JP2013163709A - Powdered sealing agent and sealing method - Google Patents
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 24
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 171
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 106
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 106
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 22
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 87
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 77
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 65
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 claims description 7
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 7
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 claims description 6
- 229920000572 Nylon 6/12 Polymers 0.000 claims description 6
- 229920006152 PA1010 Polymers 0.000 claims description 6
- PBLZLIFKVPJDCO-UHFFFAOYSA-N omega-Aminododecanoic acid Natural products NCCCCCCCCCCCC(O)=O PBLZLIFKVPJDCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QUBNFZFTFXTLKH-UHFFFAOYSA-N 2-aminododecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(N)C(O)=O QUBNFZFTFXTLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HASUJDLTAYUWCO-UHFFFAOYSA-N 2-aminoundecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(N)C(O)=O HASUJDLTAYUWCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 42
- -1 alkane carboxylic acid Chemical class 0.000 abstract description 19
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 abstract description 12
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 54
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 17
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical compound NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 15
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 15
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 10
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 229920006017 homo-polyamide Polymers 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 8
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 6
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical group 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920006147 copolyamide elastomer Polymers 0.000 description 5
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 5
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006396 polyamide 1012 Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAUQWYHSQICPAZ-UHFFFAOYSA-N 10-amino-decanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCCC(O)=O XAUQWYHSQICPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUOSQNAUYHMCRU-UHFFFAOYSA-N 11-Aminoundecanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCCCC(O)=O GUOSQNAUYHMCRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFGCFKJIPBRJGM-UHFFFAOYSA-N 12-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-12-oxododecanoic acid Chemical class CC(C)(C)OC(=O)CCCCCCCCCCC(O)=O QFGCFKJIPBRJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C)(C)C1CCC(N)CC1 BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005124 aminocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- CJYXCQLOZNIMFP-UHFFFAOYSA-N azocan-2-one Chemical compound O=C1CCCCCCN1 CJYXCQLOZNIMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- YMHQVDAATAEZLO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diamine Chemical compound NC1(N)CCCCC1 YMHQVDAATAEZLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012803 melt mixture Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N n,n',n'-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CNCCCCCCN(C)C ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920006146 polyetheresteramide block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N xylylenediamine group Chemical class C=1(C(=CC=CC1)CN)CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、電子部品が実装されたプリント基板などのデバイス(又は電子デバイス)を封止するのに適した粉末状封止剤、この粉末状封止剤を用いた封止方法に関する。 The present invention relates to a powder sealant suitable for sealing a device (or electronic device) such as a printed circuit board on which an electronic component is mounted, and a sealing method using the powder sealant.
水分、塵芥などから保護するため、半導体素子、プリント基板、太陽電池セルなどの精密部品(又は電子デバイス)を樹脂で封止することが行われている。この封止方法として、精密部品を金型キャビティ内に配置して樹脂を注入して封止する方法が知られている。この方法では、多くの場合、低粘度で流動性の高い熱硬化性の樹脂が使用されている。 In order to protect against moisture, dust, and the like, precision components (or electronic devices) such as semiconductor elements, printed boards, and solar cells are sealed with a resin. As this sealing method, there is known a method in which a precision component is placed in a mold cavity and a resin is injected to seal. In this method, a thermosetting resin having a low viscosity and a high fluidity is often used.
しかし、熱硬化性樹脂では、架橋剤などの添加剤が添加されるため、保存期間が短いだけでなく、金型キャビティ内に注入してから硬化までに比較的長時間を要し、生産性を向上できない。また、樹脂の種類によっては成形後に硬化処理が必要となり、生産性が低下する。 However, in thermosetting resins, additives such as cross-linking agents are added, so that not only the storage period is short, but also it takes a relatively long time to cure after being injected into the mold cavity. Cannot be improved. In addition, depending on the type of resin, a curing process is required after molding, which reduces productivity.
また、熱可塑性樹脂を射出成形して精密部品を封止することも知られている。しかし、熱可塑性樹脂では比較的高温高圧でモールドする場合が多いため、基板や基板上に実装された電子部品が損傷しやすく信頼性を損なう。特開2000−133665号公報(特許文献1)には、金型キャビティ内に電子部品が実装されたプリント基板を配置し、160〜230℃に加熱溶融したポリアミド樹脂を2.5〜25kg/cm2の圧力範囲で前記金型キャビティ内に注入し、電子部品が実装されたプリント基板を封止する方法が開示されている。この文献の実施例では、TRL社(フランス)のポリアミド樹脂・商品番号817を溶融温度190℃、圧力20kg/cm2で金型内に注入してプリント基板を封止したことが記載されている。しかし、この方法でも電子部品に比較的高温高圧が作用するため、電子部品が損傷する場合がある。 It is also known to seal precision parts by injection molding a thermoplastic resin. However, since the thermoplastic resin is often molded at a relatively high temperature and pressure, the substrate and the electronic components mounted on the substrate are easily damaged and the reliability is impaired. In JP 2000-133665 A (Patent Document 1), a printed circuit board on which electronic components are mounted is placed in a mold cavity, and polyamide resin heated and melted at 160 to 230 ° C. is 2.5 to 25 kg / cm. A method of sealing a printed circuit board on which an electronic component is mounted by injecting into the mold cavity in a pressure range of 2 is disclosed. In the example of this document, it is described that a polyamide resin / product number 817 of TRL (France) was injected into a mold at a melting temperature of 190 ° C. and a pressure of 20 kg / cm 2 to seal the printed circuit board. . However, even in this method, the electronic component may be damaged because a relatively high temperature and pressure are applied to the electronic component.
さらに、フィルム状の封止剤を用いてデバイスを封止することも知られている。特開2008−282906号公報(特許文献2)には、基板とフィルムとの間に太陽電池セルが樹脂で封止された太陽電池モジュールの製造方法に関し、前記基板と前記太陽電池セルとの間に前記基板の実質的に全面を覆う第1封止樹脂シートを配置し、前記フィルムと前記太陽電池セルとの間に前記基板の実質的に全面を覆う第2封止樹脂シートを配置して積層体を作製し、該積層体を複数段積み重ねるとともに、最上段の積層体の前記フィルムの外側に当て板を配置し、前記基板と前記フィルムとの間の空気を排出し、加熱して樹脂を溶融させて冷却して封止することが開示され、前記封止樹脂が、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール及びポリウレタンからなる群から選択される一種の樹脂であることも記載されている。 Furthermore, it is also known to seal a device using a film-like sealant. JP 2008-282906 A (Patent Document 2) relates to a method for manufacturing a solar cell module in which a solar cell is sealed with a resin between a substrate and a film, and between the substrate and the solar cell. A first sealing resin sheet that covers substantially the entire surface of the substrate, and a second sealing resin sheet that covers substantially the entire surface of the substrate between the film and the solar battery cell. A laminated body is produced, and the laminated body is stacked in a plurality of stages, and a backing plate is disposed outside the film of the uppermost laminated body, and air between the substrate and the film is discharged and heated to form a resin. It is disclosed that the sealing resin is melted and cooled to be sealed, and that the sealing resin is a kind of resin selected from the group consisting of ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, and polyurethane. That.
特開2009−99417号公報(特許文献3)には、前記基板上に形成された有機電子デバイスを封止するバリアフィルムを含み、前記有機電子デバイスと前記バリアフィルムとの間にホットメルト型部材が配置された有機電子デバイス封止パネルが開示され、前記ホットメルト型部材が水分捕捉剤及びワックスを含むこと、前記ホットメルト型部材の厚みが100μm以下の薄膜状であることが記載されている。また、特開2009−99805号公報(特許文献4)には、水分捕捉剤及びワックスを含む有機薄膜太陽電池用ホットメルト型部材が開示されている。これらの文献には、ホットメルト型部材の形状が、薄膜状、板状、不定形状などであってもよいことも記載されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-99417 (Patent Document 3) includes a barrier film for sealing an organic electronic device formed on the substrate, and a hot-melt member between the organic electronic device and the barrier film. An organic electronic device encapsulating panel is disclosed, wherein the hot melt type member contains a moisture scavenger and a wax, and the hot melt type member has a thickness of 100 μm or less. . Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2009-99805 (Patent Document 4) discloses a hot-melt member for an organic thin-film solar cell containing a moisture scavenger and a wax. These documents also describe that the shape of the hot-melt type member may be a thin film shape, a plate shape, an indefinite shape, or the like.
しかし、フィルム状の封止剤ではデバイスの凹凸部に対する追従性が劣るため、デバイスの細部を緊密に封止することが困難である。さらに、前記ホットメルト型部材はワックスを主要成分とするため、デバイスに対する密着性を高めて封止することが困難である。 However, since the film-like sealant has poor followability to the uneven portions of the device, it is difficult to tightly seal the details of the device. Furthermore, since the hot-melt type member contains wax as a main component, it is difficult to increase the adhesion to the device and seal it.
特開2001−234125号公報(特許文献5)には、塗装過程で高温の火炎に曝されても変色するのを防止するため、熱可塑性樹脂100重量部に対して、ヒンダードフェノール系酸化防止剤およびフォスファイト系酸化防止剤をそれぞれ0.05〜2.0重量部の割合で含み、中位粒子径が50〜300μm、嵩比重が0.30g/ml以上、安息角が35度以下である溶射塗装用粉体塗料が開示されている。この文献には、熱可塑性樹脂として、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ナイロン−11樹脂、ナイロン−12樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体樹脂、エチレン−メタクリル酸共重合体樹脂、変性ポリエチレン樹脂、変性ポリプロピレン樹脂が例示され、ナイロン(ポリアミド)樹脂(EMS−CHEMIE AG社の商品名“グリルアミド”)を用いた例も記載されている。 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-234125 (Patent Document 5) discloses a hindered phenolic antioxidant for 100 parts by weight of a thermoplastic resin in order to prevent discoloration even when exposed to a high-temperature flame during coating. Agent and phosphite-based antioxidant in a proportion of 0.05 to 2.0 parts by weight, with a median particle diameter of 50 to 300 μm, a bulk specific gravity of 0.30 g / ml or more, and an angle of repose of 35 degrees or less. A powder coating for thermal spray coating is disclosed. In this document, as a thermoplastic resin, polyethylene resin, polypropylene resin, nylon-11 resin, nylon-12 resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, ethylene-acrylic acid copolymer resin, ethylene-methacrylic acid copolymer Examples include coalescent resins, modified polyethylene resins, and modified polypropylene resins, and examples using nylon (polyamide) resin (trade name “Grillamide” from EMS-CHEMIE AG) are also described.
しかし、上記粉体塗料は高温で溶融して溶射されるため、電子部品の封止に利用すると、電子部品が損傷されやすく、デバイスの信頼性を損なうおそれがある。 However, since the powder coating is melted and sprayed at a high temperature, if used for sealing an electronic component, the electronic component is likely to be damaged, and the reliability of the device may be impaired.
従って、本発明の目的は、電子デバイスを低温で緊密に封止可能な粉末状封止剤、この封止剤を用いた封止方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a powdery sealant capable of tightly sealing an electronic device at a low temperature and a sealing method using this sealant.
本発明の他の目的は、凹凸部や狭い間隙があったとしても緊密に封止できる粉末状封止剤、この封止剤を用いた封止方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a powdery sealant that can be tightly sealed even if there are uneven portions or narrow gaps, and a sealing method using this sealant.
本発明のさらに他の目的は、電子デバイスに散布しても脱落することなく効率よく堆積できる粉末状封止剤、この封止剤を用いた封止方法を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide a powdery sealant that can be deposited efficiently without being dropped even when sprayed on an electronic device, and a sealing method using this sealant.
本発明の他の目的は、低温でしかも短時間で溶融でき、電子デバイスの熱的損傷を防止できる粉末状封止剤、この封止剤を用いた封止方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a powdery sealant that can be melted at a low temperature in a short time and that can prevent thermal damage of an electronic device, and a sealing method using this sealant.
