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JP2014013710A - Insulation coating material, insulation electric wire, and coil using the same - Google Patents

Insulation coating material, insulation electric wire, and coil using the same Download PDF

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JP2014013710A
JP2014013710A JP2012151094A JP2012151094A JP2014013710A JP 2014013710 A JP2014013710 A JP 2014013710A JP 2012151094 A JP2012151094 A JP 2012151094A JP 2012151094 A JP2012151094 A JP 2012151094A JP 2014013710 A JP2014013710 A JP 2014013710A
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JP
Japan
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conductor
insulated wire
insulating
resin
aminophenoxy
Prior art date
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Pending
Application number
JP2012151094A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Kikuchi
英行 菊池
Yuki Honda
祐樹 本田
Takami Ushiwata
剛真 牛渡
shuta Nabeshima
秀太 鍋島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
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Abstract

【課題】導体と絶縁被覆との密着性が高く、長時間にわたる熱によっても十分な密着性を有する絶縁電線を提供するものである。
【解決手段】金属からなる導体11と、導体11の外周を覆う絶縁被覆と、を備え、絶縁被覆は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、導体11に対する密着強度が50g/mm以上である絶縁層12が導体11の表面に密着して設けられている絶縁電線。
【選択図】図1
An object of the present invention is to provide an insulated wire having high adhesion between a conductor and an insulating coating and having sufficient adhesion even with heat for a long time.
A conductor 11 made of metal and an insulating coating covering the outer periphery of the conductor 11, wherein the insulating coating contains 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and substantially contains an adhesion improver. An insulated wire comprising an insulating layer 12 made of a polyamideimide resin that does not contain and having an adhesion strength with respect to the conductor 11 of 50 g / mm or more in close contact with the surface of the conductor 11.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、モータなどの電気機器に用いられる絶縁電線及びそれを用いたコイル、並びに絶縁層を設けるための絶縁塗料に関する。   The present invention relates to an insulated wire used in an electric device such as a motor, a coil using the insulated wire, and an insulating paint for providing an insulating layer.

モータなどの電気機器に用いられる絶縁電線としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミドなどの樹脂を有機溶剤に溶解させた絶縁塗料を導体の外周に塗布して焼付けすることによって、単層または複数層の絶縁層を有する絶縁被覆が設けられたものがある。   Insulated wires used in electrical equipment such as motors are coated with a single layer or multiple layers by applying and baking an insulating paint in which a resin such as polyimide, polyamideimide, or polyesterimide is dissolved in an organic solvent. Some of them are provided with an insulating coating having an insulating layer.

近年、モータなどの電気機器では、小型化、高効率化等の要求が年々高まってきている。この要求に応える為、モータのコアにより多くの絶縁電線を巻き付ける加工や、コアのスロット内に絶縁電線を直接挿入する加工がなされている。しかし、絶縁電線を多く巻き付けたり挿入したりする程に、絶縁電線を加工する加工工程にて絶縁電線に加わる加工ストレスが大きくなり、導体の外周に設けられた絶縁被覆が損傷を受け、結果としてレアショートなどの絶縁不良に至る恐れがある。そのため、モータなどの電気機器に使用される絶縁電線には、加工工程の際に加わる絶縁被覆への加工ストレスが大きくなっても絶縁被覆に損傷が生じないことが求められている。   In recent years, demands such as miniaturization and high efficiency have been increasing year by year in electric devices such as motors. In order to meet this requirement, a process of winding a large number of insulated wires around a motor core and a process of directly inserting an insulated wire into a slot of the core are performed. However, the more the insulated wire is wound or inserted, the greater the processing stress applied to the insulated wire in the process of processing the insulated wire, resulting in damage to the insulation coating provided on the outer periphery of the conductor. There is a risk of poor insulation such as rare shorts. For this reason, insulated wires used in electric devices such as motors are required to have no damage to the insulation coating even when the processing stress applied to the insulation coating during the machining process increases.

このような要求に対して、例えば絶縁塗料中に密着性を向上させる成分を積極的に添加して、絶縁被覆が導体から剥がれ難くさせることで加工ストレスに対する耐性を向上させる方法がある(例えば特許文献1〜3)。なお、このような密着性を向上させる成分としては、例えばメルカプタン類、チアゾール類、メラミン類、シアノ化合物類、フェニレンジアミン類等の密着向上剤が知られている。   In response to such demands, there is a method of improving resistance to processing stress by, for example, actively adding a component that improves adhesion in an insulating paint to make the insulating coating difficult to peel off from the conductor (for example, patents) Literatures 1-3). In addition, as a component which improves such adhesiveness, adhesion improving agents, such as mercaptans, thiazoles, melamines, cyano compounds, phenylenediamines, are known, for example.

特開2001−11312号公報JP 2001-11312 A 特開2007−246595号公報JP 2007-246595 A 特開2007−106823号公報JP 2007-106823 A

モータなどの電気機器では、小型化・高効率化のために電圧を昇圧させて使用する傾向にある。このため、コイルを構成する絶縁電線には、従来よりも大きい電流が流れることになり、この大電流化によって多くの熱が発生する環境下で絶縁電線は使用されることになる。また、絶縁電線の占積率を向上させるために、絶縁電線をより密に配線することが検討されているが、占積率を向上させると発生した熱が逃げ難い、つまり放熱性が悪くなってしまう。   Electric devices such as motors tend to be used by boosting the voltage for miniaturization and high efficiency. For this reason, an electric current larger than that in the prior art flows through the insulated wire constituting the coil, and the insulated wire is used in an environment where a large amount of heat is generated due to the increase in current. In addition, in order to improve the space factor of the insulated wire, it has been studied to arrange the insulated wire more densely. However, if the space factor is improved, the generated heat is difficult to escape, that is, the heat dissipation becomes worse. End up.

このような環境下において、高温の熱が長時間にわたって絶縁被覆に加わると、この熱の影響で導体に対する絶縁被覆の密着性が極端に低下してしまい、導体から絶縁被覆が剥離してしまうことがあった。そして、このように絶縁被覆が剥離してしまった場合には、絶縁性能を十分に発揮することができず絶縁破壊に至ってしまう。そのため、絶縁被覆には、長時間の熱が加わった場合でも十分な密着性が必要となる。絶縁塗料中に密着向上剤を添加させる従来の方法では、このような長時間の熱が加わった場合に十分な密着性が得られないことがあった。   In such an environment, if high-temperature heat is applied to the insulation coating for a long time, the adhesion of the insulation coating to the conductor is extremely reduced due to the influence of this heat, and the insulation coating is peeled off from the conductor. was there. If the insulation coating is peeled off in this way, the insulation performance cannot be sufficiently exhibited, resulting in dielectric breakdown. Therefore, the insulating coating needs to have sufficient adhesion even when heat is applied for a long time. In the conventional method in which an adhesion improver is added to the insulating paint, sufficient adhesion may not be obtained when such a long-time heat is applied.

そこで本発明の目的は、導体と絶縁被覆との密着性が高く、長時間にわたる熱によっても十分な密着性を有する絶縁電線及びその絶縁電線を用いて形成されるコイルを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an insulated wire having high adhesion between a conductor and an insulating coating and having sufficient adhesion even with heat for a long time, and a coil formed using the insulated wire.

本発明は、上記目的を達成するため、金属からなる導体と、前記導体の外周を覆う絶縁被覆と、を備え、前記絶縁被覆は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、前記導体に対する密着強度が50g/mm以上である絶縁層が前記導体の表面に密着して設けられている絶縁電線を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention comprises a conductor made of metal and an insulating coating covering the outer periphery of the conductor, and the insulating coating contains 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, Provided is an insulated wire which is made of a polyamide-imide resin substantially free from an adhesion improver and has an insulating layer having an adhesion strength of 50 g / mm or more to the conductor in close contact with the surface of the conductor.

