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JP2006030224A - Optical waveguide and optical coupling device - Google Patents

Optical waveguide and optical coupling device Download PDF

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JP2006030224A
JP2006030224A JP2004204136A JP2004204136A JP2006030224A JP 2006030224 A JP2006030224 A JP 2006030224A JP 2004204136 A JP2004204136 A JP 2004204136A JP 2004204136 A JP2004204136 A JP 2004204136A JP 2006030224 A JP2006030224 A JP 2006030224A
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optical waveguide
optical
core
concave
face
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JP2004204136A
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Japanese (ja)
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Momoko Eguchi
百子 江口
Katsunori Yanashima
克典 簗嶋
Takahiro Arakida
孝博 荒木田
Hidehiko Nakada
英彦 中田
Akikazu Naruse
晃和 成瀬
Yoshikazu Okubo
美和 大久保
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】 光導波路のコア端部を露出させる加工を行う際に生ずる加工誤差が、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせ誤差に含まれない光結合装置、及びそのような光結合装置の作製を可能にする光導波路を提供すること。
【解決手段】 光導波路1は、クラッド2および4と、導光路であるコア3との接合体とする。光導波路1の端面6は、ダイサー加工によって、おおよそ45度に傾斜した反射面に形成し、傾斜端面6による反射を介して、光導波路1を光素子26と光結合する。同様のダイサー加工によって、光導波路1の上部の、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に、位置合わせマーカであるV字溝8を形成し、V字溝8を用いた凹凸嵌合によって、光導波路1を支持体11に対し正確に位置合わせする。支持体11には、凹凸嵌合の位置から所定の距離だけ離れた位置に、光素子26を実装した実装基板との位置合わせ手段を設ける。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical coupling device in which a processing error generated when performing processing for exposing a core end portion of an optical waveguide is not included in an alignment error between the optical waveguide core end portion and another optical component, and such light. To provide an optical waveguide that enables the fabrication of a coupling device.
An optical waveguide 1 is a joined body of clads 2 and 4 and a core 3 serving as a light guide. The end face 6 of the optical waveguide 1 is formed on a reflecting surface inclined at approximately 45 degrees by dicer processing, and the optical waveguide 1 is optically coupled to the optical element 26 through reflection by the inclined end face 6. By a similar dicer process, a V-shaped groove 8 as an alignment marker is formed at a position away from the upper end 7 of the inclined end face 6 by a predetermined distance 9 at the upper part of the optical waveguide 1, and the V-shaped groove 8 is used. The optical waveguide 1 is accurately aligned with the support 11 by the concave-convex fitting. The support 11 is provided with an alignment means with the mounting substrate on which the optical element 26 is mounted at a position away from the position of the concave-convex fitting by a predetermined distance.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、光配線システムにおいて有用な、光導波路と他の光部品(発光素子、受光素子、光ファイバ、或いは光導波路など)とを位置合わせして支持体に位置固定し、光路を接続した光結合装置及びその製造方法に関するものである。   The present invention is useful in an optical wiring system, and aligns an optical waveguide and another optical component (such as a light-emitting element, a light-receiving element, an optical fiber, or an optical waveguide), fixes the position on a support, and connects the optical path. The present invention relates to an optical coupling device and a manufacturing method thereof.

これまで、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、比較的短距離間の情報伝達は、主に電気信号により行われてきたが、集積回路の性能を更に向上されるためには、信号の高速化や信号配線の高密度化が必要となる。しかし、電気信号配線においては、配線の時定数による信号遅延や、ノイズ発生等の問題から、電気信号の高速化や電気信号配線の高密度化が困難である。   Until now, information transmission over a relatively short distance, such as between boards in electronic equipment or between chips in a board, has been performed mainly by electrical signals, but in order to further improve the performance of integrated circuits. Therefore, it is necessary to increase the signal speed and the signal wiring density. However, in the electric signal wiring, it is difficult to increase the speed of the electric signal and increase the density of the electric signal wiring due to problems such as signal delay due to the time constant of the wiring and generation of noise.

こうした問題を解決する光配線(光インターコネクション)が注目されている。光配線は、電子機器間、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、種々の箇所に適用可能であり、例えばチップ間のような短距離間の信号の伝送には、チップが搭載されている基板上に光導波路を設け、信号変調されたレーザ光等の伝送路とした光伝送・通信システムを構築することができる。   Optical wiring (optical interconnection) that solves these problems is drawing attention. Optical wiring can be applied to various locations such as between electronic devices, between boards in electronic devices, or between chips in a board. For example, chips are mounted for transmission of signals over a short distance such as between chips. It is possible to construct an optical transmission / communication system in which an optical waveguide is provided on a substrate, and a transmission path for signal-modulated laser light or the like is used.

このような光配線システムにおいて、光導波路と他の光部品(発光素子、受光素子、光ファイバ、或いは光導波路など)との位置合わせを行い、光路を接続する光結合装置が不可欠である。この際、光導波路と他の光部品との間で入出力される光の接続損失が許容範囲に収まるように、両者の相対的な位置精度を良好に保つ必要がある。なお、以下、本明細書において、発光素子および受光素子を区別しない場合に、これらを光素子と呼ぶことがある。   In such an optical wiring system, an optical coupling device that aligns an optical waveguide and connects an optical path by aligning the optical waveguide with another optical component (such as a light emitting element, a light receiving element, an optical fiber, or an optical waveguide) is indispensable. At this time, it is necessary to maintain a good relative positional accuracy so that the connection loss of light input / output between the optical waveguide and other optical components falls within an allowable range. Hereinafter, in the present specification, when the light emitting element and the light receiving element are not distinguished, they may be referred to as optical elements.

面型の発光又は受光素子と光導波路とを光結合するには、光導波路コアの端面を45度に傾斜した光反射面に形成し、この傾斜端面を用いた光路変換によって光を光導波路内又は外へ導き、傾斜端面に対向配置された光素子と光導波路とを光結合するのが一般的である。   In order to optically couple a planar light emitting or light receiving element and an optical waveguide, the end surface of the optical waveguide core is formed on a light reflecting surface inclined at 45 degrees, and light is transmitted into the optical waveguide by optical path conversion using the inclined end surface. Alternatively, it is common to optically couple an optical element and an optical waveguide that are guided to the outside and disposed opposite to the inclined end surface.

この45度傾斜端面(反射面)を有する光導波路を形成する方法はいくつかあるが、ダイシングを用いて形成するのが簡易である。   There are several methods for forming the optical waveguide having the 45-degree inclined end face (reflection surface), but it is easy to form by using dicing.

さて、後述の特許文献1では、半導体レーザや光導波路の端面の位置にばらつきがあるため、位置合わせマーカを用いて位置合わせする際に生じる問題点が指摘されている。
半導体レーザが端面発光型であって、光導波路の端面が光導波路コアに対し垂直である場合に対し、その解決法が提案されている。
Now, in Patent Document 1 described later, since there are variations in the positions of the end faces of the semiconductor laser and the optical waveguide, problems that occur when alignment is performed using alignment markers are pointed out.
A solution has been proposed for a case where the semiconductor laser is an edge-emitting type and the end face of the optical waveguide is perpendicular to the optical waveguide core.

図8は、特許文献1で指摘されている問題点を、光導波路の端面が45度傾斜端面(反射面)である場合に即して説明するためのもので、光導波路101のコア103の端部に45度に傾斜した端面106をダイシングによって形成し、この傾斜端面106による反射を介してコア103と光素子112とを接続する光結合装置120を作製する工程を示すフロー図である。   FIG. 8 is for explaining the problem pointed out in Patent Document 1 in the case where the end face of the optical waveguide is a 45-degree inclined end face (reflecting face). FIG. 10 is a flowchart showing a process of forming an optical coupling device 120 that forms an end face 106 inclined at 45 degrees at an end portion by dicing and connects a core 103 and an optical element 112 through reflection by the inclined end face 106.

まず、図8(a)に示すように、基板81の上に光導波路101の下部クラッド102、コア103および上部クラッド104の各層を形成する。例えば、屈折率の異なる公知の高分子材料をスピンコートなどにより塗布し、前処理加熱、紫外線照射および後処理加熱によって硬化させることにより、各層を順次積層して形成する。この際、コア材料はコア103の形状にパターニングする。   First, as shown in FIG. 8A, the layers of the lower clad 102, the core 103, and the upper clad 104 of the optical waveguide 101 are formed on the substrate 81. For example, a known polymer material having a different refractive index is applied by spin coating or the like, and cured by pretreatment heating, ultraviolet irradiation, and posttreatment heating, whereby the respective layers are sequentially laminated. At this time, the core material is patterned into the shape of the core 103.

