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JP2010160464A - Antistatic hard coat film, and polarizing plate and display having antistatic hard coat film - Google Patents

Antistatic hard coat film, and polarizing plate and display having antistatic hard coat film Download PDF

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JP2010160464A
JP2010160464A JP2009093749A JP2009093749A JP2010160464A JP 2010160464 A JP2010160464 A JP 2010160464A JP 2009093749 A JP2009093749 A JP 2009093749A JP 2009093749 A JP2009093749 A JP 2009093749A JP 2010160464 A JP2010160464 A JP 2010160464A
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JP
Japan
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hard coat
coat film
antistatic hard
layer
antistatic
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Application number
JP2009093749A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Tokawa
栄一 東川
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】電子伝導機構を有するπ共役系導電性高分子とイオン伝導機構とを有する4級アンモニウム塩系導電性モノマーを組み合わせて用いることにより、透過率、耐光性に優れ、周囲の環境(湿度)に依存せず良好な導電性を与える帯電防止ハードコートフィルム及び帯電防止ハードコートフィルムを有する偏光板並びにディスプレイを提供すること。
【解決手段】基材と、基材上にπ共役系導電性高分子及び4級アンモニウム塩導電性モノマーもしくはその重合体を含有されたハードコート層と、を備えることを特徴とする帯電防止ハードコートフィルム。
【選択図】図1
A combination of a π-conjugated conductive polymer having an electron conduction mechanism and a quaternary ammonium salt conductive monomer having an ionic conduction mechanism provides excellent transmittance and light resistance, and the surrounding environment (humidity). And a polarizing plate and a display having an antistatic hard coat film and an antistatic hard coat film which give good conductivity without depending on the above.
An antistatic hardware comprising: a base material; and a hard coat layer containing a π-conjugated conductive polymer and a quaternary ammonium salt conductive monomer or a polymer thereof on the base material. Coat film.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、帯電防止ハードコートフィルム及び帯電防止ハードコートフィルムを有する偏光板並びにディスプレイに関する。特に、良好な導電性及び高い透過率を有し、例えば、LCD、PDP、CRT、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等の表示画面に適用される帯電防止ハードコートフィルム及び帯電防止ハードコートフィルムを有する偏光板並びにディスプレイに関する。   The present invention relates to an antistatic hard coat film, a polarizing plate having an antistatic hard coat film, and a display. Particularly, a polarizing plate having an antistatic hard coat film and an antistatic hard coat film having good conductivity and high transmittance and applied to a display screen such as an LCD, PDP, CRT, projection display, EL display, etc. And a display.

一般にディスプレイは室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光はディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、生産性の向上のために反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。   In general, a display is used in an environment where external light or the like is incident, regardless of whether the display is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image is mixed with the display image, thereby degrading the screen display quality. Therefore, it is essential to provide an antireflection function to the display surface or the like, and a combination of functions other than the antireflection function is required to improve the performance and productivity of the antireflection function.

一般に反射防止機能は、基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜(反射防止膜)を形成することで得られる。これらの多層膜は化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法により形成することが可能だが、真空蒸着法による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、多層膜の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能であるウェットコーティング法による反射防止膜の生産が注目されている。   In general, the antireflection function can be obtained by forming a multilayer film (antireflection film) made of a transparent thin film such as a metal oxide on a substrate. These multilayer films can be formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), but the formation method by vacuum vapor deposition has a problem of low productivity and is not suitable for mass production. . On the other hand, as a method for forming a multilayer film, production of an antireflection film by a wet coating method, which can achieve a large area, continuous production, and cost reduction, has attracted attention.

また、これらの反射防止機能を有する多層膜は、その表面が比較的柔軟であることから表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止多層膜を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いため帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えていた。   In addition, these multilayer films having an antireflection function are generally provided with a hard coat layer made of a polymer of an acrylic polyfunctional compound on the surface in order to impart surface hardness because the surface thereof is relatively flexible. A technique of forming an antireflection multilayer film is used. This hard coat layer has high surface hardness, gloss, transparency, and scratch resistance due to the characteristics of the acrylic resin, but it has high insulation properties, so it is easy to be charged, such as dust on the product surface provided with the hard coat layer. There have been problems such as contamination due to adhesion and troubles caused by charging in the display manufacturing process.

そこで、特許文献1には帯電防止機能を付与するため、ハードコート層に導電剤を練りこむ技術が開示されている。また、特許文献2には基材とハードコート層の間に帯電防止層を設ける技術が開示され、特許文献3にはハードコート層と反射防止層の間に帯電防止層を設ける技術が開示されている。しかし、特許文献2及び3に記載の技術は、帯電防止層をハードコート層と別途設ける方法である。帯電防止層をハードコート層と別途設けると反射防止フィルムとして積層するべき層が増えることになってしまうため、生産プロセスが煩雑となり、生産性の低下を招いてしまう恐れがある。   Therefore, Patent Document 1 discloses a technique of kneading a conductive agent into the hard coat layer in order to impart an antistatic function. Patent Document 2 discloses a technique for providing an antistatic layer between a base material and a hard coat layer, and Patent Document 3 discloses a technique for providing an antistatic layer between a hard coat layer and an antireflection layer. ing. However, the techniques described in Patent Documents 2 and 3 are methods in which an antistatic layer is provided separately from a hard coat layer. If the antistatic layer is provided separately from the hard coat layer, the number of layers to be laminated as an antireflection film increases, so that the production process becomes complicated and the productivity may be reduced.

一般的に、帯電防止機能付与のために使われる導電剤は、イオン伝導機構を有する4級アンモニウム塩系導電性モノマー、あるいは電子伝導機構を有する導電性微粒子、もしくはπ共役系導電性高分子が用いられている。   Generally, the conductive agent used for imparting the antistatic function is a quaternary ammonium salt conductive monomer having an ion conduction mechanism, conductive fine particles having an electron conduction mechanism, or a π-conjugated conductive polymer. It is used.

また一般的に、イオン導電機構を有する4級アンモニウム塩系導電性モノマーは、無色であるため、基材及び帯電防止層の透過率を損なうことなく導電性の発現が可能である。また、光吸収を持たないことから高い耐光性を有する。しかし、その導電機構上、帯電防止層中の水分(含水)が導電性出現に必須であり、このことから導電性が周囲の環境(主に湿度)に大きく影響を受けてしまう課題がある。   In general, a quaternary ammonium salt conductive monomer having an ionic conduction mechanism is colorless, and thus can exhibit conductivity without impairing the transmittance of the base material and the antistatic layer. Further, since it does not absorb light, it has high light resistance. However, moisture (water content) in the antistatic layer is indispensable for the appearance of conductivity because of its conduction mechanism, and there is a problem that the conductivity is greatly influenced by the surrounding environment (mainly humidity).