本発明は、上記目的を達成するため、上記の本発明に係る絶縁電線において、以下のような改良や変更を加えることができる。
(1)前記絶縁層は、前記ポリアミドイミド樹脂を構成するジアミン成分中に、前記1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンが30モル%以上100モル%以下の割合で含まれている。
(2)前記絶縁被覆は、前記絶縁層の外周に外層が設けられている。
(3)前記外層は、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリイミドのうちのいずれかの樹脂からなる。
In order to achieve the above object, the present invention can make the following improvements and changes in the insulated wire according to the present invention.
(1) In the insulating layer, the 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene is contained in a proportion of 30 mol% to 100 mol% in the diamine component constituting the polyamideimide resin.
(2) As for the said insulation coating, the outer layer is provided in the outer periphery of the said insulating layer.
(3) The outer layer is made of any resin selected from polyamide imide, polyester imide, and polyimide.

また、本発明は、上記目的を達成するため、上記の本発明の絶縁電線を用いて成形されてなるコイルを提供する。   Moreover, in order to achieve the said objective, this invention provides the coil formed using the insulated wire of said invention.

また、本発明は、上記目的を達成するため、金属からなる導体の表面に密着して絶縁層を設けるための絶縁塗料であって、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、前記導体に対する前記絶縁層の密着強度が50g/mm以上である絶縁塗料を提供する。   Further, in order to achieve the above object, the present invention is an insulating paint for providing an insulating layer in close contact with the surface of a conductor made of metal, comprising 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, Provided is an insulating paint composed of a polyamide-imide resin substantially free from an adhesion improver, wherein the adhesion strength of the insulating layer to the conductor is 50 g / mm or more.

本発明は、上記目的を達成するため、上記の本発明に係る絶縁電線において、以下のような改良や変更を加えることができる。
(1)前記ポリアミドイミド樹脂は、少なくともジアミン成分、ジイソシアネート成分、及び酸成分から構成され、前記ジアミン成分中に、前記1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンが30モル%以上100モル%以下の割合で含まれている。
In order to achieve the above object, the present invention can make the following improvements and changes in the insulated wire according to the present invention.
(1) The polyamideimide resin is composed of at least a diamine component, a diisocyanate component, and an acid component, and the 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene is 30 mol% or more and 100 mol% in the diamine component. It is included in the following proportions.

本発明によれば、導体と絶縁被覆との密着性が高く、長時間にわたる熱によっても十分な密着性を有する絶縁電線及びその絶縁電線を用いて形成されるコイルを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness of a conductor and insulation coating is high, and the coil formed using the insulated wire which has sufficient adhesiveness even with the heat for a long time, and the insulated wire can be provided.

本発明の実施の形態に係る絶縁電線の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the insulated wire which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る絶縁電線の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the insulated wire which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る絶縁電線の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the insulated wire which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る絶縁電線の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the insulated wire which concerns on embodiment of this invention.

以下に、本発明を実施するための形態について、図や実施例によって説明するが、本発明の範囲は、ここで取り上げた形態や実施例のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨を変更しない範囲で、種々の変更や改良が可能である。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings and examples. However, the scope of the present invention is not limited to only the modes and examples taken here, and the gist of the present invention is not limited thereto. Various changes and improvements can be made without departing from the scope.

図1は、本発明の実施の形態に係る絶縁電線の一例を示す断面図である。本実施の形態に係る絶縁電線10は、図1に示すように、銅やアルミニウムなどからなる金属の導線で構成され、断面形状が円形状の導体11と、この導体11の外周を覆う絶縁被覆と、を備え、絶縁被覆は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、導体11に対する密着強度が50g/mm以上である絶縁層12が導体11の表面に密着して設けられている。すなわち、絶縁層12は、導体11を電気的、機械的に絶縁する絶縁層としての機能と、導体11の表面に密着して設けられて導体11からの剥離を防止する剥離防止層としての機能を兼ね備える。なお、ここでいう、実質的に含まないとは、本発明の効果を阻害しない範囲において密着向上剤がポリアミドイミド樹脂に含まれていてもよいことを意味する。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an insulated wire according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the insulated wire 10 according to the present embodiment is composed of a metal conductive wire made of copper, aluminum, or the like, and has a conductor 11 having a circular cross section and an insulating coating that covers the outer periphery of the conductor 11. And the insulating coating is composed of a polyamide-imide resin containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and substantially not containing an adhesion improver, and the adhesion strength to the conductor 11 is 50 g / mm or more. The insulating layer 12 is provided in close contact with the surface of the conductor 11. That is, the insulating layer 12 functions as an insulating layer that electrically and mechanically insulates the conductor 11 and functions as an anti-peeling layer that is provided in close contact with the surface of the conductor 11 to prevent peeling from the conductor 11. Have both. In addition, the term “substantially free” as used herein means that an adhesion improver may be included in the polyamide-imide resin within a range that does not impair the effects of the present invention.

絶縁層12は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂からなる層で構成される。導体11の表面に密着して被覆する層として、このような絶縁層12を設けることにより、密着向上剤を実質的に含まない状態で常温での導体11と絶縁被覆との密着性を高くすることができるとともに、長時間にわたる熱によっても十分な密着性を発揮することができ、絶縁被覆が導体11から剥離してしまうようなことを防止することができる。なお、密着向上剤を実質的に含まない状態で導体11と絶縁被覆との密着性を高くすることができる理由や、長時間にわたる熱によっても十分な密着性を発揮することができる理由については明確ではないが、導体11の表面にベンゼン環が従来よりも平面状に配向しやすくなるためではないかと考えられる。   The insulating layer 12 includes a layer made of a polyamide-imide resin containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and substantially not containing an adhesion improver. By providing such an insulating layer 12 as a layer that adheres and covers the surface of the conductor 11, the adhesion between the conductor 11 and the insulating coating at room temperature is increased in a state that substantially does not contain an adhesion improver. In addition, sufficient adhesion can be exhibited even by heat for a long time, and the insulating coating can be prevented from peeling off from the conductor 11. Regarding the reason why the adhesion between the conductor 11 and the insulating coating can be increased without substantially containing the adhesion improving agent, and the reason why sufficient adhesion can be exhibited even by heat for a long time. Although it is not clear, it is considered that the benzene ring is more easily oriented on the surface of the conductor 11 in a planar form than in the past.

絶縁層12は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンがポリアミドイミド樹脂を構成するジアミン成分100モル%に対して、30モル%以上100モル%以下の割合で含まれていることが好ましい。なお、絶縁層12は、当該絶縁層12を構成するポリアミドイミド樹脂のジアミン成分中に、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンがジアミン成分100モル%に対して30モル%未満の割合で含まれている場合、導体11と絶縁層12との密着性を十分に発揮できないおそれがある。   The insulating layer 12 includes 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene in a proportion of 30 mol% or more and 100 mol% or less with respect to 100 mol% of the diamine component constituting the polyamideimide resin. preferable. In addition, the insulating layer 12 is a ratio in which 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene is less than 30 mol% with respect to 100 mol% of the diamine component in the diamine component of the polyamideimide resin constituting the insulating layer 12. If included, there is a possibility that the adhesion between the conductor 11 and the insulating layer 12 cannot be sufficiently exhibited.

