JP2006030224A - Optical waveguide and optical coupling device - Google Patents
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Abstract
【課題】 光導波路のコア端部を露出させる加工を行う際に生ずる加工誤差が、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせ誤差に含まれない光結合装置、及びそのような光結合装置の作製を可能にする光導波路を提供すること。
【解決手段】 光導波路1は、クラッド2および4と、導光路であるコア3との接合体とする。光導波路1の端面6は、ダイサー加工によって、おおよそ45度に傾斜した反射面に形成し、傾斜端面6による反射を介して、光導波路1を光素子26と光結合する。同様のダイサー加工によって、光導波路1の上部の、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に、位置合わせマーカであるV字溝8を形成し、V字溝8を用いた凹凸嵌合によって、光導波路1を支持体11に対し正確に位置合わせする。支持体11には、凹凸嵌合の位置から所定の距離だけ離れた位置に、光素子26を実装した実装基板との位置合わせ手段を設ける。
【選択図】 図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical coupling device in which a processing error generated when performing processing for exposing a core end portion of an optical waveguide is not included in an alignment error between the optical waveguide core end portion and another optical component, and such light. To provide an optical waveguide that enables the fabrication of a coupling device.
An optical waveguide 1 is a joined body of clads 2 and 4 and a core 3 serving as a light guide. The end face 6 of the optical waveguide 1 is formed on a reflecting surface inclined at approximately 45 degrees by dicer processing, and the optical waveguide 1 is optically coupled to the optical element 26 through reflection by the inclined end face 6. By a similar dicer process, a V-shaped groove 8 as an alignment marker is formed at a position away from the upper end 7 of the inclined end face 6 by a predetermined distance 9 at the upper part of the optical waveguide 1, and the V-shaped groove 8 is used. The optical waveguide 1 is accurately aligned with the support 11 by the concave-convex fitting. The support 11 is provided with an alignment means with the mounting substrate on which the optical element 26 is mounted at a position away from the position of the concave-convex fitting by a predetermined distance.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、光配線システムにおいて有用な、光導波路と他の光部品(発光素子、受光素子、光ファイバ、或いは光導波路など)とを位置合わせして支持体に位置固定し、光路を接続した光結合装置及びその製造方法に関するものである。 The present invention is useful in an optical wiring system, and aligns an optical waveguide and another optical component (such as a light-emitting element, a light-receiving element, an optical fiber, or an optical waveguide), fixes the position on a support, and connects the optical path. The present invention relates to an optical coupling device and a manufacturing method thereof.
これまで、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、比較的短距離間の情報伝達は、主に電気信号により行われてきたが、集積回路の性能を更に向上されるためには、信号の高速化や信号配線の高密度化が必要となる。しかし、電気信号配線においては、配線の時定数による信号遅延や、ノイズ発生等の問題から、電気信号の高速化や電気信号配線の高密度化が困難である。 Until now, information transmission over a relatively short distance, such as between boards in electronic equipment or between chips in a board, has been performed mainly by electrical signals, but in order to further improve the performance of integrated circuits. Therefore, it is necessary to increase the signal speed and the signal wiring density. However, in the electric signal wiring, it is difficult to increase the speed of the electric signal and increase the density of the electric signal wiring due to problems such as signal delay due to the time constant of the wiring and generation of noise.
こうした問題を解決する光配線(光インターコネクション)が注目されている。光配線は、電子機器間、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、種々の箇所に適用可能であり、例えばチップ間のような短距離間の信号の伝送には、チップが搭載されている基板上に光導波路を設け、信号変調されたレーザ光等の伝送路とした光伝送・通信システムを構築することができる。 Optical wiring (optical interconnection) that solves these problems is drawing attention. Optical wiring can be applied to various locations such as between electronic devices, between boards in electronic devices, or between chips in a board. For example, chips are mounted for transmission of signals over a short distance such as between chips. It is possible to construct an optical transmission / communication system in which an optical waveguide is provided on a substrate, and a transmission path for signal-modulated laser light or the like is used.
このような光配線システムにおいて、光導波路と他の光部品(発光素子、受光素子、光ファイバ、或いは光導波路など)との位置合わせを行い、光路を接続する光結合装置が不可欠である。この際、光導波路と他の光部品との間で入出力される光の接続損失が許容範囲に収まるように、両者の相対的な位置精度を良好に保つ必要がある。なお、以下、本明細書において、発光素子および受光素子を区別しない場合に、これらを光素子と呼ぶことがある。 In such an optical wiring system, an optical coupling device that aligns an optical waveguide and connects an optical path by aligning the optical waveguide with another optical component (such as a light emitting element, a light receiving element, an optical fiber, or an optical waveguide) is indispensable. At this time, it is necessary to maintain a good relative positional accuracy so that the connection loss of light input / output between the optical waveguide and other optical components falls within an allowable range. Hereinafter, in the present specification, when the light emitting element and the light receiving element are not distinguished, they may be referred to as optical elements.
面型の発光又は受光素子と光導波路とを光結合するには、光導波路コアの端面を45度に傾斜した光反射面に形成し、この傾斜端面を用いた光路変換によって光を光導波路内又は外へ導き、傾斜端面に対向配置された光素子と光導波路とを光結合するのが一般的である。 In order to optically couple a planar light emitting or light receiving element and an optical waveguide, the end surface of the optical waveguide core is formed on a light reflecting surface inclined at 45 degrees, and light is transmitted into the optical waveguide by optical path conversion using the inclined end surface. Alternatively, it is common to optically couple an optical element and an optical waveguide that are guided to the outside and disposed opposite to the inclined end surface.
この45度傾斜端面(反射面)を有する光導波路を形成する方法はいくつかあるが、ダイシングを用いて形成するのが簡易である。 There are several methods for forming the optical waveguide having the 45-degree inclined end face (reflection surface), but it is easy to form by using dicing.
