[go: up one dir, main page]

JP2012039520A - Semiconductor device circuit - Google Patents

Semiconductor device circuit Download PDF

Info

Publication number
JP2012039520A
JP2012039520A JP2010179676A JP2010179676A JP2012039520A JP 2012039520 A JP2012039520 A JP 2012039520A JP 2010179676 A JP2010179676 A JP 2010179676A JP 2010179676 A JP2010179676 A JP 2010179676A JP 2012039520 A JP2012039520 A JP 2012039520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pmos transistor
nmos transistor
circuit
transistor
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010179676A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Ogawa
暁 小川
Nobuhiko Ito
伸彦 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
POWER MEMORY CO Ltd
Powermemory
Powerchip Technology Corp
Original Assignee
POWER MEMORY CO Ltd
Powermemory
Powerchip Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by POWER MEMORY CO Ltd, Powermemory, Powerchip Technology Corp filed Critical POWER MEMORY CO Ltd
Priority to JP2010179676A priority Critical patent/JP2012039520A/en
Publication of JP2012039520A publication Critical patent/JP2012039520A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

【課題】MTCMOS回路を用いた半導体デバイス回路において、アクセススピードを損なわず、スタンバイ電流が少なく、スタンバイ状態からの復帰が早い半導体デバイス回路を提供する。
【解決手段】第1のPMOSFETと第1のNMOSFETとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、アクティブモード時に第1のPMOSFETを電源電圧源に接続し、スタンバイモード時に電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSFETと、アクティブモード時に第1のNMOSFETを接地側電圧源に接続し、スタンバイモード時に接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSFETと、電源電圧源に接続されかつ第1のPMOSFETに並列に接続されその出力信号を保持する第3のPMOSFETと、接地側電圧源に接続されかつ第1のNMOSFETに並列に接続されその出力信号を保持する第3のNMOSFETとを備えた。
【選択図】図2
In a semiconductor device circuit using an MTCMOS circuit, there is provided a semiconductor device circuit which does not impair access speed, has a small standby current, and quickly recovers from a standby state.
In a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOSFET and a first NMOSFET, the first PMOSFET is connected to a power supply voltage source in an active mode and is not connected to a power supply voltage source in a standby mode. A second PMOSFET for controlling the power supply, a second NMOSFET for controlling the first NMOSFET to be connected to the ground side voltage source in the active mode and not to be connected to the ground side voltage source in the standby mode, and a power source voltage source. A third PMOSFET connected and connected in parallel to the first PMOSFET and holding its output signal; and a third PMOSFET connected to the ground side voltage source and connected in parallel to the first NMOSFET and holding its output signal. And NMOSFET.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、複数のしきい値電圧のCMOSトランジスタを用いて構成するMTCMOS(Multi-Threshold Complementary Metal Oxide Semiconductor)回路を用いた半導体デバイス回路に関する。   The present invention relates to a semiconductor device circuit using an MTCMOS (Multi-Threshold Complementary Metal Oxide Semiconductor) circuit configured using a plurality of threshold voltage CMOS transistors.

MTCMOS回路は、電源電圧又は接地電圧と所定の論理回路との間に、しきい値電圧(Vt)が比較的高いMOSトランジスタを直列に接続して、アクティブモードではMOSトランジスタをオンさせて電源電圧又は接地電圧を、しきい値電圧(Vt)が比較的低い論理回路に供給することによって論理回路の動作速度を向上させる一方、スリープモードではMOSトランジスタをオフさせて論理回路に電源電圧又は接地電圧を遮断することによって論理回路の漏れ電流やサブスレショルド電流を減らす技術である。特に、MTCMOS回路は、特にアクティブモードにある時間よりスリープモードにある時間がはるかに長い携帯機器用LSIチップの消費電力を減らすことに非常に有用である(特許文献1〜5参照。)。なお、「MOS電界効果トランジスタ」を「MOSトランジスタ」という。また、P型MOSトランジスタをPMOSトランジスタといい、N型MOSトランジスタをNMOSトランジスタという。   In the MTCMOS circuit, a MOS transistor having a relatively high threshold voltage (Vt) is connected in series between a power supply voltage or a ground voltage and a predetermined logic circuit, and in the active mode, the MOS transistor is turned on to supply the power supply voltage. Alternatively, the operation speed of the logic circuit is improved by supplying the ground voltage to the logic circuit having a relatively low threshold voltage (Vt), while the MOS transistor is turned off in the sleep mode to supply the logic circuit with the power supply voltage or the ground voltage. This is a technique for reducing the leakage current and subthreshold current of a logic circuit by cutting off. In particular, the MTCMOS circuit is very useful for reducing the power consumption of an LSI chip for portable equipment, in which the time in the sleep mode is much longer than the time in the active mode (see Patent Documents 1 to 5). The “MOS field effect transistor” is referred to as a “MOS transistor”. The P-type MOS transistor is called a PMOS transistor, and the N-type MOS transistor is called an NMOS transistor.

特開2004−159338号公報。JP 2004-159338 A. 特開2004−187198号公報。Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-187198. 特開2005−318600号公報。JP-A-2005-318600. 特開2006−246486号公報。JP 2006-246486 A. 特開2007−110728号公報。Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-110728.

しかしながら、比較的低いしきい値電圧(Vt)と比較的高いしきい値電圧(Vt)とを組み合わせた上述のMTCMOS回路では、ラッチ情報のみを保持していたために、アクセススピードは比較的早く、消費電流を軽減する動作モードであるスタンバイモード(スリープモードともいう。)時の消費電流も比較的小さいが、スタンバイモードからの復帰が遅く、また、スタンバイモードからの復帰時の消費電流によって電圧降下が発生し、それの復帰に時間が多大にかかるという問題点があった。このため、チップイネーブル信号CEの信号電圧のセットアップ時間が非常に短いデバイスでは所定の仕様を満たせないという問題点があった。   However, in the above-described MTCMOS circuit that combines a relatively low threshold voltage (Vt) and a relatively high threshold voltage (Vt), only the latch information is retained, so the access speed is relatively fast. The current consumption in standby mode (also called sleep mode), which is an operation mode that reduces current consumption, is relatively small, but recovery from standby mode is slow, and voltage drops due to current consumption when returning from standby mode. Occurred, and it took a long time to recover. For this reason, there is a problem that a device having a very short signal voltage setup time of the chip enable signal CE cannot satisfy a predetermined specification.

本発明の目的は以上の問題点を解決し、MTCMOS回路を用いた半導体デバイス回路において、アクセススピードを損なわず、スタンバイ電流が少なく、かつスタンバイ状態からの復帰が早い半導体デバイス回路を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a semiconductor device circuit that solves the above-described problems, and that has a low standby current and quick recovery from a standby state without impairing access speed in a semiconductor device circuit using an MTCMOS circuit. is there.

第1の発明に係る半導体デバイス回路は、第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、
アクティブモード時に上記第1のPMOSトランジスタを電源電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のPMOSトランジスタを上記電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSトランジスタと、
アクティブモード時に上記第1のNMOSトランジスタを接地側電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のNMOSトランジスタを上記接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSトランジスタと、
所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記電源電圧源に接続されかつ上記第1のPMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のPMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のPMOSトランジスタと、
所定の第2のしきい値絶対値電圧を有し、上記接地側電圧源に接続されかつ上記第1のNMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のNMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のNMOSトランジスタとを備え、
上記第1のPMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第3のしきい値絶対値電圧を有するように構成され、上記第1のNMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第2のしきい値絶対値電圧よりも低い第4のしきい値絶対値電圧を有するように構成されたことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOS transistor and a first NMOS transistor.
A second PMOS transistor for controlling the first PMOS transistor to be connected to the power supply voltage source in the active mode, but not to connect the first PMOS transistor to the power supply voltage source in the standby mode;
A second NMOS transistor for controlling the first NMOS transistor to be connected to the ground side voltage source in the active mode, but not to connect the first NMOS transistor to the ground side voltage source in the standby mode;
A third first voltage having a predetermined first threshold absolute value voltage, connected to the power supply voltage source and connected in parallel to the first PMOS transistor, and holding an output signal of the first PMOS transistor; A PMOS transistor;
A third voltage having a predetermined second threshold absolute value voltage, connected to the ground-side voltage source and connected in parallel to the first NMOS transistor, and holding an output signal of the first NMOS transistor With NMOS transistors,
The threshold absolute value voltage of the first PMOS transistor is configured to have a third threshold absolute value voltage lower than the first threshold absolute value voltage. The threshold absolute value voltage is configured to have a fourth threshold absolute value voltage lower than the second threshold absolute value voltage.

第2の発明に係る半導体デバイス回路は、第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、
アクティブモード時に上記第1のNMOSトランジスタを接地側電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のNMOSトランジスタを上記接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSトランジスタと、
所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記接地側電圧源に接続されかつ上記第1のNMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のNMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のNMOSトランジスタとを備え、
上記第1のNMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第2のしきい値絶対値電圧を有するように構成されたことを特徴とする。
A semiconductor device circuit according to a second invention is a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOS transistor and a first NMOS transistor.
A second NMOS transistor for controlling the first NMOS transistor to be connected to the ground side voltage source in the active mode, but not to connect the first NMOS transistor to the ground side voltage source in the standby mode;
A third voltage having a predetermined first threshold absolute value voltage, connected to the ground-side voltage source and connected in parallel to the first NMOS transistor, and holding an output signal of the first NMOS transistor With NMOS transistors,
A threshold absolute value voltage of the first NMOS transistor is configured to have a second threshold absolute value voltage lower than the first threshold absolute value voltage.

第3の発明に係る半導体デバイス回路は、第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、
アクティブモード時に上記第1のPMOSトランジスタを電源電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のPMOSトランジスタを上記電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSトランジスタと、
所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記電源電圧源に接続されかつ上記第1のPMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のPMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のPMOSトランジスタと備え、
上記第1のPMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第2のしきい値絶対値電圧を有するように構成されたことを特徴とする。
A semiconductor device circuit according to a third invention is a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOS transistor and a first NMOS transistor.
A second PMOS transistor for controlling the first PMOS transistor to be connected to the power supply voltage source in the active mode, but not to connect the first PMOS transistor to the power supply voltage source in the standby mode;
A third first voltage having a predetermined first threshold absolute value voltage, connected to the power supply voltage source and connected in parallel to the first PMOS transistor, and holding an output signal of the first PMOS transistor; With PMOS transistor,
The threshold absolute value voltage of the first PMOS transistor is configured to have a second threshold absolute value voltage lower than the first threshold absolute value voltage.

上記第1の発明に係る半導体デバイス回路において、上記第1のPMOSトランジスタは上記第2のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続され、
上記第1のNMOSトランジスタは上記第2のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする。
In the semiconductor device circuit according to the first invention, the first PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the second PMOS transistor,
The first NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source through the second NMOS transistor.

上記第2の発明に係る半導体デバイス回路において、上記第1のNMOSトランジスタは上記第2のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする。   In the semiconductor device circuit according to the second invention, the first NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source via the second NMOS transistor.

上記第3の発明に係る半導体デバイス回路において、上記第1のPMOSトランジスタは上記第2のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続されたことを特徴とする。   In the semiconductor device circuit according to the third aspect of the invention, the first PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the second PMOS transistor.

また、上記第1の発明に係る半導体デバイス回路において、上記第2のPMOSトランジスタは上記第1のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続され、
上記第2のNMOSトランジスタは上記第1のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする。
In the semiconductor device circuit according to the first invention, the second PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the first PMOS transistor.
The second NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source through the first NMOS transistor.

また、上記第2の発明に係る半導体デバイス回路において、上記第2のNMOSトランジスタは上記第1のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする。   In the semiconductor device circuit according to the second aspect of the invention, the second NMOS transistor is connected to the ground side voltage source via the first NMOS transistor.

また、上記第3の発明に係る半導体デバイス回路において、上記第2のPMOSトランジスタは上記第1のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続されたことを特徴とする。   In the semiconductor device circuit according to the third aspect of the invention, the second PMOS transistor is connected to the power supply voltage source through the first PMOS transistor.

さらに、上記第1の発明に係る半導体デバイス回路において、上記機能回路を複数備え、
上記複数の機能回路のうち出力信号の論理値が同一である機能回路に対して、上記第2のPMOSトランジスタ及び上記第2のNMOSトランジスタを共通に設けたことを特徴とする。
Furthermore, in the semiconductor device circuit according to the first invention, the semiconductor device circuit comprises a plurality of the functional circuits,
The second PMOS transistor and the second NMOS transistor are provided in common for the functional circuit having the same logical value of the output signal among the plurality of functional circuits.

さらに、上記第2の発明に係る半導体デバイス回路において、上記機能回路を複数備え、
上記複数の機能回路のうち出力信号の論理値が同一である機能回路に対して、上記第2のNMOSトランジスタを共通に設けたことを特徴とする。
Furthermore, in the semiconductor device circuit according to the second invention, the semiconductor device circuit includes a plurality of the functional circuits,
The second NMOS transistor is provided in common for the functional circuit having the same logical value of the output signal among the plurality of functional circuits.

さらに、上記第3の発明に係る半導体デバイス回路において、上記機能回路を複数備え、
上記複数の機能回路のうち出力信号の論理値が同一である機能回路に対して、上記第2のPMOSトランジスタを共通に設けたことを特徴とする。
Furthermore, in the semiconductor device circuit according to the third aspect of the present invention, the semiconductor device circuit includes a plurality of the functional circuits,
The second PMOS transistor is provided in common for the functional circuit having the same logical value of the output signal among the plurality of functional circuits.

またさらに、上記第1、第2及び第3の発明に係る半導体デバイス回路において、上記機能回路は、インバータ回路、ゲート回路、マルチプレクサ、フリップフロップ回路、又はメモリ装置のラッチ回路であることを特徴とする。   Still further, in the semiconductor device circuit according to the first, second and third inventions, the functional circuit is an inverter circuit, a gate circuit, a multiplexer, a flip-flop circuit, or a latch circuit of a memory device. To do.

本発明に係る半導体デバイス回路によれば、第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、アクティブモード時に上記第1のPMOSトランジスタを電源電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のPMOSトランジスタを上記電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSトランジスタと、アクティブモード時に上記第1のNMOSトランジスタを接地側電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のNMOSトランジスタを上記接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSトランジスタと、所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記電源電圧源に接続されかつ上記第1のPMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のPMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のPMOSトランジスタと、所定の第2のしきい値絶対値電圧を有し、上記接地側電圧源に接続されかつ上記第1のNMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のNMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のNMOSトランジスタとを備え、上記第1のPMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第3のしきい値絶対値電圧を有するように構成され、上記第1のNMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第2のしきい値絶対値電圧よりも低い第4のしきい値絶対値電圧を有するように構成した。従って、上記第3のPMOSトランジスタ及び上記第3のNMOSトランジスタによりスタンバイモードに入る直前の出力信号を保持するので、スタンバイモードからアクティブモードに復帰したときにすぐに元の信号レベルにすぐに復帰することができ、MTCMOS回路を用いた半導体デバイス回路において、アクセススピードを損なわず、スタンバイ電流が少なく、かつスタンバイ状態からの復帰が早い半導体デバイス回路を提供することができる。   According to the semiconductor device circuit of the present invention, in the semiconductor device circuit including the functional circuit including the first PMOS transistor and the first NMOS transistor, the first PMOS transistor is connected to the power supply voltage source in the active mode. However, the second PMOS transistor that controls the first PMOS transistor not to be connected to the power supply voltage source in the standby mode, and the first NMOS transistor is connected to the ground side voltage source in the active mode. A second NMOS transistor for controlling the first NMOS transistor not to be connected to the ground-side voltage source in a standby mode; a predetermined first threshold absolute value voltage; and connected to the power supply voltage source And connected in parallel to the first PMOS transistor, A third PMOS transistor for holding the output signal of the PMOS transistor, and a predetermined second threshold absolute value voltage, connected to the ground-side voltage source and connected in parallel to the first NMOS transistor And a third NMOS transistor that holds the output signal of the first NMOS transistor, and the threshold absolute value voltage of the first PMOS transistor is lower than the first threshold absolute value voltage. The fourth threshold absolute value voltage is configured to have a third threshold absolute value voltage, and the threshold absolute value voltage of the first NMOS transistor is lower than the second threshold absolute value voltage. It was configured to have a value voltage. Accordingly, since the output signal immediately before entering the standby mode is held by the third PMOS transistor and the third NMOS transistor, the original signal level is immediately restored when the standby mode is restored to the active mode. In addition, in a semiconductor device circuit using an MTCMOS circuit, it is possible to provide a semiconductor device circuit in which the access speed is not impaired, the standby current is small, and the recovery from the standby state is quick.