また、絶縁層12は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン以外のジアミン成分として、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP)、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン(BAPS)、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル(BAPE)、フルオレンジアミン(FDA)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン,4,4’−ジアミノジフェニルメタン(DAM)や4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DPE)などの芳香族ジアミンが、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと併用されたポリアミドイミド樹脂を用いてもよい。このとき、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンは、ポリアミドイミド樹脂のジアミン成分中に30モル%以上100モル%未満の割合で含まれていることが好ましい。特にこれらの芳香族ジアミンに限定されないが、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと併用する芳香族ジアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルメタンや4,4’−ジアミノジフェニルエーテルが入手性や耐熱性の観点から最も好適である。   Further, the insulating layer 12 includes 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), bis [4-, as a diamine component other than 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene. (4-Aminophenoxy) phenyl] sulfone (BAPS), bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether (BAPE), fluorenediamine (FDA), 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl ( BAPB), 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenylmethane (DAM), 4,4′-diaminodiphenyl ether (DPE) and other aromatic diamines are Polyamideimide resin used in combination with 4-aminophenoxy) benzene may be used. At this time, it is preferable that 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene is contained in the diamine component of the polyamideimide resin at a ratio of 30 mol% or more and less than 100 mol%. Although not particularly limited to these aromatic diamines, 4,4′-diaminodiphenylmethane and 4,4′-diaminodiphenyl ether are available as aromatic diamines used in combination with 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene. And from the viewpoint of heat resistance.

絶縁層12は、ジアミン成分として1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含むポリアミドイミド樹脂を溶媒に溶解させた絶縁電線用被覆材としての絶縁塗料を導体11の外周に塗布し、導体11の外周に塗布された絶縁塗料を焼付炉などで焼付けすることにより形成される。絶縁層12の厚さは、例えば5μm以上30μm以下である。   The insulating layer 12 is formed by applying an insulating paint as a covering material for an insulated wire in which a polyamideimide resin containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene as a diamine component is dissolved in a solvent to the outer periphery of the conductor 11. 11 is formed by baking the insulating paint applied to the outer periphery of the iron 11 in a baking furnace or the like. The thickness of the insulating layer 12 is not less than 5 μm and not more than 30 μm, for example.

絶縁層12を構成する1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含むポリアミドイミド樹脂は、例えば、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを所定の割合で必須に含むジアミン成分と、トリカルボン酸無水物などからなる酸成分とを合成反応させたプレポリマー(イミドジカルボン酸)に、さらにジイソシアネート成分を合成反応させて得られるポリアミドイミド樹脂を用いることができる。   The polyamide-imide resin containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene constituting the insulating layer 12 is, for example, a diamine component essentially containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene in a predetermined ratio Polyamideimide resin obtained by further synthesizing a diisocyanate component with a prepolymer (imidodicarboxylic acid) obtained by synthesizing an acid component composed of tricarboxylic acid anhydride or the like can be used.

ポリアミドイミド樹脂を構成する酸成分としては、トリメリット酸無水物(TMA)、3,4,4’−ベンゾフェノントリカルボン酸無水物、3,4,4’−ビフェニルトリカルボン酸無水物などのトリカルボン酸無水物を必須に含む酸成分からなる。そのうち、トリメリット酸無水物が好ましい。また、酸成分には、トリカルボン酸無水物とともに、テトラカルボン酸二無水物を併用することもできる。テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(BPDA)等の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。また、必要に応じて、ブタンテトラカルボン酸二無水物や5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物、或いは上記例示した芳香族テトラカルボン酸二無水物を水添した脂環式テトラカルボン酸二無水物等を、トリカルボン酸無水物と併用しても良い。但し、この場合、末端がジカルボン酸となるように、モル比の調整が必要である。   Examples of the acid component constituting the polyamide-imide resin include trimellitic anhydride (TMA), 3,4,4′-benzophenone tricarboxylic anhydride, 3,4,4′-biphenyltricarboxylic anhydride, and the like. It consists of an acid component that essentially contains a product. Of these, trimellitic anhydride is preferred. Moreover, tetracarboxylic dianhydride can also be used together with an acid component with a tricarboxylic anhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,3 ′, 4,4′-. Fragrances such as diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (DSDA), 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (BPDA) Group tetracarboxylic dianhydride. If necessary, butane tetracarboxylic dianhydride or 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride Cyclic tetracarboxylic dianhydrides or alicyclic tetracarboxylic dianhydrides hydrogenated with the aromatic tetracarboxylic dianhydrides exemplified above may be used in combination with tricarboxylic anhydrides. However, in this case, it is necessary to adjust the molar ratio so that the terminal is a dicarboxylic acid.

また、酸成分には、トリカルボン酸無水物とともに、ジカルボン酸を併用してもよい。このジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸(TPA)、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、またはそれらのアルキルエステルであるジメチルテレフタレート(DMT)、ジメチルイソフタレート等を用いることができる。そのうち、ジメチルテレフタレートが好ましい。なお、場合によってはシック酸などのイソシアヌレート環を有するトリカルボン酸やトリメシン酸などの芳香族トリカルボン酸などを使用しても良い。   Moreover, you may use together dicarboxylic acid for an acid component with a tricarboxylic acid anhydride. Examples of the dicarboxylic acid include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid (TPA), isophthalic acid, and naphthalenedicarboxylic acid, or dimethyl terephthalate (DMT) that is an alkyl ester thereof, dimethyl isophthalate, and the like. Of these, dimethyl terephthalate is preferred. In some cases, tricarboxylic acid having an isocyanurate ring such as chic acid or aromatic tricarboxylic acid such as trimesic acid may be used.

ポリアミドイミド樹脂を構成するジイソシアネート成分としては、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリレンジイソシアネート(TDI)、ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ビフェニルジイソシアネート、ジフェニルスルホンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート及び異性体、多量体、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、キシシレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート類、或いは上記例示した芳香族ジイソシアネートを水添した脂環式ジイソシアネート類及び異性体が例示される。   The diisocyanate component constituting the polyamide-imide resin includes diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolylene diisocyanate (TDI), naphthalene diisocyanate, xylylene diisocyanate, biphenyl diisocyanate, diphenyl sulfone diisocyanate, diphenyl ether diisocyanate and the like, and a large amount And aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate, or alicyclic diisocyanates and isomers obtained by hydrogenating the aromatic diisocyanates exemplified above.

ポリアミドイミド樹脂を溶解させる溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶媒は、ポリアミドイミド樹脂の合成反応を阻害しない範囲内で併用しても良いし、希釈しても良い。また希釈用途として芳香族アルキルベンゼン類などを併用しても良い。但し、ポリアミドイミドの溶解性を低下させる恐れがある場合は考慮する必要がある。   Solvents for dissolving the polyamideimide resin include N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide (DMAC), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethylimidazolidinone ( DMI), cyclohexanone, methylcyclohexanone and the like. These solvents may be used in combination as long as the synthesis reaction of the polyamideimide resin is not inhibited, or may be diluted. In addition, aromatic alkylbenzenes may be used in combination for dilution purposes. However, it is necessary to consider when there is a risk of lowering the solubility of the polyamideimide.

金属からなる導体11の表面に密着して絶縁層12を設ける際に用いられる絶縁塗料には、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、導体11に対する絶縁層12の密着強度が50g/mm以上である絶縁塗料が用いられる。   The insulating coating used when the insulating layer 12 is provided in close contact with the surface of the conductor 11 made of metal is a polyamide containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and substantially free of an adhesion improving agent. An insulating paint made of imide resin and having an adhesion strength of the insulating layer 12 to the conductor 11 of 50 g / mm or more is used.

