JP2014511420A - 分子量を制御するための混合溶媒 - Google Patents
分子量を制御するための混合溶媒 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014511420A JP2014511420A JP2013556715A JP2013556715A JP2014511420A JP 2014511420 A JP2014511420 A JP 2014511420A JP 2013556715 A JP2013556715 A JP 2013556715A JP 2013556715 A JP2013556715 A JP 2013556715A JP 2014511420 A JP2014511420 A JP 2014511420A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- solvent
- molecular weight
- substituted
- mmol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 152
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims abstract 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- -1 thiophene core compound Chemical class 0.000 claims description 27
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 12
- 239000000976 ink Substances 0.000 abstract description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 15
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 119
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 69
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 13
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 8
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromothiophene Chemical compound BrC1=CC=CS1 TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000012673 precipitation polymerization Methods 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001204 N-oxides Chemical class 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHZAHWOAMVVGEL-UHFFFAOYSA-N 2,2'-bithiophene Chemical compound C1=CSC(C=2SC=CC=2)=C1 OHZAHWOAMVVGEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001175 rotational moulding Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BHKKSKOHRFHHIN-MRVPVSSYSA-N 1-[[2-[(1R)-1-aminoethyl]-4-chlorophenyl]methyl]-2-sulfanylidene-5H-pyrrolo[3,2-d]pyrimidin-4-one Chemical compound N[C@H](C)C1=C(CN2C(NC(C3=C2C=CN3)=O)=S)C=CC(=C1)Cl BHKKSKOHRFHHIN-MRVPVSSYSA-N 0.000 description 1
- KXSFECAJUBPPFE-UHFFFAOYSA-N 2,2':5',2''-terthiophene Chemical compound C1=CSC(C=2SC(=CC=2)C=2SC=CC=2)=C1 KXSFECAJUBPPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REDHBVHXKMCBPL-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-3,7-diheptadecylthieno[3,2-b]thieno[2',3':4,5]thieno[2,3-d]thiophene Chemical compound S1C(Br)=C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)C2=C1C(SC1=C3SC(Br)=C1CCCCCCCCCCCCCCCCC)=C3S2 REDHBVHXKMCBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical compound C1=CC=C2OC2=C1 OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000268 heptanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000140 heteropolymer Polymers 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000743 hydrocarbylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000000710 polymer precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004568 thiomorpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- RQFPYBXIPJRTSQ-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[4-(4-trimethylstannylphenyl)phenyl]stannane Chemical group C1=CC([Sn](C)(C)C)=CC=C1C1=CC=C([Sn](C)(C)C)C=C1 RQFPYBXIPJRTSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D165/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
Description
ここに用いたように、「沈殿重合」または類似の用語は、形成されているポリマーが、自信のモノマー中または特定のモノマーと溶媒の組合せ中で次第により不溶性になり、それが形成された直後の、例えば、時間、温度、および溶解度により決定される時点で、溶液から沈殿する重合反応を称する。沈殿重合は、連続相中で均一系として最初に始まる不均一重合プロセスであり、ここでは、モノマー、およびコモノマーなどの共反応体、化学試薬、または触媒や開始剤などの類似の成分は、完全に可溶性であるが、重合が開始された際に、形成されたポリマーが、ポリマー鎖の成長が続くに連れて、より一層不溶性となり、溶液から沈殿する。従来の沈殿重合において、沈殿後、重合は、モノマーと開始剤のポリマー粒子への吸着によって進行し得る(例えば、G. Odian in Principles of Polymerization, 3rd ed., John Wiley and Sons, 1991, pp 302, およびVan Aert等, Controlled molecular weight by the precipitation polymerization of 2,6-dimethylphenol, J. Macromolecular Sci. Pure and Applied Chemistry, (1995), A32(3), 515-23.を参照のこと)。本発明の沈殿重合方法において、重合は、溶液中に残留するモノマーについても、継続できる。しかしながら、重合は、溶液から沈殿したポリマーについて、事実上、遅延されるか、または完全に停止される。したがって、本開示において沈殿したポリマーの分子量特性は、比較的不変であり、比較的一定であり、一貫した狭い多分散性を達成し、維持できる。理論により拘束することを望むものではないが、ポリマー生成物は、分子量が増加するにつれて、混合溶媒中の溶解度が減少する。所定の溶媒系について、ポリマーは、その溶解度が、ポリマーが実質的に完全に沈殿するほど不十分となる分子量範囲を有する。固体状態にある間、継続した鎖の成長速度は、停止するか、または完全に溶媒和されている種の成長速度に対して劇的に減少する。これには、より小さい(まだ溶媒和されている)鎖が、分子量において、既に沈殿したより大きい対応する鎖に追いつくことのできる効果がある。このことは、転じて、全体としてポリマーバッチについてより狭い多分散性をたもらす。このより狭い多分散性には、薄膜素子においてより良好な充填結果をもたらせそうであるという追加の利点がある。より規則正しい充填により、欠陥部位がより少なくなり、これにより、転じて、電子および正孔の捕獲密度がより小さくなる。その結果、そのような薄膜素子はより効率的に機能できる。
より大きい濃度範囲のポリマー溶液が得られる。
ポリマー溶液は、より長い貯蔵寿命を有し得る(例えば、貯蔵中に沈殿する傾向が少ない)。
ポリマー溶液は、処理がより容易にできる。
凝集および過剰な凝集により生じる関連欠陥がなくなるか、低減される。
以前に利用できたよりも溶解度および加工可能性が大きいことを必要とする用途が今では利用できる。
十分な時間に亘り十分な温度で加熱して、少なくとも1種類の重合性モノマーと、少なくとも第1の液体およびポリマー生成物に関して第1の液体よりも弱い第2の液体からなる混合溶媒とを含む均一混合物を重合させる工程であって、この加熱中に均一混合物からポリマー生成物が沈殿する工程、
を有してなる方法を提供する。
モノマー対混合溶媒の一定の体積比、
同じまたは同様の蒸気圧を有する第1の溶媒と第2の溶媒、
第1の溶媒と第2の溶媒は、共沸混合物を形成する、
またはそれらの組合せ、
を含み得る。
インク配合物としてのポリマー溶液の溶解度、および
印刷されたインクから製造されたデバイスの半導体性能(移動度および閾値電圧)。
ホットプレートの熱電対にセプタムを取り付け、油浴を125℃に予熱する。マグネチックスターラーを備えた1Lの三口の丸底フラスコに、ジブロモ縮合チオフェン化合物(例えば、2,6−ジブロモ−3,7−ジヘプタデシルチエノ[3,2−b]チエノ[2’,3’:4,5]チエノ[2,3−d]チオフェン、DC17FT4−2Brモノマー)(10g、11.3ミリモル)、二スズビチオフェンコモノマー(例えば、5,5’−ビス(トリメチルスタニル)−2,2’−ビフェニル)(5.54g、11.3ミリモル)、トルエン(240mL)、および酢酸ブチル(60mL)(4:1=v:v)を加える。このフラスコの各口に、冷却管と2つのセプタムを取り付ける。冷却器の上端を窒素マニホールドに接続し、撹拌を開始する。1つのセプタムに通した針を通じて、5分間に亘り混合物を窒素でバブリングする。窒素のバブリングを維持しつつ、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(650mg、0.562ミリモル)を加えるのに十分に長い間、1つのセプタムを取り外し、次いで、閉じる。この反応混合物に熱電対を浸漬する。窒素のバブリングをさらに5分間継続し、次いで、針を取り外す。