(a)は従来技術に係る差動増幅回路の構成を示す回路図であり、(b)は第1の実施形態に係る差動増幅回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the differential amplifier circuit based on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the differential amplifier circuit which concerns on 1st Embodiment. (a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、(b)は第2の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on 2nd Embodiment. (a)は従来技術に係るナンドゲート回路の構成を示す回路図であり、(b)は第3の実施形態に係るナンドゲート回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the NAND gate circuit based on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the NAND gate circuit which concerns on 3rd Embodiment. (a)は従来技術に係るマルチプレクサ回路の構成を示す回路図であり、(b)は第4の実施形態に係るマルチプレクサ回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the multiplexer circuit based on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the multiplexer circuit which concerns on 4th Embodiment. 従来技術に係るフリップフロップ回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the flip-flop circuit based on a prior art. 第5の実施形態に係るフリップフロップ回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the flip-flop circuit which concerns on 5th Embodiment. 従来技術に係るNAND型フラッシュメモリ回路のラッチ回路L1,L2とその周辺回路の構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of latch circuits L1, L2 and their peripheral circuits of a NAND flash memory circuit according to a conventional technique. 第6の実施形態に係るラッチ回路L1aとドライバ回路10の構成を示す回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram illustrating configurations of a latch circuit L1a and a driver circuit 10 according to a sixth embodiment. 第7の実施形態に係るラッチ回路L1bとドライバ回路10aの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L1b and driver circuit 10a which concern on 7th Embodiment. 第8の実施形態に係るラッチ回路L2aとドライバ回路10bの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L2a and the driver circuit 10b which concern on 8th Embodiment. 第9の実施形態に係るラッチ回路L2bとドライバ回路10bの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L2b and the driver circuit 10b which concern on 9th Embodiment. 第10の実施形態に係るラッチ回路L1cの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L1c which concerns on 10th Embodiment. 第10の実施形態の変形例に係るラッチ回路L1caの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L1ca which concerns on the modification of 10th Embodiment. 第11の実施形態に係るラッチ回路L1dの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L1d based on 11th Embodiment. (a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、(b)は第12の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on 12th Embodiment. (a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、(b)は第13の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on 13th Embodiment. 第14の実施形態に係るインバータ回路の第1の部分構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 1st partial structure of the inverter circuit which concerns on 14th Embodiment. 第14の実施形態に係るインバータ回路の第2の部分構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the 2nd partial structure of the inverter circuit which concerns on 14th Embodiment. 図16のインバータ回路に用いる第1の仮想電源回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the 1st virtual power supply circuit used for the inverter circuit of FIG. 図16のインバータ回路に用いる第2の仮想電源回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the 2nd virtual power supply circuit used for the inverter circuit of FIG. 図2のインバータ回路の問題点を説明するための回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram for explaining a problem of the inverter circuit of FIG. 2. (a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、(b)は第15の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。(A) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on a prior art, (b) is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on 15th Embodiment. 第16の実施形態に係るラッチ回路L2aaとドライバ回路10bの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the latch circuit L2aa and driver circuit 10b which concern on 16th Embodiment. 従来技術に係るMTCMOS回路と、本発明に係る実施形態の回路との比較結果を示す表である。It is a table | surface which shows the comparison result of the MTCMOS circuit which concerns on a prior art, and the circuit of embodiment which concerns on this invention. 図7〜図13及び図21のNAND型フラッシュメモリの回路におけるスタンバイモード制御信号と各回路の状態を示す表である。22 is a table showing standby mode control signals and states of the circuits in the NAND flash memory circuits of FIGS. 7 to 13 and FIG. 21. 各実施形態で用いるスタンバイモード制御信号の各信号の反転関係を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the inversion relationship of each signal of the standby mode control signal used in each embodiment. 図8のラッチ回路L1aの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。FIG. 9 is a diagram illustrating an operation of the latch circuit L1a of FIG. 8 and is a timing chart illustrating changes in each control signal. 図9のラッチ回路L1bの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。FIG. 10 is a timing chart showing changes of each control signal, illustrating the operation of the latch circuit L1b of FIG. 9; 図12Aのラッチ回路L1cの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。FIG. 12B is a timing chart showing changes in each control signal, illustrating the operation of the latch circuit L1c in FIG. 12A. 図12Bのラッチ回路L1caの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。FIG. 13B is a timing chart showing changes in each control signal, illustrating the operation of the latch circuit L1ca in FIG. 12B. 図13のラッチ回路L1dの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。FIG. 14 is a timing chart showing changes of each control signal, illustrating the operation of the latch circuit L1d of FIG. 13; 図10のラッチ回路L2aの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。FIG. 11 is a diagram illustrating an operation of the latch circuit L2a in FIG. 10 and is a timing chart illustrating changes in each control signal. 図11のラッチ回路L2bの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。12 is a diagram illustrating an operation of the latch circuit L2b in FIG. 11 and is a timing chart illustrating changes in each control signal. FIG. 図16〜図18を除く各実施形態の動作を示す図であって、各制御信号、各素子の出力ノード及びラッチの内部電圧の変化を示すタイミングチャートである。It is a figure which shows operation | movement of each embodiment except FIGS. 16-18, Comprising: It is a timing chart which shows the change of each control signal, the output node of each element, and the internal voltage of a latch. 図16〜図18の実施形態の動作を示す図であって、各制御信号及び各素子の出力ノードの変化を示すタイミングチャートである。It is a figure which shows the operation | movement of embodiment of FIGS. 16-18, Comprising: It is a timing chart which shows the change of each control signal and the output node of each element.

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各実施形態において、同様の構成要素については同一の符号を付している。   Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in each following embodiment, the same code | symbol is attached | subjected about the same component.

本発明に係る実施形態の概要.
例えば1.8V程度の低電圧で動作する低電圧MOSトランジスタ(本実施形態では、すべて低電圧MOSトランジスタを用いる。)などの低電圧デバイス回路において、
(A1)しきい値電圧(Vt)が例えば−0.65V〜−0.8Vであって、しきい値絶対値電圧が例えば0.65V〜0.8Vである比較的高いしきい値絶対値電圧を有する高しきい値PMOSトランジスタ(以下、高しきい値PMOSトランジスタという。各図において、ゲートの図示幅を通常の線幅で図示する。例えば図1(b)のQ31参照。すなわち、下記(B1)の低しきい値PMOSトランジスタ以外のPMOSトランジスタをいう。)と、
(A2)しきい値電圧(Vt)が例えば+0.65〜+0.8Vであって、しきい値絶対値電圧が例えば0.65〜0.8Vである比較的高いしきい値絶対値電圧を有する高しきい値NMOSトランジスタ(以下、高しきい値NMOSトランジスタという。各図において、ゲートの図示幅を通常の線幅で図示する。例えば図1(b)のQ40参照。すなわち、下記(B2)の低しきい値NMOSトランジスタ以外のNMOSトランジスタをいう。)と、
(B1)しきい値電圧(Vt)が例えば−0.3V〜−0.4Vであって、しきい値絶対値電圧が例えば0.3V〜0.4Vである比較的低いしきい値絶対値電圧を有し(上記(A1)の高しきい値PMOSトランジスタよりも低いしきい値絶対値電圧を有し)かつオフ時(ゲート電圧が例えば電源電圧源VDDであるとき)のドレイン・ソース電流(以下、オフ電流という。)Ioffが例えば1μAなどである低しきい値PMOSトランジスタ(以下、低しきい値PMOSトランジスタという。各図において、ゲートの図示幅を通常の線幅よりも太い線幅で図示する。例えば図1(b)のQ33a参照。)と、
(B2)しきい値電圧(Vt)が例えば+0.3V〜+0.4Vであって、しきい値絶対値電圧が例えば0.3V〜0.4Vである比較的低いしきい値絶対値電圧を有し(上記(A2)の高しきい値NMOSトランジスタよりも低いしきい値絶対値電圧を有し)かつオフ時(ゲート電圧が例えば0Vであるとき)のオフ電流Ioffが例えば1μAなどである低しきい値NMOSトランジスタ(以下、低しきい値NMOSトランジスタという。各図において、ゲートの図示幅を通常の線幅よりも太い線幅で図示する。例えば図1(b)のQ37a参照。)と、
を用いて、アクセススピードを損なわず、スタンバイ電流が少なく、かつスタンバイ状態からの復帰が早い回路構成を発明した。
Outline of the embodiment according to the present invention.
For example, in a low voltage device circuit such as a low voltage MOS transistor that operates at a low voltage of about 1.8 V (all low voltage MOS transistors are used in this embodiment),
(A1) A relatively high threshold absolute value whose threshold voltage (Vt) is, for example, −0.65 V to −0.8 V and whose threshold absolute value voltage is, for example, 0.65 V to 0.8 V. A high-threshold PMOS transistor having voltage (hereinafter referred to as a high-threshold PMOS transistor. In each figure, the illustrated width of the gate is illustrated with a normal line width. For example, see Q31 in FIG. 1B. (B1) refers to a PMOS transistor other than the low threshold PMOS transistor.)
(A2) A relatively high threshold voltage having a threshold voltage (Vt) of +0.65 to +0.8 V, for example, and a threshold voltage of 0.65 to 0.8 V, for example. A high threshold NMOS transistor (hereinafter referred to as a high threshold NMOS transistor. In each figure, the gate width is indicated by a normal line width. For example, see Q40 in FIG. 1B. That is, (B2 ) NMOS transistors other than the low threshold NMOS transistor)),
(B1) A relatively low threshold absolute value whose threshold voltage (Vt) is, for example, −0.3 V to −0.4 V and whose threshold absolute value voltage is, for example, 0.3 V to 0.4 V. Drain-source current having a voltage (having a threshold absolute value voltage lower than that of the high-threshold PMOS transistor of (A1)) and off (when the gate voltage is, for example, the power supply voltage source VDD) (Hereinafter referred to as off-current) Low-threshold PMOS transistor (hereinafter referred to as low-threshold PMOS transistor) whose Ioff is 1 μA, for example. In each figure, the gate width is larger than the normal line width. For example, see Q33a in FIG.
(B2) A relatively low threshold voltage having a threshold voltage (Vt) of, for example, + 0.3V to + 0.4V and a threshold voltage of, for example, 0.3V to 0.4V. Off-state current Ioff at the time of off (when the gate voltage is 0 V, for example) is 1 μA, for example (having a lower threshold absolute value voltage than the high threshold NMOS transistor of (A2)) Low-threshold NMOS transistor (hereinafter referred to as a low-threshold NMOS transistor. In each figure, the gate is shown with a line width larger than the normal line width. For example, see Q37a in FIG. 1B.) When,
Has been used to invent a circuit configuration that does not impair access speed, has a low standby current, and is quick to recover from a standby state.

すなわち、従来技術に係るMTCMOS技術を用いた機能回路又は機能素子に電圧保持用のMOSトランジスタを組み合わせたことを特徴とする。また、オフ電流Ioffを軽減するためのMOSトランジスタは共通化することもできる。出力電圧を保持しているため、スタンバイモード(一般には、スリープモードともいう。)からの復帰が早く、また、復帰時に電圧降下も起きないため、チップイネーブル信号CEがローレベルからハイレベルになった場合(すなわち、チップイネーブル信号の反転信号CEBがハイレベルからローレベルになった場合)にすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。電圧保持用のMOSトランジスタは最小サイズで、チップイネーブル信号CEの変化に応じて内部電圧を適正な電圧に変化させることができるという特徴を有している。以下、詳細な実施形態について説明する。   That is, a voltage holding MOS transistor is combined with a functional circuit or a functional element using the MTCMOS technology according to the prior art. Further, the MOS transistors for reducing the off current Ioff can be shared. Since the output voltage is held, the recovery from the standby mode (generally also referred to as the sleep mode) is quick and the voltage drop does not occur at the time of recovery, so that the chip enable signal CE changes from the low level to the high level. In this case (that is, when the inverted signal CEB of the chip enable signal changes from the high level to the low level), it can be immediately changed to a predetermined appropriate voltage. The voltage holding MOS transistor has a minimum size, and has a feature that the internal voltage can be changed to an appropriate voltage in accordance with the change of the chip enable signal CE. Hereinafter, detailed embodiments will be described.

第1の実施形態.
図1(a)は従来技術に係る差動増幅回路の構成を示す回路図であり、図1(b)は第1の実施形態に係る差動増幅回路の構成を示す回路図である。なお、各MOSトランジスタのゲートにおいて、符号無しのゲートについては、所定のバイアス電圧が印加される。
First embodiment.
FIG. 1A is a circuit diagram showing a configuration of a differential amplifier circuit according to the prior art, and FIG. 1B is a circuit diagram showing a configuration of a differential amplifier circuit according to the first embodiment. It should be noted that a predetermined bias voltage is applied to an unsigned gate in the gate of each MOS transistor.

図1(a)において、従来技術に係る差動増幅回路は、2つの入力端子T1a,T1bと、出力端子T2と、PMOSトランジスタQ31〜Q36と、NMOSトランジスタQ37〜Q39とを備えて構成される。これに対して、第1の実施形態に係る図1(b)においては、図1(a)に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)PMOSトランジスタQ33,Q36をそれぞれ低しきい値PMOSトランジスタQ33a,Q36aに置き換えたこと、
(2)NMOSトランジスタQ37〜Q39をそれぞれ低しきい値NMOSトランジスタQ37a〜Q39aに置き換えたこと、並びに、
(3)NMOSトランジスタQ39aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされる高しきい値NMOSトランジスタQ40を挿入したこと。
In FIG. 1A, the differential amplifier circuit according to the prior art includes two input terminals T1a and T1b, an output terminal T2, PMOS transistors Q31 to Q36, and NMOS transistors Q37 to Q39. . On the other hand, FIG. 1B according to the first embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to FIG. 1A.
(1) The PMOS transistors Q33 and Q36 are replaced with low threshold PMOS transistors Q33a and Q36a, respectively.
(2) The NMOS transistors Q37 to Q39 are replaced with low threshold NMOS transistors Q37a to Q39a, respectively, and
(3) The high threshold NMOS transistor Q40 that is turned on / off in response to the chip enable signal CE is inserted between the NMOS transistor Q39a and the ground terminal.

以上のように構成することにより、例えば、チップイネーブル信号CEがローレベルとなったときは、MOSトランジスタ対(Q33a,Q37a)の出力電圧及びMOSトランジスタ対(Q36a,Q38a)の出力電圧はそれぞれフローティング状態となるが、その直前のMOSトランジスタ対(Q33a,Q37a)の出力電圧が別のMOSトランジスタ対(Q36a,Q38a)のゲートに印加されて当該低しきい値MOSトランジスタQ36a,Q38aにより保持され、MOSトランジスタ対(Q36a,Q38a)の出力電圧が別のMOSトランジスタ対(Q33a,Q37a)のゲートに印加されて当該低しきい値MOSトランジスタQ33a,Q37aにより保持されるが、チップイネーブル信号CEがオフのために短期間は保持できる。   By configuring as described above, for example, when the chip enable signal CE becomes low level, the output voltage of the MOS transistor pair (Q33a, Q37a) and the output voltage of the MOS transistor pair (Q36a, Q38a) are respectively floating. The output voltage of the MOS transistor pair (Q33a, Q37a) immediately before that is applied to the gate of another MOS transistor pair (Q36a, Q38a) and held by the low threshold MOS transistors Q36a, Q38a. The output voltage of the MOS transistor pair (Q36a, Q38a) is applied to the gate of another MOS transistor pair (Q33a, Q37a) and is held by the low threshold MOS transistors Q33a, Q37a, but the chip enable signal CE is turned off. For short term It can hold.

第2の実施形態.
図2(a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、図2(b)は第2の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。
Second embodiment.
FIG. 2A is a circuit diagram showing a configuration of an inverter circuit according to the prior art, and FIG. 2B is a circuit diagram showing a configuration of an inverter circuit according to the second embodiment.

図2(a)において、インバータ回路は、入力端子T1と出力端子T2との間に、PMOSトランジスタQ1とNMOSトランジスタQ2とが直列に接続されて構成される。これに対して、第2の実施形態に係る図2(b)において、インバータ回路INV1aは、図2(a)に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)PMOSトランジスタQ1を低しきい値PMOSトランジスタQ1aに置き換えたこと、
(2)NMOSトランジスタQ2を低しきい値NMOSトランジスタQ2aに置き換えたこと、
(3)PMOSトランジスタQ1aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値PMOSトランジスタQ21を挿入したこと、
(4)NMOSトランジスタQ2aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値NMOSトランジスタQ22を挿入したこと、
(5)PMOSトランジスタQ1aと並列に、電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ11を接続したこと(すなわち、PMOSトランジスタQ11のゲートはPMOSトランジスタQ1aのゲートに接続され、PMOSトランジスタQ11のドレインはPMOSトランジスタQ1aのドレインに接続されるが、PMOSトランジスタQ11のソースは電源電圧源VDDに接続される。)、並びに、
(6)NMOSトランジスタQ2aと並列に、電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ12を接続したこと(すなわち、NMOSトランジスタQ12のゲートはNMOSトランジスタQ2aのゲートに接続され、NMOSトランジスタQ12のドレインはNMOSトランジスタQ2aのドレインに接続されるが、NMOSトランジスタQ12のソースは接地される。)。
2A, the inverter circuit is configured by connecting a PMOS transistor Q1 and an NMOS transistor Q2 in series between an input terminal T1 and an output terminal T2. On the other hand, in FIG. 2B according to the second embodiment, the inverter circuit INV1a is characterized in that it is configured as follows, compared to FIG.
(1) The PMOS transistor Q1 is replaced with a low threshold PMOS transistor Q1a.
(2) The NMOS transistor Q2 is replaced with a low threshold NMOS transistor Q2a.
(3) An off-current reducing high threshold PMOS transistor Q21 that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the PMOS transistor Q1a and the power supply voltage source VDD.
(4) An off-current reducing high threshold NMOS transistor Q22 that is turned on / off in response to the chip enable signal CE is inserted between the NMOS transistor Q2a and the ground terminal.
(5) A voltage holding high threshold PMOS transistor Q11 is connected in parallel with the PMOS transistor Q1a (ie, the gate of the PMOS transistor Q11 is connected to the gate of the PMOS transistor Q1a, and the drain of the PMOS transistor Q11 is connected to the PMOS transistor) Connected to the drain of Q1a, but the source of the PMOS transistor Q11 is connected to the power supply voltage source VDD), and
(6) The voltage holding high threshold NMOS transistor Q12 is connected in parallel with the NMOS transistor Q2a (that is, the gate of the NMOS transistor Q12 is connected to the gate of the NMOS transistor Q2a, and the drain of the NMOS transistor Q12 is the NMOS transistor). (It is connected to the drain of Q2a, but the source of the NMOS transistor Q12 is grounded).

