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JP2012020530A - Recording layer for optical information-recording medium, optical information-recording medium, and sputtering target - Google Patents

Recording layer for optical information-recording medium, optical information-recording medium, and sputtering target Download PDF

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JP2012020530A
JP2012020530A JP2010161089A JP2010161089A JP2012020530A JP 2012020530 A JP2012020530 A JP 2012020530A JP 2010161089 A JP2010161089 A JP 2010161089A JP 2010161089 A JP2010161089 A JP 2010161089A JP 2012020530 A JP2012020530 A JP 2012020530A
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Yoko Shida
陽子 志田
Hironori Tauchi
裕基 田内
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recording layer for an optical informaiton-recording medium having excellent recording property, and to provide the optical information-recording medium including the recording layer and a sputtering target helpful to form the recording layer.SOLUTION: The recording layer where recording is conducted by irradiation of a laser light includes: an Ag oxide; and at least one kind of the oxide selected out of a group consisting of In oxide, Sn oxide and Zn oxide.

Description

本発明は、光情報記録媒体用の記録層、光情報記録媒体、および該記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットに関するものである。   The present invention relates to a recording layer for an optical information recording medium, an optical information recording medium, and a sputtering target useful for forming the recording layer.

光情報記録媒体(光ディスク)は、CD、DVD、BDといった光ディスクに代表され、記録再生方式により、再生専用型、追記型および書換え型の3種類に大別される。このうち追記型の光ディスクの記録方式は、主に、記録層を相変化させる相変化方式、複数の記録層を反応させる層間反応方式、記録層を構成する化合物を分解させる方式、記録層に孔やピットなどの記録マークを局所的に形成させる孔開け方式に大別される。   Optical information recording media (optical discs) are typified by optical discs such as CDs, DVDs, and BDs, and are roughly classified into three types according to recording and playback methods: read-only type, write once type, and rewritable type. Of these, the write-once type optical disc recording method mainly includes a phase change method for changing the phase of the recording layer, an interlayer reaction method for reacting a plurality of recording layers, a method for decomposing a compound constituting the recording layer, and a hole in the recording layer. It is roughly classified into a drilling method in which recording marks such as pits are locally formed.

前記相変化方式では、記録層の結晶化による光学特性の変化を利用した材料が、記録層の材料として提案されている。例えば特許文献1では、Te−O−M(Mは金属元素、半金属元素及び半導体元素から選ばれる少なくとも1種の元素)を含む記録層が提案され、
特許文献2ではSbおよびTeを含む記録層が提案されている。
In the phase change method, a material using a change in optical characteristics due to crystallization of the recording layer has been proposed as a material for the recording layer. For example, Patent Document 1 proposes a recording layer containing Te-OM (M is at least one element selected from a metal element, a metalloid element, and a semiconductor element),
Patent Document 2 proposes a recording layer containing Sb and Te.

前記層間反応方式の光情報記録媒体の記録層としては、例えば特許文献3に、第一記録層をIn−O−(Ni、Mn、Mo)を含む合金からなるものとし、かつ第二記録層をSe及び/又はTe元素、O(酸素)、及びTi、Pd、Zrの中から選ばれた一つの元素を含む合金からなるものとした記録層が提案されている。また特許文献4では、第一記録層:In主成分とする金属、第二記録層:5B族または6B族に属する少なくとも1種類の元素を含む、酸化物以外の金属あるいは非金属を積層して、加熱による反応または合金化により記録を行うことが提案されている。   As the recording layer of the interlayer reaction type optical information recording medium, for example, in Patent Document 3, the first recording layer is made of an alloy containing In—O— (Ni, Mn, Mo), and the second recording layer is used. Has been proposed that is made of an alloy containing Se and / or Te element, O (oxygen), and one element selected from Ti, Pd, and Zr. In Patent Document 4, a first recording layer: a metal containing In as a main component, and a second recording layer: a metal other than an oxide or a nonmetal containing at least one element belonging to Group 5B or Group 6B is laminated. It has been proposed to record by reaction by heating or alloying.

前記記録層を構成する化合物を分解する方式の記録層として、例えば特許文献5には、窒化物を主成分とした記録層が示されており、該窒化物を加熱により分解することで記録を行う材料や、有機色素材料が検討されている。   As a recording layer of a method for decomposing a compound constituting the recording layer, for example, Patent Document 5 shows a recording layer mainly composed of nitride, and recording can be performed by decomposing the nitride by heating. Materials to be performed and organic pigment materials are being studied.

前記孔開け方式の記録層としては、低融点金属材料からなるものが検討されている。例えば特許文献6では、Sn合金に3B族、4B族、5B族の元素を添加した合金からなるものが提案されている。また特許文献7では、Niおよび/またはCoを1〜50原子%の範囲で含有するSn基合金からなる記録層が提案されている。更に特許文献8には、Coを20〜65原子%含有するIn合金、さらにこれにSn、Bi、Ge、Siから選ばれる1種類以上の元素を19原子%以下含有するIn合金からなる記録層が示されている。また特許文献9には、Pd.Ag、Oからなり、こられPd、Ag、Oの原子数の比率が所定範囲内に制御された記録層が開示されている。   As the perforated recording layer, a recording layer made of a low melting point metal material has been studied. For example, Patent Document 6 proposes an alloy made of an alloy obtained by adding a 3B group, 4B group, or 5B group element to a Sn alloy. Patent Document 7 proposes a recording layer made of a Sn-based alloy containing Ni and / or Co in the range of 1 to 50 atomic%. Further, Patent Document 8 discloses a recording layer made of an In alloy containing 20 to 65 atomic percent of Co, and further containing an In alloy containing 19 atomic percent or less of one or more elements selected from Sn, Bi, Ge, and Si. It is shown. In Patent Document 9, Pd. A recording layer made of Ag and O, in which the ratio of the number of atoms of Pd, Ag, and O is controlled within a predetermined range is disclosed.

特開2005−135568号公報JP 2005-135568 A 特開2003−331461号公報JP 2003-331461 A 特開2003−326848号公報JP 2003-326848 A 特許第3499724号公報Japanese Patent No. 3499724 国際公開第2003/101750パンフレットInternational Publication No. 2003/101750 Pamphlet 特開2002−225433号公報JP 2002-225433 A 特開2007−196683号公報JP 2007-196683 A 特許第4110194号公報Japanese Patent No. 4110194 特開2005−238516号公報JP 2005-238516 A

光情報記録媒体に求められる要求特性には、書き込みレーザー光の入射によって、記録信号が再生に十分な信号振幅を有すること(高変調度であること)、および信号強度が高いこと(高C/N比であること)などが求められる。C/N比とは、Carrier to Noise ratioの意味で、読み取り時の信号とバックグラウンドのノイズ出力レベルの比である。   The required characteristics required for an optical information recording medium include that a recording signal has a signal amplitude sufficient for reproduction (high modulation degree) and a high signal intensity (high C / N ratio) is required. The C / N ratio means “Carrier to Noise ratio” and is a ratio between a signal at the time of reading and a background noise output level.