次いで、フラスコを、予熱した油浴中に浸漬し、16時間に亘り110℃で反応混合物の温度を調節するように、熱電対を備えたホットプレートを設定する。110℃で撹拌を継続しながら、2−トリブチルスズチオフェン(420mg、1.13ミリモル)(キャッピング剤)を注射器に計り取り、セプタムの内の1つを通じて加える。3時間後、2−ブロモチオフェン(230mg、1.98ミリモル)をさらに注射器に計り取り、セプタムの内の1つを通じて加える。さらに3時間後、反応混合物を油浴から取り出し、メタノール(1L)およびアセチルアセトン(1L)の撹拌混合物中に注ぎ入れる。新たに形成された懸濁液を室温で16時間に亘り撹拌する。この溶液からポリマーを濾過し、次いで、メタノール(500mL)中に再び懸濁させる。この懸濁液を撹拌しながら、塩化水素酸(35%水溶液、20mL)を加える。撹拌している懸濁液を3時間に亘り約40℃に加熱する。この懸濁液からポリマーを濾過し、次いで、メタノール(100mL)で洗浄する。次いで、この粗製ポリマーをソックスレー・シンブルに入れ、抽出溶媒としてアセトンを使用して、24時間に亘りソックスレー抽出を行う。次いで、溶媒をヘキサンと交換し、24時間に亘りソックスレー抽出を行う。次いで、ソックスレー本体からソックスレー・シンブルを取り外し、充填と流出を繰り返すことにより(シンブルの容積4つ分)アセトンでフラッシングした。ポリマーをシンブルから除去し、真空下で乾燥させて、赤色固体として一般的な生成物を得る。
80:20の強い溶媒:弱い溶媒の比を有するポリマー合成
一般手法にしたがって、80:20の強い溶媒:弱い溶媒の比で1バッチのポリマーを合成したが、以下の変更があった:使用した正確な量は、DC17FT4−2Br(9.00g、10.15ミリモル)、二スズ−ビチオフェン(4.99g、10.15ミリモル)、トルエン(216mL)、酢酸ブチル(54mL)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(585mg、5.06ミリモル)、2−トリブチルスズチオフェン(378mg、1.02ミリモル)、2−ブロモチオフェン(213mg、1.27ミリモル)であった。このプロセスにおいて、精密検査用溶媒対ポリマーの比率は、一般手法とは異なった。反応混合物をメタノール(1800mL)およびアセチルアセトン(1800mL)中に注ぎ入れた。酸洗い工程は、メタノール(1300mL)および塩化水素酸(35%水溶液、54mL)を使用して行った。このプロセスにより、88.4%(組み合わせた出発モノマーに基づく)の単離収率で、8.0gのポリマー(P2TDC17FT4)を得た。
90:10の強い溶媒:弱い溶媒の比を有するポリマー合成
一般手法にしたがって、90:10の強い溶媒:弱い溶媒の比で1バッチのポリマーを合成したが、以下の変更があった:使用した正確な量は、DC17FT4−2Br(1.00g、1.13ミリモル)、二スズ−ビチオフェン(554mg、1.13ミリモル)、トルエン(27mL)、酢酸ブチル(3mL)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(65mg、0.562ミリモル)、2−トリブチルスズチオフェン(42mg、0.113ミリモル)、2−ブロモチオフェン(24mg、0.143ミリモル)であった。反応混合物をメタノール(200mL)およびアセチルアセトン(200mL)中に注ぎ入れた。酸洗い工程は、メタノール(150mL)および塩化水素酸(35%水溶液、6mL)を使用して行った。このプロセスにより、91.5%(組み合わせた出発モノマーに基づく)の単離収率で、920mgのポリマー(P2TDC17FT4)を得た。
60:40の強い溶媒:弱い溶媒の比を有するポリマー合成
一般手法にしたがって、60:40の強い溶媒:弱い溶媒の比で1バッチのポリマーを合成したが、以下の変更があった:使用した正確な量は、DC17FT4−2Br(1.00g、1.13ミリモル)、二スズ−ビチオフェン(554mg、1.13ミリモル)、トルエン(18mL)、酢酸ブチル(12mL)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(65mg、0.562ミリモル)、2−トリブチルスズチオフェン(42mg、0.113ミリモル)、2−ブロモチオフェン(24mg、0.143ミリモル)であった。反応混合物をメタノール(200mL)およびアセチルアセトン(200mL)中に注ぎ入れた。酸洗い工程は、メタノール(150mL)および塩化水素酸(35%水溶液、6mL)を使用して行った。このプロセスにより、85.5%(組み合わせた出発モノマーに基づく)の単離収率で、860mgのポリマー(P2TDC17FT4)を得た。
40:60の強い溶媒:弱い溶媒の比を有するポリマー合成
一般手法にしたがって、40:60の強い溶媒:弱い溶媒の比で1バッチのポリマーを合成したが、以下の変更があった:使用した正確な量は、DC17FT4−2Br(1.00g、1.13ミリモル)、二スズ−ビチオフェン(554mg、1.13ミリモル)、トルエン(12mL)、酢酸ブチル(18mL)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(65mg、0.562ミリモル)、2−トリブチルスズチオフェン(42mg、0.113ミリモル)、2−ブロモチオフェン(24mg、0.143ミリモル)であった。反応混合物をメタノール(200mL)およびアセチルアセトン(200mL)中に注ぎ入れた。酸洗い工程は、メタノール(150mL)および塩化水素酸(35%水溶液、6mL)を使用して行った。このポリマーは高温のヘキサン中に可溶性であるので、ヘキサンによるソックスレー抽出は行わなかった。アセトンによる24時間の抽出後、ポリマーをソックスレーから取り出し、さらに精密検査を行わずに、真空下で乾燥させた。このプロセスにより、81.5%(組み合わせた出発モノマーに基づく)の単離収率で、820mgのポリマー(P2TDC17FT4)を得た。
100:0の強い溶媒:弱い溶媒の比(100%のトルエン)を有するポリマー合成
