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JP2013030548A - Flexible printed wiring board and manufacturing method of the same - Google Patents

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JP2013030548A
JP2013030548A JP2011164322A JP2011164322A JP2013030548A JP 2013030548 A JP2013030548 A JP 2013030548A JP 2011164322 A JP2011164322 A JP 2011164322A JP 2011164322 A JP2011164322 A JP 2011164322A JP 2013030548 A JP2013030548 A JP 2013030548A
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Japan
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wiring board
layer
flexible printed
insulating layer
printed wiring
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Application number
JP2011164322A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Itabashi
敦 板橋
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】吸湿リフロー耐性の大幅な向上を図ることにより、各配線基板の層間剥離の発生を抑制できるフレキシブルプリント配線板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層と、絶縁層の一方の面上に形成された導電回路と、導電回路に電気的に接続され絶縁層を貫通する層間導通部と、を有する配線基板を2枚以上積層したフレキシブルプリント配線板1において、複数の配線基板は、防湿機能を有するバリア層15を備えた第一外層配線基板10(特定の配線基板)を含むことを特徴とする
【選択図】図1
The present invention provides a flexible printed wiring board capable of suppressing the occurrence of delamination of each wiring board by greatly improving the moisture absorption reflow resistance, and a manufacturing method thereof.
Two or more wiring boards having an insulating layer, a conductive circuit formed on one surface of the insulating layer, and an interlayer conductive portion electrically connected to the conductive circuit and penetrating the insulating layer are stacked. In the flexible printed wiring board 1, the plurality of wiring boards include a first outer layer wiring board 10 (specific wiring board) provided with a barrier layer 15 having a moisture-proof function.

Description

この発明は、フレキシブルプリント配線板およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a flexible printed wiring board and a method for manufacturing the same.

電子機器の軽薄短小化、半導体チップや部品の小型化および端子の狭ピッチ化に伴い、多層のプリント配線板において配線の高密度化および高多層化が検討されている(例えば、特許文献1参照)。
多層プリント配線板としては、リジッドプリント配線板やフレキシブルプリント配線板がよく知られている。特に近年では、電気機器・電子機器の軽量化および薄型化のため、フレキシブルプリント配線板の採用が進んでいる。
As electronic devices become lighter, thinner and smaller, semiconductor chips and components are miniaturized, and terminals have a narrower pitch, higher density and higher multilayer wiring are being studied in multilayer printed wiring boards (see, for example, Patent Document 1). ).
Rigid printed wiring boards and flexible printed wiring boards are well known as multilayer printed wiring boards. In particular, in recent years, flexible printed wiring boards have been increasingly adopted to reduce the weight and thickness of electric and electronic devices.

多層のフレキシブルプリント配線板は、例えばポリイミド等の樹脂材料からなる絶縁層と、絶縁層の主面上に形成された導電回路と、を有する配線基板を複数枚積層することにより形成されている。   The multilayer flexible printed wiring board is formed by laminating a plurality of wiring boards each having an insulating layer made of a resin material such as polyimide and a conductive circuit formed on the main surface of the insulating layer.

ところで、フレキシブルプリント配線板の絶縁層は、ポリイミド等の樹脂により構成されるのが一般的であるが、ポリイミドは水分を吸収しやすい。したがって、例えばリフロー工程等の高温下では、絶縁層に吸収された水分が絶縁層内で気化して膨張し、これにより絶縁層も膨張して、各配線基板の層間剥離が発生する虞がある。   By the way, although the insulating layer of a flexible printed wiring board is generally comprised with resin, such as a polyimide, a polyimide tends to absorb a water | moisture content. Therefore, for example, at a high temperature such as a reflow process, moisture absorbed in the insulating layer is vaporized and expanded in the insulating layer, which may cause expansion of the insulating layer and delamination of each wiring board. .

このような問題を解決するため、近年、導体層の主面が粗化された配線基板を接着剤等で固定・積層して、多層のフレキシブルプリント配線板を形成する方法が提案されている。この方法によれば、導体層の主面を粗化することで各層界面の接着面積が増大するため、各層の密着力を向上でき、各配線基板の層間剥離の発生を抑制できる。すなわち、良好な吸湿リフロー耐性を確保できるとされている。   In order to solve such problems, in recent years, a method of forming a multilayer flexible printed wiring board by fixing and laminating a wiring board with a main surface of a conductor layer roughened with an adhesive or the like has been proposed. According to this method, the adhesion area of each layer interface is increased by roughening the main surface of the conductor layer, so that the adhesion of each layer can be improved and the occurrence of delamination of each wiring board can be suppressed. That is, good moisture absorption reflow resistance can be secured.

しかし、上記の方法では、導体層の主面の粗化により各層の密着力を向上させるのには限界がある。また、吸湿リフロー耐性の低下の原因である絶縁層の吸水を解決できていない。したがって、さらに吸水率の高い材料が絶縁層に使用された場合には、層間剥離が発生する虞がある。   However, in the above method, there is a limit to improving the adhesion of each layer by roughening the main surface of the conductor layer. Moreover, the water absorption of the insulating layer which is the cause of the fall of moisture absorption reflow tolerance cannot be solved. Accordingly, when a material having a higher water absorption rate is used for the insulating layer, delamination may occur.

特開平6−268345号公報JP-A-6-268345

そこで本発明は、吸湿リフロー耐性の大幅な向上を図ることにより、各配線基板の層間剥離の発生を抑制できるフレキシブルプリント配線板、およびその製造方法の提供を課題とする。   Then, this invention makes it a subject to provide the flexible printed wiring board which can suppress generation | occurrence | production of the delamination of each wiring board, and its manufacturing method by aiming at the drastic improvement of moisture absorption reflow tolerance.

本発明の請求項1に記載のフレキシブルプリント配線板は、絶縁層と、前記絶縁層の少なくとも一方の面上に形成された導電回路と、前記導電回路に電気的に接続され前記絶縁層を貫通する層間導通部と、を有する配線基板を2枚以上重ねてなるフレキシブルプリント配線板であって、前記配線基板のうち特定の配線基板は、防湿機能を有するバリア層を備えていることを特徴としている。   The flexible printed wiring board according to claim 1 of the present invention includes an insulating layer, a conductive circuit formed on at least one surface of the insulating layer, and electrically connected to the conductive circuit and passing through the insulating layer. A flexible printed wiring board in which two or more wiring boards having an interlayer conductive portion are stacked, and a specific wiring board of the wiring boards includes a barrier layer having a moisture-proof function. Yes.

