JP2012112572A

JP2012112572A - 加熱調理器

Info

Publication number: JP2012112572A
Application number: JP2010261322A
Authority: JP
Inventors: Yuko Nakajima; 優子中島; Noriko Ohashi; 紀子大橋; Keiko Fukuoka; 慶子福岡
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2010-11-24
Filing date: 2010-11-24
Publication date: 2012-06-14

Abstract

【課題】加熱の程度が同じ二以上の食材の加熱調理を同時に行うことができ、また、加熱の程度が異なる二以上の食材の加熱調理も同時に行うことができる加熱調理器を提供すること。
【解決手段】加熱調理器に、一の皿位置決め部に位置決めされた皿の上側に位置する上側室内の食材を高温調理すると共に、その位置決めされた皿の下側に位置する下側室内の食材を高温調理するように、循環ファンの回転速度を制御する第１制御と、一の皿位置決め部である係止部３９ｂに位置決めされた皿の上側に位置する上側室９８内の食材を高温調理する一方、その位置決めされた皿の下側に位置する下側室９９内の食材を低温調理するように、循環ファンの回転速度を制御する第２制御とを選択可能な制御部を搭載する。
【選択図】図５

Description

本発明は、例えば、蒸気調理器や電子レンジ等の加熱調理器に関する。

従来、加熱調理器としては、特開２０１０−２０７３７８号公報（特許文献１）に記載されているものがある。

この加熱調理器は、被調理物の上面を放射加熱する第１の加熱手段と、調理室底面を加熱するヒータとを有し、被調理物を載置する載置皿を上下から熱することができるようにし、被調理物を上下から加熱調理できるようになっている。そして、載置皿を必要十分に加熱することができるようにし、調理物に必要な熱量を与えることで食味を向上させるようにしている。

しかし、この従来の加熱調理器は、庫内にある被調理物全体に熱量を与えることができる一方、被調理物と一緒に食するソースなどは、同時に加熱すると焦げてしまうため、被調理物の加熱が終わってから別途温める必要がある。したがって、被調理物と一緒に食するソースなどを、別途温めている最中に、加熱調理を行った被加熱物が冷めてしまうという問題がある。

特開２０１０−２０７３７８号公報（特許文献１）

そこで、本発明の課題は、加熱の程度が同じ二以上の食材の加熱調理を同時に行うことができ、また、加熱の程度が異なる二以上の食材の加熱調理も同時に行うことができる加熱調理器を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
皿位置決め部と、この皿位置決め部により位置決めされた皿よりも上側と下側に夫々位置する上側噴出口および下側噴出口とを有する加熱室と、
この加熱室よりも上側に配置されて熱媒体を加熱する加熱部と、
この加熱部と、上記下側噴出口とを少なくとも連結すると共に、上記下側噴出口を上記上側噴出口よりも下流側に位置させている吹き出し経路と、
上記加熱室から熱媒体を吸い込み、この吸い込んだ熱媒体を、上記加熱部および吹き出し経路を介して、上記上側噴出口および下側噴出口から吹き出すように熱媒体を循環させるファンと、
上記ファンを駆動するモータと、
上記皿よりも上側の上側室の温度と、上記皿よりも下側の下側室の温度とが略等しくなるように、上記モータに、上記ファンを第１回転速度で回転させるように制御する第１制御と、上記上側室の温度よりも、上記下側室の温度が低くなるように、上記モータに、上記ファンを、上記第１回転速度よりも遅い第２回転速度で回転させるように制御する第２制御とを行う制御部と
を備えることを特徴としている。

尚、この明細書では、上側室の温度と、下側室の温度とが、略等しいとは、上側室の温度と、下側室の温度との差が、５℃以下である場合を指す。また、上記上側室の温度よりも、上記下側室の温度が低いとは、上側室の温度に対して、下側室の温度が、５℃を超えて低い場合をいう。また、下側室の温度とは、下側室の内面に囲まれた空間の温度を指し、上側室の温度とは、上側室の内面に囲まれた空間の温度をいう。

本発明によれば、皿位置決め部に位置決めされた皿よりも上側に熱媒体が噴き出す上側噴出口が、上記皿よりも下側に熱媒体が噴き出す下側噴出口よりも吹き出し経路において熱媒体の流れの上流に位置しているから、ファンの回転速度を変動させることにより、上記皿よりも上側の上側室とファンとの距離と、上記皿よりも下側の下側室とファンとの距離との違いにより、上側室に流れ込む熱媒体の流量と下側室に流れ込む熱媒体の流量との流量差を適宜変動させることができる。したがって、ファンの回転速度を制御することにより、上側室での加熱の程度と下側室での加熱の程度とを同等な程度にもでき、また、異なる程度にもできる。

詳しくは、本発明によれば、上記制御部が、第１制御において、上側室の温度と、下側室の温度とが略等しくなるように、ファンの回転速度を第１速度に制御することにより、皿位置決め部に位置決めされた皿の上側に位置する上側室内の食材と、上記位置決めされた皿の下側に位置する下側室内の食材とを略均一な温度で調理することができる。したがって、加熱の程度が同等の二以上の食材を同時に調理できる。