一方、電子伝導機構を有する導電性微粒子は、一般に金属酸化物微粒子であるので着色があり、周囲の環境に依存しない良好な導電性を発現できるものの、金属酸化物微粒子により反射防止フィルム自身の着色、透過率の減少という課題を抱えている。   On the other hand, conductive fine particles having an electron conduction mechanism are generally colored because they are metal oxide fine particles, and can exhibit good conductivity independent of the surrounding environment, but the antireflection film itself is colored by the metal oxide fine particles. , Has the problem of reduced transmittance.

また、同じ電子伝導機構を有するπ共役系導電性高分子では、ハードコート層もしくは導電層の樹脂成分に対して極めて少ない添加量にて導電性を発現することができるが、一般に金属酸化物微粒子と同様に着色があり、さらに有機高分子であるため耐光性が他の導電材に比べ著しく悪く、耐光性試験後に導電性が消失してしまうという課題を抱えている。   In addition, a π-conjugated conductive polymer having the same electron conduction mechanism can exhibit conductivity with a very small addition amount with respect to the resin component of the hard coat layer or conductive layer. In addition to being colored, and being an organic polymer, the light resistance is remarkably worse than that of other conductive materials, and there is a problem that the conductivity disappears after the light resistance test.

特開平11−92750号公報JP-A-11-92750 特開2007−292883号公報JP2007-29283A 特開2008−003122号公報JP 2008-003122 A

本発明は、電子伝導機構を有するπ共役系導電性高分子とイオン伝導機構とを有する4級アンモニウム塩系導電性モノマーを組み合わせて用いることにより、透過率、耐光性に優れ、周囲の環境(湿度)に依存せず良好な導電性を与える帯電防止ハードコートフィルム及び帯電防止ハードコートフィルムを有する偏光板並びにディスプレイを提供することである。   The present invention uses a combination of a π-conjugated conductive polymer having an electron conduction mechanism and a quaternary ammonium salt-based conductive monomer having an ion conduction mechanism, so that it has excellent transmittance and light resistance, and the surrounding environment ( It is an object to provide an antistatic hard coat film that gives good conductivity without depending on humidity), a polarizing plate having an antistatic hard coat film, and a display.

本発明の請求項1に係る発明は、基材と、基材上にπ共役系導電性高分子及び4級アンモニウム塩導電性モノマーもしくはその重合体を含有されたハードコート層と、を備えることを特徴とする帯電防止ハードコートフィルムとしたものである。   The invention according to claim 1 of the present invention includes a base material, and a hard coat layer containing a π-conjugated conductive polymer and a quaternary ammonium salt conductive monomer or a polymer thereof on the base material. An antistatic hard coat film characterized by the above.

本発明の請求項2に係る発明は、全光線透過率が91%以上であり、かつ表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1に記載の帯電防止ハードコートフィルムとしたものである。 The invention according to claim 2 of the present invention is characterized in that the total light transmittance is 91% or more and the surface resistance value is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. This is an antistatic hard coat film.

本発明の請求項3に係る発明は、JIS B 7751に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に100時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の帯電防止ハードコートフィルムとしたものである。 The invention according to claim 3 of the present invention has a surface resistance value of 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less after being stored in an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester defined in JIS B 7751 for 100 hours. The antistatic hard coat film according to claim 1 or 2, wherein the antistatic hard coat film is provided.

本発明の請求項4にかかる発明は、JIS B 7751に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に500時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムとしたものである。 The invention according to claim 4 of the present invention has a surface resistance value of 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less after being stored in an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester specified in JIS B 7751 for 500 hours. The antistatic hard coat film according to claim 1, wherein the antistatic hard coat film is provided.

本発明の請求項5に係る発明は、気温20℃〜40℃、湿度20%〜80%の範囲の環境において測定された表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムとしたものである。 In the invention according to claim 5 of the present invention, the surface resistance value measured in an environment of air temperature 20 ° C. to 40 ° C. and humidity 20% to 80% is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. The antistatic hard coat film according to any one of claims 1 to 3, wherein

本発明の請求項6に係る発明は、ハードコート層上に、1層もしくは複数層からなる反射防止層が形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムとしたものである。   The invention according to claim 6 of the present invention is characterized in that an antireflection layer comprising one layer or a plurality of layers is formed on the hard coat layer. It is a coated film.

本発明の請求項7に係る発明は、全光線透過率が94%以上であることを特徴とする請求項6に記載の帯電防止ハードフィルムとしたものである。   The invention according to claim 7 of the present invention is the antistatic hard film according to claim 6, wherein the total light transmittance is 94% or more.

本発明の請求項8に係る発明は、請求項1乃至7のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムを有することを特徴とする偏光板としたものである。   The invention according to claim 8 of the present invention is a polarizing plate comprising the antistatic hard coat film according to any one of claims 1 to 7.

本発明の請求項9に係る発明は、請求項1乃至8のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムを有することを特徴とするディスプレイとしたものである。   The invention according to claim 9 of the present invention is a display comprising the antistatic hard coat film according to any one of claims 1 to 8.

本発明によれば、電子伝導機構を有するπ共役系導電性高分子とイオン伝導機構とを有する4級アンモニウム塩系導電性モノマーを組み合わせて用いることにより、π共役系導電性高分子の課題点である透過率の低下、耐光性による導電性劣化を抑制し、イオン伝導機構とを有する4級アンモニウム塩系導電性モノマーの課題点である導電性の周囲の環境(湿度)による依存を改善し、良好な導電性を与える帯電防止ハードコートフィルム及び帯電防止ハードコートフィルムを有する偏光板並びにディスプレイを提供することができる。   According to the present invention, by using a combination of a π-conjugated conductive polymer having an electron conduction mechanism and a quaternary ammonium salt-based conductive monomer having an ionic conduction mechanism, there are problems of the π-conjugated conductive polymer. Reduces the transmittance, and suppresses the deterioration of conductivity due to light resistance, and improves the dependence of the conductivity on the surrounding environment (humidity), which is a problem of quaternary ammonium salt conductive monomers having an ionic conduction mechanism. An antistatic hard coat film giving good conductivity, a polarizing plate having an antistatic hard coat film and a display can be provided.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the antistatic hard coat film which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルムを有する偏光板を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the polarizing plate which has the antistatic hard coat film which concerns on embodiment of this invention. (a)及び(b)は、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルムを有する透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図である。(A) And (b) is a schematic sectional drawing which shows the transmissive liquid crystal display which has the antistatic hard coat film which concerns on embodiment of this invention.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、実施の形態の間において重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the embodiments, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description among the embodiments is omitted.

図1は、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10を示す概略断面図である。図1に示すように、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、基材11、基材11上に形成されたハードコート層12、ハードコート層上に形成された反射防止層13を備えている。ハードコート層12中には、π共役系導電性高分子及び4級アンモニウム塩系導電性モノマーもしくはその重合体を有する。本発明の実施の形態に係るハードコート層12を用いることにより、帯電防止層を別途積層させることなく、帯電防止ハードコートフィルム10を形成することができる。また、反射防止層13は、1層もしくは複数層から形成されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an antistatic hard coat film 10 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, an antistatic hard coat film 10 according to an embodiment of the present invention includes a base 11, a hard coat layer 12 formed on the base 11, and an antireflection formed on the hard coat layer. Layer 13 is provided. The hard coat layer 12 includes a π-conjugated conductive polymer and a quaternary ammonium salt conductive monomer or a polymer thereof. By using the hard coat layer 12 according to the embodiment of the present invention, the antistatic hard coat film 10 can be formed without separately laminating the antistatic layer. The antireflection layer 13 is formed of one layer or a plurality of layers.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10のハードコート層12は、π共役系導電性高分子及び4級アンモニウム塩系導電性モノマーもしくはその重合体を含有することにより、優れた透過率及び耐光性試験後に導電性が劣化することなく、周囲の環境(湿度)に依存せず良好な導電性を得ることができる。導電性に優れているが、着色があり透過率が低く、耐光性試験により導電性が劣化するπ共役系導電性高分子と、導電成分が無色であるために高い透過率を持ち、導電性成分に光吸収がないことから耐光性に優れているが、導電性が周囲の環境(湿度)に大きく依存してしまう4級アンモニウム塩系導電性モノマーもしくはその重合体とを組み合わせて用いることで、透過率、耐光性に優れ、周囲の環境(湿度)に依存せず良好な導電性を与える帯電防止ハードコートフィルム10を形成することができる。   The hard coat layer 12 of the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention contains a π-conjugated conductive polymer and a quaternary ammonium salt conductive monomer or a polymer thereof, thereby providing excellent transmission. Good conductivity can be obtained without depending on the surrounding environment (humidity) without deterioration of conductivity after the rate and light resistance test. Π-conjugated conductive polymer that has excellent conductivity but is colored, has low transmittance, and its conductivity deteriorates in the light resistance test. It is excellent in light resistance because the component does not absorb light, but it can be used in combination with a quaternary ammonium salt-based conductive monomer or polymer thereof whose conductivity greatly depends on the surrounding environment (humidity). Thus, it is possible to form the antistatic hard coat film 10 which is excellent in transmittance and light resistance and gives good conductivity without depending on the surrounding environment (humidity).

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、基材11上にハードコート層12を積層した際の全光線透過率が91%以上であり、かつ表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下である。ハードコート層12には、電子伝導機構を有するπ共役系導電性高分子を含有しているにも関らず、高い透過率(91%以上)を持ち、表面抵抗値の1×1010(Ω/cm)以下を両立させることができる。 The antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention has a total light transmittance of 91% or more and a surface resistance value of 1 × 10 10 when the hard coat layer 12 is laminated on the substrate 11. (Ω / cm 2 ) or less. Although the hard coat layer 12 contains a π-conjugated conductive polymer having an electron conduction mechanism, it has a high transmittance (91% or more) and a surface resistance value of 1 × 10 10 ( Ω / cm 2 ) or less.

なお、本発明において透過率とは全光線透過率であり、JIS K 7105(1981)に基づき測定される。また、本発明において、表面抵抗値はJIS K 6911(1995)に基づき測定される。   In the present invention, the transmittance is the total light transmittance and is measured based on JIS K 7105 (1981). In the present invention, the surface resistance value is measured based on JIS K 6911 (1995).

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、基材11上にハードコート層12を積層した際、JIS B 7751(1990)に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に100時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下である。ハードコート層12の帯電防止材にπ共役系導電性高分子を用いた場合には、耐光性が悪く、上記耐光性試験により表面抵抗が上昇してしまうが、π共役系導電性高分子と4級アンモニウム塩導電材料とを併せ持つことで耐光性試験による表面抵抗の上昇を抑えた帯電防止ハードコートフィルム10を形成することができる。 The antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention is an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester defined in JIS B 7751 (1990) when the hard coat layer 12 is laminated on the substrate 11. The surface resistance value after storage for 100 hours is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. When a π-conjugated conductive polymer is used as the antistatic material for the hard coat layer 12, the light resistance is poor, and the surface resistance is increased by the light resistance test. By combining with a quaternary ammonium salt conductive material, it is possible to form the antistatic hard coat film 10 that suppresses an increase in surface resistance due to a light resistance test.

さらに好ましくは、基材11上にハードコート層12を積層した際、JIS B 7751(1990)に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に500時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下である。500時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下とすることにより、極めて高い耐光性を備える帯電防止ハードコートフィルム10とすることができる。 More preferably, when the hard coat layer 12 is laminated on the substrate 11, the surface resistance value after storage for 500 hours in an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester defined in JIS B 7751 (1990) is 1 ×. 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. When the surface resistance value after storage for 500 hours is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less, the antistatic hard coat film 10 having extremely high light resistance can be obtained.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、基材11上にハードコート層12を積層した際、気温20℃〜40℃、湿度20%〜80%の範囲の環境において測定された表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下である。ハードコート層12の帯電防止材に4級アンモニウム塩導電材を用いた場合、その導電機構から、湿度低下に伴って表面抵抗が上昇してしまい、周囲の環境に大きな影響を受けてしまうが、π共役系導電性高分子と4級アンモニウム塩導電材料とを併せ持つことで、周囲の湿度環境に依存しない優れた導電性を持つ帯電防止ハードコートフィルム10を形成することができる。 The antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention is measured in an environment having a temperature of 20 ° C. to 40 ° C. and a humidity of 20% to 80% when the hard coat layer 12 is laminated on the substrate 11. The surface resistance value is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. When a quaternary ammonium salt conductive material is used as the antistatic material of the hard coat layer 12, the surface resistance increases with a decrease in humidity from the conductive mechanism, and the surrounding environment is greatly affected. By having both the π-conjugated conductive polymer and the quaternary ammonium salt conductive material, the antistatic hard coat film 10 having excellent conductivity that does not depend on the surrounding humidity environment can be formed.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10の基材11は、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材11が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6−ナイロン、6,6−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。上述した基材11の中でも特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に添加剤、例えば紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものを用いることができる。   As the base material 11 of the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention, films or sheets made of various organic polymers can be used. For example, the base material 11 normally used for optical members, such as a display, is mentioned, In consideration of various physical properties, such as optical characteristics, such as transparency and the refractive index of light, and also impact resistance, heat resistance, and durability. Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, polymethyl methacrylate And those made of organic polymers such as acrylic, polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol and the like. Among the base materials 11 described above, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are particularly preferable. Furthermore, it is possible to use those organic polymers that have been added with functions by adding additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, and the like. it can.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10のハードコート層12には、ハードコート材料を含有している。ハードコート材料は、基材11上に形成されるものであり、紫外線硬化型材料、電子線硬化型材料等の電離放射線硬化型材料を用いることができる。紫外線硬化型材料または電子線硬化型材料としては、ハードコート層12の表面及び反射防止層13の表面の改質を目的として、スチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆引っかき試験による表面硬度、粘着テープ剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性について、要求されるスペックを満足させるように樹脂を選択して使用することができる。   The hard coat layer 12 of the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention contains a hard coat material. The hard coat material is formed on the substrate 11, and an ionizing radiation curable material such as an ultraviolet curable material or an electron beam curable material can be used. As an ultraviolet curable material or an electron beam curable material, for the purpose of modifying the surface of the hard coat layer 12 and the surface of the antireflection layer 13, scratch resistance by a steel wool rubbing test, surface hardness by a pencil scratch test, and adhesion A resin can be selected and used so as to satisfy required specifications for various properties such as adhesion by a tape peeling test and cracking by a minimum bending test.

