[go: up one dir, main page]

JP2016012005A - Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment - Google Patents

Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment Download PDF

Info

Publication number
JP2016012005A
JP2016012005A JP2014132694A JP2014132694A JP2016012005A JP 2016012005 A JP2016012005 A JP 2016012005A JP 2014132694 A JP2014132694 A JP 2014132694A JP 2014132694 A JP2014132694 A JP 2014132694A JP 2016012005 A JP2016012005 A JP 2016012005A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core
refractive index
optical waveguide
optical
low refractive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014132694A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
佑紀 油家
Yuki Aburaya
佑紀 油家
章弘 堀元
Akihiro Horimoto
章弘 堀元
幹也 兼田
Mikiya Kaneda
幹也 兼田
匠 久保田
Takumi Kubota
匠 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2014132694A priority Critical patent/JP2016012005A/en
Publication of JP2016012005A publication Critical patent/JP2016012005A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical waveguide capable of preventing the occurrence of crosstalk in association with optical path conversion and performing high-quality optical communication, and a photoelectric hybrid substrate and an electronic apparatus that include the optical waveguide.SOLUTION: An optical waveguide 1 comprises a core layer 13 and a cavity part 170A. The core layer 13 is formed with: a long core part 14; a side clad part 15 provided to surround an end part 141 of the core part 14; and a low refractive index part 16 provided between the end part 141 and the side clad part 15 and having a refractive index lower than that of the side clad part 15. The cavity part 170A (light reflection part) is provided in a portion of the core layer 13, includes an inclined surface 171 (boundary surface) being in oblique contact with an optical axis C1 of the core part 14, and reflects light transmitted in the core part 14 on the inclined surface 171. In a planar view of the core layer 13, an end 141a in a longitudinal direction of the end part 141 of the core part 14 is located inside the cavity part 170A, and the low refractive index part 16 overlaps with an outer edge of the cavity part 170A.

Description

本発明は、光導波路、光電気混載基板および電子機器に関するものである。   The present invention relates to an optical waveguide, an opto-electric hybrid board, and an electronic device.

近年、光信号を一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。   In recent years, optical waveguides are becoming popular as a means for guiding an optical signal from one point to another point. This optical waveguide has a linear core part and a clad part provided so as to cover the periphery thereof. The core part is made of a material that is substantially transparent to light, and the cladding part is made of a material having a refractive index lower than that of the core part.

光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に搬送される。光導波路の入射側には、半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。   In the optical waveguide, light introduced from one end of the core portion is conveyed to the other end while being reflected at the boundary with the cladding portion. A light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and a light receiving element such as a photodiode is disposed on the emission side. Light incident from the light emitting element propagates through the optical waveguide, is received by the light receiving element, and performs communication based on the flickering pattern of the received light or its intensity pattern.

このような光導波路によって例えば信号処理基板内の電気配線が置き換えられると、高周波ノイズの発生、電気信号の劣化といった電気信号に特有の課題が解消され、信号処理基板のさらなる高スループット化が可能になると期待されている。   When such an optical waveguide replaces, for example, the electrical wiring in the signal processing board, problems specific to electrical signals such as generation of high-frequency noise and deterioration of the electrical signal are eliminated, and the signal processing board can be further increased in throughput. It is expected to be.

電気配線を光導波路に置き換える際には、電気信号と光信号との相互変換を行う必要があることから、発光素子および受光素子とこれらの間を光学的に接続する光導波路とを備えた光導波路モジュールが開発されている。   When replacing electrical wiring with an optical waveguide, it is necessary to perform mutual conversion between an electrical signal and an optical signal. Therefore, an optical device including a light emitting element, a light receiving element, and an optical waveguide that optically connects between them. Waveguide modules have been developed.

例えば、特許文献1には、プリント基板と、プリント基板上に搭載された発光素子と、プリント基板の下面側に設けられた光導波路と、を有する光インターフェースが開示されている。そして、光導波路と発光素子との間は、プリント基板に形成された、光信号を伝送するための貫通孔であるスルーホールを介して光学的に接続されている。   For example, Patent Document 1 discloses an optical interface having a printed circuit board, a light emitting element mounted on the printed circuit board, and an optical waveguide provided on the lower surface side of the printed circuit board. The optical waveguide and the light emitting element are optically connected through a through hole, which is a through hole for transmitting an optical signal, formed on the printed board.

上述したような光インターフェースにおいては、発光素子の発光部から出射した信号光を光導波路のコア部に入射させるべく、光導波路に形成されたミラーで光路を変換する必要がある。   In the optical interface as described above, it is necessary to change the optical path with a mirror formed in the optical waveguide so that the signal light emitted from the light emitting portion of the light emitting element enters the core portion of the optical waveguide.

このようなミラーとしては、例えば、コア部の一部を除去して空洞部を形成し、その空洞部の内壁面を反射面として利用することにより、コア部の光路を変換するものが知られている。   As such a mirror, for example, a mirror that converts the optical path of the core part by forming a hollow part by removing a part of the core part and using the inner wall surface of the hollow part as a reflecting surface is known. ing.

特開2005−294407号公報JP 2005-294407 A

近年、1つの光導波路に形成されるコア部の数が増える傾向にあり、並列するコア部同士の間隔も狭くなっている。ところが、その結果、ミラーで光路を変換した際に、隣り合うミラーやコア部に光が侵入してしまう現象が起こり易くなっている。このような現象はクロストークと呼ばれ、光通信のS/N比を低下させる原因の1つとなっている。   In recent years, the number of core portions formed in one optical waveguide tends to increase, and the interval between the parallel core portions is also narrowed. However, as a result, when the optical path is converted by the mirror, a phenomenon that light enters the adjacent mirror or core portion easily occurs. Such a phenomenon is called crosstalk and is one of the causes of lowering the S / N ratio of optical communication.

本発明の目的は、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制し、高品質な光通信を行い得る光導波路、および、かかる光導波路を備えた光電気混載基板および電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an optical waveguide capable of suppressing the occurrence of crosstalk due to optical path conversion and performing high-quality optical communication, and an opto-electric hybrid board and an electronic apparatus including the optical waveguide. .

このような目的は、下記(1)〜(7)の本発明により達成される。
(1) 長尺状のコア部と、前記コア部の少なくとも一方の端部を囲うように設けられた側面クラッド部と、前記端部に対し少なくとも前記コア部の短手方向において隣り合うように前記端部と前記側面クラッド部との間に設けられ、前記側面クラッド部より屈折率の低い低屈折率部と、が形成されたコア層と、
前記コア層の一部に設けられた光反射部であって、前記光反射部と前記コア層との境界に位置し前記コア部の光軸に対して斜めに接する境界面を備え、前記コア部を伝搬する光が前記境界面において反射されるように構成されている光反射部と、
を有し、
前記コア層をその厚さ方向から見た平面視において、前記端部のうち前記コア部の長手方向の端が前記光反射部の内側に位置しており、かつ、前記低屈折率部と前記光反射部の外縁とが重なっていることを特徴とする光導波路。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (7) below.
(1) A long core part, a side clad part provided so as to surround at least one end part of the core part, and adjacent to the end part in at least a short direction of the core part. A core layer formed between the end portion and the side clad portion, and a low refractive index portion having a lower refractive index than the side clad portion;
A light reflecting portion provided in a part of the core layer, the light reflecting portion being located at a boundary between the light reflecting portion and the core layer, the boundary surface being obliquely in contact with the optical axis of the core portion; A light reflecting portion configured such that light propagating through the portion is reflected at the boundary surface;
Have
In a plan view of the core layer as viewed from the thickness direction, the end in the longitudinal direction of the core portion among the ends is located inside the light reflecting portion, and the low refractive index portion and the An optical waveguide characterized by overlapping an outer edge of a light reflecting portion.

(2) 前記光反射部は、前記コア部より屈折率が低い低屈折率材料で構成されている上記(1)に記載の光導波路。   (2) The optical waveguide according to (1), wherein the light reflecting portion is made of a low refractive index material having a refractive index lower than that of the core portion.

(3) 前記光反射部は、前記コア層の一部に設けられた空洞で構成されている上記(1)または(2)に記載の光導波路。   (3) The optical waveguide according to (1) or (2), wherein the light reflecting portion includes a cavity provided in a part of the core layer.

(4) 前記コア部は、その幅が相対的に広い広幅部と、前記コア部の長手方向において前記広幅部に隣接し前記広幅部より幅が相対的に狭い狭幅部と、を有し、
前記平面視において、前記端部が、前記広幅部の一部または全部と重なっている上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の光導波路。
(4) The core part includes a wide part having a relatively wide width, and a narrow part having a relatively narrow width adjacent to the wide part in the longitudinal direction of the core part. ,
The optical waveguide according to any one of (1) to (3), wherein the end portion overlaps part or all of the wide portion in the plan view.

(5) 前記側面クラッド部の最高屈折率と前記低屈折率部の最低屈折率との差は、0.002〜0.05である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の光導波路。   (5) The light guide according to any one of (1) to (4), wherein a difference between a maximum refractive index of the side cladding portion and a minimum refractive index of the low refractive index portion is 0.002 to 0.05. Waveguide.

(6) 上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする光電気混載基板。   (6) An opto-electric hybrid board comprising the optical waveguide according to any one of (1) to (5) above.

(7) 上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。   (7) An electronic apparatus comprising the optical waveguide according to any one of (1) to (5).

本発明によれば、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制し、高品質な光通信を行い得る光導波路が得られる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical waveguide which can suppress generation | occurrence | production of the crosstalk accompanying optical path conversion and can perform high quality optical communication is obtained.

また、本発明によれば、かかる光導波路を備える信頼性の高い光電気混載基板および電子機器が得られる。   In addition, according to the present invention, a highly reliable opto-electric hybrid board and electronic apparatus having such an optical waveguide can be obtained.

本発明の光導波路の第1実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows 1st Embodiment of the optical waveguide of this invention. 図1に示す光導波路のうち、光反射部およびコア部の輪郭を透視して示す図である。It is a figure which sees through and shows the outline of a light reflection part and a core part among the optical waveguides shown in FIG. 図3(a)は、図1に示す光導波路の平面図であり、図3(b)は、図3(a)のA−A線断面図である。FIG. 3A is a plan view of the optical waveguide shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 図3に示す光導波路のうち、光反射部を太線で強調して示す図である。It is a figure which emphasizes and shows a light reflection part with a thick line among the optical waveguides shown in FIG. 本発明の光導波路の第1実施形態を示す平面図であって、本発明の効果を説明するための図である。It is a top view which shows 1st Embodiment of the optical waveguide of this invention, Comprising: It is a figure for demonstrating the effect of this invention. 図6(a)は、図3のB−B線断面図のうちのコア層の断面であり、図6(b)は、コア層中の屈折率分布の例である。6A is a cross-sectional view of the core layer in the cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 3, and FIG. 6B is an example of a refractive index distribution in the core layer. 本発明の光導波路の第2実施形態を示す斜視図であって、光反射部およびコア部の輪郭を透視して示す図である。It is a perspective view which shows 2nd Embodiment of the optical waveguide of this invention, Comprising: It is a figure which sees through and shows the outline of a light reflection part and a core part. 図8(a)は、図7に示す光導波路の平面図であり、図8(b)は、図8(a)のA−A線断面図である。FIG. 8A is a plan view of the optical waveguide shown in FIG. 7, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 図9(a)は、本発明の光導波路の第3実施形態を示す平面図であり、図9(b)は、図9(a)のA−A線断面図である。FIG. 9A is a plan view showing a third embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 9A. 本発明の光導波路の第4実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows 4th Embodiment of the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路の第5実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows 5th Embodiment of the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路の第6実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows 6th Embodiment of the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路の第7実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows 7th Embodiment of the optical waveguide of this invention. 図14(a)は、本発明の光導波路の第8実施形態を示す平面図であり、図14(b)は、図14(a)のA−A線断面図である。FIG. 14A is a plan view showing an eighth embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 本発明の光電気混載基板の実施形態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows embodiment of the opto-electric hybrid board | substrate of this invention. 比較例1で得られた光導波路を示す平面図である。6 is a plan view showing an optical waveguide obtained in Comparative Example 1. FIG. 比較例2で得られた光導波路を示す平面図である。10 is a plan view showing an optical waveguide obtained in Comparative Example 2. FIG. 比較例3で得られた光導波路を示す平面図である。10 is a plan view showing an optical waveguide obtained in Comparative Example 3. FIG.

以下、本発明の光導波路、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the optical waveguide, the opto-electric hybrid board and the electronic apparatus of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

<光導波路>
≪第1実施形態≫
まず、本発明の光導波路の第1実施形態について説明する。
<Optical waveguide>
<< First Embodiment >>
First, a first embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図1は、本発明の光導波路の第1実施形態を示す斜視図である。図2は、図1に示す光導波路のうち、光反射部およびコア部の輪郭を透視して示す図である。図3(a)は、図1に示す光導波路の平面図であり、図3(b)は、図3(a)のA−A線断面図である。図4は、図3に示す光導波路のうち、光反射部を太線で強調して示す図である。図5は、本発明の光導波路の第1実施形態を示す平面図であって、本発明の効果を説明するための図である。なお、以下の説明では、図3(b)における下方を「下」といい、図3(b)における上方を「上」という。   FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of an optical waveguide according to the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing the outline of the light reflecting portion and the core portion in the optical waveguide shown in FIG. FIG. 3A is a plan view of the optical waveguide shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. FIG. 4 is a diagram showing a light reflecting portion highlighted in a thick line in the optical waveguide shown in FIG. FIG. 5 is a plan view showing the first embodiment of the optical waveguide of the present invention, and is a view for explaining the effect of the present invention. In the following description, the lower side in FIG. 3B is referred to as “lower”, and the upper side in FIG. 3B is referred to as “upper”.

図1に示す光導波路1は、帯状をなしており、光入射部と光出射部との間で光信号を伝送し、光通信を行う。   An optical waveguide 1 shown in FIG. 1 has a band shape, and transmits an optical signal between a light incident portion and a light emitting portion to perform optical communication.

光導波路1は、図3(b)に示すように、下からクラッド層11、コア層13およびクラッド層12を積層してなる積層体10を備えている。コア層13中には、長尺状のコア部14とその側面に隣接して設けられた側面クラッド部15とが形成されている。なお、図2、3では、クラッド層12越しにコア層13を透視したときに見えるコア部14や側面クラッド部15を図示している。   As shown in FIG. 3B, the optical waveguide 1 includes a laminate 10 in which a clad layer 11, a core layer 13, and a clad layer 12 are laminated from below. In the core layer 13, a long core portion 14 and a side clad portion 15 provided adjacent to the side surface are formed. 2 and 3, the core portion 14 and the side cladding portion 15 that are visible when the core layer 13 is seen through the cladding layer 12 are illustrated.

コア部14の幅および高さ(コア層13の厚さ)は、特に限定されないが、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、コア部14の伝送効率を高めつつコア部14の高密度化を図ることができる。すなわち、単位面積当たりに敷設可能なコア部14の数を多くすることができるので、小面積であっても大容量の光通信を行うことができる。   The width and height (the thickness of the core layer 13) of the core part 14 are not particularly limited, but are preferably about 1 to 200 μm, more preferably about 5 to 100 μm. Thereby, it is possible to increase the density of the core part 14 while increasing the transmission efficiency of the core part 14. That is, since the number of core portions 14 that can be laid per unit area can be increased, large-capacity optical communication can be performed even in a small area.

また、光導波路1の幅方向における屈折率分布および厚さ方向における屈折率分布は、それぞれ、屈折率が不連続的に変化したいわゆるステップインデックス(SI)型の分布であってもよく、屈折率が連続的に変化したいわゆるグレーデッドインデックス(GI)型の分布であってもよい。   Further, the refractive index distribution in the width direction and the refractive index distribution in the thickness direction of the optical waveguide 1 may be so-called step index (SI) type distributions in which the refractive index changes discontinuously, respectively. May be a so-called graded index (GI) type distribution in which the values continuously change.

また、コア部14は、平面視で直線状であっても曲線状であってもよい。さらに、コア部14は、途中で分岐していたり互いに交差していたりしてもよい。   Further, the core portion 14 may be linear or curved in plan view. Furthermore, the core part 14 may branch on the way or may mutually cross | intersect.

さらに、コア部14の横断面形状は、特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、四角形、五角形、六角形等の多角形であってもよいが、四角形(矩形状)であることにより、安定した品質のコア部14を効率よく製造することができる。   Furthermore, the cross-sectional shape of the core portion 14 is not particularly limited, and may be a circle such as a perfect circle, an ellipse, or an oval, or a polygon such as a triangle, a rectangle, a pentagon, or a hexagon. By being (rectangular shape), the core part 14 of the stable quality can be manufactured efficiently.

一方、クラッド層11は、コア層13の下方に設けられ、クラッド層12は、コア層13の上方に設けられている。   On the other hand, the cladding layer 11 is provided below the core layer 13, and the cladding layer 12 is provided above the core layer 13.

クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さの0.05〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.1〜1.25倍程度であるのがより好ましい。具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、それぞれ1〜200μm程度であるのが好ましく、3〜100μm程度であるのがより好ましく、5〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が確保される。   The average thickness of the cladding layers 11 and 12 is preferably about 0.05 to 1.5 times the average thickness of the core layer 13, and more preferably about 0.1 to 1.25 times. Specifically, the average thickness of the cladding layers 11 and 12 is preferably about 1 to 200 μm, more preferably about 3 to 100 μm, and further preferably about 5 to 60 μm. Thereby, the function as a clad part is ensured while preventing the optical waveguide 1 from becoming thicker than necessary.

