導波路24cに影響を及ぼさない溝107の配置例を示す。図4(c)及び図4(d)では、溝107は光導波路24b及び光導波路24cと重ならない位置に配置されている。マッハツェンダー干渉計24の特性に影響のない場所や、光導波路の実効屈折率が多少変化してもマッハツェンダー干渉計24の特性に影響のない場合には、溝107の配置場所は任意である。例えば、図4(d)に示すように、L1とL2が等しくなくても、マッハツェンダー干渉計24の特性に影響はない。
FIG. 4C and FIG. 4D show an example of arrangement of the
なお、溝107の配置にあたっては、基板21が欠けるなど基板21の機械的強度の弱い部分ができないように設計し、機械的強度が保持できる基板21の厚みを確保する。基板21の機械的強度をより強くするために、溝107の内部に壁107aを設けてもよい。また、溝107の内部を、壁107aによって光学装置105を配置する場所と電子装置106を配置する場所に2つに分けても良い。
In arranging the
図5に、溝107に壁107aを配置する場合の例を示す。光学装置105及び電子装置106が溝107に完全に収容される場合には、図5(a)のように、壁107aの高さH107を、ボンディングワイヤー108が接触しない高さとすることが望ましい。例えば、壁107の高さH107を光学装置105の高さH105及び電子装置106の高さH106未満とする。なお、図5(a)のように、壁107aの高さH107、光学装置105の高さH105及び電子装置106の高さH106を一定としてもよい。
FIG. 5 shows an example in which the
また、図5(b)のように、壁107aの高さH107を、溝107の深さD1と等しくしてもよい。これにより、溝107が壁107aで支えられるため、溝107の配置されている基板21の変形を防ぐことができる。この場合、ボンディングワイヤー108を壁107に接触させないために、壁107aにボンディングワイヤー108を通過させるための開口部又は切り欠きを設けることが望ましい。
Further, as shown in FIG. 5B, the height H 107 of the
また、光学装置105が配置される溝107は基板21の下面に配置され、PLC22は基板21の上面に配置されるため、温度変化による基板21の膨張、及び収縮による影響は、PLC22と光学装置105とで等しい。このように、本実施形態では溝107の内部に光学装置105を配置することで、温度変化によるPLC22と光学装置105の間の光軸ずれを、光学ベンチ31等の異なった材質の上に光学装置105を配置した場合と比べて小さくすることができる。
In addition, since the
また、ミラー構造体104が配置される部分と、光学装置105が配置される部分はエッチングにより形成することが望ましい。エッチングでは、配置部位の形状、位置、大きさを精度よく加工できるからである。そのため、ミラー構造体104が配置される部分又は光学装置105が配置される部分を填め合わせができる形状にすることや、アライメントマーカーを形成することは容易である。この加工により、ミラー構造体104や光学装置105を所定の位置へ配置できるため、光軸調整が容易となる。また、例えば、ミラー構造体104や光学装置105の形状に合致するような枠構造を、ミラー構造体104や光学装置105を配置する部分に形成することも容易である。そのため、ミラー構造体104や光学装置105を枠に填め合わせれば、光軸調整は容易に行える。
Further, it is desirable to form the portion where the
(第二の実施形態)
図6に、本発明の第二の実施形態に係る光モジュール40の断面図及び下面図を示す。本発明の第一の実施形態に係る光モジュール10と、本発明の第二の実施形態に係る光モジュール40の相違点は溝107の深さである。図3(a)に示した第一の実施形態に係る光モジュール10では、光学装置105と電子装置106が配置される部分の溝107の深さは、D1で同じである。しかし、図6に示した本実施形態に係る光モジュール40は、溝107が複数の底部を備え、1つの底部には、光学装置105が配置され、1つの底部には、電子装置106が配置される。光学装置105が配置される部分の溝107の深さはD1であるが、電子装置106が配置される部分の溝107の深さはD2である。光学装置105の高さH105は、電子装置106の高さH106よりも高く、D1はD2よりも大きい。