本発明の請求項2に記載のフレキシブルプリント配線板は、請求項1において、前記バリア層が、前記絶縁層の前記一方または他方の面上に形成されていることを特徴としている。   The flexible printed wiring board according to claim 2 of the present invention is characterized in that, in claim 1, the barrier layer is formed on the one or other surface of the insulating layer.

本発明の請求項3に記載のフレキシブルプリント配線板は、請求項1において、前記バリア層が、前記絶縁層の前記一方および他方の面上に形成されていることを特徴としている。   A flexible printed wiring board according to a third aspect of the present invention is the flexible printed wiring board according to the first aspect, wherein the barrier layer is formed on the one and other surfaces of the insulating layer.

本発明の請求項4に記載のフレキシブルプリント配線板は、請求項1から3のいずれか1項において、前記特定の配線基板が、最外層に配置されていることを特徴としている。   A flexible printed wiring board according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that, in any one of the first to third aspects, the specific wiring board is arranged in an outermost layer.

本発明の請求項5に記載のフレキシブルプリント配線板は、請求項1から4のいずれか1項において、前記バリア層が、金属酸化物、ポリエチレン、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリルまたはこれらを含む材料からなることを特徴としている。   The flexible printed wiring board according to claim 5 of the present invention is the flexible printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the barrier layer is made of metal oxide, polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride. It is characterized by comprising polyacrylonitrile or a material containing these.

本発明の請求項6に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法は、絶縁層と、前記絶縁層の少なくとも一方の面上に形成された導電回路と、前記導電回路に電気的に接続され前記絶縁層を貫通する層間導通部と、を有する配線基板を2枚以上重ねてなるフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、前記配線基板のうち特定の配線基板に対して、防湿機能を有するバリア層を形成する工程を含むことを特徴としている。   The method for manufacturing a flexible printed wiring board according to claim 6 of the present invention includes an insulating layer, a conductive circuit formed on at least one surface of the insulating layer, and the insulating circuit electrically connected to the conductive circuit. A method for manufacturing a flexible printed wiring board in which two or more wiring boards having an interlayer conductive portion penetrating a layer are stacked, and a barrier layer having a moisture-proof function with respect to a specific wiring board among the wiring boards It includes the process of forming.

本発明の請求項7に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法は、請求項6において、前記工程では、金属酸化物、ポリエチレン、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリルまたはこれらを含む材料により、前記バリア層を形成したことを特徴としている。   The method for producing a flexible printed wiring board according to claim 7 of the present invention is the method according to claim 6, wherein, in the step, metal oxide, polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, or these The barrier layer is formed of a material containing.

本発明によれば、特定の配線基板は、防湿機能を有するバリア層を備えているので、絶縁層の吸水を抑制でき、絶縁層に含有される水分量を少なくできる。これにより、絶縁層に含有された水分が高温下で気化しても、急激な体積の膨張を抑制できる。したがって、吸湿リフロー耐性の大幅な向上を図ることにより、各配線基板の層間剥離の発生を抑制できる。   According to the present invention, the specific wiring board includes the barrier layer having a moisture-proof function, so that water absorption of the insulating layer can be suppressed and the amount of moisture contained in the insulating layer can be reduced. Thereby, even if the water | moisture content contained in the insulating layer vaporizes under high temperature, rapid expansion of a volume can be suppressed. Therefore, the occurrence of delamination of each wiring board can be suppressed by greatly improving the moisture absorption reflow resistance.

フレキシブルプリント配線板の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of a flexible printed wiring board. 内層配線基板の製造工程の説明図であり、図2(a)は導電回路形成前の説明図であり、図2(b)は導電回路形成後の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing process of an inner-layer wiring board, Fig.2 (a) is explanatory drawing before conductive circuit formation, FIG.2 (b) is explanatory drawing after conductive circuit formation. 第一外層配線基板の製造工程のうち、導電回路の形成工程の説明図である。It is explanatory drawing of the formation process of a conductive circuit among the manufacturing processes of a 1st outer layer wiring board. 第一外層配線基板の製造工程のうち、バリア層の形成工程の説明図である。It is explanatory drawing of the formation process of a barrier layer among the manufacturing processes of a 1st outer layer wiring board. 第一外層配線基板の製造工程のうち、接着層の形成工程およびフィルム材の配置工程の説明図である。It is explanatory drawing of the formation process of a contact bonding layer, and the arrangement | positioning process of a film material among the manufacturing processes of a 1st outer layer wiring board. 第一外層配線基板の製造工程のうち、層間導通部の形成工程の説明図である。It is explanatory drawing of the formation process of an interlayer conduction | electrical_connection part among the manufacturing processes of a 1st outer layer wiring board. 積層工程の説明図である。It is explanatory drawing of a lamination process. 実施形態の第一変形例のフレキシブルプリント配線板の説明図である。It is explanatory drawing of the flexible printed wiring board of the 1st modification of embodiment. 実施形態の第二変形例のフレキシブルプリント配線板の説明図である。It is explanatory drawing of the flexible printed wiring board of the 2nd modification of embodiment.

(フレキシブルプリント配線板)
以下に、本実施形態のフレキシブルプリント配線板について、図面を参照しながら説明をする。
図1は、本実施形態のフレキシブルプリント配線板1の側面断面図である。なお、図面は模式的なものであり、各層の厚みやその比率などは現実のものとは異なっている。
図1に示すように、本実施形態のフレキシブルプリント配線板1は、配線基板が複数枚(本実施形態では3枚)積層されて形成されている。具体的にフレキシブルプリント配線板1は、両面に導電回路31,32を有する内層配線基板30と、内層配線基板30の一方側(図1における上側)に配置された第一外層配線基板10と、内層配線基板30の他方側(図1における下側)に配置された第二外層配線基板20と、が積層されて形成されている。
(Flexible printed wiring board)
Below, the flexible printed wiring board of this embodiment is demonstrated, referring drawings.
FIG. 1 is a side sectional view of the flexible printed wiring board 1 of the present embodiment. The drawings are schematic, and the thicknesses and ratios of the layers are different from actual ones.
As shown in FIG. 1, the flexible printed wiring board 1 of this embodiment is formed by laminating a plurality of wiring boards (three in this embodiment). Specifically, the flexible printed wiring board 1 includes an inner layer wiring board 30 having conductive circuits 31 and 32 on both sides, a first outer layer wiring board 10 disposed on one side of the inner layer wiring board 30 (upper side in FIG. 1), A second outer layer wiring board 20 disposed on the other side (lower side in FIG. 1) of the inner layer wiring board 30 is laminated and formed.

