JP2015046034A - タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法およびタッチ位置検出機能付き表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い感度を有し、視認性に優れたタッチパネルセンサを提供する。【解決手段】タッチパネルセンサの第１検出パターンおよび第２検出パターンはそれぞれ、網目状に配置された第１導線および第２導線から構成されている。また第２検出パターンには、複数の第２導線が互いに交差することによって生じる交差部が形成されている。またタッチパネルセンサは、基材の法線方向から見た場合に第２検出パターンの第２導線の交差部と少なくとも部分的に重なるよう配置されたオーバーラップ部からなるオーバーラップパターンをさらに備えている。また、第１導線の表面およびオーバーラップ部の表面には、低反射処理が施されている。【選択図】図４

Description

本発明は、タッチパネルセンサおよびタッチパネルセンサの製造方法に関する。また本発明は、タッチパネルセンサと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置に関する。

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。

タッチパネルセンサとして、投影型容量結合方式のタッチパネルセンサが知られている。容量結合方式のタッチパネルセンサにおいては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における外部導体の位置が検出される。このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは例えば、ＰＥＴなどからなる基材と、基材の観察者側の面に設けられた複数の第１検出パターンと、基材の表示装置側の面に設けられた複数の第２検出パターンと、を備えている。第１検出パターンおよび第２検出パターンは、例えば、透光性および導電性を有する透明導電材料から構成される。

また第１検出パターンおよび第２検出パターンの電気抵抗値を低くするため、第１検出パターンおよび第２検出パターンを構成する材料として、透明導電材料よりも高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。第１検出パターンおよび第２検出パターンが金属材料から構成される場合、第１検出パターンおよび第２検出パターンには、表示装置からの映像光を適切な比率で透過させるための開口部が形成されている。例えば第１検出パターンおよび第２検出パターンは、金属材料からなり、網目状に配置された導線によって構成されている。

特開２０１２−１８５６０７号公報

第１検出パターンおよび第２検出パターンが金属材料からなる導線によって構成される場合、金属材料が有する金属光沢に起因して第１検出パターンおよび第２検出パターンが観察者（ユーザー）に視認されてしまうことが考えられる。特に、導線の材料として銅が用いられる場合、第１検出パターンおよび第２検出パターンからの反射光として、銅に特有の、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまい、これによって、映像の視認性が低下してしまう。

金属光沢に起因するこのような視認性の低下を防ぐため、特許文献１においては、金属光沢に起因する反射を抑制するための黒化処理を導線の表面に施すことが提案されている。しかしながら、導線の面のうち基材と接している面に低反射処理を施すことは困難である。すなわち、第２検出パターンの導線の面のうち基材と接している面における金属光沢を低減することは容易ではない。

またタッチパネルセンサは、上述のように表示装置の表示面上に配置されるものであり、従って、タッチパネルセンサには、高い光透過率が求められる。タッチパネルセンサにおける高い光透過率を実現するためには、ＰＥＴなどからなる基材の表面が高い平坦性を有していることが好ましい。しかしながら、基材の表面が平坦であることは、基材上に設けられる第２検出パターンを構成する導線の面のうち、基材に接している面も、高い平坦性を有することを意味する。この場合、仮に導線の面に黒化処理などの低反射処理が施されていたとしても、その高い平坦性のため、導線が視認され易くなってしまう。

本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法およびタッチ位置検出機能付き表示装置を提供することを目的とする。

本発明は、タッチパネルセンサであって、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、各第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第１導線を網目状に配置することによって構成されており、各第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第２導線を網目状に配置することによって構成されており、前記第２検出パターンには、複数の前記第２導線が互いに交差することによって生じる交差部が形成されており、前記タッチパネルセンサは、前記第１検出パターンの前記第１導線に接続されないよう前記基材の前記第１面上に設けられたオーバーラップパターンをさらに備え、前記オーバーラップパターンは、遮光性および導電性を有する複数のオーバーラップ部から構成されており、前記オーバーラップ部は、前記基材の法線方向から見た場合に前記第２検出パターンの前記交差部と少なくとも部分的に重なるよう配置されており、前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面には、低反射処理が施されている、タッチパネルセンサである。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面の、ＸＹＺ表色系における視感反射率が５〜２５％の範囲内になっている。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１導線および前記オーバーラップ部はいずれも、銅を含む第１金属層を有していてもよい。この場合、好ましくは、前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面の、Ｌ^*ａ^*ｂ^*色度系における反射色相ｂ^*が−０．５〜２の範囲内になっている。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面には、マット処理が施されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記オーバーラップ部は、前記基材の法線方向から見た場合に、前記第２検出パターンの前記交差部が広がる領域の内側に位置するよう配置されていてもよい。

本発明は、上記記載のタッチパネルセンサの製造方法であって、前記基材と、前記基材の前記第１面上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１金属層と、前記基材の前記第２面上に設けられ、遮光性および導電性を有する第２金属層と、を備える積層体を準備する工程と、前記第１金属層上に第１感光層を設け、かつ、前記第２金属層上に第２感光層を設ける工程と、第１露光マスクを介して前記第１感光層に所定のパターンで露光光を照射し、かつ、第２露光マスクを介して前記第２感光層に所定のパターンで露光光を照射する露光工程と、前記第１感光層および前記第２感光層を現像する現像工程と、前記第１感光層をマスクとして前記第１金属層をエッチングすることによって、前記第１検出パターンの前記第１導線および前記オーバーラップパターンの前記オーバーラップ部に対応するパターンで第１金属層をパターニングし、前記第２感光層をマスクとして前記第２金属層をエッチングすることによって、前記第２検出パターンの前記第２導線に対応するパターンで第２金属層をパターニングするエッチング工程と、前記第１金属層の表面に低反射処理を施す低反射処理工程と、を備え、前記露光工程は、前記第１露光マスクに対する前記第２露光マスクの相対位置を調整する工程を含む、タッチパネルセンサの製造方法である。

本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記低反射処理工程は、有機酸を含むマット処理液を用いて前記第１金属層の表面にマット処理を施すマット処理工程を含んでいてもよい。