さて、後述の特許文献1では、半導体レーザや光導波路の端面の位置にばらつきがあるため、位置合わせマーカを用いて位置合わせする際に生じる問題点が指摘されている。
半導体レーザが端面発光型であって、光導波路の端面が光導波路コアに対し垂直である場合に対し、その解決法が提案されている。
Now, in
A solution has been proposed for a case where the semiconductor laser is an edge-emitting type and the end face of the optical waveguide is perpendicular to the optical waveguide core.
図8は、特許文献1で指摘されている問題点を、光導波路の端面が45度傾斜端面(反射面)である場合に即して説明するためのもので、光導波路101のコア103の端部に45度に傾斜した端面106をダイシングによって形成し、この傾斜端面106による反射を介してコア103と光素子112とを接続する光結合装置120を作製する工程を示すフロー図である。
FIG. 8 is for explaining the problem pointed out in
まず、図8(a)に示すように、基板81の上に光導波路101の下部クラッド102、コア103および上部クラッド104の各層を形成する。例えば、屈折率の異なる公知の高分子材料をスピンコートなどにより塗布し、前処理加熱、紫外線照射および後処理加熱によって硬化させることにより、各層を順次積層して形成する。この際、コア材料はコア103の形状にパターニングする。
First, as shown in FIG. 8A, the layers of the
また、コア103の形成後、下部クラッド102の上部表面の、コア103が形成されていない位置に金属材料を蒸着するなどの方法で、光導波路側マーカ105を形成する。光導波路側マーカ105は、光導波路101に傾斜端面106を形成したり、光導波路101と光素子112とを位置合わせしたりする際の基準として用いられる。
Further, after the
次に、図8(b)に示すように、V字型ブレードでダイサー加工することにより斜め45度加工を施し、光導波路101に傾斜端面106を形成し、さらに、もう一方の端部も所望の形状に切断する。この際、傾斜端面106を形成する位置は、光導波路側マーカ105を基準にして光導波路側マーカ105から所定の距離107だけ離れた位置に定める。しかしながら、ダイシングする中心の位置を光導波路側マーカ105を基準にして正しく決めたとしても、例えば図8(b)に点線で示すように、ブレードによる切り込み量が大きくなりすぎると、結果として傾斜端面108が形成される位置は、図8(b)の左方向にずれ、光導波路側マーカ105に対して誤差109をもつことになる。実際には、ブレードによる切り込み量を厳密に制御することは難しく、形成される傾斜端面106の位置は、切り込み量のばらつきを反映して、±10μmをこえる誤差109を生じる可能性がある。
Next, as shown in FIG. 8 (b), a 45 ° oblique process is performed by dicing with a V-shaped blade to form an
次に、図8(c)に示すように、光素子112が実装された実装基板111に光導波路101を位置固定し、光結合装置120を形成する。この際、例えば、CCD(Charge Coupled Device)カメラと顕微鏡を用いた画像観察などで、光導波路側マーカ105と、光素子112またはその位置決めの基準として用いられた実装基板側マーカ113とを同時に観察しながら、光導波路101の搭載位置を位置決めする。
Next, as shown in FIG. 8C, the position of the
上記の方法によれば、仮に、光導波路側マーカ105と、光素子112またはその位置決めの基準として用いられた実装基板側マーカ113とが誤差なしに位置決めされたとしても、傾斜端面106の位置が光導波路側マーカ105に対して誤差109をもっているため、傾斜端面106と光素子112との間には、誤差109の大きさの位置合わせ誤差が生ずることになる。
According to the above method, even if the optical
例えば、コア3の断面が40μm×40μmの正方形である場合、光素子112との位置合わせ誤差が±10μmをこえると、1dB以上の光結合損失が生ずることになり、これは許容できない大きさである。
For example, when the cross section of the
図8では、傾斜端面106をダイシングによって形成する例を説明したが、マーカなどの基準点に基づいて位置決めしてコアの端部を露出させる加工を行う場合、形成される端部の位置は基準点に対し多かれ少なかれ加工誤差を有するので、その後もこの基準点に基づいて光導波路と他の光部品との位置合わせを行うと、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせに上記加工誤差が必然的に含まれる。
Although the example in which the
特許文献1では、半導体レーザが端面発光型であって、光導波路の端面が光導波路コアに対し垂直である場合に対し、その解決法が提案されているが、適用できる対象は限定される。例えば、光素子が面型の受発光素子で、光導波路の端面が傾斜反射面である場合には適用できない。
また、マーカを用いずに位置合わせをする方法としては、光素子を実際に動作させ、信号光の強さを実際に観察しながら光素子の位置を調節し、光結合が最適なところで位置固定するというアクティブアライメントを行うこともあるが、この方法では、光素子を駆動させなければならず、位置合わせにも非常に手間がかかり、量産には向いていないという問題がある。 In addition, as a method of alignment without using a marker, the optical element is actually operated, the position of the optical element is adjusted while actually observing the intensity of the signal light, and the position is fixed where the optical coupling is optimal. However, in this method, there is a problem that the optical element has to be driven, the alignment is very troublesome, and is not suitable for mass production.
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、光導波路のコア端部を露出させる加工を行う際に生ずる加工誤差が、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせ誤差に含まれない光結合装置、及びそのような光結合装置の作製を可能にする光導波路を提供することにある。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a processing error that occurs when performing processing to expose the core end portion of the optical waveguide. An object of the present invention is to provide an optical coupling device that is not included in an alignment error with a component, and an optical waveguide that makes it possible to manufacture such an optical coupling device.
即ち、本発明は、コアとクラッドとの接合体からなる光導波路において、前記コアの端部を露出させる加工によって形成された端面を有し、この加工端面のエッジ部が位置合わせに用いられていることを特徴とする、光導波路に係わり、また、前記光導波路と、他の光部品とが光結合してなり、前記コアの前記端部と前記他の光部品とが位置合わせされている、光結合装置に係わるものである。 That is, the present invention has an end face formed by processing that exposes an end portion of the core in an optical waveguide composed of a joined body of a core and a clad, and the edge portion of the processed end surface is used for alignment. The optical waveguide is optically coupled with another optical component, and the end of the core and the other optical component are aligned with each other. This relates to the optical coupling device.