また、本発明によれば、上記制御部が、第２制御において、上側室の温度よりも、下側室の温度が低くなるように、上記ファンの回転速度を上記第１速度よりも低速である第２速度に制御することにより、上側室内の食材よりも下側室内の食材を低温で調理することができる。したがって、加熱の程度が異なる二以上の食材を同時に調理することができる。制御部が、第２制御を行っているときは、第１制御をおこなっているとき（例えば、焼きの２段調理をおこなっているとき）と比較して、ファンの回転速度が遅いから、ファンが熱媒体を、加熱室に送り込む性能が低くなる。したがって、第２制御が行われているときに、吹き出し経路において熱媒体の上流側に位置する上側噴出口から噴射される熱媒体の量を、吹き出し経路において熱媒体の下流側に位置する下側噴出口から噴射される熱媒体の量よりも多くすることができて、第２制御時に、上側室の加熱程度を、下側室の加熱程度よりも大きくすることができるのである。

したがって、例えば、目玉焼きトーストと焼き野菜を上側室で調理する一方、バーニャカウダ（ソース）を、側室よりも加熱の程度が小さい下側室で温めることにより、食材（目玉焼きトーストと焼き野菜）およびソース（バーニャカウダ）の調理を同時に完了することができて、目玉焼きトースト＆バーニャカウダ風を、短時間で調理できると共に、出来たての状態で食することができる。

また、例えば、例えば、唐揚げと焼き野菜を上側室で調理する一方、トマトソースを、側室よりも加熱の程度が小さい下側室で温めることにより、食材（唐揚げと焼き野菜）およびトマトソースの調理を同時に完了することができて、から揚げ＆焼き野菜＆トマトソースを、短時間で調理できると共に、出来たての状態で食することができる。

また、一実施形態では、
上記上側噴出口の上側室へのトータルの開口面積は、上記下側噴出口の下側室へのトータルの開口面積よりも大きくなっている。

上記実施形態によれば、上側噴出口の上側室へのトータルの開口面積は、下側噴出口の下側室へのトータルの開口面積よりも大きくなっているから、上側室に噴き出される熱媒体の量を、下側室に噴き出される熱媒体の量よりも容易に大きくすることができる。したがって、上側室と下側室とで、加熱程度が異なる調理をより容易に行うことができる。

また、一実施形態では、
上記第２制御は、上記ファンをオンオフ制御することを含む。

上記実施形態によれば、上記制御部が、第２制御を選択しているときに、ファンをオンオフ制御するから、ファンを連続的に運転する場合と比較して、ファンを運転しているときのファンの回転速度を大きくすることができる。そのようにしても、ファンが連続的に運転されることがなく、ファンが停止しているときがあるから、熱媒体が下側室に行くにくくなって、上側室へ送り込む熱媒体の量を、下側室へ送り込む熱媒体の量に対して差別化することができるからである。したがって、制御部が、上記第２制御を選択していてファンが運転状態になっているタイミングでの、ファンの回転速度をより大きくできるから、下側室に熱を届きにくくすることができるにも拘わらず、上側室において、直火効果を獲得することができる。すなわち、上側室と、下側室とで、加熱の程度の差異を際だたせることができるから、例えば、加熱程度が大きく異なる、焼きという調理と、温めるという調理とを、容易に同時に行うことができるのである。

また、一実施形態では、
上記加熱部は、過熱蒸気生成ヒータを含み、
上記第２制御は、
上記過熱蒸気生成ヒータが一定温度に達するまでは、上記過熱蒸気生成ヒータを連続的に通電すると共に、上記ファンを停止させる第１サブ制御と、
上記過熱蒸気生成ヒータが上記一定温度を超えると、上記ファンを回転させる第２サブ制御と
を含む。

尚、上記一定温度の一例としては、過熱蒸気生成ヒータの飽和温度がある。ここで、上記過熱蒸気生成ヒータの飽和温度とは、過熱蒸気生成ヒータから放出される単位時間あたりの熱量と、過熱蒸気生成ヒータの周辺から放出される熱量とが、略等しくなって、過熱蒸気生成ヒータの周辺の温度が、上昇しなくなって、過熱蒸気生成ヒータの周辺の温度が、時間の経過によらず略一定になっている状態での、上記過熱蒸気生成ヒータの周辺の温度をいう。

上記実施形態によれば、過熱蒸気生成ヒータが一定温度に達するまでは、ファンの回転速度を止めて、例えば、熱を加熱部およびその周辺に閉じ込めるようになっているから、その後、ファンを弱い回転で、熱風を回すことで、上側室に熱の供給を集中させることができる。

本発明の加熱調理器によれば、上記制御部が、第１制御において、上記ファンの回転速度を第１速度で制御することにより、皿位置決め部に位置決めされた皿の上側に位置する上側室内の食材と、上記位置決めされた皿の下側に位置する下側室内の食材とを略均一な温度で調理することができる。したがって、加熱の程度が同等の二以上の食材を同時に調理できる。