本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、各第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第１導線を網目状に配置することによって構成されており、各第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第２導線を網目状に配置することによって構成されており、前記第２検出パターンには、複数の前記第２導線が互いに交差することによって生じる交差部が形成されており、前記タッチパネルセンサは、前記第１検出パターンの前記第１導線に接続されないよう前記基材の前記第１面上に設けられたオーバーラップパターンをさらに備え、前記オーバーラップパターンは、遮光性および導電性を有する複数のオーバーラップ部から構成されており、前記オーバーラップ部は、前記基材の法線方向から見た場合に前記第２検出パターンの前記交差部と少なくとも部分的に重なるよう配置されており、前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面には、低反射処理が施されている、タッチ位置検出機能付き表示装置である。

本発明によれば、タッチパネルセンサは、基材の第１面および第２面にそれぞれ設けられた第１検出パターンおよび第２検出パターンに加えて、第１検出パターンの第１導線に接続されないよう基材の第１面上に設けられたオーバーラップパターンをさらに備えている。このオーバーラップパターンは、遮光性および導電性を有する複数のオーバーラップ部から構成されている。オーバーラップ部は、基材の法線方向から見た場合に第２検出パターンの第２導線が互いに交差する交差部と少なくとも部分的に重なるよう配置されている。このため、第２検出パターンのうち観察者によって最も視認され易い部分である、第２導線が互いに交差する交差部を、少なくとも部分的に、オーバーラップ部によって観察者から覆い隠すことができる。これによって、第２検出パターンが観察者によって認識されてしまうことを抑制することができる。また、第１導線の表面およびオーバーラップ部の表面には、低反射処理が施されている。このため、第１検出パターンおよびオーバーラップパターンが観察者によって認識されてしまうことを抑制することができる。従って本発明によれば、各検出パターンの電気抵抗値を低減することによって、タッチ位置の高い検出精度を確保するとともに、映像の視認性を十分に確保することができる。

図１は、本発明の実施の形態におけるタッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図。 図２は、図１のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。 図３Ａは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターンを拡大して示す平面図。 図３Ｂは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第２検出パターンを拡大して示す平面図。 図３Ｃは、図３Ａに示す第１検出パターンおよび図３Ｂに示す第２検出パターンを重ねて示す平面図。 図４は、第２検出パターンの第２導線の交差部と重なるよう配置されたオーバーラップパターンを示す平面図。 図５は、図４を拡大して示す平面図。 図６は、タッチパネルセンサを図４のVI線に沿って切断した場合を示す断面図。 図７は、図６を拡大して示す断面図。 図８（ａ）〜（ｅ）は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図９は、タッチパネルセンサの第１の変形例を示す平面図。 図１０は、図９において符号Xが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターンを拡大して示す平面図。 図１１は、図９に示す変形例によるタッチパネルセンサにおいて、第２検出パターンの第２導線の交差部と重なるよう配置されたオーバーラップパターンを示す平面図。 図１２は、タッチパネルセンサの第２の変形例を示す平面図。 図１３（ａ）（ｂ）は、図１２に示す変形例によるタッチパネルセンサを作製するために用いられる積層体の製造方法の一例を示す図。

以下、図１乃至図８（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明の実施の形態の一例について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

タッチパネル装置およびタッチ位置検出機能付き表示装置
はじめに図１を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えたタッチ位置検出機能付き表示装置１０について説明する。図１に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、タッチパネルセンサ３０と、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置１５とを組み合わせることによって構成されている。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。

図１に示すように、タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａに、例えば接着層（図示せず）を介して接着されている。

タッチパネルセンサ
次に図２を参照して、タッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、観察者側から見た場合のタッチパネルセンサ３０を示す平面図である。

ここでは、タッチパネルセンサ３０が、投影型の静電容量結合方式のタッチパネルセンサとして構成される例について説明する。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネルセンサは、透光性を有する導電性のパターンを有しており、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルセンサに接近することにより、外部の導体とタッチパネルセンサの導電性のパターンとの間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成に伴った電気的な状態の変化に基づき、タッチパネルセンサ上において外部導体が接近している位置の位置座標が特定される。なお本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０において採用されている、後述する技術思想は、自己容量方式または相互容量方式のいずれにも対応可能である。

図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、観察者側を向く第１面３２ａおよび表示装置側を向く第２面３２ｂを含み、透光性を有する基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられ、第１方向Ｄ１に延びる複数の第１検出パターン４１と、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられ、第１方向Ｄ１に交差する、例えば第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２に延びる複数の第２検出パターン４６と、を備えている。図２に示すように、第１検出パターン４１および第２検出パターン４６はそれぞれ帯状に延びている。また、複数の第１検出パターン４１は一定の配列ピッチで第２方向Ｄ２に並べられており、複数の第２検出パターン４６も一定の配列ピッチで第１方向Ｄ１に並べられている。通常は、第２方向Ｄ２における第１検出パターン４１の配列ピッチと、第１方向Ｄ１における第２検出パターン４６の配列ピッチとは同一になっている。第１検出パターン４１および第２検出パターン４６の配列ピッチは、タッチ位置の検出に関して求められる分解能に応じて定められるが、例えば数ｍｍになっている。なお図２においては、基材３２の第１面３２ａ側に設けられている構成要素が実線で表され、基材３２の第２面３２ｂ側に設けられている構成要素が点線で表されている。

図１に示すように、タッチパネルセンサ３０の基材３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応する矩形状のアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する矩形枠状の非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。

上述の第１検出パターン４１および第２検出パターン４６は、アクティブエリアＡａ１内に配置されている。また非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第１面３２ａ上には、各第１検出パターン４１に電気的に接続された複数の第１額縁配線４４ａと、基材３２の外縁近傍に配置され、各第１額縁配線４４ａに電気的に接続された複数の第１端子部４４ｂと、が設けられている。さらに、非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第２面３２ｂ上には、各第２検出パターン４６に電気的に接続された複数の第２額縁配線４９ａと、基材３２の外縁近傍に配置され、各第２額縁配線４９ａに電気的に接続された複数の第２端子部４９ｂと、が設けられている。

