JP2012009225A

JP2012009225A - 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法

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Publication number: JP2012009225A
Application number: JP2010142987A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Nakamura; 将啓中村; Masato Yamana; 正人山名
Original assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 2010-06-23
Filing date: 2010-06-23
Publication date: 2012-01-12

Abstract

【課題】光取り出し効率を向上させることができる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】基板１、第１電極２、少なくとも１つの発光層を含む有機層３、第２電極４をこの順に積層して形成された有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。前記第１電極２が、導電性物質としてナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれるものと、バインダーとを含有する。前記第１電極２内において前記基板１側に比べて前記有機層３側の方が前記導電性物質の濃度が高い。
【選択図】図１

Description

本発明は、照明器具、液晶バックライト、各種ディスプレイ、表示装置などに用いられる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法に関するものである。

面発光体の代表的なものとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）がある。この有機ＥＬ素子は、図４に示すように、光透過性の基板１の上に光透過性の第１電極２を設け、この第１電極２の上に有機ＥＬ材料からなる発光層を含む有機層３を設けると共に、有機層３の上に光反射性の第２電極４を設けることによって形成されている。そして第１電極２と第２電極４との間に電圧を印加することによって有機層３で発光した光は、第１電極２及び基板１を透過して取り出される。

一般的に光透過性の第１電極２は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＦＴＯ、ＡＴＯなどの金属酸化物を透明導電材料として用い、スパッタ法や真空蒸着法などの気相成膜法などで形成される。これらの製膜方法は高価な装置や多量のエネルギーが必要であり、製造コストや環境負荷を低減する技術が求められていた。また、これらで製膜した透明導電膜の屈折率はガラス基板に比べて高く、有機ＥＬ素子にした場合、基板１と第１電極２間での屈折率差による全反射ロスが光取り出し効率を低下させる要因になっている。

近年、導電性ナノ粒子を含有する溶液を用いて塗布や印刷などにより、透明導電膜を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この方法を用いると、導電性ナノ粒子を保持するバインダーの選択により、透明導電膜の屈折率を制御できる。屈折率を制御することにより、光学的に有利な有機ＥＬ素子構造を形成することができるが、屈折率が１．５〜１．６程度の無アルカリガラスやソーダライムガラス、プラスチック樹脂基板を用いた場合、屈折率１．７〜１．８程度の発光層を含む有機層３との間には屈折率差が生じてしまい、間に挿入する第１電極２の屈折率を調整してもスネルの法則に従う全反射による導波ロスはほとんど変化せず、劇的な光取り出しの向上には結びつかない。

特開２００９−１８１８５６号公報

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、光取り出し効率を向上させることができる有機エレクトロルミネッセンス素子、並びに光取り出し効率及び電気特性を共に向上させることができる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板、第１電極、少なくとも１つの発光層を含む有機層、第２電極をこの順に積層して形成された有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記第１電極が、導電性物質としてナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれるものと、バインダーとを含有すると共に、前記第１電極内において前記基板側に比べて前記有機層側の方が前記導電性物質の濃度が高いことを特徴とするものである。

前記有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記バインダーとして導電性高分子が用いられていることが好ましい。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、ナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれる導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを含有する複数の電極構成層を前記導電性物質の濃度が高いものから順に転写用基板に積層することによって第１電極を形成する工程と、前記第１電極を基板に転写する工程と、前記第１電極に少なくとも１つの発光層を含む有機層を形成する工程と、前記有機層に第２電極を形成する工程とをこの順に経ることを特徴とするものである。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、少なくとも１つの発光層を含む有機層を転写用基板に形成し、ナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれる導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを含有する複数の電極構成層を前記導電性物質の濃度が高いものから順に前記有機層に積層することによって第１電極を形成する工程と、前記第１電極を基板に転写する工程と、前記有機層に第２電極を形成する工程とをこの順に経ることを特徴とするものである。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、第１電極内において基板側に比べて有機層側の方が導電性物質の濃度が高いので、光散乱体となる導電性物質が第１電極と有機層との界面における全反射条件を乱すことによって、光取り出し効率を向上させることができるものである。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法によれば、第１電極内において基板側に比べて有機層側の方が導電性物質の濃度が高いので、光散乱体となる導電性物質が第１電極と有機層との界面における全反射条件を乱すことによって、光取り出し効率を向上させることができるものであり、また、転写により第１電極と有機層との界面が平坦化されることによって、短絡が低減するなど電気特性を向上させることができるものである。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す概略断面図である。本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一例を示す概略断面図である。本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の他の一例を示す概略断面図である。従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す概略断面図である。