本発明のさらに他の目的は、電子デバイスを、水分、塵芥や衝撃などから有効に保護できる粉末状封止剤、この封止剤を用いた封止方法を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide a powdery sealant that can effectively protect an electronic device from moisture, dust, impact, and the like, and a sealing method using the sealant.
本発明の別の目的は、前記粉末状封止剤で封止された電子デバイスを提供することにある。 Another object of the present invention is to provide an electronic device sealed with the powdery sealant.
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、特定の粒度分布を有する粉末状の共重合ポリアミド系樹脂を用いると、(1)デバイス又は基板に散布しても所定部に効率よく堆積でき、(2)低温で迅速に溶融でき、(3)封止・成形サイクルを短縮でき、(4)表面に凹凸があっても容易に追従してモールドできるとともに、(5)デバイス又は基板のサイズに制約されることなく、(6)薄膜でも封止又はモールドでき、(7)高い密着性及び封止性でデバイスや基板をモールドできることを見いだし、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that when a powdered copolyamide-based resin having a specific particle size distribution is used, (1) even when sprayed on a device or a substrate, the efficiency is improved in a predetermined part. It can be deposited well, (2) it can be melted quickly at low temperature, (3) it can shorten the sealing and molding cycle, (4) it can be easily molded even if there are irregularities on the surface, and (5) the device or The present invention has been completed by finding that (6) a thin film can be sealed or molded, and (7) a device and a substrate can be molded with high adhesion and sealing properties without being restricted by the size of the substrate.
すなわち、本発明の粉末状封止剤は、デバイスを封止するための封止剤であって、共重合ポリアミド系樹脂で構成されている。この封止剤は、粒子径が1mm以下(例えば、0.5μm〜1mm)の共重合ポリアミド系樹脂粒子を含んでいる。共重合ポリアミド系樹脂粒子は、少なくとも(A)微粒子[例えば、平均粒子径20〜400μm(例えば、40〜350μm)程度の共重合ポリアミド系樹脂粒子]を含んでいる。共重合ポリアミド系樹脂粒子は、(A)微粒子単独で構成してもよいが、(A)微粒子と、(B)平均粒子径が大きな粗粒子とを組み合わせて構成してもよい。(A)微粒子の平均粒子径に対して、(B)粗粒子の平均粒子径は1.2〜20倍程度であってもよい。(B)粗粒子の平均粒子径は、450〜800μm程度であってもよい。(A)微粒子の割合は、(B)粗粒子100重量部に対して、1〜10重量部程度であってもよい。共重合ポリアミド系樹脂粒子全体の安息角は35〜55°程度であってもよい。 That is, the powdery sealant of the present invention is a sealant for sealing a device, and is composed of a copolymerized polyamide resin. This sealant contains copolymer polyamide resin particles having a particle diameter of 1 mm or less (for example, 0.5 μm to 1 mm). The copolymerized polyamide resin particles include at least (A) fine particles [for example, copolymerized polyamide resin particles having an average particle diameter of about 20 to 400 μm (for example, 40 to 350 μm)]. The copolymerized polyamide resin particles may be composed of (A) fine particles alone, but may be composed of (A) fine particles and (B) coarse particles having a large average particle diameter. The average particle size of (B) coarse particles may be about 1.2 to 20 times the average particle size of (A) fine particles. (B) The average particle diameter of the coarse particles may be about 450 to 800 μm. The proportion of (A) fine particles may be about 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (B) coarse particles. The angle of repose of the entire copolymerized polyamide resin particles may be about 35 to 55 °.
共重合ポリアミド系樹脂の融点又は軟化点は75〜160℃程度、例えば、融点90〜160℃程度であってもよい。共重合ポリアミド系樹脂は結晶性を有していてもよい。共重合ポリアミド系樹脂は、多元共重合体、例えば、二元共重合体〜四元共重合体(例えば、二元又は三元共重合体)であってもよい。さらに、共重合ポリアミド系樹脂は、C8−16アルキレン基(例えば、C10−14アルキレン基)を有する長鎖成分、例えば、C9−17ラクタム及びアミノC9−17アルカンカルボン酸から選択された少なくとも一種の成分に由来する単位を含んでいてもよい。例えば、共重合ポリアミド系樹脂は、ポリアミド11,ポリアミド12、ポリアミド610、ポリアミド612及びポリアミド1010から選択されたアミド形成成分に由来する単位を含んでいてもよく、コポリアミド6/11、コポリアミド6/12、コポリアミド66/11、コポリアミド66/12、コポリアミド610/11、コポリアミド612/11、コポリアミド610/12、コポリアミド612/12、コポリアミド1010/12、コポリアミド6/11/610、コポリアミド6/11/612、コポリアミド6/12/610、及びコポリアミド6/12/612から選択された少なくとも一種であってもよい。また、共重合ポリアミド系樹脂は、ポリアミド11,ポリアミド12、ポリアミド610、ポリアミド612及びポリアミド1010から選択されたアミド形成成分に由来する単位を必要であればハードセグメントとして含むポリアミドエラストマー(ポリアミドブロック共重合体)であってもよい。さらに、共重合ポリアミド系樹脂は、ラウロラクタム、アミノウンデカン酸及びアミノドデカン酸から選択された少なくとも一種の成分に由来する単位を含んでいてもよい。 The melting point or softening point of the copolymerized polyamide resin may be about 75 to 160 ° C, for example, about 90 to 160 ° C. The copolymerized polyamide resin may have crystallinity. The copolymerized polyamide-based resin may be a multi-component copolymer, for example, a binary copolymer to a quaternary copolymer (for example, a binary or ternary copolymer). Further, the copolymerized polyamide-based resin is selected from long chain components having a C 8-16 alkylene group (eg, a C 10-14 alkylene group), such as C 9-17 lactam and amino C 9-17 alkane carboxylic acid. In addition, units derived from at least one component may be included. For example, the copolyamide-based resin may contain units derived from an amide-forming component selected from polyamide 11, polyamide 12, polyamide 610, polyamide 612, and polyamide 1010. Copolyamide 6/11, copolyamide 6 / 12, copolyamide 66/11, copolyamide 66/12, copolyamide 610/11, copolyamide 612/11, copolyamide 610/12, copolyamide 612/12, copolyamide 1010/12, copolyamide 6/11 / 610, copolyamide 6/11/612, copolyamide 6/12/610, and at least one selected from copolyamide 6/12/612. The copolymerized polyamide resin is a polyamide elastomer (polyamide block copolymer) containing units derived from an amide-forming component selected from polyamide 11, polyamide 12, polyamide 610, polyamide 612 and polyamide 1010 as hard segments if necessary. Merging). Furthermore, the copolyamide-based resin may contain a unit derived from at least one component selected from laurolactam, aminoundecanoic acid and aminododecanoic acid.
本発明の方法では、デバイスの少なくとも一部に前記粉末状封止剤を適用(又は散布)し、粉末状封止剤を加熱溶融して冷却することにより、共重合ポリアミド系樹脂で被覆又はモールドされたデバイスを製造できる。そのため、本発明は、粉末状封止剤が熱融着して形成された共重合ポリアミド系樹脂の被膜で、少なくとも一部が被覆又はモールドされたデバイスも包含する。 In the method of the present invention, the powdery sealant is applied (or dispersed) to at least a part of the device, and the powdery sealant is heated, melted, and cooled to coat or mold with the copolymerized polyamide resin. Device can be manufactured. Therefore, the present invention also includes a device in which at least a part is coated or molded with a film of a copolymerized polyamide resin formed by thermally fusing a powdery sealant.
なお、本明細書において、「共重合ポリアミド系樹脂」とは、それぞれホモポリアミドを形成する複数のアミド形成成分の共重合体(コポリアミド)のみならず、複数のアミド形成成分により形成され、かつ種類の異なる複数の共重合体(コポリアミド)の混合物をも含む意味で用いる。 In the present specification, the “copolymerized polyamide-based resin” is not only a copolymer of a plurality of amide-forming components (copolyamide) that forms a homopolyamide, but also a plurality of amide-forming components, and The term also includes a mixture of a plurality of different types of copolymers (copolyamides).
本発明では、特定の粒度分布を有する粉末状共重合ポリアミド系樹脂を用いるため、電子デバイスに散布しても脱落することなく効率よく堆積できるとともに、低温でかつ短時間で溶融でき、電子デバイスを緊密に封止でき、デバイスの信頼性を損なうことがない。また、封止剤が粉粒体の形態であるため、凹凸部や狭い間隙があったとしても緊密に封止できる。そのため、電子デバイスを、水分、塵芥や衝撃などから有効に保護できる。 In the present invention, since a powdery copolyamide-based resin having a specific particle size distribution is used, it can be efficiently deposited without dropping even when dispersed on an electronic device, and can be melted at a low temperature in a short time. It can be sealed tightly and does not impair device reliability. Moreover, since the sealing agent is in the form of a granular material, even if there is an uneven part or a narrow gap, it can be tightly sealed. Therefore, the electronic device can be effectively protected from moisture, dust, impact, and the like.
本発明の粉末状封止剤(又は粉粒状封止剤)は、共重合ポリアミド系樹脂で構成されている。粉末状封止剤は、粒子径1mm以下(例えば、0.5μm〜1mm)の共重合ポリアミド系樹脂粒子を含んでいる。すなわち、粉末状封止剤は、開口径1mm以下(例えば、50μm〜1mm)の篩いにより分級された共重合ポリアミド系樹脂粒子で構成してもよく、粒子径1mmを超える共重合ポリアミド系樹脂粒子を実質的に含んでいなくてもよい。 The powdery sealant (or powdery sealant) of the present invention is composed of a copolymerized polyamide resin. The powdery sealant contains copolymerized polyamide resin particles having a particle diameter of 1 mm or less (for example, 0.5 μm to 1 mm). That is, the powdery sealant may be composed of copolymerized polyamide resin particles classified by a sieve having an opening diameter of 1 mm or less (for example, 50 μm to 1 mm), and the copolymerized polyamide resin particles having a particle diameter exceeding 1 mm. May not be substantially contained.
共重合ポリアミド系樹脂粒子は、少なくとも平均粒子径(又は粒度)の小さな微粒子(微粉又は微粒子群)を含んでいる。本発明では、上記微粒子を含んでいるため、適度な粉体流動性を有するとともに、デバイス又は基板に散布しても脱落するのを防止でき、熱伝導性を高め、低温で迅速に溶融でき、デバイス又は基板の熱的損傷を防止できる。 The copolymerized polyamide resin particles include at least fine particles (fine powder or fine particle group) having a small average particle size (or particle size). In the present invention, since it contains the fine particles, it has an appropriate powder fluidity, can be prevented from falling off even if sprayed on a device or a substrate, enhances thermal conductivity, can be rapidly melted at a low temperature, It is possible to prevent thermal damage to the device or the substrate.
共重合ポリアミド系樹脂微粒子の平均粒子径(粒度積算分布50%径:D50)は、20〜400μmであればよく、例えば、25〜380μm、好ましくは30〜370μm、さらに好ましくは35〜360μm(例えば、35〜300μm)、特に40〜350μm(例えば、40〜200μm)程度であってもよい。 The average particle diameter (particle size cumulative distribution 50% diameter: D 50 ) of the copolymerized polyamide resin fine particles may be 20 to 400 μm, for example, 25 to 380 μm, preferably 30 to 370 μm, more preferably 35 to 360 μm ( For example, it may be about 35 to 300 μm), particularly about 40 to 350 μm (for example, 40 to 200 μm).
共重合ポリアミド系樹脂微粒子の粒径範囲(粒度)は、0.01μm〜1mm程度であってもよく、通常、0.1〜500μm(例えば、0.5〜300μm)程度である場合が多い。 The particle size range (particle size) of the copolymerized polyamide resin fine particles may be about 0.01 μm to 1 mm, and is usually about 0.1 to 500 μm (for example, 0.5 to 300 μm) in many cases.
