JP2014168055A - 圧電材料、圧電素子および電子機器 - Google Patents
圧電材料、圧電素子および電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014168055A JP2014168055A JP2014013646A JP2014013646A JP2014168055A JP 2014168055 A JP2014168055 A JP 2014168055A JP 2014013646 A JP2014013646 A JP 2014013646A JP 2014013646 A JP2014013646 A JP 2014013646A JP 2014168055 A JP2014168055 A JP 2014168055A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piezoelectric
- piezoelectric element
- piezoelectric material
- mol
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/495—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. vanadates, niobates, tantalates, molybdates or tungstates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B06—GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
- B06B—METHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
- B06B1/00—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
- B06B1/02—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
- B06B1/06—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62685—Treating the starting powders individually or as mixtures characterised by the order of addition of constituents or additives
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/04—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/0005—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing non-specific motion; Details common to machines covered by H02N2/02 - H02N2/16
- H02N2/001—Driving devices, e.g. vibrators
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/10—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors
- H02N2/106—Langevin motors
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/10—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors
- H02N2/16—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors using travelling waves, i.e. Rayleigh surface waves
- H02N2/163—Motors with ring stator
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/80—Camera processing pipelines; Components thereof
- H04N23/81—Camera processing pipelines; Components thereof for suppressing or minimising disturbance in the image signal generation
- H04N23/811—Camera processing pipelines; Components thereof for suppressing or minimising disturbance in the image signal generation by dust removal, e.g. from surfaces of the image sensor or processing of the image signal output by the electronic image sensor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
- H10N30/093—Forming inorganic materials
- H10N30/097—Forming inorganic materials by sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
- H10N30/2047—Membrane type
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8542—Alkali metal based oxides, e.g. lithium, sodium or potassium niobates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3201—Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3215—Barium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
- C04B2235/3234—Titanates, not containing zirconia
- C04B2235/3236—Alkaline earth titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3251—Niobium oxides, niobates, tantalum oxides, tantalates, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3255—Niobates or tantalates, e.g. silver niobate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3262—Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
- C04B2235/3267—MnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3281—Copper oxides, cuprates or oxide-forming salts thereof, e.g. CuO or Cu2O
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3284—Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6582—Hydrogen containing atmosphere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6583—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures
- C04B2235/6584—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures at an oxygen percentage below that of air
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/72—Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/768—Perovskite structure ABO3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/786—Micrometer sized grains, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/80—Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