電離放射線硬化型材料として用いられる光重合性ポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。これらの光重合性ポリマーは1種を用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the photopolymerizable polymer used as the ionizing radiation curable material include prepolymers such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable polymers may be used alone or in combination of two or more.

電離放射線硬化型材料として用いられる光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。特に本発明の実施の形態においては、ハードコート層12は、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。   Examples of the photopolymerizable monomer used as the ionizing radiation curable material include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol (meth) acrylate, and pentaerythritol tris. (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like. In particular, in the embodiment of the present invention, the hard coat layer 12 is preferably made of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group.

また、ハードコート材料には必要に応じて光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等を用いても良い。   In addition, a photopolymerization initiator is added to the hard coat material as necessary. As the photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, etc. may be used.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10のハードコート層10に含有される4級アンモニウム導電性モノマーとしては、4級アンモニウムカチオンを含む(メタ)アクリルモノマーもしくはその重合体を例示することができる。   Examples of the quaternary ammonium conductive monomer contained in the hard coat layer 10 of the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention include a (meth) acryl monomer containing a quaternary ammonium cation or a polymer thereof. be able to.

なお、本発明の実施の形態において「(メタ)アクリルモノマー」とは「アクリルモノマー」と「メタクリルモノマー」の両方を示している。   In the embodiment of the present invention, “(meth) acrylic monomer” indicates both “acrylic monomer” and “methacrylic monomer”.

4級アンモニウムカチオンを含む(メタ)アクリルモノマーとしては、下記(化1)を
挙げることができる。
Examples of the (meth) acrylic monomer containing a quaternary ammonium cation include the following (Chemical Formula 1).

Figure 2010160464
Figure 2010160464

このときXとしては、Cl、Br、I、F、HSO 、SO 2−、NO 、PO 3−、HPO 2−、HPO 、SO 、OH等を挙げることができる In this case, X may be Cl , Br , I , F , HSO 4 , SO 4 2− , NO 3 , PO 4 3− , HPO 4 2− , H 2 PO 4 , SO 3. -, OH -, and the like can be given

また、R、R、R、Rは水素基又は有機基から選択されるものであり、R、R、R、Rのうち少なくとも1つは(メタ)アクリル基を含む。また、R、R、R、Rは互いに環状に結合していてもよい。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are selected from a hydrogen group or an organic group, and at least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a (meth) acrylic group. Including. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be cyclically bonded to each other.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10のハードコート層12に含有されるπ共役系導電性高分子は、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ(1,6−ヘプタジイン)、ポリビフェニレン(ポリパラフェニレン)、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ(2,5−チエニレン)及びこれらの誘導体から選ばれる1種または2種以上の混合物を用いることができる。これらのπ共役系導電性高分子は、必要に応じて、熱乾燥型、もしくは紫外線といった電離照射線を照射することにより硬化する電離放射線硬化型の導電性有機材料を用いることができる。中でも、π共役系導電性高分子としてポリチオフェン及びその誘導体を好適に用いることができる。   The π-conjugated conductive polymer contained in the hard coat layer 12 of the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention is polyacetylene, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylene sulfide, poly (1,6-heptadiyne). ), Polybiphenylene (polyparaphenylene), polyparafinylene sulfide, polyphenylacetylene, poly (2,5-thienylene) and their derivatives, or a mixture of two or more thereof can be used. As these π-conjugated conductive polymers, a heat-drying type or an ionizing radiation curable type conductive organic material that is cured by irradiating with an ionizing irradiation ray such as ultraviolet rays can be used. Among these, polythiophene and derivatives thereof can be suitably used as the π-conjugated conductive polymer.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10においては、導電性材料を含むハードコート層12の形成用塗液を基材11上に湿式成膜法により塗布することにより形成することができる。   The antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention can be formed by applying a coating liquid for forming the hard coat layer 12 containing a conductive material on the substrate 11 by a wet film forming method. it can.

ハードコート層12の形成用塗液には、表面硬度の向上を目的としてさらに4級アンモニウムカチオンを持たない(メタ)アクリルモノマーもしくはその重合体を加えることができる。   A (meth) acrylic monomer having no quaternary ammonium cation or a polymer thereof can be added to the coating liquid for forming the hard coat layer 12 for the purpose of improving the surface hardness.

4級アンモニウムカチオンを持たない(メタ)アクリルモノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのジ(メタ)アクリレートや、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等を用いることができる。   Examples of (meth) acrylic monomers having no quaternary ammonium cation include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol. Di (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, Polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate Di (meth) acrylates such as tripropylene glycol di (meth) acrylate and hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxy Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris 2-hydroxyethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri ( Trifunctional (meth) acrylate compounds such as (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth) acrylate Rate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane It is possible to use a polyfunctional (meth) acrylate compound having three or more functional groups such as hexa (meth) acrylate, or a polyfunctional (meth) acrylate compound in which a part of these (meth) acrylates is substituted with an alkyl group or ε-caprolactone. it can.

このとき、ハードコート層12の形成用塗液には、必要に応じて溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、及びγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。   At this time, a solvent is added to the coating liquid for forming the hard coat layer 12 as necessary. By adding a solvent, coating suitability can be improved. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, Esters such as acid n-pentyl and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, ethylene glycol It is appropriately selected from water and the like in consideration of appropriate coating.

ハードコート層12の形成用塗液にあっては、基材11上に塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を低下させる働きを備える。   In the coating liquid for forming the hard coat layer 12, an additive called a surface conditioner is used to prevent the occurrence of coating film defects such as repellency and unevenness in the coating film formed on the base material 11. May be added. The surface modifier is also called a leveling agent, an antifoaming agent, an interfacial tension modifier, or a surface tension modifier depending on its function, and all have a function of reducing the surface tension of the coating film to be formed.

また、ハードコート層12の形成用塗液においては、塗液中に先に述べた表面調整剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。   Further, in the coating liquid for forming the hard coat layer 12, other additives may be added to the coating liquid in addition to the surface conditioner described above. As the functional additive, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an adhesion improver, a curing agent, or the like can be used.