共重合ポリアミド系樹脂粒子は、微粒子単独でもよく、微粒子と平均粒子径(又は粒度)の大きな粗粒子とを併用してもよい。粗粒子単独ではデバイス又は基板に散布すると脱落し易く、溶融に必要な熱量も増大するが、粗粒子と微粒子とを組み合わせることにより、粉体(粒子群)の空隙率が低減し、各粒子の接触点数が大きくなることで、所定部に安定して、かつ効率よく堆積できるとともに、各粒子間の熱伝導性を高め、溶融時間を短縮でき、表面凹凸が少ない封止膜を得ることができる。 The copolymerized polyamide resin particles may be fine particles alone or in combination with fine particles and coarse particles having a large average particle size (or particle size). Coarse particles can easily fall off when sprayed on a device or substrate, and the amount of heat required for melting also increases, but by combining coarse particles and fine particles, the porosity of the powder (particle group) decreases, By increasing the number of contact points, it is possible to deposit stably and efficiently on a predetermined portion, increase the thermal conductivity between the particles, shorten the melting time, and obtain a sealing film with less surface irregularities. .
共重合ポリアミド系樹脂粗粒子の平均粒子径(D50)は、共重合ポリアミド系樹脂微粒子の平均粒子径(D50)よりも大きければよく、共重合ポリアミド系樹脂微粒子の平均粒子径(D50)に対して、例えば、1.2〜20倍、好ましくは1.5〜18倍、さらに好ましくは2〜15倍(例えば、2〜10倍)程度であってもよい。また、共重合ポリアミド系樹脂粗粒子の平均粒子径(D50)は、例えば、450〜800μm(例えば、500〜700μm)程度であってもよい。 Copolymerization average particle diameter of the polyamide resin coarse particles (D 50) may be larger than the average particle diameter of the copolymerized polyamide resin particles (D 50), the average particle diameter of the copolymerized polyamide resin particles (D 50 ) For example, it may be about 1.2 to 20 times, preferably 1.5 to 18 times, more preferably about 2 to 15 times (for example, 2 to 10 times). The average particle diameter (D 50 ) of the copolymerized polyamide resin coarse particles may be, for example, about 450 to 800 μm (for example, 500 to 700 μm).
共重合ポリアミド系樹脂粗粒子の粒径範囲(粒度)は、350μm〜1mm程度であってもよく、通常、400〜900μm(例えば、500〜800μm)程度である場合が多い。 The particle size range (particle size) of the copolymerized polyamide resin coarse particles may be about 350 μm to 1 mm, and is usually about 400 to 900 μm (for example, 500 to 800 μm) in many cases.
前記微粒子の割合(重量割合)は、前記粗粒子100重量部に対して、例えば、0.1〜10000重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.1〜100重量部、好ましくは0.5〜50重量部、さらに好ましくは1〜20重量部(例えば、1〜10重量部)程度であってもよい。 The ratio (weight ratio) of the fine particles can be selected from the range of, for example, about 0.1 to 10000 parts by weight, for example, 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 100 parts by weight of the coarse particles. It may be about 5 to 50 parts by weight, more preferably about 1 to 20 parts by weight (for example, 1 to 10 parts by weight).
共重合ポリアミド系樹脂粒子全体において、粒子径と頻度との関係を示す粒度分布は、1又は2以上の複数のピークを有していてもよく、ショルダー部を有していてもよい。微粒子(例えば、粒径0.01〜300μmの微粒子、好ましくは粒径0.1〜200μmの微粒子)は、共重合ポリアミド系樹脂粒子全体の0.01〜100%を占めていてもよく、大部分(例えば、70〜100%、好ましくは80〜99%)又は小部分(例えば、0.1〜30%、好ましくは1〜20%)を占めていてもよい。なお、全粒子に対して微粒子の占める割合(数割合)は、例えば、後述の方法により測定可能な粒度分布に基づいて算出できる。 In the entire copolymerized polyamide resin particles, the particle size distribution indicating the relationship between the particle size and the frequency may have one or a plurality of peaks, or may have a shoulder portion. Fine particles (for example, fine particles having a particle size of 0.01 to 300 μm, preferably fine particles having a particle size of 0.1 to 200 μm) may occupy 0.01 to 100% of the entire copolymerized polyamide resin particles. It may occupy a part (for example, 70 to 100%, preferably 80 to 99%) or a small part (for example, 0.1 to 30%, preferably 1 to 20%). In addition, the ratio (number ratio) which microparticles occupy with respect to all the particles can be calculated based on the particle size distribution measurable by the method mentioned later, for example.
共重合ポリアミド系樹脂粒子全体の平均粒子径(D50)は、1mm以下(例えば、1〜800μm、好ましくは10〜750μm程度)の範囲から選択でき、例えば、30〜750μm、好ましくは35〜700μm、さらに好ましくは40〜650μm程度である。また、共重合ポリアミド系樹脂粒子全体の粒度積算分布30%径(D30)は、例えば、25〜600μm、好ましくは30〜550μm程度である。さらに、共重合ポリアミド系樹脂粒子全体の粒度積算分布70%径(D70)は、例えば、50〜850μm、好ましくは55〜800μm程度である。共重合ポリアミド系樹脂粒子全体において、粒度積算分布70%径(D70)は、粒度積算分布30%径(D30)に対して(D70/D30)、例えば、1.05〜2.5倍、好ましくは1.1〜2.2倍、さらに好ましくは1.2〜2倍程度である。
The average particle diameter (D 50 ) of the entire copolymerized polyamide resin particles can be selected from a range of 1 mm or less (for example, about 1 to 800 μm, preferably about 10 to 750 μm), for example, 30 to 750 μm, preferably 35 to 700 μm. More preferably, it is about 40-650 micrometers. The total particle size distribution 30% diameter (D 30 ) of the entire copolymerized polyamide resin particles is, for example, about 25 to 600 μm, preferably about 30 to 550 μm. Furthermore, the 70% diameter (D 70 ) of the particle size cumulative distribution of the entire copolymerized polyamide resin particles is, for example, about 50 to 850 μm, preferably about 55 to 800 μm. Throughout copolymerized polyamide resin particles, the particle size
なお、共重合ポリアミド系樹脂粒子の粒径範囲(粒度)、平均粒子径及び粒度分布は、レーザー回折法(光散乱法)を利用した測定装置、例えば、ミー散乱理論に基づく測定装置[HORIBA LA920((株)堀場製作所製)など]を用いて測定できる。 The particle size range (particle size), average particle size, and particle size distribution of the copolymerized polyamide resin particles are measured using a laser diffraction method (light scattering method), for example, a measurement device based on the Mie scattering theory [HORIBA LA920. (Made by HORIBA, Ltd.), etc.].
共重合ポリアミド系樹脂粒子全体(又は粉末状封止剤)の安息角は、適度な粉体流動性を有するとともに、デバイス又は基板の所定部に安定して、かつ効率よく堆積できる限り特に制限されず、例えば、JIS R9301−2−2に準拠して、30〜65°、好ましくは32〜60°、さらに好ましくは35〜55°(例えば、40〜50°)程度である。また、共重合ポリアミド系樹脂粒子全体(又は粉末状封止剤)の崩壊角は、例えば、10〜30°、好ましくは12〜28°、さらに好ましくは15〜25°程度であってもよい。なお、安息角及び崩壊角は、慣用の装置(例えば、ホソカワミクロン(株)製、パウダーテスターPT−Eなど)を用いて測定できる。本発明では、共重合ポリアミド系樹脂粒子全体の差角(安息角−崩壊角)を大きくすることができ、デバイス又は基板に安定して堆積できる。 The angle of repose of the entire copolymerized polyamide resin particles (or powder sealant) is particularly limited as long as it has an appropriate powder fluidity and can be stably and efficiently deposited on a predetermined part of the device or substrate. For example, it is 30 to 65 °, preferably 32 to 60 °, more preferably about 35 to 55 ° (for example, 40 to 50 °) in accordance with JIS R9301-2-2. Further, the collapse angle of the entire copolymerized polyamide resin particles (or powder sealant) may be, for example, about 10 to 30 °, preferably about 12 to 28 °, and more preferably about 15 to 25 °. The repose angle and the collapse angle can be measured using a conventional apparatus (for example, a powder tester PT-E manufactured by Hosokawa Micron Corporation). In the present invention, the difference angle (repose angle-decay angle) of the entire copolymerized polyamide resin particles can be increased, and can be stably deposited on a device or a substrate.
共重合ポリアミド系樹脂粒子の形状は、特に制限されず、例えば、無定形(粉砕物など)、球体状、楕円体状などであってもよい。 The shape of the copolymerized polyamide resin particles is not particularly limited, and may be, for example, amorphous (such as a pulverized product), sphere, or ellipsoid.
共重合ポリアミド系樹脂粒子を構成する共重合ポリアミド系樹脂には、共重合ポリアミド(熱可塑性共重合ポリアミド)とポリアミドエラストマーとが含まれる。 The copolymerized polyamide resin constituting the copolymerized polyamide resin particles includes a copolymerized polyamide (thermoplastic copolymerized polyamide) and a polyamide elastomer.
熱可塑性共重合ポリアミドは、脂環族共重合ポリアミドであってもよいが、通常、脂肪族共重合ポリアミドである場合が多い。共重合ポリアミドは、ジアミン成分、ジカルボン酸成分、ラクタム成分、アミノカルボン酸成分を組み合わせて形成できる。なお、ジアミン成分及びジカルボン酸成分の双方の成分は、共重合ポリアミドのアミド結合を形成し、ラクタム成分及びアミノカルボン酸成分はそれぞれ単独で共重合ポリアミドのアミド結合を形成可能である。そのため、一対の成分(ジアミン成分とジカルボン酸成分とを組合せた両成分)、ラクタム成分、及びアミノカルボン酸成分は、それぞれ、アミド形成成分ということもできる。このような観点から、共重合ポリアミドは、一対の成分(ジアミン成分とジカルボン酸成分とを組合せた両成分)、ラクタム成分、及びアミノカルボン酸成分から選択された複数のアミド形成成分の共重合により得ることができる。また、共重合ポリアミドは、一対の成分(ジアミン成分とジカルボン酸成分とを組合せた両成分)、ラクタム成分、及びアミノカルボン酸成分から選択された少なくとも一種のアミド形成成分と、このアミド形成成分と異種の(又は同種であって炭素数の異なる)アミド形成成分との共重合により得ることができる。また、ラクタム成分とアミノカルボン酸成分とは、炭素数及び分岐鎖構造が共通していれば等価な成分として取り扱ってもよい。そのため、ジアミン成分とジカルボン酸成分とを組合せた一対の成分を第1のアミド形成成分、ラクタム成分及びアミノカルボン酸成分を第2のアミド形成成分とすると、例えば、共重合ポリアミドは、第1のアミド形成成分(ジアミン成分及びジカルボン酸成分)による共重合ポリアミドであって、ジアミン成分及びジカルボン酸成分のうち少なくとも一方の成分が炭素数の異なる複数の成分で構成された共重合ポリアミド;第1のアミド形成成分(ジアミン成分及びジカルボン酸成分)と、第2のアミド形成成分(ラクタム成分及びアミノカルボン酸成分から選択された少なくとも一種の成分)との共重合ポリアミド;第2のアミド形成成分(ラクタム成分及びアミノカルボン酸成分から選択された少なくとも一種の成分)で形成された共重合ポリアミドであって、ラクタム成分及びアミノカルボン酸成分のうち一方の成分が炭素数の異なる複数の成分で構成された共重合ポリアミド;炭素数が同一又は互いに異なるラクタム成分とアミノカルボン酸成分との共重合ポリアミドなどであってもよい。 The thermoplastic copolymer polyamide may be an alicyclic copolymer polyamide, but is usually an aliphatic copolymer polyamide in many cases. The copolymerized polyamide can be formed by combining a diamine component, a dicarboxylic acid component, a lactam component, and an aminocarboxylic acid component. Both the diamine component and the dicarboxylic acid component can form an amide bond of the copolymerized polyamide, and the lactam component and the aminocarboxylic acid component can each independently form an amide bond of the copolymerized polyamide. Therefore, a pair of components (both components combining a diamine component and a dicarboxylic acid component), a lactam component, and an aminocarboxylic acid component can also be referred to as amide-forming components. From such a viewpoint, the copolymerized polyamide is obtained by copolymerizing a plurality of amide-forming components selected from a pair of components (both components obtained by combining a diamine component and a dicarboxylic acid component), a lactam component, and an aminocarboxylic acid component. Can be obtained. The copolyamide is composed of at least one amide-forming component selected from a pair of components (both components obtained by combining a diamine component and a dicarboxylic acid component), a lactam component, and an aminocarboxylic acid component; It can be obtained by copolymerization with different (or the same type and different carbon number) amide-forming components. In addition, the lactam component and the aminocarboxylic acid component may be handled as equivalent components as long as they have the same carbon number and branched chain structure. Therefore, when a pair of components obtained by combining a diamine component and a dicarboxylic acid component is a first amide-forming component, and a lactam component and an aminocarboxylic acid component are second amide-forming components, for example, A copolymerized polyamide comprising an amide-forming component (a diamine component and a dicarboxylic acid component), wherein at least one of the diamine component and the dicarboxylic acid component is composed of a plurality of components having different carbon numbers; A copolymerized polyamide of an amide-forming component (diamine component and dicarboxylic acid component) and a second amide-forming component (at least one component selected from a lactam component and an aminocarboxylic acid component); a second amide-forming component (lactam) Component and at least one component selected from aminocarboxylic acid components) A copolymerized polyamide, wherein one of a lactam component and an aminocarboxylic acid component is composed of a plurality of components having different carbon numbers; a lactam component and an aminocarboxylic acid component having the same or different carbon number; It may be a copolyamide or the like.