- C04B2235/85—Intergranular or grain boundary phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/52—Elements optimising image sensor operation, e.g. for electromagnetic interference [EMI] protection or temperature control by heat transfer or cooling elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Multimedia (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
【解決手段】一般式(1):(NaxBa1−y)(NbyTi1−y)O3(式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)で表されるペロブスカイト型金属酸化物と、Znとを含有する圧電材料2であって、Znの含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物1molに対して0mol%以上5mol%以下(但し、0mol%は除く)である。
【選択図】図1
Description
(NaxBa1−y)(NbyTi1−y)O3 (1)
(式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)
で表されるペロブスカイト型金属酸化物と、Znとを含有する圧電材料であって、前記Znの含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物1molに対して0mol%以上5mol%以下(但し、0mol%は除く)であることを特徴とする。
(NaxBa1−y)(NbyTi1−y)O3 (1)
(式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)
で表されるペロブスカイト型金属酸化物と、Znとを含有する圧電材料であって、前記Znの含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物1molに対して0mol%以上5mol%以下(但し、0mol%は除く)であることを特徴とする。
(1) 抵抗率が増加。
(2) 共振時、インピーダンスの位相角度が増加。
(3) 分極−電界ヒステリシス曲線測定で評価される残留分極値が増加。もしくは抗電界が減少。
(4) 電気機械結合係数が増加。
(5) 機械品質係数が低下。
(6) ヤング率が低下。
(7) 誘電正接(tanδ)が低下。
(1) 電気機械結合係数もしくは圧電定数が減少。
(2) 機械品質係数が増加。
(3) ヤング率が増加。
(4) 内部電界を有する。
以下に本発明の圧電材料を用いた圧電素子について説明する。
次に、本発明の圧電材料を用いた積層圧電素子について説明する。
本発明に係る液体吐出ヘッドは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を少なくとも有することを特徴とする。本発明の液体吐出ヘッドによって吐出する液体は流動体であれば特に限定されず、水、インク、燃料などの水系液体や非水系液体を吐出することができる。
図中では、第一の電極1011が下部電極、第二の電極1013が上部電極として使用されている。しかし、第一の電極1011と、第二の電極1013の配置はこの限りではない。例えば、第一の電極1011を下部電極として使用してもよいし、上部電極として使用してもよい。同じく、第二の電極1013を上部電極として使用しても良いし、下部電極として使用しても良い。また、振動板103と下部電極の間にバッファ層108が存在しても良い。なお、これらの名称の違いはデバイスの製造方法によるものであり、いずれの場合でも本発明の効果は得られる。
次に、本発明の液体吐出装置について説明する。本発明の液体吐出装置は、被転写体体載置部の搬送部と前記液体吐出ヘッドを備えたものである。
本発明に係る超音波モータは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有することを特徴とする。図6は、本発明の超音波モータの構成の一実施態様を示す概略図である。本発明の圧電素子が単板からなる超音波モータを、図6(a)に示す。超音波モータは、振動子201、振動子201の摺動面に不図示の加圧バネによる加圧力で接触しているロータ202、ロータ202と一体的に設けられた出力軸203を有する。前記振動子201は、金属の弾性体リング2011、本発明の圧電素子2012、圧電素子2012を弾性体リング2011に接着する有機系接着剤2013(エポキシ系、シアノアクリレート系など)で構成される。本発明の圧電素子2012は、不図示の第一の電極と第二の電極によって挟まれた圧電材料で構成される。
次に、本発明の光学機器について説明する。本発明の光学機器は、駆動部に前記超音波モータを備えたことを特徴とする。
粒子、粉体、液滴の搬送、除去等で利用される振動装置は、電子機器等で広く使用されている。
次に、本発明の撮像装置について説明する。本発明の撮像装置は、前記塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像ユニットの受光面側に設けた事を特徴とする。図12および図13は本発明の撮像装置の好適な実施形態の一例であるデジタル一眼レフカメラを示す図である。
次に、本発明の電子機器について説明する。本発明の電子機器は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を備えた圧電音響部品を配したことを特徴とする。圧電音響部品にはスピーカ、ブザー、マイク、表面弾性波(SAW)素子が含まれる。
表1には、本発明の実施例1から9と比較例1から4の焼結体の組成を示す。表中、xはNaの存在量、yはNbの存在量、zはZnの存在量、vはCuの存在量、wはMnの存在量を表している。なお、焼結の前後での組成変化はx/y比のみである。実施例1から9と比較例1、2、4焼結体では、焼結前のx/yは1であった。比較例3の焼結体では、焼結前のx/yは1.03であった。
実施例1から3は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物1molに対して、Znを0.5から2mol%添加した試料である。Znの添加によって電気機械結合係数が増加し、圧電定数d31およびd33が増加した。加えて、ヤング率が高くなった。
実施例4、5は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物1molに対してZnを1mol%添加した上に、Cuを0.2mol%、或いは0.5mol%添加した試料である。Cuを添加することで、電気抵抗率の向上が得られた。
実施例6、7は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物1molに対してZnを1mol%添加した上に、Mnを0.2mol%、或いは0.5mol%添加した試料である。Mnを添加することで、抵抗率、圧電定数、電気機械結合係数、ヤング率、密度が向上し、tanδが低下した。
実施例2に相当する原料を以下に述べる要領で秤量した。
ニオブ酸ナトリウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛粉末を、Na、Nb、Ti、Ba、Znが表1の実施例3記載の組成になるよう秤量した。秤量した原料粉末をボールミルで一晩混合した。これらの秤量粉に対して、3重量部となるPVBバインダーを加えて混合した。この混合粉を用いて、ドクターブレード法によりシート形成して厚み50μmのグリーンシートを得た。
実施例6の圧電素子を用いて、図3に示される液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。
実施例12の液体吐出ヘッドを用いて、図4に示される液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が記録媒体上に確認された。
実施例6の圧電素子を用いて、図6(a)に示される超音波モータを作製した。交流電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。
実施例14の超音波モータを用いて、図7に示される光学機器を作製した。交流電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された。
実施例6の圧電素子を用いて、図9に示される塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交流電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率が確認された。
実施例16の塵埃除去装置を用いて、図12に示される撮像装置を作製した。動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。
実施例10乃至11の積層圧電素子を用いて、図3に示される液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。
実施例18の液体吐出ヘッドを用いて、図4に示される液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が記録媒体上に確認された。