以下、タッチパネルセンサ３０の各構成要素について説明する。

（基材）
基材３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。基材３２を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）やガラスなど、十分な透光性を有する材料が用いられる。基材３２が例えばＰＥＴを含む場合、ＰＥＴの厚みは例えば１００〜２００μｍの範囲内になっている。なお第１検出パターン４１、第２検出パターン４６、額縁配線４４ａ，４９ａや端子部４４ｂ，４９ｂを適切に保持することができる限りにおいて、基材３２の具体的な構成が特に限られることはない。例えば、ＰＥＴ層などの表面に設けられたハードコート層がさらに基材３２に含まれていてもよい。すなわち本実施の形態において、基材３２とは、何らかの具体的な構造や材料を意味するものではなく、タッチパネルセンサ３０を構成する第１検出パターン４１や第２検出パターン４６などのパターンの下地となるものを意味するに過ぎない。

好ましくは、基材の第１面３２ａおよび第２面３２ｂは、表示装置１５からの映像光を高い透過率で透過させるよう、高い平坦性を有している。例えば、基材３２の第１面３２ａおよび第２面３２ｂの算術表面平均粗さ（Ｒａ）は、０．００４〜０．０１０μｍの範囲内になっている。

（第１検出パターン）
次に図３Ａ乃至図３Ｃを参照して、第１検出パターン４１について説明する。図３Ａは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターン４１を、観察者側から見た場合を示す平面図であり、図３Ｂは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第２検出パターン４６を、観察者側から見た場合、すなわち基材３２を透かして第２検出パターン４６を見た場合を示す平面図である。また図３Ｃは、図３Ａに示す第１検出パターン４１および図３Ｂに示す第２検出パターン４６を重ねて示す平面図である。なお図３Ｃにおいては、第１検出パターン４１が実線で示され、第２検出パターン４６が点線で示されている。

本実施の形態において、第１検出パターン４１は、遮光性および導電性を有する第１導線５１であって、各第１導線５１の間に開口部５１ａが形成されるよう網目状に配置された第１導線５１から構成されている。同様に、第２検出パターン４６は、遮光性および導電性を有する第２導線５６であって、各第２導線５６の間に開口部５６ａが形成されるよう網目状に配置された第２導線５６から構成されている。第１導線５１および第２導線５６は各々、後述するように、金属材料からなる第１金属層６１および第２金属層６６を含んでいる。

第１検出パターン４１全体の面積のうち開口部５１ａによって占められる面積の比率（以下、開口率と称する）が十分に高くなり、これによって、表示装置１５からの映像光が適切な透過率でタッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１を透過することができる限りにおいて、第１導線５１の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図３Ａおよび図３Ｃに示す例において、第１検出パターン４１は、菱形に形成された第１導線５１を第１方向Ｄ１に沿って並べることによって構成されている。この場合、菱形の内角のうち鋭角になる内角が第１方向Ｄ１に沿って並ぶよう、第１導線５１が構成されている。開口率の範囲は、表示装置から放出される映像光の特性などに応じて適宜設定される。

第１導線５１の線幅は、求められる開口率などに応じて設定されるが、例えば第１導線５１の幅は１〜１０μｍの範囲内、より好ましくは２〜７μｍの範囲内に設定されている。これによって、観察者が視認する映像に対して第１導線５１が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。第１導線５１の厚みは、第１検出パターン４１に対して求められる電気抵抗値などに応じて適宜設定されるが、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内となっている。

（第２検出パターン）
第１導線５１の場合と同様に、第２導線５６においても、第２検出パターン４６全体の面積のうち開口部５６ａによって占められる面積の比率を十分に確保することができる限りにおいて、第２導線５６の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図３Ｂおよび図３Ｃに示す例において、第２検出パターン４６は、菱形に形成された第２導線５６を第２方向Ｄ２に沿って並べることによって構成されている。この場合、菱形の内角のうち鈍角になる内角が第２方向Ｄ２に沿って並ぶよう、第２導線５６が構成されている。

図３Ｃにおいて、複数の、例えば２本の第１導線５１が互いに交差することによって生じる交差部が符号５１ｂで表されており、また、複数の、例えば２本の第２導線５６が互いに交差することによって生じる交差部が符号５６ｂで表されている。図３Ｃに示すように、第１導線５１および第２導線５６は、基材３２の法線方向から見た場合に交差部５１ｂおよび交差部５６ｂが互いに重ならないよう、配置されている。

ところで第１導線５１および第２導線５６を構成する金属材料は、高い導電性を有する一方で、上述のように金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が第１導線５１および第２導線５６として用いられると、表示装置１５からの映像光の視認性が、第１導線５１および第２導線５６の金属光沢によって妨げられることになる。ここで第１導線５１については、黒化処理などの低反射処理を第１導線５１の表面に施すことによって、第１導線５１が観察者から視認されにくくすることが可能である。一方、第２導線５６については、第２導線５６の面のうち基材３２の第２面３２ｂに接している面が、観察者側を向く面となっている。従って、第２導線５６が観察者によって視認されることを、第２導線５６自体の黒化処理によって抑制することは困難である。

このような課題を考慮し、本件発明者は、第２導線５６を黒化処理することによってではなく、観察者から第２導線５６を少なくとも部分的に覆い隠すようなパターン（オーバーラップパターン）を基材３２の第１面３２ａに設けることによって、第２導線５６が観察者によって視認されることを抑制することを提案する。以下、タッチパネルセンサ３０がオーバーラップパターンをさらに備える例について、図４および図５を参照して説明する。図４は、第２検出パターン４６の第２導線５６と重なるよう配置されたオーバーラップパターン４２を示す平面図であり、図５は、図４を拡大して示す平面図である。図４および図５においては、基材３２の第１面３２ａ側に設けられている構成要素、すなわちオーバーラップ部５２が実線で表され、基材３２の第２面３２ｂ側に設けられている構成要素、すなわち第２導線５６が点線で表されている。

図４に示すように、本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０は、第１検出パターン４１の第１導線５１に接続されないよう基材３２の第１面３２ａ上に設けられたオーバーラップパターン４２をさらに備えている。このオーバーラップパターン４２は、図４に示すように、遮光性および導電性を有する複数のオーバーラップ部５２から構成されている。オーバーラップ部５２は、図４および図５に示すように、基材３２の法線方向から見た場合に第２検出パターン４６と少なくとも部分的に重なるよう配置されている。このため、第２検出パターン４６の第２導線５６を少なくとも部分的に、オーバーラップ部５２によって観察者から覆い隠すことができる。