図24は各実施形態で用いるスタンバイモード制御信号の各信号の反転関係を示す回路図である。図24(a)において、チップイネーブル信号CEは反転信号CEBの反転信号である。ここで、チップイネーブル信号CEがハイレベルであってその反転信号がローレベルであるとき当該インバータ回路がアクティブモード(動作状態)となる一方、チップイネーブル信号CEがローレベルであってその反転信号がハイレベルであるとき当該インバータ回路がスタンバイモード(又はスリープモード)となる。また、図24(b)において、ビジー信号BUSYはレディ信号RDYの反転信号であり、以下の別の実施形態で用いられる。   FIG. 24 is a circuit diagram showing the inversion relationship of each signal of the standby mode control signal used in each embodiment. In FIG. 24A, the chip enable signal CE is an inverted signal of the inverted signal CEB. Here, when the chip enable signal CE is at a high level and its inverted signal is at a low level, the inverter circuit is in an active mode (operating state), while the chip enable signal CE is at a low level and its inverted signal is When it is at a high level, the inverter circuit enters a standby mode (or sleep mode). In FIG. 24B, the busy signal BUSY is an inverted signal of the ready signal RDY and is used in another embodiment described below.

以上のように構成することにより、図2(b)において、例えば、チップイネーブル信号CEがローレベルとなりかつその反転信号CEBがハイレベルとなったときは、MOSトランジスタQ1a及びQ2aからなるインバータの出力電圧はフローティング状態となるが、その出力電圧は高しきい値MOSトランジスタQ11及びQ12(少なくとも、PMOSトランジスタQ1aのしきい値絶対値電圧はPMOSトランジスタQ11のしきい値絶対値電圧よりも低く、NMOSトランジスタQ2aのしきい値絶対値電圧はNMOSトランジスタQ12のしきい値絶対値電圧よりも低くなるように構成される)からなるインバータにより保持される。従って、チップイネーブル信号CEがローレベルからハイレベルになりその反転信号CEBがハイレベルからローレベルになった場合に、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。   With the configuration as described above, in FIG. 2B, for example, when the chip enable signal CE is at a low level and the inverted signal CEB is at a high level, the output of the inverter composed of the MOS transistors Q1a and Q2a is output. Although the voltage is in a floating state, its output voltage is high threshold MOS transistors Q11 and Q12 (at least the threshold absolute value voltage of the PMOS transistor Q1a is lower than the threshold absolute value voltage of the PMOS transistor Q11, and the NMOS The threshold absolute value voltage of the transistor Q2a is held by an inverter composed of (lower than the threshold absolute value voltage of the NMOS transistor Q12). Therefore, when the chip enable signal CE changes from the low level to the high level and the inverted signal CEB changes from the high level to the low level, the output voltage can be immediately changed from the holding voltage to a predetermined appropriate voltage. .

第3の実施形態.
図3(a)は従来技術に係るナンドゲート回路の構成を示す回路図であり、図3(b)は第3の実施形態に係るナンドゲート回路の構成を示す回路図である。
Third embodiment.
FIG. 3A is a circuit diagram showing a configuration of a NAND gate circuit according to the prior art, and FIG. 3B is a circuit diagram showing a configuration of the NAND gate circuit according to the third embodiment.

図3(a)において、従来技術に係るナンドゲート回路は、入力端子T1A,T1Bと、出力端子T2と、PMOSトランジスタQ1,Q3と、NMOSトランジスタQ2,Q4とを備えて構成される。これに対して、第3の実施形態に係る図3(b)において、ナンドゲート回路は、図3(a)に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)PMOSトランジスタQ1,Q3をそれぞれ低しきい値PMOSトランジスタQ1a,Q3aに置き換えたこと、
(2)NMOSトランジスタQ2,Q4をそれぞれ低しきい値NMOSトランジスタQ2a,Q4aに置き換えたこと、
(3)PMOSトランジスタQ1a及びQ3aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値PMOSトランジスタQ21を挿入したこと、
(4)NMOSトランジスタQ4aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値NMOSトランジスタQ22を挿入したこと、
(5)PMOSトランジスタQ1aと並列に、電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ11を接続したこと(すなわち、PMOSトランジスタQ11のゲートはPMOSトランジスタQ1aのゲートに接続され、PMOSトランジスタQ11のドレインはPMOSトランジスタQ1aのドレインに接続されるが、PMOSトランジスタQ11のソースは電源電圧源VDDに接続される。)、
(6)NMOSトランジスタQ2aと並列に、電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ12を接続したこと(すなわち、NMOSトランジスタQ12のゲートはNMOSトランジスタQ2aのゲートに接続され、NMOSトランジスタQ12のドレインはNMOSトランジスタQ2aのドレインに接続されるが、NMOSトランジスタQ12のソースはNMOSトランジスタQ14のドレインに接続される。)、
(7)PMOSトランジスタQ3aと並列に、電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ13を接続したこと(すなわち、PMOSトランジスタQ13のゲートはPMOSトランジスタQ3aのゲートに接続され、PMOSトランジスタQ13のドレインはPMOSトランジスタQ3aのドレインに接続されるが、PMOSトランジスタQ13のソースは電源電圧源VDDに接続される。)、並びに、
(8)NMOSトランジスタQ4aと並列に、電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ14を接続したこと(すなわち、NMOSトランジスタQ14のゲートはNMOSトランジスタQ4aのゲートに接続され、NMOSトランジスタQ14のドレインはNMOSトランジスタQ12のソースに接続されるが、NMOSトランジスタQ14のソースは接地される。また、MOSトランジスタQ4a,Q14,Q3a,Q13の各ゲートはともに入力端子T1Bに接続される。)。
In FIG. 3A, the NAND gate circuit according to the prior art includes input terminals T1A and T1B, an output terminal T2, PMOS transistors Q1 and Q3, and NMOS transistors Q2 and Q4. On the other hand, in FIG. 3B according to the third embodiment, the NAND gate circuit is characterized in that it is configured as follows as compared with FIG.
(1) The PMOS transistors Q1 and Q3 are replaced with low threshold PMOS transistors Q1a and Q3a, respectively.
(2) The NMOS transistors Q2 and Q4 are replaced with low threshold NMOS transistors Q2a and Q4a, respectively.
(3) An off-current reducing high threshold PMOS transistor Q21 that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the PMOS transistors Q1a and Q3a and the power supply voltage source VDD.
(4) An off-current reducing high threshold NMOS transistor Q22 that is turned on / off in response to the chip enable signal CE is inserted between the NMOS transistor Q4a and the ground terminal.
(5) A voltage holding high threshold PMOS transistor Q11 is connected in parallel with the PMOS transistor Q1a (ie, the gate of the PMOS transistor Q11 is connected to the gate of the PMOS transistor Q1a, and the drain of the PMOS transistor Q11 is connected to the PMOS transistor) Q1a is connected to the drain, but the source of the PMOS transistor Q11 is connected to the power supply voltage source VDD).
(6) The voltage holding high threshold NMOS transistor Q12 is connected in parallel with the NMOS transistor Q2a (that is, the gate of the NMOS transistor Q12 is connected to the gate of the NMOS transistor Q2a, and the drain of the NMOS transistor Q12 is the NMOS transistor). Connected to the drain of Q2a, the source of NMOS transistor Q12 is connected to the drain of NMOS transistor Q14).
(7) A voltage holding high threshold PMOS transistor Q13 is connected in parallel with the PMOS transistor Q3a (ie, the gate of the PMOS transistor Q13 is connected to the gate of the PMOS transistor Q3a, and the drain of the PMOS transistor Q13 is the PMOS transistor) Connected to the drain of Q3a, but the source of the PMOS transistor Q13 is connected to the power supply voltage source VDD), and
(8) The voltage holding high threshold NMOS transistor Q14 is connected in parallel with the NMOS transistor Q4a (ie, the gate of the NMOS transistor Q14 is connected to the gate of the NMOS transistor Q4a, and the drain of the NMOS transistor Q14 is the NMOS transistor) The source of the NMOS transistor Q14 is grounded while being connected to the source of the Q12, and the gates of the MOS transistors Q4a, Q14, Q3a, and Q13 are all connected to the input terminal T1B.)

以上のように構成することにより、例えば、チップイネーブル信号CEがローレベルとなりかつその反転信号CEBがハイレベルとなったときは、各MOSトランジスタQ1a,Q2a,Q3aの各出力電圧はフローティング状態となるが、それら各出力電圧は高しきい値MOSトランジスタQ11〜Q13(少なくとも、PMOSトランジスタQ1a,Q3aのしきい値絶対値電圧はPMOSトランジスタQ11,Q13のしきい値絶対値電圧よりも低く、NMOSトランジスタQ2aのしきい値絶対値電圧はNMOSトランジスタQ12のしきい値絶対値電圧よりも低くなるように構成される)により保持される。従って、チップイネーブル信号CEがローレベルからハイレベルになりその反転信号CEBがハイレベルからローレベルになった場合に、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。   By configuring as described above, for example, when the chip enable signal CE is at a low level and the inverted signal CEB is at a high level, the output voltages of the MOS transistors Q1a, Q2a, and Q3a are in a floating state. However, the respective output voltages are high threshold MOS transistors Q11 to Q13 (at least the threshold absolute value voltages of the PMOS transistors Q1a and Q3a are lower than the threshold absolute value voltages of the PMOS transistors Q11 and Q13. The threshold absolute value voltage of Q2a is held lower than the threshold absolute value voltage of NMOS transistor Q12). Therefore, when the chip enable signal CE changes from the low level to the high level and the inverted signal CEB changes from the high level to the low level, the output voltage can be immediately changed from the holding voltage to a predetermined appropriate voltage. .

以上の実施形態では、ナンドゲート回路について説明しているが、本発明はこれに限らず、ノアゲート回路、アンドゲート回路又はオアゲート回路などの種々のゲート回路に適用することができる。   Although the NAND gate circuit has been described in the above embodiment, the present invention is not limited to this, and can be applied to various gate circuits such as a NOR gate circuit, an AND gate circuit, or an OR gate circuit.

第4の実施形態.
図4(a)は従来技術に係るマルチプレクサ回路の構成を示す回路図であり、図4(b)は第4の実施形態に係るマルチプレクサ回路の構成を示す回路図である。
Fourth embodiment.
FIG. 4A is a circuit diagram showing a configuration of a multiplexer circuit according to the prior art, and FIG. 4B is a circuit diagram showing a configuration of a multiplexer circuit according to the fourth embodiment.

図4(a)において、従来技術に係るマルチプレクサ回路は、
(1)入力端子T1Aと、PMOSトランジスタQ41及びNMOSトランジスタQ42とからなるインバータINV3と、
(2)インバータINV3の出力端子に接続された伝送ゲートTG1と、
(3)入力端子T1Bと、PMOSトランジスタQ43及びNMOSトランジスタQ44とからなるインバータINV4と、
(4)インバータINV4の出力端子に接続された伝送ゲートTG2と、
(5)伝送ゲートTG1,TG2の各出力端子に接続されかつ出力端子T2に接続され、PMOSトランジスタQ45及びNMOSトランジスタQ46とからなるインバータINV5とを備えて構成される。
In FIG. 4A, the multiplexer circuit according to the prior art is
(1) An input terminal T1A and an inverter INV3 including a PMOS transistor Q41 and an NMOS transistor Q42;
(2) a transmission gate TG1 connected to the output terminal of the inverter INV3;
(3) an input terminal T1B and an inverter INV4 including a PMOS transistor Q43 and an NMOS transistor Q44;
(4) a transmission gate TG2 connected to the output terminal of the inverter INV4;
(5) An inverter INV5 including a PMOS transistor Q45 and an NMOS transistor Q46 is connected to the output terminals of the transmission gates TG1 and TG2 and connected to the output terminal T2.

図4(a)において、各伝送ゲートTG1,TG2はそれぞれ、公知の伝送ゲートであって、公知のように、PMOSトランジスタと、NMOSトランジスタと、インバータとから構成される。ここで、伝送ゲートTG1がオンとなるときは伝送ゲートTG2がオフとなる一方、伝送ゲートTG1がオフとなるときは伝送ゲートTG2がオンとなるように制御される。   In FIG. 4A, each of the transmission gates TG1 and TG2 is a known transmission gate, and includes a PMOS transistor, an NMOS transistor, and an inverter as is well known. Here, the transmission gate TG2 is turned off when the transmission gate TG1 is turned on, while the transmission gate TG2 is turned on when the transmission gate TG1 is turned off.

これに対して、図4(b)の第4の実施形態に係るマルチプレクサ回路は、図4(a)のマルチプレクサ回路に比較して以下のように構成されたことを特徴としている。   On the other hand, the multiplexer circuit according to the fourth embodiment in FIG. 4B is characterized in that it is configured as follows compared to the multiplexer circuit in FIG.

(1)インバータINV3をインバータINV3aに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ41を低しきい値PMOSトランジスタQ41aに置き換え、NMOSトランジスタQ42を低しきい値NMOSトランジスタQ42aに置き換え、PMOSトランジスタQ41aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値PMOSトランジスタQ21aを挿入し、NMOSトランジスタQ42aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値NMOSトランジスタQ22aを挿入した。
(2)アクセススピードを向上させるために、伝送ゲートTG1を、低しきい値MOSトランジスタ対を用いた伝送ゲートTG1aに置き換えた。
(3)インバータINV4をインバータINV4aに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ43を低しきい値PMOSトランジスタQ43aに置き換え、NMOSトランジスタQ44を低しきい値NMOSトランジスタQ44aに置き換え、PMOSトランジスタQ43aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値PMOSトランジスタQ21bを挿入し、NMOSトランジスタQ44aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値NMOSトランジスタQ22bを挿入した。
(4)アクセススピードを向上させるために、伝送ゲートTG2を、低しきい値MOSトランジスタ対を用いた伝送ゲートTG2aに置き換えた。
(5)インバータINV5をインバータINV5aに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ45を低しきい値PMOSトランジスタQ45aに置き換え、NMOSトランジスタQ46を低しきい値NMOSトランジスタQ46aに置き換え、PMOSトランジスタQ45aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされるオフ電流軽減用高しきい値PMOSトランジスタQ21cを挿入し、NMOSトランジスタQ46aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされる高しきい値NMOSトランジスタQ22cを挿入した。
(6)さらに、PMOSトランジスタQ45aと並列に、電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ11を接続したこと(すなわち、PMOSトランジスタQ11のゲートはPMOSトランジスタQ45aのゲートに接続され、PMOSトランジスタQ11のドレインはPMOSトランジスタQ45aのドレインに接続されるが、PMOSトランジスタQ11のソースは電源電圧源VDDに接続される。)、並びに、NMOSトランジスタQ46aと並列に、電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ12を接続したこと(すなわち、NMOSトランジスタQ12のゲートはNMOSトランジスタQ46aのゲートに接続され、NMOSトランジスタQ12のドレインはNMOSトランジスタQ46aのドレインに接続されるが、NMOSトランジスタQ12のソースは接地される。)。
(7)各伝送ゲートTG1a,TG2aの出力電圧を保持するために以下のラッチ回路LA11が設けられた。ラッチ回路LA11は2つのインバータINV6とINV7とがループ状で互いに縦続接続されてなり、インバータINV6には直接に電源電圧源VDD及び接地端子が接続されるが、インバータINV7には、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされる高しきい値PMOSトランジスタQ21dを介して電源電圧源VDDが接続されかつチップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされる高しきい値NMOSトランジスタQ22dを介して接地端子が接続される。
(1) The inverter INV3 is replaced with an inverter INV3a, specifically, the PMOS transistor Q41 is replaced with a low threshold PMOS transistor Q41a, the NMOS transistor Q42 is replaced with a low threshold NMOS transistor Q42a, and the PMOS transistor Q41a and the power supply voltage A high-threshold PMOS transistor Q21a for reducing off-current that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the source VDD and the chip between the NMOS transistor Q42a and the ground terminal. An off-current reducing high threshold NMOS transistor Q22a that is turned on / off in response to the enable signal CE is inserted.
(2) In order to improve the access speed, the transmission gate TG1 is replaced with a transmission gate TG1a using a low threshold MOS transistor pair.
(3) The inverter INV4 is replaced with an inverter INV4a, specifically, the PMOS transistor Q43 is replaced with a low threshold PMOS transistor Q43a, the NMOS transistor Q44 is replaced with a low threshold NMOS transistor Q44a, and the PMOS transistor Q43a and the power supply voltage A high-threshold PMOS transistor Q21b for reducing off-current that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the source VDD and the chip between the NMOS transistor Q44a and the ground terminal. An off-current reducing high threshold NMOS transistor Q22b that is turned on / off in response to the enable signal CE is inserted.
(4) In order to improve the access speed, the transmission gate TG2 is replaced with a transmission gate TG2a using a low threshold MOS transistor pair.
(5) The inverter INV5 is replaced with the inverter INV5a, specifically, the PMOS transistor Q45 is replaced with the low threshold PMOS transistor Q45a, the NMOS transistor Q46 is replaced with the low threshold NMOS transistor Q46a, and the PMOS transistor Q45a and the power supply voltage A high-threshold PMOS transistor Q21c for reducing off-current that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the source VDD and the chip between the NMOS transistor Q46a and the ground terminal. A high threshold NMOS transistor Q22c which is turned on / off in response to the enable signal CE is inserted.
(6) Furthermore, a voltage holding high threshold PMOS transistor Q11 is connected in parallel with the PMOS transistor Q45a (that is, the gate of the PMOS transistor Q11 is connected to the gate of the PMOS transistor Q45a, and the drain of the PMOS transistor Q11 is The drain of the PMOS transistor Q45a is connected, but the source of the PMOS transistor Q11 is connected to the power supply voltage source VDD.) In addition, a voltage holding high threshold NMOS transistor Q12 is connected in parallel with the NMOS transistor Q46a. (Ie, the gate of the NMOS transistor Q12 is connected to the gate of the NMOS transistor Q46a, and the drain of the NMOS transistor Q12 is connected to the drain of the NMOS transistor Q46a. The source of the OS transistor Q12 is grounded.).
(7) The following latch circuit LA11 is provided to hold the output voltage of each transmission gate TG1a, TG2a. In the latch circuit LA11, two inverters INV6 and INV7 are connected in cascade with each other in a loop, and the power supply voltage source VDD and the ground terminal are directly connected to the inverter INV6, but the chip enable signal CE is connected to the inverter INV7. The high threshold NMOS transistor Q22d is connected to the power supply voltage source VDD via the high threshold PMOS transistor Q21d which is turned on / off in response to and is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal. The ground terminal is connected via

以上説明したように、各伝送ゲートTG1a,TG2aの出力電圧を保持するために以下のラッチ回路LA11が設けられ、当該マルチプレクサ回路の出力端子T2の出力電圧を保持するためにインバータINV5aの構成とした。従って、例えば、チップイネーブル信号CEがローレベルとなりかつその反転信号CEBがハイレベルとなったときは、各伝送ゲートTG1a,TG2aの出力電圧及び各MOSトランジスタQ45a,Q46aの出力電圧はフローティング状態となるが、それら各出力電圧は上記ラッチ回路LA11及び上記インバータINV5a(少なくとも、PMOSトランジスタQ45aのしきい値絶対値電圧はPMOSトランジスタQ11のしきい値絶対値電圧よりも低く、NMOSトランジスタ46aのしきい値絶対値電圧はNMOSトランジスタQ12のしきい値絶対値電圧よりも低くなるように構成される)の構成により保持される。従って、チップイネーブル信号CEがローレベルからハイレベルになりその反転信号CEBがハイレベルからローレベルになった場合に、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。   As described above, the following latch circuit LA11 is provided to hold the output voltage of each transmission gate TG1a, TG2a, and the inverter INV5a is configured to hold the output voltage of the output terminal T2 of the multiplexer circuit. . Therefore, for example, when the chip enable signal CE becomes low level and the inverted signal CEB becomes high level, the output voltages of the transmission gates TG1a and TG2a and the output voltages of the MOS transistors Q45a and Q46a are in a floating state. However, the respective output voltages are the latch circuit LA11 and the inverter INV5a (at least the threshold absolute value voltage of the PMOS transistor Q45a is lower than the threshold absolute value voltage of the PMOS transistor Q11, and the threshold voltage of the NMOS transistor 46a). The absolute value voltage is held by the configuration of the NMOS transistor Q12). Therefore, when the chip enable signal CE changes from the low level to the high level and the inverted signal CEB changes from the high level to the low level, the output voltage can be immediately changed from the holding voltage to a predetermined appropriate voltage. .

第5の実施形態.
図5は従来技術に係るフリップフロップ回路の構成を示す回路図であり、図6は第5の実施形態に係るフリップフロップ回路の構成を示す回路図である。
Fifth embodiment.
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a flip-flop circuit according to the prior art, and FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a flip-flop circuit according to a fifth embodiment.

図5において、従来技術に係るフリップフロップ回路は、インバータINV11〜INV17と、伝送ゲートTG11〜TG14とを備えて構成される。これに対して、図6の第5の実施形態に係るフリップフロップ回路は、図5のフリップフロップ回路に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)インバータINV11を、図4(b)のインバータINV3a,INV4aと同様の構成を有するインバータINV11aに置き換えた。
(2)伝送ゲートTG11〜TG14を、図4(b)のインバータTG1a,TG2aと同様の構成を有する伝送ゲートTG11a〜TG14aに置き換えた。
(3)インバータINV12〜17を、図4(b)のインバータINV5aと同様の構成を有するインバータINV12a〜17aに置き換えた。
In FIG. 5, the flip-flop circuit according to the prior art is configured to include inverters INV11 to INV17 and transmission gates TG11 to TG14. On the other hand, the flip-flop circuit according to the fifth embodiment of FIG. 6 is characterized in that it is configured as follows compared to the flip-flop circuit of FIG.
(1) The inverter INV11 is replaced with an inverter INV11a having the same configuration as the inverters INV3a and INV4a in FIG.
(2) The transmission gates TG11 to TG14 are replaced with transmission gates TG11a to TG14a having the same configuration as the inverters TG1a and TG2a of FIG.
(3) The inverters INV12 to 17V were replaced with inverters INV12a to 17a having the same configuration as the inverter INV5a in FIG.

以上説明したように、アクセススピードを向上させるために各伝送ゲートTG11a〜TG14aを設けるとともに、インバータINV12a,INV13a,INV15a,INV16a,INV17aの各出力電圧を保持するために上記のように構成した。従って、例えば、チップイネーブル信号CEがローレベルとなりかつその反転信号CEBがハイレベルとなったときは、インバータINV12a,INV13a,INV15a,INV16a,INV17aの各出力電圧はフローティング状態となるが、それら各出力電圧は当該各回路の後段の高しきい値CMOSインバータ回路の構成により保持される。従って、チップイネーブル信号CEがローレベルからハイレベルになりその反転信号CEBがハイレベルからローレベルになった場合に、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。   As described above, the transmission gates TG11a to TG14a are provided in order to improve the access speed, and are configured as described above to hold the output voltages of the inverters INV12a, INV13a, INV15a, INV16a, and INV17a. Therefore, for example, when the chip enable signal CE is at a low level and the inverted signal CEB is at a high level, the output voltages of the inverters INV12a, INV13a, INV15a, INV16a, and INV17a are in a floating state. The voltage is held by the configuration of the high threshold CMOS inverter circuit in the subsequent stage of each circuit. Therefore, when the chip enable signal CE changes from the low level to the high level and the inverted signal CEB changes from the high level to the low level, the output voltage can be immediately changed from the holding voltage to a predetermined appropriate voltage. .

第6の実施形態.
図7は従来技術に係るNAND型フラッシュメモリ回路のラッチ回路L1,L2とその周辺回路の構成を示す回路図であり、図8は第6の実施形態に係るラッチ回路L1aとドライバ回路10の構成を示す回路図である。
Sixth embodiment.
FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of the latch circuits L1 and L2 of the NAND flash memory circuit according to the prior art and its peripheral circuits. FIG. 8 shows the configuration of the latch circuit L1a and the driver circuit 10 according to the sixth embodiment. FIG.

図7において、L1は第1のラッチ回路L1であり、2個のクロックトインバータINV21,INV22がループ状で互いに縦続接続して構成され、各クロックトインバータINV21,INV22の両端子のラインL1BL,L1BLBはそれぞれ、データをセンスする直前に等化する等化制御信号EQによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ101のドレイン及びソースが接続される。ここで、クロックトインバータINV21はラッチ制御信号L1LAT,L1LATBにより動作され、クロックトインバータINV22はセンス制御信号L1SEN,L1SENBにより動作される。クロックトインバータINV21の出力端子に接続されるラインL1BLは、ラッチ回路L1のイネーブル制御信号L1ENによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ102を介してビットラインBL2に接続される。ビットラインBL2は、プリチャージ制御信号PRECHによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ103を介してビット線プリチャージ電圧源VPに接続されるとともに、ビットラインパス制御信号BLPASSによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ104を介して、フラッシュメモリブロックに接続されるビットラインBL1に接続される。   In FIG. 7, L1 is a first latch circuit L1, and two clocked inverters INV21 and INV22 are connected in cascade with each other. Lines L1BL and L1BL of both terminals of each clocked inverter INV21 and INV22 are formed. L1BLB is connected to the drain and source of an NMOS transistor Q101 that is turned on / off by an equalization control signal EQ that is equalized immediately before sensing data. Here, the clocked inverter INV21 is operated by latch control signals L1LAT and L1LATB, and the clocked inverter INV22 is operated by sense control signals L1SEN and L1SENB. The line L1BL connected to the output terminal of the clocked inverter INV21 is connected to the bit line BL2 via the NMOS transistor Q102 that is turned on / off by the enable control signal L1EN of the latch circuit L1. The bit line BL2 is connected to the bit line precharge voltage source VP via an NMOS transistor Q103 which is turned on / off by a precharge control signal PRECH and is turned on / off by a bit line path control signal BLPASS. To the bit line BL1 connected to the flash memory block.

L2は第1のラッチ回路L2であり、2個のクロックトインバータINV23,INV24がループ状で互いに縦続接続して構成される。クロックトインバータINV24の出力端子に接続されるラインL2BLBは、リセット制御信号RESETによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ105を介して接地されるとともに、コラム選択信号CSLによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ106を介してデータバス線DLに接続される。また、クロックトインバータINV23の出力端子に接続されるラインL2BLは、コラム選択信号CSLによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ107を介してデータバス線ZDLに接続される。さらに、ラインL2BLはラッチ回路L2のイネーブル制御信号L2ENによりオン・オフされるNMOSトランジスタQ108を介してビットラインBL2に接続される。   L2 is a first latch circuit L2, and is constituted by two clocked inverters INV23 and INV24 that are connected in cascade with each other in a loop. The line L2BLB connected to the output terminal of the clocked inverter INV24 is grounded via the NMOS transistor Q105 that is turned on / off by the reset control signal RESET, and the NMOS transistor Q106 that is turned on / off by the column selection signal CSL. To the data bus line DL. The line L2BL connected to the output terminal of the clocked inverter INV23 is connected to the data bus line ZDL via the NMOS transistor Q107 that is turned on / off by the column selection signal CSL. Further, the line L2BL is connected to the bit line BL2 via an NMOS transistor Q108 which is turned on / off by an enable control signal L2EN of the latch circuit L2.

図23は図7〜図13及び図21のNAND型フラッシュメモリの回路におけるスタンバイモード制御信号と各回路の状態を示す表である。また、スタンバイモード制御信号は図24に示した通りである。図23から明らかなように、チップイネーブル信号CE及びビジー信号BUSYに応じて各ラッチ回路L1,L2の動作状態(アクティブモード又はスタンバイモード)を切り替える。   FIG. 23 is a table showing the standby mode control signal and the state of each circuit in the NAND type flash memory circuit of FIGS. The standby mode control signal is as shown in FIG. As is apparent from FIG. 23, the operating states (active mode or standby mode) of the latch circuits L1 and L2 are switched according to the chip enable signal CE and the busy signal BUSY.

図8において、第6の実施形態に係るラッチ回路L1aは、図7の従来技術に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)クロックトインバータINV21を、図4(b)のインバータINV3a,INV4aと同様の構成を有し、PMOSトランジスタQ51,Q53及びNMOSトランジスタQ52,Q54を備えて構成されるクロックトインバータINV21aに置き換えた。ここで、PMOSトランジスタQ53はデータラッチ制御信号L1LATBによりオンされ、NMOSトランジスタQ54はデータラッチ制御信号L1LATによりオン・オフされる。
(2)クロックトインバータINV22を、図4(b)のインバータINV3a,INV4aと同様の構成を有し、PMOSトランジスタQ61,Q63及びNMOSトランジスタQ62,Q64を備えて構成されるクロックトインバータINV22aに置き換えた。ここで、PMOSトランジスタQ63はデータセンス制御信号L1SENBによりオンされ、NMOSトランジスタQ64はデータセンス制御信号L1SENによりオン・オフされる。
(3)ドライバ回路10はナンドゲートNAND1及びノアゲートNOR1を含む。ナンドゲートNAND1は、ビジー信号BUSYとデータラッチ制御信号L1LATBCTRLに基づいてデータラッチ制御信号L1LATBを発生してPMOSトランジスタQ53のゲートに出力する。また、ノアゲートNOR1は、レディ信号RDYとデータセンス制御信号L1SENCTRLに基づいてデータセンス制御信号L1SENを発生してNMOSトランジスタQ64のゲートに出力する。
In FIG. 8, the latch circuit L1a according to the sixth embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the prior art of FIG.
(1) The clocked inverter INV21 is replaced with a clocked inverter INV21a having the same configuration as the inverters INV3a and INV4a of FIG. 4B and including PMOS transistors Q51 and Q53 and NMOS transistors Q52 and Q54. It was. Here, the PMOS transistor Q53 is turned on by the data latch control signal L1LATB, and the NMOS transistor Q54 is turned on / off by the data latch control signal L1LAT.
(2) The clocked inverter INV22 is replaced with a clocked inverter INV22a having the same configuration as the inverters INV3a and INV4a in FIG. 4B and including PMOS transistors Q61 and Q63 and NMOS transistors Q62 and Q64. It was. Here, the PMOS transistor Q63 is turned on by the data sense control signal L1SENB, and the NMOS transistor Q64 is turned on / off by the data sense control signal L1SEN.
(3) The driver circuit 10 includes a NAND gate NAND1 and a NOR gate NOR1. The NAND gate NAND1 generates a data latch control signal L1LATB based on the busy signal BUSY and the data latch control signal L1LATBCTRL and outputs it to the gate of the PMOS transistor Q53. The NOR gate NOR1 generates a data sense control signal L1SEN based on the ready signal RDY and the data sense control signal L1SENCTRL, and outputs it to the gate of the NMOS transistor Q64.

図25は図8のラッチ回路L1aの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。図25において、レディ信号RDYがハイレベルとされるスタンバイモードのとき、ラインL1BLはローレベルとされ、ラインL1BLBはハイレベルとされる。   FIG. 25 is a diagram showing the operation of the latch circuit L1a of FIG. 8, and is a timing chart showing changes in each control signal. In FIG. 25, in the standby mode in which the ready signal RDY is at a high level, the line L1BL is at a low level and the line L1BLB is at a high level.

以上説明したように、クロックトインバータINV21a,INV22aの各出力電圧を保持するために上記のように構成した。特に、クロックトインバータINV21a,INV22aを用いて構成しかつレディ信号RDYがハイレベルとされるスタンバイモードのとき、ラインL1BLはローレベルとされ、ラインL1BLBはハイレベルとされるように制御することにより、スタンバイモードにおいてクロックトインバータINV21a,INV22aがループ状で互いに縦続接続されてなるラッチ回路により各出力電圧を保持することで、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。また、スタンバイモードのときに、ラッチ制御信号L1LATBによりPMOSトランジスタQ53がオフされ、センス制御信号L1SENによりNMOSトランジスタQ64がオフされることにより、各クロックトインバータINV21a,INV22aに流れるリーク電流を軽減できる。   As described above, the configuration described above is used to hold the output voltages of the clocked inverters INV21a and INV22a. Particularly, in the standby mode in which the clocked inverters INV21a and INV22a are used and the ready signal RDY is at a high level, the line L1BL is controlled to be at a low level and the line L1BLB is controlled to be at a high level. In the standby mode, each output voltage is held by a latch circuit in which the clocked inverters INV21a and INV22a are connected in cascade in a loop shape, so that the output voltage is immediately changed from the holding voltage to a predetermined appropriate voltage. Can do. Further, in the standby mode, the PMOS transistor Q53 is turned off by the latch control signal L1LATB, and the NMOS transistor Q64 is turned off by the sense control signal L1SEN, thereby reducing the leakage current flowing through the clocked inverters INV21a and INV22a.

第7の実施形態.
図9は第7の実施形態に係るラッチ回路L1bとドライバ回路10aの構成を示す回路図である。
Seventh embodiment.
FIG. 9 is a circuit diagram showing configurations of the latch circuit L1b and the driver circuit 10a according to the seventh embodiment.