以下、本発明の実施の形態を説明する。

図１は本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）の一例を示すものであり、この有機ＥＬ素子は、基板１、第１電極２、少なくとも１つの発光層を含む有機層３、第２電極４をこの順に積層して形成されている。そして、本発明においては、第１電極２が、導電性物質としてナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれるものと、バインダーとを含有している。さらに、第１電極２内において基板１側に比べて有機層３側の方が導電性物質の濃度が高くなっている。

上記のように、第１電極２内において導電性物質について基板１側に比べて有機層３側の方が濃度が高くなるように濃度傾斜（濃度勾配）を有する有機ＥＬ素子は、例えば、図２に示すような工程を経て製造することができる。

まず、図２（ａ）に示すように、転写用基板５の表面に第１電極２を形成する。ここで、転写用基板５としては、第１電極２を形成する面が平坦であるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ソーダガラスや無アルカリガラス等のリジッドな透明ガラス板、ポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のフレキシブルな透明プラスチック板やフィルムなど、任意のものを用いることができる。転写性が良好であることから、好ましくはフレキシブルな透明プラスチック板を用いる。

第１電極２は、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を製造する場合には光透過性を有するものであり、複数の電極構成層２ａ、２ｂを転写用基板５に積層することによって形成される。図２では電極構成層２ａ、２ｂの層数は２層であるが３層以上でもよい。各電極構成層２ａ、２ｂは、ナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれる導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを含有している。ここで、導電性物質としては、例えば、銀、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、錫酸化物、Ａｕ等の金属の微粒子、ドーパント（ドナー又はアクセプタ）含有有機層、導電体との混合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。なお、ナノ粒子の粒子径は１〜１００ｎｍであることが好ましく、またナノワイヤーの直径は１〜１００ｎｍ、アスペクト比は１〜１００であることが好ましい。他方、バインダーとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の２種以上の共重合体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。特にバインダーとしては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）ポリ（スチレンスルホン酸）水性分散液、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセチレン、ポリカルバゾールなどの導電性高分子を用いることが好ましい。これらは単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。このように、バインダーとして導電性高分子を用いることによって、第１電極２の電気特性（特に導電性）をより向上させることができるものである。また、導電性を高めるために、以下のようなドーパントを用いたドーピングを行ってもよい。ドーパントとしては、スルホン酸、ルイス酸、プロトン酸、アルカリ金属、アルカリ土類金属などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

ただし、各電極構成層２ａ、２ｂの導電性物質の濃度は異なっており、導電性物質の濃度が高いものから順に複数の電極構成層２ａ、２ｂを転写用基板５に積層することによって第１電極２を形成する。このとき各電極構成層２ａ、２ｂは、導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを溶媒に分散させた溶液をスピンコート、スクリーン印刷、ディップコート、ダイコート、キャスト、スプレーコート、グラビアコートすることによって、転写用基板５に形成したり、既に形成した電極構成層２ａに重ねて形成したりすることができる。なお、溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、イソプロピルアルコール等を用いることができる。

次に、図２（ｂ）（ｃ）に示すように、転写用基板５に形成した第１電極２を基板１の表面に転写する。このとき、導電性物質の濃度が最も低い電極構成層２ｂが基板１に接着し、転写用基板５を剥離などにより除去することによって、図２（ｃ）のように導電性物質の濃度が最も高い電極構成層２ａが最外層として露出する。このようにして露出した第１電極２の表面は、それまで密着していた転写用基板５の表面が平坦であったため、平坦化されている。