なお、クラッド層11、12は、必要に応じて設けられればよく、省略することもできる。この場合でも、例えば外気がクラッド層として機能する。   The clad layers 11 and 12 may be provided as necessary and may be omitted. Even in this case, for example, outside air functions as a cladding layer.

光導波路1には、その一部を除去することによって形成された凹部170が設けられている。すなわち、光導波路1は、積層体10とそれに形成された凹部170とを備えたものである。図1に示す凹部170は、コア部14の長手方向の途中に位置している。凹部170の内側面の一部は、コア部14の光軸C1(図3(b)参照)に対して傾斜しつつ接する傾斜面171になっている。すなわち、凹部170のうち、コア層13に対応する部分(コア層13の延長に含まれる部分)の内側面が、傾斜面171である。この傾斜面171は、凹部170とコア部14との境界面といえる。   The optical waveguide 1 is provided with a recess 170 formed by removing a part thereof. That is, the optical waveguide 1 includes the laminated body 10 and the concave portion 170 formed thereon. The concave portion 170 shown in FIG. 1 is located in the middle of the longitudinal direction of the core portion 14. A part of the inner side surface of the recess 170 is an inclined surface 171 that is in contact with the optical axis C <b> 1 (see FIG. 3B) of the core portion 14 while being inclined. That is, the inner surface of the portion corresponding to the core layer 13 (the portion included in the extension of the core layer 13) of the recess 170 is the inclined surface 171. The inclined surface 171 can be said to be a boundary surface between the concave portion 170 and the core portion 14.

また、凹部170内は、空洞になっている。換言すれば、凹部170は、コア部14より屈折率が低い空気で満たされているといえる。したがって、凹部170のうち、コア層13に対応する部分を「空洞部170A」とすると、この空洞部170Aとコア部14との境界面では、凹部170の構成材料とコア部14の構成材料との屈折率差に基づいて光の反射が生じる。その結果、かかる境界面を面内に含んでいる傾斜面171は、コア部14の光路を変換するミラーとして機能する。すなわち、傾斜面171は、例えばコア部14内において図3(b)の右端から入射して左方に向かう光を、下に向けて反射することにより、伝搬方向を変換することができる。したがって、空洞部170Aは、「光反射部」であるといえる。なお、図4では、空洞部170A(光反射部)の輪郭を太線で示すとともに、空洞部170A(光反射部)の空間を互いに交差する斜線により示している。   Further, the inside of the recess 170 is hollow. In other words, it can be said that the concave portion 170 is filled with air having a refractive index lower than that of the core portion 14. Therefore, when the portion corresponding to the core layer 13 in the recess 170 is defined as “cavity 170A”, the constituent material of the recess 170 and the constituent material of the core portion 14 are defined at the boundary surface between the cavity 170A and the core portion 14. Reflection of light occurs based on the difference in refractive index. As a result, the inclined surface 171 including the boundary surface in the surface functions as a mirror that converts the optical path of the core portion 14. That is, the inclined surface 171 can change the propagation direction by, for example, reflecting the light that enters from the right end of FIG. Therefore, it can be said that the hollow portion 170A is a “light reflecting portion”. In FIG. 4, the outline of the cavity 170A (light reflecting portion) is indicated by a thick line, and the space of the cavity 170A (light reflecting portion) is indicated by oblique lines intersecting each other.

凹部170の縦断面形状は、図3(b)に示すように、上底が下底より長い台形をなしている。なお、この縦断面形状は、特に限定されず、例えば三角形や平行四辺形等であってもよい。   As shown in FIG. 3B, the vertical cross-sectional shape of the recess 170 is a trapezoid whose upper base is longer than the lower base. In addition, this longitudinal cross-sectional shape is not specifically limited, For example, a triangle, a parallelogram, etc. may be sufficient.

また、傾斜面171は、図1、2に示すように、クラッド層12からコア層13を経てクラッド層11の途中に至るまでの間に連続して形成された平坦面である。また、凹部170の内側面のうち、傾斜面171に対向する位置には、別の傾斜面172が設けられている。この傾斜面172も、傾斜面171と同様、クラッド層12からコア層13を経てクラッド層11の途中に至るまでの間に連続して形成された平坦面である。   The inclined surface 171 is a flat surface continuously formed from the cladding layer 12 through the core layer 13 to the middle of the cladding layer 11 as shown in FIGS. Further, another inclined surface 172 is provided at a position facing the inclined surface 171 in the inner surface of the recess 170. Similar to the inclined surface 171, the inclined surface 172 is a flat surface continuously formed from the cladding layer 12 through the core layer 13 to the middle of the cladding layer 11.

一方、凹部170の内側面のうち、コア部14の光軸とほぼ平行な2つの面は、それぞれクラッド層12の上面に対してほぼ垂直な直立面173、174である。   On the other hand, two surfaces of the inner surface of the recess 170 that are substantially parallel to the optical axis of the core portion 14 are upright surfaces 173 and 174 that are substantially perpendicular to the upper surface of the cladding layer 12, respectively.

上述したような2つの傾斜面171、172と2つの直立面173、174とにより、凹部170の内側面が構成されている。   The two inclined surfaces 171 and 172 and the two upright surfaces 173 and 174 as described above constitute the inner surface of the recess 170.

また、凹部170の開口の形状は、図3(a)に示すように長方形をなしている。なお、この開口の形状は、特に限定されず、例えばその他の四角形(台形、平行四辺形等を含む。)、五角形、六角形のような多角形であってもよく、長円形のような円形であってもよい。   Further, the shape of the opening of the recess 170 is rectangular as shown in FIG. The shape of the opening is not particularly limited, and may be, for example, other quadrilaterals (including trapezoids, parallelograms, etc.), pentagons, hexagons, and oval shapes. It may be.

なお、傾斜面171および傾斜面172とクラッド層12の上面とが接してなる線分(稜線)は、それぞれ凹部170の長方形をなす開口の短辺に相当する。一方、直立面173および直立面174とクラッド層12の上面とが接してなる線分(稜線)は、それぞれ凹部170の長方形をなす開口の長辺に相当する。   In addition, the line segment (ridge line) formed by the contact between the inclined surface 171 and the inclined surface 172 and the upper surface of the cladding layer 12 corresponds to the short side of the opening forming the rectangle of the recess 170. On the other hand, the upright surface 173 and the line segment (ridge line) formed by contacting the upright surface 174 and the upper surface of the cladding layer 12 correspond to the long sides of the opening forming the rectangle of the recess 170, respectively.

傾斜面171は、上述したように、コア部14の光軸に対して傾斜しつつ接しているが、傾斜面171の傾斜角度に応じて光軸の変換方向が変わることになる。このため、傾斜面171の傾斜角度は、光導波路1の外部に設けられコア部14と光学的に接続される光学部品の位置に応じて適宜設定される。   As described above, the inclined surface 171 is in contact with the optical axis of the core portion 14 while being inclined, but the optical axis conversion direction changes according to the inclination angle of the inclined surface 171. For this reason, the inclination angle of the inclined surface 171 is appropriately set according to the position of an optical component that is provided outside the optical waveguide 1 and optically connected to the core portion 14.

例えば、図3(b)に示す光軸C1に沿って、コア部14を右から左に伝搬する光は、傾斜面171で下方に反射される。そして、反射した光を、傾斜面171の下方に設けられる図示しない光学部品に入射させることができる。   For example, light propagating from the right to the left in the core portion 14 along the optical axis C <b> 1 shown in FIG. 3B is reflected downward by the inclined surface 171. Then, the reflected light can be incident on an optical component (not shown) provided below the inclined surface 171.

ところが、光導波路1中に複数のコア部14が隣り合っている場合、例えば、図5に示すように、側面クラッド部15を介してコア層13中に2本のコア部14が併設されている場合には、各コア部14に対応して設けられた傾斜面171同士が、側面クラッド部15を介して隣り合うこととなる。このような場合に、コア部14の併設密度が高くなると、傾斜面171同士の離間距離も自ずと短くなる。その結果、傾斜面171で反射した光が、隣り合う傾斜面171やコア部14に侵入する確率が高くなり、クロストークが発生し易くなるという問題があった。   However, when a plurality of core portions 14 are adjacent to each other in the optical waveguide 1, for example, as shown in FIG. 5, two core portions 14 are provided in the core layer 13 via the side clad portion 15. In the case where they are present, the inclined surfaces 171 provided corresponding to the respective core portions 14 are adjacent to each other via the side clad portion 15. In such a case, when the density of the core portions 14 is increased, the distance between the inclined surfaces 171 is naturally shortened. As a result, there is a problem that the light reflected by the inclined surface 171 is likely to enter the adjacent inclined surface 171 and the core portion 14, and crosstalk is likely to occur.

そこで、本発明者は、このような光路変換に伴うクロストークの発生を抑制する方法について鋭意検討を重ねた。そして、コア層13においてコア部14と側面クラッド部15との間に、側面クラッド部15より屈折率が低い低屈折率部16を設け、平面視において、凹部170のうち、特にコア層13に対応する部分の空洞部170Aと、コア部14および低屈折率部16との位置関係を最適化することにより、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。   Therefore, the present inventor has intensively studied a method for suppressing the occurrence of crosstalk accompanying such optical path conversion. In the core layer 13, a low refractive index portion 16 having a refractive index lower than that of the side cladding portion 15 is provided between the core portion 14 and the side cladding portion 15, and in plan view, particularly in the core layer 13. It has been found that by optimizing the positional relationship between the corresponding cavity portion 170A, the core portion 14 and the low refractive index portion 16, occurrence of crosstalk associated with optical path conversion can be suppressed, and the present invention is completed. It came to.

すなわち、本発明では、図3(a)に示すように光導波路1を平面視したとき(コア層13をその厚さ方向から平面視したとき)、コア部14の端部141のうち、コア部14の長手方向(図3では左右方向)の端141aが、空洞部170A(光反射部)の内側に位置するように構成されている。このようにコア部14の長手方向の端141aが、空洞部170Aの内側に位置するように構成することで、コア部14の長手方向において、図4に太線で示す空洞部170Aの外縁とコア部14の端部141との距離を比較的長く確保することができる。なお、光導波路1に応力変化が生じる場合、通常、短手方向よりも長手方向における伸縮に基づく応力変化がより支配的になるため、コア部14の長手方向において、空洞部170Aの外縁と端部141との距離を確保することは、応力変化が傾斜面171の反射特性に及ぼす影響を最小限に抑えるにあたって有効である。このようにして端部141における応力変化を抑えることにより、傾斜面171の変形を抑え、傾斜面171によって光が意図しない方向に反射するのを抑制することができる。その結果、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制することができる。   That is, in the present invention, when the optical waveguide 1 is viewed in plan as shown in FIG. 3A (when the core layer 13 is viewed in plan from the thickness direction), the core of the end portion 141 of the core portion 14 is the core. An end 141a in the longitudinal direction (left-right direction in FIG. 3) of the portion 14 is configured to be located inside the hollow portion 170A (light reflecting portion). In this way, by configuring the longitudinal end 141a of the core portion 14 to be located inside the cavity portion 170A, the outer edge of the cavity portion 170A indicated by a thick line in FIG. A relatively long distance from the end portion 141 of the portion 14 can be ensured. When a stress change occurs in the optical waveguide 1, the stress change based on the expansion and contraction in the longitudinal direction is usually more dominant than the short side direction. Therefore, the outer edge and the end of the cavity portion 170 </ b> A in the longitudinal direction of the core portion 14. Securing the distance from the portion 141 is effective in minimizing the influence of the stress change on the reflection characteristics of the inclined surface 171. By suppressing the stress change at the end portion 141 in this manner, it is possible to suppress the deformation of the inclined surface 171 and to prevent the inclined surface 171 from reflecting light in an unintended direction. As a result, it is possible to suppress the occurrence of crosstalk accompanying the optical path conversion.

それとともに、本発明では、光導波路1を平面視したとき、端部141の短手方向に隣り合う低屈折率部16と、空洞部170Aの外縁とが重なるように構成されている。上述したように、コア部14と側面クラッド部15との間に低屈折率部16を設けることにより、端部141は、その短手方向の両側を、従来よりもさらに屈折率の低い低屈折率部16の壁で挟まれた状態となる。このような状態では、仮に、意図しない外部の光学部品(例えば隣り合うコア部に合わせて設置された光学部品等)から傾斜面171に光が入射しようとしたときでも、その光が傾斜面171により入射し難くなる。同様に、コア部14を伝搬してきた光が傾斜面171で意図しない方向へ反射したときでも、その光が隣り合う傾斜面171に対して入射し難くなる。その結果、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制することができる。なお、図3〜5では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   At the same time, in the present invention, when the optical waveguide 1 is viewed in plan, the low refractive index portion 16 adjacent in the short direction of the end portion 141 and the outer edge of the cavity portion 170A overlap each other. As described above, by providing the low refractive index portion 16 between the core portion 14 and the side clad portion 15, the end portion 141 has a low refractive index having a lower refractive index than the conventional one on both sides in the short direction. The state is sandwiched between the walls of the rate portion 16. In such a state, even if light is about to enter the inclined surface 171 from an unintended external optical component (for example, an optical component installed in accordance with an adjacent core part), the light is inclined to the inclined surface 171. It becomes difficult to enter. Similarly, even when light propagating through the core portion 14 is reflected in an unintended direction by the inclined surface 171, the light hardly enters the adjacent inclined surface 171. As a result, it is possible to suppress the occurrence of crosstalk accompanying the optical path conversion. 3 to 5, dense dots are attached to the core portion 14 and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

また、形成方法にもよるが、側面クラッド部15や低屈折率部16は、コア部14に比べて屈折率が低い反面、機械的強度はコア部14に比べて高いことが多い。このため、前述した長手方向の端141aを空洞部170Aの内側に位置させるとともに、低屈折率部16を空洞部170Aの外縁に重ねることは、応力変化が起き易い空洞部170Aの外縁を機械的強度の高い領域に対応させることに等しいので、応力変化に対する耐性を高めるという観点からも、上記のような位置関係を有することは有用である。加えて、低屈折率部16を設けることで、応力変化の影響を弱める効果も期待される。このため、前述した応力変化の発生を抑制するという作用と相まって、傾斜面171がより変形し難くなり、光路変換に伴うクロストークの発生をより確実に抑制することができる。   Although depending on the formation method, the side clad part 15 and the low refractive index part 16 have a lower refractive index than the core part 14, but their mechanical strength is often higher than that of the core part 14. Therefore, the above-described longitudinal end 141a is positioned inside the cavity 170A and the low refractive index portion 16 is overlapped with the outer edge of the cavity 170A. Since it is equivalent to corresponding to a region having high strength, it is useful to have the above positional relationship also from the viewpoint of enhancing resistance to stress change. In addition, by providing the low refractive index portion 16, an effect of weakening the influence of the stress change is also expected. For this reason, coupled with the above-described action of suppressing the occurrence of stress change, the inclined surface 171 is more difficult to deform, and the occurrence of crosstalk accompanying the optical path conversion can be more reliably suppressed.

さらに、低屈折率部16と空洞部170Aの外縁とが重なるように構成することで、傾斜面171の多くの領域がコア部14の断面で占められることになる。このため、例えば機械加工やレーザー加工等により凹部170(空洞部170A)を形成し、傾斜面171を得る場合に、構成材料の違いによる加工レートのバラツキが発生し難くなる。その結果、より面精度の高い傾斜面171を得ることができ、傾斜面171における光の反射効率を高めることに寄与する。   Furthermore, by configuring the low refractive index portion 16 and the outer edge of the cavity portion 170 </ b> A to overlap, many areas of the inclined surface 171 are occupied by the cross section of the core portion 14. For this reason, for example, when the concave portion 170 (hollow portion 170A) is formed by machining, laser processing, or the like, and the inclined surface 171 is obtained, variations in processing rate due to differences in constituent materials are less likely to occur. As a result, an inclined surface 171 with higher surface accuracy can be obtained, which contributes to increasing the light reflection efficiency on the inclined surface 171.

以上のことから、本発明によれば、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制し、S/N比の低下が抑えられた高品質な光通信を行い得る光導波路が得られる。   As described above, according to the present invention, it is possible to obtain an optical waveguide capable of performing high-quality optical communication in which occurrence of crosstalk accompanying optical path conversion is suppressed and a decrease in S / N ratio is suppressed.

なお、コア部14の端部141とは、コア部14の長手方向における一方の端およびその近傍の部分のことをいう。具体的には、図3に示すコア部14の長手方向の端141aから、コア部14の長手方向に沿って長さL1の範囲を指す。コア部14の端部141とは、コア部14の長手方向の端141aから、コア部14の厚さtの距離の部分と定義される。この端部141は、傾斜面171に隣接する部分に近いことから、この部分に応力分布の変化が及ぶと、傾斜面171における反射特性に大きく影響してしまうおそれがある。したがって、本発明によれば、コア部14の端部141に生じる応力変化を抑えることにより、傾斜面171における反射特性の低下を最小限に抑えられる。   The end portion 141 of the core portion 14 refers to one end in the longitudinal direction of the core portion 14 and a portion in the vicinity thereof. Specifically, it indicates a range of a length L1 along the longitudinal direction of the core portion 14 from the longitudinal end 141a of the core portion 14 shown in FIG. The end portion 141 of the core portion 14 is defined as a portion having a distance of the thickness t of the core portion 14 from the end 141 a in the longitudinal direction of the core portion 14. Since the end portion 141 is close to a portion adjacent to the inclined surface 171, if the change of the stress distribution reaches this portion, there is a possibility that the reflection characteristics on the inclined surface 171 are greatly affected. Therefore, according to the present invention, it is possible to minimize a decrease in reflection characteristics on the inclined surface 171 by suppressing a change in stress generated in the end portion 141 of the core portion 14.