内層配線基板30は、可撓性を有するポリイミド等の絶縁性樹脂により形成された絶縁層30aを備えている。また、絶縁層30aの一方(図1における上側)の面30b上には、導電回路31が形成されており、他方(図1における下側)の面30c上には、導電回路32が形成されている。導電回路31,32は、いずれも銅等の導電性の高い金属により形成されている。
絶縁層30aには、絶縁層30aを厚さ方向に貫通する層間導通部34が形成されている。層間導通部34は、絶縁層30aに形成されたビアホール33の内周面に、例えば銅等の金属をメッキ処理することで形成される。層間導通部34により、内層配線基板30の一方の面30b上の導電回路31と、他方の面30c上の導電回路32とが電気的に接続されている。
The inner wiring board 30 includes an insulating layer 30a formed of an insulating resin such as polyimide having flexibility. Further, a conductive circuit 31 is formed on one (upper side in FIG. 1) surface 30b of the insulating layer 30a, and a conductive circuit 32 is formed on the other (lower side in FIG. 1) surface 30c. ing. The conductive circuits 31 and 32 are both made of a highly conductive metal such as copper.
In the insulating layer 30a, an interlayer conductive portion 34 that penetrates the insulating layer 30a in the thickness direction is formed. The interlayer conductive portion 34 is formed by plating a metal such as copper on the inner peripheral surface of the via hole 33 formed in the insulating layer 30a. By the interlayer conductive portion 34, the conductive circuit 31 on one surface 30b of the inner wiring board 30 and the conductive circuit 32 on the other surface 30c are electrically connected.

内層配線基板30の一方側に配置された第一外層配線基板10は、絶縁層10aを備えている。絶縁層10aは、例えば可撓性を有するポリイミド等の絶縁性樹脂により、12〜50μm程度の厚さに形成されている。
絶縁層10aの一方(図1における上側)の面10b上には、銅等の金属により導電回路11が形成されている。
また、絶縁層10aには、絶縁層10aを厚さ方向に貫通する層間導通部14が形成されている。層間導通部14は、絶縁層10aに形成されたビアホール13に、例えばはんだ等に使用される材料からなる導電ペーストを充填することで形成される。層間導通部14により、第一外層配線基板10の一方の面10b上の導電回路11と、内層配線基板30の一方の面30b上の導電回路31とが電気的に接続されている。
The first outer wiring board 10 disposed on one side of the inner wiring board 30 includes an insulating layer 10a. The insulating layer 10a is formed to a thickness of about 12 to 50 μm by an insulating resin such as flexible polyimide.
A conductive circuit 11 is formed of a metal such as copper on one surface 10b (upper side in FIG. 1) of the insulating layer 10a.
The insulating layer 10a has an interlayer conductive portion 14 that penetrates the insulating layer 10a in the thickness direction. The interlayer conductive portion 14 is formed by filling the via hole 13 formed in the insulating layer 10a with a conductive paste made of a material used for solder, for example. The conductive layer 11 on the one surface 10 b of the first outer layer wiring substrate 10 and the conductive circuit 31 on the one surface 30 b of the inner layer wiring substrate 30 are electrically connected by the interlayer conductive portion 14.

第一外層配線基板10は、絶縁層10aの他方の面10c上にバリア層15を備えている。バリア層15は、絶縁層10aの他方の面10cの全面を覆うように成膜されている。
バリア層15は、例えばアルミニウム等の酸化しやすい金属を、数百Å〜1μm程度の厚さで成膜することにより形成される。なお、バリア層15を形成する材料は、アルミニウムに限定されることはなく、例えば酸化しやすいその他の金属やポリエチレン、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリルまたはこれらを含む透湿性の低い材料であればよい。
The first outer layer wiring board 10 includes a barrier layer 15 on the other surface 10c of the insulating layer 10a. The barrier layer 15 is formed so as to cover the entire other surface 10c of the insulating layer 10a.
The barrier layer 15 is formed, for example, by depositing a metal that easily oxidizes, such as aluminum, with a thickness of about several hundred to 1 μm. The material for forming the barrier layer 15 is not limited to aluminum. For example, other metals that are easily oxidized, polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, or a transparent material containing these metals. Any material with low wettability may be used.

内層配線基板30の他方側に配置された第二外層配線基板20は、基本構成が第一外層配線基板10と同一であるため、詳細な説明は省略する。
絶縁層20aには、絶縁層20aの厚さ方向に貫通する層間導通部24が形成されている。層間導通部24により、第二外層配線基板20の一方の面20b上の導電回路21と、内層配線基板30の他方の面30c上の導電回路32とが電気的に接続されている。
また、第二外層配線基板20は、絶縁層20aの他方の面20c上にバリア層25を備えている。バリア層25は、絶縁層20aの他方の面20cの全面を覆うように成膜されている。
Since the basic configuration of the second outer layer wiring board 20 disposed on the other side of the inner layer wiring board 30 is the same as that of the first outer layer wiring board 10, a detailed description thereof will be omitted.
In the insulating layer 20a, an interlayer conductive portion 24 penetrating in the thickness direction of the insulating layer 20a is formed. The conductive circuit 21 on one surface 20 b of the second outer layer wiring substrate 20 and the conductive circuit 32 on the other surface 30 c of the inner layer wiring substrate 30 are electrically connected by the interlayer conductive portion 24.
The second outer layer wiring board 20 includes a barrier layer 25 on the other surface 20c of the insulating layer 20a. The barrier layer 25 is formed so as to cover the entire surface of the other surface 20c of the insulating layer 20a.