本発明によれば、光導波路は、コアとクラッドとの接合体からなり、前記コアの端部を露出させる加工によって形成された加工端面を有し、光結合装置は、前記光導波路と他の光部品とが光結合してなるが、この際、前記加工端面のエッジ部に基づいて、前記コアの前記端部と前記他の光部品との位置合わせが行われている。このため、前記加工端面を形成する際に生じた前記加工端面の位置誤差が、前記位置合わせの誤差に入り込む余地がない。 According to the present invention, the optical waveguide is formed of a joined body of a core and a clad, and has a processed end surface formed by processing that exposes an end portion of the core. The optical component is optically coupled. At this time, the end portion of the core and the other optical component are aligned based on the edge portion of the processed end face. For this reason, there is no room for the position error of the processed end face generated when forming the processed end face to enter the alignment error.
本発明の光導波路において、前記加工端面の前記エッジ部を基準にしてマーカが設けられ、このマーカによって前記コアの前記端部と光部品との位置合わせが行われるのがよい。これは、前記加工端面の位置を検知する箇所として前記エッジ部を用いると、検出が容易で、その結果、正確さや能率が向上するからである。また、前記エッジ部を基準にして新しく前記マーカを形成すれば、前記加工端面を形成する際に生じた前記加工端面の位置誤差を含まずに、前記コアの前記端部に位置合わせできるマーカとして、前記マーカを用いることができる。 In the optical waveguide of the present invention, it is preferable that a marker is provided with reference to the edge portion of the processed end surface, and the end portion of the core and the optical component are aligned by the marker. This is because when the edge portion is used as a location for detecting the position of the processing end face, detection is easy, and as a result, accuracy and efficiency are improved. In addition, if the marker is newly formed on the basis of the edge portion, the marker can be aligned with the end portion of the core without including the position error of the processing end surface generated when forming the processing end surface. The marker can be used.
また、前記加工端面が切断によって形成されているのがよい。光導波路を形成する方法としてスタンピング成形による方法などもあるが、基板上に形成された光導波路層から切断によって切り分ける方法が簡易でよい。しかも、この方法は、加工誤差が生じやすい方法であるので、本発明を最も有効に適用することができる。 Further, the processed end face is preferably formed by cutting. As a method for forming the optical waveguide, there is a method by stamping molding or the like, but a method of cutting the optical waveguide layer formed on the substrate by cutting may be simple. Moreover, since this method is a method in which processing errors are likely to occur, the present invention can be applied most effectively.
また、前記光導波路の前記加工端面が傾斜した反射面をなしているのがよい。これにより、この傾斜端面による反射を介して、光を前記光導波路の外部又は内部へ導き、前記他の光部品との光結合を形成することができる。傾斜端面による反射を利用すれば、コンパクトに光路を方向変換しながら、他の光部品との光結合を形成することができる。また、実装基板に凹部を設け、この凹部内に前記他の光部品である発光又は受光素子を固定すれば、面発光型の発光素子や面受光型の受光素子を用いることができる利点がある。例えば、VCSEL(Vertical Cavity Surface-Emitting Laser;垂直共振器型面発光レーザ)や面発光型のLEDは、製造が容易で、安価で、市販されている品種も豊富であり、高周波特性に優れていて変調しやすく、実装も容易である。また、フォトダイオードなどの受光素子も、面受光型の素子が主であり、実装も容易である。 Moreover, it is preferable that the processed end face of the optical waveguide forms an inclined reflecting surface. Accordingly, light can be guided to the outside or the inside of the optical waveguide through the reflection by the inclined end face, and optical coupling with the other optical component can be formed. If the reflection by the inclined end face is used, it is possible to form optical coupling with other optical components while changing the direction of the optical path in a compact manner. Further, if a concave portion is provided in the mounting substrate and the light emitting or light receiving element which is the other optical component is fixed in the concave portion, there is an advantage that a surface light emitting type light emitting element or a surface light receiving type light receiving element can be used. . For example, VCSELs (Vertical Cavity Surface-Emitting Lasers) and surface-emitting LEDs are easy to manufacture, inexpensive, abundant on the market, and have excellent high-frequency characteristics. It is easy to modulate and easy to implement. In addition, light receiving elements such as photodiodes are mainly surface light receiving elements, and are easy to mount.
また、前記加工端面がダイシングによって形成された傾斜端面であり、その切削面の上端を前記基準として上部に位置合わせ用の前記マーカが設けられているのがよい。この際、前記位置合わせマーカが表面に形成された凹部または凸部であるのがよく、前記凹部または凸部をダイシングで形成するのがよい。このようにすれば、ダイシング用の装置に装着したまま、前記加工端面の形成から前記位置合わせマーカの形成まで一貫して行うことができ、正確に、能率よく一連の加工を行うことができる。この際、この凹部が前記コアに達すると光の伝播に支障が生じるから、前記凹部の深さは、上部クラッドの厚さ未満であるのがよい。 Further, it is preferable that the processing end surface is an inclined end surface formed by dicing, and the marker for alignment is provided on the upper side with the upper end of the cutting surface as the reference. At this time, the alignment marker is preferably a concave or convex portion formed on the surface, and the concave or convex portion is preferably formed by dicing. If it does in this way, it can carry out consistently from formation of the processing end face to formation of the position alignment marker with attaching to a device for dicing, and a series of processing can be performed accurately and efficiently. At this time, if the recess reaches the core, the propagation of light is hindered. Therefore, the depth of the recess is preferably less than the thickness of the upper clad.