また、コア103の形成後、下部クラッド102の上部表面の、コア103が形成されていない位置に金属材料を蒸着するなどの方法で、光導波路側マーカ105を形成する。光導波路側マーカ105は、光導波路101に傾斜端面106を形成したり、光導波路101と光素子112とを位置合わせしたりする際の基準として用いられる。   Further, after the core 103 is formed, the optical waveguide side marker 105 is formed by a method such as vapor deposition of a metal material on the upper surface of the lower clad 102 where the core 103 is not formed. The optical waveguide side marker 105 is used as a reference when the inclined end face 106 is formed on the optical waveguide 101 or when the optical waveguide 101 and the optical element 112 are aligned.

次に、図8(b)に示すように、V字型ブレードでダイサー加工することにより斜め45度加工を施し、光導波路101に傾斜端面106を形成し、さらに、もう一方の端部も所望の形状に切断する。この際、傾斜端面106を形成する位置は、光導波路側マーカ105を基準にして光導波路側マーカ105から所定の距離107だけ離れた位置に定める。しかしながら、ダイシングする中心の位置を光導波路側マーカ105を基準にして正しく決めたとしても、例えば図8(b)に点線で示すように、ブレードによる切り込み量が大きくなりすぎると、結果として傾斜端面108が形成される位置は、図8(b)の左方向にずれ、光導波路側マーカ105に対して誤差109をもつことになる。実際には、ブレードによる切り込み量を厳密に制御することは難しく、形成される傾斜端面106の位置は、切り込み量のばらつきを反映して、±10μmをこえる誤差109を生じる可能性がある。   Next, as shown in FIG. 8 (b), a 45 ° oblique process is performed by dicing with a V-shaped blade to form an inclined end face 106 on the optical waveguide 101, and the other end is also desired. Cut into shapes. At this time, the position where the inclined end face 106 is formed is determined at a position separated by a predetermined distance 107 from the optical waveguide side marker 105 with reference to the optical waveguide side marker 105. However, even if the center position of the dicing is correctly determined with reference to the optical waveguide side marker 105, as shown by a dotted line in FIG. The position where 108 is formed shifts to the left in FIG. 8B and has an error 109 with respect to the optical waveguide side marker 105. Actually, it is difficult to strictly control the cutting amount by the blade, and the position of the formed inclined end face 106 may cause an error 109 exceeding ± 10 μm, reflecting the variation of the cutting amount.

次に、図8(c)に示すように、光素子112が実装された実装基板111に光導波路101を位置固定し、光結合装置120を形成する。この際、例えば、CCD(Charge Coupled Device)カメラと顕微鏡を用いた画像観察などで、光導波路側マーカ105と、光素子112またはその位置決めの基準として用いられた実装基板側マーカ113とを同時に観察しながら、光導波路101の搭載位置を位置決めする。   Next, as shown in FIG. 8C, the position of the optical waveguide 101 is fixed to the mounting substrate 111 on which the optical element 112 is mounted, and the optical coupling device 120 is formed. At this time, for example, in the image observation using a CCD (Charge Coupled Device) camera and a microscope, the optical waveguide side marker 105 and the mounting substrate side marker 113 used as a reference for positioning the optical element 112 are simultaneously observed. Meanwhile, the mounting position of the optical waveguide 101 is positioned.

上記の方法によれば、仮に、光導波路側マーカ105と、光素子112またはその位置決めの基準として用いられた実装基板側マーカ113とが誤差なしに位置決めされたとしても、傾斜端面106の位置が光導波路側マーカ105に対して誤差109をもっているため、傾斜端面106と光素子112との間には、誤差109の大きさの位置合わせ誤差が生ずることになる。   According to the above method, even if the optical waveguide side marker 105 and the optical element 112 or the mounting substrate side marker 113 used as a positioning reference thereof are positioned without error, the position of the inclined end surface 106 is Since there is an error 109 with respect to the optical waveguide side marker 105, an alignment error having the magnitude of the error 109 is generated between the inclined end face 106 and the optical element 112.

例えば、コア3の断面が40μm×40μmの正方形である場合、光素子112との位置合わせ誤差が±10μmをこえると、1dB以上の光結合損失が生ずることになり、これは許容できない大きさである。   For example, when the cross section of the core 3 is a square of 40 μm × 40 μm, if the alignment error with the optical element 112 exceeds ± 10 μm, an optical coupling loss of 1 dB or more occurs, which is unacceptable. is there.

図8では、傾斜端面106をダイシングによって形成する例を説明したが、マーカなどの基準点に基づいて位置決めしてコアの端部を露出させる加工を行う場合、形成される端部の位置は基準点に対し多かれ少なかれ加工誤差を有するので、その後もこの基準点に基づいて光導波路と他の光部品との位置合わせを行うと、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせに上記加工誤差が必然的に含まれる。   Although the example in which the inclined end face 106 is formed by dicing has been described with reference to FIG. 8, the position of the end to be formed is determined based on the position when the end of the core is exposed by positioning based on a reference point such as a marker. Since there is more or less processing error with respect to the point, if the optical waveguide and other optical components are aligned based on this reference point after that, the alignment between the optical waveguide core end and the other optical components is performed as described above. Processing error is necessarily included.

特許文献1では、半導体レーザが端面発光型であって、光導波路の端面が光導波路コアに対し垂直である場合に対し、その解決法が提案されているが、適用できる対象は限定される。例えば、光素子が面型の受発光素子で、光導波路の端面が傾斜反射面である場合には適用できない。   Patent Document 1 proposes a solution for the case where the semiconductor laser is an edge-emitting type and the end face of the optical waveguide is perpendicular to the optical waveguide core, but applicable objects are limited. For example, the present invention is not applicable when the optical element is a planar light emitting / receiving element and the end face of the optical waveguide is an inclined reflecting surface.

また、マーカを用いずに位置合わせをする方法としては、光素子を実際に動作させ、信号光の強さを実際に観察しながら光素子の位置を調節し、光結合が最適なところで位置固定するというアクティブアライメントを行うこともあるが、この方法では、光素子を駆動させなければならず、位置合わせにも非常に手間がかかり、量産には向いていないという問題がある。   In addition, as a method of alignment without using a marker, the optical element is actually operated, the position of the optical element is adjusted while actually observing the intensity of the signal light, and the position is fixed where the optical coupling is optimal. However, in this method, there is a problem that the optical element has to be driven, the alignment is very troublesome, and is not suitable for mass production.

特開平11−337779号公報(第2−5頁、図1−4)Japanese Patent Laid-Open No. 11-337779 (page 2-5, FIGS. 1-4)

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、光導波路のコア端部を露出させる加工を行う際に生ずる加工誤差が、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせ誤差に含まれない光結合装置、及びそのような光結合装置の作製を可能にする光導波路を提供することにある。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a processing error that occurs when performing processing to expose the core end portion of the optical waveguide. An object of the present invention is to provide an optical coupling device that is not included in an alignment error with a component, and an optical waveguide that makes it possible to manufacture such an optical coupling device.

即ち、本発明は、コアとクラッドとの接合体からなる光導波路において、前記コアの端部を露出させる加工によって形成された端面を有し、この加工端面のエッジ部が位置合わせに用いられていることを特徴とする、光導波路に係わり、また、前記光導波路と、他の光部品とが光結合してなり、前記コアの前記端部と前記他の光部品とが位置合わせされている、光結合装置に係わるものである。   That is, the present invention has an end face formed by processing that exposes an end portion of the core in an optical waveguide composed of a joined body of a core and a clad, and the edge portion of the processed end surface is used for alignment. The optical waveguide is optically coupled with another optical component, and the end of the core and the other optical component are aligned with each other. This relates to the optical coupling device.

本発明によれば、光導波路は、コアとクラッドとの接合体からなり、前記コアの端部を露出させる加工によって形成された加工端面を有し、光結合装置は、前記光導波路と他の光部品とが光結合してなるが、この際、前記加工端面のエッジ部に基づいて、前記コアの前記端部と前記他の光部品との位置合わせが行われている。このため、前記加工端面を形成する際に生じた前記加工端面の位置誤差が、前記位置合わせの誤差に入り込む余地がない。   According to the present invention, the optical waveguide is formed of a joined body of a core and a clad, and has a processed end surface formed by processing that exposes an end portion of the core. The optical component is optically coupled. At this time, the end portion of the core and the other optical component are aligned based on the edge portion of the processed end face. For this reason, there is no room for the position error of the processed end face generated when forming the processed end face to enter the alignment error.