ジアミン成分としては、脂肪族ジアミン又はアルキレンジアミン成分(例えば、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ドデカンジアミンなどのC4−16アルキレンジアミンなど)などが例示できる。これらのジアミン成分は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましいジアミン成分は、少なくともアルキレンジアミン(好ましくはC6−14アルキレンジアミン、さらに好ましくはC6−12アルキレンジアミン)を含んでいる。 Examples of the diamine component include aliphatic diamine or alkylene diamine components (for example, C 4-16 alkylene diamine such as tetramethylene diamine, hexamethylene diamine, trimethyl hexamethylene diamine, octamethylene diamine, and dodecane diamine). These diamine components can be used alone or in combination of two or more. A preferred diamine component contains at least an alkylene diamine (preferably a C 6-14 alkylene diamine, more preferably a C 6-12 alkylene diamine).
なお、必要であれば、ジアミン成分として、脂環族ジアミン成分(ジアミノシクロヘキサンなどのジアミノシクロアルカン(ジアミノC5−10シクロアルカンなど);ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4’−アミノシクロヘキシル)プロパンなどのビス(アミノシクロアルキル)アルカン[ビス(アミノC5−8シクロアルキル)C1−3アルカンなど];水添キシリレンジアミンなど)、芳香族ジアミン成分(メタキシリレンジアミンなど)を併用してもよい。ジアミン成分(例えば、脂環族ジアミン成分)は、アルキル基(メチル基、エチル基などのC1−4アルキル基)などの置換基を有していてもよい。 If necessary, as the diamine component, an alicyclic diamine component (diaminocycloalkane such as diaminocyclohexane (diamino C 5-10 cycloalkane etc.); bis (4-aminocyclohexyl) methane, bis (4-amino- Bis (aminocycloalkyl) alkanes such as 3-methylcyclohexyl) methane and 2,2-bis (4′-aminocyclohexyl) propane [bis (aminoC 5-8 cycloalkyl) C 1-3 alkane etc.]; hydrogenated Xylylenediamine etc.) and aromatic diamine components (metaxylylenediamine etc.) may be used in combination. The diamine component (for example, alicyclic diamine component) may have a substituent such as an alkyl group (C 1-4 alkyl group such as a methyl group or an ethyl group).
アルキレンジアミン成分の割合は、ジアミン成分全体に対して、50〜100モル%、好ましくは60〜100モル%(例えば、70〜97モル%)、さらに好ましくは75〜100モル%(例えば、80〜95モル%)程度であってもよい。
The proportion of the alkylene diamine component is 50 to 100 mol%, preferably 60 to 100 mol% (
ジカルボン酸成分としては、脂肪族ジカルボン酸又はアルカンジカルボン酸成分(例えば、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸又はその水素添加物などの炭素数4〜36程度のジカルボン酸又はC4−36アルカンジカルボン酸など)などが挙げられる。これらのジカルボン酸成分は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましいジカルボン酸成分は、C6−36アルカンジカルボン酸(例えば、C6−16アルカンジカルボン酸、好ましくはC8−14アルカンジカルボン酸など)を含んでいる。さらに、必要であれば、脂環族ジカルボン酸成分(シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸などのC5−10シクロアルカン−ジカルボン酸など)、芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸など)を併用してもよい。なお、ジアミン成分及びジカルボン酸成分として、脂環族ジアミン成分及び/又は脂環族ジカルボン酸成分と共に、前記例示の脂肪族ジアミン成分及び/又は脂肪族ジカルボン酸成分を併用して得られた脂環族ポリアミド樹脂は、いわゆる透明ポリアミドとして知られており、透明性が高い。 As the dicarboxylic acid component, aliphatic dicarboxylic acid or alkane dicarboxylic acid component (for example, about 4 to 36 carbon atoms such as adipic acid, pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, dimer acid or hydrogenated product thereof) Dicarboxylic acid or C4-36 alkanedicarboxylic acid). These dicarboxylic acid components can be used alone or in combination of two or more. Preferred dicarboxylic acid components include C 6-36 alkane dicarboxylic acids (eg, C 6-16 alkane dicarboxylic acids, preferably C 8-14 alkane dicarboxylic acids, etc.). Furthermore, if necessary, an alicyclic dicarboxylic acid component (C 5-10 cycloalkane-dicarboxylic acid such as cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid, cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid, etc.), aromatic dicarboxylic acid ( Terephthalic acid, isophthalic acid, etc.) may be used in combination. As the diamine component and dicarboxylic acid component, an alicyclic ring obtained by using the aliphatic diamine component and / or aliphatic dicarboxylic acid component exemplified above together with the alicyclic diamine component and / or alicyclic dicarboxylic acid component. The group polyamide resin is known as so-called transparent polyamide, and has high transparency.
アルカンジカルボン酸成分の割合は、ジカルボン酸成分に対して、50〜100モル%、好ましくは60〜100モル%(例えば、70〜97モル%)、さらに好ましくは75〜100モル%(例えば、80〜95モル%)程度であってもよい。
The proportion of the alkanedicarboxylic acid component is 50 to 100 mol%, preferably 60 to 100 mol% (
第1のアミド形成成分において、ジアミン成分は、ジカルボン酸成分1モルに対して0.8〜1.2モル、好ましくは0.9〜1.1モル程度の範囲で使用できる。 In the first amide-forming component, the diamine component can be used in a range of about 0.8 to 1.2 mol, preferably about 0.9 to 1.1 mol, with respect to 1 mol of the dicarboxylic acid component.
ラクタム成分としては、例えば、δ−バレロラクタム、ε−カプロラクタム、ω−ヘプタラクタム、ω−オクタラクタム、ω−デカンラクタム、ω−ウンデカンラクタム、ω−ラウロラクタム(又はω−ラウリンラクタム)などのC4−20ラクタムなどが例示でき、アミノカルボン酸成分としては、例えば、ω−アミノデカン酸、ω−アミノウンデカン酸、ω−アミノドデカン酸などのC6−20アミノカルボン酸などが例示できる。これらのラクタム成分及びアミノカルボン酸成分も単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the lactam component include C such as δ-valerolactam, ε-caprolactam, ω-heptalactam, ω-octacactam, ω-decane lactam, ω-undecanactam, ω-laurolactam (or ω-laurinlactam). such as 4-20 lactam. Examples of the aminocarboxylic acid component, for example, .omega.-aminodecanoic acid, .omega.-aminoundecanoic acid, C 6-20 aminocarboxylic acids such as .omega.-aminododecanoic acid can be exemplified. These lactam components and aminocarboxylic acid components can also be used alone or in combination of two or more.
好ましいラクタム成分は、C6−19ラクタム、好ましくはC8−17ラクタム、さらに好ましくはC10−15ラクタム(ラウロラクタムなど)を含んでいる。また、好ましいアミノカルボン酸は、アミノC6−19アルカンカルボン酸、好ましくはアミノC8−17アルカンカルボン酸、さらに好ましくはアミノC10−15アルカンカルボン酸(アミノウンデカン酸、アミノドデカン酸など)を含んでいる。 Preferred lactam components include C 6-19 lactam, preferably C 8-17 lactam, more preferably C 10-15 lactam (such as laurolactam). Preferred aminocarboxylic acids are amino C 6-19 alkanecarboxylic acids, preferably amino C 8-17 alkanecarboxylic acids, more preferably amino C 10-15 alkanecarboxylic acids (aminoundecanoic acid, aminododecanoic acid, etc.). Contains.
なお、共重合ポリアミドは、少量のポリカルボン酸成分及び/又はポリアミン成分を用い、分岐鎖構造を導入したポリアミドなどの変性ポリアミドであってもよい。 The copolymerized polyamide may be a modified polyamide such as a polyamide into which a branched chain structure is introduced using a small amount of a polycarboxylic acid component and / or a polyamine component.
第1のアミド形成成分(ジアミン成分とジカルボン酸成分とを組合せた両成分)、第2のアミド形成成分(ラクタム成分、及びアミノカルボン酸成分から選択された少なくとも一種のアミド形成成分)との割合(モル比)は、前者/後者=100/0〜0/100の範囲から選択でき、例えば、90/10〜0/100(例えば、80/20〜5/95)、好ましくは75/25〜10/90(例えば、70/30〜15/85)、さらに好ましくは60/40〜20/80程度であってもよい。 Ratio of first amide forming component (both components combining diamine component and dicarboxylic acid component), second amide forming component (at least one amide forming component selected from lactam component and aminocarboxylic acid component) (Molar ratio) can be selected from the range of the former / the latter = 100/0 to 0/100, for example, 90/10 to 0/100 (for example, 80/20 to 5/95), preferably 75/25 It may be about 10/90 (for example, 70/30 to 15/85), more preferably about 60/40 to 20/80.