ここで、後に詳細に説明するように、第１検出パターン４１の第１導線５１の表面およびオーバーラップパターン４２のオーバーラップ部５２の表面には、観察者側からタッチパネルセンサ３０に入射した外光が反射されて観察者側に戻ることを抑制するための低反射処理が施されている。このため、第１検出パターン４１およびオーバーラップパターン４２が観察者によって認識されてしまうことを抑制することができる。

本件発明者が鋭意研究を重ねた結果、第２検出パターン４６の第２導線５６のうち、複数の第２導線５６が互いに交差することによって生じる交差部５６ｂが、観察者から認識され易いことを見出した。理由としては、交差部５６ｂにおいては、複数の第２導線５６が交差するため、１本の第２導線５６が線状に延びている部分に比べて第２導線５６の幅が太くなり、この結果、第２導線５６が視認され易くなることが考えられる。また、第２導線５６のパターニング精度には一般に限界があり、このため、複数の第２導線５６が鋭角を成すよう交差させることは難しく、通常は図５に示すように複数の第２導線５６が交わる部分に湾曲部５６ｃが生じる。このことも、交差部５６ｂにおける第２導線５６の幅が増大し、これによって交差部５６ｂが視認され易くなることの一因であると考えられる。例えば、線状に延びる１本の第２導線５６の幅Ｗ１が３μｍである場合、交差部５６ｂにおける第２導線５６の幅Ｗ１’は１０μｍ程度になることがあると考えられる。

このような背景を考慮し、本件発明者は、上述のオーバーラップ部５２を、基材３２の法線方向から見た場合に第２検出パターン４６の交差部５６ｂと少なくとも部分的に重なるように配置することを提案する。これによって、第２導線５６のうち観察者によって最も視認され易い部分を覆い隠すことができるので、第２導線５６が視認されてしまうことを、小面積のオーバーラップ部５２で実現することができる。このため、オーバーラップ部５２によって映像光が遮蔽されてしまうことを軽減することができる。従って、タッチパネルセンサ３０における光透過率を十分に維持しながら、観察者によって第２導線５６が視認されてしまうことを十分に抑制することができる。

また、オーバーラップ部５２を形成する際のパターニングの精度を考慮すると、一般に、第２導線５６のうち線状に延びる部分にオーバーラップ部５２を精度良く重ねることは困難である。例えば、ドライフィルムレジストを所定のパターンで露光することによって得られたレジスト層をマスクとして金属層をエッチングし、これによってオーバーラップパターン４２のオーバーラップ部５２を形成する場合について考える。ドライフィルムレジストの厚みは一般に数μｍである。この場合、ドライフィルムレジストの厚みに起因する誤差や、露光光の照射精度に起因する誤差を考慮すると、得られるレジスト層の位置の製造公差は数μｍ程度になる。従って、数μｍ程度の幅の第２導線５６にオーバーラップ部５２を重ねようとする場合、レジスト層の製造公差に起因して、オーバーラップ部５２が第２導線５６の線状部分にほとんど重ならない、という事態が生じ得る。これに対して、上述のように、交差部５６ｂの幅は、線状に延びる第２導線５６の幅よりも太く、例えば１０μｍ程度である。このため、レジスト層の製造公差を考慮しても、オーバーラップ部５２の大半を交差部５６ｂに重ねることが可能である。このように、オーバーラップ部５２によって交差部５６ｂを覆い隠すことは、第２導線５６の視認性に与える効果という点だけでなく、製造公差の点からも有効であると言える。

また、本実施の形態による後述する露光方法によれば、基材３２の第１面３２ａ側に照射される露光光に対する、基材３２の第２面３２ｂ側に照射される露光光の相対的な位置精度を十分に確保することができる。従って、基材３２の第１面３２ａ側に形成される感光層と、基材３２の第２面３２ｂ側に形成される感光層との間の相対的な位置精度を十分に高くすることができ、例えば±２μｍの範囲内にすることができる。このため、第２導線５６の交差部５６ｂに対してオーバーラップ部５２をより精度良く重ねることができる。

好ましくは、オーバーラップ部５２は、基材３２の法線方向から見た場合に、第２導線５６の交差部５６ｂが広がる領域の内側に位置するよう、その配置が設定される。例えば、オーバーラップ部５２の幅Ｗ２が、第２導線５６の幅の５０〜８０％の範囲内、より具体的には７０％程度になるよう、オーバーラップ部５２が設計される。これによって、製造公差に起因して交差部５６ｂに対するオーバーラップ部５２の位置が若干ずれたとしても、第２導線５６の交差部５６ｂが広がる領域の内側にオーバーラップ部５２が位置するようにすることができる。すなわち、交差部５６ｂに対してオーバーラップ部５２を完全に重ねることができる。これによって、オーバーラップ部５２が第２導線５６の視認を防ぐという効果を最大限に得ることができる。

なお図５に示すように、交差部５６ｂ周辺における第２導線５６の幅は、位置によって大きく変化する。この場合、図５に示すように、第２導線５６の側縁からオーバーラップ部５２の側縁までの距離Ｓ１，Ｓ２がほぼ一定になるよう、すなわちオーバーラップ部５２の形状が第２導線５６の交差部５６ｂの形状とほぼ相似のものとなるよう、オーバーラップ部５２が設計されてもよい。なお、オーバーラップ部５２の形状を、第２導線５６の交差部５６ｂの形状とほぼ相似のものにすることは、感光層のパターンを露光機の描画手段に入力する際の工数を削減するという効果をもたらすこともできる。

（第１導線および第２導線の層構成）
次に図６および図７を参照して、第１検出パターン４１を構成する第１導線５１、第２検出パターン４６を構成する第２導線５６、およびオーバーラップパターン４２を構成するオーバーラップ部５２の層構成について説明する。図６は、タッチパネルセンサ３０を図４のVI線に沿って切断した場合を示す断面図であり、図７は、図６を拡大して示す断面図である。

