JP2012150154A - Antireflection film and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
【課題】反射防止フィルムにあっては、反射防止性能や表面強度が強く、光学特性に優れた反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、光学特性に優れた反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材上にＵＶまたは電子線硬化により硬化可能なハードコート機能を有するハードコート層と、ハードコート層にシランカップリング剤を添加することで、その上層に低屈折率層を形成した際にハードコート層と低屈折率層との密着力を向上させることができるため、耐擦傷性が優れ、全光線透過率値が高く、干渉縞の発生が無い反射防止フィルムを得ることができる。
【選択図】 図１In the antireflection film, there is a demand for an antireflection film having high antireflection performance and surface strength and excellent optical characteristics. An object of the present invention is to provide an antireflection film that is low in production cost and excellent in optical properties.
A hard coat layer having a hard coat function that can be cured by UV or electron beam curing on a transparent substrate, and a silane coupling agent is added to the hard coat layer, whereby a low refractive index layer is formed thereon. Since the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer can be improved when formed, an antireflection film having excellent scratch resistance, high total light transmittance, and no interference fringes is obtained. Can do.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。 The present invention relates to an antireflection film provided for the purpose of preventing external light from being reflected on the surface of a window or display. In particular, the present invention relates to an antireflection film provided on the surface of a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic electroluminescence display (ELD), a plasma display (PDP), a surface electric field display (SED), or a field emission display (FED). . In particular, it relates to an antireflection film provided on the surface of a liquid crystal display (LCD). Furthermore, the present invention relates to an antireflection film provided on the surface of a transmissive liquid crystal display (LCD).
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。 In general, a display is used in an environment where external light or the like enters regardless of whether the display is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. For this reason, it is essential to provide an antireflection function on the display surface or the like, and there is a demand for higher performance of the antireflection function and a combination of functions other than the antireflection function.
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。 In general, the antireflection function is obtained by forming an antireflection layer having a multilayer structure having a repeating structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a transparent material such as a metal oxide on a transparent substrate. These antireflection layers having a multilayer structure can be formed by a dry film forming method such as a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method.
乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。 In the case of forming an antireflection layer using a dry film formation method, there is an advantage that the film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer can be precisely controlled, but the film formation is performed in a vacuum. There is a problem that productivity is low and it is not suitable for mass production. On the other hand, as a method for forming an antireflection layer, attention has been focused on production of an antireflection film by a wet film formation method using a coating liquid capable of increasing the area, continuously producing, and reducing the cost.
また、これらの反射防止層が透明基材上に設けられている反射防止フィルムにあっては、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル系材料を硬化して得られるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル系材料により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。 In addition, in an antireflection film in which these antireflection layers are provided on a transparent substrate, since the surface thereof is relatively flexible, in order to impart surface hardness, an acrylic material is generally cured. A method of providing a hard coat layer obtained in this manner and forming an antireflection layer thereon is used. The hard coat layer is made of an acrylic material and has high surface hardness, gloss, transparency, and scratch resistance.
湿式成膜法によって反射防止層を形成する場合、これらの電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層の上に少なくとも低屈折率層を塗布して製造されるものであり、乾式成膜法に比べ安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。 When an antireflection layer is formed by a wet film formation method, it is produced by applying at least a low refractive index layer on a hard coat layer obtained by curing these ionizing radiation curable materials. Compared to the membrane method, it has the merit of being able to be manufactured at low cost, and is widely available in the market.
反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって、外光の反射を抑制することができ、明所でのコントラストを向上させることができる。
また、同時に透過率を向上させることができることから画像をより明るく表示可能にすることができる。また、バックライトの出力などを抑える省エネ効果も期待できる。
By providing an antireflection film on the display surface, reflection of external light can be suppressed by the antireflection function, and contrast in a bright place can be improved.
Further, since the transmittance can be improved at the same time, the image can be displayed brighter. It can also be expected to save energy by reducing the output of the backlight.
反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められている。
また、反射防止フィルムにあっては、反射防止性能や表面強度が強く、光学特性に優れた反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、光学特性に優れた反射防止フィルムを提供することを課題とする。
In the antireflection film, an antireflection film having a low production cost is required.
In addition, antireflection films that have high antireflection performance and surface strength and excellent optical properties are required. An object of the present invention is to provide an antireflection film that is low in production cost and excellent in optical properties.
上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、
透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、
（Ａ）前記ハードコート層が、紫外線または電離放射線によって硬化する材料であり、少なくともシランカップリング剤を含み、
（Ｂ）前記低屈折率層が、内部に空隙を有するシリカ粒子を少なくとも含み、前記シリカ粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、かつ、
前記シリカ粒子の含有量は、前記低屈折率層中の重量比２０重量％以上７０重量％未満であり、かつ、
低屈折率層表面の平均視感反射率が０．３％以上２．０％未満であることを特徴とする反射防止フィルムである。
In order to solve the above problems, the invention according to
In an antireflection film comprising at least a hard coat layer on a transparent substrate and a low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.30 or more and less than 1.45 in order,
(A) The hard coat layer is a material that is cured by ultraviolet rays or ionizing radiation, and includes at least a silane coupling agent,
(B) The low refractive index layer includes at least silica particles having voids therein, and the average particle size of the silica particles is 10 nm or more and 100 nm or less, and
The content of the silica particles is 20% by weight or more and less than 70% by weight in the low refractive index layer, and
The antireflective film is characterized in that the average luminous reflectance on the surface of the low refractive index layer is 0.3% or more and less than 2.0%.
請求項２に係る発明としては、シランカップリング剤はアクリレートもしくはメタクリレートを有していることを特徴とする反射防止フィルムである。 The invention according to claim 2 is the antireflection film characterized in that the silane coupling agent has acrylate or methacrylate.
請求項３に係る発明としては、前記透明基材の屈折率が１．４０以上１．８０以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。 The invention according to claim 3 is the antireflection film characterized in that the refractive index of the transparent substrate is 1.40 or more and 1.80 or less.
請求項４に係る発明としては、前記紫外線または電離放射線によって硬化する材料が、（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートを含むことを特徴とする請求項１〜３何れかに記載の反射防止フィルムである。 The invention according to claim 4 is characterized in that the material cured by the ultraviolet ray or ionizing radiation contains (meth) acrylate and / or urethane (meth) acrylate. It is a prevention film.