このポリアミドイミド樹脂には、例えば1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを必須に含むジアミン成分に対してトリカルボン酸無水物などからなる酸成分を投入し、脱水イミド化反応を行い、イミドジカルボン酸を得る第1段目の合成工程の後、この得られたイミドジカルボン酸に、ジイソシアネート成分を投入し、脱炭酸アミド化反応を行う第2段目の合成工程を経ることで得られるものを用いることができる。   In this polyamideimide resin, for example, an acid component composed of a tricarboxylic acid anhydride or the like is added to a diamine component essentially containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and a dehydration imidation reaction is performed. After the first step of the synthesis step to obtain the dicarboxylic acid, the diimide component is added to the obtained imide dicarboxylic acid, and then obtained through the second step of synthesis step in which a decarboxylation amidation reaction is performed. Can be used.

第1段目の合成工程において、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを必須に含むジアミン成分とトリカルボン酸無水物などからなる酸成分との配合比は、等しいモル量であることが望ましいが、一方の成分のモル量に対して他方の成分のモル量の比率が−5モル%以上5モル%以下となる範囲内で適宜調整が可能である。同様に、第2段目の合成工程において、イミドジカルボン酸とジイソシアネート成分の配合比は、等しいモル量であることが望ましいが,イミドジカルボン酸のモル量に対してジイソシアネート成分のモル量の比率が−5モル%以上5モル%以下となる範囲内で適宜調整が可能である。   In the first-stage synthesis step, the mixing ratio of the diamine component essentially containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and the acid component composed of tricarboxylic acid anhydride, etc. should be equal molar amount. Although desirable, the ratio of the molar amount of the other component to the molar amount of the one component can be appropriately adjusted within a range of −5 mol% to 5 mol%. Similarly, in the second stage synthesis step, it is desirable that the mixing ratio of the imide dicarboxylic acid and the diisocyanate component is an equal molar amount, but the ratio of the molar amount of the diisocyanate component to the molar amount of the imide dicarboxylic acid is Adjustments can be made as appropriate within the range of −5 mol% to 5 mol%.

なお、ジアミン成分をもとにホスゲンを使用してジイソシアネート成分を製造することも可能であり、上述したジアミン成分の全てあるいは一部をジイソシアネート成分に代えて使用することも出来る。全てをジイソシアネート成分に代えた場合は、第2段目の合成工程を行わずに、第1段目の合成工程の脱炭酸反応により合成することが可能である。   In addition, it is also possible to manufacture a diisocyanate component using phosgene based on a diamine component, and all or a part of the diamine component described above can be used in place of the diisocyanate component. When all of them are replaced with diisocyanate components, the synthesis can be performed by the decarboxylation reaction in the first-stage synthesis step without performing the second-stage synthesis step.

また、絶縁塗料の合成時においては、アミン類やイミダゾール類、イミダゾリン類などの反応触媒を使用しても良いが、絶縁塗料の安定性を阻害しないものが望ましい。また、合成時の反応を停止する際には、アルコールなどの封止剤を用いても良い。さらに、絶縁塗料には、顔料、染料、無機又は有機のフィラー、潤滑剤、酸化防止剤、レべリング剤等の各種添加剤が含有されていてもよい。   In the synthesis of the insulating paint, a reaction catalyst such as amines, imidazoles, and imidazolines may be used, but those that do not inhibit the stability of the insulating paint are desirable. Moreover, when stopping reaction at the time of a synthesis | combination, you may use sealing agents, such as alcohol. Furthermore, the insulating paint may contain various additives such as pigments, dyes, inorganic or organic fillers, lubricants, antioxidants, and leveling agents.

絶縁電線10は、導体11と絶縁被覆との密着性に優れ、絶縁被覆の導体11からの剥離を防止することができるほか、耐摩耗性、可とう性などの機械的特性にも優れている。そのため、絶縁電線10は、巻線工程などの絶縁電線10を加工する工程において、絶縁電線10に加わるストレスが大きくなっても、絶縁被覆が損傷を受ける恐れがなく、モータに対する小型軽量化、高効率化等の要求に対応でき、工業上有用である。   The insulated wire 10 has excellent adhesion between the conductor 11 and the insulation coating, can prevent the insulation coating from peeling off from the conductor 11, and has excellent mechanical properties such as wear resistance and flexibility. . For this reason, the insulated wire 10 is not susceptible to damage to the insulation coating even when the stress applied to the insulated wire 10 is increased in the process of processing the insulated wire 10 such as a winding process, and the motor is reduced in size and weight, and the height is increased. It can meet demands for efficiency and is industrially useful.

図2は、本発明の実施の形態に係る絶縁電線の変形例の一例を示す断面図である。図2に示す絶縁電線20は、図1に示す絶縁電線10の絶縁被覆を多層構造としたものである。具体的には、銅やアルミニウムなどの金属からなる導線で構成され、断面形状が円形状の導体21と、この導体21の外周であって導体21の表面を密着して覆う絶縁層22と、絶縁層22の外周に設けられた外層23と、を備えるものである。そして、絶縁層22としては、図1に示す絶縁層12と同様のポリアミドイミド樹脂、すなわち1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、導体21に対する密着強度が50g/mm以上である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a modified example of the insulated wire according to the embodiment of the present invention. An insulated wire 20 shown in FIG. 2 has a multi-layer structure of the insulation coating of the insulated wire 10 shown in FIG. Specifically, the conductor 21 is made of a conductive wire made of a metal such as copper or aluminum, the conductor 21 having a circular cross-sectional shape, and the insulating layer 22 that covers the surface of the conductor 21 in close contact with the outer periphery of the conductor 21; And an outer layer 23 provided on the outer periphery of the insulating layer 22. As the insulating layer 22, the same polyamideimide resin as that of the insulating layer 12 shown in FIG. 1, that is, a polyamideimide resin containing 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and substantially free of an adhesion improver. The adhesion strength to the conductor 21 is 50 g / mm or more.

この絶縁層22の外周に設けられた外層23は、絶縁層22の表面に密着して覆う第1の外層23aと、第1の外層23aの外周に設けられた第2の外層23bとを有する。第1の外層23a、および第2の外層23bは、例えばポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂などのうちのいずれかからなる樹脂で構成される。また、第2の外層23bは、潤滑剤が添加された樹脂で構成されていてもよい。   The outer layer 23 provided on the outer periphery of the insulating layer 22 includes a first outer layer 23a covering the surface of the insulating layer 22 in close contact with the outer layer 23, and a second outer layer 23b provided on the outer periphery of the first outer layer 23a. . The first outer layer 23a and the second outer layer 23b are made of, for example, a resin made of any one of a polyamideimide resin, a polyimide resin, a polyesterimide resin, and the like. The second outer layer 23b may be made of a resin to which a lubricant is added.

なお、図2に示す絶縁電線20では、外層23を第1の外層23aと第2の外層23bとからなる層構造を有するもので説明したが、これに限定されず、例えば第1の外層23a、あるいは第2の外層23bのうちのいずれかの外層を設けない層構造であってもよく、また図2に示す第2の外層23bの外周にさらにポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂などの樹脂からなる樹脂層が1層以上設けられた層構造からなる外層23であっても構わない。   In the insulated wire 20 shown in FIG. 2, the outer layer 23 has been described as having a layer structure including the first outer layer 23a and the second outer layer 23b. However, the present invention is not limited to this, and for example, the first outer layer 23a. Alternatively, it may have a layer structure in which any one of the second outer layers 23b is not provided, and a polyamide imide resin, a polyimide resin, a polyester imide resin, etc. are further provided on the outer periphery of the second outer layer 23b shown in FIG. The outer layer 23 having a layer structure in which one or more resin layers made of the above resin are provided may be used.