また、前記接合体の少なくとも一部が高分子材料からなるのがよい。光導波路の材料として有機材料系の高分子材料を用いることで、光導波路の作製工程を簡易化できる。例えば、UV(紫外線)硬化型有機材料を用いると、スピンコート等による成膜や、フォトリソグラフィによるコア加工が可能であり、安価な製造設備と低い製造コストで光導波路を作製することができる。 In addition, at least a part of the joined body is preferably made of a polymer material. By using an organic polymer material as the material of the optical waveguide, the manufacturing process of the optical waveguide can be simplified. For example, when a UV (ultraviolet) curable organic material is used, film formation by spin coating or the like and core processing by photolithography are possible, and an optical waveguide can be manufactured with inexpensive manufacturing equipment and low manufacturing cost.
なお、前記他の光部品は、発光素子、受光素子、光ファイバ、又は平面光導波路であるのがよい。 The other optical component may be a light emitting element, a light receiving element, an optical fiber, or a planar optical waveguide.
また、前記凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合されて形成されている光導波路であって、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、前記光導波路支持体が前記他の光部品の支持体と凹凸嵌合されることによって、前記他の光部品との位置合わせが行われるように構成されているのがよい。 The concave portion or the convex portion and the convex portion or the concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion or the concave portion are formed by concave and convex fitting, and the concave and convex fitting position is used as a reference. The optical waveguide support may be configured to be aligned with the other optical component by fitting the optical waveguide support to the support of the other optical component.
また、本発明の光結合装置において、請求項6に記載した凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合され、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、前記光導波路支持体と前記他の光部品の支持体とが凹凸嵌合されることによって、前記光導波路と前記他の光部品との位置合わせが行われているのがよい。 Further, in the optical coupling device of the present invention, the concave portion or the convex portion described in claim 6 and the convex portion or the concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion or the concave portion are fitted into the concave and convex portions. The optical waveguide and the other optical component are aligned with each other by fitting the optical waveguide support and the support of the other optical component at the position relative to the position. It is good.
上記の凹凸嵌合による位置合わせは、マーカを画像観察しながら位置合わせする方法に比べて、はるかに簡易で、生産性が高く、結果的に光結合装置を低コスト化することができる。これらに関しては、実施の形態1で具体的に説明する。 The alignment by the concave / convex fitting is much simpler and more productive than the method of aligning the marker while observing the image, and as a result, the cost of the optical coupling device can be reduced. These will be specifically described in the first embodiment.
次に、本発明の好ましい実施の形態を図面参照下に具体的かつ詳細に説明する。 Next, a preferred embodiment of the present invention will be described specifically and in detail with reference to the drawings.
実施の形態1
実施の形態1では、位置合わせマーカとして表面に形成された凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合されて形成された、請求項9に記載した光導波路を用い、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、光導波路支持体が他の光部品の支持体と凹凸嵌合されることによって、光導波路と他の光部品との位置合わせが行われている、請求項12に記載した光結合装置の例およびその作製工程を、図1〜5を用いて説明する。
In the first embodiment, a concave portion or a convex portion formed on the surface as an alignment marker and a convex portion or a concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion are formed to be unevenly fitted. The optical waveguide described in Item 9 is used, and the optical waveguide support is unevenly fitted to the support of another optical component at a position based on the concave / convex fitting position, whereby the optical waveguide and the other optical component are fitted. An example of an optical coupling device according to
図1は、光導波路1の平面図(a)と断面図(b)とである。なお、断面図(b)は、平面図(a)の1A−1A線の位置における断面図である。光導波路1は、下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の接合体からなり、導光路であるコア3が、下部クラッド2と上部クラッド4との間に挟持されている。図1には、コア3が4本並置されている例を示したが、これに限るものではなく、光導波路1に含まれるコア3の本数は単一でも複数でもよい。
FIG. 1 is a plan view (a) and a sectional view (b) of the
光導波路1の下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の各層は、例えば、屈折率の異なる公知の高分子材料を順次積層し、コア材料をパターニングすることによって形成される。コア3の屈折率はクラッド2と4の屈折率よりも大きく、比屈折率差Δnは、例えば0.8%である。また、コア3の断面は、例えば40μm×40μmの正方形である。
Each layer of the lower clad 2, the
光導波路1の端面6は、光導波路1の主面に対しておおよそ45度に傾斜した反射面に形成されており、この傾斜端面6による反射を介して、光を光導波路コア3の内部又は外部へ導き、後述するようにして対向配置された光素子26との光結合が形成される。
The end surface 6 of the
光導波路1の上部には、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に、前記位置合わせマーカである前記凹部としてV字溝8が形成されており、次に述べる光導波路支持体11との凹凸嵌合による位置合わせに用いられる。
In the upper part of the
図2は、光導波路1の上部に前記位置合わせマーカである前記凹部として形成されたV字溝8と、これに対応して光導波路支持体11に設けられた凸部13との凹凸嵌合によって形成された光導波路の平面図(a)と断面図(b)とである。なお、断面図(b)は、平面図(a)の2A−2A線の位置における断面図である。また、本明細書では、このような光導波路層と光導波路支持体との複合体も光導波路と呼ぶものとする。