請求項５に係る発明としては、請求項１〜４いずれかに記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に第１の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板である。
The invention according to claim 5 is characterized in that the antireflection film according to any one of
請求項６に係る発明としては、観察者側から順に、請求項５に記載の反射防止性偏光板と、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットをこの順に備え、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイである。 The invention according to claim 6 comprises, in order from the observer side, the antireflective polarizing plate according to claim 5, a liquid crystal cell, a second polarizing plate, and a backlight unit in this order, and the antireflective polarizing plate A transmissive liquid crystal display characterized in that a liquid crystal cell is held on the side of the plate where the low refractive index layer is not formed.
請求項７に係る発明としては、透明基材上に少なくともハードコート層と、屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲である低屈折率層を順に備える反射防止フィルムの湿式製造方法において、
透明基材の少なくとも一方の面に、前記請求項１に記載のハードコート層形成のためのハードコート層用塗液を塗布し、ハードコート層の塗膜を３μｍ以上１０μｍ以下の厚さで形成する塗膜形成工程と、
前記ハードコート層の塗膜を乾燥する一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記ハードコート層の塗膜乾燥後に紫外線又は、電離放射線を照射しハードコート層を硬膜する硬膜工程と、
前記請求項１に記載の低屈折率層形成のための低屈折率層用塗液を５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚さで塗布し、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記低屈折率層の塗膜乾燥後に紫外線又は、電離放射線を照射し低屈折率層を硬膜する硬膜工程と、
を順に行なうことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
As an invention according to claim 7, in a wet production method of an antireflection film comprising, in order, at least a hard coat layer and a low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.30 or more and less than 1.45 on a transparent substrate. ,
The hard coat layer coating liquid for forming a hard coat layer according to
Primary drying for drying the coating film of the hard coat layer, and a continuous drying step of secondary drying,
A hardening step of hardening the hard coat layer by irradiating with ultraviolet rays or ionizing radiation after drying the hard coat layer; and
Primary drying in which the coating solution for the low refractive index layer according to
A film hardening step of hardening the low refractive index layer by irradiating ultraviolet rays or ionizing radiation after drying the coating film of the low refractive index layer,
In order, is a manufacturing method of the antireflection film.
本発明による反射防止フィルムにあっては、透明基材上にＵＶまたは電子線硬化により硬化可能なハードコート機能を有するハードコート層と、ハードコート層にアクリレートもしくはメタクリレートを有するシランカップリング剤を添加することで、その上層に低屈折率層を形成した際にハードコート層と低屈折率層との密着力を向上させることができるため、耐擦傷性が優れ、全光線透過率値が高く、干渉縞の発生が無い反射防止フィルムを得ることができ、前記反射防止フィルムを用いれば、前記発明の効果を有する、透過型液晶ディスプレイを得ることができる。 In the antireflection film according to the present invention, a hard coat layer having a hard coat function that can be cured by UV or electron beam curing on a transparent substrate, and a silane coupling agent having acrylate or methacrylate in the hard coat layer are added. Thus, when the low refractive index layer is formed on the upper layer, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer can be improved, so that the scratch resistance is excellent and the total light transmittance value is high. An antireflection film free from occurrence of interference fringes can be obtained. If the antireflection film is used, a transmissive liquid crystal display having the effects of the invention can be obtained.
図１に本発明の反射防止フィルム（１）の断面模式図を示した。 FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the antireflection film (1) of the present invention.
本発明の反射防止フィルム（１）にあっては、透明基材（１１）の少なくとも一方の面にハードコート層（１２）、低屈折率層（１３）となる順に備えられており、ハードコート層（１２）は、シランカップリング剤を含んでいることを特徴とする。
ハードコート層（１２）は電離放射線硬化型材料を硬化して形成されるバインダマトリックスとシランカップリング剤を含有していることから、ハードコート層と低屈折率層間の密着力を向上することができ、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
In the antireflection film (1) of the present invention, a hard coat layer (12) and a low refractive index layer (13) are provided in this order on at least one surface of the transparent substrate (11). The layer (12) is characterized by containing a silane coupling agent.
Since the hard coat layer (12) contains a binder matrix formed by curing an ionizing radiation curable material and a silane coupling agent, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer can be improved. The antireflection film can be provided with a high surface hardness, and can be an antireflection film having excellent scratch resistance.
まず、透明基材（１１）について述べる。 First, the transparent substrate (11) will be described.
本発明の透明基材フィルムにおける透明基材は、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。また、透明基材フィルムの厚みとしては、３５μｍ以上１２０μｍ以下を用いることが好ましい。また、トリアセチルセルロースを用いる場合は、３５μｍ以上８０μｍ以下の厚みを用いることが好ましい。また、ポリエチレンテレフタレートを用いる場合は、２０μｍ以上８０μｍ以下の厚みを用いることが好ましい。 As the transparent substrate in the transparent substrate film of the present invention, films or sheets made of various organic polymers can be used. For example, a base material usually used for an optical member such as a display can be cited, considering optical properties such as transparency and refractive index of light, and further various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability, Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, polymethyl methacrylate, etc. Those made of organic polymers such as acrylic, polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol are used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable. Furthermore, functions can be added to these organic polymers by adding known additives such as antistatic agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. Can also be used. The transparent substrate may be composed of one or a mixture of two or more selected from the above organic polymers, or a polymer, or may be a laminate of a plurality of layers. Moreover, as thickness of a transparent base film, it is preferable to use 35 micrometers or more and 120 micrometers or less. Moreover, when using triacetylcellulose, it is preferable to use the thickness of 35 micrometers or more and 80 micrometers or less. Moreover, when using a polyethylene terephthalate, it is preferable to use the thickness of 20 micrometers or more and 80 micrometers or less.
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。また、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。 Especially, since a triacetylcellulose film has little birefringence and favorable transparency, when using the antireflection film of this invention for a liquid crystal display, it can be used conveniently. The refractive index of the triacetyl cellulose film is about 1.50, which is lower than that of other transparent substrates. Moreover, the polyethylene terephthalate film used widely as a transparent base material is about 1.60.
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた反射防止フィルムにあっては、透明基材の屈折率が低いことからハードコート層との屈折率差による干渉ムラが発生しやすい。本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層の屈折率の上昇を抑えることができるため、透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合に好適に使用できる。また、低屈折率層に帯電防止機能を持たせることにより、ハードコート層にトリアセチルセルロースフィルムに近い屈折率を持つ樹脂を任意に選択することができる。 In an antireflection film using a triacetylcellulose film as a transparent substrate, interference unevenness due to a difference in refractive index from the hard coat layer tends to occur because the refractive index of the transparent substrate is low. In the antireflection film of the present invention, an increase in the refractive index of the hard coat layer can be suppressed, and therefore it can be suitably used when a triacetyl cellulose film is used as the transparent substrate. Further, by providing the low refractive index layer with an antistatic function, a resin having a refractive index close to that of the triacetyl cellulose film can be arbitrarily selected for the hard coat layer.