実施例10乃至11の積層圧電素子を用いて、図6(b)に示される超音波モータを作製した。交流電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。
実施例20の超音波モータを用いて、図7に示される光学機器を作製した。交流電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された。
実施例10乃至11の積層圧電素子を用いて、図9に示される塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交流電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率が確認された。
実施例22の塵埃除去装置を用いて、図12に示される撮像装置を作製した。動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。
実施例10乃至11の積層圧電素子を用いて、図14に示される電子機器を作製した。交流電圧の印加に応じたスピーカ動作が確認された。
2 圧電材料
3 第二の電極
101 圧電素子
102 個別液室
103 振動板
104 液室隔壁
105 吐出口
106 連通孔
107 共通液室
108 バッファ層
1011 第一の電極
1012 圧電材料
1013 第二の電極
201 振動子
2012 圧電素子
2042 積層圧電素子
310 塵埃除去装置
330 圧電素子
320 振動板
332 第1の電極
333 第2の電極
336 第1の電極面
337 第2の電極面
51 第一の電極
53 第二の電極
54 圧電材料層
55 内部電極
56 積層体
501 第一の電極
503 第二の電極
504 圧電材料層
505a 内部電極
505b 内部電極
506a 外部電極
506b 外部電極
601 カメラ本体
701 前群レンズ
881 液体吐出装置
901 光学装置
Claims (15)
- 下記一般式(1)
(NaxBa1−y)(NbyTi1−y)O3 (1)
(式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)
で表されるペロブスカイト型金属酸化物と、Znとを含有する圧電材料であって、前記Znの含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物1molに対して0mol%以上5mol%以下(但し、0mol%は除く)であることを特徴とする圧電材料。 - 前記圧電材料は、前記ペロブスカイト型金属酸化物と、前記Znと、CuおよびMnから選ばれる少なくとも1種の元素とを含有し、前記CuおよびMnから選ばれる少なくとも1種の元素の含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物1molに対して1mol%以下(但し、0mol%は除く)であることを特徴とする請求項1に記載の圧電材料。
- 前記一般式(1)において、x<yであることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電材料。
- 第一の電極、圧電材料部および第二の電極を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電材料部を構成する圧電材料が請求項1乃至3のいずれかに記載の圧電材料であることを特徴とする圧電素子。
- 複数の圧電材料層と、内部電極を含む複数の電極層とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電材料層が請求項1乃至3のいずれかに記載の圧電材料よりなることを特徴とする積層圧電素子。
- 前記内部電極がAgとPdを含み、前記Agの含有重量M1と前記Pdの含有重量M2との重量比M1/M2が1.5≦M1/M2≦9.0であることを特徴とする請求項5に記載の積層圧電素子。
- 前記内部電極がNiおよびCuの少なくともいずれか1種を含むことを特徴とする請求項5に記載の積層圧電素子。
- 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれかに記載の積層圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を少なくとも有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
- 被転写体の載置部と請求項8に記載の液体吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液体吐出装置。
- 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれかに記載の積層圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有することを特徴とする超音波モータ。
- 駆動部に請求項10に記載の超音波モータを備えたことを特徴とする光学機器。
- 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれかに記載の積層圧電素子を振動板に配した振動体を有することを特徴とする振動装置。
- 請求項12に記載の振動装置を振動部に備えたことを特徴とする塵埃除去装置。
- 請求項13に記載の塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けたことを特徴とする撮像装置。
- 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれかに記載の積層圧電素子を備えた圧電音響部品を配したことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014013646A JP6344922B2 (ja) | 2013-01-29 | 2014-01-28 | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013014614 | 2013-01-29 | ||
| JP2013014614 | 2013-01-29 | ||
| JP2014013646A JP6344922B2 (ja) | 2013-01-29 | 2014-01-28 | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014168055A true JP2014168055A (ja) | 2014-09-11 |
| JP2014168055A5 JP2014168055A5 (ja) | 2017-03-02 |
| JP6344922B2 JP6344922B2 (ja) | 2018-06-20 |
Family
ID=50150743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014013646A Active JP6344922B2 (ja) | 2013-01-29 | 2014-01-28 | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9260348B2 (ja) |
| EP (1) | EP2941787B1 (ja) |
| JP (1) | JP6344922B2 (ja) |
| KR (1) | KR20150115840A (ja) |
| CN (1) | CN104956507A (ja) |
| TW (1) | TWI518049B (ja) |
| WO (1) | WO2014119702A1 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016147539A1 (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-22 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法、圧電素子、圧電駆動装置、ロボット、およびポンプ |
| JP2016174023A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法 |
| JP2016174024A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波モーター用圧電素子およびその製造方法、超音波モーター、ロボット、ならびにポンプ |
| JP2016174022A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法、圧電素子、圧電駆動装置、ロボット、およびポンプ |
| JP2016197717A (ja) * | 2015-04-03 | 2016-11-24 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
| JP2016197718A (ja) * | 2015-04-03 | 2016-11-24 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電材料の製造方法、圧電素子および電子機器 |
| JP2018032725A (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 株式会社村田製作所 | 圧電セラミックの駆動方法、及び圧電セラミック |