(Second embodiment)
FIG. 6 shows a cross-sectional view and a bottom view of an
複数の底部のうちの最大の深さである深さD1は、可能な限り深くすることが望ましい。溝107の深さD1を深くすることで、溝107の内部に光学装置105や電子装置106を完全に収容し、光学装置105とミラー104aの距離を短くすることができる。しかし、最適なD2は、電子装置106が備える電子部品の高さに応じて変わる。具体的には、D2は、ボンディングワイヤー108で光学装置105と電子装置106を接続でき、ボンディングワイヤー108の長さを短くできる深さとすることが望ましい。例えば、D2は、光学装置105及び電子装置106の下面の高さが略同じとなるように決定する。例えば、D1とD2の差は、H105と、H106の差に等しい。溝107の深さは、図3(a)ではD1のみの1種類であり、図6では、D1とD2の2種類である。電子装置106が複数の素子で構成される場合等には、溝107の深さは、1種類又は2種類だけではなく、任意の数の溝107の深さの種類を有してもよい。また、溝107の中に、第一の実施形態と同じように壁107aを配置してもよい。
It is desirable to make the depth D1 that is the maximum depth of the plurality of bottom portions as deep as possible. By increasing the depth D1 of the
第一の実施形態に係る光モジュール10及び本実施形態に係る光モジュール40では、PLC22を導波する光は端面22dから出射し、光路42aを通り、ミラー104aで反射され、光路42bを通り、光学装置105に入射する。また、PLC22へ入射する光は、光学装置105から出射し、光路42bを通り、ミラー104aで反射され、光路42aを通り、端面22dからPLC22へと入射する。
In the
ここで、光モジュール10及び光モジュール40では、光がPLC22と光学装置105の間を伝搬する場合、光が通過する屈折率の異なる界面は、端面22dが構成するPLC22と空気の界面と光学装置105と空気の界面の2つのみであることが望ましい。例えば、光モジュール10及び光モジュール40の貫通孔109に樹脂が充填されている場合には、光が通過する屈折率の異なる界面は、光学装置105と空気の界面に加え、PLC22と樹脂の界面と、樹脂と空気の界面となり、1つ増える。
Here, in the
また、光モジュール10及び光モジュール40の光学素子105と基板21の間に、さらに光学素子105を固定するための透明基板を配置している場合には、光が通過する屈折率の異なる界面は、光学装置105と空気の界面に加え、PLC22と樹脂の界面と、樹脂と透明基板の界面と、透明基板と空気の界面となり、更に1つ増える。光が通過する屈折率の異なる界面の数が増えるほど、光の反射、損失等が増える原因となる。したがって、光が通過する屈折率の異なる界面の数が二つである光モジュール10及び光モジュール40は、伝搬する光の反射、損失を抑えることができる。
In addition, when a transparent substrate for fixing the
(第三の実施形態)
図7に、本発明の第三の実施形態に係る光モジュールの傾斜した端面22dの一例を示す。本実施形態では、傾斜した端面22dの角度をα1とし、ミラー104aの角度をβ1とする。α1は、PLC22の上面とPLC22の端面22dがなす角であり、β1はミラー構造体104の上面とミラー104aが配置される面がなす角である。ここで、ミラー構造体104の上面とは、ミラー構造体104の面のうち、ミラー構造体104と基板21が接する面と対向する面である。
(Third embodiment)
FIG. 7 shows an example of the
図8のようにミラー104aの角度β1が45度である場合、PLC22から出射された光43aは光学装置105へ垂直に入射する。そのため、光43aが光学装置105で反射され、光43bとなり、PLC22に入射する場合がある。この場合、図8に示す光学装置105の入射面又は出射面を入射光43aに対して傾けて配置すれば、光43bがPLC22に入射する問題は解決できる。しかし、光学装置105は半田や接着剤で基板21に固定されるため、光学装置105の入射面又は出射面を光43aに対して、精度よく傾けて配置するのは容易ではない。