次に、ハードコート層（１２）について述べる。 Next, the hard coat layer (12) will be described.
本発明のハードコート層形成用塗液にあたっては、シランカップリング剤を用いることができる。シランカップリング剤の材料としては、例えば３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のメタクロキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシシラン等を用いることができる。 In the coating liquid for forming a hard coat layer of the present invention, a silane coupling agent can be used. Examples of the material for the silane coupling agent include methacryloxy such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane. Acryloxysilane such as silane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane can be used.
シランカップリング剤はアクリル基もしくはメタクリル基を有することが好ましく、より好ましくは（メタ）アクリレート中に予め添加・分散された状態のものを用いることが好ましい。 The silane coupling agent preferably has an acryl group or a methacryl group, and more preferably a silane coupling agent added in advance and dispersed in (meth) acrylate.
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいてもよい。多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。 Further, the hard coat layer forming coating solution may contain an acrylic material which is an ionizing radiation curable material. Polyfunctional urethane (meth) synthesized from polyfunctional (meth) acrylate compounds such as polyhydric alcohol acrylic acid or methacrylic acid ester, diisocyanate and polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid hydroxy ester Acrylate compounds can be used. Besides these, as ionizing radiation type materials, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meta) ) Acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen Phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate , Hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, 2 -Adamantane derivatives mono (meth) acrylates such as adamantyl acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane and adamantanediol.
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth). ) Acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol Ruji (meth) acrylate, di (meth) acrylate, such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。 Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy. Ethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, etc. Trifunctional (meth) acrylate compounds, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol te Trifunctional or higher polyfunctionality such as la (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate ( Examples thereof include a (meth) acrylate compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound obtained by substituting a part of these (meth) acrylates with an alkyl group or ε-caprolactone.
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。 Among acrylic materials, polyfunctional urethane acrylates can be suitably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed and the physical properties of the formed hard coat layer can be easily balanced. . The urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレートおよびアクリレート基」と「メタクリレートおよびメタクリレート基」の両方およびそれらの単官能、多官能を含む化合物を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレートおよびウレタンアクリレート基」と「ウレタンメタアクリレートおよびウレタンメタアクリレート基」の両方およびそれらの単官能、多官能を含む化合物を示している。 In the present invention, “(meth) acrylate” means both “acrylate and acrylate group” and “methacrylate and methacrylate group”, and compounds containing both monofunctional and polyfunctional groups thereof. For example, “urethane (meth) acrylate” indicates both “urethane acrylate and urethane acrylate group” and “urethane methacrylate and urethane methacrylate group”, and compounds containing both monofunctional and polyfunctional groups thereof.
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、光重合開始剤を含んでいてもよい。透明基材上にハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し塗膜を形成後、電離放射線として紫外線を用い、紫外線照射により塗膜を硬化するにあっては、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。 Moreover, in the coating liquid for hard-coat layer formation, the photoinitiator may be included. Apply a coating liquid for forming a hard coat layer on a transparent substrate by wet film formation to form a coating film, and then use ultraviolet light as ionizing radiation. A polymerization initiator is added. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like. In addition, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, or the like can be used as a photosensitizer.
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、帯電防止剤を含んでいてもよい。四級アンモニウム塩または金属酸化物微粒子または導電性高分子を使用することができる。 Further, the coating liquid for forming the hard coat layer may contain an antistatic agent. Quaternary ammonium salts or metal oxide fine particles or conductive polymers can be used.
また、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。 Moreover, a solvent is added to the coating liquid for forming a hard coat layer as necessary. By adding a solvent, coating suitability can be improved. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , Esters such as n-pentyl acetate, and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and ethylene glycol It is selected as appropriate from the viewpoint of coating suitability, etc.
ハードコート層形成用塗液にあっては、ハードコート層形成用塗液を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜（防眩層）の表面張力を低下させる働きを備える。 In the hard coat layer forming coating liquid, an addition called a surface conditioner is applied to prevent the occurrence of coating film defects such as repellency and unevenness in the formed coating film by applying the hard coating layer forming coating liquid. An agent may be added. Surface modifiers are also called leveling agents, antifoaming agents, interfacial tension modifiers, and surface tension modifiers, depending on their function, all of which reduce the surface tension of the coating film (antiglare layer) that is formed. Is provided.
また、ハードコート層形成用塗液においては、塗液中に先に述べた表面調整剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。 In addition, in the coating liquid for forming a hard coat layer, other additives may be added to the coating liquid in addition to the surface conditioner described above. As the functional additive, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an adhesion improver, a curing agent, or the like can be used.
以上の材料を調整して得られるハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、必要に応じて塗膜の乾燥をおこなったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層が形成される。 After applying the coating liquid for forming a hard coat layer obtained by adjusting the above materials onto a transparent substrate by a wet film forming method, forming a coating film, and drying the coating film as necessary, A hard coat layer is formed by irradiating with ultraviolet rays or electron beams as ionizing radiation.
このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。 At this time, as a wet film forming method, a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.
ハードコート層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、紫外線や電離放射線を照射することにより、ハードコート層が形成される。電離放射線としては、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。 The hard coat layer is formed by irradiating the coating film obtained by applying the hard coat layer forming coating liquid on the transparent substrate with ultraviolet rays or ionizing radiation. An electron beam can be used as the ionizing radiation. In the case of ultraviolet curing, a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used. In the case of electron beam curing, electron beams emitted from various electron beam accelerators such as cockloftwald type, bandegraph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type can be used. .
なお、硬化によりハードコート層を形成する工程の前後に乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、塗液が溶媒を含む場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などが例示される。 In addition, you may provide a drying process or a heating process before and after the process of forming a hard-coat layer by hardening. In particular, when the coating liquid contains a solvent, it is necessary to provide a drying step before irradiation with ionizing radiation in order to remove the solvent of the formed coating film. Examples of the drying means include heating, air blowing, and hot air.
なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、形成されるハードコート層の膜厚は３μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、鉛筆硬度は、物理的な耐擦傷性を備えるために、Ｈ以上であることが好ましい。 In the antireflection film of the present invention, the thickness of the hard coat layer to be formed is preferably 3 μm or more and 10 μm or less, and the pencil hardness is H or more in order to provide physical scratch resistance. Is preferred.
次に、低屈折率層（１３）について述べる。 Next, the low refractive index layer (13) will be described.