図3は、本発明の実施の形態に係る絶縁電線の変形例の一例を示す断面図である。図3に示す絶縁電線30は、銅やアルミニウムなどの金属からなる導線で構成され、断面形状が平角形状の導体31と、この導体31の外周であって導体31の表面を密着して覆う絶縁層32を少なくとも有する絶縁被覆と、を備えるものである。そして、絶縁層32としては、図1、2に示す絶縁層12、22と同様のポリアミドイミド樹脂、すなわち1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、導体31に対する密着強度が50g/mm以上である。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a modified example of the insulated wire according to the embodiment of the present invention. An insulated wire 30 shown in FIG. 3 is composed of a conductive wire made of a metal such as copper or aluminum, and a conductor 31 having a flat cross-sectional shape and an insulation covering the surface of the conductor 31 in close contact with the outer periphery of the conductor 31. And an insulating coating having at least a layer 32. The insulating layer 32 includes the same polyamideimide resin as that of the insulating layers 12 and 22 shown in FIGS. 1 and 2, that is, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and substantially includes an adhesion improver. The adhesive strength with respect to the conductor 31 is 50 g / mm or more.

図4は、本発明の実施の形態に係る絶縁電線の変形例の一例を示す断面図である。図4に示す絶縁電線40は、図3に示す絶縁電線30の絶縁層32の外周に外層を設けたものである。具体的には、銅やアルミニウムなどの金属からなる導線で構成され、断面形状が円形状の導体41と、この導体41の外周であって導体41の表面を密着して覆う絶縁層42と、絶縁層42の外周に設けられた外層43と、を備えるものである。絶縁層42としては、図1〜図3に示す絶縁層12、22、32と同様のポリアミドイミド樹脂、すなわち1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、前記導体に対する密着強度が50g/mm以上である。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a modified example of the insulated wire according to the embodiment of the present invention. The insulated wire 40 shown in FIG. 4 is provided with an outer layer on the outer periphery of the insulating layer 32 of the insulated wire 30 shown in FIG. Specifically, a conductor 41 made of a metal such as copper or aluminum and having a circular cross-sectional shape, and an insulating layer 42 which is an outer periphery of the conductor 41 and covers the surface of the conductor 41 in close contact with each other, And an outer layer 43 provided on the outer periphery of the insulating layer 42. The insulating layer 42 includes a polyamideimide resin similar to the insulating layers 12, 22, and 32 shown in FIGS. 1 to 3, that is, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and substantially includes an adhesion improver. It is comprised with the polyamidoimide resin which does not contain, and the adhesive strength with respect to the said conductor is 50 g / mm or more.

この絶縁層42の外周に設けられた外層43は、例えばポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂などのうちのいずれかからなる樹脂で構成される。また、外層43は、潤滑剤が添加された樹脂で構成されていてもよい。   The outer layer 43 provided on the outer periphery of the insulating layer 42 is made of, for example, a resin made of any one of polyamideimide resin, polyimide resin, polyesterimide resin, and the like. The outer layer 43 may be made of a resin to which a lubricant is added.

なお、図4に示す絶縁電線40では、外層43を単層からなる層構造で説明したが、これに限定されず、例えば、図2に示す絶縁電線20と同様に、絶縁層42の外周に第1の外層と第2の外層とが順次設けられた層構造を有するものであってもよく、また第2の外層の外周にさらにポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂などの樹脂からなる樹脂層が1層以上設けられた層構造からなる外層43であっても構わない。   In the insulated wire 40 shown in FIG. 4, the outer layer 43 has been described as a single layer structure. However, the outer layer 43 is not limited to this. For example, as in the insulated wire 20 shown in FIG. It may have a layer structure in which the first outer layer and the second outer layer are sequentially provided. Further, the outer periphery of the second outer layer is made of a resin such as a polyamideimide resin, a polyimide resin, or a polyesterimide resin. The outer layer 43 may have a layer structure in which one or more resin layers are provided.

本実施の形態に係る絶縁電線において、導体11、21、31、41としては、低酸素銅や無酸素銅等からなる銅線、あるいは銅合金線の他、銀やアルミニウム等の他の金属線等も用いられる。なお、導体11、21、31、41の断面形状は、図1〜2に示すような丸形状、あるいは図3〜4に示すような4隅の角部が湾曲した四角形状、所謂、平角形状を有するもので示したが、これに限定されず、例えば、四角形状における角部がテーパ状に傾斜した断面形状からなる異形状のものや多角形状のものであっても構わない。   In the insulated wire according to the present embodiment, the conductors 11, 21, 31, 41 are copper wires made of low oxygen copper, oxygen free copper, or the like, or copper alloy wires, and other metal wires such as silver and aluminum. Etc. are also used. The cross-sectional shapes of the conductors 11, 21, 31, 41 are round shapes as shown in FIGS. 1-2, or quadrangular shapes with four corners curved as shown in FIGS. However, the present invention is not limited to this. For example, it may be an irregular shape or a polygonal shape having a cross-sectional shape in which corners in a quadrangular shape are tapered.

本実施の形態に係る絶縁電線において、絶縁被覆として剥離防止層の外周に設けられた外層は、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、H種ポリエステル樹脂などの樹脂に、シリカやアルミナなどからなる無機微粒子を添加した樹脂層で構成されていてもよい。このような樹脂層からなる外層とすることにより、部分放電の発生に対する耐性を向上させることができる。更に絶縁被覆の表面の潤滑性を改善させる等を目的として、外層を潤滑層で構成してもよい。   In the insulated wire according to the present embodiment, the outer layer provided on the outer periphery of the peeling prevention layer as an insulation coating is made of a resin such as polyamide imide resin, polyimide resin, polyester imide resin, H-type polyester resin, silica, alumina, or the like. It may be composed of a resin layer to which inorganic fine particles are added. By setting it as the outer layer which consists of such a resin layer, the tolerance with respect to generation | occurrence | production of a partial discharge can be improved. Further, for the purpose of improving the lubricity of the surface of the insulating coating, the outer layer may be composed of a lubricating layer.

[絶縁塗料の調製]
実施例、及び比較例に係る絶縁電線を作製するにあたり、金属からなる導体の表面を密着して被覆する絶縁層を形成するためのポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を、以下に示す方法によって調製した。
[Preparation of insulating paint]
In producing the insulated wires according to the examples and comparative examples, an insulating paint made of a polyamideimide resin for forming an insulating layer covering and covering the surface of a conductor made of metal was prepared by the method shown below. .

実施例1〜6の絶縁層を形成するのに用いる絶縁塗料は、以下に示す2段階の合成を行うことで調製した。
まず、攪拌機、還流冷却管、窒素流入管、温度計を備えたフラスコを用意し、第1段目の合成反応として、後術する実施例1〜6に示すジアミン成分、酸成分、及び溶剤の約50〜80%を用意したフラスコに投入し、窒素雰囲気中で攪拌しながら約1時間で180℃まで加熱し、脱水反応により生成された水を系外に出しながら、この温度で4時間反応させた。次に、窒素雰囲気を維持したまま60℃まで冷却した後、ジイソシアネート成分と残りの溶剤を投入し、第2段目の合成反応として、窒素雰囲気中で攪拌しながら約1時間で140℃まで加熱し、還元粘度が約0.5dl/gのポリアミドイミド樹脂溶液が得られるように、この温度で2時間反応させてポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を調製した。
The insulating paint used for forming the insulating layers of Examples 1 to 6 was prepared by performing the following two-step synthesis.
First, a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer was prepared, and as a first-stage synthesis reaction, the diamine components, acid components, and solvents shown in Examples 1 to 6 to be post-treated About 50-80% was put into a prepared flask, heated to 180 ° C. in about 1 hour with stirring in a nitrogen atmosphere, and reacted at this temperature for 4 hours while taking out water generated by the dehydration reaction from the system. I let you. Next, after cooling to 60 ° C. while maintaining the nitrogen atmosphere, the diisocyanate component and the remaining solvent are added, and the second-stage synthesis reaction is heated to 140 ° C. in about 1 hour with stirring in the nitrogen atmosphere. In order to obtain a polyamideimide resin solution having a reduced viscosity of about 0.5 dl / g, an insulating coating made of polyamideimide resin was prepared by reacting at this temperature for 2 hours.