本発明の光導波路において、前記加工端面の前記エッジ部を基準にしてマーカが設けられ、このマーカによって前記コアの前記端部と光部品との位置合わせが行われるのがよい。これは、前記加工端面の位置を検知する箇所として前記エッジ部を用いると、検出が容易で、その結果、正確さや能率が向上するからである。また、前記エッジ部を基準にして新しく前記マーカを形成すれば、前記加工端面を形成する際に生じた前記加工端面の位置誤差を含まずに、前記コアの前記端部に位置合わせできるマーカとして、前記マーカを用いることができる。   In the optical waveguide of the present invention, it is preferable that a marker is provided with reference to the edge portion of the processed end surface, and the end portion of the core and the optical component are aligned by the marker. This is because when the edge portion is used as a location for detecting the position of the processing end face, detection is easy, and as a result, accuracy and efficiency are improved. In addition, if the marker is newly formed on the basis of the edge portion, the marker can be aligned with the end portion of the core without including the position error of the processing end surface generated when forming the processing end surface. The marker can be used.

また、前記加工端面が切断によって形成されているのがよい。光導波路を形成する方法としてスタンピング成形による方法などもあるが、基板上に形成された光導波路層から切断によって切り分ける方法が簡易でよい。しかも、この方法は、加工誤差が生じやすい方法であるので、本発明を最も有効に適用することができる。   Further, the processed end face is preferably formed by cutting. As a method for forming the optical waveguide, there is a method by stamping molding or the like, but a method of cutting the optical waveguide layer formed on the substrate by cutting may be simple. Moreover, since this method is a method in which processing errors are likely to occur, the present invention can be applied most effectively.

また、前記光導波路の前記加工端面が傾斜した反射面をなしているのがよい。これにより、この傾斜端面による反射を介して、光を前記光導波路の外部又は内部へ導き、前記他の光部品との光結合を形成することができる。傾斜端面による反射を利用すれば、コンパクトに光路を方向変換しながら、他の光部品との光結合を形成することができる。また、実装基板に凹部を設け、この凹部内に前記他の光部品である発光又は受光素子を固定すれば、面発光型の発光素子や面受光型の受光素子を用いることができる利点がある。例えば、VCSEL(Vertical Cavity Surface-Emitting Laser;垂直共振器型面発光レーザ)や面発光型のLEDは、製造が容易で、安価で、市販されている品種も豊富であり、高周波特性に優れていて変調しやすく、実装も容易である。また、フォトダイオードなどの受光素子も、面受光型の素子が主であり、実装も容易である。   Moreover, it is preferable that the processed end face of the optical waveguide forms an inclined reflecting surface. Accordingly, light can be guided to the outside or the inside of the optical waveguide through the reflection by the inclined end face, and optical coupling with the other optical component can be formed. If the reflection by the inclined end face is used, it is possible to form optical coupling with other optical components while changing the direction of the optical path in a compact manner. Further, if a concave portion is provided in the mounting substrate and the light emitting or light receiving element which is the other optical component is fixed in the concave portion, there is an advantage that a surface light emitting type light emitting element or a surface light receiving type light receiving element can be used. . For example, VCSELs (Vertical Cavity Surface-Emitting Lasers) and surface-emitting LEDs are easy to manufacture, inexpensive, abundant on the market, and have excellent high-frequency characteristics. It is easy to modulate and easy to implement. In addition, light receiving elements such as photodiodes are mainly surface light receiving elements, and are easy to mount.

また、前記加工端面がダイシングによって形成された傾斜端面であり、その切削面の上端を前記基準として上部に位置合わせ用の前記マーカが設けられているのがよい。この際、前記位置合わせマーカが表面に形成された凹部または凸部であるのがよく、前記凹部または凸部をダイシングで形成するのがよい。このようにすれば、ダイシング用の装置に装着したまま、前記加工端面の形成から前記位置合わせマーカの形成まで一貫して行うことができ、正確に、能率よく一連の加工を行うことができる。この際、この凹部が前記コアに達すると光の伝播に支障が生じるから、前記凹部の深さは、上部クラッドの厚さ未満であるのがよい。   Further, it is preferable that the processing end surface is an inclined end surface formed by dicing, and the marker for alignment is provided on the upper side with the upper end of the cutting surface as the reference. At this time, the alignment marker is preferably a concave or convex portion formed on the surface, and the concave or convex portion is preferably formed by dicing. If it does in this way, it can carry out consistently from formation of the processing end face to formation of the position alignment marker with attaching to a device for dicing, and a series of processing can be performed accurately and efficiently. At this time, if the recess reaches the core, the propagation of light is hindered. Therefore, the depth of the recess is preferably less than the thickness of the upper clad.

また、前記接合体の少なくとも一部が高分子材料からなるのがよい。光導波路の材料として有機材料系の高分子材料を用いることで、光導波路の作製工程を簡易化できる。例えば、UV(紫外線)硬化型有機材料を用いると、スピンコート等による成膜や、フォトリソグラフィによるコア加工が可能であり、安価な製造設備と低い製造コストで光導波路を作製することができる。   In addition, at least a part of the joined body is preferably made of a polymer material. By using an organic polymer material as the material of the optical waveguide, the manufacturing process of the optical waveguide can be simplified. For example, when a UV (ultraviolet) curable organic material is used, film formation by spin coating or the like and core processing by photolithography are possible, and an optical waveguide can be manufactured with inexpensive manufacturing equipment and low manufacturing cost.

なお、前記他の光部品は、発光素子、受光素子、光ファイバ、又は平面光導波路であるのがよい。   The other optical component may be a light emitting element, a light receiving element, an optical fiber, or a planar optical waveguide.

また、前記凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合されて形成されている光導波路であって、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、前記光導波路支持体が前記他の光部品の支持体と凹凸嵌合されることによって、前記他の光部品との位置合わせが行われるように構成されているのがよい。   The concave portion or the convex portion and the convex portion or the concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion or the concave portion are formed by concave and convex fitting, and the concave and convex fitting position is used as a reference. The optical waveguide support may be configured to be aligned with the other optical component by fitting the optical waveguide support to the support of the other optical component.

また、本発明の光結合装置において、請求項6に記載した凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合され、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、前記光導波路支持体と前記他の光部品の支持体とが凹凸嵌合されることによって、前記光導波路と前記他の光部品との位置合わせが行われているのがよい。   Further, in the optical coupling device of the present invention, the concave portion or the convex portion described in claim 6 and the convex portion or the concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion or the concave portion are fitted into the concave and convex portions. The optical waveguide and the other optical component are aligned with each other by fitting the optical waveguide support and the support of the other optical component at the position relative to the position. It is good.

上記の凹凸嵌合による位置合わせは、マーカを画像観察しながら位置合わせする方法に比べて、はるかに簡易で、生産性が高く、結果的に光結合装置を低コスト化することができる。これらに関しては、実施の形態1で具体的に説明する。   The alignment by the concave / convex fitting is much simpler and more productive than the method of aligning the marker while observing the image, and as a result, the cost of the optical coupling device can be reduced. These will be specifically described in the first embodiment.

次に、本発明の好ましい実施の形態を図面参照下に具体的かつ詳細に説明する。   Next, a preferred embodiment of the present invention will be described specifically and in detail with reference to the drawings.

実施の形態1
実施の形態1では、位置合わせマーカとして表面に形成された凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合されて形成された、請求項9に記載した光導波路を用い、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、光導波路支持体が他の光部品の支持体と凹凸嵌合されることによって、光導波路と他の光部品との位置合わせが行われている、請求項12に記載した光結合装置の例およびその作製工程を、図1〜5を用いて説明する。
Embodiment 1
In the first embodiment, a concave portion or a convex portion formed on the surface as an alignment marker and a convex portion or a concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion are formed to be unevenly fitted. The optical waveguide described in Item 9 is used, and the optical waveguide support is unevenly fitted to the support of another optical component at a position based on the concave / convex fitting position, whereby the optical waveguide and the other optical component are fitted. An example of an optical coupling device according to claim 12 and a manufacturing process thereof will be described with reference to FIGS.