フレキシブルプリント配線板1は、上述の内層配線基板30の一方側に第一外層配線基板10を配置し、他方側に第二外層配線基板20を配置して積層することにより形成されている。内層配線基板30と第一外層配線基板10とは接着層41aにより貼り合わされ、内層配線基板30と第二外層配線基板20とは接着層41bにより貼り合わされている。なお、接着層41a,41bは、各配線基板間に塗布された接着剤が固化することにより形成される。   The flexible printed wiring board 1 is formed by placing the first outer layer wiring board 10 on one side of the inner layer wiring board 30 and laminating the second outer layer wiring board 20 on the other side. The inner layer wiring board 30 and the first outer layer wiring board 10 are bonded together by an adhesive layer 41a, and the inner layer wiring board 30 and the second outer layer wiring board 20 are bonded together by an adhesive layer 41b. The adhesive layers 41a and 41b are formed by solidifying the adhesive applied between the wiring boards.

ところで、絶縁層10a,20a,30aの材料であるポリイミドは、一般に吸水率が高いため、絶縁層10a,20a,30aの内部に水分が吸収される。このため、例えばリフロー工程等の高温下では、絶縁層10a,20a,30aに吸収された水分が絶縁層10a,20a,30a内で気化して膨張する。そして、絶縁層10a,20a,30a内の水分の気化・膨張により絶縁層10a,20a,30aも膨張して、接着層41a,41bと各配線基板が剥離する層間剥離が発生するおそれがあることが知られている。   By the way, since polyimide, which is a material of the insulating layers 10a, 20a, and 30a, generally has a high water absorption rate, moisture is absorbed into the insulating layers 10a, 20a, and 30a. For this reason, for example, at a high temperature such as a reflow process, moisture absorbed in the insulating layers 10a, 20a, and 30a is vaporized and expanded in the insulating layers 10a, 20a, and 30a. The insulating layers 10a, 20a, and 30a may also expand due to vaporization and expansion of moisture in the insulating layers 10a, 20a, and 30a, which may cause delamination that causes the adhesive layers 41a and 41b and each wiring board to peel off. It has been known.

しかし、本実施形態の第一外層配線基板10および第二外層配線基板20は、上述のとおりそれぞれバリア層15およびバリア層25を備えている。また、バリア層15およびバリア層25は、透湿性の低い材料で形成されており防湿機能を有している。
そして、防湿機能を有するバリア層15が第一外層配線基板10の絶縁層10aにおける他方の面10cの全面を覆い、バリア層25が第二外層配線基板20の絶縁層20aにおける他方の面20cの全面を覆っている。これにより、絶縁層10a,20aの吸水を抑制し、絶縁層10a,20aに含有される水分量を少なくしている。
However, the first outer layer wiring board 10 and the second outer layer wiring board 20 of the present embodiment include the barrier layer 15 and the barrier layer 25, respectively, as described above. The barrier layer 15 and the barrier layer 25 are formed of a material having low moisture permeability and have a moisture-proof function.
The barrier layer 15 having a moisture-proof function covers the entire surface of the other surface 10 c of the insulating layer 10 a of the first outer layer wiring substrate 10, and the barrier layer 25 is formed on the other surface 20 c of the insulating layer 20 a of the second outer layer wiring substrate 20. Covers the entire surface. Thereby, the water absorption of the insulating layers 10a and 20a is suppressed, and the amount of water contained in the insulating layers 10a and 20a is reduced.

また、バリア層15を備えた第一外層配線基板10およびバリア層25を備えた第二外層配線基板20は、それぞれ最外層に配置される。これにより、内層配線基板30の絶縁層30aの一方側(図1における上側)にバリア層15が配置され、内層配線基板30の絶縁層30aの他方側(図1における下側)にバリア層25が配置される。したがって、バリア層15およびバリア層25は、内層配線基板30の絶縁層30aの一方側および他方側からの吸水を抑制し、絶縁層30aに含有される水分量を少なくしている。   The first outer layer wiring board 10 provided with the barrier layer 15 and the second outer layer wiring board 20 provided with the barrier layer 25 are respectively disposed in the outermost layers. Thereby, the barrier layer 15 is disposed on one side (the upper side in FIG. 1) of the insulating layer 30a of the inner layer wiring board 30, and the barrier layer 25 is disposed on the other side (the lower side in FIG. 1) of the insulating layer 30a of the inner layer wiring board 30. Is placed. Therefore, the barrier layer 15 and the barrier layer 25 suppress water absorption from one side and the other side of the insulating layer 30a of the inner layer wiring board 30 and reduce the amount of moisture contained in the insulating layer 30a.

(フレキシブルプリント配線板の製造方法)
続いて、フレキシブルプリント配線板1の製造方法について、図面を参照しながら説明をする。
なお、フレキシブルプリント配線板1の製造方法は特に限定されないが、一例として以下に示す各工程を経て製造される。
また、以下では、内層配線基板30の絶縁層30aの一方側(図1における上側)にバリア層15が配置され、内層配線基板30の絶縁層30aの他方側(図1における下側)にバリア層25が配置されるフレキシブルプリント配線板1(図1参照)の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing flexible printed wiring board)
Then, the manufacturing method of the flexible printed wiring board 1 is demonstrated, referring drawings.
In addition, although the manufacturing method of the flexible printed wiring board 1 is not specifically limited, As an example, it manufactures through each process shown below.
In the following, the barrier layer 15 is disposed on one side (upper side in FIG. 1) of the insulating layer 30a of the inner layer wiring board 30, and the barrier is disposed on the other side (lower side in FIG. 1) of the insulating layer 30a of the inner layer wiring board 30. A method for manufacturing the flexible printed wiring board 1 (see FIG. 1) on which the layer 25 is disposed will be described.