上述した材料を調整して得られるハードコート層12の形成用塗液を湿式成膜法により基材11上に塗布し、塗膜を形成し、ハードコート層12を形成することができる。電離放射線硬化型材料を用いた場合にあっては、必要に応じて塗膜の乾燥を行ったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層12が形成される。また、バインダマトリックス形成材料として熱乾燥型材料を用いた場合にあっては、乾燥、加熱等によりハードコート層12が形成される。   The hard coat layer 12 can be formed by applying a coating solution for forming the hard coat layer 12 obtained by adjusting the materials described above onto the substrate 11 by a wet film forming method to form a coating film. In the case of using an ionizing radiation curable material, the hard coat layer 12 is formed by irradiating ultraviolet rays or electron beams as ionizing radiation after drying the coating film as necessary. . In the case where a heat drying type material is used as the binder matrix forming material, the hard coat layer 12 is formed by drying, heating, or the like.

このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。   At this time, as a wet film forming method, a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.

また、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、ハードコート層12上に反射防止層13を形成することができる。以下、反射防止層13に関する一例を記載するが、本発明の実施の形態はこれらに限定されるものではない。   In addition, the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention can form the antireflection layer 13 on the hard coat layer 12. Hereinafter, although an example regarding the antireflection layer 13 is described, the embodiment of the present invention is not limited thereto.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、基材11、ハードコート層12及び反射防止層13を積層した際、全光線透過率が94%以上である。高い透過率を持つ本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10のハードコート層12上に反射防止層13を積層させることにより、その反射防止性能により高い透過率(94%以上)を持つ帯電防止ハードコートフィルム10を形成することができる。   The antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention has a total light transmittance of 94% or more when the base material 11, the hard coat layer 12, and the antireflection layer 13 are laminated. By laminating the antireflection layer 13 on the hard coat layer 12 of the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention having a high transmittance, a high transmittance (94% or more) due to its antireflection performance. The antistatic hard coat film 10 can be formed.

反射防止層13として、低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料とを含む低屈折率層の形成塗液をハードコート層12の表面に塗布し、湿式成膜法を用いる場合について述べる。このとき反射防止層13である低屈折率層の単層の膜厚(d)は、その膜厚(d)に低屈折率層の屈折率(n)をかけることによって得られる光学膜厚(nd)が可視光の波長の1/4と等しくなるように設計される。低屈折率層としてはバインダマトリックス中に低屈折粒子を分散させたものを用いることができる。ここで、反射防止層13を低屈折率層という場合がある。   The case where a coating liquid for forming a low refractive index layer containing low refractive index particles and a binder matrix forming material is applied to the surface of the hard coat layer 12 as the antireflection layer 13 and a wet film forming method is used will be described. At this time, the film thickness (d) of the single layer of the low refractive index layer which is the antireflection layer 13 is an optical film thickness obtained by multiplying the film thickness (d) by the refractive index (n) of the low refractive index layer ( nd) is designed to be equal to ¼ of the wavelength of visible light. As the low refractive index layer, a layer in which low refractive particles are dispersed in a binder matrix can be used. Here, the antireflection layer 13 may be referred to as a low refractive index layer.

低屈折粒子としては、LiF、MgF、3NaF・AlFまたはAlF(いずれも、屈折率1.4)、または、NaAlF(氷晶石、屈折率1.33)等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率(≒1)とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。 The low-refractive particles are made of a low-refractive material such as LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all having a refractive index of 1.4), or Na 3 AlF 6 (cryolite, having a refractive index of 1.33). Low refractive index particles can be used. Moreover, the particle | grains which have a space | gap inside a particle | grain can be used suitably. In the case of particles having voids inside the particles, the voids can be made to have a refractive index of air (≈1), so that they can be low refractive index particles having a very low refractive index. Specifically, porous silica particles and low refractive index silica particles having voids inside can be used.

低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が1nm以上100nm以下であることが好ましい。さらに好ましくは、粒径が30nm以上70nm以下である。粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。   The low refractive index particles used in the low refractive index layer preferably have a particle size of 1 nm to 100 nm. More preferably, the particle size is 30 nm or more and 70 nm or less. When the particle diameter exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the low refractive index layer tends to be whitened and the transparency of the antireflection film tends to be lowered. On the other hand, when the particle size is less than 1 nm, problems such as non-uniformity of particles in the low refractive index layer due to aggregation of particles occur.

バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式(1)、RSi(OR)4−x(但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である。)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。 As the binder matrix forming material, a hydrolyzate of silicon alkoxide can be used. Furthermore, the silicon alkoxide represented by the general formula (1), R x Si (OR) 4-x (wherein R represents an alkyl group and x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3). Hydrolyzate can be used.

一般式(1)で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式(1)で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。   Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-sec-butoxy. Silane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-proxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyl Trimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethan Kishishiran, dimethyl propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, can be used methyl dimethoxysilane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane. The hydrolyzate of silicon alkoxide may be obtained by using a metal alkoxide represented by the general formula (1) as a raw material. For example, it can be obtained by hydrolysis with hydrochloric acid.

さらには、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料としては、一般式(1)で表されるケイ素アルコキシドに、一般式(2)、R´Si(OR)4−z(但し、式中R´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、zは1≦z≦3を満たす整数である。)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより帯電防止ハードコートフィルム10の低屈折率層(反射防止層13)の表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。 Furthermore, as a binder matrix forming material for the low refractive index layer, the silicon alkoxide represented by the general formula (1) may be replaced with the general formula (2), R ′ z Si (OR) 4-z (where R is 'Represents a non-reactive functional group having an alkyl group, a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group, and z is an integer satisfying 1 ≦ z ≦ 3). Accordingly, antifouling property can be imparted to the surface of the low refractive index layer (antireflection layer 13) of the antistatic hard coat film 10, and the refractive index of the low refractive index layer can be further reduced.

一般式(2)で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (2) include octadecyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane, and the like.

また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート材料として例示した光重合性ポリマー、光重合性モノマーを使用でき、多官能ウレタンアクリレート等の多官能アクリレートを使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。   An ionizing radiation curable material can also be used as the binder matrix forming material. As the ionizing radiation curable material, the photopolymerizable polymer and the photopolymerizable monomer exemplified as the hard coat material can be used, and polyfunctional acrylates such as polyfunctional urethane acrylate can be used. Besides these, as ionizing radiation type materials, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .

なお、低屈折率層の形成溶塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、及びγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。   In addition, a solvent and various additives can be added to the formation coating liquid of a low refractive index layer as needed. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, Suitable for coating from among esters such as acid n-pentyl and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, etc. Etc. are selected as appropriate. Moreover, a surface adjusting agent, a leveling agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a photosensitizer, etc. can be added to the coating liquid as additives.

また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。   Further, when an ionizing radiation curable material is used as the binder matrix forming material and the low refractive index layer is formed by irradiating with ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the coating liquid. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.