As shown in FIG. 8, when the angle β1 of the
そこで、本実施形態では、図7のように、端面22dを傾斜させる。傾斜した端面22dは、光43a及び光43bで形成される光路面に垂直で、PLC22の上面となす角がα1となるように傾斜している。また、ミラー104aの角度をβ1とする。α1、β1は、90度より小さい角度、例えば80度、45度である。α1とβ1のそれぞれの角度は、PLC22と光学装置105の光結合が最大となるように決められる。
Therefore, in this embodiment, the
本実施形態では、PLC22が傾斜した端面22dを備えるので、光43aは光学装置105へ斜めに入射し、反射光43bはPLC22の導波路コア22bから外れた端面22dに入射するため、光43bがPLC22の導波路コア22bに入射するのを防止することができる。したがって、本実施形態では、PLC22が傾斜した端面22dを備えることにより、PLC22内を伝搬する信号の劣化を防止することができる。
In the present embodiment, since the
本実施形態に係る傾斜した端面22dは、第一の実施形態に係る光モジュール10及び第二の実施形態に係る光モジュール40と組み合わせて用いることができる。
The
(第四の実施形態)
図9に、本実施形態に係る光モジュール50の一例の構成図を示す。本実施形態に係る光モジュール50は、本発明の第一の実施形態から第三の実施形態に係る光モジュールをDual Polarization Quadrature Phase Shift Keying(DP−QPSK)モジュールに適用した例である。
(Fourth embodiment)
FIG. 9 shows a configuration diagram of an example of the
光モジュール50は、光信号処理部51と、OE(Optical/Electrical)変換部52と、配線基板511と、フレキシブル基板(FPC:Flexible printed circuits)512とを備える。光信号処理部51は、偏波分離器(PBS:Polarization Beam Splitter)501と、2分岐器(BS:Beam Splitter)502と、90度光ハイブリッド503と、ミラー構造体104とを備える。図9では明示していないが、ミラー構造体104は、ミラー104aを備える。OE変換部52は、光学装置105と、電子装置106とを備える。
The
光信号処理部51のうち、PBS501と、BS502と、90度光ハイブリッド503は、PLC22内に配置される。OE変換部52はPLC22が配置された面と反対側の面に設けられた溝107に配置される。
Of the optical
光モジュール50へ入力された信号光及び局発光のうち、信号光はPBS501に入射され、局発光はBS502に入射される。PBS501は入射された信号光のTE偏波成分と、TM偏波成分を分離して出力する。BS502は、入力された局発光を光強度が等しくなるように二つに分離して出力する。PBS501からのTE偏波成分とBS502のからの局発光は、90度光ハイブリッド503TEに入力される。
PBS501からのTM偏波成分とBS502のからの局発光は、90度光ハイブリッド503TMに入力される。90度光ハイブリッド503TE及び503TMは、入射された光を合波して出力する。90度光ハイブリッド503TE及び503TMからの各出力光は、ミラー構造体104が有するミラー104aでPLC22が配置された面と反対側の面に導かれ、光学装置105に入力される。光学装置105に入射された光は電気信号へ変換され、電子装置106に入力される。電子装置106の出力信号は、配線基板511を介してフレキシブル基板512に出力される。
Of the signal light and local light input to the
The TM polarization component from the
OE変換部52が備える装置は、溝107内部に収容される。そのため、光モジュール50の厚さは、OE変換部52が備える装置を基板21の表面に配置した場合よりも薄くなる。
The device included in the
(第五の実施形態)