さらに、共重合ポリアミドは、長鎖脂肪鎖(長鎖アルキレン基又はアルケニレン基)を有する長鎖成分を構成単位として含む(又は長鎖成分に由来する単位を含む)のが好ましい。このような長鎖成分としては、炭素数8〜36程度の長鎖脂肪鎖又はアルキレン基(好ましくはC8−16アルキレン基、さらに好ましくはC10−14アルキレン基)を有する成分が含まれる。長鎖成分としては、例えば、C8−18アルカンジカルボン酸(好ましくはC10−16アルカンジカルボン酸、さらに好ましくはC10−14アルカンジカルボン酸など)、C9−17ラクタム(好ましくはラウロラクタムなどのC11−15ラクタム)及びアミノC9−17アルカンカルボン酸(好ましくはアミノウンデカン酸、アミノドデカン酸などのアミノC11−15アルカンカルボン酸)から選択された少なくとも一種の成分が例示できる。これらの長鎖成分は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの長鎖成分のうち、ラクタム成分及び/又はアミノアルカンカルボン酸成分、例えば、ラウロラクタム、アミノウンデカン酸及びアミノドデカン酸から選択された少なくとも一種の成分を用いる場合が多い。このような成分由来の単位を含む共重合ポリアミドは、耐水性が高いとともに、電子デバイスに対する密着性、耐摩耗性及び耐衝撃性に優れており、電子デバイスを有効に保護できる。 Furthermore, the copolymerized polyamide preferably includes a long chain component having a long chain fatty chain (long chain alkylene group or alkenylene group) as a constituent unit (or includes a unit derived from the long chain component). Such a long chain component includes a component having a long chain fatty chain having about 8 to 36 carbon atoms or an alkylene group (preferably a C 8-16 alkylene group, more preferably a C 10-14 alkylene group). Examples of the long chain component include C 8-18 alkane dicarboxylic acid (preferably C 10-16 alkane dicarboxylic acid, more preferably C 10-14 alkane dicarboxylic acid), C 9-17 lactam (preferably laurolactam, etc.). C 11-15 lactam) and amino C 9-17 alkanecarboxylic acid (preferably amino C 11-15 alkanecarboxylic acid such as aminoundecanoic acid and aminododecanoic acid). These long chain components can be used alone or in combination of two or more. Of these long-chain components, at least one component selected from a lactam component and / or an aminoalkanecarboxylic acid component such as laurolactam, aminoundecanoic acid and aminododecanoic acid is often used. Copolyamides containing such component-derived units have high water resistance and are excellent in adhesion, wear resistance and impact resistance to electronic devices, and can effectively protect electronic devices.
長鎖成分の割合は、共重合ポリアミドを形成する単量体成分全体に対して、10〜100モル%(例えば、25〜95モル%)、好ましくは30〜90モル%(例えば、40〜85モル%)、さらに好ましくは50〜80モル%(例えば、55〜75モル%)程度であってもよい。 The ratio of the long chain component is 10 to 100 mol% (for example, 25 to 95 mol%), preferably 30 to 90 mol% (for example, 40 to 85 mol%) with respect to the entire monomer component forming the copolymerized polyamide. Mol%), more preferably about 50 to 80 mol% (for example, 55 to 75 mol%).
さらに、共重合ポリアミドは、前記アミド形成成分の多元共重合体、例えば、二元共重合体〜五元共重合体などであってもよいが、通常、二元共重合体〜四元共重合体、特に二元共重合体又は三元共重合体である場合が多い。 Further, the copolyamide may be a multi-component copolymer of the amide-forming component, for example, a binary copolymer to a quaternary copolymer, but is usually a binary copolymer to a quaternary copolymer. In many cases, the polymer is a binary copolymer or a ternary copolymer.
共重合ポリアミドは、例えば、ポリアミド11,ポリアミド12、ポリアミド610、ポリアミド612及びポリアミド1010から選択されたアミド形成成分を構成単位として含む(又は上記アミド形成成分に由来する単位を含む)場合が多い。共重合ポリアミドは、これらの複数のアミド形成成分の共重合体であってもよく、上記1又は複数のアミド形成成分と、他のアミド形成成分(ポリアミド6及びポリアミド66から選択された少なくとも1つのアミド形成成分など)との共重合体であってもよい。具体的には、共重合ポリアミドとしては、例えば、コポリアミド6/11、コポリアミド6/12、コポリアミド66/11、コポリアミド66/12、コポリアミド610/11、コポリアミド612/11、コポリアミド610/12、コポリアミド612/12、コポリアミド1010/12、コポリアミド6/11/610、コポリアミド6/11/612、コポリアミド6/12/610、コポリアミド6/12/612などが挙げられる。なお、これらの共重合ポリアミドにおいて、スラッシュ「/」で分離された成分はアミド形成成分を示している。 The copolymerized polyamide often includes, for example, an amide-forming component selected from polyamide 11, polyamide 12, polyamide 610, polyamide 612, and polyamide 1010 as a constituent unit (or a unit derived from the amide-forming component). The copolymerized polyamide may be a copolymer of a plurality of these amide-forming components, and the one or more amide-forming components and other amide-forming components (at least one selected from polyamide 6 and polyamide 66). It may be a copolymer with an amide-forming component or the like). Specifically, examples of the copolyamide include copolyamide 6/11, copolyamide 6/12, copolyamide 66/11, copolyamide 66/12, copolyamide 610/11, copolyamide 612/11, copolyamide Polyamide 610/12, copolyamide 612/12, copolyamide 10/10/12, copolyamide 6/11/610, copolyamide 6/11/612, copolyamide 6/12/610, copolyamide 6/12/612, etc. Can be mentioned. In these copolyamides, the component separated by a slash “/” indicates an amide-forming component.
ポリアミドエラストマー(ポリアミドブロック共重合体)としては、ハードセグメント(又はハードブロック)としてのポリアミドとソフトセグメント(又はソフトブロック)とで構成されたポリアミドブロック共重合体、例えば、ポリアミド−ポリエーテルブロック共重合体、ポリアミド−ポリエステルブロック共重合体、ポリアミド−ポリカーボネートブロック共重合体などが挙げられる。 As the polyamide elastomer (polyamide block copolymer), a polyamide block copolymer composed of polyamide as a hard segment (or hard block) and a soft segment (or soft block), for example, polyamide-polyether block copolymer Examples thereof include a polymer, a polyamide-polyester block copolymer, and a polyamide-polycarbonate block copolymer.
ハードセグメントを構成するポリアミドとしては、1又は複数の前記アミド形成成分の単独又は共重合体(ホモポリアミド、コポリアミド)であってもよい。ハードセグメントとしてのホモポリアミドは、前記例示の長鎖成分を構成単位として含んでいてもよく、好ましい長鎖成分は前記と同様である。代表的なホモポリアミドは、ポリアミド11,ポリアミド12、ポリアミド610、ポリアミド612、ポリアミド1010、ポリアミド1012などが挙げられる。また、ハードセグメントとしてのコポリアミドは、前記例示のコポリアミドと同様である。これらのポリアミドのうち、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド1010、ポリアミド1012などのホモポリアミドが好ましい。 The polyamide constituting the hard segment may be a homopolymer or a copolymer (homopolyamide, copolyamide) of one or more amide-forming components. The homopolyamide as the hard segment may contain the above-exemplified long chain component as a constituent unit, and the preferred long chain component is the same as described above. Typical homopolyamides include polyamide 11, polyamide 12, polyamide 610, polyamide 612, polyamide 1010, polyamide 1012, and the like. Further, the copolyamide as the hard segment is the same as the copolyamide exemplified above. Of these polyamides, homopolyamides such as polyamide 11, polyamide 12, polyamide 1010, and polyamide 1012 are preferred.
代表的なポリアミドエラストマーは、ポリアミド−ポリエーテルブロック共重合体である。ポリアミド−ポリエーテルブロック共重合体において、ポリエーテル(ポリエーテルブロック)としては、例えば、ポリアルキレングリコール(例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリC2−6アルキレングリコール、好ましくはポリC2−4アルキレングリコール)などが挙げられる。 A typical polyamide elastomer is a polyamide-polyether block copolymer. In the polyamide-polyether block copolymer, as the polyether (polyether block), for example, polyalkylene glycol (for example, poly C 2-6 alkylene glycol such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, preferably Poly C2-4 alkylene glycol) and the like.
このようなポリアミド−ポリエーテルブロック共重合体としては、例えば、反応性末端基を有するポリアミドブロックと反応性末端基を有するポリエーテルブロックとの共重縮合により得られるブロック共重合体、例えば、ポリエーテルアミド[例えば、ジアミン末端を有するポリアミドブロックとジカルボキシル末端を有するポリアルキレングリコールブロック(又はポリオキシアルキレンブロック)とのブロック共重合体、ジカルボキシル末端を有するポリアミドブロックとジアミン末端を有するポリアルキレングリコールブロック(又はポリオキシアルキレンブロック)とのブロック共重合体など]、ポリエーテルエステルアミド[ジカルボキシル末端を有するポリアミドブロックとジヒドロキシ末端を有するポリアルキレングリコールブロック(又はポリオキシアルキレンブロック)とのブロック共重合体など]などが挙げられる。なお、ポリアミドエラストマーは、エステル結合を有していてもよいが、耐酸性を向上させるため、エステル結合を有していなくてもよい。また、市販のポリアミドエラストマーは、通常、アミノ基をほとんど有していない場合が多い。 Examples of such a polyamide-polyether block copolymer include a block copolymer obtained by copolycondensation of a polyamide block having a reactive end group and a polyether block having a reactive end group. Ether amide [for example, a block copolymer of a polyamide block having a diamine end and a polyalkylene glycol block having a dicarboxyl end (or a polyoxyalkylene block), a polyamide block having a dicarboxyl end and a polyalkylene glycol having a diamine end Block (or block copolymer with polyoxyalkylene block, etc.)], polyether ester amide [polyamide block having dicarboxyl terminal and polyalkylene glycol having dihydroxy terminal] Block (or polyoxyalkylene block) block copolymers], and others. The polyamide elastomer may have an ester bond, but may not have an ester bond in order to improve acid resistance. Also, commercially available polyamide elastomers usually have few amino groups.
ポリアミドエラストマー(ポリアミドブロック共重合体)において、ソフトセグメント(ポリエーテルブロック、ポリエステルブロック、ポリカーボネートブロックなど)の数平均分子量は、例えば、100〜10000程度の範囲から選択でき、好ましくは300〜6000(例えば、300〜5000)、さらに好ましくは500〜4000(例えば、500〜3000)、特に1000〜2000程度であってもよい。 In the polyamide elastomer (polyamide block copolymer), the number average molecular weight of the soft segment (polyether block, polyester block, polycarbonate block, etc.) can be selected from a range of about 100 to 10000, preferably 300 to 6000 (for example, 300 to 5000), more preferably 500 to 4000 (for example, 500 to 3000), particularly about 1000 to 2000.
また、ポリアミドエラストマー(ポリアミドブロック共重合体)において、ポリアミドブロック(ポリアミドセグメント)と、ソフトセグメントブロックとの割合(重量比)は、例えば、前者/後者=75/25〜10/90、好ましくは70/30〜15/85、さらに好ましくは60/40〜20/80(例えば、50/50〜25/75)程度であってもよい。 In the polyamide elastomer (polyamide block copolymer), the ratio (weight ratio) between the polyamide block (polyamide segment) and the soft segment block is, for example, the former / the latter = 75/25 to 10/90, preferably 70. / 30 to 15/85, more preferably about 60/40 to 20/80 (for example, 50/50 to 25/75).
これらの共重合ポリアミド系樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせてもよい。これらの共重合ポリアミド系樹脂のうち、電子デバイスの封止性の点から、共重合ポリアミド(非ポリアミドエラストマー又はポリアミドランダム共重合体)が好ましく、特に、ポリアミド12に由来するアミド形成成分を構成単位として含む共重合ポリアミドが好ましい。 These copolymer polyamide resins may be used alone or in combination of two or more. Of these copolymer polyamide resins, copolymer polyamides (non-polyamide elastomers or polyamide random copolymers) are preferable from the viewpoint of sealing properties of electronic devices. In particular, amide-forming components derived from polyamide 12 are constituent units. Copolyamides included as are preferred.
共重合ポリアミド系樹脂のアミノ基濃度は、特に制限されず、例えば、10〜300mmol/kg、好ましくは15〜280mmol/kg、さらに好ましくは20〜250mmol/kg程度であってもよい。 The amino group concentration of the copolymerized polyamide resin is not particularly limited, and may be, for example, about 10 to 300 mmol / kg, preferably about 15 to 280 mmol / kg, more preferably about 20 to 250 mmol / kg.