一般手法にしたがって、100:0の強い溶媒:弱い溶媒の比で1バッチのポリマーを合成したが、以下の変更があった:使用したトルエンの正確な量は300mLであった。
100:0の強い溶媒:弱い溶媒の比(100%のクロロベンゼン)を有するポリマー合成
一般手法にしたがって、100:0の強い溶媒:弱い溶媒の比で1バッチのポリマーを合成したが、以下の変更があった:使用した正確な量は、DC17FT4−2Br(1.00g、1.13ミリモル)、二スズ−ビチオフェン(554mg、1.13ミリモル)、クロロベンゼン(30mL)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(65mg、0.562ミリモル)、2−トリブチルスズチオフェン(42mg、0.113ミリモル)、2−ブロモチオフェン(24mg、0.143ミリモル)であった。このプロセスにおいて、内部反応温度は直接的に制御されなかった。油浴の温度は125℃に制御した。反応混合物をメタノール(200mL)およびアセチルアセトン(200mL)中に注ぎ入れた。酸洗い工程は、メタノール(150mL)および塩化水素酸(35%水溶液、6mL)を使用して行った。このプロセスにより、89.6%(組み合わせた出発モノマーに基づく)の単離収率で、900mgのポリマー(P2TDC17FT4)を得た。
Claims (5)
- ポリマーを製造する方法であって、
十分な時間に亘り十分な温度で加熱して、少なくとも1種類の重合性モノマーと、少なくとも第1の液体および前記ポリマーに関して前記第1の液体よりも弱い第2の液体からなる混合溶媒とを含む均一混合物を重合させて、加熱中に該均一混合物からポリマー生成物が沈殿する工程、
を有してなる方法。 - 前記少なくとも1種類の重合性モノマーが、ジハロゲン置換縮合チオフェンコア化合物および二スズ置換非縮合チオフェン含有化合物の混合物を含む、請求項1記載の方法。
- 前記少なくとも1種類の重合性モノマーが、4つの縮合環を有する置換または非置換縮合チオフェンおよび2から約4つの隣接した置換または非置換チオフェン部分を有するオリゴチオフェンからなる少なくとも2種類の異なるモノマーを含む、請求項1記載の方法。
- 前記ポリマー生成物が、約1.1から約2の多分散性を有する、請求項1記載の方法。
- 請求項1記載の方法により調製されたポリマーを含むポリマーインク配合物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201161447524P | 2011-02-28 | 2011-02-28 | |
| US61/447,524 | 2011-02-28 | ||
| PCT/US2012/025856 WO2012118635A1 (en) | 2011-02-28 | 2012-02-21 | Solvent mixture for molecular weight control |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014511420A true JP2014511420A (ja) | 2014-05-15 |
| JP2014511420A5 JP2014511420A5 (ja) | 2015-06-18 |
Family
ID=45809662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013556715A Pending JP2014511420A (ja) | 2011-02-28 | 2012-02-21 | 分子量を制御するための混合溶媒 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8642719B2 (ja) |
| EP (1) | EP2681254A1 (ja) |
| JP (1) | JP2014511420A (ja) |
| CN (1) | CN103391956B (ja) |
| TW (1) | TWI522429B (ja) |
| WO (1) | WO2012118635A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017508857A (ja) * | 2014-06-17 | 2017-03-30 | ポリム テクノロジー コーポレーションPolym Technology Corporation | 共役複素芳香環重合体を含む電気活性重合体溶液または塗膜を形成する組成物および方法、電気活性重合体溶液、電気活性塗膜を含むコンデンサ(キャパシタ)および帯電防止体、および固体電解質コンデンサとその製造方法 |
| KR20170109622A (ko) * | 2015-01-29 | 2017-09-29 | 코닝 인코포레이티드 | 분지형 알킬-사슬 및/또는 분지형 알킬-사슬을 갖는 융합 티오펜을 갖는 dpp 및 이들의 반-도전 공중합체의 분자량을 증가시키는 관련 설계 전략 |
| WO2019176977A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 東亞合成株式会社 | 重合体微粒子の製造方法 |
| US11253453B2 (en) | 2016-09-30 | 2022-02-22 | Innospec Limited | Reducing colour loss from a dyed material by using an amine salt of a carboxylic acid |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8916066B2 (en) * | 2010-05-27 | 2014-12-23 | Corning Incorporated | Polymeric fused thiophene semiconductor formulation |