本実施形態は、本発明の第一の実施形態に係る光モジュール10、及び第二の実施形態に係る光モジュール40の製造方法である。また、本実施形態は、本発明の第三の実施形態に係る光モジュールの傾斜した端面22dの製造にも適用することができる。本実施形態に係る光モジュールの製造方法は、平面光導波回路形成工程と、溝形成工程と、貫通孔形成工程と、ミラー設置工程と、光学装置設置工程とを有する。平面光導波回路形成工程は、PLC22を形成する。溝形成工程は溝107を形成する。貫通孔形成工程は貫通孔109を形成する。ミラー設置工程は、ミラー104aを備えるミラー構造体104を設置する。
(Fifth embodiment)
This embodiment is a method for manufacturing the
最初に、PLC22の形成工程である平面光導波回路形成工程について説明する。この工程は、第一の実施形態に係る光モジュール10、及び第二の実施形態に係る光モジュール40で共通の工程である。平面光導波回路形成工程では、PLC22が有する光導波回路及び光回路を形成する。
First, a planar optical waveguide circuit forming process that is a process of forming the
最初に、Si等の基板上に、石英ガラス等を主原料とする下部クラッド層22aを積層させる。次に、下部クラッド層22aの上に、下部クラッド層22aより高い屈折率のコア層22bを積層させる。次に、コア層22bに必要な導波路パターンを形成する。次に、上部クラッド層22cを積層する。このような手順により基板21上に、導波路型の光機能回路と導波路領域が作製される。
First, a lower clad layer 22a made mainly of quartz glass or the like is laminated on a substrate such as Si. Next, a
PLC22が有する導波路型の光機能回路と導波路領域の作製にあたっては、ウエハの結晶軸方向を示すオリエンテーションフラット(オリフラ)の位置を基準にする。導波路パターンの設計自由度は高いので、光学装置105の設置位置等を考慮して導波路パターンを形成する。信号光は、上述のようなプロセスを経て作製された導波路内を伝搬する。なお、平面光導波回路形成工程で、PLC22の端面22dを形成してもよい。端面22dが傾斜している場合、傾斜した端面22dは、光路面に垂直でPLC22の光軸方向に対して傾斜している。さらに、PLC22が有する光導波回路及び光回路を形成した後、上部クラッド層22cの上に電気配線を形成してもよい。
In producing the waveguide type optical functional circuit and the waveguide region of the
次に、溝107の形成工程である溝形成工程について説明する。溝形成工程では、少なくとも光学装置105と電子装置106とを設置する溝107を形成する。この工程は、第一の実施形態に係る光モジュール10と、第二の実施形態に係る光モジュール40とで異なる。まず、溝107の内部に段差を有しない第一の実施形態に係る光モジュール10の溝形成工程について説明する。まず、上面にあるPLC22内の導波路型の光機能回路と導波路領域の形状に対応させて、下面側の光学装置105等を設置する位置を決定する。
Next, a groove forming process that is a process of forming the
次に、基板21の下面の光学装置105等を設置する箇所にエッチング又は切削加工により、基板21の下面より溝107を形成する。基板21の下面より溝107を形成したので、溝107の開口部が基板21の下面に形成される。エッチング方法の例として、BOSCH法等によるドライエッチングや、ウェットエッチングが挙げられる。溝107は、ウエハが有するオリフラの位置を基準に作成する。溝107は、上面にPLC22が形成されている基板21の下面に形成する。また、PLC22及び溝107は、ウエハのオリフラの位置を基準として作成するので、溝107を作製する際の位置合わせは、オリフラの位置を基に又は光回路等の配置を基に容易に行うことができる。
Next, a
溝107の深さ(基板21の下面より溝の底部までの距離)はD1である。また、溝107の形成と同時に、又は溝107の形成の後に、基板21の下面からPLC22の表面まで貫通する電気配線用の貫通孔を形成してもよい。基板21の下面から形成された溝107は、PLC22の下面から、PLC22の厚みとほぼ等しい約50μm程度の位置まで達している。