FIG. 2 shows an uneven fitting between a V-shaped groove 8 formed as the concave portion, which is the alignment marker, on the upper portion of the
光導波路支持体11は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、一方の主面側に、光導波路1に形成されたV字型の溝8と凹凸嵌合する山型の凸部12と、実装基板21に設けられたガイド孔22と凹凸嵌合するガイドピン13とが高精度に形成されており、ガイドピン13の位置は、凸部12から所定の距離14だけ離れた位置に正確に定められている。
The
光導波路支持体11の材料としては、シリコン基板以外のガラス基板やセラミック基板でもよいが、半導体加工技術で加工できることから、半導体基板とりわけシリコン基板が好ましい。
The material of the
光導波路1と光導波路支持体11とは、V字型の溝8と山型の凸部12との凹凸嵌合によって正確に位置決めされた後、例えば接着などにより一体化される。このとき用いる接着剤は、熱硬化性のものでも、紫外線硬化性のものでもよい。
The
図3は、本実施の形態に基づく光結合装置の平面図(a)と断面図(b)とである。なお、断面図(b)は、平面図(a)の3A−3A線の位置における断面図である。前記他の光部品の前記支持体である実装基板21には、前記他の光部品として光素子アレイ26が実装されている。
FIG. 3 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) of the optical coupling device according to the present embodiment. In addition, sectional drawing (b) is sectional drawing in the position of the 3A-3A line | wire of top view (a). An
実装基板21は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、光導波路支持体11のガイドピン13と凹凸嵌合するガイド孔22、光導波路支持面23、光素子アレイ26を固定する凹部24、そして実装基板側マーカ25などが高精度に形成されており、光素子アレイ26は、実装基板側マーカ25を基準として、ガイド孔22から所定の距離28だけ離れた位置に正確に位置決めして実装されている。
The mounting
一方、光導波路支持体11に一体化された光導波路1では、ガイドピン13から所定の距離14だけ離れた位置に凸部12があり、さらに凸部12から所定の距離9だけ離れた位置に傾斜端面6の上端7がある。
On the other hand, in the
従って、ガイドピン13とガイド孔22との凹凸嵌合によって、光導波路1と実装基板21とが互いに位置固定されると、図3(b)に示すように、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子26との水平方向における位置が、自動的に位置合わせされる。
Therefore, when the
また、光導波路1は、その実装基板21の側の主面が光導波路支持面23に接触した状態で保持されているので、光素子固定用凹部24を適切な深さに形成しておけば、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子26との高さ方向における距離も、適切な大きさに自動的に定められる。
Further, since the
このようにして光結合が形成された状態では、光素子26が発光素子であれば、発光素子の発光部27から傾斜端面6に入射した光が、傾斜反射面6で反射され、コア3の内部へ導かれる。また、光素子26が受光素子である場合には、コア3の内部を伝播してきた光が、傾斜端面6で反射され、受光素子の受光部27へと導かれる。傾斜端面6による反射を用いることで、上面に発光部をもつ面発光型の発光素子や、上面に受光部をもつ面受光型の受光素子を利用できる利点がある。例えば、VCSEL(発光領域の大きさは、例えば10μm)や面発光型のLEDは、製造が容易で、安価で、市販されている品種も豊富であり、高周波特性に優れ変調しやすく、実装も容易である。また、フォトダイオードなどの受光素子も、面受光型の素子が主であり、実装も容易である。
In a state where the optical coupling is formed in this way, if the
なお、図3に示した光結合装置は、ガイドピン13の抜き差しによって、光導波路側部分と実装基板側部分とを、必要に応じて分離したり結合したりすることのできる、着脱可能な、いわゆるコネクタ形状の光結合装置とすることができる。このような場合には、不図示の外蓋との間にスプリングや板バネなどによる公知の押圧手段を設けたり、不図示の外縁部に鍵形の爪などによる公知のかみ合わせを設けたりすることで、光結合装置全体を一体として保持できる構造とするのがよい。 Note that the optical coupling device shown in FIG. 3 is detachable so that the optical waveguide side portion and the mounting substrate side portion can be separated or combined as necessary by inserting and removing the guide pins 13. A so-called connector-shaped optical coupling device can be obtained. In such a case, a known pressing means such as a spring or a leaf spring is provided between the outer lid (not shown) or a known engagement such as a key-shaped claw is provided on the outer edge (not shown). Therefore, it is preferable to have a structure that can hold the entire optical coupling device as a unit.
図4と図5は、光導波路1および光結合装置を作製する工程を示すフロー図である。なお、この図は、図1の断面図(b)と同じ位置における断面図である。
4 and 5 are flowcharts showing the steps of manufacturing the
まず、図4(a)に示すように、シリコンなどの基板81の上に光導波路1の下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の各層を形成する。例えば、屈折率の異なる公知の高分子材料をスピンコートなどにより塗布し、前処理加熱、紫外線照射および後処理加熱によって硬化させることにより、各層を順次積層して形成する。この際、コア材料はコア3の形状にパターニングする。
First, as shown in FIG. 4A, the lower clad 2, the
また、端部形成用マーカ5は、コア3の形成後、下部クラッド2の上部表面の、コア3が形成されていない領域に金属材料を蒸着するなどの方法で形成する。
Further, the end portion formation marker 5 is formed by a method such as vapor deposition of a metal material in a region where the
次に、図4(b)に示すように、V字型ブレードでダイサー加工することにより斜め45度加工を施し、光導波路1に傾斜端面(反射面)6を形成する。この際、傾斜端面6を形成する位置は、端部形成用マーカ5を基準にして端部形成用マーカ5から所定の距離だけ離れた位置とする。先述したように、実際に形成される傾斜端面6の位置は、ブレードによる切り込み量のばらつきを反映して、端部形成用マーカ5に対して±10μmをこえる誤差を生じる可能性がある。
Next, as shown in FIG. 4B, an inclined end face (reflective surface) 6 is formed on the
さらに、もう一方の端面を所望の形状に切断する。図4(b)には通常のブレードで垂直に切断する例を示したが、もう一方の端面も傾斜反射面に形成してもよい。 Further, the other end face is cut into a desired shape. FIG. 4B shows an example in which the blade is cut perpendicularly with a normal blade, but the other end face may be formed on an inclined reflecting surface.
次に、図4(c)に示すように、V字型ブレードでダイサー加工することにより、上部クラッド4の上部に前記凹部としてV字型の溝8を形成する。V字型の溝8を設ける位置は、前記切削面の前記エッジ部である、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置とし、ダイサーのモニタで上端7を検出しながら切断することで、±数μmの精度で定めることができる。 Next, as shown in FIG. 4C, a V-shaped groove 8 is formed as the concave portion on the upper clad 4 by dicing with a V-shaped blade. The position where the V-shaped groove 8 is provided is a position separated by a predetermined distance 9 from the upper end 7 of the inclined end surface 6, which is the edge portion of the cutting surface, and is cut while detecting the upper end 7 with a dicer monitor. Thus, it can be determined with an accuracy of ± several μm.