ここで、基板１としては、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を製造する場合には、光透過性のものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ソーダガラスや無アルカリガラス等のリジッドな透明ガラス板、ポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等のフレキシブルな透明プラスチック板など、任意のものを用いることができ、また、トップエミッション型の有機ＥＬ素子を製造する場合には、上記のものに加え、各種金属箔や板など光透過性の低いものも用いることができる。なお、転写用基板５の表面の平坦性を損なわない限り、転写用基板５の表面には第１電極２を形成する前に剥離層や光−熱変換層、感圧材を含む層を設けてもよい。そして、熱による転写、レーザー光を含む光による転写、加圧や静電力による転写が挙げられるが、このうち熱による転写は、例えば、第１電極２を介して転写用基板５及び基板１を加熱加圧した後、転写用基板５を除去することによって行うことができる。

次に、図２（ｄ）に示すように、第１電極２の表面に有機層３を形成した後、有機層３の表面に第２電極４を形成することによって、有機ＥＬ素子を製造することができる。第１電極２の表面はあらかじめ平坦化されているので、第１電極２と有機層３との界面も平坦化されることになる。

ここで、有機層３は少なくとも１つの発光層を含むものであり、発光層を形成するための有機ＥＬ材料としては、例えば、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、トリス（５−フェニル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−（ｐ−ターフェニル−４−イル）アミン、ピラン、キナクリドン、ルブレン、及びこれらの誘導体、あるいは、１−アリール−２，５−ジ（２−チエニル）ピロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、及びこれらの発光性化合物からなる基を分子の一部分に有する化合物あるいは高分子等が挙げられる。また上記化合物に代表される蛍光色素由来の化合物のみならず、いわゆる燐光発光材料、例えばＩｒ錯体、Ｏｓ錯体、Ｐｔ錯体、ユーロピウム錯体等々の発光材料、又はそれらを分子内に有する化合物若しくは高分子も好適に用いることができる。これらの材料は、必要に応じて、適宜選択して用いることができる。

また、有機層３は、発光層以外に、正孔注入層（ホール注入層）、正孔輸送層（ホール輸送層）、電子輸送層、電子注入層から選ばれるものを含んでいてもよい。

また、第２電極４を形成するための電極材料としては、Ａｌなどを用いることができるが、Ａｌと他の電極材料を組み合わせて積層構造などとして第２電極４を形成してもよい。このような電極材料の組み合わせとしては、アルカリ金属とＡｌとの積層体、アルカリ金属と銀との積層体、アルカリ金属のハロゲン化物とＡｌとの積層体、アルカリ金属の酸化物とＡｌとの積層体、アルカリ土類金属や希土類金属とＡｌとの積層体、これらの金属種と他の金属との合金などが挙げられ、具体的には、例えばナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウムなどとＡｌとの積層体、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、ＬｉＦ／Ａｌ混合物／積層体、Ａｌ／Ａｌ_２Ｏ_３混合物などを例として挙げることができるが、これらに限定されるものではない。なお、第２電極４は、トップエミッション型の有機ＥＬ素子を製造する場合には光透過性を有するものである。

上記のようにして製造された有機ＥＬ素子にあっては、第１電極２内において基板１側に比べて有機層３側の方が導電性物質の濃度が高いので、光散乱体となる導電性物質が第１電極２と有機層３との界面における全反射条件を乱すことによって、光取り出し効率を向上させることができるものである。

このように、第１電極２と有機層３との界面近傍に光散乱体となる導電性物質（ナノ粒子やナノワイヤー）を配置すると、上記界面での全反射条件が乱れ、光取り出し効率が向上する。ただ、導電性物質とバインダーとを混合した溶液を塗布して形成された透明導電膜では、導電性物質の分散性が低いと、透明導電膜の表面粗さが大きくなり、有機ＥＬ素子の短絡が生じる危険性が高くなる。これを回避する方法として、ナノ粒子を含有する透明導電膜上にナノ粒子を含有しない、又は、ナノ粒子の含有量の少ないバインダーを用いてオーバーコート層を形成するなどして平坦性を改善する手法が開示されている（例えば、特表２００９−５０５３５８号公報参照）。しかし、このような方法では平坦性は改善されるものの、上記界面での光散乱による全反射を抑制する効果が低下する。さらに、透明導電膜に比べてオーバーコート層の導電性が低いため、電極としての電気特性も低下してしまうおそれがある。