また、本発明の加熱調理器によれば、上記制御部が、第２制御において、上記ファンの回転速度を上記第１速度よりも低速である第２速度で制御することにより、上側室内の食材よりも下側室内の食材を低温で調理することができる。したがって、加熱の程度が異なる二以上の食材を同時に調理することができる。

本発明の一実施形態の加熱調理器の正面斜視図を示している。上記加熱調理器の縦断面の模式図を示している。上記加熱調理器の制御ブロック図である。上記実施形態の加熱調理器において、加熱程度が同じ調理を同時に行うときの一例の過熱蒸気の流れを示す図である。上記実施形態の加熱調理器において、加熱程度が異なる調理を同時に行うときの一例の過熱蒸気の流れを示す図である。制御部が、加熱の程度の異なる２段制御を実現できる一例の制御のフローチャートである。

以下、本発明を図示の形態により詳細に説明する。

図１は、本発明の一実施形態の加熱調理器の正面斜視図を示している。

この加熱調理器は、図１に示すように、直方体形状のケーシング１の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉２が取り付けられている。この扉２の上部にハンドル３を取り付けると共に、扉２の略中央に耐熱ガラス４を取り付けている。また、扉２の右側に操作パネル５を設けている。この操作パネル５は、カラー液晶表示部６とボタン群７を有している。また、ケーシング１の上側かつ右側後方に排気ダクト８を設けている。さらに、ケーシング１の扉２の下方に、露受容器９を着脱自在に取り付けている。

図２は、上記加熱調理器の縦断面の模式図を示している。図２に示すように、水タンク１１から供給された水を、蒸気発生装置１２で加熱して飽和水蒸気を生成する。蒸気発生装置１２で生成された飽和水蒸気は、蒸気供給通路(図示せず)を介して、加熱室１３の右側面に取り付けられた循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の加熱室１３側に供給される。

上記蒸気供給通路に接続された蒸気供給管３４を、加熱室１３の右側面と平行になるように、循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍に取り付けている。また、循環ユニット１４内には、蒸気吸込口１５に対向するように、熱媒体（下記に説明する過熱蒸気）を循環させる循環ファン１８を配置している。循環ファン１８は、ファンモータ１９によって回転駆動される。

上記加熱室１３の上面および左側面を覆うように、Ｌ字状に屈曲した蒸気ダクト１００を取り付けている。この蒸気ダクト１００は、加熱室１３の上面側に固定された第１ダクト部１１０と、第１ダクト部１１０の左側方から下側に屈曲する屈曲部１２０と、加熱室１３の左側面側に固定され、屈曲部１２０を介して第１ダクト部１１０に連なる第２ダクト部１３０とを有している。

この蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０に、過熱蒸気生成ヒータ２０を収納している。上記第１ダクト部１１０は、過熱蒸気生成室の役割を担っている。上記第１ダクト部１１０および過熱蒸気生成ヒータ２０は、加熱部を構成している。蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０と、過熱蒸気生成ヒータ２０で過熱蒸気生成装置２１を構成している。なお、過熱蒸気生成装置は、蒸気ダクトとは別に設けてもよい。

上記蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０の右側は、循環ユニット１４の上部に設けられた蒸気供給口２２に連通している。加熱室１３の天面には、複数の天面噴出口２４が設けられており、蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０は、天面噴出口２４を介して加熱室１３内に連通している。一方、蒸気ダクト１００の第２ダクト部１３０は、加熱室１３の左側面に設けられた第１噴出口２５ａ、第２噴出口２５ｂおよび第３噴出口２５ｃを介して加熱室１３内に連通している。

上記加熱室１３と蒸気ダクト１００との隙間は、耐熱樹脂などによりシールされている。また、加熱室１３と蒸気ダクト１００は、加熱室１３の前面開口を除いて断熱材により覆われている。

上記循環ユニット１４と過熱蒸気生成装置２１と加熱室１３とそれらを接続する接続部材とによって、蒸気の循環経路が形成されている。そして、この循環経路における循環ユニット１４の加熱室１３との境界部に、蒸気発生装置１２で生成された飽和水蒸気が供給される。

また、加熱室１３の下部にはマグネトロン（図示せず）が配置されている。このマグネトロンで発生したマイクロ波は、導波管(図示せず)によって加熱室１３の下部中央に導かれ、モータ３７によって駆動される回転アンテナ３８によって攪拌されながら加熱室１３内の上方に向かって放射されて被加熱物２７を加熱する。

また、ケーシング１内の下側には、冷却ファン部(図示せず)と、電装部品１７と、マグネトロン４６(図１０に示す)を配置している。電装部品１７は、加熱調理器の各部を駆動する駆動回路やこの駆動回路を制御する制御回路等を有している。

図２に示すように、加熱室１３内の左壁面および右壁面には、皿３０の両端部を係止する第１係止部３９ａ、第２係止部３９ｂおよび第３係止部３９ｃが上下方向に３段に設けられている。第１係止部３９ａは、第２係止部３９ｂよりも鉛直方向上方に位置し、第２係止部３９ｂは、第３係止部３９ｃよりも鉛直方向上方に位置している。上記第１、２、３係止部３９ａ,３９ｂ,３９ｃの夫々は、皿位置決め部を構成している。

上記蒸気供給管３４は、上段の係止部３９ａよりもやや上側に位置するように配置されている。「蒸し暖めモード」において、被加熱物２７を搭載した２つの皿３０を上段と中段とに配置する場合には、蒸気導入室３６内に架設された蒸気供給管３４の総てのノズル(図２の３４の円形部の左側開口)を加熱室１３方向に斜め下向きにしておく。こうすることにより、被加熱物２７を搭載した皿３０が上段および中段の何れの位置にあっても、蒸気供給管３４の斜め下向きのノズルから引き出された飽和水蒸気を被加熱物２７に当てることができる。したがって、蒸気供給管３４のノズルからの吹き出し方向を操作することなく、上中２段の被加熱物２７に蒸し斑や暖め斑が生ずることがないようにできる。

図２に示すように、天面噴出口２４は、第１噴出口２５ａよりも過熱蒸気の流れの上流側に位置し、第１噴出口２５ａは、第２噴出口２５ｂよりも過熱蒸気の流れの上流側に位置し、また、第２噴出口２５ｂは、第３噴出口２５ｃよりも過熱蒸気の流れの上流側に位置している。

図２に示すように、上記第１噴出口２５ａは、第１係止部３９ａよりも鉛直方向下方で、かつ、第２係止部３９ｂよりも鉛直方向上方に位置している。また、上記第２噴出口２５ｂは、第２係止部３９ｃよりも鉛直方向下方で、かつ、第３係止部３９ｃよりも鉛直方向上方に位置している。第３噴出口２５ｃは、第３係止部３９ｃよりも鉛直方向下方に位置している。

図３は、上記加熱調理器の制御ブロック図である。

上記加熱調理器は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御部２００を電装品部１７(図２に示す)内に備えている。制御部２００には、過熱蒸気生成ヒータ２０、循環ファン用モータ１９、冷却ファン用モータ１６、扉開閉センサ９５、給気ダンパ用モータ４４、排気ダンパ用モータ６０、操作パネル５、庫内温度センサ２９、解凍センサ５０、給水ポンプ７０、蒸気発生装置１２およびマグネトロン８０が、接続されている。

操作パネル５からの信号および庫内温度センサ２９、解凍センサ５０、扉開閉センサ９５からの検出信号に基づいて、制御部２００は、過熱蒸気生成ヒータ２０、循環ファン用モータ１９、冷却ファン用モータ１６、希釈ファン用モータ３８、給気ダンパ用モータ４、排気ダンパ用モータ６０、操作パネル５、給水ポンプ７０、蒸気発生装置１２およびマグネトロン８０などを制御する。

上記制御部２００は、第１、２、３係止部３９ａ,３９ｂ,３９ｃのうちの一の係止部に位置決めされた皿の上側に位置する上側室内の食材を高温調理すると共に、その位置決めされた皿の下側に位置する下側室内の食材を高温調理するように、循環ファン１８の回転速度を制御する第１制御と、第１、２、３係止部３９ａ,３９ｂ,３９ｃのうちの一の係止部に位置決めされた皿の上側に位置する上側室内の食材を高温調理する一方、その位置決めされた皿の下側に位置する下側室内の食材を低温調理するように、上記ファンの回転速度を制御する第２制御とを選択可能な構成になっている。

上記構成において、この加熱調理器は、循環気流を用いる加熱調理および循環気流を用いない加熱調理を次のように行うようになっている。

すなわち、この加熱調理器は、循環気流を用いる加熱調理を行うとき、例えば、過熱蒸気によって焼きの調理を行うときには、図２に示す過熱蒸気生成ヒータ２０をオンすると共に、循環ファン１８を回転駆動する。そうすると、蒸気発生装置１２から循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ファン１８の回転によって負圧になっている循環ユニット１４内に蒸気吸込口１５を介して吸い込まれて、蒸気供給口２２から過熱蒸気生成装置２１内に吹き出される。そして、過熱蒸気生成装置２１の過熱蒸気生成ヒータ２０によって加熱されて熱媒体の一例としての過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の加熱室１３の天面に設けられた複数の天面噴出口２４から、加熱室１３内に下方に向かって吹き出す。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気ダクト１００を介して加熱室１３の第２蒸気吹出口２５から加熱室１３内に吹き出す。

そして、加熱室１３内に供給された過熱蒸気は、皿３０上の網４０に搭載された被加熱物２７を加熱した後、加熱室１３の右壁面に循環ユニット１４の蒸気吸込口１５に対向して形成された吸込口２８から循環ユニット１４内に吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１３内に戻るという循環を繰り返す。この加熱調理器は、このようにして、循環気流を用いた加熱調理を行うようになっている。

一方、この加熱調理器は、循環気流を用いない加熱調理を行うとき、例えば、非過熱蒸気によって被加熱物２７を蒸すかまたは暖めるかの運転を行うときには、過熱蒸気生成ヒータ２０をオフすると共に、循環ファン１８を停止する。そうすると、循環ファン１８が停止しているため、循環経路内に循環気流が発生することがなく、蒸気発生装置１２から循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ユニット１４内に強制的に吸い込まれない。これにより、蒸気圧によって自然に加熱室１３内に流れ込む飽和水蒸気により、被加熱物２７を蒸すかまたは暖める。この加熱調理器は、このようにして、循環気流を用いない加熱調理を行うようになっている。