The depth of the groove 107 (distance from the lower surface of the
溝形成工程の前又は溝形成工程の後に、基板21の下面に電気配線を形成してもよい。ここで、形成する電気配線は、例えば、光学装置105、電子装置106の駆動、信号伝送用のモジュール内配線である。また、電気配線と光学装置105及び電子装置106の間、電気配線とモジュールに実装される他のチップ等の間はワイヤーボンディング又は半田バンプにより接続する。
Electrical wiring may be formed on the lower surface of the
また、光学装置105を設置する際の位置合わせを容易にするために、アライメントマーカーを形成してもよい。また、光学装置105の設置場所を、光学装置105を填め合わせることができる形状としてもよい。また、溝の内部に壁107aを形成してもよい。
Further, an alignment marker may be formed in order to facilitate alignment when installing the
次に、第二の実施形態に係る光モジュール40の溝形成工程について説明する。第一の実施形態に係る光モジュール10と、第二の実施形態に係る光モジュール40が用いる溝形成工程の相違は、基板21の下面の光学装置105等を設置する箇所にエッチング又は切削加工により、基板21の下面より溝107を形成する部分である。第一の実施形態に係る光モジュール10では、図3(a)のように、溝107の深さはD1のみの1段であるが、第二の実施形態に係る光モジュール40が備える溝107は図6のようにD1とD2の2段の溝の深さを有する。溝107の深さは3段構造以上としてもよい。
Next, the groove forming process of the
複数の溝107の深さを有する第二の実施形態に係る光モジュール40は、溝107の形成のために、エッチングを複数回行う。エッチング方法は、第一の実施形態に係る光モジュール10の溝形成工程と同じである。段構造は光学装置105や電子装置106の大きさや外部端子との関係を考慮して、段数や段の大きさ、溝の深さなどが決められる。なお、溝形成工程の前又は溝形成工程の後に、基板21の下面に電気配線を形成してもよい。また、光学装置105を設置する際の位置合わせを容易にするために、アライメントマーカーを形成してもよい。また、光学装置105の設置場所を、光学装置105を填め合わせることができる形状としてもよい。また、溝の内部に壁107aを形成してもよい。
The
次に、PLC22の上面から溝107へ貫通する貫通孔を形成する工程である貫通孔形成工程について説明する。この工程は、第一の実施形態に係る光モジュール10、及び第二の実施形態に係る光モジュール40で共通の工程である。貫通孔形成工程では、図3(b)のような、PLC22から出射される光の光路、及びPLC22へ入射する光の光路として機能する貫通孔109を形成する。
Next, a through hole forming process, which is a process of forming a through hole penetrating from the upper surface of the
溝107の上にあるPLC22の所定の位置を、PLC22の上面側からエッチングする。エッチングにより、PLC22の上面から、PLC22の下面及び基板21を貫通し、PLC22の上面と溝107を接続する貫通孔109とPLC22の端面22dが形成される。
A predetermined position of the
また、次のミラー設置工程で、ミラー構造体104を設置する場所のPLC22もエッチングで取り除く。なお、貫通孔109の上部のPLC22及びミラー構造体104の設置場所のPLC22をエッチングで取り除いた後、エッチングで基板21を貫通させ貫通孔109を形成してもよい。また、ミラー構造体104の配置を容易にするために、ミラー構造体104の設置場所のPLC22の取り除いた後、アライメントマーカーを形成してもよい。また、ミラー構造体104の設置場所を、ミラー構造体104を填め合わせることができる形状としてもよい。
In the next mirror installation step, the