(内層配線基板の製造工程)
以下に、内層配線基板30の製造工程について説明をする。
図2は、内層配線基板30の製造工程の説明図であり、図2(a)は導電回路形成前の説明図であり、図2(b)は導電回路形成後の説明図である。
内層配線基板30の製造工程では、まず、図2(a)に示すように、ポリイミド等からなる絶縁層30aの両面にそれぞれ銅箔31a,32aが積層された両面銅張積層板39を出発材料とする。そして、図2(b)に示すように、両面銅張積層板39の所定位置にレーザ等を用いて、両面銅張積層板39の厚さ方向にビアホール33を形成する。ここで、両面銅張積層板39は、絶縁層30aと銅箔31a,32aとが直接積層されたものであってもよく、不図示の接着剤等を介して絶縁層30aと銅箔31a,32aとが貼り合わされたものであってもよい。
(Inner layer wiring board manufacturing process)
Below, the manufacturing process of the inner-layer wiring board 30 is demonstrated.
2A and 2B are explanatory diagrams of the manufacturing process of the inner layer wiring board 30, FIG. 2A is an explanatory diagram before the formation of the conductive circuit, and FIG. 2B is an explanatory diagram after the formation of the conductive circuit.
In the manufacturing process of the inner wiring board 30, first, as shown in FIG. 2A, a double-sided copper-clad laminate 39 in which copper foils 31a and 32a are laminated on both sides of an insulating layer 30a made of polyimide or the like is a starting material. And Then, as shown in FIG. 2B, via holes 33 are formed in the thickness direction of the double-sided copper-clad laminate 39 using a laser or the like at predetermined positions of the double-sided copper-clad laminate 39. Here, the double-sided copper-clad laminate 39 may be obtained by directly laminating the insulating layer 30a and the copper foils 31a and 32a, and the insulating layer 30a and the copper foil 31a, 32a may be bonded.

次に、ビアホール33の内周面をメッキ処理し、層間導通部34を形成する。層間導通部34により、両面銅張積層板39の一方側の銅箔31aと、他方側の銅箔32aとが電気的に接続される。
続いて、銅箔31aおよび銅箔32aをパターニングして、内層配線基板30の一方の面30b上の導電回路31、および他方の面30c上の導電回路32を形成する。銅箔31aおよび銅箔32aのパターニングは、例えばフォトリソグラフィ技術により銅箔31aおよび銅箔32aの表面にマスクパターンを形成した後、銅箔31aおよび銅箔32aをエッチングすることで行われる。
以上で、内層配線基板30の製造工程が終了する。
Next, the inner peripheral surface of the via hole 33 is plated to form an interlayer conductive portion 34. The interlayer conductive portion 34 electrically connects the copper foil 31a on one side of the double-sided copper-clad laminate 39 and the copper foil 32a on the other side.
Subsequently, the copper foil 31a and the copper foil 32a are patterned to form the conductive circuit 31 on one surface 30b of the inner wiring board 30 and the conductive circuit 32 on the other surface 30c. The patterning of the copper foil 31a and the copper foil 32a is performed by, for example, forming a mask pattern on the surfaces of the copper foil 31a and the copper foil 32a by a photolithography technique and then etching the copper foil 31a and the copper foil 32a.
The manufacturing process of the inner layer wiring board 30 is thus completed.

(外層配線基板の形成工程)
以下に、第一外層配線基板10の製造工程の説明をする。なお、第一外層配線基板10の製造工程および第二外層配線基板20の製造工程は同一である。したがって、以下では、第一外層配線基板10の製造工程について説明をし、第二外層配線基板20の製造工程の説明については省略している。
(Outer layer wiring board formation process)
Below, the manufacturing process of the 1st outer-layer wiring board 10 is demonstrated. The manufacturing process of the first outer layer wiring board 10 and the manufacturing process of the second outer layer wiring board 20 are the same. Therefore, hereinafter, the manufacturing process of the first outer layer wiring board 10 will be described, and the description of the manufacturing process of the second outer layer wiring board 20 will be omitted.

図3は、第一外層配線基板10の製造工程のうち、導電回路11の形成工程の説明図である。
第一外層配線基板10の製造工程では、まず、図3に示すように、ポリイミド等からなる絶縁層10aの一方の面10bに銅箔11aが積層された片面銅張積層板19を用意する。続いて、内層配線基板30の製造工程と同様に、銅箔11aをパターニングして、第一外層配線基板10の一方の面10b上に導電回路11を形成する。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a process of forming the conductive circuit 11 in the manufacturing process of the first outer layer wiring board 10.
In the manufacturing process of the first outer layer wiring substrate 10, first, as shown in FIG. 3, a single-sided copper-clad laminate 19 in which a copper foil 11a is laminated on one surface 10b of an insulating layer 10a made of polyimide or the like is prepared. Subsequently, similarly to the manufacturing process of the inner layer wiring substrate 30, the copper foil 11 a is patterned to form the conductive circuit 11 on the one surface 10 b of the first outer layer wiring substrate 10.

(バリア層の形成工程)
図4は、第一外層配線基板10の製造工程のうち、バリア層15の形成工程の説明図である。
次に、図4に示すように、絶縁層10aの他方の面10c上にバリア層15を形成する。
バリア層15の形成工程では、例えば酸化アルミニウム(アルミナ)を直接真空蒸着法で形成してもよいが、アルミニウムを絶縁層10aの他方の面10cに蒸着法等により数百Å程度の厚さで成膜した後に、UVオゾン法等により成膜されたアルミニウムに紫外線を照射することで、成膜されたアルミニウムが完全に酸化して不導体のアルミナ(バリア)層15が形成される。また、このようにして形成したバリア層15の表面は、酸化により面粗度が上昇するため、バリア層15と次工程で形成される接着層41aとの密着力がアンカー効果により向上することが期待できる。
(Barrier layer formation process)
FIG. 4 is an explanatory diagram of the formation process of the barrier layer 15 in the manufacturing process of the first outer layer wiring board 10.
Next, as shown in FIG. 4, the barrier layer 15 is formed on the other surface 10c of the insulating layer 10a.
In the step of forming the barrier layer 15, for example, aluminum oxide (alumina) may be directly formed by a vacuum deposition method, but aluminum is formed on the other surface 10 c of the insulating layer 10 a by a thickness of about several hundreds of millimeters by a deposition method or the like. After the film formation, the aluminum formed by UV ozone method or the like is irradiated with ultraviolet rays, so that the formed aluminum is completely oxidized and the non-conductive alumina (barrier) layer 15 is formed. In addition, since the surface roughness of the barrier layer 15 formed in this manner is increased in surface roughness due to oxidation, the adhesion between the barrier layer 15 and the adhesive layer 41a formed in the next step can be improved by the anchor effect. I can expect.

なお、ポリエチレン、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の絶縁物により、バリア層15を形成してもよい。この場合には、例えばスクリーン印刷法やラミネート法、CVD法等によりバリア層15を形成できる。   The barrier layer 15 may be formed of an insulator such as polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, or the like. In this case, the barrier layer 15 can be formed by, for example, a screen printing method, a laminating method, a CVD method, or the like.