また、本発明では、上述したように、光導波路1を平面視したとき、コア部14の端部141における長手方向の端141aが空洞部170Aの内側にあればよいが、コア部14と空洞部170Aとがこのような位置関係にあるとき、傾斜面171にはコア部14が露出することになる。したがって、傾斜面171は、側面クラッド部15に比べて屈折率が高いコア部14と空気とが隣接する境界面、すなわち屈折率差が十分に大きい部位同士の境界面を含むことになるので、十分な反射特性を有する。   In the present invention, as described above, when the optical waveguide 1 is viewed in plan, the end 141a in the longitudinal direction of the end 141 of the core 14 may be inside the cavity 170A. When the portion 170A is in such a positional relationship, the core portion 14 is exposed on the inclined surface 171. Therefore, the inclined surface 171 includes a boundary surface where the core portion 14 having a higher refractive index than that of the side cladding portion 15 and air are adjacent, that is, a boundary surface between portions having a sufficiently large refractive index difference. It has sufficient reflection characteristics.

よって、本発明によれば、温度が変化した場合等に傾斜面171における反射特性が低下するのを抑制するとともに、傾斜面171において十分な屈折率差を確保してそれによる高い反射特性を得ることができる。その結果、光導波路1では、外部の光学部品と光学的に接続する際、高い光結合効率で接続することが可能になる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to suppress a decrease in the reflection characteristics on the inclined surface 171 when the temperature changes, and to secure a sufficient refractive index difference on the inclined surface 171 to obtain a high reflection characteristic. be able to. As a result, the optical waveguide 1 can be connected with high optical coupling efficiency when optically connected to an external optical component.

なお、本発明では、光導波路1を平面視したとき、コア部14の端部141における長手方向の端141aが、空洞部170Aの内側に位置し、かつ、端部141の短手方向に隣り合っている低屈折率部16が、空洞部170Aの外縁(図4の太線参照)と重なっていればよいが、例えば長手方向の端141aが空洞部170Aのどの程度内側に位置しているか等、端部141と空洞部170Aとの位置関係の最適化についても考慮される。   In the present invention, when the optical waveguide 1 is viewed in plan, the end 141a in the longitudinal direction of the end portion 141 of the core portion 14 is located inside the cavity portion 170A and adjacent to the short side direction of the end portion 141. The matching low refractive index portion 16 only needs to overlap the outer edge of the cavity portion 170A (see the thick line in FIG. 4). For example, how far the end 141a in the longitudinal direction is located inside the cavity portion 170A, etc. The optimization of the positional relationship between the end 141 and the cavity 170A is also considered.

具体的には、コア部14の長手方向において、コア部14の長手方向の端141aと空洞部170Aの外縁(輪郭)との最短距離をL2(図3参照)とし、空洞部170Aの最大長さをL3(図3参照)としたとき、最短距離L2は最大長さL3の5〜90%程度であるのが好ましく、7〜85%程度であるのがより好ましく、10〜70%程度であるのがさらに好ましい。最大長さL3に対する最短距離L2の割合をこのように設定することで、少なくとも傾斜面172側における応力変化の影響がコア部14の端部141に波及し難くなる。このため、傾斜面171における反射特性の低下をより確実に抑制することができる。なお、最短距離L2が前記下限値を下回ると、各部の寸法によっては、上述した効果が限定的になってしまうおそれがあり、一方、最短距離L2が前記上限値を上回ると、各部の寸法によっては、傾斜面171に対して十分な空間を確保することができず、傾斜面171の傾斜角度が限定的になるおそれがある。   Specifically, in the longitudinal direction of the core part 14, the shortest distance between the longitudinal end 141a of the core part 14 and the outer edge (contour) of the cavity part 170A is L2 (see FIG. 3), and the maximum length of the cavity part 170A is set. When the thickness is L3 (see FIG. 3), the shortest distance L2 is preferably about 5 to 90% of the maximum length L3, more preferably about 7 to 85%, and about 10 to 70%. More preferably. By setting the ratio of the shortest distance L2 to the maximum length L3 in this way, at least the influence of the stress change on the inclined surface 172 side does not easily reach the end portion 141 of the core portion 14. For this reason, the fall of the reflective characteristic in the inclined surface 171 can be suppressed more reliably. If the shortest distance L2 is less than the lower limit value, depending on the dimensions of each part, the above-described effects may be limited. On the other hand, if the shortest distance L2 exceeds the upper limit value, depending on the dimensions of each part. Can not secure a sufficient space for the inclined surface 171, and the inclination angle of the inclined surface 171 may be limited.

なお、最短距離L2とは、光導波路1を平面視したとき、コア部14の長手方向において、コア部14の端部141の先端側(図3では端部141から左側)に位置する空洞部170Aの外縁と端部141の長手方向の端141aとの最短距離のことである。また、最大長さL3とは、光導波路1を平面視したとき、コア部14の長手方向において空洞部170Aがとり得る最も長い部分の長さのことである。   The shortest distance L2 is a hollow portion located on the distal end side of the end portion 141 of the core portion 14 (on the left side from the end portion 141 in FIG. 3) in the longitudinal direction of the core portion 14 when the optical waveguide 1 is viewed in plan view. It is the shortest distance between the outer edge of 170A and the end 141a in the longitudinal direction of the end 141. The maximum length L3 is the length of the longest portion that the cavity 170A can take in the longitudinal direction of the core portion 14 when the optical waveguide 1 is viewed in plan.

ここで、コア部14は、側面クラッド部15やクラッド層11、12より屈折率が高い部位である。これらクラッド部とコア部14との屈折率差は0.3%以上であるのが好ましく、0.5%以上であるのがより好ましい。なお、上限値は特に設定されないが、好ましくは5.5%程度とされる。また、前記屈折率差とは、コア部14の屈折率をAとし、クラッド部の屈折率をBとしたとき、次式で表される。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
Here, the core part 14 is a part having a higher refractive index than the side clad part 15 and the clad layers 11 and 12. The difference in refractive index between the clad part and the core part 14 is preferably 0.3% or more, and more preferably 0.5% or more. The upper limit value is not particularly set, but is preferably about 5.5%. The refractive index difference is expressed by the following equation when the refractive index of the core portion 14 is A and the refractive index of the cladding portion is B.
Refractive index difference (%) = | A / B-1 | × 100

一方、低屈折率部16は、側面クラッド部15よりもさらに屈折率が低い部位である。低屈折率部16の最低屈折率と側面クラッド部15の最高屈折率との差は、特に限定されないものの、0.002〜0.05程度であるのが好ましく、0.005〜0.03程度であるのがより好ましい。屈折率差をこのように設定することで、低屈折率部16を設けた場合の前述したような効果がより確実に発揮される。すなわち、低屈折率部16の最低屈折率と側面クラッド部15の最高屈折率との差が前記下限値を下回ると、屈折率差が小さ過ぎるため、隣り合うコア部14同士の間隔が狭い場合等には、前述したような低屈折率部16を設ける効果が低減するおそれがある。一方、前記上限値を上回った場合、前述したような効果には影響しないものの、コア部14の平面視形状によっては、屈折率差の空間的な均一性が低下し、例えばコア部14ごとの個体差が大きくなるといった不具合を招くおそれがある。   On the other hand, the low refractive index portion 16 is a portion having a refractive index lower than that of the side cladding portion 15. The difference between the lowest refractive index of the low refractive index portion 16 and the highest refractive index of the side cladding portion 15 is not particularly limited, but is preferably about 0.002 to 0.05, and is about 0.005 to 0.03. It is more preferable that By setting the refractive index difference in this way, the above-described effect when the low refractive index portion 16 is provided is more reliably exhibited. That is, when the difference between the lowest refractive index of the low refractive index portion 16 and the highest refractive index of the side cladding portion 15 is less than the lower limit value, the refractive index difference is too small, so that the interval between adjacent core portions 14 is narrow. For example, the effect of providing the low refractive index portion 16 as described above may be reduced. On the other hand, when the value exceeds the upper limit, the effect as described above is not affected, but depending on the shape of the core portion 14 in plan view, the spatial uniformity of the refractive index difference is reduced. There is a risk of inconveniences such as individual differences becoming large.

低屈折率部16は、少なくとも端部141のうち短手方向において隣り合う位置に設けられていればよいが、図3に示す光導波路1では、コア部14を囲うようにコア部14と側面クラッド部15との間に設けられている。このため、コア部14と低屈折率部16との間では、低屈折率部16がない場合に比べて屈折率差が大きくなり、コア部14の伝送損失を低減させることができる。   The low-refractive-index part 16 should just be provided in the position which adjoins at least the edge part 141 in a transversal direction, but in the optical waveguide 1 shown in FIG. It is provided between the clad part 15. For this reason, the refractive index difference between the core portion 14 and the low refractive index portion 16 becomes larger than when the low refractive index portion 16 is not provided, and the transmission loss of the core portion 14 can be reduced.

図6(a)は、図3のB−B線断面図のうちのコア層の断面であり、図6(b)は、コア層中の屈折率分布の例である。図6に示す屈折率分布の例では、コア部14の中心に近づくにつれて徐々に高くなるように屈折率分布が形成されている。また、コア部14に隣接する低屈折率部16では、その中心に向かうにつれて徐々に低くなるような屈折率分布が形成されている。また、側面クラッド部15では、屈折率がほぼ一定になっている。   6A is a cross-sectional view of the core layer in the cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 3, and FIG. 6B is an example of a refractive index distribution in the core layer. In the example of the refractive index distribution shown in FIG. 6, the refractive index distribution is formed so as to gradually increase toward the center of the core portion 14. Further, in the low refractive index portion 16 adjacent to the core portion 14, a refractive index distribution is formed so as to gradually decrease toward the center. Further, in the side clad portion 15, the refractive index is substantially constant.

このような屈折率分布では、コア部14と低屈折率部16との間、および、低屈折率部16と側面クラッド部15との間で、緩やかに変化するように屈折率が分布している。このため、これらの界面では、構造上あるいは物性上の変化の度合いも緩やかになっており、前述した応力変化を抑える観点からも有効である。   In such a refractive index distribution, the refractive index is distributed so as to change gently between the core portion 14 and the low refractive index portion 16 and between the low refractive index portion 16 and the side cladding portion 15. Yes. For this reason, the degree of change in structure or physical properties is moderate at these interfaces, which is also effective from the viewpoint of suppressing the stress change described above.

このような屈折率分布を有するコア層13は、例えばナノインプリント法、直接描画法、直接露光自己形成法等により製造することができる。このうち、直接描画法では、光等の放射線の照射により露光領域と非露光領域との間に屈折率差を形成し得る屈折率変調能を有する被膜に向けて局所的に放射線を照射し、屈折率差を形成することにより、コア部14、側面クラッド部15および低屈折率部16を形成する。   The core layer 13 having such a refractive index distribution can be manufactured by, for example, a nanoimprint method, a direct drawing method, a direct exposure self-forming method, or the like. Among these, in the direct drawing method, radiation is locally irradiated toward a film having a refractive index modulation ability capable of forming a refractive index difference between an exposed region and a non-exposed region by irradiation of radiation such as light, By forming the refractive index difference, the core part 14, the side cladding part 15 and the low refractive index part 16 are formed.

屈折率変調の原理には、例えばモノマーディフュージョン、フォトブリーチング、光異性化、光二量化等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせたものが用いられる。このうち、屈折率変調の原理としては、特にモノマーディフュージョンが好ましく採用される。モノマーディフュージョンでは、ポリマー中にこのポリマーと屈折率の異なる光重合性モノマーが分散してなる材料で構成された被膜に対して部分的に光を照射(露光)し、光重合性モノマーの重合を生起させるとともに、それに伴って光重合性モノマーを移動、偏在させることにより、被膜内に屈折率の偏りを生じさせる。これにより、被膜の露光領域と非露光領域との間に屈折率差が生じ、コア部14、側面クラッド部15および低屈折率部16を形成することができる。   Examples of the principle of refractive index modulation include monomer diffusion, photobleaching, photoisomerization, photodimerization, and the like, and one or a combination of two or more of these is used. Of these, monomer diffusion is particularly preferably employed as the principle of refractive index modulation. In monomer diffusion, light is irradiated (exposed) partially to a film made of a material in which a photopolymerizable monomer having a refractive index different from that of the polymer is dispersed in the polymer to polymerize the photopolymerizable monomer. Along with the occurrence, the photopolymerizable monomer is moved and unevenly distributed, thereby causing a refractive index bias in the coating. Thereby, a refractive index difference arises between the exposure area | region and non-exposure area | region of a film, and the core part 14, the side clad part 15, and the low refractive index part 16 can be formed.

なお、モノマーディフュージョンを生じる材料としては、例えば、特開2010−090328号公報に記載された感光性樹脂組成物等が挙げられる。また、モノマーディフュージョンでは、光重合性モノマーの移動の過程で、コア部14と側面クラッド部15との間に光重合性モノマーが偏在する場合がある。この場合、光重合性モノマーとしてポリマーよりも屈折率の低いものを用いることで、コア部14と側面クラッド部15との間に側面クラッド部15よりも屈折率が低い領域、すなわち低屈折率部16が形成される。したがって、モノマーディフュージョンによれば、コア層13を所望のパターンで効率よく形成することができる。   In addition, as a material which produces a monomer diffusion, the photosensitive resin composition etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-090328 are mentioned, for example. In the monomer diffusion, the photopolymerizable monomer may be unevenly distributed between the core portion 14 and the side surface clad portion 15 in the process of movement of the photopolymerizable monomer. In this case, by using a photopolymerizable monomer having a refractive index lower than that of the polymer, a region having a lower refractive index than the side cladding portion 15 between the core portion 14 and the side cladding portion 15, that is, a low refractive index portion. 16 is formed. Therefore, according to the monomer diffusion, the core layer 13 can be efficiently formed in a desired pattern.

一方、フォトブリーチング、光異性化および光二量化といった原理による屈折率変調の場合、照射する光の照射量(放射線の照射量)に応じて屈折率の変化量の調整が可能である。フォトブリーチングでは、光の照射によって材料中の分子構造が切断され、離脱性基が主鎖から離脱する。これにより材料の屈折率を変化させることができる。また、光異性化および光二量化では、光の照射によって材料の光異性化または光二量化を生じ、材料の屈折率が変化する。   On the other hand, in the case of refractive index modulation based on the principles of photobleaching, photoisomerization, and photodimerization, it is possible to adjust the amount of change in refractive index according to the amount of irradiated light (radiation dose). In photobleaching, the molecular structure in the material is cleaved by light irradiation, and the leaving group is detached from the main chain. Thereby, the refractive index of the material can be changed. In photoisomerization and photodimerization, light irradiation causes photoisomerization or photodimerization of the material, and the refractive index of the material changes.

フォトブリーチングを生じる材料としては、例えば、特開2009−145867号公報に記載されたコアフィルム材料等が挙げられる。   Examples of the material that causes photobleaching include core film materials described in JP-A-2009-145867.

また、光異性化を生じる材料としては、例えば、特開2005−164650号公報に記載されたノルボルネン系樹脂等が挙げられる。   Examples of materials that cause photoisomerization include norbornene resins described in JP-A-2005-164650.

また、光二量化を生じる材料としては、例えば、特開2011−105791号公報に記載された感光性樹脂組成物等が挙げられる。   Moreover, as a material which produces photodimerization, the photosensitive resin composition etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-105791 are mentioned, for example.

さらに、ポリマー中に屈折率調整剤を拡散させ、その際、屈折率調整剤の濃度を連続的に変化させることによって屈折率差を形成するようにしてもよい。ポリマー中に屈折率調整剤を供給する方法としては、例えば、塗布、噴霧、付着、浸漬、堆積等の方法が挙げられる。このような供給方法で屈折率調整剤を供給する際、領域ごとの供給量を調整することによって、任意の屈折率分布を形成することができる。なお、屈折率調整剤としては、例えば、特開2006−276735号公報に記載されたものが挙げられる。   Further, a refractive index difference may be formed by diffusing the refractive index adjusting agent in the polymer and continuously changing the concentration of the refractive index adjusting agent. Examples of a method for supplying the refractive index adjusting agent into the polymer include methods such as coating, spraying, adhesion, dipping, and deposition. When supplying the refractive index adjusting agent by such a supply method, an arbitrary refractive index distribution can be formed by adjusting the supply amount for each region. In addition, as a refractive index regulator, what was described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-276735 is mentioned, for example.

なお、図3に示す低屈折率部16は、平面視において帯状をなしているが、その幅は、コア部14の幅の2〜60%程度であるのが好ましく、5〜50%程度であるのがより好ましい。低屈折率部16の幅を前記範囲内に設定することで、低屈折率部16による前述したような効果を発揮させつつ、光導波路1を安定して製造することができる。すなわち、低屈折率部16の幅が前記下限値を下回ると、低屈折率部16の幅が不十分になるため、コア部14の幅によっては効果が限定的になるおそれがある。一方、低屈折率部16の幅が前記上限値を上回ると、低屈折率部16の幅が広すぎるため、低屈折率部16の屈折率が不安定になり易く、製造容易性が低下するとともに、低屈折率部16を設ける分だけコア部14同士の間隔を広げる必要があるため、コア部14の形成密度が低下するおそれがある。   In addition, although the low refractive index part 16 shown in FIG. 3 has comprised strip | belt shape in planar view, it is preferable that the width | variety is about 2 to 60% of the width | variety of the core part 14, and is about 5 to 50%. More preferably. By setting the width of the low refractive index portion 16 within the above range, the optical waveguide 1 can be stably manufactured while exhibiting the above-described effects by the low refractive index portion 16. That is, when the width of the low refractive index portion 16 is less than the lower limit value, the width of the low refractive index portion 16 becomes insufficient, so that the effect may be limited depending on the width of the core portion 14. On the other hand, when the width of the low refractive index portion 16 exceeds the upper limit, the width of the low refractive index portion 16 is too wide, so that the refractive index of the low refractive index portion 16 is likely to be unstable and the manufacturability is lowered. At the same time, since it is necessary to widen the interval between the core portions 14 by the amount of the low refractive index portion 16, the formation density of the core portions 14 may be reduced.