第三の実施形態に係る傾斜した端面22dを第一の実施形態に係る光モジュール10及び第二の実施形態に係る光モジュール40と組み合わせて用いる場合には、さらに、端面22dの加工を行い、図7のように傾斜した端面22dを形成すればよい。例えば、PLC22の端面22dをドライエッチング又はウェットエッチング等で削ることにより、端面22dを光路面に垂直で光軸方向に対して傾斜した端面22dとする。
When the
次に、ミラー104aを備えるミラー構造体104を溝107の中に設置する工程であるミラー設置工程及び、光学装置105等を溝107の中に設置する工程である光学装置設置工程について説明する。この工程は、第一の実施形態に係る光モジュール10、及び第二の実施形態に係る光モジュール40で共通の工程である。ミラー構造体設置工程はミラー104aを備えるミラー構造体104を基板21の上に設置する工程である。光学装置設置工程は、光学装置105を溝107の中に設置する工程である。
Next, a mirror installation process that is a process of installing the
まず、ミラー設置工程について説明する。ミラー構造体104を、図3(b)で示すように、基板21の上であって、PLC22が取り除かれている部分に設置する。具体的には、アライメントマーカーや設置枠等を目印に、ミラー構造体104を所定の位置に設置する。ミラー構造体104を設置する場所には予め接着剤(紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等)を塗布しておくなどすれば、光軸調整後、接着剤への紫外線の照射や熱処理により、ミラー構造体104を容易に固定できる。PLC22が取り除かれている部分は、貫通孔形成工程で設けている。ミラー構造体104は、市販品を用いてもよい。ミラー構造体104を作製する場合には、ミラー構造体104のうち、ミラー104aを形成する斜面をエッチング等で形成した後、ミラー104aを金属膜の蒸着等により形成する。
First, the mirror installation process will be described. As shown in FIG. 3B, the
次に、光学装置設置工程について説明する。図3(a)で示すように、光学装置105を溝107の中に設置する。ここでは、光学装置105の設置について述べたが、電子装置106も光学装置105と同時に設置してもよい。
Next, the optical device installation process will be described. As shown in FIG. 3A, the
光学装置105を光学ベンチ31等の上ではなく、溝107の内部に設置する。光学装置105が設置される溝107は基板21の下面に設置され、PLC22は基板21の上に設置される。光学装置105は、ミラー構造体104と同様の工程で溝107の内部に固定設置できる。したがって、溝107の内部に光学装置105を設置するので、温度変化によるPLC22と光学装置105の間の光軸ずれは、光学ベンチ31等の異なった材質の上に光学装置105を配置した場合と比べて小さい。
The
ミラー構造体104の設置と、光学装置105の設置の順番は、光学装置105が備える光学素子に応じて変更してもよい。例えば、厳密な光軸調芯を要しないPD等の光学素子の場合では、先に基板21の表面に対して45度の反射面のミラー104aを有するミラー構造体104を設置した後、光学素子を設置してもよい。
The order of installation of the
一方、LD等の光学素子を用いる場合には、LDを設置した後、ミラー構造体104の向きを調整し、ミラー104aが最適となる位置で固定する。ここで、最適となる位置とは、光学装置105から出射され、ミラー104aによって反射され、PLC22内部を伝搬する光の光量が最大となる位置、又は、PLC22内部を伝搬し、ミラー104aによって反射され、光学装置105に入射する光の光量が最大となる位置である。
On the other hand, when an optical element such as an LD is used, after the LD is installed, the direction of the
本発明の光モジュールおよびその製造方法は、通信産業に適用することができる。 The optical module and the manufacturing method thereof of the present invention can be applied to the communication industry.