〔第１導線およびオーバーラップ部〕
図７に示すように、第１導線５１は、第１金属層６１と、第１金属層６１の観察者側の表面上に形成された第１反射防止層６２と、を含んでいる。同様に、オーバーラップ部５２は、第１金属層６１と、第１金属層６１の観察者側の表面上に形成された第１反射防止層６２と、を含んでいる。なお図７に示すように、第１反射防止層６２は、第１金属層６１の表面上だけでなく、第１金属層６１の側面上にも形成されていてもよい。

第１金属層６１は、第１導線５１における導電性を主に実現するための層である。第１金属層６１は銅を含んでおり、かつ、０．３〜２．０μｍの範囲内の厚みを有している。このような構成の第１金属層６１が第１導線５１に設けられることにより、第１導線５１における高い導電性を確保することができる。第１金属層６１が銅を含む場合、第１金属層６１内の銅の重量比率は、銅に特有の赤味を帯びた色が第１金属層６１に現れる程度に設定されていてもよい。例えば第１金属層６１内の銅の重量比率は、９９．９９重量％以上になっている。

ところで銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、上述のように金属光沢を示す。このため、第１金属層６１が未処理のまま第１導線５１やオーバーラップ部５２で用いられると、表示装置１５からの映像光の視認性が、第１金属層６１の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置１５からの映像光の視認性がより妨げられることになる。第１反射防止層６２は、このような銅特有の金属光沢を和らげるために、第１金属層６１の表面や側面に低反射処理を施すことによって形成された層である。

低反射処理の具体的な内容は特には限られないが、例えば、黒化処理が採用される場合、テルルが溶解された塩酸溶液を用いて、第１金属層６１を形成する銅や銀などの表面や側面を黒化することができる。
また、第１金属層６１の表面に低反射材料を設けることによって、第１金属層６２の表面の低反射処理を実施してもよい。低反射材料を設ける方法としては、塗布、蒸着やスパッタリングなど、公知の方法を適宜用いることができる。
また、第１金属層６１の表面や側面を荒らすことによって、凹凸を含む第１反射防止層６２を得ることによって、第１導線５１やオーバーラップ部５２における反射を防止してもよい。すなわち、第１導線５１およびオーバーラップ部５２の表面には、マット処理が施されていてもよい。この場合、観察者側からの外光が第１導線５１やオーバーラップ部５２の表面や側面に到達すると、外光は、第１反射防止層６２の凹凸形状によって様々な方向に散乱される。このため、第１導線５１やオーバーラップ部５２における金属光沢を抑制することができ、このことにより、第１導線５１やオーバーラップ部５２が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。第１金属層６１の表面や側面を荒らして第１反射防止層６２を形成する方法としては、例えば、ギ酸を含む液を用いて第１金属層６１を構成する金属材料の結晶粒界をエッチングするという方法を採用することができる。第１反射防止層６２における凹凸形状の程度は、求められる散乱の程度に応じて適切に設定される。例えば、マット処理前の第１金属層６１の表面や側面の算術表面平均粗さ（Ｒａ）が０．００８〜０．０１７μｍの範囲内であり、この第１金属層６１にマット処理を施すことによって形成される第１反射防止層６２の表面や側面の算術表面平均粗さ（Ｒａ）が０．０７２〜０．１６２μｍの範囲内になる、というマット処理が実施され得る。

好ましくは、第１導線５１の表面およびオーバーラップ部５２の表面の、ＸＹＺ表色系における視感反射率が、基材３２の第１面３２ａにおける視感反射率と同程度になるよう、第１導線５１の表面およびオーバーラップ部５２に対する低反射処理が実施される。例えば、標準光源Ｃを入射角０〜７０度の範囲内で第１導線５１の表面またはオーバーラップ部５２の表面に入射させた場合に得られる反射光の、ＸＹＺ表色系における視感反射率（Ｙ値）が５〜２５％の範囲内となるよう、第１導線５１およびオーバーラップ部５２が構成される。視感反射率（Ｙ値）を測定するための装置としては、例えば、村上色彩技術研究所（株）製の反射・透過率計ＨＲ−１００型が用いられ得る。なお上述のように、第１導線５１およびオーバーラップ部５２の幅は小さく、例えば数μｍ程度である。この点を考慮し、上述の視感反射率（Ｙ値）の数値は、第１導線５１およびオーバーラップ部５２と同一の層構成を有する積層体、すなわち基材３２、第１金属層６１および第１反射防止層６２を有する積層体を準備し、この積層体の視感反射率（Ｙ値）を測定することによって得られる値であってもよい。

より好ましくは、第１導線５１の表面およびオーバーラップ部５２の表面の、Ｌ^*ａ^*ｂ^*色度系における反射色相ｂ^*が、−０．５〜２の範囲内となるよう、第１導線５１およびオーバーラップ部５２が構成される。すなわち、第１導線５１およびオーバーラップ部５２に含まれる第１金属層６１の銅に起因する赤味が観察者に視認されないよう、第１導線５１およびオーバーラップ部５２が構成される。反射色相ｂ^*を測定するための装置としては、例えば、日本電色工業（株）製の測色色差計ＺＥ−２０００型が用いられ得る。

〔第２導線〕
図７に示すように、第２導線５６は、第２金属層６６を含んでいる。また第２導線５６は、第２金属層６６の表示装置側の表面上に形成された第２反射防止層６７をさらに含んでいてもよい。第２金属層６６および第２反射防止層６７は、上述の第１金属層６１および第１反射防止層６２と同一であるので、詳細な説明を省略する。

（額縁配線および端子部）
第１検出パターン４１に接続されている第１額縁配線４４ａおよび第１端子部４４ｂ、並びに、第２検出パターン４６に接続されている第２額縁配線４９ａおよび第２端子部４９ｂは、第１検出パターン４１並びに第２検出パターン４６からの信号をタッチパネルセンサ３０の外部に取り出すために設けられたものである。信号を適切に伝達することができる限りにおいて、第１額縁配線４４ａおよび第１端子部４４ｂ並びに第２額縁配線４９ａおよび第２端子部４９ｂの具体的な構成が特に限られることはない。例えば第１額縁配線４４ａおよび第１端子部４４ｂは、第１導線５１と同一の層構成で第１導線５１と同時に形成されるものであってもよい。同様に、第２額縁配線４９ａおよび第２端子部４９ｂは、第２導線５６と同一の層構成で第２導線５６と同時に形成されるものであってもよい。

タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について、図８（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。

はじめに図８（ａ）に示すように、タッチパネルセンサ３０を作製するための元材としての積層体６０（ブランクとも呼ばれる）を準備する。積層体６０は、基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１金属層６１と、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられ、遮光性および導電性を有する第２金属層６６と、を備えている。基材３２の各面３２ａ，３２ｂ上に金属層６１，６６を設ける方法が特に限られることはなく、スパッタリング法などの公知の方法が適宜用いられ得る。

次に図８（ｂ）に示すように、第１金属層６１上に第１感光層７１を設け、かつ、第２金属層６６上に第２感光層７６を設ける。第１感光層７１および第２感光層７６は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光層７１，７６のタイプが特に限られることはない。例えば光溶解型の感光層が用いられてもよく、若しくは光硬化型の感光層が用いられてもよい。ここでは、光硬化型の感光層が用いられる例について説明する。

第１金属層６１上および第２金属層６６上に第１感光層７１および第２感光層７６を設ける方法としては、好ましくは、ドライフィルムレジストを第１金属層６１上および第２金属層６６上にそれぞれ貼付するという方法が採用される。この場合、感光性材料を含む塗布液を積層体６０上に塗布する場合とは異なり、感光層７１，７６を積層体６０に密着させるための加熱工程が不要になる。このため、ＰＥＴなどの耐熱性に乏しい材料を用いて基材３２を構成することが可能になる。

（露光工程）
その後、図８（ｂ）に示すように、所定のパターンで開口部７２ａが形成された第１露光マスク７２を第１感光層７１の近傍に設置し、かつ、所定のパターンで開口部７７ａが形成された第２露光マスク７７を第２感光層７６の近傍に設置する。第１露光マスク７２の開口部７２ａは、第１導線５１およびオーバーラップ部５２のパターンに対応したパターンで形成されている。また第２露光マスク７７の開口部７７ａは、第２導線５６のパターンに対応したパターンで形成されている。次に、第１露光マスク７２に対する第２露光マスク７７の相対位置を調整する。例えば、第１露光マスク７２または第２露光マスク７７のいずれか一方の露光マスクに形成されているアライメントマークを基準として、他方の露光マスクの位置を調整する。これによって、第１露光マスク７２に対して高い位置精度で第２露光マスク７７を配置することができる。その後、第１露光マスク７２を介して第１感光層７１に所定のパターンで露光光を照射し、第２露光マスク７７を介して第２感光層７６に所定のパターンで露光光を照射する露光工程を実施する。なお、第１感光層７１に対する露光光の照射と、第２感光層７６に対する露光光の照射は、同時に実施されてもよく、異なるタイミングで実施されてもよい。

（現像工程）
次に、第１感光層７１および第２感光層７６を現像する。これによって、図８（ｃ）に示すように、パターニングされた第１感光層７１および第２感光層７６を得ることができる。

（エッチング工程）
その後、図８（ｄ）に示すように、第１感光層７１をマスクとして第１金属層６１をエッチングする。これによって、検出パターン４１の第１導線５１およびオーバーラップパターン４２のオーバーラップ部５２に対応するパターンで第１金属層６１をパターニングすることができる。また、第２感光層７６をマスクとして第２金属層６６をエッチングする。これによって、第２検出パターン４６の第２導線５６に対応するパターンで第２金属層６６をパターニングすることができる。次に、図８（ｅ）に示すように、感光層７１，７６を除去する。

（低反射処理工程）
その後、第１金属層６１の表面および側面に低反射処理を施す低反射処理工程を実施する。例えば、はじめに、２５℃の過酸化水素およびギ酸を含む薬液を用いて、第１金属層６１の表面および側面に微細な凹凸形状を作製する。すなわち、第１金属層６１の表面および側面にマット処理を施す。その後、第１金属層６１のカスを除去するため、２５℃の塩酸を用いたスプレー処理を第１金属層６１に対して施す。さらに水を用いた洗浄処理を第１金属層６１に対して施してもよい。

その後、第１金属層６１を構成する金属材料と比較してイオン化傾向が同等またはそれよりも大きい金属を含む薬液を用いて、第１金属層６１の表面および側面に対する黒化処理を実施する。黒化処理用の薬液としては、例えば第１金属層６１が銅から構成されている場合、銅、亜鉛およびニッケルを含む薬液が用いられ得る。これによって、第１金属層６１の表面および側面が黒化し、このことにより、第１金属層６１の表面および側面に第１反射防止層６２が形成される。

このようにして、低反射処理が施された第１導線５１からなる第１検出パターン４１および低反射処理が施されたオーバーラップ部５２からなるオーバーラップパターン４２、並びに第２導線５６からなる第２検出パターン４６を備えた上述のタッチパネルセンサ３０を得ることができる。なお、第１金属層６１に対して施した低反射処理と同様の処理が、第２検出パターン４６を構成する第２金属層６６に対して施されていてもよい。

次に図７を参照して、このようにして得られたタッチパネルセンサ３０の作用効果について説明する。

ここでは、図７において符号Ｌ１およびＬ２で示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光がそれぞれ、第１導線５１および第２導線５６に向かう場合について説明する。この場合、第１導線５１に入射した外光Ｌ１は、第１導線５１の第１反射防止層６２によって反射されて反射光Ｌ１’となる。ここで上述のように、第１導線５１は、視感反射率（Ｙ値）が５〜２５％の範囲内となるよう構成されている。このため、反射光Ｌ１’の強度が高くなることを抑制することができ、これによって、第１導線５１からなる第１検出パターン４１が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。

また、第２導線５６に向かう外光Ｌ２の経路上には、図７に示すようにオーバーラップパターン４２のオーバーラップ部５２が設けられている。このため、第２導線５６に向かう外光Ｌ２の大半はオーバーラップ部５２に入射する。従って、第２導線５６からなる第２検出パターン４６が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。
一方、オーバーラップ部５２に入射した外光Ｌ２は、オーバーラップ部５２の第１反射防止層６２によって反射されて反射光Ｌ２’となる。ここで上述のように、オーバーラップ部５２は、視感反射率（Ｙ値）が５〜２５％の範囲内となるよう構成されている。このため、反射光Ｌ２’の強度が高くなることを抑制することができ、これによって、オーバーラップ部５２からなるオーバーラップパターン４２が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。