図5は、第一外層配線基板10の製造工程のうち、接着層41aの形成工程およびフィルム材45の配置工程の説明図である。
次に、図5に示すように、バリア層15に重ねて接着層41aを形成し、さらにフィルム材45を配置する。
接着層41aは、例えばエポキシ樹脂等からなる流動性のある接着剤を塗布し、固化させることにより形成される。
フィルム材45は、接着層41aを覆うように配置される。フィルム材45は、次工程で導電ペーストを塗布する際のマスクとなるものであり、例えば厚さ25μm程度のポリエステルフィルムを100℃で30秒間熱ラミネートすることにより形成される。
FIG. 5 is an explanatory diagram of the formation process of the adhesive layer 41 a and the arrangement process of the film material 45 in the manufacturing process of the first outer layer wiring board 10.
Next, as shown in FIG. 5, an adhesive layer 41 a is formed over the barrier layer 15, and a film material 45 is further disposed.
The adhesive layer 41a is formed by applying and solidifying a fluid adhesive made of, for example, an epoxy resin.
The film material 45 is disposed so as to cover the adhesive layer 41a. The film material 45 serves as a mask when the conductive paste is applied in the next step, and is formed by, for example, heat laminating a polyester film having a thickness of about 25 μm at 100 ° C. for 30 seconds.

図6は、第一外層配線基板10の製造工程のうち、層間導通部14の形成工程の説明図である。
次に、図6に示すように、絶縁層10aの一方の面10bと他方の面10cとを貫通する層間導通部14を形成する。
層間導通部14の形成工程では、まず、フィルム材45の他方側(図6における下側)からレーザを照射して、フィルム材45、接着層41aおよび絶縁層10aを貫通するビアホール13を形成する。
続いて、フィルム材45をマスクとして、例えばスクリーン印刷によりビアホール13内に銀ペースト等の導電ペースト14aを充填する。
最後に、フィルム材45を接着層41aから剥離する。これにより、導電回路11と電気的に接続され、接着層41aの他方側(図6における下側)から突出された層間導通部14が形成される。
以上で、第一外層配線基板10の製造工程が終了する。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a process of forming the interlayer conductive portion 14 in the manufacturing process of the first outer layer wiring board 10.
Next, as shown in FIG. 6, an interlayer conductive portion 14 that penetrates one surface 10 b and the other surface 10 c of the insulating layer 10 a is formed.
In the step of forming the interlayer conductive portion 14, first, the laser beam is irradiated from the other side (the lower side in FIG. 6) of the film material 45 to form the via hole 13 penetrating the film material 45, the adhesive layer 41 a and the insulating layer 10 a. .
Subsequently, using the film material 45 as a mask, the via hole 13 is filled with a conductive paste 14a such as a silver paste by screen printing, for example.
Finally, the film material 45 is peeled from the adhesive layer 41a. As a result, the interlayer conductive portion 14 that is electrically connected to the conductive circuit 11 and protrudes from the other side (lower side in FIG. 6) of the adhesive layer 41a is formed.
Thus, the manufacturing process of the first outer layer wiring board 10 is completed.

(積層工程)
図7は、積層工程の説明図である。
積層工程では、上述のように形成された内層配線基板30、第一外層配線基板10および第二外層配線基板20を厚さ方向に重ね合わせて積層している。
具体的には、第一外層配線基板10の接着層41aと、内層配線基板30の導電回路31とを対向させた状態で、内層配線基板30の一方側(図7における上側)に第一外層配線基板10を配置する。また、第二外層配線基板20の接着層41bと、内層配線基板30の導電回路32とを対向させた状態で、内層配線基板30の他方側(図7における下側)に第二外層配線基板20を配置する。そして、第一外層配線基板10、内層配線基板30および第二外層配線基板20の位置を互いに合わせながら、加熱プレスを行う。
(Lamination process)
FIG. 7 is an explanatory diagram of the stacking process.
In the stacking step, the inner layer wiring board 30, the first outer layer wiring board 10 and the second outer layer wiring board 20 formed as described above are stacked in the thickness direction and stacked.
Specifically, with the adhesive layer 41a of the first outer layer wiring board 10 and the conductive circuit 31 of the inner layer wiring board 30 facing each other, the first outer layer is placed on one side (upper side in FIG. 7) of the inner layer wiring board 30. The wiring board 10 is disposed. Further, the second outer layer wiring board is disposed on the other side (lower side in FIG. 7) of the inner layer wiring board 30 with the adhesive layer 41b of the second outer layer wiring board 20 and the conductive circuit 32 of the inner layer wiring board 30 facing each other. 20 is arranged. Then, the first outer layer wiring substrate 10, the inner layer wiring substrate 30, and the second outer layer wiring substrate 20 are heated and pressed while being aligned with each other.

積層工程により、第一外層配線基板10の接着層41aおよび第二外層配線基板20の接着層41bが内層配線基板30と密着して積層される。さらに、第一外層配線基板10の層間導通部14が内層配線基板30の導電回路31に電気的に接続され、第二外層配線基板20の層間導通部24が内層配線基板30の導電回路32に電気的に接続される。すなわち、第一外層配線基板10の導電回路11、内層配線基板30の導電回路31、内層配線基板30の導電回路32、および第二外層配線基板20の導電回路21の各導電回路が電気的に接続された状態となる。
積層工程により各配線基板が積層され、図1に示すフレキシブルプリント配線板1が形成された時点で、フレキシブルプリント配線板1の全ての製造工程が終了する。
By the laminating step, the adhesive layer 41a of the first outer layer wiring substrate 10 and the adhesive layer 41b of the second outer layer wiring substrate 20 are stacked in close contact with the inner layer wiring substrate 30. Further, the interlayer conductive portion 14 of the first outer layer wiring substrate 10 is electrically connected to the conductive circuit 31 of the inner layer wiring substrate 30, and the interlayer conductive portion 24 of the second outer layer wiring substrate 20 is connected to the conductive circuit 32 of the inner layer wiring substrate 30. Electrically connected. That is, the conductive circuits 11 of the first outer layer wiring board 10, the conductive circuit 31 of the inner layer wiring board 30, the conductive circuit 32 of the inner layer wiring board 30, and the conductive circuits 21 of the second outer layer wiring board 20 are electrically connected. Connected.
When the wiring boards are laminated by the laminating process and the flexible printed wiring board 1 shown in FIG. 1 is formed, all the manufacturing processes of the flexible printed wiring board 1 are completed.