なお、凹部170内には、必要に応じて、コア部14より屈折率が低い材料(低屈折率材料)が充填されていてもよい。この場合でも、傾斜面171では、凹部170の構成材料とコア部14の構成材料との屈折率差に基づいて光が反射する。また、低屈折率材料が固体である場合、凹部170内に異物が侵入するのを防止したり、光導波路1の外部環境の影響が直接凹部170近傍に及び難くすることができるので、光導波路1の耐候性を高めることができる。   The concave portion 170 may be filled with a material having a lower refractive index than the core portion 14 (low refractive index material) as necessary. Even in this case, the inclined surface 171 reflects light based on the refractive index difference between the constituent material of the recess 170 and the constituent material of the core portion 14. In addition, when the low refractive index material is solid, it is possible to prevent foreign matter from entering the recess 170 or to make it difficult for the external environment of the optical waveguide 1 to directly affect the vicinity of the recess 170. The weather resistance of 1 can be improved.

低屈折率材料は、コア部14の屈折率に応じて適宜選択され、何ら限定されないが、例えば、シリコーン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂のような各種樹脂材料等が挙げられる。低屈折率材料の屈折率は、コア部14の屈折率より低ければ低いほどよく、0.01以上低いことが好ましい。なお、本明細書では、低屈折率材料に空気等の気体も含むものとする。   The low refractive index material is appropriately selected according to the refractive index of the core portion 14 and is not limited at all. Examples thereof include various resin materials such as silicone resins, polyolefin resins, and polyester resins. The lower the refractive index of the low refractive index material, the better as it is lower than the refractive index of the core portion 14, and it is preferable to be lower than 0.01. In the present specification, the low refractive index material includes a gas such as air.

また、傾斜面171には、必要に応じて、光反射性を有する材料、例えば金属光沢を有する金属材料等が成膜されていてもよい。この場合は、凹部170内に各種材料が充填されていてもよく、その材料の屈折率等は特に限定されない。   In addition, a material having light reflectivity, for example, a metallic material having a metallic luster, or the like may be formed on the inclined surface 171 as necessary. In this case, the recess 170 may be filled with various materials, and the refractive index of the material is not particularly limited.

金属材料としては、例えば、アルミニウム、銀、ニッケルのような金属の単体または化合物等が挙げられる。   Examples of the metal material include simple substances or compounds of metals such as aluminum, silver, and nickel.

なお、凹部170内が空洞であることにより、凹部170内を何らかの固体材料で充填する場合に比べて、傾斜面171において隣接する材料同士の屈折率差を最大化することができるので、傾斜面171における反射効率を特に高めることができる。   Since the concave portion 170 is hollow, the refractive index difference between adjacent materials on the inclined surface 171 can be maximized compared to the case where the concave portion 170 is filled with some solid material. The reflection efficiency at 171 can be particularly increased.

また、傾斜面171は、前述したようにコア部14と光学的に接続される光学部品の位置に応じて適宜設定されるが、コア層13の下面を基準面としたとき、基準面と傾斜面171とがなす角度は、30〜60°程度であるのが好ましく、40〜50°程度であるのがより好ましい。傾斜角度を前記範囲内に設定することにより、傾斜面171においてコア部14の光路を効率よく変換し、光路変換に伴う損失を抑制することができる。   The inclined surface 171 is appropriately set according to the position of the optical component optically connected to the core portion 14 as described above. When the lower surface of the core layer 13 is used as the reference surface, the inclined surface 171 and the inclined surface are inclined. The angle formed by the surface 171 is preferably about 30 to 60 °, and more preferably about 40 to 50 °. By setting the tilt angle within the above range, it is possible to efficiently convert the optical path of the core portion 14 on the tilted surface 171 and to suppress the loss accompanying the optical path conversion.

また、基準面と傾斜面172とがなす角度は、特に限定されないが、20〜90°程度であるのが好ましく、傾斜面171の傾斜角度と同じにするのがより好ましい。これにより、凹部170近傍に応力が発生したとき、応力が偏在し難くなり、応力集中による不具合の発生を特に抑制することができる。なお、基準面と傾斜面171、172とがなす角度とは、基準面と傾斜面171、172とがなす角度のうち、凹部170側とは反対側における角度のことをいう。   The angle formed between the reference surface and the inclined surface 172 is not particularly limited, but is preferably about 20 to 90 °, and more preferably the same as the inclined angle of the inclined surface 171. As a result, when stress is generated in the vicinity of the recess 170, the stress is less likely to be unevenly distributed, and the occurrence of problems due to stress concentration can be particularly suppressed. The angle formed by the reference surface and the inclined surfaces 171 and 172 refers to the angle on the side opposite to the concave portion 170 side among the angles formed by the reference surface and the inclined surfaces 171 and 172.

一方、基準面と直立面173、174とがなす角度は、それぞれ好ましくは60〜90°程度とされ、より好ましくは70〜90°程度とされ、さらに好ましくは80〜90°程度とされる。基準面と直立面173、174とがなす角度を前記範囲内に設定することにより、特にクラッド層11とコア層13との界面にかかる応力を抑制することができる。なお、各図では、ほぼ90°として図示している。また、基準面と直立面173、174とがなす角度とは、基準面と直立面173、174とがなす角度のうち、凹部170側とは反対側における角度のことをいう。   On the other hand, the angle formed between the reference surface and the upright surfaces 173 and 174 is preferably about 60 to 90 °, more preferably about 70 to 90 °, and still more preferably about 80 to 90 °. By setting the angle formed by the reference surface and the upright surfaces 173 and 174 within the above range, it is possible to particularly suppress the stress applied to the interface between the cladding layer 11 and the core layer 13. In each figure, it is shown as approximately 90 °. In addition, the angle formed by the reference surface and the upright surfaces 173 and 174 refers to the angle on the side opposite to the concave portion 170 among the angles formed by the reference surface and the upright surfaces 173 and 174.

また、直立面173、174を備える凹部170は、その占める幅が最小限に抑えられるので、複数の凹部170を隣り合わせて形成したとき、その間隔を最小化することができる。したがって、基準面と直立面173、174とがなす角度を前記範囲内に収めることは、狭いピッチで併設されたコア部14に対しても凹部170を高密度に配置し得るという点で有用である。また、基準面と直立面173、174とがなす角度を前記範囲内に収めることにより、直立面173、174近傍において各層を構成する材料の物性差による応力集中が特に抑えられるため、光導波路1の信頼性を特に高めることができる。   Moreover, since the recessed part 170 provided with the upright surfaces 173 and 174 can suppress the width | variety to the minimum, when the several recessed part 170 is formed adjacently, the space | interval can be minimized. Therefore, keeping the angle formed by the reference surface and the upright surfaces 173 and 174 within the above range is useful in that the concave portions 170 can be arranged at a high density even with respect to the core portions 14 provided at a narrow pitch. is there. Further, by keeping the angle formed by the reference surface and the upright surfaces 173 and 174 within the above range, the stress concentration due to the difference in the physical properties of the materials constituting the layers in the vicinity of the upright surfaces 173 and 174 can be particularly suppressed. The reliability can be particularly improved.

なお、凹部170の最大深さは、積層体10の厚さから適宜設定されるものであり、特に限定されないが、光導波路1の機械的強度や可撓性といった観点から、好ましくは1〜500μm程度とされ、より好ましくは5〜400μm程度とされる。そして、凹部170は、少なくともコア層13に達していればよく、クラッド層11には達していなくてもよい。   The maximum depth of the recess 170 is appropriately set from the thickness of the laminated body 10 and is not particularly limited, but is preferably 1 to 500 μm from the viewpoint of mechanical strength and flexibility of the optical waveguide 1. And more preferably about 5 to 400 μm. The concave portion 170 only needs to reach at least the core layer 13 and does not have to reach the cladding layer 11.

また、コア部14のピッチは、3〜500μm程度であるのが好ましく、5〜300μm程度であるのがより好ましい。これにより、コア部14同士の間でのクロストークを十分に抑えつつ、コア部14が高密度に集積された光導波路1が得られる。   Moreover, it is preferable that the pitch of the core part 14 is about 3-500 micrometers, and it is more preferable that it is about 5-300 micrometers. Thereby, the optical waveguide 1 in which the core portions 14 are integrated with high density can be obtained while sufficiently suppressing the crosstalk between the core portions 14.

上述したようなコア層13およびクラッド層11、12の構成材料(主材料)は、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等を用いることができる。なお、環状オレフィン系樹脂としては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが用いられる。   The constituent materials (main materials) of the core layer 13 and the cladding layers 11 and 12 as described above are, for example, acrylic ether, methacrylic resin, polycarbonate, polystyrene, cyclic ether resin such as epoxy resin and oxetane resin. , Polyamide, polyimide, polybenzoxazole, polysilane, polysilazane, silicone resin, fluorine resin, polyurethane, polyolefin resin, polybutadiene, polyisoprene, polychloroprene, polyester such as PET and PBT, polyethylene succinate, polysulfone, poly Various resin materials such as ethers and cyclic olefin resins such as benzocyclobutene resins and norbornene resins can be used. In addition, as cyclic olefin resin, what was described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-090328 is used, for example.

また、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。これらは、比較的加工が容易であるため、凹部170が形成されるコア層13やクラッド層11、12の構成材料として好適である。   Further, the resin material may be a composite material in which materials having different compositions are combined. Since these are relatively easy to process, they are suitable as constituent materials for the core layer 13 and the clad layers 11 and 12 in which the concave portions 170 are formed.

なお、上述した端部141は、コア部14の長手方向の少なくとも一方の端部に適用されていればよく、双方の端部に適用されていてもよい。また、上述した端部141がコア部14の一方の端部に適用され、他方の端部にはコネクター等が装着されコネクターを介して外部の光学部品に接続されていてもよい。   In addition, the edge part 141 mentioned above should just be applied to at least one edge part of the longitudinal direction of the core part 14, and may be applied to both edge parts. Further, the end portion 141 described above may be applied to one end portion of the core portion 14, and a connector or the like may be attached to the other end portion and connected to an external optical component via the connector.

また、光導波路1に複数本のコア部が形成され、そのうちの少なくとも1本が上述したコア部14であれば、隣り合う傾斜面同士において光路変換に伴うクロストークの発生が抑制される。   In addition, when a plurality of core portions are formed in the optical waveguide 1 and at least one of the core portions is the above-described core portion 14, occurrence of crosstalk due to optical path conversion is suppressed between adjacent inclined surfaces.

1つの光導波路1に形成されるコア部の本数は、特に限定されないが、例えば2〜100本程度とされる。   The number of core portions formed in one optical waveguide 1 is not particularly limited, but is, for example, about 2 to 100.

≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第2実施形態について説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図7は、本発明の光導波路の第2実施形態を示す斜視図であって、光反射部およびコア部の輪郭を透視して示す図である。図8(a)は、図7に示す光導波路の平面図であり、図8(b)は、図8(a)のA−A線断面図である。なお、以下の説明では、図8(b)における下方を「下」といい、図8(b)における上方を「上」という。また、図8では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 7 is a perspective view showing a second embodiment of the optical waveguide of the present invention, and is a view seen through the outlines of the light reflecting portion and the core portion. FIG. 8A is a plan view of the optical waveguide shown in FIG. 7, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. In the following description, the lower side in FIG. 8B is referred to as “lower”, and the upper side in FIG. 8B is referred to as “upper”. In FIG. 8, dense dots are attached to the core portion 14 and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第2実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, although 2nd Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st Embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.

第2実施形態に係る光導波路1は、コア部14の平面視形状が異なる以外、第1実施形態に係る光導波路1と同様である。   The optical waveguide 1 according to the second embodiment is the same as the optical waveguide 1 according to the first embodiment except that the shape of the core portion 14 in plan view is different.

すなわち、図7、8に示す光導波路1は、平面視においてコア部14の端部141の幅が、コア部14の長手方向において端部141に隣接する部位の幅よりも広くなっている。ここで、図7、8に示す端部141を「広幅部145」とし、この広幅部145に隣接する部位を、広幅部145より相対的に幅が狭い部位であることから「狭幅部146」とする。換言すれば、本実施形態では、コア部14の端部141の全部が広幅部145に対応している。なお、図8(a)では、クラッド層12を透過するように図示している。   That is, in the optical waveguide 1 shown in FIGS. 7 and 8, the width of the end portion 141 of the core portion 14 in plan view is wider than the width of the portion adjacent to the end portion 141 in the longitudinal direction of the core portion 14. Here, the end portion 141 shown in FIGS. 7 and 8 is referred to as a “wide portion 145”, and a portion adjacent to the wide portion 145 is a portion having a relatively narrow width than the wide portion 145. " In other words, in the present embodiment, the entire end portion 141 of the core portion 14 corresponds to the wide width portion 145. In FIG. 8A, the clad layer 12 is shown so as to pass through.

このような光導波路1では、広幅部145(端部141)が、コア部14に光を入射する入射部またはコア部14からの光が出射する出射部として機能する。一方、狭幅部146は、コア部14に入射した光が伝搬する機能を有する。本実施形態のように、コア部14に対して、相対的に幅が広い広幅部145と相対的に幅が狭い狭幅部146とを設けることにより、コア部14に対する光の入出射効率と伝送効率とを両立させることができる。すなわち、光が入射する広幅部145では、広い入射面を有するので、拡散する光であっても受光し易く、受光漏れを減少させ易い。また、広幅部145に隣接するように狭幅部146が設けられているため、広幅部145から出射する光についても、それほど拡散することなく出射し、外部の光学部品に対する光結合効率の著しい低下を抑えることができる。一方、狭幅部146では、伝搬角が小さくなるため、いわゆる高次モードの発生を抑えることができ、コア部14から低屈折率部16に漏れ出る漏れ光を減少させ易い。このため、より長距離での伝送効率を高めることができる。したがって、広幅部145と狭幅部146とを備えることで、外部の光学部品に対する高い光結合効率と高い伝送効率とが両立した光導波路1が得られる。   In such an optical waveguide 1, the wide width portion 145 (end portion 141) functions as an incident portion where light enters the core portion 14 or an emission portion where light from the core portion 14 is emitted. On the other hand, the narrow portion 146 has a function of propagating light incident on the core portion 14. As in the present embodiment, by providing the wide portion 145 having a relatively wide width and the narrow portion 146 having a relatively narrow width with respect to the core portion 14, the light entrance / exit efficiency with respect to the core portion 14 can be improved. Both transmission efficiency can be achieved. That is, since the wide portion 145 where the light is incident has a wide incident surface, it is easy to receive even diffused light, and light reception leakage is easily reduced. Further, since the narrow portion 146 is provided so as to be adjacent to the wide portion 145, the light emitted from the wide portion 145 is also emitted without being diffused so much that the optical coupling efficiency with respect to external optical components is significantly reduced. Can be suppressed. On the other hand, since the propagation angle is small in the narrow width portion 146, it is possible to suppress the occurrence of so-called higher-order modes, and it is easy to reduce the leaked light leaking from the core portion 14 to the low refractive index portion 16. For this reason, the transmission efficiency at a longer distance can be increased. Therefore, by providing the wide portion 145 and the narrow portion 146, the optical waveguide 1 in which high optical coupling efficiency and high transmission efficiency with respect to an external optical component are compatible is obtained.

また、広幅部145の幅(短手方向の長さ)は、狭幅部146の幅の1.01〜5倍程度であるのが好ましく、1.05〜3倍程度であるのがより好ましい。これにより、広幅部145の幅と狭幅部146の幅とのバランスが最適化されるため、広幅部145における光結合効率を維持しつつ、狭幅部146における伝送効率の低下を抑えることができる。また、光導波路1にコア部14を複数形成する場合に、その形成密度が低下し難くなる。したがって、広幅部145の幅が前記下限値を下回ると、広幅部145を設ける意味が薄れてしまうので、光結合効率の向上が不十分になるおそれがある。一方、広幅部145の幅が前記上限値を上回ると、狭幅部146の幅によっては、広幅部145と狭幅部146との間で幅の差が大きくなり過ぎて伝送損失が発生し易くなるとともに、広幅部145の幅が広くなり過ぎて、コア部14の形成可能な密度が低下するおそれがある。   The width of the wide portion 145 (the length in the short direction) is preferably about 1.01 to 5 times the width of the narrow portion 146, and more preferably about 1.05 to 3 times. . As a result, the balance between the width of the wide portion 145 and the width of the narrow portion 146 is optimized, so that it is possible to suppress a decrease in transmission efficiency in the narrow portion 146 while maintaining the optical coupling efficiency in the wide portion 145. it can. Further, when a plurality of core portions 14 are formed in the optical waveguide 1, the formation density is difficult to decrease. Therefore, when the width of the wide portion 145 is less than the lower limit value, the meaning of providing the wide portion 145 is diminished, and thus the optical coupling efficiency may be insufficiently improved. On the other hand, if the width of the wide portion 145 exceeds the upper limit, depending on the width of the narrow portion 146, the difference in width between the wide portion 145 and the narrow portion 146 becomes too large, and transmission loss is likely to occur. At the same time, the width of the wide portion 145 becomes too wide, and the density at which the core portion 14 can be formed may be reduced.