しかし、従来技術として開示されている記録材料は、これらの要求特性を記録材料単体で満たすことが難しく、前記相変化方式では、記録層単独での反射率が低いため、光ディスク状態での反射率を高めるべく反射膜が必要であり、かつ変調度を増加させるため、記録層の上下にZnS−SiO2などの誘電体層(誘電膜)を設ける必要があり、光ディスクを構成する層数が多くなる。また、前記層間反応方式でも複数の記録層が必要であることから、光ディスクを構成する層数が多くなる。このため膜層数が多くなり生産性が低下するという課題がある。これに対し前記孔開け方式は、記録層自体の反射率が高く、且つ、大きな変調度も確保できるため、光ディスクを構成する層の数を低減できるが、より高い記録感度を達成するにあたっては、更なる検討が必要である。 However, it is difficult for the recording material disclosed as the prior art to satisfy these required characteristics with the recording material alone. In the phase change method, the reflectance of the recording layer alone is low. In order to increase the degree of modulation, and in order to increase the degree of modulation, it is necessary to provide a dielectric layer (dielectric film) such as ZnS-SiO 2 above and below the recording layer, and the number of layers constituting the optical disk is large. Become. In addition, since the interlayer reaction method also requires a plurality of recording layers, the number of layers constituting the optical disk increases. For this reason, there is a problem that the number of film layers increases and productivity decreases. On the other hand, the perforation method has a high reflectivity of the recording layer itself and can secure a large degree of modulation, so that the number of layers constituting the optical disk can be reduced, but in achieving higher recording sensitivity, Further study is needed.

本発明はこの様な事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、光ディスクの層数を低減しながら上記要求特性を満たして、光情報記録媒体の生産性を高めることのできる光情報記録媒体用記録層と、該記録層を備えた光情報記録媒体、および該記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide optical information capable of increasing the productivity of an optical information recording medium by satisfying the above required characteristics while reducing the number of layers of an optical disk. The object is to provide a recording layer for a recording medium, an optical information recording medium provided with the recording layer, and a sputtering target useful for forming the recording layer.

本発明に係る光情報記録媒体用記録層は、レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、Ag酸化物を含むところに要旨を有するものである。   The recording layer for an optical information recording medium according to the present invention is a recording layer on which recording is performed by laser light irradiation, and has a gist in that it contains an Ag oxide.

本発明の好ましい実施形態において、上記光情報記録媒体用記録層は、上記Ag酸化物のほかに、In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物を含んでいる。   In a preferred embodiment of the present invention, the recording layer for an optical information recording medium is at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide in addition to the Ag oxide. Is included.

本発明の好ましい実施形態において、上記光情報記録媒体用記録層は、Pd酸化物を含まないものである。   In a preferred embodiment of the present invention, the recording layer for an optical information recording medium does not contain a Pd oxide.

本発明には、上記の光情報記録媒体用記録層を備えた光情報記録媒体も包含される。   The present invention also includes an optical information recording medium provided with the recording layer for optical information recording medium.

本発明の好ましい実施形態において、上記光情報記録媒体は、上記光情報記録媒体用記録層の上および/または下に誘電体層が積層されたものである。   In a preferred embodiment of the present invention, the optical information recording medium has a dielectric layer laminated on and / or below the optical information recording medium recording layer.

本発明には、上記光情報記録媒体用記録層を形成するためのスパッタリングターゲットも包含される。このスパッタリングターゲットは、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物と、を含み、残部:不可避的不純物であるところに要旨を有するものである。   The present invention also includes a sputtering target for forming the recording layer for an optical information recording medium. The sputtering target includes an Ag oxide; and at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide, and the remainder is an inevitable impurity. It is what you have.

本発明によれば、実用的な記録レーザーパワーでの記録感度に優れた光情報記録媒体用記録層(特に、追記型光情報記録媒体用記録層)、および該記録層を備えた光情報記録媒体(特には、追記型光情報記録媒体)を提供することができる。また、本発明によれば、上記記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供することができる。   According to the present invention, a recording layer for an optical information recording medium excellent in recording sensitivity at a practical recording laser power (particularly, a recording layer for a write once optical information recording medium), and an optical information recording provided with the recording layer A medium (particularly, a write-once optical information recording medium) can be provided. Moreover, according to the present invention, a sputtering target useful for forming the recording layer can be provided.

尚、本明細書において、「記録感度に優れる」とは、後記する実施例の欄で詳述する通り、記録層へのレーザー光(書き込みレーザー光)の照射によって、比較的低い記録レーザーパワー、おおむね9mWであっても、高いC/N比および高変調度を実現できることを意味する。   In the present specification, “excellent recording sensitivity” means that, as will be described in detail in the Examples section described later, a relatively low recording laser power is obtained by irradiating the recording layer with laser light (writing laser light). This means that a high C / N ratio and a high degree of modulation can be realized even if it is approximately 9 mW.

実施例1で作製した光情報記録媒体の概略を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing an outline of an optical information recording medium manufactured in Example 1. FIG. 実施例1のNo.4について、XPS分析の結果を示すグラフである。No. of Example 1 4 is a graph showing the result of XPS analysis for 4. 実施例1のNo.4について、記録層表面のTEM観察写真である。No. of Example 1 4 is a TEM observation photograph of the recording layer surface.

本発明者らは、書き込みレーザ光の照射によって記録感度に優れた追記型光情報記録媒体用記録層を実現すべく鋭意検討を行った。その結果、従来の記録層とは異なる材料、すなわち、Ag酸化物を含む記録層か、好ましくは、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物と、を含む記録層を用いれば、所期の目的が達成されることを見出した。上記記録層にレーザー光を照射すると、Ag酸化物がレーザー光により加熱され、分解して酸素(O2ガス)を放出し、レーザー照射された部分に気泡が生成するようになる。その結果、膜形状が変化し、マークが形成される。このようなレーザー照射に伴う気泡生成による不可避的な記録方式を用いれば、従来よりも記録感度が高められることを見出し、本発明を完成した。 The present inventors have intensively studied to realize a recording layer for a write once optical information recording medium having excellent recording sensitivity by irradiation with a writing laser beam. As a result, a material different from the conventional recording layer, that is, a recording layer containing Ag oxide, or preferably Ag oxide; selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide It has been found that the intended purpose can be achieved by using a recording layer containing at least one oxide. When the recording layer is irradiated with laser light, the Ag oxide is heated by the laser light and decomposes to release oxygen (O 2 gas), and bubbles are generated in the laser irradiated portion. As a result, the film shape changes and a mark is formed. It has been found that if such an inevitable recording method by the generation of bubbles accompanying laser irradiation is used, the recording sensitivity can be improved as compared with the prior art, and the present invention has been completed.