そこで、本発明では、転写を利用するようにしたものであり、これにより第１電極２と有機層３との界面が平坦化されることによって、短絡が低減するなど電気特性を向上させることができるものである。

また有機ＥＬ素子は、図３に示すような工程を経て製造することもできる。

まず、図３（ａ）に示すように、転写用基板５の表面に有機層３を形成した後、有機層３の表面に第１電極２を形成する。一般的に有機層３は単独で形成する場合、その表面の平坦性は高くなるので、有機層３と第１電極２との界面も平坦になる。ここで、転写用基板５としては、上述のものを用いることができる。また、この場合の有機層３も少なくとも１つの発光層を含むものであり、発光層を形成するための有機ＥＬ材料としては、上述のものを用いることができる。なお、最終的に得られる有機ＥＬ素子の有機層３の一部を転写用基板５に形成し、この一部を基板１に転写した後に残部を積層して有機層３を形成するようにしてもよい。この場合も有機層３は単独で形成するので、その表面の平坦性が高くなり、有機層３と第１電極２との界面も平坦になる。

第１電極２は、複数の電極構成層２ａ、２ｂを有機層３に積層することによって形成される。図３では電極構成層２ａ、２ｂの層数は２層であるが３層以上でもよい。各電極構成層２ａ、２ｂは、ナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれる導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを含有している。ここで、導電性物質及びバインダーとしては、上述のものを用いることができる。

ただし、各電極構成層２ａ、２ｂの導電性物質の濃度は異なっており、導電性物質の濃度が高いものから順に複数の電極構成層２ａ、２ｂを有機層３に積層することによって第１電極２を形成する。

次に、図３（ｂ）（ｃ）に示すように、転写用基板５に形成した有機層３及び第１電極２を基板１の表面に転写する。このとき、導電性物質の濃度が最も低い電極構成層２ｂが基板１に接着し、転写用基板５を剥離などにより除去することによって、図３（ｃ）のように有機層３が最外層として露出する。このようにして露出した有機層３の表面は、それまで密着していた転写用基板５の表面が平坦であったため、平坦化されている。ここで、基板１としては、上述のものを用いることができる。

次に、図３（ｄ）に示すように、有機層３の表面に第２電極４を形成することによって、有機ＥＬ素子を製造することができる。有機層３の表面はあらかじめ平坦化されているので、有機層３と第２電極４との界面も平坦化されることになる。ここで、第２電極４を形成するための電極材料としては、上述のものを用いることができる。

さらに、本発明では、転写を利用するようにしたものであり、これにより第２電極４と有機層３との界面も平坦化されることによって、短絡が低減するなど電気特性を向上させることができるものである。