比較例1〜3の導体の表面を密着して被覆する層(絶縁層に相当する層)を形成するのに用いる絶縁塗料は、下記に示すような酸成分とジイソシアネート成分との合成を行うことで調製した。
攪拌機、還流冷却管、窒素流入管、温度計を備えたフラスコに、後術する比較例1〜3に示す酸成分、ジイソシアネート成分、及び溶剤を一度に投入し、窒素雰囲気中で攪拌しながら約1時間で140℃まで加熱し、還元粘度が約0.5dl/gのポリアミドイミド樹脂溶液が得られるように、この温度で2時間反応させてポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を調製した。
The insulating paint used to form a layer (a layer corresponding to an insulating layer) that adheres and covers the surfaces of the conductors of Comparative Examples 1 to 3 is synthesized with an acid component and a diisocyanate component as shown below. It was prepared with.
Into a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, the acid component, diisocyanate component, and solvent shown in Comparative Examples 1 to 3 to be post-treated are added at once, while stirring in a nitrogen atmosphere. Heating to 140 ° C. in 1 hour was carried out at this temperature for 2 hours so as to obtain a polyamideimide resin solution having a reduced viscosity of about 0.5 dl / g, thereby preparing an insulating paint made of polyamideimide resin.

(実施例1)
第1段目の合成として、フラスコに、ジアミン成分として1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)を146.0g(0.5モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を1000g投入して、180℃で系外に水を出しながら合成を行い、窒素雰囲気を維持したまま60℃まで冷却した後、第2段目の合成として、ジイソシアネート成分としての4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(4,4’−MDI)を130.0g(0.52モル)、及び溶剤としてNMPを400g投入して、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を得た。
このポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を、0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する絶縁層を形成することにより絶縁電線を得た。
Example 1
As a first stage synthesis, 146.0 g (0.5 mol) of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) as a diamine component and trimellitic anhydride as an acid component were added to a flask. 192.0 g (1.0 mol) of (TMA) and 1000 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent were added, and synthesis was performed while discharging water outside the system at 180 ° C. After cooling to 60 ° C. while maintaining, as the synthesis of the second stage, 130.0 g (0.52 mol) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (4,4′-MDI) as a diisocyanate component, and a solvent Insulating paint made of polyamide-imide resin with a reduced viscosity of about 0.5 dl / g and a resin concentration of about 25% by weight. Obtained.
An insulated wire made of polyamideimide resin is applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this is baked to form an insulating layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining an insulated wire. It was.

(実施例2)
第1段目の合成として、フラスコに、ジアミン成分として1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)を102.2g(0.35モル)及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(4,4’−DPE)を30.0g(0.15モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を900g投入して、180℃で系外に水を出しながら合成を行い、窒素雰囲気を維持したまま60℃まで冷却した後、第2段目の合成として、ジイソシアネート成分としての2,4−トリレンジイソシアネート(2,4−TDI)を90.5g(0.52モル)、及び溶剤としてγ−ブチロラクトンを340g投入して、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を得た。
このポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を、0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する絶縁層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Example 2)
In the first stage synthesis, 102.2 g (0.35 mol) of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) as a diamine component and 4,4′-diaminodiphenyl ether ( 4,4′-DPE) 30.0 g (0.15 mol), trimellitic anhydride (TMA) 192.0 g (1.0 mol) as the acid component, and N-methyl-2-pyrrolidone as the solvent (NMP) was added in 900 g, synthesis was performed while water was discharged out of the system at 180 ° C., and the mixture was cooled to 60 ° C. while maintaining the nitrogen atmosphere. 90.5 g (0.52 mol) of 4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI) and 340 g of γ-butyrolactone as a solvent were added and synthesized at 140 ° C. An insulating paint made of polyamideimide resin having a degree of about 0.5 dl / g and a resin content concentration of about 25% by weight was obtained.
An insulated wire made of polyamideimide resin is applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this is baked to form an insulating layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining an insulated wire. It was.

(実施例3)
第1段目の合成として、フラスコに、ジアミン成分として1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)を43.8g(0.15モル)及び4,4’−ジアミノジフェニルメタン(DAM)を69.3g(0.35モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を1000g投入して、180℃で系外に水を出しながら合成を行い、窒素雰囲気を維持したまま60℃まで冷却した後、第2段目の合成として、ジイソシアネート成分としての4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)を130.0g(0.52モル)、及び溶剤としてN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を350g投入して、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を得た。
このポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を、0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する絶縁層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Example 3)
As a first stage synthesis, 43.8 g (0.15 mol) of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) and 4,4′-diaminodiphenylmethane ( DAM) is 69.3 g (0.35 mol), trimellitic anhydride (TMA) is 192.0 g (1.0 mol) as an acid component, and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) is 1000 g as a solvent. And after synthesizing while discharging water outside the system at 180 ° C. and cooling to 60 ° C. while maintaining the nitrogen atmosphere, as the second stage synthesis, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate as the diisocyanate component (MDI) 130.0 g (0.52 mol) and N, N-dimethylformamide (DMF) 350 g as a solvent were added and synthesized at 140 ° C. Performed, a reduced viscosity of about 0.5 dl / g, to obtain an insulating coating resin concentration of about 25 wt% of polyamide-imide resin.
An insulated wire made of polyamideimide resin is applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this is baked to form an insulating layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining an insulated wire. It was.

(実施例4)
第1段目の合成として、フラスコに、ジアミン成分として1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)を146.0g(0.50モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を1000g投入して、180℃で系外に水を出しながら合成を行い、窒素雰囲気を維持したまま60℃まで冷却した後、第2段目の合成として、ジイソシアネート成分としての2,4−トリレンジイソシアネート(2,4−TDI)を90.5g(0.52モル)、及び溶剤としてN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を280g投入して、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を得た。
このポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を、0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する絶縁層を形成することにより絶縁電線を得た。
Example 4
In the first stage synthesis, 146.0 g (0.50 mol) of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) as a diamine component and trimellitic anhydride as an acid component were added to a flask. 192.0 g (1.0 mol) of (TMA) and 1000 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent were added, and synthesis was performed while discharging water outside the system at 180 ° C. After cooling to 60 ° C. while maintaining, 90.5 g (0.52 mol) of 2,4-tolylene diisocyanate (2,4-TDI) as a diisocyanate component and as a solvent were synthesized as the second stage synthesis. 280 g of N, N-dimethylformamide (DMF) was added, synthesized at 140 ° C., polyamide viscosity having a reduced viscosity of about 0.5 dl / g and a resin concentration of about 25% by weight. Obtain an insulation coating made of a resin.
An insulated wire made of polyamideimide resin is applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this is baked to form an insulating layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining an insulated wire. It was.