| JP2022065018A (ja) * | 2021-02-10 | 2022-04-26 | 住友化学株式会社 | 圧電薄膜付き積層基板、圧電薄膜付き積層基板の製造方法、圧電薄膜素子、スパッタリングターゲット材、およびスパッタリングターゲット材の製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2953177B1 (en) * | 2014-05-30 | 2017-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric material, piezoelectric element, and electronic device |
| CN104606736B (zh) * | 2015-02-15 | 2018-01-19 | 天津市第五中心医院 | 一种用于输液器与输液架连接固定的可移动装置 |
| JP7013151B2 (ja) * | 2017-07-13 | 2022-01-31 | キヤノン株式会社 | 積層圧電素子、振動子、振動波モータ、光学機器および電子機器 |
| CN107500762A (zh) * | 2017-09-15 | 2017-12-22 | 西安交通大学 | 一种低滞回高温度稳定应变铁电陶瓷材料及其制备方法 |
| JP2019216203A (ja) * | 2018-06-14 | 2019-12-19 | 太陽誘電株式会社 | 圧電素子,振動波形センサー,及び振動波形センサーモジュール |
| JP7542941B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2024-09-02 | キヤノン株式会社 | 圧電素子の製造方法、電子機器の製造方法、圧電素子、および電子機器 |
| USD1088094S1 (en) * | 2024-06-27 | 2025-08-12 | Shenzhen Xindaxing Digital Audio and Video | Camera |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001316182A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-13 | Kyocera Corp | 圧電磁器および圧電共振子 |
| JP2002047064A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Kyocera Corp | 圧電磁器および圧電素子 |
| JP2006028001A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 |
| JP2006124251A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Denso Corp | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
| JP2009242166A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Tdk Corp | 圧電磁器及びその製造方法、並びに当該圧電磁器を用いた圧電素子 |
| JP2010222193A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Denso Corp | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
| JP2011199206A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Canon Inc | 振動装置に用いられる圧電素子、振動装置、及び振動装置を有する塵埃除去装置 |
| JP2012195577A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-10-11 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
| WO2013005701A1 (en) * | 2011-07-05 | 2013-01-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric element, multilayered piezoelectric element, liquid discharge head, liquid discharge apparatus, ultrasonic motor, optical apparatus, and electronic apparatus |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3390071A (en) * | 1964-10-26 | 1968-06-25 | Reynolds Metals Co | Cathode construction for aluminum reduction cell |
| WO2006100807A1 (ja) * | 2005-03-24 | 2006-09-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd | 圧電素子、及び圧電素子の製造方法 |
| WO2006117990A1 (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 圧電体磁器組成物、及び該圧電体磁器組成物の製造方法、並びに圧電セラミック電子部品 |
| US7521845B2 (en) * | 2005-08-23 | 2009-04-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric substance, piezoelectric element, liquid discharge head using piezoelectric element, and liquid discharge apparatus |
| JP2008156172A (ja) | 2006-12-25 | 2008-07-10 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 無鉛圧電磁器組成物 |
| JP5448320B2 (ja) * | 2007-10-04 | 2014-03-19 | キヤノン株式会社 | 圧電アクチュエータ及びそれを用いた液体吐出ヘッド |
| JP2009227535A (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Panasonic Corp | 圧電性磁器組成物 |
-
2014
- 2014-01-24 US US14/764,030 patent/US9260348B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-01-24 EP EP14705585.9A patent/EP2941787B1/en not_active Not-in-force
- 2014-01-24 WO PCT/JP2014/052185 patent/WO2014119702A1/en not_active Ceased
- 2014-01-24 TW TW103102774A patent/TWI518049B/zh not_active IP Right Cessation
- 2014-01-24 CN CN201480006454.8A patent/CN104956507A/zh active Pending
- 2014-01-24 KR KR1020157023453A patent/KR20150115840A/ko not_active Abandoned
- 2014-01-28 JP JP2014013646A patent/JP6344922B2/ja active Active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001316182A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-13 | Kyocera Corp | 圧電磁器および圧電共振子 |
| JP2002047064A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Kyocera Corp | 圧電磁器および圧電素子 |
| JP2006028001A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-02-02 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 結晶配向セラミックス、及びその製造方法 |
| JP2006124251A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Denso Corp | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
| JP2009242166A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Tdk Corp | 圧電磁器及びその製造方法、並びに当該圧電磁器を用いた圧電素子 |