以上の材料を調整して得られる低屈折率層の形成用塗液を湿式成膜法によりハードコート層12上に塗布し、塗膜を形成し、低屈折率層(反射防止層13)を形成することができる。バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合にあっては、必要に応じて塗膜の乾燥を行ったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、低屈折率層が形成される。また、バインダマトリックス形成材料として金属アルコキシドを用いた場合には、乾燥、加熱等により低屈折率層が形成される。   A coating solution for forming a low refractive index layer obtained by adjusting the above materials is applied onto the hard coat layer 12 by a wet film forming method to form a coating film, and a low refractive index layer (antireflection layer 13) is formed. Can be formed. When ionizing radiation curable materials are used as the binder matrix forming material, the coating film is dried if necessary, and then irradiated with ultraviolet rays or electron beams, which are ionizing radiation, to reduce the refractive index. A layer is formed. Further, when a metal alkoxide is used as the binder matrix forming material, the low refractive index layer is formed by drying, heating, or the like.

このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。   At this time, as a wet film forming method, a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10は、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはLCD、PDP、CRT、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10を液晶ディスプレイの部材として用いる場合について説明する。   The antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention can be suitably used for the display surface. Examples of the display include LCD, PDP, CRT, projection display, EL display and the like. It can also be used inside a display. Hereinafter, the case where the antistatic hard coat film 10 which concerns on embodiment of this invention is used as a member of a liquid crystal display is demonstrated.

図2は、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10を有する偏光板20を示す概略断面図である。本発明の実施の形態に係る偏光板20は、基材11のハードコート層12の形成面と反対側の面に偏光層22と基材21を順に備えている。本発明の実施の形態に係る偏光板20は、偏光層22が2枚の基材11及び21で狭持された構造をとる。本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10を用いて偏光板20を形成することにより透過率及び耐光性に優れ、周囲の環境(湿度)に依存せず良好な導電性を有する偏光板を得ることができる。   FIG. 2 is a schematic sectional view showing a polarizing plate 20 having the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention. The polarizing plate 20 according to the embodiment of the present invention includes a polarizing layer 22 and a base material 21 in this order on the surface of the base material 11 opposite to the surface on which the hard coat layer 12 is formed. The polarizing plate 20 according to the embodiment of the present invention has a structure in which a polarizing layer 22 is sandwiched between two substrates 11 and 21. Polarized light having excellent conductivity without depending on the surrounding environment (humidity) by forming the polarizing plate 20 using the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention. A board can be obtained.

図3(a)及び(b)は、本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10を有する透過型液晶ディスプレイ60及び70を示す概略断面図である。図3(a)に示す透過型液晶ディスプレイ60においては、バックライトユニット50、偏光板40、液晶セル30、偏光板20、帯電防止ハードコートフィルム10を順に備えている。このとき、帯電防止ハードコートフィルム10の反射防止層13の形成面側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。   3A and 3B are schematic cross-sectional views showing transmissive liquid crystal displays 60 and 70 having the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention. The transmissive liquid crystal display 60 shown in FIG. 3A includes a backlight unit 50, a polarizing plate 40, a liquid crystal cell 30, a polarizing plate 20, and an antistatic hard coat film 10 in this order. At this time, the formation surface side of the antireflection layer 13 of the antistatic hard coat film 10 becomes the observation side, that is, the display surface.

バックライトユニット50は、光源と光拡散板を備える。液晶セル30は、一方の基材に電極を備え、もう一方の基材に電極及びカラーフィルタを備えている。つまり、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル30を挟むように設けられる偏光板20及び40にあっては、基材21、23、41、43間に偏光層22、42を挟持した構造となっている。   The backlight unit 50 includes a light source and a light diffusion plate. The liquid crystal cell 30 includes an electrode on one base material and an electrode and a color filter on the other base material. That is, it has a structure in which liquid crystal is sealed between both electrodes. The polarizing plates 20 and 40 provided so as to sandwich the liquid crystal cell 30 have a structure in which the polarizing layers 22 and 42 are sandwiched between the base materials 21, 23, 41, and 43.

図3(a)に示す透過型液晶ディスプレイ60は、帯電防止ハードコートフィルム10の基材11と偏光板20の基材21及び23を別々に備える透過型液晶ディスプレイ60となっている。一方、図3(b)に示す透過型液晶ディスプレイ70は、図2に示す偏光板20を有する透過型液晶ディスプレイ70であり、帯電防止ハードコートフィルム10の基材11の反射防止層13の反対側の面に偏光層22が設けられており、基材11が帯電防止ハードコートフィルム10の基材と偏光板20の基材21を兼ねる構造となっている。   The transmissive liquid crystal display 60 shown in FIG. 3A is a transmissive liquid crystal display 60 provided with the base material 11 of the antistatic hard coat film 10 and the base materials 21 and 23 of the polarizing plate 20 separately. On the other hand, the transmissive liquid crystal display 70 shown in FIG. 3B is the transmissive liquid crystal display 70 having the polarizing plate 20 shown in FIG. 2 and is opposite to the antireflection layer 13 of the base material 11 of the antistatic hard coat film 10. A polarizing layer 22 is provided on the side surface, and the base material 11 has a structure that serves as the base material of the antistatic hard coat film 10 and the base material 21 of the polarizing plate 20.

また、本発明の実施の形態に係る透過型液晶ディスプレイ60及び70においては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトユニット50から発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セル30や偏光板20及び40の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の実施の形態に係る透過型液晶ディスプレイ60及び70はこれらに限定されるものではない。なお、これらは公知のものを使用できる。   In addition, the transmissive liquid crystal displays 60 and 70 according to the embodiment of the present invention may include other functional members. As other functional members, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film, and a phase difference between the liquid crystal cell 30 and the polarizing plates 20 and 40 for effectively using light emitted from the backlight unit 50 are compensated. For example, the transmissive liquid crystal displays 60 and 70 according to the embodiment of the present invention are not limited to these. In addition, these can use a well-known thing.

本発明の実施の形態に係る帯電防止ハードコートフィルム10を用いてディスプレイを形成することにより透過率及び耐光性に優れ、周囲の環境(湿度)に依存せず良好な導電性を有するディスプレイを得ることができる。   By forming a display using the antistatic hard coat film 10 according to the embodiment of the present invention, a display having excellent transmittance and light resistance and having good conductivity independent of the surrounding environment (humidity) is obtained. be able to.

以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

以下の調整例1〜調整例4にしたがって、ハードコート層12の形成用塗液の調整を行った。また、調整例5にしたがって、低屈折率層(反射防止層)13の形成用塗液の調整を行った。   According to the following adjustment examples 1 to 4, the coating liquid for forming the hard coat layer 12 was adjusted. Moreover, according to the adjustment example 5, the coating liquid for forming the low refractive index layer (antireflection layer) 13 was adjusted.