(実施例5)
実施例1で得たポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして22μmの厚さを有する絶縁層を形成し、更にその絶縁層上に汎用のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料(日立化成(株)製、HI406)を塗布し、これを焼付けして8μmの厚さを有する外層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Example 5)
The insulating paint made of polyamideimide resin obtained in Example 1 was applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this was baked to form an insulating layer having a thickness of 22 μm. An insulated wire made of a general-purpose polyamide-imide resin was applied on the insulating layer (HIC 406 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and this was baked to form an outer layer having a thickness of 8 μm to obtain an insulated wire. .

(実施例6)
実施例1で得たポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして5μmの厚さを有する絶縁層を形成し、その絶縁層上に汎用のポリエステルイミド樹脂からなる絶縁塗料(大日精化工業(株)製、EH402)を塗布し、これを焼付けして17μmの厚さを有する第1の外層を形成し、更にその第1の外層上に汎用のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料(日立化成(株)製、HI406)を塗布し、これを焼付けして8μmの厚さを有する第2の外層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Example 6)
The insulating paint made of polyamideimide resin obtained in Example 1 was applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this was baked to form an insulating layer having a thickness of 5 μm. An insulating paint made of general-purpose polyesterimide resin (EH402, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) is applied on the insulating layer, and this is baked to form a first outer layer having a thickness of 17 μm. Insulation is performed by applying an insulating paint made of general-purpose polyamideimide resin (HI406, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) on the first outer layer and baking it to form a second outer layer having a thickness of 8 μm. I got an electric wire.

(比較例1)
フラスコに、ジイソシアネート成分として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(4,4’−MDI)を255.0g(1.02モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を1000g、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を330g投入し、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を得た。
このポリアミドイミド樹脂からなる絶縁塗料を、0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Comparative Example 1)
In the flask, 255.0 g (1.02 mol) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (4,4′-MDI) as a diisocyanate component and 192.0 g (1. 2) of trimellitic anhydride (TMA) as an acid component. 0 mol), and 1000 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and 330 g of N, N-dimethylformamide (DMF) as a solvent were added and synthesized at 140 ° C., and the reduced viscosity was about 0.5 dl / g. An insulating paint made of a polyamideimide resin having a resin concentration of about 25% by weight was obtained.
The insulated wire made of this polyamideimide resin was applied to the surface of a conductor made of copper wire having a diameter of 0.8 mm, and this was baked to form a layer having a thickness of 30 μm to obtain an insulated wire. .

(比較例2)
フラスコに、ジイソシアネート成分として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)を255.0g(1.02モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を1000g、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を330g投入し、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる塗料を得た後、この塗料に密着向上剤としてアミノベンゾチアゾールを1.34g(0.3phr)添加して絶縁塗料を得た。
この絶縁塗料を0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Comparative Example 2)
In the flask, 255.0 g (1.02 mol) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI) as the diisocyanate component, 192.0 g (1.0 mol) of trimellitic anhydride (TMA) as the acid component, and As a solvent, 1000 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and 330 g of N, N-dimethylformamide (DMF) were added and synthesized at 140 ° C., the reduced viscosity was about 0.5 dl / g, and the resin concentration was After obtaining a paint composed of about 25% by weight of polyamideimide resin, 1.34 g (0.3 phr) of aminobenzothiazole as an adhesion improver was added to the paint to obtain an insulating paint.
This insulating paint was applied to the surface of a conductor made of a copper wire having a diameter of 0.8 mm, and baked to form a layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining an insulated wire.

(比較例3)
フラスコに、ジイソシアネート成分として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)を255.0g(1.02モル)、酸成分としてトリメリット酸無水物(TMA)を192.0g(1.0モル)、及び溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を1330g投入し、140℃で合成を行い、還元粘度が約0.5dl/g、樹脂分濃度が約25重量%のポリアミドイミド樹脂からなる塗料を得た後、この塗料に密着向上剤としてメラミン樹脂を1.34g(3.0phr)添加して絶縁塗料を得た。
この絶縁塗料を0.8mmの直径を有する銅線からなる導体の表面に塗布し、これを焼付けして30μmの厚さを有する層を形成することにより絶縁電線を得た。
(Comparative Example 3)
In the flask, 255.0 g (1.02 mol) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI) as the diisocyanate component, 192.0 g (1.0 mol) of trimellitic anhydride (TMA) as the acid component, and 1330 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added as a solvent, synthesized at 140 ° C., and a paint composed of polyamideimide resin having a reduced viscosity of about 0.5 dl / g and a resin concentration of about 25% by weight. Then, 1.34 g (3.0 phr) of melamine resin was added as an adhesion improver to the paint to obtain an insulating paint.
This insulating paint was applied to the surface of a conductor made of a copper wire having a diameter of 0.8 mm, and baked to form a layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining an insulated wire.

実施例1〜6、および比較例1〜3で用いた絶縁塗料の原料組成、並びに絶縁電線の特性を表1に示す。   Table 1 shows the raw material composition of the insulating paint used in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, and the characteristics of the insulated wires.

なお、絶縁電線の寸法、耐摩耗性については、JIS C 3216に準拠した方法で測定した。   In addition, about the dimension and abrasion resistance of the insulated wire, it measured by the method based on JISC3216.

導体と絶縁皮膜との密着強度の測定は以下の方法で行った。先ず、作製して得られた各絶縁電線から約5cmの長さの試料片をそれぞれ切り取った。その後、各試料片の上面又は下面(幅が広い方の面のいずれか一方)の絶縁被覆に、カッターなどを用いて、試料片の長手方向に延びる切り込みを1mm間隔で2本形成した。この切り込み間における絶縁被覆の長手方向の端部を、ピンセットなどを用いて導体から剥離させ、つかみ代を形成した。その後、各試料片を治具に固定すると共に、つかみ代をチャックで挟み、テンシロン万能試験機を用いて導体から絶縁被覆を引き剥がした。このとき、絶縁被覆をその長手方向の端部から1mmの長さまで剥がしたときの強度(剥離強度)を密着強度として測定した。   The adhesion strength between the conductor and the insulating film was measured by the following method. First, a sample piece having a length of about 5 cm was cut from each insulated wire obtained. Thereafter, two notches extending in the longitudinal direction of the sample piece were formed at an interval of 1 mm on the insulating coating on the upper surface or the lower surface (one of the wider surfaces) of each sample piece using a cutter or the like. The end portion in the longitudinal direction of the insulating coating between the cuts was peeled off from the conductor using tweezers or the like to form a grip allowance. Thereafter, each sample piece was fixed to a jig, the gripping margin was sandwiched between chucks, and the insulation coating was peeled off from the conductor using a Tensilon universal testing machine. At this time, the strength (peeling strength) when the insulating coating was peeled from the end in the longitudinal direction to a length of 1 mm was measured as the adhesion strength.

熱劣化後の導体と絶縁皮膜との密着強度の測定は以下の方法で行った。先ず、作製して得られた各絶縁電線から約5cmの長さの試料片をそれぞれ切り取った。その後、切り取った各試料片を恒温槽に入れ、160℃の温度で168時間放置した。その後、恒温槽から各試料片を取り出し、各試料片の上面又は下面(幅が広い方の面のいずれか一方)の絶縁被覆に、カッターなどを用いて、試料片の長手方向に延びる切り込みを1mm間隔で2本形成した。この切り込み間における絶縁被覆の長手方向の端部を、ピンセットなどを用いて導体から剥離させ、つかみ代を形成した。その後、各試料片を治具に固定すると共に、つかみ代をチャックで挟み、テンシロン万能試験機を用いて導体から絶縁被覆を引き剥がした。このとき、絶縁被覆をその長手方向の端部から1mmの長さまで剥がしたときの強度(剥離強度)を密着強度として測定した。   The adhesion strength between the conductor after thermal deterioration and the insulating film was measured by the following method. First, a sample piece having a length of about 5 cm was cut from each insulated wire obtained. Then, each cut sample piece was put into a thermostat and left at a temperature of 160 ° C. for 168 hours. After that, each sample piece is taken out from the thermostat, and a cut or the like extending in the longitudinal direction of the sample piece is applied to the insulating coating on the upper surface or lower surface (one of the wider surfaces) of each sample piece using a cutter or the like. Two were formed at 1 mm intervals. The end portion in the longitudinal direction of the insulating coating between the cuts was peeled off from the conductor using tweezers or the like to form a grip allowance. Thereafter, each sample piece was fixed to a jig, the gripping margin was sandwiched between chucks, and the insulation coating was peeled off from the conductor using a Tensilon universal testing machine. At this time, the strength (peeling strength) when the insulating coating was peeled from the end in the longitudinal direction to a length of 1 mm was measured as the adhesion strength.