| JP2010222193A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Denso Corp | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
| JP2011199206A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Canon Inc | 振動装置に用いられる圧電素子、振動装置、及び振動装置を有する塵埃除去装置 |
| JP2012195577A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-10-11 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
| WO2013005701A1 (en) * | 2011-07-05 | 2013-01-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric element, multilayered piezoelectric element, liquid discharge head, liquid discharge apparatus, ultrasonic motor, optical apparatus, and electronic apparatus |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016147539A1 (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-22 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法、圧電素子、圧電駆動装置、ロボット、およびポンプ |
| JP2016174023A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法 |
| JP2016174024A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波モーター用圧電素子およびその製造方法、超音波モーター、ロボット、ならびにポンプ |
| JP2016174022A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法、圧電素子、圧電駆動装置、ロボット、およびポンプ |
| JP2016197717A (ja) * | 2015-04-03 | 2016-11-24 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電素子および電子機器 |
| JP2016197718A (ja) * | 2015-04-03 | 2016-11-24 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電材料の製造方法、圧電素子および電子機器 |
| JP2018032725A (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 株式会社村田製作所 | 圧電セラミックの駆動方法、及び圧電セラミック |
| JP2022065018A (ja) * | 2021-02-10 | 2022-04-26 | 住友化学株式会社 | 圧電薄膜付き積層基板、圧電薄膜付き積層基板の製造方法、圧電薄膜素子、スパッタリングターゲット材、およびスパッタリングターゲット材の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6344922B2 (ja) | 2018-06-20 |
| EP2941787A1 (en) | 2015-11-11 |
| TWI518049B (zh) | 2016-01-21 |
| US9260348B2 (en) | 2016-02-16 |
| US20150353431A1 (en) | 2015-12-10 |
| WO2014119702A1 (en) | 2014-08-07 |
| CN104956507A (zh) | 2015-09-30 |
| TW201434791A (zh) | 2014-09-16 |
| EP2941787B1 (en) | 2017-08-16 |
| KR20150115840A (ko) | 2015-10-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6249669B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6344922B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子および電子機器 | |
| JP5960305B2 (ja) | 圧電セラミックス、その製造方法、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置および電子機器 | |
| JP6366284B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6341674B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器 | |
| JP6381294B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6080465B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、圧電音響部品、および電子機器 | |
| JP6180234B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6362458B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6362087B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6380888B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器 | |
| JP6755686B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子および電子機器 | |
| JP6310212B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP5911618B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6366283B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP6265656B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP2019033254A (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP2016006858A (ja) | 圧電材料、圧電素子、圧電素子の製造方法、および電子機器 | |
| JP6312424B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP2015034125A (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP7034639B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP2016197718A (ja) | 圧電材料、圧電材料の製造方法、圧電素子および電子機器 | |
| JP6324088B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 | |
| JP2016147798A (ja) | 圧電材料、圧電素子、およびこれを用いた装置 | |
| JP2016131240A (ja) | 圧電材料、圧電素子、およびこれを用いた装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170123 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170123 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171024 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171026 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171221 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180424 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180522 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6344922 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |