JP2013026380A - 加工方法 - Google Patents
加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013026380A JP2013026380A JP2011158895A JP2011158895A JP2013026380A JP 2013026380 A JP2013026380 A JP 2013026380A JP 2011158895 A JP2011158895 A JP 2011158895A JP 2011158895 A JP2011158895 A JP 2011158895A JP 2013026380 A JP2013026380 A JP 2013026380A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective tape
- holding
- workpiece
- wafer
- cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H10P52/00—
-
- H10P72/0428—
-
- H10P72/0442—
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】被加工物1に保護テープ7を貼着する保護テープ貼着ステップと、貼着ステップを実施後、保護テープ7が露出するように被加工物を保持テーブル21で保持する保持ステップと、保持ステップを実施後、回転するバイトホイール35を所定高さに位置付けるとともに保持テーブル21とバイトホイール35とを相対移動させることで、被加工物1に貼着された保護テープ7をバイトホイール35で切削して平坦化する平坦化ステップとを備え、平坦化ステップではバイトホイール35の回転速度を周速1914m/min.以上に設定し、糸状の保護テープ屑が被加工物上に残存することを防止する。
【選択図】図9
Description
ウェーハ1の表面には、図5に示すように、保護テープ7が貼着される。この保護テープ7は、基材層8と糊層9とから構成され、基材層8の下面側に糊層9が形成されている。基材層8は、ポリオレフィン基材、塩化ビニル基材、ペット(ポリエチレンテレフタラート)基材等からなり、100〜300μm程度の厚みを有する。一方、糊層9は、ゴム素材、アクリル素材等からなり、5〜100μm程度の厚みを有する。
保護テープ貼着ステップが実施された後、保護テープ7が貼着されたウェーハ1は、搬送ロボット14によって供給カセット13から搬出されて位置決め手段20に搬送され、位置決めピン15aが互いが近づく方向に移動することによりウェーハ1が一定の位置に位置決めされた後、第1搬送手段16によって着脱位置P1に待機する保持テーブル21の上方に移動する。そして、図8(a)に示すように、ウェーハ1の裏面2b側を保持テーブル21の保持面22に向けて、矢印C方向に下降させ、ウェーハ1を保持テーブル21に載置し、図示しない吸引源から発生する吸引力によって、ウェーハ1の裏面2b側を保持面22に吸着させる。その結果、図8(b)に示すように、ウェーハ1は、ウェーハ1に貼着された保護テープ7の基材層8側が上方に露出した状態で保持される。
保持ステップを実施した後は、図1に示す保持手段20を移動手段50によりY軸方向の矢印A1方向に移動させ、保持テーブル21を切削領域P2に位置付ける。具体的には、図2に示す移動手段50のモータ56が駆動を開始し、モータ56によって回転駆動されたボールスクリュー54が回動することにより、移動基台51がガイドレール55にガイドされてY軸方向に移動し、併せて保持手段テーブル21をY軸方向に移動させ、切削領域P2に到達させる。
平坦化ステップによって保護テープ7の平坦化を実施した後、被加工物を所定の厚みへと薄化する。被加工物の薄化には、例えば図11に示す薄化装置60を使用することができる。
(1)バイトホイールのホイール径:φ8インチ
(2)バイトホイール回転速度(回転周速):
ア 2000rpm(1276m/min.)
イ 2500rpm(1595m/min.)
ウ 3000rpm(1914m/min.)
エ 3500rpm(2233m/min.)