具体的には、低屈折率層は、内部に空隙を有するシリカ粒子を含む、低屈折率層形成塗液をハードコート層表面に塗布し、湿式成膜法により形成される。このとき反射防止フィルムに十分な反射防止機能を発揮させるために、低屈折率層膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。低屈折率層としてはバインダマトリックス中に、内部に２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の空隙を有するシリカ粒子を分散させたものを用いることができる。
なお、低屈折率層の膜厚としては、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
Specifically, the low refractive index layer is formed by applying a low refractive index layer forming coating liquid containing silica particles having voids therein to the surface of the hard coat layer, and by a wet film forming method. At this time, in order for the antireflection film to exhibit a sufficient antireflection function, the film thickness (d) of the low refractive index layer is obtained by multiplying the film thickness (d) by the refractive index (n) of the low refractive index layer. The optical film thickness (nd) is designed to be equal to 1/4 of the wavelength of visible light. As the low refractive index layer, a binder matrix in which silica particles having voids of 20 nm or more and 80 nm or less inside are dispersed can be used.
The film thickness of the low refractive index layer is preferably 50 nm or more and 200 nm or less.
内部に空隙を有するシリカ粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。 In the case of silica particles having voids inside, the void portion can be made to have a refractive index of air (≈1), so that it can be a low refractive index particle having a very low refractive index. As the low refractive index silica particles having voids therein, porous silica particles or shell-structured silica particles can be used.
本発明の低屈折率層に用いられる内部に空隙を有するシリカ粒子としては、平均粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１０ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。 The silica particles having voids inside used in the low refractive index layer of the present invention preferably have an average particle size of 10 nm to 100 nm. When the average particle size exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, the low refractive index layer is whitened, and the transparency of the antireflection film tends to be lowered. On the other hand, when the particle size is less than 10 nm, problems such as particle non-uniformity in the low refractive index layer due to particle aggregation occur.
また、内部に空隙を有するシリカ粒子の空隙としては、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。空隙が５０ｎｍを超える場合、十分な耐擦傷性が得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまうためである。一方、空隙が２０ｎｍ未満の場合、屈折率が１．４５以上となってしまい平均視感反射率が１．５％以上となるためである。 Moreover, as a space | gap of the silica particle which has a space | gap inside, it is preferable that they are 20 nm or more and 50 nm or less. This is because, when the gap exceeds 50 nm, sufficient scratch resistance cannot be obtained and the antireflection film provided on the display surface is not suitable. On the other hand, when the gap is less than 20 nm, the refractive index is 1.45 or more, and the average luminous reflectance is 1.5% or more.
なお、内部に空隙を有するシリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３５であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造モデルである。 As an example of silica particles having voids inside, while maintaining a spherical shape, the refractive index is 1.35 lower than the refractive index of glass 1.45, the radius is 20 nm to 25 nm, and the density (ρ1 ) Has a spherical structure in the center, and the periphery is covered with layers of different densities (ρ2) having a thickness of 10 nm to 15 nm, and the values of (ρ1 / ρ2) are 0.5, 0.1, 0.0 The center part of the silica particles is a structural model that has a density of about 1/10 of the external silica.
本発明の低屈折率層は、低屈折率層の屈折率が１．３０以上１．４５未満の範囲であることが好ましい。低屈折率層の屈折率を１．３０以上１．４５未満の範囲内とすることにより、反射防止フィルムに反射防止機能を付与することができる。低屈折率層の屈折率が１．４５を超える場合にあっては得られる反射防止フィルムが十分な反射防止機能を得られなくなってしまうことがある。一方、低屈折率層の屈折率は低い方が好ましいが、１．３０を下回るようにするには、内部の空隙を有するシリカ粒子を大量に添加する必要があり、低屈折率層の形成は困難となってしまう。 In the low refractive index layer of the present invention, the refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.30 or more and less than 1.45. By making the refractive index of the low refractive index layer in the range of 1.30 or more and less than 1.45, an antireflection function can be imparted to the antireflection film. When the refractive index of the low refractive index layer exceeds 1.45, the resulting antireflection film may not be able to obtain a sufficient antireflection function. On the other hand, the lower refractive index layer preferably has a lower refractive index, but in order to make it lower than 1.30, it is necessary to add a large amount of silica particles having internal voids. It becomes difficult.
また、低屈折率層表面の平均視感反射率が０．３％以上２．０％未満の範囲内であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the average luminous reflectance of the surface of the low refractive index layer is in the range of 0.3% or more and less than 2.0%.
低屈折率層表面の平均視感反射率が２．０％を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。また、低屈折率層表面の平均視感反射率は低いほど高い反射防止機能を備えることから、低いほど好ましい。
しかし、平均視感反射率が０．２％を下回るように低屈折率層を形成しようとすると、内部に空隙を有するシリカ粒子を大量に添加する必要があり、硬化に困難を来す。
When the average luminous reflectance on the surface of the low refractive index layer exceeds 2.0%, it becomes impossible to obtain an antireflection film having a sufficient antireflection function. Further, the lower the average luminous reflectance on the surface of the low refractive index layer, the higher the antireflection function, so the lower the better.
However, if the low refractive index layer is to be formed so that the average luminous reflectance is less than 0.2%, it is necessary to add a large amount of silica particles having voids therein, which makes it difficult to cure.
平均視感反射率は、低屈折率層表面の分光反射率曲線から求められる。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、反射防止フィルムの低屈折率層と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。視感平均反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。 The average luminous reflectance is obtained from the spectral reflectance curve on the surface of the low refractive index layer. The spectral reflectance curve of the antireflective film of the present invention is obtained after the surface opposite to the low refractive index layer of the antireflective film is matted with a black paint, and from the direction perpendicular to the surface of the low refractive index layer. The incident angle is set to 5 degrees, a C light source is used as the light source, and the angle is obtained under conditions of a 2 degree visual field. The luminous average reflectance is a reflectance value obtained by calibrating the reflectance of each wavelength of visible light with the relative luminous sensitivity and averaging it. At this time, the photopic standard relative visual sensitivity is used as the specific visual sensitivity.
また、本発明の反射防止フィルムにあっては、内部に空隙を有するシリカ粒子の含有量は低屈折率層中の重量比２０％以上７０％未満の範囲内であることが望ましい。より好ましくは重量比４０％以上６５％未満の範囲内であることが望ましい。これは、内部に空隙を有するシリカ粒子の含有量が重量比２０％未満の場合、平均視感反射率が２．０％以上となるためである。また内部に空隙を有するシリカ粒子含有量が重量比７０％以上の場合、十分な耐擦傷性を得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまう。 In the antireflection film of the present invention, the content of silica particles having voids therein is preferably in the range of 20% to less than 70% by weight in the low refractive index layer. More preferably, the weight ratio is in the range of 40% or more and less than 65%. This is because the average luminous reflectance is 2.0% or more when the content of the silica particles having voids therein is less than 20% by weight. Further, when the content of silica particles having voids in the interior is 70% or more by weight, sufficient scratch resistance cannot be obtained and it is not suitable for an antireflection film provided on the display surface.
また、本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率が９２．０％以上であることが好ましい。全光線透過率が９２．０％に満たない反射防止フィルムにあって透過率が低下しすぎるために、ディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまう。 The antireflection film of the present invention preferably has a total light transmittance of 92.0% or more. In the antireflection film having a total light transmittance of less than 92.0%, the transmittance is too low, so that it becomes unsuitable for the antireflection film provided on the display surface.
また、バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。 As the binder matrix forming material, a hydrolyzate of silicon alkoxide can be used. Furthermore, hydrolysis of the silicon alkoxide represented by the general formula (1) R x Si (OR) 4-x (wherein R represents an alkyl group and x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3). Can be used.
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。 Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-sec-butoxy. Silane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-proxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyl Trimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethan Kishishiran, dimethyl propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, can be used methyl dimethoxysilane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane. The hydrolyzate of silicon alkoxide may be obtained by using a metal alkoxide represented by the general formula (I) as a raw material, and is obtained, for example, by hydrolysis with hydrochloric acid.
さらには、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料としては、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、一般式（２）Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４−ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。 Furthermore, as the binder matrix forming material of the low refractive index layer, the silicon alkoxide represented by the general formula (1) may be replaced with the general formula (2) R ′ z Si (OR) 4-z (where R ′ Is a non-reactive functional group having an alkyl group, a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group, and z is an integer satisfying 1 ≦ z ≦ 3). Antifouling property can be imparted to the surface of the low refractive index layer of the antireflection film, and the refractive index of the low refractive index layer can be further reduced.
一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (2) include octadecyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane, and the like.
低屈折率層のバインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型のアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。 As a binder matrix forming material for the low refractive index layer, an ionizing radiation curable acrylic material can be used. Examples of the acrylic material include polyfunctional (meth) acrylate compounds such as polyhydric alcohol acrylic acid or methacrylic acid ester, polyisocyanate synthesized from diisocyanate and polyhydric alcohol, acrylic acid or methacrylic acid hydroxy ester, and the like. A functional urethane (meth) acrylate compound can be used. Besides these, as ionizing radiation type materials, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meta) ) Acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen Phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate , Hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, 2 -Adamantane derivatives mono (meth) acrylates such as adamantyl acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane and adamantanediol.
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth). ) Acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol Ruji (meth) acrylate, di (meth) acrylate, such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。 Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy. Ethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, etc. Trifunctional (meth) acrylate compounds, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol te Trifunctional or higher polyfunctionality such as la (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate ( Examples thereof include a (meth) acrylate compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound obtained by substituting a part of these (meth) acrylates with an alkyl group or ε-caprolactone.
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。 Among acrylic materials, polyfunctional urethane acrylates can be suitably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed and the physical properties of the formed hard coat layer can be easily balanced. . The urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.
バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に、さらに光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましく、さらには１ｗｔ％以上８．５ｗｔ％以下であることが好ましい。 When an ionizing radiation curable material is used as the binder matrix forming material and the low refractive index layer is formed by irradiating with ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is further added to the coating solution for forming the low refractive index layer. Any photopolymerization initiator may be used as long as it generates radicals when irradiated with ultraviolet rays. For example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones are used. Can do. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 wt% or more and 10 wt% or less with respect to the ionizing radiation curable material, and more preferably 1 wt% or more and 8.5 wt% or less. preferable.
なお、低屈折率層形成溶塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適性等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。 In addition, a solvent and various additives can be added to the low refractive index layer forming solution as necessary. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , Esters such as n-pentyl acetate and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, etc. It is appropriately selected in consideration of suitability and the like. Moreover, a surface adjusting agent, a leveling agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a photosensitizer, etc. can be added to the coating liquid as additives.
また、低屈折率層形成用塗液には防汚性の付与等を考慮してフッ素化合物、シリコーン化合物が加えられる。 In addition, a fluorine compound and a silicone compound are added to the coating solution for forming a low refractive index layer in consideration of imparting antifouling properties.
以上の材料を調整して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、低屈折率層を形成することができる。バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合にあっては、必要に応じて塗膜の乾燥をおこなったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、低屈折率層が形成することができる。 The low refractive index layer-forming coating liquid obtained by adjusting the above materials can be applied on a transparent substrate by a wet film forming method to form a coating film, thereby forming a low refractive index layer. When ionizing radiation curable materials are used as the binder matrix forming material, the coating film is dried if necessary, and then irradiated with ultraviolet rays or electron beams, which are ionizing radiation, to reduce the refractive index. A layer can be formed.
以下にハードコート層（１２）の形成方法を示す。（図２参照） The formation method of a hard-coat layer (12) is shown below. (See Figure 2)
ハードコート層形成用塗液は、透明基材（１１）上に塗布され、ハードコート層の塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液を、透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。 The coating liquid for forming a hard coat layer is applied on the transparent substrate (11) to form a hard coat layer coating film. The coating method for applying the coating liquid for forming the hard coat layer onto the transparent substrate includes a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, and a die coater. A coating method using a dip coater can be used.
次に、透明基材（１１）上に形成されたハードコート層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。 Next, the solvent in the coating film is removed by drying the coating film of the hard coat layer formed on the transparent substrate (11). At this time, heating, blowing, hot air, or the like can be used as the drying means.
次に、電離放射線を照射することにより、低屈折率層（１３）を硬膜される。 Next, the low refractive index layer (13) is hardened by irradiating with ionizing radiation.
電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ｋｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。 As the ionizing radiation, ultraviolet rays and electron beams can be used. In the case of ultraviolet curing, a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used. In the case of electron beam curing, electron beams emitted from various electron beam accelerators such as cockloftwald type, bandegraph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type can be used. . The electron beam preferably has an energy of 50 to 1000 keV. An electron beam having an energy of 100 to 300 keV is more preferable.