共重合ポリアミド系樹脂のカルボキシル基濃度は、特に制限されず、例えば、10〜300mmol/kg、好ましくは15〜280mmol/kg、さらに好ましくは20〜250mmol/kg程度であってもよい。共重合ポリアミド系樹脂のカルボキシル基濃度が高いと、熱安定性が高い点で有利である。 The carboxyl group concentration of the copolymerized polyamide resin is not particularly limited, and may be, for example, about 10 to 300 mmol / kg, preferably about 15 to 280 mmol / kg, more preferably about 20 to 250 mmol / kg. A high carboxyl group concentration in the copolymerized polyamide resin is advantageous in that the thermal stability is high.
共重合ポリアミド系樹脂の数平均分子量は、例えば、5000〜200000程度の範囲から選択でき、例えば、6000〜100000、好ましくは7000〜70000(例えば、7000〜15000)、さらに好ましくは8000〜40000(例えば、8000〜12000)程度であってもよく、通常、8000〜30000程度である。共重合ポリアミド系樹脂の分子量は、HFIP(ヘキサフルオロイソプロパノール)を溶媒とし、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより、ポリメタクリル酸メチル換算で測定できる。 The number average molecular weight of the copolymerized polyamide-based resin can be selected from the range of, for example, about 5000 to 200000, for example, 6000 to 100,000, preferably 7000 to 70000 (for example, 7000 to 15000), and more preferably 8000 to 40000 (for example, 8000-12000), usually about 8000-30000. The molecular weight of the copolymerized polyamide resin can be measured in terms of polymethyl methacrylate by gel permeation chromatography using HFIP (hexafluoroisopropanol) as a solvent.
共重合ポリアミド系樹脂のアミド結合含有量は、共重合ポリアミド系樹脂1分子当たり、例えば、100ユニット以下の範囲から選択でき、デバイスの封止性の点から、30〜90ユニット、好ましくは40〜80ユニット、さらに好ましくは50〜70ユニット(例えば、55〜60ユニット)程度であってもよい。なお、上記アミド結合含有量は、例えば、数平均分子量を繰り返し単位(1ユニット)の分子量で除することにより、算出できる。 The amide bond content of the copolymerized polyamide-based resin can be selected, for example, from a range of 100 units or less per molecule of the copolymerized polyamide-based resin. From the viewpoint of device sealing properties, 30 to 90 units, preferably 40 to It may be about 80 units, more preferably about 50 to 70 units (for example, 55 to 60 units). The amide bond content can be calculated, for example, by dividing the number average molecular weight by the molecular weight of the repeating unit (1 unit).
共重合ポリアミド系樹脂は、非晶性であってもよく、結晶性を有していてもよい。共重合ポリアミド系樹脂の結晶化度は、例えば、20%以下、好ましくは10%以下であってもよい。なお、結晶化度は、慣用の方法、例えば、密度や融解熱に基づく測定法、X線回折法、赤外吸収法などにより測定できる。 The copolymerized polyamide resin may be amorphous or may have crystallinity. The crystallinity of the copolymerized polyamide resin may be, for example, 20% or less, preferably 10% or less. The crystallinity can be measured by a conventional method, for example, a measurement method based on density or heat of fusion, an X-ray diffraction method, an infrared absorption method, or the like.
なお、非晶性共重合ポリアミド系樹脂の熱溶融性は、示差走査熱量計により軟化温度として測定でき、結晶性の共重合ポリアミド系樹脂の融点は、示差走査熱量計(DSC)により測定できる。 The heat melting property of the amorphous copolymerized polyamide resin can be measured as a softening temperature with a differential scanning calorimeter, and the melting point of the crystalline copolymerized polyamide resin can be measured with a differential scanning calorimeter (DSC).
共重合ポリアミド系樹脂(又は共重合ポリアミド又はポリアミドエラストマー)の融点又は軟化点は、75〜160℃(例えば、80〜150℃)、好ましくは90〜140℃(例えば、95〜135℃)、さらに好ましくは100〜130℃程度であってもよく、通常、90〜160℃(例えば、100〜150℃)程度である。共重合ポリアミド系樹脂が低い融点又は軟化点を有するため、溶融してデバイス表面の凹凸部(段差のコーナー部など)などの表面形状に追従させるのに有用である。なお、共重合ポリアミド系樹脂の融点は、各成分が相溶し、DSCで単一のピークが生じる場合、単一のピークに対応する温度を意味し、各成分が非相溶であり、DSCで複数のピークが生じる場合、複数のピークのうち高温側のピークに対応する温度を意味する。 The melting point or softening point of the copolymerized polyamide resin (or copolymerized polyamide or polyamide elastomer) is 75 to 160 ° C. (for example, 80 to 150 ° C.), preferably 90 to 140 ° C. (for example, 95 to 135 ° C.), Preferably, it may be about 100 to 130 ° C, and is usually about 90 to 160 ° C (for example, 100 to 150 ° C). Since the copolymerized polyamide-based resin has a low melting point or softening point, it is useful for melting and following the surface shape of the device surface, such as an uneven part (such as a corner part of a step). The melting point of the copolymerized polyamide resin means a temperature corresponding to a single peak when each component is compatible and a single peak is generated in DSC, each component is incompatible, and DSC When a plurality of peaks occur, the temperature corresponding to the peak on the high temperature side among the plurality of peaks is meant.
共重合ポリアミド系樹脂は、デバイス表面の凹凸部などの表面形状に追従するとともに、隙間などに侵入可能とするため、高い溶融流動性を有するのが好ましい。共重合ポリアミド系樹脂のメルトフローレート(MFR)は、温度160℃及び荷重2.16kgにおいて、1〜350g/10分、好ましくは3〜300g/10分、さらに好ましくは5〜250g/10分程度であってもよい。 The copolymerized polyamide-based resin preferably follows a surface shape such as a concavo-convex portion on the surface of the device and has high melt fluidity so as to be able to enter a gap. The melt flow rate (MFR) of the copolymerized polyamide resin is 1 to 350 g / 10 minutes, preferably 3 to 300 g / 10 minutes, more preferably about 5 to 250 g / 10 minutes at a temperature of 160 ° C. and a load of 2.16 kg. It may be.
なお、共重合ポリアミド系樹脂には、密着性などの特性を損なわない範囲で、ホモポリアミド(例えば、前記共重合ポリアミドを形成する成分によるホモポリアミドなど)を添加してもよい。ホモポリアミドの割合は、共重合ポリアミド系樹脂100重量部に対して、30重量部以下(例えば、1〜25重量部)、好ましくは2〜20重量部、さらに好ましくは3〜15重量部程度であってもよい。 In addition, you may add homopolyamide (For example, the homopolyamide by the component which forms the said copolyamide etc.) to the copolyamide-type resin in the range which does not impair the characteristics, such as adhesiveness. The proportion of the homopolyamide is 30 parts by weight or less (for example, 1 to 25 parts by weight), preferably 2 to 20 parts by weight, more preferably about 3 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymerized polyamide resin. There may be.
また、共重合ポリアミド系樹脂は、必要であれば、他の樹脂、例えば、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体などの熱可塑性樹脂などと併用してもよい。他の樹脂の割合は、例えば、共重合ポリアミド系樹脂100重量部に対して、100重量部以下(例えば、1〜80重量部程度)、好ましくは2〜70重量部、さらに好ましくは2〜50重量部、特に30重量部以下(例えば、3〜20重量部程度)であってもよい。すなわち、粉末状封止剤の樹脂成分全体に対して、共重合ポリアミド系樹脂の割合は、50〜100重量%、好ましくは60〜100重量%(例えば、70〜99.9重量%)、さらに好ましくは80〜100重量%(例えば、90〜99重量%)程度であってもよい。 The copolymerized polyamide-based resin may be used in combination with other resins, for example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a thermoplastic resin such as an ethylene-vinyl acetate copolymer, if necessary. The ratio of the other resin is, for example, 100 parts by weight or less (for example, about 1 to 80 parts by weight), preferably 2 to 70 parts by weight, and more preferably 2 to 50 parts with respect to 100 parts by weight of the copolymerized polyamide resin. It may be 30 parts by weight or less (for example, about 3 to 20 parts by weight). That is, the proportion of the copolymerized polyamide-based resin is 50 to 100% by weight, preferably 60 to 100% by weight (for example, 70 to 99.9% by weight), based on the entire resin component of the powder sealant, Preferably, it may be about 80 to 100% by weight (for example, 90 to 99% by weight).
共重合ポリアミド系樹脂粒子(共重合ポリアミド系樹脂の粉末状混合物)は、各ポリアミド粒子の混合物であってもよく、各ポリアミドの溶融混合体の粒子の混合物であってもよい。このような混合物の形態において、各ポリアミドは互いに相溶性を有していてもよい。なお、共重合ポリアミド系樹脂粒子の粒子径と頻度との関係を示す粒度分布において、複数のピーク(粒子群)を有するとき、各ピーク(粒子群)に対応する共重合ポリアミド系樹脂の種類は、同一であってもよく、異なっていてもよい。 The copolymerized polyamide resin particles (a powdered mixture of copolymerized polyamide resins) may be a mixture of each polyamide particle or a mixture of particles of a melt mixture of each polyamide. In the form of such a mixture, the polyamides may be compatible with each other. In addition, in the particle size distribution showing the relationship between the particle size and frequency of the copolymerized polyamide resin particles, when having a plurality of peaks (particle groups), the type of copolymerized polyamide resin corresponding to each peak (particle group) is , May be the same or different.
本発明の粉末状封止剤(又は共重合ポリアミド系樹脂粒子)は、必要により、種々の添加剤、例えば、フィラー、安定剤(耐熱安定剤、耐候安定剤など)、着色剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、帯電防止剤、熱伝導剤などを含んでいてもよい。添加剤は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。これらの添加剤のうち、安定剤、熱伝導剤などが汎用される。 The powdery sealant (or copolymerized polyamide resin particles) of the present invention may contain various additives such as fillers, stabilizers (heat stabilizers, weathering stabilizers, etc.), colorants, plasticizers, if necessary. A lubricant, a flame retardant, an antistatic agent, a heat conductive agent, and the like may be included. The additives may be used alone or in combination of two or more. Of these additives, stabilizers, heat conducting agents and the like are widely used.
上記のように、本発明の粉末状封止剤は、共重合ポリアミド系樹脂、複数の種類の共重合ポリアミド系樹脂の混合物、又は共重合ポリアミド系樹脂と他の成分(ホモポリアミド、他の樹脂、添加剤など)とを含む混合物(共重合ポリアミド系樹脂組成物)の粉粒体で構成してもよい。 As described above, the powdery sealant of the present invention is a copolymerized polyamide resin, a mixture of a plurality of types of copolymerized polyamide resins, or a copolymerized polyamide resin and other components (homopolyamide, other resins). , Additives, etc.) and a mixture (copolymerized polyamide resin composition).
粉体状又は粉粒状封止剤は、慣用の方法、例えば、凍結粉砕法などの方法で粉砕し、篩いなどを用いて分級することにより製造してもよい。 The powdery or granular sealant may be produced by pulverization by a conventional method such as freeze pulverization and classification using a sieve or the like.