| US8846855B2 (en) * | 2011-10-31 | 2014-09-30 | Corning Incorporated | Conjugated fused thiophenes, methods of making conjugated fused thiophenes, and uses thereof |
| CN104703685B (zh) | 2012-08-27 | 2017-03-15 | 康宁股份有限公司 | 半导体稠合噻吩聚合物油墨制剂 |
| US20150065722A1 (en) * | 2013-09-05 | 2015-03-05 | Corning Incorporated | Fused thiophene ditin monomers |
| WO2015081095A1 (en) * | 2013-11-27 | 2015-06-04 | Corning Incorporated | Advanced flow reactor synthesis of semiconducting polymers |
| TW201813995A (zh) | 2016-09-16 | 2018-04-16 | 美商康寧公司 | 稠合噻吩芳基噻二唑聚合物、該聚合物之製作方法,及其用途 |
| CN111269399B (zh) * | 2020-01-17 | 2022-06-07 | 中国长江三峡集团有限公司 | 具有不对称结构的有机聚合物及作为光电材料的用途 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5896623A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-06-08 | ザ・ビ−・エフ・グツドリツチ・カンパニ− | シクロオレフイン類の分散重合方法 |
| JPH0945478A (ja) * | 1995-02-01 | 1997-02-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高分子蛍光体とその製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JPH10504602A (ja) * | 1994-08-18 | 1998-05-06 | ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・ノース・キャロライナ・アト・チャペル・ヒル | 二酸化炭素中のカチオン重合 |
| JPH10292137A (ja) * | 1996-04-16 | 1998-11-04 | Canon Inc | 塗工用組成物、記録媒体及びこれを用いた画像形成方法 |
| JP2003261674A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Asahi Kasei Corp | 低分子量ポリフェニレンエーテルの製造方法 |
| JP2007169483A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Kyushu Univ | ナフトールポリマー及びナフトールポリマーの製造方法 |
| JP2008063537A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリフェニレンエーテルの製造方法 |
| JP2010520322A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-10 | コーニング インコーポレイテッド | 縮合チオフェン、縮合チオフェンの製造方法およびその使用方法 |
| JP2012025919A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-09 | Japan Carlit Co Ltd:The | 導電性高分子製造用酸化剤溶液とそれを用いた固体電解コンデンサの製造方法 |
| WO2012070390A1 (ja) * | 2010-11-26 | 2012-05-31 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CS153765B1 (ja) | 1971-10-14 | 1974-03-29 | ||
| US4463164A (en) | 1983-02-15 | 1984-07-31 | Borg-Warner Chemicals, Inc. | Process for preparing polyphenylene ethers |
| TW334474B (en) * | 1995-02-01 | 1998-06-21 | Sumitomo Kagaku Kk | Method for making a polymeric fluorescent substrate and organic electrolumninescent element |
| AU2926400A (en) * | 1999-03-05 | 2000-09-28 | Cambridge Display Technology Limited | Polymer preparation |
| GB9905203D0 (en) | 1999-03-05 | 1999-04-28 | Cambridge Display Tech Ltd | Polymer preparation |
| DE10163449A1 (de) | 2000-07-28 | 2002-07-11 | Daicel Chem | Verfahren zur Herstellung von Copolymer aus Alkylvinylether und Maleinsäureanhydrid und Copolymer aus Alkylvinylether und Maleinsäureanhydrid |
| WO2003014050A1 (fr) | 2001-08-07 | 2003-02-20 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Composition du type 2,6 dimethylphenol |