(実施形態の第一変形例)
図8は、実施形態の第一変形例のフレキシブルプリント配線板1の説明図である。
上述した実施形態では、内層配線基板30の絶縁層30aの一方(図1における上側)にバリア層15が配置され、内層配線基板30の絶縁層30aの他方(図1における下側)にバリア層25が配置されるフレキシブルプリント配線板1(図1参照)およびその製造方法について説明した。
これに対して、実施形態の第一変形例のフレキシブルプリント配線板1は、図8に示すように、第一外層配線基板10における絶縁層10aの一方の面10b(図8における上側)にバリア層15を形成し、第二外層配線基板20における絶縁層20aの一方の面20b(図8における下側)にバリア層25を形成している点で、実施形態とは異なっている。
(First modification of embodiment)
FIG. 8 is an explanatory diagram of the flexible printed wiring board 1 according to the first modification of the embodiment.
In the above-described embodiment, the barrier layer 15 is disposed on one side (the upper side in FIG. 1) of the insulating layer 30a of the inner layer wiring board 30, and the barrier layer is disposed on the other side (the lower side in FIG. 1) of the insulating layer 30a. The flexible printed wiring board 1 (see FIG. 1) on which 25 is disposed and the manufacturing method thereof have been described.
On the other hand, the flexible printed wiring board 1 of the first modified example of the embodiment has a barrier on one surface 10b (upper side in FIG. 8) of the insulating layer 10a in the first outer layer wiring board 10, as shown in FIG. This is different from the embodiment in that the layer 15 is formed and the barrier layer 25 is formed on one surface 20b (the lower side in FIG. 8) of the insulating layer 20a in the second outer layer wiring substrate 20.

第一変形例のフレキシブルプリント配線板1にバリア層15,25を形成する場合には、まず、絶縁層10a,20aの一方の面10b,20bに、実施形態と同様に真空蒸着法でアルミニウムを成膜した後、UVオゾン法等によりアルミナ等からなる不導体のバリア層15,25を形成する。その後、バリア層15,25に重ねてスパッタリング等により銅のシード層を形成し、そのシード層上にメッキ処理を施し、導電回路11,21を形成する。   When the barrier layers 15 and 25 are formed on the flexible printed wiring board 1 of the first modified example, first, aluminum is applied to one surface 10b or 20b of the insulating layers 10a and 20a by a vacuum deposition method as in the embodiment. After film formation, non-conductive barrier layers 15 and 25 made of alumina or the like are formed by a UV ozone method or the like. Thereafter, a copper seed layer is formed on the barrier layers 15 and 25 by sputtering or the like, and plating is performed on the seed layer to form conductive circuits 11 and 21.

(実施形態の第二変形例)
図9は、実施形態の第二変形例のフレキシブルプリント配線板1の説明図である。
実施形態の第二変形例のフレキシブルプリント配線板1は、図9に示すように、第一外層配線基板10における絶縁層10aの両面10b,10cにバリア層15を形成し、第二外層配線基板20における絶縁層20aの両面20b,20cにバリア層25を形成している点で、実施形態および第一変形例とは異なっている。
(Second modification of the embodiment)
FIG. 9 is an explanatory diagram of the flexible printed wiring board 1 according to a second modification of the embodiment.
As shown in FIG. 9, the flexible printed wiring board 1 according to the second modification of the embodiment includes a barrier layer 15 formed on both surfaces 10 b and 10 c of the insulating layer 10 a in the first outer layer wiring board 10, and the second outer layer wiring board. 20 differs from the embodiment and the first modification in that barrier layers 25 are formed on both surfaces 20b and 20c of the insulating layer 20a.

第二変形例のフレキシブルプリント配線板1の場合には、第一変形例と同様にして、絶縁層10a,20bの一方の面10b,20bにバリア層15,25および導電回路11,21を形成した後、絶縁層10a,20aの他方の面10c,20cにバリア層15,25を形成する。なお、絶縁層10a,20aの他方の面10c,20cにおけるバリア層15,25の形成方法は、実施形態および変形例と同様であるため、詳細な説明は省略する。   In the case of the flexible printed wiring board 1 of the second modified example, the barrier layers 15 and 25 and the conductive circuits 11 and 21 are formed on the one surfaces 10b and 20b of the insulating layers 10a and 20b in the same manner as the first modified example. After that, barrier layers 15 and 25 are formed on the other surfaces 10c and 20c of the insulating layers 10a and 20a. In addition, since the formation method of the barrier layers 15 and 25 in the other surfaces 10c and 20c of the insulating layers 10a and 20a is the same as that of the embodiment and the modification, detailed description is omitted.

(効果)
本実施形態によれば、第一外層配線基板10および第二外層配線基板20は、それぞれ防湿機能を有するバリア層15,25を備えているので、絶縁層10a,20a,30aの吸水が抑制され、絶縁層10a,20a,30aに含有される水分量を少なくできる。これにより、絶縁層10a,20a,30aに含有された水分がリフロー時の高温下で気化しても、急激な体積の膨張を抑制できる。したがって、フレキシブルプリント配線板1の吸湿リフロー耐性の大幅な向上を図ることにより、各配線基板の層間剥離の発生を抑制できる。
(effect)
According to the present embodiment, the first outer layer wiring board 10 and the second outer layer wiring board 20 are provided with the barrier layers 15 and 25 having a moisture-proof function, respectively, so that water absorption of the insulating layers 10a, 20a, and 30a is suppressed. The amount of moisture contained in the insulating layers 10a, 20a, and 30a can be reduced. Thereby, even if the moisture contained in the insulating layers 10a, 20a, and 30a is vaporized at a high temperature during reflow, rapid expansion of the volume can be suppressed. Therefore, the occurrence of delamination of each wiring board can be suppressed by significantly improving the moisture absorption reflow resistance of the flexible printed wiring board 1.