図9において、第7の実施形態に係るラッチ回路L1bは、図7の従来技術に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)クロックトインバータINV21を、図4(b)のインバータ5aと同様の構成を有し、PMOSトランジスタQ51,Q53,Q55及びNMOSトランジスタQ52,Q54,Q56を備えて構成されるクロックトインバータINV21bに置き換えた。ここで、PMOSトランジスタQ53はデータラッチ制御信号L1LATBによりオンされ、NMOSトランジスタQ54はデータラッチ制御信号L1LATによりオン・オフされる。また、PMOSトランジスタQ55はPMOSトランジスタQ51に並列に接続され、すなわち、PMOSトランジスタQ55のゲートはPMOSトランジスタQ51のゲートに接続され、PMOSトランジスタQ55のドレインはPMOSトランジスタQ51のドレインに接続され、PMOSトランジスタQ55のソースは電源電圧源VDDに接続される。さらに、NMOSトランジスタQ56はNMOSトランジスタQ52に並列に接続され、すなわち、NMOSトランジスタQ56のゲートはNMOSトランジスタQ52のゲートに接続され、NMOSトランジスタQ56のドレインはNMOSトランジスタQ52のドレインに接続され、NMOSトランジスタQ56のソースは接地される。
(2)クロックトインバータINV22を、図4(b)のインバータ5aと同様の構成を有し、PMOSトランジスタQ61,Q63,Q65及びNMOSトランジスタQ62,Q64,Q66を備えて構成されるクロックトインバータINV22bに置き換えた。ここで、PMOSトランジスタQ63はデータセンス制御信号L1SENBによりオンされ、NMOSトランジスタQ64はデータセンス制御信号L1SENによりオン・オフされる。また、PMOSトランジスタQ65はPMOSトランジスタQ61に並列に接続され、すなわち、PMOSトランジスタQ65のゲートはPMOSトランジスタQ61のゲートに接続され、PMOSトランジスタQ65のドレインはPMOSトランジスタQ61のドレインに接続され、PMOSトランジスタQ65のソースは電源電圧源VDDに接続される。さらに、NMOSトランジスタQ66はNMOSトランジスタQ62に並列に接続され、すなわち、NMOSトランジスタQ66のゲートはNMOSトランジスタQ62のゲートに接続され、NMOSトランジスタQ66のドレインはNMOSトランジスタQ62のドレインに接続され、NMOSトランジスタQ66のソースは接地される。
(3)ドライバ回路10aはナンドゲートNAND1,NAND2及びノアゲートNOR1,NOR2を含む。ナンドゲートNAND1は、ビジー信号BUSYとデータラッチ制御信号L1LATBCTRLに基づいてデータラッチ制御信号L1LATBを発生してPMOSトランジスタQ53のゲートに出力する。また、ノアゲートNOR1は、レディ信号RDYとデータセンス制御信号L1SENCTRLに基づいてデータセンス制御信号L1SENを発生してNMOSトランジスタQ64のゲートに出力する。またさらに、ノアゲートNOR2は、レディ信号RDYとデータラッチ制御信号L1LATCTRLに基づいてデータセンス制御信号L1LATを発生してNMOSトランジスタQ54のゲートに出力する。またさらに、ナンドゲートNAND2は、ビジー信号BUSYとデータセンス制御信号L1SENCTRLに基づいてデータセンス制御信号L1SENBCTRLを発生してPMOSトランジスタQ63のゲートに出力する。
In FIG. 9, the latch circuit L1b according to the seventh embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the prior art of FIG.
(1) The clocked inverter INV21 has the same configuration as that of the inverter 5a in FIG. 4B, and includes a PMOS transistor Q51, Q53, Q55 and NMOS transistors Q52, Q54, Q56. Replaced with. Here, the PMOS transistor Q53 is turned on by the data latch control signal L1LATB, and the NMOS transistor Q54 is turned on / off by the data latch control signal L1LAT. The PMOS transistor Q55 is connected in parallel to the PMOS transistor Q51, that is, the gate of the PMOS transistor Q55 is connected to the gate of the PMOS transistor Q51, the drain of the PMOS transistor Q55 is connected to the drain of the PMOS transistor Q51, and the PMOS transistor Q55. Are connected to the power supply voltage source VDD. Further, the NMOS transistor Q56 is connected in parallel to the NMOS transistor Q52, that is, the gate of the NMOS transistor Q56 is connected to the gate of the NMOS transistor Q52, the drain of the NMOS transistor Q56 is connected to the drain of the NMOS transistor Q52, and the NMOS transistor Q56. The source of is grounded.
(2) The clocked inverter INV22 has a configuration similar to that of the inverter 5a of FIG. 4B, and is configured by including PMOS transistors Q61, Q63, Q65 and NMOS transistors Q62, Q64, Q66. Replaced with. Here, the PMOS transistor Q63 is turned on by the data sense control signal L1SENB, and the NMOS transistor Q64 is turned on / off by the data sense control signal L1SEN. The PMOS transistor Q65 is connected in parallel to the PMOS transistor Q61, that is, the gate of the PMOS transistor Q65 is connected to the gate of the PMOS transistor Q61, the drain of the PMOS transistor Q65 is connected to the drain of the PMOS transistor Q61, and the PMOS transistor Q65. Are connected to the power supply voltage source VDD. Further, the NMOS transistor Q66 is connected in parallel to the NMOS transistor Q62, that is, the gate of the NMOS transistor Q66 is connected to the gate of the NMOS transistor Q62, the drain of the NMOS transistor Q66 is connected to the drain of the NMOS transistor Q62, and the NMOS transistor Q66. The source of is grounded.
(3) The driver circuit 10a includes NAND gates NAND1 and NAND2 and NOR gates NOR1 and NOR2. The NAND gate NAND1 generates a data latch control signal L1LATB based on the busy signal BUSY and the data latch control signal L1LATBCTRL and outputs it to the gate of the PMOS transistor Q53. The NOR gate NOR1 generates a data sense control signal L1SEN based on the ready signal RDY and the data sense control signal L1SENCTRL, and outputs it to the gate of the NMOS transistor Q64. Further, the NOR gate NOR2 generates a data sense control signal L1LAT based on the ready signal RDY and the data latch control signal L1LATCTRL and outputs it to the gate of the NMOS transistor Q54. Furthermore, the NAND gate NAND2 generates a data sense control signal L1SENBCTRL based on the busy signal BUSY and the data sense control signal L1SENCTRL and outputs it to the gate of the PMOS transistor Q63.

図26は図9のラッチ回路L1bの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。図9及び図26から明らかなように、スタンバイモードにおいては、MOSトランジスタ対Q51,Q52の出力電圧及びMOSトランジスタ対Q61,Q62の出力電圧はフローティング状態となるが、これらの各後段に電圧保持用MOSトランジスタQ55,Q56,Q65,Q66を備えたので、スタンバイモードにおいて直前の電圧を保持して、アクティブモードになったときに、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。また、スタンバイモードのときに、ラッチ制御信号L1LATBによりPMOSトランジスタQ53がオフされ、ラッチ制御信号L1LATによりNMOSトランジスタQ54がオフされ、センス制御信号L1SENBによりPMOSトランジスタQ63がオフされ、センス制御信号L1SENによりNMOSトランジスタQ64がオフされることにより、各クロックトインバータINV21b,INV22bに流れるリーク電流を軽減できる。   FIG. 26 is a diagram showing the operation of the latch circuit L1b of FIG. 9, and is a timing chart showing changes in each control signal. As is apparent from FIGS. 9 and 26, in the standby mode, the output voltage of the MOS transistor pair Q51, Q52 and the output voltage of the MOS transistor pair Q61, Q62 are in a floating state, Since the MOS transistors Q55, Q56, Q65, and Q66 are provided, the immediately preceding voltage is held in the standby mode, and when the active mode is entered, the output voltage is immediately changed from the held voltage to a predetermined appropriate voltage. be able to. In the standby mode, the PMOS transistor Q53 is turned off by the latch control signal L1LATB, the NMOS transistor Q54 is turned off by the latch control signal L1LAT, the PMOS transistor Q63 is turned off by the sense control signal L1SENB, and the NMOS transistor is turned on by the sense control signal L1SEN. By turning off the transistor Q64, it is possible to reduce the leakage current flowing through each clocked inverter INV21b, INV22b.

第8の実施形態.
図10は第8の実施形態に係るラッチ回路L2aとドライバ回路10bの構成を示す回路図である。
Eighth embodiment.
FIG. 10 is a circuit diagram showing configurations of the latch circuit L2a and the driver circuit 10b according to the eighth embodiment.

図10において、第8の実施形態に係るラッチ回路L2aは、図7の従来技術に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)クロックトインバータINV23を、図4(b)のインバータ5aと同様の構成を有し、PMOSトランジスタQ71,Q73,Q75及びNMOSトランジスタQ72,Q74,Q76を備えて構成されるクロックトインバータINV23aに置き換えた。なお、コラム選択信号CSLにより制御されるNMOSトランジスタQ106,Q107をそれぞれ低しきい値NMOSトランジスタQ106a,Q107aに置き換えた。ここで、PMOSトランジスタQ73はデータラッチ制御信号L2LATBによりオンされ、NMOSトランジスタQ74はデータラッチ制御信号L2LATによりオン・オフされる。また、PMOSトランジスタQ75はPMOSトランジスタQ71に並列に接続され、すなわち、PMOSトランジスタQ75のゲートはPMOSトランジスタQ71のゲートに接続され、PMOSトランジスタQ75のドレインはPMOSトランジスタQ71のドレインに接続され、PMOSトランジスタQ75のソースは電源電圧源VDDに接続される。さらに、NMOSトランジスタQ76はNMOSトランジスタQ72に並列に接続され、すなわち、NMOSトランジスタQ76のゲートはNMOSトランジスタQ72のゲートに接続され、NMOSトランジスタQ76のドレインはNMOSトランジスタQ72のドレインに接続され、NMOSトランジスタQ76のソースは接地される。
(2)クロックトインバータINV24を、図4(b)のインバータ5aと同様の構成を有し、PMOSトランジスタQ81,Q83,Q85及びNMOSトランジスタQ82,Q84,Q86を備えて構成されるクロックトインバータINV24aに置き換えた。ここで、PMOSトランジスタQ83はデータセンス制御信号L2SENBによりオンされ、NMOSトランジスタQ84はデータセンス制御信号L2SENによりオン・オフされる。また、PMOSトランジスタQ85はPMOSトランジスタQ81に並列に接続され、すなわち、PMOSトランジスタQ85のゲートはPMOSトランジスタQ81のゲートに接続され、PMOSトランジスタQ85のドレインはPMOSトランジスタQ81のドレインに接続され、PMOSトランジスタQ85のソースは電源電圧源VDDに接続される。さらに、NMOSトランジスタQ86はNMOSトランジスタQ82に並列に接続され、すなわち、NMOSトランジスタQ86のゲートはNMOSトランジスタQ82のゲートに接続され、NMOSトランジスタQ86のドレインはNMOSトランジスタQ82のドレインに接続され、NMOSトランジスタQ86のソースは接地される。
(3)ドライバ回路10bはナンドゲートNAND3,NAND4及びノアゲートNOR3,NOR4を含む。ナンドゲートNAND3は、ビジー信号BUSYとチップイネーブル信号CEとデータラッチ制御信号L2LATBCTRLに基づいてデータラッチ制御信号L2LATBを発生してPMOSトランジスタQ73のゲートに出力する。また、ノアゲートNOR3は、レディ信号RDYとチップイネーブル信号の反転信号CEBとデータラッチ制御信号L2LATCTRLに基づいてデータラッチ制御信号L2LATを発生してNMOSトランジスタQ74のゲートに出力する。さらに、ナンドゲートNAND4は、ビジー信号BUSYとチップイネーブル信号CEとデータセンス制御信号L2SENBCTRLに基づいてデータセンス制御信号L2SENBを発生してPMOSトランジスタQ83のゲートに出力する。また、ノアゲートNOR4は、レディ信号RDYとチップイネーブル信号の反転信号CEBとデータセンス制御信号L2SENCTRLに基づいてデータセンス制御信号L2SENを発生してNMOSトランジスタQ84のゲートに出力する。
In FIG. 10, the latch circuit L2a according to the eighth embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the prior art of FIG.
(1) The clocked inverter INV23 has the same configuration as that of the inverter 5a in FIG. 4B, and includes a PMOS transistor Q71, Q73, Q75 and NMOS transistors Q72, Q74, Q76. Replaced with. The NMOS transistors Q106 and Q107 controlled by the column selection signal CSL are replaced with low threshold NMOS transistors Q106a and Q107a, respectively. Here, the PMOS transistor Q73 is turned on by the data latch control signal L2LATB, and the NMOS transistor Q74 is turned on / off by the data latch control signal L2LAT. The PMOS transistor Q75 is connected in parallel to the PMOS transistor Q71, that is, the gate of the PMOS transistor Q75 is connected to the gate of the PMOS transistor Q71, the drain of the PMOS transistor Q75 is connected to the drain of the PMOS transistor Q71, and the PMOS transistor Q75. Are connected to the power supply voltage source VDD. Further, the NMOS transistor Q76 is connected in parallel to the NMOS transistor Q72, that is, the gate of the NMOS transistor Q76 is connected to the gate of the NMOS transistor Q72, the drain of the NMOS transistor Q76 is connected to the drain of the NMOS transistor Q72, and the NMOS transistor Q76. The source of is grounded.
(2) The clocked inverter INV24 has the same configuration as that of the inverter 5a in FIG. 4B, and includes a PMOS transistor Q81, Q83, Q85 and NMOS transistors Q82, Q84, Q86. Replaced with. Here, the PMOS transistor Q83 is turned on by the data sense control signal L2SENB, and the NMOS transistor Q84 is turned on / off by the data sense control signal L2SEN. The PMOS transistor Q85 is connected in parallel to the PMOS transistor Q81, that is, the gate of the PMOS transistor Q85 is connected to the gate of the PMOS transistor Q81, the drain of the PMOS transistor Q85 is connected to the drain of the PMOS transistor Q81, and the PMOS transistor Q85. Are connected to the power supply voltage source VDD. Further, the NMOS transistor Q86 is connected in parallel to the NMOS transistor Q82, that is, the gate of the NMOS transistor Q86 is connected to the gate of the NMOS transistor Q82, the drain of the NMOS transistor Q86 is connected to the drain of the NMOS transistor Q82, and the NMOS transistor Q86. The source of is grounded.
(3) The driver circuit 10b includes NAND gates NAND3 and NAND4 and NOR gates NOR3 and NOR4. The NAND gate NAND3 generates a data latch control signal L2LATB based on the busy signal BUSY, the chip enable signal CE, and the data latch control signal L2LATBCTRL and outputs the data latch control signal L2LATB to the gate of the PMOS transistor Q73. The NOR gate NOR3 generates a data latch control signal L2LAT based on the ready signal RDY, the inverted signal CEB of the chip enable signal, and the data latch control signal L2LATCTRL, and outputs it to the gate of the NMOS transistor Q74. Further, the NAND gate NAND4 generates a data sense control signal L2SENB based on the busy signal BUSY, the chip enable signal CE, and the data sense control signal L2SENBCTRL, and outputs it to the gate of the PMOS transistor Q83. The NOR gate NOR4 generates the data sense control signal L2SEN based on the ready signal RDY, the inverted signal CEB of the chip enable signal, and the data sense control signal L2SENCTRL, and outputs the data sense control signal L2SEN to the gate of the NMOS transistor Q84.

図29は図10のラッチ回路L2aの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。図10及び図29から明らかなように、スタンバイモードにおいては、MOSトランジスタ対Q71,Q72の出力電圧及びMOSトランジスタ対Q81,Q82の出力電圧はフローティング状態となるが、これらの各後段に電圧保持用MOSトランジスタQ75,Q76,Q85,Q86を備えたので、スタンバイモードにおいて直前の電圧を保持して、アクティブモードになったときに、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。また、スタンバイモードのときに、ラッチ制御信号L2LATBによりPMOSトランジスタQ73がオフされ、ラッチ制御信号L2LATによりNMOSトランジスタQ74がオフされ、センス制御信号L2SENBによりPMOSトランジスタQ83がオフされ、センス制御信号L2SENによりNMOSトランジスタQ84がオフされることにより、各クロックトインバータINV23b,INV24bに流れるリーク電流を軽減できる。   29 is a diagram showing the operation of the latch circuit L2a of FIG. 10, and is a timing chart showing changes in the control signals. As is apparent from FIGS. 10 and 29, in the standby mode, the output voltages of the MOS transistor pair Q71 and Q72 and the output voltage of the MOS transistor pair Q81 and Q82 are in a floating state. Since the MOS transistors Q75, Q76, Q85, and Q86 are provided, the immediately preceding voltage is held in the standby mode, and when the active mode is entered, the output voltage is immediately changed from the held voltage to a predetermined appropriate voltage. be able to. In the standby mode, the PMOS transistor Q73 is turned off by the latch control signal L2LATB, the NMOS transistor Q74 is turned off by the latch control signal L2LAT, the PMOS transistor Q83 is turned off by the sense control signal L2SENB, and the NMOS transistor is turned on by the sense control signal L2SEN. By turning off the transistor Q84, it is possible to reduce a leakage current flowing through each of the clocked inverters INV23b and INV24b.

第9の実施形態.
図11は第9の実施形態に係るラッチ回路L2bとドライバ回路10bの構成を示す回路図である。
Ninth embodiment.
FIG. 11 is a circuit diagram showing configurations of the latch circuit L2b and the driver circuit 10b according to the ninth embodiment.

図11において、第9の実施形態に係るラッチ回路L2bとドライバ回路10bは、図10の第8の実施形態に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)クロックトインバータINV23aをクロックトインバータINV23bに置き換え、具体的には、低しきい値NMOSトランジスタQ72を高しきい値NMOSトランジスタQ72zに置き換え、NMOSトランジスタQ76を削除した。
(2)クロックトインバータINV24aをクロックトインバータINV24bに置き換え、具体的には、低しきい値NMOSトランジスタQ82を高しきい値NMOSトランジスタQ82zに置き換え、NMOSトランジスタQ86を削除した。
In FIG. 11, the latch circuit L2b and the driver circuit 10b according to the ninth embodiment are characterized by being configured as follows compared to the eighth embodiment of FIG.
(1) The clocked inverter INV23a is replaced with the clocked inverter INV23b. Specifically, the low threshold NMOS transistor Q72 is replaced with the high threshold NMOS transistor Q72z, and the NMOS transistor Q76 is deleted.
(2) The clocked inverter INV24a is replaced with the clocked inverter INV24b. Specifically, the low threshold NMOS transistor Q82 is replaced with the high threshold NMOS transistor Q82z, and the NMOS transistor Q86 is deleted.

図30は図11のラッチ回路L2bの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。図11及び図30から明らかなように、スタンバイモードにおいては、MOSトランジスタ対Q71の出力電圧及びMOSトランジスタ対Q81の出力電圧はフローティング状態となるが、これらの各後段に電圧保持用MOSトランジスタQ75,Q85を備えたので、スタンバイモードにおいて直前の電圧を保持して、アクティブモードになったときに、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。また、スタンバイモードのときに、ラッチ制御信号L2LATBによりPMOSトランジスタQ73がオフされ、センス制御信号L2SENBによりPMOSトランジスタQ83がオフされることにより、各クロックトインバータINV23b,INV24bに流れるリーク電流を軽減できる。   FIG. 30 shows the operation of the latch circuit L2b of FIG. 11, and is a timing chart showing changes in each control signal. As is apparent from FIGS. 11 and 30, in the standby mode, the output voltage of the MOS transistor pair Q71 and the output voltage of the MOS transistor pair Q81 are in a floating state, but the voltage holding MOS transistor Q75, Since Q85 is provided, the immediately preceding voltage can be held in the standby mode, and when the active mode is entered, the output voltage can be immediately changed from the held voltage to a predetermined appropriate voltage. Further, in the standby mode, the PMOS transistor Q73 is turned off by the latch control signal L2LATB, and the PMOS transistor Q83 is turned off by the sense control signal L2SENB, thereby reducing the leakage current flowing through the clocked inverters INV23b and INV24b.

第10の実施形態.
図12Aは第10の実施形態に係るラッチ回路L1cの構成を示す回路図である。
Tenth embodiment.
FIG. 12A is a circuit diagram showing a configuration of a latch circuit L1c according to the tenth embodiment.

図12Aにおいて、第10の実施形態に係るラッチ回路L1cは、図8の第6の実施形態に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)クロックトインバータINV21aをクロックトインバータINV21cに置き換え、具体的には、低しきい値MOSトランジスタQ51,Q52を高しきい値MOSトランジスタQ51z,Q52zに置き換えた。
(2)クロックトインバータINV22aをクロックトインバータINV22cに置き換え、具体的には、高しきい値MOSトランジスタQ63,Q64を低しきい値NMOSトランジスタQ63a,Q64aに置き換えた。
(3)なお、本実施形態では、低しきい値NMOSトランジスタQ62,Q64aのオフ電流が、低しきい値PMOSトランジスタQ61,Q63aのオフ電流よりも十分に小さく(例えば、1/10〜1/1000以下であって、典型的には1/100以下である。)無視できる場合である。
In FIG. 12A, the latch circuit L1c according to the tenth embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the sixth embodiment of FIG.
(1) The clocked inverter INV21a is replaced with a clocked inverter INV21c. Specifically, the low threshold MOS transistors Q51 and Q52 are replaced with high threshold MOS transistors Q51z and Q52z.
(2) The clocked inverter INV22a is replaced with a clocked inverter INV22c. Specifically, the high threshold MOS transistors Q63 and Q64 are replaced with low threshold NMOS transistors Q63a and Q64a.
(3) In this embodiment, the off currents of the low threshold NMOS transistors Q62 and Q64a are sufficiently smaller than the off currents of the low threshold PMOS transistors Q61 and Q63a (for example, 1/10 to 1 / 1000 or less, typically 1/100 or less.) This is a case that can be ignored.

図27Aは図12Aのラッチ回路L1cの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。図12A及び図27Aから明らかなように、レディ信号RDYがハイレベルであるスタンバイモードのときは、ラインL1BLBはハイレベルに制御されかつラインL1BLはローレベルに制御されるのでリーク電流は軽減される。本実施形態では、クロックトインバータINV21c及びクロックトインバータINV22cをループ状で互いに縦続接続しているので、各出力電圧を保持することができる。   FIG. 27A is a diagram showing the operation of the latch circuit L1c in FIG. 12A, and is a timing chart showing changes in each control signal. As apparent from FIGS. 12A and 27A, in the standby mode in which the ready signal RDY is at the high level, the line L1BLB is controlled to the high level and the line L1BL is controlled to the low level, so that the leakage current is reduced. . In the present embodiment, since the clocked inverter INV21c and the clocked inverter INV22c are connected to each other in a loop shape, each output voltage can be held.

第10の実施形態の変形例.
図12Bは第10の実施形態の変形例に係るラッチ回路L1caの構成を示す回路図である。
Modified example of the tenth embodiment.
FIG. 12B is a circuit diagram showing a configuration of a latch circuit L1ca according to a modification of the tenth embodiment.

図12Bにおいて、第10の実施形態の変形例に係るラッチ回路L1caは、図12Aの第10の実施形態に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)図12Aにおける高しきい値PMOSトランジスタQ53,Q51z及び高しきい値NMOSトランジスタQ52z,Q54を備えて構成されるクロックトインバータINV21cを、低しきい値PMOSトランジスタQ53a,Q51及び低しきい値NMOSトランジスタQ52,Q54aを備えて構成されるクロックトインバータINV21caに置き換えた。
(2)図12Aにおける低しきい値PMOSトランジスタQ63a,Q61及び低しきい値NMOSトランジスタQ62,Q64aを備えて構成されるクロックトインバータINV22cを、高しきい値PMOSトランジスタQ63,Q61z及び高しきい値NMOSトランジスタQ62z,Q64を備えて構成されるクロックトインバータINV22caに置き換えた。
In FIG. 12B, the latch circuit L1ca according to the modification of the tenth embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the tenth embodiment of FIG. 12A.
(1) The clocked inverter INV21c including the high threshold PMOS transistors Q53 and Q51z and the high threshold NMOS transistors Q52z and Q54 in FIG. 12A is replaced with the low threshold PMOS transistors Q53a and Q51 and the low threshold. The clocked inverter INV21ca constituted by including the value NMOS transistors Q52 and Q54a was replaced.
(2) The clocked inverter INV22c including the low threshold PMOS transistors Q63a and Q61 and the low threshold NMOS transistors Q62 and Q64a in FIG. 12A is replaced with the high threshold PMOS transistors Q63 and Q61z and the high threshold. The clocked inverter INV22ca constituted by including the value NMOS transistors Q62z and Q64 was replaced.

図27Bは図12Bのラッチ回路L1caの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。図12B及び図27Bから明らかなように、レディ信号RDYがハイレベルであるスタンバイモードのときは、ラインL1BLBはローレベルに制御されかつラインL1BLはハイレベルに制御されるのでリーク電流は軽減される。本変形例では、クロックトインバータINV21ca及びクロックトインバータINV22caをループ状で互いに縦続接続しているので、各出力電圧を保持することができる。   FIG. 27B is a diagram showing the operation of the latch circuit L1ca in FIG. 12B, and is a timing chart showing changes in each control signal. As apparent from FIGS. 12B and 27B, in the standby mode in which the ready signal RDY is at the high level, the line L1BLB is controlled to the low level and the line L1BL is controlled to the high level, so that the leakage current is reduced. . In the present modification, the clocked inverter INV21ca and the clocked inverter INV22ca are connected in cascade with each other, so that each output voltage can be held.

第11の実施形態.
図13は第11の実施形態に係るラッチ回路L1dの構成を示す回路図である。
Eleventh embodiment.
FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of the latch circuit L1d according to the eleventh embodiment.

図13において、第11の実施形態に係るラッチ回路L1dは、図12Aの第10の実施形態に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)低しきい値PMOSトランジスタQ63aのソースは、データセンス制御信号SENSEBよりオンとされる高しきい値PMOSトランジスタQ67を介して電源電圧源VDDに接続される。
(2)低しきい値PMOSトランジスタQ63aのソースは、ラインL1BLの電圧より制御される高しきい値PMOSトランジスタQ68を介して電源電圧源VDDに接続される。
(3)なお、本実施形態では、低しきい値NMOSトランジスタQ62,Q64aのオフ電流が、低しきい値PMOSトランジスタQ61,Q63aのオフ電流よりも十分に小さく(例えば、1/10〜1/1000以下であって、典型的には1/100以下である。)無視できる場合である。
In FIG. 13, the latch circuit L1d according to the eleventh embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the tenth embodiment of FIG. 12A.
(1) The source of the low threshold PMOS transistor Q63a is connected to the power supply voltage source VDD via the high threshold PMOS transistor Q67 which is turned on by the data sense control signal SENSEB.
(2) The source of the low threshold PMOS transistor Q63a is connected to the power supply voltage source VDD via the high threshold PMOS transistor Q68 controlled by the voltage of the line L1BL.
(3) In this embodiment, the off currents of the low threshold NMOS transistors Q62 and Q64a are sufficiently smaller than the off currents of the low threshold PMOS transistors Q61 and Q63a (for example, 1/10 to 1 / 1000 or less, typically 1/100 or less.) This is a case that can be ignored.

図28は図13のラッチ回路L1dの動作を示す図であって、各制御信号の変化を示すタイミングチャートである。なお、図28において、VBLは、ビットライン電圧又はビットライン電圧を一次増幅した電圧である。図13及び図28から明らかなように、データセンス制御信号SENSEBはデータセンス中はローレベルになり、ラッチ時はハイレベルになり、ラッチ中のPMOSトランジスタ63a,Q61のオフ電流を軽減できる。本実施形態では、クロックトインバータINV21c及びクロックトインバータINV22dをループ状で互いに縦続接続しているので、各出力電圧を保持することができる。   FIG. 28 shows the operation of the latch circuit L1d in FIG. 13, and is a timing chart showing changes in the control signals. In FIG. 28, VBL is a bit line voltage or a voltage obtained by primary amplification of the bit line voltage. As is apparent from FIGS. 13 and 28, the data sense control signal SENSEB is at a low level during data sensing and is at a high level during latching, and the off currents of the PMOS transistors 63a and Q61 in the latch can be reduced. In the present embodiment, since the clocked inverter INV21c and the clocked inverter INV22d are connected in cascade with each other in a loop, each output voltage can be held.

第12の実施形態.
図14(a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、図14(b)は第12の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。
Twelfth embodiment.
FIG. 14A is a circuit diagram showing the configuration of an inverter circuit according to the prior art, and FIG. 14B is a circuit diagram showing the configuration of the inverter circuit according to the twelfth embodiment.

図14(a)において、入力端子T1と出力端子T2との間に、PMOSトランジスタQ111及びNMOSトランジスタQ112からなるインバータINV31と、PMOSトランジスタQ113及びNMOSトランジスタQ114からなるインバータINV32とが縦続接続されて構成される。   In FIG. 14A, an inverter INV31 including a PMOS transistor Q111 and an NMOS transistor Q112 and an inverter INV32 including a PMOS transistor Q113 and an NMOS transistor Q114 are connected in cascade between an input terminal T1 and an output terminal T2. Is done.

図14(b)において、第12の実施形態に係るインバータ回路は、図14(a)の従来技術に係るインバータ回路に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)インバータINV31をインバータINV31aに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ111を低しきい値PMOSトランジスタQ111aに置き換え、NMOSトランジスタQ112を低しきい値NMOSトランジスタQ112aに置き換え、NMOSトランジスタQ112aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされる高しきい値NMOSトランジスタQ115を挿入した。また、NMOSトランジスタQ112aと並列に、電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ116を接続した。すなわち、NMOSトランジスタQ116のゲートはNMOSトランジスタQ112aのゲートに接続され、NMOSトランジスタQ116のドレインはNMOSトランジスタQ112aのドレインに接続されるが、NMOSトランジスタQ116のソースは接地される。
(2)インバータINV32をインバータINV32aに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ113を低しきい値PMOSトランジスタQ113aに置き換え、NMOSトランジスタQ114を低しきい値NMOSトランジスタQ114aに置き換え、NMOSトランジスタQ114aと接地端子との間に、チップイネーブル信号CEに応答してオン・オフされる高しきい値NMOSトランジスタQ117を挿入した。また、NMOSトランジスタQ114aと並列に、電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ118を接続した。すなわち、NMOSトランジスタQ118のゲートはNMOSトランジスタQ114aのゲートに接続され、NMOSトランジスタQ118のドレインはNMOSトランジスタQ114aのドレインに接続されるが、NMOSトランジスタQ118のソースは接地される。
(3)なお、本実施形態では、低しきい値PMOSトランジスタQ111a,Q113aのオフ電流が、低しきい値NMOSトランジスタQ112a,Q114aのオフ電流よりも十分に小さく(例えば、1/10〜1/1000以下であって、典型的には1/100以下である。)無視できる場合である。
In FIG. 14B, the inverter circuit according to the twelfth embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the inverter circuit according to the prior art of FIG.
(1) The inverter INV31 is replaced with an inverter INV31a, specifically, the PMOS transistor Q111 is replaced with a low threshold PMOS transistor Q111a, the NMOS transistor Q112 is replaced with a low threshold NMOS transistor Q112a, and the NMOS transistor Q112a and the ground terminal A high-threshold NMOS transistor Q115 that is turned on / off in response to the chip enable signal CE is inserted. A voltage holding high threshold NMOS transistor Q116 is connected in parallel with the NMOS transistor Q112a. That is, the gate of the NMOS transistor Q116 is connected to the gate of the NMOS transistor Q112a, the drain of the NMOS transistor Q116 is connected to the drain of the NMOS transistor Q112a, and the source of the NMOS transistor Q116 is grounded.
(2) The inverter INV32 is replaced with the inverter INV32a, specifically, the PMOS transistor Q113 is replaced with the low threshold PMOS transistor Q113a, the NMOS transistor Q114 is replaced with the low threshold NMOS transistor Q114a, and the NMOS transistor Q114a and the ground terminal A high-threshold NMOS transistor Q117 that is turned on / off in response to the chip enable signal CE is inserted. A voltage holding high threshold NMOS transistor Q118 is connected in parallel with the NMOS transistor Q114a. That is, the gate of the NMOS transistor Q118 is connected to the gate of the NMOS transistor Q114a, the drain of the NMOS transistor Q118 is connected to the drain of the NMOS transistor Q114a, but the source of the NMOS transistor Q118 is grounded.
(3) In this embodiment, the off current of the low threshold PMOS transistors Q111a and Q113a is sufficiently smaller than the off current of the low threshold NMOS transistors Q112a and Q114a (for example, 1/10 to 1 / 1000 or less, typically 1/100 or less.) This is a case that can be ignored.

本実施形態では、図2のインバータINV1aと比較して、接地側のみ、チップイネーブル信号CEによる電源制御を行うことによりリーク電流を軽減するとともに、接地側のNMOSトランジスタQ112a,Q114aのみにそれぞれ電圧保持用高しきい値NMOSトランジスタQ116,Q118を接続したことを特徴としている。このように構成しても、各インバータINV31a,INV32aの各出力電圧について、スタンバイモードにおいて直前の電圧を保持して、アクティブモードになったときに、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。   In the present embodiment, as compared with the inverter INV1a of FIG. 2, the leakage current is reduced by controlling the power supply by the chip enable signal CE only on the ground side, and the voltages are held only in the NMOS transistors Q112a and Q114a on the ground side. It is characterized in that high threshold NMOS transistors Q116 and Q118 are connected. Even with this configuration, the output voltage of each of the inverters INV31a and INV32a is held at the immediately preceding voltage in the standby mode, and when the active mode is entered, the output voltage is immediately set to the predetermined voltage from the held voltage. It can be changed to an appropriate voltage.

第13の実施形態.
図15(a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、図15(b)は第13の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。図15(a)のインバータ回路は図14(a)と同一の回路である。
Thirteenth embodiment.
FIG. 15A is a circuit diagram showing a configuration of an inverter circuit according to the prior art, and FIG. 15B is a circuit diagram showing a configuration of an inverter circuit according to the thirteenth embodiment. The inverter circuit of FIG. 15A is the same circuit as FIG.

図15(b)において、第13の実施形態に係るインバータ回路は、図15(a)の従来技術に係るインバータ回路に比較して、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)インバータINV31をインバータINV31bに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ111を低しきい値PMOSトランジスタQ111aに置き換え、NMOSトランジスタQ112を低しきい値NMOSトランジスタQ112aに置き換え、PMOSトランジスタQ112aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされる高しきい値PMOSトランジスタQ121を挿入した。また、PMOSトランジスタQ111aと並列に、電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ122を接続した。すなわち、PMOSトランジスタQ122のゲートはPMOSトランジスタQ111aのゲートに接続され、PMOSトランジスタQ122のドレインはPMOSトランジスタQ111aのドレインに接続されるが、PMOSトランジスタQ122のソースは電源電圧源VDDに接続される。
(2)インバータINV32をインバータINV32bに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ113を低しきい値PMOSトランジスタQ113aに置き換え、NMOSトランジスタQ114を低しきい値NMOSトランジスタQ114aに置き換え、PMOSトランジスタQ113aと電源電圧源VDDとの間に、チップイネーブル信号の反転信号CEBに応答してオン・オフされる高しきい値PMOSトランジスタQ123を挿入した。また、PMOSトランジスタQ113aと並列に、電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ124を接続した。すなわち、PMOSトランジスタQ124のゲートはPMOSトランジスタQ113aのゲートに接続され、PMOSトランジスタQ124のドレインはPMOSトランジスタQ113aのドレインに接続されるが、PMOSトランジスタQ124のソースは電源電圧源VDDに接続される。
(3)なお、本実施形態では、低しきい値NMOSトランジスタQ112a,Q114aのオフ電流が、低しきい値PMOSトランジスタQ111a,Q113aのオフ電流よりも十分に小さく(例えば、1/10〜1/1000以下であって、典型的には1/100以下である。)無視できる場合である。
In FIG. 15B, the inverter circuit according to the thirteenth embodiment is characterized in that it is configured as follows compared to the inverter circuit according to the prior art of FIG.
(1) The inverter INV31 is replaced with the inverter INV31b. Specifically, the PMOS transistor Q111 is replaced with the low threshold PMOS transistor Q111a, the NMOS transistor Q112 is replaced with the low threshold NMOS transistor Q112a, and the PMOS transistor Q112a is connected to the power supply voltage. A high threshold PMOS transistor Q121 that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the source VDD and the source VDD. A voltage holding high threshold PMOS transistor Q122 is connected in parallel with the PMOS transistor Q111a. That is, the gate of the PMOS transistor Q122 is connected to the gate of the PMOS transistor Q111a, the drain of the PMOS transistor Q122 is connected to the drain of the PMOS transistor Q111a, and the source of the PMOS transistor Q122 is connected to the power supply voltage source VDD.
(2) The inverter INV32 is replaced with an inverter INV32b, specifically, the PMOS transistor Q113 is replaced with a low threshold PMOS transistor Q113a, the NMOS transistor Q114 is replaced with a low threshold NMOS transistor Q114a, and the PMOS transistor Q113a and the power supply voltage A high threshold PMOS transistor Q123 that is turned on / off in response to the inverted signal CEB of the chip enable signal is inserted between the source VDD and the source VDD. A voltage holding high threshold PMOS transistor Q124 is connected in parallel with the PMOS transistor Q113a. That is, the gate of the PMOS transistor Q124 is connected to the gate of the PMOS transistor Q113a, the drain of the PMOS transistor Q124 is connected to the drain of the PMOS transistor Q113a, and the source of the PMOS transistor Q124 is connected to the power supply voltage source VDD.
(3) In this embodiment, the off currents of the low threshold NMOS transistors Q112a and Q114a are sufficiently smaller than the off currents of the low threshold PMOS transistors Q111a and Q113a (for example, 1/10 to 1 / 1000 or less, typically 1/100 or less.) This is a case that can be ignored.

本実施形態では、図2のインバータINV1aと比較して、電源電圧源VDD側のみ、チップイネーブル信号の反転信号CEBによる電源制御を行うことによりリーク電流を軽減するとともに、電源電圧源VDD側のPMOSトランジスタQ111a,Q113aのみにそれぞれ電圧保持用高しきい値PMOSトランジスタQ122,Q124を接続したことを特徴としている。このように構成しても、各インバータINV31b,INV32bの各出力電圧について、スタンバイモードにおいて直前の電圧を保持して、アクティブモードになったときに、当該出力電圧を上記保持電圧からすぐに所定の適正電圧に変化させることができる。   In the present embodiment, compared with the inverter INV1a in FIG. 2, only the power supply voltage source VDD side performs power supply control by the inverted signal CEB of the chip enable signal, thereby reducing the leakage current and the PMOS on the power supply voltage source VDD side. Only the transistors Q111a and Q113a are connected to voltage holding high threshold PMOS transistors Q122 and Q124, respectively. Even with this configuration, the output voltage of each inverter INV31b, INV32b is held at the immediately preceding voltage in the standby mode, and when the active mode is entered, the output voltage is immediately set to the predetermined voltage from the held voltage. It can be changed to an appropriate voltage.

第14の実施形態.
図16A及び図16Bは第14の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、図17は図16のインバータ回路に用いる第1の仮想電源回路の構成を示す回路図であり、図18は図16のインバータ回路に用いる第2の仮想電源回路の構成を示す回路図である。なお、VSSは、接地側電圧源であって、接地端子等を含む。
Fourteenth embodiment.
16A and 16B are circuit diagrams showing the configuration of the inverter circuit according to the fourteenth embodiment, and FIG. 17 is a circuit diagram showing the configuration of the first virtual power supply circuit used in the inverter circuit of FIG. 18 is a circuit diagram showing a configuration of a second virtual power supply circuit used in the inverter circuit of FIG. Note that VSS is a ground side voltage source and includes a ground terminal and the like.

図16Aにおいて、4個のインバータINV41〜INV44が縦続接続され、インバータINV41,INV43に仮想電圧源Virtual VDD1,Virtual VSS1から電源供給され、インバータINV42,INV44に仮想電圧源Virtual VDD2,Virtual VSS2から電源供給される。また、4個のインバータINV45〜INV48が縦続接続され、インバータINV45,INV47に仮想電圧源Virtual VDD3,Virtual VSS3から電源供給され、インバータINV46,INV48に仮想電圧源Virtual VDD4,Virtual VSS4から電源供給される。   In FIG. 16A, four inverters INV41 to INV44 are connected in cascade, and the inverters INV41 and INV43 are supplied with power from the virtual voltage source Virtual VDD1, Virtual VSS1, and the inverters INV42 and INV44 are supplied with power from the virtual voltage source Virtual VDD2, Virtual VSS2. Is done. In addition, four inverters INV45 to INV48 are cascaded, power is supplied to the inverters INV45 and INV47 from the virtual voltage source Virtual VDD3 and Virtual VSS3, and power is supplied to the inverters INV46 and INV48 from the virtual voltage source Virtual VDD4 and Virtual VSS4. .

図16Bの回路は、図3(b)と同様の構成を有するナンドゲート回路と、その後段に接続され4個のインバータINV45〜INV48が縦続接続された回路とを備えて構成される。図16AのインバータINV44からの出力信号及びインバータINV48からの出力信号が当該ナンドゲート回路に入力される。ここで、インバータINV49,INV51に仮想電圧源Virtual VDD5,Virtual VSS5から電源供給され、インバータINV50,INV52に仮想電圧源Virtual VDD6,Virtual VSS6から電源供給される。   The circuit in FIG. 16B includes a NAND gate circuit having the same configuration as that in FIG. 3B and a circuit in which four inverters INV45 to INV48 are connected in cascade in the subsequent stage. The output signal from the inverter INV44 and the output signal from the inverter INV48 in FIG. 16A are input to the NAND gate circuit. Here, the inverters INV49 and INV51 are supplied with power from the virtual voltage source Virtual VDD5 and Virtual VSS5, and the inverters INV50 and INV52 are supplied with power from the virtual voltage source Virtual VDD6 and Virtual VSS6.

図17の第1の仮想電源回路においては、電源電圧源VDDは、チップイネーブル信号の反転信号CEBにより制御される高しきい値NMOSトランジスタQ141を介して仮想電圧源Virtual VDD1が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給されるとともに、チップイネーブル信号の反転信号CEBにより制御される高しきい値NMOSトランジスタQ142を介して仮想電圧源Virtual VDD2が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給され、以下、仮想電圧源Virtual VDD3〜Virtual VDD6について以下同様である。また、接地側電圧源VSSは、チップイネーブル信号CEにより制御される高しきい値NMOSトランジスタQ143を介して仮想電圧源Virtual VSS1が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給されるとともに、チップイネーブル信号CEにより制御される高しきい値NMOSトランジスタQ144を介して仮想電圧源Virtual VSS2が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給され、以下、仮想電圧源Virtual VSS3〜Virtual VSS6について以下同様である。   In the first virtual power supply circuit of FIG. 17, the power supply voltage source VDD is generated as a virtual voltage source Virtual VDD1 via a high threshold NMOS transistor Q141 controlled by an inverted signal CEB of the chip enable signal. 16B and the virtual voltage source Virtual VDD2 is generated through the high threshold NMOS transistor Q142 controlled by the inverted signal CEB of the chip enable signal and is supplied to the circuit of FIGS. 16A and 16B. The same applies to the virtual voltage sources Virtual VDD3 to Virtual VDD6. The ground-side voltage source VSS generates a virtual voltage source Virtual VSS1 via a high threshold NMOS transistor Q143 controlled by the chip enable signal CE and supplies power to the circuits of FIGS. 16A and 16B. A virtual voltage source Virtual VSS2 is generated through the high threshold NMOS transistor Q144 controlled by the chip enable signal CE and supplied to the circuits of FIGS. 16A and 16B. Hereinafter, the virtual voltage sources Virtual VSS3 to Virtual VSS6 will be described. The same applies hereinafter.

図18の第2の仮想電源回路(第1の仮想電源回路に代えて用いる。)において、ポンプ回路11は、例えば1.8Vである電源電圧源VDDの電圧を例えば3V程度のポンプ電圧にポンプした後、レベルシフタ回路12,13に出力する。レベルシフタ回路12は、チップイネーブル信号の反転信号CEB(例えば最大1.8V)を、ポンプ電圧を用いて、最大でポンプ電圧を有するチップイネーブル信号の反転信号HCEBを発生して、低しきい値PMOSトランジスタQ145,Q146の各ゲートに出力する。また、レベルシフタ回路13は、チップイネーブル信号CE(例えば最大1.8V)を、ポンプ電圧を用いて、最大でポンプ電圧を有するチップイネーブル信号CEを発生して、高しきい値NMOSトランジスタQ147,Q148の各ゲートに出力する。電源電圧源VDDは、チップイネーブル信号の反転信号HCEBにより制御される低しきい値PMOSトランジスタQ145を介して仮想電圧源Virtual VDD1が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給されるとともに、チップイネーブル信号の反転信号HCEBにより制御される低しきい値PMOSトランジスタQ146を介して仮想電圧源Virtual VDD2が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給され、以下、仮想電圧源Virtual VDD3〜Virtual VDD6について以下同様である。また、接地側電圧源VSSは、チップイネーブル信号HCEにより制御される高しきい値NMOSトランジスタQ147を介して仮想電圧源Virtual VSS1が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給されるとともに、チップイネーブル信号HCEにより制御される高しきい値NMOSトランジスタQ148を介して仮想電圧源Virtual VSS2が生成されて図16A及び図16Bの回路に電源供給され、以下、仮想電圧源Virtual VSS3〜Virtual VSS6について以下同様である。以上の第2の仮想電源回路においては、低しきい値PMOSトランジスタQ145,Q146においてもリーク電流を軽減することができる。   In the second virtual power supply circuit of FIG. 18 (used in place of the first virtual power supply circuit), the pump circuit 11 pumps the voltage of the power supply voltage source VDD, for example, 1.8V to a pump voltage of, for example, about 3V. After that, the data is output to the level shifter circuits 12 and 13. The level shifter circuit 12 generates a chip enable signal inverted signal HCEB having a maximum pump voltage by using an inverted signal CEB (for example, a maximum of 1.8V) of the chip enable signal and a pump voltage, and generates a low threshold PMOS. Output to the gates of transistors Q145 and Q146. The level shifter circuit 13 generates a chip enable signal CE having a maximum pump voltage by using a chip enable signal CE (for example, a maximum of 1.8 V) and a pump voltage, and generates high threshold NMOS transistors Q147 and Q148. Output to each gate. As the power supply voltage source VDD, a virtual voltage source Virtual VDD1 is generated through a low threshold PMOS transistor Q145 controlled by an inverted signal HCEB of the chip enable signal and supplied to the circuits of FIGS. 16A and 16B. A virtual voltage source Virtual VDD2 is generated via the low threshold PMOS transistor Q146 controlled by the inverted signal HCEB of the chip enable signal and is supplied to the circuits of FIGS. 16A and 16B. Hereinafter, the virtual voltage source Virtual VDD3 The same applies to Virtual VDD6. The ground-side voltage source VSS generates a virtual voltage source Virtual VSS1 via a high threshold NMOS transistor Q147 controlled by the chip enable signal HCE and supplies power to the circuits of FIGS. 16A and 16B. A virtual voltage source Virtual VSS2 is generated through the high threshold NMOS transistor Q148 controlled by the chip enable signal HCE and supplied to the circuits of FIGS. 16A and 16B. Hereinafter, the virtual voltage sources Virtual VSS3 to Virtual VSS6 will be described. The same applies hereinafter. In the second virtual power supply circuit described above, the leakage current can be reduced also in the low threshold PMOS transistors Q145 and Q146.

本実施形態では、図16A及び図16Bの回路において、第1又は第2の仮想電源回路を用いて、スタンバイモード時に、出力電圧の論理値が同じになる各インバータ回路に対する電源電圧源及び接地側電圧源を共通化することにより、半導体チップ全体のレイアウトが容易になり、チップ面積を軽減できるという利点がある。   In this embodiment, in the circuits of FIGS. 16A and 16B, the first or second virtual power supply circuit is used, and the power supply voltage source and the ground side for each inverter circuit having the same output voltage logical value in the standby mode. By sharing the voltage source, there is an advantage that the layout of the entire semiconductor chip becomes easy and the chip area can be reduced.

第15の実施形態.
図19は図2のインバータ回路の問題点を説明するための回路図であり、図20(a)は従来技術に係るインバータ回路の構成を示す回路図であり、図20(b)は第15の実施形態に係るインバータ回路の構成を示す回路図である。
Fifteenth embodiment.
FIG. 19 is a circuit diagram for explaining the problems of the inverter circuit of FIG. 2, FIG. 20 (a) is a circuit diagram showing the configuration of the inverter circuit according to the prior art, and FIG. It is a circuit diagram which shows the structure of the inverter circuit which concerns on this embodiment.

図19に示すように、スタンバイモード時において、入力端子T1がハイレベルとなり出力端子がローレベルとなったとき、オフ電流軽減用高しきい値PMOSトランジスタQ21と低しきい値PMOSトランジスタQ1aとの間のノードN1はオフ電流Idischによってディスチャージする一方、入力端子T1がローレベルとなり出力端子がハイレベルとなったとき、オフ電流軽減用高しきい値NMOSトランジスタQ22と低しきい値NMOSトランジスタQ2aとの間のノードN2はオフ電流によってチャージアップするために、スタンバイモードから復帰するときに電流を消費するという問題があった。   As shown in FIG. 19, in the standby mode, when the input terminal T1 is at the high level and the output terminal is at the low level, the off-current reducing high threshold PMOS transistor Q21 and the low threshold PMOS transistor Q1a While the node N1 is discharged by the off-current Idisch, when the input terminal T1 is low level and the output terminal is high level, the off-current reducing high threshold NMOS transistor Q22 and the low threshold NMOS transistor Q2a Since the node N2 is charged up by the off-current, there is a problem that current is consumed when returning from the standby mode.

この問題点を解決するために、図20(b)に示すように以下のごとく構成する。電源電圧源VDDと接地端子との間で、PMOSトランジスタQ1a、PMOSトランジスタQ21、NMOSトランジスタQ22、NMOSトランジスタQ2aの順で接続する。すなわち、図19(図2)と比較して、PMOSトランジスタQ21,Q1aの配置位置を入れ替え、NMOSトランジスタQ22,Q2aの配置位置を入れ替えたことを特徴としている。これにより、スタンバイモードから復帰するときの消費電流を軽減できる。当該構成方法は他の実施形態にも適用できる。   In order to solve this problem, the following configuration is provided as shown in FIG. The PMOS transistor Q1a, the PMOS transistor Q21, the NMOS transistor Q22, and the NMOS transistor Q2a are connected in this order between the power supply voltage source VDD and the ground terminal. That is, as compared with FIG. 19 (FIG. 2), the arrangement positions of the PMOS transistors Q21 and Q1a are exchanged, and the arrangement positions of the NMOS transistors Q22 and Q2a are exchanged. Thereby, current consumption when returning from the standby mode can be reduced. The configuration method can be applied to other embodiments.

第16の実施形態.
図21は第16の実施形態に係るラッチ回路L2aaとドライバ回路10bの構成を示す回路図である。
Sixteenth embodiment.
FIG. 21 is a circuit diagram showing configurations of the latch circuit L2aa and the driver circuit 10b according to the sixteenth embodiment.

図21において、第16の実施形態に係るラッチ回路L2aaは、図10の第8の実施形態に係るラッチ回路L2aに比較して、上記第15の実施形態の構成方法を適用し、以下のように構成したことを特徴としている。
(1)クロックトインバータINV23aをクロックトインバータINV23aaに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ73,Q71の配置位置を入れ替え、NMOSトランジスタQ72,Q74の配置位置を入れ替えた。
(2)クロックトインバータINV24aをクロックトインバータINV24aaに置き換え、具体的には、PMOSトランジスタQ83,Q81の配置位置を入れ替え、NMOSトランジスタQ82,Q84の配置位置を入れ替えた。
In FIG. 21, the latch circuit L2aa according to the sixteenth embodiment applies the configuration method of the fifteenth embodiment as compared with the latch circuit L2a according to the eighth embodiment of FIG. It is characterized by being configured.
(1) The clocked inverter INV23a is replaced with the clocked inverter INV23aa. Specifically, the arrangement positions of the PMOS transistors Q73 and Q71 are exchanged, and the arrangement positions of the NMOS transistors Q72 and Q74 are exchanged.
(2) The clocked inverter INV24a is replaced with the clocked inverter INV24aa. Specifically, the arrangement positions of the PMOS transistors Q83 and Q81 are exchanged, and the arrangement positions of the NMOS transistors Q82 and Q84 are exchanged.

以上のように構成することにより、スタンバイモードから復帰するときの消費電流を軽減できる。   With the above configuration, current consumption when returning from the standby mode can be reduced.

実施形態のまとめ
図22は従来技術に係るMTCMOS回路と、本発明に係る各実施形態の回路との比較結果を示す表である。図31は図16〜図18を除く第6〜第11及び第16の実施形態の動作を示す図であって、各制御信号、各素子の出力ノード及びラッチの内部電圧の変化を示すタイミングチャートである。また、図32は図16〜図18の第14の実施形態の動作を示す図であって、各制御信号及び各素子の出力ノードの変化を示すタイミングチャートである。なお、図32において、VDDHは、電源電圧源VDDの電圧よりもポンプアップされた高い電圧である。
Summary of Embodiments FIG. 22 is a table showing a comparison result between the MTCMOS circuit according to the prior art and the circuit according to each embodiment of the present invention. FIG. 31 is a diagram showing the operations of the sixth to eleventh and sixteenth embodiments excluding FIGS. 16 to 18, and is a timing chart showing changes in control signals, output nodes of the elements, and internal voltages of the latches. It is. FIG. 32 shows the operation of the fourteenth embodiment shown in FIGS. 16 to 18, and is a timing chart showing the change of each control signal and the output node of each element. In FIG. 32, VDDH is a higher voltage pumped up than the voltage of the power supply voltage source VDD.