| JP5107712B2 (ja) | 2004-09-14 | 2012-12-26 | コーニング インコーポレイテッド | 縮合チオフェン、縮合チオフェンの製造方法、およびその使用方法 |
| DE102006061966A1 (de) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Bayer Technology Services Gmbh | Verfahren zur Darstellung von Thiophenen |
| TW201002722A (en) * | 2008-01-22 | 2010-01-16 | Ricoh Co Ltd | Benzobisthiazole compound, benzobisthiazole polymer, organic film including the compound or polymer and transistor including the organic film |
| EP2169007B1 (en) | 2008-09-30 | 2012-07-11 | SABIC Innovative Plastics IP B.V. | Method for preparing a poly(arylene ether) composition with improved melt flow |
| US8372945B2 (en) | 2009-07-24 | 2013-02-12 | Solarmer Energy, Inc. | Conjugated polymers with carbonyl substituted thieno[3,4-B]thiophene units for polymer solar cell active layer materials |
-
2012
- 2012-02-15 US US13/397,021 patent/US8642719B2/en active Active
- 2012-02-21 EP EP12707441.7A patent/EP2681254A1/en not_active Withdrawn
- 2012-02-21 CN CN201280010514.4A patent/CN103391956B/zh active Active
- 2012-02-21 JP JP2013556715A patent/JP2014511420A/ja active Pending
- 2012-02-21 WO PCT/US2012/025856 patent/WO2012118635A1/en not_active Ceased
- 2012-02-29 TW TW101106564A patent/TWI522429B/zh active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5896623A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-06-08 | ザ・ビ−・エフ・グツドリツチ・カンパニ− | シクロオレフイン類の分散重合方法 |
| JPH10504602A (ja) * | 1994-08-18 | 1998-05-06 | ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・ノース・キャロライナ・アト・チャペル・ヒル | 二酸化炭素中のカチオン重合 |
| JPH0945478A (ja) * | 1995-02-01 | 1997-02-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高分子蛍光体とその製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JPH10292137A (ja) * | 1996-04-16 | 1998-11-04 | Canon Inc | 塗工用組成物、記録媒体及びこれを用いた画像形成方法 |
| JP2003261674A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Asahi Kasei Corp | 低分子量ポリフェニレンエーテルの製造方法 |
| JP2007169483A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Kyushu Univ | ナフトールポリマー及びナフトールポリマーの製造方法 |
| JP2008063537A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリフェニレンエーテルの製造方法 |
| JP2010520322A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-10 | コーニング インコーポレイテッド | 縮合チオフェン、縮合チオフェンの製造方法およびその使用方法 |
| JP2012025919A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-09 | Japan Carlit Co Ltd:The | 導電性高分子製造用酸化剤溶液とそれを用いた固体電解コンデンサの製造方法 |
| WO2012070390A1 (ja) * | 2010-11-26 | 2012-05-31 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017508857A (ja) * | 2014-06-17 | 2017-03-30 | ポリム テクノロジー コーポレーションPolym Technology Corporation | 共役複素芳香環重合体を含む電気活性重合体溶液または塗膜を形成する組成物および方法、電気活性重合体溶液、電気活性塗膜を含むコンデンサ(キャパシタ)および帯電防止体、および固体電解質コンデンサとその製造方法 |