次に、図4(d)に示すように、光導波路1を基板81から剥離する。
Next, as shown in FIG. 4D, the
次に、図5(e)から(f)に示すように、光導波路支持体11に光導波路1を凹凸嵌合により位置固定する。
Next, as shown in FIGS. 5E to 5F, the position of the
光導波路支持体11は、作製工程は図示省略するが、シリコン基板などからエッチングなどによって形成する。一方の主面側に、光導波路1に形成されたV字型の溝8と凹凸嵌合する山型の凸部12と、実装基板21に設けられたガイド孔22と凹凸嵌合するガイドピン13とを高精度に形成し、また、ガイドピン13の位置は、凸部12から所定の距離14だけ離れた位置に正確に定める。
The
光導波路支持体11の材料としては、シリコン基板以外のガラス基板やセラミック基板でもよいが、半導体加工技術で加工できることから、半導体基板とりわけシリコン基板が好ましい。
The material of the
光導波路1と光導波路支持体11とは、V字型の溝8と山型の凸部12との凹凸嵌合によって正確に位置決めした後、例えば接着などにより一体化する。このとき用いる接着剤は、熱硬化性のものでも、紫外線硬化性のものでもよい。
The
次に、図5(f)から(g)に示すように、光導波路支持体11のガイドピン13と実装基板21のガイド孔22との凹凸嵌合により、光導波路1を実装基板21に位置固定する。
Next, as shown in FIGS. 5 (f) to 5 (g), the
実装基板21は、図示省略したが、シリコン基板などの半導体基板のエッチングなどによって形成し、光導波路支持体11のガイドピン13と凹凸嵌合するガイド孔22、光導波路支持面23、光素子アレイ26を固定する凹部24、そして実装基板側マーカ25などを高精度に形成する。光素子アレイ26は、実装基板側マーカ25を基準として、ガイド孔22から所定の距離28だけ離れた位置に正確に位置決めして実装しておく。
Although not shown in the drawings, the mounting
実装基板21の材料としては、シリコン基板以外のガラス基板やセラミック基板でもよいが、半導体加工技術で加工できることから、半導体基板とりわけシリコン基板が好ましい。
The material of the mounting
以上に説明してきたように、本実施の形態によれば、45度に傾斜した端面(反射面)をダイサーで切削した後、切削面の上端を基準として位置合わせ用のマーカを形成するので、45度傾斜端面を形成した際に生じる45度傾斜端面の位置誤差に無関係に、上記位置合わせ用のマーカを用いて傾斜端面との正確な位置合わせを行うことができる。 As described above, according to the present embodiment, after the end surface (reflecting surface) inclined at 45 degrees is cut by the dicer, the alignment marker is formed with reference to the upper end of the cutting surface. Regardless of the position error of the 45-degree inclined end face that occurs when the 45-degree inclined end face is formed, accurate alignment with the inclined end face can be performed using the alignment marker.
また、45度傾斜端面をV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成し、位置合わせマーカも同様にV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成するので、光導波路をダイシング用の装置に装着したまま、加工端面の形成から位置合わせマーカの形成まで一貫して行うことができ、正確に、能率よく一連の加工を行うことができる。 In addition, the 45 ° inclined end surface is formed by dicing using a V-shaped dicing blade, and the alignment marker is also formed by dicing using a V-shaped dicing blade. Therefore, the optical waveguide is mounted on a dicing apparatus. As it is, it can be performed consistently from the formation of the machining end face to the formation of the alignment marker, and a series of machining can be performed accurately and efficiently.
また、端部に45度傾斜端面を形成するので、面型受発光素子を用いることができる。 Further, since the end face is inclined at 45 degrees, a surface light emitting / receiving element can be used.
また、凹凸嵌合により、光導波路と面型受発光素子との位置合わせを、正確に高精度で行うことができる。この方法は、マーカを画像観察しながら位置合わせする方法に比べて、はるかに簡易で、生産性が高く、結果的に光導波路装置を低コスト化することができる。 Further, the concave / convex fitting allows the optical waveguide and the surface light emitting / receiving element to be accurately aligned with high accuracy. This method is much simpler and more productive than the method of aligning the marker while observing the image, and as a result, the cost of the optical waveguide device can be reduced.
本発明は、特願2004−105833に記載されている光結合装置における、光導波路シートと光導波路シート用サブマウントの位置合わせに利用することができる。 The present invention can be used for alignment of an optical waveguide sheet and a submount for an optical waveguide sheet in an optical coupling device described in Japanese Patent Application No. 2004-105833.
実施の形態2
実施の形態2は、実施の形態1に基づく光導波路および光結合装置を基本としつつ、実施の形態1ではガイドピンとガイド孔との凹凸嵌合によって行っていた光導波路コア端部と光素子との位置合わせを、当接面の当接(突き当て)で行うようにした光導波路および光結合装置の例である。以下、実施の形態1からの変更点に重点をおいて説明する。
Embodiment 2
The second embodiment is based on the optical waveguide and the optical coupling device based on the first embodiment, but in the first embodiment, the optical waveguide core end portion and the optical element, which are formed by the concave and convex fitting between the guide pin and the guide hole, are as follows. This is an example of an optical waveguide and an optical coupling device in which the alignment is performed by contact (butting) of the contact surface. The following description will be given with emphasis on the changes from the first embodiment.
図6は、実施の形態2に基づく光結合装置の断面図である。なお、この断面図は、図1の断面図(b)に相当する位置での断面図である。 FIG. 6 is a cross-sectional view of the optical coupling device according to the second embodiment. This cross-sectional view is a cross-sectional view at a position corresponding to the cross-sectional view (b) of FIG.