また、この加熱調理器は、次のようにして、加熱が同じ程度の２段調理と、加熱が異なる程度の２段調理とを行うようになっている。

図４は、この加熱調理器において、制御部２００が、第１制御を選択し、加熱程度が同じ調理を同時に行う２段調理を行っている場合の過熱蒸気の流れの一例を示す図である。

この実施形態の加熱調理器は、加熱程度が同等の２段調理を行う際には、例えば、第１係止部３９ａに皿９０を係止すると共に、第３係止部３９ｃに皿９１を係止するようになっている。そして、上記制御部２００が、循環ファン用モータ１９を、最大負荷で駆動して、上記循環気流を用いる加熱調理を行う。このようにして、上記循環ファン１８をフル回転させて、過熱蒸気を、皿９０よりも上側にできた上側室９３と、皿９１よりも上側かつ皿９０よりも下側にできた下側室９４とで、略同じ量送り込んで、上側室９３の温度と、下側室９４の温度とが略同一になるようにする。このようにして、上側室９３内の食材と、下側室９４内の食材とを同時に焼き調理するようになっている。

上記第１制御を行っている最中においては、第１係止部３９ａが、皿位置決め部を構成し、天面噴出口２４が上側噴出口を構成し、第１噴出口２５ａおよび第２噴出口２５ｂが下側噴出口を構成している。また、図４において、参照番号７７は、加熱部と、上側噴出口および下側噴出口とを連結すると共に、上側噴出口を上流側に、下側噴出口を上側噴出口よりも下流側に位置させる吹き出し経路を構成している。また、上記第１制御を行っている最中においては、第１係止部３９ａに係止されている皿９０よりも上側の室が、上側室９３を構成し、第１係止部３９ａに係止されている皿９０よりも下側に位置すると共に、第３係止部３９ｃに係止されている皿９１よりも上側に位置する室が、下側室９４を構成している。また、天面噴出口２４の上側室９３へのトータルの開口面積は、下側噴出口２５ａ,２５ｂの下側室９４へのトータルの開口面積よりも大きくなっている。

図５は、この加熱調理器において、制御部２００が、第２制御を選択し、加熱程度が異なる調理を同時に行う２段調理を行っている場合の過熱蒸気の流れの一例を示す図である。

この加熱調理器は、加熱程度が異なる２段調理を行う際には、例えば、第２係止部３９ｂに皿９７を係止するようになっている。そして、上記制御部２００が、循環ファン１８（図２参照）の回転速度を、第１制御での循環ファン１８の回転速度よりも低い速度に制御して、上記循環気流を用いる加熱調理を行うことにより、皿９７よりも鉛直方向上方の上側室９８の温度よりも、皿９７よりも鉛直方向下側の下側室９９の温度が低くなるようにして、温度ムラを作る。このようにして、図５に示すように、上側室９８内の食材を焼き調理すると同時に、下側室９９内の食材を温め調理するようになっている。

上記第２制御を行っている最中においては、第２係止部３９ｂが、皿位置決め部を構成し、天面噴出口２４および第１噴出口２５ａが、上側噴出口を構成し、第２噴出口２５ｂおよび第３噴出口２５ｃが、下側噴出口を構成している。また、図５において、参照番号７７は、加熱部と、上側噴出口および下側噴出口とを連結すると共に、上側噴出口を上流側に、下側噴出口を上側噴出口よりも下流側に位置させる吹き出し経路を構成している。また、上記第２制御を行っている最中においては、第２係止部３９ａに係止されている皿９７よりも上側の室が、上側室９８を構成し、第２係止部３９ｂに係止されている皿９７よりも下側に位置する下側の室が、下側室９９を構成している。また、天面噴出口２４および第１噴出口３９ａの上側室９８へのトータルの開口面積は、第２噴出口２５ｂおよび第３噴出口２５ｃの下側室９９へのトータルの開口面積よりも大きくなっている。

以下、制御部２００が第２制御を選択した場合に、加熱程度が異なる２段調理を行う際に採用できる制御部２００の循環ファン１８（図２参照）の回転速度の制御の例について複数説明する。

先ず、この加熱調理器は、制御部２００が、循環ファン１８の回転速度を、加熱程度が同等の２段調理を行う場合で使用できるファンが最大負荷で稼働している際の回転速度に対して、循環ファン１８の回転速度を５０％程度に弱める制御を行うことができる。この制御によれば、過熱蒸気のより大きな量を、上側室９０に導入することができて、加熱程度が異なる２段調理を行うことができる。

また、他の制御としては、制御部２００が、下側室よりも上側室により多量の過熱蒸気が噴射されるように、循環ファン１８の回転速度を、第１制御での循環ファン１８の回転速度よりも低い速度に制御すると共に、循環ファン１８の運転をオンオフ制御することもできる。この制御では、予め定められた時間間隔毎に、循環ファン１８の回転のオンとオフとを繰り返すようにする制御がある。