図22、図31及び図32から明らかなように、本発明に係る実施形態によれば、スタンバイモードの各素子の出力電圧を、電源電圧源VDDの電圧又は接地側電圧源VSSの電圧、もしくは直前のアクティブモードの論理値を保持するように構成することにより、スタンバイモードからアクティブモードへの移行時における消費電流を大幅に軽減することができる。   As is apparent from FIGS. 22, 31, and 32, according to the embodiment of the present invention, the output voltage of each element in the standby mode is set to the voltage of the power supply voltage source VDD or the voltage of the ground side voltage source VSS, or By configuring so as to hold the logical value of the immediately preceding active mode, it is possible to significantly reduce the current consumption during the transition from the standby mode to the active mode.

図14の第12の実施形態の回路において、第16の実施形態を適用するときは、図17の上側の回路又は図18の右上側の回路のみを用いてもよい。   In the circuit of the twelfth embodiment of FIG. 14, when the sixteenth embodiment is applied, only the upper circuit of FIG. 17 or the upper right circuit of FIG. 18 may be used.

図15の第13の実施形態の回路において、第16の実施形態を適用するときは、図17の下側の回路又は図18の右下側の回路のみを用いてもよい。   In the circuit of the thirteenth embodiment shown in FIG. 15, when the sixteenth embodiment is applied, only the lower circuit of FIG. 17 or the lower right circuit of FIG. 18 may be used.

本発明に係る半導体デバイス回路によれば、第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、アクティブモード時に上記第1のPMOSトランジスタを電源電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のPMOSトランジスタを上記電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSトランジスタと、アクティブモード時に上記第1のNMOSトランジスタを接地側電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のNMOSトランジスタを上記接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSトランジスタと、所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記電源電圧源に接続されかつ上記第1のPMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のPMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のPMOSトランジスタと、所定の第2のしきい値絶対値電圧を有し、上記接地側電圧源に接続されかつ上記第1のNMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のNMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のNMOSトランジスタとを備え、上記第1のPMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第3のしきい値絶対値電圧を有するように構成され、上記第1のNMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第2のしきい値絶対値電圧よりも低い第4のしきい値絶対値電圧を有するように構成した。従って、上記第3のPMOSトランジスタ及び上記第3のNMOSトランジスタによりスタンバイモードに入る直前の出力信号を保持するので、スタンバイモードからアクティブモードに復帰したときにすぐに元の信号レベルにすぐに復帰することができ、MTCMOS回路を用いた半導体デバイス回路において、アクセススピードを損なわず、スタンバイ電流が少なく、かつスタンバイ状態からの復帰が早い半導体デバイス回路を提供することができる。   According to the semiconductor device circuit of the present invention, in the semiconductor device circuit including the functional circuit including the first PMOS transistor and the first NMOS transistor, the first PMOS transistor is connected to the power supply voltage source in the active mode. However, the second PMOS transistor that controls the first PMOS transistor not to be connected to the power supply voltage source in the standby mode, and the first NMOS transistor is connected to the ground side voltage source in the active mode. A second NMOS transistor for controlling the first NMOS transistor not to be connected to the ground-side voltage source in a standby mode; a predetermined first threshold absolute value voltage; and connected to the power supply voltage source And connected in parallel to the first PMOS transistor, A third PMOS transistor for holding the output signal of the PMOS transistor, and a predetermined second threshold absolute value voltage, connected to the ground-side voltage source and connected in parallel to the first NMOS transistor And a third NMOS transistor that holds the output signal of the first NMOS transistor, and the threshold absolute value voltage of the first PMOS transistor is lower than the first threshold absolute value voltage. The fourth threshold absolute value voltage is configured to have a third threshold absolute value voltage, and the threshold absolute value voltage of the first NMOS transistor is lower than the second threshold absolute value voltage. It was configured to have a value voltage. Accordingly, since the output signal immediately before entering the standby mode is held by the third PMOS transistor and the third NMOS transistor, the original signal level is immediately restored when the standby mode is restored to the active mode. In addition, in a semiconductor device circuit using an MTCMOS circuit, it is possible to provide a semiconductor device circuit in which the access speed is not impaired, the standby current is small, and the recovery from the standby state is quick.

10〜10b…ドライバ回路、
INV1〜INV51…インバータ、
L1〜L1d,L2〜L2b,LA11…ラッチ回路、
NAND1〜NAND4…ナンドゲート、
NOR1〜NOR4…ノアゲート、
Q1〜Q148…MOSトランジスタ、
T1,T1a,T1b,T1A,T1B…入力端子、
T2…出力端子、
TG1〜TG14a…伝送ゲート。
10 to 10b ... driver circuit,
INV1 to INV51 ... inverter,
L1 to L1d, L2 to L2b, LA11... Latch circuit,
NAND1 to NAND4 ... NAND gate,
NOR1 to NOR4: NOR gate,
Q1-Q148 ... MOS transistors,
T1, T1a, T1b, T1A, T1B ... input terminals,
T2: Output terminal,
TG1 to TG14a: Transmission gate.

Claims (13)

第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、
アクティブモード時に上記第1のPMOSトランジスタを電源電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のPMOSトランジスタを上記電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSトランジスタと、
アクティブモード時に上記第1のNMOSトランジスタを接地側電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のNMOSトランジスタを上記接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSトランジスタと、
所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記電源電圧源に接続されかつ上記第1のPMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のPMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のPMOSトランジスタと、
所定の第2のしきい値絶対値電圧を有し、上記接地側電圧源に接続されかつ上記第1のNMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のNMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のNMOSトランジスタとを備え、
上記第1のPMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第3のしきい値絶対値電圧を有するように構成され、上記第1のNMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第2のしきい値絶対値電圧よりも低い第4のしきい値絶対値電圧を有するように構成されたことを特徴とする半導体デバイス回路。
In a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOS transistor and a first NMOS transistor,
A second PMOS transistor for controlling the first PMOS transistor to be connected to the power supply voltage source in the active mode, but not to connect the first PMOS transistor to the power supply voltage source in the standby mode;
A second NMOS transistor for controlling the first NMOS transistor to be connected to the ground side voltage source in the active mode, but not to connect the first NMOS transistor to the ground side voltage source in the standby mode;
A third first voltage having a predetermined first threshold absolute value voltage, connected to the power supply voltage source and connected in parallel to the first PMOS transistor, and holding an output signal of the first PMOS transistor; A PMOS transistor;
A third voltage having a predetermined second threshold absolute value voltage, connected to the ground-side voltage source and connected in parallel to the first NMOS transistor, and holding an output signal of the first NMOS transistor With NMOS transistors,
The threshold absolute value voltage of the first PMOS transistor is configured to have a third threshold absolute value voltage lower than the first threshold absolute value voltage. A semiconductor device circuit configured to have a fourth threshold absolute value voltage which is lower than the second threshold absolute value voltage.
第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、
アクティブモード時に上記第1のNMOSトランジスタを接地側電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のNMOSトランジスタを上記接地側電圧源に接続しないように制御する第2のNMOSトランジスタと、
所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記接地側電圧源に接続されかつ上記第1のNMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のNMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のNMOSトランジスタとを備え、
上記第1のNMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第2のしきい値絶対値電圧を有するように構成されたことを特徴とする半導体デバイス回路。
In a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOS transistor and a first NMOS transistor,
A second NMOS transistor for controlling the first NMOS transistor to be connected to the ground side voltage source in the active mode, but not to connect the first NMOS transistor to the ground side voltage source in the standby mode;
A third voltage having a predetermined first threshold absolute value voltage, connected to the ground-side voltage source and connected in parallel to the first NMOS transistor, and holding an output signal of the first NMOS transistor With NMOS transistors,
A semiconductor device characterized in that a threshold absolute value voltage of the first NMOS transistor has a second threshold absolute value voltage lower than the first threshold absolute value voltage. circuit.
第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジスタとを含む機能回路を備えた半導体デバイス回路において、
アクティブモード時に上記第1のPMOSトランジスタを電源電圧源に接続するが、スタンバイモード時に上記第1のPMOSトランジスタを上記電源電圧源に接続しないように制御する第2のPMOSトランジスタと、
所定の第1のしきい値絶対値電圧を有し、上記電源電圧源に接続されかつ上記第1のPMOSトランジスタに並列に接続され、上記第1のPMOSトランジスタの出力信号を保持する第3のPMOSトランジスタと備え、
上記第1のPMOSトランジスタのしきい値絶対値電圧を上記第1のしきい値絶対値電圧よりも低い第2のしきい値絶対値電圧を有するように構成されたことを特徴とする半導体デバイス回路。
In a semiconductor device circuit including a functional circuit including a first PMOS transistor and a first NMOS transistor,
A second PMOS transistor for controlling the first PMOS transistor to be connected to the power supply voltage source in the active mode, but not to connect the first PMOS transistor to the power supply voltage source in the standby mode;
A third first voltage having a predetermined first threshold absolute value voltage, connected to the power supply voltage source and connected in parallel to the first PMOS transistor, and holding an output signal of the first PMOS transistor; With PMOS transistor,
A semiconductor device characterized in that a threshold absolute value voltage of the first PMOS transistor has a second threshold absolute value voltage lower than the first threshold absolute value voltage. circuit.
上記第1のPMOSトランジスタは上記第2のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続され、
上記第1のNMOSトランジスタは上記第2のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする請求項1記載の半導体デバイス回路。
The first PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the second PMOS transistor,
2. The semiconductor device circuit according to claim 1, wherein the first NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source via the second NMOS transistor.
上記第1のNMOSトランジスタは上記第2のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする請求項2記載の半導体デバイス回路。   3. The semiconductor device circuit according to claim 2, wherein the first NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source through the second NMOS transistor. 上記第1のPMOSトランジスタは上記第2のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続されたことを特徴とする請求項3記載の半導体デバイス回路。   4. The semiconductor device circuit according to claim 3, wherein the first PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the second PMOS transistor. 上記第2のPMOSトランジスタは上記第1のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続され、
上記第2のNMOSトランジスタは上記第1のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする請求項1記載の半導体デバイス回路。
The second PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the first PMOS transistor,
2. The semiconductor device circuit according to claim 1, wherein the second NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source via the first NMOS transistor.
上記第2のNMOSトランジスタは上記第1のNMOSトランジスタを介して上記接地側電圧源に接続されたことを特徴とする請求項2記載の半導体デバイス回路。   3. The semiconductor device circuit according to claim 2, wherein the second NMOS transistor is connected to the ground-side voltage source via the first NMOS transistor. 上記第2のPMOSトランジスタは上記第1のPMOSトランジスタを介して上記電源電圧源に接続されたことを特徴とする請求項3記載の半導体デバイス回路。   4. The semiconductor device circuit according to claim 3, wherein the second PMOS transistor is connected to the power supply voltage source via the first PMOS transistor. 請求項1、4又は7記載の上記機能回路を複数備え、
上記複数の機能回路のうち出力信号の論理値が同一である機能回路に対して、上記第2のPMOSトランジスタ及び上記第2のNMOSトランジスタを共通に設けたことを特徴とする請求項1記載の半導体デバイス回路。
A plurality of the functional circuits according to claim 1, 4 or 7,
2. The second PMOS transistor and the second NMOS transistor are provided in common with respect to a functional circuit having the same logical value of an output signal among the plurality of functional circuits. Semiconductor device circuit.
請求項2、5又は8記載の上記機能回路を複数備え、
上記複数の機能回路のうち出力信号の論理値が同一である機能回路に対して、上記第2のNMOSトランジスタを共通に設けたことを特徴とする請求項2記載の半導体デバイス回路。
A plurality of the functional circuits according to claim 2, 5 or 8,
3. The semiconductor device circuit according to claim 2, wherein the second NMOS transistor is provided in common for the functional circuit having the same logical value of the output signal among the plurality of functional circuits.
請求項3、6又は9記載の上記機能回路を複数備え、
上記複数の機能回路のうち出力信号の論理値が同一である機能回路に対して、上記第2のPMOSトランジスタを共通に設けたことを特徴とする請求項3記載の半導体デバイス回路。
A plurality of the functional circuits according to claim 3, 6 or 9,
4. The semiconductor device circuit according to claim 3, wherein the second PMOS transistor is provided in common for the functional circuit having the same logical value of the output signal among the plurality of functional circuits.
上記機能回路は、インバータ回路、ゲート回路、マルチプレクサ、フリップフロップ回路、又はメモリ装置のラッチ回路であることを特徴とする請求項1乃至12のうちのいずれか1つに記載の半導体デバイス回路。   13. The semiconductor device circuit according to claim 1, wherein the functional circuit is an inverter circuit, a gate circuit, a multiplexer, a flip-flop circuit, or a latch circuit of a memory device.
JP2010179676A 2010-08-10 2010-08-10 Semiconductor device circuit Pending JP2012039520A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010179676A JP2012039520A (en) 2010-08-10 2010-08-10 Semiconductor device circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010179676A JP2012039520A (en) 2010-08-10 2010-08-10 Semiconductor device circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012039520A true JP2012039520A (en) 2012-02-23

Family

ID=45850976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010179676A Pending JP2012039520A (en) 2010-08-10 2010-08-10 Semiconductor device circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012039520A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6389937B1 (en) * 2017-08-29 2018-09-12 力晶科技股▲ふん▼有限公司 Power supply control circuit and logic circuit device provided with power supply control circuit
CN115060449A (en) * 2022-06-28 2022-09-16 重庆长安汽车股份有限公司 Method for preventing blank screen and system data loss caused by power supply falling
CN116859225A (en) * 2023-07-13 2023-10-10 中国电子科技集团公司第五十八研究所 A new type of low scanning power consumption scanning unit and scan chain

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0738417A (en) * 1993-07-15 1995-02-07 Nec Corp Cmos semiconductor integrated circuit
JP2001016093A (en) * 2000-01-01 2001-01-19 Hitachi Ltd Semiconductor circuit
JP2003249563A (en) * 2002-02-26 2003-09-05 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit
JP2005039334A (en) * 2003-07-15 2005-02-10 Univ Of Tokyo Semiconductor circuit to suppress subthreshold leakage current
JP2005323402A (en) * 2005-07-19 2005-11-17 Renesas Technology Corp Electronic apparatus
JP2006295439A (en) * 2005-04-08 2006-10-26 Elpida Memory Inc Logical gate and logic circuit
JP2009026134A (en) * 2007-07-20 2009-02-05 Sony Corp Voltage stabilization detection circuit and semiconductor integrated circuit

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0738417A (en) * 1993-07-15 1995-02-07 Nec Corp Cmos semiconductor integrated circuit
JP2001016093A (en) * 2000-01-01 2001-01-19 Hitachi Ltd Semiconductor circuit
JP2003249563A (en) * 2002-02-26 2003-09-05 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit
JP2005039334A (en) * 2003-07-15 2005-02-10 Univ Of Tokyo Semiconductor circuit to suppress subthreshold leakage current
JP2006295439A (en) * 2005-04-08 2006-10-26 Elpida Memory Inc Logical gate and logic circuit
JP2005323402A (en) * 2005-07-19 2005-11-17 Renesas Technology Corp Electronic apparatus
JP2009026134A (en) * 2007-07-20 2009-02-05 Sony Corp Voltage stabilization detection circuit and semiconductor integrated circuit

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6389937B1 (en) * 2017-08-29 2018-09-12 力晶科技股▲ふん▼有限公司 Power supply control circuit and logic circuit device provided with power supply control circuit
CN115060449A (en) * 2022-06-28 2022-09-16 重庆长安汽车股份有限公司 Method for preventing blank screen and system data loss caused by power supply falling
CN116859225A (en) * 2023-07-13 2023-10-10 中国电子科技集团公司第五十八研究所 A new type of low scanning power consumption scanning unit and scan chain

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10068641B2 (en) Semiconductor storage device
JP2008219491A (en) Master slave type flip-flop circuit and latch circuit
US8659316B2 (en) Power control circuit, semiconductor device including the same
KR100574488B1 (en) Level shifter
JPH06237164A (en) Semiconductor integrated circuit having power reduction mechanism and electronic device using same
US9553584B2 (en) Level-shifting latch
US7800426B2 (en) Two voltage input level shifter with switches for core power off application
JP2019146021A (en) Semiconductor device
JPH0786916A (en) Semiconductor integrated circuit
JP2013201524A (en) Level shift circuit and semiconductor device using the same
JP2012039520A (en) Semiconductor device circuit
US20170243634A1 (en) Semiconductor memory device including sram cells
US9098659B2 (en) Advanced array local clock buffer base block circuit
JP3071408B2 (en) Driving method of semiconductor integrated circuit and semiconductor integrated circuit
JP3567160B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US9997218B2 (en) Dual mode operation having power saving and active modes in a stacked circuit topology with logic preservation
JP3255159B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US7649385B2 (en) Logic with state retentive sleep mode
JP2014164777A (en) SRAM
JP2006140928A (en) Semiconductor device
JP2000101418A (en) Semiconductor integrated logic circuit and its control method
JP3255158B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH1197984A (en) Latch circuit
JP4813937B2 (en) Semiconductor device
JP5048535B2 (en) Sense amplifier circuit and semiconductor memory device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120531

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20120612

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20120612

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130621

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130625

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130726

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130813

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140128