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

（実施例１）
転写用基板５として無アルカリガラス板（コーニング社製「Ｎｏ．１７３７」、屈折率１．５０〜１．５３＠波長５００ｎｍ）を用い、この転写用基板５の平坦な面に、ＩＴＯナノ粒子を溶媒で分散した溶液（粒子径約４０ｎｍ、シーアイ化成社製ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）ＩＴＣＷ１５ｗｔ％−Ｇ３０）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を溶媒で分散した溶液（５ｗｔ％トルエン溶液）を順に塗布、乾燥させることによって、転写用の第１電極２を形成した。この第１電極２の膜厚を接触式段差計で測定したところ約２００ｎｍであった。次に、転写用基板５の第１電極２が形成されている面をポリイミドフィルムからなる基板１に接触させ、転写用基板５の第１電極２が形成されていない面をホットプレートに接触させて、加圧しながら加熱溶融することにより、基板１の表面に第１電極２を転写した。そして、転写用基板５を除去した後、第１電極２の表面に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（Ｃｌｅｖｉｏｓ（登録商標）ＰＶＰＡＩ４０８３，Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製）を膜厚が約６５ｎｍになるように塗布し、これを２００℃で１５分間焼成することによってホール注入層を形成した。次に、ＴＦＢ（Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl)-co-(4,4'-(N-(4-sec-butylphenyl))diphenylamine)]）（アメリカンダイソース社製「ＨｏｌｅＴｒａｎｓｐｏｒｔＰｏｌｙｍｅｒＡＤＳ２５９ＢＥ」）をＴＨＦ溶媒に溶解した溶液（１ｗｔ％ＴＨＦ溶液）をホール注入層の表面に膜厚が１２ｎｍになるようにスピンコーターで塗布してＴＦＢ被膜を形成し、これを２００℃で１０分間焼成することによってホール輸送層を形成した。波長６５０ｎｍの屈折率を光学式薄膜測定システム（ＳＣＩ社製「ＦｉｌｍＴｅｋ」）で測定したところ１．７であった。次に、赤色高分子（アメリカンダイソース社製「ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＰｏｌｙｍｅｒＡＤＳ１１１ＲＥ」）をＴＨＦ溶媒に溶解した溶液（１ｗｔ％ＴＨＦ溶液）をホール輸送層の表面に膜厚が７０ｎｍになるようにスピンコーターで塗布し、これを１００℃で１０分間焼成することによって発光層を形成した。波長６５０ｎｍの屈折率をホール輸送層と同様に測定したところ１．７であった。次に、発光層の表面に電子注入層としてＢａ（高純度化学製）を膜厚が５ｎｍになるように形成することによって、有機層３を完成させた。そして、最後に電子注入層の表面にＡｌ（高純度化学製）を膜厚が８０ｎｍになるように真空蒸着させることによって、陰極として第２電極４を形成した。

この後、第１電極２、有機層３及び第２電極４を形成した基板１を露点−８０℃以下のドライ窒素雰囲気のグローブボックスに大気に曝露することなく搬送した。一方、硝子製の封止キャップに吸水剤（ダイニック社製）を貼り付けると共に封止キャップの外周部に紫外線硬化樹脂製のシール剤を塗布したものをあらかじめ用意した。そして、グローブボックス内で第１電極２、有機層３及び第２電極４を囲むように封止キャップを基板１にシール剤で貼り合わせ、紫外線照射してシール剤を硬化させ、第１電極２、有機層３及び第２電極４を封止キャップで封止することによって、有機ＥＬ素子を得た。

（実施例２）
転写用基板５として無アルカリガラス板（コーニング社製「Ｎｏ．１７３７」、屈折率１．５０〜１．５３＠波長５００ｎｍ）を用い、この転写用基板５の平坦な面に、ＩＴＯナノ粒子を溶媒で分散した溶液（粒子径約４０ｎｍ、シーアイ化成社製ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）ＩＴＣＷ１５ｗｔ％−Ｇ３０）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリアニオンポリ（スチレンスルホン酸塩）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、Ｃｌｅｖｉｏｓ（登録商標）ＰＨ１０００、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製、組成比ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：２．５）の溶液を順に塗布、乾燥させることによって、転写用の第１電極２を形成した。この第１電極２の膜厚を接触式段差計で測定したところ約２００ｎｍであった。そして、第１電極２を基板１に転写する工程以降は、実施例１と同様の工程を経て、有機ＥＬ素子を得た。

（実施例３）
転写用基板５として無アルカリガラス板（コーニング社製「Ｎｏ．１７３７」、屈折率１．５０〜１．５３＠波長５００ｎｍ）を用い、この転写用基板５の平坦な面に、ホール注入層として機能するＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（Ｃｌｅｖｉｏｓ（登録商標）ＰＶＰＡＩ４０８３，Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製）を膜厚が約６５ｎｍになるように塗布し、さらにＩＴＯナノ粒子を溶媒で分散した溶液（粒子径約４０ｎｍ、シーアイ化成社製ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）ＩＴＣＷ１５ｗｔ％−Ｇ３０）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリアニオンポリ（スチレンスルホン酸塩）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、Ｃｌｅｖｉｏｓ（登録商標）ＰＨ１０００、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製、組成比ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：２．５）の溶液を順に塗布、乾燥させることによって、転写用の第１電極２を形成した。次に、転写用基板５の第１電極２が形成されている面をポリイミドフィルムからなる基板１に接触させ、転写用基板５の第１電極２が形成されていない面をホットプレートに接触させて、加圧しながら加熱溶融することにより、基板１の表面に第１電極２を転写した。そして、転写用基板５を除去した後、ホール注入層にホール輸送層を形成する工程以降は、実施例１と同様の工程を経て、有機ＥＬ素子を得た。