(3)保護テープ基材:
ア ポリオレフィン基材
イ 塩化ビニル基材
ウ ペット基材
(4)送りピッチ:
送りピッチ20,30,40,50,60,70,80,90,100,110,120,130,140,150,160[μm]でそれぞれ切削を行った。送りピッチは、バイトホイール35の1回転当たりにおける保持テーブル21とバイトホイール35とのY方向相対移動距離である。
2a:表面 2b:裏面
3:デバイス 4:ストリート 5:バンプ 6:ノッチ
7:保護テープ 8:基材層 9:糊層
10:バイト切削装置
11:基台 12:立設基台 13:供給カセット
14:被加工物搬送ロボット 14a:アーム 14b:ハンド
15:位置決め手段 15a:位置決めピン
16:第1搬送装置 16a:吸着パッド
17:第2搬送装置 17a:吸着パッド
18:洗浄装置 19:回収カセット
20:保持手段 21:保持テーブル 22:保持面 23:軸部 24:支持基台
25:昇降駆動部
30:切削手段
31:スピンドルハウジング 32:保持具 33:サーボモータ 34:スピンドル
35:バイトホイール 36 バイト
40:送り手段
41:ボールスクリュー 42:ガイドレール 43:モータ
44:昇降基台 45:支持部材 46:ボールスクリュー受部材
50:移動手段
51:移動基台 52:カバー 54:ボールスクリュー 55:ガイドレール
56:モータ 57:ボールスクリュー受部材
60:薄化装置
60a:保持テーブル
60b:研削手段
61:スピンドル 62:ボルト 63:マウント 64:研削ホイール
65:研削砥石 66:保持部
Claims (2)
- 被加工物を保持する保持面を有する保持テーブルと、該保持面と平行な面で回転して該保持テーブルで保持された被加工物を切削するバイトホイールと、該保持テーブルと回転する該バイトホイールとを相対移動させる移動手段と、を備えたバイト切削装置を用いて被加工物に貼着された保護テープを平坦化する加工方法であって、
被加工物に保護テープを貼着する保護テープ貼着ステップと、
該保護テープ貼着ステップを実施した後、該保護テープが露出するように被加工物を該保持テーブルで保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、回転する該バイトホイールを所定高さに位置付けるとともに該移動手段が該保持テーブルと該バイトホイールとを相対移動させることで、被加工物に貼着された該保護テープを該バイトホイールで切削して平坦化する平坦化ステップと、を備え、
該平坦化ステップでは該バイトホイールの回転速度は周速1914m/min.以上に設定されることに特徴を有する加工方法。 - 前記平坦化ステップを実施した後、前記保護テープ側を保持テーブルで保持して被加工物を露出した状態にし、露出した被加工物を研削ホイールで研削して所定の厚みへと薄化する薄化ステップを更に備えることに特徴を有する請求項1に記載の加工方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011158895A JP5890977B2 (ja) | 2011-07-20 | 2011-07-20 | 加工方法 |
| TW101120447A TWI534879B (zh) | 2011-07-20 | 2012-06-07 | processing method |
| KR1020120078181A KR101825751B1 (ko) | 2011-07-20 | 2012-07-18 | 가공 방법 |
| CN201210253593.3A CN102886829B (zh) | 2011-07-20 | 2012-07-20 | 加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011158895A JP5890977B2 (ja) | 2011-07-20 | 2011-07-20 | 加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013026380A true JP2013026380A (ja) | 2013-02-04 |
| JP5890977B2 JP5890977B2 (ja) | 2016-03-22 |
Family
ID=47530610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011158895A Active JP5890977B2 (ja) | 2011-07-20 | 2011-07-20 | 加工方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5890977B2 (ja) |
| KR (1) | KR101825751B1 (ja) |
| CN (1) | CN102886829B (ja) |
| TW (1) | TWI534879B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015015421A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
| JP2015041687A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
| KR101532591B1 (ko) * | 2015-02-02 | 2015-06-30 | 에이피텍(주) | 두께 정밀 가공이 가능한 반도체용 알루미늄 기판 평면 절삭 가공 장치 |
| CN105448750A (zh) * | 2014-08-28 | 2016-03-30 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件及其制作方法和电子装置 |
| JP2019029543A (ja) * | 2017-07-31 | 2019-02-21 | 株式会社ディスコ | ウエーハの研削方法 |
| CN113070803A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-07-06 | 天津亿众飞扬科技有限公司 | 一种半自动金属字面打磨抛光机 |
| JPWO2022158485A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106206383A (zh) * | 2016-09-05 | 2016-12-07 | 江苏纳沛斯半导体有限公司 | 薄膜形成方法和半导体结构 |
| JP6720043B2 (ja) * | 2016-10-05 | 2020-07-08 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
| KR102005191B1 (ko) * | 2018-05-03 | 2019-07-29 | 일윤주식회사 | Led패키지용 형광층 평탄화 장치 |
| JP7746052B2 (ja) * | 2021-07-21 | 2025-09-30 | 株式会社ディスコ | ウエーハの処理方法 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000173954A (ja) * | 1998-12-04 | 2000-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウェーハの製造方法及び切削用ホイール |
| JP2001177096A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-29 | Fuji Electric Co Ltd | 縦型半導体装置の製造方法および縦型半導体装置 |
| US20040113283A1 (en) * | 2002-03-06 | 2004-06-17 | Farnworth Warren M. | Method for fabricating encapsulated semiconductor components by etching |
| JP2005019666A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハの研削方法および半導体ウエハ研削用粘着シート |
| JP2008182015A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの研削方法 |
| JP2009004406A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | 基板の加工方法 |
| JP2009043931A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの裏面研削方法 |
| JP2011109067A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-06-02 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2013021017A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの研削方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004311576A (ja) * | 2003-04-03 | 2004-11-04 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP4416108B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2010-02-17 | 株式会社ディスコ | 半導体ウェーハの製造方法 |