なお、本実施形態においても、光導波路1を平面視したとき、コア部14の端部141における長手方向の端141aが、空洞部170Aの内側に位置し、かつ、端部141の短手方向に隣り合っている低屈折率部16が、空洞部170Aの外縁と重なっている。これにより、光導波路1と外部の光学部品とを光学的に接続する際、傾斜面171での光路変換に伴うクロストークの発生を抑制することができる。その結果、S/N比が高く、高品質な光通信を行い得る光導波路1が得られる。   Also in the present embodiment, when the optical waveguide 1 is viewed in plan, the longitudinal end 141a of the end portion 141 of the core portion 14 is located inside the cavity portion 170A, and the short side direction of the end portion 141 Is adjacent to the outer edge of the cavity 170A. Thereby, when the optical waveguide 1 and an external optical component are optically connected, it is possible to suppress the occurrence of crosstalk accompanying the optical path conversion on the inclined surface 171. As a result, the optical waveguide 1 having a high S / N ratio and capable of performing high-quality optical communication is obtained.

その他、第2実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。すなわち、光導波路1に複数本のコア部が形成され、そのうちの少なくとも1本が上述したコア部14であれば、隣り合う傾斜面同士において光路変換に伴うクロストークの発生が抑制される。   In addition, also in 2nd Embodiment, the effect | action and effect similar to 1st Embodiment are acquired. That is, when a plurality of core portions are formed in the optical waveguide 1 and at least one of the core portions is the above-described core portion 14, the occurrence of crosstalk associated with optical path conversion is suppressed between adjacent inclined surfaces.

≪第3実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第3実施形態について説明する。
«Third embodiment»
Next, a third embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図9(a)は、本発明の光導波路の第3実施形態を示す平面図であり、図9(b)は、図9(a)のA−A線断面図である。なお、以下の説明では、図9(b)における下方を「下」といい、図9(b)における上方を「上」という。また、図9では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 9A is a plan view showing a third embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 9A. In the following description, the lower side in FIG. 9B is referred to as “lower”, and the upper side in FIG. 9B is referred to as “upper”. In FIG. 9, dense dots are attached to the core portion 14 and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第3実施形態について説明するが、以下の説明では、第1、第2実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, the third embodiment will be described. In the following description, differences from the first and second embodiments will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.

第3実施形態に係る光導波路1は、凹部170の平面視形状が異なる以外、第1、第2実施形態に係る光導波路1と同様である。   The optical waveguide 1 according to the third embodiment is the same as the optical waveguide 1 according to the first and second embodiments except that the shape of the concave portion 170 in plan view is different.

すなわち、図9に示す光導波路1は、平面視において凹部170の開口の形状が丸みを帯びている。より具体的には、図9に示す凹部170の開口は、角部が丸みを帯びた長方形をなしている。凹部170の開口がこのような丸みを帯びた形状をなしていることにより、光導波路1の周囲の温度が変化した場合に、開口近傍における応力分布の変化がより抑えられる。このため、コア部14に波及する応力分布の変化量の低減が図られ、傾斜面171における光の反射効率の低下をより小さく抑えることができる。   That is, in the optical waveguide 1 shown in FIG. 9, the shape of the opening of the concave portion 170 is rounded in a plan view. More specifically, the opening of the recess 170 shown in FIG. 9 has a rectangular shape with rounded corners. Since the opening of the recess 170 has such a rounded shape, when the temperature around the optical waveguide 1 changes, the change in the stress distribution in the vicinity of the opening is further suppressed. For this reason, the amount of change in the stress distribution spreading to the core portion 14 can be reduced, and the decrease in the light reflection efficiency on the inclined surface 171 can be further suppressed.

また、図9に示す凹部170では、クラッド層12とコア層13との界面における凹部170の断面形状、コア層13とクラッド層11との界面における凹部170の断面形状、および、凹部170の底面の形状も、それぞれ丸みを帯びた形状であるのが好ましい。これにより、各界面や底面においても、応力分布の変化をより抑えることができる。その結果、傾斜面171における光の反射効率の低下をより小さく抑えることができる。   9, the cross-sectional shape of the concave portion 170 at the interface between the cladding layer 12 and the core layer 13, the cross-sectional shape of the concave portion 170 at the interface between the core layer 13 and the cladding layer 11, and the bottom surface of the concave portion 170. Each of the shapes is preferably rounded. Thereby, the change in stress distribution can be further suppressed at each interface and bottom surface. As a result, a decrease in light reflection efficiency on the inclined surface 171 can be further suppressed.

なお、凹部170の開口形状、断面形状および底面形状の最小曲率半径は、それぞれ1〜500μm程度であるのが好ましく、3〜400μm程度であるのがより好ましく、10〜350μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、傾斜面171における光の反射効率の低下をより十分に抑えることができる。また、開口形状等の最小曲率半径が前記上限値を上回った場合には、開口等の面積が広くなり過ぎて、複数の凹部170を形成する場合の形成密度が低下するおそれがある。   Note that the minimum curvature radii of the opening shape, the cross-sectional shape, and the bottom surface shape of the concave portion 170 are each preferably about 1 to 500 μm, more preferably about 3 to 400 μm, and further about 10 to 350 μm. preferable. Thereby, the fall of the light reflection efficiency in the inclined surface 171 can be suppressed more fully. If the minimum radius of curvature of the opening shape or the like exceeds the upper limit value, the area of the opening or the like becomes too large, and the formation density when forming the plurality of recesses 170 may be reduced.

また、第3実施形態においても、第1、第2実施形態と同様の作用、効果が得られる。すなわち、光導波路1に複数本のコア部が形成され、そのうちの少なくとも1本が上述したコア部14であれば、隣り合う傾斜面同士において光路変換に伴うクロストークの発生が抑制される。   Also in the third embodiment, the same operation and effect as in the first and second embodiments can be obtained. That is, when a plurality of core portions are formed in the optical waveguide 1 and at least one of the core portions is the above-described core portion 14, the occurrence of crosstalk associated with optical path conversion is suppressed between adjacent inclined surfaces.

≪第4実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第4実施形態について説明する。
<< Fourth Embodiment >>
Next, a fourth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図10は、本発明の光導波路の第4実施形態を示す平面図である。なお、図10では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 10 is a plan view showing a fourth embodiment of the optical waveguide of the present invention. In FIG. 10, dense dots are attached to the core portion 14, and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第4実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜第3実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, although 4th Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st-3rd embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.

第4実施形態に係る光導波路1は、コア部14の本数と凹部170の平面視形状とが異なる以外、第1〜第3実施形態に係る光導波路1と同様である。   The optical waveguide 1 according to the fourth embodiment is the same as the optical waveguide 1 according to the first to third embodiments except that the number of core portions 14 and the shape of the concave portion 170 in plan view are different.

すなわち、図10に示す光導波路1は、2本のコア部14を備えている。各コア部14は、広幅部145と狭幅部146とを備えている。また、コア部14の端部141と広幅部145とが一致している。   That is, the optical waveguide 1 shown in FIG. 10 includes two core portions 14. Each core part 14 includes a wide part 145 and a narrow part 146. Further, the end portion 141 of the core portion 14 and the wide width portion 145 coincide with each other.

一方、光導波路1は、その平面視において、2本のコア部14の端部141における長手方向の端141aが、いずれも図10に示す空洞部170Aの内側に位置するように構成されている。すなわち、1つの空洞部170Aが、複数のコア部14の端部141に跨るように設けられている。   On the other hand, the optical waveguide 1 is configured so that the longitudinal ends 141a of the end portions 141 of the two core portions 14 are located inside the cavity portion 170A shown in FIG. . That is, one hollow portion 170 </ b> A is provided so as to straddle the end portions 141 of the plurality of core portions 14.

また、光導波路1は、その平面視において、端部141の短手方向に隣り合っている低屈折率部16が、空洞部170Aの外縁と重なるように構成されている。   Further, the optical waveguide 1 is configured such that the low refractive index portion 16 adjacent in the short direction of the end portion 141 overlaps the outer edge of the cavity portion 170A in the plan view.

このような光導波路1によれば、外部の光学部品と光学的に接続される際、2つの傾斜面171の間で互いに光信号が混信すること、すなわち光路変換に伴うクロストークが発生すること、を抑制することができる。その結果、S/N比が高く、高品質な光通信を行い得る光導波路1が得られる。   According to such an optical waveguide 1, when optically connected to an external optical component, optical signals interfere with each other between the two inclined surfaces 171, that is, crosstalk due to optical path conversion occurs. Can be suppressed. As a result, the optical waveguide 1 having a high S / N ratio and capable of performing high-quality optical communication is obtained.

また、本実施形態では、1つの空洞部170Aにおいて、複数のコア部14の光路変換を担っている。このため、傾斜面171の傾斜角度や表面粗さ等が、コア部14ごとで揃い易くなり、コア部14ごとの光路変換角度のバラツキが抑えられる。その結果、各コア部14における外部の光学部品に対する光結合効率の均一化を図り、光導波路1の信頼性をより高めることができる。また、空洞部170Aの形成作業の回数が削減されるので、光導波路1の製造工程の簡略化を図ることができる。   Moreover, in this embodiment, the optical path conversion of the several core part 14 is borne in one cavity part 170A. For this reason, the inclination angle, surface roughness, and the like of the inclined surface 171 are easily aligned for each core portion 14, and variations in the optical path conversion angle for each core portion 14 are suppressed. As a result, the optical coupling efficiency with respect to an external optical component in each core portion 14 can be made uniform, and the reliability of the optical waveguide 1 can be further improved. In addition, since the number of times of forming the cavity 170A is reduced, the manufacturing process of the optical waveguide 1 can be simplified.

なお、1つの空洞部170Aが跨るコア部14の本数は、特に限定されず、3本以上であってもよい。
また、第4実施形態においても、第1〜第3実施形態と同様の作用、効果が得られる。
In addition, the number of the core parts 14 which one cavity part 170A straddles is not specifically limited, Three or more may be sufficient.
Moreover, also in 4th Embodiment, the effect | action and effect similar to 1st-3rd embodiment are acquired.

≪第5実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第5実施形態について説明する。
«Fifth embodiment»
Next, a fifth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図11は、本発明の光導波路の第5実施形態を示す平面図である。なお、図11では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 11 is a plan view showing a fifth embodiment of the optical waveguide of the present invention. In FIG. 11, dense dots are attached to the core portion 14, and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第5実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜第4実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, although 5th Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st-4th embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.

第5実施形態に係る光導波路1は、コア部14の端部141(広幅部145)の平面視形状が異なる以外、第4実施形態に係る光導波路1と同様である。   The optical waveguide 1 according to the fifth embodiment is the same as the optical waveguide 1 according to the fourth embodiment except that the shape of the end portion 141 (wide portion 145) of the core portion 14 is different in plan view.

すなわち、図11に示す光導波路1も、図10に示す光導波路1と同様、2本のコア部14を備えているものの、この2本のコア部14の端部141同士が繋がっている点で相違している。これにより、第2実施形態に比べて、この端部141(広幅部145)の幅をより広げることができる。その結果、広幅部145における入出射効率が高くなり、外部の光学部品に対する光結合効率をより高めることができる。   That is, the optical waveguide 1 shown in FIG. 11 also includes two core portions 14 as in the optical waveguide 1 shown in FIG. 10, but the end portions 141 of the two core portions 14 are connected to each other. Is different. Thereby, compared with 2nd Embodiment, the width | variety of this edge part 141 (wide part 145) can be expanded more. As a result, the entrance / exit efficiency in the wide portion 145 is increased, and the optical coupling efficiency with respect to an external optical component can be further increased.

また、前記各実施形態と同様、光導波路1は、その平面視において、端部141における長手方向の端141aが、図11に示す空洞部170Aの内側に位置するように構成されている。   Similarly to the above embodiments, the optical waveguide 1 is configured such that the end 141a in the longitudinal direction of the end 141 is located inside the cavity 170A shown in FIG.

また、光導波路1は、その平面視において、端部141の短手方向に隣り合っている低屈折率部16が、空洞部170Aの外縁と重なるように構成されている。   Further, the optical waveguide 1 is configured such that the low refractive index portion 16 adjacent in the short direction of the end portion 141 overlaps the outer edge of the cavity portion 170A in the plan view.

このような光導波路1によれば、外部の光学部品と光学的に接続される際、この傾斜面171とそれに隣り合う傾斜面(図示せず)との間で、互いに光信号が混信すること、すなわち光路変換に伴うクロストークが発生すること、を抑制することができる。その結果、S/N比が高く、高品質な光通信を行い得る光導波路1が得られる。   According to such an optical waveguide 1, when optically connected to an external optical component, optical signals interfere with each other between the inclined surface 171 and an adjacent inclined surface (not shown). That is, it is possible to suppress the occurrence of crosstalk accompanying the optical path change. As a result, the optical waveguide 1 having a high S / N ratio and capable of performing high-quality optical communication is obtained.

さらに、傾斜面171の多くの領域がコア部14の断面で占められることになる。このため、例えば機械加工やレーザー加工等により凹部170を形成する場合に、構成材料の違いによる加工レートのバラツキが発生し難くなる。その結果、より面精度の高い傾斜面171が得られることとなり、傾斜面171における光の反射効率を高めることに寄与する。
なお、第5実施形態においても、第1〜第4実施形態と同様の作用、効果が得られる。
Furthermore, many regions of the inclined surface 171 are occupied by the cross section of the core portion 14. For this reason, when the recessed part 170 is formed by, for example, machining or laser processing, variations in the processing rate due to differences in constituent materials are less likely to occur. As a result, the inclined surface 171 with higher surface accuracy is obtained, which contributes to increasing the light reflection efficiency on the inclined surface 171.
In addition, also in 5th Embodiment, the effect | action and effect similar to 1st-4th embodiment are acquired.

≪第6実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第6実施形態について説明する。
<< Sixth Embodiment >>
Next, a sixth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図12は、本発明の光導波路の第6実施形態を示す平面図である。なお、図12では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 12 is a plan view showing a sixth embodiment of the optical waveguide of the present invention. In FIG. 12, dense dots are attached to the core portion 14, and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第6実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜第5実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, the sixth embodiment will be described. In the following description, differences from the first to fifth embodiments will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.

第6実施形態に係る光導波路1は、コア部14の広幅部145の平面視形状が異なる以外、第3実施形態に係る光導波路1と同様である。   The optical waveguide 1 according to the sixth embodiment is the same as the optical waveguide 1 according to the third embodiment except that the shape of the wide portion 145 of the core portion 14 is different in plan view.

すなわち、図12に示す広幅部145は、図9に示す広幅部145に比べて、コア部14の長手方向における長さが長くなっている。このため、光導波路1の平面視において、広幅部145の一部は空洞部170Aの輪郭から外側にはみ出すことになっている。しかしながら、この場合であっても、コア部14の端部141における長手方向の端141aは、空洞部170Aの内側に位置しているとともに、端部141の短手方向に隣り合っている低屈折率部16は、空洞部170Aの外縁と重なっている。換言すれば、本実施形態では、端部141が広幅部145の一部と重なっており、この端部141(広幅部145の一部)空洞部170Aの内側に位置しているものの、広幅部145の他部は空洞部170Aの外側にはみ出している。このため、本実施形態においても、第3実施形態と同様の作用、効果が得られる。   That is, the wide portion 145 shown in FIG. 12 is longer in the longitudinal direction of the core portion 14 than the wide portion 145 shown in FIG. For this reason, in the plan view of the optical waveguide 1, a part of the wide portion 145 protrudes outward from the outline of the cavity 170A. However, even in this case, the end 141a in the longitudinal direction of the end portion 141 of the core portion 14 is located inside the cavity portion 170A, and is adjacent to the short direction of the end portion 141. The rate portion 16 overlaps the outer edge of the cavity portion 170A. In other words, in the present embodiment, the end portion 141 overlaps a part of the wide width portion 145, and although the end portion 141 (a part of the wide width portion 145) is located inside the cavity portion 170A, the wide width portion The other part of 145 protrudes outside the cavity 170A. For this reason, also in this embodiment, the same operation and effect as the third embodiment can be obtained.

≪第7実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第7実施形態について説明する。
<< Seventh Embodiment >>
Next, a seventh embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図13は、本発明の光導波路の第7実施形態を示す平面図である。なお、図13では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 13 is a plan view showing a seventh embodiment of the optical waveguide of the present invention. In FIG. 13, dense dots are attached to the core portion 14, and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第7実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜第6実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, the seventh embodiment will be described. In the following description, differences from the first to sixth embodiments will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.

第7実施形態に係る光導波路1は、凹部170の幅(短手方向の長さ)が、凹部170の開口から底面に向かうにつれて徐々に短くなるように構成されている。これに対し、第3実施形態に係る光導波路1は、凹部170の幅が、凹部170の開口から底面に向かうにつれて一定になるように構成されている。   The optical waveguide 1 according to the seventh embodiment is configured such that the width of the concave portion 170 (length in the short direction) gradually decreases from the opening of the concave portion 170 toward the bottom surface. On the other hand, the optical waveguide 1 according to the third embodiment is configured such that the width of the concave portion 170 becomes constant from the opening of the concave portion 170 toward the bottom surface.

すなわち、図9に示す凹部170では、その内側面が傾斜面171、172と直立面173、174とに分かれているのに対し、図13に示す凹部170では、その内側面が全て傾斜面になっており、図9における直立面173、174に対応して、傾斜面173’、174’が設けられている。このような図13に示す凹部170は、比較的形成し易いことから、製造効率の観点から有用である。   That is, in the recess 170 shown in FIG. 9, the inner surface is divided into inclined surfaces 171 and 172 and upright surfaces 173 and 174, whereas in the recess 170 shown in FIG. In correspondence with the upright surfaces 173 and 174 in FIG. 9, inclined surfaces 173 ′ and 174 ′ are provided. Such a recess 170 shown in FIG. 13 is useful from the viewpoint of manufacturing efficiency because it is relatively easy to form.