10:光モジュール
102:光学素子の活性層
104:ミラー構造体
104a:ミラー
104z:ミラー構造体周辺部分
105:光学装置
105a:レンズ
106:電子装置
107:溝
107a:溝の中に設けた壁
107b:溝の底
108:ボンディングワイヤー
109:貫通孔
21:基板
22:PLC
22a:下部クラッド
22b:コア
22c:上部クラッド
22d:端面
23:支持基板
24:マッハツェンダー干渉計
24a,24b,24c,24d:光導波路
31:光学ベンチ
40:光モジュール
41:光路
42a:光路
42b:光路
43a:光
43b:光
50:DP−QPSK受信モジュール
51:光信号処理部
52:OE変換部
501:偏波分離器
502:2分岐器
503:90度光ハイブリッド
511:配線基板
512:フレキシブル基板
10: optical module 102:
22a: lower clad 22b:
Claims (8)
前記基板の前記平面光導波回路が配置された面と反対側の面に設けられた溝と、
前記溝の内部に配置され、前記平面光導波回路へ光を入射させ又は前記平面光導波回路から出射される光を受光する光学装置と、
を備える
光モジュール。 A planar optical waveguide circuit disposed on a substrate;
A groove provided on a surface of the substrate opposite to the surface on which the planar optical waveguide circuit is disposed;
An optical device disposed inside the groove and receiving light incident on the planar optical waveguide circuit or receiving light emitted from the planar optical waveguide circuit;
An optical module comprising:
前記平面光導波回路と前記光学装置の間の光路に挿入され、前記光学装置からの光を反射して前記平面光導波回路へ光を入射させるか又は前記平面光導波回路からの光を反射して前記光学装置へと光を入射させるミラーと、
をさらに備える、
請求項1に記載の光モジュール。 A through hole penetrating from the upper surface to the lower surface of the planar optical waveguide circuit, and connecting the upper surface of the planar optical waveguide circuit and the groove;
Inserted in the optical path between the planar optical waveguide circuit and the optical device, reflects light from the optical device and enters the planar optical waveguide circuit, or reflects light from the planar optical waveguide circuit A mirror for making light incident on the optical device;
Further comprising
The optical module according to claim 1.
請求項1又は2に記載の光モジュール。 The groove includes a plurality of bottom portions having different depths.
The optical module according to claim 1 or 2.
請求項1から3に記載の光モジュール。 An end surface in contact with the through hole in the planar optical waveguide circuit is inclined with respect to the optical axis direction of the planar optical waveguide circuit on which the end surface is disposed.
The optical module according to claim 1.
前記基板に溝を形成する溝形成工程と、
前記平面光導波回路へ光を入射させ又は前記平面光導波回路から出射される光を受光する光学装置を、前記溝の内部に設置する光学装置設置工程と、
を順に有する、
光モジュール製造方法。 A planar optical waveguide circuit forming step of forming a planar optical waveguide circuit on the substrate;
A groove forming step of forming a groove in the substrate;
An optical device installation step of installing an optical device that makes light incident on the planar optical waveguide circuit or receives light emitted from the planar optical waveguide circuit inside the groove;
In order,
Optical module manufacturing method.
前記平面光導波回路と前記光学装置の間の光路に、前記平面光導波回路からの光を反射して前記光学装置へと入射させ又は前記光学装置からの光を反射して前記平面光導波回路へ入射させるミラーを設置するミラー設置工程と、
を前記溝形成工程の後に有する、
請求項5に記載の光モジュール製造方法。 A through-hole that penetrates from the upper surface to the lower surface of the planar optical waveguide circuit formed in the planar optical waveguide circuit forming step, and connects the upper surface of the planar optical waveguide circuit and the groove formed in the groove forming step. A through hole forming step to be formed;
In the optical path between the planar optical waveguide circuit and the optical device, the light from the planar optical waveguide circuit is reflected and incident on the optical device or the light from the optical device is reflected to reflect the planar optical waveguide circuit. A mirror installation process for installing a mirror to be incident on the mirror;
After the groove forming step,
The optical module manufacturing method according to claim 5.
請求項5又は6に記載の光モジュール製造方法。 In the groove forming step, a plurality of bottom portions having different depths are formed.
The optical module manufacturing method according to claim 5 or 6.
請求項5から7のいずれかに記載の光モジュール製造方法。 In the through-hole forming step, an end surface in contact with the through-hole is inclined with respect to the optical axis direction of the planar optical waveguide circuit on which the end surface is disposed.
The optical module manufacturing method in any one of Claim 5 to 7.
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