[調整例1]
(ハードコート層12の形成用塗液1)
π共役系導電性高分子を含有したBaytron P CH 8000(エイ・シー・スタルク社製(固形分3%))16重量部、4級アンモニウムカチオンを含有するライトエステルDQ100(共栄社化学製)5重量部、ジペンタエリスリトールトリアクリレート25質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート25質量部、ウレタンアクリレート50質量部、イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製(光重合開始剤))5質量部を用いて、メチルエチルケトンに溶解してハードコート層12の形成塗液1を調整した。
[Adjustment Example 1]
(Coating liquid 1 for forming hard coat layer 12)
Baytron P CH 8000 containing π-conjugated conductive polymer (manufactured by AC Starck Co., Ltd. (solid content 3%)) 16 parts by weight, light ester DQ100 containing quaternary ammonium cation (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 5 weights Parts, 25 parts by mass of dipentaerythritol triacrylate, 25 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate, 50 parts by mass of urethane acrylate, 5 parts by mass of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals (photopolymerization initiator)), and dissolved in methyl ethyl ketone. Then, the forming coating liquid 1 for the hard coat layer 12 was prepared.

[調整例2]
(ハードコート層12の形成用塗液2)
π共役系導電性高分子を含有したBaytron P CH 8000(エイチ・シー・スタルク社製(固形分3%))33重量部、ジペンタエリスリトールトリアクリレート25質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート25質量部、ウレタンアクリレート50質量部、イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製(光重合開始剤))5質量部を用いて、メチルエチルケトンに溶解してハードコート層12の形成塗液2を調整した。
[Adjustment Example 2]
(Coating liquid 2 for forming hard coat layer 12)
33 parts by weight of Baytron P CH 8000 (manufactured by H.C. Starck (solid content 3%)) containing π-conjugated conductive polymer, 25 parts by mass of dipentaerythritol triacrylate, 25 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate, Using 50 parts by mass of urethane acrylate and 5 parts by mass of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals (photopolymerization initiator)), the coating solution 2 for forming the hard coat layer 12 was prepared by dissolving in methyl ethyl ketone.

[調整例3]
(ハードコート層12の形成用塗液3)
4級アンモニウムカチオンを含有するライトエステルDQ100(共栄社化学製)10重量部、ジペンタエリスリトールトリアクリレート25質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート25質量部、ウレタンアクリレート50質量部、イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製(光重合開始剤))5質量部を用いて、メチルエチルケトンに溶解してハードコート層12の形成塗液3を調整した。
[Adjustment Example 3]
(Coating liquid 3 for forming hard coat layer 12)
10 parts by weight of light ester DQ100 containing quaternary ammonium cation (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 25 parts by mass of dipentaerythritol triacrylate, 25 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate, 50 parts by mass of urethane acrylate, Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) (Photopolymerization initiator) Using 5 parts by mass, the coating solution 3 for forming the hard coat layer 12 was prepared by dissolving in methyl ethyl ketone.

[調整例4]
(ハードコート層12の形成用塗液4)
ジペンタエリスリトールトリアクリレート25質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート25質量部、ウレタンアクリレート50質量部、イルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製(光重合開始剤))5質量部を用いて、メチルエチルケトンに溶解してハードコート層12の形成塗液4を調整した。
[Adjustment Example 4]
(Coating liquid 4 for forming hard coat layer 12)
Using 25 parts by mass of dipentaerythritol triacrylate, 25 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate, 50 parts by mass of urethane acrylate, and 5 parts by mass of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals (photopolymerization initiator)), dissolved in methyl ethyl ketone. The coating solution 4 for forming the hard coat layer 12 was prepared.

[調整例5]
(低屈折率層13の形成用塗液)
多孔質シリカ微粒子分散液(平均粒子径50nm、固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン)14.94重量部、EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:DPEA−12、日本化薬製)1.99重量部、重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア184)0.07重量部、TSF4460(商品名、GE東芝シリコーン(株)製:アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル)0.20重量部を用いて、溶媒であるメチルイソブチルケトン82重量部で希釈して低屈折率層13の形成用塗液を調整した。
[Adjustment Example 5]
(Coating liquid for forming low refractive index layer 13)
Porous silica fine particle dispersion (average particle size 50 nm, solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone) 14.94 parts by weight, EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPEA-12, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 .99 parts by weight, polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184), 0.07 parts by weight, TSF4460 (trade name, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd .: alkyl polyether-modified silicone oil) ) 0.20 part by weight was diluted with 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a solvent to prepare a coating solution for forming the low refractive index layer 13.

[実施例1]
(ハードコート層12の形成)
まず、図1に示すように、基材11には、膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム製)を用いた。次に、基材11上にハードコート層12の形成用塗液1を塗布し、80℃・60秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量300mJ/mで紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚5μmの透明なハードコート層12を形成した。
[Example 1]
(Formation of hard coat layer 12)
First, as shown in FIG. 1, a triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Film) having a film thickness of 80 μm was used for the base material 11. Next, the coating liquid 1 for forming the hard coat layer 12 is applied onto the substrate 11 and dried in an oven at 80 ° C. for 60 seconds. After drying, an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb) is used. Then, a transparent hard coat layer 12 having a dry film thickness of 5 μm was formed by performing ultraviolet irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 .

(低屈折率層13の形成)
次に、ハードコート層12上に低屈折率層(反射防止層)13の形成用塗液を乾燥後の膜厚が100nmとなるように塗布した。紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量192mJ/mで紫外線照射を行って硬化させて低屈折率層13を形成し、帯電防止ハードコートフィルム10を得た。
(Formation of the low refractive index layer 13)
Next, a coating liquid for forming the low refractive index layer (antireflection layer) 13 was applied on the hard coat layer 12 so that the film thickness after drying was 100 nm. An antistatic hard coat film 10 was obtained by forming the low refractive index layer 13 by irradiating with an ultraviolet ray irradiation at an irradiation dose of 192 mJ / m 2 using an ultraviolet ray irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb).

[比較例1]
ハードコート層12の形成用塗液2を使用した以外は、実施例2と同様に形成し、帯電防止ハードコートフィルム10を得た。
[Comparative Example 1]
An antistatic hard coat film 10 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating liquid 2 for forming the hard coat layer 12 was used.

[比較例2]
ハードコート層12の形成用塗液3を使用した以外は、実施例2と同様に形成し、帯電防止ハードコートフィルム10を得た。
[Comparative Example 2]
An antistatic hard coat film 10 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating liquid 3 for forming the hard coat layer 12 was used.

[比較例3]
ハードコート層12の形成用塗液4を使用した以外は、実施例2と同様に形成し、帯電防止ハードコートフィルム10を得た。
[Comparative Example 3]
An antistatic hard coat film 10 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating liquid 4 for forming the hard coat layer 12 was used.