なお、このような第7実施形態においても、第1〜第6実施形態と同様の作用、効果が得られる。   In addition, also in such 7th Embodiment, the effect | action and effect similar to 1st-6th Embodiment are acquired.

≪第8実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第8実施形態について説明する。
<< Eighth Embodiment >>
Next, an eighth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図14(a)は、本発明の光導波路の第8実施形態を示す平面図であり、図14(b)は、図14(a)のA−A線断面図である。なお、図14では、図13では、コア部14に対して密なドットを付し、低屈折率部16に対して疎なドットを付している。   FIG. 14A is a plan view showing an eighth embodiment of the optical waveguide of the present invention, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. In FIG. 14, in FIG. 13, dense dots are attached to the core portion 14, and sparse dots are attached to the low refractive index portion 16.

以下、第8実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜第7実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, the eighth embodiment will be described. In the following description, differences from the first to seventh embodiments will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.

前述した第3実施形態に係る光導波路1(図9)では、平面視において傾斜面171と対向するように傾斜面172が設けられているのに対し、第8実施形態に係る光導波路1(図14)では、傾斜面172に対応して、直立面172’が設けられている。このような図14に示す凹部170は、凹部170を形成する際に、加工量が少なくて済むことから、製造効率の観点から有用である。   In the optical waveguide 1 (FIG. 9) according to the third embodiment described above, the inclined surface 172 is provided so as to face the inclined surface 171 in plan view, whereas the optical waveguide 1 according to the eighth embodiment ( In FIG. 14), an upright surface 172 ′ is provided corresponding to the inclined surface 172. Such a concave portion 170 shown in FIG. 14 is useful from the viewpoint of manufacturing efficiency because the processing amount is small when forming the concave portion 170.

なお、このような第8実施形態においても、第1〜第7実施形態と同様の作用、効果が得られる。   In addition, also in such 8th Embodiment, the effect | action and effect similar to 1st-7th Embodiment are acquired.

<光電気混載基板>
次に、本発明の光電気混載基板の実施形態について説明する。
<Opto-electric hybrid board>
Next, an embodiment of the opto-electric hybrid board according to the present invention will be described.

図15は、本発明の光電気混載基板の実施形態を示す縦断面図である。
図15に示す光電気混載基板100は、光導波路1と、その上方に積層された電気配線基板5と、これらの間に介挿され両者を接着する接着層90と、を有している。以下、光電気混載基板100の各部の構成について順次説明する。
FIG. 15 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the opto-electric hybrid board according to the present invention.
An opto-electric hybrid board 100 shown in FIG. 15 has an optical waveguide 1, an electric wiring board 5 laminated thereon, and an adhesive layer 90 that is interposed between them and adheres them. Hereinafter, the configuration of each part of the opto-electric hybrid board 100 will be sequentially described.

なお、図15に示す光導波路1は、積層体10に加え、積層体10の下方に設けられた支持フィルム2と、積層体10の上方に設けられたカバーフィルム3と、を備えている。これらのフィルムを設けることで、積層体10を外部環境や外力から保護することができ、光導波路1の信頼性をより高めることができる。   The optical waveguide 1 shown in FIG. 15 includes a support film 2 provided below the laminate 10 and a cover film 3 provided above the laminate 10 in addition to the laminate 10. By providing these films, the laminate 10 can be protected from the external environment and external force, and the reliability of the optical waveguide 1 can be further increased.

支持フィルム2およびカバーフィルム3の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料が挙げられる。   Examples of the constituent material of the support film 2 and the cover film 3 include various resin materials such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin such as polyethylene and polypropylene, polyimide, and polyamide.

また、支持フィルム2およびカバーフィルム3の平均厚さは、特に限定されないが、5〜500μm程度であるのが好ましく、10〜400μm程度であるのがより好ましい。これにより、外力や外部環境から積層体10をより確実に保護することができる。   Moreover, although the average thickness of the support film 2 and the cover film 3 is not specifically limited, It is preferable that it is about 5-500 micrometers, and it is more preferable that it is about 10-400 micrometers. Thereby, the laminated body 10 can be more reliably protected from external force and an external environment.

図15に示す電気配線基板5は、コア基板51とその両面に積層されたビルドアップ層52とを備えた多層基板50と、この多層基板50を貫通する貫通孔53と、を有している。   The electrical wiring board 5 shown in FIG. 15 has a multilayer board 50 having a core board 51 and build-up layers 52 laminated on both surfaces thereof, and a through hole 53 penetrating the multilayer board 50. .

コア基板51の構成材料としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、各種ビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等の各種樹脂材料が挙げられる。この他、紙、ガラス布、樹脂フィルム等を基材とし、この基材に、フェノール系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂材料を含浸させたもの、具体的には、ガラス布・エポキシ銅張積層板、ガラス不織布・エポキシ銅張積層板等のコンポジット銅張積層板に使用される絶縁性基板の他、ポリエーテルイミド樹脂基板、ポリエーテルケトン樹脂基板、ポリサルフォン系樹脂基板等の耐熱・熱可塑性の有機系リジッド基板や、アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、炭化ケイ素基板等のセラミックス系リジッド基板等であってもよい。   Examples of the constituent material of the core substrate 51 include various resin materials such as polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, various vinyl resins, and polyester resins such as polyethylene terephthalate resins. In addition, paper, glass cloth, resin film, etc. are used as a base material, and this base material is impregnated with a resin material such as a phenol resin, a polyester resin, an epoxy resin, a cyanate resin, a polyimide resin, or a fluorine resin. In addition to insulating substrates used for composite copper-clad laminates such as glass cloth / epoxy copper-clad laminates, glass nonwoven fabrics / epoxy copper-clad laminates, polyetherimide resin substrates, polyethers It may be a heat-resistant / thermoplastic organic rigid substrate such as a ketone resin substrate or a polysulfone resin substrate, or a ceramic rigid substrate such as an alumina substrate, an aluminum nitride substrate, or a silicon carbide substrate.

また、コア基板51には、その両面に積層されたビルドアップ層52同士を電気的に接続する貫通配線が形成されている。   The core substrate 51 is formed with through wirings that electrically connect the build-up layers 52 laminated on both surfaces thereof.

一方、ビルドアップ層52は、絶縁層521と導体層522とを交互に積層することにより形成される。導体層522にはパターニングが施され、電気配線が形成されている。また、絶縁層521には、その両面に設けられた電気配線同士を接続する貫通配線が形成されている。   On the other hand, the buildup layer 52 is formed by alternately laminating insulating layers 521 and conductor layers 522. The conductor layer 522 is patterned to form electrical wiring. Insulating layer 521 is formed with through wiring that connects the electrical wirings provided on both surfaces thereof.

これらの導体層522および貫通配線は、それぞれ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、金、銀のような金属単体、またはこれらの金属元素を含む合金等の導電性材料で構成される。   Each of the conductor layer 522 and the through wiring is made of a conductive material such as a simple metal such as copper, aluminum, nickel, chromium, zinc, tin, gold, silver, or an alloy containing these metal elements. .

また、絶縁層521は、酸化ケイ素、窒化ケイ素のようなケイ素化合物、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような樹脂材料等により構成される。   The insulating layer 521 is made of a silicon compound such as silicon oxide or silicon nitride, a resin material such as a polyimide resin or an epoxy resin, or the like.

このようにして、ビルドアップ層52内には、面方向のみでなく厚さ方向にも広がる電気回路を構築することができ、電気回路の高密度化を図ることができる。   In this way, an electrical circuit that extends not only in the plane direction but also in the thickness direction can be constructed in the buildup layer 52, and the density of the electrical circuit can be increased.

なお、このような多層基板50は、いかなる工法で形成されたものであってもよいが、一例としてアディティブ法、セミアディティブ法、サブトラクティブ法等の各種ビルドアップ工法により形成される。   In addition, although such a multilayer substrate 50 may be formed by what kind of construction method, it is formed by various buildup construction methods, such as an additive method, a semi-additive method, and a subtractive method, as an example.

また、本発明の光電気混載基板が備える電気配線基板は、上述した電気配線基板5のような多層基板を含むものに限定されず、例えば多層基板を単層の電気配線基板(リジッド基板)で代替したものであってもよく、ポリイミド基板、ポリエステル基板、アラミドフィルム基板のような各種フレキシブル基板で代替したものであってもよい。また、多層基板50は、コア基板51を含まないコアレスの多層基板で代替することもできる。なお、フレキシブル基板の場合、それ自体が十分な光透過性を有しているので、光スルーホールとして機能する貫通孔53は形成されていなくてもよい。   The electrical wiring board provided in the opto-electric hybrid board of the present invention is not limited to the one including the multilayer board such as the electrical wiring board 5 described above. For example, the multilayer board is a single-layer electrical wiring board (rigid board). It may be replaced, or may be replaced with various flexible substrates such as a polyimide substrate, a polyester substrate, and an aramid film substrate. The multilayer substrate 50 can be replaced with a coreless multilayer substrate that does not include the core substrate 51. In the case of a flexible substrate, since the substrate itself has sufficient light transmittance, the through hole 53 that functions as an optical through hole may not be formed.

また、図15に示す電気配線基板5は、多層基板50の上面に設けられたソルダーレジスト層54を有している。なお、ソルダーレジスト層54のうち、導体層522との接続部には開口が形成されている。   Further, the electrical wiring substrate 5 shown in FIG. 15 has a solder resist layer 54 provided on the upper surface of the multilayer substrate 50. In the solder resist layer 54, an opening is formed at a connection portion with the conductor layer 522.

ソルダーレジスト層54は、各種樹脂材料で構成され、必要に応じて無機フィラーを含む。ソルダーレジスト層54の平均厚さは、特に限定されないが10〜100μm程度であるのが好ましく、20〜50μm程度であるのがより好ましい。   The solder resist layer 54 is made of various resin materials and includes an inorganic filler as necessary. The average thickness of the solder resist layer 54 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 100 μm, and more preferably about 20 to 50 μm.

以上のような光導波路1と電気配線基板5とが接着層90を介して接着されることにより、光電気混載基板100が得られる。   The optical / electrical hybrid substrate 100 is obtained by bonding the optical waveguide 1 and the electric wiring substrate 5 as described above through the adhesive layer 90.

また、この光電気混載基板100に光素子6を搭載することにより、光モジュール1000が得られる。図15に示す光素子6は、素子本体60と、素子本体60の下面に設けられた受発光部61および端子62と、端子62から下方に突出するよう設けられたバンプ63と、を有している。なお、受発光部とは、受光部または発光部、あるいはその双方の機能を有するものを指す。   Further, by mounting the optical element 6 on the opto-electric hybrid board 100, an optical module 1000 is obtained. The optical element 6 shown in FIG. 15 has an element body 60, a light emitting / receiving portion 61 and a terminal 62 provided on the lower surface of the element body 60, and a bump 63 provided so as to protrude downward from the terminal 62. ing. The light emitting / receiving unit refers to a light receiving unit, a light emitting unit, or a unit having both functions.

光素子6は、受発光部61の光軸とコア部14の光軸とが傾斜面171を介して一致するよう配置されている。これにより、光導波路1と光素子6とが光学的に接続され、光導波路1を伝搬する光信号を光素子6に受光させたり、光素子6から出射された光信号を光導波路1に入射したりすることができる。   The optical element 6 is disposed such that the optical axis of the light emitting / receiving unit 61 and the optical axis of the core unit 14 coincide with each other via the inclined surface 171. Thereby, the optical waveguide 1 and the optical element 6 are optically connected, and the optical signal propagating through the optical waveguide 1 is received by the optical element 6, or the optical signal emitted from the optical element 6 is incident on the optical waveguide 1. You can do it.

また、バンプ63は、導体層522に接続されている。これにより、光素子6が機械的に固定されるとともに、光素子6の端子62と導体層522とが電気的に接続され、光素子6の動作を電気配線基板5側から制御し得るよう構成されている。   Further, the bump 63 is connected to the conductor layer 522. Thereby, the optical element 6 is mechanically fixed, the terminal 62 of the optical element 6 and the conductor layer 522 are electrically connected, and the operation of the optical element 6 can be controlled from the electric wiring board 5 side. Has been.

光素子6としては、例えば、面発光レーザー(VCSEL)、発光ダイオード(LED)、有機EL素子等の発光素子、フォトダイオード(PD、APD)等の受光素子が挙げられる。   Examples of the optical element 6 include a light emitting element such as a surface emitting laser (VCSEL), a light emitting diode (LED), and an organic EL element, and a light receiving element such as a photodiode (PD, APD).

また、図15に示す光電気混載基板100には、図示しない電気素子が搭載されていてもよい。電気素子としては、例えば、IC、LSI、RAM、ROM、コンデンサー、コイル、抵抗、ダイオード等が挙げられる。   Further, an electric element (not shown) may be mounted on the opto-electric hybrid board 100 shown in FIG. Examples of the electric element include IC, LSI, RAM, ROM, capacitor, coil, resistor, and diode.

なお、接着層90は、光路上にあるため、透光性を有しているものが好ましい。接着層90の構成材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、イミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、ユリア系樹脂等の樹脂材料が挙げられる。   Note that since the adhesive layer 90 is on the optical path, the adhesive layer 90 preferably has translucency. Examples of the constituent material of the adhesive layer 90 include resin materials such as an epoxy resin, an imide resin, a silicone resin, a phenol resin, and a urea resin.

このような光電気混載基板100および光モジュール1000では、傾斜面171を介して受発光部61とコア部14とを光学的に接続する際、隣り合う傾斜面の間で、光路変換に伴うクロストークの発生を抑制することができる。これにより、光通信におけるS/N比の低下を抑制し、高品質な光通信を実現することができる。したがって、光電気混載基板100および光モジュール1000は、信頼性の高いものとなる。   In such an opto-electric hybrid board 100 and the optical module 1000, when the light emitting / receiving unit 61 and the core unit 14 are optically connected via the inclined surface 171, the cross associated with the optical path conversion between the adjacent inclined surfaces. The occurrence of talk can be suppressed. Thereby, the fall of the S / N ratio in optical communication can be suppressed, and high quality optical communication can be realized. Therefore, the opto-electric hybrid board 100 and the optical module 1000 are highly reliable.

<電子機器>
上述したような本発明に係る光導波路は、光路変換に伴うクロストークの発生が抑制されたものとなる。このため、本発明の光導波路を備えることにより、高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器(本発明の電子機器)が得られる。
<Electronic equipment>
In the optical waveguide according to the present invention as described above, the occurrence of crosstalk accompanying the optical path conversion is suppressed. For this reason, by providing the optical waveguide of the present invention, a highly reliable electronic device (electronic device of the present invention) capable of performing high-quality optical communication can be obtained.

本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が図られ、また、電子機器の低コスト化に貢献することができる。   Examples of the electronic device including the optical waveguide of the present invention include electronic devices such as a mobile phone, a game machine, a router device, a WDM device, a personal computer, a television, and a home server. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the optical waveguide of the present invention, problems such as noise and signal degradation peculiar to electric wiring are eliminated, and the performance of the electronic device is dramatically improved. It can contribute to cost reduction.

さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。   In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the electric power required for cooling can be reduced and the power consumption of the whole electronic device can be reduced.

以上、本発明の光導波路、光電気混載基板および電子機器について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、前記各実施形態に係る光導波路および光電気混載基板には、任意の構成物が付加されていてもよい。   As described above, the optical waveguide, the opto-electric hybrid board and the electronic device of the present invention have been described, but the present invention is not limited to this, for example, the optical waveguide and the opto-electric hybrid board according to each embodiment described above, Arbitrary components may be added.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.光導波路の製造
(実施例1)
(1)ノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン(HxNB)7.2g(40.1mmol)、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g(40.1mmol)を500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Production of optical waveguide (Example 1)
(1) Synthesis of norbornene-based resin In a glove box whose moisture and oxygen concentrations are both controlled to 1 ppm or less and filled with dry nitrogen, 7.2 g (40.1 mmol) of hexylnorbornene (HxNB), diphenylmethylnorbornenemethoxy 12.9 g (40.1 mmol) of silane was weighed into a 500 mL vial, 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate were added, and the top was sealed with a silicon sealer.

次に、100mLバイアルビン中にNi触媒1.56g(3.2mmol)と脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。   Next, 1.56 g (3.2 mmol) of Ni catalyst and 10 mL of dehydrated toluene were weighed in a 100 mL vial, and a stirrer chip was placed and sealed, and the catalyst was thoroughly stirred to dissolve completely.

このNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン(THF)60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。   When 1 mL of this Ni catalyst solution was accurately weighed with a syringe, and quantitatively injected into the vial bottle in which the two kinds of norbornene were dissolved and stirred at room temperature for 1 hour, a marked increase in viscosity was confirmed. At this point, the stopper was removed, 60 g of tetrahydrofuran (THF) was added, and the mixture was stirred to obtain a reaction solution.

100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g(濃度30%)、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。   In a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide (concentration 30%) and 30 g of ion-exchanged water were added and stirred to prepare an aqueous solution of peracetic acid on the spot. Next, the total amount of this aqueous solution was added to the above reaction solution and stirred for 12 hours to reduce Ni.

次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30%水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60℃に設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー#1を得た。ポリマー#1の分子量分布は、GPC測定により、Mw=10万、Mn=4万であった。また、ポリマー#1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50mol%であった。   Next, the treated reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower aqueous layer was removed, and then 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added and vigorously stirred. The aqueous layer was removed after standing and completely separating the two layers. After repeating this water washing process three times in total, the oil layer was dropped into a large excess of acetone to reprecipitate the polymer produced, separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 ° C. Polymer # 1 was obtained by heating and drying for 12 hours. The molecular weight distribution of the polymer # 1 was Mw = 100,000 and Mn = 40,000 by GPC measurement. The molar ratio of each structural unit in polymer # 1 was 50 mol% for the hexylnorbornene structural unit and 50 mol% for the diphenylmethylnorbornenemethoxysilane structural unit, as determined by NMR.