本発明の記録層による記録方式では、レーザー照射前の記録層の構造はアモルファスであり、レーザー照射後もアモルファスである点で、アモルファスがレーザー照射により結晶に変化することを利用した相変化方式と相違する。   In the recording system using the recording layer of the present invention, the structure of the recording layer before laser irradiation is amorphous, and the structure is amorphous after laser irradiation. Is different.

本発明の記録層が記録感度に優れている理由として、レーザー照射により気泡が発生し、マーク形成が行われた部分では、気泡の発生していない部分(すなわち、マークを形成していない部分)と比べて透過率が増加(即ち、反射率が低下)することで、変調度を大きくすることができたことが考えられる。   The reason why the recording layer of the present invention is excellent in recording sensitivity is that a bubble is generated by laser irradiation and a portion where a mark is formed is a portion where no bubble is generated (that is, a portion where no mark is formed). It is conceivable that the degree of modulation could be increased by increasing the transmittance (that is, reducing the reflectance) as compared with the above.

また、本発明のようにAg酸化物を記録層中に含有することにより、Ag酸化物を含有せずIn酸化物のみからなる記録層と比較して、膜の光吸収率を大きくすることができるため、書き込み光のレーザーのエネルギーを効率よく熱エネルギーへと変換することができる。更に本発明では、好ましくは、記録層に含まれる酸化物を構成する元素(Agと;In、Sn、およびZnよりなる群から選択される少なくとも一種の元素)中に占めるAg量の比(原子比)を適切に制御しているため、記録に必要なレーザーパワーを制御することもできる。その結果、本発明によれば、記録感度を向上させることができる。   Further, by containing the Ag oxide in the recording layer as in the present invention, the light absorption rate of the film can be increased as compared with the recording layer containing only the In oxide without containing the Ag oxide. Therefore, it is possible to efficiently convert the laser energy of the writing light into thermal energy. Furthermore, in the present invention, preferably, the ratio (Atom) of the Ag amount in the element (Ag; at least one element selected from the group consisting of In, Sn, and Zn) constituting the oxide contained in the recording layer Since the ratio) is appropriately controlled, the laser power necessary for recording can also be controlled. As a result, according to the present invention, the recording sensitivity can be improved.

また、本発明の記録層は、Pd酸化物を含まない点で、前述した特許文献9と相違する。本発明者らの検討結果によれば、好ましくは上記Ag量の比(原子比)を適切に制御しているため、後記する実施例に示すように、記録層中にPd酸化物を含有しなくても、良好な特性が得られた。   Further, the recording layer of the present invention is different from Patent Document 9 described above in that it does not contain a Pd oxide. According to the examination results of the present inventors, the ratio (atomic ratio) of the above Ag amount is preferably controlled appropriately, so that the recording layer contains a Pd oxide as shown in the examples described later. Even without this, good characteristics were obtained.

以下、本発明に係る記録層の構成を詳細に説明する。本明細書では、説明の便宜上、In、Sn、およびZnよりなる群から選択される少なくとも一種の元素を、X群元素と呼ぶ場合がある。   Hereinafter, the configuration of the recording layer according to the present invention will be described in detail. In the present specification, for convenience of explanation, at least one element selected from the group consisting of In, Sn, and Zn may be referred to as an X group element.

前述したように本発明の記録層は、レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、Ag酸化物を含むところに特徴がある。好ましくは本発明の記録層は、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物を含んでいる。上記記録層は、Pd酸化物を含まない。   As described above, the recording layer of the present invention is a recording layer on which recording is performed by laser light irradiation, and is characterized in that it contains an Ag oxide. Preferably, the recording layer of the present invention contains Ag oxide; and at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide. The recording layer does not contain Pd oxide.

本発明の記録層はAg酸化物を含む。Ag酸化物の形態は通常存在し得るものであれば特に限定されない。Ag酸化物としては、Ag2O、AgO、AgOxなどのようにAgと酸素(O)とから構成される酸化物のほか、上記記録層に含まれ得る他の元素(X群元素=In、Sn、Znの少なくとも一種)との複合酸化物(X−Agx−Oy)が挙げられる。 The recording layer of the present invention contains Ag oxide. The form of the Ag oxide is not particularly limited as long as it can usually exist. Examples of the Ag oxide include oxides composed of Ag and oxygen (O) such as Ag 2 O, AgO, and AgOx, and other elements that can be included in the recording layer (X group element = In, And a composite oxide (X-Agx-Oy) with at least one of Sn and Zn.

本発明の記録層は、Ag酸化物の他に、In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物を含んでいても良い。これらの酸化物は、膜屈折率の制御や、記録感度(変調度やC/N比)の制御に有用である。In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物の形態も通常存在し得るものであれば特に限定されず、例えば、In酸化物について、In23など、Sn酸化物について、SnOもしくはSnO2など、Zn酸化物についてZnOなどが例示される。本発明では上記酸化物の少なくとも一種を含んでいればよく、In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物をそれぞれ単独で含有しても良いし、2種以上の酸化物を含有してもよい。これらのうち好ましい酸化物はIn23である。 The recording layer of the present invention may contain at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide in addition to Ag oxide. These oxides are useful for controlling the film refractive index and recording sensitivity (modulation degree and C / N ratio). The forms of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide are not particularly limited as long as they can usually exist. For example, In oxide is In 2 O 3 , Sn oxide is SnO or SnO 2 Examples of Zn oxide include ZnO. In the present invention, it is sufficient if it contains at least one of the above oxides, and each of them may contain In oxide, Sn oxide, and Zn oxide alone, or may contain two or more kinds of oxides. Good. Of these, a preferred oxide is In 2 O 3 .

記録感度に優れた記録層を得るためには、本発明の記録層を構成する酸化物(Ag酸化物と、好ましくはIn酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物)を構成する元素(Agと、X群元素)中に占めるAg量の原子比(下式で表わされる、以下、「Ag比」と略記する場合がある。)が、2原子%以上であることが好ましい。
Ag量(原子%)
={[Ag]/([Ag]+[In]+[Sn]+[Zn])}×100
式中、[Ag]、[In]、[Sn]、および[Zn]はそれぞれ、
本発明の記録層に含まれるAg量(原子%)、In量(原子%)、
Sn量(原子%)、Zn量(原子%)を意味する
なお、記録層中にIn、Sn、Znを含まないときは、それぞれ0原子%と
して計算する。
In order to obtain a recording layer having excellent recording sensitivity, an oxide (Ag oxide, preferably selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide) constituting the recording layer of the present invention is selected. The atomic ratio of the amount of Ag occupying in the elements (at least one oxide) (Ag and group X element) (expressed by the following formula, hereinafter sometimes abbreviated as “Ag ratio”) is 2 It is preferably at least atomic percent.
Ag content (atomic%)
= {[Ag] / ([Ag] + [In] + [Sn] + [Zn])} × 100
In the formula, [Ag], [In], [Sn], and [Zn] are respectively
Ag amount (atomic%), In amount (atomic%) contained in the recording layer of the present invention,
It means Sn content (atomic%) and Zn content (atomic%). When In, Sn, and Zn are not included in the recording layer, each calculation is made as 0 atomic%.

ここで、Ag比が2原子%未満になると、記録層中のAg酸化物量が少なくなって膜吸収率が低下し、入射する書き込み光のレーザーパワーを効率よく熱に変換できなくなるため、記録に必要な書き込みパワーが大きくなり、好ましくない。Ag比は、より好ましくは5原子%以上である。Ag比は100%、すなわち、記録層はAg酸化物のみから構成されていても良い   Here, when the Ag ratio is less than 2 atomic%, the amount of Ag oxide in the recording layer decreases and the film absorptance decreases, so that the laser power of the incident writing light cannot be efficiently converted into heat. The necessary write power is increased, which is not preferable. The Ag ratio is more preferably 5 atomic% or more. Ag ratio is 100%, that is, the recording layer may be composed only of Ag oxide.

本発明の記録層は、上記のとおりAg酸化物を含み、作製時に不可避的に混入する不可避的不純物が含まれ得る。好ましくは本発明の記録層は、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物とを含み、作製時に不可避的に混入する不可避的不純物が含まれ得る。   The recording layer of the present invention contains an Ag oxide as described above, and may contain inevitable impurities that are inevitably mixed during production. Preferably, the recording layer of the present invention contains Ag oxide; and at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide, and is unavoidably mixed during production. Impurities may be included.

上記記録層の膜厚は、記録層の上下に金属化合物層や金属層等の他の層を挿入するなど、光情報記録媒体の構造にもよるが、記録層を単層で使用する場合(誘電体層や光学調整層を設けない場合)には、記録層の膜厚を10〜100nmとすることが好ましい。記録層の膜厚が10nmより小さいと、記録による十分な反射率変化が得られにくいからである。より好ましくは20nm以上、特に好ましくは25nm以上である。一方、記録層の膜厚が100nmより大きいと、膜の形成に時間がかかり、生産性が低下すると共に、記録に必要なレーザーパワーが大きくなる。より好ましくは70nm以下、更に好ましくは60nm以下である。   The film thickness of the recording layer depends on the structure of the optical information recording medium, such as inserting other layers such as a metal compound layer and a metal layer above and below the recording layer, but when the recording layer is used as a single layer ( In the case where a dielectric layer or an optical adjustment layer is not provided), the thickness of the recording layer is preferably 10 to 100 nm. This is because if the thickness of the recording layer is smaller than 10 nm, it is difficult to obtain a sufficient reflectance change due to recording. More preferably, it is 20 nm or more, and particularly preferably 25 nm or more. On the other hand, if the thickness of the recording layer is larger than 100 nm, it takes time to form the film, the productivity is lowered, and the laser power required for recording is increased. More preferably, it is 70 nm or less, More preferably, it is 60 nm or less.

本発明の記録層は、上記の通り、Ag酸化物を含み、好ましくは、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物を含むものであるが、この様な形態の記録層を得るには、スパッタリング法で記録層を形成することが好ましい。スパッタリング法によれば、ディスク面内での膜厚分布均一性も確保できるため好ましい。   As described above, the recording layer of the present invention contains Ag oxide, preferably Ag oxide; and at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide. In order to obtain such a recording layer, it is preferable to form the recording layer by sputtering. The sputtering method is preferable because the film thickness distribution uniformity within the disk surface can be secured.

上記酸化物を含む記録層をスパッタリング法で形成するには、スパッタリング条件としてガス流量を調整して行なうことが好ましい。特に、Ar(アルゴン)流量に対する酸素流量の比を0.3倍以上とすることが好ましく、より好ましくは1.5倍以上である。また、Ar流量に対する酸素流量の比は10.0倍以下であることが好ましい。スパッタリング法におけるその他の条件は特に限定されず、汎用される方法を採用することができ、ガス圧を例えば0.1〜1.0Paの範囲、スパッタ電力を例えば0.5〜20W/cm2の範囲に制御すれば良い。 In order to form the recording layer containing the oxide by sputtering, it is preferable to adjust the gas flow rate as sputtering conditions. In particular, the ratio of the oxygen flow rate to the Ar (argon) flow rate is preferably 0.3 times or more, and more preferably 1.5 times or more. The ratio of the oxygen flow rate to the Ar flow rate is preferably 10.0 times or less. Other conditions in the sputtering method are not particularly limited, and a widely used method can be adopted. The gas pressure is in the range of 0.1 to 1.0 Pa, for example, and the sputtering power is in the range of 0.5 to 20 W / cm 2 , for example. What is necessary is just to control to a range.

前記スパッタリング法で用いるスパッタリングターゲット(以下、単に「ターゲット」ということがある)としては、Ag酸化物を含み、残部:不可避的不純物であるターゲットが挙げられる。   Examples of the sputtering target (hereinafter sometimes simply referred to as “target”) used in the sputtering method include a target containing an Ag oxide and the balance being an inevitable impurity.

好ましいターゲットは、(A)Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物を含み、残部:不可避的不純物であるターゲットである。あるいは上記(A)のターゲットの代わりに、(B)Ag金属ターゲットと;In、Sn、およびZnよりなる群から選択される少なくとも一種の元素を含有する金属ターゲットと、を用い、これらを同時放電させて多元スパッタリングを行っても良い。   A preferable target is (A) an Ag oxide; and at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide, and the balance: a target that is an unavoidable impurity. Alternatively, instead of the above target (A), (B) an Ag metal target; and a metal target containing at least one element selected from the group consisting of In, Sn, and Zn are used, and these are simultaneously discharged. Then, multi-source sputtering may be performed.

なお、上記(A)のスパッタリングターゲットとしては、特に、Agの金属粉末またはAg酸化物の粉末と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物の粉末を混合し、焼結させたものを用いることが、生産性や形成された薄膜の組成の面内均一性や厚み制御の点で好ましい。上記スパッタリングターゲットの製造に当たり、微量ながら不純物としてスパッタリングターゲット中に混入することがある。しかし、本発明のスパッタリングターゲットの成分組成は、それら不可避に混入してくる微量成分まで規定するものではなく、本発明の上記特性が阻害されない限り、それら不可避不純物の微量混入は許容される。   In addition, as the sputtering target of the above (A), in particular, an Ag metal powder or an Ag oxide powder; and at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide It is preferable to use a powder obtained by mixing and sintering the powder in terms of productivity, in-plane uniformity of the composition of the formed thin film, and thickness control. In the production of the sputtering target, impurities may be mixed in the sputtering target as impurities in a small amount. However, the component composition of the sputtering target of the present invention does not prescribe even the trace components that are inevitably mixed, and the trace amounts of these unavoidable impurities are allowed as long as the above characteristics of the present invention are not impaired.

本発明の光情報記録媒体は、上記記録層を備えている点に特徴を有しており、Agの酸化物が分解して発生するO2ガスの効果によってマークが形成される。 The optical information recording medium of the present invention is characterized in that the recording layer is provided, and a mark is formed by the effect of O 2 gas generated by decomposition of Ag oxide.

本発明では、上記記録層以外の構成は特に限定されず、光情報記録媒体の分野に公知の構成を採用することができる。   In the present invention, the configuration other than the recording layer is not particularly limited, and a configuration known in the field of optical information recording media can be employed.

上記記録層の上および/または下(少なくとも片面)に誘電体層(誘電体層)を設けてもよい。上記誘電体層の種類としては公知のものが挙げられ、例えば、ZnS−SiO2、In、Sn、Si、Al、Ti、Ta、Zr、Crなどの酸化物、In、Sn、Ge、Cr、Si、Al、Nb、Mo、Ti、Znなどの窒化物、In、Sn、Ge、Cr、Si、Al、Ti、Zr、Taなどの炭化物、Si、Al、Mg、Ca、Laなどのフッ化物、或いはそれらの混合物などが例示される。生産性や記録感度の向上などを考慮すると、In23の使用が好ましい。 A dielectric layer (dielectric layer) may be provided above and / or below (at least one side) the recording layer. Examples of the dielectric layer include known ones such as ZnS—SiO 2 , In, Sn, Si, Al, Ti, Ta, Zr, Cr, and other oxides, In, Sn, Ge, Cr, Nitrides such as Si, Al, Nb, Mo, Ti, Zn, carbides such as In, Sn, Ge, Cr, Si, Al, Ti, Zr, Ta, fluorides such as Si, Al, Mg, Ca, La Or a mixture thereof. In consideration of improvement in productivity and recording sensitivity, use of In 2 O 3 is preferable.

上記誘電体層の膜厚は、おおむね、1〜50nmであることが好ましい。誘電体層の膜厚が薄すぎると、発生したO2ガスのカバー性が十分でなく記録感度が低下する。一方、誘電体層の膜厚が厚すぎると、光の干渉により、積層膜(記録層+誘電体層)全体として吸収が低下するため、必要となる書き込みレーザーパワーが高くなると共に、マーク形成時の形態変化が起こり難くなるため、記録感度が低下する。このような事情を考慮すると、誘電体層を記録層の下層に設けるときの好ましい膜厚は、おおむね、3〜20nmであり、記録層の上層に設けるときの好ましい膜厚は、おおむね、3〜30nmである。 The thickness of the dielectric layer is preferably about 1 to 50 nm. If the dielectric layer is too thin, the generated O 2 gas is not sufficiently covered and the recording sensitivity is lowered. On the other hand, if the film thickness of the dielectric layer is too large, the absorption of the entire laminated film (recording layer + dielectric layer) is reduced due to light interference, so that the required writing laser power is increased and the mark is formed. Therefore, the recording sensitivity is lowered. Considering such circumstances, the preferable film thickness when the dielectric layer is provided in the lower layer of the recording layer is generally 3 to 20 nm, and the preferable film thickness when provided in the upper layer of the recording layer is approximately 3 to 3. 30 nm.

また、光ディスクとしての反射率をより高めるべく、上記誘電体層のほかに、基板と記録層との間に光学調整層を設けてもよい。前記光学調整層の素材としては、Ag、Au、Cu、Al、Ni、Cr、Ti等やそれらの合金などが例示される。   In addition to the dielectric layer, an optical adjustment layer may be provided between the substrate and the recording layer in order to further increase the reflectivity of the optical disk. Examples of the material of the optical adjustment layer include Ag, Au, Cu, Al, Ni, Cr, Ti, and alloys thereof.

また、光情報記録媒体(光ディスク)として、その構造が、レーザーのガイド用の溝が刻まれた基板上に記録層が積層され、更にその上に光透過層を積層したものが挙げられる。   Further, as an optical information recording medium (optical disk), a structure in which a recording layer is laminated on a substrate in which a laser guide groove is engraved, and a light transmission layer is further laminated thereon.

例えば、前記基板の素材としては、ポリカーボネート樹脂、ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系共重合体、非晶質ポリオレフィンなどが挙げられる。また、前記光透過層としては、ポリカーボネートや紫外線硬化樹脂を用いることができる。光透過層の材質としては記録再生を行うレーザーに対して高い透過率を持ち、光吸収率が小さいことが好ましい。前記基板の厚さは、例えば0.5〜1.2mmとすることが挙げられる。また前記光透過層の厚さは、例えば0.1〜1.2mmとすることが挙げられる。   For example, examples of the material for the substrate include polycarbonate resin, norbornene resin, cyclic olefin copolymer, and amorphous polyolefin. Further, as the light transmission layer, polycarbonate or ultraviolet curable resin can be used. As a material for the light transmission layer, it is preferable that the light transmission layer has a high transmittance with respect to a laser for recording and reproduction, and has a small light absorption rate. The thickness of the substrate is, for example, 0.5 to 1.2 mm. The thickness of the light transmission layer is, for example, 0.1 to 1.2 mm.

本発明の記録層は記録特性に優れているが、記録層の耐久性向上または記録特性の更なる向上のため、記録層の上層および/または下層に、酸化物層、窒化物層、硫化物層、金属層などを設けることが好ましい。これらの層を積層することにより、記録層の耐久性を改善できると共に、記録特性をさらに高めることができる。   The recording layer of the present invention is excellent in recording characteristics. However, in order to improve the durability of the recording layer or further improve the recording characteristics, an oxide layer, a nitride layer, and a sulfide are formed on the upper layer and / or lower layer of the recording layer. It is preferable to provide a layer, a metal layer, or the like. By laminating these layers, the durability of the recording layer can be improved and the recording characteristics can be further enhanced.

なお、上記では、記録層および光透過層がそれぞれ1層ずつ形成された1層光ディスクを示しているが、これに限定されず、記録層および光透過層が複数積層された2層以上の光ディスクであってもよい。   In the above, a single-layer optical disc in which one recording layer and one light transmission layer are formed is shown. However, the present invention is not limited to this, and two or more optical discs in which a plurality of recording layers and light transmission layers are stacked are shown. It may be.

前記2層以上の光ディスクの場合、記録層と必要に応じて積層される光学調整層や誘電体層からなる記録層群と別の記録層群との間に、例えば紫外線硬化樹脂またはポリカーボネートなどの透明樹脂等からなる透明中間層を有していてもよい。   In the case of the two or more optical discs, for example, an ultraviolet curable resin or a polycarbonate is used between a recording layer and a recording layer group composed of an optical adjustment layer or a dielectric layer laminated as necessary. You may have the transparent intermediate | middle layer which consists of transparent resin etc.

本発明の特徴は、前述した記録層、好ましくは記録層の上および/または下に誘電体層を設けた積層膜を採用した点にあり、記録層以外の基板や光透過層、更には、光学調整層や透明中間層などの形成方法については特に限定されず、通常行われている方法で形成して、光情報記録媒体を製造すればよい。   The feature of the present invention is that the recording layer described above, preferably a laminated film provided with a dielectric layer on and / or below the recording layer is employed. A substrate other than the recording layer, a light transmission layer, A method for forming the optical adjustment layer, the transparent intermediate layer, and the like is not particularly limited, and an optical information recording medium may be manufactured by a method that is usually performed.

光情報記録媒体としてCD、DVD、またはBDが挙げられ、例えば波長が約380nmから450nm、好ましくは約405nmの青色レーザー光を記録層に照射し、データの記録および再生を行うことが可能なBD−Rが具体例として挙げられる。   Examples of the optical information recording medium include CD, DVD, and BD. For example, a BD capable of recording and reproducing data by irradiating a recording layer with blue laser light having a wavelength of about 380 nm to 450 nm, preferably about 405 nm. -R is given as a specific example.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、下記実施例は本発明を制限するものではなく、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは本発明の技術的範囲に包含される。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the following examples are not intended to limit the present invention, and may be implemented with appropriate modifications without departing from the spirit of the preceding and following descriptions. And are within the scope of the present invention.

実施例1
本実施例では、Ag酸化物とIn酸化物の記録層を用い、記録層に含まれるIn原子とAg原子の合計に対するAg元素の比率(以下、「Ag比」と呼ぶ)が、記録特性などに及ぼす影響を調べた。
Example 1
In this embodiment, a recording layer of Ag oxide and In oxide is used, and the ratio of Ag element to the total of In atoms and Ag atoms contained in the recording layer (hereinafter referred to as “Ag ratio”) is the recording characteristics. The effects on the

(1)光ディスクの作製
本実施例に用いた光ディスクの構成の概略模式図を図1に示す。図1に示すように、光ディスクは、ポリカーボネート基板1の上に誘電体層2、Ag含有記録層3、誘電体層4、光透過層5が順次積層された構造を有している。
(1) Production of optical disc A schematic diagram of the configuration of the optical disc used in this example is shown in FIG. As shown in FIG. 1, the optical disc has a structure in which a dielectric layer 2, an Ag-containing recording layer 3, a dielectric layer 4, and a light transmission layer 5 are sequentially laminated on a polycarbonate substrate 1.

上記光ディスクの作製方法は以下のとおりである。   The method for producing the optical disc is as follows.

ディスク基板として、ポリカーボネート基板1(厚さ:1.1mm、直径:120mm、トラックピッチ:0.32μm、溝深さ:25nm)を用い、基板1の上に、DCマグネトロンスパッタリング法により、In23の誘電体層2、表1に示すようにAg比の異なる記録層3、In23の誘電体層4を順次形成した。記録層の膜厚は40nmとし、記録層の上・下にそれぞれ積層されたIn23の誘電体層の厚さは、上・下ともに10nmである。 A polycarbonate substrate 1 (thickness: 1.1 mm, diameter: 120 mm, track pitch: 0.32 μm, groove depth: 25 nm) is used as a disk substrate, and the In 2 O film is formed on the substrate 1 by DC magnetron sputtering. As shown in Table 1, a recording layer 3 having a different Ag ratio and an In 2 O 3 dielectric layer 4 were formed in this order. The thickness of the recording layer is 40 nm, and the thicknesses of the In 2 O 3 dielectric layers respectively laminated above and below the recording layer are 10 nm both above and below.

記録層形成のためのスパッタリングは、以下のようにして行なった。このときのスパッタリング条件は、Ar流量:10sccm、かつ酸素流量:10sccm、ガス圧:0.4Pa、DCスパッタリングパワー:100〜200W、基板温度:室温とした。
表1のNo.1について、純Inターゲットを使用
表1のNo.2〜10について、In酸化物ターゲットとAgターゲットの2種類のターゲットを利用し、多元スパッタ法により成膜することによってAg比を変化させた。
Sputtering for forming the recording layer was performed as follows. The sputtering conditions at this time were Ar flow rate: 10 sccm, oxygen flow rate: 10 sccm, gas pressure: 0.4 Pa, DC sputtering power: 100 to 200 W, and substrate temperature: room temperature.
No. in Table 1 For No. 1, a pure In target was used. About 2-10, Ag ratio was changed by using two types of targets, In oxide target and Ag target, and forming into a film by multi-source sputtering.

次いで、誘電体層4の上に、紫外線硬化性樹脂(日本化薬社製「BRD−864」)をスピンコートした後、紫外線を照射して膜厚約0.1mmの光透過層を成膜し、光ディスクを得た。   Next, an ultraviolet curable resin (“BRD-864” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is spin-coated on the dielectric layer 4 and then irradiated with ultraviolet rays to form a light transmission layer having a thickness of about 0.1 mm. The optical disk was obtained.

なお、誘電体層形成による影響を調べるため、表1のNo.11の光ディスクを作製した。これは、表1のNo.4において、誘電体層を形成しないこと以外は上記と同様にして光ディスクを作製したものである。   In order to investigate the influence of the dielectric layer formation, No. 1 in Table 1 was used. Eleven optical disks were produced. This is shown in Table 1. 4, an optical disc was produced in the same manner as described above except that the dielectric layer was not formed.

記録層の成分組成は、上記と同一条件で記録層単層膜(誘電体層なし)を成膜し、当該記録層単層膜についてICP発光分析法を用いて分析を行なった。   As for the component composition of the recording layer, a recording layer single layer film (without a dielectric layer) was formed under the same conditions as described above, and the recording layer single layer film was analyzed using an ICP emission analysis method.

(XPS分析)
表1のNo.4について、記録層中に含まれるAgの状態をXPS法により分析した。具体的には、physical Electronics社製X線光電子分光装置Quantera SXMを用い、最表面の広域光電子スペクトルによる定性分析を実施した。その後、Ar+スパッタにより表面から深さ方向にエッチングし、一定深さ毎に膜の構成元素と最表面で検出された元素の狭域光電子スペクトルを測定した。各深さで得られた狭域光電子スペクトルの面積強度比と相対感度係数から深さ方向組成分布(原子%)を算出した。また、各元素のモンタージュスペクトルのピーク位置から結合状態を推定した。
(XPS analysis)
No. in Table 1 For No. 4, the state of Ag contained in the recording layer was analyzed by the XPS method. Specifically, qualitative analysis was performed using a broad photoelectron spectrum on the outermost surface using an X-ray photoelectron spectrometer Quantera SXM manufactured by physical Electronics. Thereafter, etching was performed in the depth direction from the surface by Ar + sputtering, and narrow-layer photoelectron spectra of the constituent elements of the film and the elements detected on the outermost surface were measured at constant depths. The composition distribution in the depth direction (atomic%) was calculated from the area intensity ratio of the narrow-range photoelectron spectrum obtained at each depth and the relative sensitivity coefficient. Moreover, the binding state was estimated from the peak position of the montage spectrum of each element.

Agの未記録部での深さ方向モンタージュスペクトル、およびInの未記録部での深さ方向モンタージュスペクトルを図2に示す。   FIG. 2 shows a depth direction montage spectrum in an unrecorded portion of Ag and a depth direction montage spectrum in an unrecorded portion of In.

(2)光ディスクの評価
作製した光ディスクの初期記録特性(記録パワー、C/N比、変調度)を、以下のように評価した。
(2) Evaluation of optical disc The initial recording characteristics (recording power, C / N ratio, modulation degree) of the manufactured optical disc were evaluated as follows.

まず、パルステック工業社製「ODU−1000」)の光ディスク評価装置(記録レーザー中心波長:405nm、NA(開口数):0.85)を用いて再生・記録レーザーを照射し、光ディスクの読込、記録を行った。線速度は4.92m/sとして評価した。   First, using an optical disk evaluation apparatus (recording laser center wavelength: 405 nm, NA (numerical aperture): 0.85) manufactured by Pulstech Industrial Co., Ltd. “ODU-1000”) Recorded. The linear velocity was evaluated as 4.92 m / s.

変調度(C/N比が最大となる点での変調度)について、横河電機株式会社製「DL1640」を用いて記録部分の最大反射率と最小反射率を測定し、下式に基づいて算出した。
変調度(比)=(最大反射率−最小反射率)/(最大反射率)
For the degree of modulation (the degree of modulation at the point where the C / N ratio is maximized), the maximum reflectance and the minimum reflectance of the recording portion are measured using “DL1640” manufactured by Yokogawa Electric Corporation. Calculated.
Modulation degree (ratio) = (maximum reflectance−minimum reflectance) / (maximum reflectance)

C/N比について、ADVANTEST社製R3131Aスペクトラム・アナライザーを用いて、最も高いC/N比が得られる記録パワーを測定した。詳細には、0.60μmのマーク(Blu−ray Diskの8Tに相当)を繰り返し記録し、再生レーザーパワー0.3mWでの信号読み取り時の4.12MHz周波数成分の信号強度(キャリアC/dB)と、その前後の周波数成分の信号強度(ノイズ N/dB)を測定し、C/N比を算出した。   For the C / N ratio, the recording power at which the highest C / N ratio was obtained was measured using an R3131A spectrum analyzer manufactured by ADVANTEST. Specifically, a 0.60 μm mark (equivalent to 8T of Blu-ray Disk) is repeatedly recorded, and the signal intensity (carrier C / dB) of the 4.12 MHz frequency component when reading the signal with a reproduction laser power of 0.3 mW Then, the signal intensity (noise N / dB) of the frequency components before and after that was measured, and the C / N ratio was calculated.

これらの結果を表1に併記する。表1には、最も高いC/N比が得られた時点での記録パワーと、当該最も高いC/N比を記載している。   These results are also shown in Table 1. Table 1 shows the recording power when the highest C / N ratio was obtained and the highest C / N ratio.

本実施例では、変調度(比)が0.3以上、C/N比が45dB以上のものを記録感度に優れているとした。   In this embodiment, the recording sensitivity is excellent when the modulation degree (ratio) is 0.3 or more and the C / N ratio is 45 dB or more.

表1より、Ag比が本発明の好ましい要件を満足するNo.2〜11は、変調度およびC/N比の両方が良好であった。すなわち、Agが少ない領域から高い領域に亘って、良好な記録特性を発揮することが確認された。   From Table 1, the Ag ratio satisfies the preferable requirements of the present invention. 2 to 11 were good in both the degree of modulation and the C / N ratio. That is, it was confirmed that good recording characteristics were exhibited from the low Ag region to the high Ag region.

これらのうちNo.2〜10は、記録層の上下に誘電体層を形成した例であり、No.11は誘電体層を形成しない例である。No.11に対して誘電体層を形成したNo.4では、C/N比が向上し、変調度も2倍程度向上した。よって、記録層の上下に誘電体層を設けることにより、より高い変調度が得られることが分かった。その理由は、記録レーザー光が入力してAg酸化物が分解する際、誘電体層中に発生したO2を閉じ込めることにより、形態変化によるマーク形成がし易くなるためと考えられる。 Of these, No. Nos. 2 to 10 are examples in which dielectric layers are formed above and below the recording layer. 11 is an example in which a dielectric layer is not formed. No. No. 11 having a dielectric layer formed thereon. 4, the C / N ratio was improved and the degree of modulation was also improved by about twice. Therefore, it was found that a higher degree of modulation can be obtained by providing dielectric layers above and below the recording layer. The reason is considered to be that when the recording laser beam is input and the Ag oxide is decomposed, the O 2 generated in the dielectric layer is confined so that the mark can be easily formed due to the shape change.