（比較例１）
ポリイミドフィルムからなる基板１の表面に、ＩＴＯナノ粒子を溶媒で分散した溶液（粒子径約４０ｎｍ、シーアイ化成社製ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）ＩＴＣＷ１５ｗｔ％−Ｇ３０）とポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ、Ａｌｄｒｉｃｈ社製）とをＰＭＭＡが５ｗｔ％となるように均一に混合して分散した溶液を塗布、乾燥させることによって、第１電極２を形成した。そして、第１電極２に有機層３を形成する工程以降は、実施例１と同様の工程を経て、有機ＥＬ素子を得た。

（比較例２）
ポリイミドフィルムからなる基板１の表面に、ＩＴＯナノ粒子を溶媒で分散した溶液（粒子径約４０ｎｍ、シーアイ化成社製ＮａｎｏＴｅｋ（登録商標）ＩＴＣＷ１５ｗｔ％−Ｇ３０）とポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）：ポリアニオンポリ（スチレンスルホン酸塩）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、Ｃｌｅｖｉｏｓ（登録商標）ＰＨ１０００、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製、組成比ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：２．５）とを重量比が１：３となるように均一に混合して分散した溶液を塗布、乾燥させることによって、第１電極２を形成した。そして、第１電極２に有機層３を形成する工程以降は、実施例１と同様の工程を経て、有機ＥＬ素子を得た。

そして、各有機ＥＬ素子について、外部量子効率比（光取り出し効率）及び電圧（１０ｍＡ／ｃｍ^２）を測定した。その結果を下記表１に示す。

上記表１から明らかなように、実施例１と比較例１とを対比すると、実施例１の方が、外部量子効率比が高く、電圧が低いことから、光取り出し効率及び電気特性を共に向上させることができることが確認された。

また、実施例２と比較例２とを対比すると、実施例２の方が、外部量子効率比が高く、電圧が低いことから、光取り出し効率及び電気特性を共に向上させることができることが確認された。

また、実施例１と実施例２、３とを対比すると、いずれも外部量子効率比は同じであるが、実施例２、３の方が電圧が低いことから、ＰＭＭＡの代わりにポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）ポリ（スチレンスルホン酸）水性分散液を用いると電気特性が向上することが確認された。

１基板
２第１電極
２ａ電極構成層
２ｂ電極構成層
３有機層
４第２電極
５転写用基板

Claims

基板、第１電極、少なくとも１つの発光層を含む有機層、第２電極をこの順に積層して形成された有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記第１電極が、導電性物質としてナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれるものと、バインダーとを含有すると共に、前記第１電極内において前記基板側に比べて前記有機層側の方が前記導電性物質の濃度が高いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
前記バインダーとして導電性高分子が用いられていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
ナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれる導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを含有する複数の電極構成層を前記導電性物質の濃度が高いものから順に転写用基板に積層することによって第１電極を形成する工程と、前記第１電極を基板に転写する工程と、前記第１電極に少なくとも１つの発光層を含む有機層を形成する工程と、前記有機層に第２電極を形成する工程とをこの順に経ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
少なくとも１つの発光層を含む有機層を転写用基板に形成し、ナノ粒子及びナノワイヤーから選ばれる導電性物質とバインダーとの少なくともいずれかを含有する複数の電極構成層を前記導電性物質の濃度が高いものから順に前記有機層に積層することによって第１電極を形成する工程と、前記第１電極を基板に転写する工程と、前記有機層に第２電極を形成する工程とをこの順に経ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。