(2)コア層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー(東亜合成製 CHOX、CAS#483303−25−9、分子量186、沸点125℃/1.33kPa)2g、重合開始剤(光酸発生剤) RhodorsilPhotoinitiator 2074(Rhodia社製、CAS# 178233−72−2)(0.025g、酢酸エチル0.1mL中)を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。
(2) Production of composition for forming core layer 10 g of the above-mentioned polymer # 1 was weighed into a 100 mL glass container, and 40 g of mesitylene, 0.01 g of antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy), cyclohexyloxetane monomer (Toa) Synthetic CHOX, CAS # 483303-3-25-9, molecular weight 186, boiling point 125 ° C./1.33 kPa) 2 g, polymerization initiator (photoacid generator) Rhodosil Photoinitiator 2074 (manufactured by Rhodia, CAS # 178233-72-2) ( 0.025 g in 0.1 mL of ethyl acetate) was added and dissolved uniformly, and then filtered through a 0.2 μm PTFE filter to obtain a clean composition for forming a core layer.

(3)クラッド層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー#1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位80mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位20mol%にそれぞれ変更したものを、前記ポリマー#1に代えて用いるようにした以外はコア層形成用組成物と同様にしてクラッド層形成用組成物を得た。
(3) Manufacture of the composition for forming a clad layer The molar ratio of each structural unit of the purified polymer # 1 was changed to hexylnorbornene structural unit 80 mol% and diphenylmethylnorbornenemethoxysilane structural unit 20 mol%, respectively. A cladding layer forming composition was obtained in the same manner as the core layer forming composition except that it was used in place of polymer # 1.

(4)第1クラッド層の作製
離型層を形成した基材フィルム上に、(3)で製造したクラッド層形成用組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した組成物を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な第1クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cmとした。
(4) Production of first clad layer The clad layer-forming composition produced in (3) was uniformly applied with a doctor blade on the base film on which the release layer was formed, and then applied to a dryer at 50 ° C. Added for a minute. After completely removing the solvent, the entire surface was irradiated with UV light by a UV exposure machine to cure the applied composition. As a result, a colorless and transparent first cladding layer having a thickness of 10 μm was obtained. The cumulative amount of ultraviolet light was 500 mJ / cm 2 .

(5)コア層の作製
離型層を形成した基材フィルム上に、コア層樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、45℃の乾燥機に5分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンが全面に描かれたフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は800mJ/cmとした。
(5) Preparation of core layer After apply | coating a core layer resin composition uniformly with a doctor blade on the base film in which the mold release layer was formed, it injected | thrown-in to 45 degreeC drying machine for 5 minutes. After completely removing the solvent to form a film, a photomask having a linear pattern of lines and spaces drawn on the entire surface was pressure-bonded onto the obtained film. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the photomask with a parallel exposure machine. The cumulative amount of ultraviolet light was 800 mJ / cm 2 .

次いで、フォトマスクを取り去り、150℃のオーブンに20分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。なお、得られたコア層の厚さは50μm、コア部の本数は8本とした。   Next, the photomask was removed and placed in an oven at 150 ° C. for 20 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a clear waveguide pattern appeared on the coating. The thickness of the obtained core layer was 50 μm, and the number of core portions was 8.

ここで、コア層については複数作製し、このうちの1つの横断面について、干渉顕微鏡により屈折率分布を取得した。その結果、コア層の横断面には、図6に示すような屈折率分布が認められた。そこで、屈折率分布の曲線が極大を示している領域をコア部とし、その領域の両側に位置し屈折率分布の曲線が極小を示している領域を低屈折率部とし、低屈折率部のコア部側とは反対側に位置し低屈折率部よりも屈折率が高い領域を側面クラッド部として、各部の寸法を求めた。その結果、コア部の幅が50μm、低屈折率部の幅が10μmであった。また、低屈折率部の最低屈折率と側面クラッド部の最高屈折率との差を表中に「屈折率差」として示す。   Here, a plurality of core layers were prepared, and a refractive index distribution was obtained with an interference microscope for one of the cross sections. As a result, a refractive index distribution as shown in FIG. 6 was observed in the cross section of the core layer. Therefore, the region where the refractive index distribution curve shows the maximum is the core portion, the region located on both sides of the region where the refractive index distribution curve shows the minimum is the low refractive index portion, and the low refractive index portion The dimension of each part was calculated | required by making the area | region located on the opposite side to a core part side into a side cladding part the area | region where a refractive index is higher than a low refractive index part. As a result, the width of the core portion was 50 μm, and the width of the low refractive index portion was 10 μm. The difference between the lowest refractive index of the low refractive index portion and the highest refractive index of the side cladding portion is shown as “refractive index difference” in the table.

(6)第2クラッド層の作製
離型層を形成した基材フィルム上に、(4)と同様にしてクラッド層形成用組成物を塗布し、厚さ10μmの無色透明な第2クラッド層を得た。
(6) Preparation of second clad layer On the base film on which the release layer is formed, a clad layer forming composition is applied in the same manner as in (4), and a colorless and transparent second clad layer having a thickness of 10 μm is formed. Obtained.

(7)積層体の製造
次いで、第1クラッド層上にコア層を重ねた。そして、コア層に付いていた基材フィルムを剥離した。
(7) Manufacture of laminated body Next, a core layer was stacked on the first cladding layer. Then, the base film attached to the core layer was peeled off.

次いで、コア層上に第2クラッド層を重ねた。そして、第2クラッド層に付いていた基材フィルムを剥離した。   Next, the second cladding layer was overlaid on the core layer. Then, the base film attached to the second cladding layer was peeled off.

その後、第1クラッド層、コア層および第2クラッド層を加圧し、各層を互いに圧着した。これにより、積層体を得た。   Thereafter, the first cladding layer, the core layer, and the second cladding layer were pressurized, and the layers were pressure-bonded to each other. This obtained the laminated body.

(8)凹部の形成
次に、レーザー加工によりコア部の両端部にそれぞれ空洞部(光反射部)を形成した。これにより、全長10cmの光導波路を得た。なお、形成した空洞部の形状は、図1〜3に示す通りである。また、空洞部とコア部との位置関係に基づく各部の寸法は、以下に示す通りである。
(8) Formation of recessed part Next, the cavity part (light reflection part) was formed in the both ends of the core part by laser processing, respectively. Thereby, an optical waveguide having a total length of 10 cm was obtained. The shape of the formed cavity is as shown in FIGS. Moreover, the dimension of each part based on the positional relationship of a cavity part and a core part is as showing below.

<空洞部とコア部との位置関係に基づく各部の寸法>
・長さL1 : 50μm
・最短距離L2:100μm
・最大長さL3:150μm
<Dimensions of each part based on the positional relationship between the cavity and the core>
・ Length L1: 50 μm
・ Shortest distance L2: 100 μm
・ Maximum length L3: 150 μm

(実施例2)
コア層の作製に際し、紫外線を照射するのに用いるフォトマスクを変更し、図7、8に示す形状のコア部を形成するようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。なお、コア部の端部の寸法は、広幅部の長さ50μm、広幅部の幅70μm、狭幅部の幅50μmとした。また、コア部を取り囲むように低屈折率部が形成されており、低屈折率部の幅は20μmであった。さらに、コア部の形状変更に合わせて、空洞部の作製に用いるレーザー加工用マスクの形状も変更した。
(Example 2)
When producing the core layer, an optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the photomask used to irradiate ultraviolet rays was changed to form the core part having the shape shown in FIGS. . In addition, the dimension of the edge part of a core part was 50 micrometers of widths of the wide part, 70 micrometers of wide parts, and 50 micrometers of narrow parts. Moreover, the low refractive index part was formed so that the core part might be surrounded, and the width | variety of the low refractive index part was 20 micrometers. Furthermore, the shape of the laser processing mask used for producing the hollow portion was also changed in accordance with the change in the shape of the core portion.

(実施例3)
空洞部の作製に際し、レーザー加工用マスクの形状を変更し、図9に示す形状の空洞部を形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。なお、レーザー加工用マスクの形状の最小曲率半径は、20μmとした。
(Example 3)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that the shape of the laser processing mask was changed to form the cavity having the shape shown in FIG. The minimum curvature radius of the shape of the laser processing mask was 20 μm.

(実施例4〜8)
コア部の寸法、空洞部とコア部との位置関係に基づく各部の寸法、および対応図面が表1、2に示す値になるようにした以外は、それぞれ実施例3と同様にして光導波路を得た。
(Examples 4 to 8)
The optical waveguide was formed in the same manner as in Example 3 except that the dimensions of the core part, the dimensions of each part based on the positional relationship between the cavity part and the core part, and the corresponding drawings were as shown in Tables 1 and 2. Obtained.

(実施例9)
凹部にシリコーン材料を充填するようにした以外は、実施例3と同様にして光導波路を得た。なお、シリコーン材料には、コア部より屈折率が約0.1小さいものを用いた。
Example 9
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 3 except that the recess was filled with a silicone material. A silicone material having a refractive index smaller by about 0.1 than that of the core portion was used.

(実施例10)
(1)クラッド層形成用組成物の製造
ダイセル化学工業(株)製の脂環式エポキシ樹脂、セロキサイド2081 20g、(株)ADEKA製のカチオン重合開始剤、アデカオプトマーSP−170 0.6g、およびメチルイソブチルケトン80gを撹拌混合して溶液を調製した。
(Example 10)
(1) Manufacture of composition for forming clad layer Daicel Chemical Industries, Ltd. alicyclic epoxy resin, Celoxide 2081 20 g, ADEKA Co., Ltd. cationic polymerization initiator, Adekaoptomer SP-170 0.6 g, A solution was prepared by stirring and mixing 80 g of methyl isobutyl ketone.

次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用組成物を得た。   Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean and colorless composition for forming a clad layer.

(2)感光性樹脂組成物の製造
エポキシ系ポリマーとして新日鐵化学(株)製のフェノキシ樹脂、YP−50S 20g、光重合性モノマーとしてダイセル化学工業(株)製のセロキサイド2021P 5g、および重合開始剤として(株)ADEKA製のアデカオプトマーSP−170 0.2gを、メチルイソブチルケトン80g中に投入し、撹拌溶解して溶液を調製した。
(2) Manufacture of photosensitive resin composition As an epoxy polymer, phenoxy resin manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., 20 g of YP-50S, 5 g of Celoxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. as a photopolymerizable monomer, and polymerization As an initiator, 0.2 g of Adekaoptomer SP-170 manufactured by ADEKA Corporation was put into 80 g of methyl isobutyl ketone, and dissolved by stirring to prepare a solution.

次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物を得た。   Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean, colorless and transparent photosensitive resin composition.

(3)下側クラッド層の作製
クラッド層形成用組成物をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した樹脂組成物を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cmとした。
(3) Production of lower clad layer The clad layer-forming composition was uniformly applied onto a polyimide film having a thickness of 25 µm by a doctor blade, and then placed in a dryer at 50 ° C for 10 minutes. After the solvent was completely removed, the entire surface was irradiated with ultraviolet rays with a UV exposure machine to cure the applied resin composition. As a result, a colorless and transparent lower cladding layer having a thickness of 10 μm was obtained. The cumulative amount of ultraviolet light was 500 mJ / cm 2 .

(4)コア層の作製
作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、40℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンを描くように、マスクレス露光装置により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は1300mJ/cmとした。
(4) Production of core layer The photosensitive resin composition was uniformly applied by a doctor blade on the produced lower clad layer, and then placed in a dryer at 40 ° C for 10 minutes. After completely removing the solvent to form a film, ultraviolet rays were irradiated by a maskless exposure apparatus so as to draw a linear pattern of lines and spaces on the obtained film. The integrated light quantity of ultraviolet rays was 1300 mJ / cm 2 .

次いで、露光後の被膜を150℃のオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な複数の導波路パターンが現れているのが確認された。なお、得られたコア層の厚さは50μm、コア部の本数は8本とした。   Next, the exposed film was placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a plurality of clear waveguide patterns appeared on the coating. The thickness of the obtained core layer was 50 μm, and the number of core portions was 8.

ここで、コア層については複数作製し、このうちの1つの横断面について、干渉顕微鏡により屈折率分布を取得した。その結果、コア層の横断面には、図6に示すような屈折率分布が認められた。そこで、屈折率分布の曲線が極大を示している領域をコア部とし、その領域の両側に位置し屈折率分布の曲線が極小を示している領域を低屈折率部とし、低屈折率部のコア部側とは反対側に位置し低屈折率部よりも屈折率が高い領域を側面クラッド部として、各部の寸法を求めた。その結果、コア部の幅が50μm、低屈折率部の幅が20μmであった。   Here, a plurality of core layers were prepared, and a refractive index distribution was obtained with an interference microscope for one of the cross sections. As a result, a refractive index distribution as shown in FIG. 6 was observed in the cross section of the core layer. Therefore, the region where the refractive index distribution curve shows the maximum is the core portion, the region located on both sides of the region where the refractive index distribution curve shows the minimum is the low refractive index portion, and the low refractive index portion The dimension of each part was calculated | required by making the area | region located on the opposite side to a core part side into a side cladding part the area | region where a refractive index is higher than a low refractive index part. As a result, the width of the core portion was 50 μm, and the width of the low refractive index portion was 20 μm.

(5)上側クラッド層の作製
作製したコア層上に、(3)と同様にしてクラッド層形成用組成物を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。
(5) Production of upper clad layer A clad layer-forming composition was applied on the produced core layer in the same manner as in (3) to obtain a colorless and transparent upper clad layer having a thickness of 10 μm.

(6)凹部の形成
次に、レーザー加工によりコア部の両端部にそれぞれ空洞部(光反射部)を形成した。これにより、全長10cmの光導波路を得た。なお、形成した空洞部の形状は表2に示す通りである。また、空洞部とコア部との位置関係に基づく各部の寸法も表2に示す通りである。
(6) Formation of recessed part Next, the cavity part (light reflection part) was formed in the both ends of the core part by laser processing, respectively. Thereby, an optical waveguide having a total length of 10 cm was obtained. The shape of the formed cavity is as shown in Table 2. Table 2 also shows the dimensions of each part based on the positional relationship between the cavity part and the core part.

(比較例1)
空洞部とコア部との位置関係が図16に示す関係になるようにした以外は、実施例10と同様にして光導波路を得た。ただし、コア層の形成において、形成条件を変更し、光重合性モノマーの移動量を調整することによって、低屈折率部が形成されないようにした。
(Comparative Example 1)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 10 except that the positional relationship between the hollow portion and the core portion became the relationship shown in FIG. However, in forming the core layer, the low refractive index portion was not formed by changing the formation conditions and adjusting the amount of movement of the photopolymerizable monomer.

(比較例2)
空洞部とコア部との位置関係が図17に示す関係になるようにした以外は、実施例10と同様にして光導波路を得た。ただし、コア層の形成において、形成条件を変更し、光重合性モノマーの移動量を調整することによって、低屈折率部が形成されないようにした。
(Comparative Example 2)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 10 except that the positional relationship between the hollow portion and the core portion became the relationship shown in FIG. However, in forming the core layer, the low refractive index portion was not formed by changing the formation conditions and adjusting the amount of movement of the photopolymerizable monomer.

なお、図16および図17に示す光導波路9は、空洞部970Aとコア部94の端部941との位置関係が異なるとともに、低屈折率部を備えていないこと以外、図3に示す光導波路1と同様である。この光導波路9は、図16(a)および図17(a)に示すように、コア部94の端部941のうち、コア部94の長手方向の端941aが、空洞部970Aの外側に位置している。すなわち、図16に示すコア部94の長手方向の端941aは、空洞部970Aの左側に位置しており、一方、図17に示すコア部94の長手方向の端941aは、空洞部970Aの右側に位置している。   The optical waveguide 9 shown in FIG. 16 and FIG. 17 is different from that of the hollow portion 970A and the end portion 941 of the core portion 94 in that the optical waveguide 9 shown in FIG. Same as 1. As shown in FIGS. 16 (a) and 17 (a), the optical waveguide 9 has an end 941a in the longitudinal direction of the core portion 94 out of the end portion 941 of the core portion 94 positioned outside the cavity portion 970A. doing. That is, the longitudinal end 941a of the core portion 94 shown in FIG. 16 is located on the left side of the cavity portion 970A, while the longitudinal end 941a of the core portion 94 shown in FIG. 17 is on the right side of the cavity portion 970A. Is located.

(比較例3)
空洞部とコア部との位置関係が図18に示す関係になるようにした以外は、実施例10と同様にして光導波路を得た。
(Comparative Example 3)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 10 except that the positional relationship between the hollow portion and the core portion became the relationship shown in FIG.

なお、図18に示す光導波路9は、空洞部970Aとコア部94の端部941との位置関係が異なる以外、図3に示す光導波路1と同様である。すなわち、図18に示す光導波路9は、図3に示す側面クラッド部15に対応する側面クラッド部95と、低屈折率部16に対応する低屈折率部96と、を備えている。そして、図18に示す端部941の短手方向において、空洞部970Aの外縁は、低屈折率部ではなく、コア部94に重なっている。   The optical waveguide 9 shown in FIG. 18 is the same as the optical waveguide 1 shown in FIG. 3 except that the positional relationship between the cavity portion 970A and the end portion 941 of the core portion 94 is different. That is, the optical waveguide 9 shown in FIG. 18 includes a side clad part 95 corresponding to the side clad part 15 shown in FIG. 3 and a low refractive index part 96 corresponding to the low refractive index part 16. In the short direction of the end portion 941 shown in FIG. 18, the outer edge of the cavity portion 970A overlaps the core portion 94, not the low refractive index portion.