実施例1、比較例1〜比較例3で得られた帯電反射防止ハードコートフィルム10について、以下の方法で評価を行った。   The antireflection hard coat film 10 obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 was evaluated by the following method.

(分光反射率、平均視感反射率)
得られた帯電防止ハードコートフィルム10の低屈折率層13の表面について、自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には基材11であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層13の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
(Spectral reflectance, average luminous reflectance)
About the surface of the low refractive index layer 13 of the obtained antistatic hard coat film 10, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000). Further, the average luminous reflectance was obtained from the obtained spectral reflectance curve. In the measurement, a matte black paint was applied to the surface of the triacetyl cellulose film as the substrate 11 where the low refractive index layer 13 was not formed, and an antireflection treatment was performed.

(表面抵抗値)
得られた帯電防止ハードコートフィルム10の低屈折率層13の表面の表面抵抗値を、JIS K 6911に準拠して測定した。また、得られた帯電射防止ハードコートフィルム10をJIS B 7751(1990)に規定する紫外線カーボンアーク灯式の耐光性試験機を用い試験時間100時間及び500時間保管し、保管後の帯電防止ハードコートフィルム10の低屈折率層13表面の表面抵抗値をJIS K 6911(1995)に準拠して測定した。
(Surface resistance value)
The surface resistance value of the surface of the low refractive index layer 13 of the obtained antistatic hard coat film 10 was measured according to JIS K 6911. Further, the obtained anti-static hard coat film 10 was stored for 100 hours and 500 hours using an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester stipulated in JIS B 7751 (1990). The surface resistance value of the surface of the low refractive index layer 13 of the coat film 10 was measured according to JIS K 6911 (1995).

(全光線透過率及びヘイズ値)
得られた帯電防止ハードコートフィルム10について、写像性測定器(日本電色工業(株)製、NDH−2000)を使用してJIS K 7105(1981)に基づき全光線透過率及びヘイズ値を測定した。
(Total light transmittance and haze value)
About the obtained antistatic hard coat film 10, the total light transmittance and the haze value are measured based on JIS K 7105 (1981) using an image clarity measuring device (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., NDH-2000). did.

(鉛筆硬度)
得られた帯電防止ハードコートフィルム10の低屈折率層13の表面について、JIS K 5600−5−4(1999)に準拠した試験機法により500g荷重で評価した。
(Pencil hardness)
The surface of the low refractive index layer 13 of the obtained antistatic hard coat film 10 was evaluated with a load of 500 g by a test method according to JIS K 5600-5-4 (1999).

Figure 2010160464
Figure 2010160464

評価結果を表1に示す。なお、鉛筆硬度における「3H−5/5」は、帯電防止フィルムの低屈折率層表面について3Hの鉛筆を用いて鉛筆硬度試験を5回おこなった結果、5回ともキズが確認されなかったことを表している。   The evaluation results are shown in Table 1. As for “3H-5 / 5” in pencil hardness, the surface of the low-refractive index layer of the antistatic film was subjected to a pencil hardness test 5 times using a 3H pencil, and no flaws were confirmed in all 5 times. Represents.

表1に示すように、実施例2の帯電防止ハードコートフィルム10においては、23℃−25%環境及び耐光性試験後においても良好な導電性が発現している。また、全光線透過率も高い帯電防止ハードコートフィルム10が得られている。このことから、本発明の帯電防止ハードコートフィルム10は、環境及び耐光性試験においても導電性が変化せず、透過率の高い帯電防止ハードコートフィルム10を得ることができた。   As shown in Table 1, in the antistatic hard coat film 10 of Example 2, good conductivity was exhibited even after 23 ° C.-25% environment and light resistance test. Moreover, the antistatic hard coat film 10 having a high total light transmittance is obtained. From this, the antistatic hard coat film 10 of the present invention did not change the conductivity even in the environment and light resistance test, and the antistatic hard coat film 10 having high transmittance could be obtained.

10…帯電防止ハードコートフィルム、11…基材、12…ハードコート層、13…反
射防止層、20…偏光板、21…基材、22…偏光層、23…基材、30…液晶セル、4
0…偏光板、41…基材、42…偏光層、43…基材、50…バックライトユニット、6
0及び70…透過型液晶ディスプレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Antistatic hard coat film, 11 ... Base material, 12 ... Hard coat layer, 13 ... Antireflection layer, 20 ... Polarizing plate, 21 ... Base material, 22 ... Polarizing layer, 23 ... Base material, 30 ... Liquid crystal cell, 4
DESCRIPTION OF SYMBOLS 0 ... Polarizing plate, 41 ... Base material, 42 ... Polarizing layer, 43 ... Base material, 50 ... Backlight unit, 6
0 and 70: transmissive liquid crystal display

Claims (9)

基材と、
前記基材上にπ共役系導電性高分子及び4級アンモニウム塩導電性モノマーもしくはその重合体を含有されたハードコート層と、
を備えることを特徴とする帯電防止ハードコートフィルム。
A substrate;
A hard coat layer containing a π-conjugated conductive polymer and a quaternary ammonium salt conductive monomer or a polymer thereof on the substrate;
An antistatic hard coat film comprising:
全光線透過率が91%以上であり、かつ表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1に記載の帯電防止ハードコートフィルム。 2. The antistatic hard coat film according to claim 1, wherein the total light transmittance is 91% or more and the surface resistance value is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. JIS B 7751に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に100時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の帯電防止ハードコートフィルム。 The surface resistance value after storage for 100 hours in an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester specified in JIS B 7751 is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. The antistatic hard coat film as described in 1. JIS B 7751に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に500時間保管した後における表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルム。 The surface resistance value after storage for 500 hours in an ultraviolet carbon arc lamp type light resistance tester specified in JIS B 7751 is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. The antistatic hard coat film according to any one of the above. 気温20℃〜40℃、湿度20%〜80%の範囲の環境において測定された表面抵抗値が1×1010(Ω/cm)以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルム。 5. The surface resistance value measured in an environment where the temperature is 20 ° C. to 40 ° C. and the humidity is 20% to 80% is 1 × 10 10 (Ω / cm 2 ) or less. An antistatic hard coat film according to claim 1. 前記ハードコート層上に、1層もしくは複数層からなる反射防止層が形成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルム。   The antistatic hard coat film according to any one of claims 1 to 5, wherein an antireflection layer comprising one layer or a plurality of layers is formed on the hard coat layer. 全光線透過率が94%以上であることを特徴とする請求項6に記載の帯電防止ハードコートフィルム。   7. The antistatic hard coat film according to claim 6, wherein the total light transmittance is 94% or more. 請求項1乃至7のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムを有することを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising the antistatic hard coat film according to claim 1. 請求項1乃至8のいずれかに記載の帯電防止ハードコートフィルムを有することを特徴とするディスプレイ。   A display comprising the antistatic hard coat film according to claim 1.
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