また、密着性(初期)は、絶縁電線から採取した直線状の試料を、250mm離れた同軸上の2つのクランプ間に固定し、試料の長さ方向に平行な2辺の絶縁被覆を導体に達するまで取り除く。その後、一方のクランプを固定したまま他方のクランプを回転させ、絶縁被覆が導体の表面から浮いた時点でのクランプの回転の回数を測定した。密着性は、常態及び熱劣化後(劣化条件:160℃×168h)の両方について試験を行った。   In addition, the adhesion (initial) is to fix a linear sample taken from an insulated wire between two coaxial clamps 250 mm apart, and to use an insulating coating on two sides parallel to the length of the sample as a conductor. Remove until it reaches. Thereafter, the other clamp was rotated while one clamp was fixed, and the number of rotations of the clamp when the insulating coating floated from the surface of the conductor was measured. The adhesion was tested both in the normal state and after heat deterioration (deterioration condition: 160 ° C. × 168 h).

密着性(熱劣化後)は、絶縁電線から採取した直線状の試料を、恒温槽に入れ、160℃の温度で168時間放置した。その後、恒温槽から取り出した試料を、250mm離れた同軸上の2つのクランプ間に固定し、試料の長さ方向に平行な2辺の絶縁被覆を導体に達するまで取り除く。その後、一方のクランプを固定したまま他方のクランプを回転させ、絶縁被覆が導体の表面から浮いた時点でのクランプの回転の回数を測定した。   For adhesion (after heat deterioration), a linear sample taken from an insulated wire was placed in a thermostatic bath and left at a temperature of 160 ° C. for 168 hours. Then, the sample taken out from the thermostat is fixed between two coaxial clamps separated by 250 mm, and two insulating coatings parallel to the length direction of the sample are removed until reaching the conductor. Thereafter, the other clamp was rotated while one clamp was fixed, and the number of rotations of the clamp when the insulating coating floated from the surface of the conductor was measured.

Figure 2014013710
Figure 2014013710

実施例1〜6の絶縁電線では、表1に示す結果から明らかなように、汎用的なポリアミドイミドである比較例1と比較して、初期の密着性、耐摩耗性が大幅に向上しているとともに、熱劣化後も良好な密着性を有することが判る。一方、密着性を向上させるための密着向上剤を添加した比較例2、3では、初期の密着性、耐摩耗性が実施例1〜6の値に近い値を示したが、熱劣化後に密着性が大幅に低下してしまうことが判る。   In the insulated wires of Examples 1 to 6, as is apparent from the results shown in Table 1, compared to Comparative Example 1 which is a general-purpose polyamideimide, initial adhesion and wear resistance are greatly improved. It can also be seen that it has good adhesion even after thermal degradation. On the other hand, in Comparative Examples 2 and 3 to which an adhesion improver for improving the adhesion was added, the initial adhesion and wear resistance showed values close to those of Examples 1 to 6, but the adhesion after heat deterioration It can be seen that the performance is greatly reduced.

以上、本発明によれば、金属からなる導体と、導体の外周を覆う絶縁被覆と、を備え、絶縁被覆は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、導体に対する密着強度が50g/mm以上である絶縁層が導体の表面に密着して設けられている絶縁電線としたことにより、絶縁被覆と導体との初期の密着性を向上させることができるとともに、長時間の熱が加わった場合にも良好な密着性を発現することができる。   As described above, according to the present invention, it is provided with a conductor made of metal and an insulating coating covering the outer periphery of the conductor, and the insulating coating contains 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and substantially contains the adhesion improver. By using an insulated wire that is made of a polyamide-imide resin that does not contain a conductive material and that has an insulating layer having an adhesion strength to the conductor of 50 g / mm or more in close contact with the surface of the conductor, In addition to improving the adhesiveness, good adhesiveness can be exhibited even when heat is applied for a long time.

10、20、30、40 絶縁電線
11、21、31、41 導体
12、22、32、42 絶縁層
23、43 外層
23a 第1の外層
23b 第2の外層
10, 20, 30, 40 Insulated wire 11, 21, 31, 41 Conductor 12, 22, 32, 42 Insulating layer 23, 43 Outer layer 23a First outer layer 23b Second outer layer

Claims (7)

金属からなる導体と、
前記導体の外周を覆う絶縁被覆と、を備え、
前記絶縁被覆は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、前記導体に対する密着強度が50g/mm以上である絶縁層が前記導体の表面に密着して設けられている絶縁電線。
A conductor made of metal;
An insulating coating covering the outer periphery of the conductor,
The insulating coating includes 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, is composed of a polyamide-imide resin substantially free of an adhesion improver, and has an adhesion strength of 50 g / mm or more with respect to the conductor. Is an insulated wire provided in close contact with the surface of the conductor.
前記絶縁層は、前記ポリアミドイミド樹脂を構成するジアミン成分中に、前記1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンが30モル%以上100モル%以下の割合で含まれている請求項1に記載の絶縁電線。   The insulating layer contains the 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene in a proportion of 30 mol% or more and 100 mol% or less in the diamine component constituting the polyamideimide resin. Insulated wire as described. 前記絶縁被覆は、前記絶縁層の外周に外層が設けられている請求項1又は2に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to claim 1, wherein the insulating coating is provided with an outer layer on an outer periphery of the insulating layer. 前記外層は、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリイミドのうちのいずれかの樹脂からなる請求項1〜3のいずれかに記載の絶縁電線。   The insulated wire according to any one of claims 1 to 3, wherein the outer layer is made of any one of polyamideimide, polyesterimide, and polyimide. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁電線を用いて形成されたコイル。   The coil formed using the insulated wire of any one of Claims 1-4. 金属からなる導体の表面に密着して絶縁層を設けるための絶縁塗料であって、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンを含み、密着向上剤を実質的に含まないポリアミドイミド樹脂で構成され、前記導体に対する前記絶縁層の密着強度が50g/mm以上である絶縁塗料。
An insulating paint for providing an insulating layer in close contact with the surface of a conductor made of metal,
An insulating coating comprising 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and a polyamide-imide resin substantially free of an adhesion improver, wherein the adhesion strength of the insulating layer to the conductor is 50 g / mm or more.
前記ポリアミドイミド樹脂は、少なくともジアミン成分、ジイソシアネート成分、及び酸成分から構成され、前記ジアミン成分中に、前記1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンが30モル%以上100モル%以下の割合で含まれている請求項6に記載の絶縁塗料。   The polyamide-imide resin is composed of at least a diamine component, a diisocyanate component, and an acid component, and the proportion of the 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene is 30 mol% or more and 100 mol% or less in the diamine component. The insulating paint according to claim 6, which is contained in
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