本発明の反射防止フィルムはロール・ツー・ロール方式により連続形成される。巻き取られているウェブ状の透明基材を巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで連続走行させ、このとき、透明基材（１１）を塗布ユニット（塗布工程（２１））、乾燥ユニット（乾燥工程（２２））、電離放射線照射ユニット（硬膜工程（２３））を通過させることにより、透明基材（１１）上にハードコート層（１２）が連続形成される。その後、低屈折率層（１３）を同様にして塗布から硬膜工程を通過させることにより、ハードコート層（１２）上に低屈折率層（１３）が形成され、反射防止フィルム（１）を製造することができる。ハードコート層を形成した段階でロールに巻き取り、低屈折率層形成時に再度、ロール・ツー・ロール方式で低屈折率層を形成しても良いし、ハードコート層形成後、引き続き連続して、低屈折率層を形成してからロールに巻き取るようにしても良い。 The antireflection film of the present invention is continuously formed by a roll-to-roll method. The web-shaped transparent substrate being wound is continuously run from the unwinding portion (31) to the winding portion (32). At this time, the transparent substrate (11) is applied to the coating unit (coating step (21)), The hard coat layer (12) is continuously formed on the transparent substrate (11) by passing through the drying unit (drying step (22)) and the ionizing radiation irradiation unit (hardening step (23)). Thereafter, the low refractive index layer (13) is passed through the hardening step in the same manner, whereby the low refractive index layer (13) is formed on the hard coat layer (12), and the antireflection film (1) is applied. Can be manufactured. When the hard coat layer is formed, it is wound on a roll, and when the low refractive index layer is formed, the low refractive index layer may be formed again by a roll-to-roll method, or continuously after the hard coat layer is formed. Alternatively, a low refractive index layer may be formed and wound on a roll.
以上により、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層にシランカップリング剤を含む材料を用いることにより、低屈折率層との密着力を向上させることができるため、耐擦傷性が優れ、全光線透過率が高く、干渉縞の発生しにくい反射防止フィルムを得ることができる。 As described above, in the antireflection film of the present invention, the adhesion with the low refractive index layer can be improved by using a material containing a silane coupling agent in the hard coat layer. It is possible to obtain an antireflection film that is excellent, has a high total light transmittance, and hardly generates interference fringes.
次に、本発明の反射防止フィルム（１）を用いた反射防止性偏光板（５１０）について説明する。 Next, the antireflection polarizing plate (510) using the antireflection film (1) of the present invention will be described.
図３の反射防止性偏光板（５１０）は、第１の透明基材（１１）の一方の面にハードコート層（１２）と、低屈折率層（１３）を順に備えている反射防止フィルム（１）であり、低屈折率層非形成面側に、第１の偏光層（５３）と、第２の透明基材（５２）を順に備えた反射防止性偏光板（５１０）となる。 The antireflection polarizing plate (510) of FIG. 3 has an antireflection film comprising a hard coat layer (12) and a low refractive index layer (13) in this order on one surface of the first transparent substrate (11). (1), which is an antireflective polarizing plate (510) provided with a first polarizing layer (53) and a second transparent substrate (52) in this order on the low refractive index layer non-forming surface side.
本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム（１）は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として用いることができる。 The antireflection film (1) according to the embodiment of the present invention can be used as a part of a display member or an image device.
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイの構成について説明する。 Next, the configuration of a transmissive liquid crystal display using the antireflection film of the present invention will be described.
図４に本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイを示した。図４（ａ）の透過型液晶ディスプレイにおいては、本発明の反射防止フィルム（１）を、一方の面に貼り合わせた第１の偏光板（５０）を低屈折率層非形成面に備えた反射防止性偏光板（５００）、液晶セル（６０）、第２の偏光板（７０）、バックライトユニット（８０）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム（１）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。 FIG. 4 shows a transmissive liquid crystal display using the antireflection film of the present invention. In the transmissive liquid crystal display of FIG. 4A, the first polarizing plate (50) in which the antireflection film (1) of the present invention is bonded to one surface is provided on the surface where the low refractive index layer is not formed. An antireflection polarizing plate (500), a liquid crystal cell (60), a second polarizing plate (70), and a backlight unit (80) are provided in this order. At this time, the antireflection film (1) side becomes the observation side, that is, the display surface.
図４（ａ）にあっては、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）と第１の偏光板（５０）の透明基材を別々に備える透過型液晶ディスプレイとなっている。 In Fig.4 (a), it is a transmissive | pervious liquid crystal display provided with the transparent base material (11) of an antireflection film (1), and the transparent base material of a 1st polarizing plate (50) separately.
バックライトユニット（８０）は、光源と光拡散板を備える。液晶セル（６０）は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（６０）を挟むように設けられる第１、第２の偏光板にあっては、透明基材（５１、５２、７１、７２）間に偏光層（５３、７３）を挟持した構造となっている。 The backlight unit (80) includes a light source and a light diffusion plate. The liquid crystal cell (60) has a structure in which an electrode is provided on one transparent substrate, an electrode and a color filter are provided on the other transparent substrate, and liquid crystal is sealed between both electrodes. In the first and second polarizing plates provided so as to sandwich the liquid crystal cell (60), the polarizing layer (53, 73) is sandwiched between the transparent substrates (51, 52, 71, 72). It has become.
また、図４（ｂ）にあっては、透明基材（１１）の一方の面に低屈折率層（１３）を備えた反射防止フィルム（１）と、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に、偏光層（５３）、透明基材（５２）を順に備えて、反射防止性偏光板（５１０）を形成し、反射防止性偏光板（５１０）、液晶セル（６０）、第２の偏光板（７０）、バックライトユニット（８０）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム（１）の低屈折率層（１３）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。 Moreover, in FIG.4 (b), the antireflective film (1) provided with the low-refractive-index layer (13) on one surface of the transparent base material (11), and the low-refractive-index layer of the said antireflective film On the non-formed surface, a polarizing layer (53) and a transparent substrate (52) are provided in this order to form an antireflection polarizing plate (510), and the antireflection polarizing plate (510), liquid crystal cell (60), Two polarizing plates (70) and a backlight unit (80) are provided in this order. At this time, the low refractive index layer (13) side of the antireflection film (1) is the observation side, that is, the display surface.
図４（ｂ）にあっては、反射防止フィルム（１）の低屈折率層非形成面に、第１の偏光板として、偏光層（５３）と透明基材（５２）を、この順に備えた反射防止性偏光板（５１０）を備えた透過型液晶ディスプレイとなっている。 In FIG. 4B, a polarizing layer (53) and a transparent substrate (52) are provided in this order as a first polarizing plate on the surface of the antireflective film (1) where the low refractive index layer is not formed. A transmissive liquid crystal display provided with the antireflection polarizing plate (510).