また、本実施形態によれば、アルミニウム等の既存の材料でバリア層15,25を形成することで、絶縁層10a,20a,30aの吸水を抑制できる。このように、特殊な材料を選定することなくバリア層15,25を設けているので、信頼性が高く低コストなフレキシブルプリント配線板1を提供できる。   Moreover, according to this embodiment, the water absorption of the insulating layers 10a, 20a, and 30a can be suppressed by forming the barrier layers 15 and 25 with existing materials such as aluminum. Thus, since the barrier layers 15 and 25 are provided without selecting a special material, the flexible printed wiring board 1 with high reliability and low cost can be provided.

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本実施形態では、4層のフレキシブルプリント配線板1について説明したが、フレキシブルプリント配線板1の層数は4層に限られることはない。   Although the four-layer flexible printed wiring board 1 has been described in this embodiment, the number of layers of the flexible printed wiring board 1 is not limited to four.

本実施形態では、アルミニウムによりバリア層15,25を形成していたが、例えば鉄や銀等、アルミニウム以外の酸化しやすい金属によりバリア層15,25を形成してもよい。また、バリア層15,25は、金属以外であってもよく、例えばポリエチレンやフッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の低い透湿性を有する樹脂材料であってもよい。   In the present embodiment, the barrier layers 15 and 25 are formed of aluminum. However, the barrier layers 15 and 25 may be formed of an easily oxidizable metal other than aluminum, such as iron or silver. Further, the barrier layers 15 and 25 may be other than metal, and may be a resin material having low moisture permeability such as polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile and the like.

本実施形態では、蒸着法によりバリア層15,25を成膜したが、バリア層15,25の成膜方法は蒸着法に限られず、例えば、スパッタリング法やCVD法等の成膜方法を採用してもよい。   In this embodiment, the barrier layers 15 and 25 are formed by the vapor deposition method. However, the film formation method of the barrier layers 15 and 25 is not limited to the vapor deposition method, and for example, a film formation method such as a sputtering method or a CVD method is adopted. May be.

本実施形態では、導電回路11,21が形成された一方側の面10b,20bとは反対側の他方側の面10c,20cを覆うようにバリア層15,25を形成していたが、導電回路11,21が形成された一方側の面10b,20bにバリア層15,25を形成してもよい。また、絶縁層10a,10bの一方側の面10b,20bおよび他方側の面10c,20cの両面にバリア層15,25を形成してもよい。   In the present embodiment, the barrier layers 15 and 25 are formed so as to cover the surfaces 10c and 20c on the other side opposite to the surfaces 10b and 20b on the one side where the conductive circuits 11 and 21 are formed. Barrier layers 15 and 25 may be formed on the one side surfaces 10b and 20b on which the circuits 11 and 21 are formed. Moreover, you may form the barrier layers 15 and 25 on both surfaces of the one side surfaces 10b and 20b and the other side surfaces 10c and 20c of the insulating layers 10a and 10b.

1 フレキシブルプリント配線板、10 第一外層配線基板(特定の配線基板)、10a 絶縁層、10b 一方の面、10c 他方の面、11 導電回路、14 層間導通部、15 バリア層、20 第二外層配線基板(特定の配線基板)、20a 絶縁層、20b 一方の面、20c 他方の面、21 導電回路、24 層間導通部、25 バリア層、30 内層配線基板(配線基板)。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible printed wiring board, 10 1st outer layer wiring board (specific wiring board), 10a Insulating layer, 10b One side, 10c The other side, 11 Conductive circuit, 14 Interlayer conduction | electrical_connection part, 15 Barrier layer, 20 2nd outer layer Wiring board (specific wiring board), 20a insulating layer, 20b one side, 20c the other side, 21 conductive circuit, 24 interlayer conduction part, 25 barrier layer, 30 inner layer wiring board (wiring board).

Claims (7)

絶縁層と、前記絶縁層の少なくとも一方の面上に形成された導電回路と、前記導電回路に電気的に接続され前記絶縁層を貫通する層間導通部と、を有する配線基板を2枚以上重ねてなるフレキシブルプリント配線板であって、
前記配線基板のうち特定の配線基板は、防湿機能を有するバリア層を備えていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。
Two or more wiring boards having an insulating layer, a conductive circuit formed on at least one surface of the insulating layer, and an interlayer conductive portion that is electrically connected to the conductive circuit and penetrates the insulating layer are stacked. A flexible printed wiring board,
A specific printed circuit board among the printed circuit boards includes a barrier layer having a moisture-proof function.
前記バリア層は、前記絶縁層の前記一方または他方の面上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルプリント配線板。   The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the barrier layer is formed on the one or other surface of the insulating layer. 前記バリア層は、前記絶縁層の前記一方および他方の面上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルプリント配線板。   The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the barrier layer is formed on the one and other surfaces of the insulating layer. 前記特定の配線基板は、最外層に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のフレキシブルプリント配線板。   4. The flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the specific wiring board is disposed in an outermost layer. 5. 前記バリア層は、金属酸化物、ポリエチレン、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリルまたはこれらを含む材料からなることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のフレキシブルプリント配線板。   5. The barrier layer according to claim 1, wherein the barrier layer is made of a metal oxide, polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, or a material containing them. Flexible printed wiring board. 絶縁層と、前記絶縁層の少なくとも一方の面上に形成された導電回路と、前記導電回路に電気的に接続され前記絶縁層を貫通する層間導通部と、を有する配線基板を2枚以上重ねてなるフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
前記配線基板のうち特定の配線基板に対して、防湿機能を有するバリア層を形成する工程を含むことを特徴とするフレキシブルプリント配線板の製造方法。
Two or more wiring boards having an insulating layer, a conductive circuit formed on at least one surface of the insulating layer, and an interlayer conductive portion that is electrically connected to the conductive circuit and penetrates the insulating layer are stacked. A method for producing a flexible printed wiring board comprising:
The manufacturing method of the flexible printed wiring board characterized by including the process of forming the barrier layer which has a moisture-proof function with respect to a specific wiring board among the said wiring boards.
前記工程では、金属酸化物、ポリエチレン、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリルまたはこれらを含む材料により、前記バリア層を形成したことを特徴とする請求項6に記載のフレキシブルプリント配線板の製造方法。   The flexible layer according to claim 6, wherein in the step, the barrier layer is formed of a metal oxide, polyethylene, fluororesin, polyparaxylene, polyester, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, or a material containing them. Manufacturing method of printed wiring board.
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