共重合ポリアミド系樹脂を、特定の粒度分布を有する粉粒体の形態で封止剤として用いると、(1)デバイス表面で流動可能な粉体流動性を有するとともに、デバイス又は基板に散布しても脱落することなく安定して、かつ効率よく堆積でき、(2)低温で迅速に溶融でき、(3)熱硬化性樹脂に比べて封止・成形サイクルを短縮できる。また、(4)フィルム状封止剤では表面の凹凸(特に、激しい表面の凹凸)に追従できないのに対して、粉末状の封止剤では表面の凹凸に容易に追従して被覆又は封止でき、(5)射出成形(特に低圧射出成形)やホットメルト樹脂を用いた成形では、金型との関係で、デバイス又は基板のサイズに制約があり、せいぜい10cm×10cm程度のサイズのデバイス又は基板しか封止できないのに対して、粉末状の封止剤ではデバイスのサイズに制約されることなく封止できる。さらに、(6)前記射出成形やホットメルト樹脂を用いた成形と異なり、粉末状の封止剤では薄膜を形成してモールドでき、軽量でコンパクト化でき、(7)高い密着性及び封止性でデバイスをモールドできる。そのため、電子デバイスなどに熱融着させて、電子デバイスを防水・防湿でき、塵芥の付着による汚染などが保護できる。特に、粉末状封止剤が共重合ポリアミド系樹脂を含むため、デバイスに対する密着性を向上でき、デバイスに対して高い耐衝撃性及び耐摩耗性を付与でき、デバイスに対する保護効果を高めることができる。 When the copolymerized polyamide-based resin is used as a sealant in the form of a granular material having a specific particle size distribution, (1) it has a powder fluidity capable of flowing on the device surface and is dispersed on the device or the substrate. Can be deposited stably and efficiently without dropping, (2) can be melted quickly at low temperature, and (3) the sealing / molding cycle can be shortened compared to thermosetting resins. In addition, (4) film-like sealants cannot follow surface irregularities (particularly severe surface irregularities), while powdery sealants easily follow surface irregularities for coating or sealing. (5) In injection molding (especially low-pressure injection molding) or molding using hot melt resin, there is a restriction on the size of the device or the substrate due to the relationship with the mold, While only the substrate can be sealed, the powdery sealant can seal without being restricted by the size of the device. Furthermore, (6) unlike the injection molding or molding using hot melt resin, a powdery sealant can be molded by forming a thin film, and can be made light and compact. (7) High adhesion and sealing properties Can mold the device. Therefore, the electronic device can be heat-sealed to the electronic device or the like, so that the electronic device can be waterproofed and moisture-proof, and contamination caused by dust can be protected. In particular, since the powdery sealant contains a copolymerized polyamide-based resin, adhesion to the device can be improved, high impact resistance and wear resistance can be imparted to the device, and the protective effect on the device can be enhanced. .
本発明の方法では、デバイスの少なくとも一部に前記粉末状封止剤を適用(又は散布)する工程と、粉末状封止剤を加熱溶融する工程と、冷却する工程とを経ることにより、共重合ポリアミド系樹脂で被覆又はモールドされたデバイスを製造できる。 In the method of the present invention, the powdered sealant is applied (or dispersed) to at least a part of the device, the powdered sealant is heated and melted, and the process is cooled. A device coated or molded with a polymerized polyamide resin can be produced.
前記デバイスとしては、モールド又は封止が必要な種々の有機又は無機デバイス、例えば、半導体素子、エレクトロルミネッセンス(EL)素子、発光ダイオード、太陽電池セルなどの精密部品、各種電子部品又は電子素子などの部品を搭載した配線回路基板(プリント基板)などの電子部品(特に、精密電子部品又は電子デバイスなど)が例示できる。 Examples of the device include various organic or inorganic devices that need to be molded or sealed, such as semiconductor elements, electroluminescent (EL) elements, light emitting diodes, precision components such as solar cells, various electronic components, or electronic elements. An electronic component (particularly, a precision electronic component or an electronic device) such as a printed circuit board on which the component is mounted can be exemplified.
適用工程において、粉末状封止剤は、デバイス全体に適用又は散布してもよく、必要によりマスキングして所定の部位だけに適用又は散布してもよい。粉末状封止剤は、デバイスを粉末状封止剤中に浸漬(流動浸漬など)してデバイスに付着させてもよいが、適度な粉体流動性を有するとともに、デバイスの所定部に効率よく堆積できるため、所定部材上に載置したデバイスに粉末状封止剤を散布することによりデバイスに付着させるのが好ましい。なお、デバイスの所定部、例えば、立ち上がり部又はコーナー部などには散布量又は付着量を多くしてもよい。また、デバイスは、粉末状封止剤を一時的に保持するため、揮発性液体で被覆してもよい。さらに、必要によりデバイスを加熱し(例えば、封止剤の融点又は軟化点以上の温度に加熱し)、粉末状封止剤を付着(又は部分的に融着)させてもよい。この場合、過剰な粉末状封止剤は、振動、回転、風力などの方法で除去してもよい。 In the application step, the powdery sealant may be applied or spread over the entire device, or may be applied or spread only on a predetermined site by masking if necessary. The powder sealant may immerse the device in the powder sealant (such as fluidized immersion) and adhere to the device. However, the powder sealant has an appropriate powder fluidity and is efficiently applied to a predetermined part of the device. Since it can deposit, it is preferable to make it adhere to a device by spraying a powdery sealing agent on the device mounted on the predetermined member. It should be noted that the spraying amount or the adhesion amount may be increased in a predetermined part of the device, for example, a rising part or a corner part. The device may also be coated with a volatile liquid to temporarily hold the powder sealant. Furthermore, if necessary, the device may be heated (for example, heated to a temperature equal to or higher than the melting point or softening point of the sealant), and the powdery sealant may be attached (or partially fused). In this case, the excess powdery sealant may be removed by methods such as vibration, rotation, and wind force.
粉末状封止剤の使用量(又は付着量)は、モールド又は被覆量に応じて選択でき、例えば、0.1〜100mg/cm2、好ましくは0.5〜50mg/cm2、さらに好ましくは1〜30mg/cm2程度であってもよい。 The use amount (or adhesion amount) of the powdery sealant can be selected according to the mold or the coating amount, for example, 0.1 to 100 mg / cm 2 , preferably 0.5 to 50 mg / cm 2 , more preferably. About 1-30 mg / cm < 2 > may be sufficient.
加熱工程では、デバイスの耐熱性に応じて粉末状封止剤を加熱して溶融することにより前記共重合ポリアミド系樹脂をデバイスに溶着できる。加熱温度は、共重合ポリアミド系樹脂の融点や軟化点に応じて、例えば、75〜200℃、好ましくは80〜180℃、さらに好ましくは100〜175℃(例えば、110〜150℃)程度であってもよい。加熱は、空気中、不活性ガス雰囲気中で行うことができる。加熱はオーブン中で行うことができ、必要であれば、超音波加熱、高周波加熱(電磁誘導加熱)を利用してもよい。加熱溶融工程は、常圧又は加圧下で行ってもよく、必要であれば、減圧条件下で行い脱泡してよい。 In the heating step, the copolymerized polyamide resin can be welded to the device by heating and melting the powdery sealant in accordance with the heat resistance of the device. The heating temperature is, for example, about 75 to 200 ° C., preferably 80 to 180 ° C., more preferably 100 to 175 ° C. (for example, 110 to 150 ° C.), depending on the melting point and softening point of the copolymerized polyamide resin. May be. Heating can be performed in air or in an inert gas atmosphere. Heating can be performed in an oven, and if necessary, ultrasonic heating or high-frequency heating (electromagnetic induction heating) may be used. The heating and melting step may be performed under normal pressure or under pressure, and if necessary, degassing may be performed under reduced pressure.
さらに、必要であれば、前記適用工程と加熱工程とを繰り返してもよい。また、上記のようにしてデバイスの一方の面(例えば、上面)に共重合ポリアミド系樹脂被膜を形成した後、デバイスの他方の面(例えば、底面)に粉末状封止剤を適用又は散布して加熱融着させ、デバイスの端面も含めて両面を共重合ポリアミド系樹脂被膜でモールドして封止してもよい。 Furthermore, if necessary, the application step and the heating step may be repeated. In addition, after forming a copolymerized polyamide resin film on one surface (for example, the upper surface) of the device as described above, a powdery sealing agent is applied or dispersed on the other surface (for example, the bottom surface) of the device. Then, heat sealing may be performed, and both sides including the end face of the device may be molded with a copolymerized polyamide resin coating and sealed.
冷却工程では、融着した共重合ポリアミド系樹脂を自然冷却してもよく、段階的又は連続的に冷却したり、急冷してもよい。 In the cooling step, the fused copolymer polyamide resin may be naturally cooled, may be cooled stepwise or continuously, or may be rapidly cooled.
このような工程を経ることにより、粉末状封止剤が熱融着して形成された共重合ポリアミド系樹脂の被膜で、少なくとも一部が被覆又はモールドされたデバイスを得ることができる。デバイスのモールド部位は、通常、損傷しやすい部位、例えば、電子素子の搭載部位、配線部位である場合が多い。 By passing through such a process, the device by which at least one part was coat | covered or molded with the coating film of the copolyamide-type resin formed by heat-sealing a powdery sealing agent can be obtained. The mold part of the device is usually a part that is easily damaged, for example, an electronic element mounting part or a wiring part in many cases.
本発明では、比較的低温で粉末状封止剤を融着できるため、デバイスに熱的損傷を与えることが少なく、デバイスの信頼性を向上できる。また、射出成形などと異なり、高い圧力がデバイスに作用しないため、圧力によりデバイスが損傷することがない。そのため、高い信頼性でデバイスをモールド及び封止することができる。しかも、短時間内に加熱・冷却できるため、モールド又は封止デバイスの生産性を大きく向上できる。 In the present invention, since the powdery sealant can be fused at a relatively low temperature, the device is less likely to be thermally damaged and the reliability of the device can be improved. In addition, unlike injection molding or the like, high pressure does not act on the device, so that the device is not damaged by the pressure. Therefore, the device can be molded and sealed with high reliability. And since it can heat and cool within a short time, productivity of a mold or a sealing device can be improved greatly.
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、実施例における各評価項目の評価方法は以下の通りである。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the evaluation method of each evaluation item in an Example is as follows.
[粒度分布及び平均粒子径]
実施例及び比較例の粉末樹脂粒子について、レーザー回折装置((株)堀場製作所製、HORIBA LA920)を用いて粒度分布及び平均粒子径を測定した。
[Particle size distribution and average particle size]
About the powder resin particle | grains of the Example and the comparative example, the particle size distribution and the average particle diameter were measured using the laser diffraction apparatus (Horiba Ltd. make, HORIBA LA920).
[安息角]
JIS R9301−2−2に準拠して、水平な金属製テーブル(半径4cm)の上方9cmから、ガラス製ロート(傾斜したロート部の最大内径:70mm、足部の内径×長さ:5mm×50mm)を介して、実施例及び比較例の粉末樹脂粒子200gを滴下し、金属製テーブル上に堆積させ、生成した円錐状堆積物の母線方向と金属製テーブルの面方向とで構成される角度(外角)を分度器で測定して、円錐状堆積物の底角(安息角)を算出した。
[Angle of repose]
According to JIS R9301-2-2, from 9 cm above a horizontal metal table (radius 4 cm), a glass funnel (maximum inner diameter of inclined funnel portion: 70 mm, inner diameter x length of foot part: 5 mm x 50 mm) ), 200 g of the powder resin particles of the example and the comparative example are dropped and deposited on the metal table, and an angle formed by the generatrix direction of the generated conical deposit and the surface direction of the metal table ( The outer angle was measured with a protractor, and the base angle (rest angle) of the conical sediment was calculated.
[崩壊角]
崩壊角は、ホソカワミクロン(株)製「パウダーテスターPT−E」を用いて測定した。
[Collapse angle]
The decay angle was measured using “Powder Tester PT-E” manufactured by Hosokawa Micron Corporation.
[溶融時間]
鉄板(厚み1mm)に26mm×76mmのガラス板(プレパラート)を置いて試験体とし、各ガラス板の中央部に、実施例及び比較例の粉末樹脂粒子0.2gを零れないように散布し、170℃のオーブンに入れて、表面がフラットになるまでの時間を測定した。
[Melting time]
A 26 mm × 76 mm glass plate (preparation) is placed on an iron plate (thickness 1 mm) to form a test body, and 0.2 g of the powder resin particles of the examples and comparative examples are dispersed in the center of each glass plate so as not to spill, It was placed in an oven at 170 ° C. and the time until the surface became flat was measured.
[密封性]
フラットな基板面での密封性、及びフラットな基板面から直角に立ち上がる側面(高さ:2mm又は20mm)を有する凸部での密封性を、それぞれ以下の基準で評価した。
5:完全に被覆されている
4:ほぼ完全に被覆されているが、一部空気の進入が見られる
3:半分が浮いている
2:一部被塗物と接着しているが、殆どが浮いている
1:塗膜が完全に浮いている。
[Sealing]
The sealing property at a flat substrate surface and the sealing property at a convex portion having a side surface (height: 2 mm or 20 mm) rising perpendicularly from the flat substrate surface were evaluated according to the following criteria.
5: Completely covered 4: Almost completely covered, but some air intrusion is observed 3: Half is floating 2: Some are adhered to the object to be coated, but most are Floating 1: The coating film is completely floating.
[剥離試験]
実施例及び比較例の封止剤で封止されたガラスエポキシ製基板を用いて、碁盤目剥離試験により接着性を評価した。
[Peel test]
The adhesiveness was evaluated by a cross-cut peel test using the glass epoxy substrates sealed with the sealing agents of Examples and Comparative Examples.
[耐水試験]
実施例及び比較例の封止剤で封止されたガラスエポキシ製基板を、23℃の水中に100時間浸漬した後、碁盤目剥離試験により耐水性を評価した。
[Water resistance test]
The glass epoxy substrates sealed with the sealants of Examples and Comparative Examples were immersed in water at 23 ° C. for 100 hours, and then water resistance was evaluated by a cross-cut peel test.
[LED点灯試験]
実施例及び比較例の封止剤で封止されたLED搭載基板を、23℃の水中に100時間浸漬した後、通電しLEDが点灯すれば「○」、点灯しなければ「×」として評価した。
[LED lighting test]
After immersing the LED mounting substrate sealed with the sealing agent of the example and the comparative example in water at 23 ° C. for 100 hours and then energizing and the LED is turned on, it is evaluated as “◯”, and when it is not turned on, it is evaluated as “×”. did.
実施例1
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051、エボニック社製、C10−14アルキレン基を含有、融点130℃(DSC)、メルトフローレート15g/10分(温度160℃及び荷重2.16kg))を冷凍粉砕し、開口径60μmの金網を用いて分級し、平均粒子径44μm、粒度0.5〜60μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径200μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 1
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051, manufactured by Evonik, containing C 10-14 alkylene group, melting point 130 ° C. (DSC), melt flow rate 15 g / 10 min (temperature 160 ° C. and load 2.16 kg)) was frozen and ground. Classification was performed using a wire mesh having an opening diameter of 60 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 44 μm and a particle size of 0.5 to 60 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 200 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例2
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径80μmの金網を用いて分級し、平均粒子径49μm、粒度0.5〜80μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径200μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 2
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 80 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 49 μm and a particle size of 0.5 to 80 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 200 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例3
共重合ポリアミド(VESTAMELT X7079、エボニック社製、C10−14アルキレン基を含有、融点130℃(DSC)、メルトフローレート3g/10分(温度160℃及び荷重2.16kg))を冷凍粉砕し、開口径120μmの金網を用いて分級し、平均粒子径78μm、粒度0.5〜120μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径250μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 3
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X7079, manufactured by Evonik, containing C 10-14 alkylene group, melting point 130 ° C. (DSC), melt flow rate 3 g / 10 min (temperature 160 ° C. and load 2.16 kg)) was frozen and ground. Classification was performed using a wire mesh having an opening diameter of 120 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 78 μm and a particle size of 0.5 to 120 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 250 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例4
共重合ポリアミド(VESTAMELT X7079)を冷凍粉砕し、開口径160μmの金網を用いて分級し、平均粒子径85μm、粒度0.5〜160μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径250μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 4
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X7079) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 160 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 85 μm and a particle size of 0.5 to 160 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 250 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例5
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径300μmの金網を用いて分級し、平均粒子径183μm、粒度0.5〜300μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径500μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 5
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 300 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 183 μm and a particle size of 0.5 to 300 μm. The resin particles were dispersed evenly on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter: 500 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例6
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径500μmの金網を用いて分級し、平均粒子径278μm、粒度0.5〜500μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径710μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 6
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire net having an opening diameter of 500 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 278 μm and a particle size of 0.5 to 500 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 710 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例7
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径1000μmの金網を用いて分級し、平均粒子径308μm、粒度0.5〜1000μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径710μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 7
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 1000 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 308 μm and a particle size of 0.5 to 1000 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 710 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例8
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径80μmと160μmの金網を用いて分級し、平均粒子径148μm、粒度80〜160μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径300μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 8
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was frozen and pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 80 μm and 160 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 148 μm and a particle size of 80 to 160 μm. The resin particles were spread evenly on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter: 300 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例9
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径80μmと200μmの金網を用いて分級し、平均粒子径169μm、粒度80〜200μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径300μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 9
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 80 μm and 200 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 169 μm and a particle size of 80 to 200 μm. The resin particles were spread evenly on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter: 300 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例10
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径80μmと500μmの金網を用いて分級し、平均粒子径340μm、粒度80〜500μmの粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径710μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 10
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 80 μm and 500 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 340 μm and a particle size of 80 to 500 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 710 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. and coated with a transparent resin. A substrate was obtained.
実施例11
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径500μmと1000μmの金網を用いて分級し、平均粒子径617μm、粒度500〜1000μmである第1の粉末樹脂粒子を得た。また、共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径200μmの金網を用いて分級し、平均粒子径160μm、粒度0.5〜200μmである第2の粉末樹脂粒子を得た。第1の樹脂粒子100重量部に対して、第2の樹脂粒子を5重量部の割合で混合し、この混合物を、金網(開口径710μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Example 11
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was freeze-pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 500 μm and 1000 μm to obtain first powder resin particles having an average particle diameter of 617 μm and a particle size of 500 to 1000 μm. Moreover, the copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was frozen and pulverized and classified using a wire mesh having an opening diameter of 200 μm to obtain second powder resin particles having an average particle diameter of 160 μm and a particle size of 0.5 to 200 μm. The second resin particles are mixed at a ratio of 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first resin particles, and this mixture is used for a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter: 710 μm). ) After spraying evenly on, it was heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C. to obtain a substrate coated with a transparent resin.
比較例1
共重合ポリアミド(VESTAMELT X1051)を冷凍粉砕し、開口径1000μmの金網を用いて分級し、平均粒子径1300μm以上、粒度1000μmを超える粉末樹脂粒子を得た。この樹脂粒子を、金網(開口径2000μm)を用い、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱したが、基板上から粉が零れて均一にコーティングされた基板は得られなかった。
Comparative Example 1
Copolymerized polyamide (VESTAMELT X1051) was frozen and pulverized and classified using a wire mesh with an opening diameter of 1000 μm to obtain powder resin particles having an average particle diameter of 1300 μm or more and a particle size exceeding 1000 μm. The resin particles were evenly dispersed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) using a wire mesh (opening diameter 2000 μm), and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C., but the powder spilled from the substrate. And a uniformly coated substrate was not obtained.
比較例2
共重合ポリアミド(VESTAMELT 350、エボニック社製、C10−14アルキレン基を含有、平均粒子径が約3000μmの球状ペレット、融点105℃(DSC)、メルトフローレート15g/10分(温度160℃及び荷重2.16kg))を、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度170℃の雰囲気中で加熱したが、均一にコーティングされた基板は得られなかった。
Comparative Example 2
Copolyamide (VESTAMELT 350, manufactured by Evonik Co., Ltd., spherical pellets containing C 10-14 alkylene group and having an average particle size of about 3000 μm, melting point 105 ° C. (DSC), melt flow rate 15 g / 10 min (temperature 160 ° C. and load) 2.16 kg)) was evenly sprayed on a glass epoxy resin electronic substrate (200 mm × 200 mm) and then heated in an atmosphere at a temperature of 170 ° C., but a uniformly coated substrate was not obtained.
比較例3
ポリアミド12(ダイアミドA1709、ダイセル・エボニック社製、平均粒子径80μm、粒度0.5〜160μm、融点178℃(DSC)、メルトフローレート70g/10分(温度190℃及び荷重2.16kg))を、ガラスエポキシ樹脂製電子基板(200mm×200mm)上に均等に散布した後、温度220℃の雰囲気中で加熱し、透明な樹脂でコーティングされた基板を得た。
Comparative Example 3
Polyamide 12 (Daiamide A1709, manufactured by Daicel Evonik,
実施例及び比較例の粉末樹脂粒子の各物性を表1に示し、粒径とその頻度との関係を図1に示し、粒径と通過分積算との関係を図2に示す。なお、上記レーザー回折装置の測定限界(上限値)が2mmであるため、比較例3の粉末樹脂粒子のうち2mmを超える粒径の頻度及び通過分積算は図1及び図2で省略されている。 Table 1 shows the physical properties of the powder resin particles of Examples and Comparative Examples, FIG. 1 shows the relationship between the particle size and the frequency, and FIG. 2 shows the relationship between the particle size and the accumulated amount of passage. In addition, since the measurement limit (upper limit value) of the laser diffractometer is 2 mm, the frequency of the particle diameter exceeding 2 mm and the accumulated amount of the powder resin particles of Comparative Example 3 are omitted in FIGS. 1 and 2. .
実施例及び比較例の封止剤に関し、密封性、剥離性、及び耐水性を評価した。結果を表2に示す。なお、表中、剥離試験及び耐水試験における各数値は、碁盤目剥離試験において100個の碁盤目のうち剥離した碁盤目の数を示す。 With respect to the sealants of Examples and Comparative Examples, sealing properties, peelability, and water resistance were evaluated. The results are shown in Table 2. In addition, in the table | surface, each numerical value in a peeling test and a water resistance test shows the number of the grid which peeled among the 100 grids in the grid peel test.
表2から明らかなように、比較例に比べ、実施例では、平坦部及び凸部における高い密封性を示し、密着性及び耐水性にも優れている。 As is clear from Table 2, compared to the comparative example, in the example, the sealing performance at the flat portion and the convex portion is high, and the adhesion and water resistance are also excellent.
本発明は、半導体素子、EL素子、太陽電池セルなどの電子素子又は電子部品、各種電子部品又は電子素子を搭載したプリント基板などを低温でモールド又は封止するのに有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful for molding or sealing an electronic element or electronic component such as a semiconductor element, an EL element, or a solar battery cell, a printed board on which various electronic components or electronic elements are mounted, or the like at a low temperature.
Claims (18)
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012026239A JP2013163709A (en) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | Powdered sealing agent and sealing method |
| PCT/JP2013/053045 WO2013118864A1 (en) | 2012-02-09 | 2013-02-08 | Powdered sealing agent, and sealing method |
| KR1020147024793A KR20140127302A (en) | 2012-02-09 | 2013-02-08 | Powdered sealing agent, and sealing method |
| EP13746725.4A EP2813548A4 (en) | 2012-02-09 | 2013-02-08 | POWDER SEALING AGENT AND METHOD OF SEALING |
| US14/371,918 US20150024130A1 (en) | 2012-02-09 | 2013-02-08 | Powdery sealant and sealing method |
| CN201380008995.XA CN104136539A (en) | 2012-02-09 | 2013-02-08 | Powdered sealing agent, and sealing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012026239A JP2013163709A (en) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | Powdered sealing agent and sealing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013163709A true JP2013163709A (en) | 2013-08-22 |
Family
ID=49175285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012026239A Ceased JP2013163709A (en) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | Powdered sealing agent and sealing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2013163709A (en) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20140908 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150519 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150702 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A045 | Written measure of dismissal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20160426 |