また、他のオンオフ制御としては、下側室に庫内温度センサ２９（図３参照）とは、別個の下側室温度センサを設置し、その下側室温度センサが、第１温度を検出すると、その下側室温度センサからの信号をうけた制御部２００が、循環ファンの回転をオフにする一方、その下側室温度センサが、上記第１温度よりも低い第２温度を検出すると、その下側室温度センサからの信号をうけた制御部２００が、循環ファン１８の回転をオンにする制御を行うことができる。尚、上記第１温度以下かつ上記第２温度以上の温度範囲は、食材を温める際の温度領域であって、食材によって適宜設定される温度である。

また、他の制御としては、調理をスタートして一定の時間（過熱蒸気生成ヒータ２０のヒータ温度が飽和に達するまで）は、制御部２００が、循環ファン１８の回転速度を止めて、熱を過熱蒸気生成ヒータ２０周辺の循環経路部分に閉じ込め、その後、制御部２００が、ファンを弱い回転で回転させて、熱風を流動させることにより、上側室に熱を集中させる制御がある。

図６は、制御部２００のその制御を説明するフローチャートである。

先ず、調理がスタートすると、ステップＳ１で、制御部２００が、過熱蒸気生成ヒータ２０を連続的に通電して、連続的に駆動する一方、循環ファン用モータ１９を非駆動とする。

次に、ステップＳ２で、過熱蒸気生成ヒータ２０のヒータ温度が飽和しているか否かを判定する。この判断は、例えば、過熱蒸気生成ヒータ２０に供給する電力と、ヒータ温度の飽和までの時間との関係から判断される時間に基づいて判断する方法がある。また、別の方法としては、温度センサで過熱蒸気生成ヒータ２０の温度を検出して判断する方法がある。

このステップＳ２で、過熱蒸気生成ヒータ２０のヒータ温度が飽和していないと判定すると、再度、ステップＳ２を行う。一方、ステップＳ２で、過熱蒸気生成ヒータ２０のヒータ温度が飽和していると判定すると、次のステップＳ３に進む。上記ステップＳ１およびステップＳ２は、第１サブ制御を構成している。

次に、ステップＳ３では、制御部２００が、循環ファン用モータ１９を所定の回転速度で駆動する。具体的には、上記制御部２００が、天面噴出口２４から噴射される過熱蒸気の流量と、第１噴出口２５ａから噴射される過熱蒸気の流量との和が、第２噴出口２５ｂから噴射される過熱蒸気の流量と、第３噴出口２５ｃから噴射される過熱蒸気の流量との和よりも多くなるように、循環ファン１８の回転速度を制御する。このステップＳ３は、第２サブ制御を構成する。尚、ステップＳ３においては、過熱蒸気生成ヒータ２０を連続的に通電しても良く、過熱蒸気生成ヒータ２０を、間欠的に通電しても良く、過熱蒸気生成ヒータ２０を、通電しなくても良い。

続いて、ステップＳ４で、循環ファン用モータ１９を所定の回転速度で駆動してからの時間が、所定の調理時間を経過しているか否かを判断する。このステップＳ４で、循環ファン用モータ１９を所定の回転速度で駆動してからの時間が、所定の調理時間を経過していないと判断すると、再度、ステップＳ４を行う。一方、ステップＳ４で、循環ファン用モータ１９を所定の回転速度で駆動してからの時間が、所定の調理時間を経過していると判断すると調理を終了する。

上記実施形態の加熱調理器によれば、上側室９３,９８に過熱蒸気が噴き出す噴出口が、下側室９４,９９に過熱蒸気が噴き出す噴出口よりも過熱蒸気の流れの上流に位置しているから、循環ファン１８の回転速度を変動させることにより、上側室９３,９８に流れ込む加熱蒸気の流量と下側室９４,９９に流れ込む加熱蒸気の流量との流量差を適宜変動させることができる。したがって、循環ファン１８の回転速度を制御することにより、上側室９３,９８での加熱の程度と下側室９４,９９での加熱の程度とを同等な程度にもでき、また、異なる程度にもできる。

詳しくは、上記実施形態の加熱調理器によれば、上記制御部２００が、第１制御において、循環ファンの回転速度を第１速度の一例としての最大の回転速度に制御することにより、皿位置決め部３９ａに位置決めされた皿９０の上側に位置する上側室９３内の食材と、上記位置決めされた皿９０の下側に位置する下側室９４内の食材とを略均一な温度で調理することができる。したがって、加熱の程度が同等の二以上の食材を同時に調理できる。

また、上記実施形態の加熱調理器によれば、上記制御部２００が、第２制御において、循環ファン１８の回転速度を最大の回転速度よりも５０％程度に弱める制御をすることにより、上側室９８内の食材よりも下側室９９内の食材を低温で調理することができる。したがって、加熱の程度が異なる二以上の食材を同時に調理することができる。制御部２００が、第２制御を行っているときは、第１制御をおこなっているとき（例えば、焼きの２段調理をおこなっているとき）と比較して、循環ファン１８が過熱蒸気を、加熱室１３に送り込む性能が低くなる。したがって、第２制御が行われているときに、複数の噴出口２４,２５ａ,２５ｂ,２５ｃにおいて、より過熱蒸気の上流側に位置する噴出口から噴射される過熱蒸気の量を多くすることができて、第２制御時に、過熱蒸気の上流側に位置する上側室９８の加熱程度を、下側室９９の加熱程度よりも大きくすることができるのである。