図４（ｂ）においても、図４（ａ）と同様に、バックライトユニット（８０）は、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（６０）を挟むように設けられる第１、第２の偏光板にあっては、透明基材（１１、５２、７１、７２）間に偏光層（５３、７３）を挟持した構造となっている。 In FIG. 4B as well, as in FIG. 4A, the backlight unit (80) includes a light source and a light diffusion plate. The liquid crystal cell has a structure in which an electrode is provided on one transparent substrate, an electrode and a color filter are provided on the other transparent substrate, and liquid crystal is sealed between both electrodes. In the first and second polarizing plates provided so as to sandwich the liquid crystal cell (60), the polarizing layer (53, 73) is sandwiched between the transparent base materials (11, 52, 71, 72). It has become.
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。 Moreover, in the transmissive liquid crystal display of this invention, you may provide another functional member. Other functional members include, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film for effectively using light emitted from a backlight, and a phase difference film for compensating for a phase difference between a liquid crystal cell and a polarizing plate. However, the transmissive liquid crystal display of the present invention is not limited to these.
以上により、本発明の反射防止フィルムを用いた、透過型液晶ディスプレイが製造される。 As described above, a transmissive liquid crystal display using the antireflection film of the present invention is manufactured.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
透明基材として、ＰＥＴフィルム（厚さ８０μｍ、屈折率１．６７）を用意した。
A PET film (
＜調整例１＞
（ハードコート層形成用塗液１）
・シランカップリング剤（東レダウ社製 商品名：ＳＺ６０３０ ） １０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４） １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液１を調整した。
<Adjustment example 1>
(Hardcoat layer forming coating solution 1)
-10 parts by weight of silane coupling agent (trade name: SZ6030 manufactured by Toray Dow Co.)-100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate-10 parts by weight of photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan) A hard coat layer forming
＜調整例２＞（アクリル基含有品）
（ハードコート層形成用塗液２）
・シランカップリング剤（信越シリコーン社製 商品名：ＫＢＭ−５１０３ ）１０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４） １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液２を調整した。
<Adjustment example 2> (acrylic group-containing product)
(Hardcoat layer forming coating solution 2)
-10 parts by weight of a silane coupling agent (trade name: KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Silicone)-100 parts by weight of pentaerythritol triacrylate-10 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) This was dissolved in methyl ethyl ketone so as to have a solid content of 50% to prepare a coating liquid 2 for forming a hard coat layer.
＜調整例３＞
（ハードコート層形成用塗液３）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４） １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液３を調整した。
<Adjustment example 3>
(Hard coat layer forming coating liquid 3)
・ Pentaerythritol triacrylate 100 parts by weight ・ Photopolymerization initiator (product name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 10 parts by weight is dissolved in methyl ethyl ketone so that the solid content is 50% to form a hard coat layer. Coating liquid 3 was prepared.
（ハードコート層の形成）
ＰＥＴフィルム（膜厚８０μｍ）の片面に前記調整例１及び調整例２のハードコート層形成用塗液を塗布し、８０℃・６０秒オーブン（一次、二次乾燥機共に同じ条件）で乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。
(Formation of hard coat layer)
Apply the hard coat layer forming coating solution of Preparation Example 1 and Preparation Example 2 on one side of a PET film (
次に、前記ハードコート層の上層に、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製する。その際に用いる塗液の調合例を以下に示す。 Next, a low refractive index layer is formed on the hard coat layer to produce an antireflection film. An example of preparing the coating liquid used at that time is shown below.
（低屈折率層調合例１）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート １００重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径３０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散） ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製 商品名：イルガキュア１８４） １０重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液１を調整した。
(Low refractive index layer formulation example 1)
・ Pentaerythritol tetraacrylate 100 parts by weight ・ Low refractive index silica fine particle dispersion having voids inside (primary particle diameter 30 nm / solid content 20 wt% / methyl ethyl ketone dispersion) 500 parts by weight ・ Photopolymerization initiator (product name, manufactured by Ciba Japan) : Irgacure 184) A
前記低屈折率層形成用塗液（調合例１）を用いて、前記調整例１及び調整例２に形成したハードコート層上に低屈折率層を形成し、（実施例１）及び（実施例２）の反射防止フィルムを形成する。 Using the coating liquid for forming a low refractive index layer (Formulation Example 1), a low refractive index layer is formed on the hard coat layer formed in Adjustment Example 1 and Adjustment Example 2, and (Example 1) and (Implementation) The antireflection film of Example 2) is formed.
前記低屈折率層形成用塗液（調合例１）を用いて、前記調整例３に形成したハードコート層上に低屈折率層を形成し、（比較例１）の反射防止フィルムを形成する。 Using the coating liquid for forming a low refractive index layer (formulation example 1), a low refractive index layer is formed on the hard coat layer formed in the adjustment example 3, and the antireflection film of (comparative example 1) is formed. .
前記（実施例１）（実施例２）及び（比較例１）の組み合わせについて（表１）に示す。 The combinations of (Example 1) (Example 2) and (Comparative Example 1) are shown in (Table 1).
（低屈折率層の形成）
低屈折率層の具体的な形成方法としては、前記（実施例１）、（実施例２）及び（比較例１）のハードコート層の上に、（調合例１）の低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこない、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
(Formation of a low refractive index layer)
As a specific method for forming the low refractive index layer, formation of the low refractive index layer of (Formulation Example 1) on the hard coat layer of (Example 1), (Example 2) and (Comparative Example 1). The coating solution was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. After the first drying temperature of 25 ° C. for 25 seconds, the second drying temperature of 80 ° C. is performed for 50 seconds, and the ultraviolet ray is irradiated at an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet ray irradiation device (light source H bulb manufactured by Fusion UV System Japan). Irradiation was performed to harden the film to form a low refractive index layer, and an antireflection film was produced.
前記にて作製された反射防止フィルムについて、以下の測定・評価をおこなった。 The antireflection film produced above was subjected to the following measurements / evaluations.
「視感平均反射率」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
"Visibility average reflectance"
The surface of the obtained antireflection film opposite to the surface on which the low refractive index layer was formed was applied in black by a black matte spray. After coating, the low refractive index layer-forming surface measured using an automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) is averaged from the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° under the condition of a C light source and a 2-degree field of view. The reflectance (Y%) was calculated. In addition, the photopic standard relative luminous sensitivity was used as the specific luminous efficiency.
「ヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率の測定」
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用してヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率を測定した。
“Measurement of haze (H) and parallel light transmittance”
About the obtained anti-reflective film, haze (H) and parallel light transmittance were measured using the image clarity measuring device (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. make, NDH-2000).