| JP2009054920A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウェーハの加工方法 |
| JP5500942B2 (ja) * | 2009-10-28 | 2014-05-21 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
| JP2011108746A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
-
2011
- 2011-07-20 JP JP2011158895A patent/JP5890977B2/ja active Active
-
2012
- 2012-06-07 TW TW101120447A patent/TWI534879B/zh active
- 2012-07-18 KR KR1020120078181A patent/KR101825751B1/ko active Active
- 2012-07-20 CN CN201210253593.3A patent/CN102886829B/zh active Active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000173954A (ja) * | 1998-12-04 | 2000-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウェーハの製造方法及び切削用ホイール |
| JP2001177096A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-29 | Fuji Electric Co Ltd | 縦型半導体装置の製造方法および縦型半導体装置 |
| US20040113283A1 (en) * | 2002-03-06 | 2004-06-17 | Farnworth Warren M. | Method for fabricating encapsulated semiconductor components by etching |
| JP2005019666A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハの研削方法および半導体ウエハ研削用粘着シート |
| JP2008182015A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの研削方法 |
| JP2009004406A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | 基板の加工方法 |
| JP2009043931A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハの裏面研削方法 |
| JP2011109067A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-06-02 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2013021017A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの研削方法 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015015421A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
| JP2015041687A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
| CN105448750A (zh) * | 2014-08-28 | 2016-03-30 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件及其制作方法和电子装置 |
| KR101532591B1 (ko) * | 2015-02-02 | 2015-06-30 | 에이피텍(주) | 두께 정밀 가공이 가능한 반도체용 알루미늄 기판 평면 절삭 가공 장치 |
| JP2019029543A (ja) * | 2017-07-31 | 2019-02-21 | 株式会社ディスコ | ウエーハの研削方法 |
| JP6999322B2 (ja) | 2017-07-31 | 2022-01-18 | 株式会社ディスコ | ウエーハの研削方法 |
| JPWO2022158485A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | ||
| WO2022158485A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | 三井化学東セロ株式会社 | ウエハの裏面研削方法及び電子デバイスの製造方法 |
| JP7551787B2 (ja) | 2021-01-21 | 2024-09-17 | アールエム東セロ株式会社 | ウエハの裏面研削方法及び電子デバイスの製造方法 |
| TWI894428B (zh) * | 2021-01-21 | 2025-08-21 | 日商三井化學艾喜緹瑪蒂莉亞股份有限公司 | 晶圓的背面研磨方法及電子裝置的製造方法 |
| CN113070803A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-07-06 | 天津亿众飞扬科技有限公司 | 一种半自动金属字面打磨抛光机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20130011945A (ko) | 2013-01-30 |
| JP5890977B2 (ja) | 2016-03-22 |
| TWI534879B (zh) | 2016-05-21 |
| CN102886829A (zh) | 2013-01-23 |
| TW201308415A (zh) | 2013-02-16 |
| CN102886829B (zh) | 2016-05-11 |
| KR101825751B1 (ko) | 2018-02-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5890977B2 (ja) | 加工方法 | |
| JP5226287B2 (ja) | ウェーハの研削方法 | |
| JP5945182B2 (ja) | バイト切削装置 | |
| JP5179928B2 (ja) | ウエーハの搬出方法 | |
| JP4806282B2 (ja) | ウエーハの処理装置 | |
| JP2014027000A (ja) | 研削装置 | |
| KR101049024B1 (ko) | 반도체 웨이퍼에의 보호테이프 접착방법 및 접착장치 | |
| JP2015220303A (ja) | ウェーハの加工方法及び中間部材 | |
| JP7430515B2 (ja) | ウエーハの処理方法 | |
| JP5513201B2 (ja) | 硬質基板の研削方法および研削装置 | |
| JP5679183B2 (ja) | 硬質基板の研削方法 | |
| JP5912310B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
| JP2006216895A (ja) | 半導体ウエーハの研磨装置 | |
| JP4968819B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
| JP5554100B2 (ja) | シート切断方法およびシート切断装置 | |
| JP2013069886A (ja) | ウエーハの研削方法および保護膜形成装置 | |
| JP4937700B2 (ja) | 乾式研磨装置 | |
| JP6125357B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
| JP2017204606A (ja) | ウエーハ製造方法 | |
| JP2018192412A (ja) | 加工装置 | |
| JP4927634B2 (ja) | 移送装置 | |
| JP2015026728A (ja) | 研削装置 | |
| JP5264525B2 (ja) | 研削装置 | |
| JP2007221030A (ja) | 基板の加工方法 | |
| JP5653234B2 (ja) | 硬質基板の研削方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140625 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150427 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150604 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150616 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150814 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160126 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160222 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5890977 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |