JP2012121096A - Grinding device - Google Patents
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Abstract
【課題】保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できる研削装置を提供すること。
【解決手段】研削装置の検出手段における保持テーブル8aは、上面中央に吸引口8lを有する基台部8gと、基台部8g上に吸引口8lを囲むように配設された環状部材8hと、基台部8g上の環状部材8hの内側に配設された中央部材8iと、を有し、環状部材8hは非通気性と弾性とを有しワークW表面に貼着された保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、中央部材8iは通気性と弾性とを有する構成とした。
【選択図】図3Disclosed is a grinding device capable of suppressing the displacement of a workpiece due to rotation of a holding table and accurately detecting the position of the workpiece.
A holding table 8a in a detecting means of a grinding apparatus includes a base portion 8g having a suction port 8l at the center of the upper surface, and an annular member 8h disposed on the base portion 8g so as to surround the suction port 8l. A central member 8i disposed inside the annular member 8h on the base portion 8g, and the annular member 8h is non-breathable and elastic, and is a protective tape adhered to the surface of the workpiece W. The thickness is sufficient to absorb unevenness, and the central member 8i is configured to have air permeability and elasticity.
[Selection] Figure 3
Description
本発明は、半導体ウェーハなどのワーク(被加工物)を研削加工する際に、チャックテーブルに対してワークを所定の位置に位置付け可能な研削装置に関する。 The present invention relates to a grinding apparatus capable of positioning a workpiece at a predetermined position with respect to a chuck table when grinding a workpiece (workpiece) such as a semiconductor wafer.
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状であるワークの表面に格子状に配列された分割予定ラインによって区画された複数の領域それぞれにIC,LSIなどのデバイスを形成した後、研削装置によってワーク裏面を研削してワークを所定の厚みに加工し、研削加工済みのワークを分割予定ラインに沿って切断することによって個々のチップへと分割する。 In the semiconductor device manufacturing process, devices such as IC and LSI are formed in each of a plurality of areas defined by division lines arranged in a lattice pattern on the surface of a substantially disk-shaped workpiece, and then the workpiece is processed by a grinding machine. The back surface is ground to process the workpiece into a predetermined thickness, and the ground workpiece is divided into individual chips by cutting along the planned division line.
研削装置においては、ワークを所定の向きおよび位置に位置付けてチャックテーブルに搬入し、ワークを保持したチャックテーブルと研削ホイールとの相対回転によってワークを研削する。ワークには、外周縁部に結晶方位を示すオリエンテーションフラットまたはオリエンテーションノッチと呼ばれる切り欠きが形成され、この切り欠きによりワークの向きが特定される。 In the grinding apparatus, the workpiece is positioned in a predetermined direction and position, is carried into the chuck table, and the workpiece is ground by relative rotation between the chuck table holding the workpiece and the grinding wheel. In the work, a notch called an orientation flat or orientation notch indicating a crystal orientation is formed on the outer peripheral edge, and the direction of the work is specified by this notch.
従来、チャックテーブルにワークを搬入する前に、ワークの向きおよび位置を検出する検出手段を備えた研削装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この検出手段は、保持テーブル上にバキューム方式で保持したワークを回転し、撮像手段でこのワークの外周縁部を順次撮像して、ワークの位置および向きを検出する。 2. Description of the Related Art Conventionally, there has been proposed a grinding apparatus provided with detection means for detecting the orientation and position of a workpiece before carrying the workpiece into a chuck table (see, for example, Patent Document 1). The detection means rotates the work held on the holding table by the vacuum method, and sequentially picks up the outer peripheral edge of the work by the image pickup means to detect the position and orientation of the work.
ワーク表面にバンプと呼ばれる複数の突起物が形成されていると、ワーク表面に保護テープを貼着しても表面の凹凸を完全に吸収できない場合がある。この場合、バンプが形成された面を下向きにしてワークを検出装置の従来のセラミックや金属で形成された保持テーブルに載置すると、ワーク表面(テープ表面)と保持テーブルとの間に隙間ができるため、バキューム方式の保持テーブルにおける吸着力が十分に作用せず、保持テーブルの回転によってワークが水平方向に位置ずれし、検出精度が低下する問題があった。 If a plurality of protrusions called bumps are formed on the work surface, the surface irregularities may not be completely absorbed even if a protective tape is applied to the work surface. In this case, when the work is placed on the holding table made of conventional ceramic or metal of the detection device with the surface on which the bump is formed facing downward, a gap is formed between the work surface (tape surface) and the holding table. For this reason, the suction force on the vacuum type holding table does not sufficiently act, and the workpiece is displaced in the horizontal direction due to the rotation of the holding table, and there is a problem that the detection accuracy is lowered.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できる研削装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a grinding apparatus that can suppress the displacement of the workpiece due to the rotation of the holding table and can accurately detect the position of the workpiece.
本発明の研削装置は、表面から突出した複数の電極を有するワーク表面に保護テープが貼着され、前記表面に貼着された前記保護テープを介して前記ワークを保持する保持手段と、前記保持手段に保持されたワークを裏面側から研削加工する研削手段と、前記保持手段にワークを搬入する前に、ワークの中心位置を検出する検出手段と、を含む研削装置であって、前記検出手段は、前記ワークを保持する保持テーブルと、前記保持テーブルの鉛直方向を回転軸として前記保持テーブルを回転させる回転部と、前記保持テーブルに保持された前記ワークの外周を撮像する撮像手段と、を有し、前記保持テーブルは、上面中央に吸引口を有する基台部と、前記基台部上に前記吸引口を囲むように配設された環状部材と、前記基台部上の前記環状部材の内側に配設された中央部材と、を有し、前記環状部材は非通気性と弾性とを有し前記ワーク表面に貼着された前記保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、前記中央部材は通気性と弾性とを有することを特徴とする。 In the grinding apparatus of the present invention, a protective tape is attached to a work surface having a plurality of electrodes protruding from the surface, and the holding means for holding the work via the protective tape attached to the surface; and the holding A grinding apparatus comprising: grinding means for grinding a work held by the means from the back side; and detection means for detecting a center position of the work before carrying the work into the holding means, wherein the detection means A holding table that holds the workpiece, a rotating unit that rotates the holding table about a vertical direction of the holding table, and an imaging unit that images the outer periphery of the workpiece held by the holding table. The holding table includes a base portion having a suction port at the center of the upper surface, an annular member disposed on the base portion so as to surround the suction port, and the annular portion on the base portion. A central member disposed on the inside of the annular member, wherein the annular member has air permeability and elasticity and has a thickness capable of absorbing irregularities of the protective tape adhered to the work surface. The member is characterized by air permeability and elasticity.
この研削装置によれば、研削装置の検出手段における保持テーブルは、上面中央に吸引口を有する基台部と、前記基台部上に前記吸引口を囲むように配設された環状部材と、前記基台部上の前記環状部材の内側に配設された中央部材と、を有し、前記環状部材は非通気性と弾性とを有し前記ワーク表面に貼着された前記保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、前記中央部材は通気性と弾性とを有するため、前記ワークを載置した際に前記ワークの表面形状に沿って前記保持テーブル表面が変形し、表面に凹凸を有するワークであっても保持テーブルにワークが適切に保持される。また、中央部材は通気性を有するため、ワークと中央部材との間に発生するバキューム方式の保持テーブルにおける吸着力が適切に作用する。そのため、保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できる。 According to this grinding apparatus, the holding table in the detection means of the grinding apparatus includes a base portion having a suction port at the center of the upper surface, an annular member disposed on the base portion so as to surround the suction port, A central member disposed inside the annular member on the base portion, and the annular member has air permeability and elasticity, and the unevenness of the protective tape adhered to the work surface Since the central member has air permeability and elasticity, the surface of the holding table is deformed along the surface shape of the workpiece when the workpiece is placed, and the workpiece has irregularities on the surface. Even so, the work is properly held in the holding table. Further, since the central member has air permeability, the suction force in the vacuum type holding table generated between the workpiece and the central member acts appropriately. Therefore, the position shift of the work due to the rotation of the holding table can be suppressed, and the position of the work can be detected with high accuracy.
本発明によれば、保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できる研削装置を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the position shift of the workpiece | work by rotation of a holding table can be suppressed, and the grinding apparatus which can detect the position of a workpiece | work accurately can be provided.
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本実施の形態に係る研削装置1の外観斜視図である。なお、以下の説明では、本発明の特徴部分である検出手段を研削装置に適用した例について説明するが、例えば、ワークの向きおよび中心位置をチャックテーブルに位置付ける他の加工装置に適用することも可能である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is an external perspective view of a grinding apparatus 1 according to the present embodiment. In the following description, an example in which the detection means that is a characteristic part of the present invention is applied to a grinding apparatus will be described. However, for example, it may be applied to other processing apparatuses that position the orientation and center position of a workpiece on a chuck table. Is possible.
図1に示すように、研削装置1は、複数の電極(バンプ)が形成された面を下向きにしてワークWを保持するチャックテーブル2と研削ユニット3の研削ホイール3aとを相対回転して、ワークW裏面に研削加工を施すように構成される。 As shown in FIG. 1, the grinding apparatus 1 relatively rotates the chuck table 2 holding the workpiece W with the surface on which a plurality of electrodes (bumps) are formed facing downward, and the grinding wheel 3 a of the grinding unit 3, The workpiece W is configured to be ground on the back surface.
ここで、研削装置1の被加工物であるワークWについて説明する。ワークWは、略円板状に形成されており、表面に分割予定ラインが格子状に配列され、この分割予定ラインによって区画された複数の領域それぞれに図示しないデバイスが形成されている。そして、これらのデバイスと基板などを接続するための端子として、図示しないバンプがワークW表面から突出して形成されている。バンプは、ワークW表面に所定の間隔を空けて配置され、ワークW表面に凹凸を形成する。さらに、ワークW表面には、ワークW裏面の研削加工時にデバイスを保護するための保護テープが貼着される。また、ワークWの外周縁部には、結晶方位を示すオリエンテーションフラットOFが形成されている。 Here, the workpiece | work W which is a workpiece of the grinding apparatus 1 is demonstrated. The workpiece W is formed in a substantially disc shape, and division lines are arranged in a lattice pattern on the surface, and devices (not shown) are formed in each of a plurality of regions partitioned by the division lines. Bumps (not shown) are formed so as to protrude from the surface of the workpiece W as terminals for connecting these devices and the substrate. The bumps are arranged on the surface of the work W with a predetermined interval, and form irregularities on the surface of the work W. Further, a protective tape for protecting the device at the time of grinding the back surface of the workpiece W is attached to the surface of the workpiece W. In addition, an orientation flat OF indicating a crystal orientation is formed on the outer peripheral edge of the workpiece W.
なお、本実施の形態においては、ワークWとしてシリコンウェーハなどの半導体ウェーハを例に挙げて説明するが、ワークWは特に限定されるものではなく、例えば、シリコン(Si)、ガリウムヒ素(GaAs)、シリコンカーバイド(SiC)などの半導体ウェーハや、セラミック、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、板状金属や樹脂の延性材料、さらにはミクロンオーダーからサブミクロンオーダーの平坦度(TTV:Total Thickness Variation)が要求される各種加工材料をワークWとしてもよい。 In the present embodiment, a semiconductor wafer such as a silicon wafer will be described as an example of the workpiece W. However, the workpiece W is not particularly limited. For example, silicon (Si), gallium arsenide (GaAs) is used. , Semiconductor wafers such as silicon carbide (SiC), ceramic, glass, sapphire (Al 2 O 3 ) based inorganic material substrates, ductile materials of sheet metal and resin, and flatness of micron order to submicron order ( Various processing materials that require TTV (Total Thickness Variation) may be used as the workpiece W.
研削装置1は、略直方体状の基台4を有し、この基台4には、前面4aからY軸方向に突出する一対のカセット載置部5a,5bが設けられている。カセット載置部5aは、搬入口として機能し、加工前のワークWを収容した搬入側のカセット6aが載置される。また、カセット載置部5bは、搬出口として機能し、加工後のワークWを収容した搬出側のカセット6bが載置される。
The grinding device 1 has a substantially rectangular parallelepiped base 4, and the base 4 is provided with a pair of
基台4上に、カセット6a,6bに対してワークWの搬入および搬出を行う搬入搬出アーム7が、カセット載置部5a,5bに面して設置されている。搬入搬出アーム7は、駆動領域の広い多節リンク機構7aと、多節リンク機構7aの先端に設けられた保持部7bとを含んで構成される。搬入搬出アーム7は、多節リンク機構7aを駆動して搬入側のカセット6a内に収容されたワークWを検出部8に搬入し、また、洗浄部9から搬出側のカセット6b内にワークWを収容する。
On the base 4, a loading / unloading arm 7 for loading and unloading the workpiece W with respect to the
搬入搬出アーム7の一方側に、加工前のワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOFを検出する検出手段としての検出部8が設けられている。検出部8は、搬入搬出アーム7によって搬入されたワークWを保持する保持テーブル8aと、保持テーブル8aに保持したワークWを撮像する撮像手段としての撮像部8bと、Z軸方向(鉛直方向)を回転軸として保持テーブル8aを回転させる回転部8c(図1に不図示、図2参照)と、を含んで構成される。保持テーブル8aは、円板状に形成されており、ワークWを吸引保持する吸引源に連結されている。また、保持テーブル8aの外径は、ワークWの外径とほぼ同径に設定されている。さらに、保持テーブル8a表面は、ワークWを載置すると、弾性によりワークWの表面形状に沿って変形する。
On one side of the carry-in / carry-out arm 7, a detection unit 8 is provided as detection means for detecting the center position of the workpiece W before processing and the orientation flat OF. The detection unit 8 includes a holding table 8a that holds the workpiece W loaded by the loading / unloading arm 7, an
撮像部8bは、L字状の支持アーム8dを介して保持テーブル8aの上方に支持される。撮像部8bは、保持テーブル8aの断続的な回転に合わせてワークWの外周縁部を逐次撮像する。撮像部8bは、撮像素子(CCD)などで構成され、撮像した画像信号を制御部10に送り、ワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOFの形成位置が検出される。
The
搬入搬出アーム7の他方側に、加工後のワークWを洗浄する洗浄部9が設けられている。洗浄部9は、ワークWよりも小径な円板状の洗浄テーブル9aを備えている。洗浄テーブル9aは、加工後のワークWが載置されると開口部9bを介して基台4内に下降して、洗浄液が噴射された状態で高速回転することでワークWを洗浄し、その後ワークWを乾燥する。 On the other side of the carry-in / carry-out arm 7, a cleaning unit 9 for cleaning the processed workpiece W is provided. The cleaning unit 9 includes a disk-shaped cleaning table 9 a having a smaller diameter than the workpiece W. When the processed workpiece W is placed, the cleaning table 9a descends into the base 4 through the opening 9b, and cleans the workpiece W by rotating at a high speed in a state where the cleaning liquid is jetted. Dry the workpiece W.
検出部8と洗浄部9との間には、チャックテーブル2に加工前のワークWを供給するワーク供給部11と、チャックテーブル2から加工後のワークWを回収するワーク回収部12とが設けられている。ワーク供給部11は、Z軸方向に延在する回転軸11aと、回転軸11aの上端に支持された旋回アーム11bと、旋回アーム11bの先端に設けられたワークWを吸着保持する吸着保持部11cとを備える。回転軸11aは、Y軸およびZ軸方向に移動自在、かつ、Z軸まわりに回転自在に設けられ、Y軸およびZ軸方向の移動量ならびにZ軸まわりの回転量は制御部10によって制御される。吸着保持部11cは、回転軸11aのY軸方向の移動およびZ軸まわりの回転により水平面内における位置を調整でき、回転軸11aのZ軸方向の移動により高さ方向における位置を調整できる。ワーク供給部11は、保持テーブル8aからワークWを吸着保持して持ち上げ、チャックテーブル2上に載置する。このとき、保持テーブル8aの中心およびチャックテーブル2の中心がワーク供給部11の旋回軌跡上に位置するため、ワークWの中心がチャックテーブル2の中心に一致するように位置合わせされる。
Between the detection unit 8 and the cleaning unit 9, a
ワーク回収部12は、ワーク供給部11と略同一の構成であり、チャックテーブル2からワークWを吸引保持して持ち上げ、洗浄テーブル9a上に載置する。このとき、チャックテーブル2の中心および洗浄テーブル9aの中心がワーク回収部12の旋回軌跡上に位置するため、ワークWの中心が洗浄テーブル9aの中心に一致するように位置合わせされる。
The
基台4上には、ワーク供給部11およびワーク回収部12に隣接して、Y軸方向に延在する矩形状の開口部13が設けられている。開口部13には、チャックテーブル2とともに移動可能な移動板14および蛇腹状の防水カバー15により被覆される。防水カバー15の下方には、チャックテーブル2をY軸方向に移動する図示しないボールねじ式の移動機構が設けられている。チャックテーブル2は、この移動機構により、ワーク供給部11およびワーク回収部12によってワークWが移載される移載位置と、研削ユニット3によってワークWが研削加工される加工位置との間を往復移動する。
On the base 4, a
移動板14上に、保持手段としてのチャックテーブル2が設置されている。チャックテーブル2は、円板状に形成されており、ワークWを吸着保持するワーク保持部2aを備える。ワーク保持部2aは、例えば、ポーラスセラミック材により形成されており、基台4内に設置された図示しない吸引源に接続される。また、ワーク保持部2aは、ワークWの外形形状に沿って、オリエンテーションフラットOFに対応する部分を切り欠いた形状に設定されている。これにより、チャックテーブル2の向きが規定される。さらに、チャックテーブル2は、図示しない回転駆動機構により回転可能に構成されている。これにより、チャックテーブル2は、ワーク供給部11によってワークWを載置する際に、ワークWのオリエンテーションフラットOFの向きにワーク保持部2aの向きを合わせるように回転駆動される。
On the moving
基台4上には、開口部13に隣接して支柱部16が立設されており、支柱部16にはZ軸方向に形成された一対のZ軸ガイドレール17a,17bが配設されている。Z軸テーブル18は、Z軸ガイドレール17a,17bに沿ってZ軸方向に移動自在に設置されている。Z軸テーブル18の背面部には、図示しないナット部が形成され、ナット部にボールねじ19が螺合されている。そして、ボールねじ19の端部には、駆動モータ20が連結され、駆動モータ20によりボールねじ19が回転駆動される。
On the base 4, a
Z軸テーブル18には、支持部21を介して研削手段としての研削ユニット3が支持されている。研削ユニット3には、図示しないスピンドルの下端に研削ホイール3aが着脱自在に装着される。研削ホイール3aは、例えば、ダイヤモンドの砥粒をメタルボンドやレジンボンドなどの結合剤で固めたダイヤモンド砥石で構成されている。研削ユニット3は、図示しないノズルから研削液を噴射しながら、チャックテーブル2に保持されたワークWを研削加工する。このとき、研削液の表面張力によってワークWとワーク保持部2aとの隙間がシールされるため、ワーク保持部2aに接するワークW表面に凹凸が形成されていたとしても、ワーク保持部2aによってワークWを適切に保持できる。
The Z-axis table 18 supports a grinding unit 3 as a grinding means via a
制御部10は、CPU,ROM,RAMなどのハードウェア資源で構成されており、CPUがROMに記憶されている制御用ソフトウェアを読み出してプログラムに従って処理を実行する。制御部10は、検出部8によるワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOF形成位置の算出処理、ワーク供給部11によるワークWの位置合わせ処理、チャックテーブル2によるワークWに対する向き合わせ処理などの各処理を実行する。また、ROMやRAMには、制御用ソフトウェア以外に、画像データ用の直交平面座標系(図10参照)も記憶されている。
The
次に、研削装置1における検出部8について詳細に説明する。図2は、研削装置1における検出部8の一部の(a)斜視図、(b)分解斜視図である。 Next, the detection unit 8 in the grinding apparatus 1 will be described in detail. FIG. 2 is a (a) perspective view and (b) exploded perspective view of a part of the detection unit 8 in the grinding apparatus 1.
保持テーブル8aは、上面中央に吸引口8lを有する基台部8gと、基台部8g上に吸引口8lを囲むように配設された環状部材8hと、基台部8g上の環状部材8hの内側に配設された中央部材8iと、から構成される。環状部材8hは、非通気性および弾性を有し、ワークW表面のバンプおよびバンプを被覆する保護テープが沈み込む程度の厚み、すなわち、ワークW表面に貼着された保護テープの凹凸を吸収できる厚み、例えば、1.0mm程度に設定される。環状部材8hは、例えば、天然ゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴムなどを原料とする独立気泡のゴムスポンジで構成される。特に、密度が0.1〜0.25[g/cm3]であり、ASKER C型の計測器で測定する硬度が5〜15度である材料で構成することが望ましい。このような環状部材8hを用いると、保持テーブル8aに載置された際に環状部材8hと接触するワークWは、環状部材8hから適度な摩擦力を受けることになる。また、環状部材8hの外径は基台部8gの外径とほぼ同径に設定され、環状部材8hの内径は中央部材8iの外径とほぼ同径に設定される。
The holding table 8a includes a base portion 8g having a suction port 8l at the center of the upper surface, an
一方、中央部材8iは、通気性および弾性を有し、環状部材8hと同程度または1.0mm程度厚い厚みに設定される。中央部材8iは、例えば、ポリウレタン(PU)などを原料とする連続気泡のスポンジで構成される。特に、密度が0.1〜0.25[g/cm3]であり、ASKER C型の計測器で測定する硬度が5〜15度である材料で構成することが望ましい。このようなスポンジの一例としては、密度が0.21[g/cm3]であり、ASKER C型の計測器で測定する硬度が11度であるソフラス(登録商標)スポンジが挙げられる。中央部材8iを構成するスポンジの連続気泡のセルが大きすぎる場合、バキューム時におけるスポンジのつぶれが大きくなるため、中央部材8iとワークWとの間に空間ができて、ワークW表面と保持テーブル8a表面とが密着しないおそれがある。一方、中央部材8iを構成するスポンジの連続気泡のセルが小さすぎる場合、ワークWを載置した際にワークWの表面形状に沿ってスポンジが変形せず、ワークW表面と保持テーブル8a表面とが密着しないおそれがある。したがって、適度な大きさのセルを有する連続気泡のスポンジとして上記密度と硬度を有するスポンジを採用することが望ましい。
On the other hand, the
ここで、図3を参照して、保持テーブル8aとワークWとの関係について説明する。図3は、検出部8における保持テーブル8aとワークWとの関係を示す断面模式図である。図3(a)に示すように、ワークW表面には複数のバンプ30が形成され、ワークW表面およびバンプ30を保護テープ31が被覆している。保持テーブル8aにおいては、中央部材8iの厚みが環状部材8hより厚く設定されている。これは、外縁部に配置された環状部材8hに比べて、中央部材8iがワークWの自重により沈み込みやすいことを考慮したためである。
Here, the relationship between the holding table 8a and the workpiece W will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the relationship between the holding table 8 a and the workpiece W in the detection unit 8. As shown in FIG. 3A, a plurality of
図3(b)に示すように、保持テーブル8a上にワークWを載置すると、中央部材8iおよび環状部材8hは、弾性によりワークWの表面形状に沿って変形する。そのため、ワークW表面と保持テーブル8a表面とは隙間なく密着する。この状態で、吸引源により吸引口8lを介してワークWを吸引すると、通気性を有する中央部材8i部分のみでワークWが吸着される。この結果、ワークWと環状部材8hとの間に発生する摩擦力およびワークWと中央部材8iとの間に発生するバキューム方式の保持テーブル8aにおける吸着力が適切に作用するため、保持テーブル8aの回転によるワークWの水平方向への位置ずれが抑制できる。
As shown in FIG. 3B, when the workpiece W is placed on the holding table 8a, the
回転部8cは、出力軸8eを介して保持テーブル8aを所定の角度間隔で断続的に回転させる。ロータリエンコーダ8fは、スリット円板8jと、フォトインタラプタ8kとから構成され、回転部8cの回転位置を検出する。スリット円板8jの一部は、フォトインタラプタ8kの発光素子と受光素子との間に介在する。ロータリエンコーダ8fは、検出した信号を制御部10に送り、これにより回転部8cによる保持テーブル8aの回転が制御される。なお、本実施の形態ではロータリエンコーダ8fは透過型としたが、反射型としてもよい。
The
検出部8における撮像部8bは、上述のとおりL字状の支持アーム8dを介して保持テーブル8aの上方に支持され、撮像範囲をワークWの外周縁部に位置付けている。撮像部8bは、保持テーブル8aの所定の角度間隔による断続的な回転に合わせてワークWを撮像し、撮像データおよび実測データを取得する。撮像データは、一定間隔に設定された保持テーブル8aの各停止角度におけるワークWの外周縁部の位置を示す。また、実測データは、保持テーブル8aの回転に伴うワークWの外周縁部の位置変化を示す。
The
撮像部8bから出力された撮像データおよび実測データは、制御部10においてワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOFの形成位置の算出処理に用いられる。本実施の形態に係る検出部8は、保持テーブル8a表面に弾性を有する環状部材8hおよび中央部材8iが配置されているため、ワークWを載置した際にワークWの表面形状に沿って保持テーブル8a表面が変形することによりワークWの水平方向の位置ずれを防止する。そのため、保持テーブル8aを断続的に回転させながら、撮像部8bによりワークWの外周縁部を精度よく撮像できる。
The imaging data and actual measurement data output from the
以下、図4から図9を参照して、ワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOFの形成位置の算出処理について具体的に説明する。なお、以下の説明において、ワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOFの形成位置の算出処理は一例に過ぎず、どのような方法で算出されてもよい。また、以下の説明では、検出部8における撮像部8bをCCDラインセンサとして説明する。
Hereinafter, the calculation process of the center position of the workpiece W and the formation position of the orientation flat OF will be described in detail with reference to FIGS. In the following description, the calculation processing of the center position of the workpiece W and the formation position of the orientation flat OF is merely an example, and may be calculated by any method. In the following description, the
図4は、本実施の形態に係る研削装置1が有する撮像部8bによる撮像データおよび実測データの取得処理の説明図である。なお、図4において、一点鎖線が撮像部8bの撮像範囲Ec、二点鎖線が保持テーブル8aの停止角度をそれぞれ示している。
FIG. 4 is an explanatory diagram of the acquisition process of the imaging data and the actual measurement data by the
図4に示すように、撮像部8bの撮像範囲Ecには、保持テーブル8aに載置されたワークWの外周縁部が位置付けられている。撮像部8bは、撮像範囲Ecに位置付けられたワークWの外周縁部の位置(CCDラインセンサの座標)を検出して出力する。したがって、撮像部8bは、保持テーブル8aを断続的に回転させながら撮像範囲EcのワークWを撮像することによって、ワークWの外周縁部の全周にわたって撮像データおよび実測データを取得する。
As shown in FIG. 4, the outer peripheral edge of the workpiece W placed on the holding table 8a is positioned in the imaging range Ec of the
本実施の形態では、保持テーブル8aは、ワークWの初期位置の回転角度(0°)を基準として、24°間隔で断続的に回転される。撮像部8bは、保持テーブル8aの各停止角度におけるワークWの外周縁部の位置を撮像データとして取得する。また、撮像部8bは、これと並行して、保持テーブル8aの回転時に、撮像範囲Ecを通過するワークWの外周縁部の位置変化を実測データとして取得する。
In the present embodiment, the holding table 8a is intermittently rotated at intervals of 24 ° with reference to the rotation angle (0 °) of the initial position of the workpiece W. The
撮像データおよび実測データが取得されると、図5から図7に示すように、ワークWの中心位置の算出処理が実施される。図5は、ワークWの中心位置の算出処理の説明図である。図6は、ワークWの中心位置の算出処理の他の説明図である。図7は、ワークWの中心位置の算出処理の他の説明図である。なお、図5において、二点鎖線が保持テーブル8aの停止角度を示し、図6において、一点鎖線が仮想円を示している。 When the imaging data and the actual measurement data are acquired, the calculation process of the center position of the workpiece W is performed as shown in FIGS. FIG. 5 is an explanatory diagram of the calculation processing of the center position of the workpiece W. FIG. 6 is another explanatory diagram of the calculation processing of the center position of the workpiece W. FIG. 7 is another explanatory diagram of the calculation processing of the center position of the workpiece W. In FIG. 5, a two-dot chain line indicates the stop angle of the holding table 8a, and in FIG. 6, a one-dot chain line indicates a virtual circle.
図5に示すように、制御部10は、24°ごとの各停止角度におけるワークWの外周縁部の位置を示す撮像データP1〜P15を取得し、これら撮像データP1〜P15を用いてワークWの中心位置を算出する。具体的には、制御部10は、15点P1〜P15の120°間隔の3点を1組とし、各組の3点によって定まる円の中心位置(仮中心位置)を算出する。例えば、図6に示すように、P5,P10,P15の組では、一点鎖線で示す仮想円の仮中心位置O1が算出される。制御部10は、この処理を他の各組についても実施し、図7に示すように、5組それぞれの仮中心位置O1〜O5を算出する。
As shown in FIG. 5, the
次に、制御部10は、算出した仮中心位置O1〜O5に基づいてワークWの中心位置を算出する。制御部10は、算出した仮中心位置O1〜O5のうち、その位置が大きく外れるものはオリエンテーションフラットOF上の点を含んで算出されたと考え、ワークWの中心位置の算出処理に用いるデータからこれらの点を除外する。例えば、図7に示したP5,P10,P15の組は、オリエンテーションフラットOF上の点P15を含むため、仮中心位置O1は、オリエンテーションフラットOFを含まない他の組の仮想円の仮中心位置から大きく外れる。P4,P9,P14の組も同様である。このため、制御部10は、全ての仮中心位置を比較し、仮中心位置O2,O3,O4から大きく外れた2組の仮中心位置O1,O5をワークWの中心位置の算出処理に用いるデータから除外する。
Next, the
これにより、オリエンテーションフラットOF上の点P14,P15を除いてワークWの中心位置が算出される。なお、ここでは、除外する仮中心位置を2組としたが、この数は異形状部の大きさや停止角度の間隔等に応じて適宜変更可能である。そして、制御部10は、残った3組の仮中心位置O2、O3、O4を用い、これらの重心を算出してワークWの中心位置とする。
As a result, the center position of the workpiece W is calculated excluding the points P14 and P15 on the orientation flat OF. Here, two sets of temporary center positions to be excluded are used, but this number can be changed as appropriate according to the size of the irregularly shaped portion, the interval of the stop angle, and the like. Then, the
ワークWの中心位置が算出されると、制御部10は、オリエンテーションフラットOFの形成位置を検出する際の基準となる基準データを生成する。図8は、基準データの一例を示す図である。
When the center position of the workpiece W is calculated, the
図8に示すように、制御部10は、オリエンテーションフラットOF上の点を除いた点(仮中心位置O2,O3,O4を算出するのに用いた3組9点)を用いて基準データを生成する。具体的には、組ごとに、3点によって定まる仮想円の円周上位置が撮像部8bの撮像範囲に位置付けられたときの位置変化を算出する。この場合、保持テーブル8aの回転中心に対して、各組の仮想円の仮中心位置がわずかに偏芯しているためsinカーブが得られる。そして、3組それぞれについて作成されたsinカーブを平均化して、図8に示す基準データとする。基準データは、ワークWにオリエンテーションフラットOFを含まない円形状で形成された場合の位置変化を示す。
As shown in FIG. 8, the
次に、制御部10は、算出した基準データと上記した実測データとを比較することによってオリエンテーションフラットOFの形成位置を検出する。図9は、オリエンテーションフラットOFの形成位置の算出処理の説明図である。なお、図9において、実線W1が基準データ、一点鎖線W2が実測データ、二点鎖線W3が基準データと実測データとの差分値をそれぞれ示している。
Next, the
上述のとおり、実測データは、オリエンテーションフラットOFを含むワークWの外周縁部の位置変化を示している。制御部10は、二点鎖線に示すように、基準データと実測データとの差分値を回転角度ごとに算出する。そして、算出した差分値が、差分値の目盛0に対してあらかじめ設定されるしきい値Thを超えている角度範囲Lを、オリエンテーションフラットOFの形成位置として検出する。このオリエンテーションフラットOFの形成位置(角度範囲)からワークWの向きが検出される。
As described above, the actual measurement data indicates a change in the position of the outer peripheral edge of the workpiece W including the orientation flat OF. The
図10を参照して、本実施の形態に係る研削装置1が有するチャックテーブル2に対するワークWの位置および向きの位置付け動作について説明する。図10は、本実施の形態に係る研削装置1が有するチャックテーブル2に対するワークWの位置および向きの位置付け動作の説明図である。 With reference to FIG. 10, the positioning operation | movement of the position and direction of the workpiece | work W with respect to the chuck table 2 which the grinding apparatus 1 which concerns on this Embodiment has is demonstrated. FIG. 10 is an explanatory diagram of the positioning operation of the position and orientation of the workpiece W with respect to the chuck table 2 included in the grinding apparatus 1 according to the present embodiment.
図10に示すように、直交平面座標系には、あらかじめ記憶されたチャックテーブル2の中心座標C2、算出されたワークWの中心座標C1およびワークWの向きを示す角度θ1が設定されている。まず、制御部10によりチャックテーブル2の中心座標C2とワークWの中心座標C1との差分に基づいて、ワーク供給部11の回転軸11aのY軸方向の移動量およびZ軸まわりの回動量が算出されると共に、ワークWの向きを示す角度θ1に基づいてチャックテーブル2の回転量が算出される。
As shown in FIG. 10, in the orthogonal plane coordinate system, a center coordinate C2 of the chuck table 2 stored in advance, a calculated center coordinate C1 of the workpiece W, and an angle θ1 indicating the orientation of the workpiece W are set. First, based on the difference between the center coordinate C2 of the chuck table 2 and the center coordinate C1 of the workpiece W by the
次に、ワーク供給部11は、保持テーブル8aの上方に位置した状態から、回転軸11aを−Z軸方向に移動(下降)させて吸着保持部11cによりワークWを吸着保持した後、Z軸方向に移動する(上昇)。次に、ワーク供給部11は、制御部10に算出された回転軸11aのY軸方向の移動量およびZ軸まわりの回転量に応じて回転軸11aを駆動し、ワークWをチャックテーブル2の上方に位置させる。この時点で、ワークWの中心位置とチャックテーブル2の中心位置とが一致している。
Next, the
次に、チャックテーブル2は、Y軸方向を向いた初期状態から角度θ1だけ回転し、ワークWの向きにチャックテーブル2の向きを一致させる。次に、ワーク供給部11は、回転軸11aを−Z軸方向に移動(下降)させて、吸着保持部11cの吸着を解除する。このようにして、ワークWの中心がチャックテーブル2の中心に位置合わせされるとともに、ワークWの向きがチャックテーブル2の向きに合わせられる。
Next, the chuck table 2 is rotated by an angle θ1 from the initial state facing the Y-axis direction, and the orientation of the chuck table 2 is matched with the orientation of the workpiece W. Next, the
このように、ワークWの向きがチャックテーブル2の向きに合わせられた状態で、ワークWがチャックテーブル2に位置合わせされるため、ワークWがチャックテーブル2のワーク保持部2aに合致するように載置される。したがって、ワークWに形成されたオリエンテーションフラットOFとワーク保持部2aにおけるオリエンテーションフラットOFに対応する部分が一致し、このワークWとワーク保持部2aとの位置ずれにより吸着力が低下することが防止される。
Thus, since the workpiece W is aligned with the chuck table 2 in a state where the orientation of the workpiece W is aligned with the orientation of the chuck table 2, the workpiece W matches the
続いて、本実施の形態に係る研削装置1による研削加工の流れについて説明する。まず、搬入搬出アーム7によってカセット6aから加工前のワークWを搬出し、検出部8における保持テーブル8aに載置する。次に、保持テーブル8aを断続的に回転し、撮像部8bによってワークWの外周縁部を撮像する。このとき、保持テーブル8a表面の弾性によりワークWの表面形状に沿って保持テーブル8a表面が変形しているため、ワークWの水平方向の位置ずれが防止され、撮像部8bによる精度よい撮像が実現できる。次に、撮像結果に基づいてワークWの中心位置および向きが算出され、この結果に基づいてワークW中心がチャックテーブル2中心に一致し、かつ、ワーク保持部2aの向きと一致するようにワーク供給部11によってワークWを位置合わせする。
Next, the flow of grinding by the grinding apparatus 1 according to the present embodiment will be described. First, the workpiece W before processing is unloaded from the
次に、チャックテーブル2に保持されたワークWを、加工位置において研削ユニット3によって所定の厚みまで研削する。研削加工終了後、移載位置においてワークWをワーク回収部12によって洗浄部9の洗浄テーブル9aに載置する。洗浄処理終了後、洗浄テーブル9aからワークWを搬入搬出アーム7によって搬出し、カセット6b内に収容する。
Next, the workpiece W held on the chuck table 2 is ground to a predetermined thickness by the grinding unit 3 at the machining position. After the grinding process is completed, the workpiece W is placed on the cleaning table 9a of the cleaning unit 9 by the
以上のように、本実施の形態に係る研削装置1によれば、研削装置1の検出部8における保持テーブル8aは、上面中央に吸引口8lを有する基台部8gと、基台部8g上に吸引口8lを囲むように配設された環状部材8hと、基台部8g上の環状部材8hの内側に配設された中央部材8iと、を有し、環状部材8hは非通気性と弾性とを有しワークW表面に貼着された保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、中央部材8iは通気性と弾性とを有するため、ワークWを載置した際にワークWの表面形状に沿って保持テーブル8a表面が変形し、表面に凹凸を有するワークWであっても保持テーブル8aにワークWが適切に保持される。また、中央部材8iは通気性を有するため、ワークWと中央部材8iとの間に発生するバキューム方式の保持テーブル8aにおける吸着力が適切に作用する。これより、保持テーブル8aの回転時におけるワークWの水平方向の位置ずれが防止できる。したがって、保持テーブル8aを断続的に回転させながら、撮像部8bによりワークWの外周縁部を精度よく撮像でき、ワークの位置を精度よく検出することが可能となる。
As described above, according to the grinding apparatus 1 according to the present embodiment, the holding table 8a in the detection unit 8 of the grinding apparatus 1 includes the base part 8g having the suction port 8l at the center of the upper surface, and the base part 8g. And a
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、さまざまに変更して実施可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更が可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施可能である。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can implement variously. In the above-described embodiment, the size, shape, and the like illustrated in the accompanying drawings are not limited thereto, and can be appropriately changed within a range in which the effect of the present invention is exhibited. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.
例えば、上記実施の形態においては、ワークWにはバンプが形成され、ワークW表面が凹凸を有する構成としたが、本発明はこの構成に限定されるものではない。ワークW表面が凹凸を有さない構成であっても、ワークWを載置した際に弾性を有する保持テーブル8a表面が変形することにより、保持テーブル8a回転時におけるワークWの水平方向の位置ずれが防止できる。 For example, in the above embodiment, bumps are formed on the workpiece W and the surface of the workpiece W has irregularities. However, the present invention is not limited to this configuration. Even if the surface of the workpiece W has no irregularities, the surface of the holding table 8a having elasticity when the workpiece W is placed is deformed, whereby the horizontal displacement of the workpiece W during rotation of the holding table 8a. Can be prevented.
また、上記実施の形態においては、保持テーブル8aの外径がワークWの外径とほぼ同径、すなわち環状部材8hの外径がワークWの外径とほぼ同径に設定された構成としたが、本発明はこの構成に限定されるものではない。保持テーブル8aがワークWを吸引保持可能であればよいので、環状部材8hの内径よりもワークWの外径が大きく設定された構成であればよい。もちろん、保持テーブル8aの外径がワークWの外径よりも小さく設定された構成としてもよい。このような構成とすることで、大きさの異なるワークWに対しても同一の保持テーブル8aを使用することができ、また、ワークWと保持テーブル8aとの間の異物のかみ込みを低減することができる。
In the above embodiment, the outer diameter of the holding table 8a is substantially the same as the outer diameter of the workpiece W, that is, the outer diameter of the
また、上記実施の形態においては、保持テーブル8aの回転がロータリエンコーダ8fの出力に基づいて制御される構成としたが、本発明はこの構成に限定されるものではない。回転部8cが保持テーブル8aの回転量を出力可能であれば、ロータリエンコーダ8fを設けない構成としてもよい。
In the above embodiment, the rotation of the holding table 8a is controlled based on the output of the
また、上記実施の形態においては、検出部8によってワークWの中心位置およびオリエンテーションフラットOFの形成位置(ワークWの向き)を検出する構成としたが、本発明はこの構成に限定されるものではない。検出部8が、ワークWの中心位置または向きのいずれか一方のみを検出する構成としてもよい。 Moreover, in the said embodiment, although it was set as the structure which detects the center position of the workpiece | work W, and the formation position (direction of the workpiece | work W) of the orientation flat OF by the detection part 8, this invention is not limited to this structure. Absent. The detection unit 8 may be configured to detect only one of the center position or orientation of the workpiece W.
また、上記実施の形態においては、ワークWの向きを規定する異形状部としてオリエンテーションフラットOFを例示して説明したが、本発明はこの構成に限定されるものではない。ワークWの外周縁部においてワークWの向きを特定可能であればよく、例えば、オリエンテーションノッチを設ける構成としてもよい。 Moreover, in the said embodiment, although orientation flat OF was illustrated and demonstrated as an irregular shape part which prescribes | regulates the direction of the workpiece | work W, this invention is not limited to this structure. It is only necessary that the direction of the workpiece W can be specified at the outer peripheral edge of the workpiece W. For example, an orientation notch may be provided.
以上説明したように、本発明は、保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できるため、上記研削装置に限られず、研削加工、レーザ加工などを行う種々の加工装置に適用可能である。 As described above, the present invention can suppress the displacement of the workpiece due to the rotation of the holding table and can accurately detect the position of the workpiece. Therefore, the present invention is not limited to the above-described grinding apparatus, and performs various processes such as grinding and laser machining. Applicable to processing equipment.
1 研削装置
2 チャックテーブル
2a ワーク保持部
3 研削ユニット
3a 研削ホイール
4 基台
4a 前面
5a,5b カセット載置部
6a,6b カセット
7 搬入搬出アーム
7a 多節リンク機構
7b 保持部
8 検出部
8a 保持テーブル
8b 撮像部
8c 回転部
8d 支持アーム
8e 出力軸
8f ロータリエンコーダ
8g 基台部
8h 環状部材
8i 中央部材
8j スリット円板
8k フォトインタラプタ
8l 吸引口
9 洗浄部
9a 洗浄テーブル
9b 開口部
10 制御部
11 ワーク供給部
12 ワーク回収部
11a 回転軸
11b 旋回アーム
11c 吸着保持部
13 開口部
14 移動板
15 防水カバー
16 支柱部
19 ボールねじ
20 駆動モータ
21 支持部
30 バンプ
31 保護テープ
W ワーク
OF オリエンテーションフラット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Grinding apparatus 2 Chuck table 2a Work holding part 3 Grinding unit 3a Grinding wheel 4
Claims (1)
前記保持手段に保持されたワークを裏面側から研削加工する研削手段と、
前記保持手段にワークを搬入する前に、ワークの中心位置を検出する検出手段と、を含む研削装置であって、
前記検出手段は、
前記ワークを保持する保持テーブルと、
前記保持テーブルの鉛直方向を回転軸として前記保持テーブルを回転させる回転部と、
前記保持テーブルに保持された前記ワークの外周を撮像する撮像手段と、を有し、
前記保持テーブルは、
上面中央に吸引口を有する基台部と、
前記基台部上に前記吸引口を囲むように配設された環状部材と、
前記基台部上の前記環状部材の内側に配設された中央部材と、を有し、
前記環状部材は非通気性と弾性とを有し前記ワーク表面に貼着された前記保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、前記中央部材は通気性と弾性とを有することを特徴とする研削装置。
A protective tape is attached to the work surface having a plurality of electrodes protruding from the surface, and holding means for holding the work via the protective tape attached to the surface;
Grinding means for grinding the workpiece held by the holding means from the back side;
A detecting device for detecting a center position of the workpiece before carrying the workpiece into the holding device,
The detection means includes
A holding table for holding the workpiece;
A rotating unit that rotates the holding table around the vertical direction of the holding table;
Imaging means for imaging the outer periphery of the work held by the holding table;
The holding table is
A base having a suction port in the center of the upper surface;
An annular member disposed on the base portion so as to surround the suction port;
A central member disposed inside the annular member on the base, and
The annular member has air permeability and elasticity and has a thickness capable of absorbing irregularities of the protective tape adhered to the work surface, and the central member has air permeability and elasticity. apparatus.
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150303 |