図1は、光導波路1の平面図(a)と断面図(b)とである。なお、断面図(b)は、平面図(a)の1A−1A線の位置における断面図である。光導波路1は、下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の接合体からなり、導光路であるコア3が、下部クラッド2と上部クラッド4との間に挟持されている。図1には、コア3が4本並置されている例を示したが、これに限るものではなく、光導波路1に含まれるコア3の本数は単一でも複数でもよい。   FIG. 1 is a plan view (a) and a sectional view (b) of the optical waveguide 1. In addition, sectional drawing (b) is sectional drawing in the position of the 1A-1A line | wire of top view (a). The optical waveguide 1 is composed of a joined body of a lower clad 2, a core 3 and an upper clad 4, and the core 3 as a light guide is sandwiched between the lower clad 2 and the upper clad 4. Although FIG. 1 shows an example in which four cores 3 are juxtaposed, the present invention is not limited to this, and the number of cores 3 included in the optical waveguide 1 may be single or plural.

光導波路1の下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の各層は、例えば、屈折率の異なる公知の高分子材料を順次積層し、コア材料をパターニングすることによって形成される。コア3の屈折率はクラッド2と4の屈折率よりも大きく、比屈折率差Δnは、例えば0.8%である。また、コア3の断面は、例えば40μm×40μmの正方形である。   Each layer of the lower clad 2, the core 3 and the upper clad 4 of the optical waveguide 1 is formed, for example, by sequentially laminating known polymer materials having different refractive indexes and patterning the core material. The refractive index of the core 3 is larger than the refractive indexes of the clads 2 and 4, and the relative refractive index difference Δn is, for example, 0.8%. The cross section of the core 3 is, for example, a square of 40 μm × 40 μm.

光導波路1の端面6は、光導波路1の主面に対しておおよそ45度に傾斜した反射面に形成されており、この傾斜端面6による反射を介して、光を光導波路コア3の内部又は外部へ導き、後述するようにして対向配置された光素子26との光結合が形成される。   The end surface 6 of the optical waveguide 1 is formed as a reflection surface inclined at approximately 45 degrees with respect to the main surface of the optical waveguide 1, and light is reflected inside the optical waveguide core 3 or reflected through the reflection by the inclined end surface 6. Optical coupling is formed with the optical element 26 that is guided to the outside and disposed oppositely as described later.

光導波路1の上部には、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に、前記位置合わせマーカである前記凹部としてV字溝8が形成されており、次に述べる光導波路支持体11との凹凸嵌合による位置合わせに用いられる。   In the upper part of the optical waveguide 1, a V-shaped groove 8 is formed as the concave portion serving as the alignment marker at a position away from the upper end 7 of the inclined end face 6 by a predetermined distance 9, and the optical waveguide support described below is formed. It is used for alignment by concavo-convex fitting with the body 11.

図2は、光導波路1の上部に前記位置合わせマーカである前記凹部として形成されたV字溝8と、これに対応して光導波路支持体11に設けられた凸部13との凹凸嵌合によって形成された光導波路の平面図(a)と断面図(b)とである。なお、断面図(b)は、平面図(a)の2A−2A線の位置における断面図である。また、本明細書では、このような光導波路層と光導波路支持体との複合体も光導波路と呼ぶものとする。   FIG. 2 shows an uneven fitting between a V-shaped groove 8 formed as the concave portion, which is the alignment marker, on the upper portion of the optical waveguide 1 and a convex portion 13 provided on the optical waveguide support 11 corresponding thereto. FIG. 2 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) of an optical waveguide formed by the above. In addition, sectional drawing (b) is sectional drawing in the position of the 2A-2A line | wire of a top view (a). In this specification, such a composite of an optical waveguide layer and an optical waveguide support is also called an optical waveguide.

光導波路支持体11は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、一方の主面側に、光導波路1に形成されたV字型の溝8と凹凸嵌合する山型の凸部12と、実装基板21に設けられたガイド孔22と凹凸嵌合するガイドピン13とが高精度に形成されており、ガイドピン13の位置は、凸部12から所定の距離14だけ離れた位置に正確に定められている。   The optical waveguide support 11 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, and on one main surface side, a mountain-shaped convex portion 12 that fits with the V-shaped groove 8 formed in the optical waveguide 1, The guide hole 22 provided in the mounting substrate 21 and the guide pin 13 for engaging with the concave and convex portions are formed with high precision, and the position of the guide pin 13 is accurately at a position away from the convex portion 12 by a predetermined distance 14. It has been established.

光導波路支持体11の材料としては、シリコン基板以外のガラス基板やセラミック基板でもよいが、半導体加工技術で加工できることから、半導体基板とりわけシリコン基板が好ましい。   The material of the optical waveguide support 11 may be a glass substrate or a ceramic substrate other than a silicon substrate, but a semiconductor substrate, particularly a silicon substrate, is preferable because it can be processed by a semiconductor processing technique.

光導波路1と光導波路支持体11とは、V字型の溝8と山型の凸部12との凹凸嵌合によって正確に位置決めされた後、例えば接着などにより一体化される。このとき用いる接着剤は、熱硬化性のものでも、紫外線硬化性のものでもよい。   The optical waveguide 1 and the optical waveguide support 11 are accurately positioned by the concave-convex fitting between the V-shaped groove 8 and the mountain-shaped convex portion 12, and then integrated by, for example, bonding. The adhesive used at this time may be either thermosetting or ultraviolet curable.

図3は、本実施の形態に基づく光結合装置の平面図(a)と断面図(b)とである。なお、断面図(b)は、平面図(a)の3A−3A線の位置における断面図である。前記他の光部品の前記支持体である実装基板21には、前記他の光部品として光素子アレイ26が実装されている。   FIG. 3 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) of the optical coupling device according to the present embodiment. In addition, sectional drawing (b) is sectional drawing in the position of the 3A-3A line | wire of top view (a). An optical element array 26 is mounted as the other optical component on the mounting substrate 21 which is the support for the other optical component.

実装基板21は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、光導波路支持体11のガイドピン13と凹凸嵌合するガイド孔22、光導波路支持面23、光素子アレイ26を固定する凹部24、そして実装基板側マーカ25などが高精度に形成されており、光素子アレイ26は、実装基板側マーカ25を基準として、ガイド孔22から所定の距離28だけ離れた位置に正確に位置決めして実装されている。   The mounting substrate 21 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, and has guide holes 22 that fit with the guide pins 13 of the optical waveguide support 11, an optical waveguide support surface 23, a recess 24 that fixes the optical element array 26, and The mounting board side marker 25 and the like are formed with high precision, and the optical element array 26 is mounted with being accurately positioned at a position away from the guide hole 22 by a predetermined distance 28 with the mounting board side marker 25 as a reference. ing.

一方、光導波路支持体11に一体化された光導波路1では、ガイドピン13から所定の距離14だけ離れた位置に凸部12があり、さらに凸部12から所定の距離9だけ離れた位置に傾斜端面6の上端7がある。   On the other hand, in the optical waveguide 1 integrated with the optical waveguide support 11, there is a convex portion 12 at a position away from the guide pin 13 by a predetermined distance 14 and further at a position away from the convex portion 12 by a predetermined distance 9. There is an upper end 7 of the inclined end face 6.

従って、ガイドピン13とガイド孔22との凹凸嵌合によって、光導波路1と実装基板21とが互いに位置固定されると、図3(b)に示すように、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子26との水平方向における位置が、自動的に位置合わせされる。   Therefore, when the optical waveguide 1 and the mounting substrate 21 are fixed to each other by the concave / convex fitting between the guide pin 13 and the guide hole 22, as shown in FIG. 3B, the inclined end face 6 of the optical waveguide core 3. And the optical element 26 in the horizontal direction are automatically aligned.

また、光導波路1は、その実装基板21の側の主面が光導波路支持面23に接触した状態で保持されているので、光素子固定用凹部24を適切な深さに形成しておけば、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子26との高さ方向における距離も、適切な大きさに自動的に定められる。   Further, since the optical waveguide 1 is held in a state where the main surface on the mounting substrate 21 side is in contact with the optical waveguide support surface 23, the optical element fixing recess 24 should be formed to an appropriate depth. The distance in the height direction between the inclined end face 6 of the optical waveguide core 3 and the optical element 26 is also automatically set to an appropriate size.

このようにして光結合が形成された状態では、光素子26が発光素子であれば、発光素子の発光部27から傾斜端面6に入射した光が、傾斜反射面6で反射され、コア3の内部へ導かれる。また、光素子26が受光素子である場合には、コア3の内部を伝播してきた光が、傾斜端面6で反射され、受光素子の受光部27へと導かれる。傾斜端面6による反射を用いることで、上面に発光部をもつ面発光型の発光素子や、上面に受光部をもつ面受光型の受光素子を利用できる利点がある。例えば、VCSEL(発光領域の大きさは、例えば10μm)や面発光型のLEDは、製造が容易で、安価で、市販されている品種も豊富であり、高周波特性に優れ変調しやすく、実装も容易である。また、フォトダイオードなどの受光素子も、面受光型の素子が主であり、実装も容易である。   In a state where the optical coupling is formed in this way, if the optical element 26 is a light emitting element, the light incident on the inclined end surface 6 from the light emitting portion 27 of the light emitting element is reflected by the inclined reflecting surface 6 and Guided inside. When the optical element 26 is a light receiving element, the light propagating through the core 3 is reflected by the inclined end surface 6 and guided to the light receiving portion 27 of the light receiving element. By using reflection by the inclined end face 6, there is an advantage that a surface light emitting type light emitting element having a light emitting part on the upper surface and a surface light receiving type light receiving element having a light receiving part on the upper surface can be used. For example, VCSEL (light emitting area size is 10 μm, for example) and surface-emitting LEDs are easy to manufacture, inexpensive, abundant in a variety of commercially available products, excellent in high frequency characteristics, easy to modulate, and easy to mount Easy. In addition, light receiving elements such as photodiodes are mainly surface light receiving elements, and are easy to mount.

なお、図3に示した光結合装置は、ガイドピン13の抜き差しによって、光導波路側部分と実装基板側部分とを、必要に応じて分離したり結合したりすることのできる、着脱可能な、いわゆるコネクタ形状の光結合装置とすることができる。このような場合には、不図示の外蓋との間にスプリングや板バネなどによる公知の押圧手段を設けたり、不図示の外縁部に鍵形の爪などによる公知のかみ合わせを設けたりすることで、光結合装置全体を一体として保持できる構造とするのがよい。   Note that the optical coupling device shown in FIG. 3 is detachable so that the optical waveguide side portion and the mounting substrate side portion can be separated or combined as necessary by inserting and removing the guide pins 13. A so-called connector-shaped optical coupling device can be obtained. In such a case, a known pressing means such as a spring or a leaf spring is provided between the outer lid (not shown) or a known engagement such as a key-shaped claw is provided on the outer edge (not shown). Therefore, it is preferable to have a structure that can hold the entire optical coupling device as a unit.

図4と図5は、光導波路1および光結合装置を作製する工程を示すフロー図である。なお、この図は、図1の断面図(b)と同じ位置における断面図である。   4 and 5 are flowcharts showing the steps of manufacturing the optical waveguide 1 and the optical coupling device. In addition, this figure is sectional drawing in the same position as sectional drawing (b) of FIG.

まず、図4(a)に示すように、シリコンなどの基板81の上に光導波路1の下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の各層を形成する。例えば、屈折率の異なる公知の高分子材料をスピンコートなどにより塗布し、前処理加熱、紫外線照射および後処理加熱によって硬化させることにより、各層を順次積層して形成する。この際、コア材料はコア3の形状にパターニングする。   First, as shown in FIG. 4A, the lower clad 2, the core 3 and the upper clad 4 of the optical waveguide 1 are formed on a substrate 81 such as silicon. For example, a known polymer material having a different refractive index is applied by spin coating or the like, and cured by pretreatment heating, ultraviolet irradiation, and posttreatment heating, whereby the respective layers are sequentially laminated. At this time, the core material is patterned into the shape of the core 3.

また、端部形成用マーカ5は、コア3の形成後、下部クラッド2の上部表面の、コア3が形成されていない領域に金属材料を蒸着するなどの方法で形成する。   Further, the end portion formation marker 5 is formed by a method such as vapor deposition of a metal material in a region where the core 3 is not formed on the upper surface of the lower clad 2 after the core 3 is formed.

次に、図4(b)に示すように、V字型ブレードでダイサー加工することにより斜め45度加工を施し、光導波路1に傾斜端面(反射面)6を形成する。この際、傾斜端面6を形成する位置は、端部形成用マーカ5を基準にして端部形成用マーカ5から所定の距離だけ離れた位置とする。先述したように、実際に形成される傾斜端面6の位置は、ブレードによる切り込み量のばらつきを反映して、端部形成用マーカ5に対して±10μmをこえる誤差を生じる可能性がある。   Next, as shown in FIG. 4B, an inclined end face (reflective surface) 6 is formed on the optical waveguide 1 by performing a 45 ° oblique process by performing a dicer process with a V-shaped blade. At this time, a position where the inclined end face 6 is formed is a position away from the end forming marker 5 by a predetermined distance with reference to the end forming marker 5. As described above, the position of the inclined end surface 6 that is actually formed may cause an error exceeding ± 10 μm with respect to the end forming marker 5 reflecting the variation in the cutting amount by the blade.

さらに、もう一方の端面を所望の形状に切断する。図4(b)には通常のブレードで垂直に切断する例を示したが、もう一方の端面も傾斜反射面に形成してもよい。   Further, the other end face is cut into a desired shape. FIG. 4B shows an example in which the blade is cut perpendicularly with a normal blade, but the other end face may be formed on an inclined reflecting surface.

次に、図4(c)に示すように、V字型ブレードでダイサー加工することにより、上部クラッド4の上部に前記凹部としてV字型の溝8を形成する。V字型の溝8を設ける位置は、前記切削面の前記エッジ部である、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置とし、ダイサーのモニタで上端7を検出しながら切断することで、±数μmの精度で定めることができる。   Next, as shown in FIG. 4C, a V-shaped groove 8 is formed as the concave portion on the upper clad 4 by dicing with a V-shaped blade. The position where the V-shaped groove 8 is provided is a position separated by a predetermined distance 9 from the upper end 7 of the inclined end surface 6, which is the edge portion of the cutting surface, and is cut while detecting the upper end 7 with a dicer monitor. Thus, it can be determined with an accuracy of ± several μm.

次に、図4(d)に示すように、光導波路1を基板81から剥離する。   Next, as shown in FIG. 4D, the optical waveguide 1 is peeled from the substrate 81.

次に、図5(e)から(f)に示すように、光導波路支持体11に光導波路1を凹凸嵌合により位置固定する。   Next, as shown in FIGS. 5E to 5F, the position of the optical waveguide 1 is fixed to the optical waveguide support 11 by concave-convex fitting.

光導波路支持体11は、作製工程は図示省略するが、シリコン基板などからエッチングなどによって形成する。一方の主面側に、光導波路1に形成されたV字型の溝8と凹凸嵌合する山型の凸部12と、実装基板21に設けられたガイド孔22と凹凸嵌合するガイドピン13とを高精度に形成し、また、ガイドピン13の位置は、凸部12から所定の距離14だけ離れた位置に正確に定める。   The optical waveguide support 11 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, although a manufacturing process is not illustrated. On one main surface side, a V-shaped groove 8 formed in the optical waveguide 1 and a mountain-shaped convex portion 12 that fits in a concave-convex manner, and a guide pin that fits in a guide hole 22 provided in the mounting substrate 21 13 is formed with high accuracy, and the position of the guide pin 13 is accurately determined at a position away from the convex portion 12 by a predetermined distance 14.

光導波路支持体11の材料としては、シリコン基板以外のガラス基板やセラミック基板でもよいが、半導体加工技術で加工できることから、半導体基板とりわけシリコン基板が好ましい。   The material of the optical waveguide support 11 may be a glass substrate or a ceramic substrate other than a silicon substrate, but a semiconductor substrate, particularly a silicon substrate, is preferable because it can be processed by a semiconductor processing technique.

光導波路1と光導波路支持体11とは、V字型の溝8と山型の凸部12との凹凸嵌合によって正確に位置決めした後、例えば接着などにより一体化する。このとき用いる接着剤は、熱硬化性のものでも、紫外線硬化性のものでもよい。   The optical waveguide 1 and the optical waveguide support 11 are accurately positioned by the concave-convex fitting between the V-shaped groove 8 and the mountain-shaped convex portion 12, and then integrated by, for example, bonding. The adhesive used at this time may be either thermosetting or ultraviolet curable.

次に、図5(f)から(g)に示すように、光導波路支持体11のガイドピン13と実装基板21のガイド孔22との凹凸嵌合により、光導波路1を実装基板21に位置固定する。   Next, as shown in FIGS. 5 (f) to 5 (g), the optical waveguide 1 is positioned on the mounting substrate 21 by concave and convex fitting between the guide pins 13 of the optical waveguide support 11 and the guide holes 22 of the mounting substrate 21. Fix it.

実装基板21は、図示省略したが、シリコン基板などの半導体基板のエッチングなどによって形成し、光導波路支持体11のガイドピン13と凹凸嵌合するガイド孔22、光導波路支持面23、光素子アレイ26を固定する凹部24、そして実装基板側マーカ25などを高精度に形成する。光素子アレイ26は、実装基板側マーカ25を基準として、ガイド孔22から所定の距離28だけ離れた位置に正確に位置決めして実装しておく。   Although not shown in the drawings, the mounting substrate 21 is formed by etching a semiconductor substrate such as a silicon substrate, and guide holes 22 that are unevenly engaged with the guide pins 13 of the optical waveguide support 11, an optical waveguide support surface 23, and an optical element array. The concave portion 24 for fixing 26, the mounting substrate side marker 25, and the like are formed with high accuracy. The optical element array 26 is accurately positioned and mounted at a position away from the guide hole 22 by a predetermined distance 28 with the mounting board side marker 25 as a reference.

実装基板21の材料としては、シリコン基板以外のガラス基板やセラミック基板でもよいが、半導体加工技術で加工できることから、半導体基板とりわけシリコン基板が好ましい。   The material of the mounting substrate 21 may be a glass substrate or a ceramic substrate other than a silicon substrate, but a semiconductor substrate, particularly a silicon substrate, is preferable because it can be processed by a semiconductor processing technique.

以上に説明してきたように、本実施の形態によれば、45度に傾斜した端面(反射面)をダイサーで切削した後、切削面の上端を基準として位置合わせ用のマーカを形成するので、45度傾斜端面を形成した際に生じる45度傾斜端面の位置誤差に無関係に、上記位置合わせ用のマーカを用いて傾斜端面との正確な位置合わせを行うことができる。   As described above, according to the present embodiment, after the end surface (reflecting surface) inclined at 45 degrees is cut by the dicer, the alignment marker is formed with reference to the upper end of the cutting surface. Regardless of the position error of the 45-degree inclined end face that occurs when the 45-degree inclined end face is formed, accurate alignment with the inclined end face can be performed using the alignment marker.

また、45度傾斜端面をV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成し、位置合わせマーカも同様にV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成するので、光導波路をダイシング用の装置に装着したまま、加工端面の形成から位置合わせマーカの形成まで一貫して行うことができ、正確に、能率よく一連の加工を行うことができる。   In addition, the 45 ° inclined end surface is formed by dicing using a V-shaped dicing blade, and the alignment marker is also formed by dicing using a V-shaped dicing blade. Therefore, the optical waveguide is mounted on a dicing apparatus. As it is, it can be performed consistently from the formation of the machining end face to the formation of the alignment marker, and a series of machining can be performed accurately and efficiently.

また、端部に45度傾斜端面を形成するので、面型受発光素子を用いることができる。   Further, since the end face is inclined at 45 degrees, a surface light emitting / receiving element can be used.

また、凹凸嵌合により、光導波路と面型受発光素子との位置合わせを、正確に高精度で行うことができる。この方法は、マーカを画像観察しながら位置合わせする方法に比べて、はるかに簡易で、生産性が高く、結果的に光導波路装置を低コスト化することができる。   Further, the concave / convex fitting allows the optical waveguide and the surface light emitting / receiving element to be accurately aligned with high accuracy. This method is much simpler and more productive than the method of aligning the marker while observing the image, and as a result, the cost of the optical waveguide device can be reduced.

本発明は、特願2004−105833に記載されている光結合装置における、光導波路シートと光導波路シート用サブマウントの位置合わせに利用することができる。   The present invention can be used for alignment of an optical waveguide sheet and a submount for an optical waveguide sheet in an optical coupling device described in Japanese Patent Application No. 2004-105833.

実施の形態2
実施の形態2は、実施の形態1に基づく光導波路および光結合装置を基本としつつ、実施の形態1ではガイドピンとガイド孔との凹凸嵌合によって行っていた光導波路コア端部と光素子との位置合わせを、当接面の当接(突き当て)で行うようにした光導波路および光結合装置の例である。以下、実施の形態1からの変更点に重点をおいて説明する。
Embodiment 2
The second embodiment is based on the optical waveguide and the optical coupling device based on the first embodiment, but in the first embodiment, the optical waveguide core end portion and the optical element, which are formed by the concave and convex fitting between the guide pin and the guide hole, are as follows. This is an example of an optical waveguide and an optical coupling device in which the alignment is performed by contact (butting) of the contact surface. The following description will be given with emphasis on the changes from the first embodiment.

図6は、実施の形態2に基づく光結合装置の断面図である。なお、この断面図は、図1の断面図(b)に相当する位置での断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view of the optical coupling device according to the second embodiment. This cross-sectional view is a cross-sectional view at a position corresponding to the cross-sectional view (b) of FIG.

光導波路1は、実施の形態1と同じ、下部クラッド2、コア3および上部クラッド4の接合体からなる光導波路1である。   The optical waveguide 1 is the same optical waveguide 1 that is formed of a joined body of the lower clad 2, the core 3, and the upper clad 4 as in the first embodiment.

光導波路1の端面6は、光導波路1の主面に対しておおよそ45度に傾斜した反射面に形成されており、この傾斜端面6による反射を介して、光を光導波路コア3の内部又は外部へ導き、対向配置された光素子46との光結合が形成される。   The end surface 6 of the optical waveguide 1 is formed as a reflection surface inclined at approximately 45 degrees with respect to the main surface of the optical waveguide 1, and light is reflected inside the optical waveguide core 3 or reflected through the reflection by the inclined end surface 6. Optical coupling is formed with the optical element 46 that is guided to the outside and arranged oppositely.

光導波路1の上部には、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に、前記位置合わせマーカである前記凹部としてV字溝8が形成されており、次に述べる光導波路支持体31との凹凸嵌合による位置合わせに用いられる。   In the upper part of the optical waveguide 1, a V-shaped groove 8 is formed as the concave portion serving as the alignment marker at a position away from the upper end 7 of the inclined end face 6 by a predetermined distance 9, and the optical waveguide support described below is formed. It is used for alignment by uneven fitting with the body 31.

光導波路支持体31は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、光導波路1に形成されたV字溝8と凹凸嵌合する山型の凸部32が、一方の主面側に設けられ、また、実装基板41に設けられた当接面42と当接する当接面33が、側部前面に設けられている。凸部32と当接面33とは高精度に形成されており、当接面33の位置は、凸部32から所定の距離34だけ離れた位置に正確に定められている。   The optical waveguide support 31 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, and a mountain-shaped convex portion 32 that is concavo-convexly engaged with the V-shaped groove 8 formed in the optical waveguide 1 is provided on one main surface side. Further, a contact surface 33 that contacts the contact surface 42 provided on the mounting substrate 41 is provided on the front side surface. The convex portion 32 and the contact surface 33 are formed with high accuracy, and the position of the contact surface 33 is accurately determined at a position away from the convex portion 32 by a predetermined distance 34.

光導波路1と光導波路支持体31とは、V字型の溝8と山型の凸部32との凹凸嵌合によって正確に位置あわせされた後、例えば接着などにより一体化される。当接面33の位置は、凸部32から所定の距離34だけ離れた位置に正確に定められ、また、凸部32と凹凸嵌合するV字溝8の位置は、傾斜端面6の上端7から所定の距離9だけ離れた位置に正確に定められているから、この凹凸嵌合によって、当接面33の位置が、傾斜端面6の上端7から所定の距離だけ離れた位置に正確に定められることになる。   The optical waveguide 1 and the optical waveguide support 31 are accurately aligned by the concave-convex fitting of the V-shaped groove 8 and the mountain-shaped convex portion 32, and then integrated by, for example, bonding. The position of the abutment surface 33 is accurately determined at a position away from the convex portion 32 by a predetermined distance 34, and the position of the V-shaped groove 8 that is concavo-convexly engaged with the convex portion 32 is the upper end 7 of the inclined end surface 6. Therefore, the position of the contact surface 33 is accurately determined at a position away from the upper end 7 of the inclined end face 6 by a predetermined distance. Will be.