光導波路1は、実施の形態1と同じ、下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の接合体からなる光導波路1である。
The
光導波路1の端面6は、光導波路1の主面に対しておおよそ45度に傾斜した反射面に形成されており、この傾斜端面6による反射を介して、光を光導波路コア3の内部又は外部へ導き、対向配置された光素子46との光結合が形成される。
The end surface 6 of the
光導波路1の上部には、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に、前記位置合わせマーカである前記凹部としてV字溝8が形成されており、次に述べる光導波路支持体31との凹凸嵌合による位置合わせに用いられる。
In the upper part of the
光導波路支持体31は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、光導波路1に形成されたV字溝8と凹凸嵌合する山型の凸部32が、一方の主面側に設けられ、また、実装基板41に設けられた当接面42と当接する当接面33が、側部前面に設けられている。凸部32と当接面33とは高精度に形成されており、当接面33の位置は、凸部32から所定の距離34だけ離れた位置に正確に定められている。
The optical waveguide support 31 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, and a mountain-shaped convex portion 32 that is concavo-convexly engaged with the V-shaped groove 8 formed in the
光導波路1と光導波路支持体31とは、V字型の溝8と山型の凸部32との凹凸嵌合によって正確に位置あわせされた後、例えば接着などにより一体化される。当接面33の位置は、凸部32から所定の距離34だけ離れた位置に正確に定められ、また、凸部32と凹凸嵌合するV字溝8の位置は、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に正確に定められているから、この凹凸嵌合によって、当接面33の位置が、傾斜端面6の上端7から所定の距離だけ離れた位置に正確に定められることになる。
The
一方、実装基板41は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、光導波路支持体31の当接面33と当接する当接面42、光導波路支持面43、光素子46を固定する凹部44、そして実装基板側マーカ45などが高精度に形成されている。光素子46は、実装基板側マーカ45を基準として、当接面42から所定の距離47だけ離れた位置に正確に位置決めして固定されている。 On the other hand, the mounting substrate 41 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, and includes a contact surface 42 that contacts the contact surface 33 of the optical waveguide support 31, an optical waveguide support surface 43, and a recess 44 that fixes the optical element 46. The mounting board side marker 45 and the like are formed with high accuracy. The optical element 46 is accurately positioned and fixed at a position away from the contact surface 42 by a predetermined distance 47 with the mounting board side marker 45 as a reference.
光導波路支持体31と一体化された光導波路1を実装基板41に位置合わせして位置固定するには、まず、その主面が光導波路支持面43に接触するように光導波路1を実装基板41上に載置し、次に、光導波路1と光導波路支持面43とが接触した状態で、光導波路1と光導波路支持体31とを図の左右方向に移動させ、光導波路支持体31の当接面33と実装基板41の当接面42とを当接させる。
In order to align and fix the
傾斜端面6の上端7は、当接面33から正確に所定の距離だけ離れた位置にあり、また、光素子46は、当接面42から正確に所定の距離だけ離れた位置にある。従って、上記の当接によって光導波路1と実装基板21とが互いに位置固定されると、図6に示すように、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子46との水平方向における位置が、自動的に位置合わせされる。同様に、図6の奥行き方向の図示省略した当接面の当接によって、奥行き方向の位置合わせも行う。
The upper end 7 of the inclined end surface 6 is at a position accurately spaced from the contact surface 33 by a predetermined distance, and the optical element 46 is at a position accurately spaced from the contact surface 42 by a predetermined distance. Accordingly, when the
また、光導波路1は、その実装基板41の側の主面が光導波路支持面43に接触した状態で保持されているので、光素子固定用凹部44を適切な深さに形成しておけば、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子46との高さ方向における距離も、適切な大きさに自動的に定められる。
Further, since the
このようにして、三次元方向における完全な位置合わせを行い、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子46との光結合を実現する。
In this way, perfect alignment in the three-dimensional direction is performed, and optical coupling between the inclined end face 6 of the
このとき、光素子46が発光素子であれば、発光素子の発光部から傾斜反射面6に入射した光が、傾斜反射面6で反射され、コア3の内部へ導かれる。また、光素子46が受光素子である場合には、コア3の内部を伝播してきた光が、傾斜反射面6で反射され、受光素子の受光部へと導かれる。このようにして、上面に発光部をもつ面発光型の発光素子や、上面に受光部をもつ面受光型の受光素子を用いることができる。
At this time, if the optical element 46 is a light emitting element, the light incident on the inclined reflecting surface 6 from the light emitting portion of the light emitting element is reflected by the inclined reflecting surface 6 and guided into the
本実施の形態に基づく光結合装置は、実施の形態1と比べ光導波路支持体と実装基板とをその外形に基づくセルフアレンジメントで位置合わせする際の方式が異なっているのみであるから、実施の形態1に述べたと同じ作用効果を期待できるのは言うまでもない。 The optical coupling device according to the present embodiment is different from the first embodiment only in the method for aligning the optical waveguide support and the mounting substrate by self-arrangement based on the outer shape. Needless to say, the same effect as described in the first embodiment can be expected.
すなわち、本実施の形態によれば、45度に傾斜した端面(反射面)をダイサーで切削した後、切削面の上端を基準として位置合わせ用のマーカを形成するので、45度傾斜端面を形成した際に生じる45度傾斜端面の位置誤差に無関係に、上記位置合わせ用のマーカを用いて傾斜端面との正確な位置合わせを行うことができる。 That is, according to the present embodiment, after the end surface (reflecting surface) inclined at 45 degrees is cut by the dicer, the alignment marker is formed with the upper end of the cutting surface as a reference, so the 45-degree inclined end surface is formed. Regardless of the position error of the 45-degree inclined end face that occurs at this time, accurate alignment with the inclined end face can be performed using the alignment marker.
また、45度傾斜端面をV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成し、位置合わせマーカも同様にV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成するので、光導波路をダイシング用の装置に装着したまま、加工端面の形成から位置合わせマーカの形成まで一貫して行うことができ、正確に、能率よく一連の加工を行うことができる。 In addition, the 45 ° inclined end surface is formed by dicing using a V-shaped dicing blade, and the alignment marker is also formed by dicing using a V-shaped dicing blade. Therefore, the optical waveguide is mounted on a dicing apparatus. As it is, it can be performed consistently from the formation of the machining end face to the formation of the alignment marker, and a series of machining can be performed accurately and efficiently.