「色ムラ干渉縞の確認」
得られた反射防止フィルム裏面をスプレーインクで黒塗りし、塗工面の状態を目視で確認を行なった。
目視で確認した評価は次のようになる。
○：色ムラ、干渉縞は確認されなかった。
×：色ムラ、干渉縞が確認された。
"Confirmation of uneven color interference fringes"
The back surface of the obtained antireflection film was painted black with a spray ink, and the state of the coated surface was visually confirmed.
The visually confirmed evaluation is as follows.
○: Color unevenness and interference fringes were not confirmed.
X: Color unevenness and interference fringes were confirmed.
「鉛筆硬度の測定」
ＪＩＳ−Ｋ５４００の方法によって、測定を行なった。
"Measurement of pencil hardness"
The measurement was performed by the method of JIS-K5400.
「耐擦傷性（スチールウール（ＳＷ））の確認」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に５００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
"Confirmation of scratch resistance (steel wool (SW))"
About the surface of the low refractive index layer of the obtained antireflection film, 500 g / cm is applied to the surface of the low refractive index layer of the optical laminate using a Gakushin type friction fastness tester (AB-301, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.). Steel wool with a load of 2 (Nihon Steel Wool Co., Ltd., Bonstar # 0000) was used, and the appearance change due to 10 reciprocating rubs, rubbing traces and scratches was visually evaluated.
目視にて確認した評価は、
○：傷を確認することが出来ない。
×：傷が確認できる。
The evaluation confirmed visually is
○: Scratches cannot be confirmed.
X: Scratches can be confirmed.
（表２）に得られた反射防止フィルムの視感平均反射率、ヘイズ、平行光線透過率、色ムラ干渉縞、鉛筆硬度、耐擦傷性（ＳＷ）の測定・確認結果を示す。 Table 2 shows the measurement / confirmation results of the average visual reflectance, haze, parallel light transmittance, color uneven interference fringe, pencil hardness, and scratch resistance (SW) of the antireflection film obtained.
（実施例１）〜（実施例２）で得られた反射防止フィルムにあっては、製造コストが低く、また、光学特性に優れた反射防止フィルムを提供することができた。 In the antireflection film obtained in (Example 1) to (Example 2), the production cost was low, and an antireflection film excellent in optical properties could be provided.
また、平行光線透過率が高く、ヘイズが低く、ディスプレイのコントラストを低下することなく反射防止性能を発揮することができ、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。 Moreover, the parallel light transmittance is high, the haze is low, the antireflection performance can be exhibited without lowering the contrast of the display, and it can be suitably used for the display surface.
１ 反射防止フィルム
１１ 透明基材または第１の透明基材
１２ ハードコート層
１３ 低屈折率層
２１ 塗布工程
２２ 乾燥工程
２２ａ 一次乾燥
２２ｂ 二次乾燥
２３ 硬膜工程
３１ 巻き出し部
３２ 巻き取り部
５０ 第１の偏光板
５２ 第２の透明基材
５３ 第１の偏光層
６０ 液晶セル
７０ 第２の偏光板
７１ 第３の透明基材
７２ 第４の透明基材
７３ 第２の偏光層
８０ バックライトユニット
５００ 反射防止性偏光板
５１０ 反射防止性偏光板
DESCRIPTION OF
Claims (7)
（Ａ）前記ハードコート層が、紫外線または電離放射線によって硬化する材料からなり、少なくともシランカップリング剤を含み、
（Ｂ）前記低屈折率層が、内部に空隙を有するシリカ粒子を少なくとも含み、前記シリカ粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、かつ、
前記シリカ粒子の含有量は、前記低屈折率層中の重量比２０重量％以上７０重量％未満であり、かつ、
低屈折率層表面の平均視感反射率が０．３％以上２．０％未満であることを特徴とする反射防止フィルム。 In an antireflection film comprising at least a hard coat layer on a transparent substrate and a low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.30 or more and less than 1.45 in order,
(A) The hard coat layer is made of a material that is cured by ultraviolet rays or ionizing radiation, and includes at least a silane coupling agent,
(B) The low refractive index layer includes at least silica particles having voids therein, and the average particle size of the silica particles is 10 nm or more and 100 nm or less, and
The content of the silica particles is 20% by weight or more and less than 70% by weight in the low refractive index layer, and
An antireflection film, wherein the average luminous reflectance of the surface of the low refractive index layer is 0.3% or more and less than 2.0%.
透明基材の少なくとも一方の面に、前記請求項１に記載のハードコート層形成のためのハードコート層用塗液を塗布し、ハードコート層の塗膜を３μｍ以上１０μｍ以下の厚さで形成する塗膜形成工程と、
前記ハードコート層の塗膜を乾燥する一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記ハードコート層の塗膜乾燥後に紫外線又は、電離放射線を照射しハードコート層を硬膜する硬膜工程と、
前記請求項１に記載の低屈折率層形成のための低屈折率層用塗液を５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚さで塗布し、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する一次乾燥と、二次乾燥の連続する乾燥工程と、
前記低屈折率層の塗膜乾燥後に紫外線又は、電離放射線を照射し低屈折率層を硬膜する硬膜工程と、
を順に行なうことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 In a wet production method of an antireflection film comprising at least a hard coat layer on a transparent substrate and a low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.30 or more and less than 1.45 in order,
The hard coat layer coating liquid for forming a hard coat layer according to claim 1 is applied to at least one surface of the transparent substrate, and a hard coat layer coating film is formed to a thickness of 3 μm to 10 μm. A coating film forming step,
Primary drying for drying the coating film of the hard coat layer, and a continuous drying step of secondary drying,
A hardening step of hardening the hard coat layer by irradiating with ultraviolet rays or ionizing radiation after drying the hard coat layer; and
Primary drying in which the coating solution for the low refractive index layer according to claim 1 is applied in a thickness of 50 nm to 200 nm and the coating film of the low refractive index layer is dried; A continuous drying process of the next drying;
A film hardening step of hardening the low refractive index layer by irradiating ultraviolet rays or ionizing radiation after drying the coating film of the low refractive index layer,
A method for producing an antireflection film, which is characterized in that
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|---|---|---|---|---|
| JP2014041244A (en) * | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Toray Advanced Film Co Ltd | Laminated film for molding |
| US11639428B2 (en) | 2016-11-25 | 2023-05-02 | Riken Technos Corporation | Hardcoat multilayer film |
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- 2011-01-17 JP JP2011006787A patent/JP2012150154A/en active Pending
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