このように本実施の形態によれば、タッチパネルセンサ３０は、基材３２の第１面３２ａおよび第２面３２ｂにそれぞれ設けられた第１検出パターン４１および第２検出パターン４６に加えて、基材の法線方向から見た場合に第２検出パターン４６の第２導線５６の交差部５６ｂと少なくとも部分的に重なるよう配置されたオーバーラップ部５２からなるオーバーラップパターン４２を備えている。このため、第２検出パターン４６のうち観察者によって最も視認され易い部分である、第２導線５６が互いに交差する交差部５６ｂを、少なくとも部分的に、オーバーラップ部５２によって観察者から覆い隠すことができる。これによって、第２検出パターン４６が観察者によって認識されてしまうことを抑制することができる。また、第１導線５１の表面およびオーバーラップ部５２の表面には、低反射処理が施されている。このため、第１検出パターン４１およびオーバーラップパターン４２が観察者によって認識されてしまうことを抑制することができる。従って本実施の形態によれば、各検出パターン４１，４６の電気抵抗値を低減することによって、タッチ位置の高い検出精度を確保するとともに、映像の視認性を十分に確保することができる。

また本実施の形態によれば、上述のように、第１金属層６１および第２金属層６６をパターニングするための第１感光層７１および第２感光層７６を得るための第１露光マスク７２および第２露光マスク７７の相対的な位置を調整する工程が実施される。このため、第１感光層７１に照射される露光光に対する、第２感光層７６に照射される露光光の相対的な位置精度を十分に確保することができる。従って、数μｍの厚みを有するドライフィルムレジストを感光層として用いた場合であっても、第１感光層７１と第２感光層７６との間の相対的な位置精度を十分に高くすることができ、例えば±２μｍの範囲内にすることができる。このため、第２導線５６の交差部５６ｂに対してオーバーラップ部５２をより精度良く重ねることができる。また、感光層を積層体６０に密着させるための加熱工程が不要であるため、ＰＥＴなどの耐熱性に乏しい材料を用いて積層体６０の基材３２を構成することが可能になる。

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、いくつかの変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

（第１の変形例）
まず第１の変形例として、タッチパネルセンサ３０が、隣接する２つの第１検出パターン４１の間に設けられ、かつ第１検出パターン４１および第１額縁配線４４ａのいずれにも電気的に接続されていないダミーパターン４３をさらに備える例について説明する。図９は、本変形例におけるタッチパネルセンサ３０を示す平面図である。図１０は、図９において符号Xが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターン４１を拡大して示す平面図である。

ダミーパターン４３は、第１検出パターン４１と同様に、遮光性および導電性を有する第３導線５３から構成されている。第３導線５３は、図示はしないが、第１検出パターン４１の第１導線５１と同様に、遮光性および導電性を有する金属材料から構成された第１金属層および第１反射防止層を含んでいる。このようなダミーパターン４３を第１検出パターン４１の間に配置することにより、基材３２の観察者側におけるタッチパネルセンサ３０の透過率を、アクティブエリアＡａ１の全域にわたってほぼ均一にすることができる。このことにより、タッチ位置検出機能付き表示装置１０の輝度にばらつきが生じることを防ぐことができる。

好ましくは、ダミーパターン４３を構成する第３導線５３は、図１０に示すように、第１検出パターン４１を構成する第１導線５１と同様のパターンで形成されている。これによって、第１検出パターン４１が目立って視認されてしまうことを抑制することができる。なお図１０においては、ダミーパターン４３が第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２の両方において周期的に断線している例が示されている。しかしながら、ダミーパターン４３が第１検出パターン４１および第１額縁配線４４ａに電気的に接続されない限りにおいて、ダミーパターン４３の断線のさせ方が特に限られることはない。

図１１は、図９に示す本変形例によるタッチパネルセンサ３０において、第２検出パターン４６の第２導線５６の交差部５６ｂと重なるよう配置されたオーバーラップパターン４２を示す平面図である。本変形例においても、オーバーラップパターン４２を設けることにより、第２導線５６からなる第２検出パターン４６が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。

（第２の変形例）
第２の変形例として、タッチパネルセンサ３０の基材３２が、図１２に示すように、接着層３２３などを用いて２つの基材３２１，３２２を貼り合せることによって構成される例について説明する。第１基材３２１は、基材３２の第１面３２ａを構成するものであり、ＰＥＴなどの透光性を有する部材を含んでいる。第２基材３２２は、基材３２の第２面３２ｂを構成するものであり、第１基材３２１と同様にＰＥＴなどの透光性を有する部材を含んでいる。第１基材３２１および第２基材３２２に含まれるＰＥＴなどの部材の厚みは、好ましくは１００μｍ以下になっており、例えば２５μｍになっている。また、第１基材３２１および第２基材３２２を貼り合せるために用いられる接着層３２３の厚みは、例えば２５μｍになっている。さらに好ましくは、第１基材３２１、第２基材３２２および接着層３２３から構成される基材３２全体の厚みは、１００μｍ以下になっている。

次に図１３（ａ）（ｂ）を参照して、本変形例による基材３２を含む積層体６０を作製する方法の一例を説明する。はじめに第１基材３２１および第２基材３２２を準備し、次に、第１基材３２１および第２基材３２２の各々に、スパッタリングなどによって金属層を設ける。これによって、第１基材３２１および第１基材３２１上に設けられた金属層（第１金属層６１）を含む第１積層体６０１と、第２基材３２２および第２基材３２２上に設けられた金属層（第２金属層６６）を含む第２積層体６０２と、を得ることができる。次に図１３（ａ）に示すように、第１積層体６０１および第２積層体６０２を、互いの金属層が反対側を向くようにして貼り合せる。これによって、図１３（ｂ）に示すように、第１基材３２１および第２基材３２２を含む基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられた第１金属層６１と、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられた第２金属層６６と、を備えた積層体６０を得ることができる。