| KR20170109622A (ko) * | 2015-01-29 | 2017-09-29 | 코닝 인코포레이티드 | 분지형 알킬-사슬 및/또는 분지형 알킬-사슬을 갖는 융합 티오펜을 갖는 dpp 및 이들의 반-도전 공중합체의 분자량을 증가시키는 관련 설계 전략 |
| KR102471602B1 (ko) | 2015-01-29 | 2022-11-28 | 코닝 인코포레이티드 | 분지형 알킬-사슬 및/또는 분지형 알킬-사슬을 갖는 융합 티오펜을 갖는 dpp 및 이들의 반-도전 공중합체의 분자량을 증가시키는 관련 설계 전략 |
| US11253453B2 (en) | 2016-09-30 | 2022-02-22 | Innospec Limited | Reducing colour loss from a dyed material by using an amine salt of a carboxylic acid |
| WO2019176977A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 東亞合成株式会社 | 重合体微粒子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20120220713A1 (en) | 2012-08-30 |
| TWI522429B (zh) | 2016-02-21 |
| CN103391956B (zh) | 2016-08-24 |
| CN103391956A (zh) | 2013-11-13 |
| WO2012118635A1 (en) | 2012-09-07 |
| US8642719B2 (en) | 2014-02-04 |
| EP2681254A1 (en) | 2014-01-08 |
| TW201241112A (en) | 2012-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2014511420A (ja) | 分子量を制御するための混合溶媒 | |
| CN103068829B (zh) | 二锡稠合噻吩化合物与聚合物及其制备方法 | |
| TWI596131B (zh) | 聚合性融合噻吩半導體配方 | |
| JP5833680B2 (ja) | 電子用途に使用するための、縮合チオフェン環を含有する化合物およびそのポリマー | |
| Seckin et al. | Molecular design of POSS core star polyimides as a route to low-κ dielectric materials | |
| JP6875991B2 (ja) | 分岐アルキル鎖を有するdppまたは(および)分岐アルキル鎖を有する縮合チオフェン、並びにそれらの半導体コポリマーの分子量を増加させるための設計戦略 | |
| KR102154260B1 (ko) | 반도체성 융합 티오펜 중합체 잉크 제형 | |
| KR20150082540A (ko) | 융합 고리를 포함하는 모노머, 올리고머 및 폴리머 반도체 및 그 소자 | |
| JP5376947B2 (ja) | 置換ポリチオフェンポリマーのための改良プロセス | |
| JP2009540055A (ja) | 位置規則性ポリ(3−置換チオフェン)を調製する方法 | |
| JP2021006629A (ja) | 水性組成物を形成する方法 | |
| US20160329496A1 (en) | Processes for purifying diketopyrrolopyrrole copolymers | |
| JP5657248B2 (ja) | 3,4−アルキレンジオキシピロールおよび3,4−アルキレンジオキシフランの無触媒重合 | |
| Liang et al. | Developing perylene diimide based acceptor polymers for organic photovoltaics | |
| KR101674477B1 (ko) | 고 결정성 전기 전도성 유기 재료, 그의 제조 방법 및 이를 포함하는 제품 | |
| Tan et al. | Synthesis and characterization of new tercopolymer containing thienothiophene, thiophene and fluorene for organic thin-film transistors | |
| KR20190057328A (ko) | 용융 티오펜-아릴티아디아졸 폴리머, 이러한 폴리머의 제조방법 및 그 사용방법 | |
| US7314908B2 (en) | Polythiophene processes | |
| JP6328791B2 (ja) | 有機半導体素子及び化合物 | |
| Paek et al. | The influence of electron-deficient comonomer on chain alignment and OTFT characteristics of polythiophenes | |
| KR102525529B1 (ko) | 위치규칙성 고분자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 유기전자소자 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140617 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150218 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150303 |
|
| A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20150423 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150707 |