また、上記実施形態の加熱調理器によれば、制御部２００が第２制御を選択している最中に上側室９８に位置する上側噴出口の開口面積（複数の天面噴出口２４ｂの開口の開口面積と、第１噴出口２５ａの開口の開口面積との和）が、制御部２００が第２制御を選択している最中に下側室９９に位置する下側噴出口の開口面積（第２噴出口２５ｂの開口の開口面積と、第３噴出口２５ｃの開口の開口面積との和）よりも大きくなっている。したがって、上側室９８に噴き出される過熱蒸気の量を、下側室９９に噴き出される過熱蒸気の量よりも大きくすることができて、上側室９８と下側室９９とで、加熱程度が異なる調理をより容易に行うことができる。

また、上述のように、一実施形態では、上記制御部２００が、第２制御を選択しているときに、循環ファン１８をオンオフ制御するから、循環ファン１８を連続的に運転する場合と比較して、循環ファン１８を運転しているときの循環ファン１８の回転速度を大きくすることができる。そのようにしても、循環ファン１８が連続的に運転されることがなく、循環ファン１８が停止しているときがあるから、過熱蒸気を上側室９８にいくよりも下側室９９に行くにくくすることができて、上側室９８へ送り込む過熱蒸気の量を、下側室９９へ送り込む過熱蒸気の量に対して差別化することができるからである。したがって、上記制御部２００が、第２制御を選択していて循環ファン１８が運転状態になっているタイミングでの、循環ファン１８の回転速度を大きくできるから、下側室９９に熱を届きにくくすることができるにも拘わらず、上側室９８において、直火効果を獲得することができる。すなわち、上側室９８と、下側室９９とで、加熱の程度の差異を際だたせることができるから、例えば、加熱程度が大きく異なる、焼きという調理と、温めるという調理とを、容易に同時に行うことができるのである。

また、上述のように、一実施形態では、制御部２００が、第２制御において、過熱蒸気生成ヒータ２０のヒータ温度が飽和温度に達するまで、過熱蒸気生成ヒータ２０を連続的に運転させる一方、循環ファン１８を停止させる第１サブ制御と、過熱蒸気生成ヒータ２０のヒータ温度が飽和温度に達した後、下側室９９よりも上側室９８により多量の過熱蒸気が噴射されるように、循環ファン１８を運転させる第２サブ制御とを行う。この実施形態では、過熱蒸気生成ヒータ２０が飽和温度に達するまでは、循環ファン１８の回転速度を止めて、熱を過熱蒸気生成ヒータ２０の周辺の加熱室１３の上部に閉じ込めるようになっているから、その後、循環ファン１８を弱い回転で、熱風を回すことで、上側室９９に熱の供給を集中させることができる。

尚、上記実施形態では、焼き調理と、温め調理を同時に行う際に、第２係止部２５ｂに皿を係止して、第２係止部２５ｂよりも上に上側室９８を形成すると共に、第２係止部２５ｂよりも下に下側室９９を形成し、第２係止部２５ｂを、皿位置決め部とした。

しかしながら、この発明では、加熱調理器の仕様や調理する料理によっては、焼き調理と、温め調理を同時に行う際に、第１係止部２５ａに皿を係止して、第１係止部２５ａよりも上に上側室を形成すると共に、第１係止部２５ａよりも下に下側室を形成し、第１係止部２５ａを、皿位置決め部としても良く、また、第３係止部２５ｃに皿を係止して、第３係止部２５ｃよりも上に上側室を形成すると共に、第３係止部２５ｃよりも下に下側室を形成し、第３係止部２５ｃを、皿位置決め部としても良い。

また、上記実施形態の加熱調理器では、係止部２５ａ,２５ｂ,２５ｃが三つ存在していたが、皿位置決め部は、一つ、二つまたは四つ以上存在していても良い。

また、この発明では、各噴出口から噴き出された熱媒体の主流部分が、皿と加熱室の壁との間をすり抜けない方向に、各噴出口の開口が向いていても良く、少なくとも一つの噴出口から噴き出された加熱媒体の少なくとも一部の流れが、皿と加熱室の壁との間をすり抜けるように、少なくとも一つの噴出口の開口の姿勢が決定されていても良い。

また、上記実施形態の加熱調理器では、複数の天面噴出口２４ｂの開口の開口面積と、第１噴出口２５ａの開口の開口面積との和が、第２噴出口２５ｂの開口の開口面積と、第３噴出口２５ｃの開口の開口面積との和よりも大きくなっていた。しかしながら、この発明では、制御部が第２制御を選択している最中に上側室に位置する上側噴出口の開口面積が、制御部が第２制御を選択している最中に下側室に位置する下側噴出口の開口面積よりも大きくなくても良い。

また、上記実施形態では、循環ファン１８をフル回転させて、上側室９３と、下側室９４とで、同程度の加熱調理をするようにしたが、この発明では、加熱調理器の仕様によっては、循環ファンをフル回転しなくても、上側室と、下側室とで、同程度の加熱調理ができることは、言うまでもない。

また、本発明の加熱調理器では、過熱程度が異なる２段調理を行っている際の循環ファンの回転負荷を、循環ファンの全負荷の半分程度にして、循環ファンの回転速度を５０％程度弱めても良く、また、過熱程度が異なる２段調理を行っている際の循環ファンの回転負荷を、全負荷の半分程度の部分負荷以外の部分負荷の運転に設定しても良い。この発明では、制御部が、位置決め部に位置決めされた皿よりも上側の上側室の温度と、上記皿よりも下側の下側室の温度とが略等しくなるように、モータに、ファンを第１回転速度で回転させるように制御する第１制御と、上側室の温度よりも、下側室の温度が低くなるように、モータに、ファンを、上記第１回転速度よりも遅い第２回転速度で回転させるように制御する第２制御とを選択可能であれば、制御部は、如何なる制御を行っても良い。

また、本発明の加熱調理器では、制御部が、ヒータ温度が飽和温度になる前の一定の温度になった際に循環ファン用モータを介して循環ファンを駆動するようにしても良い。

また、本発明の加熱調理器では、天面噴出口が存在しなくても良く、天面からは輻射熱のみによって熱が加熱室に供給される構成であっても良い。

また、本発明の加熱調理器では、制御部が、第１制御と、第２制御とを行うときの、皿位置決め部が、同じ皿位置決め部であっても良く、異なる皿位置決め部であっても良い。

また、本発明の加熱調理器では、第２制御において、複数述べた上述の制御のうちの二以上の制御を行っても良い。

尚、この発明の加熱調理器としては、例えば、過熱水蒸気を使用するオーブンレンジのみならず、過熱水蒸気を使用するオーブン、過熱水蒸気を使用しないオーブンレンジ、過熱水蒸気を使用しないオーブンなどがある。また、この発明の加熱調理器としては、電子レンジ等、水蒸気を使用しない調理器がある。

また、この発明の一実施形態の加熱調理器では、オーブンレンジなどにおいて、過熱水蒸気または飽和水蒸気を用いることによって、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、本発明の一実施形態の加熱調理器では、温度が１００℃以上の過熱水蒸気または飽和水蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱水蒸気または飽和水蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができる。また、凝縮水が食品表面に付着して塩分や油分が凝縮水と共に滴下することにより、食品中の塩分や油分を低減できる。さらに、加熱室内は過熱水蒸気または飽和水蒸気が充満して無酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。尚、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができることは、言うまでもない。

１３加熱室
１８循環ファン
２０過熱蒸気生成ヒータ
２４天面噴出口
２５ａ第１噴出口
２５ｂ第２噴出口
２５ｃ第３噴出口
３９ａ第１係止部
３９ｂ第２係止部
３９ｃ第３係止部
７７吹き出し経路
９３過熱程度が同等の調理が行われているときの上側室
９４過熱程度が同等の調理が行われているときの下側室
９０,９１,９７皿
９８過熱程度が異なる調理が行われているときの上側室
９９過熱程度が異なる調理が行われているときの下側室

Claims

皿位置決め部と、この皿位置決め部により位置決めされた皿よりも上側と下側に夫々位置する上側噴出口および下側噴出口とを有する加熱室と、
この加熱室よりも上側に配置されて熱媒体を加熱する加熱部と、
この加熱部と、上記下側噴出口とを少なくとも連結すると共に、上記下側噴出口を上記上側噴出口よりも下流側に位置させている吹き出し経路と、
上記加熱室から熱媒体を吸い込み、この吸い込んだ熱媒体を、上記加熱部および吹き出し経路を介して、上記上側噴出口および下側噴出口から吹き出すように熱媒体を循環させるファンと、
上記ファンを駆動するモータと、
上記皿よりも上側の上側室の温度と、上記皿よりも下側の下側室の温度とが略等しくなるように、上記モータに、上記ファンを第１回転速度で回転させるように制御する第１制御と、上記上側室の温度よりも、上記下側室の温度が低くなるように、上記モータに、上記ファンを、上記第１回転速度よりも遅い第２回転速度で回転させるように制御する第２制御とを行う制御部と
を備えることを特徴とする加熱調理器。
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記上側噴出口の上側室へのトータルの開口面積は、上記下側噴出口の下側室へのトータルの開口面積よりも大きいことを特徴とする加熱調理器。
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
上記第２制御は、上記ファンをオンオフ制御することを含むことを特徴とする加熱調理器。
請求項１から３までのいずれか１つに記載の加熱調理器において、
上記加熱部は、過熱蒸気生成ヒータを含み、
上記第２制御は、
上記過熱蒸気生成ヒータが一定温度に達するまでは、上記過熱蒸気生成ヒータを連続的に通電すると共に、上記ファンを停止させる第１サブ制御と、
上記過熱蒸気生成ヒータが上記一定温度を超えると、上記ファンを回転させる第２サブ制御と
を含むことを特徴とする加熱調理器。