2.光導波路の評価
2.1 光路変換に伴うクロストークの評価
各実施例および各比較例で得られた光導波路のうち、一方の端部の傾斜面に合わせて、それぞれ直径50μmの入射側光ファイバーを配置した。この入射側光ファイバーは、光導波路に光を入射するための発光素子に接続されており、その光軸と光ファイバーの光軸とが一致している。
2. 2.1 Evaluation of optical waveguide 2.1 Evaluation of crosstalk accompanying optical path conversion Of the optical waveguides obtained in each example and each comparative example, an incident side optical fiber having a diameter of 50 μm is used in accordance with the inclined surface of one end. Arranged. The incident-side optical fiber is connected to a light-emitting element for allowing light to enter the optical waveguide, and the optical axis thereof coincides with the optical axis of the optical fiber.

一方、光導波路の他方の端部には、傾斜面に合わせて直径50μmの出射側光ファイバーを配置した。この出射側光ファイバーは、光導波路から出射する光を受光するための受光素子に接続されており、その光軸と光ファイバーとの光軸とが一致している。   On the other hand, an outgoing side optical fiber having a diameter of 50 μm was arranged at the other end of the optical waveguide in accordance with the inclined surface. The emission-side optical fiber is connected to a light receiving element for receiving light emitted from the optical waveguide, and the optical axis of the optical fiber coincides with the optical axis of the optical fiber.

クロストークの評価にあたっては、まず、8本のコア部のうち、1本に対して光を入射した。次いで、光を入射したコア部に隣り合うコア部において、出射光の光強度を測定した。この出射光には、光路変換に伴うクロストークによる漏れ光と、光伝搬に伴うクロストークによる漏れ光とが含まれていると考えられる。そこで、コア部の端部を切り落としたテストピースを作製し、光伝搬に伴うクロストークによる漏れ光のみを測定した。そして、前述の出射光の光強度から、光伝搬に伴うクロストークによる漏れ光の光強度を差し引き、光路変換に伴うクロストークによる漏れ光の光強度を算出した。   In evaluating the crosstalk, first, light was incident on one of the eight core portions. Next, the light intensity of the emitted light was measured at the core portion adjacent to the core portion where the light was incident. This emitted light is considered to contain leakage light due to crosstalk accompanying optical path conversion and leakage light due to crosstalk accompanying light propagation. Therefore, a test piece was prepared by cutting off the end of the core, and only leakage light due to crosstalk accompanying light propagation was measured. Then, the light intensity of the leaked light due to the crosstalk accompanying the light propagation was subtracted from the light intensity of the emitted light, and the light intensity of the leaked light due to the crosstalk accompanying the optical path conversion was calculated.

次いで、入射光の光強度に対する、算出した光路変換に伴うクロストークによる漏れ光の光強度の強度比を、以下の評価基準にしたがって評価した。   Next, the intensity ratio of the light intensity of the leaked light due to the crosstalk accompanying the calculated optical path change with respect to the light intensity of the incident light was evaluated according to the following evaluation criteria.

<強度比の評価基準>
A:強度比が−30[dB]以下である
B:強度比が−30[dB]超−25[dB]以下である
C:強度比が−25[dB]超−20[dB]以下である
D:強度比が−20[dB]超−15[dB]以下である
E:強度比が−15[dB]超−10[dB]以下である
F:強度比が−10[dB]超である
以上の評価結果を表1、2に示す。
<Evaluation criteria for strength ratio>
A: The intensity ratio is -30 [dB] or less B: The intensity ratio is more than -30 [dB] to -25 [dB] or less C: The intensity ratio is more than -25 [dB] to -20 [dB] or less Yes D: Intensity ratio is over -20 [dB] to -15 [dB] or less E: Intensity ratio is over -15 [dB] to -10 [dB] or less F: Intensity ratio is over -10 [dB] The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

2.2 挿入損失およびミラー損失の評価
各実施例および各比較例で得られた光導波路について、社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法(JPCA−PE02−05−01S−2008)」の4.6.1挿入損失の測定方法に準拠して傾斜面(ミラー)を介した光路の挿入損失を測定した。
2.2 Evaluation of Insertion Loss and Mirror Loss About the optical waveguides obtained in each of the examples and comparative examples, “Testing method of polymer optical waveguide (JPCA-PE02-05- 01S-2008) ”, the insertion loss of the optical path through the inclined surface (mirror) was measured in accordance with the method for measuring the insertion loss of 4.6.1.

次いで、各実施例および各比較例で得られた光導波路について、上記試験方法の4.6.2単位長さあたりの光伝搬損失の測定方法に準拠して光伝搬損失を測定した。   Next, for the optical waveguides obtained in each Example and each Comparative Example, the light propagation loss was measured in accordance with the method for measuring the light propagation loss per unit length of 4.6.2 in the above test method.

その結果、各実施例および各比較例で得られた光導波路のいずれにおいても、光伝搬損失はほぼ同等であることが認められた。   As a result, it was confirmed that the optical propagation loss was almost the same in each of the optical waveguides obtained in each example and each comparative example.

光導波路の挿入損失は、光伝搬損失とミラー損失との和であると考えられることから、各実施例および各比較例で得られた光導波路についてミラー損失を求めた。そして、求めたミラー損失は、以下の評価基準にしたがって評価した。   Since the insertion loss of the optical waveguide is considered to be the sum of the light propagation loss and the mirror loss, the mirror loss was obtained for the optical waveguides obtained in the respective examples and the comparative examples. The obtained mirror loss was evaluated according to the following evaluation criteria.

<ミラー損失の評価基準>
A:ミラー損失が小さい(0.5dB未満)
B:ミラー損失がやや小さい(0.5dB以上1.0dB未満)
C:ミラー損失がやや大きい(1.0dB以上1.5dB未満)
D:ミラー損失が大きい(1.5dB以上2dB未満)
E:ミラー損失が非常に大きい(2dB以上)
以上の評価結果を表1、2に示す。
<Evaluation criteria for mirror loss>
A: Mirror loss is small (less than 0.5 dB)
B: Mirror loss is slightly small (0.5 dB or more and less than 1.0 dB)
C: Mirror loss is slightly large (1.0 dB or more and less than 1.5 dB)
D: Mirror loss is large (1.5 dB or more and less than 2 dB)
E: Mirror loss is very large (2dB or more)
The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

2.3 温度に対する耐久性の評価
各実施例および各比較例で得られた光導波路を温度サイクル試験に供した。なお、温度サイクル試験の試験条件は以下に示す通りである。
2.3 Evaluation of durability against temperature The optical waveguides obtained in the examples and the comparative examples were subjected to a temperature cycle test. The test conditions of the temperature cycle test are as shown below.

<温度サイクル試験の試験条件>
・温度 :−60〜150℃
・サイクル数 :500サイクル(高温、低温各30分間)
・評価特性 :挿入損失
<Test conditions for temperature cycle test>
-Temperature: -60 to 150 ° C
・ Number of cycles: 500 cycles (30 minutes each for high temperature and low temperature)
・ Evaluation characteristics: Insertion loss

次いで、試験前と試験後とで挿入損失を比較した。そして、試験後の挿入損失の増分を以下の評価基準にしたがって評価した。なお、試験後の被検体について、単位長さあたりの光伝搬損失を測定したところ、試験前とほとんど変化が認められなかったことから、挿入損失の増分のほとんどはミラー損失の増加によるものと考えられる。   Next, the insertion loss was compared before and after the test. And the increment of the insertion loss after a test was evaluated according to the following evaluation criteria. In addition, when the optical propagation loss per unit length was measured for the specimen after the test, there was almost no change from before the test, so most of the increase in insertion loss is considered to be due to an increase in mirror loss. It is done.

<温度サイクル試験による挿入損失の増分の評価基準>
A:増分が非常に小さい(0.2dB未満)
B:増分が小さい(0.2dB以上0.5dB未満)
C:増分がやや小さい(0.5dB以上1.0dB未満)
D:増分がやや大きい(1.0dB以上1.5dB未満)
E:増分が大きい(1.5dB以上2dB未満)
F:増分が非常に大きい(2dB以上)
以上の評価結果を表1、2に示す。
<Evaluation criteria for increment of insertion loss by temperature cycle test>
A: The increment is very small (less than 0.2 dB)
B: Small increment (0.2 dB or more and less than 0.5 dB)
C: Increment is slightly small (0.5 dB or more and less than 1.0 dB)
D: Slightly large increment (1.0 dB or more and less than 1.5 dB)
E: The increment is large (1.5 dB or more and less than 2 dB)
F: The increment is very large (2 dB or more)
The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2016012005
Figure 2016012005

Figure 2016012005
Figure 2016012005

表1、2から明らかなように、各実施例で得られた光導波路では、いずれも、光路変換に伴うクロストークの発生が抑制されていることが認められた。   As is clear from Tables 1 and 2, it was confirmed that in the optical waveguides obtained in the respective examples, the occurrence of crosstalk accompanying the optical path conversion was suppressed.

また、各実施例で得られた光導波路では、ミラー損失や、温度サイクル試験に供された場合のミラー損失の増加等も抑えられており、外部の光学部品との光学的接続の信頼性が高いことが認められた。   In addition, in the optical waveguide obtained in each example, mirror loss and increase in mirror loss when subjected to a temperature cycle test are suppressed, and the reliability of optical connection with external optical components is reduced. It was found to be expensive.

1 光導波路
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
5 電気配線基板
6 光素子
9 光導波路
10 積層体
11 クラッド層
12 クラッド層
13 コア層
14 コア部
15 側面クラッド部
16 低屈折率部
50 多層基板
51 コア基板
52 ビルドアップ層
53 貫通孔
54 ソルダーレジスト層
60 素子本体
61 受発光部
62 端子
63 バンプ
90 接着層
94 コア部
95 側面クラッド部
96 低屈折率部
100 光電気混載基板
141 端部
141a 長手方向の端
141b 短手方向の端
145 広幅部
146 狭幅部
170 凹部
170A 空洞部
171 傾斜面
172 傾斜面
172’ 直立面
173 直立面
173’ 傾斜面
174 直立面
174’ 傾斜面
521 絶縁層
522 導体層
941 端部
941a 長手方向の端
970A 空洞部
1000 光モジュール
C1 光軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical waveguide 2 Support film 3 Cover film 5 Electrical wiring board 6 Optical element 9 Optical waveguide 10 Laminated body 11 Cladding layer 12 Cladding layer 13 Core layer 14 Core part 15 Side surface clad part 16 Low refractive index part 50 Multilayer board 51 Core board 52 Build-up layer 53 Through-hole 54 Solder resist layer 60 Element body 61 Light emitting / receiving portion 62 Terminal 63 Bump 90 Adhesive layer 94 Core portion 95 Side cladding portion 96 Low refractive index portion 100 Opto-electric hybrid board 141 End portion 141a Longitudinal end 141b Edge 145 in short direction Wide portion 146 Narrow portion 170 Recess 170A Cavity 171 Inclined surface 172 Inclined surface 172 ′ Upright surface 173 Upright surface 173 ′ Inclined surface 174 Upright surface 174 ′ Inclined surface 521 Insulating layer 522 Conductor layer 941 End 941a Longitudinal end 970A Cavity 1000 Optical module C1 Optical axis

Claims (7)

長尺状のコア部と、前記コア部の少なくとも一方の端部を囲うように設けられた側面クラッド部と、前記端部に対し少なくとも前記コア部の短手方向において隣り合うように前記端部と前記側面クラッド部との間に設けられ、前記側面クラッド部より屈折率の低い低屈折率部と、が形成されたコア層と、
前記コア層の一部に設けられた光反射部であって、前記光反射部と前記コア層との境界に位置し前記コア部の光軸に対して斜めに接する境界面を備え、前記コア部を伝搬する光が前記境界面において反射されるように構成されている光反射部と、
を有し、
前記コア層をその厚さ方向から見た平面視において、前記端部のうち前記コア部の長手方向の端が前記光反射部の内側に位置しており、かつ、前記低屈折率部と前記光反射部の外縁とが重なっていることを特徴とする光導波路。
The long core part, a side clad part provided so as to surround at least one end part of the core part, and the end part adjacent to the end part in at least the short direction of the core part And a core layer in which a low refractive index portion having a lower refractive index than the side cladding portion is provided,
A light reflecting portion provided in a part of the core layer, the light reflecting portion being located at a boundary between the light reflecting portion and the core layer, the boundary surface being obliquely in contact with the optical axis of the core portion; A light reflecting portion configured such that light propagating through the portion is reflected at the boundary surface;
Have
In a plan view of the core layer as viewed from the thickness direction, the end in the longitudinal direction of the core portion among the ends is located inside the light reflecting portion, and the low refractive index portion and the An optical waveguide characterized by overlapping an outer edge of a light reflecting portion.
前記光反射部は、前記コア部より屈折率が低い低屈折率材料で構成されている請求項1に記載の光導波路。   The optical waveguide according to claim 1, wherein the light reflecting portion is made of a low refractive index material having a refractive index lower than that of the core portion. 前記光反射部は、前記コア層の一部に設けられた空洞で構成されている請求項1または2に記載の光導波路。   The optical waveguide according to claim 1, wherein the light reflecting portion is configured by a cavity provided in a part of the core layer. 前記コア部は、その幅が相対的に広い広幅部と、前記コア部の長手方向において前記広幅部に隣接し前記広幅部より幅が相対的に狭い狭幅部と、を有し、
前記平面視において、前記端部が、前記広幅部の一部または全部と重なっている請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光導波路。
The core part includes a wide part having a relatively wide width, and a narrow part having a relatively narrow width adjacent to the wide part in the longitudinal direction of the core part.
The optical waveguide according to any one of claims 1 to 3, wherein the end portion overlaps part or all of the wide portion in the plan view.
前記側面クラッド部の最高屈折率と前記低屈折率部の最低屈折率との差は、0.002〜0.05である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光導波路。   The optical waveguide according to any one of claims 1 to 4, wherein a difference between a maximum refractive index of the side clad portion and a minimum refractive index of the low refractive index portion is 0.002 to 0.05. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光導波路を備えることを特徴とする光電気混載基板。   An opto-electric hybrid board comprising the optical waveguide according to claim 1. 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the optical waveguide according to any one of claims 1 to 5.
JP2014132694A 2014-06-27 2014-06-27 Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment Pending JP2016012005A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014132694A JP2016012005A (en) 2014-06-27 2014-06-27 Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014132694A JP2016012005A (en) 2014-06-27 2014-06-27 Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016012005A true JP2016012005A (en) 2016-01-21

Family

ID=55228768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014132694A Pending JP2016012005A (en) 2014-06-27 2014-06-27 Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016012005A (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070293044A1 (en) * 2006-06-16 2007-12-20 Applied Materials, Inc. Patterning 3d features in a substrate
JP2009139412A (en) * 2007-12-03 2009-06-25 Shinko Electric Ind Co Ltd Optical wiring board and optical coupling method
JP2011090200A (en) * 2009-10-23 2011-05-06 Panasonic Electric Works Co Ltd Optical module
WO2012043609A1 (en) * 2010-10-01 2012-04-05 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide structure and electronic device
JP2013174838A (en) * 2012-02-27 2013-09-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical waveguide, manufacturing method for optical waveguide and electronic apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070293044A1 (en) * 2006-06-16 2007-12-20 Applied Materials, Inc. Patterning 3d features in a substrate
JP2009139412A (en) * 2007-12-03 2009-06-25 Shinko Electric Ind Co Ltd Optical wiring board and optical coupling method
JP2011090200A (en) * 2009-10-23 2011-05-06 Panasonic Electric Works Co Ltd Optical module
WO2012043609A1 (en) * 2010-10-01 2012-04-05 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide structure and electronic device
JP2013174838A (en) * 2012-02-27 2013-09-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical waveguide, manufacturing method for optical waveguide and electronic apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012068632A (en) Optical waveguide and electronic apparatus
JP6020169B2 (en) Optical waveguide and electronic equipment
TW201403152A (en) Optical waveguide, optical interconnection part, optical module, opto-electrical hybrid board, and electronic device
JP2016102883A (en) Optical waveguide, manufacturing method of optical waveguide module, and electronic apparatus
JP6364884B2 (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, optical module, and electronic device
JP6251989B2 (en) Opto-electric hybrid board and electronic equipment
JP2011221195A (en) Optical waveguide structure and electronic device
JP6331336B2 (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
JP6268816B2 (en) Optical waveguide member, optical waveguide, optical waveguide manufacturing method, and electronic apparatus
JP2019028117A (en) Method for manufacturing optical waveguide
JP2016012006A (en) Optical waveguide, photoelectric hybrid substrate, and electronic apparatus
JP5760628B2 (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
JP6413223B2 (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
JP2016012005A (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
JP2014002218A (en) Optical waveguide and electronic apparatus
JP5703922B2 (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
WO2013191175A1 (en) Optical waveguide, optical interconnection component, optical module, opto-electric hybrid board, and electronic device
JP2015087713A (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate, and electronic apparatus
JP2015087657A (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate, and electronic apparatus
JP5799592B2 (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
JP2016012004A (en) Optical waveguide, photoelectric hybrid substrate, and electronic apparatus
JP6268817B2 (en) Optical waveguide member, optical waveguide, optical waveguide manufacturing method, and electronic apparatus
JP2015087658A (en) Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment
JP2014026268A (en) Optical waveguide, optical wiring component, optical module, photoelectric hybrid board, and electronic apparatus
JP6268932B2 (en) Optical waveguide, imprint mold, optical waveguide manufacturing method, opto-electric hybrid board, and electronic device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170526

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180417

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180904