積層体６０を用いてタッチパネルセンサ３０を作製する方法は、上述の本実施の形態の場合と同一であるので、詳細な説明を省略する。

本変形例において、金属層は、第１基材３２１の一面および第２基材３２２の一面にのみ設けられればよい。従って、１つの基材の両面に金属層を設ける場合に比べて、基材をひっくり返す手間が不要になり、このため金属層の成膜工程を簡易化することができる。また、金属層の成膜工程において、金属層が搬送ローラーに接する機会が減少するので、金属層の表面が傷ついてしまうことを抑制することもできる。

（その他の変形例）
上述の本実施の形態において、オーバーラップパターン４２のオーバーラップ部５２が、第２検出パターン４６の第２導線５６の交差部５６ｂと重なるよう設けられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、オーバーラップ部５２を、第２導線５６の交差部５６ｂだけでなく第２導線５６のうち線状に延びる部分と重なるよう設けてもよい。また、オーバーラップパターン４２のオーバーラップ部５２に加えて、若しくはオーバーラップ部５２の代わりに、上述の第１検出パターン４１の第１導線５１やダミーパターン４３の第３導線５３が、第２検出パターン４６の第２導線５６と少なくとも部分的に重なるよう設けられていてもよい。

また上述の本実施の形態において、第１金属層６１が銅を含む層である例を示した。すなわち、第１金属層６１が、銅または銅系の合金から構成されており、このため銅に特有の赤味を帯びた色が第１金属層６１に現れる例を示した。しかしながら、第１導線５１における所望の導電性を確保することができる限りにおいて、第１金属層６１のベースとなる金属元素が銅に限られることはなく、様々な金属元素が採用され得る。例えば第１金属層６１は、銀を主成分とする層であってもよい。

１０ タッチ位置検出機能付き表示装置
１５ 表示装置
３０ タッチパネルセンサ
３２ 基材
４１ 第１検出パターン
４２ オーバーラップパターン
４３ ダミーパターン
４６ 第２検出パターン
５１ 第１導線
５２ オーバーラップ部
５３ 第３導線
５６ 第２導線
５６ｂ 交差部
６０ 積層体
６１ 第１金属層
６２ 第１反射防止層
６６ 第２金属層
６７ 第２反射防止層
７１ 第１感光層
７２ 第１露光マスク
７６ 第２感光層
７７ 第２露光マスク

Claims (8)

1. タッチパネルセンサであって、
   観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
   前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、
   前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、
   各第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第１導線を網目状に配置することによって構成されており、
   各第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第２導線を網目状に配置することによって構成されており、
   前記第２検出パターンには、複数の前記第２導線が互いに交差することによって生じる交差部が形成されており、
   前記タッチパネルセンサは、前記第１検出パターンの前記第１導線に接続されないよう前記基材の前記第１面上に設けられたオーバーラップパターンをさらに備え、
   前記オーバーラップパターンは、遮光性および導電性を有する複数のオーバーラップ部から構成されており、
   前記オーバーラップ部は、前記基材の法線方向から見た場合に前記第２検出パターンの前記交差部と少なくとも部分的に重なるよう配置されており、
   前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面には、低反射処理が施されている、タッチパネルセンサ。
2. 前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面の、ＸＹＺ表色系における視感反射率が５〜２５％の範囲内である、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
3. 前記第１導線および前記オーバーラップ部はいずれも、銅を含む第１金属層を有し、
   前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面の、Ｌ^*ａ^*ｂ^*色度系における反射色相ｂ^*が−０．５〜２の範囲内である、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。
4. 前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面には、マット処理が施されている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
5. 前記オーバーラップ部は、前記基材の法線方向から見た場合に、前記第２検出パターンの前記交差部が広がる領域の内側に位置するよう配置されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
6. 請求項１に記載のタッチパネルセンサの製造方法であって、
   前記基材と、前記基材の前記第１面上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１金属層と、前記基材の前記第２面上に設けられ、遮光性および導電性を有する第２金属層と、を備える積層体を準備する工程と、
   前記第１金属層上に第１感光層を設け、かつ、前記第２金属層上に第２感光層を設ける工程と、
   第１露光マスクを介して前記第１感光層に所定のパターンで露光光を照射し、第２露光マスクを介して前記第２感光層に所定のパターンで露光光を照射する露光工程と、
   前記第１感光層および前記第２感光層を現像する現像工程と、
   前記第１感光層をマスクとして前記第１金属層をエッチングすることによって、前記第１検出パターンの前記第１導線および前記オーバーラップパターンの前記オーバーラップ部に対応するパターンで第１金属層をパターニングし、かつ、前記第２感光層をマスクとして前記第２金属層をエッチングすることによって、前記第２検出パターンの前記第２導線に対応するパターンで第２金属層をパターニングするエッチング工程と、
   前記第１金属層の表面に低反射処理を施す低反射処理工程と、を備え、
   前記露光工程は、前記第１露光マスクに対する前記第２露光マスクの相対位置を調整する工程を含む、タッチパネルセンサの製造方法。
7. 前記低反射処理工程は、有機酸を含むマット処理液を用いて前記第１金属層の表面にマット処理を施すマット処理工程を含む、請求項６に記載のタッチパネルセンサの製造方法。
8. 表示装置と、
   前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
   前記タッチパネルセンサは、
   観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
   前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、
   前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、
   各第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第１導線を網目状に配置することによって構成されており、
   各第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する複数の第２導線を網目状に配置することによって構成されており、
   前記第２検出パターンには、複数の前記第２導線が互いに交差することによって生じる交差部が形成されており、
   前記タッチパネルセンサは、前記第１検出パターンの前記第１導線に接続されないよう前記基材の前記第１面上に設けられたオーバーラップパターンをさらに備え、
   前記オーバーラップパターンは、遮光性および導電性を有する複数のオーバーラップ部から構成されており、
   前記オーバーラップ部は、前記基材の法線方向から見た場合に前記第２検出パターンの前記交差部と少なくとも部分的に重なるよう配置されており、
   前記第１導線の表面および前記オーバーラップ部の表面には、低反射処理が施されている、タッチ位置検出機能付き表示装置。

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