また、端部に45度傾斜端面を形成するので、面型受発光素子を用いることができる。 Further, since the end face is inclined at 45 degrees, a surface light emitting / receiving element can be used.
また、当接面の当接によって、光導波路と面型受発光素子との位置合わせを、正確に高精度で行うことができる。この方法は、マーカを画像観察しながら位置合わせする方法に比べて、はるかに簡易で、生産性が高く、結果的に光導波路装置を低コスト化することができる。 In addition, the contact between the contact surfaces allows the optical waveguide and the surface light emitting / receiving element to be accurately aligned with high accuracy. This method is much simpler and more productive than the method of aligning the marker while observing the image, and as a result, the cost of the optical waveguide device can be reduced.
実施の形態3
実施の形態3では、実施の形態1や2のように凹凸嵌合によって光導波路コア端部と光素子との位置合わせを行うのではなく、例えば、CCD(Charge Coupled Device)カメラと顕微鏡を用いた画像観察などで、光導波路1の傾斜端面6の下端(エッジ部)10と、光素子アレイ56またはその位置決めの基準として用いられた実装基板側マーカ55とを同時に観察しながら、実装基板51の上に光導波路1を位置固定して、光結合装置を形成する。
In the third embodiment, the alignment between the optical waveguide core end and the optical element is not performed by the concave-convex fitting as in the first and second embodiments. For example, a CCD (Charge Coupled Device) camera and a microscope are used. The mounting substrate 51 while simultaneously observing the lower end (edge portion) 10 of the inclined end surface 6 of the
本実施の形態は、図8(c)に示した従来の光結合装置の製造方法と直接対比されるものであるが、光導波路側マーカ105ではなく、傾斜端面6の下端(エッジ部)10を観察しているため、傾斜端面6を形成する際に生じた位置誤差の影響を受けることがない。
This embodiment is directly contrasted with the conventional method for manufacturing an optical coupling device shown in FIG. 8C, but is not the optical
この方法は、凹凸嵌合や当接によって位置合わせを行う方法に比べて、位置合わせの能率は高くないが、凹凸嵌合や当接のための手段および光導波路支持体を設ける必要がない利点を有する。 This method does not have a high efficiency of alignment compared with the method of aligning by uneven fitting or contact, but has the advantage that it is not necessary to provide means for uneven fitting or contact and an optical waveguide support. Have
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれらの例に何ら限定されるものではなく、発明の主旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能であることは言うまでもない。 As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these examples at all, and can be suitably changed in the range which does not deviate from the main point of invention.
本発明の光結合装置は、電子機器間、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、種々の箇所に適用可能な光配線において好適に用いられ、生産性がよく、低コストで、しかも高性能な光伝送・通信システムの構築に寄与することができる。 The optical coupling device of the present invention is preferably used in optical wiring applicable to various places such as between electronic devices, between boards in electronic devices or between chips in a board, and has high productivity and low cost. Moreover, it can contribute to the construction of a high-performance optical transmission / communication system.
1…光導波路、2…下部クラッド、3…コア、4…上部クラッド、
5…端部形成用マーカ、6…45度に傾斜した端面(反射面)、7…傾斜端面の上端、
8…V字溝、9…所定の距離、10…傾斜端面の下端(エッジ部)、
11…光導波路支持体、12…凸部、13…ガイドピン、14…所定の距離、
21…実装基板、22…ガイド孔、23…光導波路支持面、24…光素子固定用凹部、
25…実装基板側マーカ、26…光素子アレイ、27…光素子アレイの受発光部、
28…所定の距離、31…光導波路支持体、32…凸部、33…ガイドピン、
34…所定の距離、41…実装基板、42…ガイド孔、43…光導波路支持面、
44…光素子固定用凹部、45…実装基板側マーカ、46…光素子アレイ、
47…所定の距離、51…実装基板、53…光導波路支持面、54…光素子固定用凹部、
55…実装基板側マーカ、56…光素子アレイ、81…基板、101…光導波路、
102…下部クラッド、103…コア、104…上部クラッド、
105…光導波路側マーカ、106…45度に傾斜した端面(反射面)、
107…所定の距離、108…切り込み量が大きくなりすぎた場合の傾斜端面、
109…誤差、111…実装基板、112…光素子、113…実装基板側マーカ、
120…光結合装置
DESCRIPTION OF
5 ... end forming marker, 6 ... end face inclined at 45 degrees (reflective surface), 7 ... upper end of the inclined end face,
8 ... V-shaped groove, 9 ... predetermined distance, 10 ... lower end (edge portion) of the inclined end surface,
DESCRIPTION OF
21 ... Mounting substrate, 22 ... Guide hole, 23 ... Optical waveguide support surface, 24 ... Recess for fixing optical element,
25 ... mounting board side marker, 26 ... optical element array, 27 ... light receiving / emitting part of optical element array,
28 ... predetermined distance, 31 ... optical waveguide support, 32 ... convex, 33 ... guide pin,
34 ... predetermined distance, 41 ... mounting substrate, 42 ... guide hole, 43 ... optical waveguide support surface,
44: concave portion for fixing an optical element, 45 ... mounting board side marker, 46 ... optical element array,
47 ... predetermined distance, 51 ... mounting substrate, 53 ... optical waveguide support surface, 54 ... optical element fixing recess,
55 ... Mounting substrate side marker, 56 ... Optical element array, 81 ... Substrate, 101 ... Optical waveguide,
102 ... lower clad, 103 ... core, 104 ... upper clad,
105 ... Optical waveguide side marker, 106 ... End face (reflective surface) inclined at 45 degrees,
107 ... predetermined distance, 108 ... inclined end face when the cutting depth becomes too large,
109 ... error, 111 ... mounting board, 112 ... optical element, 113 ... mounting board side marker,
120 ... Optical coupling device
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