図2は表1のNo.4のXPS分析結果を示すグラフである。図2中、左図に記録前のAgの3dモンタージュスペクトルの結果を示す。この図より、金属Agのスペクトルに特有のサテライトピーク(372eVと378eVの2ヶ所)がみられないため、No.4において、Agは、Ag金属としてではなく、Ag酸化物またはIn−Ag複合酸化物として存在していることが分かる。   FIG. 4 is a graph showing the results of XPS analysis of 4; In FIG. 2, the left figure shows the result of Ag 3d montage spectrum before recording. From this figure, no satellite peak (two locations of 372 eV and 378 eV) peculiar to the spectrum of metal Ag is observed. In FIG. 4, it can be seen that Ag exists not as an Ag metal but as an Ag oxide or an In—Ag composite oxide.

図2中、右図に上記サンプル中のInの3dモンタージュスペクトルを示す。この図より、Inは完全に酸化しており、In23の状態をとっていることが分かる。 In FIG. 2, the right figure shows the 3d montage spectrum of In in the sample. From this figure, it can be seen that In is completely oxidized and takes the state of In 2 O 3 .

以上の実験結果より、記録にはAg酸化物またはIn−Agの複合酸化物が関与していると予想される。   From the above experimental results, it is expected that Ag oxide or In-Ag composite oxide is involved in the recording.

図3に、上述した表1のNo.4について、レーザー照射後の記録層表面のTEM観察写真を示す。左図の観察倍率は45000倍であり、右図はその拡大図(倍率150000倍)である。図3より、気泡の発生が確認された。この結果より、本発明例では記録層内のAg酸化物が分解することにより酸素が発生し、気泡が発生するものであり、それに伴う体積膨張によって記録特性が十分高められることが裏付けられた。   In FIG. 4 shows a TEM observation photograph of the surface of the recording layer after laser irradiation. The observation magnification in the left figure is 45000 times, and the right figure is an enlarged view (magnification 150,000 times). From FIG. 3, generation | occurrence | production of the bubble was confirmed. From these results, it was confirmed that in the present invention example, oxygen was generated by the decomposition of the Ag oxide in the recording layer and bubbles were generated, and the recording characteristics were sufficiently enhanced by the volume expansion accompanying therewith.

実施例2
本実施例では、前述した実施例1において、In酸化物の代わりにZn酸化物(No.2)、Sn酸化物(No.3)、W酸化物(No.4)と、Ag酸化物の記録層を用いて、実施例1と同様にして光ディスクを作製し、記録特性を評価した。本実施例では、記録層に含まれる(Zn原子、またはSn原子、またはW原子)と、Ag原子との合計に対するAg量の比(Ag比)は、すべて20原子%とした。本実施例では、所望の各記録層を得るため、金属Agターゲットと金属Znターゲット(No.2)、金属Agターゲットと金属Snターゲット(No.3)、金属Agターゲットと金属Wターゲット(No.4)をそれぞれ用い、多元スパッタ法によりO2ガスと反応させて各記録層を作成した。なお、このときのスパッタリング条件は、前述した実施例1と同じである。これらの結果を表2に記載する。
Example 2
In this example, instead of the In oxide, Zn oxide (No. 2), Sn oxide (No. 3), W oxide (No. 4), and Ag oxide were used instead of the In oxide. Using the recording layer, an optical disc was produced in the same manner as in Example 1, and the recording characteristics were evaluated. In this example, the ratio of the Ag amount (Ag ratio) to the total of Ag atoms (Zn atoms, Sn atoms, or W atoms) contained in the recording layer was set to 20 atomic%. In this example, in order to obtain each desired recording layer, a metal Ag target and a metal Zn target (No. 2), a metal Ag target and a metal Sn target (No. 3), a metal Ag target and a metal W target (No. 2). Each recording layer was prepared by reacting with O 2 gas by multi-source sputtering using 4). The sputtering conditions at this time are the same as those in the first embodiment. These results are listed in Table 2.

参考のため、前述した実施例1において、In酸化物とAg酸化物を含み、Ag比が26原子%の結果(表1のNo.5)を、表2のNo.1に記載する。   For reference, in Example 1 described above, the results (No. 5 in Table 1) including In oxide and Ag oxide and the Ag ratio being 26 atomic% are shown in No. 2 of Table 2. It is described in 1.

表2より、Inではなく、Sn、Znの酸化物を含む記録層(No.2、3)を用いたときも、Inを含む記録層(No.1)と同様に、良好な変調度およびC/N比が得られた。これに対し、Wの酸化物を含む記録層(No.4)を用いたときは、記録パワーを入力しても十分な変調度とC/N比を得ることができなかった。   From Table 2, when a recording layer (No. 2, 3) containing an oxide of Sn and Zn instead of In is used, as with the recording layer (No. 1) containing In, a good modulation degree and A C / N ratio was obtained. On the other hand, when a recording layer (No. 4) containing an oxide of W was used, sufficient modulation and C / N ratio could not be obtained even when recording power was input.

1 ポリカーボネート基板
2、4 誘電体層
3 Ag含有記録層
5 光透過層
1 Polycarbonate substrate 2, 4 Dielectric layer 3 Ag-containing recording layer 5 Light transmission layer

Claims (6)

レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、
Ag酸化物を含むことを特徴とする光情報記録媒体用記録層。
A recording layer on which recording is performed by laser light irradiation,
A recording layer for optical information recording media, comprising an Ag oxide.
更に、In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物を含むことを特徴とする光情報記録媒体用記録層。   The recording layer for an optical information recording medium, further comprising at least one oxide selected from the group consisting of In oxide, Sn oxide, and Zn oxide. Pd酸化物を含まないものである請求項1または2に記載の光情報記録媒体用記録層。   The recording layer for an optical information recording medium according to claim 1, which does not contain a Pd oxide. 請求項1〜3のいずれかに記載の光情報記録媒体用記録層を備えていることを特徴とする光情報記録媒体。   An optical information recording medium comprising the recording layer for an optical information recording medium according to claim 1. 前記光情報記録媒体用記録層の上および/または下に誘電体層が積層されたものである請求項4に記載の光情報記録媒体。   The optical information recording medium according to claim 4, wherein a dielectric layer is laminated on and / or below the recording layer for the optical information recording medium. 請求項2または3に記載の光情報記録媒体用記録層を形成するためのスパッタリングターゲットであって、
Ag酸化物と、
In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物と、を含み、残部:不可避的不純物であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
A sputtering target for forming a recording layer for an optical information recording medium according to claim 2 or 3,
Ag oxide;
A sputtering target comprising: at least one oxide selected from the group consisting of an In oxide, a Sn oxide, and a Zn oxide, and the balance: inevitable impurities.
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