一方、実装基板41は、シリコン基板などからエッチングなどによって形成され、光導波路支持体31の当接面33と当接する当接面42、光導波路支持面43、光素子46を固定する凹部44、そして実装基板側マーカ45などが高精度に形成されている。光素子46は、実装基板側マーカ45を基準として、当接面42から所定の距離47だけ離れた位置に正確に位置決めして固定されている。   On the other hand, the mounting substrate 41 is formed by etching or the like from a silicon substrate or the like, and includes a contact surface 42 that contacts the contact surface 33 of the optical waveguide support 31, an optical waveguide support surface 43, and a recess 44 that fixes the optical element 46. The mounting board side marker 45 and the like are formed with high accuracy. The optical element 46 is accurately positioned and fixed at a position away from the contact surface 42 by a predetermined distance 47 with the mounting board side marker 45 as a reference.

光導波路支持体31と一体化された光導波路1を実装基板41に位置合わせして位置固定するには、まず、その主面が光導波路支持面43に接触するように光導波路1を実装基板41上に載置し、次に、光導波路1と光導波路支持面43とが接触した状態で、光導波路1と光導波路支持体31とを図の左右方向に移動させ、光導波路支持体31の当接面33と実装基板41の当接面42とを当接させる。   In order to align and fix the optical waveguide 1 integrated with the optical waveguide support 31 to the mounting substrate 41, first, the optical waveguide 1 is mounted on the mounting substrate so that the main surface thereof is in contact with the optical waveguide support surface 43. Next, the optical waveguide 1 and the optical waveguide support 31 are moved in the left-right direction in the drawing in a state where the optical waveguide 1 and the optical waveguide support surface 43 are in contact with each other. The contact surface 33 and the contact surface 42 of the mounting substrate 41 are brought into contact with each other.

傾斜端面6の上端7は、当接面33から正確に所定の距離だけ離れた位置にあり、また、光素子46は、当接面42から正確に所定の距離だけ離れた位置にある。従って、上記の当接によって光導波路1と実装基板21とが互いに位置固定されると、図6に示すように、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子46との水平方向における位置が、自動的に位置合わせされる。同様に、図6の奥行き方向の図示省略した当接面の当接によって、奥行き方向の位置合わせも行う。   The upper end 7 of the inclined end surface 6 is at a position accurately spaced from the contact surface 33 by a predetermined distance, and the optical element 46 is at a position accurately spaced from the contact surface 42 by a predetermined distance. Accordingly, when the optical waveguide 1 and the mounting substrate 21 are fixed to each other by the above-described contact, as shown in FIG. 6, the horizontal position between the inclined end surface 6 of the optical waveguide core 3 and the optical element 46 is Aligned automatically. Similarly, alignment in the depth direction is also performed by contact of a contact surface (not shown) in the depth direction of FIG.

また、光導波路1は、その実装基板41の側の主面が光導波路支持面43に接触した状態で保持されているので、光素子固定用凹部44を適切な深さに形成しておけば、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子46との高さ方向における距離も、適切な大きさに自動的に定められる。   Further, since the optical waveguide 1 is held in a state in which the main surface on the mounting substrate 41 side is in contact with the optical waveguide support surface 43, if the optical element fixing recess 44 is formed to an appropriate depth. The distance in the height direction between the inclined end face 6 of the optical waveguide core 3 and the optical element 46 is also automatically set to an appropriate size.

このようにして、三次元方向における完全な位置合わせを行い、光導波路コア3の傾斜端面6と光素子46との光結合を実現する。   In this way, perfect alignment in the three-dimensional direction is performed, and optical coupling between the inclined end face 6 of the optical waveguide core 3 and the optical element 46 is realized.

このとき、光素子46が発光素子であれば、発光素子の発光部から傾斜反射面6に入射した光が、傾斜反射面6で反射され、コア3の内部へ導かれる。また、光素子46が受光素子である場合には、コア3の内部を伝播してきた光が、傾斜反射面6で反射され、受光素子の受光部へと導かれる。このようにして、上面に発光部をもつ面発光型の発光素子や、上面に受光部をもつ面受光型の受光素子を用いることができる。   At this time, if the optical element 46 is a light emitting element, the light incident on the inclined reflecting surface 6 from the light emitting portion of the light emitting element is reflected by the inclined reflecting surface 6 and guided into the core 3. When the optical element 46 is a light receiving element, the light propagating through the core 3 is reflected by the inclined reflecting surface 6 and guided to the light receiving part of the light receiving element. Thus, a surface-emitting light-emitting element having a light-emitting portion on the upper surface or a surface-receiving light-receiving element having a light-receiving portion on the upper surface can be used.

本実施の形態に基づく光結合装置は、実施の形態1と比べ光導波路支持体と実装基板とをその外形に基づくセルフアレンジメントで位置合わせする際の方式が異なっているのみであるから、実施の形態1に述べたと同じ作用効果を期待できるのは言うまでもない。   The optical coupling device according to the present embodiment is different from the first embodiment only in the method for aligning the optical waveguide support and the mounting substrate by self-arrangement based on the outer shape. Needless to say, the same effect as described in the first embodiment can be expected.

すなわち、本実施の形態によれば、45度に傾斜した端面(反射面)をダイサーで切削した後、切削面の上端を基準として位置合わせ用のマーカを形成するので、45度傾斜端面を形成した際に生じる45度傾斜端面の位置誤差に無関係に、上記位置合わせ用のマーカを用いて傾斜端面との正確な位置合わせを行うことができる。   That is, according to the present embodiment, after the end surface (reflecting surface) inclined at 45 degrees is cut by the dicer, the alignment marker is formed with the upper end of the cutting surface as a reference, so the 45-degree inclined end surface is formed. Regardless of the position error of the 45-degree inclined end face that occurs at this time, accurate alignment with the inclined end face can be performed using the alignment marker.

また、45度傾斜端面をV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成し、位置合わせマーカも同様にV字型ダイシングブレードを用いてダイシングによって形成するので、光導波路をダイシング用の装置に装着したまま、加工端面の形成から位置合わせマーカの形成まで一貫して行うことができ、正確に、能率よく一連の加工を行うことができる。   In addition, the 45 ° inclined end surface is formed by dicing using a V-shaped dicing blade, and the alignment marker is also formed by dicing using a V-shaped dicing blade. Therefore, the optical waveguide is mounted on a dicing apparatus. As it is, it can be performed consistently from the formation of the machining end face to the formation of the alignment marker, and a series of machining can be performed accurately and efficiently.

また、端部に45度傾斜端面を形成するので、面型受発光素子を用いることができる。   Further, since the end face is inclined at 45 degrees, a surface light emitting / receiving element can be used.

また、当接面の当接によって、光導波路と面型受発光素子との位置合わせを、正確に高精度で行うことができる。この方法は、マーカを画像観察しながら位置合わせする方法に比べて、はるかに簡易で、生産性が高く、結果的に光導波路装置を低コスト化することができる。   In addition, the contact between the contact surfaces allows the optical waveguide and the surface light emitting / receiving element to be accurately aligned with high accuracy. This method is much simpler and more productive than the method of aligning the marker while observing the image, and as a result, the cost of the optical waveguide device can be reduced.

実施の形態3
実施の形態3では、実施の形態1や2のように凹凸嵌合によって光導波路コア端部と光素子との位置合わせを行うのではなく、例えば、CCD(Charge Coupled Device)カメラと顕微鏡を用いた画像観察などで、光導波路1の傾斜端面6の下端(エッジ部)10と、光素子アレイ56またはその位置決めの基準として用いられた実装基板側マーカ55とを同時に観察しながら、実装基板51の上に光導波路1を位置固定して、光結合装置を形成する。
Embodiment 3
In the third embodiment, the alignment between the optical waveguide core end and the optical element is not performed by the concave-convex fitting as in the first and second embodiments. For example, a CCD (Charge Coupled Device) camera and a microscope are used. The mounting substrate 51 while simultaneously observing the lower end (edge portion) 10 of the inclined end surface 6 of the optical waveguide 1 and the optical element array 56 or the mounting substrate side marker 55 used as a positioning reference in the image observation. A position of the optical waveguide 1 is fixed on the optical coupling device to form an optical coupling device.

本実施の形態は、図8(c)に示した従来の光結合装置の製造方法と直接対比されるものであるが、光導波路側マーカ105ではなく、傾斜端面6の下端(エッジ部)10を観察しているため、傾斜端面6を形成する際に生じた位置誤差の影響を受けることがない。   This embodiment is directly contrasted with the conventional method for manufacturing an optical coupling device shown in FIG. 8C, but is not the optical waveguide side marker 105 but the lower end (edge portion) 10 of the inclined end face 6. Therefore, it is not affected by the position error generated when the inclined end face 6 is formed.

この方法は、凹凸嵌合や当接によって位置合わせを行う方法に比べて、位置合わせの能率は高くないが、凹凸嵌合や当接のための手段および光導波路支持体を設ける必要がない利点を有する。   This method does not have a high efficiency of alignment compared with the method of aligning by uneven fitting or contact, but has the advantage that it is not necessary to provide means for uneven fitting or contact and an optical waveguide support. Have

以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれらの例に何ら限定されるものではなく、発明の主旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these examples at all, and can be suitably changed in the range which does not deviate from the main point of invention.

本発明の光結合装置は、電子機器間、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、種々の箇所に適用可能な光配線において好適に用いられ、生産性がよく、低コストで、しかも高性能な光伝送・通信システムの構築に寄与することができる。   The optical coupling device of the present invention is preferably used in optical wiring applicable to various places such as between electronic devices, between boards in electronic devices or between chips in a board, and has high productivity and low cost. Moreover, it can contribute to the construction of a high-performance optical transmission / communication system.

本発明の実施の形態1に基づく、光導波路の上面図(a)と断面図(b)である。It is the top view (a) and sectional drawing (b) of an optical waveguide based on Embodiment 1 of this invention. 同、光導波路支持体と一体化した光導波路の上面図(a)と断面図(b)である。The top view (a) and sectional drawing (b) of the optical waveguide integrated with the optical waveguide support body are the same. 同、光結合装置の上面図(a)と断面図(b)である。The top view (a) and sectional drawing (b) of an optical coupling device are the same. 同、光導波路と光結合装置との作製工程を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing process of an optical waveguide and an optical coupling device equally. 同、光導波路と光結合装置との作製工程を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing process of an optical waveguide and an optical coupling device equally. 本発明の実施の形態2に基づく光結合装置の断面図である。It is sectional drawing of the optical coupling device based on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3に基づく光結合装置の断面図である。It is sectional drawing of the optical coupling device based on Embodiment 3 of this invention. 光導波路の端部に傾斜端面を形成し、光結合装置を作製する、従来の工程を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the conventional process of forming an inclined end surface in the edge part of an optical waveguide, and producing an optical coupling device.

符号の説明Explanation of symbols

1…光導波路、2…下部クラッド、3…コア、4…上部クラッド、
5…端部形成用マーカ、6…45度に傾斜した端面(反射面)、7…傾斜端面の上端、
8…V字溝、9…所定の距離、10…傾斜端面の下端(エッジ部)、
11…光導波路支持体、12…凸部、13…ガイドピン、14…所定の距離、
21…実装基板、22…ガイド孔、23…光導波路支持面、24…光素子固定用凹部、
25…実装基板側マーカ、26…光素子アレイ、27…光素子アレイの受発光部、
28…所定の距離、31…光導波路支持体、32…凸部、33…ガイドピン、
34…所定の距離、41…実装基板、42…ガイド孔、43…光導波路支持面、
44…光素子固定用凹部、45…実装基板側マーカ、46…光素子アレイ、
47…所定の距離、51…実装基板、53…光導波路支持面、54…光素子固定用凹部、
55…実装基板側マーカ、56…光素子アレイ、81…基板、101…光導波路、
102…下部クラッド、103…コア、104…上部クラッド、
105…光導波路側マーカ、106…45度に傾斜した端面(反射面)、
107…所定の距離、108…切り込み量が大きくなりすぎた場合の傾斜端面、
109…誤差、111…実装基板、112…光素子、113…実装基板側マーカ、
120…光結合装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical waveguide, 2 ... Lower clad, 3 ... Core, 4 ... Upper clad,
5 ... end forming marker, 6 ... end face inclined at 45 degrees (reflective surface), 7 ... upper end of the inclined end face,
8 ... V-shaped groove, 9 ... predetermined distance, 10 ... lower end (edge portion) of the inclined end surface,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Optical waveguide support body, 12 ... Convex part, 13 ... Guide pin, 14 ... Predetermined distance,
21 ... Mounting substrate, 22 ... Guide hole, 23 ... Optical waveguide support surface, 24 ... Recess for fixing optical element,
25 ... mounting board side marker, 26 ... optical element array, 27 ... light receiving / emitting part of optical element array,
28 ... predetermined distance, 31 ... optical waveguide support, 32 ... convex, 33 ... guide pin,
34 ... predetermined distance, 41 ... mounting substrate, 42 ... guide hole, 43 ... optical waveguide support surface,
44: concave portion for fixing an optical element, 45 ... mounting board side marker, 46 ... optical element array,
47 ... predetermined distance, 51 ... mounting substrate, 53 ... optical waveguide support surface, 54 ... optical element fixing recess,
55 ... Mounting substrate side marker, 56 ... Optical element array, 81 ... Substrate, 101 ... Optical waveguide,
102 ... lower clad, 103 ... core, 104 ... upper clad,
105 ... Optical waveguide side marker, 106 ... End face (reflective surface) inclined at 45 degrees,
107 ... predetermined distance, 108 ... inclined end face when the cutting depth becomes too large,
109 ... error, 111 ... mounting board, 112 ... optical element, 113 ... mounting board side marker,
120 ... Optical coupling device

Claims (12)

コアとクラッドとの接合体からなる光導波路において、前記コアの端部を露出させる加工によって形成された端面を有し、この加工端面のエッジ部が位置合わせに用いられていることを特徴とする、光導波路。   An optical waveguide comprising a joined body of a core and a clad has an end surface formed by processing for exposing the end portion of the core, and an edge portion of the processed end surface is used for alignment. , Optical waveguide. 前記エッジ部を基準にしてマーカが設けられ、このマーカによって前記コアの前記端部と光部品との位置合わせが行われる、請求項1に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 1, wherein a marker is provided with reference to the edge portion, and the end portion of the core and the optical component are aligned by the marker. 前記加工端面が切断によって形成されている、請求項1に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 1, wherein the processed end face is formed by cutting. 前記加工端面が傾斜した反射面をなしている、請求項3に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 3, wherein the processed end surface forms an inclined reflecting surface. 前記加工端面がダイシングによって形成された傾斜端面であり、その切削面の上端を前記基準として上部に位置合わせ用の前記マーカが設けられている、請求項2に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 2, wherein the processed end surface is an inclined end surface formed by dicing, and the marker for alignment is provided at an upper portion with the upper end of the cut surface as the reference. 前記位置合わせマーカが表面に形成された凹部または凸部である、請求項5に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 5, wherein the alignment marker is a concave portion or a convex portion formed on a surface. 前記凹部または凸部をダイシングで形成する、請求項6に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 6, wherein the concave portion or the convex portion is formed by dicing. 前記凹部の深さは、上部クラッドの厚さ未満である、請求項7に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 7, wherein a depth of the concave portion is less than a thickness of the upper clad. 前記凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合されて形成されている光導波路であって、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、前記光導波路支持体が前記他の光部品の支持体と凹凸嵌合されることによって、前記他の光部品との位置合わせが行われるように構成された、請求項6に記載した光導波路。   The concave portion or the convex portion and the convex portion or the concave portion provided on the optical waveguide support corresponding to the concave portion or the concave portion are formed by concave and convex fitting, and the concave and convex fitting position is used as a reference. 7. The optical waveguide support according to claim 6, wherein the optical waveguide support is configured to be aligned with the support of the other optical component so that the alignment with the other optical component is performed. Optical waveguide. 前記接合体の少なくとも一部が高分子材料からなる、請求項1に記載した光導波路。   The optical waveguide according to claim 1, wherein at least a part of the joined body is made of a polymer material. 請求項1〜10のいずれか1項に記載した光導波路と、他の光部品とが光結合してなり、前記コアの前記端部と前記他の光部品とが位置合わせされている、光結合装置。   The optical waveguide according to any one of claims 1 to 10 and another optical component are optically coupled, and the end of the core and the other optical component are aligned. Coupling device. 請求項6に記載した凹部又は凸部と、これに対応して光導波路支持体に設けられた凸部又は凹部とが凹凸嵌合され、この凹凸嵌合位置を基準とした位置において、前記光導波路支持体と前記他の光部品の支持体とが凹凸嵌合されることによって、前記光導波路と前記他の光部品との位置合わせが行われている、請求項11に記載した光結合装置。   The concave portion or the convex portion according to claim 6 and the convex portion or the concave portion provided in the optical waveguide support corresponding to the concave portion or the concave portion are concavely and convexly fitted, and at the position based on the concave and convex fitting position, the light guide The optical coupling device according to claim 11, wherein the optical waveguide and the other optical component are aligned by the concave-convex fitting of the waveguide support and the support of the other optical component. .
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